JP2003066871A - Organic el display device and its manufacturing method - Google Patents

Organic el display device and its manufacturing method

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JP2003066871A
JP2003066871A JP2001258427A JP2001258427A JP2003066871A JP 2003066871 A JP2003066871 A JP 2003066871A JP 2001258427 A JP2001258427 A JP 2001258427A JP 2001258427 A JP2001258427 A JP 2001258427A JP 2003066871 A JP2003066871 A JP 2003066871A
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JP
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organic
display device
wiring
switching element
data line
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JP2001258427A
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Toshitaka Kawashima
利孝 河嶋
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To actualize high contrast and high definition without depending upon the performance of an organic EL element also in a simple matrix driving system. SOLUTION: A device has a substrate 10, 1st wires 1 formed on one main surface of the substrate 10, 2nd wires 3 formed across the 1st wires 1, and pixels 5 arranged corresponding to the intersections of the 1st wires 1 and 2nd wires 3. Each pixel 5 has a switching element 8 which turns on when the 1st wire is selected to allow a signal current supplied from the 2nd wire 3 flow and an organic EL element 9 which emits light by receiving the signal current from the switching element 8.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板と、基板の一
主面上に形成された第1の配線と、上記第1の配線と交
差して形成された第2の配線と、上記第1の配線と上記
第2の配線との交点に対応して配された複数の画素とを
有する単純マトリクス駆動型の有機EL表示装置及びそ
の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate, a first wiring formed on one main surface of the substrate, a second wiring intersecting with the first wiring, and a second wiring. The present invention relates to a simple matrix drive type organic EL display device having a plurality of pixels arranged corresponding to the intersection of one wiring and the second wiring, and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、図7に示すような有機電界発光素
子(以下、有機EL素子と称する。)100を発光素子
として用いた有機EL表示装置が注目されている。
2. Description of the Related Art In recent years, an organic EL display device using an organic electroluminescent element (hereinafter referred to as an organic EL element) 100 as shown in FIG.

【0003】有機EL素子100は、例えば透明なガラ
ス基板101上に、ITO(indiumtin oxide)等の透
明材料からなるアノード102が形成され、このアノー
ド102上に正孔輸送層、発光層、電子輸送層等からな
る有機EL発光層103が形成され、この有機EL発光
層103上に低仕事関数材料等からなるカソード104
が形成されてなり、カソード104は引き出し電極10
5と電気的に接続されている。
In the organic EL element 100, for example, an anode 102 made of a transparent material such as ITO (indium tin oxide) is formed on a transparent glass substrate 101, and a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer are formed on the anode 102. An organic EL light emitting layer 103 composed of a layer or the like is formed, and a cathode 104 made of a low work function material or the like is formed on the organic EL light emitting layer 103.
And the cathode 104 is the extraction electrode 10
5 is electrically connected.

【0004】この有機EL素子100を発光させる際に
は、アノード102に対して正の電圧を印加し、カソー
ド104に対して負の電圧を印加すること、すなわちア
ノード102とカソード104との間に直流電流を流す
ことにより、アノード102から注入された正孔及びカ
ソード104から注入された電子がそれぞれ有機EL発
光層103に到達し、ここで正孔と電子との再結合が生
じる。これにより、所定の波長を持った光が発生して、
透明なガラス基板101側からその光が外部へ出射す
る。
When the organic EL element 100 emits light, a positive voltage is applied to the anode 102 and a negative voltage is applied to the cathode 104, that is, between the anode 102 and the cathode 104. By passing a direct current, the holes injected from the anode 102 and the electrons injected from the cathode 104 respectively reach the organic EL light emitting layer 103, where the holes and the electrons are recombined. As a result, light with a predetermined wavelength is generated,
The light is emitted to the outside from the transparent glass substrate 101 side.

【0005】この有機EL素子は、本来、アノード10
2からカソード104へ順方向の電圧を印加された場合
には大電流を流して発光する一方で、逆方向の電圧を印
加された場合には電流が殆ど流れないような整流特性を
有する。逆バイアス特性の良好な有機EL素子の電流電
圧特性を、図8に示す。
This organic EL element is essentially an anode 10
When a forward voltage is applied from 2 to the cathode 104, a large current flows and light is emitted, while a reverse voltage is applied, almost no current flows. FIG. 8 shows current-voltage characteristics of the organic EL element having a good reverse bias characteristic.

【0006】このような逆バイアス特性に優れた有機E
L素子を用いて、いわゆる単純マトリクス駆動方式の有
機EL表示装置を構成した例について、図9に示す。こ
の有機EL表示装置110は、3×3ドットの単純マト
リクス駆動方式であり、スキャンライン111としてス
キャンライン111A、スキャンライン111B及びス
キャンライン111Cと、データライン112としてデ
ータライン112A、データライン112B及びデータ
ライン112Cとを有し、これらスキャンライン111
とデータライン112の交点毎に有機EL素子113が
接続されて画素を構成している。画素が有する有機EL
素子113は、アノードがデータライン112に、カソ
ードがスキャンライン111にそれぞれ接続されてい
る。なお、図9中においては、有機EL素子113をダ
イオードで表すこととする。また、画素の位置を、デー
タライン112とスキャンライン111とのマトリクス
で表すこととする。
Organic E having excellent reverse bias characteristics
FIG. 9 shows an example in which a so-called simple matrix drive type organic EL display device is configured using L elements. This organic EL display device 110 is a 3 × 3 dot simple matrix drive system, and includes scan lines 111A, scan lines 111B and 111C as scan lines 111, and data lines 112A, data lines 112B and data as data lines 112. Line 112C and these scan lines 111
An organic EL element 113 is connected at each intersection of the data line 112 and the data line 112 to form a pixel. Organic EL that pixel has
The element 113 has an anode connected to the data line 112 and a cathode connected to the scan line 111. In addition, in FIG. 9, the organic EL element 113 is represented by a diode. Further, the pixel position is represented by a matrix of data lines 112 and scan lines 111.

【0007】この有機EL表示装置において、{スキャ
ンライン111B,データライン112B}の有機EL
素子113を発光させるためには、図示しないスキャン
ライン駆動回路によってスキャンライン111Bを選択
するとともに図示しないデータライン駆動回路によって
データライン112Bを選択する。これにより、{スキ
ャンライン111B,データライン112B}の画素の
有機EL素子113に所定の電流が流れ込み、所望の画
素を発光させることができる。一方で、その他の画素
は、データライン112又はスキャンライン111の少
なくとも一方が非選択状態とされているため、電流が流
れずに非発光とされる。
In this organic EL display device, the organic EL of {scan line 111B, data line 112B}
In order to cause the element 113 to emit light, the scan line 111B is selected by the scan line driving circuit (not shown) and the data line 112B is selected by the data line driving circuit (not shown). As a result, a predetermined current flows into the organic EL element 113 of the pixel on the {scan line 111B, data line 112B}, and the desired pixel can emit light. On the other hand, in the other pixels, at least one of the data line 112 and the scan line 111 is in a non-selected state, so that no current flows and no light is emitted.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで、有機EL素
子のバイアス特性は、有機EL素子を構成する材料や成
膜条件によって変動する。このため、例えば図10に示
すように逆バイアス特性に劣る有機EL素子も存在す
る。
By the way, the bias characteristics of the organic EL element vary depending on the material forming the organic EL element and the film forming conditions. Therefore, for example, as shown in FIG. 10, there is also an organic EL element having poor reverse bias characteristics.

