JP2003045661A - Light-emitting nanostructure and light-emitting element using the same - Google Patents

Light-emitting nanostructure and light-emitting element using the same

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JP2003045661A
JP2003045661A JP2001234464A JP2001234464A JP2003045661A JP 2003045661 A JP2003045661 A JP 2003045661A JP 2001234464 A JP2001234464 A JP 2001234464A JP 2001234464 A JP2001234464 A JP 2001234464A JP 2003045661 A JP2003045661 A JP 2003045661A
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JP
Japan
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pores
luminescent
light
light emitting
nanostructure
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Application number
JP2001234464A
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Japanese (ja)
Inventor
Tsutomu Miyasaka
力 宮坂
Yasushi Araki
康 荒木
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-emitting nanostructure and a light-emitting element having a high emission efficiency and improved particularly for the efficiency of taking out light. SOLUTION: The light-emitting nanostructure has a support having a plurality of mutually independent pores with average aperture diameters of 50 nm to 200 nm and a depth of 2000 nm or less and a porous surface on which the apertures of the plurality of pores are positioned; and a light-emitting organic material and a charge-transport material both of which are enveloped in the plurality of pores. The light-emitting element using the nanostructure is also disclosed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、発光性有機材料を
用いた発光性ナノ構造体およびそれを用いた発光素子の
技術分野に属し、詳細には、超高画素密度のカラー発光
表示素子および多色性光源等に適用可能な、発光効率お
よび指向性が改善された発光性ナノ構造体および発光素
子の技術分野に属する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technical field of a luminescent nanostructure using a luminescent organic material and a luminescent device using the luminescent nanostructure. It belongs to the technical field of a light-emitting nanostructure and a light-emitting element that are applicable to a polychromatic light source and have improved light emission efficiency and directivity.

【0002】[0002]

【従来の技術】有機発光素子は容易に面状光源が得られ
ることから、フラットディスプレイへの適用等を目指し
て、非常に多くの研究機関により研究がなされている。
通常、有機発光素子は基板の上に設置された透明電極の
上に、有機材料からなるホール輸送層、発光層および電
子輸送層を塗布または蒸着し、その上に陰極を配置し作
製される。その素子に電圧を印加すると、透明電極側か
らホールが、陰極側から電子が注入され、それらのキャ
リアーが発光層で再結合し有機発光材料の励起状態を生
成する。発光素子の発光現象は、その励起状態から基底
状態に失活する際に光子を放出することに基づく。該有
機発光素子の外部量子効率は、近年飛躍的に向上し、例
えば3重項を利用したオルトメタル化錯体ドープ素子
は、20%近くの効率を達成したとの報告もされてい
る。該素子の量子効率の損失は、ほとんどが光の取り出
し効率での損失であるという説があり、そのため発光し
た光を効率よく基板面側から取り出すことが近年の非常
に重要なテーマとなっている。
2. Description of the Related Art Since an organic light emitting device can easily obtain a planar light source, it has been studied by a great many research institutes for the purpose of application to a flat display.
Usually, an organic light emitting device is manufactured by coating or vapor depositing a hole transport layer, a light emitting layer and an electron transport layer made of an organic material on a transparent electrode provided on a substrate, and disposing a cathode thereon. When a voltage is applied to the device, holes are injected from the transparent electrode side and electrons are injected from the cathode side, and those carriers are recombined in the light emitting layer to generate an excited state of the organic light emitting material. The light emitting phenomenon of a light emitting element is based on the emission of photons when it is deactivated from its excited state to the ground state. It has been reported that the external quantum efficiency of the organic light-emitting device has been dramatically improved in recent years, and that an ortho-metallated complex-doped device using a triplet, for example, has achieved an efficiency of nearly 20%. There is a theory that most of the quantum efficiency loss of the device is a loss of light extraction efficiency. Therefore, efficient extraction of emitted light from the substrate side has become a very important theme in recent years. .

【0003】一方、発光素子など固体光エレクトロニク
ス素子の開発を支える固体の微細加工技術は、光や電子
線によるリソグラフィーを駆使した三次元微細加工技術
によって着実に進歩してきた。その先導技術である半導
体DRAM(Dynamic RandomAccess Memory)の微細加
工も、ムーア則に従い3年間におよそ4倍のペースで高
集積化を実現した。しかし今後は、光加工技術における
線幅の物理限界(約100nm)の問題、また、この限
界を超えたサイズの固体薄膜や三次元構造体では目的と
する電気的特性などの性能の確保が困難となる問題な
ど、さらなる機能集積を光加工技術のみに依存すること
には技術開発の障壁が極めて大きいのが現状である。し
たがって極微小なナノ空間に信頼性の高い機能を付与す
るには、従来の光加工技術の延長線上で極限を目指す
「トップダウン」のやり方は困難と考えられる。そのよ
うな背景から、固体の100nm以下の超微細加工法と
して、化学反応における自己組織化を利用する細孔形成
法が見直されている。
On the other hand, solid-state microfabrication techniques that support the development of solid-state optoelectronic devices such as light-emitting devices have been steadily progressed by three-dimensional microfabrication techniques that make full use of lithography with light or electron beams. The micro-fabrication of semiconductor DRAM (Dynamic Random Access Memory), which is the leading technology, has achieved high integration at a pace of about 4 times in 3 years according to Moore's law. However, in the future, it will be difficult to secure the performance such as the physical limit of the line width (about 100 nm) in the optical processing technology, and the target thin film and three-dimensional structure that exceed this limit, such as the target electrical characteristics. Currently, there are enormous barriers to technological development in relying solely on optical processing technology for further functional integration. Therefore, in order to add a highly reliable function to an extremely small nano space, it is considered difficult to use the “top-down” method, which aims at the limit as an extension of the conventional optical processing technology. From such a background, a pore forming method utilizing self-assembly in a chemical reaction has been reviewed as an ultrafine processing method for a solid of 100 nm or less.

【0004】その1つは、H.Masudaら、Sci
ence,268,1466(1995)に報告される
陽極電解酸化法による細孔配列アルミナ膜の形成であ
る。例えば、特開平6−32675号公報には、自己組
織化で作製した陽極酸化アルミナ皮膜を出発として、細
孔の凹凸構造をポリメタクリル酸メチルなどの重合体に
一度転写した後、転写体上にゾルゲル反応などによって
各種の無機金属酸化物の多孔質層を形成させる方法が開
示されている。また、特開平6−200378号公報に
は、この転写方法によって作られる金属などの多孔性構
造体、特開平8−186245号公報にはシリコンなど
を主体とする多孔性構造体が開示されている。これらの
多孔性無機構造体に形成された数10〜数100nmの
口径の細孔とその規則的配列は、ナノ空間を利用した超
微細な素材の固定や幾何学的配向化による機能の発現に
有用であり、細孔中にゲスト材料を充填させることによ
って素子としての新しい機能を付与する研究も展開して
いる。例えば、特開平10−284766号公報には、
細孔中に磁性をもつ極微小材料を導入し磁気抵抗効果を
発現する方法、特開2000−31462号公報には、
細孔中にカーボンナノチューブなどの導電材料を入れて
電子放出素子を作製し、LEDなどの発光素子に応用す
る方法が示されている。
One of these is H.264. Masuda et al., Sci
Ence, 268, 1466 (1995), and forming a pore-arranged alumina film by an anodic electrolytic oxidation method. For example, in JP-A-6-32675, starting from an anodized alumina film prepared by self-assembly, the uneven structure of pores is once transferred to a polymer such as polymethylmethacrylate, and then transferred onto a transfer body. A method of forming a porous layer of various inorganic metal oxides by a sol-gel reaction or the like is disclosed. Further, Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-200378 discloses a porous structure made of metal or the like made by this transfer method, and Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-186245 discloses a porous structure mainly composed of silicon. . The pores with a diameter of tens to hundreds of nanometers formed in these porous inorganic structures and their regular arrangement are effective in fixing functions of ultrafine materials using nanospace and in exhibiting functions by geometrical orientation. It is useful, and researches are being conducted to add a new function as an element by filling the guest material in the pores. For example, in Japanese Patent Laid-Open No. 10-284766,
Japanese Patent Laid-Open No. 2000-31462 discloses a method of expressing a magnetoresistive effect by introducing an ultrafine material having magnetism into pores.
A method is disclosed in which a conductive material such as carbon nanotube is put into the pores to produce an electron-emitting device and the electron-emitting device is applied to a light-emitting device such as an LED.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの従来
の方法では、一定の形状を有する固体の結晶または粒子
を収容する空間として細孔が用いられており、有機分子
など数nm以下の極めて小さい機能体を細孔内に閉じ込
めて有機発光素子などの分子機能の発現に応用する試み
はなんらなされていない。また、有機EL素子の発光特
性の改善においても、数十nmサイズの細孔の集合体で
あるナノ構造体を発光の場として利用した技術について
はなんら提案されていない。
However, in these conventional methods, pores are used as a space for accommodating solid crystals or particles having a certain shape, and organic molecules such as organic molecules having an extremely small size of several nm or less are used. No attempt has been made to apply the functional body to the molecular function of an organic light emitting device by confining the functional body in the pores. Further, in improving the light emission characteristics of the organic EL element, no technique has been proposed for using a nanostructure, which is an aggregate of pores having a size of several tens of nm, as a field for light emission.

【0006】本発明は、高い発光効率を有する、特に、
光の取り出し効率が改善された、発光性ナノ構造体およ
び発光素子を提供することを課題とする。
The present invention has a high luminous efficiency, in particular
It is an object of the present invention to provide a light emitting nanostructure and a light emitting device with improved light extraction efficiency.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の課題は本発明を
特定する下記の事項およびその好ましい態様により達成
された。 (1) 開口部の平均口径が50nm〜200nmで、
且つ深さが2000nm以下の互いに独立した複数の細
孔および該複数の細孔の開口部が配置された多孔性の面
を有する支持体と、前記複数の細孔に内包された発光性
有機材料および電荷輸送性材料とを有する発光性ナノ構
造体。 (2) 前記発光性有機材料が、電界発光性であること
を特徴とする(1)に記載の発光性ナノ構造体。 (3) 前記複数の細孔の少なくとも一部を構成してい
る材料が絶縁性材料であることを特徴とする(1)また
は(2)に記載の発光性ナノ構造体。 (4) 前記絶縁性材料が、酸化アルミニウム、酸化ジ
ルコニウムおよび炭化珪素から選ばれる少なくとも1種
であることを特徴とする(3)に記載の発光性ナノ構造
体。 (5) 前記電荷輸送性材料が、電子輸送材料であるこ
とを特徴とする(1)〜(4)のいずれかに記載の発光
性ナノ構造体。 (6) 前記電荷輸送性材料に少なくとも接触して配置
された導電層を有することを特徴とする(1)〜(5)
のいずれかに記載の発光性ナノ構造体。 (7) 前記発光性有機材料の発光が、リン光であるこ
とを特徴とする(1)〜(6)のいずれかに記載の発光
性ナノ構造体。 (8) 前記発光性有機材料が、金属錯体であることを
特徴とする(1)〜(7)のいずれかに記載の発光性ナ
ノ構造体。 (9) 前記発光性有機材料が、高分子化合物であるま
たは高分子化合物とともに細孔に内包されていることを
特徴とする(1)〜(8)のいずれかに記載の発光性ナ
ノ構造体。 (10) 前記複数の細孔のうち少なくとも2つの隣り
合う細孔に内包された発光性有機材料の発光波長領域が
互いに異なることを特徴とする(1)〜(9)のいずれ
かに記載の発光性ナノ構造体。 (11) 前記発光性有機材料が、前記複数の細孔の内
部において、厚みが20nm〜1900nmの有機層を
形成していることを特徴とする(1)〜(10)のいず
れかに記載の発光性ナノ構造体。 (12) (1)〜(11)のいずれかに記載の発光性
ナノ構造体を用いて構成された発光素子。 (13) 露光用光源として用いられることを特徴とす
る(12)に記載の発光素子。
The objects of the present invention have been achieved by the following matters which specify the present invention and preferred embodiments thereof. (1) The average aperture diameter is 50 nm to 200 nm,
And a support having a plurality of independent pores having a depth of 2000 nm or less and a porous surface in which the openings of the plurality of pores are arranged, and a luminescent organic material included in the plurality of pores. And a charge transporting material. (2) The luminescent nanostructure according to (1), wherein the luminescent organic material is electroluminescent. (3) The luminescent nanostructure according to (1) or (2), wherein the material forming at least a part of the plurality of pores is an insulating material. (4) The luminescent nanostructure according to (3), wherein the insulating material is at least one selected from aluminum oxide, zirconium oxide and silicon carbide. (5) The luminescent nanostructure according to any one of (1) to (4), wherein the charge transporting material is an electron transporting material. (6) A conductive layer disposed at least in contact with the charge-transporting material (1) to (5).
The luminescent nanostructure according to any one of 1. (7) The luminescent nanostructure according to any one of (1) to (6), wherein the luminescent organic material emits phosphorescence. (8) The luminescent nanostructure according to any one of (1) to (7), wherein the luminescent organic material is a metal complex. (9) The luminescent nanostructure according to any one of (1) to (8), wherein the luminescent organic material is a polymer compound or is included in pores together with the polymer compound. . (10) The emission wavelength region of the luminescent organic material included in at least two adjacent pores of the plurality of pores is different from each other, (1) to (9). Luminescent nanostructure. (11) The luminescent organic material forms an organic layer having a thickness of 20 nm to 1900 nm inside the plurality of pores, according to any one of (1) to (10). Luminescent nanostructure. (12) A light emitting device configured by using the light emitting nanostructure according to any one of (1) to (11). (13) The light emitting device according to (12), which is used as a light source for exposure.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。尚、本明細書において「〜」はその前後に記載さ
れる数値をそれぞれ最小値および最大値として含む範囲
を示す。本発明の発光性ナノ構造体は、平均口径が50
nm〜200nmで、且つ深さが2000nm以下の互
いに独立した複数の細孔および該複数の細孔の開口部が
配置された多孔性の面を有する支持体と、前記複数の細
孔に内包された発光性有機材料および電荷輸送性材料と
を有することを特徴とする。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below. In addition, in this specification, "-" shows the range which includes the numerical value described before and after that as a minimum value and a maximum value, respectively. The luminescent nanostructure of the present invention has an average diameter of 50.
nm-200 nm and a depth of 2000 nm or less and a plurality of pores independent of each other and a support having a porous surface on which openings of the pores are arranged, and included in the pores. And a light emitting organic material and a charge transporting material.

