JP2003056898A - Air conditioner and method for manufacturing semiconductor device - Google Patents

Air conditioner and method for manufacturing semiconductor device

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JP2003056898A
JP2003056898A JP2001246067A JP2001246067A JP2003056898A JP 2003056898 A JP2003056898 A JP 2003056898A JP 2001246067 A JP2001246067 A JP 2001246067A JP 2001246067 A JP2001246067 A JP 2001246067A JP 2003056898 A JP2003056898 A JP 2003056898A
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  • Air Filters, Heat-Exchange Apparatuses, And Housings Of Air-Conditioning Units (AREA)
  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an air conditioner in which a replacing cycle is shortened by prolonging a lifetime of a various type filter such as a chemical filter or the like and which has an excellent energy conservation effect. SOLUTION: The air conditioner comprises the chemical filter units 5 provided in chambers 2 for passing treated air, and a bypass channel 31 provided between units 21 and 21 in which the filters 5 are mounted. The conditioner further comprises dampers 23, 33 provided at inlets of the units 21, 21 and inlets of the channel 31 for openably and closably setting inlets. If a contaminant in the treated air exceeds an allowable value, the damper 23 of the unit 21 is opened, and the damper 33 of the inlet 32 of the channel 31 is closed. If the contaminant is the allowed value or less, the damper 23 of the unit 21 of the unit 5 is closed, the damper 33 of the inlet 32 of the channel 31 is opened, and hence the treated air flows in the chamber 2 without passing through the chemical filter.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は,化学物質吸着フィ
ルタを有する空気調和装置及び空気調和装置を備えたク
リーンルームを使用した半導体装置の製造方法に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an air conditioner having a chemical substance adsorption filter and a method of manufacturing a semiconductor device using a clean room equipped with the air conditioner.

【0002】[0002]

【従来の技術】たとえば外気を処理してクリーンルーム
に清浄空気を供給する際,化学物質吸着フィルタ(以
下,「ケミカルフィルタ」という)が外気取入系等に設
置されることがある。この場合,ケミカルフィルタ(た
とえば活性炭フィルタ)は通常パネル等によって筒状に
形成されたチャンバ内において通過面が処理空気と垂直
になるように配置され,当該チャンバと一体になったケ
ミカルフィルタユニットとして,粗塵を捕集するプレフ
ィルタと,ケミカルフィルタ自体からの発塵をも捕集す
る高性能フィルタとの間に設置されている。これによっ
て塵埃除去フィルタユニットを通過した処理空気は,常
時ケミカルフィルタユニットの通過面を通過して,処理
されるようになっていた。
2. Description of the Related Art For example, when treating outside air and supplying clean air to a clean room, a chemical substance adsorption filter (hereinafter referred to as "chemical filter") may be installed in an outside air intake system or the like. In this case, a chemical filter (for example, activated carbon filter) is usually arranged in a chamber formed by a panel or the like in a cylindrical shape so that the passage surface is perpendicular to the process air, and as a chemical filter unit integrated with the chamber, It is installed between a prefilter that collects coarse dust and a high-performance filter that also collects dust from the chemical filter itself. As a result, the treated air that has passed through the dust removal filter unit always passes through the passage surface of the chemical filter unit and is treated.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで,実際には,
外気中の化学物質が許容濃度以下の場合には,ケミカル
フィルタで処理する必要がない場合がある。この点従来
の方式では,処理空気を常時ケミカルフィルタを通過さ
せて処理空気中の化学物質を常時吸着し続けているの
で,寿命を迎えるのが速かった。そのため交換のサイク
ルが短く問題であった。またケミカルフィルタは,通常
の塵埃除去フィルタよりも高価であるため,コスト面で
も問題があった。さらにまたケミカルフィルタは流れる
空気の圧力損失が他のフィルタに比べて大きいため,ケ
ミカルフィルタを必要としない間も余分なエネルギー
(送風動力=風量×ケミカルフィルタ圧力損失分)を消
費し続け,省エネ上も問題であった。
By the way, in reality,
If the chemical concentration in the open air is below the allowable concentration, it may not be necessary to treat with a chemical filter. In this respect, in the conventional method, the treatment air is always passed through the chemical filter to constantly adsorb the chemical substances in the treatment air, and thus the life of the treatment air is reached quickly. Therefore, the replacement cycle was short, which was a problem. Further, since the chemical filter is more expensive than the ordinary dust removal filter, there is a problem in cost. Furthermore, because the pressure loss of the air flowing through the chemical filter is larger than that of other filters, extra energy (blowing power = air volume x pressure loss of the chemical filter) is continuously consumed while the chemical filter is not needed, thus saving energy. Was also a problem.

