JP2003005190A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JP2003005190A
JP2003005190A JP2001190732A JP2001190732A JP2003005190A JP 2003005190 A JP2003005190 A JP 2003005190A JP 2001190732 A JP2001190732 A JP 2001190732A JP 2001190732 A JP2001190732 A JP 2001190732A JP 2003005190 A JP2003005190 A JP 2003005190A
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liquid crystal
multilayer structure
structure film
display device
crystal display
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Pending
Application number
JP2001190732A
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Japanese (ja)
Inventor
Koichi Iwase
孝一 岩瀬
Toshio Sato
敏男 佐藤
Masaaki Matsuda
正昭 松田
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Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
Japan Display Inc
Original Assignee
Hitachi Device Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress the dislocation between substrates and the variation of a cell gap caused by the variation of the position of a columnar spacer due to the application of external force. SOLUTION: The top part of the columnar spacer SOC fixedly formed on the inner surface of one substrate of a pair of substrates SUB1 and SUB2 is positioned in a recessed part LYB of a multi-layered structure film LY that the other substrate has.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に係
り、特に一対の基板の一方に固定的に形成した柱状スペ
ーサで液晶を封入する間隙を規制して外力の印加による
当該間隙の変動を抑制した液晶表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and in particular, a columnar spacer fixedly formed on one of a pair of substrates regulates a gap in which liquid crystal is sealed so that fluctuation of the gap due to application of an external force. The present invention relates to a suppressed liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】薄型・軽量かつ低消費電力の表示装置と
して広く使用されている液晶表示装置は、画素形成用の
各種配線や電極を内面に形成した一対の基板の貼り合わ
せ間隙に液晶を封入して構成される。この種の液晶表示
装置としては、その画素選択方式により様々な形式が知
られている。その一つは、一対の基板のそれぞれの内面
に平行する多数の電極を敷設し、両基板の電極が互いに
交差する如く貼り合わせた単純マトリクス型である。も
う一つは、上記一対の基板の少なくとも一方の内面に薄
膜トランジスタ(TFT)で代表されるスィッチング素
子を形成したアクティブ・マトリクス型である。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display device widely used as a thin, lightweight, and low power consumption display device has a liquid crystal sealed in a bonding gap between a pair of substrates having various wirings and electrodes for forming pixels formed on the inner surface thereof. Configured. Various types of liquid crystal display devices of this type are known depending on the pixel selection method. One of them is a simple matrix type in which a large number of parallel electrodes are laid on the inner surfaces of a pair of substrates and the electrodes of both substrates are laminated so as to intersect with each other. The other is an active matrix type in which a switching element represented by a thin film transistor (TFT) is formed on the inner surface of at least one of the pair of substrates.

【0003】アクティブ・マトリクス型には、そのスィ
ッチング素子として薄膜トランジスタ以外にも、例えば
薄膜ダイオードを用いたTDT型、あるいはMIM型、
その他様々な形式が知られている。また、例えば、薄膜
トランジスタ型にも、一対の基板の両方の内面に画素形
成用の電極や配線を有する、所謂TN型と、一対の基板
の一方の内面にのみ画素形成用の電極や配線を形成し
た、所謂IPS型が知られている。
The active matrix type includes, for example, a TDT type using a thin film diode or a MIM type in addition to a thin film transistor as its switching element.
Various other formats are known. In addition, for example, in the thin film transistor type, a so-called TN type in which electrodes and wirings for pixel formation are provided on both inner surfaces of a pair of substrates, and an electrode and wiring for pixel formation are formed only on one inner surface of the pair of substrates. The so-called IPS type is known.

【0004】図5は薄膜トランジスタをスィッチング素
子として用いたTN型の液晶表示装置の要部構造の一例
を説明する断面図である。図中、SUB1は下側基板、
SUB2は上側基板であり、それぞれの基板の内面には
画素形成のための配線、電極、絶縁層、その他の機能膜
からなる多層構造膜を有する。下側基板SUB1の内面
には、薄膜トランジスタTFTを有し、上側基板SUB
2の内面には共通電極COMや3色のカラーフィルタ層
FIL(FIL(R)、FIL(G)、FIL(B)、
・・FIL(B)は図示されていない)を有している。
FIG. 5 is a sectional view for explaining an example of the main structure of a TN type liquid crystal display device using a thin film transistor as a switching element. In the figure, SUB1 is a lower substrate,
The SUB 2 is an upper substrate, and has a multilayer structure film including wiring for forming pixels, an electrode, an insulating layer, and other functional films on the inner surface of each substrate. A thin film transistor TFT is provided on the inner surface of the lower substrate SUB1, and the upper substrate SUB
A common electrode COM and three color filter layers FIL (FIL (R), FIL (G), FIL (B),
.. FIL (B) is not shown).

