JP2002507806A - 磁束のステップ変更を持つｅ．ａ．ｓマーカーを形成するための交軸フィールド焼き鈍しプロセス - Google Patents

磁束のステップ変更を持つｅ．ａ．ｓマーカーを形成するための交軸フィールド焼き鈍しプロセス

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JP2002507806A
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ホー、ウイング・ケイ
ヤマサキ、ジロー
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Abstract

(57)【要約】 商品監視システム（５１）内で用いられるマーカー（２０）は、縦軸を持つ磁性材料の連続的なリボン（２８）を処理することによって形成される。領域（４２）は、その連続的なリボンの縦軸から少なくとも１５°傾けられる壁方向に延びる複数の実質的に平行な磁壁（４０）を含む壁構成を生成するために、磁性材料内で創り出される。その連続的なリボンは、さらに、実質的に平行な磁壁の壁構成をしきい値以下の印加電圧の値のためにピンで留められた状態のままにするように処理される。処理された連続的なリボンは、印加電圧がしきい値を越えるとき、磁束のステップ変更を表す別々の磁気要素を生成するためにカットされ得る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 発明の技術分野 この発明は、センサーとして使用する磁性材料、並びに、そのようなマーカー
を作り、使用するための方法及びシステムに関する。
【０００２】 発明の背景技術 磁気タイプのマーカーを用いる電子商品監視（ＥＡＳ）システムの設計におい
て、努力の目標は、マーカーの応答の独自性を拡張することに向けられている。
これが達成された一つの方法は、マーカーの磁束反転によって生成される電圧パ
ルス内に高調波成分を増加させることによってなされた。結果として、マーカー
の応答信号は、より低い周波数バックグラウンドノイズと磁気遮蔽ノイズや、し
ばしば、ＥＡＳシステム内に存在するのが見受けられる他の磁性材料によって生
成される信号からより容易に識別され、検波される。
【０００３】 高度の独自性を示す磁気マーカーは、「大きいバルクハウゼン不連続のヒステ
リシスループを持つ商品監視磁気マーカー」と題された米国特許第４，６６０，
０２５号に開示される。それは、一般に本出願とともに本出願人が譲り受けたも
のである。その‘０２５特許に開示される発明の実施の形態では、マーカーは、
そのヒステリシスループ内の大きいバルクハウゼン不連続を生じさせる固定した
ストレスを持つアモルファス金属合金リボンから形成される。ヒステリシスルー
プの不連続は、切り替えしきい値で生ずる。マーカーが切り替えしきい値より大
きいピーク振幅を持つ交番呼びかけフィールド信号に向いているとき、呼びかけ
フィールド信号の高調波が生成される。
【０００４】 呼びかけフィールド信号の高調波を生成する別の磁気マーカーは、「磁束のス
テップ変更を持つ非活化可能なE.A.S.マーカー」と題される米国特許第４，９８
０，６７０号に開示される。‘６７０特許は、本出願と共通の発明者及び共通の
譲受人を持つ。‘６７０特許のマーカーのヒステリシス特性は、印加磁界のしき
い値で磁束のステップ変更を示す。‘６７０特許の場合には、望ましいヒステリ
シス特性は、マーカーの材料を改良することによって成し遂げられ、それは、印
加磁界が予め決められたしきい値に達するまで固定されたままでいる固定された
磁壁構成を持つ。そこでは、固定状態は、その印加磁界によって克服され、磁束
のステップ変更の原因となる。磁束のステップ変更は、高調波成分に富み、それ
ゆえ、独特で容易に検出可能であるマーカーから応答信号を与える。
【０００５】 ‘６７０特許に開示される処理において、アモルファス磁気合金の連続的なリ
ボンは、磁気合金材料の不連続のストリップを形成するためにカットされる。磁
界は、領域構造を形成するために、カットされたストリップの縦方向に適用され
、結果として生じる磁壁は、焼き鈍しによって固定される。壁を固定する類似の
処理は、１９９１年７月の磁気学ＩＥＥＥ会報Ｎｏ．４，Ｖｏｌ．２７の３６７
８〜３６８９ページのSchafer他の「柔らかいアモルファス磁性材料内の磁壁の 異方性固定」に開示される。
【０００６】 磁束のステップ変更を持つ磁気マーカーを作るための改良された処理は、「磁
束のステップ変更を持つ非活化可能／復活可能な磁気マーカー」と題される米国
特許第５，３１３，１９２に開示される。それは、本出願と共通の発明者及び共
通の譲受人を持つ。
【０００７】 ‘１９２特許の教示によれば、壁に固定する処理をアモルファス金属合金の連
続的なストリップに適用することによって、カットされたストリップの扱いにく
い、労働集約的な取扱いを避けることが可能である。連続的なアモルファス材料
の領域は、連続的なリボンの長さに沿ってその材料のバルクの全体にわたり一定
間隔で結晶化される。結晶化されたバルク領域は、アモルファスの、固定壁間に
ある領域から磁気的に絶縁される。そのため、連続的なリボンを個別のマーカー
ストリップに分離するために結晶化された領域にカットすることは、結果として
生じる個別のマーカーの固定された壁の磁気特性を実質上変更しない。
【０００８】 ‘０２５、‘６７０、及び‘１９２特許の開示は、参照によって、ここに組み
込まれる。
【０００９】 個別的なマーカーの効率的な製作が固定壁ヒステリシス特性を示すことを可能
にする点で、‘１９２特許の上述の連続的な焼き鈍し処理が有利であるとしても
、連続的なリボンをカットする不利な効果からマーカーを磁気的に絶縁するため
に、一定間隔で与えられる結晶化された領域は、一定間隔での結晶化された領域
の存在がマーカーセグメントの長さを予め決定するという点で、幾分不利益であ
る。結晶化された領域を有する連続的なリボンが形成されると、そこから得られ
るマーカーの長さは、固定される。連続的な固定壁を有する材料のロールを生産
することが望まれるだろう。あらゆる望まれる長さの別々のマーカーストリップ
が、その材料からカットされてもよい。
【００１０】 発明の目的及び概要 本発明の目的は、連続的な焼き鈍し処理によって固定された壁の特性を持つ磁
