JP2003057685A - Device for varying light transmittance - Google Patents

Device for varying light transmittance

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JP2003057685A
JP2003057685A JP2001245586A JP2001245586A JP2003057685A JP 2003057685 A JP2003057685 A JP 2003057685A JP 2001245586 A JP2001245586 A JP 2001245586A JP 2001245586 A JP2001245586 A JP 2001245586A JP 2003057685 A JP2003057685 A JP 2003057685A
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Japan
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light transmittance
electrode film
film
metal electrode
varying device
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Application number
JP2001245586A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideaki Hanaoka
英章 花岡
Kunio Ikui
邦夫 生井
Yoshihiro Oshima
宜浩 大島
Hideaki Inoue
英亮 井上
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To vary light transmittance in a short time and also to efficiently transmit light in a light transmittance varying device having electrochromic elements. SOLUTION: A metal electrode film 11a being a metal film having a plurality of openings, an electrochromic element 12a, electrolyte 13, an electrochromic element 12b and a transparent electrode film 11b composed of a transparent conductive film are laminated on a glass plate 10a. A glass plate 10b is stuck onto the transparent electrode film 11b with an epoxy adhesive 14.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は光透過率可変装置に
関し、特にエレクトロクロミック素子を有する光透過率
可変装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light transmittance varying device, and more particularly to a light transmittance varying device having an electrochromic element.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、テレビなどの表示装置で最も広く
用いられているCRT(陰極線管)においては、周辺光
が表示面の内側にある蛍光スクリーンで反射し、画面に
表示される像を見えづらくしてしまう場合がある。そこ
で周辺光の蛍光スクリーンでの反射を減衰するために以
下の2つの方法がとられている。
2. Description of the Related Art In a CRT (cathode ray tube) currently most widely used in display devices such as televisions, ambient light is reflected by a fluorescent screen inside a display surface and an image displayed on the screen can be seen. It can be difficult. Therefore, the following two methods are used to attenuate the reflection of ambient light on the fluorescent screen.

【0003】1つは、CRTのフェースプレートに色付
きガラスを用いる方法である。蛍光スクリーンから発せ
られる光は、フェースプレートを1回通過して人の目に
入るが、周辺光はフェースプレートの外から中へ、中か
ら外へと2回透過するため大きく減衰され、コントラス
トの優れた像を見ることができる。ただし、フェースプ
レートの光透過率が固定されるため、周辺光の状況によ
っては、明るさが不十分であったり、コントラストが不
十分であったりすることがある。
One is a method of using colored glass for a face plate of a CRT. The light emitted from the fluorescent screen passes through the face plate once and enters the human eye, but the ambient light is greatly attenuated because it is transmitted twice from the outside to the inside of the face plate, and from the inside to the outside. You can see a good statue. However, since the light transmittance of the face plate is fixed, the brightness or the contrast may be insufficient depending on the ambient light conditions.

【0004】そこで、2つめの方法としてフェースプレ
ートの光透過率を可変するという方法がある。特許第3
064431号には、光センサにより周辺の光の強度変
化を検出し、検出した光の強度に反比例して表示装置の
パネルの光透過率を変化させることにより、周囲の明る
さによらず明るさとコントラストのバランスを得る方法
を例示している。
Therefore, as a second method, there is a method of changing the light transmittance of the face plate. Patent No. 3
In 064431, a light sensor detects a change in the intensity of ambient light and changes the light transmittance of the panel of the display device in inverse proportion to the intensity of the detected light so that the brightness can be changed regardless of the ambient brightness. The method of obtaining the balance of contrast is illustrated.

【0005】この光透過率を可変する1つの方法とし
て、エレクトロクロミック素子を応用することが検討さ
れた(G.C. de Vries,"Variable Transmission Coating
s forPicture Tubes",Society for Information Displa
y Digest of Technical Papers(1999),pp144-147)。
As one method of varying the light transmittance, application of an electrochromic device has been studied (GC de Vries, "Variable Transmission Coating".
s forPicture Tubes ", Society for Information Displa
y Digest of Technical Papers (1999), pp144-147).

【0006】エレクトロクロミック素子は、電圧を印加
することにより可視光の吸収スペクトルが可逆的に変化
し、着色または消色を起こすエレクトロクロミック現象
を利用したものである。このような現象を示す物質は、
現在のところ電圧印加によりイオンと電子が流入するこ
とによる酸化還元反応に伴って着色消色反応を起こす遷
移金属の酸化物が用いられることが多い。このため、エ
レクトロクロミック素子は、一般に2つの電極間に、1
または2以上のエレクトロクロミック物質層とエレクト
ロクロミック物質層にイオンを供給する電解質層を挟ん
だ構成となっている。
The electrochromic device utilizes an electrochromic phenomenon in which the absorption spectrum of visible light is reversibly changed by applying a voltage and causes coloring or decoloring. Substances that exhibit this phenomenon are
At present, oxides of transition metals are often used, which cause a coloring and decoloring reaction along with a redox reaction caused by the inflow of ions and electrons when a voltage is applied. For this reason, electrochromic devices generally have one electrode between two electrodes.
Alternatively, two or more electrochromic material layers and an electrolyte layer for supplying ions are sandwiched between the electrochromic material layers.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のように
光透過率を可変する場合、エレクトロクロミック物質に
電圧をかける電極として透明導電膜を使用する必要があ
り、その抵抗値は数十〜数Ω/□と十分に低くないた
め、透過率可変に時間がかかるという問題点があった。
However, in the case of varying the light transmittance as described above, it is necessary to use a transparent conductive film as an electrode for applying a voltage to the electrochromic substance, and its resistance value is several tens to several. Since it is not sufficiently low as Ω / □, there is a problem that it takes time to change the transmittance.

【0008】例えば、眼鏡レンズの大きさでの可変時間
は消色から着色状態まで9秒であるが(“調光ガラス
“朝日新聞夕刊1993.6.30より)、同じ構成で
あっても15インチ程度(240mm×320mm)の
大きさでは動作速度が急激に遅くなり約5分もかかって
しまう。
For example, the variable time depending on the size of the spectacle lens is 9 seconds from the erasing state to the coloring state (from "Light control glass" Asahi Shimbun evening edition 1993.6.30), but even if the same configuration is used, 15 If the size is about inch (240 mm × 320 mm), the operation speed will be drastically reduced and it will take about 5 minutes.