【0005】薄膜トランジスタTFTは、図示しない走
査配線に接続する走査電極(ゲート電極)GT、半導体
層AS、ソース電極SD1、ドレイン電極SD2を有
し、ソース電極SD1に接続して画素電極ITO1が形
成されている。その他、ゲート絶縁層GIやパッシベー
ション層PSV1などを有し、薄膜トランジスタTFT
を含めた全面には配向膜ORI1が塗布されて多層構造
膜となっている。図中、参照符号d0,d1,d2,d
3は各層を構成金属膜である。
The thin film transistor TFT has a scan electrode (gate electrode) GT connected to a scan wiring (not shown), a semiconductor layer AS, a source electrode SD1 and a drain electrode SD2, and a pixel electrode ITO1 is formed in connection with the source electrode SD1. ing. Besides, it has a gate insulating layer GI, a passivation layer PSV1, etc., and is a thin film transistor TFT.
An alignment film ORI1 is applied to the entire surface including the above to form a multilayer structure film. In the figure, reference numerals d0, d1, d2, d
Reference numeral 3 is a metal film forming each layer.

【0006】また、上側基板SUB2の内面には、遮光
層であるブラックマトリクスBMで区画された3色のカ
ラーフィルタ層FIL(FIL(R)、FIL(G)、
FIL(B))、パッシベーション層PSV2、ITO
2で示した共通電極(COM)、配向膜ORI2による
多層構造膜が形成されている。図示したように、下側基
板SUB1および上側基板SUB2に有する多層構造膜
の表面には凹凸が形成されている。これら一対の基板の
間に液晶LCが封入されて液晶表示装置が構成される。
Further, on the inner surface of the upper substrate SUB2, color filter layers FIL (FIL (R), FIL (G), FIL (R), FIL (G), which are divided by a black matrix BM as a light shielding layer, are formed.
FIL (B)), passivation layer PSV2, ITO
A common electrode (COM) shown by 2 and a multi-layer structure film including the alignment film ORI2 are formed. As shown in the figure, unevenness is formed on the surface of the multi-layered structure film on the lower substrate SUB1 and the upper substrate SUB2. The liquid crystal LC is sealed between the pair of substrates to form a liquid crystal display device.

【0007】そして、画素電極ITO1と共通電極IT
O2の間に電界をかけることで、その間にある液晶LC
の配向方向が変化し、下側基板SUB1の外表面に貼付
された偏光板POL1を通して入射した光の偏光軸を変
調し、上側基板SUB2の外表面に貼付した偏光板PO
L2から出射する光で画像を表示する。このとき、液晶
層LCの層厚であるセルギャップが変動すると所定の表
示特性が得られなくなるため、上記一対の基板の貼り合
わせ間隙(所謂、セルギャップ)にスペーサと称する間
隙規制部材を介挿している。
Then, the pixel electrode ITO1 and the common electrode IT
By applying an electric field between O2, the liquid crystal LC in between
Of the polarizing plate PO attached to the outer surface of the upper substrate SUB2 by modulating the polarization axis of light incident through the polarizing plate POL1 attached to the outer surface of the lower substrate SUB1.
An image is displayed by the light emitted from L2. At this time, if the cell gap, which is the layer thickness of the liquid crystal layer LC, changes, a predetermined display characteristic cannot be obtained. Therefore, a gap regulating member called a spacer is inserted in the bonding gap (so-called cell gap) between the pair of substrates. ing.