性成分を製造することである。
【００１１】 本発明のさらなる目的は、連続的な金属合金ストリップ中に形成された結晶化
された領域の位置によって予め決定されない長さを持つような磁性成分を製造す
ることである。
【００１２】 本発明の一つの面によれば、商品監視システムで使用されるマーカーを作る方
法が提供される。その方法は、縦軸を持つ磁性材料の連続的なリボンを供給する
ステップと、複数の実質的に平行な磁壁を含む壁構造を持つ磁性材料領域の連続
的なリボンに創り出すステップとを含み、その複数の実質的に平行な磁壁は、そ
の連続的なリボンの縦軸から少なくとも１５°傾けられる壁方向に延びる。そし
て、その方法は、前記創り出すステップの後に、実質的に平行な磁壁の壁構造が
しきい値より下の印加磁界の値について固定された状態のままでいるために、そ
の連続的なリボンを処理するステップを含む。壁構造の固定された状態を得るた
めに要求されるその処理ステップは、同時係属出願番号（代理人事件番号Ｃ４−
４６６）の教示に従って、焼き鈍しを含んでもよく、又は代わりに、硬いかある
いは幾分硬い磁性材料の層を沈積することによって成し遂げられてもよい。その
出願は、この出願と同時に提出され、この出願と共通の発明者及び共通の譲受人
を持つ。
【００１３】 好ましくは、その磁性材料は、実質的に０磁気ひずみを示し、本発明のこの面
に従って処理する後に、しきい値は、１エルステッドより小さい。本発明の代わ
りの好ましい実施の形態によれば、平行な磁壁は、磁性材料の連続的なリボンの
縦軸から９０°又は４５°で形成されてもよい。
【００１４】 本発明のもう一つの面によれば、商品監視システムで使用されるマーカーを作
る方法が提供される。その方法は、縦軸を持つ磁性材料の連続的なリボンを供給
するステップと、複数の実質的に平行な磁壁を含む壁構造を持つ磁性材料領域の
連続的なリボンに創り出すステップとを含み、その複数の実質的に平行な磁壁は
、連続的なリボンの縦軸から少なくとも１５°傾けられた壁方向に延びる。そし
て、その方法は、前記創り出すステップの後に、実質的に平行な磁壁の壁構造を
安定させるために、その連続的なリボンを処理するステップと、その処理するス
テップの後に、別々のマーカー要素を形成するために、連続的なリボンの縦軸に
対して横方向にその連続的なリボンをカットするステップとを含む。その別々の
マーカー要素は、それぞれ、大きなバルクハウゼン不連続を持つ磁気ヒステリシ
スループを持つので、そのマーカー要素を外部磁界にさらすことになる。そのマ
ーカー要素の磁極性に対向する方向での磁界の強さは、予め決められたしきい値
を越え、磁極性の再生的な反転をもたらすことになる。
【００１５】 本発明の磁壁を固定するかあるいは安定する処理で、処理された連続的な合金
リボンは、望ましいステップ磁束特性を保ちながら、あらゆる望ましい長さの別
々のストリップを製造するために、横方向にカットされ得る。そのストリップの
末端での領域は、カット操作の破壊的な効果からストリップの末端に触れない領
域を磁気的に絶縁するために役立つ。
【００１６】 本発明の上記及び他の特徴並びに他の面は、添付する図面と関連して次の詳細
な記述を読むことによって、より明白になるだろう。
【００１７】 好ましい実施の形態の詳細な記述 図１において、本発明の原則に従ってマーカー２０が示される。そのマーカー
２０は、サブストレート２１とオーバーレイヤー２２を含み、それらの間に磁気
要素２３が配置される。サブストレート２１の下表面は、監視下で保守される商
品にマーカー２０をしっかり留めるための適当な感圧性接着剤で覆われ得る。そ
の代わりに、他のいかなる周知の手段も商品にマーカー２０をしっかり留めるた
めに使用され得る。
【００１８】 図２は、本発明に従って磁性材料の連続的に処理するために用いられる装置を
概略的に図示する。参照番号２４は、繰出リールを示し、参照番号２６は、巻取
りリールを示す。磁気金属合金の連続的なリボン２８は、繰出リール２４から連
続的に引き出され、巻取りリール２６に巻き取られる。連続的な金属合金リボン
２８は、キャプスタン３０とピンチローラー３２の間に挟まれる。キャプスタン
３０とピンチローラー３２は、協力して、繰出リール２５から巻取りリール２６
へ行路に沿って金属リボン２８を連続的に移送する。リール２４と２６の間の行
路上に焼き鈍し領域３４が配置され、それを通して、金属リボン２８は、連続的
に移送される。焼き鈍し領域３４は、磁界の１以上の形状が生成され得るオーブ
ンによって提供されてもよい。
【００１９】 例１ この例によれば、図２の装置を用いて実行され得る２段階の焼き鈍し処理は、
Ｃｏ７４％、Ｆｅ５％、Ｓｉ２％、Ｂ１９％（原子百分率による）の組成及び５
０ｍｍ×７ｍｍ×０．０１９ｍｍの大きさを持つアモルファス材料の別々のスト
リップに適用された。この材料は０磁気ひずみを実質的に示す。第１の焼き鈍し
段階では、交軸磁界が少なくとも２００エルステッドの大きさで適用された。そ
の磁界は、リボンの平面に適用され、リボンの縦軸と実質的に垂直である。第１
の焼き鈍し段階は、３００°Ｃで２０分間行われた。それから、第２の焼き鈍し
は、第１の焼き鈍しの間に発生した横方向の領域配置を固定、あるいは安定させ
るために行われた。第２の焼き鈍し段階では、３５０°Ｃの温度が２０分間の効
果的な期間維持され、小さい漂遊磁界が存在していたけれども、磁界は、適用さ
れなかった。この処理の後に、磁気要素は、図３に示すようなヒステリシスルー
プ特性を持った。図３の特性が大きいバルクハウゼン不連続又は約１．２エルス
テッドのしきい値で磁束のステップ変更を示すことが分かるであろう。
【００２０】 図５は、この例に従って磁気要素に発生する領域配置を絵入りで図示する。一
連の平行な領域壁４０は、合金ストリップの長さに沿って形成される。その領域
壁４０は、ストリップの長さに沿って一連の領域４２の境界をはっきりさせる。
その領域壁４０は、ストリップの縦軸に実質的に垂直な方向に延びる。
【００２１】 第２の焼き鈍し段階の間存在する漂遊磁界のために、磁気要素は、その長さに
沿って小さな残留磁化を持ち、領域４２の磁極性は、図５に示すように「ジグザ
グ」パターンを示す。すなわち、各領域４２は、２つの方向の一つを示し、その
領域方向は、磁気要素の長さに沿って互い違いになる。磁極性の方向は、図５の
矢印によって表される。２つの方向の一つは、上方、右手であり。他方は、下方
