JP2003037148A - Processing system and method for managing object to be processed - Google Patents

Processing system and method for managing object to be processed

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JP2003037148A
JP2003037148A JP2001225122A JP2001225122A JP2003037148A JP 2003037148 A JP2003037148 A JP 2003037148A JP 2001225122 A JP2001225122 A JP 2001225122A JP 2001225122 A JP2001225122 A JP 2001225122A JP 2003037148 A JP2003037148 A JP 2003037148A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a processing system which can manage staying time of an object to be processed in a container storage (a stocker) per container of the object to be processed (a cassette), and to properly give the alarm. SOLUTION: The processing system temporarily stores the container C of the object to be processed for accommodating a plurality of the objects to be processed W in the container storage 14, carries the container of the object to be processed from the container storage, and implements the predetermined process for the objects to be processed in the container of the object to be processed after being carried. In the processing system, a measuring means 54 measures the staying time of the container of the object to be processed in the container storage, and a determining means 56 determines suitability for the staying time based on a result measured by the measuring means. The processing system manages the staying time of the object to be processed in the container storage (the stocker) per container of the object to be processed (the cassette), and properly alarms.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ等の
処理システム及び被処理体の管理方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a processing system for semiconductor wafers and the like and a method for managing an object to be processed.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、半導体集積回路を製造するため
には、シリコン基板等よりなる半導体ウエハに対して、
成膜処理、エッチング処理、酸化拡散処理、改質処理等
の各種の処理が行われる。この種の処理を行う処理シス
テムの一例として、例えば一度に多数枚の半導体ウエハ
を熱処理する、いわゆるバッチ式の処理システムを例に
とって説明すると、複数枚、例えば10〜25枚程度の
半導体ウエハを収容するカセットを処理システム内に取
り込み、これをカセットエレベータで一時的にストッカ
に貯留する。そして、処理の順番が到来したならば、こ
のストッカから所定のカセットを取り出して、この中の
半導体ウエハを、ウエハ移載機構を用いてウエハボート
に移載し、次に、このウエハボートを、ボートエレベー
タにより上昇してこれを処理容器内へロードし、半導体
ウエハを処理容器内に収容する。そして、処理容器内に
て半導体ウエハを所定の温度に昇温維持しつつ、この容
器内に処理ガスを供給すると共に容器内の雰囲気を真空
引きして所定の圧力を維持し、所定の熱処理を行うこと
になる。
2. Description of the Related Art Generally, in order to manufacture a semiconductor integrated circuit, a semiconductor wafer made of a silicon substrate or the like is
Various processes such as a film forming process, an etching process, an oxidative diffusion process, and a modifying process are performed. As an example of a processing system that performs this type of processing, for example, a so-called batch type processing system that heat-treats a large number of semiconductor wafers at a time will be described. The cassette to be used is taken into the processing system and is temporarily stored in the stocker by the cassette elevator. Then, when the order of processing comes, a predetermined cassette is taken out from this stocker, the semiconductor wafer therein is transferred to a wafer boat by using a wafer transfer mechanism, and then this wafer boat is The boat elevator moves up to load it into the processing container, and the semiconductor wafer is stored in the processing container. Then, while maintaining the temperature of the semiconductor wafer at a predetermined temperature in the processing container, the processing gas is supplied into the container and the atmosphere in the container is evacuated to maintain a predetermined pressure to perform a predetermined heat treatment. Will be done.

【0003】このような処理システムにおいて、処理時
の各種のプロセス条件等は、ホストコンピュータ等に予
め組み込まれてプログラム(レシピ)によって自動的に
行われ、また、処理システム内のカセットの搬出入や半
導体ウエハの移載等も全てコンピュータ制御によって自
動的に行われる。
In such a processing system, various process conditions at the time of processing are automatically incorporated by a program (recipe) which is pre-installed in a host computer or the like, and the loading and unloading of cassettes in the processing system is performed. Transfer of semiconductor wafers and the like are all automatically performed by computer control.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、例えばシリ
コン基板等よりなる半導体ウエハの表面や各種の処理工
程にて形成された薄膜などは、非常に活性な状態になっ
ているので、大気中の空気や水分と接触すると容易に反
応して自然酸化膜を形成する傾向にある。このような自
然酸化膜は、過度の厚さに形成されると半導体集積回路
の諸特性に悪影響を及ぼすので、例えば上述のように処
理の順番を待ってストッカに待機している半導体ウエハ
は可及的に速やかに次の処理に付するようにし、ストッ
カでの半導体ウエハの滞留時間をできるだけ短くするの
が望ましい。この場合、従来にあっては、処理の種別毎
に滞留時間の上限を設定しておき、最初にストッカに投
入されたカセットのみを時間管理するようにしていた。
By the way, the surface of a semiconductor wafer made of, for example, a silicon substrate or a thin film formed in various processing steps is in a very active state. When it comes into contact with water or moisture, it tends to easily react and form a natural oxide film. Since such a natural oxide film adversely affects various characteristics of the semiconductor integrated circuit if it is formed to an excessive thickness, for example, a semiconductor wafer waiting in the stocker after waiting for the processing order as described above is acceptable. It is desirable that the next process is performed as soon as possible and the residence time of the semiconductor wafer in the stocker is as short as possible. In this case, conventionally, the upper limit of the residence time is set for each type of processing, and only the cassette first loaded into the stocker is time-managed.

【0005】この場合、カセットは常に連続的にストッ
カへ待機のために投入されるとは限らず、カセット毎に
滞留時間に大きな差が生ずる場合があり、全てのウエハ
のストッカにおける滞留時間を適切に管理するのは困難
であった。このため、自然酸化膜が予測以上に過度に形
成された状態で、次の処理を行ってしまう、といった問
題もあった。本発明は、以上のような問題点に着目し、
これを有効に解決すべく創案されたものである。本発明
の目的は、容器貯留部(ストッカ)における被処理体の
滞留時間を被処理体容器(カセット)毎に管理して適切
な警報を発することが可能な処理システム及び被処理体
の管理方法を提供することにある。
In this case, the cassette is not always continuously loaded into the stocker for standby, and there may be a large difference in the retention time between the cassettes. Therefore, the retention time of all the wafers in the stocker is appropriate. It was difficult to manage. Therefore, there is also a problem that the next process is performed in a state where the natural oxide film is excessively formed than expected. The present invention focuses on the above problems,
It was created to solve this effectively. An object of the present invention is to provide a processing system and a method of managing a processing object capable of managing a residence time of a processing object in a container storage (stocker) for each processing object container (cassette) and issuing an appropriate alarm. To provide.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1に規定する発明
は、複数の被処理体を収容した被処理体容器を一時的に
容器貯留部に貯留し、前記容器貯留部から前記被処理体
容器を搬送して、搬送後の前記被処理体容器内の前記被
処理体に対して処理ユニットにて所定の処理を施すよう
にした処理システムにおいて、前記被処理体容器が前記
容器貯留部に貯留されている滞留時間を計測する計測手
段と、前記計測手段の結果に基づいて滞留時間の適否を
判断する判断手段と、を備えたことを特徴とする処理シ
ステムである。このように、容器貯留部に貯留されてい
る被処理体の滞留時間を被処理体容器毎に計測手段によ
り計測し、その滞留時間を判断手段にて判断することが
できる。
According to the invention defined in claim 1, an object container containing a plurality of objects to be processed is temporarily stored in a container storage part, and the object to be processed is transferred from the container storage part. In a processing system in which a container is transported and a predetermined processing is performed in a processing unit on the processing target in the processing target container after the transportation, the processing target container is the container storage unit. A processing system comprising: a measuring unit that measures the accumulated residence time; and a determining unit that determines whether the residence time is appropriate based on the result of the measuring unit. In this way, the retention time of the object to be processed stored in the container storage section can be measured by the measuring means for each object container, and the retention time can be determined by the determining means.