【0008】上記のスペーサとしては、従来からガラス
あるいはプラスチックのビーズ(スペーサビーズ)が広
く用いられて来た。このスペーサビーズは一対の基板を
貼り合わせる前に、スプレイ法などで基板の内面に散布
される。したがって、画素領域を含めた領域にもスペー
サビーズが存在することになり、これが光漏れ等の表示
品質の低下原因の一つとなっていた。このようなスペー
サビーズに代えて、一対の基板の一方の内面で、かつ画
素領域を避けた部分に固定的に間隙規制部材を形成した
ものが開発された。この間隙規制部材は柱状スペーサと
称し、一対の基板の一方の内面上に他方の内面と当接す
る頂上を有する如く、フォトリソグラフィー技法で形成
される。
Glass or plastic beads (spacer beads) have been widely used as the spacers. The spacer beads are sprayed on the inner surfaces of the substrates by a spray method or the like before the pair of substrates are bonded together. Therefore, the spacer beads are also present in the area including the pixel area, which is one of the causes of deterioration of display quality such as light leakage. Instead of such spacer beads, there has been developed one in which a gap regulating member is fixedly formed on the inner surface of one of a pair of substrates and in a portion avoiding the pixel region. This gap regulating member is called a columnar spacer, and is formed by a photolithography technique so as to have a top on one inner surface of a pair of substrates that abuts on the other inner surface.

【0009】柱状スペーサが画素領域にあると、下側基
板SUB1から入射して液晶を通過する光の一部がこの
柱状スペーサを透過して、所謂光漏れを生じ、コントラ
スト等の表示品質の劣化の原因となる。そのため、柱状
スペーサの設置位置は画素領域を避けた部分とされてい
る。
When the columnar spacer is in the pixel region, a part of the light that is incident from the lower substrate SUB1 and passes through the liquid crystal is transmitted through the columnar spacer, so-called light leakage occurs, and the display quality such as contrast is deteriorated. Cause of. Therefore, the installation position of the columnar spacer is a portion avoiding the pixel region.

【0010】図6は従来の液晶表示装置における柱状ス
ペーサの設置位置の一例を説明する要部平面図である。
図6は上側基板から下側基板をみた状態を示し、上側基
板の多層構造膜はブラックマトリクスBMの開口部を外
形で示してある。図中、SUB1は下側基板で、その内
面には走査配線GL、信号配線DL、薄膜トランジスタ
TFT、画素電極ITO1が形成されている。柱状スペ
ーサSOCは画素領域を避けた部分である走査配線GL
あるいは信号配線DLの上に位置するように上側基板の
内面に固定的に形成されている。
FIG. 6 is a plan view of an essential part for explaining an example of the installation position of the columnar spacer in the conventional liquid crystal display device.
FIG. 6 shows a state in which the lower substrate is viewed from the upper substrate, and the multilayer structure film of the upper substrate shows the opening of the black matrix BM as an outline. In the figure, SUB1 is a lower substrate, and scanning lines GL, signal lines DL, thin film transistors TFT, and pixel electrodes ITO1 are formed on the inner surface thereof. The columnar spacer SOC is the scanning line GL which is a portion avoiding the pixel region.
Alternatively, it is fixedly formed on the inner surface of the upper substrate so as to be located above the signal line DL.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】柱状スペーサSOCを
形成した走査配線GLや信号配線DLは、下側基板SB
1の多層構造膜の盛り上がり部分である凸部になるた
め、このような柱状スペーサの配置では一対の基板を貼
り合わせてた後、基板表面の清浄化のための払拭作業等
で次のような現象が起こり易い。
The scanning wiring GL and the signal wiring DL on which the columnar spacer SOC is formed are formed on the lower substrate SB.
In this arrangement of columnar spacers, a pair of substrates are bonded together, and then the wiping operation for cleaning the substrate surface is performed as follows. The phenomenon is likely to occur.