右手である。（その矢印の右への傾斜度が図解の目的で図５では幾分過度である
ことを理解されたい。）以下の記述において、図５の右への方向は、図３の軸の
正方向に対応する。
【００２２】 図５及び６を参照して、出願人が信じるメカニズムが図３のヒステリシスルー
プによって示される磁束のステップ変更の原因となることをこれから記述する。
【００２３】 印加磁界がしきい値より上の正の値から減少されると想定すると、磁束は、縦
の印加磁界が０に減少するとともに減少し、これに伴い、領域の分極が左方向へ
回転すると信じられる。磁束の減少は、負のしきい値に近い印加磁界のレベルに
向け、実質的に０の磁束になるまで継続する。次いで、負のしきい値で、領域極
性内の急な反転があり、図６に示される前と異なったジグザグパターンを提供す
る。そこでは、領域極性は、上方左手、又は、下方左手のいずれかに向かってい
る。図６の各領域極性は、図５の対応する領域の極性と全く反対であることに注
意されたい。領域極性の急な反転は、図３の−１．２エルステッドで示される不
連続又はステップ磁束変更を提供される「スナップ動作」である。このレベルで
は磁壁固定の解放があることも、また、可能である。
【００２４】 そのメカニズムは、負（左方向へ）の印加磁界がしきい値より下に減少され、
それから、正のしきい値より上のレベルへ正方向に増加されるように、反転する
。正のしきい値で、磁束のもう一つの不連続な変更が起こる。
【００２５】 例２ 例１の場合と同じ材料が、第２の焼き鈍し段階の間２エルステッドの磁界が縦
方向に適用されたことを除けば、同じ方法で処理された。
【００２６】 図７は、その結果として生じる磁気要素のヒステリシスループ特性を示す。磁
束の大きい不連続又はステップ変更が約０．９エルステッドのしきい値で起こる
のが、図７から観察されるだろう。図７に示されるステップは、前の例で生成さ
れた特性のそれよりも大きい。この例の磁気ステップの、より大きな振幅は、第
２の焼き鈍し段階で製造されたより大きな縦の磁化から結果として生じる。
【００２７】 磁束のより低いしきい値とより大きいステップ変更はともに望ましい特性であ
るので、この例で得られた結果は、前の例のものよりも有利であると考えられて
もよい。しかしながら、第２の焼き鈍しで縦の磁界が３あるいは４エルステッド
まで増加されるならば、磁化の縦成分は、実質的な消磁する磁界を提供するほど
大きくなる。結果として生じる磁気要素は、磁束ステップ特性よりもむしろシヤ
ーループ特性を示す。
【００２８】 例３ 前の例のように同一の構成と同一の長さであるが、幅３．２ｍｍと厚さ０．０
２ｍｍを持つアモルファス金属合金ストリップが、この例では用いられた。２段
階の焼き鈍し処理では、第１の焼き鈍し段階は、３００°Ｃで２０分間、その材
料の平面内で材料の縦軸に垂直に適用された１キロエルステッドの磁界で行われ
た。第２の焼き鈍し段階は、３５０°Ｃで２０分間、材料の縦軸に沿って適用さ
れる小さな磁界（１エルステッドよりも実質的に小さい）で行われた。結果とし
てできた材料のヒステリシスループは、図８Ａに示される。磁束のステップ変更
の存在が見られる。
【００２９】 材料の約３ｍｍは、それから、磁気要素の各末端からカットされた。カットさ
れた磁気要素のヒステリシスループは、図８Ｂに示され、カットする前のヒステ
リシスループと本質的に同一である。これは、その要素の磁気特性が要素の幅を
カットすることによって悪影響を受けなかったことを示すのに役立つ。磁気要素
内の磁壁を横へ拡張するとカットする作用のあらゆる消磁効果からその要素内の
ほとんどの領域を絶縁するのに役立つと信じられる。
【００３０】 例４ 例３のような同一の構成と大きさを持つ要素が、この例で用いられた。第１の
焼き鈍し段階は、３００°Ｃで３０分間、１キロエルステッド以上の垂直磁界で
行われた。第２の焼き鈍し段階は、３５０°Ｃで１０分間、１エルステッドの縦
の印加磁界で行われた。縦方向に２エルステッドのピーク振幅で交番する励振磁
界に応答して得られる、結果としてできた材料のヒステリシスループ特性は、図
９に示される。その特性が部分的に不連続で、部分的にシヤーであるのが観察さ
れる。図８の特性と比較されるように、図９に示されるより大きなシヤー特性が
第２の焼き鈍し段階の間、より長い縦の磁界の印加から結果として生じる縦の磁
化を増加されるためであると信じられる。
【００３１】 図９のヒステリシスループ特性は、図７に示される特性とは幾分異なる。図７
の特性は、いわゆる「切り替えしきい値」（図７の場合、約０．８エルステッド
）で磁極性のステップ反転を示す。図９の特性は、また、‘６７０特許の図３に
示されるループ特性とも異なる。同特許の図３の特性では、磁化におけるステッ
プ増加が固定されたしきい値+Hpにおいて起こる。それと対照して、ここでの図 ９の特性は、印加磁界の適切な減少における図９のＴで示されたしきい値ポイン
トでステップ減少を示す。すなわち、もし、印加磁界が実質的にしきい値レベル
Ｔより上のレベルＨ１であるときに、印加磁界の振幅がこれより減少されるなら
ば、しきい値レベルＴに達するときに磁気要素の磁化の程度での不連続な減少が
起こる。この場合、その要素の外形の消磁効果が、印加磁界の減少と結合し、こ
れが、しきい値で磁化の不連続な急降下の原因となると信じられる。この例のし
きい値Ｔのレベルは、十分に１エルステッドより下である。
【００３２】 図１０Ａは、材料の３ｍｍが要素の各末端からカットされるときに得られるヒ
ステリシスループ特性を示す。この例で、製造される要素をカットすることがヒ
ステリシスループ特性の不連続を本質的に排除することが分かるだろう。しかし
ながら、その不連続は、磁気要素の各末端で磁束集線装置を設けることによって
再生され得る。鉄ベースのアモルファスリボンで形成され、１０ｍｍ×７ｍｍ×
０．０２ｍｍの大きさを持つ磁束集線装置がそれぞれの磁気要素の各末端に配置
され、材料の末端を磁束集線装置の中心に位置するようにしたとき、図１０Ｂに
示されるヒステリシスループが得られた。図１０Ｂのループが実質的に図９のそ
れと同一であることが観察されるだろう。
【００３３】 例５ この例では、例２で上述された手順は、第１の焼き鈍し段階の間、そこで変更
され、磁界は、材料の縦軸に垂直から数°（１０°を越えない）である角度で適
用される。第２の焼き鈍し段階の間に適用される小さい縦の磁界は、結果として
