JP2003036807A - System and method for electron gun surveillance of electron microcope - Google Patents
System and method for electron gun surveillance of electron microcopeInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 27
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims abstract description 46
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 46
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 claims description 24
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 19
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 9
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 8
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 claims description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 6
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 claims description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 17
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 15
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 230000006870 function Effects 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 5
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 3
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 2
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 2
- 229910025794 LaB6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000538 analytical sample Substances 0.000 description 1
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000004092 self-diagnosis Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
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- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Selective Calling Equipment (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電子顕微鏡、特に
電子顕微鏡に使用される電子銃の監視方法および監視装
置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electron microscope, and more particularly to a method and apparatus for monitoring an electron gun used in an electron microscope.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より種々の遠隔監視制御方法および
装置が提案されて来た。2. Description of the Related Art Various remote monitoring control methods and devices have been proposed in the past.
【０００３】特開平１１−１２２６７９号公報には、監
視制御の対象となる諸設備あるいは機器等を独自に管理
する少なくとも１つの現場側監視制御システムと、該諸
設備あるいは機器等を遠方より監視制御する少なくとも
１つのクライアント側端末とを有し、遠隔監視制御を行
う遠隔監視制御方式において、前記現場側監視制御シス
テムに含まれ、前記諸設備あるいは機器等の各々に関す
る状態情報を逐次更新しながら保持する現場側情報保持
手段と、前記クライアント側端末からのアクセス要求に
より、前記現場側情報保持手段から前記現場側情報をダ
ウンロードするとともに、該クライアント側端末より、
ダウンロードされた該現場側情報に応じた監視制御指示
を前記現場側監視制御システムに転送するための通信手
段と、を備えた遠隔監視制御方式が記載されている。Japanese Laid-Open Patent Publication No. 11-122679 discloses at least one on-site supervisory control system that independently manages various facilities or equipment to be subject to supervisory control, and supervises and controls the various facilities or equipment from a distance. In a remote monitoring control method for remote monitoring control, the status monitoring information is included in the field monitoring control system and is maintained while sequentially updating status information about each of the facilities and equipment. By the site side information holding means to perform, and the access request from the client side terminal, while downloading the site side information from the site side information holding means, from the client side terminal,
There is described a remote monitoring control system including a communication means for transferring a downloaded monitoring control instruction according to the downloaded site information to the site monitoring control system.
【０００４】特開平１１−３５３１４５号公報には、監
視対象機器の台数如何に拘わらず監視対象機器の監視を
することのできる機器監視システムが記載されている。Japanese Patent Laid-Open No. 11-353145 discloses a device monitoring system capable of monitoring the monitored devices regardless of the number of monitored devices.
【０００５】特開２０００−１２３７７０号公報には電
子顕微鏡の遠隔監視システムが記載されている。Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-123770 describes a remote monitoring system for an electron microscope.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】電子顕微鏡の電子銃
は、電子顕微鏡の構成部品の中でも重要な要素であり、
特に電子銃で使用される電子発生チップは消耗品であ
り、その監視は電子顕微鏡の稼動率向上にとって重要で
ある。The electron gun of the electron microscope is an important element among the components of the electron microscope.
In particular, the electron generating chip used in the electron gun is a consumable item, and its monitoring is important for improving the operating rate of the electron microscope.
【０００７】本発明は、クライアント（顧客）側に配設
された電子顕微鏡の遠隔監視、特に電子銃の電子発生チ
ップの監視をサービスサーバ側での有するノウハウを活
かして適確に行い、消耗品としての交換時期を明示する
ことによってクライアントに対するサービスを向上さ
せ、以ってクライアント側に配設した電子顕微鏡の稼動
率を向上させる事を目的とする。According to the present invention, remote monitoring of the electron microscope arranged on the client (customer) side, in particular, monitoring of the electron generating chip of the electron gun is accurately performed by utilizing the know-how possessed by the service server side, and it is a consumable item. The purpose of the present invention is to improve the service to the client by clearly indicating the replacement time and to improve the operation rate of the electron microscope arranged on the client side.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明は、電子顕微鏡の
装置状況データとして、電子銃用電源のフィラメント電
流（Ｉｆ），エミッション電流（Ｉｅ），電子引き出し
電圧（Ｖｅｘｔ），加速電圧（Ｖａｃｃ），電子銃部真
空圧（Ｐｏ），試料室真空圧（Ｐｓ），コンデンサレン
ズ電流（Ｉｃ），プローブ電流（Ｉｐ）等から自由に選
択できるデーターベースを構成し、電子顕微鏡の異常検
出の項目とし、最小エミッション電流（Ｉｅ ｍｉ
ｎ），最大引き出し電圧（Ｖｅｘｔ ｍａｘ），最大エ
ミッション電流変動勾配（ΔＩｅ／ｔ），最大引き出し
電圧変動勾配（ΔＶｅｘｔ／ｔ）等が設定できる手段・
方法を設け、これによってクライアントに対し、電子銃
の余寿命推定情報を送信するサービスを行うようにした
ものである。According to the present invention, the filament current (If), emission current (Ie), electron extraction voltage (Vext), acceleration voltage (Vacc) of a power source for an electron gun is used as device status data of an electron microscope. , Electron gun vacuum pressure (Po), sample chamber vacuum pressure (Ps), condenser lens current (Ic), probe current (Ip), etc. , Minimum emission current (Ie mi
n), maximum extraction voltage (Vext max), maximum emission current fluctuation gradient (ΔIe / t), maximum extraction voltage fluctuation gradient (ΔVext / t), etc.
By providing a method, a service for transmitting the remaining life estimation information of the electron gun to the client is provided.
【０００９】なお、前記電子引き出し電圧（Ｖｅｘｔ）
は、通常のタングステン熱電子放射型（Ｗヘアピンフィ
ラメント型あるいはＷポイントフィラメント型）電子銃
やＬａＢ６型熱電子銃の場合は、バイアス電圧（ウェー
ネルト電圧）を意味する。また、ＴｉＯ／Ｗ陰極を用い
た熱電界放出型電子銃や、ＺｒＯ／Ｗ陰極を用いたショ
ットキーエミッション型電子銃（熱電界放出型電子銃の
一つとみなされる場合もある）の場合、およびタングス
テンの冷陰極チップを用いた電子界放出型電子銃では、
エミッション電子流の引き出し電圧を意味している。The electron extraction voltage (Vext)
In the case of a normal tungsten thermoelectron emission type (W hairpin filament type or W point filament type) electron gun or LaB6 type thermoelectron gun, means a bias voltage (Waehnert voltage). In the case of a thermal field emission type electron gun using a TiO / W cathode or a Schottky emission type electron gun using a ZrO / W cathode (which may be regarded as one of thermal field emission type electron guns), and In the electron field emission electron gun using the cold cathode tip of tungsten,
It means the extraction voltage of the emission electron flow.
【００１０】本発明は、具体的には次に掲げる方法およ
び装置を提供する。The present invention specifically provides the following methods and devices.
【００１１】本発明は、試料に電子銃から電子線を照射
して、その試料から発生する情報信号を検出する電子顕
微鏡の監視方法において、クライアントの複数の電子顕
微鏡のそれぞれの稼動状態を示す画像を、クライアント
端末およびネットワークを介してサービスサーバに入力
し、稼動状態を示す画像の中から電子銃用電源のエミッ
ション電流および引き出し電圧を抽出して時間軸に対す
るエミッション電流および引き出し電圧の時々刻々の現
在値データを画面表示し、当該画面には、エミッション
電流についての使用限界値および引き出し電圧について
の使用限界値を画面表示し、現在値データのエミッショ
ン電流の変動速さに基づいて現在値からエミッション電
流についての使用限界値までの電子発生チップの余寿命
を求め、また引き出し電圧の変動速さに基づいて現在値
から引き出し電圧についての使用限界値までの電子発生
チップの推定余寿命を求め、いずれかの推定余寿命で早
く発生する推定余寿命までの到達時間情報をクライアン
ト端末に出力する電子顕微鏡電子銃のフィラメント監視
方法と監視装置を提供する。The present invention is an electron microscope monitoring method for irradiating a sample with an electron beam from an electron gun to detect an information signal generated from the sample, and an image showing the operating state of each of a plurality of electron microscopes of a client. Is input to the service server via the client terminal and the network, and the emission current and extraction voltage of the power supply for the electron gun are extracted from the image showing the operating state, and the emission current and extraction voltage with respect to the time axis The value data is displayed on the screen, the usage limit value for the emission current and the usage limit value for the extraction voltage are displayed on the screen, and the emission current is changed from the current value based on the fluctuation speed of the emission current in the current value data. The remaining life of the electron generation chip up to the The estimated remaining life of the electron generation chip from the current value to the usage limit value for the withdrawal voltage is calculated based on the fluctuation speed of the voltage, and the arrival time information to the estimated remaining life that occurs earlier at any of the estimated remaining lives is obtained. Provided are a filament monitoring method and a monitoring device for an electron microscope electron gun for outputting to a client terminal.