【0007】この場合、例えば請求項2に規定するよう
に、前記判断手段の結果を操作者に知らしめる警報手段
を有する。これによれば、前記滞留時間に応じた適切な
警報を発するようにしたので、操作者は被処理体の滞留
時間を被処理体容器毎に適切に管理することが可能とな
る。ここで、請求項3に規定するように、前記計測手段
は、ソフトウエア的に前記滞留時間を計測する。また
は、請求項4に規定するように、前記計測手段は、前記
容器貯留部に設けられて前記被処理体容器の有無を検出
するスイッチ部と、前記スイッチ部に連動するタイマ手
段よりなる。また、請求項5に規定するように、前記判
断手段は、前記滞留時間の適否の判断の結果、前記滞留
時間が所定の時間よりも長いことを警告する警告指示
と、前記貯留されている前記被処理体の処理を中止する
中止指示とを選択的に行うことになる。これにより、操
作者は、被処理体の処理の中止指示を受ける前に、警告
指示を受けることになり、結果的に、この警告された被
処理体を優先的に処理させることにより、過度に自然酸
化膜が被処理体の表面に形成されることを阻止すること
が可能となる。
In this case, for example, as defined in claim 2, an alarm means is provided to inform the operator of the result of the judging means. According to this, since an appropriate alarm is issued according to the residence time, the operator can appropriately manage the residence time of the object to be processed for each object container. Here, as defined in claim 3, the measuring means measures the residence time by software. Alternatively, as defined in claim 4, the measuring unit includes a switch unit provided in the container storage unit for detecting the presence or absence of the object container, and a timer unit interlocking with the switch unit. Further, as defined in claim 5, the determination means, as a result of the determination of suitability of the residence time, a warning instruction that warns that the residence time is longer than a predetermined time, and the stored A stop instruction for stopping the processing of the object to be processed is selectively given. As a result, the operator receives the warning instruction before receiving the instruction to stop the processing of the object to be processed, and as a result, the object to be processed that has been warned is preferentially processed, so that the operator is excessively processed. It is possible to prevent the natural oxide film from being formed on the surface of the object to be processed.

【0008】この場合、例えば請求項6に規定するよう
に、前記判断手段は、前記中止指示を出力する時には、
前記被処理体の処理を中止させる。これによれば、判断
手段が被処理体の処理の中止を指示した時には、その被
処理体の処理を自動的に中止させることが可能となる。
また、例えば請求項7に規定するように、前記計測手段
は、処理済みの前記被処理体が収容された前記被処理体
容器の滞留時間を計測する。これによれば、処理済みの
被処理体の滞留時間も管理することが可能となる。ま
た、請求項8に規定する発明は、複数の被処理体を収容
した被処理体容器を一時的に容器貯留部に貯留し、前記
容器貯留部から前記被処理体容器を搬送して、前記被処
理体容器内の前記被処理体に対して処理ユニットにて所
定の処理を施すようにした処理システムにおける被処理
体の管理方法において、前記容器貯留部に貯留されてい
る前記被処理体容器の滞留時間を計測する工程と、前記
滞留時間の計測の結果に応じて所定の警報を発する工程
とを有することを特徴とする被処理体の管理方法であ
る。また、例えば請求項9に規定するように、前記判断
する工程の判断結果に応じて所定の警報を発する工程を
有する。この場合、例えば請求項10に規定するよう
に、前記所定の警報は、前記被処理体の処理の中止を示
す中止警報と、前記滞留時間が所定の時間範囲内にある
ことを示す警告警報とを有する。
In this case, for example, as defined in claim 6, when the judging means outputs the stop instruction,
The processing of the object is stopped. According to this, when the determination means gives an instruction to stop the processing of the target object, the processing of the target object can be automatically stopped.
Further, for example, as defined in claim 7, the measuring unit measures the residence time of the processed object container in which the processed object is stored. According to this, it becomes possible to manage the residence time of the processed object. In the invention defined in claim 8, the object container containing a plurality of objects is temporarily stored in a container storage part, and the object container is transported from the container storage part, In the method of managing an object to be processed in a processing system in which a processing unit performs a predetermined process on the object to be processed in the object container, the object container stored in the container storage section. And a step of issuing a predetermined alarm according to the result of the measurement of the residence time. Further, for example, as defined in claim 9, there is a step of issuing a predetermined alarm according to the judgment result of the judgment step. In this case, for example, as defined in claim 10, the predetermined alarm includes a stop alarm indicating that the processing of the object to be processed is stopped and a warning alarm indicating that the residence time is within a predetermined time range. Have.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下に、本発明に係る処理システ
ム及び被処理体の管理方法の一実施例を添付図面に基づ
いて詳述する。図1は本発明の処理システムを示す概略
構成図、図2は容器貯留部(ストッカ)に収容されてい
る被処理体容器(カセット)の一例を示す斜視図、図3
は警報手段に表示されている表示態様の一例を示す図で
ある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of a processing system and a method of managing an object to be processed according to the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a processing system of the present invention, FIG. 2 is a perspective view showing an example of an object container (cassette) housed in a container storage section (stocker), FIG.
FIG. 6 is a diagram showing an example of a display mode displayed on an alarm means.

【0010】まず、図1に示すように、この処理システ
ム2は、全体が例えばステンレス等よりなる筐体4に囲
まれており、この内部は被処理体容器としてのカセット
Cを搬送するためのカセット搬送エリア6と被処理体で
ある半導体ウエハWを搬送するウエハ搬送エリア8とに
分離区画壁10により2分されている。このカセットC
内には、ウエハWが複数枚、例えば10〜25枚程度収
容可能になされ、カセットC自体は開放されてオープン
状態になっている。上記カセット搬送エリア6内には清
浄空気が流され、上記ウエハ搬送エリア8内にはN2
ス等の不活性ガス雰囲気になされている。このカセット
搬送エリア6には、カセットCをシステム2内に対して
搬入搬出させるための搬出入ポート12と、このカセッ
トCを一時的に貯留するための容器貯留部であるストッ
カ14と、カセット昇降機構16とが設けられる。
First, as shown in FIG. 1, the processing system 2 is entirely surrounded by a casing 4 made of, for example, stainless steel or the like, and the inside thereof is for carrying a cassette C as a container to be treated. The cassette carrying area 6 and the wafer carrying area 8 for carrying the semiconductor wafer W which is the object to be processed are divided into two parts by a separation partition wall 10. This cassette C
A plurality of wafers W, for example, about 10 to 25 wafers W can be accommodated therein, and the cassette C itself is opened and is in an open state. Clean air is flown in the cassette transfer area 6 and an inert gas atmosphere such as N 2 gas is supplied in the wafer transfer area 8. In the cassette carrying area 6, a carry-in / carry-out port 12 for carrying the carry-in / carry-out of the cassette C into / from the system 2, a stocker 14 which is a container storing portion for temporarily storing the cassette C, and a cassette elevating / lowering operation. Mechanism 16 is provided.

【0011】上記搬出入ポート12の外側には、外部よ
り搬送してきたカセットCを載置するための外側載置台
18が設けられると共に、この搬出入ポート12の内側
には、上記外側載置台18よりスライド移動されてくる
カセットCをその上に載置するための内側載置台20が
設置されている。また、ここではストッカ14は図2に
も示すように2個のカセットCを直接的に載置する複数
段になった棚部14Aを有しており、全体で2列4段
(図1参照)となるように設定され、このストッカ14
間に上記カセット昇降機構16を起立させて設けてい
る。このカセット昇降機構16には、水平方向に延びて
旋回及び屈伸可能になされたカセット搬送アーム22が
設けられている。従って、このカセット搬送アーム22
を屈伸及び昇降させることにより、カセットCをカセッ
ト搬送アーム22で保持し、搬出入ポート12とスット
カ14との間で搬送できるようになっている。ここで、
上記カセット昇降機構16は例えばボールネジ24を有
し、これを昇降用モータ(図示せず)で旋回駆動して上
記カセット搬送アーム22を昇降させる。
Outside the carry-in / carry-out port 12 is provided an outer mount 18 for mounting the cassette C transported from the outside, and inside the carry-in / carry-out port 12 is the outer mount 18. An inner mounting table 20 for mounting the cassette C, which is more slid and moved, is installed. Also, here, the stocker 14 has a plurality of shelves 14A for directly mounting two cassettes C as shown in FIG. 2, and has two rows and four shelves as a whole (see FIG. 1). ), This stocker 14
The cassette elevating mechanism 16 is provided upright between them. The cassette elevating mechanism 16 is provided with a cassette transfer arm 22 which extends horizontally and can be swung and bent. Therefore, this cassette transfer arm 22
The cassette C can be held by the cassette transfer arm 22 and can be transferred between the carry-in / out port 12 and the stocker 14 by bending and stretching and moving up and down. here,
The cassette elevating mechanism 16 has, for example, a ball screw 24, which is rotatably driven by an elevating motor (not shown) to elevate the cassette carrying arm 22.