【0009】また、エレクトロクロミックの電極として
金属膜を使うことができれば、その抵抗値は1〜0.1
Ω/□であるため動作速度が速まるが、光の透過性を失
ってしまう。そこで金属膜に透過性を持たせるために、
金属膜の厚さを数nm程度にすると逆に抵抗値が上がっ
てしまうという問題点があった。
If a metal film can be used as an electrochromic electrode, its resistance value is 1 to 0.1.
Since it is Ω / □, the operation speed is increased, but light transmission is lost. Therefore, in order to make the metal film transparent,
On the contrary, when the thickness of the metal film is set to about several nm, there is a problem that the resistance value is increased.

【0010】本発明はこのような点に鑑みてなされたも
のであり、光の透過率の可変を短時間で行うとともに、
光を効率よく透過する光透過率可変装置を提供すること
を目的とする。
The present invention has been made in view of the above points, and the light transmittance can be changed in a short time, and
It is an object of the present invention to provide a light transmittance varying device that efficiently transmits light.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、エレク
トロクロミック素子を有する光透過率可変装置におい
て、前記エレクトロクロミック素子を挟み、対向して配
置される2つの電極の少なくとも一方が、複数の開口を
有する金属膜からなる金属電極膜であることを特徴とす
る光透過率可変装置が提供される。
According to the present invention, in a light transmittance varying device having an electrochromic element, at least one of two electrodes arranged opposite to each other with the electrochromic element sandwiched therebetween has a plurality of electrodes. There is provided a light transmittance varying device, which is a metal electrode film made of a metal film having an opening.

【0012】上記構成によれば、複数の開口を有する金
属膜からなる金属電極膜と、透明の導電膜からなる透明
電極とでエレクトロクロミック素子を挟むこととしたの
で、光の透過率の可変を短時間で行うとともに、光を効
率よく透過する。
According to the above structure, since the electrochromic element is sandwiched between the metal electrode film made of a metal film having a plurality of openings and the transparent electrode made of a transparent conductive film, the light transmittance can be varied. It is performed in a short time and transmits light efficiently.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図1は本発明の第1の実施の形態
に係る光透過率可変装置を示す図であり、(a)は全体
の斜視図、(b)はA1矢視から見た一部断面図を示
す。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1A and 1B are views showing a light transmittance varying device according to a first embodiment of the present invention, wherein FIG. 1A is a perspective view of the whole, and FIG. 1B is a partial cross-sectional view seen from the arrow A1. .

【0014】光透過率可変装置は、ガラス板10a、1
0bと、金属電極膜11aと、透明電極膜11bと、エ
レクトロクロミック素子12a、12bと、電解質13
と、エポキシ接着剤14から構成される。ガラス板10
a、10bと、金属電極膜11aと、透明電極膜11b
と、エレクトロクロミック素子12a、12bと、電解
質13の縦、横の大きさは240mm、320mmであ
る。
The variable light transmittance device comprises glass plates 10a, 1
0b, the metal electrode film 11a, the transparent electrode film 11b, the electrochromic elements 12a and 12b, and the electrolyte 13
And an epoxy adhesive 14. Glass plate 10
a, 10b, metal electrode film 11a, transparent electrode film 11b
The vertical and horizontal sizes of the electrochromic elements 12a and 12b and the electrolyte 13 are 240 mm and 320 mm.

【0015】ガラス板10a、10bは、厚さ5mmの
透明なガラスからなる。ガラス板10aとガラス板10
bは対向するように配置し、この間に金属電極膜11
a、透明電極膜11bと、エレクトロクロミック素子1
2a、12bと、電解質13と、エポキシ接着剤14が
配置される。
The glass plates 10a and 10b are made of transparent glass having a thickness of 5 mm. Glass plate 10a and glass plate 10
b are arranged so as to face each other, and the metal electrode film 11 is provided between them.
a, the transparent electrode film 11b, and the electrochromic device 1
2a, 12b, an electrolyte 13, and an epoxy adhesive 14 are arranged.

【0016】ここで、図2は本発明の第1の実施の形態
に係る光透過率可変装置のガラス板と金属電極膜を示す
図であり(a)は一部正面図、(b)は矢視A2から見
た断面図を示す。
Here, FIG. 2 is a view showing a glass plate and a metal electrode film of the light transmittance varying device according to the first embodiment of the present invention, (a) is a partial front view, and (b) is a view. The sectional view seen from the arrow A2 is shown.

【0017】金属電極膜11aは、ガラス板10aの上
に形成され格子状の開口11aaを複数有する。金属電
極膜11aおよび開口11aaを形成するには、まず、
ガラス板10aのガラス板10bの対向する面の上に蒸
着法により銅を240nmの厚さで成膜する。次に、成
膜した銅の上にフォトリソグラフィー法によってレジス
トパターンを形成する。次に、レジストパターンをマス
クとしてエッチングし、一部の銅を取り除く。このとき
開口11aaは、大きさ280μmの正方形の形状とな
るように、また開口11aaの間隔が20μmとなるよ
うに形成する。
The metal electrode film 11a is formed on the glass plate 10a and has a plurality of lattice-shaped openings 11aa. To form the metal electrode film 11a and the opening 11aa, first,
Copper is deposited to a thickness of 240 nm on the surface of the glass plate 10a facing the glass plate 10b by vapor deposition. Next, a resist pattern is formed on the formed copper by photolithography. Next, etching is performed using the resist pattern as a mask to remove a part of copper. At this time, the openings 11aa are formed so as to have a square shape with a size of 280 μm and the distance between the openings 11aa is 20 μm.

【0018】エレクトロクロミック素子12aは、厚さ
150nmの酸化イリジウム(IrOx、xは正の整
数)からなる。エレクトロクロミック素子12aは、真
空容器の中で、金属電極膜11aと開口11aaの上に
蒸着法によって成膜する。
The electrochromic device 12a is made of iridium oxide (IrO x , where x is a positive integer) having a thickness of 150 nm. The electrochromic element 12a is formed on the metal electrode film 11a and the opening 11aa by vapor deposition in a vacuum container.

【0019】電解質13は、厚さ560nmの固体の五
酸化タンタル(Ta25)からなる。エレクトロクロミ
ック素子12aの蒸着に引き続いて、真空容器の中で蒸
着法によりエレクトロクロミック素子12aの上に成膜
する。ここで、ここまで形成してきた光透過率可変装置
を真空容器から取り出し、大気中に放置して電解質13
に水を十分に吸着させる。
The electrolyte 13 is made of solid tantalum pentoxide (Ta 2 O 5 ) having a thickness of 560 nm. Subsequent to the vapor deposition of the electrochromic element 12a, a film is formed on the electrochromic element 12a by vapor deposition in a vacuum container. Here, the light transmittance varying device that has been formed up to this point is taken out of the vacuum container and left in the atmosphere to leave the electrolyte 13
Adsorb water sufficiently to the.