【0009】まず、本発明の発光性ナノ構造体の支持体
が有する細孔について説明する。前記支持体には、可視
光の波長より充分に小さい口径を有する複数の細孔(本
明細書では「細孔」と表現するが、「小孔」等、他の表
現もある)が形成されている。支持体は、これらの細孔
が互いに近接し規則的に配列して集合してできたナノ構
造体であり、典型的には平板状のナノ構造体である。細
孔の開口部の形状は、点対称形の円形や多角形、線対称
形の楕円形や多角形、非対称の無定形などいずれでもよ
く、目的に応じて適宜選択することができる。一般的に
は、円形および点対称の多角形(特に、三角形および六
角形)である。前記細孔は、その深さ方向の全長にわた
って断面が等しい形状と断面積を有するものでもよい
し、深さとともに断面形状や断面積が変化する(連続的
変化および断続的変化を含む)ものでもよい。後者の例
としては、表面において断面積が大きく、深部において
断面積が小さい細孔、表面において断面積が多角形で、
深部の断面が円形である細孔などが挙げられる。
First, the pores of the support of the luminescent nanostructure of the present invention will be described. A plurality of pores having a diameter sufficiently smaller than the wavelength of visible light (which will be referred to as “pores” in the present specification, but there are other expressions such as “small pores”) are formed on the support. ing. The support is a nanostructure formed by assembling these pores in close proximity to each other and regularly arrayed, and is typically a tabular nanostructure. The shape of the openings of the pores may be any of point-symmetrical circles and polygons, line-symmetrical ellipses and polygons, and asymmetrical amorphous shapes, and can be appropriately selected according to the purpose. Generally, they are circular and point-symmetrical polygons (particularly triangles and hexagons). The pores may have a shape and a cross-sectional area that have the same cross-section over the entire length in the depth direction, or may have a cross-sectional shape and a cross-sectional area that change with depth (including continuous change and intermittent change). Good. Examples of the latter are pores with a large cross-sectional area at the surface and a small cross-sectional area at the deep part, and a polygonal cross-sectional area at the surface,
Examples include pores having a circular cross section in the deep part.

【0010】細孔の平均口径とは、細孔の開口部のエッ
ジ長を意味し、開口部が円の場合は直径、楕円形や多角
形の場合は対角線を含めたエッジ間の長さのうち最も長
い直線長を意味する。前記細孔の平均口径は50〜20
0nmである。口径が50nm未満であると、細孔内へ
の有機発光材料等の充填が困難になる。また、口径が2
00nmを超えると、後に述べる細孔形成のための自己
組織化反応において、細孔の形状や、規則的配列の制御
が不完全になるなど細孔の均一性がひずみやすい。この
点において、平均口径は70〜150nmであるのが好
ましい。また、前記細孔の深さは、2000nm以下で
ある。深さが2000nmを超えると、細孔内部の発光
層ならびに電荷輸送層の厚さが大きくなって、内部抵抗
が増加し、発光効率および発光特性を低下させるという
影響がある。一方、細孔の深さが小さすぎると発光性有
機材料等の充填が困難になる。このような観点から、前
記複数の細孔の深さは100nm〜1800nmである
のが好ましく、200nm〜1000nmであるのがよ
り好ましい。
The average diameter of the pores means the edge length of the openings of the pores. When the openings are circular, the diameter is measured, and when the openings are elliptical or polygonal, the length between the edges including the diagonal line is calculated. It means the longest straight length. The average diameter of the pores is 50 to 20.
It is 0 nm. When the diameter is less than 50 nm, it becomes difficult to fill the organic light emitting material and the like into the pores. Also, the caliber is 2
If it exceeds 00 nm, the uniformity of the pores tends to be distorted, for example, the shape of the pores and the control of the regular arrangement become incomplete in the self-assembly reaction for forming the pores described later. In this respect, the average aperture is preferably 70 to 150 nm. Further, the depth of the pores is 2000 nm or less. When the depth exceeds 2000 nm, the thickness of the light emitting layer and the charge transport layer inside the pores becomes large, the internal resistance increases, and the light emitting efficiency and the light emitting characteristics are deteriorated. On the other hand, if the depth of the pores is too small, it becomes difficult to fill the luminescent organic material or the like. From such a viewpoint, the depth of the plurality of pores is preferably 100 nm to 1800 nm, and more preferably 200 nm to 1000 nm.

【0011】前記細孔の口径(R)に対する深さ(L)
の比(L/R)をアスペクト比と定義すると、前記細孔
の好ましいアスペクト比は2〜40であり、より好まし
いアスペクト比は5〜30である。
Depth (L) with respect to the diameter (R) of the pores
When the ratio (L / R) is defined as the aspect ratio, the preferable aspect ratio of the pores is 2 to 40, and the more preferable aspect ratio is 5 to 30.

【0012】前記支持体が有する複数の細孔は、互いに
独立している、即ち、2以上の細孔に通じる連絡路を有
していないのが好ましい。前記支持体は、前記複数の細
孔の開口部が、二次元的に規則性をもって配列された多
孔性の面を有しているのが好ましい。「二次元的に規則
性をもった配列」とは、開口部が互いに等しい間隔で二
次元マトリクスを形成して配列している状態、または、
細孔の開口部もしくは開口部の集団が二次元平面上に一
定の規則的配置をもって分布している状態を意味する。
前記多孔性の面は、網目構造を形成しているのが好まし
い。前記二次元的に規則性をもった配列には、例えば、
開口部が正三角形の頂点を占めるように規則的に網目状
に配置された配列、開口部が市松模様を形成するように
規則的に網目状に配置された配列、開口部がハニカム構
造を形成するように網目状に配置された配列などが含ま
れる。前記多孔性の面のこのような網目構造は電子顕微
鏡観察によって確認することができる。
It is preferable that the plurality of pores of the support are independent of each other, that is, they do not have a communication path leading to two or more pores. It is preferable that the support has a porous surface in which openings of the plurality of pores are two-dimensionally arranged regularly. "A two-dimensionally regular array" means that the openings are arranged in a two-dimensional matrix at equal intervals, or
It means a state in which openings or a group of openings of pores are distributed with a regular arrangement on a two-dimensional plane.
The porous surface preferably forms a mesh structure. The two-dimensionally regular array, for example,
An array in which the openings are regularly arranged in a mesh shape so as to occupy the vertices of an equilateral triangle, an array in which the openings are arranged in a regular mesh shape so as to form a checkerboard pattern, and the openings form a honeycomb structure. An array arranged in a mesh pattern is included. Such a network structure of the porous surface can be confirmed by observation with an electron microscope.

【0013】前記多孔性の面における、細孔群の開口部
の面積の占める割合が高い程、効率的に光機能を発現で
きるので好ましい。前記多孔性の面の全投影面積(細孔
の開口部面積を含む)における、前記細孔群の開口部の
投影面積の合計の占める割合を開口率と定義すると、好
ましい開口率は30%以上であり、より好ましく60%
以上である。
It is preferable that the ratio of the area of the openings of the pore group to the area of the porous surface is higher because the optical function can be efficiently expressed. When the ratio of the total projected area of the openings of the pore group to the total projected area of the porous surface (including the opening area of the pores) is defined as the opening ratio, the preferred opening ratio is 30% or more. And more preferably 60%
That is all.

【0014】前記多孔性の面における細孔の平面密度
(単位面積あたりの細孔数)は、通常、4×108〜5
×1011個/cm2であり、好ましくは2×109〜10
11個/cm2である。前記多孔性の面における細孔の開
口部間のピッチを中心間の距離で定義したとき、好まし
いピッチは100〜800nmである。
The plane density of the pores on the porous surface (the number of pores per unit area) is usually 4 × 10 8 to 5
× 10 11 pieces / cm 2 , preferably 2 × 10 9 to 10
11 pieces / cm 2 . When the pitch between the openings of the pores on the porous surface is defined by the distance between the centers, the preferred pitch is 100 to 800 nm.

【0015】本発明において、前記支持体が有する数1
0〜数100ナノメートルサイズの細孔の配列は、物理
的手段においては、光リソグラフィー法および電子線リ
ソグラフィー技術によってはじめて部分的には可能とな
るが。しかし、量産のために、広い面積にわたって細孔
ピッチを制御しながら加工することは、これらの手段に
よっても困難である。このような細孔の配列は、化学反
応においてイオンや分子の拡散および輸送がかかわる自
己組織化反応を制御することで作製することができる。
自己組織化によって規則的細孔配列を持つ多孔質ナノ構
造体を調製する方法として、H.Masudaら、Sc
ience,268,1466(1995)に報告され
るアルミナ皮膜の陽極電解酸化合成法が有用であり、本
発明にも好ましく適用できる。また、H.Masuda
ら、Advanced Materials,12,4
44(2000)に記載されるダイアモンド多孔質ナノ
構造体の作製の例など、この多孔質酸化アルミナ膜を鋳
型材料に用いて、アルミナ以外の各種の無機多孔性構造
体を作製することができ、本発明にも好ましく適用でき
る。
In the present invention, the number 1 which the support has
The arrangement of pores having a size of 0 to several hundreds of nanometers can be partially achieved by physical means only by photolithography and electron beam lithography. However, even with these means, it is difficult to process while controlling the pore pitch over a wide area for mass production. Such an array of pores can be produced by controlling a self-assembly reaction involving diffusion and transport of ions and molecules in a chemical reaction.
As a method for preparing a porous nanostructure having a regular pore array by self-assembly, H. H. et al. Masuda et al., Sc
Ience, 268, 1466 (1995), the anodic electrolytic oxidation synthesis method of the alumina coating is useful, and can be preferably applied to the present invention. In addition, H. Masuda
Et al., Advanced Materials, 12, 4
44 (2000), the porous alumina oxide film can be used as a template material to produce various types of inorganic porous structures other than alumina. It can be preferably applied to the present invention.