【0004】本発明は,かかる点に鑑みてなされたもの
であり,ケミカルフィルタをはじめとする各種の対象吸
着フィルタの寿命をのばして交換サイクルを長くし,か
つ従来よりも省エネ効果の優れた空気調和装置を提供し
て,前記問題の解決を図ることをその目的としている。
The present invention has been made in view of the above points, and extends the life of various target adsorption filters such as chemical filters to prolong the replacement cycle, and is more energy-saving than conventional air. The purpose is to provide a harmony device to solve the above-mentioned problems.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め,本発明の空気調和装置は,処理空気が通過するチャ
ンバと,このチャンバ内に配置され前記処理空気を清浄
化するための化学物質吸着フィルタと,チャンバ内に処
理空気を導入するためのファンと,前記化学物質吸着フ
ィルタの下流側に設置された空調処理部とを有する空気
調和装置であって,前記チャンバ内に,前記化学物質吸
着フィルタを通過せずに前記空調処理部に通ずるバイパ
ス流路が設けられ,前記チャンバ内に導入された処理空
気を,前記化学物質吸着フィルタ側又は前記バイパス流
路側に選択的に切り換えて流すためのダンパが,前記チ
ャンバに設けられていることを特徴としている。
In order to achieve the above object, the air conditioner of the present invention comprises a chamber through which treated air passes, and a chemical substance adsorbent disposed in the chamber for cleaning the treated air. An air conditioner having a filter, a fan for introducing processing air into a chamber, and an air conditioning processing unit installed on the downstream side of the chemical substance adsorption filter, wherein the chemical substance adsorption is performed in the chamber. A bypass flow passage is provided that communicates with the air conditioning processing unit without passing through a filter, and the treatment air introduced into the chamber is selectively flown to the chemical substance adsorption filter side or the bypass flow passage side. A damper is provided in the chamber.

【0006】本発明によれば,ダンパの切替によって,
処理空気を化学物質吸着フィルタ側又はバイパス流路側
に切り換えて空調処理部に導入することができるので,
たとえば対象としている化学物質吸着フィルタが,ケミ
カルフィルタの場合,汚染物質が許容量以下の場合に
は,化学物質吸着フィルタを通過させることなくバイパ
ス流路からそのまま空調処理部に導入することが可能で
ある。したがって,常時対象となる化学物質吸着フィル
タで処理することはなく,真に必要な場合にのみ対象と
なる化学物質吸着フィルタでの処理が行われるので,化
学物質吸着フィルタの寿命が延びる。それと共に,対象
となる化学物質吸着フィルタ処理時の時間が減少するの
で圧力損失によるエネルギーの浪費が抑えられる。また
バイパス流路をチャンバ内に設定することで,全体とし
て1つのまとまったユニットとして構成されている。
According to the present invention, by switching the damper,
Since the processing air can be switched to the chemical adsorption filter side or the bypass flow path side and introduced into the air conditioning processing unit,
For example, if the target chemical adsorption filter is a chemical filter, and if the amount of pollutants is less than the allowable amount, it is possible to introduce the chemical adsorption filter directly into the air conditioning processing unit without passing through it. is there. Therefore, the target chemical substance adsorption filter is not always processed, but the target chemical substance adsorption filter is processed only when it is truly necessary, so that the life of the chemical substance adsorption filter is extended. At the same time, the time taken to process the target chemical substance adsorption filter is reduced, so that energy waste due to pressure loss is suppressed. Further, by setting the bypass flow passage in the chamber, it is configured as one unit as a whole.

【0007】なお空調処理部は,冷却,加熱,加湿,減
湿等のうちの少なくとも1つの処理を行う機構を有して
いるものであればよい。空調処理部は化学物質吸着フィ
ルタを内部に配置したチャンバ内に一体に構成されてい
てもよいが,フィルタチャンバとは別枠で空調処理部を
ケーシング内に収容し,両者をダクト接続してもよい。
ファンについてもフィルタチャンバ内,空調処理部を有
するケーシング内,外気取入口とフィルタチャンバの
間,空調処理部の下流側など,その設置場所は任意であ
る。また本発明においては,前記化学物質吸着フィルタ
及びバイパス流路路の下流側に,別途除塵フィルタ等の
他のフィルタを設置することを妨げない。
The air conditioning processing unit may be any unit that has a mechanism for performing at least one of cooling, heating, humidification, dehumidification and the like. The air conditioning processing unit may be integrally configured in a chamber in which the chemical substance adsorption filter is arranged, but the air conditioning processing unit may be housed in the casing separately from the filter chamber and may be duct-connected. .
The fan may be installed in any location such as in the filter chamber, in the casing having the air conditioning processing unit, between the outside air intake and the filter chamber, and on the downstream side of the air conditioning processing unit. Further, in the present invention, it is possible to install another filter such as a dust filter separately on the downstream side of the chemical substance adsorption filter and the bypass flow path.