【0012】図7は従来の柱状スペーサの形成位置に起
因する基板ずれ現象を模式的に説明する要部断面図であ
り、(a)はセルギャップ出し工程における加圧前の柱
状スペーサの配置を示し、(b)は払拭時の基板ずれに
伴う柱状スペーサの位置変動を示す。ここでは、上側の
基板SUB2の内面に柱状スペーサSOCを固定的に形
成した場合である。前記したように、多層構造膜LYに
は凹凸(凹部をLYB、凸部をLYTで示す)を有す
る。従来の柱状スペーサSOCは画素領域を避けた部分
として下側基板SUB1に有する多層構造膜LYの凸部
LYT、特に走査配線や信号配線の上部付近に位置し易
い。
FIG. 7 is a cross-sectional view of an essential part for schematically explaining a substrate displacement phenomenon caused by a conventional columnar spacer formation position. FIG. 7A shows the arrangement of columnar spacers before pressurization in a cell gap forming step. 9B shows the positional variation of the columnar spacer due to the displacement of the substrate during wiping. Here, the columnar spacer SOC is fixedly formed on the inner surface of the upper substrate SUB2. As described above, the multi-layered structure film LY has irregularities (recesses are indicated by LYB and convex portions are indicated by LYT). The conventional columnar spacer SOC is likely to be located near the convex portion LYT of the multilayer structure film LY included in the lower substrate SUB1 as a portion avoiding the pixel region, particularly near the upper portion of the scanning wiring or the signal wiring.

【0013】このような液晶表示装置の組み立て工程に
おいて、図7(a)に示したように一対の基板の間に液
晶を封入し、セルギャップ出しのための加圧工程を経て
所定のセルギャップを設定した後、清浄化のために例え
ば表面を布などで払拭する工程がある。このとき、図7
(b)の矢印F1、F2で示したような基板面と平行な
方向でかつ基板面方向に押圧する方向に外力がかかる
と、上基板SUB2の内面に有する柱状スペーサSOC
は下側基板SUB1の多層構造膜LYの凸部LYTから
凹部LYBに滑り落ちる。
In the process of assembling such a liquid crystal display device, liquid crystal is sealed between a pair of substrates as shown in FIG. 7A, and a predetermined cell gap is obtained through a pressurizing process for producing a cell gap. After setting, there is a step of wiping the surface with a cloth for cleaning. At this time,
When an external force is applied in a direction parallel to the substrate surface as indicated by arrows F1 and F2 in (b) and in a direction of pressing in the substrate surface direction, the columnar spacer SOC provided on the inner surface of the upper substrate SUB2.
Is slid down from the convex portion LYT of the multilayer structure film LY of the lower substrate SUB1 to the concave portion LYB.

【0014】その後、外力F1,F2を取り去っても柱
状スペーサSOCは多層構造膜LYの凹部LYBに嵌ま
り込んだ状態となり、以前の凸部LYTに戻らなくな
る。したがって、上下基板間の位置が所定の関係からず
れ、また設定したセルギャップが変動し、所期の表示特
性を維持できなくなる。これが従来からの解決すべき課
題の一つとなっていた。
After that, even if the external forces F1 and F2 are removed, the columnar spacer SOC is fitted in the concave portion LYB of the multilayer structure film LY and does not return to the previous convex portion LYT. Therefore, the positions of the upper and lower substrates deviate from a predetermined relationship and the set cell gap fluctuates, making it impossible to maintain desired display characteristics. This has been one of the problems to be solved in the past.

【0015】本発明の目的は、上記従来における課題を
解消し、外力の印加による柱状スペーサの位置変動に起
因する基板間位置やセルギャップの変動を抑制して所期
の表示特性を維持可能とした液晶表示装置を提供するこ
とにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems in the prior art and to suppress fluctuations in the inter-substrate position and cell gap caused by the fluctuations in the position of the columnar spacer due to the application of an external force to maintain desired display characteristics. Another object of the present invention is to provide the liquid crystal display device.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、一対の基板の一方の内面に固定的に形成
した柱状スペーサの頂上部を他方の基板に有する多層構
造膜の凹部に位置させたことを特徴とする。本発明の典
型的な構成を記述すれば、つぎのとおりである。
In order to achieve the above object, the present invention provides a concave portion of a multilayer structure film having a top of a columnar spacer fixedly formed on one inner surface of a pair of substrates on the other substrate. It is characterized by being located. The typical configuration of the present invention is as follows.

