JP2002532714A - Method and apparatus for detecting spatial structural features of a crystal - Google Patents

Method and apparatus for detecting spatial structural features of a crystal

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JP2002532714A
JP2002532714A JP2000588595A JP2000588595A JP2002532714A JP 2002532714 A JP2002532714 A JP 2002532714A JP 2000588595 A JP2000588595 A JP 2000588595A JP 2000588595 A JP2000588595 A JP 2000588595A JP 2002532714 A JP2002532714 A JP 2002532714A
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Abstract

(57)【要約】 導電性結晶(1)、特に半導体、の空間構造の特徴を検出するために、結晶に測定電流が供給され、電流入口(4)とは異なる結晶個所(3)で電荷分布の測定が行われる。測定された電荷分布と標準分布との関係から空間構造特徴に関する情報が獲得される。定義された時間的空間構造変化を生成するために結晶が音響振動、特に超音波(24)の影響、に曝され、これが測定される。そのために適した装置は、結晶に電流を導入するためのソース電極(4)と、結晶から電流を取り出すためのドレイン電極(3)と、測定された電流から結晶の空間構造に関する情報を獲得するための電子評価回路(20)とを備えた導電性結晶構造(1)からなる。 (57) [Summary] In order to detect the characteristics of the spatial structure of a conductive crystal (1), especially a semiconductor, a measured current is supplied to the crystal, and a charge is applied at a crystal location (3) different from the current inlet (4). A measurement of the distribution is made. Information on the spatial structure features is obtained from the relationship between the measured charge distribution and the standard distribution. The crystal is exposed to acoustic vibrations, especially the effects of ultrasound (24), to produce a defined spatiotemporal structural change, which is measured. Apparatus suitable for that purpose is a source electrode (4) for introducing a current into the crystal, a drain electrode (3) for extracting a current from the crystal, and obtaining information on the spatial structure of the crystal from the measured current. And a conductive crystal structure (1) provided with an electronic evaluation circuit (20).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION

本発明は、導電性結晶、特に半導体、の空間構造の特徴を検出するための方法
およびこの方法を実施するための装置に関する。
The present invention relates to a method for detecting the features of the spatial structure of a conductive crystal, in particular a semiconductor, and an apparatus for carrying out this method.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior art]

結晶格子の構造特徴はさまざまな方法で調査し検出することができる。容易に
思い付く方法は構造の直接的“観察”、すなわち電子顕微鏡を使った調査である
。別の公知の方法はX線構造解析である。きわめてコストがかかり従って高価な
装置が公知のいずれの方法にも必要とされ、調査全体が行われねばならない場合
にのみこれらの装置の真価が発揮される。
The structural features of the crystal lattice can be investigated and detected in various ways. A readily conceivable method is direct "observation" of the structure, ie, investigation using an electron microscope. Another known method is X-ray structural analysis. Extremely costly and therefore expensive devices are required for any of the known methods, and the value of these devices only comes into play when the entire investigation has to be carried out.

【0003】 しかし、あらゆる細部にわたって空間構造を調査することは特定用途にのみ必
要とされる。結晶構造に関する明確な情報を得るには若干の特定構造特徴を検出
すれば間に合う。
However, investigating the spatial structure in every detail is only required for certain applications. To obtain clear information about the crystal structure, it is sufficient to detect some specific structural features.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the invention]

本発明の課題は、コストのかかる装置を必要とすることなく結晶構造の特徴を
ごく簡単に検出することのできる方法を示すことである。
It is an object of the present invention to show a method in which the features of the crystal structure can be detected very easily without the need for costly equipment.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

本発明によれば、結晶に測定電流が供給され、電流入口とは異なる結晶個所で
電荷分布の測定が行われ、測定された電荷分布と標準分布との関係から空間構造
に関する情報が獲得されることによって、この課題は解決される。
According to the present invention, a measurement current is supplied to a crystal, a charge distribution is measured at a crystal location different from a current inlet, and information on a spatial structure is obtained from a relationship between the measured charge distribution and a standard distribution. This will solve this problem.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

以下、添付図面に基づいて本発明の実施例が説明される。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

【0007】 図1に示す結晶1は、例えば半導体部品内でいわゆるチップとして見られるよ
うな半導体層の一部を概略的に示す。結晶は下面に個々の電気絶縁電極3を備え
ており、これらの電極は電流出口またはドレインとして接続されている。上面に
配置された全面電極4は電流入口またはソースとして働く。
The crystal 1 shown in FIG. 1 schematically shows a part of a semiconductor layer such as, for example, a so-called chip in a semiconductor component. The crystal is provided with individual electrically insulating electrodes 3 on the underside, which are connected as current outlets or drains. The full-surface electrode 4 arranged on the upper surface serves as a current inlet or source.