【0012】上記区画壁10には、開閉ドア26で開閉
される開口28が設けられ、このカセット搬送エリア6
側にカセットCを載置する移載台30が設けられる。そ
して、この開口28に臨ませて、ウエハ搬送エリア8内
には、ボールネジよりなるウエハ移載機構32が設けら
れ、このウエハ移載機構32に屈曲及び旋回可能になさ
れた移載アーム34が昇降可能に取り付けられる。そし
て、このウエハ移載機構32及び移載アーム34を駆動
することにより、カセットCとボートステージ36上の
被処理体保持具であるウエハボート38との間でウエハ
Wの移載を行うようになっている。上述したカセット昇
降機構16と同様に、このウエハ移載機構32側にも、
図示しない昇降用モータ等が設けられている。
The partition wall 10 is provided with an opening 28 which is opened and closed by an opening / closing door 26, and the cassette carrying area 6 is provided.
A transfer table 30 on which the cassette C is placed is provided on the side. A wafer transfer mechanism 32 formed of a ball screw is provided in the wafer transfer area 8 so as to face the opening 28, and a transfer arm 34 that can be bent and swung by the wafer transfer mechanism 32 is moved up and down. Can be mounted as possible. Then, by driving the wafer transfer mechanism 32 and the transfer arm 34, the wafer W is transferred between the cassette C and the wafer boat 38 which is a workpiece holder on the boat stage 36. Has become. Similar to the cassette lifting mechanism 16 described above, this wafer transfer mechanism 32 side also
An elevator motor and the like (not shown) are provided.

【0013】上記ウエハ搬送エリア8の奥側の上方に
は、半導体ウエハWに対して実際に熱処理を行う処理ユ
ニット40が設けられており、この下方には、上記ウエ
ハボート38を上記処理ユニット40の縦型の処理容器
42内へその下方よりロード・アンロードする例えばボ
ールネジよりなるボート昇降機構44が設けられてお
り、このボート昇降機構44にはウエハボート38を昇
降させるボートアーム46が螺合されている。そして、
このボートアーム46の先端に処理容器42の下端を密
閉するキャップ48が取り付けられている。また、上記
ボート昇降機構44と上記ボートステージ36との間に
は、ウエハボート38を移載するために旋回及び屈曲可
能になされたボート移載アーム50が設けられている。
ここで、上記ボート移載アーム50及びボート昇降機構
44も図示しない駆動モータ等を有している。
A processing unit 40 for actually performing a heat treatment on the semiconductor wafer W is provided above the back side of the wafer transfer area 8 and below the wafer boat 38 the processing unit 40. A boat elevating mechanism 44, for example, made of a ball screw, is provided for loading / unloading into the vertical processing container 42 from below, and a boat arm 46 for elevating the wafer boat 38 is screwed into the boat elevating mechanism 44. Has been done. And
A cap 48 for sealing the lower end of the processing container 42 is attached to the tip of the boat arm 46. Further, a boat transfer arm 50 that is rotatable and bendable for transferring the wafer boat 38 is provided between the boat elevating mechanism 44 and the boat stage 36.
Here, the boat transfer arm 50 and the boat elevating mechanism 44 also have a drive motor and the like not shown.

【0014】そして、この処理システムの各種の駆動
系、例えばカセット昇降機構16、ウエハ搬送機構3
2、ボート移載アーム50、ボート昇降機構44等は、
例えばマイクロコンピュータ等よりなる制御本体52に
よりその動作が制御される。また、この制御本体52
は、図示されないが、処理容器42の加熱系、必要なガ
スの供給系、容器内のガスの排気系の他に、この処理シ
ステムの動作全体を予め設定されたプログラムによって
制御している。そして、ここでは本発明の特徴として、
上記カセットCがストッカ14に貯留されている滞留時
間を計測する計測手段としてのタイマ部54、このタイ
マ部54の計測結果に基づいて滞留時間の適否を判断す
る判断手段56及びこの判断手段56の結果を操作者に
知らしめる警報手段58がそれぞれ設けられている。
Then, various drive systems of this processing system, for example, a cassette lifting mechanism 16 and a wafer transfer mechanism 3 are provided.
2, the boat transfer arm 50, the boat lifting mechanism 44, etc.
The operation is controlled by the control main body 52 including, for example, a microcomputer. In addition, this control body 52
Although not shown, in addition to the heating system of the processing container 42, the supply system of the necessary gas, the exhaust system of the gas in the container, the entire operation of this processing system is controlled by a preset program. And here, as a feature of the present invention,
A timer unit 54 as a measuring unit that measures the residence time of the cassette C stored in the stocker 14, a determination unit 56 that determines the appropriateness of the residence time based on the measurement result of the timer unit 54, and a determination unit 56. An alarm means 58 is provided to inform the operator of the result.

【0015】具体的には、上記タイマ部54としては、
例えばマイクロコンピュータよりなる制御本体52に内
蔵するタイマを用いてもよいし、或いは外付けで別途タ
イマを設けるようにしてもよく、カセット昇降機構16
のカセット搬送アーム22がカセットCをストッカ14
の棚部14A上に実際に載置した時点を、滞留時間の計
測の開始点とし、逆に、カセット搬送アーム22がカセ
ットCを棚部14Aから取り上げて搬出した時点を滞留
時間の計測の終点とする。このような、計測の開始点と
終点は、プログラムの各タスクの終了点等をソフトウエ
ア的に検出することにより、ソフトウエア的に認識する
ことができる。このようなカセットCの滞留時間の計測
は、各カセット毎に行い、その管理を行うようになって
いる。
Specifically, the timer section 54 is
For example, a timer built in the control main body 52 including a microcomputer may be used, or an external timer may be separately provided, and the cassette elevating mechanism 16 may be used.
The cassette transfer arm 22 stores the cassette C in the stocker 14
The time when the cassette C is actually placed on the shelf 14A is used as the starting point for measuring the residence time, and conversely, the time when the cassette transport arm 22 picks up the cassette C from the shelf 14A and carries it out is the end point for measuring the residence time. And The start point and the end point of such measurement can be recognized by software by detecting the end point of each task of the program or the like by software. The measurement of the residence time of the cassette C is performed for each cassette and is managed.

【0016】また、上記判断手段56は、例えばマイク
ロコンピュータ等よりなり、上記タイマ部54の計測結
果に基づいて滞留時間の適否をカセット毎に判断し得る
ようになっている。この場合、各カセット毎のウエハに
関して、前段での処理が同じ場合、或いは異なる場合、
すなわちウエハ表面の態様に違いがあるので、それに対
応して許容される滞留時間、換言すれば許容される自然
酸化膜の厚さが異なる。例えば、前段での処理の後に本
発明の処理システム2の処理ユニット40にて処理を行
なうまでに許容される滞留時間が、ウエハ表面の態様に
応じて、2時間の場合もあるし、2.5時間の場合もあ
るし、更には3時間の場合等も種々存在する。
Further, the judging means 56 is composed of, for example, a microcomputer or the like, and can judge the suitability of the residence time for each cassette based on the measurement result of the timer section 54. In this case, regarding the wafer in each cassette, if the processing in the previous stage is the same or different,
That is, since there is a difference in the aspect of the wafer surface, the allowable residence time, in other words, the allowable thickness of the natural oxide film, correspondingly differs. For example, the allowable residence time before the processing is performed in the processing unit 40 of the processing system 2 of the present invention after the processing in the previous stage may be 2 hours depending on the aspect of the wafer surface, or 2. There are cases of 5 hours, and there are various cases of 3 hours.

