JP2003058847A - Base material of ic card, image recording body, ic card, and method for manufacturing ic card - Google Patents

Base material of ic card, image recording body, ic card, and method for manufacturing ic card

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JP2003058847A
JP2003058847A JP2001243245A JP2001243245A JP2003058847A JP 2003058847 A JP2003058847 A JP 2003058847A JP 2001243245 A JP2001243245 A JP 2001243245A JP 2001243245 A JP2001243245 A JP 2001243245A JP 2003058847 A JP2003058847 A JP 2003058847A
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JP
Japan
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layer
card
resin
image
sheet member
Prior art date
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JP2001243245A
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Japanese (ja)
Inventor
Ryoji Hattori
良司 服部
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve chemical resistance, water resistance, curling and punching. SOLUTION: An electronic component 3 of prescribed thickness is arranged between 1st and 2nd sheet members 1, 2 and at least the 1st and 2nd sheet members 1, 2 and the electronic component 3 are constituted as laminated structure through a specific elastic epoxy adhesive having physical properties after hardning of elongation at break (%) of 50 to 500 and 2% elastic modulus (kgf/mm<2> ) of 0.01 to 10.0 kgf/mm<2> .

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、偽造、変造防止
等の安全性(セキュリティ)が要求される個人情報等を
記憶する接触式又は非接触式の電子または磁気等のIC
カード基材、画像記録体、ICカード及びICカード製
造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a contact-type or non-contact type electronic or magnetic IC for storing personal information or the like which requires security such as forgery and alteration prevention.
The present invention relates to a card base material, an image recording body, an IC card, and an IC card manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】身分証明書カード(IDカード)やクレ
ジットカードなどには、従来磁気記録方式によりデータ
を記録する磁気カードが広く利用されてきた。しかしな
がら、磁気カードはデータの書き換えが比較的容易にで
きるため、データの改ざん防止が十分でないこと、磁気
のため外的な影響を受けやすく、データの保護が十分で
ないこと、さらに記録できる容量が少ないなどの問題点
があった。そこで、近年ICチップを内蔵したICカー
ドが普及し始めている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a magnetic card for recording data by a magnetic recording system has been widely used as an identification card (ID card), a credit card and the like. However, since data can be rewritten relatively easily with a magnetic card, tampering of the data is not sufficient, it is susceptible to external influences due to magnetism, data protection is not sufficient, and the recording capacity is small. There were problems such as. Therefore, in recent years, IC cards having a built-in IC chip have become popular.

【0003】ICカードは、表面に設けられた電気接点
やカード内部のループアンテナを介して外部の機器とデ
ータの読み書きをする。ICカードは磁気カードに比べ
て記憶容量が大きく、セキュリティ性も大きく向上して
いる。特に、カード内部にICチップと外部との情報の
やりとりをするためのアンテナを内蔵し、カード外部に
電気接点を持たない非接触式ICカードは、電気接点を
カード表面にもつ接触式ICカードに比べてセキュリテ
ィ性が優れ、IDカードのようにデータの機密性と偽変
造防止性を高く要求する用途に使用されつつある。
The IC card reads / writes data from / to an external device through an electric contact provided on the surface or a loop antenna inside the card. The IC card has a larger storage capacity than the magnetic card, and the security is greatly improved. In particular, a non-contact type IC card that has an IC chip inside the card and an antenna for exchanging information with the outside and does not have an electrical contact outside the card is a contact type IC card having an electrical contact on the card surface. Compared to this, it is excellent in security and is being used for applications such as ID cards that require high data confidentiality and forgery / alteration protection.

【0004】このようなICカードとして、例えば第1
のシート部材と第2のシート部材が接着剤を介して貼り
合わされ、その接着剤層中にICチップ及びアンテナを
有するICモジュールを封入するものがある。
As such an IC card, for example, the first
There is one in which the sheet member and the second sheet member are adhered to each other via an adhesive, and an IC module having an IC chip and an antenna is enclosed in the adhesive layer.

【0005】一般にシート部材を貼り合わせるのにホッ
トメルト接着剤を使用するが、接着加工温度が接着剤の
軟化温度と同じであるため、耐熱性を有するカードを作
成する場合、高温でシート部材を貼り合わせることが必
要となってくる。しかしながら、高温で貼り合わせると
第1のシート部材と第2のシート部材が加熱によってカ
ード基体がそり(以下:カール性と称する)やすいと
か、カード表面に感熱転写による画像形成のための受像
層など高温加工に弱い層が設けられている場合に層がダ
メージを受ける。或いは高温で貼り合わせるためにカー
ド基材が熱収縮等を起こしカード基材がカールし寸法及
び貼り合わせ時の位置精度が劣化する等の問題点があっ
た。
Generally, a hot-melt adhesive is used to bond the sheet members, but since the bonding processing temperature is the same as the softening temperature of the adhesive, when the card having heat resistance is prepared, the sheet member is heated at a high temperature. It will be necessary to attach them. However, when bonded at a high temperature, the first sheet member and the second sheet member are likely to warp the card substrate (hereinafter referred to as curl) due to heating, or an image receiving layer for image formation by thermal transfer on the card surface, etc. Layers are damaged when they are provided with layers that are susceptible to high temperature processing. Alternatively, there is a problem in that the card base material undergoes heat shrinkage or the like due to the bonding at a high temperature, and the card base material curls to deteriorate the dimensions and the positional accuracy at the time of bonding.

【0006】しかし低温で接着させるためカード基材が
カールしににく、カード表面に感熱転写による画像形成
のための受像層など高温加工に弱い層が設けられている
場合にダメージを受けない。或いは低温で貼り合わせる
ために基材が熱収縮等を起こさずカードがカールせず寸
法及び貼り合わせ時の位置精度が劣化する等問題は改善
される。
However, since the card base material is hard to curl because it is adhered at a low temperature, it is not damaged when the card surface is provided with a layer vulnerable to high temperature processing such as an image receiving layer for image formation by thermal transfer. Alternatively, the problems such as the heat shrinkage of the base material and the curling of the card because of the bonding at a low temperature and the deterioration of the size and the positional accuracy during bonding are solved.

【0007】従来は低温で接着を行うために湿気硬化型
接着剤として特開2000−036026、特開200
0−219855、光硬化型接着剤として特開平10−
316959、特開平11−5964等のように取り貼
り合わせを行う方法が開示されているが破断伸度が高く
断裁性が悪かった。
Conventionally, as a moisture-curing type adhesive for bonding at low temperature, JP-A-2000-036026 and JP-A-200
0-2119855, as a photocurable adhesive
Although a method of laminating and bonding is disclosed, such as 316959 and JP-A-11-5964, the breaking elongation is high and the cutting property is poor.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】この発明においてカー
ドサイズに基材を作成する場合、製造方法として、例え
ば第1のシート部材と第2のシート部材が接着剤を介し
て貼り合わせ、接着後積層されたシート基材にをカード
サイズに成形する方法する選択される。カードサイズに
成形する方法としては打ち抜く方法、断裁する方法等が
主に選択される。
In the present invention, when a base material having a card size is prepared, a manufacturing method is, for example, a method in which a first sheet member and a second sheet member are adhered to each other with an adhesive, and laminated after adhesion. A method of molding the formed sheet base material into a card size is selected. As a method of molding into a card size, a punching method, a cutting method and the like are mainly selected.

【0009】また、カードサイズに形成する場合、接着
剤の破断伸度が500%以上であると断裁時に断裁不良
を起こす。断裁不良とは断裁時に使用するカッターまた
は金属刃に接着剤が付着しカード状に打ち抜けないこと
を示唆する。接着剤の破断伸度が50%以下であるとカ
ード基材の成形には好適であるが、仕上がったカード自
身の物理的強度の性能を劣化してしまう。物理的強度と
は、ねじれ、折り曲げ、屈曲性を表す。
Further, in the case of forming into a card size, if the breaking elongation of the adhesive is 500% or more, cutting failure occurs at the time of cutting. The poor cutting means that the adhesive adheres to the cutter or the metal blade used for cutting and cannot be punched into a card shape. If the breaking elongation of the adhesive is 50% or less, it is suitable for molding a card substrate, but the physical strength of the finished card itself deteriorates. Physical strength refers to twisting, bending, and bendability.

【0010】しかし、従来技術の低温接着剤で貼り合わ
せた画像記録体は第1のシート部材と第2のシート部材
が接着剤を介して貼り合わされ積層された接着後のカー
ドは、耐薬品性、耐水性が悪いものが多かった。これは
第1または第2シート部材の表面から薬品、或いは水が
浸透しシート基材に残存する接着層移行し薬品、水に侵
され第1のシート部材と第2のシート部材の接着性を低
下させるといった問題を引き起こしていた。
However, in the image recording body laminated with the low temperature adhesive of the prior art, the first sheet member and the second sheet member are laminated with the adhesive and the laminated card is chemically resistant. There were many things with poor water resistance. This is because chemicals or water permeates from the surface of the first or second sheet member and migrates to the adhesive layer remaining in the sheet base material, and the adhesiveness between the first sheet member and the second sheet member is affected by the chemicals and water. It caused problems such as lowering.

【0011】この発明では、このような4つの問題点を
改善するためになされたもので、耐薬品性、耐水性、カ
ール性、打ち抜き性が向上するICカード基材、画像記
録体、ICカード及びICカード製造方法を提供するこ
とを目的としている。
The present invention has been made in order to solve the above four problems, and has an IC card base material, an image recording body, and an IC card which are improved in chemical resistance, water resistance, curl property and punching property. And an IC card manufacturing method.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決し、かつ
目的を達成するために、この発明は、以下のように構成
した。
In order to solve the above-mentioned problems and to achieve the object, the present invention has the following constitution.

【0013】請求項1に記載の発明は、『第1のシート
部材と第2のシート部材との間に所定の厚みの電子部品
とを備え、少なくとも前記第1のシート部材と前記第2
のシート部材と前記電子部品とを、硬化後の樹脂物性が
破断伸度(%)が50〜500であり、2%弾性率(k
gf/mm2)0.01〜10.0kgf/mm2からな
る特定弾性エポキシ接着剤を介在して積層構造を有する
ことを特徴とするICカード基材。』である。
According to a first aspect of the present invention, "an electronic component having a predetermined thickness is provided between the first sheet member and the second sheet member, and at least the first sheet member and the second sheet member are provided.
Of the sheet member and the electronic component, the physical properties of the resin after curing have a breaking elongation (%) of 50 to 500 and a 2% elastic modulus (k).
gf / mm 2) IC card substrate, characterized in that intervening 0.01~10.0kgf / mm 2 comprising a specific elastic epoxy adhesive having a lamination structure. ].

【0014】請求項2に記載の発明は、『硬化前の前記
特定弾性エポキシ接着剤の23℃における粘度が100
0〜35000cpsであることを特徴とする請求項1
に記載のICカード基材。』である。
According to a second aspect of the invention, the viscosity of the specific elastic epoxy adhesive before curing is 100 at 23 ° C.
It is 0-35000 cps, It is characterized by the above-mentioned.
The IC card substrate described in. ].

【0015】請求項3に記載の発明は、『前記特定弾性
エポキシ接着剤を80℃以下の温度で塗工または貼り合
わせて作成した積層構造を有することを特徴とする請求
項1または請求項2に記載のICカード基材。』であ
る。
The invention according to claim 3 is characterized in that it has a laminated structure prepared by coating or laminating the specific elastic epoxy adhesive at a temperature of 80 ° C. or lower. The IC card substrate described in. ].

【0016】請求項4に記載の発明は、『請求項1乃至
請求項3のいずれか1項に記載のICカード基材の一方
の基体には、熱転写記録方式で昇華もしくは熱拡散性染
料画像を受容する受像層を有することを特徴とする画像
記録体。』である。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a "sublimation or heat diffusible dye image on one substrate of the IC card substrate according to any one of the first to third aspects by a thermal transfer recording system. An image recording body having an image receiving layer for receiving the image. ].

【0017】請求項5に記載の発明は、『請求項1乃至
請求項3のいずれかに1項に記載のICカード基材また
は請求項4に記載の画像記録体上が、光または熱硬化型
樹脂層で保護されていることを特徴とするICカー
ド。』である。
According to a fifth aspect of the present invention, "the IC card substrate according to any one of the first to third aspects or the image recording body according to the fourth aspect is cured by light or heat. An IC card characterized by being protected by a mold resin layer. ].

【0018】請求項6に記載の発明は、『請求項1乃至
請求項3のいずれかに1項に記載のICカード基材また
は請求項4に記載の画像記録体上に、少なくとも離型
層、透明樹脂層を有する支持体上からなる転写箔を少な
くとも1回以上熱転写することを特徴とするICカード
の製造方法。』である。
According to a sixth aspect of the invention, there is provided at least a release layer on the IC card substrate according to any one of the first to third aspects or the image recording body according to the fourth aspect. A method for manufacturing an IC card, which comprises thermally transferring a transfer foil formed on a support having a transparent resin layer at least once. ].

【0019】請求項7に記載の発明は、『請求項1乃至
請求項3のいずれかに1項に記載のICカード基材また
は請求項4に記載の画像記録体上に、少なくとも離型
層、透明樹脂層を有する支持体上からなる転写箔を少な
くとも1回以上熱転写した後、光または熱硬化性層を設
けたことを特徴とするICカード。』である。
According to a seventh aspect of the invention, there is provided at least a release layer on the IC card substrate according to any one of the first to third aspects or the image recording body according to the fourth aspect. An IC card is characterized in that a transfer foil formed on a support having a transparent resin layer is thermally transferred at least once and then a light or thermosetting layer is provided. ].

【0020】請求項8に記載の発明は、『請求項1乃至
請求項3のいずれかに1項に記載のICカード基材また
は請求項4に記載の画像記録体上に、少なくとも離型
層、透明樹脂層を有する支持体からなる転写箔を少なく
とも1回以上熱転写した後、光または/及び熱硬化性層
を設けた後に、活性光線で露光または/及び熱処理する
ことを特徴とするICカード製造方法。』である。
The invention described in claim 8 is that "at least a release layer is provided on the IC card substrate according to any one of claims 1 to 3 or the image recording body according to claim 4. An IC card characterized in that after a transfer foil comprising a support having a transparent resin layer is thermally transferred at least once or more, a light or / and thermosetting layer is provided, and then exposed or heat-treated with an actinic ray. Production method. ].

【0021】請求項9に記載の発明は、『個人情報とし
て顔画像、住所、名前、生年月日等の情報を有すること
を特徴とする請求項5または請求項7に記載のICカー
ド。』である。
The invention according to claim 9 is the IC card according to claim 5 or 7, wherein the personal information includes information such as a face image, an address, a name, and a date of birth. ].

【0022】請求項10に記載の発明は、『請求項5、
請求項7、請求項9のいずれか1項に記載のICカード
が、0〜80℃で接着可能な特定弾性エポキシ樹脂を少
なくとも有する接着部材を、150℃/30minにお
ける熱収縮率が縦(MD)で1.2%以下、横(TD)
で0.5%以下の白色支持体からなる基材を0〜80℃
の加熱温度下で塗工または貼り合わせる工程と、塗工ま
たは貼り合わせ後0〜80℃の加熱温度で硬化促進する
工程と、−10℃〜70℃で貼り合わせ冷却する工程
と、を少なくとも有する製造工程により作成することを
特徴とするICカード基材製造方法。』である。
The invention according to claim 10 is the "claim 5,
The IC card according to any one of claims 7 and 9, wherein an adhesive member having at least a specific elastic epoxy resin that can be adhered at 0 to 80 ° C has a longitudinal (MD) heat shrinkage rate at 150 ° C / 30 min. ) 1.2% or less, horizontal (TD)
The base material consisting of 0.5% or less of a white support at 0 to 80 ° C.
At least at a heating temperature of 0 to 80 ° C. after coating or bonding, and at a temperature of −10 ° C. to 70 ° C. for cooling. A method of manufacturing an IC card base material, which is characterized by being manufactured by a manufacturing process. ].

【0023】請求項11に記載の発明は、『第1のシー
ト部材と第2のシート部材との間に所定の厚みの電子部
品とを備え、少なくとも前記第1のシート部材と前記第
2のシート部材と前記電子部品とを、エポキシ基を1分
子内に2個以上含んだ化合物と、10〜150℃の温度
でカチオンを発生する化合物と、を少なくとも含む接着
剤部材を介在して80℃以下での温度で塗工または貼り
合わせて作成した積層構造を有する特徴とするICカー
ド基材。』である。
According to a tenth aspect of the present invention, "an electronic component having a predetermined thickness is provided between the first sheet member and the second sheet member, and at least the first sheet member and the second sheet member are provided. The sheet member and the electronic component are at 80 ° C. with an adhesive member at least containing a compound containing two or more epoxy groups in one molecule and a compound generating a cation at a temperature of 10 to 150 ° C. An IC card base material having a laminated structure formed by coating or laminating at the following temperatures. ].

【0024】請求項12に記載の発明は、『請求項11
に記載のICカード基材には、熱転写記録方式で昇華も
しくは熱拡散性染料画像を受容する受像層を有すること
を特徴とする画像記録体。』である。
The invention according to claim 12 is the "claim 11".
The image recording body, wherein the IC card substrate described in (1) above has an image receiving layer for receiving a sublimation or heat diffusible dye image in a thermal transfer recording system. ].

【0025】請求項13に記載の発明は、『請求項11
に記載のICカード基材または請求項12に記載の画像
記録体上が光または熱硬化型樹脂層で保護されているこ
とを特徴とするICカード。』である。
The invention described in claim 13 is the "claim 11".
An IC card characterized in that the IC card substrate according to claim 12 or the image recording body according to claim 12 is protected by a light or thermosetting resin layer. ].

【0026】請求項14に記載の発明は、『請求項11
に記載のICカード基材または請求項12に記載の画像
記録体上に、少なくとも離型層、透明樹脂層を有する支
持体からなる転写箔を、少なくとも1回以上熱転写した
ことを特徴とするICカードの製造方法。』である。
The invention according to claim 14 is the "claim 11".
An IC characterized in that a transfer foil comprising a support having at least a release layer and a transparent resin layer is thermally transferred at least one or more times onto the IC card substrate according to claim 12 or the image recording body according to claim 12. Card manufacturing method. ].

【0027】請求項15に記載の発明は、『請求項11
に記載のICカード基材または請求項12に記載の画像
記録体上に、少なくとも離型層、透明樹脂層を有する支
持体からなる転写箔を少なくとも1回以上熱転写した
後、光または熱硬化性層を設けたことを特徴とするIC
カード。』である。
The invention according to claim 15 is the "claim 11".
A transfer foil comprising a support having at least a releasing layer and a transparent resin layer is thermally transferred onto the IC card substrate according to claim 12 or the image recording body according to claim 12 at least one or more times, and then, light or thermosetting property is obtained. IC having a layer
card. ].

【0028】請求項16に記載の発明は、『請求項11
に記載のICカード基材または請求項12に記載の画像
記録体上に、少なくとも離型層、透明樹脂層を有する支
持体からなる転写箔を、少なくとも1回以上熱転写した
後、光または/及び熱硬化性層を設けた後に、活性光線
で露光または/及び熱処理したことを特徴とするICカ
ードの製造方法。』である。
The invention according to claim 16 is the "claim 11".
A transfer foil comprising a support having at least a release layer and a transparent resin layer is thermally transferred onto the IC card base material according to claim 12 or the image recording body according to claim 12 at least one or more times, and then light or / and A method for manufacturing an IC card, comprising exposing and / or heat treating with an actinic ray after providing a thermosetting layer. ].

【0029】請求項17に記載の発明は、『個人情報と
して顔画像、住所、名前、生年月日等の情報を有するこ
とを特徴とする請求項13または請求項15に記載のI
Cカード。』である。
The invention according to claim 17 is characterized in that "personal information includes information such as face image, address, name, date of birth, and the like.
C card. ].

【0030】請求項18に記載の発明は、『請求項1
3、請求項15、請求項17のいずれか1項に記載のI
Cードが、0〜80℃で接着可能であり、エポキシ基を
1分子内に2個以上含んだ化合物と、10〜150℃の
温度でカチオンを発生する化合物とを少なくとも含む接
着剤部材を、150℃/30minにおける熱収縮率が
縦(MD)で1.2%以下、横(TD)で0.5%以下
の白色支持体からなる基材を0〜80℃の加熱温度下で
塗工または貼り合わせる工程と、塗工または貼り合わせ
後0〜80℃の加熱温度で硬化促進する工程と、−10
℃〜70℃で貼り合わせ冷却する工程と、を少なくとも
有する製造工程により作成することを特徴とするICカ
ード基材製造方法。』である。
The invention according to claim 18 is the "claim 1
3, I according to any one of claims 15 and 17
An adhesive member containing at least a compound capable of adhering a cord at 0 to 80 ° C., containing two or more epoxy groups in one molecule, and a compound generating a cation at a temperature of 10 to 150 ° C. , A heat-shrinkage ratio at 150 ° C./30 min of 1.2% or less in the longitudinal direction (MD) and 0.5% or less in the transverse direction (TD) is applied to a substrate made of a white support at a heating temperature of 0 to 80 ° C. A step of working or laminating, and a step of promoting curing at a heating temperature of 0 to 80 ° C. after coating or laminating,
A method for manufacturing an IC card base material, which is produced by a manufacturing process including at least a step of laminating and cooling at a temperature of 70 ° C to 70 ° C. ].

【0031】請求項19に記載の発明は、『前記ICカ
ードに透かし印刷が施されていることを特徴とする請求
項9または請求項17に記載のICカード。』である。
The invention described in claim 19 is, "The IC card according to claim 9 or 17, wherein the IC card is watermark-printed. ].

【0032】この請求項1乃至請求項19に記載の発明
によれば、耐薬品性、耐水性、カール性、打ち抜き性が
向上する。
According to the inventions of claims 1 to 19, chemical resistance, water resistance, curling property and punching property are improved.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】以下、この発明のICカード基
材、画像記録体、ICカード及びICカード製造方法を
図面に基づいて詳細に説明するが、この発明は、この実
施の形態に限定されない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the IC card substrate, the image recording body, the IC card and the method for manufacturing the IC card of the present invention will be described in detail with reference to the drawings, but the present invention is not limited to this embodiment. .

【0034】図1はICカード基材の断面図である。I
Cカード基材は、第1のシート部材1と第2のシート部
材2との間に所定の厚みの電子部品3とを備えている。
電子部品3は、アンテナ体3a、ICチップ3b等から
なり、この電子部品3のICモジュールはインレット4
に備えられている。第1のシート部材1と第2のシート
部材2との間にインレット4を配置し、接着剤5,6を
介在して積層した積層構造である。
FIG. 1 is a sectional view of an IC card substrate. I
The C card base material is provided with an electronic component 3 having a predetermined thickness between the first sheet member 1 and the second sheet member 2.
The electronic component 3 includes an antenna body 3a, an IC chip 3b, etc., and the IC module of the electronic component 3 has an inlet 4
Is equipped with. The inlet 4 is arranged between the first sheet member 1 and the second sheet member 2 and is laminated with the adhesives 5 and 6 interposed therebetween.

【0035】画像記録体は、ICカード基材の一方の基
体には、熱転写記録方式で昇華もしくは熱拡散性染料画
像を受容する受像層を有する。
The image recording body has an image receiving layer for receiving a sublimation or heat diffusible dye image in the thermal transfer recording system on one of the substrates of the IC card substrate.

【0036】また、ICカードは、ICカード基材また
は画像記録体上が、光または熱硬化型樹脂層で保護され
ている。
Further, in the IC card, the IC card substrate or the image recording body is protected by a light or thermosetting resin layer.

【0037】ICカードの製造は、ICカード基材また
は画像記録体上に、少なくとも離型層、透明樹脂層を有
する支持体上からなる転写箔を少なくとも1回以上熱転
写して製造する。また、ICカード基材または画像記録
体上に、少なくとも離型層、透明樹脂層を有する支持体
からなる転写箔を少なくとも1回以上熱転写した後、光
または/及び熱硬化性層を設けた後に、活性光線で露光
または/及び熱処理する。
The IC card is manufactured by thermally transferring a transfer foil composed of a support having at least a releasing layer and a transparent resin layer onto the IC card base material or the image recording body at least once. In addition, after thermally transferring a transfer foil comprising a support having at least a release layer and a transparent resin layer onto an IC card substrate or an image recording body at least once, and after providing a light and / or thermosetting layer. , And / or heat treatment with actinic rays.

【0038】また、ICカードは、接着部材を塗工また
は貼り合わせる工程と、硬化促進する工程と、冷却する
工程とを少なくとも有する製造工程により作成する。
The IC card is manufactured by a manufacturing process including at least a step of applying or bonding an adhesive member, a step of promoting curing, and a step of cooling.

【0039】このICカードは、ICカード基材または
画像記録体上に、少なくとも離型層、透明樹脂層を有す
る支持体上からなる転写箔を少なくとも1回以上熱転写
した後、光または熱硬化性層を設けている。ICカード
には、個人情報として顔画像、住所、名前、生年月日等
の情報を有する。 [シート部材]シート部材としては例えば、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ
エチレンテレフタレート/イソフタレート共重合体等の
ポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂、ポリフッ化
ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ4フッ化エチレ
ン、エチレン−4フッ化エチレン共重合体、等のポリフ
ッ化エチレン系樹脂、ナイロン6、ナイロン6.6等の
ポリアミド、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニル
共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、エチレン/
ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、ビ
ニロン等のビニル重合体、生分解性脂肪族ポリエステ
ル、生分解性ポリカーボネート、生分解性ポリ乳酸、生
分解性ポリビニルアルコール、生分解性セルロースアセ
テート、生分解性ポリカプロラクトン等の生分解性樹
脂、三酢酸セルロース、セロファン等のセルロース系樹
脂、ポリメタアクリル酸メチル、ポリメタアクリル酸エ
チル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、
等のアクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネー
ト、ポリアリレート、ポリイミド等の合成樹脂シート、
または上質紙、薄葉紙、グラシン紙、硫酸紙等の紙、金
属箔等の単層体或いはこれら2層以上の積層体の支持体
が挙げられる。
In this IC card, a transfer foil consisting of a support having at least a release layer and a transparent resin layer is thermally transferred onto an IC card base material or an image recording body at least once, and then the light or thermosetting property is set. Layers are provided. The IC card has face information, an address, a name, a date of birth and the like as personal information. [Sheet member] Examples of the sheet member include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyester resins such as polyethylene terephthalate / isophthalate copolymers, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene and polymethylpentene, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, Polytetrafluoroethylene, ethylene-4 fluoroethylene copolymer, and other polyfluorinated ethylene resins, nylon 6, nylon 6.6 and other polyamides, polyvinyl chloride, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, ethylene / Vinyl acetate copolymer, ethylene /
Vinyl alcohol copolymer, polyvinyl alcohol, vinyl polymers such as vinylon, biodegradable aliphatic polyester, biodegradable polycarbonate, biodegradable polylactic acid, biodegradable polyvinyl alcohol, biodegradable cellulose acetate, biodegradable poly Biodegradable resins such as caprolactone, cellulose triacetate, cellulosic resins such as cellophane, methyl polymethacrylate, ethyl polymethacrylate, ethyl polyacrylate, butyl polyacrylate,
Acrylic resin such as, polystyrene, polycarbonate, polyarylate, synthetic resin sheet such as polyimide,
Alternatively, the support may be a high-quality paper, thin paper, glassine paper, paper such as sulfuric acid paper, a single layer of metal foil, or a laminate of two or more layers thereof.

【0040】この発明の支持体の厚みは30〜300μ
m望ましくは50〜200μmである。50μm以下で
あると第1のシート部材と第2のシート部材の貼り合わ
せ時に熱収縮等を起こし問題である。
The thickness of the support of the present invention is 30 to 300 μm.
m is preferably 50 to 200 μm. If the thickness is 50 μm or less, heat shrinkage or the like occurs when the first sheet member and the second sheet member are attached, which is a problem.

【0041】この発明においては、シート部材は150
℃/30minにおける熱収縮率が縦(MD)で1.2
%以下、横(TD)で0.5%以下が好ましい。第1の
シート部材と第2のシート部材の両方の面側から、接着
剤を塗工または貼り合わせ生産した場合、温度により支
持体が熱収縮を起こしてしまいその後の断裁工程、印刷
工程での位置あわせが困難であった。
In the present invention, the sheet member is 150
Thermal contraction rate at ℃ / 30min is 1.2 in length (MD)
% Or less, and the lateral (TD) is preferably 0.5% or less. When an adhesive is applied or produced from both surface sides of the first sheet member and the second sheet member, the support undergoes heat shrinkage due to temperature, and the subsequent cutting process and printing process The alignment was difficult.

【0042】しかし、この発明のように低温で接着する
接着剤と150℃/30minにおける熱収縮率が縦
(MD)で1.2%以下、横(TD)で0.5%以下の
支持体を用いることにより支持体の収縮が起きずに従来
の問題点を改善することができた。
However, an adhesive which adheres at a low temperature as in the present invention and a support having a heat shrinkage ratio at 150 ° C./30 min of 1.2% or less in the longitudinal direction (MD) and 0.5% or less in the transverse direction (TD). By using, it was possible to improve the conventional problems without shrinkage of the support.

【0043】この発明においては隠蔽性を向上させるた
めに白色の顔料を混入させたり、熱収縮率を低減させる
ためにアニール処理を行ったりして得られた150℃/
30minにおける熱収縮率が縦(MD)で1.2%以
下、横(TD)で0.5%以下の支持体を用いることが
好ましい。縦(MD)で1.2%以上、横(TD)で
0.5%以上であると支持体の収縮により上記した後加
工が困難になることが確認された。
In the present invention, a white pigment is mixed to improve the hiding property, and an annealing treatment is performed to reduce the heat shrinkage ratio.
It is preferable to use a support having a heat shrinkage ratio of 1.2% or less in the longitudinal direction (MD) and 0.5% or less in the transverse direction (TD) at 30 min. It was confirmed that when the length (MD) is 1.2% or more and the width (TD) is 0.5% or more, the above-mentioned post-processing becomes difficult due to the contraction of the support.

【0044】また、前記支持体上に後加工上密着性向上
のため易接処理を行っていても良く、チップ保護のため
に帯電防止処理を行っていても良い。具体的には、帝人
デュポンフィルム株式会社製のU2シリーズ、U4シリ
ーズ、ULシリーズ、東洋紡績株式会社製クリスパーG
シリーズ、東レ株式会社製のE00シリーズ、E20シ
リーズ、E22シリーズ、X20シリーズ、E40シリ
ーズ、E60シリーズQEシリーズを好適に用いること
ができる。
Further, an easy contact treatment may be carried out on the support for improving post-processing adhesion, and an antistatic treatment may be carried out for chip protection. Specifically, U2 series, U4 series, UL series manufactured by Teijin DuPont Films Ltd., Crisper G manufactured by Toyobo Co., Ltd.
The series, E00 series, E20 series, E22 series, X20 series, E40 series, and E60 series QE series manufactured by Toray Industries, Inc. can be preferably used.

【0045】第2のシート部材は場合により、当該カー
ド利用者の顔画像を形成するため受像層、クッション層
を設けてもよい。個人認証カード基体表面には画像要素
が設けられ、顔画像等の認証識別画像、属性情報画像、
フォーマット印刷から選ばれる少なくとも一つが設けら
れたものであってもよく、また全く印刷部分のないホワ
イトカードであってもよい。 <受像層>前記支持体の表面に形成する受像層は、バイ
ンダーと各種の添加剤で形成することができる。
The second sheet member may optionally be provided with an image receiving layer and a cushion layer for forming the face image of the card user. An image element is provided on the surface of the personal authentication card base, and an authentication identification image such as a face image, an attribute information image,
It may be provided with at least one selected from format printing, or may be a white card having no printed portion at all. <Image Receiving Layer> The image receiving layer formed on the surface of the support may be formed of a binder and various additives.

【0046】この発明における受像層は、昇華型熱転写
方式により階調情報含有画像を形成すると共に、昇華型
熱転写方式または溶融型熱転写方式により文字情報含有
画像を形成するので、昇華性色素の染着性、または昇華
性色素の染着性とともに熱溶融性インクの接着性も良好
でなければならない。かかる特別な性質を受像層に付与
するには、後述するように、バインダー、および各種の
添加剤の種類およびそれらの配合量を適宜調整すること
が必要である。
Since the image-receiving layer in the present invention forms a gradation information-containing image by a sublimation type thermal transfer system and a character information-containing image by a sublimation type thermal transfer system or a fusion type thermal transfer system, the sublimation dye is dyed. Property, or the dyeability of the sublimable dye and the adhesiveness of the hot-melt ink should be good. In order to impart such special properties to the image receiving layer, it is necessary to appropriately adjust the types of binders and various additives and their blending amounts, as described later.

【0047】以下、受像層を形成する成分について詳述
する。
The components forming the image receiving layer will be described in detail below.

【0048】この発明における受像層用のバインダー
は、通常に知られている昇華型感熱転写記録受像層用の
バインダーを適宜用いることができる。主なバインダー
としては、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポ
リカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン
系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルブチ
ラール系樹脂などさまざまのバインダーを使用すること
が、場合により硬化剤を添加しても良い。
As the binder for the image-receiving layer in the present invention, a generally known binder for sublimation-type thermal transfer recording image-receiving layer can be appropriately used. As the main binder, it is possible to use various binders such as vinyl chloride resin, polyester resin, polycarbonate resin, acrylic resin, polystyrene resin, polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin. May be added.

【0049】ただし、この発明によって形成される画像
につき、実際的要求(たとえば発行されるIDカードに
所定の耐熱性が要求されるなど)が存在するのであれ
ば、そのような要求項目を満たすようなバインダーの種
類あるいは組み合わせを考慮することが必要になる。画
像の耐熱性を例にすると、60℃以上の耐熱性が要求さ
れるのであれば、昇華性色素のにじみを考慮して、Tg
が60℃以上であるバインダーを使用するのが好まし
い。
However, if there is a practical requirement for the image formed by the present invention (for example, the issued ID card is required to have a predetermined heat resistance), such requirement items should be satisfied. It is necessary to consider the type or combination of different binders. Taking heat resistance of an image as an example, if heat resistance of 60 ° C. or higher is required, Tg should be taken into consideration in consideration of bleeding of a sublimable dye.
It is preferable to use a binder having a temperature of 60 ° C. or higher.

【0050】また、受像層を形成するに際して、必要に
応じて、例えば金属イオン含有化合物を含有させるのが
好ましい場合がある。特に熱移行性化合物がこの金属イ
オン含有化合物と反応してキレートを形成する場合であ
る。
When forming the image receiving layer, it may be preferable to contain, for example, a compound containing a metal ion, if necessary. Especially when the heat transfer compound reacts with the metal ion-containing compound to form a chelate.

【0051】前記金属イオン含有化合物を構成する金属
イオンとしては、例えば周期律表の第I・第VIII族
に属する2価および多価の金属が挙げられるが、中でも
Al、Co、Cr、Cu、Fe、Mg、Mn、Mo、N
i、Sn、Ti、Zn等が好ましく、特にNi、Cu、
Co、Cr、Zn等が好ましい。これらの金属イオンを
含有する化合物としては、該金属の無機または有機の塩
および該金属の錯体が好ましい。具体例を挙げると、N
i2+、Cu+、Co2+、Cr2+およびZn2 +を含有
した下記一般式で表される錯体が好ましく用いられる。 [M(Q1)k(Q2)m (Q3)n]p+p(L
−) ただし、式中Mは金属イオンを表し、Q1、Q2、Q3
は各々Mで表される金属イオンと配位結合可能な配位化
合物を表し、これらの配位化合物としては例えば「キレ
ート化学(5)(南江堂)」に記載されている配位化合
物から選択することができる。特に好ましくは、金属と
配位結合する少なくとも一個のアミノ基を有する配位化
合物を挙げることができ、更に具体的にはエチレンジア
ミンおよびその誘導体、グリシンアミドおよびその誘導
体、ピコリンアミドおよびその誘導体が挙げられる。
Metals constituting the metal ion-containing compound
Examples of the ions include, for example, Group I and Group VIII of the periodic table.
And divalent and polyvalent metals belonging to
Al, Co, Cr, Cu, Fe, Mg, Mn, Mo, N
i, Sn, Ti, Zn, etc. are preferable, and particularly Ni, Cu,
Co, Cr, Zn and the like are preferable. These metal ions
The compound to be contained is an inorganic or organic salt of the metal.
And complexes of said metals are preferred. To give a specific example, N
i2+, Cu+, Co2+, Cr2+And Zn2 +Contains
The complex represented by the following general formula is preferably used. [M (Q1) k (Q2) m (Q3) n] p+p (L
−) However, in the formula, M represents a metal ion, and Q1, Q2, Q3
Is a coordination capable of forming a coordinate bond with a metal ion represented by M.
Compound, and examples of these coordination compounds include
Coordination compound described in "Toh Kagaku (5) (Nankodo)"
You can choose from one. Particularly preferably, with a metal
Coordination with at least one amino group coordinatively bound
Compound, and more specifically, ethylene di
Min and its derivatives, glycinamide and its derivatives
Body, picolinamide and its derivatives.

【0052】Lは錯体を形成しうる対アニオンであり、
Cr、SO4、ClO4等の無機化合物アニオンやベン
ゼンスルホン酸誘導体、アルキルスルホン酸誘導対等の
有機化合物アニオンが挙げられるが、特に好ましくはテ
トラフェニルホウ素アニオンおよびその誘導体、ならび
にアルキルベンゼンスルホン酸アニオンおよびその誘導
体である。kは1、2または3の整数を表し、mは1、
2または0を表し、nは1または0を表すが、これらは
前記一般式で表される錯体が4座配位か、6座配位かに
よって決定されるか、あるいはQ1、Q2、Q3の配位
子の数によって決定される。pは1、2または3を表
す。
L is a counter anion capable of forming a complex,
Examples thereof include inorganic compound anions such as Cr, SO4, and ClO4, benzenesulfonic acid derivatives, and organic compound anions such as alkylsulfonic acid derivative pairs. Particularly preferred are tetraphenylboron anion and its derivatives, and alkylbenzenesulfonic acid anion and its derivatives. is there. k represents an integer of 1, 2 or 3, m is 1,
2 or 0, and n represents 1 or 0, which are determined depending on whether the complex represented by the above general formula is tetradentate or hexadentate, or whether the complex of Q1, Q2 and Q3 Determined by the number of ligands. p represents 1, 2 or 3.