【0016】例えば、特開平6−32675号公報に開
示されるように、自己組織化により作製した陽極酸化ア
ルミナ皮膜を用いて、細孔の凹凸構造をポリメタクリル
酸メチルなどの重合体に一度転写した後、転写体上にゾ
ルゲル反応などによって無機金属酸化物の層を形成させ
る方法によって、各種の材料からなる多孔性ナノ構造体
を作製することができる。これらの方法によって作製さ
れる多孔性ナノ構造体も、本発明において支持体として
用いることができる。さらに、特開平6−200378
号公報に開示される転写方法によって作られる金属など
の多孔性構造体、特開平8−186245号公報に示さ
れる方法で形成されるシリコンなどを主体とする多孔性
構造体も本発明の支持体として用いることができる。
For example, as disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. Hei 6-32675, an uneven surface structure of pores is transferred once to a polymer such as polymethylmethacrylate by using an anodized alumina film prepared by self-assembly. After that, a porous nanostructure made of various materials can be prepared by a method of forming an inorganic metal oxide layer on the transfer body by a sol-gel reaction or the like. Porous nanostructures produced by these methods can also be used as a support in the present invention. Furthermore, JP-A-6-200378
A porous structure made of a metal or the like produced by the transfer method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 8-186245, or a porous structure mainly composed of silicon formed by the method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 8-186245 is also a support of the present invention. Can be used as

【0017】支持体の作製法としてアルミナ皮膜の陽極
電解酸化合成法を利用すると、複数の細孔が二次元的な
規則性を有するとともに密な(開口率が高い)配列に配
置された多孔性アルミナが得られるので好ましい。通
常、前記方法で作製された多孔性アルミナは、アルミニ
ウム基板上に積層された多孔性膜として得られる。本発
明においては、アルミニウム基板と多孔性アルミナの積
層体を支持体として用いることもできるし、アルミニウ
ム基板を溶剤により除去した後、多孔性アルミナのみを
支持体として用いることもできる。アルミニウム基板を
除去することによって前記複数の細孔は底部にも開口部
を有する貫通孔となる。さらに、アルミニウム基板から
多孔性アルミナ層のみを採取した後、これを他の基板
(例えば、ガラス基板等)に積層した積層体を支持体と
して用いることもできる。多孔性アルミナをガラス基板
等の他の基板に積層した後、加熱処理を施してもよい。
When the anodic electrolytic oxidation synthesis method of the alumina film is used as a method for producing the support, a plurality of pores have a two-dimensional regularity and a porosity in which they are arranged in a dense (high aperture ratio) array. Alumina is obtained, which is preferable. Usually, the porous alumina produced by the above method is obtained as a porous film laminated on an aluminum substrate. In the present invention, a laminate of an aluminum substrate and porous alumina can be used as a support, or after removing the aluminum substrate with a solvent, only porous alumina can be used as a support. By removing the aluminum substrate, the plurality of pores become through holes each having an opening at the bottom. Furthermore, after collecting only the porous alumina layer from the aluminum substrate, a laminated body obtained by laminating the porous alumina layer on another substrate (for example, a glass substrate or the like) can be used as a support. After laminating porous alumina on another substrate such as a glass substrate, heat treatment may be performed.

【0018】本発明で用いる規則的細孔配列を持つ支持
体の材料としては、無機材料および有機材料のいずれも
用いることができる。好ましい材料としては、電気的に
絶縁性の無機材料としてアルミナ(特に陽極酸化アルミ
ナ)、シリカ、酸化ジルコニウム、SiC、ガラス、テ
フロン(登録商標)など;電気的に絶縁性の有機材料お
よび高分子樹脂として、ポリイミド、ポリスルホン酸、
ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリカー
ボネートなど;半導体を含む金属酸化物材料として、T
iO 2、SrTiO3、ZnO、SnO2、InSnOx
Nb23、WO3、CuO、CoO2、MnO2、V25
など;化合物半導体を含む金属カルコゲナイドおよび多
元素複合化合物として、CdS、CdS、ZnS、Ga
P、GaAs、InP、FeS2、PbS、CuIn
2、CuInSe2などに代表されるいわゆる化合物半
導体、ペロブスカイト構造を有する化合物や複合化合物
等;金属および半金属材料として、金、白金、銀、銅、
クロム、亜鉛、スズ、チタン、タングステン、アルミニ
ウム、ニッケル、鉄、シリコン、ゲルマニウムなど;炭
素材料として、グラファイト、グラシーカーボン、ダイ
アモンドなど;が挙げられる。
Support with Regular Pore Array Used in the Present Invention
Both inorganic and organic materials can be used as body materials.
Can be used. The preferred material is electrically
Alumina as an insulating inorganic material (especially anodized aluminum
), Silica, zirconium oxide, SiC, glass, TE
Freon (registered trademark), etc .; electrically insulating organic materials
And as a polymer resin, polyimide, polysulfonic acid,
Polyester, polyethylene terephthalate, polycarbonate
Bonates, etc .; T as a metal oxide material containing a semiconductor
iO 2, SrTiO3, ZnO, SnO2, InSnOx,
Nb2O3, WO3, CuO, CoO2, MnO2, V2OFive
Etc .; metal chalcogenides including compound semiconductors and poly
CdS, CdS, ZnS, Ga as element composite compounds
P, GaAs, InP, FeS2, PbS, CuIn
S2, CuInSe2So-called compound half represented by
Conductor, compound having perovskite structure or composite compound
Etc .; as metal and metalloid materials, gold, platinum, silver, copper,
Chrome, zinc, tin, titanium, tungsten, aluminum
Um, nickel, iron, silicon, germanium, etc .; charcoal
As raw materials, graphite, glassy carbon, die
Almonds and the like;

【0019】本発明に用いられる前記支持体は、単一の
材料から構成されていてもよく、複数の材料から構成さ
れていてもよい。前記支持体が複数の材料から構成され
る場合は、細孔内の壁材と底材、または細孔の上部と下
部というように、構造体の部分によって材料を変えた構
成が好ましい。前記支持体の前記細孔内部の少なくとも
一部(好ましくは細孔の壁)を構成している材料は、電
気的に絶縁性の材料(本明細書において「絶縁性材料」
という場合はこの意味で用いている)であるのが好まし
い。中でも、金属のカルコゲナイド(例えば酸化物、硫
化物、セレン化物等)が好ましく、金属酸化物がより好
ましく、アルミナが最も好ましい。また、細孔の底部が
塞がった構造を有する支持体、即ち、複数の細孔を有す
る多孔性層と、非多孔性層とを積層した構造を有する支
持体では、多孔性層と非多孔性層の材料とは異なってい
てもよい。非多孔性層の材料としては、導電性の材料が
好ましく、特に好ましい材料は導電性の金属もしくは炭
素材料である。さらに、前記非多孔性の層は、互いに異
なる材料からなる2以上の層から構成されていてもよ
い。
The support used in the present invention may be composed of a single material or may be composed of a plurality of materials. When the support is composed of a plurality of materials, it is preferable that the material is changed depending on the structure, such as a wall material and a bottom material in the pores or an upper part and a lower part of the pores. The material forming at least part of the inside of the pores of the support (preferably the walls of the pores) is an electrically insulating material (herein, “insulating material”).
In this case, it is used in this sense). Among them, metal chalcogenides (for example, oxides, sulfides, selenides, etc.) are preferable, metal oxides are more preferable, and alumina is most preferable. Further, in a support having a structure in which the bottoms of pores are closed, that is, in a support having a structure in which a porous layer having a plurality of pores and a non-porous layer are laminated, a porous layer and a non-porous It may be different from the material of the layers. As a material for the non-porous layer, a conductive material is preferable, and a particularly preferable material is a conductive metal or carbon material. Further, the non-porous layer may be composed of two or more layers made of different materials.

【0020】前記支持体は、平板状の形状を有している
のが好ましい。前記支持体が平板形状を有する場合、前
記多孔性の面に対して垂直方向の支持体の厚みは、好ま
しくは100nm〜2mmであり、より好ましくは50
0nm〜1mmであり、さらに好ましくは1〜500μ
mである。前記細孔は底部にも開口部を有する貫通孔で
あっても、底部が閉じた非貫通孔であってもよい。前記
細孔が貫通孔である場合は、前記支持体の厚みは細孔の
深さに一致し、非貫通孔の場合は、前記細孔の深さとそ
の下に配置された非多孔性の層の厚みとの合計になる。
The support preferably has a flat plate shape. When the support has a flat plate shape, the thickness of the support in the direction perpendicular to the porous surface is preferably 100 nm to 2 mm, more preferably 50 nm.
0 nm to 1 mm, more preferably 1 to 500 μ
m. The pore may be a through hole having an opening at the bottom or a non-through hole having a closed bottom. When the pores are through-holes, the thickness of the support corresponds to the depth of the pores, and when the pores are non-through-holes, the depth of the pores and the non-porous layer disposed thereunder. And the total thickness.

【0021】次に、本発明に用いられる発光性有機材料
および電荷輸送性材料について説明する。本発明におい
ては、上記の支持体の細孔内部に、発光性有機材料およ
び電荷輸送性材料が内包されていることを特徴とする。
本発明では、前記発光性有機化合物と電荷輸送性材料と
を、細孔内部において物理的または電気的に互いに接し
た状態とすることにより、発光性有機材料からの発光の
取り出し効率を改善している。
Next, the light emitting organic material and the charge transporting material used in the present invention will be described. The present invention is characterized in that the light emitting organic material and the charge transporting material are included inside the pores of the support.
In the present invention, the light emitting organic compound and the charge transporting material are brought into a state of being physically or electrically in contact with each other inside the pores to improve the efficiency of extracting light from the light emitting organic material. There is.

【0022】本明細書において、「発光性有機材料」と
は、電磁波の吸収や電子的酸化還元などの電子的励起を
受けた結果として、乾燥した薄膜または粉末の固体状態
で、0〜150℃の温度範囲において発光する有機化合
物(金属錯体も含む)をいう。ここで、発光とは、蛍光
およびリン光のいずれか、または双方を含む意味で用い
る。電場を加えると発光する電界発光(エレクトロルミ
ネッセンス)性有機材料が良く知られているが、本発明
にも好ましく用いられる。前記発光性有機材料は、低分
子化合物であっても、高分子化合物であってもよい。ま
た、前記発光性有機化合物は、1種類を単独で用いても
または2種以上を併用してもよい。
As used herein, the term "luminescent organic material" means a dry thin film or powder in a solid state at 0 to 150 ° C. as a result of being subjected to electronic excitation such as absorption of electromagnetic waves and electronic redox. Refers to organic compounds (including metal complexes) that emit light in the temperature range of. Here, the term “light emission” is used to mean either or both of fluorescence and phosphorescence. Electroluminescent organic materials that emit light when an electric field is applied are well known, but are also preferably used in the present invention. The luminescent organic material may be a low molecular weight compound or a high molecular weight compound. The luminescent organic compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0023】前記発光性有機材料としては、リン光性有
機化合物および金属錯体が好ましい。金属錯体の中には
リン光性を示すものもあり、かかる金属錯体も好ましく
用いられる。本発明においては、特にオルトメタル化錯
体を用いることが発光効率向上の観点から非常に望まし
い。オルトメタル化錯体とは、例えば、山本明夫著「有
機金属化学―基礎と応用―」150頁、232頁、裳華
房社(1982年発行);H.Yersin著「Photochemistry
and Photophysics of Coordination Compounds」71
〜77頁、135〜146頁、Springer-Verlag社(1
987年発行);等に記載されている化合物群の総称で
ある。オルトメタル化錯体を形成する配位子としては、
種々のものがあり、上記文献中にも記載されている。好
ましい配位子としては、2−フェニルピリジン誘導体、
7,8−ベンゾキノリン誘導体、2−(2−チエニル)
ピリジン誘導体、2−(1−ナフチル)ピリジン誘導
体、2−フェニルキノリン誘導体等が挙げられる。これ
らの誘導体は置換基を有していてもよい。オルトメタル
化錯体の中心金属としては、Ir、PdおよびPt等が
挙げられるが、イリジウム(Ir)錯体が特に好まし
い。前記オルトメタル化錯体は、オルトメタル化錯体を
形成するのに必要な配位子以外に、他の配位子を有して
いてもよい。なお、前記オルトメタル化錯体には、三重
項励起子から発光する化合物も含まれ、発光効率向上の
観点から好ましい。
As the light emitting organic material, a phosphorescent organic compound and a metal complex are preferable. Some metal complexes exhibit phosphorescence, and such metal complexes are also preferably used. In the present invention, it is very desirable to use an orthometallated complex, particularly from the viewpoint of improving the luminous efficiency. The orthometalated complex is described in, for example, Akio Yamamoto, "Organometallic Chemistry-Basics and Applications-", p. 232, p. 232, Sokabosha (issued in 1982); H. Yersin, "Photochemistry".
and Photophysics of Coordination Compounds "71
~ 77, pp. 135-146, Springer-Verlag (1
(Issued in 987); As the ligand forming the orthometalated complex,
There are various types, which are also described in the above literature. As a preferred ligand, a 2-phenylpyridine derivative,
7,8-benzoquinoline derivative, 2- (2-thienyl)
Pyridine derivatives, 2- (1-naphthyl) pyridine derivatives, 2-phenylquinoline derivatives and the like can be mentioned. These derivatives may have a substituent. Examples of the central metal of the orthometalated complex include Ir, Pd, Pt and the like, but an iridium (Ir) complex is particularly preferable. The orthometalated complex may have other ligands in addition to the ligand necessary for forming the orthometalated complex. The orthometalated complex also includes a compound that emits light from a triplet exciton, which is preferable from the viewpoint of improving luminous efficiency.