０ではない残留磁気を生じた。再び、ヒステリシスループ特性の不連続が生じた
。垂直から離れた焼き鈍しから結果として生じる領域配置は、図１１に図示され
る。図１１の配置は、「不揃いあめんぼう（理髪店の広告柱）」配置として言及
されてもよい。図１１の磁壁４０’が平行で、材料の縦軸に関して鋭角に延びて
いることが観察される。材料の縦軸方向の領域の広さが変化し、そこでは、下方
向であり縦の一方向に向けられる極性を持つそれぞれ広い領域が、上方向で磁気
要素の対向する縦方向に向けられる極性を持つそれぞれ狭い領域と互い違いにな
る。領域極性の方向は、磁壁方向に平行である。
【００３４】 もし、磁界が磁気要素の右手縦方向に適用されるならば、その領域は、しきい
値レベルに達するまで印加磁界の方向に回転する傾向がある。しきい値レベルに
達すると、より大きい領域が方向で急反転を受ける。同時に、より小さい領域も
また、静磁場エネルギーを最小にするように反転する。その結果、ヒステリシス
ループの大きな不連続を生ずる。
【００３５】 例６ この例では、前の例と同一の構成を持ち、５０ｍｍ×３ｍｍ×０．０２ｍｍの
大きさを持つ要素が、固定された壁領域形状のものを製造するために、２段階の
焼き鈍し処理にさらされた。第１の焼き鈍し段階は、３００°Ｃで２０分間、材
料の平面内で材料の縦軸から４５°傾けられた飽和状態の磁界で行われた。第２
の焼き鈍し段階は、３５０°Ｃで２０分間、全くあるいはかなり小さい磁界の存
在下で行われた。
【００３６】 結果としてできた磁気要素のヒステリシスループは、図１３に示される。この
特性が上記で参照された‘６７０特許の図３に示されたものと類似していること
に注目されたい。切り替えしきい値レベルが約０．６エルステッドで起こること
がそのヒステリシス特性から観察されるだろう。
【００３７】 この例の２段階の焼き鈍しから結果として生じる領域形状は、図１２Ａに図示
される。この領域形状は、磁壁が平行で磁気要素の縦軸に関して鋭角に向けられ
るので等間隔の「あめんぼう」形状として言及されてもよい。領域の極性の方向
における領域の幅は、実質的に均一である。領域の極性の方向は、上方右手の方
向と下方左手の方向の間で磁気要素の長さに沿って互い違いになる。領域極性の
方向は、磁壁方向と平行である。
【００３８】 図１２Ｂは、どのようにして磁壁がしきい値レベルより上のレベルで磁気要素
の長さに沿って適用される磁界に応じて解放され、あるいは「固定されない」か
を図示する。図１２Ｂにおいて、磁界が右の方向に適用されると想定される。図
１２Ｂの点線は、図１２Ａの領域形状に本来固定されていた磁壁の前の跡である
。図１２Ｂから分かるように、磁壁は、上方右手方向に向けられる領域が下方左
手方向に極性を持つ領域を犠牲にして成長することを可能にするように移動した
。右方印加磁界によって誘導される結果として生じる形状は、不揃いな「あめん
ぼう」形状である。前に固定された壁の解放は、急に起こり、それは、図１３の
不連続な、あるいはステップされたループ特性を作る。
【００３９】 前述の例のように、ほとんどの領域は、磁気要素を横切って横方向に延び、そ
の要素の末端に触れない。それゆえ、要素の末端でカットすることは、ほとんど
の領域に影響を与えない。それは、望ましい不連続なヒステリシスループ特性が
、材料の幅を渡ってカットするにも拘わらず、維持されることを可能にする。
【００４０】 マーカーの寸法に依存して、縦軸と磁壁方向との間の１０°以上の角度は、磁
気要素の末端に触れない十分な数の領域を提供するので、望ましい不連続な特性
が、材料がカットされる後に維持されることを可能にすると信じられる。
【００４１】 前の例のそれぞれについて、各例に記述された２段階の処理は、第１の焼き鈍
し段階（傾けられた磁界の適用で）を実行するために、図２に示される焼き鈍し
領域３４を通して、連続的なリボンを最初に連続的に運び、特定の例によって要
求される第２の焼き鈍し段階を実行するために、その焼き鈍し領域３４を通して
そのリボンを再送することによって、連続的な合金リボンに適用されてもよい。
その代わりに、２段階の処理は、第１及び第２の焼き鈍し領域を通して通過する
行路に沿って一度連続的なリボンを連続的に運ぶことによって実行されてもよい
。そこでは、第１及び第２の焼き鈍し段階がそれぞれ実行される。
【００４２】 次の例は、連続的な合金リボンに適用される第３段階の処理を含む。
【００４３】 例７ １．５ｍｍの幅と０．０２ｍｍの厚さを持ち、Ｃｏ７２．８％、Ｆｅ４，７％
、Ｓｉ５．５％、Ｂ１７％（原子百分率）の組成を持つ連続的なアモルファス合
金リボンは、３００°Ｃの温度で６分間の有効時間第１の焼き鈍し段階を実行す
るために、焼き鈍し領域３４（図２）を通して連続的に運ばれる。第１の焼き鈍
し段階の間、１キロエルステッドより大きい磁界がリボンの長さに垂直な合金リ
ボンの平面内に適用される。第１の焼き鈍し段階後、その合金リボンは、リール
２６上に巻き取られ、放置冷却される。
【００４４】 冷ました後、合金リボンは、再び、第２の焼き鈍し段階を実行するために、焼
き鈍し領域３４を通して連続的に運ばれる。第２の段階では、３５０°Ｃ、３０
０°Ｃ、及び２５５°Ｃの３つの温度ゾーンが、焼き鈍し領域内でリボン輸送路
に沿って前記の順で維持される。３つの温度ゾーンは、リボン輸送路に沿って実
質的に等しい長さであり、すべての３つのゾーンが持つ全効率的焼き鈍し時間は
、合計約５分間である。第２の焼き鈍しの間、磁界は適用されない。
【００４５】 合金リボンは、再び、第２の焼き鈍しの後に巻き上げられ、第３の焼き鈍し段
階を実行するために、もう一度焼き鈍し領域を通して連続的に運ばれる。第３の
焼き鈍し段階では、１エルステッドの磁界がリボンの長さに沿って適用され、同
じ３つの温度ゾーンが、第２の段階のように維持される。第３の段階の効果的な
焼き鈍し時間は、３つの温度ゾーンでかかる時間を合計して、約１０分である。
【００４６】 連続的なリボンは、長さ３０ｍｍ又は２５ｍｍの方形部分にカットされ、その
部分は、マーカーを形成するために各末端において磁束集線装置で集められる。
磁束集線装置は、鉄ベースのアモルファス合金リボンの厚さ約０．０２ｍｍの部
分による７ｍｍ角の正方形である。
【００４７】 結果として生じるマーカーは、望ましい高い振幅磁束ステップを持つ、図７の
形に類似するヒステリシスループ特性を持つ。