【0053】この種の金属イオン含有化合物としては、
米国特許第4,987,049号明細書に例示されたも
のを挙げることができる。前記金属イオン含有化合物を
添加する場合、その添加量は受像層に対して0.5・2
0g/m2が好ましく、1・15g/m2がより好まし
い。
As this kind of metal ion-containing compound,
Mention may be made of those exemplified in US Pat. No. 4,987,049. When the metal ion-containing compound is added, the addition amount is 0.5.2 with respect to the image receiving layer.
0 g / m 2 is preferable, and 1.15 g / m 2 is more preferable.

【0054】また、受像層には、離型剤を添加すること
が好ましい。有効な離型剤としては、用いるバインダー
と相溶性のあるものが好ましく、具体的には変性シリコ
ーンオイル、変性シリコーンポリマーが代表的であり、
例えばアミノ変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリ
コーンオイル、ポリエステル変性シリコーンオイル、ア
クリル変性シリコーン樹脂、ウレタン変性シリコーン樹
脂等が挙げられる。このなかでもポリエステル変性シリ
コーンオイルはインクシートとの融着を防止するが、受
像層の2次加工性を妨げないという点で特に優れてい
る。受像層の2次加工性とは、マジックインキでの筆記
性、できた画像を保護する際に問題となるラミネート性
などを指す。この他離型剤としてはシリカ等の微粒子も
有効である。2次加工性を問題としない場合は、融着防
止策として硬化型シリコーン化合物の使用も有効であ
る。紫外線硬化型シリコーン、反応硬化型シリコーンな
どが入手可能であり、大きな離型効果が期待できる。
Further, it is preferable to add a release agent to the image receiving layer. As the effective release agent, those which are compatible with the binder used are preferable, and specifically, modified silicone oil and modified silicone polymer are typical,
Examples thereof include amino-modified silicone oil, epoxy-modified silicone oil, polyester-modified silicone oil, acrylic-modified silicone resin, urethane-modified silicone resin and the like. Among them, the polyester-modified silicone oil prevents fusion with the ink sheet, but is particularly excellent in that it does not hinder the secondary processability of the image receiving layer. The secondary processability of the image receiving layer refers to the writing property with a magic ink, the laminating property which becomes a problem when protecting the formed image, and the like. In addition, fine particles such as silica are also effective as the release agent. When the secondary processability is not a problem, it is effective to use a curable silicone compound as a measure for preventing fusion. Ultraviolet ray curable silicone, reaction curable silicone and the like are available, and a great releasing effect can be expected.

【0055】この発明における受像層は、その形成成分
を溶媒に分散あるいは溶解してなる受像層用塗工液を調
整し、その受像層用塗工液を前記支持体の表面に塗布
し、乾燥する工法によって製造することができる。
In the image-receiving layer according to the present invention, an image-receiving layer coating solution prepared by dispersing or dissolving the forming components in a solvent is prepared, and the image-receiving layer coating solution is applied to the surface of the support and dried. It can be manufactured by the method.

【0056】支持体の表面に形成される受像層の厚み
は、一般的に1・50μm、好ましくは2・10μm程
度である。
The thickness of the image receiving layer formed on the surface of the support is generally about 1.50 μm, preferably about 2/10 μm.

【0057】この発明においては、支持体と受像層との
間にクッション層あるいはバリヤー層を設けることもで
きる。クッション層を設けると、ノイズが少なくて、画
像情報に対応した画像を再現性良く転写記録することが
できる。 <クッション層>この発明のクッション層を形成する材
料としては、ポリオレフィンが好ましい。例えばポリエ
チレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合
体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、スチレン−
ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イ
ソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチ
レン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレ
ン−水素添加イソプレン−スチレンブロック共重合体、
ポリブタジエン、光硬化型樹脂層のような柔軟性を有
し、熱伝導性の低いものが適する。具体的には、特願平
2001−16934等のクッション層を使用すること
ができる。
In the present invention, a cushion layer or a barrier layer may be provided between the support and the image receiving layer. When the cushion layer is provided, noise can be reduced and an image corresponding to image information can be transferred and recorded with good reproducibility. <Cushion Layer> As a material for forming the cushion layer of the present invention, polyolefin is preferable. For example, polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, styrene-
Butadiene-styrene block copolymer, styrene-isoprene-styrene block copolymer, styrene-ethylene-butadiene-styrene block copolymer, styrene-hydrogenated isoprene-styrene block copolymer,
Those having flexibility and low thermal conductivity, such as polybutadiene and a photocurable resin layer, are suitable. Specifically, a cushion layer such as Japanese Patent Application No. 2001-16934 can be used.

【0058】この発明でいうクッション層とは、a)カ
ード基材に情報を記載する際の凹凸緩和をする役割、
b)ICと画像を受容する受像層の間に位置し、ICモ
ジュール等の電子部品による凹凸影響を緩和する役割を
果たす軟質の樹脂層を意味する。
The cushion layer referred to in the present invention means a) a role of alleviating unevenness when writing information on a card substrate,
b) It means a soft resin layer which is located between the IC and the image receiving layer for receiving an image and plays a role of reducing the influence of unevenness due to electronic parts such as an IC module.

【0059】前記クッション層は、a)シート部材最外
層と接着剤の間にクッション層、b)受像層と電子部品
の間にクッション層を有するかのいずれの形態であれば
特に制限はないが、前記基体と実質的に同質の別支持体
の片面もしくは両面上に塗設あるいは貼合されて、形成
されることが特に好ましい。 <筆記層>筆記層は、IDカードの裏面に筆記をするこ
とができるようにした層である。このような筆記層とし
ては、例えば炭酸カルシウム、タルク、ケイソウ土、酸
化チタン、硫酸バリウム等の無機微細粉末を熱可塑性樹
脂(ポリエチレン等のポリオレフィン類や、各種共重合
体等)のフィルムに含有せしめて形成することができ
る。特開平1−205155号公報に記載の「書き込み
層」をもって形成することができる。前記筆記層は支持
体における、複数の層が積層されていない方の面に形成
される [電子部品]電子部品とは、情報記録部材のことを示
し、具体的には当該電子カードの利用者の情報を電気的
に記憶するICチップ及び該ICチップに接続されたコ
イル状のアンテナ体である。ICチップはメモリのみや
それに加えてマイクロコンピューターなどである。場合
により電子部品にコンデンサーを含んでもよい。この発
明はこれに限定はされず情報記録部材に必要な電子部品
であれば特に限定はない。
The cushion layer is not particularly limited as long as it has any of a) a cushion layer between the outermost layer of the sheet member and the adhesive and b) a cushion layer between the image receiving layer and the electronic component. It is particularly preferable that the support is formed by coating or laminating on one surface or both surfaces of another support having substantially the same quality as the substrate. <Writing Layer> The writing layer is a layer that allows writing on the back surface of the ID card. As such a writing layer, for example, an inorganic fine powder such as calcium carbonate, talc, diatomaceous earth, titanium oxide or barium sulfate may be contained in a film of a thermoplastic resin (polyolefin such as polyethylene or various copolymers). Can be formed. It can be formed by the "writing layer" described in JP-A-1-205155. The writing layer is formed on the surface of the support on which the plurality of layers are not laminated. [Electronic component] The electronic component indicates an information recording member, and specifically, a user of the electronic card. And an IC chip for electrically storing the information of (1) and a coil-shaped antenna body connected to the IC chip. The IC chip is a memory only or a microcomputer in addition to the memory. In some cases, the electronic component may include a capacitor. The present invention is not limited to this and is not particularly limited as long as it is an electronic component necessary for the information recording member.

【0060】電子部品で構成されるICモジュールは、
アンテナコイルを有するものであるが、アンテナパター
ンを有する場合、導電性ペースト印刷加工、或いは銅箔
エッチング加工、巻線溶着加工等のいずれかの方法を用
いてもよい。プリント基板としては、ポリエステル等の
熱可塑性のフィルムが用いられ、更に耐熱性が要求され
る場合はポリイミドが有利である。ICチップとアンテ
ナパターンとの接合は銀ペースト、銅ペースト、カーボ
ンペースト等の導電性接着剤(日立化成工業のEN−4
000シリーズ、東芝ケミカルのXAPシリーズ等)
や、異方性導電フィルム(日立化成工業製アニソルム
等)を用いる方法、或いは半田接合を行う方が知られて
いるがいずれの方法を用いてもよい。
The IC module composed of electronic parts is
Although it has an antenna coil, when it has an antenna pattern, any method such as a conductive paste printing process, a copper foil etching process, or a winding welding process may be used. As the printed circuit board, a thermoplastic film such as polyester is used, and when heat resistance is required, polyimide is advantageous. A conductive adhesive such as silver paste, copper paste, or carbon paste is used to bond the IC chip and the antenna pattern (EN-4 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.
000 series, Toshiba Chemical's XAP series, etc.)
Alternatively, a method using an anisotropic conductive film (Anisolum manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) or a method using solder bonding is known, but either method may be used.

【0061】予めICチップを含む部品を所定の位置に
載置してから樹脂を充填するために、樹脂の流動による
剪断力で接合部が外れたり、樹脂の流動や冷却に起因し
て表面の平滑性を損なったりと安定性に欠けることを解
消するため、インレットが用いられる。インレットは、
予め基板シートに樹脂層を形成しておいて前記樹脂層内
に部品を封入するために電子部品を多孔質の樹脂フィル
ム、多孔質の発泡性樹脂フィルム、可撓性の樹脂シー
ト、多孔性の樹脂シートまたは不織布シート状にし使用
されることが好ましい。例えば特願平11−10547
6号等に記載されている方法等を用いることができる。
Since the resin including the IC chip is placed in a predetermined position in advance and then the resin is filled, the joint portion is disengaged due to the shearing force due to the flow of the resin, or the surface of the surface is affected by the flow and cooling of the resin. An inlet is used in order to eliminate loss of smoothness and lack of stability. The inlet is
A resin layer is formed in advance on the substrate sheet, and a porous resin film, a porous foamable resin film, a flexible resin sheet, a porous resin sheet, or a porous resin film is formed in order to encapsulate the components in the resin layer. It is preferably used in the form of a resin sheet or a non-woven sheet. For example, Japanese Patent Application No. 11-10547
The method described in No. 6 etc. can be used.

【0062】例えば、不織シート部材として、不織布な
どのメッシュ状織物や、平織、綾織、繻子織の織物など
がある。また、モケット、プラッシュベロア、シール、
ベルベット、スウェードと呼ばれるパイルを有する織物
などを用いることができる。材質としては、ナイロン
6、ナイロン66、ナイロン8等のポリアミド系、ポリ
エチレンテレフタレート等のポリエステル系、ポリエチ
レン等のポリオレフィン系、ポリビニルアルコール系、
ポリ塩化ビニリデン系、ポリ塩化ビニル系、ポリアクリ
ロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド等のア
クリル系、ポリシアン化ビニリデン系、ポリフルオロエ
チレン系、ポリウレタン系等の合成樹脂、絹、綿、羊
毛、セルロース系、セルロースエステル系等の天然繊
維、再生繊維(レーヨン、アセテート)、アラミド繊維
の中から選ばれる1種または2種以上を組み合わせた繊
維が上げられる。これらの繊維材料において好ましく
は、ナイロン6、ナイロン66等のポリアミド系、ポリ
アクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアイド
等のアクリル系、ポリエチレンテレフタレート等のポリ
エステル系、再生繊維としてのセルロース系、セルロー
スエステル系であるレーヨン及びアセテート、アラミド
繊維があげられる。
For example, as the non-woven sheet member, there are mesh woven fabric such as non-woven fabric, plain weave, twill woven fabric and satin woven fabric. Also, moquette, plush velour, seal,
Velvet, woven fabric having a pile called suede, or the like can be used. Materials include polyamides such as nylon 6, nylon 66 and nylon 8, polyesters such as polyethylene terephthalate, polyolefins such as polyethylene, polyvinyl alcohol,
Polyvinylidene chloride-based, polyvinyl chloride-based, acrylic such as polyacrylonitrile, acrylamide, methacrylamide, etc., polyvinylidene cyanide-based, polyfluoroethylene-based, polyurethane-based synthetic resins, silk, cotton, wool, cellulose-based, cellulose ester Examples of the fiber include natural fibers such as series, regenerated fibers (rayon, acetate), and one or a combination of two or more selected from aramid fibers. Among these fiber materials, rayon which is preferably polyamide type such as nylon 6 or nylon 66, acrylic type such as polyacrylonitrile, acrylamide or methacrylic acid, polyester type such as polyethylene terephthalate, cellulose type as regenerated fiber or cellulose ester type. And acetate and aramid fiber.

【0063】また、ICチップは点圧強度が弱いために
ICチップ近傍に補強板を有することも好ましい。
Since the IC chip has a weak point pressure strength, it is also preferable to have a reinforcing plate in the vicinity of the IC chip.

【0064】電子部品の全厚さは10〜300μmが好
ましく、より好ましくは30〜300μm、更に好まし
くは30〜250μmが好ましい。 [第1のシート部材と第2のシート部材との間に所定の
厚みの電子部品とを備える方法]この発明の第1のシー
ト部材と第2のシート部材との間に所定の電子部品とを
備えるために製造方式としては、熱貼合法、接着剤貼合
法、接着剤塗布法及び射出成形法が知られているが、い
ずれの方法で貼り合わせてもよい。また、第1のシート
部材と第2のシート部材は貼り合わせる前後いずれかに
フォーマット印刷または、情報記録を行ってもよく、オ
フセット印刷、グラビア印刷、シルク印刷、スクリーン
印刷、凹版印刷、凸版印刷、インクジェット方式、昇華
転写方式、電子写真方式、熱溶融方式等のいずれの方式
によって形成することができる。
The total thickness of the electronic component is preferably 10 to 300 μm, more preferably 30 to 300 μm, still more preferably 30 to 250 μm. [Method of Providing Electronic Component with Predetermined Thickness Between First Sheet Member and Second Sheet Member] Predetermined electronic component between first sheet member and second sheet member of the present invention In order to provide the above, as a manufacturing method, a heat bonding method, an adhesive bonding method, an adhesive coating method and an injection molding method are known, but the bonding may be performed by any method. In addition, the first sheet member and the second sheet member may be subjected to format printing or information recording either before or after bonding, and offset printing, gravure printing, silk printing, screen printing, intaglio printing, letterpress printing, It can be formed by any method such as an inkjet method, a sublimation transfer method, an electrophotographic method, and a heat melting method.

【0065】この発明の電子カードの製造方法は、少な
くとも、常温状態では固形物または粘調体であり、加熱
状態では軟化する接着部材をカード用の電子部品に施し
て電子部品保持体を形成する工程と、この電子部品保持
体を基板用の部材上に配置する工程と、この基板用の部
材上の電子部品保持体を覆うように表面用の部材を配置
する工程と、所定の加圧加温条件の下で基板用の部材、
電子部品保持体及び表面用の部材とを貼り合わせる工程
とを有し貼り合わせることを特徴とするものである。
In the method of manufacturing an electronic card of the present invention, an adhesive member that is a solid or a viscous substance at least at room temperature and softens at the time of heating is applied to the electronic component for the card to form the electronic component holder. A step, a step of disposing this electronic component holder on a substrate member, a step of disposing a surface member so as to cover the electronic component holder on the substrate member, and a predetermined pressure application. Substrate parts for temperature conditions,
And a step of attaching the electronic component holder and the surface member to each other.

【0066】この固形物または粘調体の加熱状態で軟化
する接着部材とは、接着剤自身をシート状に形成し具備
する方法と接着剤自身を加熱または常温で溶融し接着剤
塗工方式により接着剤を基材上に設け接着剤面同士貼り
合わせることが好ましい。
The adhesive member that softens in the heated state of the solid or viscous material is formed by a method in which the adhesive itself is formed into a sheet shape and is provided, or an adhesive coating method in which the adhesive itself is heated or melted at room temperature. It is preferable to provide an adhesive on the base material and bond the adhesive surfaces together.

【0067】第1のシート部材と第2のシート部材との
間に所定の電子部品の接着可能な温度は、80℃以下で
あることが好ましく、より好ましくは0〜80℃、更に
好ましくは20℃〜80℃である。この発明の製造にお
いて、貼り合わせ後に支持体のそり等を低減させるため
に冷却工程を設けることが好ましい。冷却温度は70℃
以下であることが好ましく、より好ましくは−10〜7
0℃、更に好ましくは10〜60℃である。
The temperature at which a predetermined electronic component can be bonded between the first sheet member and the second sheet member is preferably 80 ° C. or lower, more preferably 0 to 80 ° C., further preferably 20. The temperature is from 80 ° C to 80 ° C. In the production of the present invention, it is preferable to provide a cooling step after bonding to reduce warpage and the like of the support. Cooling temperature is 70 ℃
The following is preferable, and more preferably -10 to 7
The temperature is 0 ° C, more preferably 10 to 60 ° C.

【0068】貼り合わせ時には、シート基材の表面平滑
性、第1のシート部材と第2のシート部材との間に所定
の電子部品の密着性をあげるために加熱及び加圧を行う
ことが好ましく、上下プレス方式、ラミネート方式等で
製造することが好ましい。更にはIC部品の割れを考慮
して、線接触に近く、僅かなずれでも無理な曲げ力が加
わるローラを避けて平面プレス型とするのが好ましい。
加熱は、10〜120℃が好ましく、より好ましくは3
0〜100℃である。加圧は、0.1〜300kgf/
cm2が好ましく、より好ましくは0.1〜100kg
f/cm2である。これより圧が高いとICチップが破
損する。加熱及び加圧時間は好ましくは、0.1〜18
0secより好ましくは0.1〜120secである。
これより時間が長いと製造効率が低下する。
At the time of bonding, it is preferable to perform heating and pressurization in order to improve the surface smoothness of the sheet base material and the adhesion of a predetermined electronic component between the first sheet member and the second sheet member. It is preferable to manufacture by a vertical pressing method, a laminating method, or the like. Further, in consideration of cracking of IC parts, it is preferable to avoid a roller which is close to line contact and to which an excessive bending force is applied even with a slight deviation, and to use a flat press type.
The heating is preferably 10 to 120 ° C., more preferably 3
It is 0 to 100 ° C. Pressurization is 0.1-300 kgf /
cm 2 is preferred, more preferably 0.1-100 kg
f / cm 2 . If the pressure is higher than this, the IC chip will be damaged. The heating and pressurizing time is preferably 0.1 to 18
It is preferably 0.1 to 120 seconds, more preferably 0 seconds.
If the time is longer than this, the manufacturing efficiency is reduced.

【0069】この発明の電子カードの製造方法によれ
ば、上述した電子部品保持体が適用され、その貼合工程
において、所定の加圧加温条件の下で基板用の部材、電
子部品保持体及び表面用の部材とが貼り合わされるの
で、電子部品保持体自身を接着剤にして基板用の部材
と、その電子部品保持体と、表面用の基板とを再現性良
く貼り合わせることができる。
According to the method of manufacturing an electronic card of the present invention, the above-mentioned electronic component holder is applied, and in the bonding step, the member for the substrate and the electronic component holder are heated under a predetermined pressurizing and heating condition. Also, since the surface member is attached, the electronic component holder itself can be used as an adhesive to bond the substrate member, the electronic component holder, and the surface substrate with good reproducibility.

【0070】接着剤貼合法や樹脂射出法で連続シートと
して形成された貼り合わせた枚葉シートまたは連続塗工
ラミロールは、接着剤の所定硬化時間に合わせた時間内
放置後、認証識別画像や書誌事項を記録をしても良く、
その後所定のカードサイズに成形しても良い。所定のカ
ードサイズに形成する方法としては打ち抜く方法、断裁
する方法等が主に選択される。 [接着剤] <弾性エポキシ樹脂>弾性エポキシ樹脂として、例え
ば、低温時の硬化性を得るために特開昭63−6371
6号に開示されるような、エポキシ樹脂とメルカプタン
系硬化剤との組み合わせからなるエポキシ樹脂組成物
や、複素環状ジアミン硬化剤との組み合わせからなるエ
ポキシ樹脂組成物が用いられてきた。また、高強度を得
るためには芳香族ポリアミン硬化剤との組み合わせから
なるエポキシ樹脂が用いられてきた。作業環境特性、支
持体との接着性、接着安定性を得るために特開平10−
120764号に開示されているような、ビスフェノー
ル型エポキシ樹脂とアミン系硬化剤として(C)ポリア
ミドアミン、(D)芳香族変性アミン、及び(E)脂肪
族変性ポリアミンとの組み合わせによりエポキシ樹脂組
成物が用いられている。また、特開平2000−229
927には、エポキシ樹脂とアミンイミド化合物系硬化
剤との組み合わせからなる硬化速度が早いエポキシ樹脂
が得られている。特開平6−87190号、特開平5−
295272号には特殊変性シリコーンプレポリマーを
硬化剤と用いた記載がされており樹脂の柔軟性を改良し
た材料が開示されている。
The laminated sheet or continuous coated laminating roll formed as a continuous sheet by the adhesive bonding method or the resin injection method is left in the time corresponding to the predetermined curing time of the adhesive, and then the authentication identification image or the bibliography is obtained. You may record matters,
After that, it may be molded into a predetermined card size. As a method for forming a predetermined card size, a punching method, a cutting method and the like are mainly selected. [Adhesive] <Elastic Epoxy Resin> As an elastic epoxy resin, for example, in order to obtain curability at low temperature, JP-A-63-6371.
As disclosed in No. 6, an epoxy resin composition comprising a combination of an epoxy resin and a mercaptan curing agent and an epoxy resin composition comprising a combination of a heterocyclic diamine curing agent have been used. Further, in order to obtain high strength, an epoxy resin composed of a combination with an aromatic polyamine curing agent has been used. In order to obtain work environment characteristics, adhesion to a support, and adhesion stability, JP-A-10-
No. 120764, an epoxy resin composition comprising a combination of a bisphenol type epoxy resin and (C) polyamidoamine, (D) aromatic modified amine, and (E) aliphatic modified polyamine as an amine-based curing agent. Is used. In addition, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-229
In 927, an epoxy resin having a high curing rate, which is a combination of an epoxy resin and an amine imide compound-based curing agent, is obtained. JP-A-6-87190, JP-A-5-
No. 295272 describes using a specially modified silicone prepolymer as a curing agent, and discloses a material in which the flexibility of a resin is improved.

【0071】この発明で用いることができる弾性エポキ
シ接着剤とは、例えば、セメダイン株式会社製、セメダ
インEP−001、株式会社スリーボンド社製、395
0シリーズ、3950,3951,3952、コニシ株
式会社製ボンドMOSシリーズ、MOS07、MOS1
0、東邦化成工業株式会社ウルタイト1500シリー
ズ、ウルタイト1540等を用いることが好ましい。
The elastic epoxy adhesive which can be used in the present invention is, for example, Cemedine Co., Ltd., Cemedine EP-001, Three Bond Co., Ltd., 395.
0 series, 3950, 3951, 3952, Bond MOS series manufactured by Konishi Co., Ltd., MOS07, MOS1
0, Toho Kasei Kogyo Co., Ltd. Ultite 1500 series, Ultite 1540 and the like are preferably used.

【0072】接着剤の膜厚は、電子部品と含めた厚さで
100〜800μmが好ましく、より好ましくは200
〜800μm、更に好ましくは250μ〜700μmで
ある。
The film thickness of the adhesive is preferably 100 to 800 μm, more preferably 200, including the thickness of the electronic parts.
To 800 μm, and more preferably 250 to 700 μm.

【0073】この発明における弾性エポキシ樹脂とは、
主剤としてのエポキシ樹脂と硬化剤を混合した時の混合
物の23℃における粘度が1000〜35000cps
であることが好ましく、更に好ましくは3000〜35
000cpsである。粘度が1000cps以下である
とカード作成時に粘度が低すぎるため塗工した場合液が
流れてしまい膜厚制御、膜厚ムラができてしまい問題と
なってしまった。また、粘度が35000cps以上で
あると製造時に塗工スジが発生してカードの平滑性が劣
化してしまい問題となった。
The elastic epoxy resin in the present invention is
When the epoxy resin as the main component and the curing agent are mixed, the viscosity of the mixture at 23 ° C. is 1000 to 35000 cps.
Is preferable, and more preferably 3000 to 35
000 cps. If the viscosity is 1000 cps or less, the viscosity will be too low at the time of making the card, and the liquid will flow when applied, resulting in film thickness control and film thickness unevenness, which is a problem. Further, if the viscosity is 35,000 cps or higher, coating streaks are generated during the production and the smoothness of the card is deteriorated, which is a problem.

【0074】塗工スジは混合時い空気の巻込まれによ
り、塗工液自体に泡が入り塗工スジとなることもあるた
めに、この発明では超音波法、加温法、撹拌法の工夫等
により、あらかじめ泡を取り除き塗工することが好まし
い。
Since the coating streak may become a coating streak when bubbles are entrapped in the coating liquid itself due to the entrainment of air during mixing, in the present invention, the ultrasonic method, the heating method and the stirring method are devised. For example, it is preferable to remove the bubbles in advance and apply.

【0075】この発明に使用する弾性エポキシ接着剤5
00μm硬化後の樹脂物性が破断伸度(%)が50〜5
00が好ましく、より好ましくは50〜400%であ
る。50%以下であると接着剤の破断伸度が低いために
仕上がったカード自身の物理的強度の性能、ねじれ、折
り曲げ、屈曲性を劣化してしまう。また破断伸度が50
0%以上であるとカード成形の際の断裁時に断裁不良を
起こし、問題となってしまう。
Elastic Epoxy Adhesive 5 Used in the Present Invention
Elongation at break (%) is 50 to 5 as a physical property of resin after being cured by 00 μm.
00 is preferable, and more preferably 50 to 400%. If it is 50% or less, the adhesive has a low elongation at break, and the performance of physical strength, twisting, bending, and flexibility of the finished card itself are deteriorated. The breaking elongation is 50
If it is 0% or more, a cutting failure occurs at the time of cutting during card molding, which causes a problem.

【0076】この発明に使用する弾性エポキシ接着剤5
00μm硬化後の樹脂物性が2%弾性率(kgf/mm
2)において0.01〜10kgf/mm2であることが
好ましく、10kgf/mm2以上であると断裁時に断
裁不良を起こし、問題となってしまうため、より好まし
くは、0.01〜8kgf/mm2がより好ましい。
Elastic epoxy adhesive 5 used in this invention
The resin physical property after curing to 100 μm is 2% elastic modulus (kgf / mm
It is preferably 0.01~10kgf / mm 2 in 2), 10kgf / mm 2 or more in that cause cutting failure during cutting, since it becomes a problem, more preferably, 0.01~8kgf / mm 2 is more preferable.

【0077】また、この発明での弾性エポキシ接着剤
は、上述した第1のシート部材と第2のシート部材との
間に所定の電子部品とを備えるために製造方式、即ち8
0℃以下の温度で塗工または貼り合わせて作成すること
が好ましい。この方式により過剰な熱をかけ製造しない
ため支持体または製造時のカードへ熱収縮低減を行うこ
とができ良好なカードを作成することができた。このカ
ール性はカードに情報を書き込む際、または保護層を設
けるときに機械の中での搬送性が劣化し問題であったが
この発明により改善することができた。 <熱カチオン接着剤>エポキシ基を1分子内に2個以上
含んだ化合物、10〜150℃の温度でカチオンを発生
する化合物を少なくとも含む接着剤部とは、具体的には
熱カチオン型接着剤のことを意味する。 [エポキシ基を1分子内に2個以上含んだ化合物]カチ
オン重合により高分子化の起こるタイプ(主にエポキシ
タイプ)のエポキシタイプの紫外線硬化性プレポリマ
ー、モノマーは、1分子内にエポキシ基を2個以上含有
するプレポリマーを挙げることができる。このようなプ
レポリマーとしては、例えば、脂環式ポリエポキシド
類、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコ
ールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレ
ングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリ
オールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオール
のポリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレ
タンポリエポキシ化合物類およびエポキシ化ポリブタジ
エン類等を挙げることができる。これらのプレポリマー
は、その一種を単独で使用することもできるし、また、
その二種以上を混合して使用することもできる。
Further, the elastic epoxy adhesive according to the present invention is manufactured by the manufacturing method, that is, 8 since the predetermined electronic component is provided between the first sheet member and the second sheet member described above.
It is preferable to apply or laminate at a temperature of 0 ° C. or less. By this method, excessive heat is not applied to manufacture, so that heat contraction can be reduced to the support or the card at the time of manufacture, and a good card can be produced. This curling property was a problem because the transportability in a machine was deteriorated when writing information on a card or when a protective layer was provided, but it could be improved by the present invention. <Thermal Cationic Adhesive> A compound containing two or more epoxy groups in one molecule, and an adhesive part containing at least a compound capable of generating cations at a temperature of 10 to 150 ° C. is specifically a thermocationic adhesive. Means that. [Compound containing two or more epoxy groups in one molecule] Epoxy type UV-curable prepolymer of type (mainly epoxy type) in which polymerization occurs by cationic polymerization, monomer has an epoxy group in one molecule Prepolymers containing two or more can be mentioned. Examples of such prepolymers include alicyclic polyepoxides, polyglycidyl esters of polybasic acids, polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols, polyglycidyl ethers of polyoxyalkylene glycols, and polyglycidyl aromatic polyols. Examples thereof include ethers, hydrogenated compounds of polyglycidyl ethers of aromatic polyols, urethane polyepoxy compounds and epoxidized polybutadienes. These prepolymers can be used alone, or in addition,
It is also possible to use a mixture of two or more thereof.

【0078】上記カチオン重合性化合物のカチオン重合
性組成物中の含有量は1〜97重量%が好ましく、より
好ましくは30〜95重量%である。 [10〜150℃の温度でカチオンを発生する化合物]
10〜150℃の温度でカチオンを発生する化合物とは
熱カチオン開始剤のことを表す。熱カチオン開始剤とは
カチオン系重合開始剤が好ましく、特に10〜150℃
の温度でカチオンを発生する化合物が好ましい。具体的
には芳香族オニウム塩を挙げることができる。この芳香
族オニウム塩として、周期表第Va族元素の塩たとえば
ホスホニウム塩(たとえばヘキサフルオロリン酸トリフ
ェニルフェナシルホスホニウムなど)、第VIa族元素
の塩たとえばスルホニウム塩(たとえばテトラフルオロ
ホウ酸トリフェニルスルホニウム、ヘキサフルオロリン
酸トリフェニルスルホニウム、ヘキサフルオロリン酸ト
リス(4−チオメトキシフェニル)、スルホニウムおよ
びヘキシサフルオロアンチモン酸トリフェニルスルホニ
ウムなど)、及び第VIIa族元素の塩たとえばヨード
ニウム塩(たとえば塩化ジフェニルヨードニウムなど)
を挙げることができる。
The content of the above cationically polymerizable compound in the cationically polymerizable composition is preferably 1 to 97% by weight, more preferably 30 to 95% by weight. [Compound that Generates Cations at a Temperature of 10 to 150 ° C.]
The compound that generates a cation at a temperature of 10 to 150 ° C. refers to a thermal cation initiator. The thermal cationic initiator is preferably a cationic polymerization initiator, particularly 10 to 150 ° C.
Compounds that generate cations at the temperature are preferred. Specific examples thereof include aromatic onium salts. As the aromatic onium salt, a salt of a Group Va element of the periodic table, for example, a phosphonium salt (for example, triphenylphenacylphosphonium hexafluorophosphate), a salt of a Group VIa element, for example, a sulfonium salt (for example, triphenylsulfonium tetrafluoroborate). , Triphenylsulfonium hexafluorophosphate, tris (4-thiomethoxyphenyl) hexafluorophosphate, sulfonium and triphenylsulfonium hexisafluoroantimonate), and salts of Group VIIa elements such as iodonium salts (eg, diphenyliodonium chloride). Such)
Can be mentioned.

【0079】このような芳香族オニウム塩をエポキシ化
合物の重合におけるカチオン重合開始剤として使用する
ことは、米国特許第4,058,401号、同第4,0
69,055号、同第4,101,513号および同第
4,161,478号公報に詳述されている。又特開平
2000−10271、機能材料(1995年5月号V
ol.13,No.5 P.5〜11)記載等の熱酸発
生剤を用いることもできる。
The use of such an aromatic onium salt as a cationic polymerization initiator in the polymerization of an epoxy compound is described in US Pat. Nos. 4,058,401 and 4,0.
69,055, 4,101,513 and 4,161,478. Also, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-10271, functional materials (May 1995 V
ol. 13, No. 5 P. It is also possible to use the thermal acid generator described in 5 to 11).

【0080】好ましいカチオン重合開始剤としては、第
VIa族元素のスルホニウム塩が挙げられる。その中で
も、紫外線硬化性と紫外線硬化性の組成物の貯蔵安定性
の観点からすると、ヘキサフルオロアンチモン酸トリア
リールスホニウムが好ましい。またフォトポリマーハン
ドブック(フォトポリマー懇話会編 工業調査会発行1
989年)の39〜56頁に記載の公知の光重合開始
剤、特開昭64−13142号、特開平2−4804号
に記載されている化合物を任意に用いることが可能であ
る。
Preferred cationic polymerization initiators include sulfonium salts of Group VIa elements. Among them, from the viewpoint of ultraviolet curability and storage stability of the ultraviolet curable composition, triarylsulfonium hexafluoroantimonate is preferable. Also, Photo Polymer Handbook (Photo Polymer Conversation Edition, Industrial Research Committee issue 1
989), pages 39 to 56, known photopolymerization initiators, and compounds described in JP-A-64-13142 and JP-A-2-4804 can be optionally used.

【0081】この発明において、10〜150℃温度で
カチオンが発生する化合物が好ましいが、化合物の取扱
性から50〜150℃であることがより好ましい。より
好ましくは温度が低い方が製造時の支持体への温度履歴
が低くなり支持体の熱収縮性が向上するため好ましい。
具体的には50〜120℃の温度が更に好ましい。
In the present invention, a compound capable of generating a cation at a temperature of 10 to 150 ° C. is preferable, but a temperature of 50 to 150 ° C. is more preferable from the viewpoint of handling the compound. It is more preferable that the temperature is lower because the temperature history of the support during production is lowered and the heat shrinkability of the support is improved.
Specifically, a temperature of 50 to 120 ° C is more preferable.

【0082】具体的には、三新化学工業株式会社製サン
エイドSIシリーズのサンエイドSI−60L(熱カチ
オン発生温度90℃)、SI−80L(熱カチオン発生
温度110℃)、SI−100L(熱カチオン発生温度
120℃)、みどり化学株式会社製、NDI105(熱
カチオン発生温度100℃)、NB−101(熱カチオ
ン発生温度110℃)等を使用でき、接着剤の固形分中
に0.1〜30重量%添加することが好ましく、より好
ましくは0.5〜20重量%である。
Specifically, San-Aid SI series manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd., San-Aid SI-60L (thermal cation generation temperature 90 ° C.), SI-80L (thermal cation generation temperature 110 ° C.), SI-100L (thermal cation). (Generation temperature 120 ° C.), Midori Kagaku Co., Ltd., NDI105 (heat cation generation temperature 100 ° C.), NB-101 (heat cation generation temperature 110 ° C.) and the like can be used, and the solid content of the adhesive is 0.1 to 30. It is preferably added by weight%, more preferably 0.5 to 20% by weight.

【0083】この発明に使用するエポキシ基を1分子内
に2個以上含んだ化合物、10〜150℃の温度でカチ
オンを発生する化合物を少なくとも含む接着剤は、上述
した第1シート部材と第2シート部材との間に所定の電
子部品とを備えるために製造方式、即ち80℃以下の温
度で塗工又は貼り合わせ作成することが好ましい。この
方式により過剰な熱をかけ製造しないため支持体または
製造時のカードへ熱収縮低減を行うことができ良好なカ
ードを作成することができた。このカール性はカードに
情報を書き込む際、または保護層を設けるときに機械の
中での搬送性が劣化し問題であったがこの発明により改
善することができた。
The adhesive containing at least two compounds in one molecule containing epoxy groups and the compound containing at least a compound capable of generating cations at a temperature of 10 to 150 ° C. are used in the present invention. In order to provide a predetermined electronic component between the sheet member and the sheet member, it is preferable to apply or bond to the sheet member at a temperature of 80 ° C. or less. By this method, excessive heat is not applied to manufacture, so that heat contraction can be reduced to the support or the card at the time of manufacture, and a good card can be produced. This curling property was a problem because the transportability in a machine was deteriorated when writing information on a card or when a protective layer was provided, but it could be improved by the present invention.

【0084】接着剤の膜厚は、電子部品と含めた厚さで
100〜800μmが好ましく、より好ましくは200
〜800μm、更に好ましくは250〜700μmであ
る。 <接着剤に添加可能な材料>接着剤に添加可能な素材と
しては、WAX、熱可塑性樹脂、無機微粒子、レベリン
グ剤、ゴム弾性粒子、熱可塑性エラストマー、熱可塑性
樹脂、粘着剤、硬化剤、硬化触媒、流展剤、平板状粒
子、針状粒子、その他添加剤等を配合することも可能で
ある。
The thickness of the adhesive is preferably 100 to 800 μm, more preferably 200, including the thickness of electronic components.
To 800 μm, more preferably 250 to 700 μm. <Materials that can be added to the adhesive> Materials that can be added to the adhesive include WAX, thermoplastic resin, inorganic fine particles, leveling agent, rubber elastic particles, thermoplastic elastomer, thermoplastic resin, adhesive, curing agent, and curing. It is also possible to mix a catalyst, a leveling agent, tabular particles, acicular particles, and other additives.

【0085】平板状粒子としては、アスペクト比2以上
のものが好ましい。ここでいうアスペクト比とは、平板
状粒子の投影面積と同一の面積を有する円の直径と2つ
の平行平面間距離の比を表す。この発明においてアスペ
クト比は2以上100未満、特に2以上50未満である
ことが好ましい。この発明の平板状粒子は、厚みが3.
0ミクロン以下、好ましくは2.0ミクロン以下である
ことが好ましい。
The tabular grains preferably have an aspect ratio of 2 or more. The aspect ratio here means the ratio of the diameter of a circle having the same area as the projected area of tabular grains and the distance between two parallel planes. In the present invention, the aspect ratio is preferably 2 or more and less than 100, particularly preferably 2 or more and less than 50. The tabular grains of the present invention have a thickness of 3.
It is preferably 0 micron or less, preferably 2.0 micron or less.

【0086】具体的には、例えばマイカ、タルク、層状
珪酸塩、ハロゲン化銀等の平板状物質が使用できる。
Specifically, tabular substances such as mica, talc, layered silicate, silver halide and the like can be used.