【0024】この他、本発明において使用可能な発光性
有機化合物の例を以下に挙げるが、本発明に用いられる
発光性有機化合物は以下のものに限定されるものではな
く、励起されて蛍光またはリン光を発することのできる
化合物であればいずれを用いてもよい。発光性有機化合
物としては、オキシノイド化合物、ペリレン化合物、ク
マリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合
物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロ
ピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合
物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラ
セン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン
化合物、アザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体、ピラ
ゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フ
ェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチ
ルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合
物、ジスチリルベンゼン化合物、ブタジエン化合物、ジ
シアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピ
ラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合
物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、
テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、
オリゴフェニレン化合物、キサンテン化合物及びチオキ
サンテン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、
アクリドン化合物、キノリン化合物などが挙げられる。
In addition, examples of the luminescent organic compound that can be used in the present invention are shown below. However, the luminescent organic compound used in the present invention is not limited to the following, and it is excited to emit fluorescence or Any compound may be used as long as it is a compound capable of emitting phosphorescence. Examples of the light-emitting organic compound include oxinoid compounds, perylene compounds, coumarin compounds, azacoumarin compounds, oxazole compounds, oxadiazole compounds, perinone compounds, pyrrolopyrrole compounds, naphthalene compounds, anthracene compounds, fluorene compounds, fluoranthene compounds, tetracene compounds, pyrene. Compounds, coronene compounds, quinolone compounds, azaquinolone compounds, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, rhodamine compounds, chrysene compounds, phenanthrene compounds, cyclopentadiene compounds, stilbene compounds, diphenylquinone compounds, styryl compounds, distyrylbenzene compounds, butadiene compounds, dicyanomethylene Pyran compound, dicyanomethylene thiopyran compound, fluorescein compound, pyrylium compound, Apiririumu compounds, Serena pyrylium compounds,
Telluropyrylium compound, aromatic aldadien compound,
Oligophenylene compounds, xanthene compounds and thioxanthene compounds, cyanine compounds, acridine compounds,
Examples thereof include acridone compounds and quinoline compounds.

【0025】また、前記発光性有機材料は、それ自身が
高分子化合物であるか、または高分子化合物とともに細
孔に内包されていると、発光効率を高くできるので好ま
しい。発光性高分子化合物としては、MEH−PPVな
どのポリ−p−フェニレンビニレン(PPV)誘導体;
ポリフルオレン誘導体、ポリチオフェン誘導体等のπ共
役系の高分子化合物;低分子色素とテトラフェニルジア
ミンやトリフェニルアミンを主鎖や側鎖に導入したポリ
マー;等が挙げられる。また、前記発光性有機化合物と
ともに細孔内に充填される化合物については特に制限は
ないが、上記例示した発光性高分子化合物を用いるのが
好ましい。また、発光性高分子化合物と発光性低分子化
合物とを併用することもできる。
Further, it is preferable that the luminescent organic material is a polymer compound itself or is contained in the pores together with the polymer compound because the luminous efficiency can be increased. Examples of the light emitting polymer compound include poly-p-phenylene vinylene (PPV) derivatives such as MEH-PPV;
Examples thereof include π-conjugated polymer compounds such as polyfluorene derivatives and polythiophene derivatives; low molecular weight dyes and polymers in which tetraphenyldiamine or triphenylamine is introduced into the main chain or side chains. The compound filled in the pores together with the luminescent organic compound is not particularly limited, but the luminescent polymer compound exemplified above is preferably used. Further, the light emitting polymer compound and the light emitting low molecular weight compound can be used in combination.

【0026】発光波長領域が互いに異なる複数の発光性
有機材料を、細孔内に別々に内包させてもよい。例え
ば、発光波長領域が、青色領域、緑色領域および赤色領
域である発光性有機材料をそれぞれ用いて、これらの発
光性有機材料を各々別の細孔に内包させることができ
る。前記複数の細孔を青色発光細孔群、緑色発光細孔群
および赤色発光細孔群に分割して、各群を規則的に配置
することにより、カラーフィルターを用いることなく、
フルカラーの光を高密度しかも高効率で発光可能な発光
性ナノ構造体を作製することができる。
A plurality of light emitting organic materials having different emission wavelength regions may be separately included in the pores. For example, it is possible to use luminescent organic materials whose emission wavelength ranges are blue, green and red, respectively, and to encapsulate these luminescent organic materials in different pores. By dividing the plurality of pores into a group of blue light emitting pores, a group of green light emitting pores and a group of red light emitting pores, by arranging each group regularly, without using a color filter,
A luminescent nanostructure capable of emitting full-color light with high density and high efficiency can be produced.

【0027】次に、本発明において、上記の発光性有機
材料とともに、細孔中に内包させる電荷輸送性材料につ
いて説明する。本明細書において「電荷輸送性材料」と
は、電子もしくは正孔のいずれかを伝播し輸送する能力
のある材料をいい、電子もしくは正孔に対して伝導性を
示す材料をいう。電荷輸送性材料の概念に含まれるもの
として、電子を輸送可能な材料として定義される電子輸
送材料(一般的に、「電子伝導材料」および「導電性材
料」といわれている、炭素材料および金属材料も含
む)、および正孔を輸送可能もしくは放出し注入可能な
材料として定義される正孔輸送材料(一般的に、「正孔
注入材料」といわれている材料も含む)がある。
Next, in the present invention, the charge-transporting material to be included in the pores together with the above-mentioned luminescent organic material will be described. In the present specification, the “charge transporting material” refers to a material capable of propagating and transporting either an electron or a hole, and a material having conductivity with respect to an electron or a hole. An electron transport material defined as a material capable of transporting electrons is included in the concept of a charge transport material (a carbon material and a metal, which are generally called “electron conductive material” and “conductive material”). Materials), and hole transport materials (also commonly referred to as "hole injection materials") defined as materials capable of transporting or releasing holes and injecting holes.

【0028】前記正孔輸送材料としては、有機材料であ
っても、または無機材料であってもよく、両者を組み合
わせて使用することもできる。有機正孔輸送材料として
は、N,N’−ジフエニル−N、N’−ビス(4−メト
キシフェニル)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’
−ジアミン(J.Hagen et al.,Synthetic Metal 89(1997)
215-220)、2,2’,7,7’−テトラキス(N,N
−ジ−p−メトキシフェニルアミン)9,9’−スピロ
ビフルオレン(Nature,Vol.395, 8 Oct. 1998,p583-585
およびWO97/10617号公報)、1,1−ビス
{4−(ジ−p−トリルアミノ)フェニル}シクロヘキ
サンの3級芳香族アミンユニットを連結した芳香族ジア
ミン化合物(特開昭59−194393号公報)、4,
4,‐ビス[(N−1−ナフチル)‐N−フェニルアミ
ノ]ビフェニルで代表される2個以上の3級アミンを含
み2個以上の縮合芳香族環が窒素原子に置換した芳香族
アミン(特開平5−234681号公報)、トリフェニ
ルベンゼンの誘導体でスターバースト構造を有する芳香
族トリアミン(米国特許第4,923,774号明細書
および特開平4−308688号公報)、N,N’−ジ
フエニル−N、N’−ビス(3−メチルフェニル)−
(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン等の芳
香族ジアミン(米国特許第4,764,625号明細
書)、α,α,α’,α’−テトラメチル−α,α’−
ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)−p−キシ
レン(特開平3−269084号公報)、p−フェニレ
ンジアミン誘導体、分子全体として立体的に非対称なト
リフェニルアミン誘導体(特開平4−129271号公
報)、ピレニル基に芳香族ジアミノ基が複数個置換した
化合物(特開平4−175395号公報)、エチレン基
で3級芳香族アミンユニットを連結した芳香族ジアミン
(特開平4−264189号公報)、スチリル構造を有
する芳香族ジアミン(特開平4−290851号公
報)、ベンジルフェニル化合物(特開平4−36415
3号公報)、フルオレン基で3級アミンを連結したもの
(特開平5−25473号公報)、トリアミン化合物
(特開平5−239455号公報)、ピスジピリジルア
ミノビフェニル(特開平5−320634号公報)、
N,N,N−トリフェニルアミン誘導体(特開平6−1
972号公報)、フェノキザジン構造を有する芳香族ジ
アミン(特開平7−138562号公報)、ジアミノフ
エニルフエナントリジン誘導体(特開平7−25247
4号公報)等に示される芳香族アミン類を好ましく用い
ることができる。
The hole transporting material may be an organic material or an inorganic material, and it is also possible to use a combination of both. Examples of the organic hole transport material include N, N'-diphenyl-N, N'-bis (4-methoxyphenyl)-(1,1'-biphenyl) -4,4 '.
-Diamine (J. Hagen et al., Synthetic Metal 89 (1997)
215-220), 2,2 ', 7,7'-tetrakis (N, N
-Di-p-methoxyphenylamine) 9,9'-spirobifluorene (Nature, Vol. 395, 8 Oct. 1998, p583-585
And WO97 / 10617), an aromatic diamine compound in which a tertiary aromatic amine unit of 1,1-bis {4- (di-p-tolylamino) phenyl} cyclohexane is linked (JP-A-59-194393). , 4,
Aromatic amines containing two or more tertiary amines represented by 4, -bis [(N-1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl and having two or more fused aromatic rings substituted by nitrogen atoms ( JP-A-5-234681), an aromatic triamine having a starburst structure of a derivative of triphenylbenzene (US Pat. No. 4,923,774 and JP-A-4-308688), N, N'-. Diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl)-
Aromatic diamines such as (1,1′-biphenyl) -4,4′-diamine (US Pat. No. 4,764,625), α, α, α ′, α′-tetramethyl-α, α '-
Bis (4-di-p-tolylaminophenyl) -p-xylene (JP-A-3-269084), p-phenylenediamine derivative, triphenylamine derivative which is sterically asymmetric as a whole molecule (JP-A-4-12971) JP-A-4-264189, a compound in which a pyrenyl group is substituted with a plurality of aromatic diamino groups (JP-A-4-175395), and an aromatic diamine in which a tertiary aromatic amine unit is linked with an ethylene group (JP-A-4-264189). ), An aromatic diamine having a styryl structure (JP-A-4-290851), and a benzylphenyl compound (JP-A-4-36415).
3), one in which a tertiary amine is linked by a fluorene group (JP-A-5-25473), a triamine compound (JP-A-5-239455), and pisdipyridylaminobiphenyl (JP-A-5-320634). ,
N, N, N-triphenylamine derivative (Japanese Patent Laid-Open No. 6-1
972), an aromatic diamine having a phenoxazine structure (JP-A-7-138562), a diaminophenylphenanthridine derivative (JP-A-7-25247).
Aromatic amines shown in JP-A No. 4) and the like can be preferably used.