【0009】そして、上述した有機EL表示装置に逆バ
イアス特性に劣る有機EL素子が用いられた場合、図1
1に示すように、不良な有機EL素子に逆方向に電流
(リーク電流)が流れてしまう。この結果、本来の選択
画素である{スキャンライン111B,データライン1
12B}が発光する以外に、非選択の画素である例えば
{スキャンライン11B,データライン112C}にも
電圧がかかり、この非選択画素が誤発光するため、コン
トラストが低下して表示品質が損なわれる。
When an organic EL element having poor reverse bias characteristics is used in the organic EL display device described above,
As shown in 1, the current (leakage current) flows in the reverse direction in the defective organic EL element. As a result, the original selected pixel {scan line 111B, data line 1
12B} emits light, a voltage is applied to non-selected pixels, for example, {scan line 11B, data line 112C}, and the non-selected pixels emit light erroneously, resulting in deterioration of contrast and deterioration of display quality. .

【0010】このため、コントラストの良好な単純マト
リクス駆動方式の有機EL表示装置を構成するために
は、図9に示すような理想的な逆バイアス特性を示す有
機EL素子を採用することが要求される。
Therefore, in order to construct an organic EL display device of a simple matrix drive system having a good contrast, it is required to adopt an organic EL element having an ideal reverse bias characteristic as shown in FIG. It

【0011】しかしながら、このような有機EL素子
は、成膜条件の厳密な制御が必要となること、材料選択
の幅が狭まること等により、生産性の低下やコストの上
昇を招くため、製造が困難であるという問題がある。
However, since such an organic EL element requires strict control of film forming conditions and narrows the range of material selection, it causes a decrease in productivity and an increase in cost. There is a problem that it is difficult.

【0012】したがって、単純マトリクス駆動方式の有
機EL表示装置においては、逆バイアス特性等の有機E
L素子の性能に依存することなく、コントラストを向上
させるための根本的な解決策が望まれている。
Therefore, in a simple matrix drive type organic EL display device, an organic EL display device having a reverse bias characteristic or the like is used.
A fundamental solution is desired to improve the contrast without depending on the performance of the L element.

【0013】また、従来の有機EL表示装置において
は、有機EL素子をマトリクス状に配置するために、有
機EL発光層を挟み込むアノード及びカソードのそれぞ
れを、例えばストライプ状の所定の形状にパターニング
する必要がある。例えば図7に示す有機EL素子を例に
取ると、有機EL発光層の成膜後に、カソードを成膜
し、パターニングする必要がある。
Further, in the conventional organic EL display device, in order to arrange the organic EL elements in a matrix, it is necessary to pattern each of the anode and the cathode sandwiching the organic EL light emitting layer into a predetermined stripe shape, for example. There is. For example, taking the organic EL element shown in FIG. 7 as an example, it is necessary to form a cathode and then pattern it after forming the organic EL light emitting layer.

【0014】しかしながら、有機EL発光層に用いられ
る有機材料は、熱、水分、酸素、溶剤等に対して非常に
弱いため、有機EL発光層にダメージを与えることなく
有機EL発光層上に微細なパターンのカソードを成膜す
ることは極めて困難である。
However, since the organic material used for the organic EL light emitting layer is very weak against heat, moisture, oxygen, solvent, etc., fine particles are not formed on the organic EL light emitting layer without damaging the organic EL light emitting layer. It is extremely difficult to form a patterned cathode.

【0015】例えばフォトリソグラフィ法等によってカ
ソードのパターニングを行うと、有機EL発光層がダメ
ージを受けて有機EL素子の発光機能が損なわれるとい
う問題が生じる。また、有機EL発光層に極力影響を与
えないカソードの成膜方法として、メタルマスクを用い
たスパッタ法や蒸着法等が挙げられるが、この方法では
カソードの微細化が困難であり、有機EL表示装置の高
精細化を妨げてしまう。さらに、有機EL発光層にダメ
ージを与えることなく微細なカソードを成膜する方法に
ついても、様々な研究がなされているが、何れの方法も
有機EL表示装置の製造工程を複雑とし、製造コストの
上昇を招く虞がある。
For example, when the cathode is patterned by the photolithography method or the like, there is a problem that the organic EL light emitting layer is damaged and the light emitting function of the organic EL element is impaired. Further, as a method for forming a cathode film that does not affect the organic EL light emitting layer as much as possible, there are a sputtering method using a metal mask, a vapor deposition method, and the like. This hinders high definition of the device. Further, various researches have been conducted on a method of forming a fine cathode without damaging the organic EL light emitting layer, but any of these methods complicates the manufacturing process of the organic EL display device and reduces the manufacturing cost. There is a risk of rising.

【0016】そこで本発明はこのような従来の実情に鑑
みて提案されたものであり、いわゆる単純マトリクス駆
動方式においても、有機EL素子の性能に依存すること
なく高コントラストと高精細化とを実現する有機EL表
示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
Therefore, the present invention has been proposed in view of such conventional circumstances, and realizes high contrast and high definition without depending on the performance of the organic EL element even in the so-called simple matrix drive system. It is an object of the present invention to provide an organic EL display device and a manufacturing method thereof.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明に係る有機EL表示装置は、基板と、基板
の一主面上に形成された第1の配線と、上記第1の配線
と交差して形成された第2の配線と、上記第1の配線と
上記第2の配線との交点に対応して配された複数の画素
とを有し、上記画素は、上記第1の配線が選択されたと
きに導通して上記第2の配線から供給された信号電流を
流すスイッチング素子と、上記スイッチング素子からの
信号電流を受け入れて発光する有機EL素子とを有する
ことを特徴とする。
In order to achieve the above object, an organic EL display device according to the present invention includes a substrate, a first wiring formed on one main surface of the substrate, and the first wiring. Second wiring formed so as to intersect with the wiring, and a plurality of pixels arranged corresponding to an intersection of the first wiring and the second wiring, wherein the pixel is the first wiring. A wiring element which is conductive when the first wiring is selected and allows the signal current supplied from the second wiring to flow, and an organic EL element which receives the signal current from the switching element and emits light. And

【0018】有機EL素子は、本来、発光機能を有する
とともに、単純マトリクス駆動方式の有機EL表示装置
においては逆バイアス特性によるリーク電流防止機能を
担うものである。本発明は、有機EL素子からリーク電
流防止機能を分離し、このリーク電流防止機能を別の素
子に担わせることを基本的な考え方とする。
The organic EL element originally has a light emitting function and also has a function of preventing a leak current due to a reverse bias characteristic in an organic EL display device of a simple matrix drive system. The basic idea of the present invention is to separate the leak current prevention function from the organic EL element and allow another element to perform the leak current prevention function.