【0017】下側基板と上側基板とからなる一対の基板
の少なくとも一方の基板の内面に画素形成のための配線
と電極および一または複数の絶縁層からなる凹凸表面を
持つ多層構造膜を有し、前記一対の基板の貼り合わせ間
隙に液晶を封入してなる液晶表示装置であって、前記下
側基板または前記上側基板の内面に固定的に形成して対
向する基板の前記多層構造膜に当接する頂上部を有する
如く突出させた柱状スペーサを有し、前記柱状スペーサ
の前記頂上部を前記多層構造膜の凹凸表面の凹部内に着
座させて前記一対の基板の基板面方向への移動を抑制し
た。
At least one of a pair of substrates, a lower substrate and an upper substrate, has a multilayer structure film having an uneven surface formed of wiring and electrodes for forming pixels and one or more insulating layers on the inner surface of at least one of the substrates. A liquid crystal display device in which a liquid crystal is sealed in a bonding gap between the pair of substrates, the liquid crystal display device being fixedly formed on the inner surface of the lower substrate or the upper substrate and applied to the multilayer structure film of the opposing substrates. The columnar spacer is projected so as to have a contacting top, and the top of the columnar spacer is seated in the recess of the uneven surface of the multilayer structure film to suppress the movement of the pair of substrates in the substrate surface direction. did.

【0018】本発明は、上記従来技術で説明したTN型
の薄膜トランジスタ方式液晶表示装置に限るものではな
く、本発明の技術思想を逸脱することなく、種々の変形
が可能である。すなわち、少なくとも柱状スペーサを用
いることのできる各種の液晶表示装置であって、少なく
とも柱状スペーサの頂上部が当接する側の内面に凹凸を
もつ多層構造膜を有する液晶表示装置であれば、どのよ
うな形式や方式の液晶表示装置に大しても同様に適用で
きる。
The present invention is not limited to the TN type thin film transistor type liquid crystal display device described in the above-mentioned prior art, and various modifications can be made without departing from the technical idea of the present invention. That is, what kind of liquid crystal display device can use at least the columnar spacer, and is a liquid crystal display device having a multilayer structure film having irregularities on at least the inner surface on the side where the top of the columnar spacer abuts? The same can be applied to a liquid crystal display device of any type or method.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、実施例の図面を参照して詳細に説明する。図1は本
発明の液晶表示装置の1実施例を説明する柱状スペーサ
の形成位置の模式断面図である。図中、下側基板SUB
1の内面には画素形成のための配線と電極および一また
は複数の絶縁層からなる凹凸表面を持つ多層構造膜LY
を有する。多層構造膜LYの凸部はLYTで示し、凹部
はLYBで示す。上側基板SUB2の内面にも多層構造
膜が形成されているが、図示は省略する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings of the embodiments. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the formation position of columnar spacers for explaining one embodiment of the liquid crystal display device of the present invention. In the figure, the lower substrate SUB
On the inner surface of 1, a multilayer structure film LY having a concavo-convex surface formed of wiring and electrodes for forming pixels and one or more insulating layers
Have. The convex portions of the multilayer structure film LY are indicated by LYT, and the concave portions are indicated by LYB. A multilayer structure film is also formed on the inner surface of the upper substrate SUB2, but the illustration is omitted.

【0020】一対の基板SUB1とSUB2の間隙(セ
ルギャップ)を規制するための柱状スペーサSOCは上
側基板SUB2の内面にフォトリソグラフィー技法によ
り固定的に形成されている。そして、柱状スペーサSO
Cの頂上部は下側基板SUB1の有する多層構造膜LY
の凹部LYB内に着座する位置にある。この多層構造膜
LYは、配線や電極および絶縁層の重畳からなる部分場
合に限らず、複数の絶縁層のみの重畳構造の部分であ
る。このような位置に柱状スペーサSOCの頂上部を配
置することにより、前記の図7で説明したような外力が
印加されても、柱状スペーサSOCはもとの位置に戻
る。そのため、上下基板間の位置ずれは生ぜず、またセ
ルギャップが変動することもなく、所期の表示特性を維
持することができる。
The columnar spacer SOC for regulating the gap (cell gap) between the pair of substrates SUB1 and SUB2 is fixedly formed on the inner surface of the upper substrate SUB2 by the photolithography technique. And the columnar spacer SO
The top of C is the multilayer structure film LY of the lower substrate SUB1.
It is in a position to be seated in the recess LYB. The multilayer structure film LY is not limited to a portion formed by overlapping wirings, electrodes, and insulating layers, but is a portion having a stacked structure including only a plurality of insulating layers. By arranging the top of the columnar spacer SOC at such a position, the columnar spacer SOC returns to the original position even if the external force as described in FIG. 7 is applied. Therefore, the positional displacement between the upper and lower substrates does not occur, the cell gap does not change, and the desired display characteristics can be maintained.