【0029】また、α−オクチルチオフェンおよびα,
ω−ジヘキシル−α−オクチルチオフェン(Adv. Mate
r. 1997,9,N0.7,p557)、ヘキサドデシルドデシチオフ
ェン(Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1995, 34, No.3,p
303-307)、2,8−ジヘキシルアンスラ[2,3−b:
6,7−b’]ジチオフェン(JACS,Vol120, N0.4,1998,
p664-672)等のオリゴチオフェン化合物、ポリピロール
(K. Murakoshi et al.,;Chem. Lett. 1997, p471)、H
andbook of Organic Conductive Molecules and Polyme
rs Vol.1,2,3,4 (NALWA著、WILEY出版)に記載されて
いるポリアセチレンおよびその誘導体、ポリ(p−フェ
ニレン) およびその誘導体、ポリ( p−フェニレン
ビニレン) およびその誘導体、ポリチエニレンビニレ
ンおよびその誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導
体、ポリアニリンおよびその誘導体、ポリトルイジンお
よびその誘導体等の導電性高分子を好ましく使用するこ
とができる。正孔(ホール)輸送材料には、Nature,Vo
l.395, 8 Oct. 1998,p583-585に記載されているように
ドーパントレベルをコントロールするため、トリス(4
-ブロモフェニル)アミニウムヘキサクロロアンチモネ
ートのようなカチオンラジカルを含有する化合物を添加
したり、または酸化物半導体表面のポテンシャル制御
(空間電荷層の補償)を行うためにLi[(CF3
22N]のような塩を添加してもよい。
Further, α-octylthiophene and α,
ω-dihexyl-α-octylthiophene (Adv. Mate
r. 1997,9, N0.7, p557), hexadodecyldodecithiophene (Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1995, 34, No. 3, p.
303-307), 2,8-dihexyl anthra [2,3-b:
6,7-b '] dithiophene (JACS, Vol120, N0.4, 1998,
p664-672) and other oligothiophene compounds, polypyrrole (K. Murakoshi et al.,; Chem. Lett. 1997, p471), H
andbook of Organic Conductive Molecules and Polyme
rs Vol.1,2,3,4 (NALWA, WILEY Publishing), polyacetylene and its derivatives, poly (p-phenylene) and its derivatives, poly (p-phenylenevinylene) and its derivatives, polythieny Conductive polymers such as renvinylene and its derivatives, polythiophene and its derivatives, polyaniline and its derivatives, and polytoluidine and its derivatives can be preferably used. For hole transport materials, Nature, Vo
Tris (4) to control dopant levels as described in L.395, 8 Oct. 1998, p583-585.
-Bromophenyl) aminium hexachloroantimonate to add a compound containing a cation radical, or to control the potential of the oxide semiconductor surface (compensation of the space charge layer), Li [(CF 3 S
A salt such as O 2 ) 2 N] may be added.

【0030】無機正孔輸送材料としては、p型無機化合
物半導体を用いることができる。p型無機化合物半導体
のバンドギャップは色素吸収を妨げないため大きいこと
が好ましい。p型無機化合物半導体のバンドギャップ
は、2eV以上であることが好ましく、2.5eV以上
であることがより好ましい。また、p型無機化合物半導
体のイオン化ポテンシャルは色素ホールを還元するため
には、色素吸着電極のイオン化ポテンシャルより小さい
ことが必要である。本発明に正孔輸送材料として用いら
れるp型無機化合物半導体のイオン化ポテンシャルの好
ましい範囲は、一般的には、4.5eV〜5.5eVで
あり、より好ましくは4.7eV〜5.3eVである。
本発明に好ましく使用されるp型無機化合物半導体は一
価の銅を含む化合物半導体であり、一価の銅を含む化合
物半導体としてはCuI、CuSCN、CuInS
2、Cu(In,Ga)Se2、CuGaSe2、Cu2
O、CuS、CuGaS2、CuInS2、CuAlSe
2などが挙げられる。この中でもCuIおよびCuSC
Nが好ましく、CuIが最も好ましい。銅を含む化合物
以外にも、GaP、NiO、CoO、FeO、Bi
23、MoO2、Cr23等のp型無機化合物半導体も
好ましく用いられる。
A p-type inorganic compound semiconductor can be used as the inorganic hole transport material. The band gap of the p-type inorganic compound semiconductor is preferably large because it does not prevent dye absorption. The band gap of the p-type inorganic compound semiconductor is preferably 2 eV or more, and more preferably 2.5 eV or more. Further, the ionization potential of the p-type inorganic compound semiconductor needs to be smaller than that of the dye adsorption electrode in order to reduce the dye holes. The preferable range of the ionization potential of the p-type inorganic compound semiconductor used as the hole transport material in the present invention is generally 4.5 eV to 5.5 eV, and more preferably 4.7 eV to 5.3 eV. .
The p-type inorganic compound semiconductor preferably used in the present invention is a compound semiconductor containing monovalent copper, and the compound semiconductor containing monovalent copper includes CuI, CuSCN, and CuInS.
e 2 , Cu (In, Ga) Se 2 , CuGaSe 2 , Cu 2
O, CuS, CuGaS 2 , CuInS 2 , CuAlSe
2 etc. Among these, CuI and CuSC
N is preferred and CuI is most preferred. Besides compounds containing copper, GaP, NiO, CoO, FeO, Bi
P-type inorganic compound semiconductors such as 2 O 3 , MoO 2 and Cr 2 O 3 are also preferably used.

【0031】前記有機正孔輸送材料の正孔移動度は、好
ましくは1.0×10-7cm2/V・sec〜1.0×
104cm2/V・secであり、より好ましくは1.0
×10-5cm2/V・sec〜1.0×102cm2/V
・secであり、さらに好ましくは1.0×10-3cm
2/V・sec〜1.0×10-1cm2/V・secであ
る。また、前記正孔輸送材料が前記p型無機化合物半導
体を含有する場合、その好ましい正孔移動度は、1.0
×10-4cm2/V・sec〜1.0×104cm2/V
・secであり、さらに好ましくは1.0×10-3cm
2/V・sec〜1.0×103cm2/V・secであ
る。本発明に使用する正孔輸送材料の好ましい導電率は
1.0×10-8S/cm〜1.0×102S/cmであ
り、さらに好ましくは1.0×10-6S/cm〜10S
/cmである。
The hole mobility of the organic hole transport material is preferably 1.0 × 10 −7 cm 2 / V · sec to 1.0 ×.
10 4 cm 2 / V · sec, more preferably 1.0
× 10 -5 cm 2 / V · sec to 1.0 × 10 2 cm 2 / V
・ Sec, and more preferably 1.0 × 10 −3 cm
2 / V · sec to 1.0 × 10 −1 cm 2 / V · sec. When the hole transport material contains the p-type inorganic compound semiconductor, its preferable hole mobility is 1.0.
× 10 -4 cm 2 / V · sec to 1.0 × 10 4 cm 2 / V
・ Sec, and more preferably 1.0 × 10 −3 cm
2 / V · sec to 1.0 × 10 3 cm 2 / V · sec. The preferable conductivity of the hole transport material used in the present invention is 1.0 × 10 −8 S / cm to 1.0 × 10 2 S / cm, and more preferably 1.0 × 10 −6 S / cm. -10S
/ Cm.

【0032】本発明に使用可能な電子輸送材料として
は、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、ト
リアジン誘導体、ニトロ置換フルオレノン誘導体、チオ
ピランジオキサイド誘導体、ジフェニルキノン誘導体、
ペリレンテトラカルボキシル誘導体、アントラキノジメ
タン誘導体、フレオレニリデンメタン誘導体、アントロ
ン誘導体、ペリノン誘導体、オキシン誘導体、キノリン
錯体誘導体などの化合物が挙げられる。また、一般的に
は電子伝導材料(または導電性材料)といわれている、
炭素材料および金属材料を電子輸送材料として用いるこ
とができる。金属材料としては、アルミニウム、銅、
金、白金、クロム等の金属;酸化錫、酸化錫インジウム
(ITO)、酸化亜鉛インジウムなどの導電性金属酸化
物;Li、Kなどのアルカリ金属;Mg、Caなどのア
ルカリ土類金属;が挙げられる。炭素材料としては、グ
ラファイト、アセチレンブラックなどのカーボンブラッ
ク、フラーレン、およびカーボンナノチューブなどが挙
げられる。
The electron transporting material usable in the present invention includes oxadiazole derivatives, triazole derivatives, triazine derivatives, nitro-substituted fluorenone derivatives, thiopyrandioxide derivatives, diphenylquinone derivatives,
Examples thereof include compounds such as a perylene tetracarboxyl derivative, an anthraquinodimethane derivative, a fluorenylidene methane derivative, an anthrone derivative, a perinone derivative, an oxine derivative and a quinoline complex derivative. Also, it is generally said to be an electron conductive material (or conductive material),
Carbon materials and metallic materials can be used as electron transport materials. As the metal material, aluminum, copper,
Metals such as gold, platinum and chromium; conductive metal oxides such as tin oxide, indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide; alkali metals such as Li and K; alkaline earth metals such as Mg and Ca. To be Examples of the carbon material include graphite, carbon black such as acetylene black, fullerene, and carbon nanotube.

【0033】前記電子輸送材料の電子移動度は、好まし
くは1.0×10-10cm2/V・sec〜1.0×10
2cm2/V・secであり、より好ましくは1.0×1
-7cm2/V・sec〜1.0×10-1cm2/V・s
ecであり、さらに好ましくは1.0×10-5cm2
V・sec〜1.0×10-3cm2/V・secであ
る。
The electron mobility of the electron transport material is preferably 1.0 × 10 −10 cm 2 / V · sec to 1.0 × 10.
2 cm 2 / V · sec, more preferably 1.0 × 1
0 -7 cm 2 / V ・ sec to 1.0 × 10 -1 cm 2 / V ・ s
ec, and more preferably 1.0 × 10 −5 cm 2 /
V · sec to 1.0 × 10 −3 cm 2 / V · sec.

【0034】本発明において、前記発光性有機材料およ
び電荷輸送性材料は、細孔内において導電性材料と物理
的に接触しているのが好ましい。前記導電性材料につい
ては、特に制限されないが、中でも、導電性の高い金属
材料または炭素材料が好ましい。例えば、細孔の底部に
導電性材料からなる導電層を形成し、該導電層上に前記
発光性有機材料等を導入することによって、前記発光性
有機材料等を導電性材料に接触させることができる。前
記金属材料としては、抵抗の低いアルミニウム、銅など
も好ましいが、内包する有機発光素子の構成により選択
することが好ましい。例えば、細孔材料より発光性有機
材料に正孔を注入したい場合は、仕事関数の大きい材料
が特に好ましく、金や白金を用いることができる。近年
では比較的仕事関数が大きくなくても、例えばVI族の金
属材料を用いることで充分に正孔が注入できるという報
告もあり、VI族の金属材料の中ではクロムが好ましい。
また、金属酸化材料を用いることもでき、例えば、酸化
錫、酸化錫インジウム(ITO)、酸化亜鉛インジウム
などは光透過性の薄膜を形成可能な材料が好ましい。一
方、細孔材料より発光性有機材料に電子を注入したい場
合は、仕事関数の低いLiおよびKなどのアルカリ金
属;Mg、Caなどのアルカリ土類金属;等が電子注入
性が高い点で好ましい。また、酸化されにくく安定なア
ルミニウムなども好ましい。安定性と電子注入性を両立
させるために、2種以上の材料を含む層を細孔の底部に
形成してもよく、それらの材料については特開平2−1
5595号公報および特開平5−121172号公報に
詳しく記載されている。炭素材料としては、グラファイ
ト、アセチレンブラックなどのカーボンブラック、フラ
ーレンおよびカーボンナノチューブが有用である。
In the present invention, it is preferable that the light emitting organic material and the charge transporting material are in physical contact with the conductive material in the pores. The conductive material is not particularly limited, but among them, a metal material or a carbon material having high conductivity is preferable. For example, by forming a conductive layer made of a conductive material on the bottom of the pores and introducing the luminescent organic material or the like onto the conductive layer, the luminescent organic material or the like can be brought into contact with the conductive material. it can. The metal material is preferably aluminum, copper or the like, which has a low resistance, but is preferably selected according to the configuration of the organic light emitting device to be included. For example, when it is desired to inject holes into the light-emitting organic material from the pore material, a material having a large work function is particularly preferable, and gold or platinum can be used. In recent years, it has been reported that even if the work function is relatively large, holes can be sufficiently injected by using, for example, a VI group metal material, and chromium is preferable among the VI group metal materials.
Alternatively, a metal oxide material can be used, and for example, tin oxide, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide, or the like is preferably a material capable of forming a light-transmitting thin film. On the other hand, when it is desired to inject electrons into the light-emitting organic material from the porous material, alkali metals such as Li and K having a low work function; alkaline earth metals such as Mg and Ca; . Further, aluminum which is hard to be oxidized and is stable is also preferable. In order to achieve both stability and electron injection properties, a layer containing two or more materials may be formed at the bottom of the pores.
It is described in detail in JP-A-5595 and JP-A-5-121172. As the carbon material, graphite, carbon black such as acetylene black, fullerene and carbon nanotube are useful.