【0087】平板状物質である平板状シリカ系化合物
は、アルカリ、アルカリ土類金属、アルミニウムなどを
含有する層状ケイ酸塩、即ち、平板状ケイ酸塩を指し、
これらとしては、カオリン鉱物、雲母粘土鉱物、スメク
タイトなどが挙げられる。カオリン鉱物としては、カオ
リナイト、デイッカイト、ナクライト、ハロイサイト、
蛇文石などが挙げられる。雲母粘土鉱物としては、パイ
ロフィライト、タルク、白雲母、膨潤性合成フッ素雲
母、セリサイト、緑泥石などが挙げられる。スメクタイ
トとしては、スメクタイト、バーミキュライト、膨潤性
合成フッ素バーミキュライトなどが挙げられる。スメク
タイトには、天然物と合成物の2種類があるが、天然物
の例としては、モンモリロナイトとバイデライトなどが
あり、ベントナイト、酸性白土などと呼ばれる粘土とし
て得られる。合成スメクタイトの例としては、例えば、
コープケミカル(株)製のルーセンタイトSWN(以
下、STT−1という。)、ルーセンタイトSWF(フ
ッ素を2〜5重量%含む)(以下、STT−2とい
う。)などを挙げることができる。
The tabular silica-based compound which is a tabular substance refers to a layered silicate containing an alkali, an alkaline earth metal, aluminum or the like, that is, a tabular silicate,
These include kaolin minerals, mica clay minerals, smectites and the like. Kaolin minerals include kaolinite, decite, nacrite, halloysite,
Examples include serpentine stones. Examples of mica clay minerals include pyrophyllite, talc, muscovite, swelling synthetic fluoromica, sericite, and chlorite. Examples of smectite include smectite, vermiculite, and swelling synthetic fluorine vermiculite. There are two types of smectites, natural products and synthetic products. Examples of natural products include montmorillonite and beidellite, which are obtained as clay called bentonite and acid clay. Examples of synthetic smectites include, for example:
Examples include Lucentite SWN (hereinafter referred to as STT-1) and Lucentite SWF (containing 2 to 5% by weight of fluorine) (hereinafter referred to as STT-2) manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.

【0088】平板状粒子としては、雲母に反射性(高虹
彩反射)を与える薄膜被膜として、可視域に透明で屈折
性が2.0以上ある金属酸化物あるいは金属硫化物など
を被覆したもので、例えば、Sb2S3、Fe2O3、
PbO、ZnSe、CdS、Bi2O3、TiO2、P
bCl2、CeO2、Ta2O5、ZnS、ZnO、C
dO、Nd2O3、Sb2O3、SiOおよびInO3
の単層の被覆、もしくは2層に被覆することにより形成
されたものでもよい。
The tabular grains are thin film coatings that give mica reflectivity (high iris reflection) and are coated with a metal oxide or a metal sulfide that is transparent in the visible region and has a refractive index of 2.0 or more. , For example, Sb2S3, Fe2O3,
PbO, ZnSe, CdS, Bi2O3, TiO2, P
bCl2, CeO2, Ta2O5, ZnS, ZnO, C
dO, Nd2O3, Sb2O3, SiO and InO3
It may be a single layer coating or a two-layer coating.

【0089】このようなものとして挙げられる「Iri
odin」は天然マイカの表面を酸化チタン及び酸化鉄
等の高屈折率の金属酸化物で被覆した安定した無機鱗片
顔料であり、屈折率の高い酸化チタンの層と屈折率の低
いマイカおよび周りの媒体との境界で反射した光が真珠
光沢をもたらすものでもある。
“Iri” which can be mentioned as such a thing
"odin" is a stable inorganic scale pigment in which the surface of natural mica is coated with a metal oxide having a high refractive index such as titanium oxide or iron oxide, and a layer of titanium oxide having a high refractive index and mica having a low refractive index The light reflected at the boundary with the medium also gives the pearl luster.

【0090】平板状のハロゲン化銀としては、AgB
r,AgCl,AgClBr,AgClBrI,AgB
rI,AgClBrI等任意に用いることができる。こ
れらは、米国特許第4,439,520、同第4,42
5,425、同第4,414,304号等に記載されて
おり、容易に目的の平板状粒子として得ることができ
る。平板状粒子は、特定表面部位に組成の異なるハロゲ
ン化銀をエピタキシャル成長させたり、シェリングさせ
たりすることができる。
The tabular silver halide is AgB
r, AgCl, AgClBr, AgClBrI, AgB
rI, AgClBrI, etc. can be used arbitrarily. These are disclosed in U.S. Pat. Nos. 4,439,520 and 4,42.
5,425, and 4,414,304, etc., and the desired tabular grains can be easily obtained. The tabular grains can be formed by epitaxially growing silver halide having a different composition on a specific surface site or by shelling.

【0091】この発明に用いられる平板状粒子の好まし
い使用量は、添加すべき層のバインダーに対して乾燥重
量比で0.10〜0.90で、特に好ましくは0.2〜
0.8である。また平板状粒子と他の微粒子を併用して
もよい。また、平板状微粒子の表面は必要に応じて疎水
化等の処理を行っても良い。このような平板状粒子はビ
ヒクル、添加剤を加えインキ化して用いることができ
る。
The tabular grains used in the present invention are preferably used in a dry weight ratio of 0.10 to 0.90 with respect to the binder of the layer to be added, and particularly preferably 0.2 to
It is 0.8. Further, tabular grains and other fine particles may be used in combination. In addition, the surface of the tabular fine particles may be subjected to a treatment such as hydrophobization if necessary. Such tabular grains can be used as an ink by adding a vehicle and additives.

【0092】針状粒子としては、バリウムフェライト、
ストロンチウムフェライト等の六方晶系フェライトを挙
げることができる。また、アラミド繊維などの高弾性率
の繊維片であってもよい。
As the acicular particles, barium ferrite,
Hexagonal ferrite such as strontium ferrite can be mentioned. Further, it may be a fiber piece having a high elastic modulus such as aramid fiber.

【0093】また、必要に応じて、さらに他の微粒子を
併用しても良い。他の微粒子としては、各種無機酸化
物、炭化物、窒化物、硼化物が好適に用いられる。例え
ば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン
酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロン
チウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸カルシウム、
酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモ
ン、酸化タグステン、酸化錫、酸化テルル、酸化マンガ
ン、酸化硼素、炭化珪素、炭化硼素、炭化チタン、窒化
珪素、窒化チタン、窒化硼素等が挙げられる。
If desired, other fine particles may be used in combination. As the other fine particles, various inorganic oxides, carbides, nitrides and borides are preferably used. For example, silica, alumina, titania, zirconia, barium titanate, aluminum titanate, strontium titanate, magnesium titanate, calcium titanate,
Examples thereof include zinc oxide, chromium oxide, cerium oxide, antimony oxide, tugsten oxide, tin oxide, tellurium oxide, manganese oxide, boron oxide, silicon carbide, boron carbide, titanium carbide, silicon nitride, titanium nitride and boron nitride.

【0094】粘着性ポリマーとしては、ポリジメチルシ
ロキサン、ポリジフェニルシロキサンなどのシリコーン
ゴムと、トリメチルシリル基もしくはトリフェニルシリ
ル基を有するポリシロキサンなどのシリコーンレジンと
の混合物のようなシリコーン類;ポリエステル類;ポリ
ウレタン類;ポリエーテル類;ポリカーボネート類;ポ
リビニルエーテル類;ポリ塩化ビニル類;ポリ酢酸ビニ
ル類;ポリイソブチレン類などのアクリル系以外のポリ
マーや、アクリルゴム、アクリロニトリル/ブタジエン
ゴム(NBR)、ランダム型スチレン/ブタジエンゴ
ム、ブチルゴム、イソプレンゴム(IR)、ブタジエン
ゴム(BR)、エチレン/プロピレンゴム(EPM)、
エチレン/プロピレン/ジエンゴム(EPDM)、ウレ
タンゴム、スチレン/イソプレン/スチレンブロックゴ
ム(SIS)、スチレン/エチレン/ブタジエン/スチ
レンブロックゴム(SEBS)、スチレン/ブタジエン
ブロックゴムなどの合成ゴム系ポリマーを用いてもよ
い。熱軟化点の低い樹脂、例えば、ガラス転移点が低い
アルキルアクリレートを主成分とするアクリル系ポリマ
ーが、該ポリマー単体で適度な感圧接着性を発揮し得る
ため好適に用いられる。
Examples of the adhesive polymer include silicones such as a mixture of silicone rubber such as polydimethylsiloxane and polydiphenylsiloxane and silicone resin such as polysiloxane having a trimethylsilyl group or triphenylsilyl group; polyesters; polyurethane. Polyethers; Polycarbonates; Polyvinyl ethers; Polyvinyl chlorides; Polyvinyl acetates; Polyisobutylenes and other non-acrylic polymers, acrylic rubber, acrylonitrile / butadiene rubber (NBR), random styrene / Butadiene rubber, butyl rubber, isoprene rubber (IR), butadiene rubber (BR), ethylene / propylene rubber (EPM),
Using synthetic rubber polymers such as ethylene / propylene / diene rubber (EPDM), urethane rubber, styrene / isoprene / styrene block rubber (SIS), styrene / ethylene / butadiene / styrene block rubber (SEBS), styrene / butadiene block rubber Good. A resin having a low heat softening point, for example, an acrylic polymer having an alkyl acrylate having a low glass transition point as a main component is preferably used because the polymer alone can exhibit appropriate pressure-sensitive adhesiveness.

【0095】好ましい粘着アクリル系ポリマーとして
は、例えば、アルキル基の炭素数が1〜14であるアル
キル(メタ)アクリレートモノマーの単独重合体または
共重合体を挙げることができ、より好ましくは、上記ア
ルキル(メタ)アクリレートモノマーと、該アルキル
(メタ)アクリレートモノマーと共重合可能な不飽和結
合を有するビニルモノマーとの共重合体を挙げることが
できる。
Examples of preferable adhesive acrylic polymers include homopolymers or copolymers of alkyl (meth) acrylate monomers in which the alkyl group has 1 to 14 carbon atoms, and more preferably the above alkyl A copolymer of a (meth) acrylate monomer and a vinyl monomer having an unsaturated bond copolymerizable with the alkyl (meth) acrylate monomer can be mentioned.

【0096】上記アルキル(メタ)アクリレートモノマ
ーとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メ
タ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、
2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n−オクチ
ル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリ
レート、イソノニル(メタ)アクリレート、イソミリス
チル(メタ)アクリレートなどを例示することができ
る。
Examples of the alkyl (meth) acrylate monomer include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate,
2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, etc. can be illustrated.

【0097】上記ビニルモノマーとしては、上記アルキ
ル(メタ)アクリレートモノマーと共重合可能な不飽和
結合を有する化合物であれば特に限定されず、上記アル
キル(メタ)アクリレート以外の(メタ)アクリル酸エ
ステル、酢酸ビニル、スチレン、塩化ビニル、エチレ
ン、プロピレン、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、
ε−カプロラクトン(メタ)アクリレート、2−アクリ
ロイルオキシエチル(プロピル)琥珀酸、(メタ)アク
リロニトリル、N−ビニルピロリドン、イソボルタニル
(メタ)アクリレート、N−アクリロイルモルフォリ
ン、ベンジル(メタ)アクリレート、グリシジル(メ
タ)アクリレート、N−ビニルカプロラクトン、N−ビ
ニルピペリジン、(メタ)アクリル酸、ロジンエポキシ
(メタ)アクリレート、ロジンエステル(メタ)アクリ
レートなどのロジン変性(メタ)アクリレートがあげら
れる。ロジンエポキシ(メタ)アクリレートとしては、
たとえばロジン類と(メタ)アクリル酸グリシジルとの
反応生成物、ロジン類と脂環式エポキシ基を有する(メ
タ)アクリル単量体、無水マレイン酸、クロトン酸、イ
タコン酸などを挙げることができる。これらからアクリ
ル共重合体の平均分子量Mwは500〜1000000
が好ましく、より好ましくは10000〜100000
0である。 <破断伸度、2%弾性率の測定方法>この発明における
樹脂破断伸度(%)、2%弾性率は、23℃55%RH
の条件下でこの発明接着剤を塗工後300時間以上放置
した後、株式会社オリエンテックテンシロン万能試験機
RTA−100を用い、データー処理は、テンシロン多
機能型データー処理TYPE MP−100/200S
Ver.44を用い測定を行った。樹脂の固定手段は
エアーチャック方式で固定した。クロスヘッドスピード
は、5〜100mm/min、RANGEは5〜100
%、荷重は0.1〜500kgを選択することができる
が、本発明の評価では、クロスヘッドスピードは、30
mm/min、RANGEは20%、荷重は100kg
の条件で評価を行った。
The vinyl monomer is not particularly limited as long as it is a compound having an unsaturated bond which is copolymerizable with the alkyl (meth) acrylate monomer, and (meth) acrylic acid ester other than the alkyl (meth) acrylate, Vinyl acetate, styrene, vinyl chloride, ethylene, propylene, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate,
ε-caprolactone (meth) acrylate, 2-acryloyloxyethyl (propyl) succinic acid, (meth) acrylonitrile, N-vinylpyrrolidone, isovoltanyl (meth) acrylate, N-acryloylmorpholine, benzyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) ) Acrylate, N-vinylcaprolactone, N-vinylpiperidine, (meth) acrylic acid, rosin epoxy (meth) acrylate, rosin modified (meth) acrylate such as rosin ester (meth) acrylate. As rosin epoxy (meth) acrylate,
Examples thereof include reaction products of rosins and glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylic monomers having an alicyclic epoxy group with rosins, maleic anhydride, crotonic acid, and itaconic acid. From these, the average molecular weight Mw of the acrylic copolymer is 500 to 1,000,000.
Is preferable, and more preferably 10,000 to 100,000.
It is 0. <Measurement Method of Breaking Elongation and 2% Elastic Modulus> Resin breaking elongation (%) and 2% elastic modulus in this invention are 23 ° C. and 55% RH.
After applying the adhesive of the present invention for 300 hours or more under the conditions of, the data processing is carried out using Orientec Tensilon Universal Testing Machine RTA-100, and Tensilon multifunctional data processing TYPE MP-100 / 200S.
Ver. 44 was used for the measurement. The resin fixing means was fixed by an air chuck method. Cross head speed is 5 to 100 mm / min, RANGE is 5 to 100
%, The load can be selected from 0.1 to 500 kg, but in the evaluation of the present invention, the crosshead speed is 30
mm / min, RANGE 20%, load 100 kg
The evaluation was performed under the conditions.

【0098】接着剤の破断伸度、2%弾性率を測定する
に当たり、特に単独膜を作成するのは難しいため、PP
離型シートに500μmの樹脂層を形成し所望のサンプ
ルを作成し測定を行った。測定は、1cm巾のサンプル
をエアーチャックに固定し引っ張り試験を行った。
When measuring the elongation at break and 2% elastic modulus of the adhesive, it is particularly difficult to prepare a single film, so PP
A 500 μm resin layer was formed on the release sheet, and a desired sample was prepared and measured. For the measurement, a 1 cm wide sample was fixed to an air chuck and a tensile test was performed.

【0099】破断伸度は、引っ張り時の活性光線硬化樹
脂の破断または亀裂が入ったときの破断伸びから破断点
伸度を求めた。 [熱硬化型樹脂層]この発明において、画像記録体保護
層としての熱硬化性樹脂組成物は、例えばエポキシ系、
ポリエステル系、アクリル系等の樹脂に硬化剤や硬化触
媒、流展剤、その他添加剤等を配合からなるものを用い
ることができる。
The elongation at break was determined by the elongation at break from the elongation at break when the actinic ray-curable resin was pulled or broken. [Thermosetting Resin Layer] In the present invention, the thermosetting resin composition as the image recording body protective layer is, for example, an epoxy resin,
It is possible to use a mixture of polyester resin, acrylic resin and the like with a curing agent, a curing catalyst, a leveling agent, other additives and the like.

【0100】ポリエステル樹脂の組成としては、ジカル
ボン酸成分としてテレフタル酸、イソフタル酸等の芳香
族ジカルボン酸を主体とし、ジオール成分としてエチレ
ングリコール、ネオペンチルグリコール等の脂肪族ジオ
ールを主体とするものがよく、これらにアジピン酸やア
ゼライン酸等の脂肪族ジカルボン酸、トリメリット酸や
ピロメリット酸等の三価以上のカルボン酸、トリメチロ
ールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリ
ト−ル等の三価以上のアルコール等を少量含んでいるも
のは溶融流動性、架橋反応性が向上するのでより好まし
い。
As the composition of the polyester resin, a composition mainly containing an aromatic dicarboxylic acid such as terephthalic acid or isophthalic acid as a dicarboxylic acid component and an aliphatic diol such as ethylene glycol or neopentyl glycol as a diol component is preferable. , These include aliphatic dicarboxylic acids such as adipic acid and azelaic acid, trivalent or higher carboxylic acids such as trimellitic acid and pyromellitic acid, and trivalent or higher valency such as trimethylolethane, trimethylolpropane and pentaerythritol. Those containing a small amount of alcohol or the like are more preferable because the melt fluidity and the crosslinking reactivity are improved.

【0101】また、ポリエステル樹脂の平均重合度は5
〜50の範囲のものが好ましい。これより低いものはフ
ィルムにしたとき十分な強度が得られず、これより高い
ものは粉砕が困難になる。次に硬化剤としては、ポリエ
ステルの末端基が−OH型のものはイソシアナート化合
物やメラミン樹脂、例えばε−カプロラクタムブロック
イソシアナートやメチル化メラミン等がある。末端基が
−COOH型のものはエポキシ樹脂やトリグリシジルイ
ソシアヌレート等がある。 [光硬化型樹脂層]具体的には、画像記録体保護層とし
ての光硬化型樹脂層は、付加重合性又は開環重合性を有
する素材からなるものであり、付加重合成化合物とは、
ラジカル重合性化合物、例えば特開平7−159983
号、特公平7−31399号、特願平7−231444
号等の各号公報及び特願平7−231444号明細書に
記載されている光重合成(熱重合性も含む)組成物を用
いた光硬化型材料であってもよい。付加重合成化合物と
は、カチオン重合系の光硬化型材料が知られており、最
近では可視光以上の長波長域に増感された光カチオン重
合系の光硬化材料も例えば、特開平6−43633号公
報等に公開されている。ハイブリッド型重合系の光硬化
材料としては特開平4−181944号等で組成物が開
示されている。具体的には、上記カチオン系開始剤、カ
チオン重合性化合物、ラジカル系開始剤、ラジカル重合
性化合物のいずれかを含む光硬化層であり、この発明の
目的においてはいずれの光硬化層を用いても構わない。 [ラジカル重合開始剤]ラジカル重合開始剤としては、
特公昭59−1281号、特公昭61−9621号、及
び特開昭60−60104号等の各公報記載のトリアジ
ン誘導体、特開昭59−1504号及び特開昭61−2
43807号等の各公報に記載の有機過酸化物、特公昭
43−23684号、特公昭44−6413号、特公昭
44−6413号及び特公昭47−1604号等の各公
報並びに米国特許第3,567,453号明細書に記載
のジアゾニウム化合物、米国特許第2,848,328
号、同第2,852,379号及び同2,940,85
3号各明細書に記載の有機アジド化合物、特公昭36−
22062号、特公昭37−13109号、特公昭38
−18015号、特公昭45−9610号等の各公報に
記載のオルト−キノンジアジド類、特公昭55−391
62号、特開昭59−14023号等の各公報及び「マ
クロモレキュルス(Macromolecules)、
第10巻、第1307頁(1977年)に記載の各種オ
ニウム化合物、特開昭59−142205号公報に記載
のアゾ化合物、特開平1−54440号公報、ヨーロッ
パ特許第109,851号、ヨーロッパ特許第126,
712号等の各明細書、「ジャーナル・オブ・イメージ
ング・サイエンス」(J.Imag.Sci.)」、第
30巻、第174頁(1986年)に記載の金属アレン
錯体、特願平4−56831号明細書及び特願平4−8
9535号明細書に記載の(オキソ)スルホニウム有機
ホウ素錯体、特開昭61−151197号公報に記載の
チタノセン類、「コーディネーション・ケミストリー・
レビュー(CoordinantionChemist
ry Review)」、第84巻、第85〜第277
頁)(1988年)及び特開平2−182701号公報
に記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯
体、特開平3−209477号公報に記載の2,4,5
−トリアリールイミダゾール二量体、四臭化炭素や特開
昭59−107344号公報記載の有機ハロゲン化合物
等が挙げられる。これらの重合開始剤はラジカル重合可
能なエチレン不飽和結合を有する化合物100重量部に
対して0.01から10重量部の範囲で含有されるのが
好ましい。
The average degree of polymerization of the polyester resin is 5
Those in the range of -50 are preferred. If it is lower than this, sufficient strength cannot be obtained when it is made into a film, and if it is higher than this, crushing becomes difficult. Next, as the curing agent, when the terminal group of polyester is -OH type, there are an isocyanate compound and a melamine resin, for example, ε-caprolactam block isocyanate and methylated melamine. Examples of the -COOH type terminal group include epoxy resin and triglycidyl isocyanurate. [Photocurable resin layer] Specifically, the photocurable resin layer as the protective layer for the image recording material is made of a material having an addition polymerization property or a ring-opening polymerization property.
Radical-polymerizable compounds such as JP-A-7-159983
No. 7, Japanese Patent Publication No. 7-31399, Japanese Patent Application No. 7-231444
It may be a photocurable material using a photopolymerization (including heat-polymerizable) composition described in each publication such as Japanese Patent Application No. 7-231444. As the addition polysynthetic compound, a cationic polymerization type photocurable material is known, and recently, a cationic photopolymerization type photocurable material sensitized to a long wavelength region longer than visible light is also disclosed in, for example, JP-A-6- It is disclosed in Japanese Patent Publication No. 43633. A composition is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-181944 as a photopolymerization material of hybrid type. Specifically, it is a photocurable layer containing any of the above-mentioned cationic initiator, cationically polymerizable compound, radical initiator, and radically polymerizable compound, and any photocurable layer is used for the purpose of the present invention. I don't mind. [Radical Polymerization Initiator] As the radical polymerization initiator,
Triazine derivatives described in JP-B-59-1281, JP-B-61-9621 and JP-A-60-60104, JP-A-59-1504 and JP-A-61-2.
Organic peroxides described in various publications such as 43807, JP-B-43-23684, JP-B-44-6413, JP-B-44-6413 and JP-B-47-1604, and U.S. Pat. Diazonium compounds described in US Pat. No. 2,848,328.
No. 2,852,379 and 2,940,85
No. 3, organic azide compounds described in each specification, JP-B-36-
22062, JP37-13109, JP38
-18015, Japanese Patent Publication No. 45-9610 and the like, ortho-quinone diazides described in Japanese Patent Publication No. 55-391.
62, JP-A-59-14023 and the like, and "Macromolecules,"
Various onium compounds described in Volume 10, page 1307 (1977), azo compounds described in JP-A-59-142205, JP-A-1-54440, European Patent 109,851, European Patents. 126th,
No. 712, etc., “Journal of Imaging Science” (J.Imag.Sci.) ”, Volume 30, p. 174 (1986), Japanese Patent Application No. 4- 56831 Specification and Japanese Patent Application No. 4-8
(Oxo) sulfonium organoboron complex described in Japanese Patent No. 9535, titanocene described in JP-A-61-151197, and "coordination chemistry.
Review (Coordination Chemist
ry Review) ", Vol. 84, Nos. 85-277
Page) (1988) and transition metal complexes containing a transition metal such as ruthenium described in JP-A-2-182701, 2,4,5 in JP-A-3-209477.
-Triarylimidazole dimer, carbon tetrabromide, organic halogen compounds described in JP-A-59-107344, and the like. These polymerization initiators are preferably contained in the range of 0.01 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound having a radically polymerizable ethylenic unsaturated bond.

【0102】ラジカル重合性化合物を含有する感光性組
成物には、ラジカル重合性モノマーの熱重合開始剤とし
て、一般にラジカル重合による高分子合成反応に用いら
れる公知のラジカル重合開始剤を特に制限なく含有させ
ることができる。ここで、熱重合開始剤とは、熱エネル
ギーを与えることにより重合性のラジカルを発生するこ
とが可能な化合物である。
The photosensitive composition containing a radical-polymerizable compound contains, as a thermal polymerization initiator of a radical-polymerizable monomer, a known radical-polymerization initiator generally used in a polymer synthesis reaction by radical polymerization without particular limitation. Can be made. Here, the thermal polymerization initiator is a compound capable of generating a polymerizable radical by applying heat energy.

【0103】このような化合物としては、例えば、2,
2′−アゾビスイソブチロニトリル、2,2′−アゾビ
スプロピオニトリル等のアゾビスニトリル系化合物、過
酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、
過安息香酸t−ブチル、α−クミルヒドロパーオキサイ
ド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジイソプロピルパ
ーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシイソプ
ロピルカーボネート、過酸類、アルキルパーオキシカル
バメート類、ニトロソアリールアシルアミン類等の有機
過酸化物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過塩
素酸カリウム等の無機過酸化物、ジアゾアミノベンゼ
ン、p−ニトロベンゼンジアゾニウム、アゾビス置換ア
ルカン類、ジアゾチオエーテル類、アリールアゾスルフ
ォン類等のアゾ又はジアゾ系化合物、ニトロソフェニル
尿素、テトラメチルチウラムジスルフィド、ジアリール
ジスルフィド類、ジベンゾイルジスルフィド、テトラア
ルキルチウラムジスルフィド類、ジアルキルキサントゲ
ン酸ジスルフィド類、アリールスルフィン酸類、アリー
ルアルキルスルフォン類、1−アルカンスルフィン酸類
等を挙げることができる。
Examples of such a compound include 2,
2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobispropionitrile and other azobisnitrile compounds, benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide,
T-Butyl perbenzoate, α-cumyl hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, t-butyl peroxyisopropyl carbonate, peracids, alkyl peroxycarbamates, nitrosoaryl acylamines Such as organic peroxides such as potassium persulfate, potassium persulfate, ammonium persulfate, potassium perchlorate and the like, diazoaminobenzene, p-nitrobenzenediazonium, azobis-substituted alkanes, diazothioethers, arylazosulfones, etc. Azo or diazo compounds, nitrosophenyl urea, tetramethyl thiuram disulfide, diaryl disulfides, dibenzoyl disulfide, tetraalkyl thiuram disulfides, dialkyl xanthate disulfides Aryl sulfinic acids, arylalkyl sulfonic acids, it may be mentioned 1-alkanoic sulfinic acids and the like.

【0104】これらの中で特に好ましいものは、常温で
の安定性に優れ、加熱時の分解速度が速く、かつ分解時
に無色となる化合物であり、開始剤は、全重合性の組成
物中通常0.1〜30重量%が好ましく、0.5〜20
重量%の範囲がより好ましい。 [ラジカル重合系光硬化樹脂]ラジカル重合性組成物に
含有されるラジカル重合性化合物には、通常の光重合性
化合物及び熱重合性化合物が包含される。ラジカル重合
性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合
を有する化合物であり、分子中にラジカル重合可能なエ
チレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物であ
ればどのようなものでもよく、モノマー、オリゴマー、
ポリマー等の化学形態をもつものが含まれる。ラジカル
重合性化合物は1種のみ用いてもよく、また目的とする
特性を向上するために任意の比率で2種以上を併用して
もよい。
Particularly preferred among these are compounds which are excellent in stability at room temperature, have a high decomposition rate upon heating, and become colorless upon decomposition, and the initiator is usually used in all polymerizable compositions. 0.1 to 30% by weight is preferable, 0.5 to 20
A range of weight% is more preferable. [Radical Polymerization Photocurable Resin] The radical polymerizable compound contained in the radical polymerizable composition includes ordinary photopolymerizable compounds and thermopolymerizable compounds. The radical-polymerizable compound is a compound having a radical-polymerizable ethylenically unsaturated bond, and may be any compound as long as it has at least one radical-polymerizable ethylenically unsaturated bond in the molecule. , Oligomers,
Those having a chemical form such as a polymer are included. The radical-polymerizable compound may be used alone, or two or more kinds thereof may be used in combination at an arbitrary ratio in order to improve target properties.

【0105】ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合
を有する化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル
酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイ
ン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エステル、
ウレタン、アミドや無水物、アクリロニトリル、スチレ
ン、さらに種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエー
テル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のラジカル
重合性化合物が挙げられる。
Examples of the radically polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid and maleic acid, and salts and esters thereof.
Radical polymerizable compounds such as urethane, amide and anhydride, acrylonitrile, styrene, and various unsaturated polyesters, unsaturated polyethers, unsaturated polyamides and unsaturated urethanes can be mentioned.

【0106】具体的には、2−エチルヘキシルアクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエ
チルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロ
ヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリ
レート、ベンジルアクリレート、ビス(4−アクリロキ
シポリエトキシフェニル)プロパン、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジア
クリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエ
チレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポ
リプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テ
トラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエス
テルアクリレート、N−メチロールアクリルアミド、ジ
アセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート等のア
クリル酸誘導体、メチルメタクリレート、n−ブチルメ
タクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ラ
ウリルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシ
ジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチ
ルアミノメチルメタクリレート、1,6−ヘキサンジオ
ールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリ
レート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポ
リエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレ
ングリコールジメタクリレート、トリメチロールエタン
トリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、2,2−ビス(4−メタクリロキシポリエ
トキシフェニル)プロパン等のメタクリル誘導体、その
他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、
トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が
挙げられ、さらに具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハ
ンドブック」、(1981年大成社);加藤清視編、
「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」(1985
年、高分子刊行会);ラドテック研究会編、「UV・E
B硬化技術の応用と市場」、79頁、(1989年、シ
ーエムシー);滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハン
ドブック」、(1988年、日刊工業新聞社)等に記載
の市販品もしくは業界で公知のラジカル重合性ないし架
橋性のモノマー、オリゴマー及びポリマーを用いること
ができる。上記ラジカル重合性化合物のラジカル重合性
組成物中の添加量は好ましくは1〜97重量%であり、
より好ましくは30〜95重量%である。 [酸架橋系光硬化樹脂]この発明の酸架橋性組成物にお
いて用いられる架橋剤は、活性光または放射線の照射に
より前記この発明の特定化合物から発生する酸により架
橋反応を起こす化合物である。この発明において好適に
用いられる架橋剤は、分子内に2個以上のヒドロキシメ
チル基、アルコキシメチル基、エポキシ基またはビニル
エーテル基を有する化合物である。好ましくはこれらの
架橋性官能基が芳香環に直接結合した化合物である。具
体的には、メチロールメラミン、レゾール樹脂、エポキ
シ化されたノボラック樹脂、尿素樹脂等が挙げられる。
さらに、「架橋剤ハンドブック」(山下晋三、金子東助
著、大成社(株))に記載されている化合物も好まし
い。特に、分子内に2個以上のヒドロキシメチル基また
はアルコキシメチル基を有するフェノール誘導体は画像
形成した際の画像部の強度が良好であり好ましい。この
ようなフェノール誘導体として、具体的には、レゾール
樹脂を挙げることができる。
Specifically, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, carbitol acrylate, cyclohexyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, bis (4-acryloxypolyethoxyphenyl) propane, Neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate. , Pentaerythritol tetraacrylate, Acrylic acid derivatives such as pentaerythritol tetraacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, oligoester acrylate, N-methylol acrylamide, diacetone acrylamide, epoxy acrylate, methyl methacrylate, n-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate. , Lauryl methacrylate, allyl methacrylate, glycidyl methacrylate, benzyl methacrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, Trimethylol ethane trimethacrylate, trimethylol propane trimethacrylate, 2,2-bis (4-methacryloxy polyethoxy phenyl) methacrylamide derivatives such as propane, other, allyl glycidyl ether, diallyl phthalate,
Examples thereof include derivatives of allyl compounds such as triallyl trimellitate, and more specifically, Shinzo Yamashita, "Handbook of Crosslinking Agents", (1981, Taiseisha); Kiyomi Kato,
"UV / EB Curing Handbook (Raw Materials)" (1985)
Year, Polymer Society); Edited by Radtech, “UV / E”
Application and Market of B Curing Technology ", p. 79, (1989, CMC); Eiichiro Takiyama," Polyester Resin Handbook ", (1988, Nikkan Kogyo Shimbun), etc., or known in the industry. Radical polymerizable or crosslinkable monomers, oligomers and polymers can be used. The amount of the radically polymerizable compound added to the radically polymerizable composition is preferably 1 to 97% by weight,
More preferably, it is 30 to 95% by weight. [Acid-Crosslinking Photocurable Resin] The crosslinking agent used in the acid-crosslinking composition of the present invention is a compound that causes a crosslinking reaction by the acid generated from the specific compound of the present invention upon irradiation with actinic light or radiation. The cross-linking agent preferably used in this invention is a compound having two or more hydroxymethyl groups, alkoxymethyl groups, epoxy groups or vinyl ether groups in the molecule. Preferred are compounds in which these crosslinkable functional groups are directly bonded to the aromatic ring. Specific examples thereof include methylol melamine, resole resin, epoxidized novolac resin, and urea resin.
Further, compounds described in "Crosslinking Agent Handbook" (written by Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko, Taiseisha Co., Ltd.) are also preferable. In particular, a phenol derivative having two or more hydroxymethyl groups or alkoxymethyl groups in the molecule is preferable because the strength of the image area when an image is formed is good. Specific examples of such a phenol derivative include a resol resin.

【0107】しかしながら、これらの架橋剤は熱に対し
て不安定であり、画像記録材料を作製したあとの保存時
の安定性があまりよくない。これに対し、分子内にベン
ゼン環に結合する2個以上のヒドロキシメチル基または
アルコキシメチル基を有し、さらに分子量が1,200
以下であるフェノール誘導体は、保存時の安定性も良好
であり、この発明において最も好適に用いられる。アル
コキシメチル基としては、炭素数6以下のものが好まし
い。具体的にはメトキシメチル基、エトキシメチル基、
n−プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、n
−ブトキシメチル基、イソブトキシメチル基、sec−
ブトキシメチル基、t−ブトキシメチル基が好ましい。
さらに、2−メトキシエトキシメチル基および2−メト
キシ−1−プロポキシメチル基のように、アルコキシ置
換されたアルコキシメチル基も好ましい。具体的には、
特開平6−282067号公報、特開平7−64285
号公報、EP632,003A1号明細書等に記載され
ている化合物を挙げることができる。
However, these cross-linking agents are unstable to heat, and the storage stability after the image recording material is prepared is not so good. On the other hand, it has two or more hydroxymethyl groups or alkoxymethyl groups bonded to the benzene ring in the molecule and has a molecular weight of 1,200.
The following phenol derivatives have good stability during storage and are most preferably used in the present invention. The alkoxymethyl group preferably has 6 or less carbon atoms. Specifically, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group,
n-propoxymethyl group, isopropoxymethyl group, n
-Butoxymethyl group, isobutoxymethyl group, sec-
A butoxymethyl group and a t-butoxymethyl group are preferable.
Furthermore, an alkoxy-substituted alkoxymethyl group such as a 2-methoxyethoxymethyl group and a 2-methoxy-1-propoxymethyl group is also preferable. In particular,
JP-A-6-282067 and JP-A-7-64285
Examples thereof include compounds described in Japanese Patent Publication No. 632,003A1 and the like.

【0108】この発明において好適に用いられる他の架
橋剤としては、アルデヒドやケトン化合物を挙げること
ができる。好ましくは、分子内に2個以上のアルデヒド
またはケトンを有する化合物である。
Other cross-linking agents preferably used in the present invention include aldehyde and ketone compounds. Preferred is a compound having two or more aldehydes or ketones in the molecule.

【0109】この発明において、架橋剤は全画像記録材
料固形分中、5〜70重量%、好ましくは10〜65重
量%の添加量で用いられる。架橋剤の添加量が5重量%
未満であると画像記録した際の画像部の膜強度が悪化
し、また、70重量%を越えると保存時の安定性の点で
好ましくない。これらの架橋剤は単独で使用してもよ
く、また2種類以上を組み合わせて使用してもよい。 [カチオン系重合開始剤]開始剤としては、カチオン重
合開始剤が好ましく、具体的には芳香族オニウム塩を挙
げることができる。この芳香族オニウム塩として、周期
表第Va族元素の塩たとえばホスホニウム塩(たとえば
ヘキサフルオロリン酸トリフェニルフェナシルホスホニ
ウムなど)、第VIa族元素の塩たとえばスルホニウム
塩(たとえばテトラフルオロホウ酸トリフェニルスルホ
ニウム、ヘキサフルオロリン酸トリフェニルスルホニウ
ム、ヘキサフルオロリン酸トリス(4−チオメトキシフ
ェニル)、スルホニウムおよびヘキシサフルオロアンチ
モン酸トリフェニルスルホニウムなど)、及び第VII
a族元素の塩たとえばヨードニウム塩(たとえば塩化ジ
フェニルヨードニウムなど)を挙げることができる。
In the present invention, the crosslinking agent is used in an amount of 5 to 70% by weight, preferably 10 to 65% by weight, based on the total solid content of the image recording material. 5% by weight of crosslinking agent
If it is less than 70% by weight, the film strength of the image portion when an image is recorded is deteriorated, and if it exceeds 70% by weight, the stability during storage is not preferable. These crosslinking agents may be used alone or in combination of two or more kinds. [Cationic Polymerization Initiator] The initiator is preferably a cationic polymerization initiator, and specific examples thereof include aromatic onium salts. As the aromatic onium salt, a salt of a Group Va element of the periodic table, for example, a phosphonium salt (for example, triphenylphenacylphosphonium hexafluorophosphate), a salt of a Group VIa element, for example, a sulfonium salt (for example, triphenylsulfonium tetrafluoroborate). , Triphenylsulfonium hexafluorophosphate, tris (4-thiomethoxyphenyl) hexafluorophosphate, sulfonium and triphenylsulfonium hexisafluoroantimonate), and No. VII
A salt of a group a element such as an iodonium salt (eg, diphenyliodonium chloride) can be used.

【0110】このような芳香族オニウム塩をエポキシ化
合物の重合におけるカチオン重合開始剤として使用する
ことは、米国特許第4,058,401号、同第4,0
69,055号、同第4,101,513号および同第
4,161,478号公報に詳述されている。
The use of such an aromatic onium salt as a cationic polymerization initiator in the polymerization of an epoxy compound is described in US Pat. Nos. 4,058,401 and 4,058.
69,055, 4,101,513 and 4,161,478.