【0019】すなわち、本発明に係る有機EL表示装置
においては、各画素が有機EL素子とスイッチング素子
とを有し、有機EL素子に対して発光機能のみを持た
せ、リーク電流防止機能については各画素に配置したス
イッチング素子に担わせている。
That is, in the organic EL display device according to the present invention, each pixel has an organic EL element and a switching element, the organic EL element has only a light emitting function, and the leak current preventing function is different. The switching element arranged in the pixel is responsible.

【0020】このため、単純マトリクス駆動方式の有機
EL表示装置において、不良な有機EL素子が用いられ
たとしても、各画素にスイッチング素子が配されている
ため、この有機EL素子のリーク電流に起因する非選択
画素の誤発光が防止される。
Therefore, even if a defective organic EL element is used in the organic EL display device of the simple matrix drive system, the switching element is arranged in each pixel, so that the leak current of the organic EL element causes False light emission of non-selected pixels is prevented.

【0021】また、有機EL素子のカソード側を接地電
位に接続するため、有機EL素子のカソードのパターニ
ングが不要となる。
Further, since the cathode side of the organic EL element is connected to the ground potential, patterning of the cathode of the organic EL element becomes unnecessary.

【0022】また、本発明に係る有機EL表示装置の製
造方法は、基板の一主面上に第1の配線と、第2の配線
と、上記第1の配線と上記第2の配線との交点に対応し
た位置にスイッチング素子とを形成する第1の工程と、
上記第1の工程で形成された上記スイッチング素子から
の信号電流を受け入れて発光することが可能な有機EL
素子を形成する第2の工程とを有することを特徴とす
る。
Further, in the method for manufacturing an organic EL display device according to the present invention, the first wiring, the second wiring, the first wiring and the second wiring are formed on one main surface of the substrate. A first step of forming a switching element at a position corresponding to the intersection,
Organic EL capable of receiving a signal current from the switching element formed in the first step and emitting light
And a second step of forming an element.

【0023】以上のような有機EL表示装置の製造方法
では、熱や溶剤等に弱い有機EL素子を成膜する前に、
予め基板上に第1の配線、第2の配線及びスイッチング
素子を形成するため、有機EL素子の構成材料の劣化に
配慮することなく、第1の配線、第2の配線及びスイッ
チング素子の微細化が可能である。また、有機EL素子
の成膜に際して、カソードの成膜後のパターニングが不
要である。
In the method of manufacturing an organic EL display device as described above, before forming an organic EL element which is weak against heat or solvent,
Since the first wiring, the second wiring, and the switching element are formed on the substrate in advance, the first wiring, the second wiring, and the switching element are miniaturized without considering deterioration of the constituent material of the organic EL element. Is possible. Further, when forming the organic EL element, patterning after forming the cathode is not necessary.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した有機EL
表示装置として、3×3ドットの小規模な有機EL表示
装置を例に挙げて説明する。この有機EL表示装置は、
図1に示すように、スキャンライン1としてスキャンラ
イン1A、スキャンライン1B及びスキャンライン1C
と、これらスキャンライン1を駆動するスキャンライン
駆動回路2と、これらスキャンライン1とマトリクス状
に交差してなるデータライン3としてデータライン3
A、データライン3B及びデータライン3Cと、これら
データライン3を駆動するデータライン駆動回路4と、
スキャンライン1とデータライン3とが交差する点に対
応して設けられ、これらスキャンライン1及びデータラ
イン3と電気的に接続された複数の画素5を有してい
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, an organic EL device to which the present invention is applied
As a display device, a small organic EL display device of 3 × 3 dots will be described as an example. This organic EL display device
As shown in FIG. 1, scan line 1 includes scan line 1A, scan line 1B, and scan line 1C.
And a scan line driving circuit 2 for driving these scan lines 1 and a data line 3 as a data line 3 formed by intersecting these scan lines 1 in a matrix.
A, a data line 3B and a data line 3C, a data line driving circuit 4 for driving these data lines 3,
The plurality of pixels 5 are provided corresponding to the intersections of the scan lines 1 and the data lines 3 and are electrically connected to the scan lines 1 and the data lines 3.

【0025】また、有機EL表示装置は、データライン
駆動回路4からの画像データ信号によってON/OFF
し、データライン3A、データライン3B及びデータラ
イン3Cとそれぞれ接続されたFET(field-effect t
ransistor)6A、6B及び6Cと、FET6A、6B
及び6Cを介してデータライン3に電源を供給する電源
電圧Vddと、電源電圧Vddからの電流を定電流に変
換して各データライン3に供給する定電流回路7A、7
B及び7Cとを有している。
The organic EL display device is turned on / off by an image data signal from the data line drive circuit 4.
However, the FET (field-effect t) connected to the data line 3A, the data line 3B, and the data line 3C, respectively.
ransistor) 6A, 6B and 6C and FET 6A, 6B
And power supply voltage Vdd for supplying power to the data line 3 via 6C, and constant current circuits 7A, 7A for converting the current from the power supply voltage Vdd into a constant current and supplying it to each data line 3.
B and 7C.

【0026】画素5は、スキャンライン1からの駆動信
号によりスイッチングを行い、ON状態のとき、すなわ
ちスキャンライン1が選択されたときにデータライン3
からの画像信号に基づく電流を流すスイッチング素子と
してTFT(thin-film transistor)8と、アノード側
がTFT8に接続されるとともに、カソード側が接地電
位に接続されている有機EL素子9とを有している。
The pixel 5 is switched by the drive signal from the scan line 1 and is in the ON state, that is, when the scan line 1 is selected, the data line 3 is selected.
It has a TFT (thin-film transistor) 8 as a switching element for flowing a current based on the image signal from the device, and an organic EL element 9 whose anode side is connected to the TFT 8 and whose cathode side is connected to the ground potential. .

【0027】TFT8のソースはデータライン3に接続
され、データライン3を介して電源電圧Vddに接続さ
れている。また、TFT8のドレインは、有機EL素子
9のアノードに接続され、有機EL素子9を介して接地
電位に接続されている。また、TFT8のゲートは、ス
キャンライン1に接続されて、スキャンライン駆動回路
2によりON/OFFを制御される。
The source of the TFT 8 is connected to the data line 3, and is connected to the power supply voltage Vdd via the data line 3. The drain of the TFT 8 is connected to the anode of the organic EL element 9 and is connected to the ground potential via the organic EL element 9. Further, the gate of the TFT 8 is connected to the scan line 1 and is controlled to be ON / OFF by the scan line drive circuit 2.