【0021】図2は本発明の液晶表示装置の他の実施例
を説明する柱状スペーサの形成位置の模式断面図であ
る。図中、参照符号Lは配線を示し、図1と同一参照符
号は同一機能部分に対応する。本実施例では、特に、下
側基板SUB1に形成した多層構造膜に一画素あたりの
走査配線や信号配線の何れか又は双方が複線構造を有す
る形式の液晶表示装置に適用したものである。そして、
複線構造の電極Lの間に有する凹部内に柱状スペーサS
OCの頂上部を着座させたものである。本実施例によっ
ても、前記の図7で説明したような外力が印加されて
も、柱状スペーサSOCはもとの位置に戻る。そのた
め、セルギャップが変動することはなく、所期の表示特
性を維持することができる。
FIG. 2 is a schematic sectional view of a columnar spacer forming position for explaining another embodiment of the liquid crystal display device of the present invention. In the figure, reference numeral L indicates wiring, and the same reference numerals as those in FIG. 1 correspond to the same functional portions. The present embodiment is particularly applied to a liquid crystal display device of a type in which one or both of scanning wirings and signal wirings per pixel have a multi-line structure in a multilayer structure film formed on the lower substrate SUB1. And
The columnar spacer S is provided in the recess formed between the electrodes L of the double-line structure.
The top of the OC is seated. Also in this embodiment, the columnar spacer SOC returns to the original position even when the external force described in FIG. 7 is applied. Therefore, the cell gap does not change, and desired display characteristics can be maintained.

【0022】図3は本発明の液晶表示装置における柱状
スペーサの形成位置の具体例を説明する模式平面図であ
る。ここでは、走査配線GLや信号配線DLの上部から
離れた部分、かつ上側基板SUB2に有する多層構造膜
のブラックマトリクスBMで隠された位置に柱状スペー
サSOCを配置してある。図3では、柱状スペーサSO
Cを一画素の周囲に3個のみ示してあるが、これは例示
であり、さらに同様の位置により多くの柱状スペーサS
OCを配置してもよい。また、逆に複数画素毎に1個の
柱状スペーサSOCを配置してもよい。
FIG. 3 is a schematic plan view for explaining a specific example of the formation position of the columnar spacer in the liquid crystal display device of the present invention. Here, the columnar spacers SOC are arranged at the positions apart from the upper portions of the scanning wirings GL and the signal wirings DL and at the positions hidden by the black matrix BM of the multilayer structure film provided on the upper substrate SUB2. In FIG. 3, the columnar spacer SO
Although only three Cs are shown around one pixel, this is an example, and more columnar spacers S are provided at similar positions.
OC may be arranged. On the contrary, one columnar spacer SOC may be arranged for every plurality of pixels.

【0023】図4は本発明の液晶表示装置における柱状
スペーサの形成位置の他の具体例を説明する模式平面図
である。図4は、例えば特開平2000−162646
に開示されたような、走査電極GLおよび信号配線DL
と平行に保持配線HLHDを有する液晶表示装置に柱状
スペーサSOCを配置する場合を説明するものである。
図4に示したように、画素の周囲に複線で配線を有する
場合は、下側基板に形成される多層構造膜の当該複線の
配線間に凹部が形成される。
FIG. 4 is a schematic plan view for explaining another specific example of the formation position of the columnar spacer in the liquid crystal display device of the present invention. FIG. 4 shows, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-162646.
Scan electrodes GL and signal lines DL as disclosed in
The case where the columnar spacer SOC is arranged in the liquid crystal display device having the holding wiring HLHD in parallel with is described.
As shown in FIG. 4, when the wiring is formed in multiple lines around the pixel, a recess is formed between the multiple lines of the multilayer structure film formed on the lower substrate.