【0017】このような、カセット毎に許容されている
滞留時間に関する情報等は、どのような表面態様のウエ
ハを収容したカセットCがストッカ14のどの位置に収
容されたか、という点について管理している制御本体5
2により提供されることになる。そして、滞留時間が許
容される時間以上になった時には、処理の中止を発する
判断をするようになっている。この場合、前記警報手段
58に向けて単に中止の警報を発するように指令を出す
ようにしてもよいし、これと共に上記制御本体52に向
けて中止指令を発して当該カセット内のウエハの処理を
自動的に中止させるようにしてもよい。また、この判断
手段56では、上記中止判断を行う前に、警告を発する
ための所定の時間範囲を予め定めており、この時間範囲
内に滞留時間が達したならば、警告を発する判断をする
ようになっている。
Information such as the residence time allowed for each cassette is managed in terms of which position of the stocker 14 the cassette C containing the wafer of which surface form is housed. Control body 5
2 will be provided. Then, when the residence time exceeds the allowable time, it is determined that the processing should be stopped. In this case, a command may be issued to the alarm means 58 so as to simply issue a cancellation alarm, or together with this, a cancellation command may be issued to the control body 52 to process the wafers in the cassette. You may make it stop automatically. Further, the determination means 56 predetermines a predetermined time range for issuing a warning before performing the above-mentioned stop determination, and if the retention time reaches within this time range, it is determined to issue a warning. It is like this.

【0018】また、この判断手段56では、未処理ウエ
ハの滞留時間のみならず、処理ユニット40にて処理済
みのウエハを収容するカセットの払い出しまでの滞留時
間も計測し、必要な場合には警告を行う指令を発するよ
うになっている。また、上記警報手段58は、ここでは
液晶表示パネル等よりなる表示部60と警報ランプ62
よりなる。尚、警報ランプ62に替えて、或いはこれと
共に警報ブザー等の鳴動機器を設けてもよい。上記警報
ランプ62は、例えば警告状態を示す黄色灯62Aと中
止状態を示す赤色灯62Bよりなり、各状態に応じて点
滅し得るようになっている。また、上記表示部60の表
示態様の一例は図3に示されており、各カセット毎の滞
留時間、警告時間、中止時間、プロセス制限の有無等を
表示できるようになっている。
Further, the judging means 56 measures not only the retention time of unprocessed wafers but also the retention time until the payout of the cassette containing the wafers processed by the processing unit 40, and warns if necessary. It is designed to issue a command to do. Further, the alarm means 58 is composed of a display unit 60, which is a liquid crystal display panel or the like, and an alarm lamp 62.
Consists of. A sounding device such as an alarm buzzer may be provided instead of or in addition to the alarm lamp 62. The alarm lamp 62 includes, for example, a yellow light 62A indicating a warning state and a red light 62B indicating a stop state, and is capable of blinking according to each state. An example of the display mode of the display unit 60 is shown in FIG. 3, and it is possible to display the residence time, warning time, stop time, presence / absence of process restriction, etc. for each cassette.

【0019】ここで前述のように、図3中のカセットの
表示は、未処理のウエハを収容するカセット(図3中の
上段)と処理済みのウエハを収容するカセット(図3中
の下段)とに分かれている。また、滞留時間は、各カセ
ットがストッカ14に収容されている時間(待機時間)
を示し、警告時間は当該カセットに対して警告を発する
ための予め設定された時間範囲を示している。また、中
止時間は当該カセットに対して処理の中止を発するまで
の許容された時間を示しており、警告時間の範囲を経過
すると直ちに処理の中止を発するようになっている。更
に、プロセス制御の”する”、”しない”は、処理の中
止が発せられたカセットのウエハの当該処理を自動的に
中止するか否かを示すものであり、”する”の場合には
自動的に当該処理が中止され、”しない”の場合には、
中止警告を認識した操作者がマニュアルにより当該処理
を中止させることになる。
As described above, the cassettes shown in FIG. 3 are indicated by cassettes for storing unprocessed wafers (upper stage in FIG. 3) and cassettes for storing processed wafers (lower stage in FIG. 3). It is divided into The residence time is the time during which each cassette is stored in the stocker 14 (standby time).
And the warning time indicates a preset time range for issuing a warning to the cassette. Further, the suspension time indicates an allowable time until the suspension of the processing is issued for the cassette, and the suspension of the processing is immediately issued when the range of the warning time is exceeded. Further, "Yes" and "No" of the process control indicate whether or not the processing of the wafer in the cassette in which the processing is stopped is automatically stopped. In the case of "Yes", the automatic processing is performed. If the process is stopped and “No”,
The operator who recognizes the stop warning manually stops the process.

【0020】次に、以上のように構成された処理システ
ム2の動作について説明する。まず、ウエハ搬送エリア
8内は、ウエハ表面への自然酸化膜の付着を防止するた
めに不活性ガス、例えばN2 ガス雰囲気になされ、これ
に対して、カセット搬送エリア6内は、清浄空気の雰囲
気に維持されている。従って、カセット搬送エリア6内
ではウエハに自然酸化膜が付着することを防止するため
に、このエリア8内におけるウエハの滞留時間はできる
だけ少ない方がよく、本発明方法により、この時間管理
が行われる。最初に、半導体ウエハWの全体的な流れに
ついて説明すると、外部より搬送されてきたカセットC
は、搬出入ポート12の外側載置台18上に載置され、
このカセットCは内側載置台20上へスライド移動され
る。
Next, the operation of the processing system 2 configured as above will be described. First, the inside of the wafer transfer area 8 is filled with an atmosphere of an inert gas such as N 2 gas in order to prevent the natural oxide film from adhering to the wafer surface. The atmosphere is maintained. Therefore, in order to prevent the natural oxide film from adhering to the wafer in the cassette transfer area 6, the retention time of the wafer in this area 8 should be as short as possible, and this time management is performed by the method of the present invention. . First, the overall flow of the semiconductor wafer W will be described. The cassette C transferred from the outside is described.
Is placed on the outer placement table 18 of the carry-in / out port 12,
The cassette C is slid onto the inner mounting table 20.

【0021】次に、カセット搬送アーム22を駆動する
ことにより、内側載置台20上に設置されているカセッ
トCを取りに行ってこれを保持し、更にカセット昇降機
構16を駆動することによって、このカセットCをスト
ッカ14の棚部14Aの所定の位置まで搬送して設置
し、これを一時的に保管する。尚、このカセットCを棚
部14Aに設置した時に、当該カセットの滞留時間の計
測が開始される。これと同時に、すでにストッカ14に
一時貯留されており、処理対象となったウエハを収容す
るカセットCをこのカセット搬送アーム22により取り
に行き、棚部14AからカセットCを持ち上げ、更に上
述のようにカセット昇降機構16を駆動してこれを降下
させて、カセットCを移載台30上に移載する。尚、こ
のカセットCを棚部14Aより持ち上げた時に当該カセ
ットの滞留時間の計測を終了する。
Next, by driving the cassette carrying arm 22, the cassette C installed on the inner mounting table 20 is picked up and held, and the cassette elevating mechanism 16 is driven to drive the cassette C. The cassette C is transported to a predetermined position on the shelf 14A of the stocker 14 and installed, and is temporarily stored. When the cassette C is installed on the shelf 14A, measurement of the residence time of the cassette is started. At the same time, the cassette C, which has been temporarily stored in the stocker 14 and contains the wafers to be processed, is picked up by the cassette transfer arm 22, and the cassette C is lifted from the shelf 14A. The cassette elevating mechanism 16 is driven and lowered, and the cassette C is transferred onto the transfer table 30. When the cassette C is lifted from the shelf 14A, the measurement of the residence time of the cassette is completed.

【0022】この状態で開閉ドア26をスライド移動さ
せることにより、開口28が開かれる。ここで、移載ア
ーム34及びウエハ移載機構32を駆動することによ
り、カセットC内に収容されていたウエハWを例えば一
枚ずつ、或いは複数枚ずつ取り出し、これをボートステ
ージ36上に設置されているウエハボート38に移載す
る。ウエハボート38へのウエハWの移載が完了したな
らば、次に、ボート移載アーム50を駆動して、ボート
ステージ36上のウエハボート38を最下端へ降下され
ているキャップ48上に載置する。そして、このウエハ
ボート38の移載が完了したならば、ボート昇降機構4
4を駆動させて、ウエハボート38の載置されたキャッ
プ48を上昇させ、このボート38を処理ユニット40
の処理容器42の下端開口部より処理容器42内へ導入
してロードする。そして、このキャップ48によって処
理容器42の下端開口部を密閉し、この状態で処理ユニ
ット40内でウエハWに対して所定の処理、例えば成膜
処理や酸化拡散処理等を行なう。
In this state, the opening 28 is opened by sliding the opening / closing door 26. Here, by driving the transfer arm 34 and the wafer transfer mechanism 32, the wafers W accommodated in the cassette C are taken out, for example, one by one or a plurality of wafers W, which are set on the boat stage 36. The wafer boat 38 is transferred. When the transfer of the wafer W to the wafer boat 38 is completed, the boat transfer arm 50 is then driven to mount the wafer boat 38 on the boat stage 36 on the cap 48 lowered to the lowermost end. Place. When the transfer of the wafer boat 38 is completed, the boat lifting mechanism 4
4 is driven to raise the cap 48 on which the wafer boat 38 is mounted, and the boat 38 is moved to the processing unit 40.
The processing container 42 is introduced into the processing container 42 through the lower end opening and loaded. Then, the lower end opening of the processing container 42 is sealed by the cap 48, and in this state, a predetermined process such as a film forming process or an oxidation diffusion process is performed on the wafer W in the processing unit 40.