【0028】なお、画素5が有するスイッチング素子と
しては、上述したTFTに限定されることなく、電極間
に絶縁物を挟んでなる、いわゆるMIM(metal-insula
tor-metal)構造の薄膜スイッチング素子を用いること
もできる。また、スイッチング素子としては、薄膜スイ
ッチング素子の他に、MEMS(micro electro-mechan
ical system)技術を利用した機械的なスイッチング素
子等を用いることもできる。
The switching element included in the pixel 5 is not limited to the above-mentioned TFT, but a so-called MIM (metal-insula) in which an insulator is sandwiched between electrodes is used.
It is also possible to use a thin film switching element having a tor-metal structure. In addition to thin film switching elements, switching elements include MEMS (micro electro-mechanical
It is also possible to use a mechanical switching element or the like that utilizes an ical system technology.

【0029】ここで、画素5の断面構造を図2に示す。
画素5は、ガラス等の透明材料からなる基板10上に、
TFT8と、基板10及びTFT8を被覆するように形
成された第1の層間絶縁膜11と、TFT8から引き出
されたソース電極12及びドレイン電極13を被覆する
ように第1の層間絶縁膜11上に形成された第2の層間
絶縁膜14と、この第2の層間絶縁膜14上に形成され
た有機EL素子9とを有している。
The sectional structure of the pixel 5 is shown in FIG.
The pixel 5 is formed on a substrate 10 made of a transparent material such as glass,
On the first interlayer insulating film 11 so as to cover the TFT 8, the substrate 10 and the first interlayer insulating film 11 formed so as to cover the TFT 8, and the source electrode 12 and the drain electrode 13 extracted from the TFT 8. It has the formed second interlayer insulating film 14 and the organic EL element 9 formed on the second interlayer insulating film 14.

【0030】TFT8は、ガラス等からなる基板10上
に形成されたゲート電極15と、その上面に重ねられた
ゲート絶縁膜16と、このゲート絶縁膜16を介してゲ
ート電極15の上方に重ねられた半導体薄膜17とから
なる。図2に示すTFT8は、いわゆるボトムゲート構
造のTFTであり、有機EL素子9に供給される電流の
通路となるソースS、チャネルCh及びドレインDを備
えている。ソースSは、直上の第1の層間絶縁膜11が
開口して、ソース電極12を介して図示しないデータラ
イン3と接続されている。また、ドレインDは、直上の
第1の層間絶縁膜11が開口して、ドレイン電極13を
介して有機EL素子9のアノードと接続されている。ま
た、チャネルChは、ちょうどゲート電極15の直上に
位置する。
The TFT 8 is stacked on the gate electrode 15 formed on the substrate 10 made of glass or the like, the gate insulating film 16 overlaid on the upper surface thereof, and above the gate electrode 15 via the gate insulating film 16. And a semiconductor thin film 17. The TFT 8 shown in FIG. 2 is a TFT having a so-called bottom gate structure, and includes a source S, a channel Ch and a drain D which serve as a path for a current supplied to the organic EL element 9. The source S has an opening in the first interlayer insulating film 11 immediately above and is connected to the data line 3 (not shown) via the source electrode 12. Further, the drain D is connected to the anode of the organic EL element 9 via the drain electrode 13 with an opening in the first interlayer insulating film 11 immediately above. The channel Ch is located just above the gate electrode 15.

【0031】有機EL素子9は、第2の層間絶縁膜14
上に、透明電極18と、有機EL発光層19と、金属電
極20とが順次積層されてなる。
The organic EL element 9 includes the second interlayer insulating film 14
A transparent electrode 18, an organic EL light emitting layer 19, and a metal electrode 20 are sequentially laminated on top.

【0032】透明電極18は、TFT8のドレイン電極
13と接続されるため有機EL素子9のアノードとして
機能し、例えばITO等の透明導電膜からなる。
Since the transparent electrode 18 is connected to the drain electrode 13 of the TFT 8, it functions as an anode of the organic EL element 9 and is made of a transparent conductive film such as ITO.

【0033】有機EL発光層19は、例えば正孔輸送層
と発光層と電子輸送層とがこの順に積層されてなる。こ
の有機EL発光層19の構造は特に限定されるものでは
なく、正孔輸送層と発光層との積層構造、発光層と電子
輸送層との積層構造、発光層の単層構造等、如何なる構
造であっても構わない。
The organic EL light emitting layer 19 is composed of, for example, a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer, which are laminated in this order. The structure of the organic EL light emitting layer 19 is not particularly limited, and any structure such as a laminated structure of a hole transport layer and a light emitting layer, a laminated structure of a light emitting layer and an electron transport layer, and a single layer structure of the light emitting layer. It doesn't matter.

【0034】金属電極20は、有機EL素子9のカソー
ドとして機能し、基板10の略全面に亘って、画素5毎
に分離されることなく1枚の平面状に形成されている。
なお、第2の層間絶縁膜14及び透明電極18は、第3
の層間絶縁膜21によって被覆され、この第3の層間絶
縁膜21上に金属電極20が平面上に形成される。これ
により、金属電極20と透明電極18とが絶縁される。
The metal electrode 20 functions as a cathode of the organic EL element 9, and is formed in a single flat surface over the substantially entire surface of the substrate 10 without being separated for each pixel 5.
The second interlayer insulating film 14 and the transparent electrode 18 are the third
And the metal electrode 20 is formed on the plane on the third interlayer insulating film 21. Thereby, the metal electrode 20 and the transparent electrode 18 are insulated.

【0035】上述のような構成の有機EL表示装置にお
いては、スキャンライン駆動回路2及びデータライン駆
動回路4によって、時系列的にスキャンライン1及びデ
ータライン3に信号電圧を印加することにより、選択さ
れたスキャンライン1と選択されたデータライン3との
交点に対応した画素5を発光させる。
In the organic EL display device having the above-mentioned structure, the scan line driving circuit 2 and the data line driving circuit 4 apply a signal voltage to the scan lines 1 and the data lines 3 in time series to select the signals. The pixel 5 corresponding to the intersection of the selected scan line 1 and the selected data line 3 is caused to emit light.

【0036】ここで、スキャンライン1Bとデータライ
ン3Bとの交点に対応して設けられた画素5を発光させ
る場合を例に挙げて説明する。なお、図1においては、
画素5の位置をデータライン3とスキャンライン1との
マトリクスで表すこととする。
Here, a case where the pixel 5 provided corresponding to the intersection of the scan line 1B and the data line 3B is caused to emit light will be described as an example. In addition, in FIG.
The position of the pixel 5 is represented by a matrix of the data line 3 and the scan line 1.