【００１２】本発明は、更に電子発生チップの推奨交換
時期を合わせてクライアント端末に出力する電子顕微鏡
電子銃のフィラメント監視方法と監視装置を提供する。The present invention further provides a filament monitoring method and a monitoring device for an electron microscope electron gun which outputs a recommended replacement time of an electron generating chip to a client terminal.
【００１３】エミッション電流（Ｉｅ）と引き出し電圧
（Ｖｅｘｔ）とはその監視に当たって、それぞれ単独判
断される場合と総合判断する場合とがある。In monitoring the emission current (Ie) and the extraction voltage (Vext), the emission current (Ie) and the extraction voltage (Vext) may be individually determined or may be comprehensively determined.
【００１４】[0014]
【発明の実施の形態】以下、本発明にかかる実施例を図
面に基づいて説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１５】図１は、電子顕微鏡監視システムの概略構
成を示す図である。電子顕微鏡監視システム１００は、
サービス側の遠隔監視装置１と、クライアント（顧客）
側配設のＡ社顕微鏡制御装置２と、およびＢ社顕微鏡制
御装置３とを有する。FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an electron microscope monitoring system. The electron microscope monitoring system 100 is
Service-side remote monitoring device 1 and client (customer)
It has a microscope control device 2 for company A and a microscope control device 3 for company B, which are arranged side by side.
【００１６】遠隔監視装置１は、サービスサーバ４と、
コントロールユニット５を備え、コントロールユニット
５はサービス画面６を備える。The remote monitoring device 1 includes a service server 4 and
A control unit 5 is provided, and the control unit 5 is provided with a service screen 6.
【００１７】Ａ社およびＢ社顕微鏡制御装置２，３は、
それぞれ電子顕微鏡７，８と、Ａ社およびＢ社クライア
ント端末９，１１とを備え、Ａ社およびＢ社クライアン
ト端末９，１１はそれぞれＡコントロール画面１０およ
びＢコントロール画面１２を備える。遠隔監視装置１と
Ａ社およびＢ社顕微鏡制御装置２，３とはネットワーク
である通信回線１４により接続され、サービスサーバ４
とＡ社およびＢ社クライアント端末９，１１間で情報の
授受が可能である。また、遠隔監視装置１は、サービス
指導オペレータ１５により操作される。The microscope control devices 2 and 3 of Company A and Company B are
The electron microscopes 7 and 8 and the A and B company client terminals 9 and 11 are provided, and the A and B company client terminals 9 and 11 are provided with an A control screen 10 and a B control screen 12, respectively. The remote monitoring device 1 and the microscope control devices 2 and 3 of Company A and Company B are connected by a communication line 14 which is a network, and the service server 4
Information can be exchanged between the client terminals 9 and 11 of the A company and the B company. Further, the remote monitoring device 1 is operated by the service guidance operator 15.
【００１８】図２は、通信授受の詳細を示すブロック図
である。図において、遠隔監視装置１は、設定操作入力
部２１と設定操作信号生成部２２と、通信制御部２３
と、サービス画面６を表示するためのパネル表示部２
４，画像表示部２５と、およびサービス画面６を有す
る。FIG. 2 is a block diagram showing details of communication exchange. In the figure, the remote monitoring device 1 includes a setting operation input unit 21, a setting operation signal generation unit 22, and a communication control unit 23.
And the panel display unit 2 for displaying the service screen 6
4, an image display unit 25, and a service screen 6.
【００１９】Ａ社顕微鏡制御装置２およびＢ社顕微鏡制
御装置３は、それぞれ電子顕微鏡（その部分、特に消耗
品を含む）７，８のための設定操作部３１，３４と、Ａ
コントロール画面１０，Ｂコントロール画面１２のため
の画像処理部３２，３５と、および通信制御部３３，３
６とを有する、通信制御部２３と通信制御部３３，３６
とはネットワークである通信回線１４（無線回線でも良
い。）で結ばれる。設定操作部３１，３４は、電子顕微
鏡７，８との間をコントロールライン１６，１７で接続
して遠隔監視装置１から通信回線１４を介して送られて
くるコントロールコマンドに基づいて電子顕微鏡７，８
のフォーカス合わせや分析試料の移動制御，視野探しお
よび消耗品に関するその他の分析条件を設定する。設定
した分析条件は、設定状態信号として通信制御部３３，
３６を介して通信回線１４に送り出され、遠隔監視装置
１に入力される。The microscope control device 2 for company A and the microscope control device 3 for company B respectively have setting operation sections 31 and 34 for electron microscopes (parts thereof, particularly including consumables) 7 and 8, and
Image processing units 32 and 35 for the control screen 10 and B control screen 12, and communication control units 33 and 3
6, the communication control unit 23 and the communication control units 33 and 36
Are connected by a communication line 14 (which may be a wireless line) which is a network. The setting operation units 31 and 34 are connected to the electron microscopes 7 and 8 by control lines 16 and 17, and based on the control command sent from the remote monitoring device 1 via the communication line 14, the electron microscopes 7 and 8. 8
Set the focus adjustment, movement control of the analytical sample, field of view search, and other analysis conditions related to consumables. The set analysis conditions are set as the setting state signal by the communication control unit 33,
It is sent to the communication line 14 via 36 and input to the remote monitoring device 1.
【００２０】このように電子顕微鏡システム１００は、
顧客で使用中の電子顕微鏡７，８において、定期的に装
置の使用条件（調整状態情報）をサービス側であるメー
カのサービスサーバ４に送り、時系列的に情報を保管・
記録しているシステムに接続しており、顧客が電子顕微
鏡を使用するための装置を立ち上げた時に、装置の現状
を表示する画面において、サービスサーバよりアラーム
・調整の指示を表示できるシステムとなっている。As described above, the electron microscope system 100 is
In the electron microscopes 7 and 8 being used by the customer, the usage conditions (adjustment status information) of the device are periodically sent to the service server 4 of the manufacturer on the service side to store the information in time series.
It is connected to the recording system, and when the customer starts up the device to use the electron microscope, it becomes a system that can display alarm / adjustment instructions from the service server on the screen that displays the current status of the device. ing.
【００２１】また、電子顕微鏡のアラーム・調整情報と
して、次の情報から任意に選択できる。Further, the alarm / adjustment information of the electron microscope can be arbitrarily selected from the following information.
【００２２】 サービスオペレータによる、装置の調
整方法のアドバイス事項を表示する機能を有する。The service operator has a function of displaying advice items for adjusting the device.
【００２３】 サービスオペレータによる、消耗品交
換時期を表示する機能を有する。The service operator has a function of displaying a consumable item replacement time.
【００２４】 顧客が必要とした時に、上記を選
択し有償で問い合わせできる機能を有する。When the customer needs it, it has a function of selecting the above and inquiring for a fee.
【００２５】サービスサーバ４は、同種類電子顕微鏡の
複数の稼動データも有し、全装置に対する各装置のバラ
ツキが得られるデータベースを有し、バラツキの大きさ
から各装置の異常検出が容易にできるシステムとされ
る。The service server 4 also has a plurality of operation data of the same type of electron microscope, has a database for obtaining the variation of each device with respect to all the devices, and can easily detect the abnormality of each device from the size of the variation. The system.
【００２６】図３は、電子顕微鏡７，８の概念を示すブ
ロック図である。FIG. 3 is a block diagram showing the concept of the electron microscopes 7 and 8.