【0020】エレクトロクロミック素子12bは、厚さ
410nmの三酸化タングステン(WO3)からなる。
エレクトロクロミック素子12bは、再度、電解質13
を形成したところまでの光透過率可変装置を真空容器に
入れ、電解質13の上に成膜する。
The electrochromic device 12b is made of tungsten trioxide (WO 3 ) having a thickness of 410 nm.
The electrochromic element 12b is again provided with the electrolyte 13
The light transmittance varying device up to the point where the film was formed is placed in a vacuum container and a film is formed on the electrolyte 13.

【0021】透明電極膜11bは、透明の導電膜で厚さ
240nmのITO(Indium Tin Oxide、In23/S
nO2)からなる。透明電極膜11bは、エレクトロク
ロミック素子12bの上に蒸着法により成膜して形成す
る。
The transparent electrode film 11b is a transparent conductive film having a thickness of 240 nm and made of ITO (Indium Tin Oxide, In 2 O 3 / S).
nO 2 ). The transparent electrode film 11b is formed on the electrochromic element 12b by a vapor deposition method.

【0022】ガラス板10bは、透明電極膜11bの上
にエポキシ接着材を塗布して接着する。また、ガラス板
10a、10bと、金属電極膜11aと、透明電極膜1
1bと、エレクトロクロミック素子12a、12bと、
電解質13との全周囲を、エポキシ接着剤14を塗布し
て覆う。
The glass plate 10b is adhered by applying an epoxy adhesive on the transparent electrode film 11b. Further, the glass plates 10a and 10b, the metal electrode film 11a, and the transparent electrode film 1
1b, electrochromic elements 12a and 12b,
An epoxy adhesive 14 is applied to cover the entire periphery of the electrolyte 13.

【0023】このように、金属電極膜11aの厚さを1
0nm以上にしたことにより抵抗値が下がり、光の透過
率の可変を短時間に行うことができる。また、複数の格
子状の開口11aaを設けたことにより、光を効率よく
透過することができる。
Thus, the thickness of the metal electrode film 11a is set to 1
By setting the thickness to 0 nm or more, the resistance value is lowered, and the light transmittance can be changed in a short time. Further, by providing the plurality of grid-shaped openings 11aa, light can be efficiently transmitted.

【0024】次に、本発明の第2の実施の形態に係る光
透過率可変装置を図面を参照して詳細に説明する。図3
は本発明の第2の実施の形態に係る光透過率可変装置を
示す図であり、(a)は全体の斜視図、(b)はB1矢
視から見た一部断面図を示す。図1と同じものには同じ
番号を付し、説明は省略する。図3の光透過率可変装置
は縦、横の大きさが240mm、320mmの金属電極
膜21aを有する。ここで、金属電極膜21aについて
説明する。
Next, a light transmittance varying device according to a second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Figure 3
[FIG. 6] is a diagram showing a light transmittance varying device according to a second embodiment of the present invention, (a) is a perspective view of the whole, and (b) is a partial cross-sectional view seen from the arrow B1. The same parts as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. The light transmittance variable device of FIG. 3 has a metal electrode film 21a having vertical and horizontal sizes of 240 mm and 320 mm. Here, the metal electrode film 21a will be described.

【0025】図4は本発明の第2の実施の形態に係る光
透過率可変装置のガラス板と金属電極膜を示す図であり
(a)は一部正面図、(b)は矢視B2から見た断面図
を示す。
4A and 4B are views showing a glass plate and a metal electrode film of a light transmittance varying device according to a second embodiment of the present invention. FIG. 4A is a partial front view and FIG. 4B is an arrow B2. The sectional view seen from is shown.

【0026】金属電極膜21aは、ガラス板10aの上
に形成され、厚さ240nmのアルミからなり、また厚
さ3nmからなる格子状の光透過部21aaを有する。
光透過部21aaを形成するには、まず、ガラス板10
aのガラス板10bの対向する面の上に蒸着法によりア
ルミを240nmで成膜する。次に、成膜したアルミの
上にフォトリソグラフィー法によってレジストパターン
を形成する。次に、レジストパターンをマスクとしてエ
ッチングする。このとき、エッチング時間を調整するこ
とにより、エッチング部に光透過部21aaとして3n
mの厚さのアルミ膜が残るように形成する。光透過部2
1aaは、大きさ280μmの正方形の形状となるよう
に、また光透過部21aaの間隔を20μmとなるよう
に形成する。
The metal electrode film 21a is formed on the glass plate 10a, is made of aluminum having a thickness of 240 nm, and has a lattice-shaped light transmitting portion 21aa having a thickness of 3 nm.
To form the light transmitting portion 21aa, first, the glass plate 10
Aluminum is deposited to a thickness of 240 nm on the opposite surface of the glass plate 10b of a by vapor deposition. Next, a resist pattern is formed on the deposited aluminum by photolithography. Next, etching is performed using the resist pattern as a mask. At this time, the etching time is adjusted so that the light transmitting portion 21aa becomes 3n in the etching portion.
The aluminum film having a thickness of m is formed. Light transmission part 2
1aa is formed so as to have a square shape with a size of 280 μm, and the space between the light transmitting portions 21aa is 20 μm.

【0027】このように、金属電極膜21aの厚さを1
0nm以上にしたことに加え、光透過部21aaも金属
膜にしたことにより抵抗値が下がり、光の透過率の可変
を短時間で行うことができる。また、光透過部21aa
の厚さを10nm以下の金属膜としたので、光を効率よ
く透過することができる。
In this way, the thickness of the metal electrode film 21a is set to 1
In addition to having a thickness of 0 nm or more, the light transmitting portion 21aa is also made of a metal film, so that the resistance value is lowered and the light transmittance can be changed in a short time. In addition, the light transmitting portion 21aa
Since the metal film has a thickness of 10 nm or less, light can be efficiently transmitted.

【0028】次に、本発明の第3の実施の形態に係る光
透過率可変装置を図面を参照して詳細に説明する。図5
は本発明の第3の実施の形態に係る光透過率可変装置を
示す図であり、(a)は全体の斜視図、(b)はC1矢
視から見た一部断面図を示す。図1と同じものには同じ
番号を付し、説明は省略する。図5の光透過率可変装置
は縦、横の大きさが240mm、320mmの金属電極
膜31aと透明電極膜32とを有する。ここで、金属電
極膜31aと透明電極膜32について説明する。
Next, a light transmittance varying device according to a third embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Figure 5
[Fig. 6] is a diagram showing a light transmittance varying device according to a third embodiment of the present invention, (a) is a perspective view of the whole, and (b) is a partial cross-sectional view seen from the arrow C1. The same parts as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. The light transmittance varying device of FIG. 5 has a metal electrode film 31a and a transparent electrode film 32, each of which has a length of 240 mm and a width of 320 mm. Here, the metal electrode film 31a and the transparent electrode film 32 will be described.

