JP2003055322A - Halogen-containing aromatic diamine compound - Google Patents

Halogen-containing aromatic diamine compound

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JP2003055322A
JP2003055322A JP2001247869A JP2001247869A JP2003055322A JP 2003055322 A JP2003055322 A JP 2003055322A JP 2001247869 A JP2001247869 A JP 2001247869A JP 2001247869 A JP2001247869 A JP 2001247869A JP 2003055322 A JP2003055322 A JP 2003055322A
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JP
Japan
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acid
halogen
reaction
containing aromatic
hydroxide
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Application number
JP2001247869A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Masuda
豪 増田
Masayoshi Kuwabara
正芳 桑原
Yasunori Okumura
康則 奥村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Shokubai Co Ltd
Original Assignee
Nippon Shokubai Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new halogen-containing aromatic compound. SOLUTION: This halogen-containing aromatic compound is represented by formula (1) wherein, X is formula (2) [Z is independently a halogen atom; p is an integer of 0-5; q is an integer of 0-5; with the proviso that p+q is 5]; Y is independently a halogen; m is an integer of 0-3; n is an integer of 1-4; with the proviso that m+n is 4}.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規な含ハロゲン
芳香族化合物に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel halogen-containing aromatic compound.

【0002】本発明の含ハロゲン芳香族化合物は、染
料、医薬、農薬、高分子化合物の合成上重要な中間体で
あり、優れた耐熱性、撥水性、耐薬品性及び低誘電性を
有する樹脂の原料として有用である。
The halogen-containing aromatic compound of the present invention is an important intermediate in the synthesis of dyes, pharmaceuticals, agricultural chemicals and polymer compounds, and is a resin having excellent heat resistance, water repellency, chemical resistance and low dielectric property. It is useful as a raw material.

【0003】[0003]

【従来の技術】テトラフルオロ−m−フェニレンジアミ
ンをはじめとしてハロゲン化m−フェニレンジアミン化
合物は、染料、医薬、農薬、高分子化合物の合成上重要
な中間体であり、優れた耐熱性、撥水性、耐薬品性及び
低誘電性を有する樹脂の原料として有用であり、さら
に、例えば、太陽電池、エレクトロルミネセンス素子、
電子写真感光体等において、電荷輸送剤(特に、正孔輸
送剤)として好適に使用されている。
2. Description of the Related Art Halogenated m-phenylenediamine compounds such as tetrafluoro-m-phenylenediamine are important intermediates in the synthesis of dyes, pharmaceuticals, agricultural chemicals and polymer compounds, and have excellent heat resistance and water repellency. , Useful as a raw material for a resin having chemical resistance and low dielectric property, and further, for example, a solar cell, an electroluminescent element,
It is preferably used as a charge transfer material (particularly, a hole transfer material) in electrophotographic photoreceptors and the like.

【0004】このため、各種用途に応じた様々なm−フ
ェニレンジアミン誘導体およびその製造方法について、
現在、研究・開発が盛んに行なわれている。
Therefore, various m-phenylenediamine derivatives according to various uses and methods for producing the same are described below.
Currently, research and development are actively conducted.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は、新規な含ハロゲン芳香族化合物を提供すること
である。
Therefore, an object of the present invention is to provide a novel halogen-containing aromatic compound.

【0006】本発明の他の目的は、優れた耐熱性、撥水
性、耐薬品性及び低誘電性を有する樹脂の原料として有
用である含ハロゲン芳香族化合物を提供することであ
る。
Another object of the present invention is to provide a halogen-containing aromatic compound which is useful as a raw material for a resin having excellent heat resistance, water repellency, chemical resistance and low dielectric property.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の諸目的は、
(ア)〜(エ)によって達成される。
Various objects of the present invention are as follows.
It is achieved by (a) to (d).

【0008】(ア) 下記式(1):(A) The following formula (1):

【0009】[0009]

【化4】 [Chemical 4]

【0010】ただし、Xは、下記式(2):However, X is the following formula (2):

【0011】[0011]

【化5】 [Chemical 5]

【0012】ただし、Zは、それぞれ独立して、ハロゲ
ン原子を表わし;pは、0〜5の整数であり;qは、0
〜5の整数であり;およびp+qは5である、で示され
る基であり;Yは、それぞれ独立して、ハロゲン原子を
表わし;mは、0〜3の整数であり;nは、1〜4の整
数であり;およびm+nは4である、で示される含ハロ
ゲン芳香族化合物。
However, each Z independently represents a halogen atom; p is an integer of 0 to 5; and q is 0.
Is an integer of 5 to 5; and p + q is 5; Y is each independently a halogen atom; m is an integer of 0 to 3; Is an integer of 4; and m + n is 4, a halogen-containing aromatic compound.

【0013】(イ) 上記式(1)において、Yは、フ
ッ素原子を表わす、前記(ア)に記載の含ハロゲン芳香
族化合物。
(A) In the above formula (1), Y represents a fluorine atom, and the halogen-containing aromatic compound described in (a) above.

【0014】(ウ) 上記式(2)において、Zは、フ
ッ素原子を表わす、前記(ア)または(イ)に記載の含
ハロゲン芳香族化合物。
(C) In the above formula (2), Z represents a fluorine atom, and the halogen-containing aromatic compound described in (A) or (A) above.

【0015】(エ) 上記含ハロゲン芳香族化合物は、
下記式(3):
(D) The halogen-containing aromatic compound is
Formula (3) below:

【0016】[0016]

【化6】 [Chemical 6]

【0017】ただし、mは、0〜3の整数であり;n
は、1〜4の整数であり;およびm+nは4である、で
示される、含ハロゲン芳香族化合物。
However, m is an integer of 0 to 3; n
Is an integer of 1 to 4; and m + n is 4, a halogen-containing aromatic compound.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below.

【0019】本発明は、上記式(1)で示される含ハロ
ゲン芳香族化合物を提供するものである。
The present invention provides a halogen-containing aromatic compound represented by the above formula (1).

【0020】上記式(1)において、Yは、ハロゲン原
子、即ち、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ
素原子を表わし、好ましくはフッ素原子、塩素原子であ
り、特に好ましくはフッ素原子である。なお、Yは、複
数存在する際には、それぞれ、同一であってもあるいは
異なるものであってもよい。
In the above formula (1), Y represents a halogen atom, that is, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, preferably a fluorine atom or a chlorine atom, and particularly preferably a fluorine atom. When a plurality of Y's are present, they may be the same or different.

【0021】また、上記式(1)において、nは、m−
フェニレンジアミンへのXの結合数を表わし、1〜4の
整数、好ましくは1〜3の整数であり、耐熱性を考慮す
ると、特に好ましくは1である。Xのm−フェニレンジ
アミンへの結合位置は、Xの結合数や種類ならびに含ハ
ロゲン芳香族化合物の所望の特性などによって異なる
が、例えば、nが1である場合には、Xは、m−フェニ
レンジアミンの反応性を考慮して、m−フェニレンジア
ミンの4位または2位、特に望ましくは4位に結合する
ことが望ましく、nが2である場合には、Xは、m−フ
ェニレンジアミンの4,6位、2,4位、特に望ましく
は4,6位に結合することが望ましい。また、nが3で
ある場合には、2,4,6位が好ましい。
In the above formula (1), n is m-
It represents the number of bonds of X to phenylenediamine, is an integer of 1 to 4, preferably an integer of 1 to 3, and is particularly preferably 1 in consideration of heat resistance. The bonding position of X to m-phenylenediamine varies depending on the number and type of bonds of X and desired characteristics of the halogen-containing aromatic compound. For example, when n is 1, X is m-phenylene. Considering the reactivity of the diamine, it is desirable to bond to the 4-position or 2-position of m-phenylenediamine, particularly preferably 4-position, and when n is 2, X is 4 of m-phenylenediamine. , 6-position, 2,4-position, particularly preferably 4,6-position. When n is 3, the 2,4,6 positions are preferred.

【0022】上記式(1)において、mは、m−フェニ
レンジアミンへのYの結合数を表わし、0〜3の整数、
好ましくは2または3であり、耐熱性を考慮すると、特
に好ましくは3である。なお、上記式(1)において、
n及びmの合計は、必ず、4である(n+m=4)。
In the above formula (1), m represents the number of bonds of Y to m-phenylenediamine, and is an integer of 0 to 3,
It is preferably 2 or 3, and considering the heat resistance, it is particularly preferably 3. In the above formula (1),
The sum of n and m is always 4 (n + m = 4).

【0023】また、上記式(1)において、Xは、上記
式(2)で示される基である、即ち、フェノキシ基のす
べての残位にトリフルオロメチル基(−CF3)または
ハロゲン原子が結合した基である。上記式(2)におい
て、Zは、ハロゲン原子、即ち、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子またはヨウ素原子を表わし、好ましくはフ
ッ素原子、塩素原子であり、特に好ましくはフッ素原子
である。Zは、複数存在する際には、それぞれ、同一で
あってもあるいは異なるものであってもよい。
Further, in the above formula (1), X is a group represented by the above formula (2), that is, X is a trifluoromethyl group (-CF 3 ) or a halogen atom at all residues of the phenoxy group. It is a bonded group. In the above formula (2), Z represents a halogen atom, that is, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, preferably a fluorine atom and a chlorine atom, and particularly preferably a fluorine atom. When a plurality of Z's are present, they may be the same or different.

【0024】また、上記式(2)において、pは、フェ
ノキシ基へのトリフルオロメチル基(−CF3)の結合
数を表わし、0〜5の整数、好ましくは1〜3の整数で
あり、特に好ましくは1である。特に好ましい態様であ
る、pが1である際のフェノキシ基へのトリフルオロメ
チル基(−CF3)の結合位置は、含ハロゲン芳香族化
合物の所望の特性などによって異なり、o−、m−また
はp−位のいずれでもよいが、好ましくはp−位であ
る。
In the above formula (2), p represents the number of bonds of the trifluoromethyl group (--CF 3 ) to the phenoxy group and is an integer of 0-5, preferably an integer of 1-3. Particularly preferably, it is 1. The bonding position of the trifluoromethyl group (—CF 3 ) to the phenoxy group when p is 1, which is a particularly preferred embodiment, differs depending on the desired characteristics of the halogen-containing aromatic compound, and is o-, m- or It may be either p-position, but is preferably p-position.

【0025】また、上記式(2)において、qは、フェ
ノキシ基へのZの結合数を表わし、0〜5の整数、好ま
しくは2〜4の整数であり、特に好ましくは4である。
なお、上記式(2)において、p及びqの合計は、必
ず、5である(p+q=5)。
In the above formula (2), q represents the number of bonds of Z to the phenoxy group and is an integer of 0-5, preferably an integer of 2-4, particularly preferably 4.
In addition, in the above formula (2), the sum of p and q is always 5 (p + q = 5).