【００２７】電子銃は電子発生チップ４０および電源を
備え、電子発生チップ４０はフィラメント４１およびウ
ェーネルト４３のセットにより構成される。The electron gun includes an electron generating chip 40 and a power source, and the electron generating chip 40 is composed of a set of a filament 41 and a Wehnelt 43.
【００２８】電子銃を構成するフィラメント４１から発
生する１次電子線４２はウェーネルト４３およびアノー
ド４４により制御され、加速される。その加速された１
次電子線４２は収束レンズ４５および対物レンズ４８に
よって試料４９に収束される。１次電子線４２に発生す
る非点収差はスティグマコイル４６を用いて補正するこ
とができる。The primary electron beam 42 generated from the filament 41 forming the electron gun is controlled and accelerated by the Wehnelt 43 and the anode 44. That accelerated one
The secondary electron beam 42 is converged on the sample 49 by the converging lens 45 and the objective lens 48. The astigmatism generated in the primary electron beam 42 can be corrected by using the stigma coil 46.
【００２９】走査信号発生器５２からはＸおよびＹ方向
の走査信号が発生し、偏向コイル装置５７に与えられ
る。これによって１次電子線４２は２次元的に偏向さ
れ、したがって試料４９は収束された１次電子線４２に
よって２次元的に走査される。１次電子線４２の走査幅
したがって得られる像の倍率は倍率設定器５３によって
設定される。試料４９からは２次電子や反射電子が発生
するが、そのうちのたとえば２次電子５０は、２次電子
検出器５１によって検出され、電気信号に変換される。
この電気信号は画像取込（メモリ）５４に導入される
が、走査信号発生器５２からのＸおよびＹ方向走査信号
は画像取込装置５４にも導入されるので、２次電子検出
器５１からの電気信号は試料４９の１次電子線４２によ
る走査と同期して画像取込装置５４の対応するメモリ領
域に記憶される。したがって、そのメモリには試料４９
の２次電子像が記憶される。この記憶された像は読み出
してディスプレイ５８に表示することができる。寸法測
定装置５５は画像取込装置５４から読み出された像信号
をもとにして、試料４９を特徴づける特徴値としての試
料４９の所望部分の寸法を測定する。この点は良く知ら
れているもので、その詳細図示は省略されている。The scanning signal generator 52 generates scanning signals in the X and Y directions and supplies them to the deflection coil device 57. As a result, the primary electron beam 42 is two-dimensionally deflected, so that the sample 49 is two-dimensionally scanned by the converged primary electron beam 42. The magnification of the image obtained according to the scanning width of the primary electron beam 42 is set by the magnification setting device 53. Secondary electrons and reflected electrons are generated from the sample 49, of which, for example, the secondary electrons 50 are detected by the secondary electron detector 51 and converted into electric signals.
This electrical signal is introduced into the image capturing (memory) 54, but the X and Y direction scanning signals from the scanning signal generator 52 are also introduced into the image capturing device 54, so that the secondary electron detector 51 Are stored in the corresponding memory area of the image capturing device 54 in synchronization with the scanning of the sample 49 by the primary electron beam 42. Therefore, the sample 49 is stored in the memory.
Secondary electron image is stored. This stored image can be read out and displayed on the display 58. The size measuring device 55 measures the size of a desired portion of the sample 49 as a characteristic value characterizing the sample 49 based on the image signal read from the image capturing device 54. This point is well known, and detailed illustration thereof is omitted.
【００３０】試料４９の同じ箇所は繰りかえし測定さ
れ、それによって得られるその部分の異なる時点での寸
法測定値は寸法測定装置５５に接続された測定結果保存
装置５６に保存される。測定結果保存装置（メモリ）５
６に接続された特徴値補正関数計算手段である補正関数
計算装置５７は測定結果保存装置５６に保存様れている
異なる時点での寸法測定値にもとづいて特徴値補正関数
である補正関数を計算して求め、更にその補正関数にも
とづいて、試料４９の１次電子線４２による照射がない
場合の特徴値である寸法値、したがって試料４９の電子
線照射によるコンタミネーションやチャージアップの影
響のない寸法値を推定する。得られた結果はディスプレ
イ５８に表示されるとともにプリンタ５９によって印刷
される。The same portion of the sample 49 is repeatedly measured, and the dimension measurement values of the portion obtained at different points are stored in the measurement result storage device 56 connected to the dimension measurement device 55. Measurement result storage device (memory) 5
A correction function calculation device 57, which is a feature value correction function calculation means connected to the reference numeral 6, calculates a correction function which is a feature value correction function based on the dimension measurement values stored in the measurement result storage device 56 at different times. Further, based on the correction function, the dimension value which is a characteristic value of the sample 49 when there is no irradiation with the primary electron beam 42, and therefore there is no influence of contamination or charge-up due to the electron beam irradiation of the sample 49. Estimate the dimension value. The obtained result is displayed on the display 58 and printed by the printer 59.
【００３１】電子顕微鏡の電子銃は、電子顕微鏡の構成
部品の中でも重要な構成の１つであり、特に電子発生チ
ップは、消耗品であり、その監視は電子顕微鏡の稼動率
向上にとって重要である。The electron gun of the electron microscope is one of the important components among the components of the electron microscope. In particular, the electron generating chip is a consumable item, and its monitoring is important for improving the operating rate of the electron microscope. .
【００３２】サービスサーバ４は、電子顕微鏡の装置状
況データとして、電子銃のフィラメント電流（Ｉｆ），
エミッション電流（Ｉｅ），電子引き出し電圧（Ｖｅｘ
ｔ），加速電圧（Ｖａｃｃ），電子銃部真空圧（Ｐ
ｏ），試料室真空圧（Ｐｓ）等から自由に選択できるデ
ータベースを有する。The service server 4 uses the filament current (If) of the electron gun as device status data of the electron microscope,
Emission current (Ie), electron extraction voltage (Vex
t), acceleration voltage (Vacc), electron gun vacuum pressure (P
o), the sample chamber vacuum pressure (Ps), etc. have a database that can be freely selected.
【００３３】電子顕微鏡の異常検出の項目として、最小
エミッション電流（Ｉｅ ｍｉｎ），最大引き出し電圧
（Ｖｅｘｔ ｍａｘ），最大エミッション電流変動勾配
（ΔＩｅ／ｔ），最大引き出し電圧変動勾配（ΔＶｅｘ
ｔ／ｔ）等が設定できる。As the items of abnormality detection of the electron microscope, the minimum emission current (Ie min), the maximum extraction voltage (Vext max), the maximum emission current fluctuation gradient (ΔIe / t), and the maximum extraction voltage fluctuation gradient (ΔVex).
t / t) etc. can be set.
【００３４】図４は、時間（ｔ）に対する電子銃用電源
のエミッション電流（Ｉｅ）および引き出し電圧（Ｖｅ
ｘｔ）の関係を示す。この図において、各種記号は次の
内容を示す。FIG. 4 shows the emission current (Ie) and extraction voltage (Ve) of the electron gun power supply with respect to time (t).
xt) is shown. In this figure, various symbols indicate the following contents.
【００３５】
Ｉｅ ｍｉｎ ：Ｉｅからの使用限界値
Ａ１ ：Ｉｅの現在値からの推定余寿命
ΔＡ ：Ｉｅの現在の変動速さ（ΔＩｅ／Δｔ）
Ｖｅｘｔ ｍａｘ：Ｖｅｘｔからの使用限界値
Ｂ１ ：Ｖｅｘｔの現在値からの推定余寿命
ΔＢ ：Ｖｅｘｔの現在の変動速さ（ΔＶｅｘｔ／Δｔ）
電子顕微鏡の装置状況データとして、電子銃のフィラメ
ント電流（Ｉｆ），エミッション電流（Ｉｅ），電子引
き出し電圧（Ｖｅｘｔ），加速電圧（Ｖａｃｃ），電子
銃部真空圧（Ｐｏ），試料室真空圧（Ｐｓ）等から自由
に選択できるデータベースを構成し、電子顕微鏡の異常
検出の項目として、最小エミッション電流（Ｉｅ ｍｉ
ｎ），最大引き出し電圧（Ｖｅｘｔ ｍａｘ），最大エ
ミッション電流変動勾配（ΔＩｅ／ｔ），最大引き出し
電圧変動勾配（ΔＶｅｘｔ／ｔ）等が設定できる。Ie min: Limit value of use from Ie A1: Estimated remaining life from current value of Ie ΔA: Current fluctuation speed of Ie (ΔIe / Δt) Vext max: Limit value of use from Vext B1: Vext Estimated remaining life from current value ΔB: Current fluctuation speed of Vext (ΔVext / Δt) As electron microscope apparatus status data, filament current (If) of electron gun, emission current (Ie), electron extraction voltage (Vext) , An acceleration voltage (Vacc), an electron gun vacuum pressure (Po), a sample chamber vacuum pressure (Ps), and the like are configured as a database, and the minimum emission current (Ie mi
n), maximum extraction voltage (Vext max), maximum emission current variation gradient (ΔIe / t), maximum extraction voltage variation gradient (ΔVext / t), etc. can be set.