【0008】 知られているように、電子5が電極4から結晶を通過してドレイン3へと移動
することにより、結晶内での電気の流れが起こる。この過程で電子は結晶の格子
構造内で多かれ少なかれ転向されることがある。矢印7〜9はさまざまな電子経
路を示す。経路7では、ソースの個所で結晶に入射する電子が最短経路で、入射
個所とは反対側のドレインに達する。
As is known, the movement of electrons 5 from the electrode 4 through the crystal to the drain 3 causes a flow of electricity in the crystal. During this process, electrons may be more or less diverted within the lattice structure of the crystal. Arrows 7-9 indicate various electron paths. In the path 7, electrons incident on the crystal at the source point are the shortest paths and reach the drain opposite to the incident point.

【0009】 空間電荷の変化を生じる結晶中の欠陥個所6で電子は転向され、直線的経路と
は異なる軌道8を通り、入射個所とは正反対の他のドレインに達する。別の事例
では電子に対する欠陥の作用が強く、電子がかなり転向された軌道9を通り、結
晶の反対側のドレインにまったく到達しないことがある。
At the defect location 6 in the crystal that causes a change in space charge, the electrons are turned and follow a trajectory 8 different from the linear path to the other drain, which is directly opposite the incidence location. In other cases, the effect of the defect on the electrons is so strong that the electrons may pass through a highly diverted trajectory 9 and not reach the drain on the other side of the crystal at all.

【0010】 入口側のソース電極4は一面として構成しておかねばならないのではなく、複
数の個別電極で構成することができる。ソース電極もドレイン電極もマトリック
ス状に、または特定の応用に応じて、例えば符号化を目的に、可変配置しておく
ことができる。
[0010] The source electrode 4 on the entrance side does not have to be formed as one surface, but can be formed of a plurality of individual electrodes. Both the source and drain electrodes can be variably arranged in a matrix or depending on the particular application, for example for coding purposes.

【0011】 結晶中の欠陥個所6はさまざまな性質のものであり、例えば、不純物原子、格
子欠陥等の結晶格子中に存在する欠陥、または機械振動もしくは音響振動等のそ
の他の影響によって引き起こされる結晶格子の変化、例えば振動節点から振動材
料への移行でありうる。
The defect locations 6 in the crystal are of various natures, for example, defects present in the crystal lattice, such as impurity atoms, lattice defects, or crystals caused by other effects, such as mechanical or acoustic vibrations. The change in the lattice may be, for example, a transition from a vibrating node to a vibrating material.

【0012】 従って、ドレイン3に到来する電荷担体(電子)5の分布は結晶構造の写像で
ある。欠陥のない理想結晶中では電荷担体の分布は精確に均一であろう。偏差は
いずれも欠陥を指摘するものである。経験で得られた数値を基に偏差の種類から
欠陥の種類を逆推論することができる。
Thus, the distribution of charge carriers (electrons) 5 arriving at the drain 3 is a mapping of the crystal structure. In a defect-free ideal crystal, the distribution of charge carriers will be exactly uniform. Any deviation points to a defect. The type of defect can be inferred from the type of deviation based on the numerical values obtained by experience.

【0013】 特に、明白な格子欠陥に基づく偏差を補い、こうして結晶を外部影響による欠
陥用のセンサとして利用可能とすることが可能である。これは、実際の個別的格
子構造を有する結晶の偏差を同種結晶の散乱特性と比較することにより行われる
。しかしこの同種結晶は散乱のない理想的固有格子構造を有し、それゆえに比較
標準として利用できる。従って、両者間の測定差は与えられた外部条件のもとで
実際の結晶の個性を表す。
In particular, it is possible to compensate for deviations due to apparent lattice defects, thus making the crystal usable as a sensor for defects due to external influences. This is done by comparing the deviation of the crystal with the actual individual lattice structure with the scattering properties of the same kind of crystal. However, this homogeneous crystal has an ideal intrinsic lattice structure without scattering, and can therefore be used as a reference standard. Thus, the measured difference between the two represents the individuality of the actual crystal under given external conditions.

【0014】 この測定差は、将来の測定のためにこの実際の結晶を初期化するための基準と
して、例えば記憶可能な半導体チップである場合結晶自体内に、記憶される。選
択的に、外的作用による結晶格子欠陥を引き続き測定する場合、記憶されたパラ
メータはこうして、測定結果に影響する個別的結晶特性を消去しもしくは釣り合
わせるのに利用することができる。
This measurement difference is stored as a reference for initializing this actual crystal for future measurements, for example, in the case of a storable semiconductor chip, in the crystal itself. Optionally, if the crystal lattice defects due to external effects are subsequently measured, the stored parameters can thus be used to eliminate or balance the individual crystal properties that affect the measurement result.

【0015】 ドレインでの電荷分布の測定はさまざまな仕方で行うことができる。ソースは
、後続の電気走査のためのコンデンサまたはトランジスタとして構成しておくこ
とができる。
Measurement of the charge distribution at the drain can be performed in various ways. The source can be configured as a capacitor or transistor for subsequent electrical scanning.