【0026】上記したように、Xは、フェノキシ基のp
−位にトリフルオロメチル基(−CF3)が結合しかつ
残りの4位置にフッ素原子が結合した基であることが特
に好ましい。
As mentioned above, X is p of the phenoxy group.
A group in which a trifluoromethyl group (—CF 3 ) is bonded to the − position and a fluorine atom is bonded to the remaining 4 positions is particularly preferable.

【0027】したがって、本発明の含ハロゲン芳香族化
合物の好ましい例としては、下記式(4):
Therefore, a preferable example of the halogen-containing aromatic compound of the present invention is the following formula (4):

【0028】[0028]

【化7】 [Chemical 7]

【0029】ただし、Xは、下記式(5):However, X is the following formula (5):

【0030】[0030]

【化8】 [Chemical 8]

【0031】で示される基であり;mは、0〜3の整数
であり;nは、1〜4の整数であり;およびm+nは4
である、で示される化合物であり、より好ましくは、下
記式(3):
M is an integer of 0 to 3; n is an integer of 1 to 4; and m + n is 4
And more preferably a compound represented by the following formula (3):

【0032】[0032]

【化9】 [Chemical 9]

【0033】で示される化合物、特に、下記式:A compound represented by the formula:

【0034】[0034]

【化10】 [Chemical 10]

【0035】で示される化合物が挙げられる。なお、上
記式(3)において、m及びnは、上記式(1)におけ
る定義と同様である。
Examples include compounds represented by: In the above formula (3), m and n have the same definitions as in the above formula (1).

【0036】上記好ましい含ハロゲン芳香族化合物例の
うち、2,5,6−トリフルオロ−4−(2,3,5,
6−テトラフルオロ−4−トリフルオロメチルフェノキ
シ)ベンゼンジアミンが、本発明の含ハロゲン芳香族化
合物として特に好ましい。
Of the above preferred examples of halogen-containing aromatic compounds, 2,5,6-trifluoro-4- (2,3,5,5)
6-Tetrafluoro-4-trifluoromethylphenoxy) benzenediamine is particularly preferred as the halogen-containing aromatic compound of the present invention.

【0037】本発明の含ハロゲン芳香族化合物は、特開
平11−147,955号公報に記載の方法などの、公
知の方法によって製造されればよく、特に制限されるも
のではない。以下、本発明の好ましい化合物である、上
記式(4)で示される含ハロゲン芳香族化合物の製造方
法の一実施態様を、記載する。なお、本発明の他の含ハ
ロゲン芳香族化合物についても、下記実施態様に記載の
方法と同様にして製造でき、例えば、下記実施態様にお
いて、テトラフルオロイソフタロニトリルの代わりに相
当する位置に所望とする他のハロゲン原子が置換された
化合物を使用し、また、テトラフルオロ(トリフルオロ
メチル)フェノール誘導体の代わりに所望の位置に所望
のハロゲン原子及びトリフルオロメチル基が置換された
化合物を使用することによって、同様にして合成でき
る。
The halogen-containing aromatic compound of the present invention may be produced by a known method such as the method described in JP-A No. 11-147,955 and is not particularly limited. Hereinafter, one embodiment of a method for producing a halogen-containing aromatic compound represented by the above formula (4), which is a preferred compound of the present invention, will be described. Note that other halogen-containing aromatic compounds of the present invention can also be produced in the same manner as in the method described in the following embodiments, and, for example, in the following embodiments, they can be produced at desired positions in place of tetrafluoroisophthalonitrile. To use a compound substituted with other halogen atom, and to use a compound substituted with a desired halogen atom and a trifluoromethyl group at a desired position in place of the tetrafluoro (trifluoromethyl) phenol derivative Can be similarly synthesized.

【0038】すなわち、一実施態様によると、(1)塩
基の存在下で、有機溶媒中、テトラフルオロイソフタロ
ニトリルを、下記式:
That is, according to one embodiment, (1) tetrafluoroisophthalonitrile is added in the presence of a base in an organic solvent according to the following formula:

【0039】[0039]

【化11】 [Chemical 11]

【0040】で示されるテトラフルオロ(トリフルオロ
メチル)フェノール誘導体と、反応させることによっ
て、下記式:
By reacting with a tetrafluoro (trifluoromethyl) phenol derivative represented by the following formula:

【0041】[0041]

【化12】 [Chemical 12]

【0042】で示されるイソフタロニトリル誘導体を合
成し;(2)このイソフタロニトリル誘導体を加水分解
することにより、下記式:
By synthesizing an isophthalonitrile derivative represented by: (2) by hydrolyzing the isophthalonitrile derivative, the following formula:

【0043】[0043]

【化13】 [Chemical 13]

【0044】で示されるイソフタル酸誘導体を製造し;
さらに、(3)このイソフタル酸誘導体を、ルイス塩基
の存在下、溶媒中で、アジド化合物と反応することによ
り酸アジドを得、この酸アジドを熱転位および加水分解
することによって、下記式:
Producing an isophthalic acid derivative of
Further, (3) the isophthalic acid derivative is reacted with an azide compound in the presence of a Lewis base in a solvent to obtain an acid azide, and the acid azide is subjected to thermal rearrangement and hydrolysis to give the following formula:

【0045】[0045]

【化14】 [Chemical 14]

【0046】で示される所望の含ハロゲン芳香族化合物
が製造される。なお、上記実施態様において、「イソフ
タロニトリル誘導体」とは、本発明の含ハロゲン芳香族
化合物のアミノ基(−NH2)が双方ともシアノ基(−
CN)に置換された化合物を意味し、また、「イソフタ
ル酸誘導体」とは、本発明の含ハロゲン芳香族化合物の
アミノ基(−NH2)が双方ともカルボキシル基(−C
OOH)に置換された化合物を意味する。
A desired halogen-containing aromatic compound represented by: is produced. In the above embodiment, "isophthalonitrile derivatives", an amino group (-NH 2) is both a cyano group-containing halogenated aromatic compound of the present invention (-
Refers to a compound substituted with CN), also, the "isophthalic acid derivatives", amino group of halogen-containing aromatic compound (-NH 2) is a carboxyl group (-C both of the present invention
OOH) is substituted.

【0047】上記工程(1)において、テトラフルオロ
(トリフルオロメチル)フェノール誘導体は、所望の含
ハロゲン芳香族化合物の構造に応じて適宜選択されるも
のである。すなわち、2−ヒドロキシ−3,4,5,6
−テトラフルオロベンゾトリフルオライド、3−ヒドロ
キシ−2,4,5,6−テトラフルオロベンゾトリフル
オライド、及び4−ヒドロキシ−2,3,5,6−テト
ラフルオロベンゾトリフルオライドがテトラフルオロ
(トリフルオロメチル)フェノール誘導体として挙げら
れ、これらのうち、4−ヒドロキシ−2,3,5,6−
テトラフルオロベンゾトリフルオライドが特に好ましく
使用される。
In the step (1), the tetrafluoro (trifluoromethyl) phenol derivative is appropriately selected according to the structure of the desired halogen-containing aromatic compound. That is, 2-hydroxy-3,4,5,6
-Tetrafluorobenzotrifluoride, 3-hydroxy-2,4,5,6-tetrafluorobenzotrifluoride, and 4-hydroxy-2,3,5,6-tetrafluorobenzotrifluoride are tetrafluoro (trifluoromethyl) ) Phenol derivatives, of which 4-hydroxy-2,3,5,6-
Tetrafluorobenzotrifluoride is particularly preferably used.

【0048】上記工程(1)において、テトラフルオロ
イソフタロニトリルの仕込み量は、テトラフルオロ(ト
リフルオロメチル)フェノール誘導体のテトラフルオロ
イソフタロニトリルへの付加モル数[即ち、上記式
(1)におけるn数]によって異なり、テトラフルオロ
(トリフルオロメチル)フェノール誘導体と効率良く反
応できる量であれば特に制限されないが、反応効率及び
反応選択性を考慮すると、テトラフルオロ(トリフルオ
ロメチル)フェノール誘導体に対して過剰に存在するこ
とが好ましい。例えば、テトラフルオロ(トリフルオロ
メチル)フェノール誘導体のテトラフルオロイソフタロ
ニトリルへの付加モル数が1である、即ち、上記式
(1)中のnが1である場合の、テトラフルオロイソフ
タロニトリルの仕込み量は、テトラフルオロ(トリフル
オロメチル)フェノール誘導体1モルに対して、1〜4
0モル、より好ましくは1〜20モルであることが好ま
しい。なお、上記式(1)中のnが1である際には、そ
の立体構造(反応性)により、テトラフルオロ(トリフ
ルオロメチル)フェノール誘導体は、テトラフルオロイ
ソフタロニトリルの4位または2位に選択的に結合す
る。また、例えば、テトラフルオロ(トリフルオロメチ
ル)フェノール誘導体のテトラフルオロイソフタロニト
リルへの付加モル数が2である、即ち、上記式(1)中
のnが2である場合の、テトラフルオロイソフタロニト
リルの仕込み量は、テトラフルオロ(トリフルオロメチ
ル)フェノール誘導体1モルに対して、0.5〜20モ
ル、より好ましくは0.5〜10モルであることが好ま
しい。なお、上記式(1)中のnが2である際には、そ
の立体構造(反応性)により、テトラフルオロ(トリフ
ルオロメチル)フェノール誘導体は、テトラフルオロイ
ソフタロニトリルの4,6位にまたは2,4位に選択的
に結合する。さらに、例えば、テトラフルオロ(トリフ
ルオロメチル)フェノール誘導体のテトラフルオロイソ
フタロニトリルへの付加モル数が3である、即ち、上記
式(1)中のnが3である場合の、テトラフルオロイソ
フタロニトリルの仕込み量は、テトラフルオロ(トリフ
ルオロメチル)フェノール誘導体1モルに対して、0.
1〜10モル、より好ましくは0.1〜5モルであるこ
とが好ましい。なお、上記式(1)中のnが3である際
には、その立体構造(反応性)により、テトラフルオロ
(トリフルオロメチル)フェノール誘導体は、テトラフ
ルオロイソフタロニトリルの2,4,6位に選択的に結
合する。この際、テトラフルオロイソフタロニトリルの
仕込み量が下限を下回ると、十分にテトラフルオロ(ト
リフルオロメチル)フェノール誘導体と反応できずに、
目的物であるイソフタロニトリル誘導体の収率が低下
し、反応選択率が低下する場合がある。逆に、テトラフ
ルオロイソフタロニトリルの仕込み量が上限を超えて
も、添加に見合う効果が得られず経済的でない上、過剰
のテトラフルオロイソフタロニトリルが残存してしま
い、回収コストが大きくなってしまう場合がある。
In the step (1), the charged amount of tetrafluoroisophthalonitrile is the number of moles of tetrafluoro (trifluoromethyl) phenol derivative added to tetrafluoroisophthalonitrile [that is, n in the above formula (1)]. Number], and is not particularly limited as long as it is an amount capable of efficiently reacting with a tetrafluoro (trifluoromethyl) phenol derivative, but considering the reaction efficiency and reaction selectivity, It is preferably present in excess. For example, when the number of moles of tetrafluoro (trifluoromethyl) phenol derivative added to tetrafluoroisophthalonitrile is 1, that is, when n in the above formula (1) is 1, tetrafluoroisophthalonitrile The amount charged is 1 to 4 with respect to 1 mol of the tetrafluoro (trifluoromethyl) phenol derivative.
It is preferably 0 mol, more preferably 1 to 20 mol. When n in the above formula (1) is 1, the tetrafluoro (trifluoromethyl) phenol derivative is at the 4-position or 2-position of tetrafluoroisophthalonitrile due to its three-dimensional structure (reactivity). Selectively combine. In addition, for example, when the number of moles of the tetrafluoro (trifluoromethyl) phenol derivative added to tetrafluoroisophthalonitrile is 2, that is, when n in the formula (1) is 2, tetrafluoroisophthalo The amount of nitrile charged is preferably 0.5 to 20 mol, and more preferably 0.5 to 10 mol, based on 1 mol of the tetrafluoro (trifluoromethyl) phenol derivative. When n in the above formula (1) is 2, the tetrafluoro (trifluoromethyl) phenol derivative is at the 4,6 position of tetrafluoroisophthalonitrile due to its three-dimensional structure (reactivity). It selectively binds to the 2,4 position. Furthermore, for example, when the number of moles of the tetrafluoro (trifluoromethyl) phenol derivative added to tetrafluoroisophthalonitrile is 3, that is, when n in the above formula (1) is 3, tetrafluoroisophthalo The amount of the nitrile charged was 0.1% with respect to 1 mol of the tetrafluoro (trifluoromethyl) phenol derivative.
It is preferably 1 to 10 mol, more preferably 0.1 to 5 mol. In addition, when n in the above formula (1) is 3, the tetrafluoro (trifluoromethyl) phenol derivative is converted into the 2,4,6-position of tetrafluoroisophthalonitrile due to its three-dimensional structure (reactivity). Selectively bind to. At this time, if the charged amount of tetrafluoroisophthalonitrile is less than the lower limit, it cannot sufficiently react with the tetrafluoro (trifluoromethyl) phenol derivative,
The yield of the target isophthalonitrile derivative may decrease, and the reaction selectivity may decrease. On the contrary, even if the charged amount of tetrafluoroisophthalonitrile exceeds the upper limit, it is not economical because the effect commensurate with the addition is not obtained, and excess tetrafluoroisophthalonitrile remains and the recovery cost increases. It may end up.