【0023】このようにして、所定の熱処理が終了した
ならば、前述したと逆の操作を行なって、処理済みのウ
エハWを取り出す。すなわち、ウエハボート38を処理
容器42内から降下させてアンロードし、更に、これを
ボートステージ36上に移載する。そして、移載アーム
34を用いて処理済みのウエハWをボート38から載置
台30上の空のカセットC内に移載する。このカセット
C内への処理済みウエハWの移載が完了したならば、カ
セット搬送アーム22を駆動し、このカセットCを一時
的にストッカ14の棚部14Aへ貯留して待機させる。
この時、処理済みのウエハを収容したカセットCの滞留
時間の計測が開始される。そして、搬出払い出しの時間
がきたならば、カセット搬送アーム22でカセットを棚
部14Aより取り上げ、搬出入ポート12を介して処理
システム2外へ搬送することになる。そして、カセット
を棚部14Aより取り上げた時に滞留時間の計測を終了
する。尚、上記したカセットCの流れは単に一例を示し
たに過ぎず、これに限定されないのは勿論である。
When the predetermined heat treatment is completed in this way, the reverse operation to the above is performed to take out the processed wafer W. That is, the wafer boat 38 is lowered from the inside of the processing container 42 to be unloaded, and then the wafer boat 38 is transferred onto the boat stage 36. Then, the processed wafer W is transferred from the boat 38 into the empty cassette C on the mounting table 30 by using the transfer arm 34. When the transfer of the processed wafer W into the cassette C is completed, the cassette transfer arm 22 is driven to temporarily store the cassette C in the shelf portion 14A of the stocker 14 and make it stand by.
At this time, the measurement of the residence time of the cassette C containing the processed wafer is started. When the carry-out / payment time comes, the cassette is picked up from the shelf 14A by the cassette carrying arm 22 and carried to the outside of the processing system 2 via the carry-in / out port 12. Then, when the cassette is picked up from the shelf portion 14A, the measurement of the residence time ends. The flow of the cassette C described above is merely an example, and the flow is not limited to this.

【0024】上述のように、未処理のウエハ、或いは処
理済みのウエハを収容したカセットCが、上記ストッカ
14の棚部14Aに載置されて待機状態になっている間
の滞留時間が各カセット毎にタイマ部54において計測
され、そして、その滞留時間の適否が判断手段56にて
判断される。この判断の結果、適切でない場合には操作
者にその旨を知らしむべく警報手段58に対して所定の
警報動作を行うように指令を発する。また、必要な場合
には、当該カセット内の半導体ウエハの処理を自動的に
中止させることになる。このような、ウエハ滞留時間の
管理方法について、未処理のウエハを例にとって、図3
及び図4を参照して具体的に説明する。図4は未処理ウ
エハを収容するカセットの管理方法を示すフローであ
る。尚、これ以降、図4及び図5を参照して説明するフ
ローの各ステップは例えば制御本体52等より出力され
る基準クロックに基づいて高速に実行される。
As described above, the residence time during which the cassette C containing the unprocessed wafers or the processed wafers is placed on the shelf 14A of the stocker 14 and is in the standby state The timer unit 54 measures each time, and the adequacy of the residence time is determined by the determination unit 56. If the result of this determination is that it is not appropriate, a command is issued to the alarm means 58 in order to inform the operator of that fact so as to perform a predetermined alarm operation. Further, if necessary, the processing of the semiconductor wafer in the cassette is automatically stopped. Regarding such a method of managing the wafer residence time, an unprocessed wafer is taken as an example and shown in FIG.
Also, a specific description will be given with reference to FIG. FIG. 4 is a flow chart showing a management method of a cassette that contains unprocessed wafers. Note that, thereafter, each step of the flow described with reference to FIGS. 4 and 5 is executed at high speed based on, for example, the reference clock output from the control main body 52 or the like.

【0025】前述したように、未処理のウエハを収容す
るカセットは図3に示す場合には、カセット1〜カセッ
トnまでn個ストッカに待機しており、各カセットの滞
留時間が表示されている。更に、各カセットに対応する
予め設定された、警告指令を発するための警告時間の範
囲、及び予め設定された、中止指令を発するための最低
時間がそれぞれ表示されている。また、最後の表示欄に
は、中止指令が発せられた時に、当該ウエハに対してプ
ロセス(処理)を施すことを自動的に制限するか否かの
設定を表示するプロセス制限の表示欄が設けられてい
る。上記滞留時間は、当然のこととしてカセットがスト
ッカ14に載置された時間に応じて、ストッカ毎に異な
っている。また、警告時間及び中止時間も、各ウエハの
前段以前の処理形態に応じてストッカ毎に異なっている
場合もあるし、同じ場合もある。
As described above, in the case of FIG. 3, the cassettes containing the unprocessed wafers are waiting in n stockers from cassette 1 to cassette n, and the residence time of each cassette is displayed. . Furthermore, a preset warning time range for issuing a warning command corresponding to each cassette and a preset minimum time for issuing a stop command are displayed. In addition, the last display field is provided with a process restriction display field that displays a setting as to whether or not to automatically limit the process (processing) to the wafer when a stop command is issued. Has been. The above-mentioned residence time naturally differs for each stocker depending on the time when the cassette is placed on the stocker 14. Further, the warning time and the stop time may be different for each stocker or may be the same depending on the processing mode before the preceding stage of each wafer.

【0026】まず、制御本体25では、この処理システ
ム2の全体の動作を管理しており、そして、当然のこと
としてカセット搬送アーム22やカセット昇降機構16
の動作の各タスクを予め設定されたプログラムに基づい
て制御し、且つその進捗状況もソフトウエア的に管理し
ている。従って、カセットCがストッカ14の棚部14
Aに載置された時、及び棚部14Aから取り上げる時を
ソフトウエア的に正確に認識することができる。まず、
未処理のウエハを収容したカセットCがストッカ14の
棚部14Aに載置されると(S1)、制御本体52はタ
イマ部54を駆動させてそのカセットの滞留時間の計測
を開始させる(S2)。この滞留時間の長さは、図3に
示すように各カセット毎にリアルタイムで表示されてい
る。
First, the control main body 25 manages the entire operation of the processing system 2, and, as a matter of course, the cassette carrying arm 22 and the cassette lifting mechanism 16
Each task of the operation is controlled based on a preset program, and its progress is also managed by software. Therefore, the cassette C is the shelf portion 14 of the stocker 14.
The software can accurately recognize when it is placed on A and when it is picked up from the shelf 14A. First,
When the cassette C containing the unprocessed wafers is placed on the shelf 14A of the stocker 14 (S1), the control body 52 drives the timer unit 54 to start measuring the residence time of the cassette (S2). . The length of the residence time is displayed in real time for each cassette as shown in FIG.