【００４８】 もし、本発明に従って製造される磁気要素を用いて、非活化可能で再活化可能
なマーカーを形成することを望むのならば、これは、磁気要素に幾分硬いか、あ
るいは硬い制御セグメントを適用することによってなされてもよい。結果として
生じるマーカーは、硬いか、あるいは幾分硬い制御セグメントを磁化することに
よって非活化されてもよい。再活化は、制御セグメントを減磁することによって
達成される。
【００４９】 上記例では、約１５：１（原子百分率による）の鉄に対するコバルトの比率の
コバルト−鉄ベースの組成物が、実質的に０磁気ひずみを示す磁気要素を提供す
るために使用された。しかしながら、０磁気ひずみは望ましいけれども、本発明
の本質的部分ではないので、コバルトと鉄の他の比率が用いられてもよい。さら
に、本発明の技術は、また、鉄−コバルト−ニッケル、ニッケル−コバルト、及
び鉄−ニッケルを基礎とする様々な組成の合金を用いて実施され得ると信じられ
る。
【００５０】 図４は、非活化ユニットを有する商品監視システムの図１のマーカー２０の使
用を図示する。より詳しくは、システム５１は、呼びかけ又は監視ゾーン、例え
ば、破線５２で示されるストアの出口エリアを含む。本発明のマーカー２０のよ
うな特性を持つマーカー２０Ａは、ゾーン５２内で商品に添付されて示される。
システムの送信機部分は、周波数発生器５３を含み、その出力はパワーアンプ５
４に送られる。次には、パワーアンプ５４は、磁界発生コイル５５を励磁する。
このコイルは、呼びかけゾーン５２内に望ましい周波数と振幅の交番磁界を確立
する。磁界の振幅は、コイルのサイズや呼びかけゾーンのサイズなどのようなシ
ステムパラメーターによって変化する。しかしながら、振幅は、最小磁界を越え
なければならず、それにより、ゾーン５２内のマーカーは、あらゆる状況下で、
マーカーの磁界のステップ変更を生起するしきい値よりも上の磁界を経験する。
【００５１】 システムの受信機部分は、出力が受信機５７に加えられる磁界受信コイル５６
を含む。受信機５７が指定された範囲でコイル５６から受信した信号にマーカー
２０Ａから生成された高調波成分を検出するとき、受信機は、アラームを作動さ
せるためのアラームユニット５８に誘発信号を供給する。
【００５２】 図１のマーカー２０のようなもう一つのマーカー２０Ｂは、呼びかけゾーン５
２外の商品上に示される。それゆえ、そのゾーンで確立される呼びかけ磁界の支
配下にない。認められたチェックアウトステーションは、マーカー非活化ユニッ
ト５９を含む。マーカー２０Ｂは、非活化ユニット５９を通して通路６１に沿っ
て通過することによって非活化される。マーカー２０Ｂの通過は、非活化された
マーカー２０Ｃを結果として生じる。それは、アラームを起こさせる方法で呼び
かけ磁界と相互に作用することなく、呼びかけゾーン５２を通して自由に通過す
ることができる。非活化ユニット５０がマーカー２０Ｂの制御セグメントを磁化
するのに十分な振幅で磁界を生成し、それによって、マーカー２０Ｂが磁束のス
テップ変更を示すのを防止することを理解されたい。
【００５３】 あらゆる場合に、上述の実施態様が本発明の適用を表す多くの可能な特定の実
施の形態の単なる例証に過ぎないことを理解されたい。例えば、処理された連続
的な合金リボンを方形部分にカットする代わりとして、リボンの長さに垂直では
ない切断角を使用することも考えられる。磁壁構成が垂直でないところは、カッ
ティングに当てられる領域の数を最小にするために、切断角がその壁角に平行か
、又は、少なくともそれと同じ方向に傾けられてもよい。多数の様々な他の実施
態様は、本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、本発明の原理に従って容
易に考案され得る。
【図面の簡単な説明】
【図１】 図１は、本発明の原理に従って製造される磁気要素を組み込む商品監視マーカ
ーを示す。
【図２】 図２は、本発明に従って処理を実行するために用いられる装置を図示する。
【図３】 図３は、本発明の第１の実施の形態に従って製造されたマーカーのヒステリシ
スループ特性を示す。
【図４】 図４は、非活化ユニットを含み、図１のマーカーを組み込まれる電子商品監視
システムを図示する。
【図５】 図５は、本発明の第１の実施の形態に従って製造される「ジグザグ」形状の横
に延びる領域を持つ磁気要素を示す図である。
【図６】 図６は、縦に適用される呼びかけフィールド信号に応答して、図４の磁気要素
によって示される反対極性「ジグザグ」領域配置を示す図である。
【図７】 図７は、本発明の第２の実施の形態に従って形成された磁気要素のヒステリシ
スループ特性を示す。
【図８】 図８Ａは、本発明に従って形成された磁気要素のもう一つの例のヒステリシス
ループ特性を示す。そして、図８Ｂは、図８Ａの磁気要素の末端の形をカットす
ることによって得られる磁気要素のヒステリシスループ特性を示す。
【図９】 図９は、本発明に従って形成された磁気要素のもう一つの例のヒステリシスル
ープ特性を示す。
【図１０】 図１０Ａは、図９の磁気要素の末端の形をカットすることによって得られる磁
気要素のヒステリシスループ特性を示す。そして、図１０Ｂは、図１０Ａの磁気
要素の末端で磁束集線装置を配置することによって得られるヒステリシスループ
特性を示す。
【図１１】 図１１は、本発明の第３の実施の形態に従って供給される磁気要素に形成され
る「不揃いあめんぼう（barber pole）」を示す図である。
【図１２】 図１２Ａは、本発明の第４の実施の形態に従って磁気要素に形成された「等間
隔あめんぼう（barberpole）」を示す図である。そして、図１２Ｂは、呼びかけ
フィールド信号にさらすことにおいて、図１２Ａの形状に固定された壁の解放か
ら結果として生ずる「不揃いあめんぼう（barber pole）」の形状を図示する。