【0008】前記パイパス流路の入口は,前記チャンバ
内において均等に配置されていることがこのましい。こ
れによって,バイパス流路を通過した処理空気が偏って
流れることを防止できる。かかる観点からすれば,化学
物質吸着フィルタの入口とバイパス流路の入口とは複数
設定されたり,たとえば化学物質吸着フィルタの入口を
挟んで両側にバイパス流路の入口が位置していたり,そ
の逆にバイパス流路の入口を挟んで両側に化学物質吸着
フィルタの入口が位置していたり,さらには各々複数設
定されて,各入口が交互に設定されていることが好まし
い。
It is preferable that the inlets of the bypass passages are evenly arranged in the chamber. As a result, it is possible to prevent the processing air that has passed through the bypass passage from flowing unevenly. From this point of view, a plurality of inlets of the chemical adsorption filter and the inlet of the bypass passage are set, for example, the inlets of the bypass passage are located on both sides of the inlet of the chemical adsorption filter, or vice versa. It is preferable that the inlets of the chemical substance adsorption filter are located on both sides of the bypass flow passage with the inlet of the bypass flow passage interposed therebetween, or that a plurality of inlets are provided and the respective inlets are alternately set.

【0009】処理空気がパイパス流路を流れる際には,
前記ファンの回転数を高くなるように制御されていても
よい。これによってたとえばバイパス流路を広く取れな
い場合に,風速を速くすることで下流側の空調処理部に
おいて,必要な流量を確保することが可能である。
When the treated air flows through the bypass passage,
The number of rotations of the fan may be controlled to be high. Thus, for example, when the bypass flow path cannot be wide, it is possible to secure the required flow rate in the air conditioning processing unit on the downstream side by increasing the wind speed.

【0010】さらにまた,チャンバ内に導入される処理
空気中の,前記化学物質吸着フィルタによって除去しよ
うとする汚染物質の濃度を測定するセンサを備え,前記
センサの測定結果に基づいて,前記ダンパの動作が制御
するようにしてもよい。これによって化学物質吸着フィ
ルタが除去しようとする汚染物質の濃度が許容値以下の
場合にはバイパス流路に処理空気を流し,許容値を超え
た場合にはじめて化学物質吸着フィルタで処理するとい
う動作が自動的に行える。
Furthermore, a sensor for measuring the concentration of contaminants to be removed by the chemical substance adsorption filter in the process air introduced into the chamber is provided, and based on the measurement result of the sensor, the damper The operation may be controlled. As a result, when the concentration of the pollutant to be removed by the chemical substance adsorption filter is below the permissible value, the process air is passed through the bypass channel, and when the concentration exceeds the permissible value, the chemical substance adsorption filter does not perform the operation. It can be done automatically.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下,本発明の好ましい実施の形
態について説明すると,図1は,フィルタユニットを組
み込んだ,クリーンルーム等に清浄な空気を供給する本
実施の形態にかかる空気調和装置1の構成の概略を示し
ており,図2は同じく平面からみた構成の概略を示して
いる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 shows an air conditioner 1 according to the present embodiment in which a filter unit is incorporated to supply clean air to a clean room or the like. 2 shows an outline of the configuration, and FIG. 2 shows an outline of the configuration as viewed from the same plane.

【0012】方形のトンネル状のチャンバ2内には,外
気OAの取入口3側から,塵埃除去フィルタユニット
4,たとえば化学吸着や触媒作用で化学物質を捕集,除
去するケミカルフィルタユニット5,活性炭等の粉塵を
除去する粉塵除去フィルタユニット6,冷却コイルユニ
ット7,加熱コイルユニット8が順に設置されている。
これらは1つのチャンバ2に納められ,外調機を形成し
ているが,各々の構成要素をダクト接続してもよい。
Inside the rectangular tunnel-shaped chamber 2, a dust removal filter unit 4, for example, a chemical filter unit 5 for collecting and removing chemical substances by chemical adsorption or catalytic action from the intake 3 side of the outside air OA 5, activated carbon. A dust removing filter unit 6, a cooling coil unit 7, and a heating coil unit 8 for removing dust such as the above are sequentially installed.
These are housed in one chamber 2 and form an external regulator, but each component may be ducted.

【0013】加熱コイルユニット8の下流側には,加湿
装置(図示せず)が配置されている加湿エリア9が形成
されている。そして加湿エリア9の下流側には,モータ
10で駆動するファン11が設置されており,これら一
連のユニットを通過して所望の清浄度,温湿度に調整さ
れた処理空気を,給気SAとしてファン11の上部の吹
出口12から供給するようになっている。本実施の形態
においては,冷却コイルユニット7,加熱コイルユニッ
ト8,加湿エリア9が空調処理部を構成している。
A humidifying area 9 in which a humidifying device (not shown) is arranged is formed on the downstream side of the heating coil unit 8. A fan 11 driven by a motor 10 is installed on the downstream side of the humidification area 9, and the treated air that passes through these series of units and is adjusted to a desired cleanliness and temperature / humidity is used as the supply air SA. The air is supplied from the air outlet 12 on the upper part of the fan 11. In the present embodiment, the cooling coil unit 7, the heating coil unit 8, and the humidifying area 9 form an air conditioning processing unit.