【0049】上記工程(1)において使用される塩基と
しては、フッ化カリウム、フッ化ナトリウム、フッ化リ
チウム、塩化カリウム、塩化ナトリウム及び塩化リチウ
ム等のアルカリ金属塩;塩化カルシウム及び塩化マグネ
シウム等のアルカリ土類金属塩;炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素リチウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸リチウム及び炭酸カリウム等のアルカリ金属の
炭酸塩;炭酸カルシウム及び炭酸マグネシウム等のアル
カリ土類金属の炭酸塩;トリメチルアミン、トリエチル
アミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリ
シクロヘキシルアミン、トリベンジルアミン、トリフェ
ニルアミン及びピリジン等の第三級アミンなどが挙げら
れ、これらのうち、フッ化カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、トリエチルアミン、トリプロピルアミン
及びピリジンが好ましい。塩基の添加量は、テトラフル
オロイソフタロニトリル及びテトラフルオロ(トリフル
オロメチル)フェノール誘導体との反応を効率良く進行
できる量であれば特に制限されないが、テトラフルオロ
(トリフルオロメチル)フェノール誘導体に対して、通
常、0.5〜20モル%、好ましくは1〜10モル%で
ある。
Examples of the base used in the above step (1) include alkali metal salts such as potassium fluoride, sodium fluoride, lithium fluoride, potassium chloride, sodium chloride and lithium chloride; alkali salts such as calcium chloride and magnesium chloride. Earth metal salts; sodium hydrogen carbonate,
Alkali metal carbonates such as lithium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium carbonate, lithium carbonate and potassium carbonate; alkaline earth metal carbonates such as calcium carbonate and magnesium carbonate; trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, Examples thereof include tertiary amines such as tricyclohexylamine, tribenzylamine, triphenylamine and pyridine. Of these, potassium fluoride, sodium carbonate,
Preference is given to potassium carbonate, triethylamine, tripropylamine and pyridine. The addition amount of the base is not particularly limited as long as it can efficiently proceed the reaction with the tetrafluoroisophthalonitrile and the tetrafluoro (trifluoromethyl) phenol derivative, but is not limited to the tetrafluoro (trifluoromethyl) phenol derivative. , Usually 0.5 to 20 mol%, preferably 1 to 10 mol%.

【0050】また、上記工程(1)において、有機溶媒
としては、アセトニトリル及びベンゾニトリル等のニト
リル類;アセトン、メチルイソブチルケトン(MIB
K)、メチルエチルケトン(MEK)及びシクロヘキサ
ノン等のケトン類;クロロホルム、塩化メチレン、四塩
化炭素、クロロエタン、ジクロロエタン、トリクロロエ
タン及びテトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素
類;ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水
素類;ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタ
ン等の炭化水素類;ジエチルエーテル、イソプロピルエ
ーテル、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン、
ジフェニルエーテル、ベンジルエーテル及びtert−
ブチルエーテル等のエーテル類;蟻酸メチル、蟻酸エチ
ル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル及び酢酸イ
ソプロピル等のエステル類;ならびにN−メチルピロリ
ジノン(NMP)、ジメチルホルムアミド(DMF)、
ジメチルスルホキシド(DMSO)及びジメチルアセト
アミドなどが挙げられ、これらのうち、アセトニトリ
ル、メチルイソブチルケトン(MIBK)、N−メチル
ピロリジノン(NMP)、ジメチルホルムアミド(DM
F)及びジメチルスルホキシド(DMSO)が好まし
い。また、有機溶媒の量は、上記工程(1)の反応を効
率良く進行できる量であれば特に制限されないが、例え
ば、テトラフルオロイソフタロニトリルが有機溶媒中に
1〜80質量%、好ましくは5〜50質量%存在するよ
うな量である。
In the above step (1), as the organic solvent, nitriles such as acetonitrile and benzonitrile; acetone, methyl isobutyl ketone (MIB
K), ketones such as methyl ethyl ketone (MEK) and cyclohexanone; halogenated hydrocarbons such as chloroform, methylene chloride, carbon tetrachloride, chloroethane, dichloroethane, trichloroethane and tetrachloroethane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene Hydrocarbons such as pentane, hexane, cyclohexane and heptane; diethyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran (THF), dioxane,
Diphenyl ether, benzyl ether and tert-
Ethers such as butyl ether; esters such as methyl formate, ethyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate and isopropyl acetate; and N-methylpyrrolidinone (NMP), dimethylformamide (DMF),
Examples thereof include dimethyl sulfoxide (DMSO) and dimethylacetamide. Among these, acetonitrile, methyl isobutyl ketone (MIBK), N-methylpyrrolidinone (NMP), dimethylformamide (DM
F) and dimethylsulfoxide (DMSO) are preferred. The amount of the organic solvent is not particularly limited as long as the reaction of the step (1) can efficiently proceed, but for example, tetrafluoroisophthalonitrile is contained in the organic solvent at 1 to 80% by mass, preferably 5%. -50% by weight.

【0051】次に、上記含ハロゲン芳香族化合物の製造
方法の一実施態様における(2)の工程について以下に
説明する。
Next, step (2) in one embodiment of the method for producing the halogen-containing aromatic compound will be described below.

【0052】上記工程(2)では、上記工程(1)で合
成されたイソフタロニトリル誘導体は加水分解されて、
イソフタロニトリル誘導体の2個のシアノ基をカルボキ
シル基に変換することによって、所望のイソフタル酸誘
導体が合成される。
In the step (2), the isophthalonitrile derivative synthesized in the step (1) is hydrolyzed,
The desired isophthalic acid derivative is synthesized by converting the two cyano groups of the isophthalonitrile derivative into carboxyl groups.

【0053】上記工程(2)において、イソフタロニト
リル誘導体の加水分解は、酸および/またはアルカリの
存在下で、好ましくは酸の存在下で行われる。その際使
用される酸としては、濃硫酸、トリクロロ酢酸、硫酸、
ピロリン酸、トリリン酸、トリメタリン酸及びテトラメ
タリン酸等のポリリン酸、トリフルオロ酢酸、無水トリ
フルオロ酢酸、塩酸、発煙硫酸、濃塩酸、臭化水素酸、
プロピオン酸、ギ酸、硝酸及び酢酸;ならびにこれらの
混合物、例えば、トリフルオロ酢酸−無水トリフルオロ
酢酸(混合比は、質量比で、1:9〜9:1、好ましく
は3:7〜7:3)及びトリクロロ酢酸と硫酸との混合
液(混合比は、質量比で、1:9〜9:1、好ましくは
3:7〜7:3)などが挙げられる。上記酸は、単独で
使用されてもあるいは2種以上の混合物の形態で使用さ
れてもよい。また、これらの酸はそのままで使用されて
もまたは水溶液の形態で使用されてもよく、後者の場合
の濃度は、イソフタロニトリル誘導体を十分加水分解で
きる濃度であれば特に制限されず、反応温度や酸の種類
によっても異なるが、例えば、40〜85質量%、好ま
しくは50〜80質量%である。これらのうち、硫酸、
特に50〜80質量%の硫酸水溶液が酸として好ましく
使用される。これらのうち、ポリリン酸、トリフルオロ
酢酸−無水トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、プロピ
オン酸、塩酸、濃塩酸及び硫酸からなる群より選ばれる
少なくとも一種、特に硫酸、プロピオン酸、濃塩酸及び
ポリリン酸、ならびにこれらの水溶液が酸として好まし
く使用される。また、上記加水分解で使用されるアルカ
リとしては、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸
化カリウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウム、水酸
化ベリリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウ
ム、水酸化ストロンチウム及び水酸化バリウムなどが挙
げられ、これらのうち、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化カルシウム及び水酸化バリウムがアルカリ
として好ましく使用される。同様にして、上記アルカリ
は、単独で使用されてもあるいは2種以上の混合物の形
態で使用されてもよい。さらに、酸および/またはアル
カリの使用量は、イソフタロニトリル誘導体を十分加水
分解できる量であれば特に制限されないが、通常、イソ
フタロニトリル誘導体の酸および/またはアルカリに対
する濃度が、1〜80質量%、好ましくは5〜50質量
%となるような量である。
In the above step (2), the hydrolysis of the isophthalonitrile derivative is carried out in the presence of an acid and / or an alkali, preferably in the presence of an acid. Acids used at that time include concentrated sulfuric acid, trichloroacetic acid, sulfuric acid,
Pyrophosphoric acid, triphosphoric acid, polyphosphoric acid such as trimetaphosphoric acid and tetrametaphosphoric acid, trifluoroacetic acid, trifluoroacetic anhydride, hydrochloric acid, fuming sulfuric acid, concentrated hydrochloric acid, hydrobromic acid,
Propionic acid, formic acid, nitric acid and acetic acid; and mixtures thereof, for example, trifluoroacetic acid-trifluoroacetic anhydride (mixing ratio is 1: 9 to 9: 1 by mass ratio, preferably 3: 7 to 7: 3). ) And a mixed solution of trichloroacetic acid and sulfuric acid (mixing ratio is 1: 9 to 9: 1 by mass ratio, preferably 3: 7 to 7: 3) and the like. The above acids may be used alone or in the form of a mixture of two or more kinds. Further, these acids may be used as they are or may be used in the form of an aqueous solution, and the concentration in the latter case is not particularly limited as long as it is a concentration at which the isophthalonitrile derivative can be sufficiently hydrolyzed. The amount is, for example, 40 to 85% by mass, preferably 50 to 80% by mass, although it varies depending on the kind of the acid. Of these, sulfuric acid,
Particularly, a 50 to 80 mass% sulfuric acid aqueous solution is preferably used as the acid. Among these, at least one selected from the group consisting of polyphosphoric acid, trifluoroacetic acid-trifluoroacetic anhydride, trichloroacetic acid, propionic acid, hydrochloric acid, concentrated hydrochloric acid and sulfuric acid, particularly sulfuric acid, propionic acid, concentrated hydrochloric acid and polyphosphoric acid, and These aqueous solutions are preferably used as the acid. Further, as the alkali used in the hydrolysis, sodium hydroxide, lithium hydroxide, potassium hydroxide, rubidium hydroxide, cesium hydroxide, beryllium hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, strontium hydroxide and water. Examples thereof include barium oxide, and of these, sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide and barium hydroxide are preferably used as the alkali. Similarly, the alkali may be used alone or in the form of a mixture of two or more kinds. Furthermore, the amount of the acid and / or alkali used is not particularly limited as long as the isophthalonitrile derivative is sufficiently hydrolyzed, but the concentration of the isophthalonitrile derivative with respect to the acid and / or alkali is usually 1 to 80 mass. %, Preferably 5 to 50% by mass.