【００３６】クライアントの複数の電子顕微鏡７，８の
それぞれの稼動状態を示す画像を、クライアント端末
２，３およびネットワーク１４を介してサービスサーバ
４に入力し、稼動状態を示す画像（画面）の中から電子
銃のエミッション電流および引き出し電圧を抽出して時
間軸に対するエミッション電流および引き出し電圧の時
々刻々の現在値データを画面表示する。An image showing the operating state of each of the plurality of electron microscopes 7 and 8 of the client is input to the service server 4 via the client terminals 2 and 3 and the network 14, and an image (screen) showing the operating state is displayed. The emission current and the extraction voltage of the electron gun are extracted from and the current value data of the emission current and the extraction voltage with respect to the time axis are displayed on the screen every moment.
【００３７】当該画面には、エミッション電流について
の使用限界値および引き出し電圧についての使用限界値
を画面表示する。On this screen, the usage limit value for the emission current and the usage limit value for the extraction voltage are displayed on the screen.
【００３８】現在値データのエミッション電流の変動速
さに基づいて現在値からエミッション電流についての使
用限界値までの電子発生チップの推定余寿命を求め、ま
た引き出し電圧の変動速さに基づいて現在値から引き出
し電圧についての使用限界値までの電子発生チップの推
定余寿命を求める。The estimated remaining life of the electron generating chip from the current value to the use limit value of the emission current is calculated based on the fluctuation speed of the emission current of the current value data, and the current value is calculated based on the fluctuation speed of the extraction voltage. From this, the estimated remaining life of the electron generation chip from the use limit value for the extraction voltage is calculated.
【００３９】いずれかの推定余寿命で早く発生する推定
余寿命までの到達時間情報をクライアント端末に出力す
ることを行う。The arrival time information up to the estimated remaining life, which occurs earlier in any of the estimated remaining lives, is output to the client terminal.
【００４０】電子発生チップの推奨交換時期を合わせて
クライアント端末に出力することを行う。The recommended replacement time of the electronic generation chip is also output to the client terminal.
【００４１】図５は、サービスされた顧客情報提供画面
の１例を示す。ＡまたかＢのコントロール画面１０，１
２の顧客情報６１をクリックすると顧客情報６２および
装置監視情報６３が表示される。装置監視情報６３によ
れば、チップ余寿命が１.５カ月と表示されることが判
る。この表示に合わせて、通常交換に要する時間が必要
であるから電子発生チップの推奨交換時期を表示するこ
とができる。また、装置監視情報６３の提供を有償にし
て、別途契約によって顧客が必要とした時に問い合わせ
るようにしてもよい。その場合、問い合わせることは、
サービスサーバ４に記録され、精算処理される。FIG. 5 shows an example of a serviced customer information providing screen. Control screen 10, 1 for A or B
When customer information 61 of No. 2 is clicked, customer information 62 and device monitoring information 63 are displayed. According to the device monitoring information 63, it can be seen that the remaining chip life is displayed as 1.5 months. In accordance with this display, it is possible to display the recommended replacement time of the electron generating chip because the time normally required for replacement is required. Alternatively, the device monitoring information 63 may be provided for a fee, and an inquiry may be made separately when the customer requires it. In that case, the inquiry is
It is recorded in the service server 4 and settled.
【００４２】また、画面にはＯＫ６４，閉じる６５，詳
細データ表示６６のためのボタンが設けられる。Further, buttons for OK 64, close 65, and detailed data display 66 are provided on the screen.
【００４３】以上のように、電子顕微鏡電子銃の監視装
置は、クライアントの複数の電子顕微鏡のそれぞれの稼
動状態を示す画像を、クライアント端末およびネットワ
ークを介してサービスサーバに入力する入力手段と、稼
動状態を示す画像の中から電子銃用電源のエミッション
電流および引き出し電圧を抽出する手段と、エミッショ
ン電流および引き出し電圧を時間軸に対するエミッショ
ン電流および引き出し電圧の時々刻々の現在値データを
画面表示する現在値画面表示手段とを有し、当該画面に
は、エミッション電流についての使用限界値および引き
出し電圧についての使用限界値を画面表示する使用限界
値画面表示手段を有し、現在値データのエミッション電
流の変動速さに基づいて現在値からエミッション電流に
ついての使用限界値までの電子発生チップの推定余寿命
を求め、また引き出し電圧の変動速さに基づいて現在地
から引き出し電圧についての使用限界値までの電子発生
チップの推定余寿命を求める余寿命推定手段と、いずれ
かの推定余寿命で早く発生する推定余寿命までの達成時
間情報をクライアント端末に出力する出力手段とを有す
る。As described above, the monitoring apparatus for the electron microscope electron gun is operated by the input means for inputting the images showing the operating states of the plurality of electron microscopes of the client to the service server via the client terminal and the network. A means for extracting the emission current and the extraction voltage of the electron gun power supply from the image showing the state, and the current value for displaying the emission current and the extraction voltage with respect to the time axis as the current value of the emission current and the extraction voltage on the screen. And a screen display means, and the screen has a usage limit value screen display means for displaying the usage limit value for the emission current and the usage limit value for the extraction voltage on the screen, and the fluctuation of the emission current of the current value data. Usage limit for emission current from current value based on speed To the estimated remaining life of the electron-generating chip, and the estimated remaining life of the electron-generating chip from the current position to the use limit value of the extracting voltage based on the fluctuation speed of the extracting voltage. And output means for outputting to the client terminal the achievement time information up to the estimated remaining life that occurs earlier in the estimated remaining life.
【００４４】更に、電子発生チップの推奨交換時期を合
わせてクライアント端末に出力する推奨交換時期出力手
段を有する。Further, it has a recommended replacement time output means for outputting the recommended replacement time of the electronic generation chip to the client terminal together.
【００４５】図６は、顧客への情報提供画面例を示す。
この場合、メールヘッダフォーマット６７およびメール
本文フォーマット６８を有する。FIG. 6 shows an example of a screen for providing information to customers.
In this case, it has a mail header format 67 and a mail body format 68.
【００４６】図７は、フローチャートを示す。図におい
て、コントロールＣＲＴを初期状態で表示し（Ｓ１），
自己診断情報を表示し（Ｓ２），メンテ詳細情報指示の
確認（Ｓ３）を判断する。サービスオペレーション情報
の表示を行い（Ｓ４），メンテ対応依頼を判断し（Ｓ
５），顧客要望の有無を判断する（Ｓ６）。顧客要望作
成まとめを行い（Ｓ７），要望をサービスオペレーショ
ンセンターである遠隔監視装置に送信する（Ｓ８）。顧
客は、このサービスによって消耗品、特に電子発生チッ
プの交換を適切に行って通常通り電子顕微鏡の使用（Ｓ
９）を再開することになる。FIG. 7 shows a flowchart. In the figure, the control CRT is displayed in the initial state (S1),
The self-diagnosis information is displayed (S2), and the confirmation of the maintenance detailed information instruction is confirmed (S3). The service operation information is displayed (S4), and the maintenance support request is judged (S4).
5) Determine whether there is a customer request (S6). The customer request creation is summarized (S7), and the request is transmitted to the remote monitoring device which is the service operation center (S8). This service allows customers to properly replace consumables, especially electron-generating chips, and use the electron microscope as usual (S
9) will be restarted.