【0029】図6は第3の実施の形態に係る光透過率可
変装置のガラス板と金属電極膜と透明電極膜とを示す図
であり(a)は一部正面図、(b)は矢視C2から見た
断面図を示す。
6A and 6B are views showing a glass plate, a metal electrode film, and a transparent electrode film of a light transmittance varying device according to the third embodiment. FIG. 6A is a partial front view and FIG. 6B is an arrow. The sectional view seen from the view C2 is shown.

【0030】金属電極膜31aは、水平方向にスリット
状の開口31aaを有する。金属電極膜31aおよび開
口31aaを形成するには、まず、ガラス板10aのガ
ラス板10bの対向する面の上に蒸着法により銅を24
0nmの厚さで成膜する。次に、成膜した銅の上にフォ
トリソグラフィー法によってレジストパターンを形成す
る。次に、レジストパターンをマスクとしてエッチング
し、一部の銅を取り除く。このとき開口31aaは、縦
方向の大きさが270μmのスリット状となるように、
また開口31aaの間隔を30μmとなるように形成す
る。
The metal electrode film 31a has a slit-shaped opening 31aa in the horizontal direction. In order to form the metal electrode film 31a and the opening 31aa, first, copper is deposited on the surface of the glass plate 10a facing the glass plate 10b by a vapor deposition method.
The film is formed with a thickness of 0 nm. Next, a resist pattern is formed on the formed copper by photolithography. Next, etching is performed using the resist pattern as a mask to remove a part of copper. At this time, the opening 31aa has a slit shape with a vertical size of 270 μm.
Further, the openings 31aa are formed so that the distance between them is 30 μm.

【0031】透明電極膜32は、透明の導電膜で厚さ2
40nmのITOからなる。透明電極膜32は、金属電
極膜31aの上に蒸着法により成膜して形成する。とこ
ろで、第3の実施の形態に係る光透過率可変装置をトリ
ニトロンCRTに適用する場合、シャドウマスクのすだ
れ状の開口の長手方向と、開口31aaの長手方向とが
平行となるように配置した場合、干渉縞が生じてしまう
ので、シャドウマスクのすだれ状に開口した長手方向
と、開口31aaの長手方向とが垂直となるように配置
する。
The transparent electrode film 32 is a transparent conductive film and has a thickness of 2
It consists of 40 nm ITO. The transparent electrode film 32 is formed on the metal electrode film 31a by a vapor deposition method. By the way, in the case where the light transmittance varying device according to the third embodiment is applied to a Trinitron CRT, the shadow mask is arranged so that the longitudinal direction of the interdigital aperture and the longitudinal direction of the aperture 31aa are parallel to each other. Since interference fringes are generated, the shadow mask is arranged so that the longitudinal direction of the comb-shaped opening and the longitudinal direction of the opening 31aa are perpendicular to each other.

【0032】また、上記説明では、ガラス板10a上に
金属電極膜31a、透明電極膜32を形成したが、透明
電極膜32をガラス板10a上に形成して、その上に金
属電極膜31aを形成してもよい。
Although the metal electrode film 31a and the transparent electrode film 32 are formed on the glass plate 10a in the above description, the transparent electrode film 32 is formed on the glass plate 10a and the metal electrode film 31a is formed thereon. You may form.

【0033】このように、金属電極膜31aの厚さを1
0nm以上にしたことに加え、金属電極膜31aに透明
電極膜32を成膜したことにより抵抗値が下がり、光の
透過率の可変を短時間で行うことができる。また、開口
31aaを有し、透明電極膜32は透明の導電膜である
ので光を効率よく透過することができる。
Thus, the thickness of the metal electrode film 31a is set to 1
In addition to having a thickness of 0 nm or more, the transparent electrode film 32 is formed on the metal electrode film 31a, so that the resistance value is reduced and the light transmittance can be varied in a short time. Further, since the transparent electrode film 32 has the openings 31aa and is a transparent conductive film, light can be efficiently transmitted.

【0034】次に、本発明の第4の実施の形態に係る光
透過率可変装置を図面を参照して詳細に説明する。図7
は本発明の第4の実施の形態に係る光透過率可変装置を
示す図であり、(a)は全体の斜視図、(b)はD1矢
視から見た一部断面図を示す。図5と同じものには同じ
番号を付し、説明は省略する。図7の光透過率可変装置
は縦、横の大きさが240mm、320mmの金属電極
膜31bを有する。ここで、金属電極膜31bについて
説明する。
Next, a light transmittance varying device according to a fourth embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Figure 7
[Fig. 6] is a diagram showing a light transmittance varying device according to a fourth embodiment of the present invention, (a) is an overall perspective view, and (b) is a partial cross-sectional view seen from the arrow D1. 5 that are the same as those in FIG. The light transmittance varying device of FIG. 7 has a metal electrode film 31b having vertical and horizontal sizes of 240 mm and 320 mm. Here, the metal electrode film 31b will be described.

【0035】図8は第4の実施の形態に係る光透過率可
変装置の透明電極膜と金属電極膜とを示す図であり
(a)は一部正面図、(b)は矢視D2から見た断面図
を示す。金属電極膜31bは、垂直方向にスリット状の
開口31baを有する。金属電極膜31bおよび開口3
1baを形成するには、まず、透明電極膜11bの上に
蒸着法により銅を240nmの厚さで成膜する。次に、
成膜した銅の上にフォトリソグラフィー法によってレジ
ストパターンを形成する。次に、レジストパターンをマ
スクとしてエッチングし、一部の銅を取り除く。このと
き開口31baは、縦方向の大きさが270μmのスリ
ット状となるように、また開口31baの間隔を30μ
mとなるように形成する。
FIGS. 8A and 8B are views showing a transparent electrode film and a metal electrode film of a light transmittance varying device according to the fourth embodiment. FIG. 8A is a partial front view, and FIG. 8B is a view from an arrow D2. The seen sectional view is shown. The metal electrode film 31b has a slit-shaped opening 31ba in the vertical direction. Metal electrode film 31b and opening 3
To form 1ba, first, copper is deposited on the transparent electrode film 11b to a thickness of 240 nm by vapor deposition. next,
A resist pattern is formed on the formed copper by photolithography. Next, etching is performed using the resist pattern as a mask to remove a part of copper. At this time, the openings 31ba are formed in a slit shape having a vertical size of 270 μm, and the intervals between the openings 31ba are 30 μm.
It is formed so as to be m.