【0054】上記工程(2)における加水分解の条件
は、イソフタロニトリル誘導体を十分加水分解できる条
件であれば特に制限されないが、加水分解温度は、通
常、−20〜200℃、好ましくは0〜150℃であ
り、加水分解時間は、通常、0.1〜40時間、好まし
くは0.1〜20時間である。また、加水分解は、加圧
下、常圧下または減圧下のいずれの圧力下で行なっても
よいが、好ましくは常圧下で行われる。
The hydrolysis condition in the above step (2) is not particularly limited as long as it can sufficiently hydrolyze the isophthalonitrile derivative, but the hydrolysis temperature is usually from -20 to 200 ° C, preferably from 0 to 200 ° C. It is 150 ° C., and the hydrolysis time is usually 0.1 to 40 hours, preferably 0.1 to 20 hours. The hydrolysis may be carried out under pressure, at atmospheric pressure or under reduced pressure, but preferably under atmospheric pressure.

【0055】このようにして得られたイソフタル酸誘導
体は、シリカゲルやアルミナ等によるカラムクロマトグ
ラフィー、蒸留、好ましくは固体蒸留、再結晶、再沈及
び昇華などの公知の方法によって精製することによっ
て、高い純度で製造できる。
The isophthalic acid derivative thus obtained is highly purified by a known method such as column chromatography using silica gel or alumina, distillation, preferably solid distillation, recrystallization, reprecipitation and sublimation. It can be manufactured with purity.

【0056】さらに、上記含ハロゲン芳香族化合物の製
造方法の一実施態様における(3)の工程について以下
に説明する。
Further, step (3) in one embodiment of the method for producing a halogen-containing aromatic compound will be described below.

【0057】上記工程(3)は、上記工程(2)で得ら
れたイソフタル酸誘導体を、ルイス塩基の存在下、溶媒
中で、アジド化合物と反応させることによりイソフタル
酸誘導体のカルボキシル基(−COOH)が−CON3
基に変換された酸アジドを得、この酸アジドを熱転位お
よび加水分解することによって、目的とする含ハロゲン
芳香族化合物が得られる。
In the above step (3), the isophthalic acid derivative obtained in the above step (2) is reacted with an azide compound in the presence of a Lewis base in a solvent to react with the carboxyl group (--COOH) of the isophthalic acid derivative. ) Is -CON 3
A desired halogen-containing aromatic compound is obtained by obtaining an acid azide converted into a group and subjecting this acid azide to thermal rearrangement and hydrolysis.

【0058】この際使用されるアジド化合物は、−N3
基を有しかつイソフタル酸誘導体のカルボキシル基を効
率良く−CON3基に変換できるものであれば特に制限
されないが、具体的には下記式:
The azide compound used in this case is -N 3
It is not particularly limited as long as it has a group and can efficiently convert the carboxyl group of the isophthalic acid derivative into a -CON 3 group, but specifically, the following formula:

【0059】[0059]

【化15】 [Chemical 15]

【0060】で示される化合物が好ましい。上記式にお
いて、R1及びR2は、それぞれ独立して、炭素原子数1
〜5のアルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、n−ブチル、ペンチル、ネオペンチ
ル、sec−ブチル及びtert−ブチル;炭素原子数
3〜8のシクロアルキル基、例えば、シクロプロピル、
シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シク
ロヘプチル及びシクロオクチル;ベンジル基;または置
換基を有してもよいフェニル基を表わす。また、R 1
びR2が置換基を有してもよいフェニル基を表わす際に
使用できる置換基としては、特に制限されないが、具体
的には、炭素原子数1〜5のアルキル基、例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、ペ
ンチル、ネオペンチル、sec−ブチル及びtert−
ブチル;炭素原子数1〜5のアルコキシ基、例えば、メ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n−
ブトキシ、ペントキシ、ネオペントキシ、sec−ブト
キシ及びtert−ブトキシ;アセチル基、クロロアセ
チル基、トリクロロアセチル基、トリフルオロアセチル
基、カルボキシル基、アミノ基、ハロゲン原子、例え
ば、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素、ニトリル基、スル
ホニル基、ニトロ基、ならびにエステル基、例えば、メ
チルエステル及びエチルエステルなどが挙げられる。こ
の際、R1及びR2は同一であってもあるいは異なるもの
であってもよい。さらに、上記R1及びR2のうち、メチ
ル、エチル、プロピル、tert−ブチル、ベンジル及
びフェニルが好ましく、特にR1及びR2がフェニルであ
るジフェニルリン酸アジド(以下、単に「DPPA」と
も略す)が特に好ましい。
Compounds represented by are preferred. In the above formula
And R1And R2Each independently has 1 carbon atom
~ 5 alkyl groups, for example methyl, ethyl, propyl
Ru, isopropyl, n-butyl, pentyl, neo pliers
Le, sec-butyl and tert-butyl; carbon atom number
3-8 cycloalkyl groups, for example cyclopropyl,
Cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, shik
Roheptyl and cyclooctyl; benzyl group; or
It represents a phenyl group which may have a substituent. Also, R 1Over
And R2Is a phenyl group which may have a substituent
The substituent that can be used is not particularly limited, but
Specifically, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, for example, a methyl group
Ru, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, pe
Ethyl, neopentyl, sec-butyl and tert-
Butyl; an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, for example,
Toxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, n-
Butoxy, pentoxy, neopentoxy, sec-but
Xy and tert-butoxy; acetyl group, chloroacetate
Cyl group, trichloroacetyl group, trifluoroacetyl
Group, carboxyl group, amino group, halogen atom, for example
For example, fluorine, chlorine, bromine and iodine, nitrile groups, sulfur
Honyl, nitro, and ester groups such as
Examples include chill ester and ethyl ester. This
At the time of R1And R2Are the same or different
May be Furthermore, the above R1And R2Out of
Ru, ethyl, propyl, tert-butyl, benzyl and
And phenyl are preferred, especially R1And R2Is phenyl
Diphenylphosphoric acid azide (hereinafter simply referred to as “DPPA”)
Is also omitted) is particularly preferable.

【0061】また、アジド化合物の添加量は、イソフタ
ル酸誘導体との反応を良好に進行させる量であれば特に
制限されず、使用されるイソフタル酸誘導体、ルイス塩
基、及び溶媒等の種類や量によって異なる。具体的に
は、アジド化合物の添加量は、通常、イソフタル酸誘導
体1モルに対して、通常、2〜50モル、好ましくは2
〜10モルである。
The addition amount of the azide compound is not particularly limited as long as it allows the reaction with the isophthalic acid derivative to proceed favorably, and depends on the type and amount of the isophthalic acid derivative, Lewis base, solvent and the like used. different. Specifically, the addition amount of the azide compound is usually 2 to 50 mol, preferably 2 to 1 mol of the isophthalic acid derivative.
10 to 10 mol.

【0062】上記工程(3)では、ルイス塩基の存在下
で、溶媒中で、イソフタル酸誘導体をアジド化合物と反
応させるが、この際使用されるルイス塩基としては、水
酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、水
酸化ルビジウム及び水酸化セシウム等の水酸化アルカリ
金属類;水酸化ベリリウム、水酸化マグネシウム、水酸
化カルシウム、水酸化ストロンチウム及び水酸化バリウ
ム等の水酸化アルカリ土類金属類;メチルアミン、エチ
ルアミン、プロピルアミン、n−ブチルアミン、sec
−ブチルアミン、tert−ブチルアミン、シクロヘキ
シルアミン、ベンジルアミン及びフェニルアミン等の第
一級アミン;ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロ
ピルアミン、ジブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ
−sec−ブチルアミン、ジ−tert−ブチルアミ
ン、ジシクロヘキシルアミン、ジベンジルアミン及びジ
フェニルアミン等の第二級アミン;トリメチルアミン、
トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルア
ミン、トリシクロヘキシルアミン、トリベンジルアミン
及びトリフェニルアミン等の第三級アミン;ピリジン;
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素カリ
ウム、炭酸水素ルビジウム及び炭酸水素セシウム、炭酸
ナトリウム、炭酸リチウム、炭酸カリウム、炭酸ルビジ
ウム、炭酸セシウム、炭酸ベリリウム、炭酸マグネシウ
ム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム及び炭酸バリ
ウム等のアルカリ金属やアルカリ土類金属の炭酸塩;な
らびにフッ化カリウム、塩化カリウム、フッ化ナトリウ
ム、塩化ナトリウム、塩化カルシウム及び塩化マグネシ
ウム等のアルカリ金属塩やアルカリ土類金属塩などが挙
げられる。これらのうち、トリエチルアミン、トリメチ
ルアミン、ピリジン、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム、フッ化カリウム及びフッ化ナトリウム、特にト
リエチルアミン、トリメチルアミン及びピリジンが好ま
しく使用される。
In the above step (3), the isophthalic acid derivative is reacted with the azide compound in a solvent in the presence of a Lewis base. The Lewis base used in this case is sodium hydroxide, lithium hydroxide, Alkali metal hydroxides such as potassium hydroxide, rubidium hydroxide and cesium hydroxide; alkaline earth metal hydroxides such as beryllium hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, strontium hydroxide and barium hydroxide; methylamine , Ethylamine, propylamine, n-butylamine, sec
-Primary amines such as butylamine, tert-butylamine, cyclohexylamine, benzylamine and phenylamine; dimethylamine, diethylamine, dipropylamine, dibutylamine, diisobutylamine, di-sec-butylamine, di-tert-butylamine, dicyclohexyl. Secondary amines such as amines, dibenzylamine and diphenylamine; trimethylamine,
Tertiary amines such as triethylamine, tripropylamine, tributylamine, tricyclohexylamine, tribenzylamine and triphenylamine; pyridine;
Sodium hydrogen carbonate, lithium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, rubidium hydrogen carbonate and cesium hydrogen carbonate, sodium carbonate, lithium carbonate, potassium carbonate, rubidium carbonate, cesium carbonate, beryllium carbonate, magnesium carbonate, calcium carbonate, strontium carbonate, barium carbonate, etc. Alkali metal and alkaline earth metal carbonates thereof; and alkali metal salts and alkaline earth metal salts such as potassium fluoride, potassium chloride, sodium fluoride, sodium chloride, calcium chloride and magnesium chloride. Of these, triethylamine, trimethylamine, pyridine, sodium hydrogencarbonate, potassium hydrogencarbonate, potassium fluoride and sodium fluoride, particularly triethylamine, trimethylamine and pyridine are preferably used.