【図１３】 図１３は、図１２Ａ及び１２Ｂの磁気要素のヒステリシスループ特性を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，Ｅ Ａ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ， ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，Ｇ Ｅ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ， ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，Ｍ Ｎ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ， ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，Ｚ Ｗ (71)出願人 951 Ｙａｍａｔｏ Ｒｏａｄ，Ｂｏｃａ Ｒａｔｏｎ，Ｆｌｏｒｉｄａ 33431− 0700，Ｕｎｉｔｅｄ Ｓｔｅｔｅｓ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａ (72)発明者 ヤマサキ、ジロー 福岡県福岡市東区御島崎１−32−204 (72)発明者 テルショー、リチャード アメリカ合衆国、フロリダ州 33437、ボ ーイントン・ビーチ、セダー・レイク・ロ ード 5277−26 Ｆターム(参考） 5C084 AA03 AA09 BB12 BB32 CC36 DD21 EE07 GG21 GG56 5E062 CC01 CD06 CG03

Claims (62)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 商品監視システムにおいて使用されるマーカーを生産する方
    法であって、 縦軸を持つ磁性材料の連続的なリボンを供給するステップと、 磁性材料の前記連続的なリボン内に複数の実質的に平行な磁壁を含む壁構成を
    持つ領域を創り出すステップであって、前記複数の実質的に平行な磁壁は、前記
    連続的なリボンの縦軸から少なくとも１０°傾けられる壁方向に延びている、前
    記創り出すステップと、 前記創り出すステップの後に、前記実質的に平行な磁壁の壁構成がしきい値よ
    り低い印加磁界の値では、固定された状態のままであるように、前記連続的なリ
    ボンを処理するステップと、 を有することを特徴とする方法。
  2. 【請求項２】 前記処理するステップは、磁性材料の前記連続的なリボンを
    焼き鈍すことを含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
  3. 【請求項３】 前記創り出すステップ及び処理するステップのそれぞれは、
    焼き鈍し領域を通して、磁性材料の前記連続的なリボンを連続的に運ぶことを有
    することを特徴とする請求項２記載の方法。
  4. 【請求項４】 前記処理するステップは、前記リボンの縦軸に沿って２エル
    ステッドの磁界を適用する間、前記連続的なリボンを焼き鈍すことを含むことを
    特徴とする請求項３記載の方法。
  5. 【請求項５】 前記処理するステップは、前記リボンの縦軸に沿って１エル
    ステッドの磁界を適用する間、前記連続的なリボンを焼き鈍すことを含むことを
    特徴とする請求項３記載の方法。
  6. 【請求項６】 前記処理するステップは、磁性材料の前記連続的なリボン上
    に硬いかあるいは幾分硬い磁性材料の層を沈積させることを含むことを特徴とす
    る請求項１記載の方法。
  7. 【請求項７】 前記処理するステップの後に実行される、別々のマーカー要
    素を形成するために、前記連続的なリボンの縦軸に対して横方向に前記連続的な
    リボンをカットするステップをさらに有することを特徴とする請求項１記載の方
    法。
  8. 【請求項８】 前記しきい値は、２エルステッドよりも小さいことを特徴と
    する請求項１記載の方法。
  9. 【請求項９】 前記しきい値は、１エルステッドよりも小さいことを特徴と
    する請求項８記載の方法。
  10. 【請求項１０】 前記磁性材料は、実質的に０磁気ひずみを示すことを特徴
    とする請求項１記載の方法。
  11. 【請求項１１】 商品監視システムにおいて使用されるマーカーを生産する
    方法であって、 縦軸を持つ磁性材料の連続的なリボンを供給するステップと、 磁性材料の前記連続的なリボン内に複数の実質的に平行な磁壁を含む壁構成を
    持つ領域を創り出すステップであって、前記複数の実質的に平行な磁壁は、前記
    連続的なリボンの縦軸から少なくとも１０°傾けられる壁方向に延びている、前
    記創り出すステップと、 前記創り出すステップの後に、前記実質的に平行な磁壁の壁構成を安定させる
    ために、前記連続的なリボンを処理するステップと、 前記処理するステップの後に、別々のマーカー要素を形成するために、前記連
    続的なリボンの縦軸に対して横方向に前記連続的なリボンをカットするステップ
    とを備え、 前記別々のマーカー要素は、それぞれ、大きいバルクハウゼン不連続を持つ磁
    気ヒステリシスループを持つので、マーカー要素の磁極性に対向する方向の磁界
    の強さが予め決められていたしきい値を越えている外部磁界にそのマーカー要素
    をさらすことは、前記磁極性の再生式の反転を結果として生じることを特徴とす
    る方法。
  12. 【請求項１２】 前記処理するステップは、磁性材料の前記連続的なリボン
    を焼き鈍すことを含むことを特徴とする請求項１１記載の方法。
  13. 【請求項１３】 前記創り出すステップ及び処理するステップのそれぞれは
    、焼き鈍し領域を通して、磁性材料の前記連続的なリボンを連続的に運ぶことを
    有することを特徴とする請求項１２記載の方法。
  14. 【請求項１４】 前記処理するステップは、前記リボンの縦軸に沿って２エ
    ルステッドの磁界を適用する間、前記連続的なリボンを焼き鈍すことを含むこと
    を特徴とする請求項１３記載の方法。
  15. 【請求項１５】 前記処理するステップは、前記リボンの縦軸に沿って１エ
    ルステッドの磁界を適用する間、前記連続的なリボンを焼き鈍すことを含むこと
    を特徴とする請求項１３記載の方法。
  16. 【請求項１６】 前記創り出すステップは、第１の場合に焼き鈍し領域を通
    して磁性材料の前記連続的なリボンを連続的に運ぶことを有し、前記処理するス
    テップは、第２及び第３の場合に焼き鈍し領域を通して磁性材料の前記連続的な
    リボンを連続的に運ぶことを有することを特徴とする請求項１３記載の方法。