【0036】ところで、上記説明では、エレクトロクロ
ミック素子12bの上に透明電極膜11b、金属電極膜
31bを形成したが、金属電極膜31bをエレクトロク
ロミック素子12b上に形成して、その上に透明電極膜
11bを形成してもよい。
In the above description, the transparent electrode film 11b and the metal electrode film 31b are formed on the electrochromic element 12b. However, the metal electrode film 31b is formed on the electrochromic element 12b and the transparent electrode is formed on the metal electrode film 31b. The film 11b may be formed.

【0037】このように、2つの金属電極膜31a、3
1bを備え、金属電極膜31a、31bの厚さを10n
m以上としたことにより抵抗値が下がり、光の透過率の
可変を短時間で行うことができる。また、複数の開口3
1aa、31baを設けたことにより、光を効率よく透
過することができる。
Thus, the two metal electrode films 31a, 3
1b, and the thickness of the metal electrode films 31a and 31b is 10n.
By setting m or more, the resistance value decreases, and the light transmittance can be changed in a short time. Also, a plurality of openings 3
By providing 1aa and 31ba, light can be efficiently transmitted.

【0038】次に、第1の実施の形態から第4の実施の
形態に係る光透過率可変装置と比較例の光透過率可変装
置との光透過率変化と応答速度の比較について述べる。
図9は第1の実施の形態から第4の実施の形態に係る光
透過率可変装置と比較例の光透過率可変装置との光透過
率変化と応答速度の比較を示した図である。
Next, a comparison of light transmittance changes and response speeds of the light transmittance varying devices according to the first to fourth embodiments and the light transmittance varying device of the comparative example will be described.
FIG. 9 is a diagram showing a comparison of light transmittance changes and response speeds of the light transmittance varying devices according to the first to fourth embodiments and the light transmittance varying device of the comparative example.

【0039】光透過率変化は、光透過率可変装置が光を
減衰することなく透過した場合を100%として、光の
透過率を変化させることのできる範囲を示し、応答速度
は、消色から着色状態までの時間を秒で示してある。
The change in light transmittance shows the range in which the light transmittance can be changed, with 100% when the light transmittance changing device transmits light without attenuating the light. The time to color is shown in seconds.

【0040】ここで、比較例の光透過率可変装置の構造
について説明する。図10は比較例の光透過率可変装置
の断面図である。比較例の光透過率可変装置は、ガラス
板40a、40bと、透明電極膜41a、41bと、エ
レクトロクロミック素子42a、42bと、電解質43
と、エポキシ接着剤44から構成される。ガラス板40
a、40bと、透明電極膜41a、41bと、エレクト
ロクロミック素子42a、42bと、電解質43の縦、
横の大きさは240mm、320mmである。
Here, the structure of the light transmittance varying device of the comparative example will be described. FIG. 10 is a sectional view of a light transmittance varying device of a comparative example. The light transmittance varying device of the comparative example includes glass plates 40a and 40b, transparent electrode films 41a and 41b, electrochromic elements 42a and 42b, and an electrolyte 43.
And an epoxy adhesive 44. Glass plate 40
a, 40b, transparent electrode films 41a, 41b, electrochromic elements 42a, 42b, and a vertical direction of the electrolyte 43,
The lateral size is 240 mm and 320 mm.

【0041】ガラス板40a、40bは、透明なガラス
からなり5mmの厚さを有する。透明電極膜41a、4
1bは、ITOからなり厚さは240nmである。エレ
クトロクロミック素子42aは、IrOxからなり厚さ
は150nmである。エレクトロクロミック素子42b
は、WO3からなり厚さは410nmである。電解質4
3は、Ta25からなり厚さは560nmである。透明
電極膜41bとガラス板40bはエポキシ接着剤44で
接着されている。
The glass plates 40a and 40b are made of transparent glass and have a thickness of 5 mm. Transparent electrode films 41a, 4
1b is made of ITO and has a thickness of 240 nm. The electrochromic element 42a is made of IrO x and has a thickness of 150 nm. Electrochromic element 42b
Is made of WO 3 and has a thickness of 410 nm. Electrolyte 4
3 is made of Ta 2 O 5 and has a thickness of 560 nm. The transparent electrode film 41b and the glass plate 40b are bonded with an epoxy adhesive 44.

【0042】第1の実施の形態に係る光透過率可変装置
では光透過率変化は36パーセントから70パーセン
ト、応答速度は200秒である。第2の実施の形態に係
る光透過率可変装置では光透過率変化は36パーセント
から70パーセント、応答速度は150秒である。
In the light transmittance varying device according to the first embodiment, the light transmittance change is 36% to 70%, and the response speed is 200 seconds. In the light transmittance varying device according to the second embodiment, the light transmittance change is 36% to 70%, and the response speed is 150 seconds.

【0043】第3の実施の形態に係る光透過率可変装置
では光透過率変化は36パーセントから70パーセン
ト、応答速度は150秒である。第4の実施の形態に係
る光透過率可変装置では光透過率変化は32パーセント
から65パーセント、応答速度は100秒である。
In the light transmittance changing device according to the third embodiment, the light transmittance change is 36% to 70%, and the response speed is 150 seconds. In the light transmittance changing device according to the fourth embodiment, the light transmittance change is 32% to 65%, and the response speed is 100 seconds.

【0044】比較例の光透過率可変装置では光透過率変
化は40パーセントから80パーセント、応答速度は3
00秒である。このように、本発明に係る光透過率可変
装置では、光透過率の最大値の低下を抑え、応答速度を
大幅に速くすることができる。
In the light transmittance varying device of the comparative example, the light transmittance changes from 40% to 80% and the response speed is 3%.
00 seconds. As described above, in the light transmittance varying device according to the present invention, it is possible to suppress a decrease in the maximum value of the light transmittance and to significantly increase the response speed.

【0045】上記第1の実施例から第4の実施例の説明
において、ガラス板10aと10bの材料は、ソーダガ
ラス、鉛ガラス、硬質ガラス、石英ガラス、液晶化ガラ
スや、ブラウン管でよく使用されるストロンチウム(S
t)やバリウム(Ba)を含むケイ酸ガラス、液晶表示
装置で用いられる無アルカリガラスなどを用いてもよ
い。
In the description of the first to fourth embodiments, the glass plates 10a and 10b are often used in soda glass, lead glass, hard glass, quartz glass, liquid crystal glass, and cathode ray tubes. Strontium (S
Alternatively, silicate glass containing t) or barium (Ba), non-alkali glass used in a liquid crystal display device, or the like may be used.