【0111】好ましいカチオン重合開始剤としては、第
VIa族元素のスルホニウム塩が挙げられる。その中で
も、紫外線硬化性と紫外線硬化性の組成物の貯蔵安定性
の観点からすると、ヘキサフルオロアンチモン酸トリア
リールスホニウムが好ましい。またフォトポリマーハン
ドブック(フォトポリマー懇話会編 工業調査会発行1
989年)の39〜56頁に記載の公知の光重合開始
剤、特開昭64−13142号、特開平2−4804号
に記載されている化合物を任意に用いることが可能であ
る。 [カチオン重合系光硬化樹脂]カチオン重合により高分
子化の起こるタイプ(主にエポキシタイプ)のエポキシ
タイプの紫外線硬化性プレポリマー、モノマーは、1分
子内にエポキシ基を2個以上含有するプレポリマーを挙
げることができる。このようなプレポリマーとしては、
例えば、脂環式ポリエポキシド類、多塩基酸のポリグリ
シジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエ
ーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリ
シジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジル
エーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテ
ル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物
類およびエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることが
できる。これらのプレポリマーは、その一種を単独で使
用することもできるし、また、その二種以上を混合して
使用することもできる。
Preferred cation polymerization initiators include sulfonium salts of Group VIa elements. Among them, from the viewpoint of ultraviolet curability and storage stability of the ultraviolet curable composition, triarylsulfonium hexafluoroantimonate is preferable. Also, Photo Polymer Handbook (Photo Polymer Conversation Edition, Industrial Research Committee issue 1
989), pages 39 to 56, known photopolymerization initiators, and compounds described in JP-A-64-13142 and JP-A-2-4804 can be optionally used. [Cationic polymerization type photocurable resin] An epoxy type UV-curable prepolymer of a type (mainly epoxy type) in which polymerization is caused by cationic polymerization, and a monomer is a prepolymer containing two or more epoxy groups in one molecule. Can be mentioned. As such a prepolymer,
For example, alicyclic polyepoxides, polyglycidyl esters of polybasic acids, polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols, polyglycidyl ethers of polyoxyalkylene glycols, polyglycidyl ethers of aromatic polyols, polyglycols of aromatic polyols. Examples thereof include hydrogenated compounds of glycidyl ethers, urethane polyepoxy compounds and epoxidized polybutadienes. These prepolymers may be used alone or in a mixture of two or more.

【0112】エポキシ基を1分子内に2個以上有するプ
レポリマーの含有量は70重量%以上であるのが好まし
い。カチオン重合性組成物中に含有されるカチオン重合
性化合物としては、他に例えば下記の(1)スチレン誘
導体、(2)ビニルナフタレン誘導体、(3)ビニルエ
ーテル類及び(4)N−ビニル化合物類を挙げることが
できる。 (1)スチレン誘導体 例えば、スチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシ
スチレン、β−メチルスチレン、p−メチル−β−メチ
ルスチレン、α−メチルスチレン、p−メトキシ−β−
メチルスチレン等 (2)ビニルナフタレン誘導体 例えば、1−ビニルナフタレン、α−メチル−1−ビニ
ルナフタレン、β−メチル−1−ビニルナフタレン、4
−メチル−1−ビニルナフタレン、4−メトキシ−1−
ビニルナフタレン等 (3)ビニルエーテル類 例えば、イソブチルビニルエーテル、エチルビニルエー
テル、フェニルビニルエーテル、p−メチルフェニルビ
ニルエーテル、p−メトキシフェニルビニルエーテル、
α−メチルフェニルビニルエーテル、β−メチルイソブ
チルビニルエーテル、β−クロロイソブチルビニルエー
テル等 (4)N−ビニル化合物類 例えばN−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロリド
ン、N−ビニルインドール、N−ビニルピロール、N−
ビニルフェノチアジン、N−ビニルアセトアニリド、N
−ビニルエチルアセトアミド、N−ビニルスクシンイミ
ド、N−ビニルフタルイミド、N−ビニルカプロラクタ
ム、N−ビニルイミダゾール等。
The content of the prepolymer having two or more epoxy groups in one molecule is preferably 70% by weight or more. As the cationically polymerizable compound contained in the cationically polymerizable composition, for example, the following (1) styrene derivative, (2) vinylnaphthalene derivative, (3) vinyl ethers, and (4) N-vinyl compounds may be used. Can be mentioned. (1) Styrene derivative For example, styrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, β-methylstyrene, p-methyl-β-methylstyrene, α-methylstyrene, p-methoxy-β-
Methylstyrene etc. (2) Vinylnaphthalene derivative, for example, 1-vinylnaphthalene, α-methyl-1-vinylnaphthalene, β-methyl-1-vinylnaphthalene, 4
-Methyl-1-vinylnaphthalene, 4-methoxy-1-
(3) Vinyl ethers such as vinyl naphthalene, for example, isobutyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, phenyl vinyl ether, p-methylphenyl vinyl ether, p-methoxyphenyl vinyl ether,
α-Methylphenyl vinyl ether, β-methyl isobutyl vinyl ether, β-chloroisobutyl vinyl ether, etc. (4) N-vinyl compounds such as N-vinylcarbazole, N-vinylpyrrolidone, N-vinylindole, N-vinylpyrrole, N-
Vinylphenothiazine, N-vinylacetanilide, N
-Vinylethylacetamide, N-vinylsuccinimide, N-vinylphthalimide, N-vinylcaprolactam, N-vinylimidazole and the like.

【0113】上記カチオン重合性化合物のカチオン重合
性組成物中の含有量は1〜97重量%が好ましく、より
好ましくは30〜95重量%である。 [ハイブリット系光硬化型樹脂層]ハイブリットタイプ
(ラジカル重合性タイプとカチオン重合タイプの併用)
が用いられる場合は、特開平4−181944号等で組
成物が開示されている。具体的には、上記カチオン系開
始剤、カチオン重合性化合物、ラジカル系開始剤、ラジ
カル重合性化合物のいずれかを含めばよく、特にこの発
明の場合は、カチオン系重合性化合物がビニルエーテル
系化合物を用いることが好ましい。 [光硬化型接着剤添加剤]この発明の目的の第1シート
部材と第2シート部材との間に所定の電子部品の接着可
能な温度を80℃以下にするために添加剤として、添加
することがより好ましい。添加量は光硬化型接着層全固
形分中5〜80重量%が好ましく、より好ましくは10
〜70重量%である。
The content of the above-mentioned cationically polymerizable compound in the cationically polymerizable composition is preferably 1 to 97% by weight, more preferably 30 to 95% by weight. [Hybrid photo-curable resin layer] Hybrid type (combination of radical polymerizable type and cationic polymerization type)
When is used, the composition is disclosed in JP-A-4-181944. Specifically, any one of the above-mentioned cationic initiator, cationically polymerizable compound, radical-based initiator, and radically polymerizable compound may be included. It is preferable to use. [Photocurable Adhesive Additive] To be added as an additive for controlling the temperature at which a predetermined electronic component can be adhered between the first sheet member and the second sheet member of the present invention to 80 ° C. or less. Is more preferable. The addition amount is preferably 5 to 80% by weight, more preferably 10% by weight based on the total solid content of the photocurable adhesive layer.
Is about 70% by weight.

【0114】好ましい粘着アクリル系ポリマーとして
は、例えば、アルキル基の炭素数が1〜14であるアル
キル(メタ)アクリレートモノマーの単独重合体または
共重合体を挙げることができ、より好ましくは、上記ア
ルキル(メタ)アクリレートモノマーと、該アルキル
(メタ)アクリレートモノマーと共重合可能な不飽和結
合を有するビニルモノマーとの共重合体を挙げることが
できる。
Examples of preferable adhesive acrylic polymers include homopolymers or copolymers of alkyl (meth) acrylate monomers in which the alkyl group has 1 to 14 carbon atoms, and more preferably the above alkyl A copolymer of a (meth) acrylate monomer and a vinyl monomer having an unsaturated bond copolymerizable with the alkyl (meth) acrylate monomer can be mentioned.

【0115】上記アルキル(メタ)アクリレートモノマ
ーとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メ
タ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、
2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n−オクチ
ル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリ
レート、イソノニル(メタ)アクリレート、イソミリス
チル(メタ)アクリレートなどを例示することができ
る。
Examples of the alkyl (meth) acrylate monomer include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate,
2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, etc. can be illustrated.

【0116】上記ビニルモノマーとしては、上記アルキ
ル(メタ)アクリレートモノマーと共重合可能な不飽和
結合を有する化合物であれば特に限定されず、上記アル
キル(メタ)アクリレート以外の(メタ)アクリル酸エ
ステル、酢酸ビニル、スチレン、塩化ビニル、エチレ
ン、プロピレン、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、
ε−カプロラクトン(メタ)アクリレート、2−アクリ
ロイルオキシエチル(プロピル)琥珀酸、(メタ)アク
リロニトリル、N−ビニルピロリドン、イソボルタニル
(メタ)アクリレート、N−アクリロイルモルフォリ
ン、ベンジル(メタ)アクリレート、グリシジル(メ
タ)アクリレート、N−ビニルカプロラクトン、N−ビ
ニルピペリジン、(メタ)アクリル酸、ロジンエポキシ
(メタ)アクリレート、ロジンエステル(メタ)アクリ
レートなどのロジン変性(メタ)アクリレートがあげら
れる。ロジンエポキシ(メタ)アクリレートとしては、
たとえばロジン類と(メタ)アクリル酸グリシジルとの
反応生成物、ロジン類と脂環式エポキシ基を有する(メ
タ)アクリル単量体、無水マレイン酸、クロトン酸、イ
タコン酸などを挙げることができる。これらからアクリ
ル共重合体の平均分子量Mwは500〜1000000
が好ましく、より好ましくは10000〜100000
0である。 [光硬化型樹脂層へのその他添加剤] <増感剤>この発明の感光性組成物は、種々の増感剤と
組み合わせた組成物とすることによって、紫外から近赤
外領域にかけての光に対する活性を高め、極めて高感度
な重合性組成物とすることが可能である。この発明でい
う増感剤の具体例としては、カルコン誘導体やジベンザ
ルアセトン等に代表される不飽和ケトン類、ベンジルや
カンファーキノン等に代表される1,2−ジケトン誘導
体、ベンゾイン誘導体、フルオレン誘導体、ナフトキノ
ン誘導体、アントラキノン誘導体、キサンテン誘導体、
チオキサンテン誘導体、キサントン誘導体、チオキサン
トン誘導体、クマリン誘導体、ケトクマリン誘導体、シ
アニン誘導体、スチリル誘導体、メロシアニン誘導体、
オキソノール誘導体等のポリメチン色素、アクリジン誘
導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジン誘導
体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレニウム
誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、
テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリールメタ
ン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テトラピ
ラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘導体、
テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキサリロ
ポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、サブ
フタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チオピリリ
ウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン誘導体、
スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体、チオス
ピロピラン誘導体、金属アレーン錯体、有機ルテニウム
錯体等が挙げられ、その他さらに具体的には大河原信ら
編、「色素ハンドブック」(1986年、講談社)、大
河原信ら編、「機能性色素の化学」(1981年、シー
エムシー)、池森忠三朗ら編、「特殊機能材料」(19
86年、シーエムシー)、特願平7−108045号明
細書等に記載の色素および増感剤が挙げられるがこれら
に限定されるものではなく、その他、紫外が近赤外域に
かけての光に対して吸収を示す色素や増感剤が挙げら
れ、これらは必要に応じて任意の比率で二種以上用いて
もかまわない。 <重合促進剤、連鎖移動剤等>この発明の感光性組成物
には重合促進剤や連鎖移動触媒を添加できる。その具体
例としては、例えば、N−フェニルグリシン、トリエタ
ノールアミン、N,N−ジエチルアニリン等のアミン
類、米国特許第4,414,312号や特開昭64−1
3144号記載のチオール類、特開平2−291561
号記載のジスルフィド類、米国特許第3,558,32
2号や特開昭64−17048号記載のチオン類、特開
平2−291560号記載のo−アシルチオヒドロキサ
メートやN−アルコキシピリジンチオン類が挙げられ
る。 <重合禁止剤>ラジカル重合性化合物を含有するラジカ
ル重合性組成物中には光硬化性樹脂層中に液保存時の重
合を防止する目的で重合禁止剤を含有させることができ
る。ラジカル重合性組成物に添加可能な熱重合禁止剤の
具体例としては、p−メトキシフェノール、ハイドロキ
ノン、アルキル置換ハイドロキノン、カテコール、te
rt−ブチルカテコール、フェノチアジン等を挙げるこ
とができ、これらの熱重合禁止剤は、ラジカル重合可能
なエチレン性不飽和結合を有する化合物100重量部に
対して0.001から5重量部の範囲で添加されるのが
好ましい。 <帯電防止剤>帯電防止剤としては、カチオン系界面活
性剤、アニオン系界面活性剤、非イオン性界面活性剤、
高分子帯電防止剤、導電性微粒子などのほか「1129
0の化学商品」化学工業日報社、p875〜876など
に記載の化合物などが挙げられる。 <界面活性剤>また、この発明の画像形成材料の画像形
成層中には、特開昭62−251740号、特開平3−
208514号等の各号公報に記載されているような非
イオン界面活性剤、或いは特開昭59−121044
号、特開平4−13149号等の各号公報に記載されて
いるような両性界面活性剤を添加することができる。
The vinyl monomer is not particularly limited as long as it is a compound having an unsaturated bond copolymerizable with the alkyl (meth) acrylate monomer, and a (meth) acrylic acid ester other than the alkyl (meth) acrylate, Vinyl acetate, styrene, vinyl chloride, ethylene, propylene, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate,
ε-caprolactone (meth) acrylate, 2-acryloyloxyethyl (propyl) succinic acid, (meth) acrylonitrile, N-vinylpyrrolidone, isovoltanyl (meth) acrylate, N-acryloylmorpholine, benzyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) ) Acrylate, N-vinylcaprolactone, N-vinylpiperidine, (meth) acrylic acid, rosin epoxy (meth) acrylate, rosin modified (meth) acrylate such as rosin ester (meth) acrylate. As rosin epoxy (meth) acrylate,
Examples thereof include reaction products of rosins and glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylic monomers having an alicyclic epoxy group with rosins, maleic anhydride, crotonic acid, and itaconic acid. From these, the average molecular weight Mw of the acrylic copolymer is 500 to 1,000,000.
Is preferable, and more preferably 10,000 to 100,000.
It is 0. [Other Additives to Photocurable Resin Layer] <Sensitizer> The photosensitive composition of the present invention is a composition in which various sensitizers are combined to obtain light from the ultraviolet to near infrared region. It is possible to obtain a polymerizable composition having an extremely high sensitivity to the above and having an extremely high sensitivity. Specific examples of the sensitizer in the present invention include unsaturated ketones represented by chalcone derivatives and dibenzalacetone, 1,2-diketone derivatives represented by benzyl and camphorquinone, benzoin derivatives, and fluorene. Derivative, naphthoquinone derivative, anthraquinone derivative, xanthene derivative,
Thioxanthene derivative, xanthone derivative, thioxanthone derivative, coumarin derivative, ketocoumarin derivative, cyanine derivative, styryl derivative, merocyanine derivative,
Polymethine dyes such as oxonol derivatives, acridine derivatives, azine derivatives, thiazine derivatives, oxazine derivatives, indoline derivatives, azulene derivatives, azurenium derivatives, squarylium derivatives, porphyrin derivatives,
Tetraphenylporphyrin derivative, triarylmethane derivative, tetrabenzoporphyrin derivative, tetrapyrazinoporphyrazine derivative, phthalocyanine derivative,
Tetraazaporphyrazine derivative, tetraquinoxalyloporphyrazine derivative, naphthalocyanine derivative, subphthalocyanine derivative, pyrylium derivative, thiopyrylium derivative, tetraphyllin derivative, annulene derivative,
Examples include spiropyran derivatives, spirooxazine derivatives, thiospiropyran derivatives, metal arene complexes, organic ruthenium complexes, and more specifically, Nobu Okawara et al., "Dye Handbook" (1986, Kodansha), Nobu Okawara et al. "The Chemistry of Functional Dyes" (1981, CMC), edited by Chuzaburo Ikemori, "Special Functional Materials" (19
1986, CMC), and the dyes and sensitizers described in Japanese Patent Application No. 7-108045 and the like, but are not limited to these, in addition, to the light in the ultraviolet to the near infrared region Examples thereof include dyes and sensitizers that exhibit absorption, and two or more kinds of these may be used in an arbitrary ratio as needed. <Polymerization accelerator, chain transfer agent, etc.> A polymerization accelerator and a chain transfer catalyst can be added to the photosensitive composition of the present invention. Specific examples thereof include amines such as N-phenylglycine, triethanolamine, N, N-diethylaniline, U.S. Pat. No. 4,414,312 and JP-A-64-1.
Thiols described in 3144, JP-A-2-291561
Disulfides described in U.S. Pat. No. 3,558,32
2, thiones described in JP-A No. 64-17048, o-acylthiohydroxamates and N-alkoxypyridine thiones described in JP-A-2-291560. <Polymerization Inhibitor> In the radical-polymerizable composition containing the radical-polymerizable compound, a photo-curable resin layer may contain a polymerization inhibitor for the purpose of preventing polymerization during storage of the liquid. Specific examples of the thermal polymerization inhibitor that can be added to the radically polymerizable composition include p-methoxyphenol, hydroquinone, alkyl-substituted hydroquinone, catechol and te.
Examples thereof include rt-butylcatechol and phenothiazine. These thermal polymerization inhibitors are added in the range of 0.001 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound having a radically polymerizable ethylenically unsaturated bond. Preferably. <Antistatic Agent> As the antistatic agent, a cationic surfactant, an anionic surfactant, a nonionic surfactant,
In addition to polymeric antistatic agents, conductive fine particles, etc.
Chemical products of No. 0 ”, Kagaku Kogyo Nippo Co., Ltd., compounds described in p875-876 and the like. <Surfactant> Further, in the image forming layer of the image forming material of the present invention, JP-A No. 62-251740 and JP-A No. 3-251740.
Nonionic surfactants as described in JP-A-208514 and the like, or JP-A-59-121044.
And amphoteric surfactants such as those described in JP-A-4-13149 and the like can be added.

【0117】また、シリコーン油、シリコーン−アルキ
レンオキシド共重合体(たとえばユニオンカーバイド社
から市販されているL−5410)のような界面活性
剤、日本ユニカー製のようなシリコーン系活性剤、シリ
コーン油含有脂肪族エポキシド類、ケイ素含有モノエポ
キシド等を挙げることができる。東芝シリコーン株式会
社1994年発行の「新シリコーンとその応用」、アズ
マックス株式会社1996年発行の「特殊シリコーン試
薬カタログ」等記載されているSi系添加剤を使用する
こともできる。添加量は0.001〜1重量%が好まし
い。 <樹脂>粘着剤ポリマーの他にポリビニルブチラール樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル
樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、スチレン、パラ
メチルスチレン、メタクリル酸エステル、アクリル酸エ
ステル等のビニル単量体やセルロース系、熱可塑性ポリ
エステル、天然樹脂等、他の任意の高分子重合体を併用
してもよい。また、その他、赤松清監修、「新・感光性
樹脂の実際技術」、(シーエムシー、1987年)や
「10188の化学商品」657〜767頁(化学工業
日報社、1988年)記載の業界公知の有機高分子重合
体を併用してもよい。
Further, surfactants such as silicone oil and silicone-alkylene oxide copolymer (for example, L-5410 commercially available from Union Carbide Co.), silicone-based activators such as those manufactured by Nippon Unicar, and silicone oil-containing Examples thereof include aliphatic epoxides and silicon-containing monoepoxides. It is also possible to use Si-based additives described in "New Silicone and Its Applications" issued by Toshiba Silicone Co., Ltd. in 1994, "Special Silicone Reagent Catalog" issued by Asmax Co., Ltd. in 1996, etc. The addition amount is preferably 0.001 to 1% by weight. <Resin> In addition to the adhesive polymer, polyvinyl butyral resin, polyurethane resin, polyamide resin, polyester resin, epoxy resin, novolac resin, vinyl monomer such as styrene, paramethylstyrene, methacrylic acid ester, acrylic acid ester and cellulose type , Any other high-molecular polymer such as thermoplastic polyester and natural resin may be used in combination. In addition, in addition, Kiyoshi Akamatsu's supervision, "Practical Technology of New Photosensitive Resin," (CMC, 1987) and "10188 Chemical Products" pp. 657-767 (Kagaku Kogyo Nippo, 1988) You may use together the organic high molecular polymer of.

【0118】この発明で特に好ましくは不飽和基含有樹
脂が好ましく、ラジカルまたは酸により重合可能な基を
含むことを特徴としており、不飽和基とはここでは、グ
リシジル基、(メタ)アクリロイル基、ビニル基等を表
す。具体的には下記に示すような構造を持つ樹脂を挙げ
ることができる。感光性組成物中におけるこれら高分子
重合体の含有量は、1〜70重量%の範囲が好ましく、
5〜50重量%の範囲が更に好ましい。 <塗布溶剤>この発明では、塗布溶剤に制限はなく、塗
布溶剤を使用する場合は講談社発行「溶剤ハンドブッ
ク」に詳述されている。なお、これらの有機溶剤の使用
にあたっては、特に制限はない。
In the present invention, an unsaturated group-containing resin is particularly preferable, and is characterized in that it contains a group which can be polymerized by a radical or an acid, and the unsaturated group here means a glycidyl group, a (meth) acryloyl group, Represents a vinyl group and the like. Specifically, a resin having a structure shown below can be given. The content of these high molecular weight polymers in the photosensitive composition is preferably in the range of 1 to 70% by weight,
The range of 5 to 50% by weight is more preferable. <Coating Solvent> In the present invention, the coating solvent is not limited, and when a coating solvent is used, it is described in detail in “Solvent Handbook” published by Kodansha. There are no particular restrictions on the use of these organic solvents.

【0119】この発明の感光性組成物はさらに目的に応
じて、染料、有機および無機顔料、ホスフィン、ホスホ
ネート、ホスファイト等の酸素除去剤や還元剤、カブリ
防止剤、退色防止剤、ハレーション防止剤、蛍光増白
剤、着色剤、増量剤、可塑剤、難燃剤、酸化防止剤、紫
外線吸収剤、発砲剤、防カビ剤、磁性体やその他種々の
特性を付与する添加剤、希釈溶剤等と混合して使用して
も良い。 [熱または光硬化型樹脂層形成方法]熱または光硬化型
樹脂層を画像記録体上に作成する場合、塗布方式で作成
するか若しくは転写箔で形成することが好ましい。
The photosensitive composition of the present invention further comprises an oxygen scavenger and reducing agent such as dyes, organic and inorganic pigments, phosphines, phosphonates and phosphites, antifoggants, antifading agents and antihalation agents according to the purpose. , Fluorescent whitening agents, colorants, bulking agents, plasticizers, flame retardants, antioxidants, UV absorbers, foaming agents, antifungal agents, additives that impart various properties such as magnetic substances, diluent solvents, etc. You may mix and use it. [Method of Forming Heat or Photocurable Resin Layer] When the heat or photocurable resin layer is formed on the image recording body, it is preferable to form it by a coating method or transfer foil.

【0120】画像記録体上に保護する方法として塗布を
選択する場合、従来公知の方法、例えば回転塗布、ワイ
ヤーバー塗布、ディップ塗布、フェルト塗布、エアーナ
イフ塗布、スプレイ塗布、エアースプレイ塗布、静電エ
アースプレイ塗布、ロール塗布ブレード塗布及びカーテ
ン塗布等の方法が用いられる。この際塗布量は用途によ
り異なるが、例えば固形分として0.05〜50.0g
/m2の塗布量が好ましい。なお、塗布量が少なくなる
につれて見掛の感度が大になるが画像形成層の皮膜特
性、耐薬品性が低下する。
When coating is selected as a method for protecting the image recording material, conventionally known methods such as spin coating, wire bar coating, dip coating, felt coating, air knife coating, spray coating, air spray coating, electrostatic coating are used. Methods such as air spray coating, roll coating blade coating and curtain coating are used. At this time, the coating amount varies depending on the application, but is, for example, 0.05 to 50.0 g as solid content.
A coating amount of / m2 is preferable. Although the apparent sensitivity increases as the coating amount decreases, the film characteristics and chemical resistance of the image forming layer decrease.

【0121】塗布後硬化させる方法として活性な電磁波
を発生させるものは全て用いることができる。例えば、
レーザー、発光ダイオード、キセノンフラッシュラン
プ、ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライ
ドランプ、タングステンランプ、水銀灯、無電極光源等
をあげることができる。好ましくは、キセノンランプ、
ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドラ
ンプ、タングステンランプ、水銀灯等の光源が挙げら
れ、この際加えられるエネルギーは、重合開始剤の種類
のより、露光距離、時間、強度を調整することにより適
時選択して用いることができる。 [活性硬化線]レーザーを光源として用いる場合には、
露光面積を微小サイズに絞ることが容易であり、高解像
度の画像形成が可能となる。レーザー光源としてはアル
ゴンレーザー、He−Neガスレーザー、YAGレーザ
ー、半導体レーザー等を何れも好適に用いることが可能
である。
As a method for curing after coating, any method for generating an active electromagnetic wave can be used. For example,
Examples thereof include lasers, light emitting diodes, xenon flash lamps, halogen lamps, carbon arc lamps, metal halide lamps, tungsten lamps, mercury lamps and electrodeless light sources. Preferably a xenon lamp,
Examples of the light source include halogen lamps, carbon arc lamps, metal halide lamps, tungsten lamps, and mercury lamps. Can be used. [Active curing line] When a laser is used as a light source,
It is easy to reduce the exposure area to a very small size, and high-resolution image formation is possible. As a laser light source, any of an argon laser, a He-Ne gas laser, a YAG laser, a semiconductor laser and the like can be preferably used.

【0122】また、活性光線を用い光硬化を行う場合、
減圧下、窒素気流中で光硬化を安定化する手段等を用い
てもかまわない。 [熱処理]熱エネルギーを加えることもでき手段として
は、オーブン、ヒ−トロ−ル、ホットスタンプ、サーマ
ルヘッド、レーザー光、赤外線フラッシュ、熱ペンなど
を適時選択して用いることができる。
When photocuring is performed using actinic rays,
A means for stabilizing photocuring in a nitrogen stream under reduced pressure may be used. [Heat treatment] Heat energy can be applied, and as the means, an oven, a heat roller, a hot stamp, a thermal head, a laser beam, an infrared flash, a hot pen, etc. can be selected and used as appropriate.

【0123】この発明の熱または光硬化型樹脂層からな
る保護は、耐熱性の支持体、例えばポリエチレンテレフ
タレート樹脂フィルム上に塗工によって形成された透明
保護層リボンもしくは透明保護箔をあらかじめ用意して
おき、これを、例えば、サーマルヘッドや熱転写ロール
を用いて、熱転写することによって形成することができ
る。 <画像記録体の画像形成方法の一般記載>この発明の画
像記録体には画像要素が設けられ、顔画像等の認証識別
画像、属性情報画像、フォーマット印刷から選ばれる少
なくとも一つが設けられた基体上の該画像または印刷面
側に形成したものである。
For protection of the heat- or photo-curable resin layer of the present invention, a transparent protective layer ribbon or transparent protective foil formed by coating on a heat-resistant support such as a polyethylene terephthalate resin film is prepared in advance. Alternatively, it can be formed by thermal transfer using, for example, a thermal head or a thermal transfer roll. <General Description of Image Forming Method of Image Recording Body> The image recording body of the present invention is provided with an image element, and a substrate provided with at least one selected from an authentication identification image such as a face image, an attribute information image and format printing. It is formed on the image side or the printing surface side above.

【0124】顔画像は通常の場合、階調を有するフルカ
ラー画像で、例えば昇華型感熱転写記録方式、ハロゲン
化銀カラー写真方式等により作製される。また、文字情
報画像は二値画像よりなり、例えば溶融型感熱転写記録
方式、昇華型感熱転写記録方式、ハロゲン化銀カラー写
真方式、電子写真方式、インクジェット方式等により作
製されている。本発明においては、昇華型感熱転写記録
方式により顔画像等の認証識別画像、属性情報画像を記
録することが好ましい。
The face image is usually a full-color image having gradation, and is produced by, for example, a sublimation-type thermal transfer recording system or a silver halide color photographic system. The character information image is composed of a binary image, and is produced by, for example, a fusion type thermal transfer recording system, a sublimation type thermal transfer recording system, a silver halide color photographic system, an electrophotographic system, an inkjet system or the like. In the present invention, it is preferable to record an authentication identification image such as a face image and an attribute information image by a sublimation thermal transfer recording system.

【0125】属性情報は氏名、住所、生年月日、資格等
であり、属性情報は通常文字情報として記録され溶融型
感熱転写記録方法が一般的である。フォーマット印刷ま
たは、情報記録を行ってもよく、オフセット印刷、グラ
ビア印刷、シルク印刷、スクリーン印刷、凹版印刷、凸
版印刷、インクジェット方式、昇華転写方式、電子写真
方式、熱溶融方式等のいずれの方式によっても形成する
ことができる。
The attribute information is a name, address, date of birth, qualification, etc., and the attribute information is usually recorded as character information, and a melting type thermal transfer recording method is generally used. Format printing or information recording may be performed by any method such as offset printing, gravure printing, silk printing, screen printing, intaglio printing, letterpress printing, inkjet method, sublimation transfer method, electrophotographic method, heat melting method, etc. Can also be formed.

【0126】さらに、偽変造防止の目的では透かし印
刷、ホログラム、細紋等が採用されてもよい。偽造変造
防止層としては印刷物、ホログラム、バーコード、マッ
ト調柄、細紋、地紋、凹凸パターンなどで適時選択さ
れ、可視光吸収色材、紫外線吸収材、赤外線吸収材、蛍
光増白材、金属蒸着層、ガラス蒸着層、ビーズ層、光学
変化素子層、パールインキ層、隣片顔料層などから成
る。 <昇華画像形成方法>昇華型感熱転写記録用インクシー
トは、支持体とその上に形成された昇華性色素含有イン
ク層とで構成することができる。 −支持体− 支持体としては、寸法安定性がよく、感熱ヘッドでの記
録の際の熱に耐える限り特に制限がなく、従来から公知
のものを使用することができる。 −昇華性色素含有インク層− 上記昇華性色素含有インク層は、基本的に昇華性色素と
バインダーとを含有する。
Further, for the purpose of preventing forgery / alteration, watermark printing, hologram, fine print, etc. may be adopted. The anti-counterfeiting / alteration layer is appropriately selected from printed matter, holograms, barcodes, matte patterns, fine prints, tint patterns, uneven patterns, etc. It is composed of a vapor deposition layer, a glass vapor deposition layer, a bead layer, an optical change element layer, a pearl ink layer, an adjacent piece pigment layer and the like. <Sublimation Image Forming Method> The sublimation-type thermal transfer recording ink sheet can be composed of a support and a sublimable dye-containing ink layer formed thereon. -Support-The support is not particularly limited as long as it has good dimensional stability and can withstand heat during recording with a thermal head, and any known support can be used. —Sublimable Dye-Containing Ink Layer— The sublimable dye-containing ink layer basically contains a sublimable dye and a binder.

【0127】前記昇華性色素としてはシアン色素、マゼ
ンタ色素およびイエロー色素を挙げることができる。
Examples of the sublimable dye include cyan dye, magenta dye and yellow dye.

【0128】前記シアン色素としては、特開昭59−7
8896号公報、同59−227948号公報、同60
−24966号公報、同60−53563号公報、同6
0−130735号公報、同60−131292号公
報、同60−239289号公報、同61−19396
号公報、同61−22993号公報、同61−3129
2号公報、同61−31467号公報、同61−359
94号公報、同61−49893号公報、同61−14
8269号公報、同62−191191号公報、同63
−91288号公報、同63−91287号公報、同6
3−290793号公報などに記載されているナフトキ
ノン系色素、アントラキノン系色素、アゾメチン系色素
等が挙げられる。
As the cyan dye, there is disclosed JP-A-59-7.
8896, 59-227948, and 60.
No. 24966, No. 60-53563, and No. 6
No. 0-130735, No. 60-131292, No. 60-239289, No. 61-19396.
No. 61-29293, No. 61-3129.
No. 2, gazette 61-31467, gazette 61-359.
94, 61-49893, 61-14.
No. 8269, No. 62-191191, No. 63.
-912288, 63-91287, and 6
Examples thereof include naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, and azomethine dyes described in JP-A-3-290793.

【0129】前記マゼンタ色素としては、特開昭59−
78896号公報、同60−30392号公報、同60
−30394号公報、同60−253595号公報、同
61−262190号公報、同63−5992号公報、
同63−205288号公報、同64−159号、同6
4−63194号公報等の各公報に記載されているアン
トラキノン系色素、アゾ色素、アゾメチン系色素等が挙
げられる。
As the magenta dye, there is disclosed in JP-A-59-
No. 78896, No. 60-30392, and No. 60
-30394, 60-253595, 61-262190, 63-5992,
No. 63-205288, No. 64-159, and No. 6
Examples thereof include anthraquinone dyes, azo dyes, azomethine dyes, and the like described in each publication such as 4-63194.

【0130】イエロー色素としては、特開昭59−78
896号公報、同60−27594号公報、同60−3
1560号公報、同60−53565号公報、同61−
12394号公報、同63−122594号公報等の各
公報に記載されているメチン系色素、アゾ系色素、キノ
フタロン系色素およびアントライソチアゾール系色素が
挙げられる。
As the yellow dye, JP-A-59-78 can be used.
No. 896, No. 60-27594, and No. 60-3.
No. 1560, No. 60-53565, No. 61-
Examples thereof include methine dyes, azo dyes, quinophthalone dyes, and anthrythothiazole dyes described in each of the publications such as 12394 and 63-122594.

【0131】また、昇華性色素として特に好ましいの
は、開鎖型または閉鎖型の活性メチレン基を有する化合
物をp−フェニレンジアミン誘導体の酸化体またはp−
アミノフェノール誘導体の酸化体とのカップリング反応
により得られるアゾメチン色素およびフェノールまたは
ナフトール誘導体またはp−フェニレンジアミン誘導体
の酸化体またはp−アミノフェノール誘導体の酸化体の
とのカップリング反応により得られるインドアニリン色
素である。
Particularly preferred as the sublimable dye is a compound having an active methylene group of open or closed type, which is an oxidized product of p-phenylenediamine derivative or p-phenylenediamine derivative.
Azomethine dye obtained by coupling reaction with aminophenol derivative oxidant and indoaniline obtained by coupling reaction with phenol or naphthol derivative or p-phenylenediamine derivative oxidant or p-aminophenol derivative oxidant It is a pigment.

【0132】また、受像層中に金属イオン含有化合物が
配合されているときには、この金属イオン含有化合物と
反応してキレートを形成する昇華性色素を、昇華性色素
含有インク層中に含めておくのが良い。このようなキレ
ート形成可能な昇華性色素としては、例えば特開昭59
−78893号、同59−109349号、特願平2−
213303号、同2−214719号、同2−203
742号に記載されている、少なくとも2座のキレート
を形成することができるシアン色素、マゼンタ色素およ
びイエロー色素を挙げることができる。
When a metal ion-containing compound is blended in the image receiving layer, a sublimable dye which reacts with the metal ion-containing compound to form a chelate is contained in the sublimable dye-containing ink layer. Is good. Examples of such a sublimable dye capable of forming a chelate include, for example, JP-A-59.
-78893, 59-109349, Japanese Patent Application No. 2-
No. 213303, No. 2-214719, No. 2-203
Cyan dyes, magenta dyes and yellow dyes which are capable of forming at least a bidentate chelate as described in JP-A No. 742 can be mentioned.

【0133】キレートの形成可能な好ましい昇華性色素
は、下記一般式で表わすことができる。
A preferred sublimable dye capable of forming a chelate can be represented by the following general formula.

【0134】X1−N=N−X2−G ただし、式中X1は、少なくとも一つの環が5〜7個の
原子から構成される芳香族の炭素環、または複素環を完
成するのに必要な原子の集まりを表わし、アゾ結合に結
合する炭素原子の隣接位の少なくとも一つが、窒素原子
またはキレート化基で置換された炭素原子である。X2
は、少なくとも一つの環が5〜7個の原子から構成され
る芳香族複素環または、芳香族炭素環を表わす。Gはキ
レート化基を表わす。
X1-N = N-X2-G wherein X1 is necessary to complete an aromatic carbocycle or a heterocycle in which at least one ring is composed of 5 to 7 atoms. At least one of the adjacent carbon atoms, which represents a group of atoms and is bonded to an azo bond, is a carbon atom substituted with a nitrogen atom or a chelating group. X2
Represents an aromatic heterocycle or an aromatic carbocycle in which at least one ring is composed of 5 to 7 atoms. G represents a chelating group.

【0135】いずれの昇華性色素に関しても前記昇華性
色素含有インク層に含有される昇華性色素は、形成しよ
うとする画像が単色であるならば、イエロー色素、マゼ
ンタ色素、およびシアン色素の何れであっても良く、形
成しようとする画像の色調によっては、前記三種の色素
のいずれか二種以上もしくは他の昇華性色素を含んでい
ても良い。前記昇華性色素の使用量は、通常、支持体1
2当たり0.1〜20g、好ましくは0.2〜5gで
ある。
With respect to any of the sublimable dyes, the sublimable dye contained in the ink layer containing the sublimable dye may be any one of a yellow dye, a magenta dye, and a cyan dye if the image to be formed is a single color. It may be present, and depending on the color tone of the image to be formed, any two or more of the above three types of dyes or another sublimable dye may be included. The amount of the sublimable dye used is usually 1
It is 0.1 to 20 g, preferably 0.2 to 5 g per m 2 .

【0136】インク層のバインダーとしては特に制限が
なく従来から公知のものを使用することができる。さら
に前記インク層には、従来から公知の各種添加剤を適宜
に添加することができる。
The binder for the ink layer is not particularly limited, and conventionally known binders can be used. Further, various conventionally known additives can be appropriately added to the ink layer.