【0014】ケミカルフィルタユニット5自体は,2つ
のユニット21,21を,後述するバイパス流路を挟ん
で並列に接続して構成されている。各ユニット21は,
本実施の形態ではさらに同形同大の6つの(2列3段)
ユニットに分割されて設けられている。ケーシングを構
成するパネル材22によって両側板,天板,底板が形成
され,たとえば活性炭を有する化学物質吸着フィルタの
ろ材は,このケーシング内に設けられている。
The chemical filter unit 5 itself is constituted by connecting two units 21 and 21 in parallel with a bypass passage, which will be described later, interposed therebetween. Each unit 21
In this embodiment, six pieces of the same shape and size (two rows and three stages) are further used.
It is divided into units. Both side plates, a top plate, and a bottom plate are formed by the panel material 22 constituting the casing. For example, the filter material of the chemical substance adsorption filter having activated carbon is provided in this casing.

【0015】そして各ユニット21上流側の入口部27
には,回動自在な複数のダンパ23が多段に設けられて
いる。各ダンパ23は連動して回動する。すなわち,各
ダンパ23の回動支点は,ユニット21の入口部27に
水平に設定され,各ダンパの上流側端部は,適宜のリン
ク材(図示せず)を介して上下方向に移動する垂直に配
置された支持柱24に回動自在に支持されている。した
がって,支持柱24が上方に移動すると,それに伴って
各ダンパ23の前端部が持ち上がり,ユニット21の入
口部が閉鎖されるようになっている。図1に示した状態
では,各ダンパ23は水平状態にあり,ユニット21の
入口部27は開放している。
The inlet portion 27 on the upstream side of each unit 21
A plurality of rotatable dampers 23 are provided in multiple stages. Each damper 23 rotates in conjunction with each other. That is, the rotation fulcrum of each damper 23 is set horizontally at the inlet portion 27 of the unit 21, and the upstream end of each damper is vertically moved via an appropriate link member (not shown) in the vertical direction. It is rotatably supported by a support column 24 arranged at. Therefore, when the support pillars 24 move upward, the front ends of the dampers 23 are lifted accordingly, and the entrance of the unit 21 is closed. In the state shown in FIG. 1, each damper 23 is in a horizontal state, and the inlet portion 27 of the unit 21 is open.

【0016】支持柱24は,駆動部25よって上下動す
る。すなわち,支持柱24の下端部は,リンク材26の
一端部に接続され,このリンク材26の他端部は,駆動
部25の駆動軸とキー結合されている。したがって駆動
軸が回動すると,リンク材26は上下に移動する。本実
施の形態では,駆動部25にモジュトロールモータを使
用している。
The support column 24 moves up and down by the drive unit 25. That is, the lower end of the support column 24 is connected to one end of the link member 26, and the other end of the link member 26 is keyed to the drive shaft of the drive unit 25. Therefore, when the drive shaft rotates, the link member 26 moves up and down. In the present embodiment, the drive roller 25 uses a modtrol motor.

【0017】ケミカルフィルタユニット5におけるユニ
ット21,21の間,すなわちチャンバ2内の流路の中
央には,ユニット21の側板とチャンバ2の天板,底板
によって形成されたバイパス流路31が形成されてい
る。バイパス流路31の入口部32は,フレーム材によ
って方形に構成されており,当該入口部32は,この入
口部32を開閉自在な複数のダンパ33が設けられてい
る。
A bypass flow passage 31 formed by a side plate of the unit 21, a top plate of the chamber 2 and a bottom plate is formed between the units 21 and 21 of the chemical filter unit 5, that is, in the center of the flow passage in the chamber 2. ing. The inlet portion 32 of the bypass flow passage 31 is formed in a rectangular shape by a frame material, and the inlet portion 32 is provided with a plurality of dampers 33 that can open and close the inlet portion 32.

【0018】このダンパ33は,前記ユニット21のダ
ンパ23と同一の構成を有し,各ダンパ33は,支持柱
24の上方への移動によって回動し,支持柱24自体
は,駆動部25の駆動軸の駆動によって上下動する。
The damper 33 has the same structure as the damper 23 of the unit 21, and each damper 33 is rotated by the upward movement of the support pillar 24, and the support pillar 24 itself is moved by the drive section 25. It moves up and down by driving the drive shaft.

【0019】駆動部25の制御は,制御装置41によっ
てその動作が制御される。すなわち,ケミカルフィルタ
ユニット5のユニット21のダンパ23を開放している
ときには,バイパス流路31の入口部32のダンパ33
を閉鎖させ,その逆にケミカルフィルタユニット5のユ
ニット21のダンパ23を閉鎖しているときには,バイ
パス流路31の入口部32のダンパ33を開放させるよ
うに,制御装置41は駆動部25を制御している。
The control of the drive unit 25 is controlled by the control device 41. That is, when the damper 23 of the unit 21 of the chemical filter unit 5 is open, the damper 33 of the inlet portion 32 of the bypass flow passage 31 is opened.
When the damper 23 of the unit 21 of the chemical filter unit 5 is closed, on the contrary, the controller 41 controls the drive unit 25 so as to open the damper 33 of the inlet 32 of the bypass flow passage 31. is doing.