【0016】 特に好ましいのは、信号をすでに予め増幅する電界効果トランジスタとしてソ
ースを構成することである。この好ましい実施形態を図2に示す。半絶縁材料か
らなる支持体18上に導電性材料からなる層17が被着されている。この導電性
基板に、1つのソース10’と複数のドレイン12と1つのゲート16とからな
る一連の電界効果トランジスタが形成されている。ソース10’はソースコンタ
クト11を備えており、ドレイン12は動作電位に接続するためのドレインコン
タクト13を備えている。同様に、ゲート16はゲートコンタクト19を備えて
いる。
It is particularly preferred to configure the source as a field-effect transistor that already amplifies the signal. This preferred embodiment is shown in FIG. A layer 17 made of a conductive material is applied on a support 18 made of a semi-insulating material. On the conductive substrate, a series of field effect transistors each including one source 10 ′, a plurality of drains 12, and one gate 16 are formed. The source 10 'has a source contact 11, and the drain 12 has a drain contact 13 for connecting to an operating potential. Similarly, the gate 16 has a gate contact 19.

【0017】 ソース10’とドレイン12が動作電位に接続されていると、電荷担体14は
導電性チャネル15の領域内で結晶格子構造を貫通する。実際の結晶格子の現象
とそのさまざまな封入欠陥とで電荷担体が転向もしくは散乱することによって、
個々のドレインが異なる特徴的電位を受け取り、これらの電位はその総体として
結晶について評価可能な代表的電荷像を形成する。評価回路20でドレインの電
位が測定され、格子構造の特性を写像する分布へと処理される。
When the source 10 ′ and the drain 12 are connected to the operating potential, the charge carriers 14 penetrate the crystal lattice structure in the region of the conductive channel 15. Due to the turning or scattering of charge carriers by the actual crystal lattice phenomenon and its various encapsulation defects,
The individual drains receive different characteristic potentials, which collectively form a representative charge image that can be evaluated for the crystal. The evaluation circuit 20 measures the potential of the drain and processes it into a distribution that maps the characteristics of the lattice structure.

【0018】 具体的実施において結晶性基板は、図示した3つではなく、大量の例えば64
のドレインを含む。個々の電界効果トランジスタはごく密にパッケージングして
ボンディングすることができる。
In a specific implementation, the number of crystalline substrates is not three as shown, but a large number, for example, 64.
Including drain. Individual field effect transistors can be packaged and bonded very tightly.

【0019】 すでに触れたように、結晶の固有構造特徴も外的影響に基づく構造変化も上記
方法で検出することができる。結晶構造を一時的に変化させる外的影響の態様は
、例えば結晶に超音波を負荷することである。超音波の作用によって結晶に機械
振動を励起することが知られている。これは空間格子構造の周期的変化にほかな
らない。これらの変化は、結晶内を流れる電流の電荷分布に対してもしくは電界
効果トランジスタの制御に対して前記作用を有する欠陥に相当する。従って、結
晶は超音波用センサとして利用することができる。評価は、構造特徴の検出に関
してすでに述べたのと同様に行われる。
As already mentioned, both intrinsic structural features of crystals and structural changes due to external influences can be detected by the above method. An aspect of the external influence that temporarily changes the crystal structure is, for example, applying ultrasonic waves to the crystal. It is known to excite mechanical vibrations in crystals by the action of ultrasonic waves. This is nothing but a periodic change in the spatial lattice structure. These changes correspond to defects having the above-mentioned effect on the charge distribution of the current flowing in the crystal or on the control of the field-effect transistor. Therefore, the crystal can be used as an ultrasonic sensor. The evaluation is performed in the same way as described above for the detection of structural features.

【0020】 特定の構造で反射または散乱された超音波は干渉パターンの態様でこの構造に
関する情報を有する。このような超音波で結晶を励起して振動させる場合、情報
は結晶格子構造の周期的変化に転用される。換言するなら、結晶中の一時的欠陥
は超音波を反射しまたは後方散乱させる構造の写像である。従って、センサとし
ての結晶において、読み出しを行う電界効果トランジスタで直接に、超音波を反
射する構造に関する情報を検出することができる。
Ultrasound reflected or scattered at a particular structure has information about this structure in the form of an interference pattern. When a crystal is excited and vibrated by such an ultrasonic wave, information is diverted to a periodic change of a crystal lattice structure. In other words, a temporary defect in the crystal is a mapping of a structure that reflects or backscatters ultrasound. Therefore, in the crystal serving as the sensor, it is possible to directly detect information on the structure that reflects the ultrasonic wave by the field-effect transistor that performs reading.