【0024】この場合、上記複線の配線間に形成されて
いる凹部内に柱状スペーサSOCの頂上部を位置させる
ことで前記実施例で説明したごとく、外力が印加されて
上下基板が基板面方向にずれた場合でも、当該外力が除
去されたとき、当該柱状スペーサSOCはもとの位置に
戻る。そのため、上下基板間の相対位置にずれは生ぜ
ず、またセルギャップが変動することもなく、所期の表
示特性を維持することができる。
In this case, by arranging the top of the columnar spacer SOC in the recess formed between the above-mentioned double-line wirings, an external force is applied and the upper and lower substrates are moved in the substrate surface direction as described in the above embodiment. Even when the columnar spacer SOC is displaced, when the external force is removed, the columnar spacer SOC returns to the original position. Therefore, the relative positions of the upper and lower substrates are not displaced, the cell gap is not changed, and desired display characteristics can be maintained.

【0025】上記の各実施例では、柱状スペーサを上側
基板またはカラーフィルタ基板側に設けたものとして説
明したが、柱状スペーサは下側基板または薄膜トランジ
スタ基板側に設けても良く、その際の柱状スペーサの頂
上部が対向する上側基板に有する多層構造膜の凹部内に
着座させればよい。
Although the columnar spacers are provided on the upper substrate or the color filter substrate side in each of the above embodiments, the columnar spacers may be provided on the lower substrate or the thin film transistor substrate side. The top may be seated in the recess of the multi-layered structure film which the upper substrate faces.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
一対の基板の一方の内面に固定的に形成した柱状スペー
サの頂上部を他方の基板に有する多層構造膜の凹部内に
位置させたことで、外力の印加による柱状スペーサの位
置変動に起因するセルギャップの変動を抑制して所期の
表示特性を維持可能とした液晶表示装置を提供すること
ができる。
As described above, according to the present invention,
By positioning the tops of the columnar spacers fixedly formed on one inner surface of the pair of substrates in the recesses of the multi-layered structure film on the other substrate, the cells caused by the position variation of the columnar spacers due to the application of external force It is possible to provide a liquid crystal display device that can suppress fluctuations in the gap and maintain desired display characteristics.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の液晶表示装置の1実施例を説明する柱
状スペーサの形成位置の模式断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a formation position of a columnar spacer for explaining one embodiment of a liquid crystal display device of the present invention.

【図2】本発明の液晶表示装置の他の実施例を説明する
柱状スペーサの形成位置の模式断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a columnar spacer formation position for explaining another embodiment of the liquid crystal display device of the present invention.

【図3】本発明の液晶表示装置における柱状スペーサの
形成位置の具体例を説明する模式平面図である。
FIG. 3 is a schematic plan view illustrating a specific example of the formation position of a columnar spacer in the liquid crystal display device of the present invention.

【図4】本発明の液晶表示装置における柱状スペーサの
形成位置の他の具体例を説明する模式平面図である。
FIG. 4 is a schematic plan view illustrating another specific example of the formation position of the columnar spacer in the liquid crystal display device of the present invention.

【図5】薄膜トランジスタをスィッチング素子として用
いたTN型の液晶表示装置の要部構造の一例を説明する
断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating an example of a main part structure of a TN type liquid crystal display device using a thin film transistor as a switching element.

【図6】従来の液晶表示装置における柱状スペーサの設
置位置の一例を説明する要部平面図である。
FIG. 6 is a plan view of relevant parts for explaining an example of the installation position of columnar spacers in a conventional liquid crystal display device.

【図7】従来の柱状スペーサの形成位置に起因する基板
ずれ現象を模式的に説明する要部断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view of relevant parts for schematically explaining a substrate displacement phenomenon caused by a conventional columnar spacer formation position.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

SUB1・・・・下側基板、SUB2・・・・上側基
板、SOC・・・・柱状スペーサ、LY・・・・多層構
造膜、LYB・・・・凹部、LYT・・・・凸部、L・
・・・配線。
SUB1 ... Lower substrate, SUB2 ... Upper substrate, SOC ... Columnar spacer, LY ... Multilayer structure film, LYB ... Recessed portion, LYT ... Relieved portion, L・
···wiring.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 敏男 千葉県茂原市早野3681番地 日立デバイス エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 松田 正昭 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所ディスプレイグループ内 Fターム(参考) 2H089 LA09 NA15 QA14 TA02 TA09 TA12    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Toshio Sato             Hitachi Device, 3681 Hayano, Mobara-shi, Chiba             Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Masaaki Matsuda             Hitachi, Ltd. 3300 Hayano, Mobara-shi, Chiba             Factory Display Group F-term (reference) 2H089 LA09 NA15 QA14 TA02 TA09                       TA12