【0020】さらに制御装置41は,ファン11のモー
タ10の回転速度も制御する機能を有している。すなわ
ち,ケミカルフィルタユニット5のユニット21のダン
パ23を閉鎖し,バイパス流路31の入口部32のダン
パ33を開放しているときには,モータ10の回転速度
を下げて,ファン11の回転速度を抑えて,チャンバ2
内に導入する処理空気の量を増加させるように制御する
ようになっている。すなわちケミカルフィルタユニット
5の圧力損失は大きいため,ファン11はそれにうち勝
つ速度で運転しなければならないが,バイパス流路31
では圧力損失が小さく,同じ運転では風量が多すぎ,か
つ省エネルギに反することになる。したがってファン1
1を抑える運転とするのである。
Further, the control device 41 has a function of controlling the rotation speed of the motor 10 of the fan 11 as well. That is, when the damper 23 of the unit 21 of the chemical filter unit 5 is closed and the damper 33 of the inlet portion 32 of the bypass flow passage 31 is opened, the rotation speed of the motor 10 is reduced to suppress the rotation speed of the fan 11. Chamber 2
The control is performed so as to increase the amount of processing air introduced into the inside. That is, since the pressure loss of the chemical filter unit 5 is large, the fan 11 must be operated at a speed that can beat it, but the bypass passage 31
In this case, the pressure loss is small, the amount of air flow is too large in the same operation, and it is against energy conservation. Therefore fan 1
The operation is to suppress 1.

【0021】本実施の形態にかかる空気調和装置1は,
以上のように構成されており,ファン11の作動によっ
てチャンバ2内に導入される処理空気中の汚染化学物質
の濃度が許容値を超えている場合には,図1,図2に示
したように,ケミカルフィルタユニット5のユニット2
1のダンパ23が開放され,バイパス流路31の入口部
32のダンパ33が閉鎖される。これによって,チャン
バ2内に導入され塵埃除去フィルタユニット4によって
塵埃が除去された後の処理空気は,ケミカルフィルタユ
ニット5のユニット21を通過して,汚染化学物質が除
去される。そしてその後粉末除去フィルタユニット6に
よって活性炭等の粉末を除去された後,冷却コイルユニ
ット7,加熱コイルユニット8,加湿エリア9で温湿度
調整された後,吹出口12から吹き出される。その後処
理空気はクリーンルーム(図示せず)内に送られ,該ク
リーンルーム内は清浄化処理された空気で満たされるこ
とになる。このようなクリーンルームでは,半導体装置
を製造するクリーンルームとして使用され,該クリーン
ルーム内で半導体ウエハなどが処理されることになる。
The air conditioner 1 according to the present embodiment is
With the above configuration, when the concentration of pollutant chemicals in the process air introduced into the chamber 2 by the operation of the fan 11 exceeds the permissible value, as shown in FIGS. In addition, the unit 2 of the chemical filter unit 5
The damper 23 of No. 1 is opened, and the damper 33 of the inlet 32 of the bypass passage 31 is closed. As a result, the processing air that has been introduced into the chamber 2 and has had its dust removed by the dust removal filter unit 4 passes through the unit 21 of the chemical filter unit 5 to remove contaminant chemical substances. Then, after the powder such as activated carbon is removed by the powder removing filter unit 6, the temperature and humidity of the cooling coil unit 7, the heating coil unit 8 and the humidifying area 9 are adjusted, and then the powder is blown out from the outlet 12. Thereafter, the treated air is sent into a clean room (not shown), and the clean room is filled with the purified air. In such a clean room, it is used as a clean room for manufacturing semiconductor devices, and semiconductor wafers and the like are processed in the clean room.

【0022】そして処理空気中の化学汚染物質の濃度が
許容値以下の場合には,ケミカルフィルタユニット5の
ユニット21のダンパ23が閉鎖され,バイパス流路3
1の入口部32のダンパ33が開放される。したがって
チャンバ2内に導入された処理空気は,図3に示したよ
うに,ケミカルフィルタユニット5のユニット21を通
過することなく,そのままバイパス流路31を流れ,以
下,後粉末除去フィルタユニット6によって活性炭等の
粉末を除去され,冷却コイルユニット7,加熱コイルユ
ニット8,加湿エリア9で温湿度調整された後,吹出口
12から吹き出される。
When the concentration of the chemical pollutant in the treated air is below the allowable value, the damper 23 of the unit 21 of the chemical filter unit 5 is closed and the bypass passage 3
The damper 33 of the first inlet 32 is opened. Therefore, as shown in FIG. 3, the process air introduced into the chamber 2 does not pass through the unit 21 of the chemical filter unit 5 but flows through the bypass passage 31 as it is, and thereafter, by the post-powder removal filter unit 6. The powder such as activated carbon is removed, and after the temperature and humidity are adjusted in the cooling coil unit 7, the heating coil unit 8 and the humidification area 9, the powder is blown out from the air outlet 12.