【００４７】以上述べた実施例では、現在値データのエ
ミッション電流の変動速さに基づいて現在値からエミッ
ション電流についての使用限界値までの電子発生チップ
の推定余寿命を求め、また引き出し電圧の変動速さに基
づいて現在値から引き出し電圧についての使用限界値ま
での電子発生チップの推定余寿命を求める方法と装置に
ついて示した。別の実施例（図示せず）として、前記電
子銃用電源のエミッション電流と引き出し電圧の比（Ｉ
ｅ／Ｖｅｘｔ）またはその逆比（Ｖｅｘｔ／Ｉｅ）を求
めて、時間軸に対する時々刻々の現在値データを画面表
示し、電子発生チップの推定余寿命を求め、クライアン
ト端末に出力する様にしてもよい。これは、ショットキ
ーエミッション型電子銃や冷陰極電界放出電子銃のよう
に、所望のエミッション電流（Ｉｅ）あるいはプローブ
電流（Ｉｐ）を得るために引き出し電圧を必要に応じて
変化させる電子線装置の場合の電子源の寿命推定やメン
テナンスに有効である。また、次のように、（ａ）前記
電子銃用電源が熱電子放射型（タングステンフィラメン
ト式）電子銃の場合は、エミッション電流を抽出して時
間軸に対するエミッション電流の時々刻々の現在値デー
タを画面表示し、電子発生チップの推定余寿命を求める
際、エミッション電流が流れていない状態（０ｍＡ）
か、または所定値の範囲外であることを表示した場合、
（ｂ）熱電界放出型電子銃（ショットキーエミッション
型電子銃含む）の場合は、フィラメント電流を抽出し
て、フィラメント電流が流れていない状態（０ｍＡ）
か、または所定値の範囲外であることを表示した場合、
（ｃ）電界放出型（タングステン冷陰極チップ）電子銃
の場合は、フラッシング時のフィラメント電流を抽出し
て、フィラメント電流が完全に流れていない状態（０ｍ
Ａ）か、または所定値の範囲外であることを表示した場
合には、フィラメントの断線もしくはフィラメント取付
け不備等と判断し、断線もしくはフィラメント取付け不
備等を知らしめる内容をクライアント端末に出力する電
子顕微鏡の電子銃監視方法および電子銃監視装置を提供
するようにしてもよい。In the embodiment described above, the estimated remaining life of the electron generating chip from the current value to the use limit value for the emission current is calculated based on the fluctuation speed of the emission current of the current value data, and the fluctuation of the extraction voltage is obtained. The method and device for obtaining the estimated remaining life of the electron generation chip from the current value to the usage limit value of the extraction voltage based on the speed are shown. As another embodiment (not shown), the ratio of the emission current to the extraction voltage (I
e / Vext) or its inverse ratio (Vext / Ie), the current value data for each time axis is displayed on the screen, the estimated remaining life of the electronically generated chip is calculated, and output to the client terminal. Good. This is an electron beam device that changes the extraction voltage as necessary to obtain a desired emission current (Ie) or probe current (Ip), such as a Schottky emission electron gun or a cold cathode field emission electron gun. In this case, it is effective for estimating the life of the electron source and for maintenance. Further, as described below, (a) when the power source for the electron gun is a thermionic emission type (tungsten filament type) electron gun, the emission current is extracted and the current value data of the emission current with respect to the time axis is displayed every moment. When displaying the screen and obtaining the estimated remaining life of the electron generation chip, no emission current is flowing (0 mA)
Or when it is displayed that it is out of the specified range,
(B) In the case of the thermal field emission type electron gun (including the Schottky emission type electron gun), the filament current is extracted and the filament current is not flowing (0 mA).
Or when it is displayed that it is out of the specified range,
(C) In the case of a field emission type (tungsten cold cathode chip) electron gun, the filament current at the time of flushing is extracted so that the filament current is not completely flowing (0 m
A), or when it is displayed that the value is out of the predetermined range, it is judged that the filament is broken or the filament is not properly attached, and the content for notifying the disconnection or the filament being not attached is output to the client terminal. The electron gun monitoring method and the electron gun monitoring device may be provided.
【００４８】さらに、以上に述べてきたいずれの電子銃
監視装置においても、エミッション電流を抽出して時間
軸に対するエミッション電流の時々刻々の現在値データ
を画面表示し、電子発生チップの推定余寿命を求める
際、時々刻々取得されたエミッション電流値に対応した
電子顕微鏡の画像データも記憶媒体に格納し、必要に応
じてクライアント端末に出力することで、画像データに
よる比較を可能とするようにしてもよい。また、超高真
空を必要とする電子源の場合、電子銃部真空圧を抽出し
て時間軸に対する時々刻々の真空圧データを取得し、真
空圧の変動速さに基づいて現在値から電子銃の使用限界
圧までの推定時間を求め、ベーキング処理等の電子銃部
真空圧改善のメンテナンス必要性を知らしめる内容をク
ライアント端末に出力する電子顕微鏡の電子銃監視方法
と電子銃監視装置を提供するようにしてもよい。Further, in any of the electron gun monitoring devices described above, the emission current is extracted and the present value data of the emission current with respect to the time axis is displayed on the screen to display the estimated remaining life of the electron-generating chip. At the time of obtaining, the image data of the electron microscope corresponding to the emission current value obtained moment by moment is also stored in the storage medium and output to the client terminal as necessary, so that comparison by image data can be made possible. Good. In the case of an electron source that requires ultra-high vacuum, the vacuum pressure of the electron gun is extracted to obtain time-varying vacuum pressure data, and based on the fluctuation speed of the vacuum pressure, the electron gun is used to calculate the current value. The present invention provides an electron gun monitoring method and an electron gun monitoring device for an electron microscope, which obtains an estimated time to reach the operating limit pressure of a device and outputs to the client terminal contents indicating that maintenance is required to improve the electron gun vacuum pressure such as baking processing. You may do it.
【００４９】これにより、メンテナンス性の良い電子銃
監視システムを構築することが可能となる。As a result, it becomes possible to construct an electron gun monitoring system with good maintainability.
【００５０】[0050]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、エミッシ
ョン電流（Ｉｅ）および引き出し電圧（Ｖｅｘｔ）を遠
隔監視する事によって多数ある電子顕微鏡の電子銃の電
子発生チップの余寿命を常時遠隔監視する事ができ、顧
客に対して電子発生チップの交換時期について適切にサ
ービス提供する事ができる。これによって顧客は、電子
発生チップの交換時期を適切に設定し、電子顕微鏡の稼
動率を向上させ得ると共に、通常電子発生チップの余寿
命を予測する煩わしさから解放されることになる。As described above, according to the present invention, by remotely monitoring the emission current (Ie) and the extraction voltage (Vext), the remaining life of the electron generating chips of the electron guns of many electron microscopes can be constantly monitored remotely. Therefore, it is possible to appropriately provide a service to the customer regarding the replacement timing of the electronic generation chip. As a result, the customer can appropriately set the replacement timing of the electron generation chip, improve the operation rate of the electron microscope, and can be freed from the trouble of predicting the remaining life of the normal electron generation chip.
【００５１】また、サービス側にとれば、顧客サービス
を向上させると共に、該サービスを１つの事業として成
立させることが可能になる。On the service side, it becomes possible to improve customer service and establish the service as one business.
【図１】電子顕微鏡監視システムの概略構成図。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an electron microscope monitoring system.
【図２】通信授受の詳細を示すブロック図。FIG. 2 is a block diagram showing details of communication transfer.
【図３】電子顕微鏡の概念を示すブロック図。FIG. 3 is a block diagram showing the concept of an electron microscope.
【図４】時間（ｔ）に対するエミッション電流（Ｉｅ）
および引き出し電圧（Ｖｅｘｔ）の関係を示す図。FIG. 4 Emission current (Ie) with respect to time (t)
The figure which shows the relationship of and extraction voltage (Vext).
【図５】顧客情報提供図面の１例を示す図。FIG. 5 is a diagram showing an example of a customer information provision drawing.
【図６】顧客への情報提供画面例図。FIG. 6 is a diagram showing an example of an information providing screen for customers.
【図７】フローチャート図。FIG. 7 is a flow chart diagram.