【0021】 これは、超音波で走査される構造を直接検出するために半導体結晶をチップの
態様で利用するうえで特別に重要である。図3は指の上皮構造の超音波走査と、
いわゆるチップカード37上に含まれた半導体部品による、後方散乱もしくは反
射超音波に含まれた情報の検出を示す。図3に示す実施例の場合、指25の指頭
腹面が意識的に短時間、チップカード37の生体測定検査を行う適応面36に押
し付けられる。
This is of particular importance in using semiconductor crystals in the form of chips to directly detect structures scanned by ultrasound. FIG. 3 shows an ultrasound scan of the finger epithelium
This shows detection of information contained in backscattered or reflected ultrasonic waves by a semiconductor component contained on a so-called chip card 37. In the case of the embodiment shown in FIG. 3, the finger pad abdominal surface of the finger 25 is consciously pressed against the adaptive surface 36 of the chip card 37 on which the biometric test is performed.

【0022】 人物の検証目的もしくは識別目的のために指頭腹面の表皮中の上皮構造26を
走査することがDE−A−4222387に記載されている。ただしそこに述べ
られたシステムはまったく特定の構成においてのみ利用可能であり、一連の最重
要な用途、特にチップカードの検証に対して選択することができる。
DE-A-42222387 describes scanning epithelial structures 26 in the epidermis of the ventral fingertip for the purpose of verifying or identifying a person. However, the system described there is only available in a very specific configuration and can be selected for a series of most important applications, especially for the verification of chip cards.

【0023】 偽造・不正使用防止およびデータ保護のあらゆる要求条件を満足するチップカ
ードの検証も、本発明と組合せてはじめて可能となる。
Verification of a chip card that satisfies all requirements for forgery / illegal use prevention and data protection is also possible only in combination with the present invention.

【0024】 図3に示す配置はDE−A−4222387により公知となった構成に部分的
に一致しているが、ただし主要な違いとして光またはその他の所定の電磁波で干
渉する超音波の走査が行われるのではなく、本発明による方法および本発明によ
る装置の意味に従って配置されるセンサ結晶層28を測定電流が流れねばならず
、これらの測定電流はまず結晶格子内での原子芯の周期的配置とそれらの電荷電
位とに基づいて励起されて電磁振動を起こし、さらに、付加的にセンサ結晶層2
8に実際に作用する肉体的測定量に基づいて一時的に転向され散乱される。超音
波24は超音波変換器23によって発生され、装置本体とセンサ結晶層28を備
えた隣接するアダプタ板37’とを通過して生検試料としての指25の上皮構造
26へと送られる。アダプタ板はチップカードとして実施しておくこともできる
。後方散乱した超音波27は、場合によってはチップカードとして実施されるア
ダプタ板37’を通過してセンサ結晶層28に達し、そこで上記のように検出さ
れる。
The arrangement shown in FIG. 3 partially corresponds to the configuration known from DE-A-42222387, with the main difference that the scanning of ultrasound waves which interferes with light or other predetermined electromagnetic waves. Instead, measurement currents must flow through the sensor crystal layer 28, which is arranged in accordance with the meaning of the method and the device according to the invention, and these measurement currents are first applied to the periodicity of the atomic core in the crystal lattice. It is excited on the basis of the arrangement and of its charge potential to cause electromagnetic oscillations, and additionally additionally comprises a sensor crystal layer 2.
8 is temporarily diverted and scattered based on physical measures that actually act on it. The ultrasonic waves 24 are generated by the ultrasonic transducer 23 and are transmitted to the epithelial structure 26 of the finger 25 as a biopsy sample through the main body of the apparatus and the adjacent adapter plate 37 ′ having the sensor crystal layer 28. The adapter plate can also be implemented as a chip card. The backscattered ultrasonic waves 27 pass through an adapter plate 37 ', possibly implemented as a chip card, to the sensor crystal layer 28, where they are detected as described above.

【0025】 見易くするために図3ではセンサ結晶層28が装置本体22の横にいまいちど
個別に図示されている。制御された電流源10からセンサ結晶層28に電流が導
入され、電流の分布がドレイン配置29で検出される。ドレイン29は測定個所
を走査するドレイン電荷測定・増幅ユニット30に接続されており、このユニッ
トはそれ自体測定値検出用インタフェース31に接続されている。そこから測定
値情報は電子評価装置32に達し、その出力端から、場合によっては、データを
符号化するための暗号プロセッサ33とネット化するためのインタフェースモジ
ュール34とに達する。評価回路がさらに超音波送信器35を含み、この送信器
は超音波変換器23に接続されて、その放射を制御する。
In FIG. 3, the sensor crystal layers 28 are again separately shown beside the device main body 22 for easy viewing. A current is introduced from the controlled current source 10 into the sensor crystal layer 28, and the current distribution is detected by the drain arrangement 29. The drain 29 is connected to a drain charge measurement / amplification unit 30 which scans the measuring point, and this unit itself is connected to a measurement value detection interface 31. From there, the measured value information reaches an electronic evaluation device 32, from its output, possibly a cryptographic processor 33 for encoding the data and an interface module 34 for networking. The evaluation circuit further includes an ultrasonic transmitter 35, which is connected to the ultrasonic transducer 23 and controls its emission.