【0023】このとき,バイパス流路31の断面積がケ
ミカルフィルタユニット5のユニット21のそれよりも
狭いが,圧力損失が少ないため,ファン11の回転速度
は抑えられてもバイパス流路31を流れる空気は高速で
あり,所定の風量は得られる。なおファン11の回転速
度(回転数)は,ファン11の吹出し口近傍の風量か,
またはファン11から出た空気が供給される室の室圧を
検出して制御するようにしてもよい。
At this time, the cross-sectional area of the bypass flow passage 31 is narrower than that of the unit 21 of the chemical filter unit 5, but the pressure loss is small, so that the flow speed of the fan 11 flows through the bypass flow passage 31 even if the rotational speed of the fan 11 is suppressed. The air is at a high speed and a certain amount of air is obtained. Note that the rotation speed (rotation speed) of the fan 11 is the amount of air near the outlet of the fan 11,
Alternatively, the room pressure of the room to which the air discharged from the fan 11 is supplied may be detected and controlled.

【0024】このように,本実施の形態によれば,処理
空気中の化学汚染物質の濃度が許容値以下の場合,換言
すればケミカルフィルタで処理する必要のない場合に
は,処理空気はケミカルフィルタユニット5のユニット
21を通過することなく,バイパス流路を流れてそのま
ま下流側の空調処理部へと送られていく。したがって,
ケミカルフィルタユニット5に使用されているケミカル
フィルタの寿命が延び,また圧力損失に伴うエネルギの
浪費を抑えることが可能である。
As described above, according to the present embodiment, when the concentration of the chemical pollutant in the treated air is less than the allowable value, in other words, when it is not necessary to treat with the chemical filter, the treated air is chemically treated. Without passing through the unit 21 of the filter unit 5, it flows through the bypass flow passage and is sent as it is to the air conditioning processing unit on the downstream side. Therefore,
It is possible to extend the life of the chemical filter used in the chemical filter unit 5 and to suppress energy waste due to pressure loss.

【0025】前記実施の形態では,ケミカルフィルタユ
ニット5の中央部分にバイパス流路31を設定し,その
両側にケミカルフィルタを搭載したユニット21,21
を配置した構成であったが,図4,図5に示した第2の
実施の形態の空気調和装置51のように,2つのバイパ
ス流路31,31をチャンバ2内に設定し,ケミカルフ
ィルタユニット5のユニット21と交互に配置し,かつ
左右対称にバイパス流路31,31を設けるようにして
もよい。
In the above-described embodiment, the bypass flow passage 31 is set in the central portion of the chemical filter unit 5, and the units 21 and 21 are provided with chemical filters on both sides thereof.
However, like the air conditioner 51 of the second embodiment shown in FIGS. 4 and 5, two bypass flow paths 31 and 31 are set in the chamber 2 and the chemical filter is used. The bypass channels 31 and 31 may be arranged alternately with the unit 21 of the unit 5 and symmetrically provided.

【0026】さらにまたこの第2の実施の形態において
は,塵埃除去フィルタユニット4とケミカルフィルタユ
ニット5との間に,ケミカルフィルタの除去対象となる
化学汚染物質の処理空気中の濃度を策定する濃度センサ
52が設けられている。この濃度センサ52による測定
結果は,制御装置41へと送信され,当該測定の結果,
処理空気中の化学汚染物質の濃度が許容値を越えている
場合には,制御装置41は,ケミカルフィルタユニット
5のユニット21のダンパ23を開放し,バイパス流路
31の入口部32のダンパ33を閉鎖するように制御す
る。その結果,図5に示したように,チャンバ2内に導
入された処理空気は,塵埃除去フィルタユニット4によ
って塵埃が除去された後,ケミカルフィルタユニット5
のユニット21を通過して,汚染化学物質が除去され
る。そしてその後粉末除去フィルタユニット6によって
活性炭等の粉末を除去された後,冷却コイルユニット
7,加熱コイルユニット8,加湿エリア9で温湿度調整
された後,吹出口12から吹き出される。
Further, in the second embodiment, the concentration between the dust removing filter unit 4 and the chemical filter unit 5 is determined so as to determine the concentration of the chemical contaminant to be removed by the chemical filter in the treated air. A sensor 52 is provided. The measurement result by the concentration sensor 52 is transmitted to the control device 41, and the measurement result is
When the concentration of the chemical pollutant in the treated air exceeds the allowable value, the control device 41 opens the damper 23 of the unit 21 of the chemical filter unit 5 and the damper 33 of the inlet portion 32 of the bypass flow passage 31. Control to close. As a result, as shown in FIG. 5, the processing air introduced into the chamber 2 is removed by the dust removing filter unit 4 and then the chemical filter unit 5 is removed.
After passing through the unit 21, the contaminant chemicals are removed. Then, after the powder such as activated carbon is removed by the powder removing filter unit 6, the temperature and humidity of the cooling coil unit 7, the heating coil unit 8 and the humidifying area 9 are adjusted, and then the powder is blown out from the outlet 12.