【0137】昇華型感熱転写記録用インクシートは、イ
ンク層を形成する前記各種の成分を溶媒に分散ないし溶
解してなるインク層形成用塗工液を調製し、これを支持
体の表面に塗工し、乾燥することにより製造することが
できる。かくして形成されたインク層の膜厚は、通常、
0.2〜10μmであり、好ましくは、0.3〜3μm
である。 [透かし印刷]特開平7−150093号、特開平20
00−37978号、特開平1−43581号、特開平
9−193294号公報等に記載されている透かし印刷
を用いても良く、具体的には、基材層を構成する各層
間、あるいは基材層と受像層との間、あるいは基材層と
筆記層との間のいずれかに、隠蔽層を設けるのが好まし
い。この隠蔽層には透かし印刷を行うことができ、透か
し印刷をした隠蔽層を有することによりこのIDカード
用素材の偽造あるいは変造を防止することができる。
For the sublimation type thermal transfer recording ink sheet, an ink layer-forming coating liquid prepared by dispersing or dissolving the various components forming the ink layer in a solvent is prepared and coated on the surface of a support. It can be manufactured by working and drying. The thickness of the ink layer thus formed is usually
0.2 to 10 μm, preferably 0.3 to 3 μm
Is. [Watermark printing] Japanese Patent Laid-Open Nos. 7-150093 and 20
No. 00-37978, JP-A-1-43581, JP-A-9-193294 and the like may be used for the watermark printing. Specifically, each layer constituting the base material layer or the base material It is preferable to provide a hiding layer either between the layer and the image receiving layer or between the substrate layer and the writing layer. Watermark printing can be performed on the concealing layer, and by having the concealing layer on which the watermark is printed, forgery or alteration of the ID card material can be prevented.

【0138】好ましい隠蔽層としては、ポリオレフィ
ン、塩化ビニル系樹脂、ABS樹脂などの樹脂に顔料を
含有させることにより形成することができる。上記顔料
としては、たとえば、チタンホワイト、炭酸マグネシウ
ム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、シリカ、タルク、クレ
ー、炭酸カルシウム等を挙げることができる。
The preferable hiding layer can be formed by incorporating a pigment into a resin such as polyolefin, vinyl chloride resin, ABS resin or the like. Examples of the pigment include titanium white, magnesium carbonate, zinc oxide, barium sulfate, silica, talc, clay, calcium carbonate and the like.

【0139】なお、隠蔽層は、白色からグレー色でも良
い。この発明では白色顔料が好ましい。白色顔料は、上
記各種の態様における基材層を構成するいずれかの層に
含有されていてもよい。たとえば、ポリエチレン層また
はポリプロピレン層に白色顔料を配合することができ
る。また、複合層を形成する2軸延伸ポリエステルフィ
ルム層あるいは基材層である2軸延伸ポリエステルフィ
ルム単独層に白色顔料を配合することができる。白色顔
料の配合により、後の工程で形成される画像の鮮明性を
一層向上させることができる。これら白色顔料の各層に
おける含有量は、通常0.5〜50.0重量%、好まし
くは5.0〜40.0重量%である。
The hiding layer may be white to gray. White pigments are preferred in this invention. The white pigment may be contained in any of the layers constituting the base material layer in the above various aspects. For example, a white pigment can be added to the polyethylene layer or the polypropylene layer. Further, a white pigment can be blended in the biaxially stretched polyester film layer forming the composite layer or the biaxially stretched polyester film single layer as the base material layer. By blending the white pigment, it is possible to further improve the sharpness of the image formed in the subsequent step. The content of these white pigments in each layer is usually 0.5 to 50.0% by weight, preferably 5.0 to 40.0% by weight.

【0140】上記態様のいずれの基材層においても、そ
れを構成する各層中には必要に応じて、また種々の性能
を向上させるために各種の添加剤を含有させてもよい。
上記態様のいずれの基材層も、塗工法、ラミネート法、
共押出法、ホットメルトエクストルージョン法、印刷法
等の従来から公知の方法で形成することができる。ラミ
ネート法により基材層を形成する場合には、基材層を構
成する各層間に接着層を介在させるのが好ましい。 [パールインキ層]鱗片状粉末(以下 鱗片顔料と称す
る)としては、雲母に反射性(高虹彩反射)を与える薄
膜被膜として、可視域に透明で屈折性が2.0以上ある
金属酸化物あるいは金属硫化物などを被覆したもので、
例えば、Sb2S3、Fe2O3、PbO、ZnSe、
CdS、Bi2O3、TiO2、PbCl2、CeO
2、Ta2O5、ZnS、ZnO、CdO、Nd2O
3、Sb2O3、SiOおよびInO3の単層の被覆、
もしくは2層に被覆することにより形成される。
In each of the base material layers of the above embodiments, each layer constituting the base material layer may contain various additives as necessary and in order to improve various performances.
Any of the substrate layers of the above aspects, coating method, laminating method,
It can be formed by a conventionally known method such as a coextrusion method, a hot melt extrusion method, or a printing method. When the base material layer is formed by the laminating method, it is preferable to interpose an adhesive layer between the respective layers constituting the base material layer. [Pearl ink layer] As the scaly powder (hereinafter referred to as scaly pigment), a metal oxide having a refractive index of 2.0 or more, which is transparent in the visible range, as a thin film coating that gives mica reflectivity (high iris reflection) It is coated with metal sulfide, etc.
For example, Sb2S3, Fe2O3, PbO, ZnSe,
CdS, Bi2O3, TiO2, PbCl2, CeO
2, Ta2O5, ZnS, ZnO, CdO, Nd2O
3, a single layer coating of Sb2O3, SiO and InO3,
Alternatively, it is formed by coating two layers.

【0141】雲母と金属酸化膜が組み合わされた時、そ
の屈折率の差が0.4より大きいことから、入射した白
色光の反射量が多く、また、同時に雲母と金属酸化膜の
界面で副屈折を起こすことから、高虹彩反射性となり、
変色効果をより効果的に助長する働きをする。
When the mica and the metal oxide film are combined, the difference in the refractive index between them is larger than 0.4, so that the incident white light is reflected in a large amount, and at the same time, the sub-side at the interface between the mica and the metal oxide film. Since it causes refraction, it becomes highly iris reflective,
It works to promote the discoloration effect more effectively.

【0142】この時、雲母を被覆する金属酸化膜の膜厚
を制御することで任意の色調の高虹反射性を持った鱗片
顔料とすることができる。膜厚は10・10000オン
グストローム、望ましくは200・5000オングスト
ロームの範囲の膜厚が可視域に対して高虹彩反射性とな
るので望ましい。具体的には、特開平6−145553
号、特開平8−209024号、特開平8−26935
8号、特開平10−101957号、特開平11−27
3932号、特開平11−315219号、特開200
0−1628、特開2000−44834、特開平1−
158077号公報等に記載されている顔料を用いるこ
とができる。このような鱗片顔料の市販のものとしては
「Iriodin」(商品名、MERCK社製)等があ
る。
At this time, by controlling the film thickness of the metal oxide film that coats the mica, it is possible to obtain a scaly pigment having a high rainbow reflectivity with an arbitrary color tone. The film thickness is preferably 10.10000 angstroms, and more preferably 200.5000 angstroms, since it provides high iris reflection in the visible range. Specifically, JP-A-6-145553
JP-A-8-209024, JP-A-8-26935.
No. 8, JP-A-10-101957, JP-A-11-27.
3932, JP-A-11-315219, JP-A-200
0-1628, JP 2000-44834, JP 1-
The pigments described in Japanese Patent No. 158077 can be used. Examples of commercially available scale pigments include "Iriodin" (trade name, manufactured by MERCK).

【0143】「Iriodin」は天然マイカの表面を
酸化チタンおよび酸化鉄等の高屈折率の金属酸化物で被
覆した安定した無機鱗片顔料であり、屈折率の高い酸化
チタンの層と屈折率の低いマイカおよび周りの媒体との
境界で反射した光が真珠光沢をもたらすものである。こ
の「Iriodin」には、被覆された酸化チタンの膜
厚を変えることによって虹彩色の特定な色を強調させる
ことができ、このような鱗片顔料は有色色料との混合物
にビヒクル、添加剤を加えインキ化して用いる。
"Iriodin" is a stable inorganic scale pigment in which the surface of natural mica is coated with a metal oxide having a high refractive index such as titanium oxide and iron oxide, and is a titanium oxide layer having a high refractive index and a low refractive index. The light reflected at the boundary between the mica and the surrounding medium is what gives the pearl luster. In this "Iriodin", a specific color of the iris color can be emphasized by changing the film thickness of the coated titanium oxide. Such a scale pigment contains a vehicle and an additive in a mixture with a colorant. Add it to ink and use it.

【0144】色変化印刷層に用いる鱗片顔料は、反射性
層に用いる鱗片顔料と干渉性が異なる鱗片顔料であれば
前記したもので良い。その他にゴールドタイプやシルバ
ータイプがある。
The scale pigments used in the color change printing layer may be those described above as long as the scale pigments used in the reflective layer have different coherence. There are also gold type and silver type.

【0145】以下、この発明の転写箔及び画像記録体作
成方法の実施の形態を図面に基づいて説明するが、この
発明はこの実施の形態の説明及び図面に限定されるもの
ではない。まず、第1の実施の形態を図2及び図3に示
し、図2は画像記録体作成装置の概略構成図、図3は画
像記録体の層構成を示す図である。
Hereinafter, embodiments of the transfer foil and the method for producing an image recording material of the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited to the description of the embodiments and the drawings. First, a first embodiment is shown in FIGS. 2 and 3, FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an image recording medium producing apparatus, and FIG. 3 is a diagram showing a layer configuration of the image recording medium.

【0146】この実施の形態の画像記録体作成装置に
は、上方位置にカード基材供給部10及び情報記録部2
0が配置され、下方位置に、保護付与部及び/又は光学
変化素子付与部40、活性光線硬化層付与部及び/又は
活性光線照射部90が配置され、画像記録体としてカー
ドを作成するが、シートを作成することもできる。
In the image recording medium producing apparatus of this embodiment, the card base material supplying section 10 and the information recording section 2 are provided at the upper position.
0 is arranged, the protection imparting part and / or the optical change element imparting part 40, the actinic ray curing layer imparting part and / or the actinic ray irradiating part 90 are disposed in the lower position to prepare a card as an image recording body, You can also create sheets.

【0147】カード基材供給部10には、カード使用者
の個人情報を書き込むために予め枚葉状にカットされた
複数枚のカード基材50が、顔写真を記録する面を上に
向けてストックされている。この例では、カード基材5
0が支持体51と受像層52からなり、このカード基材
50は1枚づつカード基材供給部10から所定のタイミ
ングで自動供給される。
In the card base material supply unit 10, a plurality of card base materials 50 preliminarily cut into a sheet shape for writing the personal information of the card user are stocked with the face for recording a face up. Has been done. In this example, the card substrate 5
0 is composed of a support 51 and an image receiving layer 52, and the card bases 50 are automatically supplied one by one from the card base supply unit 10 at a predetermined timing.

【0148】情報記録部20には、イエローリボンカセ
ット21、マゼンタリボンカセット22、シアンリボン
カセット23、ブラックリボンカセット24が配置さ
れ、それぞれに対応して記録ヘッド25〜28が配置さ
れている。イエローリボン、マゼンタリボン、シアンリ
ボン等の熱転写シートによる熱転写で、カード基材50
が移動されている間に、その受像層52の所定領域にカ
ード使用者の顔写真等の諧調を有する画像領域53が記
録される。また、文字リボンカセット31及び記録ヘッ
ド32が配置され、文字リボン等の熱転写シートによる
熱転写で、その氏名やカード発行日等の認証識別情報5
4が記録され、画像記録層が形成される。
In the information recording section 20, a yellow ribbon cassette 21, a magenta ribbon cassette 22, a cyan ribbon cassette 23, and a black ribbon cassette 24 are arranged, and recording heads 25 to 28 are arranged corresponding to them. By heat transfer using a heat transfer sheet such as a yellow ribbon, a magenta ribbon, and a cyan ribbon, the card substrate 50
While the image is being moved, an image area 53 having a gradation such as a facial photograph of the card user is recorded in a predetermined area of the image receiving layer 52. Further, the character ribbon cassette 31 and the recording head 32 are arranged, and the thermal identification by the thermal transfer sheet such as the character ribbon, the authentication identification information 5 such as the name and the card issuing date.
4 is recorded and an image recording layer is formed.

【0149】保護付与部及び/又は光学変化素子付与部
40では、転写箔カセット41が配置され、この転写箔
カセット41に対応して熱転写ヘッド42が配置されて
いる。透明保護転写箔64及び/又は光学変化素子転写
箔43を熱転写して、透明保護転写層640及び/又は
光学変化素子転写層430が設けられる。
A transfer foil cassette 41 is disposed in the protection imparting section and / or the optical change element imparting section 40, and a thermal transfer head 42 is disposed corresponding to the transfer foil cassette 41. The transparent protective transfer foil 64 and / or the optically variable element transfer foil 43 is thermally transferred to provide the transparent protective transfer layer 640 and / or the optically variable element transfer layer 430.

【0150】その後活性光線硬化層付与部及び/又は活
性光線照射部90により活性光線硬化液が塗布され、活
性光線により露光が行なわれ、図3の構成の画像記録体
の層構成が得られ、透明保護転写層640及び/又は光
学変化素子転写層430上に活性光線硬化層650が設
けられる。
Thereafter, an actinic ray curable liquid is applied by the actinic ray curable layer applying section and / or the actinic ray irradiating section 90 and exposed by an actinic ray to obtain the layer structure of the image recording body having the structure shown in FIG. An actinic ray curing layer 650 is provided on the transparent protective transfer layer 640 and / or the optical change element transfer layer 430.

【0151】次に、第2の実施の形態を図4及び図5に
示し、図4は画像記録体作成装置の概略構成図、図5は
画像記録体の層構成を示す図である。
Next, a second embodiment is shown in FIGS. 4 and 5, FIG. 4 is a schematic configuration diagram of an image recording medium producing apparatus, and FIG. 5 is a diagram showing a layer configuration of the image recording medium.

【0152】この実施の形態の画像記録体作成装置で
は、カード基材供給部10及び情報記録部20は同様に
構成されるが、情報記録部20の次に保護付与部及びま
たは光学変化素子付与部40、樹脂付与部60が配置さ
れる。
In the image recording medium producing apparatus according to this embodiment, the card base material supplying section 10 and the information recording section 20 have the same structure, but the information recording section 20 is followed by a protection imparting section and / or an optical change element imparting section. The part 40 and the resin applying part 60 are arranged.

【0153】保護付与部及び/又は光学変化素子付与部
40では、透明保護転写層640及び/又は光学変化素
子転写層430が設けられる。樹脂付与部60では、受
像層52上に透明保護転写層640及び/又は光学変化
素子転写層430で形成された画像記録体上に硬化型転
写箔66を熱転写し硬化型保護層含有転写層660が設
けられる。
In the protection imparting section and / or the optical change element imparting section 40, the transparent protective transfer layer 640 and / or the optical change element transfer layer 430 are provided. In the resin applying section 60, the curable transfer foil 66 is thermally transferred onto the image recording body formed by the transparent protective transfer layer 640 and / or the optically variable element transfer layer 430 on the image receiving layer 52 to transfer the curable protective layer-containing transfer layer 660. Is provided.

【0154】次に第3の実施形態を図6及び図7に示
し、図6は画像記録体作成装置の概略図、図7は画像記
録体の層構成を示す図である。
Next, a third embodiment is shown in FIGS. 6 and 7, FIG. 6 is a schematic view of an image recording medium producing apparatus, and FIG. 7 is a diagram showing a layer structure of the image recording medium.

【0155】この実施形態の画像記録体作成装置はカー
ド基材供給部10及び情報記録部20は同様に構成され
るが、透明保護層及び/または光学変化素子転写付与部
/または樹脂層付与部70が配置される。
In the image recording medium producing apparatus of this embodiment, the card base material supplying section 10 and the information recording section 20 have the same structure, but the transparent protective layer and / or the optical change element transfer imparting section / or the resin layer imparting section. 70 is arranged.

【0156】透明保護層及び/または光学変化素子転写
付与部/または樹脂層付与部70には、転写カセット7
1が配置され、この転写箔カセット71に対応して熱転
写ヘッド72が配置されている。硬化型樹脂層含有光学
変化素子転写箔44を転写し、硬化型樹脂層含有光学変
化素子転写層440が設けられる。
In the transparent protective layer and / or the optical change element transfer applying section / or the resin layer applying section 70, the transfer cassette 7 is provided.
1 is arranged, and a thermal transfer head 72 is arranged corresponding to the transfer foil cassette 71. The curable resin layer-containing optical change element transfer foil 44 is transferred to provide the curable resin layer-containing optical change element transfer layer 440.

【0157】この発明では、透明保護転写箔とは、画像
を保護する透明保護箔であり、透明保護層とは、画像を
保護する透明保護層である。また樹脂層とは、この発明
にあたる破断伸度、摩擦係数を規定した樹脂を有する層
である。また活性硬化線樹脂層とは、樹脂層の種類の一
部であり、この発明では好ましい実施形態であるが、図
1及び図2に示すように製造上樹脂層に限定される場合
がある。また硬化型保護層含有光学変化素子層とは、硬
化層と光学変化素子層が一体になっている層のことを表
す。また保護性付与転写箔とは、樹脂層(好ましくは活
性光線硬化性樹脂)を少なくとも一層含む転写箔のこと
を表す。
In the present invention, the transparent protective transfer foil is a transparent protective foil that protects an image, and the transparent protective layer is a transparent protective layer that protects an image. Further, the resin layer is a layer having a resin which defines the elongation at break and the coefficient of friction according to the present invention. The active cured resin layer is a part of the type of the resin layer, which is a preferred embodiment in the present invention, but may be limited to the resin layer in manufacturing as shown in FIGS. 1 and 2. The curable protective layer-containing optical change element layer refers to a layer in which the cured layer and the optical change element layer are integrated. The protective property imparting transfer foil means a transfer foil including at least one resin layer (preferably actinic ray curable resin).

【0158】次に、透明保護転写箔64の実施の形態を
図8に示す。図8(a)の透明保護転写箔64は透明保
護転写層640と支持体64bから構成され、透明保護
転写層640は離型層64a1、透明保護層64a2、
接着層64a3から構成され、透明保護層64a2の両
側に離型層64a1、接着層64a3が設けられ、離型
層64a1が支持体64bに接着されている。図8
(b)の透明保護転写箔64は図8(a)の転写箔と同
様に構成されるが、透明保護層64a2と接着層64a
3との間に中間層64a4が設けられている。図8
(c)の透明保護転写箔64は図8(b)の転写箔と同
様に構成されるが、透明保護層64a2を2層設けてい
る。図8(d)の透明保護転写箔64は図8(b)の転
写箔と同様に構成されるが、透明保護層64a2と中間
層64a4との間にバリヤー層64a5が設けられてい
る。
Next, an embodiment of the transparent protective transfer foil 64 is shown in FIG. The transparent protective transfer foil 64 of FIG. 8A is composed of a transparent protective transfer layer 640 and a support 64b. The transparent protective transfer layer 640 includes a release layer 64a1, a transparent protective layer 64a2,
The transparent protective layer 64a2 is composed of the adhesive layer 64a3, the release layer 64a1 and the adhesive layer 64a3 are provided on both sides of the transparent protective layer 64a2, and the release layer 64a1 is adhered to the support 64b. Figure 8
The transparent protective transfer foil 64 of (b) is configured in the same manner as the transfer foil of FIG. 8 (a), but the transparent protective layer 64a2 and the adhesive layer 64a.
The intermediate layer 64a4 is provided between the intermediate layer 64a and the intermediate layer 3a. Figure 8
The transparent protective transfer foil 64 of (c) has the same structure as the transfer foil of FIG. 8B, but two transparent protective layers 64a2 are provided. The transparent protective transfer foil 64 of FIG. 8D has the same structure as the transfer foil of FIG. 8B, but a barrier layer 64a5 is provided between the transparent protective layer 64a2 and the intermediate layer 64a4.

【0159】これらの透明保護転写箔64は、透明保護
転写層640が支持体43bから剥離して転写される。
The transparent protective transfer foil 64 is transferred by peeling the transparent protective transfer layer 640 from the support 43b.

【0160】光学変化素子転写箔43の実施の形態を図
9に示す。図9(a)の光学変化素子転写箔43は光学
変化素子転写層430と支持体43bから構成され、光
学変化素子転写層430は離型層43a1、光学変化素
子層43a2、接着層43a3から構成され、光学変化
素子層43a2の両側に離型層43a1、接着層43a
3が設けられ、離型層43a1が支持体43bに接着さ
れている。図9(b)の光学変化素子転写箔43は図9
(a)の転写箔と同様に構成されるが、接着層43a3
と光学変化素子層43a2との間に中間層43a4が設
けられている。図9(c)の光学変化素子転写箔43は
図9(b)の転写箔と同様に構成されるが、光学変化素
子層43a2と中間層43a4との間にバリヤー層43
a5が設けられている。図9(d)の転写箔は図9
(c)の転写箔と同様に構成されるが、離型層43a1
と光学変化素子層43a2との間に透明保護層43a6
が設けられている。
An embodiment of the optical variable element transfer foil 43 is shown in FIG. The optical change element transfer foil 43 of FIG. 9A is composed of an optical change element transfer layer 430 and a support 43b, and the optical change element transfer layer 430 is composed of a release layer 43a1, an optical change element layer 43a2, and an adhesive layer 43a3. The release layer 43a1 and the adhesive layer 43a are formed on both sides of the optical change element layer 43a2.
3 is provided, and the release layer 43a1 is adhered to the support body 43b. The optically variable element transfer foil 43 of FIG.
The same structure as the transfer foil of (a), but with the adhesive layer 43a3
And the optical change element layer 43a2, the intermediate layer 43a4 is provided. The optical variable element transfer foil 43 of FIG. 9C is configured similarly to the transfer foil of FIG. 9B, but the barrier layer 43 is provided between the optical variable element layer 43a2 and the intermediate layer 43a4.
a5 is provided. The transfer foil of FIG. 9D is shown in FIG.
The release foil 43a1 has the same structure as the transfer foil of FIG.
And the optical change element layer 43a2 between the transparent protective layer 43a6
Is provided.

【0161】これらの光学変化素子転写箔43は、光学
変化素子転写層430が支持体43bから剥離して転写
される。
The optical variable element transfer foil 43 is transferred by peeling the optical variable element transfer layer 430 from the support 43b.

【0162】次に、硬化型転写箔66の実施の形態を図
10に示す。図10(a)の硬化型転写箔66は硬化型
保護層含有転写層660と支持体66bから構成され、
硬化型保護層含有転写層660は離型層66a1、硬化
層66a2、中間層66a4、接着層66a3から構成
され、硬化層66a2の両側に離型層66a1と中間層
66a4が設けられ、離型層66a1が支持体66bに
接着されている。図10(b)の硬化型転写箔66は図
10(a)の転写箔と同様に構成されるが、硬化層66
a2を2層設けている。図10(c)の硬化型転写箔6
6は図10(a)の転写箔と同様に構成されるが、接着
層66a3と中間層63a4との間にバリヤー層66a
5が設けられている。
Next, an embodiment of the curable transfer foil 66 is shown in FIG. The curable transfer foil 66 of FIG. 10A is composed of a curable protective layer-containing transfer layer 660 and a support 66b,
The curable protective layer-containing transfer layer 660 includes a release layer 66a1, a cured layer 66a2, an intermediate layer 66a4, and an adhesive layer 66a3. The release layer 66a1 and the intermediate layer 66a4 are provided on both sides of the cured layer 66a2. 66a1 is adhered to the support 66b. The curable transfer foil 66 of FIG. 10B has the same structure as the transfer foil of FIG.
Two layers of a2 are provided. Curable transfer foil 6 of FIG. 10 (c)
6 has the same structure as the transfer foil of FIG. 10 (a), but has a barrier layer 66a between the adhesive layer 66a3 and the intermediate layer 63a4.
5 are provided.

【0163】これらの硬化型転写箔66は、硬化型保護
層含有転写層660が支持体43bから剥離して転写さ
れる。
In these curable transfer foils 66, the curable protective layer-containing transfer layer 660 is peeled off from the support 43b and transferred.

【0164】次に、硬化型樹脂層含有光学変化素子転写
箔44の実施の形態を図11に示す。図11(a)の硬
化型樹脂層含有光学変化素子転写箔44は硬化型樹脂層
含有光学変化素子転写層440と支持体44bから構成
され、硬化型樹脂層含有光学変化素子転写層440は離
型層44a1、硬化層44a9、光学変化素子層44a
2、中間層44a4、バリヤー層44a5、接着層44
a3から構成され、離型層44a1が支持体44bに接
着されている。図11(b)の硬化型樹脂層含有光学変
化素子転写箔44は図11(a)の転写箔と同様に構成
されるが、中間層44a4がない構成であり、また図1
1(c)の硬化型樹脂層含有光学変化素子転写箔44は
図11(a)の転写箔と同様に構成されるが、バリヤー
層44a5がない構成である。
Next, an embodiment of the curable resin layer-containing optical change element transfer foil 44 is shown in FIG. The curable resin layer-containing optical change element transfer foil 44 of FIG. 11A is composed of a curable resin layer-containing optical change element transfer layer 440 and a support 44b, and the curable resin layer-containing optical change element transfer layer 440 is separated. Mold layer 44a1, cured layer 44a9, optical change element layer 44a
2, intermediate layer 44a4, barrier layer 44a5, adhesive layer 44
The release layer 44a1 is made of a3 and is adhered to the support 44b. The curable resin layer-containing optical change element transfer foil 44 of FIG. 11B has the same structure as that of the transfer foil of FIG. 11A, but does not have the intermediate layer 44a4.
The curable resin layer-containing optical change element transfer foil 44 of 1 (c) has the same structure as the transfer foil of FIG. 11 (a), but has no barrier layer 44a5.

【0165】これらの硬化型樹脂層含有光学変化素子転
写箔44は、硬化型樹脂層含有光学変化素子転写層44
0が支持体44bから剥離して転写される。
The curable resin layer-containing optical change element transfer foil 44 is used as the curable resin layer-containing optical change element transfer layer 44.
0 is separated from the support 44b and transferred.

【0166】この実施の形態の硬化型樹脂層含有光学変
化素子転写箔44は、硬化型樹脂層含有光学変化素子転
写層440が支持体44bから剥離して転写され、硬化
型樹脂層含有光学変化素子転写層440が、少なくと
も、離型層、硬化層、光学変化素子層、中間層、接着層
を有する構成であり、表面保護性、表面摩耗耐久性に優
れている。
In the curable resin layer-containing optical change element transfer foil 44 of this embodiment, the curable resin layer-containing optical change element transfer layer 440 is transferred by peeling from the support 44b, and the curable resin layer-containing optical change film is transferred. The element transfer layer 440 has at least a release layer, a cured layer, an optical change element layer, an intermediate layer, and an adhesive layer, and is excellent in surface protection and surface abrasion resistance.

【0167】また、少なくとも、光学変化素子層より画
像記録体表面側に位置する透明保護層が、紫外線硬化層
または電子線硬化層であることが表面保護性、表面摩耗
耐久性に優れ好ましい。
Further, it is preferable that at least the transparent protective layer located on the surface side of the image recording body with respect to the optical change element layer is an ultraviolet ray curable layer or an electron beam curable layer because of excellent surface protective property and surface abrasion durability.

【0168】また、光学変化素子層が、凹凸像を有する
ハードコート層、蒸着層であることが、より偽変造防止
の硬化があり好ましい。
Further, it is preferable that the optical change element layer is a hard coat layer or a vapor deposition layer having an uneven image because curing for preventing forgery / alteration is more likely to occur.

【0169】また、少なくとも1つの透明保護層が、カ
ード全面に熱転写されていることが表面保護性、表面摩
耗耐久性に優れ好ましい。
Further, it is preferable that at least one transparent protective layer is thermally transferred onto the entire surface of the card because of excellent surface protection and surface abrasion resistance.

【0170】さらに、透明保護転写箔または光学変化素
子転写箔のいずれかの層に、帯電防止剤が含有されてい
ることが好ましく、ゴミが付着しないカード、あるいは
シートを作成できる。
Further, it is preferable that an antistatic agent is contained in either layer of the transparent protective transfer foil or the optical change element transfer foil, so that a card or sheet on which dust does not adhere can be prepared.

【0171】また、先に転写された転写表面が、後から
転写される転写箔の易接着加工されていることが、接着
性がよく好ましい。
Further, it is preferable that the transfer surface which has been transferred first is subjected to the easy-adhesion processing of the transfer foil which is transferred later, because the adhesion is good.

【0172】この発明の転写箔においては、帯電防止
層、離型層、透明保護層、光学変化素子層、バリヤ層、
中間層、接着層に少なくとも一層が設けられることが好
ましい。転写箔の帯電防止層は、帯電防止性に優れたア
ニオン性高分子物質及び/又は導電性粒子を含有する。
In the transfer foil of this invention, an antistatic layer, a release layer, a transparent protective layer, an optical change element layer, a barrier layer,
At least one layer is preferably provided in the intermediate layer and the adhesive layer. The antistatic layer of the transfer foil contains an anionic polymer substance having excellent antistatic properties and / or conductive particles.

【0173】次に、この発明に使用する転写箔材料を詳
細に説明する。
Next, the transfer foil material used in the present invention will be described in detail.

【0174】この発明の転写箔は、離型層、透明樹脂層
を有する支持体からなることが好ましく、より好ましく
は離型層、透明樹脂層、中間層、バリヤー層、プライマ
ー層、接着層を少なくとも1つから成る層で構成されて
いることが好ましい。この発明の場合、ICチップによ
り偽変造等の防止が行えるが、目的で目視判別のために
光学変化素子層を設けることも可能である。 [転写箔用支持体]支持体としては例えば、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ
エチレンテレフタレート/イソフタレート共重合体等の
ポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂、ポリフッ化
ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ4フッ化エチレ
ン、エチレン−4フッ化エチレン共重合体、等のポリフ
ッ化エチレン系樹脂、ナイロン6、ナイロン6.6等の
ポリアミド、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニル
共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、エチレン/
ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、ビ
ニロン等のビニル重合体、三酢酸セルロース、セロファ
ン等のセルロース系樹脂、ポリメタアクリル酸メチル、
ポリメタアクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポ
リアクリル酸ブチル、等のアクリル系樹脂、ポリスチレ
ン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリイミド等
の合成樹脂シート、又は上質紙、薄葉紙、グラシン紙、
硫酸紙等の紙、金属箔等の単層体或いはこれら2層以上
の積層体が挙げられる。本発明の支持体の厚みは10〜
200μm望ましくは15〜80μmである。10μm
以下であると支持体が転写時に破壊してしまい問題であ
る。本発明の特定離型層においては、ポリエチレンテレ
フタレートが好ましい。
The transfer foil of the present invention preferably comprises a support having a release layer and a transparent resin layer, more preferably a release layer, a transparent resin layer, an intermediate layer, a barrier layer, a primer layer and an adhesive layer. It is preferably composed of at least one layer. In the case of the present invention, the IC chip can prevent forgery or the like, but it is also possible to provide an optical variable element layer for the purpose of visual discrimination. [Support for Transfer Foil] Examples of the support include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene terephthalate / isophthalate copolymers, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene and polymethylpentene, polyvinyl fluoride, polyvinyl fluoride. Poly (vinyl fluoride), poly (tetrafluoroethylene), ethylene / tetrafluoroethylene copolymer, etc., polyfluorinated ethylene resin, polyamide such as nylon 6, nylon 6.6, polyvinyl chloride, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer , Ethylene / vinyl acetate copolymer, ethylene /
Vinyl alcohol copolymer, polyvinyl alcohol, vinyl polymer such as vinylon, cellulose triacetate, cellulosic resin such as cellophane, methyl polymethacrylate,
Acrylic resins such as ethyl polymethacrylate, ethyl polyacrylate, butyl polyacrylate, etc., polystyrene, polycarbonate, polyarylate, synthetic resin sheets such as polyimide, or fine paper, thin paper, glassine paper,
Examples include paper such as sulfuric acid paper and the like, single-layered bodies such as metal foils, and laminated bodies of two or more layers thereof. The thickness of the support of the present invention is 10 to 10.
200 μm It is preferably 15 to 80 μm. 10 μm
If it is below, the support will be broken at the time of transfer, which is a problem. In the specific release layer of the present invention, polyethylene terephthalate is preferred.

【0175】この発明の支持体は必要に応じて凹凸を有
することができる。凹凸作成手段としては、マット剤練
り込み、サンドブラスト加工、ヘアライン加工、マット
コーティング、もしくはケミカルエッチング等が挙げら
れる。マットコーティングの場合有機物及び無機物のい
ずれでもよい。例えば、無機物としては、スイス特許第
330,158号等に記載のシリカ、仏国特許第1,2
96,995号等に記載のガラス粉、英国特許第1,1
73,181号等に記載のアルカリ土類金属又はカドミ
ウム、亜鉛等の炭酸塩、等をマット剤として用いること
ができる。有機物としては、米国特許第2,322,0
37号等に記載の澱粉、ベルギー特許第625,451
号や英国特許第981,198号等に記載された澱粉誘
導体、特公昭44−3643号等に記載のポリビニルア
ルコール、スイス特許第330,158号等に記載のポ
リスチレン或いはポリメタアクリレート、米国特許第
3,079,257号等に記載のポリアクリロニトリ
ル、米国特許第3,022,169号等に記載されたポ
リカーボネートのような有機マット剤を用いることがで
きる。マット剤の付着方法は、予め塗布液中に分散させ
て塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布した
後、乾燥が終了する以前にマット剤を噴霧する方法を用
いてもよい。又複数の種類のマット剤を添加する場合
は、両方の方法を併用してもよい。本発明で凹凸加工す
る場合、転写面、背面のいずれか片面以上に施すことが
可能である。 [転写箔離型層]剥離層としては、高ガラス転移温度を
有するアクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ボリ
ビニルブチラール樹脂などの樹脂、ワックス類、シリコ
ンオイル類、フッ素化合物、水溶性を有するポリビニル
ピロリドン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、Si変性
ポリビニルアルコール、メチルセルロース樹脂、ヒドロ
キシセルロース樹脂、シリコン樹脂、パラフィンワック
ス、アクリル変性シリコーン、ポリエチレンワックス、
エチレン酢酸ビニルなどの樹脂が挙げられ、他にポリジ
メチルシロキサンやその変性物、例えばポリエステル変
性シリコーン、アクリル変性シリコーン、ウレタン変性
シリコーン、アルキッド変性シリコーン、アミノ変性シ
リコーン、エポキシ変性シリコーン、ポリエーテル変性
シリコーン等のオイルや樹脂、またはこの硬化物、等が
挙げられる。他のフッ素系化合物としては、フッ素化オ
レフィン、パーフルオロ燐酸エステル系化合物が挙げら
れる。好ましいオレフィン系化合物としては、ポリエチ
レン、ポリプロピレン等の分散物、ポリエチレンイミン
オクタデシル等の長鎖アルキル系化合物等が挙げられ
る。これらの離型剤で溶解性の乏しいものは分散するな
どして用いることができる。
The support of the present invention may have irregularities if necessary. Examples of means for forming irregularities include kneading with a matting agent, sandblasting, hairline processing, matte coating, or chemical etching. In the case of matte coating, either an organic substance or an inorganic substance may be used. For example, as the inorganic substance, silica described in Swiss Patent No. 330,158, French Patent Nos. 1 and 2 are used.
Glass powder described in 96,995 etc., British Patent No. 1,1.
The alkaline earth metals or the carbonates such as cadmium and zinc described in No. 73,181 and the like can be used as a matting agent. Organic substances include US Pat. No. 2,322,0
Starch described in 37, Belgian Patent No. 625,451
No. 1 and British Patent No. 981,198 and the like, polyvinyl alcohol described in Japanese Patent Publication No. 44-3643 and the like, polystyrene or polymethacrylate described in Swiss Patent No. 330,158, US Patent No. Organic matting agents such as polyacrylonitrile described in US Pat. No. 3,079,257 and polycarbonate described in US Pat. No. 3,022,169 can be used. The method for applying the matting agent may be a method in which the matting agent is dispersed in the coating solution in advance and then applied, or a method in which the matting agent is sprayed after the application of the coating solution and before the completion of drying. When a plurality of types of matting agents are added, both methods may be used together. In the case of the uneven processing according to the present invention, it is possible to apply it to one or more of the transfer surface and the back surface. [Transfer foil release layer] As the release layer, a resin having a high glass transition temperature such as an acrylic resin, a polyvinyl acetal resin, a poly (vinyl butyral) resin, waxes, silicone oils, a fluorine compound, a polyvinylpyrrolidone resin having water solubility , Polyvinyl alcohol resin, Si modified polyvinyl alcohol, methyl cellulose resin, hydroxy cellulose resin, silicone resin, paraffin wax, acrylic modified silicone, polyethylene wax,
Resins such as ethylene vinyl acetate can be mentioned. In addition, polydimethylsiloxane and its modified products such as polyester modified silicone, acrylic modified silicone, urethane modified silicone, alkyd modified silicone, amino modified silicone, epoxy modified silicone, polyether modified silicone, etc. Oils and resins, or cured products thereof. Examples of other fluorine-based compounds include fluorinated olefins and perfluorophosphate ester-based compounds. Preferred olefin compounds include dispersions of polyethylene, polypropylene, etc., long-chain alkyl compounds such as polyethyleneimine octadecyl, etc. Of these release agents, those having poor solubility can be used by dispersing them.

【0176】転写箔を2枚転写する場合は熱可塑性エラ
ストマーを添加してもよい。熱可塑性エラストマーは具
体的にスチレン系(スチレン・ブロック・コポリマー
(SBC))、オレフィン系(TP)、ウレタン系(T
PU)、ポリエステル系(TPEE)、ポリアミド系
(TPAE)、1,2−ポリブタジエン系、塩ビ系(T
PVC)、フッ素系、アイオノマー樹脂、塩素化ポリエ
チレン、シリコーン系等が上げられ具体的には1996
年度版「12996の化学商品」(化学工業日報社)等
に記載されている。
When two transfer foils are transferred, a thermoplastic elastomer may be added. Specific examples of thermoplastic elastomers include styrene type (styrene block copolymer (SBC)), olefin type (TP), urethane type (T
PU), polyester type (TPEE), polyamide type (TPAE), 1,2-polybutadiene type, vinyl chloride type (T
PVC), fluorine-based, ionomer resin, chlorinated polyethylene, silicone-based, etc.
It is described in "12996 Chemical Products" (Chemical Industry Daily), etc., for the fiscal year.