【0026】 実際的応用においてこの配置は、好ましくは固定機能ユニットと移動機能ユニ
ットとに分割されており、固定機能ユニットが超音波発生用電子制御装置と超音
波変換器と装置本体とを含むのに対して、電子評価装置とアダプタ板とセンサ結
晶は移動機能部内、例えばチップカードまたはスマートカードのチップ内にある
。このような配置は、例えば、当該チップカードのチップの正当性としての認証
と合わせて、生物測定で支援された人物識別・検証システム用に必要とされる。
In a practical application, this arrangement is preferably divided into a fixed function unit and a mobile function unit, wherein the fixed function unit comprises an electronic control unit for ultrasonic generation, an ultrasonic transducer and a device body. In contrast, the electronic evaluation device, the adapter plate and the sensor crystal are located in the mobile function, for example in the chip of a chip card or smart card. Such an arrangement is required, for example, for a biometric-assisted person identification and verification system, together with the authentication of the chip of the chip card as valid.

【0027】 図4〜図6に示す装置は、本発明を利用したチップカード読取器の他の実施形
態のさまざまな変形例である。すでに述べたように、肉体的検証、すなわち偽造
・不正使用防止およびデータ保護のあらゆる要求条件を満足するチップカードの
認証も、これらの装置ではじめて可能となる。
The devices shown in FIGS. 4 to 6 are various modifications of other embodiments of the chip card reader utilizing the present invention. As already mentioned, physical verification, i.e. authentication of a chip card which satisfies all the requirements of forgery / tamper protection and data protection, is only possible with these devices.

【0028】 そのチップがマイクロプロセッサシステムを装備しているチップカードは最近
、国際的に“スマートカード”と呼ばれる。スマートカードに対する高い作為的
威嚇の可能性が存在するので、この分野は本発明による技術の主応用分野となろ
う。その他の応用分野には、パーソナルコンピュータ、例えばエンターキーもし
くはPCマウス、携帯電話、閉鎖システム用鍵、自動車、テレビ受像機用キーお
よびその他多くのものがある。
A chip card whose chip is equipped with a microprocessor system has recently been internationally called a “smart card”. This field will be a major application of the technology according to the present invention, as there is a high potential for artificial threats to smart cards. Other applications include personal computers, such as enter keys or PC mice, cell phones, keys for closed systems, automobiles, keys for television sets, and many others.

【0029】 チップカード37によって業務行為、例えば預金引出しが行われるステーショ
ンにおいてカード載置面22の下方に超音波送信器23があり、これが超音波2
4を上方に放射する。超音波はカードとカード上に案内される指(フィンガース
キャン)またはカードに載置される指25とを貫通する。指はカード所持者がス
テーション内にあるカード上の予め指示された面に載せる。指25の指頭腹面の
表皮内の上皮構造26で超音波が反射もしくは後方散乱される。後方散乱された
波部分は再びチップカード37内に達し、そこで、センサ結晶層28を有してカ
ード内に配置されたチップへと達する。
An ultrasonic transmitter 23 is provided below the card mounting surface 22 at a station where a business operation is performed by the chip card 37, for example, a deposit is withdrawn.
Emit 4 upward. The ultrasonic waves penetrate the card and a finger (finger scan) guided on the card or a finger 25 placed on the card. The finger is placed by the cardholder on a pre-designated surface on the card in the station. Ultrasonic waves are reflected or backscattered by an epithelial structure 26 in the epidermis of the finger pad of the finger 25. The backscattered wave portion again reaches the chip card 37, where it reaches the chip having the sensor crystal layer 28 and located in the card.

【0030】 チップカード37のチップは予定された業務行為用に必要な諸機能を有して通
常どおりチップカード内で使用されるチップであり、本発明による方法の超音波
検出用に必要な、電界効果トランジスタのマトリックスの態様のセンサを付加的
に備えている。普通、可能な目的用に利用することのできる多数の未使用のトラ
ンジスタが一般的チップ上に設けられている。そうでない場合には、好適なトラ
ンジスタマトリックスを実現するために、市販のチップを僅かに変更しなければ
ならないであろう。
The chip of the chip card 37 is a chip used in a chip card as usual with necessary functions for scheduled business activities, and is necessary for ultrasonic detection of the method according to the present invention. A sensor in the form of a matrix of field effect transistors is additionally provided. Usually, a large number of unused transistors are provided on a typical chip that can be used for possible purposes. Otherwise, commercial chips would have to be slightly modified to achieve a suitable transistor matrix.

【0031】 適切に変更されたチップが図8に示してある。通常の半導体チップ42上には
、未変更の特定の応用に応じた回路43がある。そのために必要とされないチッ
プ縁領域に超音波受信センサ44と検出情報の処理用の評価回路素子45が配置
されている。位置・クロック周波数検出用のスイッチング素子46が付加的に設
けられている。費用増の原因となる能動ケイ素面が走査原理の適用によって節約
される。
A properly modified chip is shown in FIG. On a normal semiconductor chip 42 there is a circuit 43 for a particular application that has not been modified. An ultrasonic receiving sensor 44 and an evaluation circuit element 45 for processing detection information are arranged in a chip edge area not required for that purpose. A switching element 46 for detecting the position / clock frequency is additionally provided. Active silicon surfaces, which cause increased costs, are saved by applying the scanning principle.