【0037】先ず、データライン駆動回路4を駆動する
ことにより、データライン3Bに対して画像データに対
応した信号電流を供給し、データライン3Bを選択状態
とする。すなわち、データライン駆動回路4からFET
6Bのゲート電極間に所定の電圧を印加することによ
り、FET6BをON状態とし、FET6Bのソース−
ドレイン間に、例えば20Vの電圧を供給可能な電源電
圧Vddからこの電圧に対応した電流を流す。FET6
Bを通過した信号電流は、定電流回路7Bを通過するこ
とにより、一定の電流値に揃えられる。この定電流回路
7Bより、発光輝度に必要な電流がデータライン3Bに
流れ込む。一方で、データライン3A及びデータライン
3Cは非選択状態とされている。
First, by driving the data line driving circuit 4, a signal current corresponding to image data is supplied to the data line 3B, and the data line 3B is brought into a selected state. That is, from the data line driving circuit 4 to the FET
By applying a predetermined voltage between the gate electrodes of 6B, FET6B is turned on, and the source of FET6B
A current corresponding to this voltage is made to flow from the power supply voltage Vdd capable of supplying a voltage of 20 V, for example, between the drains. FET6
The signal current that has passed through B is made uniform to a constant current value by passing through the constant current circuit 7B. From this constant current circuit 7B, the current required for the emission brightness flows into the data line 3B. On the other hand, the data line 3A and the data line 3C are in the non-selected state.

【0038】この状態で、スキャンライン駆動回路2を
駆動することによりスキャンライン1Bに対して走査信
号を供給する。これにより、{スキャンライン1B,デ
ータライン3B}の画素5が特定され、この画素5が有
するTFT8のゲート電極間にスキャンライン1Bから
所定の電圧が印加されてTFT8がON状態となる。こ
の結果、データライン3Bからの信号電流がTFT8の
ソース−ドレイン間を流れ、さらにTFT8のドレイン
に接続された有機EL素子9に流れ込む。この結果、有
機EL素子9の有機EL発光層19において正孔と電子
との再結合が生じることによって光を生じ、所望の{ス
キャンライン1B,データライン3B}の画素5を発光
させることができる。
In this state, the scan line drive circuit 2 is driven to supply a scan signal to the scan line 1B. As a result, the pixel 5 on the {scan line 1B, data line 3B} is specified, and a predetermined voltage is applied from the scan line 1B between the gate electrodes of the TFT 8 included in the pixel 5 to turn the TFT 8 on. As a result, the signal current from the data line 3B flows between the source and drain of the TFT 8 and further flows into the organic EL element 9 connected to the drain of the TFT 8. As a result, light is generated by recombination of holes and electrons in the organic EL light emitting layer 19 of the organic EL element 9, and the pixel 5 of the desired {scan line 1B, data line 3B} can emit light. .

【0039】このとき、{スキャンライン1B,データ
ライン3B}の画素5以外の非選択画素においては、画
像データに対応した信号電流がデータライン3に供給さ
れないか、又は、スキャンライン1が選択されないこと
によりTFT8がOFF状態とされているために、有機
EL素子9への電流の供給が遮断され非発光とされる。
At this time, in the non-selected pixels other than the pixel 5 of the {scan line 1B, data line 3B}, the signal current corresponding to the image data is not supplied to the data line 3 or the scan line 1 is not selected. As a result, the TFT 8 is turned off, so that the current supply to the organic EL element 9 is cut off and the organic EL element 9 is not emitted.

【0040】この有機EL表示装置は、各画素5に配さ
れたTFT8によってスキャンライン1とデータライン
3とが絶縁されるとともに、選択されたスキャンライン
1と選択されたデータライン3との交点に対応したTF
T8のみのソース−ドレイン間に信号電流が流れるよう
になされている。すなわち、本発明を適用した有機EL
表示装置は、所望の画素5の有機EL素子9にのみ順方
向の電流を流し、発光させる。これに対して、非選択画
素の有機EL素子9には、順方向及び逆方向の電流をと
もに流さない構成とされているため、従来の単純マトリ
クス駆動方式の有機EL表示装置のように、逆バイアス
特性の悪い有機EL素子にリーク電流が流れることによ
り、非選択状態のスキャンライン及び/又はデータライ
ンに電流が回り込むことが防止される。
In this organic EL display device, the scan line 1 and the data line 3 are insulated from each other by the TFT 8 arranged in each pixel 5, and at the intersection of the selected scan line 1 and the selected data line 3. Corresponding TF
A signal current flows between the source and drain of only T8. That is, the organic EL to which the present invention is applied
The display device applies a forward current to only the organic EL element 9 of the desired pixel 5 to emit light. On the other hand, since the organic EL element 9 of the non-selected pixel is configured so that neither the forward current nor the reverse current flows, the organic EL element 9 of the conventional simple matrix drive type does not have the reverse current. It is possible to prevent the current from flowing into the scan line and / or the data line in the non-selected state due to the leak current flowing through the organic EL element having the poor bias characteristic.

【0041】したがって、逆バイアス特性に劣る有機E
L素子を用いた場合であってもリーク電流に起因する非
選択画素の誤発光が防止されるため、有機EL素子の逆
バイアス特性の良否に依存することなく、高コントラス
トの有機EL表示装置を実現することができる。
Therefore, the organic E which is inferior in reverse bias characteristics
Even when the L element is used, the erroneous light emission of the non-selected pixel due to the leak current is prevented, so that a high-contrast organic EL display device can be provided without depending on the quality of the reverse bias characteristic of the organic EL element. Can be realized.

【0042】また、有機EL素子には厳密な逆バイアス
特性が要求されないため、有機EL素子の成膜条件の緩
和が可能となる。この結果、有機EL素子の製造、ひい
ては有機EL表示装置の製造が容易となり、有機EL表
示装置の低コスト化を図ることができる。
Further, since the organic EL element is not required to have a strict reverse bias characteristic, the film forming conditions of the organic EL element can be relaxed. As a result, the manufacture of the organic EL element, and further the manufacture of the organic EL display device is facilitated, and the cost of the organic EL display device can be reduced.

【0043】また、本発明を適用した有機EL表示装置
は、図1に示すように、有機EL素子9のアノードをT
FT8に接続する一方で、カソードを接地電位に接続し
ている。このため、図2に示すように、カソードである
金属電極20は、従来の有機EL表示装置のようにスト
ライプ状にパターニングされる必要がなく、有機EL表
示装置の全体に亘って1枚の平板状とされていれば良
い。すなわち、有機EL発光層19上に成膜される金属
電極20のパターニングが不要となる。したがって、本
発明を適用した有機EL表示装置は、有機EL素子9を
構成する有機材料にダメージを与えることなく高精細化
を実現できる。
In the organic EL display device to which the present invention is applied, as shown in FIG.
While connected to FT8, the cathode is connected to ground potential. Therefore, as shown in FIG. 2, the metal electrode 20 as the cathode does not need to be patterned in a stripe shape as in the conventional organic EL display device, and one flat plate is provided over the entire organic EL display device. It will be good if it is in a state. That is, the patterning of the metal electrode 20 formed on the organic EL light emitting layer 19 becomes unnecessary. Therefore, the organic EL display device to which the present invention is applied can achieve high definition without damaging the organic material forming the organic EL element 9.