【0046】また、ガラス板10a、10bはプラスチ
ック板またはプラスチックフィルムが使用できる。上記
のガラス材を含めプラスチック板またはプラスチックフ
ィルムは、染料や顔料などの色素を用いて着色されてい
てもよく、金属電極膜、エレクトロクロミック素子を形
成する面とは反対の面に帯電防止膜、反射防止膜、汚れ
防止膜、赤外線カットフィルター、電磁波遮蔽フィルタ
ーなどの機能膜を形成してもよくまたは一体化されてい
てもよい。
The glass plates 10a and 10b may be plastic plates or plastic films. The plastic plate or plastic film including the above glass material may be colored with a dye such as a dye or a pigment, a metal electrode film, an antistatic film on the surface opposite to the surface on which the electrochromic element is formed, A functional film such as an antireflection film, an antifouling film, an infrared cut filter, or an electromagnetic wave shielding filter may be formed or integrated.

【0047】プラスチック材料としては、特に限定され
ることはなく、有機高分子からなる基材であればいかな
るものを用いてもよいが、透明性、屈折率、分散などの
光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸
特性から見て、特に、ポリメチルメタアクリレート、メ
チルメタクリレートと他のアルキル(メタ)アクリレー
ト、スチレンなどといったビニルモノマーとの共重合体
などの(メタ)アクリル系樹脂、ポリカーボネート、ジ
エチレングリコールビスアリルカーボネート(CR−3
9)などのポリカーボネート系樹脂、(臭素化)ビスフ
ェノールA型のジ(メタ)アクリレートの単独重合体な
いし共重合体、(臭素化)ビスフェノールAモノ(メ
タ)アクリレートのウレタン変性モノマーの重合体及び
共重合体などといった熱硬化性(メタ)アクリル系樹
脂、ポリエステル特にポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレートおよび不飽和ポリエステル、ア
クリロニトリル−スチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、
ポリウレタン、エポキシ樹脂などが好ましい。また、耐
熱性を考慮したアラミド系樹脂の使用も可能である。
The plastic material is not particularly limited, and any material may be used as long as it is a base material made of an organic polymer. However, optical characteristics such as transparency, refractive index and dispersion, and further resistance to Considering various properties such as impact resistance, heat resistance, and durability, in particular, (meth) acryl such as polymethylmethacrylate, copolymers of methylmethacrylate with other alkyl (meth) acrylate, vinyl monomers such as styrene, etc. Resin, polycarbonate, diethylene glycol bisallyl carbonate (CR-3
9) and other polycarbonate-based resins, (brominated) bisphenol A type di (meth) acrylate homopolymers or copolymers, (brominated) bisphenol A mono (meth) acrylate urethane-modified monomer polymers and copolymers Thermosetting (meth) acrylic resins such as polymers, polyesters especially polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate and unsaturated polyesters, acrylonitrile-styrene copolymers, polyvinyl chloride,
Polyurethane and epoxy resin are preferred. Further, it is also possible to use an aramid resin in consideration of heat resistance.

【0048】プラスチックフィルム基材は、これらの樹
脂を伸延あるいは溶剤に希釈後フィルム状に成膜して乾
燥するなどの方法で得ることができ、厚さは通常25ミ
クロン〜500ミクロン程度である。
The plastic film substrate can be obtained by a method in which these resins are stretched or diluted with a solvent and then formed into a film and dried, and the thickness is usually about 25 to 500 microns.

【0049】また、上記のようなプラスチック基材表面
は、特公昭150−28092号公報、特公昭50−2
8446号公報、特公昭51−24368号公報、特開
昭52−112698号公報、特公昭57−2735号
公報に開示されるようなハードコートなどの被膜材料で
被覆された物であってもよく、後述する無機物からなる
反射防止膜の下層に存在するこの被服材料によって、付
着性、硬度、耐薬品性、耐久性、染色性などの諸物性を
向上させることが可能である。ハードコートの膜厚は、
通常1〜20μm程度である。
Further, the surface of the plastic substrate as described above can be obtained by using Japanese Patent Publication Nos. 150-28092 and 50-2.
It may be coated with a coating material such as a hard coat as disclosed in Japanese Patent Publication No. 8446, Japanese Patent Publication No. 51-24368, Japanese Patent Publication No. 52-112698, and Japanese Patent Publication No. 57-2735. The physical properties such as adhesiveness, hardness, chemical resistance, durability, and dyeability can be improved by this coating material existing in the lower layer of the antireflection film made of an inorganic material described later. The film thickness of the hard coat is
Usually, it is about 1 to 20 μm.

【0050】金属電極膜11a、21a、31a、31
bの材料として銅またはアルミニウムを用いて説明した
が、金属、合金、金属窒化物、金属酸窒化物、金属酸化
膜などのうち電気伝導性のある材料であればよく、例え
ば、銀(Ag)、金(Au)、チタン(Ti)、白金
(Pt)、鉄(Fe)、クロム(Cr)、パラジウム
(Pd)などの金属、または鉄とニッケル(Fe−N
i)、ニッケルとクロム(Ni−Cr)、鉄とクロム
(Fe−Cr)、鉄と銅(Fe−Cu)の合金などを用
いてもよい。
Metal electrode films 11a, 21a, 31a, 31
Although copper or aluminum is used as the material of b, any electrically conductive material such as metal, alloy, metal nitride, metal oxynitride, and metal oxide film may be used. For example, silver (Ag) , Metals such as gold (Au), titanium (Ti), platinum (Pt), iron (Fe), chromium (Cr), palladium (Pd), or iron and nickel (Fe-N).
An alloy of i), nickel and chromium (Ni-Cr), iron and chromium (Fe-Cr), iron and copper (Fe-Cu), or the like may be used.

【0051】金属電極膜11a、21a、31a、31
bを形成する方法として、感光レジストを用いてパター
ンを形成し、酸またはアルカリ材で不要部分を除去する
エッチング法を用いて説明したが、感光レジストをガラ
ス板の上に、格子状パターンの不要となる部分を形成
し、この上に電極材料を成膜してレジスト剥離液や有機
溶剤中で不要部分を解離させるリフトオフ法などを利用
して形成してもよい。
Metal electrode films 11a, 21a, 31a, 31
As the method of forming b, the description has been made by using the etching method of forming a pattern using a photosensitive resist and removing unnecessary portions with an acid or alkali material. However, the photosensitive resist is not required to have a grid pattern on a glass plate. It may be formed by using a lift-off method or the like in which a portion to be formed is formed, an electrode material is formed thereon, and an unnecessary portion is dissociated in a resist stripping solution or an organic solvent.

【0052】また、金属電極膜11a、21a、31
a、31bの形状は、格子状、スリット状の形状に限定
されず、例えば蜂の巣状(6角形)などの種種の形状が
適用できる。
Further, the metal electrode films 11a, 21a, 31
The shapes of a and 31b are not limited to the grid shape and the slit shape, and various shapes such as a honeycomb shape (hexagonal shape) can be applied.