【0027】また濃度センサ52による測定の結果,化
学汚染物質の濃度が許容値以下の場合には,ケミカルフ
ィルタユニット5のユニット21のダンパ23が閉鎖さ
れ,バイパス流路31の入口部32のダンパ33が開放
される制御が制御装置41によってなされる。その結
果,チャンバ2内に導入された処理空気は,図6に示し
たように,ケミカルフィルタユニット5のユニット21
を通過することなく,そのままバイパス流路31,31
を流れる。したがって,第2の実施の形態にかかる空気
調和装置51によれば,化学物質の濃度によって自動的
にチャンバ2内の流路が切り換えられる。
Further, as a result of the measurement by the concentration sensor 52, when the concentration of the chemical pollutant is below the allowable value, the damper 23 of the unit 21 of the chemical filter unit 5 is closed and the damper of the inlet portion 32 of the bypass flow passage 31 is closed. The control device 41 controls to open 33. As a result, the process air introduced into the chamber 2 is discharged to the unit 21 of the chemical filter unit 5 as shown in FIG.
Bypass passages 31, 31 without passing through
Flowing through. Therefore, according to the air conditioner 51 of the second embodiment, the flow path inside the chamber 2 is automatically switched depending on the concentration of the chemical substance.

【0028】この場合,2つのバイパス流路31,31
がケミカルフィルタユニット5のユニット21と交互に
配置し,かつ左右対称にバイパス流路31,31が配置
されているので,バイパス流路31,31を流れた空気
は,偏ることなく下流側へと流れていく。また前記実施
の形態の場合と同様,バイパス流路31,31の断面積
がケミカルフィルタユニット5のユニット21のそれよ
りも狭く,また圧力損失を勘案しても,所定の風量が得
られない場合には,ファン11の回転速度が高められ
て,チャンバ2内に導入する処理空気の量が増加される
ように制御される。
In this case, the two bypass channels 31, 31
Are alternately arranged with the unit 21 of the chemical filter unit 5, and the bypass flow paths 31, 31 are symmetrically arranged, so that the air flowing through the bypass flow paths 31, 31 is not biased to the downstream side. It flows. Further, as in the case of the above-described embodiment, when the cross-sectional areas of the bypass flow passages 31 and 31 are narrower than that of the unit 21 of the chemical filter unit 5, and a predetermined air volume cannot be obtained even if pressure loss is taken into consideration. Is controlled so that the rotation speed of the fan 11 is increased and the amount of process air introduced into the chamber 2 is increased.

【0029】以上の実施の形態ではダンパの開閉の切換
を自動で行っていたが,外気の化学物質,例えばSOx
の濃度を保守員が計測器で計測し,手動でダンパの切換
を行ってもよい。
In the above embodiment, the opening and closing of the damper was automatically switched, but a chemical substance in the outside air, for example, SOx.
The maintenance personnel may measure the concentration with a measuring instrument and switch the damper manually.

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明によれば,化学物質吸着フィルタ
が除去しようとする汚染物質の濃度によって化学物質吸
着フィルタで処理したり,化学物質吸着フィルタを通過
させないでそのまま下流側の空調処理部へと導くことか
ぎ可能である。したがって,対象となる化学物質吸着フ
ィルタの寿命を従来よりも長くとることができ,さらに
省エネ効果も従来より優れている。
According to the present invention, depending on the concentration of the pollutant to be removed by the chemical substance adsorbing filter, the chemical substance adsorbing filter can be used for processing, or the chemical substance adsorbing filter can be directly passed to the air conditioning processing unit on the downstream side. It is possible to lead to. Therefore, the life of the target chemical substance adsorption filter can be made longer than before, and the energy saving effect is also superior.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態にかかる空気調和装
置の構成の概略を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an outline of a configuration of an air conditioner according to a first embodiment of the present invention.

【図2】第1の実施の形態にかかる空気調和装置におい
て,処理空気がケミカルフィルタを通過している様子を
示す平面からの説明図である。
FIG. 2 is an explanatory view from a plan view showing how the treated air passes through the chemical filter in the air conditioner according to the first embodiment.

【図3】第1の実施の形態にかかる空気調和装置におい
て,処理空気がバイパス流路を通過している様子を示す
平面からの説明図である。
FIG. 3 is an explanatory view from a plan view showing how the treated air is passing through the bypass passage in the air conditioner according to the first embodiment.

【図4】本発明の第2の実施の形態にかかる空気調和装
置の構成の概略を示す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing an outline of a configuration of an air conditioner according to a second embodiment of the present invention.

【図5】第2の実施の形態にかかる空気調和装置におい
て,処理空気がケミカルフィルタを通過している様子を
示す平面からの説明図である。
FIG. 5 is an explanatory plan view showing how the treated air passes through the chemical filter in the air conditioner according to the second embodiment.

【図6】第2の実施の形態にかかる空気調和装置におい
て,処理空気がバイパス流路を通過している様子を示す
平面からの説明図である。
FIG. 6 is an explanatory plan view showing a state in which process air passes through a bypass flow path in the air-conditioning apparatus according to the second embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 チャンバ 5 ケミカルフィルタユニット 7 冷却コイルユニット 8 加熱コイルユニット 9 加湿エリア 11 ファン 21 ユニット 23 ダンパ 25 駆動部 31 バイパス流路 33 ダンパ 2 chamber 5 Chemical filter unit 7 Cooling coil unit 8 heating coil unit 9 Humidification area 11 fans 21 units 23 Damper 25 Drive 31 Bypass channel 33 damper