【0032】 チップ内のセンサはすでに述べた如くに後方散乱超音波の特徴的パラメータを
検出し、これらのパラメータがチップ内で組合わされて個人の上皮構造を表す明
確なパターンとされ、記憶済みパターンと比較される。両方のパターンが同一で
ある場合、カード利用者は正当な所有者と明確に識別される。その場合にのみ、
チップは安全なインタフェース34を介してステーションと交互作用するために
その機能を解除する。
The sensors in the chip detect the characteristic parameters of the backscattered ultrasound as described above, and these parameters are combined in the chip into a well-defined pattern representing the epithelial structure of the individual, and the stored pattern Is compared to If both patterns are the same, the card user is clearly identified as a valid owner. Only then
The chip deactivates its function to interact with the station via the secure interface 34.

【0033】 記憶済みパターンと比較されねばならない認識パターンを検出信号から獲得し
て、同一の場合に機能を解除するためにチップ上にある回路内で経過しなければ
ならない所要の電子機能はチップ設計の役目であり、当該専門家によって問題な
くさまざまな仕方で実現することができる。それゆえに回路の詳細な説明はここ
では省く。
The required electronic functions that must be passed in the circuits on the chip to obtain the recognition pattern from the detection signal that must be compared with the stored pattern from the detection signal and release the function in the same case are the chip design And can be implemented in a variety of ways without any problems by the expert. Therefore, a detailed description of the circuit is omitted here.

【0034】 図4は試料25の表皮の指頭腹面内の上皮構造26の超音波走査と、走査器と
して形成された検査配置に基づく反射超音波中に含まれた情報の検出を示す。指
25は検査のために検査配置上で所定方向40に滑らせて動かされねばならない
FIG. 4 shows an ultrasound scan of the epithelial structure 26 in the epigastric ventral surface of the epidermis of the sample 25 and the detection of the information contained in the reflected ultrasound based on the examination arrangement formed as a scanner. The finger 25 must be slid in a predetermined direction 40 on the test arrangement for the test.

【0035】 カードに一体化されたチップ上に受信センサを配置する代わりに、受信センサ
は図5に示すようにステーション内にも、場合によってはマイクロプロセッサチ
ップの一部としても、配置することができる。その場合、利用者の識別に必要な
パターンは、カードチップに記憶されて利用時にインタフェースを介してステー
ションに伝送されるパターンと比較される。
Instead of arranging the receiving sensor on a chip integrated with the card, the receiving sensor can be arranged in the station as shown in FIG. 5 and possibly also as part of a microprocessor chip. it can. In that case, the pattern required for user identification is compared with the pattern stored on the card chip and transmitted to the station via the interface during use.

【0036】 超音波送信器をステーション内に配置する代わりに、図6と図7に示すように
超音波送信器もカード上に配置しておくことができる。図6に示す実施形態では
センサ配置もカードチップに一体化されているのに対して、図7に示す配置では
センサ部がステーション内にある。
Instead of placing the ultrasonic transmitter in the station, the ultrasonic transmitter can also be placed on the card as shown in FIGS. 6 and 7. In the embodiment shown in FIG. 6, the sensor arrangement is also integrated with the card chip, whereas in the arrangement shown in FIG. 7, the sensor section is in the station.

【0037】 カードのその都度の利用者が、任意のあらゆるステーションで諸機能にアクセ
スすることのできる正当なカード所有者でもあることを検証することが肝要であ
るチップカード認証検査とは異なり、電子鍵では単一の保護領域のみまたは限定
された特定数の保護領域のみへのアクセスが可能とされる。認証の確認と同時に
、鍵に内蔵されたチップは鍵機能、または錠に適合した組合せを解放し、または
それらを提供する。認証の確認によって適合化されたこの鍵でもってはじめて錠
は開けられる。
Unlike chip card authentication, where it is essential to verify that each user of the card is also a valid card holder with access to functions at any and all stations. The key allows access to only a single protected area or a limited number of protected areas. Upon verification of the authentication, the chip embedded in the key releases or provides the key function, or combination compatible with the lock. The lock can only be opened with this key, which has been adapted by the confirmation of the authentication.

【0038】 図9に示した実施形態ではチップ49が、記憶された閉コード(暗号チップ)
および一体化された超音波受信器50を備えて鍵カード48上にある。同時に、
カード上に超音波送信器51が配置されている。カード48がステーション52
に挿入され、例えば錠に挿入されると、暗号チップ49に記憶された情報が比較
されて、錠内の相補的暗号チップ53に記憶された情報に一致するとき、開口が
行われる。
In the embodiment shown in FIG. 9, the chip 49 is a stored closed code (encryption chip).
And with the integrated ultrasonic receiver 50 on the key card 48. at the same time,
An ultrasonic transmitter 51 is arranged on the card. Card 48 is station 52
For example, when inserted in a lock, the information stored in the encryption chip 49 is compared, and when the information matches the information stored in the complementary encryption chip 53 in the lock, an opening is performed.