【0035】また、発光性有機材料と物理的に接触して
いる導電層は、電極の一部すなわち端子として作用して
いることが好ましい。また、前記端子は、電気的な等価
回路上、細孔ごとに電気的に絶縁され独立した端子を構
成していることが好ましい。例えば、細孔をアルミナ等
の絶縁性材料で構成するとともに、細孔の底部に電析等
を利用して導電性材料からなる導電層を形成した後、前
記発光性有機材料等を細孔内に導入することで、細孔ご
とに電気的に絶縁され独立した端子を構成可能な発光性
ナノ構造体が得られる。また、前記導電層は、細孔の外
部に配置されていてもよく、例えば、貫通孔の細孔を有
する構造体を導電性材料からなる電極(好ましくはパタ
ーン電極)上に配置し、細孔内部の発光性有機材料等を
該電極に露出させることによって、双方が接触した態様
も好ましい。
Further, it is preferable that the conductive layer which is in physical contact with the light emitting organic material acts as a part of the electrode, that is, as a terminal. In addition, it is preferable that the terminals are electrically insulated from each other and configured as independent terminals in terms of an electrical equivalent circuit. For example, the pores are made of an insulating material such as alumina, and a conductive layer made of a conductive material is formed at the bottom of the pores by using electrodeposition or the like. Introduced into the luminescent material makes it possible to obtain a luminescent nanostructure which is electrically insulated from each pore and which can form an independent terminal. Further, the conductive layer may be arranged outside the pores, for example, a structure having pores of through holes is arranged on an electrode (preferably a pattern electrode) made of a conductive material, It is also preferable that the both are in contact with each other by exposing the light-emitting organic material or the like inside to the electrode.

【0036】本発明において、前記発光性有機材料およ
び電荷輸送性材料は、いずれも前記支持体の細孔の内部
において、細孔を構成する材料に対する化学的吸着もし
くは物理的吸着によって固定化された状態で内包されて
いてもよいし、または細孔の内壁や底を構成している材
料と一部または全部が共有結合によって化学的に結合さ
れた状態で内包されていてもよい。また、前記発光性有
機材料および電荷輸送性材料は、あらかじめ細孔内に化
学的結合または化学的もしくは物理的吸着によって担持
された一次材料(たとえば、有機シラン化合物などのカ
ップリング化合物、脂質ニ分子膜、合成高分子など)が
仲介となって、これに化学的結合または化学的もしくは
物理的吸着によって固定化された状態で内包されていて
もよい。
In the present invention, both the luminescent organic material and the charge transporting material are immobilized inside the pores of the support by chemical adsorption or physical adsorption to the material constituting the pores. It may be encapsulated in a state, or may be encapsulated in a state where a part or all of the material forming the inner wall or the bottom of the pore is chemically bound by a covalent bond. Further, the light-emitting organic material and the charge-transporting material are the primary materials (for example, coupling compounds such as organosilane compounds, lipid dimolecules) previously supported in the pores by chemical bonding or chemical or physical adsorption. Membrane, synthetic polymer, etc.) may be used as an intermediary, and the substance may be encapsulated in a state where it is immobilized by chemical bonding or chemical or physical adsorption.

【0037】前記発光性有機化合物と電荷輸送性材料
は、前記支持体の細孔内において物理的または電気的に
互いに接触している必要がある。例えば、前記発光性有
機化合物からなる層と前記電荷輸送性材料からなる層を
細孔内部で積層することによって、互いに接触した状態
で細孔に内包させることができる。また、前記発光性有
機材料と前記電荷輸送性材料とをあらかじめ混合してお
き、該混合物を細孔内部に導入して、双方の材料を含む
有機層を細孔内部に形成することによって、互いに接触
した状態で細孔に内包させることができる。細孔内部に
形成される前記発光性有機材料を少なくとも含む有機層
の厚さは、20nm〜1900nmであるのが好まし
く、30〜800nmであるのがより好ましい。
The light emitting organic compound and the charge transporting material must be in physical or electrical contact with each other in the pores of the support. For example, by stacking a layer made of the light emitting organic compound and a layer made of the charge transporting material inside the pores, the layers can be included in the pores in a state of being in contact with each other. In addition, the light emitting organic material and the charge transporting material are mixed in advance, and the mixture is introduced into the pores to form an organic layer containing both materials inside the pores. It can be encapsulated in the pores in a contact state. The thickness of the organic layer containing at least the light-emitting organic material formed inside the pores is preferably 20 nm to 1900 nm, more preferably 30 to 800 nm.

【0038】前記支持体の細孔内に、発光性有機材料お
よび電荷輸送性材料(正孔輸送材料および/または電子
輸送材料(導電性材料を含む))の発光機能の要素とな
る材料を挿入し、定着させる手段としては、前記支持体
の多孔性面に、前記材料を任意の溶媒に溶解した溶液を
順次塗布し、その後、溶媒を乾燥除去して溶質である前
記材料を細孔内に固化させる方法;前記多孔性面上に、
前記材料を任意の溶媒に溶解した溶液を印刷し、所望に
より、その後、溶媒を乾燥除去して溶質である前記材料
を細孔内に固化させる湿式印刷方法;蒸着などの真空製
膜法を用いる方法;などが挙げられる。塗布方法として
は、アプリケーション系としてローラ法、ディップ法な
ど;メータリング系としてエアーナイフ法、ブレード法
など;またアプリケーションとメータリングを同一部分
にできるものとして、特公昭58−4589号公報に開
示されているワイヤーバー法、米国特許第268129
4号、同2761419号、同2761791号等の明
細書に記載のスライドホッパー法、エクストルージョン
法、カーテン法など;が好ましい。また汎用機としてス
ピン法やスプレー法も好ましい。湿式印刷方法として
は、凸版、オフセットおよびグラビアの3大印刷法をは
じめ、凹版、ゴム版、スクリーン印刷などが好ましい。
真空製膜法としては、抵抗加熱真空蒸着法、電子ビーム
蒸着法、スパッタリング法、MOVPE法、MBE法、
PLD法等が挙げられるが、これらに限定されるもので
はない。これらの中から、液粘度やウェット厚さに応じ
て、好ましい方法を選択することができる。
A material serving as an element having a light emitting function of a light emitting organic material and a charge transporting material (hole transporting material and / or electron transporting material (including conductive material)) is inserted into the pores of the support. Then, as a means for fixing, on the porous surface of the support, a solution in which the material is dissolved in any solvent is sequentially applied, and then the solvent is dried and removed so that the material as a solute is introduced into the pores. A method of solidifying; on the porous surface,
A solution in which the material is dissolved is printed, and if desired, the solvent is then dried and removed to solidify the material that is a solute into the pores; a wet printing method; a vacuum film-forming method such as vapor deposition is used. Method; and the like. Application methods include a roller method and a dip method as an application system; an air knife method, a blade method and the like as a metering system; and a method in which application and metering can be performed in the same part, which is disclosed in Japanese Patent Publication No. 58-4589. Wire bar method, US Pat. No. 268129
No. 4, No. 2761419, No. 2761791, and the like; slide hopper method, extrusion method, curtain method and the like; A spin method or a spray method is also preferable as a general-purpose machine. As the wet printing method, it is preferable to use the three major printing methods of letterpress, offset and gravure, intaglio, rubber plate, screen printing and the like.
The vacuum film forming method includes resistance heating vacuum evaporation method, electron beam evaporation method, sputtering method, MOVPE method, MBE method,
The PLD method and the like can be used, but the method is not limited thereto. From these, a preferable method can be selected according to the liquid viscosity and the wet thickness.

【0039】また、支持体の複数の細孔を2以上の区画
に分割して、区画ごとに異なる発光性有機材料を充填す
る場合は、それぞれの発光性有機材料を極微量溶液とし
て細孔表面に点着し、細孔中に注入することにより行う
ことができるが、例えば、バイオ素子の分野でDNAマ
イクロアレイの作製装置(アレイヤー)に通常使われる
溶液点着用のチップであるスタンプピンなどを活用する
ことができる。スタンプピンの例は、S.D.Rose
ら,Association for Laborat
ory Automation 3,53(1998)
に開示されているPin&Ring方式を含め、応用物
理、69、p1415(2000)に記載されている。
ピン方式以外の方法としては、ピエゾ圧電素子を用いた
インクジェット式のアレイヤーとして、A.V.Lem
moら、Anal.Chem.69,543(199
7)に報告される非接触式のpL(ピコリットル)スケ
ールの精度の分注器が有用である。これらのアレイヤー
を用いて、前記支持体の細孔中に、数μm〜数十μmの
サイズオーダーの区分領域に分割して、互いに異なる発
光波長を有する領域を形成することができる。
When the plurality of pores of the support are divided into two or more compartments and different compartments are filled with different luminescent organic materials, each luminescent organic material is treated as an extremely small amount of solution and the surface of the pores is treated. It can be carried out by spotting and injecting it into the pores. For example, a stamp pin, which is a chip for solution spotting, which is commonly used in DNA microarray fabrication equipment (arrayer) in the field of biodevices, is used. can do. An example of a stamp pin is S.M. D. Rose
Et al, Association for Laborat
ory Automation 3,53 (1998)
Including the Pin & Ring method disclosed in, Applied Physics, 69, p1415 (2000).
As a method other than the pin method, an inkjet type arrayer using a piezo-piezoelectric element may be used. V. Lem
mo et al., Anal. Chem. 69,543 (199
The non-contact pL (picoliter) scale precision dispenser reported in 7) is useful. By using these arrayers, it is possible to form regions having emission wavelengths different from each other in the pores of the support by dividing the regions into divisional regions having a size order of several μm to several tens of μm.

【0040】本発明の発光素子は、本発明の発光性ナノ
構造体を用いて構成され、その形態については特に限定
されない。本発明の発光素子の一実施形態としては、前
記発光性ナノ構造体と、前記支持体の細孔に内包される
前記発光性有機材料および電荷輸送性材料に電圧を供与
する手段とを備えた発光素子が挙げられる。前記電圧を
供与する手段は、例えば、支持体の細孔に内包された発
光性有機材料および電荷輸送性材料に接触して配置され
る電極等により構成できる。前記電圧を供与する手段
は、個々の細孔ごとに電圧を供与可能に構成されている
のが好ましい。
The light emitting device of the present invention is constituted by using the light emitting nanostructure of the present invention, and its form is not particularly limited. As one embodiment of the light emitting device of the present invention, the light emitting nanostructure is provided, and a means for applying a voltage to the light emitting organic material and the charge transporting material included in the pores of the support. A light emitting element is mentioned. The means for supplying the voltage can be constituted by, for example, an electrode arranged in contact with the light emitting organic material and the charge transporting material contained in the pores of the support. It is preferable that the means for applying a voltage is configured to be able to apply a voltage for each individual pore.