１…遠隔監視装置、２…Ａ社顕微鏡制御装置、３…Ｂ社
顕微鏡制御装置、４…サービスサーバ、５…コントロー
ルユニット、６…サービス画面、７，８…電子顕微鏡、
９…Ａ社クライアント端末、１０…Ａコントロール画
面、１１…Ｂ社クライアント端末、１２…Ｂコントロー
ル画面、１４…通信回線、１５…サービス指導オペレー
タ、２１…設定操作入力部、２２…設定操作信号生成
部、２３…通信制御部、２４…パネル表示部、２５…画
像表示部、３１，３４…設定操作部、３２，３５…画像
処理部、３３，３６…通信制御部、４０…電子発生チッ
プ、４１…フィラメント、４２…１次電子、４３…ウェ
ーネルト、５０…２次電子、５８…ディスプレイ。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Remote monitoring device, 2 ... A company microscope control device, 3 ... B company microscope control device, 4 ... Service server, 5 ... Control unit, 6 ... Service screen, 7, 8 ... Electron microscope,
9 ... A company client terminal, 10 ... A control screen, 11 ... B company client terminal, 12 ... B control screen, 14 ... Communication line, 15 ... Service guidance operator, 21 ... Setting operation input section, 22 ... Setting operation signal generation Part, 23 ... Communication control part, 24 ... Panel display part, 25 ... Image display part, 31, 34 ... Setting operation part, 32, 35 ... Image processing part, 33, 36 ... Communication control part, 40 ... Electron generation chip, 41 ... Filament, 42 ... Primary electron, 43 ... Wehnelt, 50 ... Secondary electron, 58 ... Display.
フロントページの続き (72)発明者 山崎 隆 茨城県ひたちなか市大字市毛1040番地 株 式会社日立サイエンスシステムズ内 (72)発明者 北澤 貢 茨城県ひたちなか市大字市毛1040番地 株 式会社日立サイエンスシステムズ内 (72)発明者 平根 賢一 茨城県ひたちなか市大字市毛1040番地 株 式会社日立サイエンスシステムズ内 Ｆターム(参考） 5C030 BB07 BB17 CC04 CC07 5K048 BA21 DC04 EB10 HA01 HA02Continued front page (72) Inventor Takashi Yamazaki 1040 Ichimo, Ichima, Hitachinaka City, Ibaraki Prefecture Inside the company Hitachi Science Systems (72) Inventor Mitsugu Kitazawa 1040 Ichimo, Ichima, Hitachinaka City, Ibaraki Prefecture Inside the company Hitachi Science Systems (72) Kenichi Hirane 1040 Ichimo, Ichima, Hitachinaka City, Ibaraki Prefecture Inside the company Hitachi Science Systems F-term (reference) 5C030 BB07 BB17 CC04 CC07 5K048 BA21 DC04 EB10 HA01 HA02
Claims (20)
試料から発生する情報信号を検出する電子顕微鏡の監視
方法において、 クライアントの複数の電子顕微鏡のそれぞれの稼動状態
を示す画像を、クライアント端末およびネットワークを
介してサービスサーバに入力し、稼動状態を示す画像の
中から電子銃用電源のエミッション電流および引し出し
電圧を抽出して時間軸に対するエミッション電流および
引き出し電圧の時々刻々の現在値データを画面表示し、 当該画面には、エミッション電流についての使用限界値
および引き出し電圧についての使用限界値を画面表示
し、 現在値データのエミッション電流の変動速さに基づいて
現在値からエミッション電流についての使用限界値まで
の電子発生チップの推定余寿命を求め、また引き出し電
圧の変動速さに基づいて現在値から引き出し電圧につい
ての使用限界値までの電子発生チップの推定余寿命を求
め、いずれかの推定余寿命で早く発生する推定余寿命ま
での到達時間情報をクライアント端末に出力することを
特徴とする電子顕微鏡の電子銃監視方法。1. A method of monitoring an electron microscope, which comprises irradiating a sample with an electron beam from an electron gun to detect an information signal generated from the sample, wherein an image showing an operating state of each of a plurality of electron microscopes of a client is displayed. It is input to the service server via the client terminal and the network, and the emission current and extraction voltage of the electron gun power supply are extracted from the image showing the operating state, and the emission current and extraction voltage with respect to the time axis are displayed at the moment. The value data is displayed on the screen, the usage limit value for the emission current and the usage limit value for the extraction voltage are displayed on the screen, and the emission current is changed from the current value based on the fluctuation speed of the emission current in the current value data. Of the estimated remaining life of the electron generation chip up to the usage limit value of The estimated remaining life of the electron generation chip from the current value to the usage limit value of the withdrawal voltage is calculated based on the pressure fluctuation speed, and the arrival time information to the estimated remaining life that occurs earlier in any of the estimated remaining lives is acquired by the client. An electron gun monitoring method for an electron microscope, which is characterized by outputting to a terminal.
試料から発生する情報信号を検出する電子顕微鏡の監視
方法において、 クライアントの複数の電子顕微鏡のそれぞれの稼動状態
を示す画像を、クライアント端末およびネットワークを
介してサービスサーバに入力し、稼動状態を示す画像の
中から電子銃用電源のエミッション電流を抽出して時間
軸に対するエミッション電流の時々刻々の現在値データ
を画面表示し、 当該画面には、エミッション電流についての使用限界値
についての使用限界値を画面表示し、 現在値データのエミッション電流の変動速さに基づいて
現在値からエミッション電流についての使用限界値まで
の電子発生チップの推定余寿命を求め、推定余寿命まで
の到達時間情報をクライアント端末に出力することを特
徴とする電子顕微鏡の電子銃監視方法。2. An electron microscope monitoring method for irradiating a sample with an electron beam from an electron gun to detect an information signal generated from the sample, wherein images showing respective operating states of a plurality of electron microscopes of a client are displayed. Input to the service server via the client terminal and network, extract the emission current of the power supply for the electron gun from the image showing the operating state, display the current value data of the emission current with respect to the time axis on a screen, On the screen, the usage limit value for the usage limit value for the emission current is displayed on the screen, and the electron generation chip from the current value to the usage limit value for the emission current is displayed based on the fluctuation speed of the emission current in the current value data. The feature is that the estimated remaining life is calculated and the arrival time information until the estimated remaining life is output to the client terminal. Electron gun monitoring method for an electronic microscope.
試料から発生する情報信号を検出する電子顕微鏡の監視
方法において、 クライアントの複数の電子顕微鏡のそれぞれの稼動状態
を示す画像を、クライアント端末およびネットワークを
介してサービスサーバに入力し、稼動状態を示す画像の
中から電子銃用電源の引き出し電圧を抽出して時間軸に
対する引き出し電圧の時々刻々の現在値データを画面表
示し、 当該画面には、引し出し電圧についての使用限界値を画
面表示し、 現在値データの引き出し電圧の変動速さに基づいて現在
値から引き出し電圧についての使用限界値までの電子発
生チップの推定余寿命を求め、推定余寿命までの到達時
間情報をクライアント端末に出力することを特徴とする
電子顕微鏡の電子銃監視方法。3. An electron microscope monitoring method for irradiating a sample with an electron beam from an electron gun to detect an information signal generated from the sample, wherein images showing respective operating states of a plurality of electron microscopes of a client are displayed. It is input to the service server via the client terminal and the network, the extraction voltage of the electron gun power supply is extracted from the image showing the operating state, and the current value data of the extraction voltage with respect to the time axis is displayed on the screen. On the screen, the operating limit value for the withdrawal voltage is displayed on the screen, and the estimated remaining life of the electron generation chip from the current value to the operating limit value for the withdrawal voltage is displayed based on the fluctuation speed of the withdrawal voltage of the current value data. The method of monitoring an electron gun for an electron microscope, comprising:
端末に出力することを特徴とする電子顕微鏡の電子銃監
視方法。4. An electron gun monitoring method for an electron microscope according to claim 1, wherein the electron generation tip is output to the client terminal at the same time as the general replacement time.
比（Ｉｅ／Ｖｅｘｔ）またはその逆比（Ｖｅｘｔ／Ｉ
ｅ）を求めて、時間軸に対する時々刻々の現在値データ
を画面表示し、電子発生チップの推定余寿命を求め、ク
ライアント端末に出力することを特徴とする電子顕微鏡
の電子銃監視方法。5. The ratio (Ie / Vext) between the emission current and the extraction voltage of the electron gun power source or the inverse ratio (Vext / I) according to any one of claims 1 to 4.