【0177】この発明で好適に用いられる、ポリスチレ
ンとポリオレフィンのブロックポリマーからなる引っ張
り伸びが100%以上の熱可塑性エラストマーとは、ス
チレンおよび炭素数10以下の直鎖または分岐の飽和ア
ルキルのブロックからなる熱可塑性樹脂(以下熱可塑性
樹脂S1ともいう)を言う。特に、ポリスチレン相とポ
リオレフィンを水素添加した相をもつブロックポリマー
であるスチレン−ブタジエン−スチレン(SBS)、ス
チレン−イソプレン−スチレン(SIS)、スチレン−
エチレン/ブチレン−スチレン(SEBS)、スチレン
−エチレン/プロピレン−スチレン(SEPS)、スチ
レン−エチレン/プロピレン(SEP)のブロックポリ
マー等があげられる。
The thermoplastic elastomer having a tensile elongation of 100% or more, which is preferably used in the present invention and comprises a block polymer of polystyrene and polyolefin, comprises styrene and a linear or branched saturated alkyl block having 10 or less carbon atoms. It refers to a thermoplastic resin (hereinafter also referred to as a thermoplastic resin S1). In particular, styrene-butadiene-styrene (SBS), styrene-isoprene-styrene (SIS), styrene- which are block polymers having a polystyrene phase and a polyolefin hydrogenated phase.
Examples thereof include ethylene / butylene-styrene (SEBS), styrene-ethylene / propylene-styrene (SEPS), and styrene-ethylene / propylene (SEP) block polymers.

【0178】また、必要に応じて、この発明の離型層と
樹脂層或いは活性光線硬化層との間に熱硬化型樹脂層を
用いてもよい。具体的には、ポリエステル樹脂、アクリ
ル樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂、グアナミン樹
脂、ジアリルフタレート樹脂、フェノール樹脂、ポリイ
ミド樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、
ポリアミド樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。
If necessary, a thermosetting resin layer may be used between the release layer of the present invention and the resin layer or the actinic ray curable layer. Specifically, polyester resin, acrylic resin, epoxy resin, xylene resin, guanamine resin, diallyl phthalate resin, phenol resin, polyimide resin, maleic acid resin, melamine resin, urea resin,
Examples thereof include polyamide resin and urethane resin.

【0179】転写箔の透明樹脂層は、ポリビニルブチラ
ール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエ
ステル樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、スチレ
ン、パラメチルスチレン、メタクリル酸エステル、アク
リル酸エステル等のビニル単量体やセルロース系、熱可
塑性ポリエステル、天然樹脂等、他の任意の高分子重合
体を併用してもよい。また、その他、赤松清監修、「新
・感光性樹脂の実際技術」、(シーエムシー、1987
年)や「10188の化学商品」657〜767頁(化
学工業日報社、1988年)記載の業界公知の有機高分
子重合体を併用してもよい。
The transparent resin layer of the transfer foil is composed of polyvinyl butyral resin, polyurethane resin, polyamide resin, polyester resin, epoxy resin, novolac resin, styrene, paramethylstyrene, vinyl monomer such as methacrylic acid ester, acrylic acid ester and the like. Any other high-molecular polymer such as cellulose-based, thermoplastic polyester, and natural resin may be used in combination. Also, in addition, Kiyoshi Akamatsu supervised, "Practical technology of new photosensitive resin", (CMC, 1987)
Year) or “10188 chemical products” pp. 657-767 (Kagaku Kogyo Nippo Co., Ltd., 1988).

【0180】この発明においては、画像記録体上に保護
をする目的で光又は/熱硬化性層を転写箔で設けること
が好ましい。光又は/熱硬化性層とは前記記載の組成物
からなる材料であれば特に制限はない。透明樹脂層の厚
みは0.3〜50μmが好ましく、より好ましくは0.
3〜30μm、特に好ましくは0.3〜20μmであ
る。
In the present invention, it is preferable to provide a light or / thermosetting layer with a transfer foil for the purpose of protecting the image recording material. The light or / thermosetting layer is not particularly limited as long as it is a material composed of the composition described above. The thickness of the transparent resin layer is preferably 0.3 to 50 μm, more preferably 0.
It is 3 to 30 μm, particularly preferably 0.3 to 20 μm.

【0181】転写箔の中間層としては、中間層1層以上
の層から構成されることが好ましく場合によりプライマ
ー層、バリヤ層として介在しても層間の接着性をさらに
向上させてもよい。
The intermediate layer of the transfer foil is preferably composed of one or more intermediate layers. In some cases, it may be interposed as a primer layer or a barrier layer or the adhesion between the layers may be further improved.

【0182】例えば塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系
樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、
ポリビニルブチラール系樹脂、ポリビニルアルコール、
ポリカーボネート、セルロース系樹脂、スチレン系樹
脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、尿素系樹脂、エポ
キシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカプロラクトン樹脂、
ポリアクリロニトリル樹脂、SEBS樹脂、SEPS樹
脂、およびそれらの変性物などを用いることができる。
For example, vinyl chloride resin, polyester resin, acrylic resin, polyvinyl acetal resin,
Polyvinyl butyral resin, polyvinyl alcohol,
Polycarbonate, cellulose resin, styrene resin, urethane resin, amide resin, urea resin, epoxy resin, phenoxy resin, polycaprolactone resin,
Polyacrylonitrile resin, SEBS resin, SEPS resin, and modified products thereof can be used.

【0183】上述した樹脂の中でもこの発明の目的に好
ましいのは、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、
アクリル系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、スチレ
ン系樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン系樹脂、ウレタンア
クリレート樹脂、SEBS樹脂、SEPS樹脂である。
これらの樹脂は一種を単独に用いることもできるし、二
種以上を組み合わせて用いることもできる。
Of the above-mentioned resins, preferred for the purpose of this invention are vinyl chloride resins, polyester resins,
These are acrylic resins, polyvinyl butyral resins, styrene resins, epoxy resins, urethane resins, urethane acrylate resins, SEBS resins, and SEPS resins.
These resins may be used alone or in combination of two or more.

【0184】具体的な化合物としては、ポリスチレンと
ポリオレフィンのブロックポリマーからなる熱可塑性樹
脂、ポリビニルブチラール等が好ましい。この発明の中
間層において、重合度が1000以上のポリビニルブチ
ラール樹脂としては積水化学工業(株)製のエスレック
BH−3、BX−1、BX−2、BX−5、BX−5
5、BH−S、電気化学工業(株)製のデンカブチラー
ル#4000−2、#5000−A、#6000−EP
等が市販されている。中間層のポリブチラールの熱硬化
樹脂としては熱硬化前の重合度に限定はなく低重合度の
樹脂でもよく、熱硬化にはイソシアネート硬化剤やエポ
キシ硬化剤等を用いることができ、熱硬化条件は50〜
90℃で1〜24時間が好ましい。中間層の厚みは0.
1〜1.0μmが好ましい。 <熱接着性樹脂>転写箔の接着層としては、熱貼着性樹
脂としてエチレン酢酸ビニル樹脂、エチンエチルアクリ
レート樹脂、エチレンアクリル酸樹脂、アイオノマー樹
脂、ポリブタジエン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン
樹脂、ポリエステル樹脂、オレフィン樹脂、ウレタン樹
脂、粘着付与剤(例えばフェノール樹脂、ロジン樹脂、
テルペン樹脂、石油樹脂など)などが挙げられそれらの
共重合体や混合物でもよい。
As a concrete compound, a thermoplastic resin composed of a block polymer of polystyrene and polyolefin, polyvinyl butyral and the like are preferable. In the intermediate layer of the present invention, as a polyvinyl butyral resin having a degree of polymerization of 1000 or more, SLECH BH-3, BX-1, BX-2, BX-5, BX-5 manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.
5, BH-S, Denka Butyral # 4000-2, # 5000-A, # 6000-EP manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.
Etc. are commercially available. The thermosetting resin of polybutyral of the intermediate layer is not limited to the degree of polymerization before thermosetting and may be a resin having a low degree of polymerization, and an isocyanate curing agent or an epoxy curing agent can be used for thermosetting, and the thermosetting conditions Is 50 ~
90 ° C. for 1 to 24 hours is preferable. The thickness of the intermediate layer is 0.
1 to 1.0 μm is preferable. <Thermal Adhesive Resin> As the adhesive layer of the transfer foil, ethylene vinyl acetate resin, ethyne ethyl acrylate resin, ethylene acrylic acid resin, ionomer resin, polybutadiene resin, acrylic resin, polystyrene resin, polyester resin, Olefin resin, urethane resin, tackifier (eg phenol resin, rosin resin,
Terpene resin, petroleum resin, etc., and copolymers or mixtures thereof may be used.

【0185】具体的には、ウレタン変性エチレンエチル
アクリレート共重合体としては東邦化学工業(株)製の
ハイテックS−6254、S−6254B、S−312
9等が市販され、ポリアクリル酸エステル共重合体とし
ては日本純薬(株)製のジュリマーAT−210、AT
−510、AT−613、互応化学工業(株)製のプラ
スサイズL−201、SR−102、SR−103、J
−4等が市販されている。ウレタン変性エチレンエチル
アクリレート共重合体とポリアクリル酸エステル共重合
体の重量比は9:1から2:8が好ましく、接着層の厚
みは0.1〜1.0μmが好ましい。
Specifically, the urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer is Hitec S-6254, S-6254B, S-312 manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.
9 and the like are commercially available, and as the polyacrylic acid ester copolymer, Jurimer AT-210 and AT manufactured by Nippon Pure Chemical Industries, Ltd.
-510, AT-613, plus size L-201, SR-102, SR-103, J manufactured by Mutsoh Chemical Co., Ltd.
-4 and the like are commercially available. The weight ratio of the urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer and the polyacrylic acid ester copolymer is preferably 9: 1 to 2: 8, and the thickness of the adhesive layer is preferably 0.1 to 1.0 μm.

【0186】場合により偽変造防止の目的で光学変化素
子層転写層設けることが可能である。光学変化素子(O
ptical Variable Device:OV
D)とは、1)キネグラムのような回析格子の2次元の
CG画像であり、線画像構成の画像が移動、回転、膨
張、縮小等自由に動き変化する点に特徴があるもの、
2)Pixelgramのような画像がポジとネガに変
化する特徴があるようなもの、3)OSD(Optic
al Security Device)のような色が
金色から緑色に変化するもの、4)LEAD(Long
LastingEconomical Antico
py Device)のような像画が変化して見えるも
の、5)ストライブ型OVD、6)金属箔等を表し、日
本印刷学会誌(1998年)第35巻第6号P482〜
P496記載に有るような用紙の素材、特殊な印刷技
法、特殊インキ等でセキュリティを維持してもよい。こ
の発明においては、ホログラムがとくに好ましい。
In some cases, an optical change element layer transfer layer can be provided for the purpose of preventing forgery / alteration. Optical change element (O
optical Variable Device: OV
D) is 1) a two-dimensional CG image of a diffraction grating such as a kinegram, which is characterized in that the image of a line image structure freely moves and changes such as movement, rotation, expansion, and reduction.
2) Something like Pixelgram, which has the feature that the image changes to positive and negative, 3) OSD (Optic)
A color that changes from gold to green, such as al Security Device, 4) LEAD (Long)
Lasting Economical Antico
py Device), in which the image image appears to change, 5) a stripe type OVD, 6) a metal foil, etc., Journal of the Printing Society of Japan (1998), Vol. 35, No. 6, P482-
Security may be maintained by using a paper material, a special printing technique, a special ink, etc. as described in P496. Holograms are particularly preferred in this invention.

【0187】この発明で用いるホログラムは、レリーフ
ホログラム、フレネルホログラム、フラウンホーファー
ホログラム、レンズレスフーリエ変換ホログラム、イメ
ージホログラム等のレーザー再生ホログラム、リップマ
ンホログラム、レインボーホログラム等の白色再生ホロ
グラム、カラーホログラム、コンピュータホログラム、
ホログラムディスプレイ、マルチフレックスホログラ
ム、ホログラムフレックステレオグラム、ホログラフィ
ック回折格子等任意に採用できる。
The hologram used in the present invention is a relief hologram, Fresnel hologram, Fraunhofer hologram, lensless Fourier transform hologram, laser reproduction hologram such as image hologram, white reproduction hologram such as Lippmann hologram, rainbow hologram, color hologram, computer hologram. ,
A hologram display, a multi-flex hologram, a hologram flex stereogram, a holographic diffraction grating, etc. can be arbitrarily adopted.

【0188】光学変化素子層は、例えばホログラムシー
トを受像層上に接着することによって形成することがで
きる。ホログラムシートとしては、レリーフ型ホログラ
ムシートを使用することができる。レリーフ型ホログラ
ムシートは、支持体フィルム上にホログラム形成層とホ
ログラム硬化層とをこの順に積層してなる。具体的に言
うと、ホログラムシートは、例えばポリエチレンテフタ
レートフィルム等の支持体フィルムの表面に、常温で固
体であり、しかも熱形成性を有する樹脂層、例えば常温
で固体の熱可塑成性の電子線硬化性樹脂層(ホログラム
形成層)を形成し、この面にホログラムの干渉模様が凹
凸状に形成されているホログラム原版を加圧圧縮させ
て、凹凸形状を樹脂表面に転写し、硬化し、さらに凹凸
形状の表面に十分な透明性とある角度での大きな反射性
を兼ね備え、かつホログラム形成層と屈折率が異なる材
料(たとえばTiO2 、SiO2、ZnSの蒸着膜)
からなる薄膜のホログラム硬化層を形成することによっ
て得ることができる。昼光、照明光等の白色光で像が再
生されるホログラムは、通常の状態でもホログラム像が
観察されるので、装飾性にも優れている。一方、レーザ
ー光によって像が再生されるタイプのものは、改ざんの
発見性に優れている。
The optically variable element layer can be formed, for example, by bonding a hologram sheet on the image receiving layer. A relief type hologram sheet can be used as the hologram sheet. The relief type hologram sheet is formed by stacking a hologram forming layer and a hologram curing layer on a support film in this order. Specifically, a hologram sheet is a resin layer that is solid at room temperature and has thermoformability on the surface of a support film such as a polyethylene terephthalate film, for example, a thermoplastic electron that is solid at room temperature. A line-curable resin layer (hologram forming layer) is formed, and a hologram master plate on which a hologram interference pattern is formed in an uneven shape is pressed and compressed, the uneven shape is transferred to a resin surface, and cured, Furthermore, a material having sufficient transparency on the uneven surface and large reflectivity at a certain angle and having a refractive index different from that of the hologram forming layer (for example, a vapor-deposited film of TiO 2, SiO 2, ZnS).
It can be obtained by forming a holographic cured layer of a thin film. A hologram whose image is reproduced by white light such as daylight or illumination light is also excellent in decorativeness because the hologram image can be observed even in a normal state. On the other hand, the type in which an image is reproduced by laser light is excellent in tampering detectability.

【0189】また、この発明では、ビーズ保有層を設け
ることができ、この発明にかかるビーズを有するビーズ
保有層は、人射光の一部に位相差を付与して再合成し、
特定波長領域の光成分を干渉により強調し入射光とは異
なる色調の着色光を入射光進入方向へ帰還させ、反射基
板と、基板上に整列配置された透明なビーズとを有す
る。ビーズを有するビーズ保有層は、反射基板上に樹脂
層を設け、更にその表層側にガラス等よりなるビーズ径
が10〜60μm、好ましくは15〜40μmのビーズ
を多数整列配置して構成され、ビーズの光屈折率は1.
6〜2.1が好ましく、1.7〜2.0が更に好まし
い。外方より入射した入射光は、ビーズ内に進行し、少
なくともその一部は透明なビーズより樹脂層を介して反
射基板に反射され、再度ビーズに帰還し、外方へ進行す
る。ビーズの外方へ突出している面は球面であるので、
人射角の多少の変動があっても同様な作用を生じ、入射
方向へ反射光を帰還させることができる。
Further, according to the present invention, a bead-holding layer can be provided, and the bead-holding layer having the beads according to the present invention is recombined by imparting a phase difference to a part of human incident light,
It has a reflective substrate and transparent beads arranged on the substrate to enhance light components in a specific wavelength region by interference and to return colored light having a color tone different from that of the incident light in the incident light entering direction. The bead-holding layer having beads is formed by disposing a resin layer on a reflective substrate, and further arranging a large number of beads having a bead diameter of 10 to 60 μm, preferably 15 to 40 μm, which are made of glass or the like, on the surface side thereof. The optical refractive index of is 1.
6-2.1 are preferable and 1.7-2.0 are more preferable. The incident light entering from the outside travels into the beads, at least a part of which is reflected from the transparent beads through the resin layer to the reflective substrate, returns to the beads again, and travels to the outside. Since the surface of the beads protruding outward is a spherical surface,
Even if there is a slight change in the angle of incidence of the person, the same effect is produced, and the reflected light can be returned in the incident direction.

【0190】次に、この発明では、反射性層を設けるこ
とができ、この発明の反射性層は、反射性層としては、
少なくとも金属薄膜、金属酸化物薄膜、光干渉性物質及
び光回折層から選ばれる。反射性層は干渉性物質、金属
酸化物、雲母等干渉色を発現できる粉末を含有する塗料
を任意の紋様に印刷することで設けることが好ましい。
Next, in the present invention, a reflective layer can be provided, and the reflective layer of the present invention can be used as the reflective layer.
It is selected from at least a metal thin film, a metal oxide thin film, a light interference material and a light diffraction layer. The reflective layer is preferably provided by printing a paint containing a powder capable of expressing an interference color such as an interfering substance, a metal oxide, or mica in an arbitrary pattern.

【0191】金属酸化物としては二酸化チタン、酸化
鉄、低次酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化珪素、酸
化アルミニウム、酸化コバルト、酸化ニッケル、チタン
酸コバルトなど、及びLi2CoTi3O8あるいはK
NiTiOxなどの複合酸化物、あるいはこれらの金属
酸化物の混合物などが挙げられるが、干渉色を発現でき
る金属酸化物であれば、特にこれらに限定されるもので
はない。干渉物質層としては、金属膜の表面を酸化する
ことによって得られる干渉色を持った金属膜を用いるこ
とができる。これらの金属膜は、金属アルミニウム、金
属チタン、ステンレス膜などを陽極酸化する方法や、干
渉色を発現できる金属酸化物をゾルーゲル法によって調
製し、これをコートする方法あるいは干渉色を発現でき
る金属のアルコキシドを金属膜に塗布してこれを加熱分
解する方法、及びCVDやPVDのような蒸着操作法な
どが拳げられる。 [画像記録体上への転写箔付与方法]転写箔の被転写材
への転写は通常サーマルヘッド、ヒートローラー、ホッ
トスタンプマシンなどの加熱しながら加圧を行える手段
を用い転写を行う。
Examples of metal oxides include titanium dioxide, iron oxide, low-order titanium oxide, zirconium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, cobalt oxide, nickel oxide, cobalt titanate, and Li2CoTi3O8 or K.
Examples thereof include composite oxides such as NiTiOx, and mixtures of these metal oxides, but the metal oxides are not particularly limited as long as they are metal oxides capable of exhibiting an interference color. As the interference material layer, a metal film having an interference color obtained by oxidizing the surface of the metal film can be used. These metal films include a method of anodizing metal aluminum, metal titanium, a stainless steel film, etc., or a method of preparing a metal oxide capable of expressing an interference color by a sol-gel method and coating it or a metal capable of expressing an interference color. A method of applying an alkoxide to a metal film and thermally decomposing it, a vapor deposition operation method such as CVD or PVD, and the like can be used. [Method of Applying Transfer Foil on Image Recording Body] Transfer of the transfer foil to the material to be transferred is usually performed by a means such as a thermal head, a heat roller, a hot stamping machine or the like that can apply pressure while heating.

【0192】以下、図面を参照しながら、この発明の実
施形態としての画像記録体、その製造装置及びその製造
方法について説明する。
An image recording body, a manufacturing apparatus therefor and a manufacturing method therefor according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0193】尚、この発明におけるICカード基材の厚
さは特に制限はないが、好ましくは100μm〜120
0μmが好ましく、より好ましくは200μm〜100
0μmであり、更に好ましくは200μm〜900μm
である。ICカード基材より作成されたICカードの厚
さは特に制限はないが、好ましくは200μm〜150
0μmが好ましく、より好ましくは250μm〜120
0μmであり、更に好ましくは300μm〜1000μ
mである。 <ICカード基材及びICカードの作成方法>図12は
表シートの第1実施の形態を示し、図12(a)は表シ
ートの断面図、図12(b)は表シートの表面図、図1
2(c)は表シートを用いたICカードの構成を示す斜
視図である。表シートのカード基材は、図12(a)に
示すように、基材に、クッション層、受像層、情報坦持
体層、透明樹脂層が順に積層され、受像層に画像が形成
される。情報坦持体層は、図12(b)に示すように、
従業員証、氏名を表し、それらの集合体からなる図22
(a)のICカード基材作成シートを用い図12(c)
に示すようなICカードが作成される。
The thickness of the IC card base material in the present invention is not particularly limited, but is preferably 100 μm to 120 μm.
0 μm is preferable, and more preferably 200 μm to 100
0 μm, more preferably 200 μm to 900 μm
Is. The thickness of the IC card prepared from the IC card base material is not particularly limited, but is preferably 200 μm to 150 μm.
0 μm is preferable, and more preferably 250 μm to 120 μm.
0 μm, more preferably 300 μm to 1000 μm
m. <IC Card Base Material and Method of Making IC Card> FIG. 12 shows a first embodiment of a front sheet, FIG. 12 (a) is a sectional view of the front sheet, and FIG. 12 (b) is a front view of the front sheet. Figure 1
2C is a perspective view showing the configuration of an IC card using a front sheet. As shown in FIG. 12A, the card base material of the front sheet has a cushion layer, an image receiving layer, an information carrier layer, and a transparent resin layer laminated in this order on the base material, and an image is formed on the image receiving layer. . The information carrier layer is, as shown in FIG.
FIG. 22 shows an employee ID and a name, which is an aggregate of them.
Using the IC card substrate preparation sheet of (a), FIG. 12 (c)
An IC card as shown in is created.

【0194】図13は表シートの第2実施の形態を示
し、図13(a)は表シートの断面図、図13(b)は
表シートの表面図、図13(c)は表シートを用いたI
Cカードの構成を示す斜視図である。表シートのカード
基材は、図13(a)に示すように、基材の上に透かし
印刷を設け、この基材に、クッション層、受像層、情報
坦持体層、透明樹脂層が順に積層され、受像層に画像が
形成される。情報坦持体層には、鱗片顔料層が4層積層
され、さらに透明樹脂層が積層される。情報坦持体層
は、図13(b)に示すように、従業員証、氏名を表
し、それらの集合体からなる図22(a)のICカード
基材作成シートを用い図13(c)に示すようなICカ
ードが作成される。
FIG. 13 shows a second embodiment of the front sheet. FIG. 13 (a) is a sectional view of the front sheet, FIG. 13 (b) is a front view of the front sheet, and FIG. 13 (c) is the front sheet. Used I
It is a perspective view which shows the structure of a C card. As shown in FIG. 13A, the card base material of the front sheet is provided with watermark printing on the base material, and the cushion layer, the image receiving layer, the information carrier layer, and the transparent resin layer are sequentially provided on the base material. An image is formed on the image receiving layer by laminating. Four scale pigment layers are laminated on the information carrier layer, and a transparent resin layer is further laminated thereon. As shown in FIG. 13 (b), the information carrier layer represents an employee ID card and a name, and the IC card base material making sheet of FIG. An IC card as shown in is created.

【0195】図14は表シートの第3実施の形態を示
し、図14(a)は表シートの断面図、図14(b)は
表シートの表面図、図14(c)は表シートを用いたI
Cカードの構成を示す斜視図である。表シートのカード
基材は、図14(a)に示すように、基材の上に透かし
印刷を設け、この基材に、クッション層、受像層、情報
坦持体層、透明樹脂層が順に積層され、受像層に画像が
形成される。情報坦持体層には、鱗片顔料層が3層積層
される。情報坦持体層は、図14(b)に示すように、
従業員証、氏名を表し、それらの集合体からなる図22
(a)のICカード基材作成シートを用い図14(c)
に示すようなICカードが作成される。
FIG. 14 shows a third embodiment of the front sheet. FIG. 14 (a) is a sectional view of the front sheet, FIG. 14 (b) is a front view of the front sheet, and FIG. 14 (c) is the front sheet. Used I
It is a perspective view which shows the structure of a C card. As shown in FIG. 14A, the card base material of the front sheet is provided with watermark printing on the base material, and the cushion layer, the image receiving layer, the information carrier layer, and the transparent resin layer are sequentially provided on the base material. An image is formed on the image receiving layer by laminating. Three scale pigment layers are laminated on the information carrier layer. The information carrier layer is, as shown in FIG.
FIG. 22 shows an employee ID and a name, which is an aggregate of them.
FIG. 14C using the IC card substrate preparation sheet of FIG.
An IC card as shown in is created.

【0196】図15は裏シートの第1実施の形態を示
し、図15(a)は裏シートの断面図、図15(b)は
裏シートの表面図である。裏シートのカード基材は、図
15(a)に示すように、基材に、備考層、情報坦持体
層が順に積層される。備考層上の情報坦持体には、図1
5(b)に示すように、罫線、発行者、発行者氏名、追
記事項を表し、それらの集合体からなる図22(b)の
ICカード基材作成シートを用いICカードが作成され
る。
FIG. 15 shows the first embodiment of the back sheet, FIG. 15 (a) is a sectional view of the back sheet, and FIG. 15 (b) is a front view of the back sheet. As shown in FIG. 15A, the card base material of the back sheet has a remark layer and an information carrier layer sequentially laminated on the base material. The information carrier on the remarks layer is shown in Figure 1.
As shown in FIG. 5 (b), an IC card is created by using the IC card base material making sheet of FIG. 22 (b), which shows ruled lines, the issuer, the name of the issuer, and the additional items, and is composed of these.

【0197】図16は裏シートの第2実施の形態を示
し、図16(a)は裏シートの断面図、図16(b)は
裏シートの表面図である。裏シートのカード基材は、図
16(a)に示すように、基材の上に透かし印刷を設
け、この基材に、備考層、情報坦持体層が順に積層され
る。備考層上の情報坦持体には、図16(b)に示すよ
うに、罫線、発行者、発行者氏名、追記事項を表し、そ
れらの集合体からなる図22(b)のICカード基材作
成シートを用いICカードが作成される。
FIG. 16 shows a second embodiment of the back sheet, FIG. 16 (a) is a sectional view of the back sheet, and FIG. 16 (b) is a front view of the back sheet. As shown in FIG. 16A, the card base material of the back sheet is provided with watermark printing on the base material, and the remark layer and the information carrier layer are sequentially laminated on the base material. As shown in FIG. 16 (b), the information carrier on the remarks layer shows a ruled line, an issuer, an issuer's name, and an additional item, and the IC card base of FIG. An IC card is created using the material creation sheet.

【0198】図17は透かし模様を示す図である。この
透かし模様は、図13及び図14の表シートの基材の上
に透かし印刷して設けられ、また図16の裏シートの基
材の上に透かし印刷して設けられる。
FIG. 17 is a diagram showing a watermark pattern. This watermark pattern is provided by watermark printing on the base material of the front sheet of FIGS. 13 and 14, and is also provided by watermark printing on the base material of the back sheet of FIG.

【0199】次に、図18及び図19は、第1のシート
部材である裏シート及び第2のシート部材である表シー
トを用いて作成するICカード用材料を示す。図18は
ICカード用材料のICモジュールの模式図であり、銅
線を5回巻いたアンテナコイルのアンテナ体3aにIC
チップ3bが接合され、電子部品3のICモジュールで
ある。このICモジュールはこの発明の固定層として用
いることは可能であるが好ましくは、ICチップ3bの
位置精度から図19に示すように使用することが好まし
い。
Next, FIGS. 18 and 19 show an IC card material prepared using a back sheet as the first sheet member and a front sheet as the second sheet member. FIG. 18 is a schematic view of an IC module made of a material for an IC card, in which an IC is mounted on an antenna body 3a of an antenna coil formed by winding a copper wire 5 times.
The chip 3b is joined to the IC module of the electronic component 3. This IC module can be used as the fixing layer of the present invention, but is preferably used as shown in FIG. 19 in view of the positional accuracy of the IC chip 3b.

【0200】図19はICモジュールと固定層のインレ
ットの模式図である。図19(a)は不織布タイプであ
り、プリントパターンが形成された不織布3cとICチ
ップ3bがボンディング等で接合され、ICチップ3b
にはICチップ補強板3dが上下にICチップ3bを5
0%以上覆うようにして介在している模式図である。日
立マクセル株式会社製ICカードシート「FTシリー
ズ」も使用することも可能である。
FIG. 19 is a schematic view of the inlet of the IC module and the fixed layer. FIG. 19A shows a non-woven fabric type, in which the non-woven fabric 3c on which the print pattern is formed and the IC chip 3b are joined by bonding or the like.
The IC chip reinforcing plate 3d is placed on the upper and lower sides of the IC chip 3b.
It is a schematic diagram which interposes so as to cover 0% or more. It is also possible to use the IC card sheet "FT series" manufactured by Hitachi Maxell, Ltd.

【0201】図19(b)はプリント基板タイプであ
り、プリントパターンが形成されたプリント基板3eと
ICチップ3bがボンディング等で接合され、ICチッ
プ3bにはICチップ補強板3dが上下にICチップ3
bを50%以上覆うようにして介在している模式図であ
る。図19(a)のような不織布シート即ち多孔質状の
樹脂シートを使用すると、加熱貼合時の接着剤の含浸性
が良くなって部材間の接着性が優位になる。
FIG. 19B shows a printed circuit board type in which a printed circuit board 3e having a printed pattern and an IC chip 3b are joined by bonding or the like, and an IC chip reinforcing plate 3d is vertically attached to the IC chip 3b. Three
It is a schematic diagram which interposes so that b may be covered 50% or more. When a non-woven fabric sheet as shown in FIG. 19A, that is, a porous resin sheet is used, the impregnation property of the adhesive at the time of heating and laminating becomes good, and the adhesive property between the members becomes superior.

【0202】続いて、実施形態としてのICカード基材
作成装置について説明をする。
Next, an IC card base material producing apparatus as an embodiment will be described.

【0203】図20はICカード基材作成装置を示す概
略構成図である。このICカード基材作成装置は、長尺
シート状で厚さ100μmの第1のシート部材(裏シー
ト)1が第1のシート部材供給部Aに配備され、長尺シ
ート状で厚さ100μmの第2のシート部材(表シー
ト)2が第2のシート部材供給部Bに配備される。第2
のシート部材2に接着剤供給部Cから接着剤を供給し、
厚さ250μmの図19(a)または図19(b)に示
すICカード用材料をIC固定部材供給部Dから第2の
シート部材2に配置する。第1のシート部材1に接着剤
供給部Eから接着剤を供給し、この第1のシート部材1
は加圧加熱部Fに送られる。
FIG. 20 is a schematic block diagram showing an IC card base material producing apparatus. In this IC card substrate producing apparatus, a long sheet-shaped first sheet member (back sheet) 1 having a thickness of 100 μm is provided in a first sheet member supply section A, and a long sheet-shaped sheet having a thickness of 100 μm is formed. The second sheet member (front sheet) 2 is arranged in the second sheet member supply section B. Second
The adhesive is supplied from the adhesive supply section C to the sheet member 2 of
The IC card material having a thickness of 250 μm shown in FIG. 19A or FIG. 19B is placed on the second sheet member 2 from the IC fixing member supply section D. An adhesive is supplied to the first sheet member 1 from the adhesive supply section E, and the first sheet member 1
Is sent to the pressure heating section F.

【0204】第2のシート部材2は、第2のシート部材
搬送部Gにより加圧加熱部Fに送られる。加圧加熱部F
では、加熱又は加圧ロール(圧力3kg/cm2)によ
り第1のシート部材1と第2のシート部材2との間にI
Cカード用材料を挟んで貼り合わされ、ICカード基材
原版が作成される。このICカード基材原版は、ICカ
ード基材搬送部Hで接着剤の硬化、支持体との密着性が
十分に行われてから化粧断裁することが好ましい。作成
されたICカード基材原版はローターリカッターにより
55mm×85mmサイズのICカード基材を得ること
ができた。
The second sheet member 2 is sent to the pressure heating section F by the second sheet member transport section G. Pressure heating part F
Then, by a heating or pressurizing roll (pressure 3 kg / cm 2 ) between the first sheet member 1 and the second sheet member I
The C card material is sandwiched and stuck together to produce an IC card base plate. It is preferable that the IC card base material original plate is subjected to makeup cutting after the adhesive is sufficiently cured in the IC card base material transporting section H and the adhesion with the support is sufficiently performed. An IC card base material of 55 mm × 85 mm size could be obtained from the produced IC card base material original plate by a rotary cutter.

【0205】図21はICカード基材作成装置を示す他
の実施の形態の概略構成図である。このICカード基材
作成装置は、長尺シート状で厚さ100μmの第1のシ
ート部材(裏シート)1が第1のシート部材供給部Aに
配備され、長尺シート状で厚さ100μmの第2のシー
ト部材(表シート)2が第2のシート部材供給部Bに配
備される。第2のシート部材2に接着剤供給部Cから接
着剤を供給し、厚さ250μmの図19(a)または図
19(b)に示すICカード用材料をIC固定部材供給
部Dから第2のシート部材2に配置する。第1のシート
部材1に接着剤供給部Eから接着剤を供給し、この第1
のシート部材1は加圧加熱部Fに送られる。
FIG. 21 is a schematic configuration diagram of another embodiment showing an IC card base material producing apparatus. In this IC card substrate producing apparatus, a long sheet-shaped first sheet member (back sheet) 1 having a thickness of 100 μm is provided in a first sheet member supply section A, and a long sheet-shaped sheet having a thickness of 100 μm is formed. The second sheet member (front sheet) 2 is arranged in the second sheet member supply section B. The adhesive is supplied to the second sheet member 2 from the adhesive supply section C, and the IC card material having a thickness of 250 μm shown in FIG. 19A or FIG. The sheet member 2 of FIG. An adhesive is supplied to the first sheet member 1 from the adhesive supply section E, and
The sheet member 1 is sent to the pressure heating unit F.

【0206】接着剤供給部C及び接着剤供給部Eには、
第1液供給部と第2液供給部から供給される第1液及び
第2液を混合部で攪拌混合し、脱泡部で気泡を除去した
接着剤が供給される。
The adhesive supply section C and the adhesive supply section E are
The first liquid and the second liquid supplied from the first liquid supply unit and the second liquid supply unit are agitated and mixed in the mixing unit, and the defoaming unit removes air bubbles to supply the adhesive.

【0207】第2のシート部材2は、第2のシート部材
搬送部Gにより加圧加熱部Fに送られる。加圧加熱部F
では、加熱又は加圧ロール(圧力3kg/cm2)によ
り第1のシート部材1と第2のシート部材2との間にI
Cカード用材料を挟んで貼り合わされ、ICカード基材
原版が作成される。このICカード基材原版は、ICカ
ード基材搬送部Hで接着剤の硬化、支持体との密着性が
十分に行われてから化粧断裁することが好ましい。作成
されたICカード基材原版はローターリカッターにより
55mm×85mmサイズのICカード基材を得ること
ができた。
The second sheet member 2 is sent to the pressurizing and heating section F by the second sheet member conveying section G. Pressure heating part F
Then, by a heating or pressurizing roll (pressure 3 kg / cm 2 ) between the first sheet member 1 and the second sheet member I
The C card material is sandwiched and stuck together to produce an IC card base plate. It is preferable that the IC card base material original plate is subjected to makeup cutting after the adhesive is sufficiently cured in the IC card base material transporting section H and the adhesion with the support is sufficiently performed. An IC card base material of 55 mm × 85 mm size could be obtained from the produced IC card base material original plate by a rotary cutter.

【0208】図22は、図20及び図21に示すICカ
ード基材作成装置に使用する表シートまたは裏シートの
斜視図である。
FIG. 22 is a perspective view of a front sheet or a back sheet used in the IC card base material producing apparatus shown in FIGS. 20 and 21.

【0209】図23及び図24は仕上がったICカード
基材の断面図である。図23は第2のシート部材2上に
接着層6、インレット4、接着層5、第1のシート部材
1から順になるICカードである。図24は第2のシー
ト部材2上に平板状粒子入り接着層6、インレット4、
平板状粒子入り接着層5、第1のシート部材1から順に
なるICカードを示した。
23 and 24 are sectional views of the finished IC card substrate. FIG. 23 shows an IC card in which the adhesive layer 6, the inlet 4, the adhesive layer 5, and the first sheet member 1 are sequentially arranged on the second sheet member 2. FIG. 24 shows an adhesive layer 6 containing flat particles, an inlet 4, and a second sheet member 2 on the second sheet member 2.
An IC card in which the adhesive layer 5 containing tabular particles and the first sheet member 1 are sequentially arranged is shown.