【0044】以下、上述したような有機EL表示装置の
製造方法について説明する。
Hereinafter, a method of manufacturing the above-mentioned organic EL display device will be described.

【0045】先ず、図3に示すように、例えば透明なガ
ラス基板からなる基板10上に、データライン3及びス
キャンライン1を互いに直交するようにストライプ状に
形成する。データライン3及びスキャンライン1は、例
えばAl、Al合金等からなる。
First, as shown in FIG. 3, data lines 3 and scan lines 1 are formed in stripes on a substrate 10 made of, for example, a transparent glass substrate so as to be orthogonal to each other. The data line 3 and the scan line 1 are made of, for example, Al or Al alloy.

【0046】次に、図4に示すように、基板10上に、
ゲート電極15、ゲート絶縁膜16、及び半導体薄膜1
7を順次堆積・パターニングし、TFT8を形成する。
また、半導体薄膜17のゲート電極13の両脇の領域に
不純物導入し、ソースS及びドレインDを形成する。ま
た、TFT8を被覆するように、基板10の上方に第1
の層間絶縁膜11を形成する。
Next, as shown in FIG. 4, on the substrate 10,
Gate electrode 15, gate insulating film 16, and semiconductor thin film 1
7 are sequentially deposited and patterned to form a TFT 8.
Further, impurities are introduced into the regions of the semiconductor thin film 17 on both sides of the gate electrode 13 to form the source S and the drain D. In addition, a first film is formed above the substrate 10 so as to cover the TFT 8.
The inter-layer insulating film 11 is formed.

【0047】次に、第1の層間絶縁膜11のソースS及
びドレインDに対応する箇所を例えばエッチングにより
開口して、開口部を形成する。この開口部を介してソー
スSと接続するソース電極12及びドレインDと接続す
るドレイン電極13を、所定の形状にパターニングして
形成する。
Next, the portions corresponding to the source S and the drain D of the first interlayer insulating film 11 are opened by, for example, etching to form openings. The source electrode 12 connected to the source S and the drain electrode 13 connected to the drain D through this opening are formed by patterning into a predetermined shape.

【0048】次に、TFT8、ソース電極12及びドレ
イン電極13を被覆するように、基板10の上方に第2
の層間絶縁膜14を形成する。この第2の層間絶縁膜1
4の、ドレイン電極13に対応する箇所を、例えばエッ
チングにより開口して、開口部を形成する。
Next, a second film is formed above the substrate 10 so as to cover the TFT 8, the source electrode 12 and the drain electrode 13.
The interlayer insulating film 14 is formed. This second interlayer insulating film 1
A portion corresponding to the drain electrode 13 of 4 is opened by, for example, etching to form an opening.

【0049】なお、ここまでの工程には、例えばフォト
リソグラフィ法等の薄膜形成プロセスを使用可能であ
る。
A thin film forming process such as photolithography can be used for the steps up to this point.

【0050】次に、図5に示すように、画素5に対応す
る領域において、第2の層間絶縁膜14上に透明電極1
8及び有機EL発光層19を順次所定の形状に形成す
る。
Next, as shown in FIG. 5, the transparent electrode 1 is formed on the second interlayer insulating film 14 in the region corresponding to the pixel 5.
8 and the organic EL light emitting layer 19 are sequentially formed into a predetermined shape.

【0051】具体的には、ITOをスパッタ法等により
成膜してなる透明電極18上に、画素5毎に赤(R)、
緑(G)及び青(B)の3色がストライプ状となるよう
に、マスクをかけながら例えば蒸着法等により有機EL
発光層19を成膜する。
Specifically, on the transparent electrode 18 formed of ITO by a sputtering method or the like, red (R),
An organic EL device is formed, for example, by vapor deposition while masking so that the three colors of green (G) and blue (B) form a stripe shape.
The light emitting layer 19 is formed.

【0052】次に、図6に示すように、基板10の上方
の略全面に亘って、例えばAlを蒸着することにより、
カソードとなる金属電極20を成膜する。
Next, as shown in FIG. 6, by vapor-depositing Al, for example, over substantially the entire upper surface of the substrate 10,
A metal electrode 20 to be a cathode is formed.

【0053】なお、図4、図5及び図6においては、説
明を容易にするためにゲート絶縁膜16、第1の層間絶
縁膜11、及び第2の層間絶縁膜14の図示を省略して
いる。
Note that, in FIGS. 4, 5 and 6, the gate insulating film 16, the first interlayer insulating film 11 and the second interlayer insulating film 14 are omitted for ease of explanation. There is.

【0054】以上のような製造方法では、熱や溶剤等に
弱い有機EL発光層19を成膜する前に、予めスキャン
ライン1、データライン3及びスイッチング素子である
TFT8を形成しておく。このため、有機EL発光層1
9の構成材料の劣化に配慮することなく、フォトレジス
トによる露光現像エッチング等、薄膜形成プロセスを使
用して、極めて微細なスキャンライン1、データライン
3及びTFT8を形成できる。
In the manufacturing method as described above, the scan line 1, the data line 3 and the TFT 8 which is a switching element are formed in advance before forming the organic EL light emitting layer 19 which is weak against heat and solvent. Therefore, the organic EL light emitting layer 1
It is possible to form extremely fine scan lines 1, data lines 3 and TFTs 8 by using a thin film forming process such as exposure and development etching with a photoresist without considering deterioration of the constituent materials of 9.

【0055】また、マスク等を用いた蒸着等によって有
機EL発光層19を形成した後は、金属電極20をパタ
ーニングすることなく基板10の上方に堆積させるだけ
で、有機EL素子9が完成する。すなわち、従来の単純
マトリクス駆動方式の表示装置では、有機EL発光層の
成膜後にカソードとなる金属電極をそれぞれ独立に成膜
しなければならないが、本発明においては、全ての有機
EL素子のカソードを接地電位に接続するため、カソー
ドのパターニングが不要となる。
After forming the organic EL light emitting layer 19 by vapor deposition using a mask or the like, the organic EL element 9 is completed only by depositing it on the substrate 10 without patterning the metal electrode 20. That is, in the conventional display device of the simple matrix drive system, the metal electrode serving as the cathode must be formed independently after the formation of the organic EL light emitting layer, but in the present invention, the cathode of all the organic EL elements is formed. Is connected to the ground potential, the patterning of the cathode is unnecessary.