【0027】次に、上記したような未処理のウエハを収
容したカセットCが、上記ストッカ14の棚部14Aか
ら取り上げて搬送されたか否かが判断されており、YE
Sの場合には今まで計測した当該カセットの滞留時間を
ストップする(S4)。すなわち、この場合には、当該
カセットのウエハに対して警報を発するまでもなく短時
間の待機後に処理ユニット40側へ搬送されたことにな
る。ここで上記ステップS4にてNOの場合には、当該
カセットの滞留時間がそのカセット(具体的にはウエ
ハ)に対して予め設定された警告時間の範囲に達したか
否かを判断手段56にて判断する(S5)。ここでNO
の場合、すなわち滞留時間が警告時間に達していない場
合には、ステップS3へ戻る。そして、滞留時間の計測
を継続する。また、YESの場合、すなわち、滞留時間
が警告時間の範囲内に達したならば、警告を発すべくそ
の旨を警報手段58に向けて警告指令を出す。すると、
警報手段58は、警告表示を行い、操作者に対して警告
が発せられたことを認識させる(S6)。ここで警告の
方法としては、例えば警報ランプ62の黄色灯62A
(図1参照)を点滅させたり、図3に示すように表示部
60の警告時間の表示部分を点滅させたりして、操作者
に注意を促す。
Next, it is judged whether or not the cassette C accommodating the above-mentioned unprocessed wafers is picked up from the shelf portion 14A of the stocker 14 and conveyed, and YE
In the case of S, the retention time of the cassette measured so far is stopped (S4). That is, in this case, the wafer in the cassette has been transferred to the processing unit 40 side after a short waiting time without issuing an alarm. If NO in step S4, the determination unit 56 determines whether the residence time of the cassette has reached the preset warning time range for the cassette (specifically, the wafer). (S5). NO here
If, that is, if the residence time has not reached the warning time, the process returns to step S3. Then, the measurement of the residence time is continued. If YES, that is, if the residence time has reached the warning time range, a warning command is issued to the warning means 58 to give a warning. Then,
The alarm means 58 displays a warning and makes the operator recognize that the warning has been issued (S6). Here, as a warning method, for example, a yellow light 62A of the alarm lamp 62 is used.
(See FIG. 1) is blinked, or as shown in FIG. 3, the warning time display portion of the display unit 60 is blinked to call the operator's attention.

【0028】図3に示す場合には、カセット2の滞留時
間が1時間40分(1H40M)になっており、そし
て、警告時間は1時間から2時間(1−2H)の範囲に
設定されているので、従って、滞留時間がすでに警告時
間の範囲内に入っていることから、警告時間である”1
−2H”の表示が点滅して警告を行っている。尚、この
報告表示を認識した操作者は、可能ならば他の待機中の
ウエハに先立ってこの警告が発せられたカセットのウエ
ハを処理する指令を出すことになる。そして、当該カセ
ットがストッカ14から搬送されたか否かが判断され
(S7)、YESの場合にはステップS4へ戻ってその
カセットの滞留時間をストップする。これに対して、N
Oの場合には、滞留時間の計測は継続されて、次に、こ
の滞留時間が中止時間に達したか否かが判断される(S
8)。このステップS8にてNOの場合には、ステップ
S6に戻って先の警告表示を続行することになる。
In the case shown in FIG. 3, the residence time of the cassette 2 is 1 hour 40 minutes (1H40M), and the warning time is set in the range of 1 hour to 2 hours (1-2H). Therefore, it is the warning time because the dwell time is already within the warning time range.
The "-2H" display flashes to give a warning. The operator who recognizes this report display processes the wafer in the cassette in which this warning is issued prior to other waiting wafers if possible. Then, it is determined whether or not the cassette is conveyed from the stocker 14 (S7), and if YES, the process returns to step S4 to stop the retention time of the cassette. , N
In the case of O, the measurement of the residence time is continued, and then it is determined whether or not this residence time has reached the suspension time (S
8). If NO in step S8, the process returns to step S6 to continue the previous warning display.

【0029】これに対して、ステップS8にてYESの
場合には、滞留時間が長過ぎて中止時間に達してしまっ
ているので、判断手段56は処理の中止を警報すべく警
報手段58に対して中止表示を行うように指令を発す
る。これにより、警報手段58は中止表示を行う(S
9)。この中止表示としては、例えば警報ランプ62の
赤色灯62B(図1参照)を点滅させたり、図3に示す
ように表示部60の中止時間の表示部分を点滅させたり
して、操作者に注意を促す。図3に示す場合には、カセ
ット4の滞留時間が3時間20分(3H20M)であっ
て、これが中止時間である3時間(3H)よりも長くな
っているので、表示欄の”3H以上”が点滅して中止表
示を行っている。
On the other hand, in the case of YES in step S8, since the staying time is too long and the stop time has been reached, the judging means 56 instructs the warning means 58 to warn the stop of the processing. And issue a command to display the cancellation. As a result, the alarm means 58 displays a cancellation display (S
9). As the cancellation display, for example, the red lamp 62B (see FIG. 1) of the alarm lamp 62 is blinked, or the cancellation time display portion of the display unit 60 is blinked as shown in FIG. Encourage. In the case shown in FIG. 3, since the residence time of the cassette 4 is 3 hours and 20 minutes (3H20M), which is longer than the suspension time of 3 hours (3H), “3H or more” in the display column. Flashes and is indicating the cancellation.

【0030】このように、処理の中止が判断された場合
には、このカセット4に対してはプロセス制限を”す
る”の設定がなされているので、制御手段56はその旨
を制御本体52に連絡して、カセット4のウエハの処理
を中止するように指令を出す。これにより、カセット4
内のウエハの処理は、自動的に中止されることになる
(S10)。これに対して、プロセス制限を”しない”
の設定がなされている場合、例えばカセット2の場合に
は、上述のような中止表示がなされても、これを認識し
た操作者がマニュアルで当該カセット内のウエハ処理の
中止指令を入力しない限り、順番に従って当該カセット
内のウエハの処理は行われることになる。このようにし
て、ストッカ14内のカセットの滞留時間をカセット毎
に管理することができ、しかも適切な警報を発すること
が可能となる。また、操作者は、上記発せられた警報に
従って、当該カセット内のウエハに対して適切な対処を
行うことが可能となる。
As described above, when it is determined that the processing is to be stopped, the process restriction is set to "on" this cassette 4, and the control means 56 notifies the control main body 52 accordingly. Upon contact, a command is issued to stop processing the wafers in cassette 4. This allows cassette 4
The processing of the inner wafer is automatically stopped (S10). On the other hand, the process limit is "not"
Is set, for example, in the case of the cassette 2, even if the above-mentioned stop display is made, unless the operator who recognizes the stop display manually inputs the stop instruction of the wafer processing in the cassette, The wafers in the cassette are processed in order. In this way, the residence time of the cassette in the stocker 14 can be managed for each cassette, and an appropriate alarm can be issued. Further, the operator can take appropriate measures for the wafers in the cassette in accordance with the issued alarm.

【0031】ここでは、未処理のウエハの滞留時間の管
理について説明したが、同様にして処理済みウエハのス
トッカからの払い出しまでの滞留時間も管理することが
できる。図3中の下段は、処理済みウエハを収容するカ
セットの滞留時間の管理表示を示し、図5は処理済みウ
エハを収容するカセットの管理方法を示すフローであ
る。図3においてはm個の処理済みカセットが滞留時間
の計測の対象となっている場合を示している。この場合
の管理方法は処理の中止の警報をなくした点以外は、図
4に示した未処理ウエハの管理方法と基本的に同じであ
る。
Here, the management of the retention time of unprocessed wafers has been described, but the retention time of processed wafers until they are discharged from the stocker can be similarly controlled. The lower part of FIG. 3 shows a management display of the residence time of the cassette containing the processed wafers, and FIG. 5 is a flow showing the management method of the cassette containing the processed wafers. FIG. 3 shows a case where m processed cassettes are the targets of the residence time measurement. The management method in this case is basically the same as the management method of the unprocessed wafer shown in FIG. 4 except that the alarm of the processing suspension is eliminated.

【0032】すなわち、まず、処理済みのウエハを収容
したカセットCがストッカ14の棚部14Aに載置され
ると(S11)、制御本体52はタイマ部54を駆動さ
せてそのカセットの滞留時間の計測を開始させる(S1
2)。この滞留時間の長さは、図3に示すように各カセ
ット毎にリアルタイムで表示されている。
That is, first, when the cassette C containing the processed wafers is placed on the shelf 14A of the stocker 14 (S11), the control main body 52 drives the timer unit 54 to change the residence time of the cassette. Start measurement (S1
2). The length of the residence time is displayed in real time for each cassette as shown in FIG.