【0210】[実施例]以下、実施例を挙げてこの発明
を詳細に説明するが、この発明の態様はこれに限定され
ない。尚、以下において「部」は「重量部」を示す。 (支持体) 支持体1 表シート及び裏シートとして帝人デュポンフィルム株式
会社製のU2L98Wの厚さ100μm白色支持体を使
用した。(熱収縮率150℃/30minで縦(MD)
で0.35%、横(TD)で−0.05%) 支持体2 表シート及び裏シートとして東レ株式会社製のE20の
厚さ75μm白色支持体を使用した。(熱収縮率150
℃/30minで縦(MD)で1.3%、横(TD)で
0.3%) <第1シート部材(裏シート1)の作成>以下、実施例
を挙げてこの発明を詳細に説明するが、この発明の態様
はこれに限定されない。尚、以下において「部」は「重
量部」を示す。 (筆記層の作成)前記支持体1の裏シート100μmに
下記組成の第1筆記層形成用塗工液、第2筆記層形成用
塗工液及び第3筆記層形成用塗工液をこの順に塗布乾燥
して、それぞれの厚みが5μm、15μm、0.2μm
になるように積層することにより筆記層を形成した。 〈第1筆記層形成用塗工液〉 ポリエステル樹脂〔東洋紡績(株)製:バイロン200〕 8部 イソシアネート 1部 〔日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートHX〕 カーボンブラック 微量 二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部 メチルエチルケトン 80部 酢酸ブチル 10部 〈第2筆記層形成用塗工液〉 ポリエステル樹脂 4部 〔東洋紡績(株)製:バイロナールMD1200〕 シリカ 5部 二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部 水 90部 〈第3筆記層形成用塗工液〉 ポリアミド樹脂〔三和化学工業(株)製:サンマイド55〕 5部 メタノール 95部 得られた筆記層の中心線平均粗さは1.34μmであっ
た。 (筆記層へのフォーマット印刷層からなる情報担持体層
の形成)オフセット印刷法により、フォーマット印刷
(罫線、発行者名、発行者電話番号)を行った。印刷イ
ンキはUV墨インキを用いた。印刷時のUV照射条件
は、高圧水銀灯で200mj相当であった。 <第1シート部材(裏シート2)の作成>以下、実施例
を挙げてこの発明を詳細に説明するが、この発明の態様
はこれに限定されない。尚、以下において「部」は「重
量部」を示す。 (筆記層の作成)前記支持体1の裏シート100μmに
上記組成の第1筆記層形成用塗工液、第2筆記層形成用
塗工液及び第3筆記層形成用塗工液をこの順に塗布乾燥
して、それぞれの厚みが5μm、15μm、0.2μm
になるように積層することにより筆記層を形成した。 (筆記層へのフォーマット印刷層からなる情報担持体層
の形成)オフセット印刷法により、フォーマット印刷
(罫線、発行者名、発行者電話番号)を行った。印刷イ
ンキはUV墨インキを用いた。印刷時のUV照射条件
は、高圧水銀灯で200mj相当であった。 (透かし印刷の作成)グラビア印刷法により、透かし印
刷を行った。印刷紋様は図21の透かし紋様図のように
した。印刷インキは白色顔料入り油性インキにより印刷
を行った。膜厚は2.0μmであった。 <第1のシート部材(裏シート3)の作成(比較例)>
前記裏シート1記載の支持体を支持体2に変更した以外
は裏シート1作成と同じである。 <第2のシート部材(表シート)の作成> (表シート1の作成)前記支持体1の表シート100μ
mに下記組成物からなるクッション層、受像層、情報坦
持体層、透明樹脂層を順次塗工乾燥してなる第2のシー
ト部材(表シート1)を形成した。 (光硬化型クッション層) 膜厚10μm ウレタンアクリレートオリゴマー(新中村化学社製:NKオリゴUA512) 55部 ポリエステルアクリレート(東亞合成社製:アロニックスM6200) 15部 ウレタンアクリレートオリゴマー(新中村化学社製:NKオリゴUA4000) 25部 ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティー・ケミカル ズ:イルガキュア184) 5部 メチルエチルケトン 100部 塗布後の活性光線硬化性化合物は、90℃/30sec
で乾燥を行い、次いで水銀灯(300mJ/cm2)で
光硬化を行った。 (受像層)上記クッション層上に下記組成の第1受像層
形成用塗工液、第2受像層形成用塗工液をこの順に塗布
乾燥して、それぞれの厚みが2.5μm、0.5μmに
なるように積層することにより受像層を形成した。 〈第1受像層形成用塗工液〉 ポリビニルブチラール樹脂 6部 〔積水化学工業(株)製:エスレックBX−1〕 金属イオン含有化合物(化合物MS) 4部 メチルエチルケトン 80部 酢酸ブチル 10部 〈第2受像層形成用塗工液〉 ポリエチレンワックス 2部 〔東邦化学工業(株)製:ハイテックE1000〕 ウレタン変性エチレンアクリル酸共重合体 8部 〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254〕 メチルセルロース〔信越化学工業(株)製:SM15〕 0.1部 水 90部 (フォーマット印刷層からなる情報坦持体形成)該受像
層上にオフセット印刷法により、フォーマット印刷(従
業員証、氏名)を行った。印刷インキはUV墨インキを
用いた。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200
mj相当であった。 (透明樹脂層形成)下記組成物からなる印刷インキを用
いロールミルにより混合し、印刷インキを作成した。オ
フセット印刷法により受像層上に印刷を行った。印刷時
のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であっ
た。 (透明樹脂層組成物1) ウレタンアクリレートオリゴマー 50部 脂肪族ポリエステルアクリレートオリゴマー 35部 ダイロキュア1173(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製) 5部 トリメチロールプロパンアクリレート 10部 (表シート2の作成)前記支持体の表シート100μm
に下記組成物からなるクッション層、受像層、情報坦持
体層、透明樹脂層、燐片顔料層を順次塗工乾燥してなる
第2シート部材(表シート2)を形成した。 (クッション層)ポリプロピレン(PP)を200℃で
熱溶融し、支持体上に20μmになるようにクッション
層を設けた。 (受像層)上記クッション層上に下記組成の第1受像層
形成用塗工液、第2受像層形成用塗工液及び第3受像層
形成用塗工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚み
が0.2μm、2.5μm、0.5μmになるように積
層することにより受像層を形成した。 〈第1受像層形成用塗工液〉 ポリビニルブチラール樹脂 9部 〔積水化学工業(株)製:エスレックBL−1〕 イソシアネート 1部 〔日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートHX〕 メチルエチルケトン 80部 酢酸ブチル 10部 〈第2受像層形成用塗工液〉 ポリビニルブチラール樹脂 6部 〔積水化学工業(株)製:エスレックBX−1〕 金属イオン含有化合物(化合物MS) 4部 メチルエチルケトン 80部 酢酸ブチル 10部 〈第3受像層形成用塗工液〉 ポリエチレンワックス 2部 〔東邦化学工業(株)製:ハイテックE1000〕 ウレタン変性エチレンアクリル酸共重合体 8部 〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254〕 メチルセルロース〔信越化学工業(株)製:SM15〕 0.1部 水 90部 (フォーマット印刷層からなる情報坦持体形成)受像層
上にオフセット印刷法により、フォーマット印刷(従業
員証、氏名)を行った。印刷インキはUV墨インキを用
いた。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200m
j相当であった。 (透明樹脂層形成)下記組成物からなる印刷インキを用
いロールミルにより混合し、印刷インキを作成した。オ
フセット印刷法により受像層上に印刷を行った。印刷時
のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であっ
た。 (透明樹脂層組成物1) ウレタンアクリレートオリゴマー 50部 脂肪族ポリエステルアクリレートオリゴマー 35部 ダイロキュア1173(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製) 5部 トリメチロールプロパンアクリレート 10部 (鱗片顔料層の形成層形成)下記組成物からなる印刷イ
ンキを表記載の方法により混合し、印刷インキを作成し
た。オフセット印刷法により受像層上に印刷を行った。
印刷インキの層は画像記録体層構成図に記載してあるよ
うに積層するようにオフセット印刷により連続印刷によ
り作成した。膜厚は、2.1μmであった。
[Examples] The present invention is described in detail below with reference to examples, but the embodiments of the present invention are not limited thereto. In the following, "part" means "part by weight". (Support) Support 1 A white support of U2L98W having a thickness of 100 μm manufactured by Teijin DuPont Films Ltd. was used as the front and back sheets. (Longitudinal (MD) with heat shrinkage of 150 ° C / 30min
0.35% and lateral (TD) -0.05%) Support 2 As a front sheet and a back sheet, an E20 white support having a thickness of E20 manufactured by Toray Industries, Inc. was used. (Heat shrinkage rate 150
1.3% in length (MD) and 0.3% in width (TD) at ° C / 30 min) <Preparation of first sheet member (back sheet 1)> Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples. However, the embodiment of the present invention is not limited to this. In the following, "part" means "part by weight". (Preparation of Writing Layer) On the backing sheet 100 μm of the support 1, a coating liquid for forming a first writing layer, a coating liquid for forming a second writing layer, and a coating liquid for forming a third writing layer having the following compositions were formed in this order. After coating and drying, each thickness is 5μm, 15μm, 0.2μm
To form a writing layer. <Coating liquid for forming the first writing layer> Polyester resin [Toyobo Co., Ltd .: Byron 200] 8 parts Isocyanate 1 part [Japan Polyurethane Industry Co., Ltd .: Coronate HX] Carbon black Trace amount of titanium dioxide particles [Ishihara Sangyo] Co., Ltd .: CR80] 1 part Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating liquid for forming second writing layer> Polyester resin 4 parts [Toyobo Co., Ltd .: Vylonal MD1200] Silica 5 parts Titanium dioxide particles [Ishihara] Sangyo Co., Ltd .: CR80] 1 part Water 90 parts <Third writing layer forming coating liquid> Polyamide resin [Sanwa Chemical Industry Co., Ltd .: Sunmide 55] 5 parts Methanol 95 parts Obtained writing layer The center line average roughness was 1.34 μm. (Formation of Information Carrier Layer Consisting of Format Printing Layer on Writing Layer) Format printing (ruled lines, issuer name, issuer telephone number) was performed by the offset printing method. UV ink was used as the printing ink. The UV irradiation condition during printing was equivalent to 200 mj with a high pressure mercury lamp. <Preparation of First Sheet Member (Back Sheet 2)> Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the embodiments of the present invention are not limited thereto. In the following, "part" means "part by weight". (Preparation of Writing Layer) On the backing sheet of 100 μm of the support 1, a first writing layer forming coating solution, a second writing layer forming coating solution and a third writing layer forming coating solution having the above composition are provided in this order. After coating and drying, each thickness is 5μm, 15μm, 0.2μm
To form a writing layer. (Formation of Information Carrier Layer Consisting of Format Printing Layer on Writing Layer) Format printing (ruled lines, issuer name, issuer telephone number) was performed by the offset printing method. UV ink was used as the printing ink. The UV irradiation condition during printing was equivalent to 200 mj with a high pressure mercury lamp. (Preparation of Watermark Printing) Watermark printing was performed by the gravure printing method. The print pattern is as shown in the watermark pattern diagram of FIG. The printing ink was an oil-based ink containing a white pigment. The film thickness was 2.0 μm. <Creation of first sheet member (back sheet 3) (comparative example)>
The procedure for producing the back sheet 1 is the same as that for the back sheet 1 except that the support described in the back sheet 1 is changed to the support 2. <Preparation of Second Sheet Member (Front Sheet)> (Preparation of Front Sheet 1) Front Cover 100 μm of Support 1
A second sheet member (front sheet 1) was formed by sequentially coating and drying a cushion layer, an image receiving layer, an information carrier layer, and a transparent resin layer made of the following composition on m. (Photocurable cushion layer) Film thickness 10 μm Urethane acrylate oligomer (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo UA512) 55 parts Polyester acrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd .: Aronix M6200) 15 parts Urethane acrylate oligomer (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK) Oligo UA4000) 25 parts Hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Ciba Specialty Chemicals: Irgacure 184) 5 parts Methyl ethyl ketone 100 parts Actinic ray curable compound after application is 90 ° C / 30 sec.
And then photocured with a mercury lamp (300 mJ / cm 2 ). (Image Receiving Layer) A first image receiving layer forming coating liquid and a second image receiving layer forming coating liquid having the following compositions are applied and dried in this order on the cushion layer to have respective thicknesses of 2.5 μm and 0.5 μm. To form an image receiving layer. <Coating liquid for forming first image-receiving layer> Polyvinyl butyral resin 6 parts [Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-REC BX-1] Metal ion-containing compound (compound MS) 4 parts Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Second Coating liquid for forming image-receiving layer> Polyethylene wax 2 parts [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec E1000] Urethane-modified ethylene acrylic acid copolymer 8 parts [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec S6254] Methylcellulose [Shin-Etsu Chemical Kogyo Co., Ltd .: SM15] 0.1 part Water 90 parts (formation of information carrier consisting of format printing layer) Format printing (employee certificate, name) was performed on the image receiving layer by offset printing. UV ink was used as the printing ink. The UV irradiation condition during printing is 200 with a high pressure mercury lamp.
It was equivalent to mj. (Formation of transparent resin layer) A printing ink composed of the following composition was mixed by a roll mill to prepare a printing ink. Printing was performed on the image receiving layer by the offset printing method. The UV irradiation condition during printing was equivalent to 200 mj with a high pressure mercury lamp. (Transparent resin layer composition 1) Urethane acrylate oligomer 50 parts Aliphatic polyester acrylate oligomer 35 parts Dilocur 1173 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 5 parts Trimethylolpropane acrylate 10 parts (preparation of front sheet 2) The support Front sheet 100 μm
A second sheet member (front sheet 2) was formed by sequentially coating and drying a cushion layer, an image receiving layer, an information carrier layer, a transparent resin layer, and a scaly pigment layer, each of which was composed of the following composition. (Cushion layer) Polypropylene (PP) was heat-melted at 200 ° C., and a cushion layer was provided on the support so as to have a thickness of 20 μm. (Image Receiving Layer) A first image receiving layer forming coating liquid, a second image receiving layer forming coating liquid and a third image receiving layer forming coating liquid having the following compositions are applied and dried in this order on the cushion layer, respectively. An image receiving layer was formed by laminating the layers to have a thickness of 0.2 μm, 2.5 μm, and 0.5 μm. <Coating liquid for forming first image-receiving layer> Polyvinyl butyral resin 9 parts [Sekisui Chemical Co., Ltd .: Eslec BL-1] Isocyanate 1 part [Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: Coronate HX] Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating liquid for forming second image-receiving layer> Polyvinyl butyral resin 6 parts [Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-REC BX-1] Metal ion-containing compound (compound MS) 4 parts Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts < Third image-receiving layer forming coating liquid> Polyethylene wax 2 parts [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec E1000] Urethane-modified ethylene acrylic acid copolymer 8 parts [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitech S6254] Methylcellulose [ Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: SM15] 0.1 part water 90 parts (format print layer The Ranaru information carrying body forming) offset printing method on the image receiving layer, the format printing (of employee's ID card and name) was performed. UV ink was used as the printing ink. The UV irradiation condition during printing is 200 m with a high pressure mercury lamp.
It was equivalent to j. (Formation of transparent resin layer) A printing ink composed of the following composition was mixed by a roll mill to prepare a printing ink. Printing was performed on the image receiving layer by the offset printing method. The UV irradiation condition during printing was equivalent to 200 mj with a high pressure mercury lamp. (Transparent resin layer composition 1) Urethane acrylate oligomer 50 parts Aliphatic polyester acrylate oligomer 35 parts Dilocur 1173 (Ciba Specialty Chemicals) 5 parts Trimethylol propane acrylate 10 parts (formation layer formation of scale pigment layer) Printing inks composed of the composition were mixed by the method shown in the table to prepare printing inks. Printing was performed on the image receiving layer by the offset printing method.
The layers of printing ink were formed by continuous printing by offset printing so as to be laminated as described in the layer structure diagram of the image recording material. The film thickness was 2.1 μm.

【0211】印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で2
00mj相当であった。 (鱗片顔料層組成物1) Iriodin211(Merk社製) 45部 ウレタンアクリレートオリゴマー 40部 ダイロキュア1173(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製) 5部 トリメチロールプロパンアクリレート 10部 (透かし印刷の作成)グラビア印刷法により、受像層塗
布側と反対側の支持体面に透かし印刷を行った。印刷紋
様は図17記載の透かし紋様図のようにした。印刷イン
キは白色顔料入り油性インキにより印刷を行った。膜厚
は2.0μmであった。 (表シート3の作成)前記支持体の表シート100μm
に下記組成物からなるクッション層、受像層、情報坦持
体層、透明樹脂層、燐片顔料層を順次塗工を順次塗工乾
燥してなる第2のシート部材(表面シート3)を形成し
た。 (光硬化型クッション層) 膜厚15μm ウレタンアクリレートオリゴマー(新中村化学社製:NKオリゴUA512) 55部 ポリエステルアクリレート(東亞合成社製:アロニックスM6200)15部 ウレタンアクリレートオリゴマー(新中村化学社製:NKオリゴUA4000) 25部 ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティー・ケミカル ズ:イルガキュア184) 5部 メチルエチルケトン 100部 塗布後の活性光線硬化性化合物は、90℃/30sec
で乾燥を行い、次いで水銀灯(300mJ/cm2)で
光硬化を行った。 (受像層)上記クッション層上に下記組成の第1受像層
形成用塗工液、第2受像層形成用塗工液をこの順に塗布
乾燥して、それぞれの厚みが2.5μm、0.5μmに
なるように積層することにより受像層を形成した。 〈第1受像層形成用塗工液〉 ポリビニルブチラール樹脂 6部 〔積水化学工業(株)製:エスレックBX−1〕 金属イオン含有化合物(化合物MS) 4部 メチルエチルケトン 80部 酢酸ブチル 10部 〈第2受像層形成用塗工液〉 ポリエチレンワックス 2部 〔東邦化学工業(株)製:ハイテックE1000〕 ウレタン変性エチレンアクリル酸共重合体 8部 〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254〕 メチルセルロース〔信越化学工業(株)製:SM15〕 0.1部 水 90部 (フォーマット印刷層からなる情報坦持体形成)受像層
上にオフセット印刷法により、フォーマット印刷(従業
員証、氏名)を行った。印刷インキはUV墨インキを用
いた。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200m
j相当であった。 (透明樹脂層形成)下記組成物からなる印刷インキを用
いロールミルにより混合し、印刷インキを作成した。オ
フセット印刷法により受像層上に印刷を行った。印刷時
のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であっ
た。 (透明樹脂層組成物1) ウレタンアクリレートオリゴマー 50部 脂肪族ポリエステルアクリレートオリゴマー 35部 ダイロキュア1173(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製) 5部 トリメチロールプロパンアクリレート 10部 (鱗片顔料層の形成層形成)下記組成物からなる印刷イ
ンキを表記載の方法により混合し、印刷インキを作成し
た。オフセット印刷法により受像層上に印刷を行った。
印刷インキの層は画像記録体層構成図に記載してある用
に積層するようにオフセット印刷により連続印刷により
作成した。膜厚は、2.9μmであった。印刷時のUV
照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であった。 (鱗片顔料層組成物1) Iriodin211(Merk社製) 45部 ウレタンアクリレートオリゴマー 40部 ダイロキュア1173(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製) 5部 トリメチロールプロパンアクリレート 10部 (透かし印刷の作成)グラビア印刷法により、受像層塗
布側と反対側の支持体面に透かし印刷を行った。印刷紋
様は図17記載の透かし紋様図のようにした。印刷イン
キは白色顔料入り油性インキにより印刷を行った。膜厚
は2.0μmであった。 (表シート4の作成(比較例1)前記表シート1記載の
支持体を支持体2に変更した以外は表シート1作成と同
じである。 <ICカード基材作成> (ICカード基材作成1)上記作成された第1のシート
部材(裏シート)と第2のシート部材(表シート)を用
い図21のICカード基材作成装置に第1のシート部材
(裏シート)は第1のシート部材供給部、第2のシート
部材(表シート)は第2のシート部材供給部に設置し下
記の条件下でカードを製造しカード基材を得た。
The UV irradiation condition during printing is 2 with a high pressure mercury lamp.
It was equivalent to 00 mj. (Scale pigment layer composition 1) Iriodin 211 (manufactured by Merk) 45 parts Urethane acrylate oligomer 40 parts Dirocure 1173 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 5 parts Trimethylol propane acrylate 10 parts (watermark printing) Gravure printing method Thus, watermark printing was performed on the surface of the support opposite to the side coated with the image receiving layer. The print pattern is the watermark pattern shown in FIG. The printing ink was an oil-based ink containing a white pigment. The film thickness was 2.0 μm. (Creation of front sheet 3) Front support sheet 100 μm
Then, a cushion layer, an image receiving layer, an information carrier layer, a transparent resin layer, and a scaly pigment layer, which are composed of the following compositions, are sequentially applied and dried to form a second sheet member (surface sheet 3). did. (Photocurable cushion layer) Film thickness 15 μm Urethane acrylate oligomer (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo UA512) 55 parts Polyester acrylate (Toagosei Co., Ltd .: Aronix M6200) 15 parts Urethane acrylate oligomer (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo UA4000) 25 parts Hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Ciba Specialty Chemicals: Irgacure 184) 5 parts Methyl ethyl ketone 100 parts Actinic ray curable compound after application is 90 ° C / 30 sec.
And then photocured with a mercury lamp (300 mJ / cm 2 ). (Image Receiving Layer) A first image receiving layer forming coating liquid and a second image receiving layer forming coating liquid having the following compositions are applied and dried in this order on the cushion layer to have respective thicknesses of 2.5 μm and 0.5 μm. To form an image receiving layer. <Coating liquid for forming first image-receiving layer> Polyvinyl butyral resin 6 parts [Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-REC BX-1] Metal ion-containing compound (compound MS) 4 parts Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Second Coating liquid for forming image-receiving layer> Polyethylene wax 2 parts [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec E1000] Urethane-modified ethylene acrylic acid copolymer 8 parts [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitech S6254] Methylcellulose [Shin-Etsu Chemical Kogyo Co., Ltd .: SM15] 0.1 part water 90 parts (formation of information carrier consisting of format printing layer) Format printing (employee certificate, name) was performed on the image receiving layer by offset printing. UV ink was used as the printing ink. The UV irradiation condition during printing is 200 m with a high pressure mercury lamp.
It was equivalent to j. (Formation of transparent resin layer) A printing ink composed of the following composition was mixed by a roll mill to prepare a printing ink. Printing was performed on the image receiving layer by the offset printing method. The UV irradiation condition during printing was equivalent to 200 mj with a high pressure mercury lamp. (Transparent resin layer composition 1) Urethane acrylate oligomer 50 parts Aliphatic polyester acrylate oligomer 35 parts Dilocur 1173 (Ciba Specialty Chemicals) 5 parts Trimethylol propane acrylate 10 parts (formation layer formation of scale pigment layer) Printing inks composed of the composition were mixed by the method shown in the table to prepare printing inks. Printing was performed on the image receiving layer by the offset printing method.
The layer of printing ink was formed by continuous printing by offset printing so as to be laminated as described in the layer structure diagram of the image recording material. The film thickness was 2.9 μm. UV when printing
The irradiation condition was equivalent to 200 mj with a high pressure mercury lamp. (Scale pigment layer composition 1) Iriodin 211 (manufactured by Merk) 45 parts Urethane acrylate oligomer 40 parts Dirocure 1173 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 5 parts Trimethylol propane acrylate 10 parts (watermark printing) Gravure printing method Thus, watermark printing was performed on the surface of the support opposite to the side coated with the image receiving layer. The print pattern is the watermark pattern shown in FIG. The printing ink was an oil-based ink containing a white pigment. The film thickness was 2.0 μm. (Preparation of Front Sheet 4 (Comparative Example 1) Same as preparation of Front Sheet 1 except that the support described in Front Sheet 1 was changed to Support 2. <IC card base material preparation> (IC card base material preparation) 1) Using the first sheet member (back sheet) and the second sheet member (front sheet) created above, the first sheet member (back sheet) is The sheet member supply unit and the second sheet member (front sheet) were installed in the second sheet member supply unit, and a card was manufactured under the following conditions to obtain a card base material.

【0212】1)脱泡後、接着剤供給部温度は30℃。1) After defoaming, the temperature of the adhesive supply section is 30 ° C.

【0213】2)加圧、加熱ロール条件は、加圧は0.
2kg/cm2、加熱温度は60℃。
2) Pressurization and heating roll conditions are as follows.
2 kg / cm 2 , heating temperature is 60 ° C.

【0214】3)IC搭載カード基材搬送部材条件は、
加圧は0.4kg/cm2、冷却温度は40℃ 4)搬送速度:2m/min 5)使用本発明弾性エポキシ接着剤:東邦化成工業株式
会社製 ウルタイト1540セット(硬化後500μm破断伸度
176%、2%弾性率0.4%、粘度15000mp
s)を用いたA液供給部には主剤を投入し、B液供給部
には硬化剤を投入した。
3) The conditions for the IC-mounted card base material conveying member are as follows:
Pressurization is 0.4 kg / cm 2 , cooling temperature is 40 ° C. 4) Transport speed: 2 m / min 5) Use Elastic epoxy adhesive of the present invention: Ultoite 1540 set manufactured by Toho Kasei Kogyo Co., Ltd. (500 μm breaking elongation after curing 176) %, 2% elastic modulus 0.4%, viscosity 15000mp
The main agent was added to the A solution supply part using s), and the curing agent was added to the B solution supply part.

【0215】接着剤が硬化したことを確認後、ロールカ
ッターで化粧断裁をし、55mm×85mmサイズのI
Cカード基材を作成した。 (ICカード基材作成2)上記作成された第1のシート
部材(裏シート)と第2のシート部材(表シート)を用
い図21のICカード基材作成装置に第1のシート部材
(裏シート)は第1のシート部材供給部、第2のシート
部材(表シート)は第2のシート部材供給部に設置し下
記の条件下でカードを製造しカード基材を得た。
After confirming that the adhesive is cured, a roll cutter is used to make a decorative cut, and a 55 mm × 85 mm size I
A C card substrate was created. (IC Card Base Material Preparation 2) Using the first sheet member (back sheet) and second sheet member (front sheet) prepared above, the first sheet member (back sheet) The sheet) was installed in the first sheet member supply section, and the second sheet member (front sheet) was installed in the second sheet member supply section, and a card was manufactured under the following conditions to obtain a card base material.

【0216】1)脱泡後、接着剤供給部温度は30℃。1) After defoaming, the temperature of the adhesive supply part is 30 ° C.

【0217】2)加圧、加熱ロール条件は、加圧は0.
2kg/cm2、加熱温度は60℃。
2) Pressurization and heating roll conditions are as follows:
2 kg / cm 2 , heating temperature is 60 ° C.

【0218】3)IC搭載カード基材搬送部材条件は、
加圧は0.4kg/cm2、冷却温度は40℃ 4)搬送速度:2m/min 5)使用本発明弾性エポキシ接着剤:株式会社スリーボ
ンド製 スリーボンド3950セット(硬化後500μm破断伸
度246%、2%弾性率0.3%、粘度30000mp
s)を用いた第1液供給部には主剤を投入し、第2液供
給部には硬化剤を投入した。また、第2液には第2液に
対して3重量%のメルク社製イリジオン211を添加し
た。
3) Conditions for the IC mounted card base material conveying member are as follows:
Pressurization is 0.4 kg / cm 2 , cooling temperature is 40 ° C. 4) Transport speed: 2 m / min 5) Use Elastic epoxy adhesive of the present invention: ThreeBond Co., Ltd. ThreeBond 3950 set (500 μm breaking elongation 246% after curing, 2% elastic modulus 0.3%, viscosity 30000mp
The main agent was added to the first liquid supply unit using s), and the curing agent was added to the second liquid supply unit. Further, 3% by weight of iridione 211 manufactured by Merck Ltd. was added to the second liquid.

【0219】接着剤が硬化したことを確認後、ロールカ
ッターで化粧断裁をし、55mm×85mmサイズのI
Cカード基材を作成した。 (ICカード基材作成3(比較例3) 上記作成された、と第2のシート部材(表面シート)を
用い図21のICカード基材作成装置に第1のシート部
材(裏シート)は第1のシート部材供給部、第2のシー
ト部材(表シート)は第2のシート部材供給部に設置し
下記の条件下でカードを製造しカード基材を得た。
After confirming that the adhesive has hardened, a cosmetic cutting is performed with a roll cutter, and I of 55 mm × 85 mm size is cut.
A C card substrate was created. (IC Card Base Material Creation 3 (Comparative Example 3)) Using the above-prepared second sheet member (top sheet), the first sheet member (back sheet) is The first sheet member supply unit and the second sheet member (front sheet) were installed in the second sheet member supply unit, and a card was manufactured under the following conditions to obtain a card base material.

【0220】1)脱泡後、接着剤供給部温度は30℃。1) After defoaming, the temperature of the adhesive supply part is 30 ° C.

【0221】2)加圧、加熱ロール条件は、加圧は0.
2kg/cm2、加熱温度は100℃。
2) Pressurization and heating roll conditions are as follows:
2 kg / cm 2 , heating temperature 100 ° C.

【0222】3)IC搭載カード基材搬送部材条件は、
加圧は0.4kg/cm2、冷却温度は90℃ 4)搬送速度:2m/min 5)使用比較例接着剤:コニシ株式会社製 ボンドEセットL(硬化後500μm破断伸度20%、
2%弾性率0.1%、粘度4000mps)を用いた第
1液供給部には主剤を投入し、第2液供給部には硬化剤
を投入した。
3) Conditions for the IC mounted card base material conveying member are as follows:
Pressurization is 0.4 kg / cm 2 , cooling temperature is 90 ° C. 4) Conveyance speed: 2 m / min 5) Use comparative adhesive: Bond E set L manufactured by Konishi Co., Ltd. (500 μm breaking elongation after curing, 20%,
The main component was charged into the first liquid supply part using a 2% elastic modulus of 0.1% and the viscosity was 4000 mps), and the curing agent was added into the second liquid supply part.

【0223】接着剤が硬化したことを確認後、ロールカ
ッターで化粧断裁をし、55mm×85mmサイズのI
Cカード基材を作成した。 (ICカード基材作成4(比較例4) 上記作成された第1のシート部材(裏シート)と第2の
シート部材(表シート)を用い図21のICカード基材
作成装置に第1のシート部材(裏シート)は第1のシー
ト部材供給部、第2のシート部材(表シート)は第2の
シート部材供給部に設置し下記の条件下でカードを製造
しカード基材を得た。
[0223] After confirming that the adhesive has hardened, a roll cutter is used to make a decorative cut, and a 55 mm x 85 mm size I
A C card substrate was created. (IC Card Base Material Preparation 4 (Comparative Example 4)) Using the first sheet member (back sheet) and second sheet member (front sheet) prepared above, the IC card base material preparing apparatus of FIG. The sheet member (back sheet) was installed in the first sheet member supply unit, and the second sheet member (front sheet) was installed in the second sheet member supply unit, and a card was manufactured under the following conditions to obtain a card base material. .

【0224】1)脱泡後、接着剤供給部温度は30℃。1) After defoaming, the temperature of the adhesive supply part was 30 ° C.

【0225】2)加圧、加熱ロール条件は、加圧は0.
2kg/cm2、加熱温度は100℃。
2) Pressurization and heating roll conditions are as follows.
2 kg / cm 2 , heating temperature 100 ° C.

【0226】3)IC搭載カード基材搬送部材条件は、
加圧は0.4kg/cm2、冷却温度は90℃ 4)搬送速度:2m/min 5)使用比較例接着剤:株式会社スリーボンド製 スリーボンド本剤2002H/硬化剤2105F(硬化
後500μm破断伸度15%、2%弾性率0.05%、
粘度65000mps)を用いた第1液供給部には主剤
を投入し、第2液供給部には硬化剤を投入した。
3) Conditions for the IC mounted card base material conveying member are as follows:
Pressurization is 0.4 kg / cm 2 , cooling temperature is 90 ° C. 4) Transport speed: 2 m / min 5) Use comparative example Adhesive: ThreeBond Co., Ltd. ThreeBond Main agent 2002H / Curing agent 2105F (500 μm breaking elongation after curing) 15%, 2% elastic modulus 0.05%,
The main component was charged into the first liquid supply part using a viscosity of 65,000 mps), and the curing agent was added into the second liquid supply part.

【0227】接着剤が硬化したことを確認後、ロールカ
ッターで化粧断裁をし、55mm×85mmサイズのI
Cカード基材を作成した。 (ICカード基材作成5)上記作成された第1のシート
部材(裏シート)と第2のシート部材(表シート)を用
い図20のICカード基材作成装置に第1のシート部材
(裏シート)は第1のシート部材供給部、第2のシート
部材(表シート)は第2のシート部材供給部に設置し下
記の条件下でカードを製造しカード基材を得た。
[0227] After confirming that the adhesive has hardened, a roll cutter is used to make a decorative cut, and an I of 55 mm x 85 mm size is cut.
A C card substrate was created. (IC Card Base Material Preparation 5) Using the first sheet member (back sheet) and the second sheet member (front sheet) prepared above, the first sheet member The sheet) was installed in the first sheet member supply section, and the second sheet member (front sheet) was installed in the second sheet member supply section, and a card was manufactured under the following conditions to obtain a card base material.

【0228】1)接着剤供給部温度は30℃。1) The temperature of the adhesive supply section is 30 ° C.

【0229】2)加圧、加熱ロール条件は、加圧は0.
2kg/cm2、加熱温度は75℃。
2) Pressurization and heating roll conditions are as follows.
2 kg / cm 2 , heating temperature is 75 ° C.

【0230】3)IC搭載カード基材搬送部材条件は、
加圧は0.4kg/cm2、冷却温度は50℃ 4)搬送速度:1m/min 5)使用本発明熱硬化型接着剤:下記組成物から配合し
て成る接着剤。 使用本発明熱硬化型接着剤組成物: 1)エポキシ基を1分子内に2個以上含んだ化合物 ・セロキサイド2021 (ダイセル化学工業株式会社製)エポキシ当量128〜140) 38部 ・エポライト3002(共栄社化学株式会社製) 25部 ・エピコート#828(油化シェルエポキシ社製)エポキシ当量184〜194 ) 30部 2)10〜150℃の温度でカチオンを発生する化合物 ・熱カチオン発生化合物:セロキサイドSI−60L (三新化学工業株式会社製) 7部 上記化合物を接着剤供給部に接着剤を投入し、上記条件
にて塗工を実施した。接着剤が硬化したことを確認後、
ロールカッターで化粧断裁をし、55mm×85mmサ
イズのICカード基材を作成した。 (ICカード基材作成6(比較例5))上記作成された
第1のシート部材(裏シート)と第2シート部材(表シ
ート)を用い図20のICカード基材作成装置に第1の
シート部材(裏シート)は第1のシート部材供給部、第
2のシート部材(表シート)は第2のシート部材供給部
に設置し下記の条件下でカードを製造しカード基材を得
た。
3) The conditions for the IC mounted card base material conveying member are as follows:
Pressurization is 0.4 kg / cm 2 , cooling temperature is 50 ° C. 4) Transport speed: 1 m / min 5) Use Thermosetting adhesive of the present invention: An adhesive compounded from the following compositions. Use The thermosetting adhesive composition of the present invention: 1) A compound containing two or more epoxy groups in one molecule-Celoxide 2021 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) Epoxy equivalent 128-140) 38 parts-Epolite 3002 (Kyoeisha) Chemical Co., Ltd.) 25 parts Epicoat # 828 (Okaka Shell Epoxy Co., Ltd.) Epoxy Equivalent 184-194) 30 parts 2) Compounds that generate cations at a temperature of 10 to 150 ° C. Thermal cation generating compound: Celoxide SI- 60 L (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) 7 parts An adhesive was added to the adhesive supply part of the above compound, and coating was performed under the above conditions. After confirming that the adhesive has hardened,
Cosmetic cutting was performed with a roll cutter to prepare a 55 mm × 85 mm size IC card base material. (IC Card Base Material Preparation 6 (Comparative Example 5)) Using the first sheet member (back sheet) and second sheet member (front sheet) prepared above, the IC card base material preparing apparatus of FIG. The sheet member (back sheet) was installed in the first sheet member supply unit, and the second sheet member (front sheet) was installed in the second sheet member supply unit, and a card was manufactured under the following conditions to obtain a card base material. .

【0231】1)接着剤供給部温度は30℃。1) The temperature of the adhesive supply part is 30 ° C.

【0232】2)加圧、加熱ロール条件は、加圧は0.
2kg/cm2、加熱温度は75℃。
2) Pressurization and heating roll conditions are as follows:
2 kg / cm 2 , heating temperature is 75 ° C.

【0233】3)IC搭載カード基材搬送部材条件は、
加圧は0.4kg/cm2、冷却温度は50℃ 4)搬送速度:1m/min 5)使用接着剤:下記組成物から配合して成る接着剤。 使用本発明熱硬化型接着剤組成物: 1)エポキシ基を1分子内に2個以上含んだ化合物 ・セロキサイド2021 (ダイセル化学工業株式会社製)エポキシ当量128〜140) 38部 ・エポライト3002(共栄社化学株式会社製) 25部 ・エピコート#828(油化シェルエポキシ社製)エポキシ当量184〜194 ) 30部 2)光カチオンを発生する化合物 ・光カチオン発生化合物:TPS−1 (みどり化学株式会社製) 7部 上記化合物を接着剤供給部に接着剤を投入し、上記条件
にて塗工を実施した。接着剤が硬化したことを確認後、
ロールカッターで化粧断裁をし、55mm×85mmサ
イズのICカード基材を作成した。 (ICカード基材作成7(比較例6))上記作成された
第1のシート部材(裏シート)と第2のシート部材(表
シート)を用い図21のICカード基材作成装置に第1
のシート部材(裏シート)は第1のシート部材供給部、
第2のシート部材(表シート)は第2のシート部材供給
部に設置し下記の条件下でカードを製造しカード基材を
得た。
3) Conditions for the IC mounted card base material conveying member are as follows:
Pressurization is 0.4 kg / cm 2 , cooling temperature is 50 ° C. 4) Conveyance speed: 1 m / min 5) Adhesive used: An adhesive composed of the following compositions. Use The thermosetting adhesive composition of the present invention: 1) A compound containing two or more epoxy groups in one molecule-Celoxide 2021 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) Epoxy equivalent 128-140) 38 parts-Epolite 3002 (Kyoeisha) Chemical Co., Ltd.) 25 parts, Epicoat # 828 (Okaka Shell Epoxy Co., Ltd.) epoxy equivalent 184-194) 30 parts 2) Photocation generating compounds, photocation generating compounds: TPS-1 (Midori Chemical Co., Ltd.) ) 7 parts The above compound was added to the adhesive supply part, and coating was performed under the above conditions. After confirming that the adhesive has hardened,
Cosmetic cutting was performed with a roll cutter to prepare a 55 mm × 85 mm size IC card base material. (IC Card Base Material Preparation 7 (Comparative Example 6)) Using the first sheet member (back sheet) and second sheet member (front sheet) prepared above, the IC card base material preparing apparatus of FIG.
The sheet member (back sheet) of the first sheet member supply section,
The second sheet member (front sheet) was installed in the second sheet member supply section and a card was manufactured under the following conditions to obtain a card base material.

【0234】1)接着剤供給部温度は160℃。1) The temperature of the adhesive supply section is 160 ° C.

【0235】2)加圧、加熱ロール条件は、加圧は0.
2kg/cm2、加熱温度は120℃。
2) Pressurization and heating roll conditions are as follows:
2 kg / cm 2 , heating temperature is 120 ° C.

【0236】3)IC搭載カード基材搬送部材条件は、
加圧は0.4kg/cm2、冷却温度は50℃ 4)搬送速度:1m/min 5)使用接着剤:アロンメルトPPET―2403(東
亞合成株式会社製ホットメルト接着剤) 上記化合物を接着剤供給部に接着剤を投入し熱溶融し、
上記条件にて塗工を実施した。接着剤が硬化したことを
確認後、ロールカッターで化粧断裁をし55mm×85
mmサイズのICカード基材を作成した。
3) Conditions for the IC mounted card base material conveying member are as follows:
Pressurization is 0.4 kg / cm 2 , cooling temperature is 50 ° C. 4) Transport speed: 1 m / min 5) Adhesive used: Aronmelt PPET-2403 (Hot melt adhesive manufactured by Toagosei Co., Ltd.) The above compound is supplied as an adhesive. Put the adhesive in the part and heat it,
Coating was carried out under the above conditions. After confirming that the adhesive has hardened, make a decorative cut with a roll cutter and make it 55 mm x 85
An mm-sized IC card substrate was created.