【0053】また、金属電極膜11a、21a、31
a、31bの開口11aa、31aa、31ba、光透
過部21aaの大きさは特に限定されず、表示装置の解
像度によって適宜選択する。
Further, the metal electrode films 11a, 21a, 31
The sizes of the openings 11aa, 31aa, 31ba of the a and 31b and the light transmitting portion 21aa are not particularly limited, and are appropriately selected depending on the resolution of the display device.

【0054】さらに、金属電極膜11a、21a、31
a、31bと開口11aa、31aa、31ba、光透
過部21aaとの面積比も特に限定されないが、開口1
1aa、31aa、31ba、光透過部21aaの面積
比の割合を大きくすると光の透過率の最大値は上がる
が、エレクトロクロミック素子12a、12bの光透過
率可変速度は遅くなり、その逆においては、光透過率の
最大値は下がり、透過率可変速度は速くなることとな
り、表示装置の特性や使用環境にあわせて適切に設定す
る。
Further, the metal electrode films 11a, 21a, 31
The area ratio of a, 31b to the openings 11aa, 31aa, 31ba, and the light transmitting portion 21aa is not particularly limited, but the opening 1
When the ratio of the area ratio of 1aa, 31aa, 31ba, and the light transmitting portion 21aa is increased, the maximum value of the light transmittance increases, but the light transmittance variable speed of the electrochromic elements 12a, 12b becomes slower, and vice versa. The maximum value of the light transmittance is lowered and the variable speed of the light transmittance is increased, so that the light transmittance is set appropriately according to the characteristics of the display device and the usage environment.

【0055】金属電極膜11a、21a、31a、31
bの表面による反射を低減するために電極表面を黒色処
理することが好ましい。黒色処理とは、化学着色法、メ
ッキ法、転写法、PVD法、CVD法などによって、表
面を黒色化または黒色皮膜を形成する方法である(「表
面技術」Vol.49,No.11,1989)。
Metal electrode films 11a, 21a, 31a, 31
It is preferable to blacken the electrode surface in order to reduce reflection from the surface of b. The black treatment is a method of blackening the surface or forming a black film by a chemical coloring method, a plating method, a transfer method, a PVD method, a CVD method or the like (“Surface Technology”, Vol. 49, No. 11, 1989). ).

【0056】透明電極膜11b、32は、ITOを材料
として説明したが、酸化スズ(SnO2)、酸化亜鉛
(ZnO)、酸化インジウム(In23)、窒化チタン
(TiN)、窒化ジルコニウム(ZrN)、窒化ハフニ
ウム(HfN)、酸窒化チタン(TiNxy、x、yは
正の整数)なども適用できる。これらの金属または透明
導電膜材料を形成するには、蒸着法の他にスパッタ法な
どに代表されるPVD(Physical Vapor Deposition)
法やCVD(Chemical Vapor Deposition)法を用いて
もよい。
Although the transparent electrode films 11b and 32 have been described using ITO as a material, tin oxide (SnO 2 ), zinc oxide (ZnO), indium oxide (In 2 O 3 ), titanium nitride (TiN), zirconium nitride ( ZrN), hafnium nitride (HfN), titanium oxynitride (TiN x O y , x and y are positive integers), and the like are also applicable. To form these metals or transparent conductive film materials, PVD (Physical Vapor Deposition) typified by a sputtering method in addition to the vapor deposition method.
Method or CVD (Chemical Vapor Deposition) method may be used.

【0057】エレクトロクロミック素子12a、12b
の材料は、三酸化タングステン、酸化イリジウムの他
に、酸化ニッケル(NiO)、プルシアンブルーなどを
用いてもよい。
Electrochromic devices 12a, 12b
As the material, nickel oxide (NiO), Prussian blue, or the like may be used in addition to tungsten trioxide and iridium oxide.

【0058】電解質13は、固体の五酸化タンタルの他
に、固体のβ−アルミナ(M.Greenand K.S.Kang,Thin S
olid Films,40,L19(1997))、エチレンオキシドを単
位構造に有する高分子固体電解質(小林範久、高分子機
能材料 電子機能材料、第4章、P.279、共立出
版、1992)、過塩素酸リチウム(LiClO4)、
またはリチウム(Li)やナトリウム(Na)などのイ
オンを含んだゲル状の物質などを用いてもよい。
The electrolyte 13 includes solid tantalum pentoxide and solid β-alumina (M. Green and KSKang, Thin S).
solid films, 40, L19 (1997)), polymer solid electrolyte having ethylene oxide as a unit structure (Norihisa Kobayashi, functional electronic materials, functional electronic materials, Chapter 4, P.279, Kyoritsu Shuppan, 1992), perchloric acid Lithium (LiClO 4 ),
Alternatively, a gel substance containing ions such as lithium (Li) and sodium (Na) may be used.

【0059】また、本発明の光透過率可変装置の縦、横
の大きさは240mm、320mmに限るものではな
い。さらに、本発明の光透過率可変装置は、CRTなど
の表示装置のフェースプレートに接着して用いることが
でき、またフェースプレートとして直接使用することが
できる。
The vertical and horizontal sizes of the light transmittance varying device of the present invention are not limited to 240 mm and 320 mm. Further, the variable light transmittance device of the present invention can be used by being bonded to a face plate of a display device such as a CRT, or can be directly used as a face plate.

【0060】[0060]

【発明の効果】以上説明したように本発明では、複数の
開口を有する金属膜からなる金属電極膜と、透明の導電
膜からなる透明電極とでエレクトロクロミック素子を挟
むこととしたので、光の透過率の可変を短時間で行うと
ともに、光を効率よく透過することができる。
As described above, in the present invention, the electrochromic element is sandwiched between the metal electrode film made of a metal film having a plurality of openings and the transparent electrode made of a transparent conductive film. The transmittance can be changed in a short time and light can be efficiently transmitted.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態に係る光透過率可変
装置を示す図であり、(a)は全体の斜視図、(b)は
A1矢視から見た一部断面図である。
1A and 1B are diagrams showing a light transmittance varying device according to a first embodiment of the present invention, in which FIG. 1A is an overall perspective view, and FIG. 1B is a partial cross-sectional view seen from an arrow A1. is there.

【図2】本発明の第1の実施の形態に係る光透過率可変
装置のガラス板と金属電極膜を示す図であり(a)は一
部正面図、(b)は矢視A2から見た断面図である。
2A and 2B are diagrams showing a glass plate and a metal electrode film of the light transmittance varying device according to the first embodiment of the present invention, FIG. 2A being a partial front view and FIG. FIG.