【0033】次に、上記したような処理済みのウエハを
収容したカセットCが、上記ストッカ14の棚部14A
から取り上げて外側載置台18へ搬出されたか否かが判
断されており、YESの場合には今まで計測した当該カ
セットの滞留時間をストップする(S14)。すなわ
ち、この場合には、当該カセットのウエハに対して警報
を発するまでもなく短時間の待機後にこの処理システム
2の外側へ搬出されたことになる。ここで上記ステップ
S14にてNOの場合には、当該カセットの滞留時間が
そのカセット(具体的にはウエハ)に対して予め設定さ
れた警告時間の範囲に達したか否かを判断手段56にて
判断する(S15)。ここでNOの場合、すなわち滞留
時間が警告時間に達していない場合には、ステップS1
3へ戻る。そして、滞留時間の計測を継続する。また、
YESの場合、すなわち、滞留時間が警告時間の範囲内
に達したならば、警告を発すべくその旨を警報手段58
に向けて警告指令を出す。すると、警報手段58は、警
告表示を行い、操作者に対して警告が発せられたことを
認識させる(S16)。ここで警告の方法としては、先
に説明した未処理ウエハの場合と同様に、例えば警報ラ
ンプ62の黄色灯62A(図1参照)を点滅させたり、
図3に示すように表示部60の警告時間の表示部分を点
滅させたりして、操作者に注意を促す。
Next, the cassette C accommodating the processed wafers as described above is transferred to the shelf 14A of the stocker 14.
It is determined whether or not the cassette has been picked up and carried out to the outer placement table 18, and if YES, the retention time of the cassette measured so far is stopped (S14). That is, in this case, it means that the wafer in the cassette is unloaded to the outside of the processing system 2 after waiting for a short time without issuing an alarm. If NO in step S14, the determination unit 56 determines whether the residence time of the cassette has reached the preset warning time range for the cassette (specifically, the wafer). (S15). If NO here, that is, if the residence time has not reached the warning time, step S1
Return to 3. Then, the measurement of the residence time is continued. Also,
In the case of YES, that is, when the residence time reaches the range of the warning time, an alarm means 58 to that effect is issued to issue a warning.
Issue a warning command to. Then, the alarm means 58 displays a warning and makes the operator recognize that the warning has been issued (S16). Here, as the warning method, as in the case of the unprocessed wafer described above, for example, the yellow lamp 62A (see FIG. 1) of the alarm lamp 62 is blinked,
As shown in FIG. 3, the operator is warned by blinking the warning time display portion of the display unit 60.

【0034】図3に示す場合には、処理済カセット3の
滞留時間が2時間(2H)になっており、そして、警告
時間は1時間30分以上(1.5H以上)の範囲に設定
されているので、従って、滞留時間がすでに警告時間の
範囲内に入っていることから、警告時間である”1.5
H以上”の表示が点滅して警告を行っている。尚、この
報告表示を認識した操作者は、可能ならば他の待機中の
ウエハに先立ってこの警告が発せられた処理済カセット
のウエハを処理システム2から搬出する指令を出すこと
になる。
In the case shown in FIG. 3, the residence time of the processed cassette 3 is 2 hours (2H), and the warning time is set in the range of 1 hour 30 minutes or more (1.5H or more). Therefore, the warning time is "1.5 because the dwell time is already within the warning time range."
The "H or more" display flashes to warn the operator. The operator who recognizes this report display, if possible, precedes other waiting wafers by the wafer in the processed cassette for which this warning has been issued. Will be issued from the processing system 2.

【0035】当然のこととして、この処理済みのウエハ
に関しては、すでに処理ユニット40における処理が完
了しているので、処理の中止指令を発することはない。
これによれば、処理済み後のウエハの滞留時間も管理す
ることができ、これにより、処理済み後のウエハに過度
の自然酸化膜が付着することを防止することが可能とな
る。また、上記実施例では、計測手段54としては、タ
イマ部を単独で用いて、制御本体52のプログラムのタ
スクの完了時点を、カセットの滞留時間の計測の開始
点、或いは終点としたが、これに限定されず、カセット
の存否を例えばスイッチ部を用いて検出し、これに基づ
いて滞留時間を計測するようにしてもよい。図6はこの
ような本発明の処理システムの制御系の一部を示すブロ
ック図である。尚、図1に示す構成部分と同一構成部分
については同一符号を付して説明を省略する。
As a matter of course, since the processing unit 40 has already completed the processing of the processed wafer, the processing stop command is not issued.
According to this, it is possible to manage the residence time of the processed wafer, and thereby it is possible to prevent an excessive natural oxide film from adhering to the processed wafer. Further, in the above-described embodiment, the timer unit is used alone as the measuring means 54, and the completion point of the task of the program of the control main body 52 is set as the start point or the end point of the measurement of the residence time of the cassette. However, the presence or absence of the cassette may be detected by using, for example, a switch unit, and the residence time may be measured based on the detection. FIG. 6 is a block diagram showing a part of a control system of such a processing system of the present invention. The same components as those shown in FIG. 1 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0036】ここでは、ストッカ14の各棚部14Aの
上面にスイッチ部として例えばリミットスイッチ70を
設けており、これによりカセットCの有無を検出できる
ようになっている。そして、この検出結果を上記制御本
体52へ入力し、タイマ部54の計測の開始及び終了を
制御するようになっている。また、スイッチ部として
は、このようなリミットスイッチ70に替えて、例えば
レーザ光線等の検出光を発する発光素子と受光素子とに
より、カセットCの有無を検出できるようにした光学セ
ンサ等を用いてもよく、その種類及び構成は問わない。
また、ここでは処理ユニット40として縦型のバッチ式
の処理容器を用いた処理システムを例にとって説明した
が、これに限定されず、横型の処理容器、或いは枚葉式
の処理容器の場合等、ストッカを有する全ての処理シス
テムに本発明を適用することができる。
Here, for example, a limit switch 70 is provided as a switch unit on the upper surface of each shelf 14A of the stocker 14, so that the presence or absence of the cassette C can be detected. Then, this detection result is input to the control main body 52, and the start and end of the measurement of the timer unit 54 are controlled. Further, as the switch unit, an optical sensor or the like that can detect the presence or absence of the cassette C by using a light emitting element that emits detection light such as a laser beam and a light receiving element instead of the limit switch 70 is used. However, the type and the configuration thereof do not matter.
Further, here, the processing system using the vertical batch type processing container as the processing unit 40 has been described as an example, but the present invention is not limited to this, and in the case of a horizontal type processing container or a single-wafer processing container, The present invention can be applied to all processing systems having a stocker.

【0037】更に、半導体ウエハのサイズには限定され
ず、8インチサイズ、300mmサイズのウエハに対し
ても本発明は、同様に適用することができる。また、カ
セットのストッカへの設置位置によらず、カセット自体
に識別符号を付して、これに基づいて滞留時間を管理す
るようにしてもよい。更には、ここでは製品の半導体ウ
エハに対して滞留時間を管理する場合を例にとって説明
したが、ウエハボートには製品ウエハの他に、各種のモ
ニタウエハやダミーウエハも保持されて処理されるの
で、これらのモニタウエハやダミーウエハも上述したと
同様に管理するようにしてもよい。また、ここでは被処
理体として半導体ウエハを例にとって説明したが、これ
に限定されず、ガラス基板、LCD基板等にも本発明を
適用することができる。
Furthermore, the size of the semiconductor wafer is not limited, and the present invention can be similarly applied to wafers of 8 inch size and 300 mm size. Further, the cassette itself may be provided with an identification code regardless of the installation position of the cassette in the stocker, and the residence time may be managed based on this. Furthermore, here, the case where the residence time is managed for the semiconductor wafer of the product has been described as an example, but in addition to the product wafer, various monitor wafers and dummy wafers are held and processed in the wafer boat. These monitor wafers and dummy wafers may be managed in the same manner as described above. Further, although the semiconductor wafer has been described as an example of the object to be processed here, the present invention is not limited to this, and the present invention can be applied to a glass substrate, an LCD substrate and the like.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の処理シス
テム及び被処理体の管理方法によれば、次のように優れ
た作用効果を発揮することができる。請求項1、3、
4、8に係る発明によれば、容器貯留部に貯留されてい
る被処理体の滞留時間を被処理体容器毎に計測手段によ
り計測し、その滞留時間を判断手段にて判断することが
できる。請求項2、9に係る発明によれば、滞留時間に
応じた適切な警報を発するようにしたので、操作者は被
処理体の滞留時間を被処理体容器毎に適切に管理するこ
とができる。請求項5、10に係る発明によれば、操作
者は、被処理体の処理の中止指示を受ける前に、警告指
示を受けることになり、結果的に、この警告された被処
理体を優先的に処理させることにより、過度に自然酸化
膜が被処理体の表面に形成されることを阻止することが
できる。請求項6に係る発明によれば、判断手段が被処
理体の処理の中止を指示した時には、その被処理体の処
理を自動的に中止させることができる。請求項7に係る
発明によれば、処理済みの被処理体の滞留時間も管理す
ることができる。
As described above, according to the processing system and the method of managing an object to be processed of the present invention, the following excellent operational effects can be exhibited. Claims 1, 3,
According to the inventions of 4 and 8, the residence time of the object to be treated stored in the container storage unit can be measured by the measuring means for each of the object containers, and the residence time can be determined by the determining means. . According to the inventions of claims 2 and 9, since an appropriate alarm is issued according to the residence time, the operator can appropriately manage the residence time of the object to be treated for each object container. . According to the invention of claims 5 and 10, the operator receives the warning instruction before receiving the instruction to stop the processing of the object to be processed, and as a result, the object to be processed with the warning is prioritized. Of the natural oxide film can be prevented from being excessively formed on the surface of the object to be processed. According to the sixth aspect of the present invention, when the determination means gives an instruction to stop the processing of the object to be processed, the processing of the object to be processed can be automatically stopped. According to the invention of claim 7, it is possible to manage the residence time of the processed object.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の処理システムを示す概略構成図であ
る。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a processing system of the present invention.