【0041】図1に、本発明に係わるエレクトロルミネ
ッセンス(EL)素子の一実施形態の概略断面図を示
す。EL素子10は、複数の細孔14を有する多孔性薄
膜12を有する。多孔性薄膜12は、例えば、アルミナ
等の絶縁性材料であるのが好ましい。細孔14の内部に
は、高分子化合物と電界発光性有機材料と電荷輸送性材
料(例えば、正孔輸送材料)とを含む有機層16および
透明な導電性材料からなる導電層18が形成されてい
る。ここで、導電層18は、有機層16とパターン電極
20との電気的コンタクトを補強する目的で補助的に設
けられる層であり、省略してもよい。有機層16におい
て、発光性有機材料と電荷輸送性材料は互いに接してい
る。多孔性薄膜12の下部には、パターン電極20付き
の基板22が配置されていて、1つのパターン電極20
が複数の配列した細孔14内部の導電層18と接してい
る。パターン電極20および基板22は光透過性である
のが好ましく、例えば、パターン電極20には酸化イン
ジウムスズ等を、基板22にはガラス板等を用いるのが
好ましい。一方、多孔性薄膜12の、基板22が配置さ
れているのと反対側の面には、パターン電極24が、パ
ターン電極20と直行する配列で配置されていて、1つ
のパターン電極24が複数の配列した細孔14内部に形
成された有機層16と接している。パターン電極24
は、例えば、アルミニウムから構成することができる。
発光素子10は、パターン電極20とパターン電極24
とを適宜組み合わせることにより、所望の位置の細孔1
4内部の有機層16に電圧を供与可能に構成されてい
る。
FIG. 1 shows a schematic sectional view of an embodiment of an electroluminescence (EL) element according to the present invention. The EL element 10 has a porous thin film 12 having a plurality of pores 14. The porous thin film 12 is preferably made of an insulating material such as alumina. Inside the pores 14, an organic layer 16 containing a polymer compound, an electroluminescent organic material, and a charge transporting material (for example, a hole transporting material) and a conductive layer 18 made of a transparent conductive material are formed. ing. Here, the conductive layer 18 is a layer additionally provided for the purpose of reinforcing the electrical contact between the organic layer 16 and the pattern electrode 20, and may be omitted. In the organic layer 16, the light emitting organic material and the charge transporting material are in contact with each other. A substrate 22 with a pattern electrode 20 is disposed below the porous thin film 12, and one pattern electrode 20 is provided.
Are in contact with the conductive layer 18 inside the plurality of arranged pores 14. The pattern electrode 20 and the substrate 22 are preferably light transmissive. For example, it is preferable to use indium tin oxide or the like for the pattern electrode 20 and a glass plate or the like for the substrate 22. On the other hand, on the surface of the porous thin film 12 opposite to the surface on which the substrate 22 is arranged, the pattern electrodes 24 are arranged in an array orthogonal to the pattern electrodes 20, and one pattern electrode 24 is plural. It is in contact with the organic layer 16 formed inside the arrayed pores 14. Pattern electrode 24
Can be made of, for example, aluminum.
The light emitting element 10 includes a pattern electrode 20 and a pattern electrode 24.
By appropriately combining and
4 is configured to be able to apply a voltage to the organic layer 16 inside.

【0042】パターン電極20とパターン電極24とを
組み合わせて、所望の位置の細孔14内部の有機層16
に電圧を供与すると、有機層16には、パターン電極2
0(陽極)からホールが注入され、およびパターン電極
24(陰極)から電子が注入され、有機層16内部で再
結合し、有機層16中の発光性有機材料が励起状態にな
る。基板22側からは、発光性有機材料が励起状態から
基底状態に戻る際に放出する光を観測することができ
る。本実施の形態の発光素子は、光の取り出し効率が改
善されているので、高い発光効率を示す。
The pattern electrode 20 and the pattern electrode 24 are combined to form the organic layer 16 inside the pores 14 at desired positions.
When a voltage is applied to the organic layer 16, the patterned electrode 2 is formed on the organic layer 16.
Holes are injected from 0 (anode) and electrons are injected from the pattern electrode 24 (cathode), and are recombined inside the organic layer 16, and the light emitting organic material in the organic layer 16 is in an excited state. From the substrate 22 side, the light emitted when the luminescent organic material returns from the excited state to the ground state can be observed. The light-emitting element of this embodiment has high light extraction efficiency and thus exhibits high light emission efficiency.

【0043】本発明の発光素子の好ましい使用形態とし
ては、発光表示材料としては高密度カラー光表示材料や
インテリア用などの光照明材料などが挙げられる。ま
た、本発明の発光性ナノ構造体を二次元発光アレイとし
て用いる光通信用情報伝達素子ならびに情報変換素子、
画像情報演算素子の形態も好ましい。さらに、本発明の
発光素子を、モノクロならびにカラー印刷用感光材料等
に用いる露光用光源として応用することも可能である。
The light emitting device of the present invention is preferably used as a light emitting display material such as a high density color light display material and a light illuminating material for interior use. In addition, an information transmission element and an information conversion element for optical communication using the light emitting nanostructure of the present invention as a two-dimensional light emitting array,
The form of the image information calculation element is also preferable. Further, the light emitting device of the present invention can be applied as a light source for exposure used for monochrome and color printing photosensitive materials and the like.

【0044】[0044]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、操
作等は、本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更する
ことができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体
例に制限されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. The materials, reagents, ratios, operations and the like shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below.

【0045】[実施例1]図1に示す発光素子10と同
様の構造の発光素子を作製した。但し、導電層18は形
成しなかった。また、パターン電極層26は2層の積層
構造とした。 1.平面細孔配列を持つナノ多孔性構造体の作製 リン酸56質量%、硫酸14質量%、エチレングリコー
ル3質量%含む電解水溶液に、純度99.99%のアル
ミニウムの地金基板(厚さ0.5mm、電解の有効表面
積2cm2)を作用極、炭素電極を対極として浸漬し、
温度60℃で作用極を正極として0.5Aの定電流を4
分間流し、電解エッチング処理を行い、アルミニウム基
板の表面を光学的に平坦な鏡面に仕上げた。
Example 1 A light emitting device having the same structure as the light emitting device 10 shown in FIG. 1 was produced. However, the conductive layer 18 was not formed. The pattern electrode layer 26 has a two-layer laminated structure. 1. Preparation of Nanoporous Structure Having Plane Pore Arrangement An aluminum base metal substrate having a purity of 99.99% (thickness: 0. 0%) was added to an electrolytic aqueous solution containing 56% by mass of phosphoric acid, 14% by mass of sulfuric acid and 3% by mass of ethylene glycol. 5 mm, effective surface area of electrolysis 2 cm 2 ) is immersed as a working electrode and a carbon electrode as a counter electrode,
A constant current of 0.5A is applied to the working electrode as a positive electrode at a temperature of 60 ℃
It was flowed for a minute and electrolytically etched to finish the surface of the aluminum substrate into an optically flat mirror surface.

【0046】得られた鏡面アルミニウム基板を0.3m
ol/Lの硫酸水溶液に浸漬し、温度20℃で25Vの
電圧を20分間印加して、アルミニウム表面の陽極酸化
処理を行った。以上のようにして、アルミニウム基板の
表面に厚さ約700nmの酸化アルミニウムの皮膜を形
成した。走査型電子顕微鏡(SEM)により皮膜表面を
観察したところ、皮膜表面には、平均の口径が120n
mの円形の開口部が、中心間距離200nmの等間隔で
網目状に六方最密充填の配置(開口部が正三角形の頂点
を占める配置)で、二次元的に規則性をもって配列して
いることが確認できた。また、前記網目構造の面に対し
て垂直な破断面を観察した結果、前記開口部を有する細
孔の深さは約650nmであることがわかった。また、
電解条件(温度、時間、電解液組成)を変えたアルミナ
の陽極酸化処理、ならびに陽極酸化膜の希リン酸による
エッチング処理(口径の拡大処理)によって、細孔の平
均口径が20nm〜400nmの範囲で異なるアルミニ
ウム基板を作製した。また、電解時間を延長し、アルミ
ナ薄膜を成長させることによって、細孔の深さの異なる
試料を作製し、細孔の深さが、50nmから3000n
mの範囲で異なる多孔質構造体を作製した。
0.3 m of the obtained mirror-finished aluminum substrate
The aluminum surface was anodized by immersing in an ol / L sulfuric acid aqueous solution and applying a voltage of 25 V at a temperature of 20 ° C. for 20 minutes. As described above, a film of aluminum oxide having a thickness of about 700 nm was formed on the surface of the aluminum substrate. When the surface of the coating was observed with a scanning electron microscope (SEM), the average diameter of the coating was 120 n.
The circular openings of m are arranged in a two-dimensional regularity in a hexagonal close-packed arrangement (arrangement in which the openings occupy the vertices of an equilateral triangle) in a mesh shape at equal intervals of 200 nm between centers. I was able to confirm that. Further, as a result of observing a fracture surface perpendicular to the surface of the network structure, it was found that the depth of the pores having the openings was about 650 nm. Also,
The average pore size of the pores is in the range of 20 nm to 400 nm due to the anodic oxidation treatment of alumina under different electrolysis conditions (temperature, time, electrolytic solution composition) and the etching treatment of the anodic oxide film with dilute phosphoric acid (expansion treatment of the pore size). To produce different aluminum substrates. Further, by prolonging the electrolysis time and growing an alumina thin film, samples with different pore depths were prepared, and the depth of the pores was 50 nm to 3000 n.
Different porous structures were prepared in the range of m.

【0047】2.細孔の深さの調整と電極基板の作製 Lagmuir−Blodgett薄膜製造装置を用い
て、上記の多孔性支持体のアルミニウム面を下にして、
リン酸の希釈水溶液が入った水槽に浮かべて、アルミニ
ウム面を15℃でエッチング処理し、エッチング時間を
制御することにより、アルミニウム基板を溶解して多孔
性アルミナ薄膜を得た。エッチングは、水槽の溶液を中
和することにより停止した。一方、真空スパッタリング
により、酸化インジウムスズ(ITO)の透明導電膜
(厚さ0.22μm、抵抗10ohm/cm2)をガラ
ス基板上に形成し、且つ該ITO薄膜をリソグラフィー
によって、幅10μm、間隔10μmの格子状パターン
として、パターン電極とした。なお、このパターン電極
が形成されたガラス基板の面は、1cm×1cmであっ
た。このパターン電極基板をテフロン製支持体に固定
し、水槽中に垂直に浸漬してからゆっくりと低速で引き
上げ、基板のパターン電極面上に、水面上の多孔性アル
ミナ薄膜を付着させた。さらに、多孔性アルミナ薄膜が
被覆されたパターン電極基板を、電気炉で600℃、3
0分加熱処理した。こうして、多孔性アルミナ薄膜がパ
ターン電極上に固定化された。
2. Adjustment of Pore Depth and Preparation of Electrode Substrate Using a Lagmuir-Blodgett thin film manufacturing apparatus, with the aluminum surface of the porous support facing downward,
The aluminum substrate was dissolved in a water bath containing a dilute aqueous solution of phosphoric acid, the aluminum surface was subjected to etching treatment at 15 ° C., and the etching time was controlled to obtain a porous alumina thin film. The etching was stopped by neutralizing the solution in the water bath. On the other hand, a transparent conductive film of indium tin oxide (ITO) (thickness: 0.22 μm, resistance: 10 ohm / cm 2 ) was formed on a glass substrate by vacuum sputtering, and the ITO thin film was formed by lithography to have a width of 10 μm and an interval of 10 μm. A patterned electrode was used as the grid pattern. The surface of the glass substrate on which this pattern electrode was formed was 1 cm × 1 cm. This patterned electrode substrate was fixed to a Teflon support, immersed vertically in a water tank, and then slowly pulled up at a low speed to deposit a porous alumina thin film on the water surface on the patterned electrode surface of the substrate. Further, the patterned electrode substrate coated with the porous alumina thin film was placed in an electric furnace at 600 ° C. for 3 days.
Heat treatment was performed for 0 minutes. Thus, the porous alumina thin film was fixed on the pattern electrode.

【0048】3.細孔中への有機発光素子の設置 ホストポリマーとして下記化合物1(PVK)400m
g、電荷輸送性材料(この場合は電子輸送材料)として
下記化合物2(PBD)120mg、そして発光性有機
材料として下記化合物3(Ir(ppy)3)10mg
を、ジクロロエタン40gと混合し、アルゴンガスを充
填したグローボックス中(露点は−60°)で、超音波
で浮遊物が全くなくなるまで溶解させた(約24時
間)。この溶液を、グローボックス中でインクジェット
吐出器に装填し、上記で作製したパターン電極付き多孔
性アルミナ薄膜に対して吐出させた。該吐出条件は乾膜
厚みで100nmになるように、吐出条件をコントロー
ルした。該材料を吐出させた後、そのままグローボック
ス中で充分乾燥させ(約2時間)、直結された真空装置
に搬送した。その後、真空蒸着装置を用いてLiFの層
およびAlの層をそれそれ0.3nmと0.4μmの厚
みで、多孔性アルミナ層のITO電極と接触している面
と対向する面に蒸着により形成した。LiFの層および
Alの層は、ITOパターン電極と直交する格子状パタ
ーンで、幅10μm且つ間隔10μmで形成した。
3. Installation of organic light-emitting device in pores Compound 1 (PVK) 400 m below as a host polymer
g, 120 mg of the following compound 2 (PBD) as a charge transporting material (in this case, an electron transporting material), and 10 mg of the following compound 3 (Ir (ppy) 3 ) as a light emitting organic material.
Was mixed with 40 g of dichloroethane, and dissolved in a glow box filled with argon gas (dew point was −60 °) by ultrasonic waves until there were no suspended matters (about 24 hours). This solution was loaded into an inkjet ejector in a glow box and ejected onto the porous alumina thin film with a patterned electrode prepared above. The discharge conditions were controlled so that the dry film thickness was 100 nm. After the material was discharged, it was sufficiently dried in the glow box as it was (about 2 hours), and transferred to a vacuum device directly connected. Then, a LiF layer and an Al layer are formed with a thickness of 0.3 nm and 0.4 μm on the surface of the porous alumina layer opposite to the surface in contact with the ITO electrode by using a vacuum evaporation apparatus. did. The LiF layer and the Al layer were formed in a grid pattern orthogonal to the ITO pattern electrodes with a width of 10 μm and an interval of 10 μm.