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉田 稔 長野県諏訪市四賀赤沼1871 アルトピアー ノB−203 (72)発明者 加藤 道夫 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 Fターム(参考) 3L051 BC10 4D058 JA12 QA01 QA03 QA19 QA21 QA23 SA04 TA03 UA25    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Minoru Yoshida             1871 Shiga Akanuma, Suwa City, Nagano Prefecture Altopia             No B-203 (72) Inventor Michio Kato             Seiko, 3-3-3 Yamato, Suwa City, Nagano Prefecture             -In Epson Corporation F-term (reference) 3L051 BC10                 4D058 JA12 QA01 QA03 QA19 QA21                       QA23 SA04 TA03 UA25

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 処理空気が通過するチャンバと,このチ
ャンバ内に配置され前記処理空気を清浄化するための化
学物質吸着フィルタと,チャンバ内に処理空気を導入す
るためのファンと,前記化学物質吸着フィルタの下流側
に設置された空調処理部とを有する空気調和装置であっ
て,前記チャンバ内に,前記化学物質吸着フィルタを通
過せずに前記空調処理部に通ずるバイパス流路が設けら
れ,前記チャンバ内に導入された処理空気を,前記化学
物質吸着フィルタ側又は前記バイパス流路側に選択的に
切り換えて流すためのダンパが,前記チャンバに設けら
れていることを特徴とする,空気調和装置。
1. A chamber through which process air passes, a chemical substance adsorption filter disposed in the chamber for cleaning the process air, a fan for introducing the process air into the chamber, and the chemical substance. An air conditioner having an air conditioning processing unit installed on the downstream side of an adsorption filter, wherein a bypass flow path that leads to the air conditioning processing unit without passing through the chemical substance adsorption filter is provided in the chamber, A damper is provided in the chamber for selectively switching the flow of the process air introduced into the chamber to the chemical substance adsorption filter side or the bypass flow channel side, and the chamber is provided with the damper. .
【請求項2】 前記パイパス流路の入口は,前記チャン
バ内において前記化学物質吸着フィルタに至る入口とは
別に設けられ,これらの2つの入口の少なくとも一辺は
互いに平行であるように配置されていることを特徴とす
る,請求項1に記載の空気調和装置。
2. The inlet of the bypass passage is provided separately from the inlet to the chemical adsorption filter in the chamber, and at least one side of these two inlets is arranged to be parallel to each other. The air conditioner according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記チャンバの処理空気の入口は,前記
バイパス流路の入口と前記化学物質吸着フィルタに至る
入口とに区画され,区画された2つの入口が交互に隣接
して配置されていることを特徴とする,請求項1又は2
に記載の空気調和装置。
3. The inlet of the processing air of the chamber is divided into an inlet of the bypass flow passage and an inlet leading to the chemical substance adsorption filter, and the two divided inlets are alternately arranged adjacent to each other. Claim 1 or 2 characterized by the above.
The air conditioner according to 1.
【請求項4】 処理空気がパイパス流路を流れる際に
は,前記ファンの回転数が高くなるように制御されるこ
とを特徴とする,請求項1,2又は3に記載の空気調和
装置。
4. The air conditioner according to claim 1, wherein the number of revolutions of the fan is controlled to be high when the treated air flows through the bypass passage.
【請求項5】 チャンバ内に導入される処理空気中の,
前記化学物質吸着フィルタによって除去しようとする汚
染物質の濃度を測定するセンサを備え,前記センサの測
定結果に基づいて,前記ダンパの動作が制御されること
を特徴とする,請求項1,2,3又は4に記載の空気調
和装置。
5. In the process air introduced into the chamber,
2. A sensor for measuring the concentration of a contaminant to be removed by the chemical substance adsorption filter, wherein the operation of the damper is controlled based on the measurement result of the sensor. The air conditioner according to 3 or 4.
【請求項6】 処理空気に含まれる汚染物質の濃度を測
定する工程と,前記濃度が予め定められた濃度を超える
場合には,前記処理空気を化学物質吸着フィルタを通し
て空調処理部へ導入させ,前記濃度が予め定められた濃
度以下の場合には,前記処理空気を前記化学物質吸着フ
ィルタを通さずに空調処理部に導入する工程と,前記空
調処理部又はその上流側にて前記処理空気の塵埃除去を
行った後に,前記処理空気をクリーンルーム内に導入さ
せる工程と,清浄化された前記処理空気を含む前記クリ
ーンルーム内で半導体ウエハの処理を行う工程と,を含
むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
6. A step of measuring the concentration of a pollutant contained in treated air, and when the concentration exceeds a predetermined concentration, the treated air is introduced into an air conditioning treatment section through a chemical substance adsorption filter, When the concentration is equal to or lower than a predetermined concentration, a step of introducing the treatment air into the air conditioning treatment section without passing through the chemical substance adsorption filter, and a step of introducing the treatment air in the air conditioning treatment section or the upstream side thereof. A semiconductor device comprising: a step of introducing the processing air into a clean room after performing dust removal; and a step of processing a semiconductor wafer in the clean room containing the cleaned processing air. Manufacturing method.
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