  17. 【請求項１７】 前記第２及び第３の場合の間、相互に異なる温度を持つ３
    つの温度ゾーンが、前記焼き鈍し領域内に維持されることを特徴とする請求項１
    ６記載の方法。
  18. 【請求項１８】 前記第３の場合の間、１エルステッドの磁界が前記リボン
    の縦軸に沿って適用されることを特徴とする請求項１７記載の方法。
  19. 【請求項１９】 前記処理するステップは、磁性材料の前記連続的なリボン
    上に硬いかあるいは幾分硬い磁性材料の層を沈積させることを含むことを特徴と
    する請求項１１記載の方法。
  20. 【請求項２０】 前記壁方向は、前記連続的なリボンの縦軸に実質的に垂直
    であることを特徴とする請求項１１記載の方法。
  21. 【請求項２１】 前記予め決められたしきい値は、２エルステッドよりも小
    さいことを特徴とする請求項１１記載の方法。
  22. 【請求項２２】 前記予め決められたしきい値は、１エルステッドよりも小
    さいことを特徴とする請求項１８記載の方法。
  23. 【請求項２３】 前記磁性材料は、実質的に０磁気ひずみを示すことを特徴
    とする請求項１１記載の方法。
  24. 【請求項２４】 商品監視システムにおいて使用されるマーカーを生産する
    方法であって、 縦軸を持つ磁性材料の連続的なリボンを供給するステップと、 磁性材料の前記連続的なリボン内に複数の実質的に平行な磁壁を含む壁構成を
    持つ領域を創り出すステップであって、前記複数の実質的に平行な磁壁は、前記
    連続的なリボンの縦軸から少なくとも１０°傾けられる壁方向に延びている、前
    記創り出すステップと、 前記創り出すステップの後に、前記実質的に平行な磁壁の壁構成を安定させる
    ために、前記連続的なリボンを処理するステップと、 前記処理するステップの後に、別々のマーカー要素を形成するために、前記連
    続的なリボンの縦軸に対して横方向に前記連続的なリボンをカットするステップ
    とを備え、 前記別々のマーカー要素は、それぞれ、大きいバルクハウゼン不連続を持つ磁
    気ヒステリシスループを持つので、マーカー要素の磁極性の方向の磁界の強さが
    予め決められていたしきい値を越え、それから前記しきい値より下のレベルまで
    その磁界の強さを下げる外部磁界にそのマーカー要素をさらすことが、前記マー
    カー要素の磁化におけるステップ減少を結果として生じることを特徴とする方法
    。
  25. 【請求項２５】 前記処理するステップは、磁性材料の前記連続的なリボン
    を焼き鈍すことを含むことを特徴とする請求項２４記載の方法。
  26. 【請求項２６】 前記創り出すステップ及び処理するステップのそれぞれは
    、焼き鈍し領域を通して、磁性材料の前記連続的なリボンを連続的に運ぶことを
    有することを特徴とする請求項２５記載の方法。
  27. 【請求項２７】 前記処理するステップは、前記リボンの縦軸に沿って１エ
    ルステッドの磁界を適用する間、前記連続的なリボンを焼き鈍すことを含むこと
    を特徴とする請求項２６記載の方法。
  28. 【請求項２８】 前記壁方向は、前記連続的なリボンの縦軸に実質的に垂直
    であることを特徴とする請求項２４記載の方法。
  29. 【請求項２９】 前記予め決められたしきい値は、１エルステッドよりも小
    さいことを特徴とする請求項２４記載の方法。
  30. 【請求項３０】 前記磁性材料は、実質的に０磁気ひずみを示すことを特徴
    とする請求項２４記載の方法。
  31. 【請求項３１】 交番磁気呼びかけフィールドが監視ゾーン内に確立され、
    予め決められた前記フィールドへの摂動が検出されるとき、アラームが賦活され
    る商品監視システムで使用するマーカーであって、前記マーカーは、実質的な磁
    界にさらされないとき、壁構成が固定された状態であり、壁構成が固定された状
    態から解放され磁束内の再生式のステップ変更を生じさせるしきい値まで印加磁
    界の大きさを増加するまで固定された状態のままである領域を持つ磁気要素を備
    え、その領域の壁構成は、磁界の大きさがしきい値より下の値に下がると固定さ
    れた状態に戻り、 前記磁気要素は、縦軸を持ち、前記磁気要素の領域の壁構成は、複数の実質的
    に平行な磁壁を含み、前記複数の実質的に平行な磁壁は、前記磁気要素の縦軸か
    ら少なくとも１０°傾けられた壁方向に延びることを特徴とするマーカー。
  32. 【請求項３２】 前記磁気要素の領域は、前記磁気要素が実質的に消磁され
    た状態であるときに等間隔「あめんぼう」形状を持ち、印加磁界が前記しきい値
    を越えるときに不揃い「あめんぼう」形状を持つことを特徴とする請求項３１記
    載のマーカー。
  33. 【請求項３３】 前記壁方向は、前記磁気要素の縦軸から実質的に４５°傾
    けられていることを特徴とする請求項３１記載のマーカー。
  34. 【請求項３４】 前記しきい値は、２エルステッドよりも小さいことを特徴
    とする請求項３１記載のマーカー。
  35. 【請求項３５】 前記しきい値は、１エルステッドよりも小さいことを特徴
    とする請求項３４記載のマーカー。
  36. 【請求項３６】 前記磁性材料は、実質的に０磁気ひずみを示すことを特徴
    とする請求項３１記載のマーカー。
  37. 【請求項３７】 前記磁気要素のそれぞれの末端にそれぞれ接触する一対の
    磁束集線装置をさらに備えることを特徴とする請求項３１記載のマーカー。
  38. 【請求項３８】 交番磁気フィールドが監視領域内に確立され、予め決めら
    れた前記フィールドへの摂動が検出されるときにアラームが賦活される商品監視
    システムで使用するマーカーであって、前記マーカーは、大きいバルクハウゼン
    不連続を持つ磁気ヒステリシスループを持つので、前記磁気要素の磁極性に対向
    する方向の磁界の強さが予め決められていたしきい値を越えている外部磁界に前
    記磁気要素をさらすことは、前記磁極性の再生式の反転を結果として生じる、前
    記磁気要素と、監視下で保守される商品に前記磁気要素を固定する手段とを備え
    、 前記磁気要素は、縦軸と、壁構成が複数の実質的に平行な磁壁とを含む領域を