An electron gun monitoring method for an electron microscope, characterized in that the current value data with respect to the time axis is displayed on the screen to obtain e), the estimated remaining life of the electron generating chip is obtained, and the result is output to the client terminal.
（タングステンフィラメント式）電子銃の場合は、エミ
ッション電流を抽出して時間軸に対するエミッション電
流の時々刻々の現在値データを画面表示し、電子発生チ
ップの推定余寿命を求める際、エミッション電流が流れ
ていない状態（０ｍＡ）か、または所定値の範囲外であ
ることを表示した場合、フィラメントの断線もしくはフ
ィラメント取付け不備等と判断し、断線もしくはフィラ
メント取付け不備等を知らしめる内容をクライアント端
末に出力することを特徴とする請求項１から５のいずれ
かに記載の電子顕微鏡の電子銃監視方法。6. In the case of a thermionic emission type (tungsten filament type) electron gun in the power source for the electron gun, the emission current is extracted and the current value data of the emission current with respect to the time axis is displayed on the screen, When calculating the estimated remaining life of the electron generation chip, if it is displayed that the emission current is not flowing (0 mA) or is out of the predetermined range, it is judged that the filament is broken or the filament is not properly attached Alternatively, the method for monitoring an electron gun of an electron microscope according to any one of claims 1 to 5, characterized in that the content for notifying the imperfect attachment of the filament is output to the client terminal.
電子銃（ショットキーエミッション型電子銃含む）の場
合は、フィラメント電流を抽出して、フィラメント電流
が流れていない状態（０ｍＡ）か、または所定値の範囲
外であることを表示した場合、フィラメントの断線もし
くはフィラメント取付け不備等と判断し、断線もしくは
フィラメント取付け不備等を知らしめる内容をクライア
ント端末に出力することを特徴とする請求項１から５の
いずれかに記載の電子顕微鏡の電子銃監視方法。7. In the case of a thermal field emission type electron gun (including a Schottky emission type electron gun) in the electron gun power source, a filament current is extracted so that the filament current does not flow (0 mA). Alternatively, when it is displayed that the value is out of the range of the predetermined value, it is determined that the filament is broken or the filament is not properly attached, and the content for notifying the disconnection or the filament being not attached is output to the client terminal. 6. The electron gun monitoring method for an electron microscope according to any one of 1 to 5.
（タングステン冷陰極チップ）電子銃の場合は、フラッ
シング時のフィラメント電流を抽出して、フィラメント
電流が流れていない状態（０ｍＡ）か、または所定値の
範囲外であることを表示した場合、フィラメントの断線
もしくはフィラメント取付け不備等と判断し、断線もし
くはフィラメント取付け不備等を知らしめる内容をクラ
イアント端末に出力することを特徴とする請求項１から
５のいずれかに記載の電子顕微鏡の電子銃監視方法。8. In the case of a field emission type (tungsten cold cathode chip) electron gun in the power source for the electron gun, a filament current at the time of flushing is extracted so that the filament current is not flowing (0 mA), or When it is displayed that the value is out of the range of the predetermined value, it is determined that the filament is broken or the filament is not properly attached, and the content for notifying the disconnection or the filament being not attached is output to the client terminal. 6. An electron gun monitoring method for an electron microscope according to any one of 5 above.
試料から発生する情報信号を検出する電子顕微鏡におい
て、 クライアントの複数の電子顕微鏡のそれぞれの稼動状態
を示す画像を、クライアント端末およびネットワークを
介してサービスサーバに入力する入力手段と、稼動状態
を示す画像の中から電子銃用電源のエミッション電流お
よび引し出し電圧を抽出する抽出手段と、エミッション
電流および引き出し電圧を時間軸に対するエミッション
電流および引き出し電圧の時々刻々の現在値データを画
面表示する現在値画面表示手段とを有し、 当該画面には、エミッション電流についての使用限界値
および引き出し電圧についての使用限界値を画面表示す
る使用限界値画面表示手段を有し、 現在値データのエミッション電流の変動速さに基づいて
現在値からエミッション電流についての使用限界値まで
の電子発生チップの推定余寿命を求め、また引き出し電
圧の変動速さに基づいて現在値から引き出し電圧につい
ての使用限界値までの電子発生チップの推定余寿命を求
める余寿命推定手段と、推定余寿命までの到達時間情報
をクライアント端末に出力する出力手段とを有すること
を特徴とする電子顕微鏡の電子銃監視装置。9. An electron microscope for irradiating a sample with an electron beam from an electron gun to detect an information signal generated from the sample, wherein images showing respective operating states of a plurality of electron microscopes of a client are displayed on a client terminal and Input means for inputting to the service server via the network, extraction means for extracting the emission current and the extraction voltage of the electron gun power supply from the image showing the operating state, and the emission current and the extraction voltage for the time axis It has a current value screen display means for displaying current value data of current and extraction voltage momentarily, and the screen displays the usage limit value for emission current and the usage limit value for extraction voltage. Equipped with limit value screen display means, fluctuation speed of emission current of current value data The estimated remaining life of the electron generation chip from the current value to the usage limit value of the emission current is calculated based on the current value, and the estimated lifetime of the electron generation chip from the current value to the usage limit value of the extraction voltage is calculated based on the fluctuation speed of the extraction voltage. An electron gun monitoring device for an electron microscope, comprising: a remaining life estimation means for obtaining an estimated remaining life; and an output means for outputting arrival time information up to the estimated remaining life to a client terminal.
端末に出力する推奨交換時期出力手段を有することを特
徴とする電子顕微鏡の電子銃監視装置。10. The electron gun monitoring device for an electron microscope according to claim 9, further comprising recommended replacement time output means for outputting a recommended replacement time of the electron generating chip to the client terminal together.
て、 前記電子銃用電源のエミッション電流と引き出し電圧の
比（Ｉｅ／Ｖｅｘｔ）またはその逆比（Ｖｅｘｔ／Ｉ
ｅ）を求めて、時間軸に対する時々刻々の現在値データ
を画面表示し、電子発生チップの推定余寿命を求め、ク
ライアント端末に出力する手段を有することを特徴とす
る電子顕微鏡の電子銃監視装置。11. The ratio (Ie / Vext) of the emission current to the extraction voltage of the electron gun power source or its inverse ratio (Vext / I) according to claim 9 or 10.
An electron gun monitoring device for an electron microscope, which has means for displaying e) the current value data on the time axis with respect to the time axis, obtaining the estimated remaining life of the electron generating chip, and outputting it to the client terminal. .
型（タングステンフィラメント式）電子銃の場合は、エ
ミッション電流を抽出して時間軸に対するエミッション
電流の時々刻々の現在値データを画面表示し、電子発生
チップの推定余寿命を求める際、エミッション電流が流
れていない状態（０ｍＡ）か、または所定値の範囲外で
あることを表示した場合、フィラメントの断線もしくは
フィラメント取付け不備等と判断し、断線もしくはフィ
ラメント取付け不備等を知らしめる内容をクライアント
端末に出力する手段を備えたことを特徴とする請求項９
から１１のいずれかに記載の電子顕微鏡の電子銃監視装
置。12. In the electron gun power source, in the case of a thermionic emission type (tungsten filament type) electron gun, the emission current is extracted and the current value data of the emission current with respect to the time axis is displayed on the screen, When calculating the estimated remaining life of the electron generation chip, if it is displayed that the emission current is not flowing (0 mA) or is out of the predetermined range, it is judged that the filament is broken or the filament is not properly attached Alternatively, the apparatus further comprises means for outputting to the client terminal information indicating that the filament is not properly attached.
12. An electron gun monitoring device for an electron microscope according to any one of 1 to 11.
型電子銃（ショットキーエミッション型電子銃含む）の
場合は、フィラメント電流を抽出して、フィラメント電
流が流れていない状態（０ｍＡ）か、または所定値の範
囲外であることを表示した場合、フィラメントの断線も
しくはフィラメント取付け不備等と判断し、断線もしく
はフィラメント取付け不備等を知らしめる内容をクライ
アント端末に出力する手段を備えたことを特徴とする請
求項９から１１のいずれかに記載の電子顕微鏡の電子銃
監視装置。13. A power source for an electron gun, in the case of a thermal field emission type electron gun (including a Schottky emission type electron gun), a filament current is extracted so that the filament current does not flow (0 mA). Alternatively, when it is displayed that the value is out of the range of the predetermined value, it is determined that the filament is broken or the filament is not properly installed, and means for outputting the content indicating the disconnection or the failure to install the filament to the client terminal is provided. An electron gun monitoring device for an electron microscope according to any one of claims 9 to 11.