【図3】本発明の第2の実施の形態に係る光透過率可変
装置を示す図であり、(a)は全体の斜視図、(b)は
B1矢視から見た一部断面図である。
3A and 3B are diagrams showing a light transmittance varying device according to a second embodiment of the present invention, in which FIG. 3A is a perspective view of the whole, and FIG. 3B is a partial cross-sectional view seen from the arrow B1. is there.

【図4】本発明の第2の実施の形態に係る光透過率可変
装置のガラス板と金属電極膜を示す図であり(a)は一
部正面図、(b)は矢視B2から見た断面図である。
4A and 4B are views showing a glass plate and a metal electrode film of a light transmittance varying device according to a second embodiment of the present invention, FIG. 4A being a partial front view and FIG. FIG.

【図5】本発明の第3の実施の形態に係る光透過率可変
装置を示す図であり、(a)は全体の斜視図、(b)は
C1矢視から見た一部断面図である。
5A and 5B are diagrams showing a light transmittance varying device according to a third embodiment of the present invention, in which FIG. 5A is a perspective view of the whole, and FIG. 5B is a partial cross-sectional view seen from an arrow C1. is there.

【図6】第3の実施の形態に係る光透過率可変装置のガ
ラス板と金属電極膜と透明電極膜とを示す図であり
(a)は一部正面図、(b)は矢視C2から見た断面図
である。
6A and 6B are diagrams showing a glass plate, a metal electrode film, and a transparent electrode film of a light transmittance varying device according to a third embodiment, FIG. 6A being a partial front view and FIG. It is sectional drawing seen from.

【図7】本発明の第4の実施の形態に係る光透過率可変
装置を示す図であり、(a)は全体の斜視図、(b)は
D1矢視から見た一部断面図である。
7A and 7B are diagrams showing a light transmittance varying device according to a fourth embodiment of the present invention, in which FIG. 7A is a perspective view of the whole and FIG. 7B is a partial cross-sectional view seen from an arrow D1. is there.

【図8】第4の実施の形態に係る光透過率可変装置の透
明電極膜と金属電極膜とを示す図であり(a)は一部正
面図、(b)は矢視D2から見た断面図である。
8A and 8B are diagrams showing a transparent electrode film and a metal electrode film of a light transmittance varying device according to a fourth embodiment, FIG. 8A being a partial front view and FIG. 8B being a view seen from an arrow D2. FIG.

【図9】第1の実施の形態から第4の実施の形態に係る
光透過率可変装置と比較例の光透過率可変装置との光透
過率変化と応答速度の比較を示した図である。
FIG. 9 is a diagram showing a comparison of light transmittance changes and response speeds of the light transmittance varying devices according to the first to fourth embodiments and the light transmittance varying device of the comparative example. .

【図10】比較例の光透過率可変装置の断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of a light transmittance varying device of a comparative example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10a、10b……ガラス板、11a……金属電極膜、
11b……透明電極膜、11aa……開口、12a、1
2b……エレクトロクロミック素子、13……電解質、
14……エポキシ接着剤、21a……金属電極膜、21
aa……光透過部、31a、31b……金属電極膜、3
1aa、31ba……開口、32……透明電極膜、40
a、40b……ガラス板、41a、41b……透明電極
膜、42a、42b……エレクトロクロミック素子、4
3……電解質、44……エポキシ接着剤。
10a, 10b ... glass plate, 11a ... metal electrode film,
11b ... Transparent electrode film, 11aa ... Opening, 12a, 1
2b ... electrochromic element, 13 ... electrolyte,
14 ... Epoxy adhesive, 21a ... Metal electrode film, 21
aa ... light transmitting part, 31a, 31b ... metal electrode film, 3
1aa, 31ba ... Opening, 32 ... Transparent electrode film, 40
a, 40b ... glass plate, 41a, 41b ... transparent electrode film, 42a, 42b ... electrochromic element, 4
3 ... Electrolyte, 44 ... Epoxy adhesive.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大島 宜浩 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ーイーエムシーエス株式会社内 (72)発明者 井上 英亮 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ーイーエムシーエス株式会社内 Fターム(参考) 2K001 AA08 BA09 BB30 CA02 CA09 CA20 CA36 DA02 DA03 5C058 AB05 BA35 DA01 DA15    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Yoshihiro Oshima             6-735 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Soni             -In EMCS Co., Ltd. (72) Inventor Hideaki Inoue             6-735 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Soni             -In EMCS Co., Ltd. F term (reference) 2K001 AA08 BA09 BB30 CA02 CA09                       CA20 CA36 DA02 DA03                 5C058 AB05 BA35 DA01 DA15

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 エレクトロクロミック素子を有する光透
過率可変装置において、 前記エレクトロクロミック素子を挟み、対向して配置さ
れる2つの電極の少なくとも一方が、複数の開口を有す
る金属膜からなる金属電極膜であることを特徴とする光
透過率可変装置。
1. A light transmittance varying device having an electrochromic element, wherein at least one of two electrodes which face each other and sandwich the electrochromic element is a metal electrode film which is a metal film having a plurality of openings. A light transmittance varying device characterized in that
【請求項2】 前記金属電極膜は、前記開口の部分に前
記金属膜より薄い金属膜を有することを特徴とする請求
項1記載の光透過率可変装置。
2. The light transmittance varying device according to claim 1, wherein the metal electrode film has a metal film thinner than the metal film in the opening portion.
【請求項3】 前記金属電極膜に透明の導電膜を積層し
たことを特徴とする請求項1記載の光透過率可変装置。
3. The light transmittance varying device according to claim 1, wherein a transparent conductive film is laminated on the metal electrode film.
【請求項4】 前記金属電極膜の金属膜の膜厚が10n
m以上であることを特徴とする請求項1記載の光透過率
可変装置。
4. The film thickness of the metal film of the metal electrode film is 10 n.
The light transmittance varying device according to claim 1, wherein the light transmittance varying device is m or more.
【請求項5】 前記開口部分の金属膜の膜厚が10nm
以下であることを特徴とする請求項2記載の光透過率可
変装置。
5. The film thickness of the metal film in the opening is 10 nm.
The light transmittance varying device according to claim 2, wherein:
【請求項6】 請求項1記載の光透過率可変装置が表示
面に接着されたことを特徴とする表示装置。
6. A display device comprising the variable light transmittance device according to claim 1 bonded to a display surface.
【請求項7】 請求項1記載の光透過率可変装置が表示
面であることを特徴とする表示装置。
7. A display device, wherein the variable light transmittance device according to claim 1 is a display surface.
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