【0039】 図10に示す変形例では超音波送信器51が、カード48上にではなく、ステ
ーション52内にある。
In the variant shown in FIG. 10, the ultrasonic transmitter 51 is not on the card 48 but in the station 52.

【0040】 従って図9と図10では肉体的認証が例えば鍵カード48によって検査される
。この例では生体測定的認証(識別もしくは検証)は意識的に省かれている。
Accordingly, in FIGS. 9 and 10, the physical authentication is checked, for example, by a key card 48. In this example, biometric authentication (identification or verification) is intentionally omitted.

【0041】 これらの検査は、前記生体測定的検査も、また両方法を組合せたものも、動的
性質のものである。それらは、場合によっては広帯域で周波数が変化することも
ある振動励起を超音波の作用によってその都度与えて、試料たる指またはチップ
カードのチップまたは両者一緒の振動挙動を、または検査配置単独または複数の
構成要素を合わせた振動挙動をも、当該結晶内での各特徴的スペクトル形成に基
づいて検出する。干渉性超音波はデータ予備処理の意味での干渉形成を許容する
。さらに、高い認識確度、比較的安価な構造様式および再現性が本発明による方
法および本発明による装置の諸利点を際立たせる。
These tests, both the biometric tests described above and the combination of both methods, are of a dynamic nature. They provide in each case the vibrational excitation, which may vary in frequency over a wide band, by the action of ultrasonic waves, to simulate the vibrational behavior of the sample finger or the chip of the chip card or both, or the test arrangement alone or in combination. The vibration behavior combining the above components is also detected based on the formation of each characteristic spectrum in the crystal. Coherent ultrasound allows interference formation in the sense of data preprocessing. Furthermore, a high recognition accuracy, a relatively inexpensive construction mode and reproducibility highlight the advantages of the method according to the invention and the device according to the invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 図1は、本発明原理の略図である。FIG. 1 is a schematic diagram of the principles of the present invention.

【図2】 図2は、本発明の1実施形態の略図である。FIG. 2 is a schematic diagram of one embodiment of the present invention.

【図3】 図3は、本発明の1実施形態の実際的応用例の略図である。FIG. 3 is a schematic diagram of a practical application of one embodiment of the present invention.

【図4】 図4は、図3に示す実施形態の代替案を示す。FIG. 4 shows an alternative to the embodiment shown in FIG.

【図5】 図5は、図4に対する他の代替案を示す。FIG. 5 shows another alternative to FIG.

【図6】 図6は、図4に対する他の代替案を示す。FIG. 6 shows another alternative to FIG.

【図7】 図7は、図4に対する他の代替案を示す。FIG. 7 shows another alternative to FIG.

【図8】 図8は、本発明で利用されるために変更されたチップを示す。FIG. 8 shows a chip modified for use in the present invention.

【図9】 図9は、鍵・チップカード・バージョンの実施を示す。FIG. 9 shows an implementation of a key / chip card version.

【図10】 図10は、鍵・チップカード・バージョンの実施を示す。FIG. 10 shows an implementation of a key / chip card version.

【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書[Procedural Amendment] Submission of translation of Article 34 Amendment of the Patent Cooperation Treaty

【提出日】平成13年1月12日(2001.1.12)[Submission date] January 12, 2001 (2001.1.12)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】特許請求の範囲[Correction target item name] Claims

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正の内容】[Contents of correction]

【特許請求の範囲】[Claims]

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0003[Correction target item name] 0003

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正の内容】[Contents of correction]