【0237】カードの評価結果は、表1に示す。実施例
4乃至実施例27は、比較例7乃至比較例18と比較し
て打ち抜き性、耐薬品性、耐水性が向上し、かつカール
を抑えることができた。
The evaluation results of the cards are shown in Table 1. In Examples 4 to 27, the punchability, chemical resistance, and water resistance were improved, and curling could be suppressed, as compared with Comparative Examples 7 to 18.

【0238】[0238]

【表1】 [ICカード基材作成]上記作成されたICカード基材
作成された1〜7を用い、下記作成方法によりICカー
ドを作成した。 <ICカード作成方法>ICカード基材への認証識別画
像、属性情報画像の記載方法、ICカード表面保護層形
成方法は、下記のように行ない、540μmのICカー
ドを作成した。 (昇華型感熱転写記録用のインクシートの作成)裏面に
融着防止加工した厚さ6μmのポリエチレンテレフタレ
ートシートに下記組成のイエローインク層形成用塗工
液、マゼンタインク層形成用塗工液、シアンインク層形
成用塗工液を各々の厚みが1μmになるように設け、イ
エロー、マゼンタ、シアンの3色のインクシートを得
た。 〈イエローインク層形成用塗工液〉 イエロー染料 (三井東圧染料(株)製MSYellow) 3部 ポリビニルアセタール 5.5部 〔電気化学工業(株)製:デンカブチラールKY−24〕 ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン 1部 〔東亜合成化学工業(株)製:レデダGP−200〕 ウレタン変性シリコンオイル 0.5部 〔大日精化工業(株)製:ダイアロマーSP−2105〕 メチルエチルケトン 70部 トルエン 20部 〈マゼンタインク層形成用塗工液〉 マゼンタ染料 (三井東圧染料(株)製 MS Magenta) 2部 ポリビニルアセタール 5.5部 〔電気化学工業(株)製:デンカブチラールKY−24〕 ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン 2部 〔東亜合成化学工業(株)製:レデダGP−200〕 ウレタン変性シリコンオイル 0.5部 〔大日精化工業(株)製:ダイアロマーSP−2105〕 メチルエチルケトン 70部 トルエン 20部 〈シアンインク層形成用塗工液〉 シアン染料 (日本化薬(株)製 カヤセットブルー136) 3部 ポリビニルアセタール 5.6部 〔電気化学工業(株)製:デンカブチラールKY−24〕 ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン 1部 〔東亜合成化学工業(株)製:レデダGP−200〕 ウレタン変性シリコンオイル 0.5部 〔大日精化工業(株)製:ダイアロマーSP−2105〕 メチルエチルケトン 70部 トルエン 20部 (溶融型感熱転写記録用のインクシートの作成)裏面に
融着防止加工した厚さ6μmのポリエチレンテレフタレ
ートシートに下記組成のインク層形成用塗工液を厚みが
2μmになるように塗布乾燥してインクシートを得た。 〈インク層形成用塗工液〉 カルナバワックス 1部 エチレン酢酸ビニル共重合体 1部 〔三井デュポンケミカル社製:EV40Y〕 カーボンブラック 3部 フェノール樹脂〔荒川化学工業(株)製:タマノル521〕 5部 メチルエチルケトン 90部 (顔画像の形成)表シート表面に昇華型感熱転写記録用
のインクシートのインク側を重ね合わせインクシート側
からサーマルヘッドを用いて出力0.23W/ドット、
パルス幅0.3〜4.5m秒、ドット密度16ドット/
mmの条件で加熱することにより画像に階調性のある人
物画像を受像層に形成した。この画像においては上記色
素と受像層のニッケルが錯体を形成している。 (文字情報の形成)表シート表面に溶融型感熱転写記録
用のインクシートのインク側を重ね合わせインクシート
側からサーマルヘッドを用いて出力0.5W/ドット、
パルス幅1.0m秒、ドット密度16ドット/mmの条
件で加熱することにより文字情報をOPニス上に形成し
た。
[Table 1] [Creation of IC Card Base Material] Using the above prepared IC card base materials 1 to 7, an IC card was prepared by the following preparation method. <IC Card Making Method> The authentication identification image on the IC card substrate, the method for writing the attribute information image, and the method for forming the IC card surface protective layer were carried out as follows, and an IC card of 540 μm was made. (Preparation of sublimation-type thermal transfer recording ink sheet) A 6 μm-thick polyethylene terephthalate sheet having a back surface processed to prevent fusion is coated with a yellow ink layer-forming coating solution, a magenta ink layer-forming coating solution, and cyan. The ink layer forming coating liquid was provided so that each thickness was 1 μm, and three color ink sheets of yellow, magenta and cyan were obtained. <Yellow Ink Layer Forming Coating Liquid> Yellow dye (MS Yellow manufactured by Mitsui Toatsu Dye Co., Ltd.) 3 parts Polyvinyl acetal 5.5 parts [Denka Butyral KY-24] Polymethylmethacrylate Modified polystyrene 1 part [Toagosei Kagaku Kogyo KK: Rededa GP-200] Urethane modified silicone oil 0.5 part [Dainichi Seika Kogyo KK: Dialomer SP-2105] Methyl ethyl ketone 70 parts Toluene 20 parts <Magenta Ink layer forming coating liquid> Magenta dye (MS Magenta manufactured by Mitsui Toatsu Dye Co., Ltd.) 2 parts Polyvinyl acetal 5.5 parts [Denka Butyral KY-24] polymethylmethacrylate modified Polystyrene 2 parts [Toagosei Chemical Industry Co., Ltd .: Rededa GP-200] Retan-modified silicone oil 0.5 parts [Dainichi Seika Kogyo KK: Dialomer SP-2105] Methyl ethyl ketone 70 parts Toluene 20 parts <Cyan ink layer forming coating solution> Cyan dye (Kaya manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Set blue 136) 3 parts Polyvinyl acetal 5.6 parts [Denka Butyral KY-24] manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. Polymethyl methacrylate modified polystyrene 1 part [Toagosei Kagaku Kogyo: Rededa GP-200] Urethane-modified silicone oil 0.5 parts [Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd .: Dialomer SP-2105] Methyl ethyl ketone 70 parts Toluene 20 parts (preparation of ink sheet for melt-type thermal transfer recording) Thickness which is processed to prevent fusion on the back surface A 6 μm thick polyethylene terephthalate sheet is coated with an ink layer-forming coating solution having the following composition. To obtain an ink sheet by coating and drying so as to 2 [mu] m. <Ink layer forming coating liquid> Carnauba wax 1 part Ethylene vinyl acetate copolymer 1 part [Mitsui DuPont Chemical Co., Ltd .: EV40Y] Carbon black 3 parts Phenolic resin [Arakawa Chemical Industries Co., Ltd .: Tamanor 521] 5 parts 90 parts of methyl ethyl ketone (formation of face image) The ink side of the ink sheet for sublimation type thermal transfer recording is superposed on the surface of the front sheet, and the thermal head is used to output 0.23 W / dot.
Pulse width 0.3-4.5 ms, dot density 16 dots /
By heating under a condition of mm, a human image having gradation in the image was formed on the image receiving layer. In this image, the dye and nickel in the image receiving layer form a complex. (Formation of Character Information) The ink side of the melt-type thermal transfer recording ink sheet is superposed on the surface of the front sheet, and the output is 0.5 W / dot from the ink sheet side by using a thermal head.
Character information was formed on the OP varnish by heating under the conditions of a pulse width of 1.0 msec and a dot density of 16 dots / mm.

【0239】上記によりICカード基材上に顔画像と属
性情報(コニカ太郎、ID:0123456789)を
設けた。 <ICカード基材への保護層形成方法> [合成例1] 「ICカード表面保護層添加樹脂合成例1」窒素気流下
の三ツ口フラスコに、メタアクリル酸メチル73部、ス
チレン15部、メタアクリル酸12部とエタノール50
0部、α、α′−アゾビスイソブチロニトリル3部を入
れ、窒素気流中80℃のオイルバスで6時間反応させ
た。その後、トリエチルアンモニウムクロライド3部、
グリシジルメタクリレート1.0部を加え、3時間反応
させ目的のアクリル系共重合体の合成バインダー1を得
た。Mw.17000、酸価32。 [実施例1] 「透明樹脂転写箔1の作成」ダイアホイルヘキスト
(株)製ポリエチレンテレフタレート(S−25)の片
面に下記処方をワイヤーバーコーティングにて塗工乾燥
して、実施例1〜3の保護層を形成した。 (離型層) 膜厚 0.5μm アクリル系樹脂(三菱レイヨン(株)製、 ダイアナールBR−87) 5部 ポリビニルアセトアセタール(SP値:9.4) (積水化学(株)、KS−1) 5部 メチルエチルケトン 40部 トルエン 50部 塗布後、90℃/30secで乾燥を行った。 〈中間層形成塗工液〉 膜厚0.3μm ポリビニルブチラール樹脂〔積水化学(株)製:エスレックBX−1〕 5部 タフテックスM−1913(旭化成) 3.5部 硬化剤 ポリイソシアネート[コロネートHX 日本ポリウレタン製]1.5部 メチルエチルケトン 20部 トルエン 70部 塗布後、90℃/30secで乾燥を行い、硬化剤の硬
化は、50℃、24時間で行った。 <バリヤー層形成塗工液>膜厚0.5μm BX−1(ポリビニルブチラール樹脂) 4部 〔積水化学(株)製:エスレックBシリーズ〕 タフテックスM−1913(旭化成) 4部 硬化剤 ポリイソシアネート[コロネートHX 日本ポリウレタン製] 2部 トルエン 50部 メチルエチルケトン 40部 塗布後、70℃/30secで乾燥を行った。 〈接着層形成塗工液〉 膜厚0.3μm ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体 〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254B〕 8部 ポリアクリル酸エステル共重合体〔日本純薬(株)製:ジュリマーAT510〕 2部 水 45部 エタノール 45部 塗布後、70℃/30secで乾燥を行った。
As described above, the face image and the attribute information (Taro Konica, ID: 0123456789) are provided on the IC card substrate. <Method for forming protective layer on IC card substrate> [Synthesis example 1] "IC card surface protective layer-added resin synthesis example 1" 73 parts of methyl methacrylate, 15 parts of styrene, and methacrylic acid were placed in a three-necked flask under a nitrogen stream. 12 parts of acid and 50 parts of ethanol
0 part and 3 parts of α, α′-azobisisobutyronitrile were added, and the mixture was reacted in a nitrogen stream in an oil bath at 80 ° C. for 6 hours. Then, 3 parts of triethylammonium chloride,
1.0 part of glycidyl methacrylate was added and reacted for 3 hours to obtain a synthetic binder 1 of the intended acrylic copolymer. Mw. 17,000, acid value 32. [Example 1] "Production of transparent resin transfer foil 1" Polyethylene terephthalate (S-25) manufactured by Diafoil Hoechst Co., Ltd. was coated with the following formulation by wire bar coating on one side and dried, and Examples 1 to 3 were performed. To form a protective layer. (Release layer) Film thickness 0.5 μm Acrylic resin (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., Dinal BR-87) 5 parts Polyvinyl acetoacetal (SP value: 9.4) (Sekisui Chemical Co., Ltd., KS-1) 5 parts Methyl ethyl ketone 40 parts Toluene 50 parts were applied and dried at 90 ° C./30 sec. <Intermediate layer forming coating liquid> Film thickness 0.3 μm Polyvinyl butyral resin [Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-REC BX-1] 5 parts Tuftex M-1913 (Asahi Kasei) 3.5 parts Curing agent Polyisocyanate [Coronate HX Made in Japan Polyurethane] 1.5 parts Methyl ethyl ketone 20 parts Toluene 70 parts After coating, drying was carried out at 90 ° C./30 sec, and curing of the curing agent was carried out at 50 ° C. for 24 hours. <Barrier layer forming coating liquid> Film thickness 0.5 μm BX-1 (polyvinyl butyral resin) 4 parts [Sekisui Chemical Co., Ltd .: Eslec B series] Tuftex M-1913 (Asahi Kasei) 4 parts Curing agent Polyisocyanate [ Coronate HX made by Nippon Polyurethane] 2 parts Toluene 50 parts Methylethylketone 40 parts After coating, drying was performed at 70 ° C./30 sec. <Adhesive layer forming coating liquid> Film thickness 0.3 μm Urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitech S6254B] 8 parts Polyacrylic ester copolymer [Nippon Pure Chemical Co., Ltd.] : Julimer AT510] 2 parts Water 45 parts Ethanol 45 parts After application, it was dried at 70 ° C./30 sec.

【0240】上記の組成の剥離層、中間層、接着層で構
成される透明樹脂転写箔1を作成した。
A transparent resin transfer foil 1 composed of a release layer, an intermediate layer and an adhesive layer having the above composition was prepared.

【0241】さらに画像、文字が記録された前記受像体
上に前記構成からなる透明保護層を有する各実施例、比
較例記載の転写箔を用いて表面温度200℃に加熱し
た。直径5cmゴム硬度85のヒートローラーを用いて
圧力150kg/cm2で1.2秒間熱をかけて転写を
行なった。
Further, the transfer foil described in each of Examples and Comparative Examples having the transparent protective layer having the above-mentioned structure on the image receptor on which images and characters were recorded was heated to a surface temperature of 200 ° C. Transfer was performed by applying heat for 1.2 seconds at a pressure of 150 kg / cm 2 using a heat roller having a diameter of 5 cm and rubber hardness of 85.

【0242】前記転写箔1が転写された前記受像体上に
前記紫外線硬化樹脂含有塗布液を20g/m2の塗布量
になるように特定の地模様を持つグラビアロールコータ
ーにより塗布し、下記の硬化条件にて紫外線硬化樹脂含
有塗布液1を硬化させて紫外線硬化保護層を形成した。
On the image receptor to which the transfer foil 1 was transferred, the ultraviolet-curable resin-containing coating liquid was applied by a gravure roll coater having a specific background pattern so that the coating amount was 20 g / m 2 . The ultraviolet curable resin-containing coating liquid 1 was cured under curing conditions to form an ultraviolet curable protective layer.

【0243】 硬化条件 光照射源 60w/cm2の高圧水銀ランプ 照射距離 10cm 照射モード 3cm/秒で光走査 「紫外線硬化樹脂含有塗布液1」 ビス(3,4−エポキシー6−メチルシクロヘキシルメチル)アジパート70部 ビスフェノールAグリシジルエーテル 10部 1,4−ブタンジオールグリシジルエーテル 13部 トリアリールスルホニウムフルオロアンチモン 7部 [実施例2] 「活性光線硬化型転写箔1の作成」 (離型層形成塗工液) 膜厚0.2μm ポリビニルアルコール(GL−05) (日本合成化学(株)製) 10部 水 90部 離型層は、90℃/30secの乾燥条件により塗工を
行った。 (活性光線硬化性化合物) 膜厚7.0μm 新中村化学社製 A−9300/新中村化学社製 EA−1020=35/11 .75部 反応開始剤 イルガキュア184日本チバガイギー社製 5部 活性光線硬化層使用樹脂1 48部 大日本インキ界面活性剤F−179 0.25部 トルエン 500部 塗布後の活性光線硬化性化合物は、90℃/30sec
で乾燥を行い、次いで水銀灯(300mJ/cm2)で
光硬化を行った。 〈中間層形成塗工液〉 膜厚1.0μm ポリビニルブチラール樹脂〔積水化学(株)製:エスレックBX−1〕3.5部 タフテックスM−1913(旭化成) 5部 硬化剤 ポリイソシアネート[コロネートHX 日本ポリウレタン製] 1.5部 メチルエチルケトン 90部 塗布後硬化剤の硬化は、50℃、24時間で行った。 〈接着層形成塗工液〉 膜厚0.5μm ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体 〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254B〕 8部 ポリアクリル酸エステル共重合体〔日本純薬(株)製:ジュリマーAT510〕 2部 水 45部 エタノール 45部 塗布後、70℃/30secで乾燥を行った。
Curing Conditions Light Irradiation Source 60 w / cm 2 High Pressure Mercury Lamp Irradiation Distance 10 cm Irradiation Mode Optical Scanning at 3 cm / sec “UV Curing Resin-Containing Coating Liquid 1” Bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate 70 parts Bisphenol A glycidyl ether 10 parts 1,4-butanediol glycidyl ether 13 parts Triarylsulfonium fluoroantimony 7 parts [Example 2] "Preparation of actinic ray curable transfer foil 1" (release layer forming coating liquid) Film thickness 0.2 μm Polyvinyl alcohol (GL-05) (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 10 parts water 90 parts The release layer was applied under a drying condition of 90 ° C./30 sec. (Actinic ray curable compound) Film thickness 7.0 μm Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. A-9300 / Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. EA-1020 = 35/11. 75 parts Reaction initiator Irgacure 184 Nippon Ciba Geigy Co., Ltd. 5 parts Actinic ray curable layer resin 1 48 parts Dainippon Ink Surfactant F-179 0.25 part Toluene 500 parts Actinic ray curable compound after coating is 90 ° C. / 30sec
And then photocured with a mercury lamp (300 mJ / cm 2 ). <Intermediate layer forming coating solution> Film thickness 1.0 μm Polyvinyl butyral resin [Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-REC BX-1] 3.5 parts Tuftex M-1913 (Asahi Kasei) 5 parts Curing agent Polyisocyanate [Coronate HX Made by Nippon Polyurethane] 1.5 parts 90 parts of methyl ethyl ketone After application, the curing agent was cured at 50 ° C. for 24 hours. <Adhesive layer forming coating liquid> Film thickness 0.5 μm Urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec S6254B] 8 parts Polyacrylic ester copolymer [Nippon Pure Chemical Co., Ltd.] : Julimer AT510] 2 parts Water 45 parts Ethanol 45 parts After application, it was dried at 70 ° C./30 sec.

【0244】さらに画像、文字が記録された前記受像体
又は透明樹脂層、鱗片顔料含有層上に前記構成からなる
活性光線硬化型転写箔1を用いて表面温度200℃に加
熱した、直径5cmゴム硬度85のヒートローラーを用
いて圧力150kg/cm2で1.2秒間熱をかけて転
写をおこなった。転写方式は特願平11−184270
号記載の転写装置で行った。 [実施例3] 「光学変化素子転写箔1の作成」 (離型層形成塗工液) 膜厚0.2μm ポリビニルアルコール(GL−05)(日本合成化学(株)製) 10部 水 90部 塗布後、90℃/30secで乾燥を行った。 (光学変換素子層) 膜厚2μm 〈中間層形成塗工液〉 膜厚1.0μm ポリビニルブチラール樹脂〔積水化学(株)製:エスレックBX−1〕3.5部 タフテックスM−1913(旭化成) 5部 硬化剤 ポリイソシアネート[コロネートHX 日本ポリウレタン製]1.5部 メチルエチルケトン 90部 塗布後、90℃/30secで乾燥を行い、塗布後硬化
剤の硬化は、50℃、24時間で行った。 〈接着層形成塗工液〉 膜厚0.5μm ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体 〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254B〕 8部 ポリアクリル酸エステル共重合体〔日本純薬(株)製:ジュリマーAT510〕 2部 水 45部 エタノール 塗布後、70℃/30secで乾燥を行った。
Further, a rubber having a diameter of 5 cm and heated to a surface temperature of 200 ° C. using the actinic ray-curable transfer foil 1 having the above-mentioned structure on the image receptor or transparent resin layer on which images and characters are recorded, and the scale-pigment-containing layer. Transfer was performed using a heat roller having a hardness of 85 at a pressure of 150 kg / cm 2 for 1.2 seconds. The transfer method is Japanese Patent Application No. 11-184270.
The transfer device described in No. [Example 3] "Preparation of optical variable element transfer foil 1" (Release layer forming coating liquid) Film thickness 0.2 µm Polyvinyl alcohol (GL-05) (Nippon Gosei Kagaku KK) 10 parts Water 90 parts After coating, it was dried at 90 ° C./30 sec. (Optical conversion element layer) Film thickness 2 μm <Intermediate layer forming coating liquid> Film thickness 1.0 μm Polyvinyl butyral resin [Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-REC BX-1] 3.5 parts Tuftex M-1913 (Asahi Kasei) 5 parts Curing agent Polyisocyanate [Coronate HX Nippon Polyurethane] 1.5 parts Methyl ethyl ketone 90 parts After application, drying was carried out at 90 ° C./30 sec. After application, the curing agent was cured at 50 ° C. for 24 hours. <Adhesive layer forming coating liquid> Film thickness 0.5 μm Urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer [manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec S6254B] 8 parts Polyacrylic ester copolymer [manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.] : Julimer AT510] 2 parts Water 45 parts Ethanol After application, it was dried at 70 ° C./30 sec.

【0245】さらに画像、文字が記録された前記受像体
上に前記構成からなる光学変化素子転写箔1を用いて表
面温度200℃に加熱した、直径5cmゴム硬度85の
ヒートローラーを用いて圧力150kg/cm2で1.
2秒間熱をかけて転写をおこなった。転写方式は特願平
11−184270号記載の転写装置で行った。 <打ち抜き性評価>ICカード基材作成装置により作成
されたカード集合体から複数の個人認証用カードを得る
ためには、カード集合体を30℃/60%環境下で5日
放置後にカード集合体から複数の個人認証用カードを打
ち抜いた。
Further, a pressure of 150 kg was applied by using a heat roller having a diameter of 5 cm and a rubber hardness of 85, which was heated to a surface temperature of 200 ° C. by using the optical variable element transfer foil 1 having the above-mentioned structure on the image receptor on which images and characters were recorded. 1 / cm 2
Transfer was performed by applying heat for 2 seconds. The transfer system was the transfer device described in Japanese Patent Application No. 11-184270. <Evaluation of punchability> In order to obtain a plurality of personal authentication cards from a card assembly prepared by an IC card substrate preparation device, the card assembly is left for 5 days in an environment of 30 ° C / 60%, and then the card assembly is left. Punched out multiple personal authentication cards from.

【0246】打ち抜き評価方法としては、 ×;カード上に形成できず。打ち抜きOK確率50%以
下。 △;打ち抜き断面部に接着剤のダレが発生。 ○;打ち抜きOK確率100%。 <耐薬品性評価>仕上がったカードをIPA50%溶
液、液温25℃の1日浸積し、カード表面を観察した。
評価は目視で下記のような評価項目で評価した。 ×;画像情報が消滅している。 △;50%以上の画像情報がかすれている。 ○;初期のカードと変化がない。 <耐水性の評価>仕上がったカードを水温25℃の水道
水に3日浸積し、カード表面を観察した。評価は目視で
下記のような評価項目で評価した。 ×;転写箔が剥がれ保護層が無くなっている。 △;カード表面に水泡がでている。 ○;初期のカードと変化がない。 <ICカード基材カール性の評価>ICカードに仕上が
ったカードの4角をそれぞれ押したときの、最大の反り
高さを測定した。 ×;カード最大反り高さが7mm以上 △;カード最大反り高さが4.0mm以上〜7mm未満 ○;カード最大反り高さが4.0mm未満
The punching evaluation method is x: it cannot be formed on the card. Punching OK probability is 50% or less. Δ: Adhesive sagging occurred on the punched cross-section. ◯: Punching OK probability is 100%. <Evaluation of chemical resistance> The finished card was immersed in an IPA 50% solution for 1 day at a liquid temperature of 25 ° C., and the surface of the card was observed.
The evaluation was performed visually with the following evaluation items. ×: The image information has disappeared. Δ: 50% or more of image information is faint. ○: No change from the initial card. <Evaluation of Water Resistance> The finished card was immersed in tap water having a water temperature of 25 ° C. for 3 days, and the surface of the card was observed. The evaluation was performed visually with the following evaluation items. X: The transfer foil was peeled off and the protective layer was lost. Δ: Water bubbles appear on the surface of the card. ○: No change from the initial card. <Evaluation of Curling Property of IC Card Substrate> The maximum warpage height when each of the four corners of the finished IC card was pressed was measured. ×: Card maximum warpage height of 7 mm or more △; Card maximum warpage height of 4.0 mm or more to less than 7 mm ○; Card maximum warpage height of less than 4.0 mm

【0247】[0247]

【発明の効果】前記したように、請求項1乃至請求項1
9に記載の発明によれば、耐薬品性、耐水性、カール
性、打ち抜き性が向上することができる。
As described above, the first to the first aspects are provided.
According to the invention described in 9, the chemical resistance, water resistance, curling property, and punching property can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】ICカード基材の断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of an IC card substrate.

【図2】画像記録体作成装置の概略構成図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an image recording body creating apparatus.

【図3】画像記録体の層構成を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a layer structure of an image recording body.

【図4】画像記録体作成装置の他の実施の形態の概略構
成図である。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram of another embodiment of the image recording body creating apparatus.

【図5】画像記録体の他の実施の形態の層構成を示す図
である。
FIG. 5 is a diagram showing a layer structure of another embodiment of the image recording body.

【図6】画像記録体作成装置の他の実施の形態の概略構
成図である。
FIG. 6 is a schematic configuration diagram of another embodiment of the image recording body creating apparatus.

【図7】画像記録体の他の実施の形態の層構成を示す図
である。
FIG. 7 is a diagram showing a layer structure of another embodiment of an image recording body.

【図8】透明保護転写箔の実施の形態を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing an embodiment of a transparent protective transfer foil.

【図9】光学変化素子転写箔の実施の形態を示す図であ
る。
FIG. 9 is a diagram showing an embodiment of an optical variable element transfer foil.

【図10】硬化型転写箔の実施の形態を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing an embodiment of a curable transfer foil.

【図11】硬化型樹脂層含有光学変化素子転写箔の実施
の形態を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing an embodiment of a curable resin layer-containing optical change element transfer foil.

【図12】表シートの第1実施の形態を示す図である。FIG. 12 is a diagram showing a first embodiment of a front sheet.

【図13】表シートの第2実施の形態を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing a second embodiment of a front sheet.

【図14】表シートの第3実施の形態を示す図である。FIG. 14 is a diagram showing a third embodiment of a front sheet.

【図15】裏シートの第1実施の形態を示す図である。FIG. 15 is a diagram showing a first embodiment of a back sheet.

【図16】裏シートの第2実施の形態を示す図である。FIG. 16 is a diagram showing a second embodiment of a back sheet.

【図17】透かし模様を示す図である。FIG. 17 is a diagram showing a watermark pattern.

【図18】ICカード用材料のICモジュールの模式図
である。
FIG. 18 is a schematic diagram of an IC module of an IC card material.

【図19】ICモジュールと固定層のインレットの模式
図である。
FIG. 19 is a schematic diagram of an inlet of an IC module and a fixed layer.

【図20】ICカード基材作成装置を示す概略構成図で
ある。
FIG. 20 is a schematic configuration diagram showing an IC card base material producing apparatus.

【図21】ICカード基材作成装置を示す他の実施の形
態の概略構成図である。
FIG. 21 is a schematic configuration diagram of another embodiment showing an IC card base material producing apparatus.

【図22】ICカード基材作成シートを示す図である。FIG. 22 is a view showing an IC card base material producing sheet.

【図23】ICカード基材の断面図である。FIG. 23 is a cross-sectional view of an IC card base material.

【図24】ICカード基材の他の実施の形態の断面図で
ある。
FIG. 24 is a cross-sectional view of another embodiment of an IC card substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1のシート部材 2 第2のシート部材 3 電子部品 4 インレット 5,6 接着剤 1 First sheet member 2 Second sheet member 3 electronic components 4 inlets 5,6 adhesive

フロントページの続き Fターム(参考) 2C005 MA11 MA14 MA19 NA09 PA04 PA19 PA21 PA23 RA04 RA09 RA10 SA14 5B035 BA03 BB09 CA01 CA04 5F061 AA02 BA05 CA22 DE03 DE04 FA03 Continued front page    F-term (reference) 2C005 MA11 MA14 MA19 NA09 PA04                       PA19 PA21 PA23 RA04 RA09                       RA10 SA14                 5B035 BA03 BB09 CA01 CA04                 5F061 AA02 BA05 CA22 DE03 DE04                       FA03

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】第1のシート部材と第2のシート部材との
間に所定の厚みの電子部品とを備え、 少なくとも前記第1のシート部材と前記第2のシート部
材と前記電子部品とを、硬化後の樹脂物性が破断伸度
(%)が50〜500であり、2%弾性率(kgf/m
2)0.01〜10.0kgf/mm2からなる特定弾
性エポキシ接着剤を介在して積層構造を有することを特
徴とするICカード基材。
1. An electronic component having a predetermined thickness is provided between a first sheet member and a second sheet member, and at least the first sheet member, the second sheet member and the electronic component are provided. The resin physical properties after curing have a breaking elongation (%) of 50 to 500 and a 2% elastic modulus (kgf / m).
m 2 ) An IC card substrate having a laminated structure with a specific elastic epoxy adhesive of 0.01 to 10.0 kgf / mm 2 interposed.
【請求項2】硬化前の前記特定弾性エポキシ接着剤の2
3℃における粘度が1000〜35000cpsである
ことを特徴とする請求項1に記載のICカード基材。
2. The specific elastic epoxy adhesive before curing 2
The IC card substrate according to claim 1, wherein the viscosity at 3 ° C is 1000 to 35000 cps.
【請求項3】前記特定弾性エポキシ接着剤を80℃以下
の温度で塗工または貼り合わせて作成した積層構造を有
することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の
ICカード基材。
3. The IC card base material according to claim 1, which has a laminated structure formed by coating or laminating the specific elastic epoxy adhesive at a temperature of 80 ° C. or lower.
【請求項4】請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記
載のICカード基材の一方の基体には、熱転写記録方式
で昇華もしくは熱拡散性染料画像を受容する受像層を有
することを特徴とする画像記録体。
4. An image-receiving layer for receiving a sublimation or heat-diffusible dye image in a thermal transfer recording system is provided on one of the substrates of the IC card substrate according to any one of claims 1 to 3. An image recording body characterized by.
【請求項5】請求項1乃至請求項3のいずれかに1項に
記載のICカード基材または請求項4に記載の画像記録
体上が、光または熱硬化型樹脂層で保護されていること
を特徴とするICカード。
5. The IC card substrate according to any one of claims 1 to 3 or the image recording body according to claim 4 is protected by a light or thermosetting resin layer. An IC card characterized by
【請求項6】請求項1乃至請求項3のいずれかに1項に
記載のICカード基材または請求項4に記載の画像記録
体上に、少なくとも離型層、透明樹脂層を有する支持体
上からなる転写箔を少なくとも1回以上熱転写すること
を特徴とするICカードの製造方法。
6. A support having at least a release layer and a transparent resin layer on the IC card substrate according to any one of claims 1 to 3 or the image recording body according to claim 4. A method of manufacturing an IC card, characterized in that the above transfer foil is thermally transferred at least once.
【請求項7】請求項1乃至請求項3のいずれかに1項に
記載のICカード基材または請求項4に記載の画像記録
体上に、少なくとも離型層、透明樹脂層を有する支持体
上からなる転写箔を少なくとも1回以上熱転写した後、
光または熱硬化性層を設けたことを特徴とするICカー
ド。
7. A support having at least a release layer and a transparent resin layer on the IC card substrate according to any one of claims 1 to 3 or the image recording body according to claim 4. After heat-transferring the above transfer foil at least once,
An IC card provided with a light or thermosetting layer.
【請求項8】請求項1乃至請求項3のいずれかに1項に
記載のICカード基材または請求項4に記載の画像記録
体上に、少なくとも離型層、透明樹脂層を有する支持体
からなる転写箔を少なくとも1回以上熱転写した後、光
または/及び熱硬化性層を設けた後に、活性光線で露光
または/及び熱処理することを特徴とするICカード製
造方法。
8. A support having at least a release layer and a transparent resin layer on the IC card substrate according to claim 1 or the image recording body according to claim 4. A method for producing an IC card, comprising the steps of: thermally transferring a transfer foil made of at least one or more times, providing a light or / and thermosetting layer, and then exposing or / and heat treating with actinic rays.
【請求項9】個人情報として顔画像、住所、名前、生年
月日等の情報を有することを特徴とする請求項5または
請求項7に記載のICカード。
9. The IC card according to claim 5 or 7, wherein the personal information includes face image, address, name, date of birth and the like.
【請求項10】請求項5、請求項7、請求項9のいずれ
か1項に記載のICカードが、0〜80℃で接着可能な
特定弾性エポキシ樹脂を少なくとも有する接着部材を、 150℃/30minにおける熱収縮率が縦(MD)で
1.2%以下、横(TD)で0.5%以下の白色支持体
からなる基材を0〜80℃の加熱温度下で塗工または貼
り合わせる工程と、 塗工または貼り合わせ後0〜80℃の加熱温度で硬化促
進する工程と、 −10℃〜70℃で貼り合わせ冷却する工程と、 を少なくとも有する製造工程により作成することを特徴
とするICカード基材製造方法。
10. The IC card according to claim 5, 7, or 9, wherein an adhesive member having at least a specific elastic epoxy resin capable of adhering at 0 to 80 ° C. A base material composed of a white support having a heat shrinkage ratio of 1.2% or less in the longitudinal direction (MD) and 0.5% or less in the transverse direction (TD) at 30 min is coated or bonded at a heating temperature of 0 to 80 ° C. And a step of accelerating curing at a heating temperature of 0 to 80 ° C. after coating or laminating, and a step of laminating and cooling at −10 ° C. to 70 ° C. IC card base material manufacturing method.
【請求項11】第1のシート部材と第2のシート部材と
の間に所定の厚みの電子部品とを備え、 少なくとも前記第1のシート部材と前記第2のシート部
材と前記電子部品とを、 エポキシ基を1分子内に2個以上含んだ化合物と、 10〜150℃の温度でカチオンを発生する化合物と、 を少なくとも含む接着剤部材を介在して80℃以下での
温度で塗工または貼り合わせて作成した積層構造を有す
ることを特徴とするICカード基材。
11. An electronic component having a predetermined thickness is provided between a first sheet member and a second sheet member, and at least the first sheet member, the second sheet member and the electronic component are provided. , A compound containing two or more epoxy groups in one molecule, and a compound generating a cation at a temperature of 10 to 150 ° C. are applied at a temperature of 80 ° C. or lower through an adhesive member containing at least An IC card substrate having a laminated structure formed by pasting.
【請求項12】請求項11に記載のICカード基材に
は、熱転写記録方式で昇華もしくは熱拡散性染料画像を
受容する受像層を有することを特徴とする画像記録体。
12. An image recording body, wherein the IC card substrate according to claim 11 has an image receiving layer for receiving a sublimation or heat diffusible dye image by a thermal transfer recording system.
【請求項13】請求項11に記載のICカード基材また
は請求項12に記載の画像記録体上が光または熱硬化型
樹脂層で保護されていることを特徴とするICカード。
13. An IC card characterized in that the IC card base material according to claim 11 or the image recording body according to claim 12 is protected by a light or thermosetting resin layer.
【請求項14】請求項11に記載のICカード基材また
は請求項12に記載の画像記録体上に、少なくとも離型
層、透明樹脂層を有する支持体からなる転写箔を、少な
くとも1回以上熱転写したことを特徴とするICカード
の製造方法。
14. A transfer foil comprising a support having at least a release layer and a transparent resin layer on the IC card substrate according to claim 11 or the image recording body according to claim 12 at least once. A method for manufacturing an IC card, which is characterized by thermal transfer.
【請求項15】請求項11に記載のICカード基材また
は請求項12に記載の画像記録体上に、少なくとも離型
層、透明樹脂層を有する支持体からなる転写箔を少なく
とも1回以上熱転写した後、光または熱硬化性層を設け
たことを特徴とするICカード。
15. A transfer foil comprising a support having at least a release layer and a transparent resin layer, which is transferred onto the IC card substrate according to claim 11 or the image recording body according to claim 12 at least once. After that, an IC card is provided with a light or thermosetting layer.
【請求項16】請求項11に記載のICカード基材また
は請求項12に記載の画像記録体上に、少なくとも離型
層、透明樹脂層を有する支持体からなる転写箔を、少な
くとも1回以上熱転写した後、光または/及び熱硬化性
層を設けた後に、活性光線で露光または/及び熱処理し
たことを特徴とするICカードの製造方法。
16. A transfer foil comprising a support having at least a release layer and a transparent resin layer on the IC card substrate according to claim 11 or the image recording body according to claim 12 at least once or more. A method for producing an IC card, which comprises thermally transferring, then providing a light or / and thermosetting layer, and then exposing or heat treating with an actinic ray.
【請求項17】個人情報として顔画像、住所、名前、生
年月日等の情報を有することを特徴とする請求項13ま
たは請求項15に記載のICカード。
17. The IC card according to claim 13 or 15, wherein the personal information includes face image, address, name, date of birth and the like.
【請求項18】請求項13、請求項15、請求項17の
いずれか1項に記載のICードが、0〜80℃で接着可
能であり、 エポキシ基を1分子内に2個以上含んだ化合物と、10
〜150℃の温度でカチオンを発生する化合物とを少な
くとも含む接着剤部材を、 150℃/30minにおける熱収縮率が縦(MD)で
1.2%以下、横(TD)で0.5%以下の白色支持体
からなる基材を0〜80℃の加熱温度下で塗工または貼
り合わせる工程と、 塗工または貼り合わせ後0〜80℃の加熱温度で硬化促
進する工程と、 −10℃〜70℃で貼り合わせ冷却する工程と、 を少なくとも有する製造工程により作成することを特徴
とするICカード基材製造方法。
(18) The IC card according to any one of (13), (15) and (17) can be adhered at 0 to 80 ° C, and contains two or more epoxy groups in one molecule. Compound and 10
The heat-shrinkage rate at 150 ° C./30 min of the adhesive member containing at least a compound that generates cations at a temperature of 150 ° C. to 1.2 ° C. in the longitudinal direction (MD) is 0.5% or less in the transverse direction (TD). The step of coating or laminating the base material composed of the white support of 0 to 80 ° C. at a heating temperature of 0 to 80 ° C., the step of accelerating the curing at a heating temperature of 0 to 80 ° C. after coating or laminating, A method of manufacturing an IC card base material, comprising: a step of laminating and cooling at 70 ° C .;
【請求項19】前記ICカードに透かし印刷が施されて
いることを特徴とする請求項9または請求項17に記載
のICカード。
19. The IC card according to claim 9, wherein the IC card is watermark-printed.
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WO2005004045A1 (en) * 2003-07-07 2005-01-13 Konica Minolta Photo Imaging, Inc. Ic card and ic card manufacturing method
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