【図2】容器貯留部(ストッカ)に収容されている被処
理体容器(カセット)の一例を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing an example of an object container (cassette) housed in a container storage (stocker).

【図3】警報手段に表示されている表示態様の一例を示
す図である。
FIG. 3 is a diagram showing an example of a display mode displayed on an alarm means.

【図4】未処理ウエハを収容するカセットの管理方法を
示すフローである。
FIG. 4 is a flowchart showing a management method of a cassette that contains unprocessed wafers.

【図5】処理済みウエハを収容するカセットの管理方法
を示すフローである。
FIG. 5 is a flowchart showing a management method of a cassette that contains processed wafers.

【図6】本発明の処理システムの制御系の一部を示すブ
ロック図である。
FIG. 6 is a block diagram showing a part of a control system of the processing system of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 処理システム 6 カセット搬送エリア 8 ウエハ搬送エリア 14 ストッカ(容器貯留部) 14A 棚部 16 カセット昇降機構 18 外側載置台 22 カセット搬送アーム 32 ウエハ移載機構 38 ウエハボート 40 処理ユニット 42 処理容器 44 ボート昇降機構 52 制御本体 54 タイマ部(計測手段) 56 判断手段 58 警報手段 60 表示部 62 警報ランプ 62A 黄色灯 62B 赤色灯 70 リミットスイッチ(スイッチ部) C カセット(被処理体容器) W 半導体ウエハ(被処理体) 2 processing system 6 cassette transfer area 8 Wafer transfer area 14 Stocker (container storage section) 14A shelf 16 cassette lifting mechanism 18 Outside mounting table 22 Cassette transfer arm 32 Wafer transfer mechanism 38 Wafer Boat 40 processing units 42 Processing container 44 Boat lifting mechanism 52 Control body 54 Timer unit (measurement means) 56 Judgment means 58 Warning means 60 Display 62 alarm lamp 62A yellow light 62B red light 70 Limit switch (switch section) C cassette (processing object container) W Semiconductor wafer (Processing object)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5F031 DA17 FA03 JA01 JA45 MA24 MA28 MA29 PA03 PA04 5F045 DP19 EB11 EN05 5H223 AA20 BB01 CC01 CC03 DD07 EE30 FF08    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 5F031 DA17 FA03 JA01 JA45 MA24                       MA28 MA29 PA03 PA04                 5F045 DP19 EB11 EN05                 5H223 AA20 BB01 CC01 CC03 DD07                       EE30 FF08

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の被処理体を収容した被処理体容器
を一時的に容器貯留部に貯留し、前記容器貯留部から前
記被処理体容器を搬送して、搬送後の前記被処理体容器
内の前記被処理体に対して処理ユニットにて所定の処理
を施すようにした処理システムにおいて、 前記被処理体容器が前記容器貯留部に貯留されている滞
留時間を計測する計測手段と、 前記計測手段の結果に基づいて滞留時間の適否を判断す
る判断手段と、 とを備えたことを特徴とする処理システム。
1. A to-be-processed object container containing a plurality of to-be-processed objects is temporarily stored in a container storing section, the to-be-processed object container is transported from the container storing section, and the to-be-processed object after the transfer. In the processing system configured to perform a predetermined process on the object to be processed in the container in the processing unit, a measuring unit that measures the residence time in which the object container is stored in the container storage unit, A processing system comprising: a determination unit that determines whether the residence time is appropriate based on the result of the measurement unit.
【請求項2】 前記判断手段の結果を操作者に知らしめ
る警報手段を有することを特徴とする請求項1記載の処
理システム。
2. The processing system according to claim 1, further comprising alarm means for notifying an operator of the result of the determination means.
【請求項3】 前記計測手段は、ソフトウエア的に前記
滞留時間を計測することを特徴とする請求項1又は2記
載の処理システム。
3. The processing system according to claim 1, wherein the measuring unit measures the residence time by software.
【請求項4】 前記計測手段は、前記容器貯留部に設け
られて前記被処理体容器の有無を検出するスイッチ部
と、前記スイッチ部に連動するタイマ手段よりなること
を特徴とする請求項1又は2記載の処理システム。
4. The measuring unit comprises a switch unit provided in the container storage unit for detecting the presence or absence of the object container, and a timer unit interlocked with the switch unit. Or the processing system according to 2.
【請求項5】 前記判断手段は、前記滞留時間の適否の
判断の結果、前記滞留時間が所定の時間よりも長いこと
を警告する警告指示と、前記貯留されている前記被処理
体の処理を中止する中止指示とを選択的に行うことを特
徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の処理システ
ム。
5. The determination means, as a result of the determination as to whether or not the residence time is appropriate, issues a warning instruction that warns that the residence time is longer than a predetermined time, and processes the stored object to be processed. The processing system according to any one of claims 1 to 4, wherein a stop instruction to stop is selectively issued.
【請求項6】 前記判断手段は、前記中止指示を出力す
る時には、前記被処理体の処理を中止させることを特徴
とする請求項5記載の処理システム。
6. The processing system according to claim 5, wherein the determination means stops the processing of the object to be processed when outputting the stop instruction.
【請求項7】 前記計測手段は、処理済みの前記被処理
体が収容された前記被処理体容器の滞留時間を計測する
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の処
理システム。
7. The processing system according to claim 1, wherein the measuring unit measures a residence time of the processed object container in which the processed object is stored. .
【請求項8】 複数の被処理体を収容した被処理体容器
を一時的に容器貯留部に貯留し、前記容器貯留部から前
記被処理体容器を搬送して、搬送後の前記被処理体容器
内の前記被処理体に対して処理ユニットにて所定の処理
を施すようにした処理システムにおける被処理体の管理
方法において、 前記容器貯留部に貯留されている前記被処理体容器の滞
留時間を計測する工程と、前記滞留時間の計測の結果に
基づいて滞留時間の適否を判断する工程とを有すること
を特徴とする被処理体の管理方法。
8. A processing object container accommodating a plurality of processing objects is temporarily stored in a container storage section, the processing object container is transported from the container storage section, and the processing object after the transfer is performed. In a method of managing an object to be processed in a processing system in which a processing unit performs a predetermined process on the object to be processed in a container, a residence time of the object container stored in the container storage section And a step of determining appropriateness of the residence time based on the result of the measurement of the residence time.
【請求項9】 前記判断する工程の判断結果に応じて所
定の警報を発する工程を有することを特徴とする請求項
8記載の被処理体の管理方法。
9. The method of managing an object to be processed according to claim 8, further comprising the step of issuing a predetermined alarm in accordance with the result of the judgment of the judgment step.
【請求項10】 前記所定の警報は、前記被処理体の処
理の中止を示す中止警報と、前記滞留時間が所定の時間
範囲内にあることを示す警告警報とを有することを特徴
とする請求項9記載の被処理体の管理方法。
10. The predetermined alarm includes a stop alarm indicating stop of processing of the object to be processed and a warning alarm indicating that the residence time is within a predetermined time range. Item 9. A method for managing an object to be processed according to item 9.
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