（タングステン冷陰極チップ）電子銃の場合は、フラッ
シング時のフィラメント電流を抽出して、フィラメント
電流が流れていない状態（０ｍＡ）か、または所定値の
範囲外であることを表示した場合、フィラメントの断線
もしくはフィラメント取付け不備等と判断し、断線もし
くはフィラメント取付け不備等を知らしめる内容をクラ
イアント端末に出力する手段を備えたことを特徴とする
請求項９、または１０、または１１のいずれかに記載の
電子顕微鏡の電子銃監視装置。14. In the power source for the electron gun, in the case of a field emission type (tungsten cold cathode chip) electron gun, a filament current at the time of flushing is extracted so that the filament current is not flowing (0 mA), or When it is displayed that the value is out of the range of the predetermined value, it is determined that the filament is broken or the filament is not properly installed, and a means for outputting information indicating the disconnection or the filament being not installed to the client terminal is provided. An electron gun monitoring device for an electron microscope according to claim 9, 10, or 11.
エミッション電流を抽出して時間軸に対するエミッショ
ン電流の時々刻々の現在値データを画面表示し、電子発
生チップの推定余寿命を求める際、時々刻々取得された
エミッション電流値に対応した電子顕微鏡の画像データ
も記憶媒体に格納し、必要に応じてクライアント端末に
出力することで画像データによる比較を可能とすること
を特徴とする電子顕微鏡の電子銃監視方法。15. The method according to any one of claims 1 to 14,
When the emission current is extracted and the current value data of the emission current with respect to the time axis is displayed on the screen, and when the estimated remaining life of the electron generating chip is obtained, the image data of the electron microscope corresponding to the emission current value acquired with each moment. An electron gun monitoring method for an electron microscope, characterized in that it is also stored in a storage medium and is output to a client terminal as needed to enable comparison by image data.
エミッション電流を抽出して時間軸に対するエミッショ
ン電流の時々刻々の現在値データを画面表示し、電子発
生チップの推定余寿命を求める際、時々刻々取得された
エミッション電流値に対応した電子顕微鏡の画像データ
も記憶媒体に格納し、必要に応じてクライアント端末に
出力することで画像データによる比較を可能とすること
を特徴とする電子顕微鏡の電子銃監視装置。16. The method according to any one of claims 1 to 14,
When the emission current is extracted and the current value data of the emission current with respect to the time axis is displayed on the screen, and when the estimated remaining life of the electron generating chip is obtained, the image data of the electron microscope corresponding to the emission current value acquired with each moment. An electron gun monitoring device for an electron microscope, characterized in that it is also stored in a storage medium and is output to a client terminal as needed to enable comparison by image data.
の試料から発生する情報信号を検出する電子顕微鏡にお
いて、超高真空を必要とする電子源の場合、電子銃部真
空圧を抽出して時間軸に対する時々刻々の真空圧データ
を取得し、真空圧の変動速さに基づいて現在値から電子
銃の使用限界圧までの推定時間を求め、ベーキング処理
等の電子銃部真空圧改善のメンテナンス必要性を知らし
める内容をクライアント端末に出力することを特徴とす
る電子顕微鏡の電子銃監視方法。17. An electron microscope for irradiating a sample with an electron beam from an electron gun to detect an information signal generated from the sample, and in the case of an electron source requiring an ultrahigh vacuum, the electron gun vacuum pressure is extracted. Then, the vacuum pressure data is acquired every moment with respect to the time axis, and the estimated time from the current value to the operating limit pressure of the electron gun is obtained based on the fluctuation speed of the vacuum pressure to improve the vacuum pressure of the electron gun part such as baking processing. A method for monitoring an electron gun of an electron microscope, which outputs to the client terminal the content that informs the need for maintenance of the.
の試料から発生する情報信号を検出する電子顕微鏡にお
いて、超高真空を必要とする電子源の場合、電子銃部真
空圧を抽出して時間軸に対する時々刻々の真空圧データ
を取得し、真空圧の変動速さに基づいて現在値から電子
銃の使用限界圧までの推定時間を求め、ベーキング処理
等の電子銃部真空圧改善のメンテナンス必要性を知らし
める内容をクライアント端末に出力する手段を備えたこ
とを特徴とする電子顕微鏡の電子銃監視装置。18. An electron microscope for irradiating a sample with an electron beam from an electron gun to detect an information signal generated from the sample, and in the case of an electron source requiring an ultrahigh vacuum, the electron gun vacuum pressure is extracted. Then, the vacuum pressure data is acquired every moment with respect to the time axis, and the estimated time from the current value to the operating limit pressure of the electron gun is obtained based on the fluctuation speed of the vacuum pressure to improve the vacuum pressure of the electron gun part such as baking processing. An electron gun monitoring device for an electron microscope, comprising means for outputting to a client terminal information indicating that maintenance is required.
の試料から発生する情報信号を検出する電子顕微鏡にお
いて、クライアントの装置使用状況，代替機の状況，サ
ービスマンのスケジュールおよびチップ推定寿命から、
チップ交換推奨時期を求め、クライアント端末に出力す
ることを特徴とする電子顕微鏡の電子銃監視装置。19. In an electron microscope for irradiating a sample with an electron beam from an electron gun to detect an information signal generated from the sample, the usage status of the client, the status of the alternative machine, the schedule of the serviceman, and the estimated life of the chip. From
An electron gun monitoring device for an electron microscope, which obtains a tip replacement recommended time and outputs it to a client terminal.
の試料から発生する情報信号を検出する電子顕微鏡にお
いて、全クライアントの装置使用状況，チップの余寿命
とチップの交換までの使用時間、等の蓄積したデータを
定期的に統計処理を行い、チップ推定余寿命の算出基準
を校正し、チップ推定寿命の精度を向上させる機能を有
することを特徴とする電子顕微鏡の電子銃監視装置。20. In an electron microscope for irradiating a sample with an electron beam from an electron gun to detect an information signal generated from the sample, the device usage status of all clients, the remaining life of the chip and the usage time until the chip is replaced. An electron gun monitoring device for an electron microscope, which has a function of periodically performing statistical processing on accumulated data such as, and calibrating the calculation standard of the estimated remaining life of the tip to improve the accuracy of the estimated life of the tip.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001218689A JP4035299B2 (en) | 2001-07-18 | 2001-07-18 | Electron microscope electron gun monitoring apparatus and method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003036807A true JP2003036807A (en) | 2003-02-07 |
| JP4035299B2 JP4035299B2 (en) | 2008-01-16 |
Family
ID=19052836
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001218689A Expired - Fee Related JP4035299B2 (en) | 2001-07-18 | 2001-07-18 | Electron microscope electron gun monitoring apparatus and method |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4035299B2 (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008027824A (en) * | 2006-07-25 | 2008-02-07 | Shimadzu Corp | Monitoring method of electron gun filament, and control method |
| WO2020170408A1 (en) * | 2019-02-22 | 2020-08-27 | 株式会社日立ハイテク | Charged particle beam device |
| WO2020240719A1 (en) * | 2019-05-29 | 2020-12-03 | 株式会社日立ハイテク | Charged particle beam device |
| JP2021086658A (en) * | 2019-11-25 | 2021-06-03 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | Electron beam irradiation device, drawing device, and inspection device |
-
2001
- 2001-07-18 JP JP2001218689A patent/JP4035299B2/en not_active Expired - Fee Related
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| JPWO2020240719A1 (en) * | 2019-05-29 | 2020-12-03 | ||
| KR20210144895A (en) | 2019-05-29 | 2021-11-30 | 주식회사 히타치하이테크 | charged particle beam device |
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| JP7356329B2 (en) | 2019-11-25 | 2023-10-04 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | Electron beam irradiation equipment, drawing equipment, and inspection equipment |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
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