【0003】 しかし、特定の用途において、あらゆる細部にわたって空間構造を調査するこ
とは必要でない。結晶構造に関する明確な情報を得るには若干の特定構造特徴を
検出すれば間に合う。 外部から作用する物理量を測定するためのマイクロメカニカルセンサがEP−
A−647832に述べられている。外部の機械的影響はマイクロメカニカル構
造に一体化された電気抵抗の測定可能な変化を生じる。指先の表面を走査して直
接に電気信号に変換するためのセンサがUS−A−4429413に述べられて
いる。このセンサの核心は約0.1mm大の個別トランジスタのいわゆるアレ
イである。GB−A−1011134は、2つの異なる方向で単純に抵抗測定す
ることによって半導体構造の欠陥をテストするための方法を述べている。しかし
これらの測定はすべて、センサとして利用されまたはテストされる半導体の空間
構造に関する情報をまったくもたらさないかまたは僅かにもたらすだけである。
However, in certain applications, it is not necessary to investigate the spatial structure in every detail. To obtain clear information about the crystal structure, it is sufficient to detect some specific structural features. A micro-mechanical sensor for measuring physical quantities acting from the outside is EP-
A-647832. External mechanical effects cause a measurable change in electrical resistance integrated into the micromechanical structure. A sensor for scanning the surface of a fingertip and converting it directly into an electrical signal is described in U.S. Pat. No. 4,429,413. The core of this sensor is a so-called array of individually transistor of about 0.1 mm 2 size. GB-A-1011134 describes a method for testing semiconductor structures for defects by simply measuring resistance in two different directions. However, all of these measurements provide no or only little information about the spatial structure of the semiconductor used or tested as a sensor.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,TZ,UG,ZW ),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU, TJ,TM),AE,AL,AM,AT,AU,AZ, BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,C R,CU,CZ,DE,DK,DM,EE,ES,FI ,GB,GD,GE,GH,GM,HR,HU,ID, IL,IN,IS,JP,KE,KG,KP,KR,K Z,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,MD ,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,PL, PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK,S L,TJ,TM,TR,TT,TZ,UA,UG,US ,UZ,VN,YU,ZA,ZW Fターム(参考) 2G047 BA03 BC03 CA01 CA07 EA10 EA11 GD00 2G060 AA15 AE40 AF15 AF20 AG11 AG13 HC10 HE10 KA09 4C301 DD30 EE17 GA20 LL20 4M106 AA02 BA20 CB30 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (81) Designated country EP (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE ), OA (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG), AP (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW), EA (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM), AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID , IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZWF terms (reference 2G047 BA03 BC03 CA01 CA07 EA10 EA11 GD00 2G060 AA15 AE40 AF15 AF20 AG11 AG13 HC10 HE10 KA09 4C301 DD30 EE17 GA20 LL20 4M106 AA02 BA20 CB30

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導電性結晶、特に半導体、の空間構造の特徴を検出するための方
法において、結晶に測定電流が供給され、電流入口とは異なる結晶個所で電荷分
布の測定が行われ、測定された電荷分布と標準分布との関係から空間構造特徴に
関する情報が獲得されることを特徴とする方法。
1. A method for detecting a spatial structure characteristic of a conductive crystal, in particular a semiconductor, wherein a measurement current is supplied to the crystal, and a charge distribution is measured at a crystal location different from a current inlet. Acquiring information on spatial structure features from the relationship between the determined charge distribution and the standard distribution.
【請求項2】 時間的空間構造変化が測定され、時間的に変化しない空間構造の
標準分布に関連付けられることを特徴とする、請求項1記載の方法。
2. The method according to claim 1, wherein temporal spatial structure changes are measured and associated with a standard distribution of spatial structures that do not change temporally.
【請求項3】 定義された時間的空間構造変化の乱れが測定されることを特徴と
する、請求項1記載の方法。
3. The method according to claim 1, wherein the disturbance of the defined temporal spatial structure change is measured.
【請求項4】 定義された時間的空間構造変化を生成するために結晶が音響振動
に曝されることを特徴とする、請求項3記載の方法。
4. The method according to claim 3, wherein the crystal is exposed to acoustic vibrations to generate a defined temporal and spatial structural change.
【請求項5】 結晶が超音波の影響に曝され、超音波が結晶の空間構造に時間的
変化を与えることを特徴とする、請求項1記載の方法。
5. The method according to claim 1, wherein the crystal is exposed to the influence of ultrasonic waves, the ultrasonic waves changing the spatial structure of the crystal over time.
【請求項6】 超音波が個別的反射構造によって変調されることを特徴とする、
請求項5記載の方法。
6. The ultrasonic wave is modulated by an individual reflection structure.
The method of claim 5.
【請求項7】 反射構造が超音波の伝搬方向に対して相対的に動かされることを
特徴とする、請求項6記載の方法。
7. The method according to claim 6, wherein the reflecting structure is moved relative to the direction of propagation of the ultrasonic waves.
【請求項8】 超音波が結晶中に生成されることを特徴とする、請求項5記載の
方法。
8. The method according to claim 5, wherein ultrasonic waves are generated in the crystal.
【請求項9】 請求項1〜8に記載された方法を実施するための装置において、
結晶内に電流を導入するためのソース電極と、結晶から電流を取り出すためのド
レイン電極と、測定された電流から結晶の空間構造に関する情報を獲得するため
の電子評価回路とを備えた導電性結晶構造もしくは半導体結晶構造を特徴とする
装置。
9. An apparatus for performing the method according to claim 1, wherein
A conductive crystal having a source electrode for introducing a current into the crystal, a drain electrode for extracting a current from the crystal, and an electronic evaluation circuit for obtaining information on a spatial structure of the crystal from the measured current. A device characterized by a structure or a semiconductor crystal structure.
JP2000588595A 1998-12-15 1999-12-15 Method and apparatus for detecting spatial structural features of a crystal Pending JP2002532714A (en)

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CH248098 1998-12-15
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