【0056】したがって、有機EL発光層19に与える
ダメージを最小限に抑えつつ、高精細な有機EL表示装
置を簡単に製造することができる。
Therefore, it is possible to easily manufacture a high-definition organic EL display device while minimizing damage to the organic EL light emitting layer 19.

【0057】また、比較的逆バイアス特性に劣る有機E
L素子であっても高コントラスト化が可能であるため、
有機EL素子の成膜条件を緩和できる。
In addition, organic E, which is relatively inferior in reverse bias characteristics,
Since it is possible to increase the contrast even with an L element,
The film forming conditions of the organic EL element can be relaxed.

【0058】なお、上述の説明では、3×3ドットの有
機EL表示装置を例に挙げたが、本発明はこれに限定さ
れるものではなく、データライン3及びスキャンライン
1の本数を増減することにより、m×nドットの任意の
大きさとすることができる。
In the above description, the organic EL display device of 3 × 3 dots is taken as an example, but the present invention is not limited to this, and the number of data lines 3 and scan lines 1 is increased or decreased. As a result, the size can be arbitrarily set to m × n dots.

【0059】[0059]

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明に係る有機EL表示装置は、逆バイアス特性に劣る有
機EL素子が存在したとしても、各画素にスイッチング
素子が配されているため、この有機EL素子のリーク電
流に起因する非選択画素の誤発光が防止され、所望の画
素のみを発光させられる。また、本発明に係る有機EL
表示装置は、有機EL素子のカソードのパターニングが
不要である。
As is apparent from the above description, in the organic EL display device according to the present invention, the switching element is arranged in each pixel even if there is an organic EL element having a poor reverse bias characteristic. The erroneous light emission of the non-selected pixel due to the leak current of the organic EL element is prevented, and only the desired pixel can emit light. In addition, the organic EL according to the present invention
The display device does not require patterning of the cathode of the organic EL element.

【0060】したがって、本発明によれば、有機EL素
子の逆バイアス特性に依存することなく高コントラスト
を実現するとともに、有機EL素子へのダメージを抑え
つつ高精細な単純マトリクス駆動方式の有機EL表示装
置を提供できる。
Therefore, according to the present invention, a high contrast is realized without depending on the reverse bias characteristics of the organic EL element, and a high-definition simple matrix drive type organic EL display is provided while suppressing damage to the organic EL element. A device can be provided.

【0061】また、本発明に係る有機EL表示装置の製
造方法は、熱や溶剤等に弱い有機EL素子を成膜する前
に、予め基板上に第1の配線、第2の配線及びスイッチ
ング素子を形成するため、有機EL素子の構成材料の劣
化に配慮することなく、第1の配線、第2の配線及びス
イッチング素子の微細化が可能である。また、有機EL
素子の成膜に際して、カソードの成膜後のパターニング
が不要である。したがって、本発明によれば、有機EL
素子にダメージを与えることなく、高精細な有機EL表
示装置を製造可能である。また、本発明によれば、有機
EL素子の逆バイアス特性に依存することなく高コント
ラストを実現する有機EL表示装置を製造可能である。
Further, in the method for manufacturing an organic EL display device according to the present invention, the first wiring, the second wiring and the switching element are preliminarily formed on the substrate before the organic EL element, which is weak against heat or solvent, is formed. Therefore, it is possible to miniaturize the first wiring, the second wiring, and the switching element without considering deterioration of the constituent material of the organic EL element. In addition, organic EL
When forming the device, patterning after forming the cathode is unnecessary. Therefore, according to the present invention, the organic EL
A high-definition organic EL display device can be manufactured without damaging the element. Further, according to the present invention, it is possible to manufacture an organic EL display device that realizes high contrast without depending on the reverse bias characteristic of the organic EL element.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を適用した有機EL表示装置の回路図で
ある。
FIG. 1 is a circuit diagram of an organic EL display device to which the present invention is applied.

【図2】画素の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of a pixel.

【図3】基板上にデータライン3及びスキャンライン1
を形成した状態を示す斜視図である。
FIG. 3 shows a data line 3 and a scan line 1 on a substrate.
FIG. 6 is a perspective view showing a state in which the is formed.

【図4】基板上にTFTを形成した状態を示す斜視図で
ある。
FIG. 4 is a perspective view showing a state in which a TFT is formed on a substrate.

【図5】基板上に有機EL発光層を成膜した状態を示す
斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view showing a state in which an organic EL light emitting layer is formed on a substrate.

【図6】基板の上方にカソードとして金属電極を成膜し
た状態を示す分解斜視図である。
FIG. 6 is an exploded perspective view showing a state in which a metal electrode is formed as a cathode above a substrate.

【図7】有機EL素子の要部概略断面図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of a main part of an organic EL element.

【図8】理想的な逆バイアス特性を示す有機EL素子の
電流電圧特性図である。
FIG. 8 is a current-voltage characteristic diagram of an organic EL element showing ideal reverse bias characteristics.

【図9】図8に示すような逆バイアス特性を示す有機E
L素子を用いて構成した、従来の単純マトリクス駆動方
式の有機EL表示装置において、{スキャンライン11
B,データライン112B}の画素を発光させた状態の
回路図である。
9 is an organic E having a reverse bias characteristic as shown in FIG.
In the conventional organic EL display device of the simple matrix drive system configured by using the L element, {scan line 11
B, a data line 112B} is a circuit diagram in a state in which the pixels are made to emit light.

【図10】逆バイアス特性に劣る有機EL素子の電流電
圧特性図である。
FIG. 10 is a current-voltage characteristic diagram of an organic EL element having a poor reverse bias characteristic.

【図11】図10に示すような逆バイアス特性を示す有
機EL素子を用いて構成した、従来の単純マトリクス駆
動方式の有機EL表示装置において、{スキャンライン
11B,データライン112B}の画素を発光させた状
態の回路図である。
FIG. 11 shows a pixel of {scan line 11B, data line 112B} which emits light in a conventional simple matrix drive type organic EL display device configured by using an organic EL element having a reverse bias characteristic as shown in FIG. It is a circuit diagram of the state which was made to.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 スキャンライン、2 スキャンライン駆動回路、3
データライン、4データライン駆動回路、5 画素、
6 FET、7 定電流回路、8 TFT、9 有機E
L素子、10 基板、11 第1の層間絶縁膜、12
ソース電極、13 ドレイン電極、14 第2の層間絶
縁膜、15 ゲート電極、16 ゲート絶縁膜、17
半導体薄膜、18 透明電極、19 有機EL発光層、
20金属電極、21 第3の層間絶縁膜
1 scan line, 2 scan line drive circuit, 3
Data line, 4 data line drive circuit, 5 pixels,
6 FET, 7 constant current circuit, 8 TFT, 9 organic E
L element, 10 substrate, 11 first interlayer insulating film, 12
Source electrode, 13 drain electrode, 14 second interlayer insulating film, 15 gate electrode, 16 gate insulating film, 17
Semiconductor thin film, 18 transparent electrode, 19 organic EL light emitting layer,
20 metal electrode, 21 third interlayer insulating film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09G 3/30 G09G 3/30 J H01L 29/786 H05B 33/10 H05B 33/10 33/14 A 33/14 33/26 Z 33/26 H01L 29/78 614 Fターム(参考) 3K007 AB17 AB18 BA06 CA01 CB01 DA00 DB03 EB00 FA01 5C080 AA06 BB05 DD09 DD30 FF10 FF11 JJ02 JJ05 JJ06 5C094 AA06 AA31 AA43 BA03 BA29 CA19 DA14 DB04 EA04 EA07 5F110 AA27 BB20 CC08 DD02 NN71─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G09G 3/30 G09G 3/30 J H01L 29/786 H05B 33/10 H05B 33/10 33/14 A 33 / 14 33/26 Z 33/26 H01L 29/78 614 F term (reference) 3K007 AB17 AB18 BA06 CA01 CB01 DA00 DB03 EB00 FA01 5C080 AA06 BB05 DD09 DD30 FF10 FF11 JJ02 JJ05 JJ06 5C094 AA06 AA31 AA43 BA03 BA04 CA110 DA14 CA29 CA04 DA19 CA04 AA27 BB20 CC08 DD02 NN71