【0063】また、ルイス塩基の存在量は、イソフタル
酸誘導体のアジド化合物との反応を良好に触媒できる量
であれば特に制限されないが、イソフタル酸誘導体1モ
ルに対して、通常、2〜50モル、好ましくは2〜10
モルである。この際、ルイス塩基の存在量が2モル未満
であると、イソフタル酸誘導体の反応が良好に進行せ
ず、収率が低下する恐れがある。これに対して、ルイス
塩基の存在量が50モルを超えると、添加に見合う効果
が得られず、逆に過剰のルイス塩基を除去するために手
間や時間がかかり、最終的にはコストアップにつながる
場合がある。
The amount of the Lewis base present is not particularly limited as long as it is a sufficient amount to catalyze the reaction of the isophthalic acid derivative with the azide compound, but is usually 2 to 50 mol per 1 mol of the isophthalic acid derivative. , Preferably 2-10
It is a mole. At this time, if the amount of the Lewis base present is less than 2 mol, the reaction of the isophthalic acid derivative does not proceed well, and the yield may decrease. On the other hand, when the amount of the Lewis base present exceeds 50 mols, the effect commensurate with the addition cannot be obtained, and conversely, it takes time and labor to remove the excess Lewis base, which ultimately leads to an increase in cost. It may be connected.

【0064】上記工程(3)において使用できる溶媒と
しては、メタノール、エタノール、無水エタノール、イ
ソプロパノール、ベンジルアルコール、フェノール、n
−ブタノール、sec−ブタノール及びtert−ブタ
ノール等のアルコール類;クロロホルム、塩化メチレ
ン、四塩化炭素、クロロエタン、ジクロロエタン、トリ
クロロエタン及びテトラクロロエタン等のハロゲン化炭
化水素類;ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘ
プタン等の炭化水素類;ベンゼン、トルエン及びキシレ
ン等の芳香族炭化水素類;ならびにジエチルエーテル、
イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン(TH
F)、ジオキサン、ジフェニルエーテル、ベンジルエー
テル及びtert−ブチルエーテル等のエーテル類など
が挙げられる。これらのうち、クロロホルム、ベンゼン
およびトルエンが好ましく使用される。また、溶媒の使
用量もまた、イソフタル酸誘導体のアジド化合物との反
応が良好に進行するような量であれば特に制限されない
が、溶媒におけるイソフタル酸誘導体の濃度が、通常、
1〜80(w/v)%、好ましくは5〜50(w/v)
%となるような量である。
Solvents that can be used in the above step (3) include methanol, ethanol, absolute ethanol, isopropanol, benzyl alcohol, phenol and n.
-Alcohols such as butanol, sec-butanol and tert-butanol; halogenated hydrocarbons such as chloroform, methylene chloride, carbon tetrachloride, chloroethane, dichloroethane, trichloroethane and tetrachloroethane; carbonization such as pentane, hexane, cyclohexane and heptane Hydrogens; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; and diethyl ether,
Isopropyl ether, tetrahydrofuran (TH
F), ethers such as dioxane, diphenyl ether, benzyl ether and tert-butyl ether. Of these, chloroform, benzene and toluene are preferably used. The amount of the solvent used is also not particularly limited as long as the reaction of the isophthalic acid derivative with the azide compound proceeds well, but the concentration of the isophthalic acid derivative in the solvent is usually
1-80 (w / v)%, preferably 5-50 (w / v)
The amount is such that it becomes%.

【0065】上記工程(3)において、イソフタル酸誘
導体とアジド化合物との反応の反応条件は、これらの反
応が十分進行する条件であれば特に制限されないが、反
応温度は、通常、−20〜200℃、好ましくは20〜
150℃であり、反応時間は、通常、0.1〜40時
間、好ましくは0.1〜20時間である。また、上記反
応は、加圧下、常圧下または減圧下のいずれの圧力下で
行なってもよいが、取り扱いのし易さ及び設備面を考慮
して、好ましくは常圧下で行われる。
In step (3) above, the reaction conditions for the reaction of the isophthalic acid derivative and the azide compound are not particularly limited as long as these reactions can proceed sufficiently, but the reaction temperature is usually from -20 to 200. ℃, preferably 20 ~
It is 150 ° C., and the reaction time is usually 0.1 to 40 hours, preferably 0.1 to 20 hours. The above-mentioned reaction may be carried out under pressure, under normal pressure or under reduced pressure, but it is preferably carried out under normal pressure in consideration of ease of handling and equipment.

【0066】さらに、このようにして得られた酸アジド
を熱転位および加水分解する。より具体的には、酸アジ
ドを、必要であれば還流しながら、第一の溶媒中で、−
20〜200℃、好ましくは20〜150℃の反応温度
で、0.1〜40時間、好ましくは0.1〜20時間、
熱転位して酸アジドの−CON3基が−NCO基に変換
されたイソシアン酸エステルを得た後、この熱転位産物
たるイソシアン酸エステルをさらに、必要であれば還流
しながら、第二の溶媒中で、イソシアン酸エステル10
質量部に対して、通常、1〜10000質量部、好まし
くは5〜1000質量部の量の、酸またはアルカリによ
り、−50〜200℃、好ましくは−20〜150℃の
反応温度で、0.1〜40時間、好ましくは0.1〜2
0時間、加水分解することによって、所望の含ハロゲン
芳香族化合物が得られる。
Furthermore, the acid azide thus obtained is subjected to thermal rearrangement and hydrolysis. More specifically, the acid azide is refluxed if necessary in the first solvent,
At a reaction temperature of 20 to 200 ° C., preferably 20 to 150 ° C. for 0.1 to 40 hours, preferably 0.1 to 20 hours,
After thermal rearrangement to obtain an isocyanate ester in which the —CON 3 group of the acid azide is converted into an —NCO group, the isocyanate ester that is the thermal rearrangement product is further refluxed, if necessary, with a second solvent. Among them, isocyanate 10
Usually, the reaction is carried out at a reaction temperature of −50 to 200 ° C., preferably −20 to 150 ° C., with an acid or alkali in an amount of 1 to 10000 parts by weight, preferably 5 to 1000 parts by weight, based on 0. 1 to 40 hours, preferably 0.1 to 2
The desired halogen-containing aromatic compound is obtained by hydrolysis for 0 hours.

【0067】ここで使用される第一の溶媒としては、ギ
酸メチル、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル及び酢
酸プロピル等のエステル類;アセトン、メチルイソブチ
ルケトン(MIBK)、シクロヘキサノン及びメチルエ
チルケトン(MEK)等のケトン類;クロロホルム、塩
化メチレン、四塩化炭素、クロロエタン、ジクロロエタ
ン、トリクロロエタン及びテトラクロロエタン等のハロ
ゲン化炭化水素類;ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサ
ン及びヘプタン等の炭化水素類;ベンゼン、トルエン及
びキシレン等の芳香族炭化水素類;ならびにジエチルエ
ーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン
(THF)、ジオキサン、ジフェニルエーテル、ベンジ
ルエーテル及びtert−ブチルエーテル等のエーテル
類などが挙げられる。これらのうち、クロロホルム、ベ
ンゼン及びトルエンが好ましく使用される。
The first solvent used here includes esters such as methyl formate, ethyl formate, methyl acetate, ethyl acetate and propyl acetate; acetone, methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclohexanone and methyl ethyl ketone (MEK), etc. Ketones; halogenated hydrocarbons such as chloroform, methylene chloride, carbon tetrachloride, chloroethane, dichloroethane, trichloroethane and tetrachloroethane; hydrocarbons such as pentane, hexane, cyclohexane and heptane; aromatics such as benzene, toluene and xylene Group hydrocarbons; and ethers such as diethyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran (THF), dioxane, diphenyl ether, benzyl ether and tert-butyl ether. Of these, chloroform, benzene and toluene are preferably used.

【0068】また、第二の溶媒としては、メタノール、
エタノール、無水エタノール、イソプロパノール、ベン
ジルアルコール、フェノール、n−ブタノール、sec
−ブタノール及びtert−ブタノール等のアルコール
類;ギ酸メチル、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル
及び酢酸プロピル等のエステル類;アセトン、メチルイ
ソブチルケトン(MIBK)、シクロヘキサノン及びメ
チルエチルケトン(MEK)等のケトン類;クロロホル
ム、塩化メチレン、四塩化炭素、クロロエタン、ジクロ
ロエタン、トリクロロエタン及びテトラクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素類;ペンタン、ヘキサン、シクロ
ヘキサン及びヘプタン等の炭化水素類;ベンゼン、トル
エン及びキシレン等の芳香族炭化水素類;ならびにジエ
チルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフ
ラン(THF)、ジオキサン、ジフェニルエーテル、ベ
ンジルエーテル及びtert−ブチルエーテル等のエー
テル類などが挙げられる。これらのうち、メタノール、
エタノール、クロロホルム、ベンゼン、トルエン及び酢
酸エチルが好ましく使用される。
As the second solvent, methanol,
Ethanol, absolute ethanol, isopropanol, benzyl alcohol, phenol, n-butanol, sec
Alcohols such as butanol and tert-butanol; esters such as methyl formate, ethyl formate, methyl acetate, ethyl acetate and propyl acetate; ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclohexanone and methyl ethyl ketone (MEK); Halogenated hydrocarbons such as chloroform, methylene chloride, carbon tetrachloride, chloroethane, dichloroethane, trichloroethane and tetrachloroethane; hydrocarbons such as pentane, hexane, cyclohexane and heptane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene. And ethers such as diethyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran (THF), dioxane, diphenyl ether, benzyl ether and tert-butyl ether. It is. Of these, methanol,
Ethanol, chloroform, benzene, toluene and ethyl acetate are preferably used.