【0049】基板を下記表1に示す基板に種々代えた以
外は、同様にして発光素子を作製した。
A light emitting device was manufactured in the same manner except that the substrate shown in Table 1 below was changed.

【0050】[0050]

【化1】 [Chemical 1]

【0051】4.多孔性構造体を用いない比較例の作製 なお、比較例として、ITOパターニング基板に多孔性
アルミナ薄膜を配置しなかった以外は全く同様にして、
素子を作製した。
4. Preparation of Comparative Example Not Using Porous Structure As a comparative example, the same procedure was performed except that the porous alumina thin film was not arranged on the ITO patterned substrate,
A device was produced.

【0052】5.素子の発光特性の評価 作製した下記表1に示す発光素子それぞれについて、グ
ローボックス中で、ソースメーター(ケースレー240
0)を用いて電圧を印加し、その電流値を測定した。ま
た、そのときの発光輝度をトプコン社の微小面積測定輝
度計BM−5Aを用いて測定した。また、浜松フォトニ
クス製PMA−11により発光スペクトルを測定し、輝
度と発光スペクトルより放出光子数、電流値と発光素子
の面積から入力電子数を求め、その比から外部量子効率
を求めた。下記表1に、各々の発光素子の発光輝度が1
00cd/m2の状態における発光効率を示す。
5. Evaluation of Light-Emitting Properties of Devices Each of the manufactured light-emitting devices shown in Table 1 below was placed in a glow box in a source meter (Keithley 240
0) was used to apply a voltage, and the current value was measured. In addition, the emission luminance at that time was measured using a micro area measuring luminance meter BM-5A manufactured by Topcon Corporation. Further, the emission spectrum was measured by PMA-11 manufactured by Hamamatsu Photonics, the number of emitted photons from the luminance and the emission spectrum, the number of input electrons from the current value and the area of the light emitting element, and the external quantum efficiency from the ratio. Table 1 below shows that the emission brightness of each light emitting element is 1
The luminous efficiency in the state of 00 cd / m 2 is shown.

【0053】[0053]

【表1】 [Table 1]

【0054】表1に示す結果から、発光輝度100cd
/m2において、比較例の素子は発光効率が8.2%で
あったのに対し、本発明の発光素子は10%以上の値で
あった。
From the results shown in Table 1, the emission luminance is 100 cd.
In / m 2 , the luminous efficiency of the device of the comparative example was 8.2%, while the luminous efficiency of the light emitting device of the present invention was 10% or more.

【0055】[実施例2]実施例1において、発光性有
機材料として化合物3に代えて、下記表2に示す各種の
発光性有機材料を用いて発光素子を作製した。用いた支
持体については、表1の発光素子No4と同じで、口径
120nm、深さ650nmの細孔を有する支持体を用
いた。実施例1と同様に各々発光素子の発光効率を測定
した。その結果を下記表2に示す。
Example 2 In Example 1, various light emitting organic materials shown in Table 2 below were used in place of the compound 3 as the light emitting organic material to manufacture a light emitting device. The support used was the same as that of the light-emitting element No. 4 in Table 1, and a support having pores with a diameter of 120 nm and a depth of 650 nm was used. The luminous efficiency of each light emitting element was measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2 below.

【0056】[0056]

【表2】 [Table 2]

【0057】基板を、素子1、2、6および7と同一の
基板にそれぞれ代えて、下記表2に示す各種の発光性有
機材料を用いて発光素子を作製した。同様に発光効率を
測定したところ、いずれも表2に示した結果より80%
以下に低下していた。
Substrates were replaced with the same substrates as those for the elements 1, 2, 6 and 7, and various light emitting organic materials shown in Table 2 below were used to produce light emitting elements. Similarly, the luminous efficiency was measured and found to be 80% from the results shown in Table 2.
It was below.

【0058】[実施例3]実施例1で作製した発光素子
についての構成中、発光性有機材料以外の構成素材(細
孔構造体、電子輸送材料)の種類や条件を変更して素子
を作製した。特開平6−32675号公報などに開示さ
れる転写方法に従って、自己組織化で作製した陽極酸化
アルミナ皮膜を出発として、細孔の凹凸構造をポリメタ
クリル酸メチルなどの重合体に一度転写した後、転写体
上にゾルゲル反応によって無機酸化物の層を形成させる
方法によって、絶縁体の酸化ジルコニウム(ZrO2
ならびにn型半導体の酸化亜鉛(ZnO)からなる多孔
性ナノ構造体を作製した。また、同様にして作製したポ
リマー転写体上に真空スパッタリング法によってアルミ
ニウムを蒸着し、アルミニウムからなる多孔性ナノ構造
体を作製した。
[Example 3] In the structure of the light emitting device manufactured in Example 1, the device was manufactured by changing the kinds and conditions of constituent materials (pore structure, electron transport material) other than the light emitting organic material. did. According to a transfer method disclosed in JP-A-6-32675, etc., starting from an anodized alumina film prepared by self-assembly, the uneven structure of pores is once transferred to a polymer such as polymethylmethacrylate, By a method of forming an inorganic oxide layer on a transfer body by a sol-gel reaction, zirconium oxide (ZrO 2 ) of an insulator is formed.
In addition, a porous nanostructure made of n-type semiconductor zinc oxide (ZnO) was prepared. Further, aluminum was vapor-deposited on the polymer transfer body produced in the same manner by a vacuum sputtering method to produce a porous nanostructure made of aluminum.

【0059】作製した種々の多孔性ナノ構造体の細孔中
に、実施例1と同様にして、発光性有機材料等を含む材
料を充填した。但し、発光性有機材料等を含む材料の量
を代えることによって、細孔内の形成した有機化合物層
の乾膜全体の厚みを20〜1800nmの範囲で種々異
なる発光素子を作製した。さらに、本発明の素子に対す
る比較として、発光性有機材料に対して電荷輸送性材料
(この場合は電子伝導材料)を混合せずに、電荷輸送性
材料を構成中に有しない素子(素子No.22)も作製
した。以上のように構成が異なる各種の素子について、
実施例1と同様にして素子の発光効率を計測した。その
結果を下記表3に示す。
In the same manner as in Example 1, the pores of the various porous nanostructures produced were filled with a material containing a luminescent organic material or the like. However, by changing the amount of the material including the light-emitting organic material and the like, various light emitting devices were produced in which the total dry film thickness of the organic compound layer formed in the pores was in the range of 20 to 1800 nm. Further, as a comparison with the device of the present invention, a device having no charge transporting material (device No. 1) in the constitution without mixing the charge transporting material (electron conductive material in this case) with the light emitting organic material. 22) was also produced. For various elements with different configurations as described above,
The luminous efficiency of the device was measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 3 below.

【0060】[0060]

【表3】 [Table 3]

【0061】[0061]

【発明の効果】本発明によれば、高い発光効率を有す
る、特に、光の取り出し効率が改善された、発光性ナノ
構造体および発光素子を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a light-emitting nanostructure and a light-emitting device which have high light-emission efficiency, and particularly improved light extraction efficiency.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係わる発光素子の一実施形態の概略断
面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an embodiment of a light emitting device according to the present invention.

【符号の説明】 10 EL素子 12 多孔性薄膜 14 細孔 16 有機層 18 導電層 20 パターン電極 22 基板 24 パターン電極[Explanation of symbols] 10 EL element 12 Porous thin film 14 pores 16 organic layers 18 Conductive layer 20 pattern electrodes 22 Substrate 24 pattern electrodes

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 開口部の平均口径が50nm〜200n
mで、且つ深さが2000nm以下の互いに独立した複
数の細孔および該複数の細孔の開口部が配置された多孔
性の面を有する支持体と、前記複数の細孔に内包された
発光性有機材料および電荷輸送性材料とを有する発光性
ナノ構造体。
1. The average aperture diameter is 50 nm to 200 n.
m and a support having a porous surface in which a plurality of pores having a depth of 2000 nm or less and independent of each other and openings of the plurality of pores are arranged; and light emission included in the plurality of pores. Emissive nanostructure having a crystalline organic material and a charge transporting material.
【請求項2】 前記発光性有機材料が、電界発光性であ
ることを特徴とする請求項1に記載の発光性ナノ構造
体。
2. The luminescent nanostructure according to claim 1, wherein the luminescent organic material is electroluminescent.
【請求項3】 前記複数の細孔の少なくとも一部を構成
している材料が絶縁性材料であることを特徴とする請求
項1または2に記載の発光性ナノ構造体。
3. The luminescent nanostructure according to claim 1, wherein the material forming at least a part of the plurality of pores is an insulating material.
【請求項4】 前記絶縁性材料が、酸化アルミニウム、
酸化ジルコニウムおよび炭化珪素から選ばれる少なくと
も1種であることを特徴とする請求項3に記載の発光性
ナノ構造体。
4. The insulating material is aluminum oxide,
The luminescent nanostructure according to claim 3, which is at least one selected from zirconium oxide and silicon carbide.
【請求項5】 前記電荷輸送性材料が、電子輸送材料で
あることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記
載の発光性ナノ構造体。
5. The luminescent nanostructure according to claim 1, wherein the charge transporting material is an electron transporting material.
【請求項6】 前記電荷輸送性材料に少なくとも接触し
て配置された導電性層を有することを特徴とする請求項
1〜5のいずれか1項に記載の発光性ナノ構造体。
6. The luminescent nanostructure according to claim 1, further comprising a conductive layer disposed in contact with at least the charge transporting material.
【請求項7】 前記発光性有機材料の発光が、リン光で
あることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記
載の発光性ナノ構造体。
7. The luminescent nanostructure according to claim 1, wherein the luminescence of the luminescent organic material is phosphorescence.
【請求項8】 前記発光性有機材料が、金属錯体である
ことを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の
発光性ナノ構造体。
8. The luminescent nanostructure according to claim 1, wherein the luminescent organic material is a metal complex.
【請求項9】 前記発光性有機材料が、高分子化合物で
あるまたは高分子化合物とともに細孔に内包されている
ことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の
発光性ナノ構造体。
9. The luminescent nanomaterial according to claim 1, wherein the luminescent organic material is a polymer compound or is included in pores together with the polymer compound. Structure.
【請求項10】 前記複数の細孔のうち少なくとも2つ
の隣り合う細孔に内包された発光性有機材料の発光波長
領域が互いに異なることを特徴とする請求項1〜9のい
ずれか1項に記載の発光性ナノ構造体。
10. The emission wavelength range of the luminescent organic material included in at least two adjacent pores of the plurality of pores is different from each other. The luminescent nanostructure described.
【請求項11】 前記発光性有機材料が、前記複数の細
孔の内部において、厚みが20nm〜1900nmの有
機層を形成していることを特徴とする請求項1〜10の
いずれか1項に記載の発光性ナノ構造体。
11. The light emitting organic material forms an organic layer having a thickness of 20 nm to 1900 nm inside the plurality of pores, according to any one of claims 1 to 10. The luminescent nanostructure described.
【請求項12】 請求項1〜11のいずれか1項に記載
の発光性ナノ構造体を用いて構成された発光素子。
12. A light emitting device comprising the light emitting nanostructure according to claim 1. Description:
【請求項13】 露光用光源として用いられることを特
徴とする請求項12に記載の発光素子。
13. The light emitting device according to claim 12, which is used as a light source for exposure.
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