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板と、基板の一主面上に形成された第
1の配線と、上記第1の配線と交差して形成された第2
の配線と、上記第1の配線と上記第2の配線との交点に
対応して配された複数の画素とを有し、 上記画素は、 上記第1の配線が選択されたときに導通して上記第2の
配線から供給された信号電流を流すスイッチング素子
と、 上記スイッチング素子からの信号電流を受け入れて発光
する有機EL素子とを有することを特徴とする有機EL
表示装置。
1. A substrate, a first wiring formed on a main surface of the substrate, and a second wiring formed so as to intersect with the first wiring.
Line and a plurality of pixels arranged corresponding to the intersections of the first line and the second line, and the pixel is electrically connected when the first line is selected. And an organic EL element which receives a signal current from the switching element and emits light.
Display device.
【請求項2】 上記スイッチング素子は、薄膜スイッチ
ング素子であることを特徴とする請求項1記載の有機E
L表示装置。
2. The organic E according to claim 1, wherein the switching element is a thin film switching element.
L display device.
【請求項3】 上記スイッチング素子は、MEMS技術
を利用した機械的なスイッチング素子であることを特徴
とする請求項1記載の有機EL表示装置。
3. The organic EL display device according to claim 1, wherein the switching element is a mechanical switching element utilizing a MEMS technique.
【請求項4】 上記有機EL素子は、少なくともアノー
ドと有機EL発光層とカソードとがこの順に積層されて
なり、 上記アノードは上記スイッチング素子と接続されるとと
もに、上記カソードは接地電位と接続されていることを
特徴とする請求項1記載の有機EL表示装置。
4. The organic EL element is formed by stacking at least an anode, an organic EL light emitting layer and a cathode in this order, the anode is connected to the switching element, and the cathode is connected to a ground potential. The organic EL display device according to claim 1, wherein the organic EL display device is provided.
【請求項5】 上記カソードは、上記基板の一主面の全
体に亘って形成されていることを特徴とする請求項4記
載の有機EL表示装置。
5. The organic EL display device according to claim 4, wherein the cathode is formed over the entire one main surface of the substrate.
【請求項6】 上記第1の配線は、スキャン信号が供給
されるスキャンラインであり、 上記第2の配線は、画像データ信号が供給されるデータ
ラインであることを特徴とする請求項1記載の有機EL
表示装置。
6. The first wiring is a scan line supplied with a scan signal, and the second wiring is a data line supplied with an image data signal. Organic EL
Display device.
【請求項7】 上記データラインには定電流回路が接続
されていることを特徴とする請求項6記載の有機EL表
示装置。
7. The organic EL display device according to claim 6, wherein a constant current circuit is connected to the data line.
【請求項8】 単純マトリクス駆動型であることを特徴
とする請求項1記載の有機EL表示装置。
8. The organic EL display device according to claim 1, wherein the organic EL display device is of a simple matrix drive type.
【請求項9】 基板の一主面上に第1の配線と、第2の
配線と、上記第1の配線と上記第2の配線との交点に対
応した位置にスイッチング素子とを形成する第1の工程
と、 上記第1の工程で形成された上記スイッチング素子から
の信号電流を受け入れて発光することが可能な有機EL
素子を形成する第2の工程とを有することを特徴とする
有機EL表示装置の製造方法。
9. A first wiring, a second wiring, and a switching element are formed at a position corresponding to an intersection of the first wiring and the second wiring on one main surface of the substrate. Organic EL capable of receiving the signal current from the switching element formed in the first step and the first step and emitting light.
A second step of forming an element, the method for manufacturing an organic EL display device.
【請求項10】 上記第1の工程において、上記第1の
配線、上記第2の配線、及び上記スイッチング素子を、
薄膜形成プロセスにより形成することを特徴とする請求
項9記載の有機EL表示装置の製造方法。
10. The first wiring, the second wiring, and the switching element in the first step,
The method of manufacturing an organic EL display device according to claim 9, wherein the organic EL display device is formed by a thin film forming process.
【請求項11】 上記スイッチング素子は、薄膜スイッ
チング素子であることを特徴とする請求項10記載の有
機EL表示装置の製造方法。
11. The method of manufacturing an organic EL display device according to claim 10, wherein the switching element is a thin film switching element.
【請求項12】 上記第2の工程において、アノードと
有機EL発光層とカソードとをこの順に積層して上記有
機EL素子を形成することを特徴とする請求項9記載の
有機EL表示装置の製造方法。
12. The manufacturing method of an organic EL display device according to claim 9, wherein in the second step, the organic EL element is formed by stacking an anode, an organic EL light emitting layer and a cathode in this order. Method.
【請求項13】 上記基板の一主面の全体に亘って、上
記カソードを形成することを特徴とする請求項12記載
の有機EL表示装置の製造方法。
13. The method of manufacturing an organic EL display device according to claim 12, wherein the cathode is formed over the entire main surface of the substrate.
【請求項14】 上記第1の配線は、スキャン信号が供
給されるスキャンラインであり、 上記第2の配線は、画像データ信号が供給されるデータ
ラインであることを特徴とする請求項9記載の有機EL
表示装置の製造方法。
14. The first wiring is a scan line to which a scan signal is supplied, and the second wiring is a data line to which an image data signal is supplied. Organic EL
Manufacturing method of display device.
【請求項15】 上記データラインに定電流回路を接続
することを特徴とする請求項14記載の有機EL表示装
置の製造方法。
15. The method of manufacturing an organic EL display device according to claim 14, wherein a constant current circuit is connected to the data line.
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