【0069】この際の加水分解は、酸および/またはア
ルカリの存在下で、好ましくは酸の存在下で行われる。
上記加水分解において使用される酸としては、濃硫酸、
トリクロロ酢酸、硫酸、ピロリン酸、トリリン酸、トリ
メタリン酸及びテトラメタリン酸等のポリリン酸、トリ
フルオロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸、塩酸、発煙硫
酸、濃塩酸、臭化水素酸、プロピオン酸、ギ酸、硝酸及
び酢酸;ならびにこれらの混合物、例えば、トリフルオ
ロ酢酸−無水トリフルオロ酢酸(混合比は、質量比で、
1:9〜9:1、好ましくは3:7〜7:3)及びトリ
クロロ酢酸と硫酸との混合液(混合比は、質量比で、
1:9〜9:1、好ましくは3:7〜7:3)などが挙
げられる。上記酸は、単独で使用されてもあるいは2種
以上の混合物の形態で使用されてもよい。これらのう
ち、濃塩酸、塩酸、酢酸、濃硫酸、硫酸、臭化水素酸及
びプロピオン酸からなる群より選ばれる少なくとも一
種、特に濃塩酸、塩酸及び硫酸が酸として好ましく使用
される。また、上記加水分解で使用されるアルカリとし
ては、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリ
ウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウム、水酸化ベリ
リウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸
化ストロンチウム及び水酸化バリウムなどが挙げられ、
これらのうち、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化リチウム及び水酸化カルシウムがアルカリとして好
ましく使用される。同様にして、上記アルカリは、単独
で使用されてもあるいは2種以上の混合物の形態で使用
されてもよい。
The hydrolysis at this time is carried out in the presence of acid and / or alkali, preferably in the presence of acid.
As the acid used in the hydrolysis, concentrated sulfuric acid,
Trichloroacetic acid, sulfuric acid, pyrophosphoric acid, triphosphoric acid, polyphosphoric acid such as trimetaphosphoric acid and tetrametaphosphoric acid, trifluoroacetic acid, trifluoroacetic anhydride, hydrochloric acid, fuming sulfuric acid, concentrated hydrochloric acid, hydrobromic acid, propionic acid, formic acid, nitric acid And acetic acid; and a mixture thereof, for example, trifluoroacetic acid-trifluoroacetic anhydride (the mixing ratio is a mass ratio,
1: 9 to 9: 1, preferably 3: 7 to 7: 3) and a mixed solution of trichloroacetic acid and sulfuric acid (mixing ratio is mass ratio,
1: 9 to 9: 1, preferably 3: 7 to 7: 3). The above acids may be used alone or in the form of a mixture of two or more kinds. Of these, at least one selected from the group consisting of concentrated hydrochloric acid, hydrochloric acid, acetic acid, concentrated sulfuric acid, sulfuric acid, hydrobromic acid and propionic acid, particularly concentrated hydrochloric acid, hydrochloric acid and sulfuric acid is preferably used as the acid. Further, as the alkali used in the hydrolysis, sodium hydroxide, lithium hydroxide, potassium hydroxide, rubidium hydroxide, cesium hydroxide, beryllium hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, strontium hydroxide and water. Barium oxide and the like,
Of these, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and calcium hydroxide are preferably used as the alkali. Similarly, the alkali may be used alone or in the form of a mixture of two or more kinds.

【0070】また、上記加水分解において、酸による加
水分解物が塩酸塩の形態で存在する際には、この加水分
解物をアルカリで中和する工程を設けてもよい。この際
使用できるアルカリの定義は、上記加水分解の項で記載
したアルカリと同様である。
In the above hydrolysis, when the acid hydrolyzate exists in the form of a hydrochloride, a step of neutralizing the hydrolyzate with an alkali may be provided. The definition of the alkali that can be used in this case is the same as that of the alkali described in the above hydrolysis section.

【0071】また、熱転位における酸アジドの存在量
は、特に制限されず、上述したように、イソフタル酸誘
導体とアジド化合物との反応により得られた酸アジドを
そのまま使用すればよいが、第一の溶媒における酸アジ
ドの濃度が、通常、1〜80(w/v)%、好ましくは
5〜50(w/v)%となるような量である。また、第
二の溶媒におけるイソシアン酸エステルの濃度もまた、
酸アジドの熱転位により得られるイソシアン酸エステル
をそのまま使用すればよいが、第二の溶媒におけるイソ
シアン酸エステルの濃度が、通常、1〜80(w/v)
%、好ましくは5〜50(w/v)%となるような量で
ある。さらに、熱転位反応及び加水分解は、加圧下、常
圧下または減圧下のいずれの圧力下で行なってもよい
が、取り扱いのし易さ及び設備面を考慮して、好ましく
は常圧下で行われる。
The amount of acid azide present in the thermal rearrangement is not particularly limited, and as described above, the acid azide obtained by the reaction between the isophthalic acid derivative and the azide compound may be used as it is. The amount of acid azide in the solvent is usually 1 to 80 (w / v)%, preferably 5 to 50 (w / v)%. Also, the concentration of the isocyanate in the second solvent is also
The isocyanate ester obtained by thermal rearrangement of acid azide may be used as it is, but the concentration of the isocyanate ester in the second solvent is usually 1 to 80 (w / v).
%, Preferably 5 to 50 (w / v)%. Further, the thermal rearrangement reaction and the hydrolysis may be carried out under any of pressure, normal pressure or reduced pressure, but in view of easiness of handling and equipment, it is preferably carried out under normal pressure. .

【0072】または、工程(3)の代わりに、工程
(2)で得られたイソフタル酸誘導体を、ルイス塩基の
存在下、溶媒中で、アジド化合物と反応させることによ
りイソフタル酸誘導体のカルボキシル基が−CON3
に変換された酸アジドを得た後、この酸アジドを熱転位
して酸アジドの−CON3基が−NCO基に変換された
イソシアン酸エステルを得た後、この熱転位産物たるイ
ソシアン酸エステルをさらに、必要であれば還流しなが
ら、蒸気浴中で、アルコールと、−20〜200℃、好
ましくは20〜150℃の反応温度で、0.1〜40時
間、好ましくは0.1〜20時間、反応させてウレタン
類を得た後、反応産物たるウレタン類をさらに、必要で
あれば還流しながら、第三の溶媒中で、ウレタン類10
質量部に対して、通常、1〜10000質量部、好まし
くは5〜1000質量部の量の、酸またはアルカリによ
り、−50〜200℃、好ましくは−20〜150℃の
反応温度で、0.1〜40時間、好ましくは0.1〜2
0時間、加水分解することによって、所望の含ハロゲン
芳香族化合物を得てもよい[工程(3’)]。
Alternatively, instead of the step (3), the isophthalic acid derivative obtained in the step (2) is reacted with an azide compound in the presence of a Lewis base in a solvent, so that the carboxyl group of the isophthalic acid derivative is changed. After obtaining an acid azide converted to a —CON 3 group, the acid azide is thermally rearranged to obtain an isocyanic acid ester in which the —CON 3 group of the acid azide is converted to a —NCO group. The barrel isocyanate is further refluxed if necessary in a steam bath with an alcohol at a reaction temperature of −20 to 200 ° C., preferably 20 to 150 ° C. for 0.1 to 40 hours, preferably 0. After reacting for 1 to 20 hours to obtain urethanes, the urethanes as reaction products are further refluxed if necessary, in a third solvent, to give urethanes 10
Usually, the reaction is carried out at a reaction temperature of −50 to 200 ° C., preferably −20 to 150 ° C., with an acid or alkali in an amount of 1 to 10000 parts by weight, preferably 5 to 1000 parts by weight, based on 0. 1 to 40 hours, preferably 0.1 to 2
The desired halogen-containing aromatic compound may be obtained by hydrolysis for 0 hours [step (3 ′)].

【0073】上記工程(3’)において、酸アジドの製
造工程および酸アジドの熱転位工程は、特記しない限
り、上記工程(3)における工程と同様である。
In the above step (3 '), the step of producing an acid azide and the thermal rearrangement step of an acid azide are the same as the step in the above step (3) unless otherwise specified.

【0074】上記工程(3’)において、イソシアン酸
エステルと反応させるアルコールとしては、特に制限さ
れないが、例えば、メタノール、エタノール、無水エタ
ノール、イソプロパノール、ベンジルアルコール、フェ
ノール、n−ブタノール、sec−ブタノール及びte
rt−ブタノール等が挙げられる。なお、イソフタル酸
誘導体とアジド化合物との反応で使用される溶媒;酸ア
ジドの熱転位反応で使用される第一の溶媒;及び熱転位
物とのウレタン化反応で使用されるアルコールが同じで
ある場合には、溶媒を交換することなく同一の溶媒中
で、イソフタル酸誘導体とアジド化合物との反応からウ
レタン化まで行なえるため、イソフタル酸誘導体とアジ
ド化合物との反応で使用される溶媒;及び酸アジドの熱
転位反応で使用される第一の溶媒は熱転位物とのウレタ
ン化反応で使用されるアルコールと同じであることが好
ましい。なお、この際、必要であれば、溶媒を追加して
もよい。また、イソシアン酸エステルとの反応に係わる
アルコールの使用量は、イソシアン酸エステルとの反応
が良好に進行するような量であれば特に制限されない
が、イソシアン酸エステル1モルに対して、通常、1〜
100モル、好ましくは2〜50モルである。なお、本
発明において、アルコールを前述したように溶媒として
も使用する場合には、上記範囲の上限は設定されず、即
ち、アルコールを各反応の溶媒としても使用する場合の
アルコールの使用量は、イソシアン酸エステル1モルに
対して、通常、1モル以上、好ましくは2モル以上であ
る。
In the step (3 ′), the alcohol to be reacted with the isocyanic acid ester is not particularly limited, but examples thereof include methanol, ethanol, absolute ethanol, isopropanol, benzyl alcohol, phenol, n-butanol, sec-butanol and te
Examples include rt-butanol and the like. The solvent used in the reaction between the isophthalic acid derivative and the azide compound, the first solvent used in the thermal rearrangement reaction of the acid azide, and the alcohol used in the urethanization reaction with the thermal rearrangement product are the same. In this case, since the reaction from the isophthalic acid derivative and the azide compound to the urethanization can be performed in the same solvent without changing the solvent, the solvent used in the reaction between the isophthalic acid derivative and the azide compound; The first solvent used in the thermal rearrangement reaction of azide is preferably the same as the alcohol used in the urethanization reaction with the thermal rearrangement. At this time, if necessary, a solvent may be added. The amount of the alcohol used for the reaction with the isocyanate ester is not particularly limited as long as the reaction with the isocyanate ester proceeds satisfactorily, but is usually 1 mol per 1 mol of the isocyanate ester. ~
It is 100 mol, preferably 2 to 50 mol. In the present invention, when alcohol is also used as a solvent as described above, the upper limit of the above range is not set, that is, the amount of alcohol used when alcohol is also used as a solvent for each reaction is: It is usually 1 mol or more, preferably 2 mol or more, relative to 1 mol of the isocyanate ester.