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下側基板と上側基板とからなる一対の基板
の少なくとも一方の基板の内面に画素形成のための配線
と電極および一または複数の絶縁層からなる凹凸表面を
持つ多層構造膜を有し、前記一対の基板の貼り合わせ間
隙に液晶を封入してなる液晶表示装置であって、 前記下側基板または前記上側基板の内面に固定的に形成
して対向する基板の前記多層構造膜に当接する頂上部を
有する如く突出させた柱状スペーサを有し、 前記柱状スペーサの前記頂上部を前記多層構造膜の凹凸
表面の凹部内に着座させて前記一対の基板の基板面方向
への移動を抑制したことを特徴とする液晶表示装置。
1. A multi-layered structure film having a concavo-convex surface composed of wiring and electrodes for forming pixels and one or a plurality of insulating layers on the inner surface of at least one of a pair of substrates consisting of a lower substrate and an upper substrate. A liquid crystal display device having a liquid crystal enclosed in a bonding gap between the pair of substrates, the multilayer structure film of a substrate fixedly formed on an inner surface of the lower substrate or the upper substrate and facing each other. A columnar spacer that protrudes so as to have an apex that abuts against each other, and the apex of the columnar spacer is seated in the concave portion of the uneven surface of the multilayer structure film to move the pair of substrates in the substrate surface direction. A liquid crystal display device characterized in that
【請求項2】前記下側基板に形成した多層構造膜に薄膜
トランジスタと前記薄膜トランジスタを選択的にオン/
オフさせるための走査配線、信号配線および画素電極を
有し、 前記上側基板に形成した多層構造膜に前記画素電極に対
向する共通電極とブラックマトリクスで区画されたカラ
ーフィルタ層、および柱状スペーサを有し、 前記下側基板の前記多層構造膜に有する前記走査配線と
信号配線および画素電極の間に有する凹部内に前記柱状
スペーサの頂上部を着座させたことを特徴とする請求項
1に記載の液晶表示装置。
2. A thin film transistor and the thin film transistor are selectively turned on / off in a multilayer structure film formed on the lower substrate.
It has a scanning wiring for turning off, a signal wiring, and a pixel electrode, and a common electrode facing the pixel electrode, a color filter layer partitioned by a black matrix, and a columnar spacer are provided on the multilayer structure film formed on the upper substrate. The top of the columnar spacer is seated in a recess formed between the scanning wiring, the signal wiring, and the pixel electrode in the multilayer structure film of the lower substrate. Liquid crystal display device.
【請求項3】前記下側基板に形成した多層構造膜に有す
る一画素あたりの前記走査配線と信号配線のそれぞれが
複線構造を有し、 前記複線構造の間に有する凹部内に前記柱状スペーサの
頂上部を着座させたことを特徴とする請求項2に記載の
液晶表示装置。
3. The scanning wiring and the signal wiring per pixel, which are included in the multilayer structure film formed on the lower substrate, each have a double-line structure, and the columnar spacers are formed in the recesses formed between the double-line structures. The liquid crystal display device according to claim 2, wherein the top is seated.
【請求項4】前記下側基板に形成した多層構造膜に薄膜
トランジスタと前記薄膜トランジスタを選択的にオン/
オフさせるための走査配線、信号配線、画素電極および
対向電極を有し、 前記上側基板に形成した多層構造膜にブラックマトリク
スで区画されたカラーフィルタ層、および柱状スペーサ
を有し、 前記下側基板の前記多層構造膜に有する前記走査配線と
信号配線および画素電極の間の凹部内に前記上側基板に
固定的に形成した前記柱状スペーサの頂上部を着座させ
たことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
4. A thin film transistor and the thin film transistor are selectively turned on / off in a multilayer structure film formed on the lower substrate.
Scan line for turning off, signal line, pixel electrode and counter electrode, color filter layer partitioned by a black matrix in a multilayer structure film formed on the upper substrate, and columnar spacers, the lower substrate 2. The top of the columnar spacer fixedly formed on the upper substrate is seated in the concave portion between the scanning wiring, the signal wiring, and the pixel electrode included in the multilayer structure film. The described liquid crystal display device.
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