【0075】上記イソシアン酸エステルとアルコールと
の反応は、反応試薬たるアルコールが液状であるため、
必ずしも溶媒の添加を必要とせず、生成物の精製のし易
さなどを考慮すると、溶媒をさらに添加することなく上
記反応を行なうことが好ましい。しかしながら、反応に
使用されるイソシアン酸エステルやアルコールの種類や
量ならびに反応条件等によっては、他の溶媒をさらに添
加して反応を行なうことが適切であることもあり、この
場合に使用できる溶媒としては、水;ギ酸メチル、ギ酸
エチル、酢酸メチル、酢酸エチル及び酢酸プロピル等の
エステル類;アセトン、メチルイソブチルケトン(MI
BK)、シクロヘキサン及びメチルエチルケトン(ME
K)等のケトン類;クロロホルム、塩化メチレン、四塩
化炭素、クロロエタン、ジクロロエタン、トリクロロエ
タン及びテトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素
類;ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン
等の炭化水素類;ベンゼン、トルエン及びキシレン等の
芳香族炭化水素類;ならびにジエチルエーテル、イソプ
ロピルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、ジオ
キサン、ジフェニルエーテル、ベンジルエーテル及びt
ert−ブチルエーテル等のエーテル類などが挙げられ
る。
In the reaction between the above-mentioned isocyanate and alcohol, the alcohol as the reaction reagent is in a liquid state,
It is preferable to carry out the above reaction without further adding a solvent in consideration of easiness of purification of the product, which does not necessarily require addition of a solvent. However, depending on the type and amount of the isocyanate ester or alcohol used in the reaction and the reaction conditions, it may be appropriate to further add another solvent to carry out the reaction. Is water; esters such as methyl formate, ethyl formate, methyl acetate, ethyl acetate and propyl acetate; acetone, methyl isobutyl ketone (MI
BK), cyclohexane and methyl ethyl ketone (ME
K) and other ketones; halogenated hydrocarbons such as chloroform, methylene chloride, carbon tetrachloride, chloroethane, dichloroethane, trichloroethane and tetrachloroethane; hydrocarbons such as pentane, hexane, cyclohexane and heptane; benzene, toluene and xylene. Aromatic hydrocarbons such as; and diethyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran (THF), dioxane, diphenyl ether, benzyl ether and t.
Examples thereof include ethers such as ert-butyl ether.

【0076】また、上記加水分解工程で使用される第三
の溶媒としては、水;メタノール、エタノール、無水エ
タノール、イソプロパノール、ベンジルアルコール、フ
ェノール、n−ブタノール、sec−ブタノール及びt
ert−ブタノール等のアルコール類;ギ酸メチル、ギ
酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル及び酢酸プロピル等
のエステル類;アセトン、メチルイソブチルケトン(M
IBK)、シクロヘキサン及びメチルエチルケトン(M
EK)等のケトン類;クロロホルム、塩化メチレン、四
塩化炭素、クロロエタン、ジクロロエタン、トリクロロ
エタン及びテトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素
類;ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン
等の炭化水素類;ベンゼン、トルエン及びキシレン等の
芳香族炭化水素類;ならびにジエチルエーテル、イソプ
ロピルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、ジオ
キサン、ジフェニルエーテル、ベンジルエーテル及びt
ert−ブチルエーテル等のエーテル類などが挙げられ
る。これらのうち、メタノール、エタノール、クロロホ
ルム、ベンゼン、トルエン及び酢酸エチルが好ましく使
用される。また、上記加水分解で使用される酸として
は、濃硫酸、トリクロロ酢酸、硫酸、ピロリン酸、トリ
リン酸、トリメタリン酸及びテトラメタリン酸等のポリ
リン酸、トリフルオロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸、塩
酸、発煙硫酸、濃塩酸、臭化水素酸、プロピオン酸、ギ
酸、硝酸及び酢酸;ならびにこれらの混合物、例えば、
トリフルオロ酢酸−無水トリフルオロ酢酸(混合比は、
質量比で、1:9〜9:1、好ましくは3:7〜7:
3)及びトリクロロ酢酸と硫酸との混合液(混合比は、
質量比で、1:9〜9:1、好ましくは3:7〜7:
3)などが挙げられる。上記酸は、単独で使用されても
あるいは2種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
これらのうち、濃塩酸、塩酸、酢酸、濃硫酸、硫酸、臭
化水素酸及びプロピオン酸からなる群より選ばれる少な
くとも一種、特に濃塩酸、塩酸及び硫酸が酸として好ま
しく使用される。また、上記加水分解で使用されるアル
カリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水
酸化カリウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウム、水
酸化ベリリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウ
ム、水酸化ストロンチウム及び水酸化バリウムなどが挙
げられ、これらのうち、水酸化ナトリウム、水酸化リチ
ウム、水酸化カリウム及び水酸化カルシウムがアルカリ
として好ましく使用される。同様にして、上記アルカリ
は、単独で使用されてもあるいは2種以上の混合物の形
態で使用されてもよい。
The third solvent used in the hydrolysis step is water; methanol, ethanol, anhydrous ethanol, isopropanol, benzyl alcohol, phenol, n-butanol, sec-butanol and t.
alcohols such as ert-butanol; esters such as methyl formate, ethyl formate, methyl acetate, ethyl acetate and propyl acetate; acetone, methyl isobutyl ketone (M
IBK), cyclohexane and methyl ethyl ketone (M
EK) and other ketones; halogenated hydrocarbons such as chloroform, methylene chloride, carbon tetrachloride, chloroethane, dichloroethane, trichloroethane and tetrachloroethane; hydrocarbons such as pentane, hexane, cyclohexane and heptane; benzene, toluene and xylene. Aromatic hydrocarbons such as; and diethyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran (THF), dioxane, diphenyl ether, benzyl ether and t.
Examples thereof include ethers such as ert-butyl ether. Of these, methanol, ethanol, chloroform, benzene, toluene and ethyl acetate are preferably used. The acid used in the hydrolysis, concentrated sulfuric acid, trichloroacetic acid, sulfuric acid, pyrophosphoric acid, triphosphoric acid, polyphosphoric acid such as trimetaphosphoric acid and tetrametaphosphoric acid, trifluoroacetic acid, trifluoroacetic anhydride, hydrochloric acid, fuming Sulfuric acid, concentrated hydrochloric acid, hydrobromic acid, propionic acid, formic acid, nitric acid and acetic acid; and mixtures thereof, for example
Trifluoroacetic acid-trifluoroacetic anhydride (mixing ratio is
Mass ratio is 1: 9 to 9: 1, preferably 3: 7 to 7 :.
3) and a mixed solution of trichloroacetic acid and sulfuric acid (mixing ratio is
Mass ratio is 1: 9 to 9: 1, preferably 3: 7 to 7 :.
3) etc. are mentioned. The above acids may be used alone or in the form of a mixture of two or more kinds.
Of these, at least one selected from the group consisting of concentrated hydrochloric acid, hydrochloric acid, acetic acid, concentrated sulfuric acid, sulfuric acid, hydrobromic acid and propionic acid, particularly concentrated hydrochloric acid, hydrochloric acid and sulfuric acid is preferably used as the acid. Further, as the alkali used in the hydrolysis, sodium hydroxide, lithium hydroxide, potassium hydroxide, rubidium hydroxide, cesium hydroxide, beryllium hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, strontium hydroxide and water. Examples thereof include barium oxide, and of these, sodium hydroxide, lithium hydroxide, potassium hydroxide and calcium hydroxide are preferably used as the alkali. Similarly, the alkali may be used alone or in the form of a mixture of two or more kinds.

【0077】この際、酸による加水分解物が塩酸塩の形
態で存在する際には、この加水分解物をアルカリで中和
する工程を設けてもよい。この際使用できるアルカリの
定義は、上記におけるものと同様である。
At this time, when the acid hydrolyzate exists in the form of a hydrochloride, a step of neutralizing the hydrolyzate with an alkali may be provided. The definition of the alkali that can be used in this case is the same as that described above.

【0078】また、アルコールとの反応におけるイソシ
アン酸エステルの存在量は、特に制限されず、上述した
ように、イソシアン酸エステルをそのまま使用すればよ
いが、アルコール及び必要に応じて添加された他の溶媒
におけるイソシアン酸エステルの濃度が、通常、1〜8
0(w/v)%、好ましくは5〜50(w/v)%とな
るような量である。また、第三の溶媒におけるウレタン
類の濃度もまた、イソシアン酸エステルとアルコールと
の反応により得られるウレタン類をそのまま使用すれば
よいが、第三の溶媒におけるウレタン類の濃度が、通
常、1〜80(w/v)%、好ましくは5〜50(w/
v)%となるような量である。さらに、上記態様におい
て、熱転位反応及び加水分解は、加圧下、常圧下または
減圧下のいずれの圧力下で行なってもよいが、取り扱い
のし易さ及び設備面を考慮して、好ましくは常圧下で行
われる。
The amount of the isocyanate ester present in the reaction with the alcohol is not particularly limited, and as described above, the isocyanate ester may be used as it is, but the alcohol and other additives added as necessary may be used. The concentration of the isocyanate ester in the solvent is usually 1 to 8
The amount is 0 (w / v)%, preferably 5 to 50 (w / v)%. Further, the concentration of the urethanes in the third solvent may also be the urethanes obtained by the reaction of the isocyanic acid ester and the alcohol, but the concentration of the urethanes in the third solvent is usually 1 to 80 (w / v)%, preferably 5 to 50 (w /
v) The amount is%. Further, in the above aspect, the thermal rearrangement reaction and the hydrolysis may be carried out under any of pressure, normal pressure or reduced pressure, but in view of easiness of handling and equipment, it is preferable that the reaction is carried out normally. It is carried out under pressure.

【0079】このようにして得られた含ハロゲン芳香族
化合物は、シリカゲルやアルミナ等によるカラムクロマ
トグラフィー、蒸留、好ましくは固体蒸留、再結晶、再
沈及び昇華などの公知の方法によって精製することによ
って、より高い純度で製造できる。
The halogen-containing aromatic compound thus obtained is purified by a known method such as column chromatography using silica gel or alumina, distillation, preferably solid distillation, recrystallization, reprecipitation and sublimation. , Can be manufactured with higher purity.

【0080】[0080]

【実施例】以下、本発明の実施例により具体的に説明す
る。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples.

【0081】実施例1 5リットル容の4ツ口フラスコに、テトラフルオロイソ
フタロニトリル596.3g(2.98モル)、フッ化
カリウム25.97g(0.45モル)、及びメチルイ
ソブチルケトン(MIBK)1.8リットルを仕込ん
だ。この混合溶液を45℃で攪拌しながら、4−ヒドロ
キシ−2,3,5,6−テトラフルオロベンゾトリフル
オライド34.91g(0.15モル)を溶解させたM
IBK 600mlを2時間かけて滴下した。滴下終了
後、この混合溶液を65℃で3時間、攪拌した。次に、
この反応溶液を25℃まで冷却した後、イオン交換水で
洗浄し、エバポレーターで溶媒(MIBK)を留去し
た。さらに、過剰のテトラフルオロイソフタロニトリル
を蒸留により除去することによって、白色の2,5,6
−トリフルオロ−4−(2,3,5,6−テトラフルオ
ロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)イソフタロニ
トリル32.68g(78.90ミリモル)を得た(収
率:53.0%、純度:98.9%)。
Example 1 In a 5 liter 4-necked flask, 596.3 g (2.98 mol) of tetrafluoroisophthalonitrile, 25.97 g (0.45 mol) of potassium fluoride, and methyl isobutyl ketone (MIBK) were added. ) 1.8 liters were charged. While stirring this mixed solution at 45 ° C., 34.91 g (0.15 mol) of 4-hydroxy-2,3,5,6-tetrafluorobenzotrifluoride was dissolved in M.
IBK (600 ml) was added dropwise over 2 hours. After the dropping was completed, this mixed solution was stirred at 65 ° C. for 3 hours. next,
The reaction solution was cooled to 25 ° C., washed with ion-exchanged water, and the solvent (MIBK) was distilled off with an evaporator. Further, by removing excess tetrafluoroisophthalonitrile by distillation, white 2,5,6
-Trifluoro-4- (2,3,5,6-tetrafluoro-4-trifluoromethylphenoxy) isophthalonitrile 32.68 g (78.90 mmol) was obtained (yield: 53.0%, purity. : 98.9%).

【0082】実施例2 1リットル容の4ツ口反応容器に、実施例1で得られた
2,5,6−トリフルオロ−4−(2,3,5,6−テ
トラフルオロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)イ
ソフタロニトリル40.0g(96.58ミリモル)及
びプロピオン酸280mlを仕込んだ。この混合溶液を
105℃で攪拌しながら、70質量%の硫酸水溶液12
0mlを1時間かけて滴下した後、26時間、還流し
た。次に、この反応溶液を室温まで冷却した後、反応溶
液を2リットルの水中に注いだ。析出した結晶を瀘別
し、瀘物を水で洗浄した。続いて、この瀘物を30ml
のアセトンに溶かした後、370mlの水中に注いで、
析出した結晶を瀘過した。得られた結晶を100℃で5
時間、乾燥することによって、2,5,6−トリフルオ
ロ−4−(2,3,5,6−テトラフルオロ−4−トリ
フルオロメチルフェノキシ)イソフタル酸35.29g
(78.05ミリモル)を白色固体として得た(粗収
率:80.8%、純度:99.1%)。
Example 2 2,5,6-trifluoro-4- (2,3,5,6-tetrafluoro-4-tri) obtained in Example 1 was placed in a 1-liter 4-neck reaction vessel. 40.0 g (96.58 mmol) of fluoromethylphenoxy) isophthalonitrile and 280 ml of propionic acid were charged. While stirring this mixed solution at 105 ° C., a 70 mass% sulfuric acid aqueous solution 12
0 ml was added dropwise over 1 hour and then refluxed for 26 hours. Next, after cooling this reaction solution to room temperature, the reaction solution was poured into 2 liters of water. The precipitated crystals were separated by filtration, and the filtrate was washed with water. Then, 30 ml of this filter
After dissolving it in acetone, pour it into 370 ml of water,
The precipitated crystals were filtered. The obtained crystals are heated at 100 ° C for 5
35.29 g of 2,5,6-trifluoro-4- (2,3,5,6-tetrafluoro-4-trifluoromethylphenoxy) isophthalic acid by drying for an hour
(78.05 mmol) was obtained as a white solid (crude yield: 80.8%, purity: 99.1%).

【0083】実施例3 10ml容の2ツ口反応容器に、実施例2で得られた
2,5,6−トリフルオロ−4−(2,3,5,6−テ
トラフルオロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)イ
ソフタル酸0.50g(1.1ミリモル)、トリエチル
アミン0.34ml(2.5ミリモル)、tert−ブ
タノール5mlを仕込んだ。この混合溶液を90℃で攪
拌しながら、ジフェニルリン酸アジド0.54ml
(2.5ミリモル)を20分間かけて滴下した後、3時
間、還流した。所定時間還流した後、反応溶液を50m
l容のナスフラスコに移し、エバポレーターで濃縮し
て、溶媒を除去した。さらに、このナスフラスコに、酢
酸エチル5ml及び塩酸5mlを添加し、室温で19時
間、攪拌した。攪拌後、クロロホルム5mlをさらに加
え、1時間、攪拌した後、水層と有機層を分離した。水
層を炭酸水素ナトリウムでpH8〜9になるように調整
した後、酢酸エチルで抽出し、イオン交換水で洗浄した
後、硫酸マグネシウムで乾燥し、エバポレーターで濃縮
することによって、茶色の固体を得た。さらに、この固
体をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製するこ
とによって、2,5,6−トリフルオロ−4−(2,
3,5,6−テトラフルオロ−4−トリフルオロメチル
フェノキシ)ベンゼンジアミン0.05g(0.13ミ
リモル)を白色固体として得た(粗収率:11.5%、
純度:90.6%)。
Example 3 2,5,6-trifluoro-4- (2,3,5,6-tetrafluoro-4-trifluoro) obtained in Example 2 was placed in a 10 ml two-neck reaction vessel. 0.50 g (1.1 mmol) of methylphenoxy) isophthalic acid, 0.34 ml (2.5 mmol) of triethylamine and 5 ml of tert-butanol were charged. While stirring this mixed solution at 90 ° C., 0.54 ml of diphenylphosphoric acid azide
(2.5 mmol) was added dropwise over 20 minutes and then refluxed for 3 hours. After refluxing for a predetermined time, the reaction solution is heated to 50 m.
The mixture was transferred to a l-volume eggplant flask and concentrated by an evaporator to remove the solvent. Further, 5 ml of ethyl acetate and 5 ml of hydrochloric acid were added to the eggplant flask, and the mixture was stirred at room temperature for 19 hours. After stirring, 5 ml of chloroform was further added, and the mixture was stirred for 1 hour, then, the aqueous layer and the organic layer were separated. The aqueous layer was adjusted to pH 8-9 with sodium hydrogen carbonate, extracted with ethyl acetate, washed with ion-exchanged water, dried over magnesium sulfate, and concentrated with an evaporator to obtain a brown solid. It was Furthermore, by purifying this solid by silica gel column chromatography, 2,5,6-trifluoro-4- (2,2
0.05 g (0.13 mmol) of 3,5,6-tetrafluoro-4-trifluoromethylphenoxy) benzenediamine was obtained as a white solid (crude yield: 11.5%,
Purity: 90.6%).

【0084】このようにして得られた2,5,6−トリ
フルオロ−4−(2,3,5,6−テトラフルオロ−4
−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゼンジアミンに
ついて、質量スペクトルを測定したところ、M+=39
4であった。また、この反応生成物を、19F−NMRス
ペクトルで分析したところ、図1に示される結果が得ら
れた。
2,5,6-trifluoro-4- (2,3,5,6-tetrafluoro-4) thus obtained
A mass spectrum of -trifluoromethylphenoxy) benzenediamine was measured and found to be M + = 39.
It was 4. Moreover, when the reaction product was analyzed by 19 F-NMR spectrum, the results shown in FIG. 1 were obtained.

【0085】[0085]

【発明の効果】上述したように、本発明は、上記式
(1)で示される新規な含ハロゲン芳香族化合物を提供
するものである。この含ハロゲン芳香族化合物は、染
料、医薬、農薬、高分子化合物の合成上重要な中間体で
あり、優れた耐熱性、撥水性、耐薬品性及び低誘電性を
有する樹脂の原料として使用されることが期待できる。
As described above, the present invention provides a novel halogen-containing aromatic compound represented by the above formula (1). This halogen-containing aromatic compound is an important intermediate in the synthesis of dyes, pharmaceuticals, agricultural chemicals and polymer compounds, and is used as a raw material for resins with excellent heat resistance, water repellency, chemical resistance and low dielectric properties. Can be expected.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】は、実施例3で得られた2,5,6−トリフル
オロ−4−(2,3,5,6−テトラフルオロ−4−ト
リフルオロメチルフェノキシ)ベンゼンジアミンの19
−NMRスペクトルのチャートを示すグラフである。
FIG. 1 shows 19 F of 2,5,6-trifluoro-4- (2,3,5,6-tetrafluoro-4-trifluoromethylphenoxy) benzenediamine obtained in Example 3.
-A graph showing a chart of an NMR spectrum.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥村 康則 茨城県つくば市観音台1丁目25番地12号 株式会社日本触媒内 Fターム(参考) 4H006 AA01 AB46 AB84 BJ50 BM10 BM30 BM71 BP60 BU46    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Yasunori Okumura             12-25 Kannondai, Tsukuba City, Ibaraki Prefecture             Nippon Shokubai Co., Ltd. F-term (reference) 4H006 AA01 AB46 AB84 BJ50 BM10                       BM30 BM71 BP60 BU46

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記式(1): 【化1】 ただし、Xは、下記式(2): 【化2】 ただし、Zは、それぞれ独立して、ハロゲン原子を表わ
し;pは、0〜5の整数であり;qは、0〜5の整数で
あり;およびp+qは5である、で示される基であり;
Yは、それぞれ独立して、ハロゲン原子を表わし;m
は、0〜3の整数であり;nは、1〜4の整数であり;
およびm+nは4である、で示される含ハロゲン芳香族
化合物。
1. The following formula (1): However, X is the following formula (2): Provided that each Z independently represents a halogen atom; p is an integer of 0 to 5; q is an integer of 0 to 5; and p + q is 5. ;
Y's each independently represent a halogen atom; m
Is an integer of 0 to 3; n is an integer of 1 to 4;
And m + n is 4, a halogen-containing aromatic compound represented by.
【請求項2】 該含ハロゲン芳香族化合物は、下記式
(3): 【化3】 ただし、mは、0〜3の整数であり;nは、1〜4の整
数であり;およびm+nは4である、で示される、請求
項1に記載の含ハロゲン芳香族化合物。
2. The halogen-containing aromatic compound has the following formula (3): However, m is an integer of 0-3; n is an integer of 1-4; and m + n is 4, The halogen-containing aromatic compound according to claim 1.
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