    持ち、前記複数の実質的に平行な磁壁は、前記磁気要素の縦軸から少なくとも１
    ０°傾けられた壁方向に延びることを特徴とするマーカー。
  39. 【請求項３９】 前記壁方向は、前記磁気要素の縦軸に実質的に垂直である
    ことを特徴とする請求項３８記載のマーカー。
  40. 【請求項４０】 前記磁気要素の領域は、ジグザグ形状を持つことを特徴と
    する請求項３９記載のマーカー。
  41. 【請求項４１】 前記磁気要素の領域は、前記磁気要素がごくわずかな磁束
    に対応して実質的に消磁された状態であるときに等間隔「あめんぼう」形状を持
    ち、外部磁界が前記磁気要素の縦軸の方向に予め決められたしきい値より大きい
    磁界の強さを持つときに不揃い「あめんぼう」形状を持つことを特徴とする請求
    項３８記載のマーカー。
  42. 【請求項４２】 前記壁方向は、前記磁気要素の縦軸から実質的に４５°傾
    けられていることを特徴とする請求項４１記載のマーカー。
  43. 【請求項４３】 前記しきい値は、２エルステッドよりも小さいことを特徴
    とする請求項３８記載のマーカー。
  44. 【請求項４４】 前記しきい値は、１エルステッドよりも小さいことを特徴
    とする請求項４３記載のマーカー。
  45. 【請求項４５】 前記磁性材料は、実質的に０磁気ひずみを示すことを特徴
    とする請求項３８記載のマーカー。
  46. 【請求項４６】 前記磁気要素のそれぞれの末端にそれぞれ接触する一対の
    磁束集線装置をさらに備えることを特徴とする請求項３８記載のマーカー。
  47. 【請求項４７】 交番磁気フィールドが監視領域内に確立され、予め決めら
    れた前記フィールドへの摂動が検出されるときにアラームが賦活される商品監視
    システムで使用するマーカーであって、前記マーカーは、大きいバルクハウゼン
    不連続を持つ磁気ヒステリシスループを持つので、前記磁気要素の磁極性の方向
    の磁界の強さが予め決められていたしきい値を実質的に越えている外部磁界に前
    記磁気要素をさらし、次いで前記しきい値より下のレベルに磁界の強さを下げる
    ことは、前記磁気要素の磁化におけるステップ減少を結果として生じる、前記磁
    気要素と、監視下で保守される商品に前記磁気要素を固定する手段とを備え、 前記磁気要素は、縦軸と、壁構成が複数の実質的に平行な磁壁とを含む領域を
    持ち、前記複数の実質的に平行な磁壁は、前記磁気要素の縦軸から少なくとも１
    ０°傾けられた壁方向に延びることを特徴とするマーカー。
  48. 【請求項４８】 前記壁方向は、前記磁気要素の縦軸に実質的に垂直である
    ことを特徴とする請求項４７記載のマーカー。
  49. 【請求項４９】 前記磁気要素の領域は、ジグザグ形状を持つことを特徴と
    する請求項４８記載のマーカー。
  50. 【請求項５０】 前記予め決められたしきい値は、２エルステッドよりも小
    さいことを特徴とする請求項４７記載のマーカー。
  51. 【請求項５１】 前記予め決められたしきい値は、１エルステッドよりも小
    さいことを特徴とする請求項５０記載のマーカー。
  52. 【請求項５２】 前記磁性材料は、実質的に０磁気ひずみを示すことを特徴
    とする請求項４７記載のマーカー。
  53. 【請求項５３】 前記磁気要素のそれぞれの末端にそれぞれ接触する一対の
    磁束集線装置をさらに備えることを特徴とする請求項４７記載のマーカー。
  54. 【請求項５４】 呼びかけゾーン内の商品の存在を検出するためのシステム
    であって、 呼びかけゾーン内に交番磁気呼びかけフィールドを生成する手段であって、前
    記呼びかけゾーン内の前記呼びかけフィールドの大きさがしきい値を越えている
    、前記生成する手段と、 商品に固定されたマーカーであって、そのマーカーは、実質的な磁界にさらさ
    れないとき、壁構成が固定された状態であり、前記しきい値まで印加磁界の大き
    さが増加するまで固定された状態のままであり、前記しきい値レベルで、前記壁
    構成が固定された状態から解放され磁束内に再生式のステップ変更を生じさせる
    領域を持つ磁気要素を備え、その領域の壁構成は、しきい値より下の値に下げら
    れる印加磁界の大きさで固定された状態に戻り、前記磁気要素は、縦軸を持ち、
    前記磁気要素の領域の壁構成は、複数の実質的に平行な磁壁を含み、前記複数の
    実質的に平行な磁壁は、前記磁気要素の縦軸から少なくとも１０°傾けられる壁
    方向に延びている、前記マーカーと、 前記マーカーが前記呼びかけゾーン内に存在するときに、前記呼びかけゾーン
    内の呼びかけフィールドの摂動を検出する手段と、 を備えることを特徴とするシステム。
  55. 【請求項５５】 前記しきい値は、２エルステッドよりも小さいことを特徴
    とする請求項５４記載のシステム。
  56. 【請求項５６】 前記しきい値は、１エルステッドよりも小さいことを特徴
    とする請求項５５記載のシステム。
  57. 【請求項５７】 呼びかけゾーン内の商品の存在を検出するためのシステム
    であって、 呼びかけゾーン内に交番磁気呼びかけフィールドを生成する手段であって、前
    記呼びかけゾーン内の前記呼びかけフィールドの大きさがしきい値を越えている
    、前記生成する手段と、 商品に固定されたマーカーであって、そのマーカーは、大きいバルクハウゼン
    不連続を持つ磁気ヒステリシスループを持つので、前記磁気要素の磁極性に対向
    する方向の磁界の強さが前記しきい値を越えている外部磁界に前記磁気要素をさ
    らすことは、前記磁極性の再生式の反転を結果として生じる、前記磁気要素と、
    監視下で保守される商品に前記磁気要素を固定する手段とを備え、前記磁気要素
    は、縦軸と、その壁構成が複数の実質的に平行な磁壁を含む領域とを持ち、前記
    複数の実質的に平行な磁壁は、前記磁気要素の縦軸から少なくとも１０°傾けら
    れる壁方向に延びている、前記マーカーと、 前記マーカーが前記呼びかけゾーン内に存在するときに、前記呼びかけゾーン
    内の呼びかけフィールドの摂動を検出する手段と、 を備えることを特徴とするシステム。
  58. 【請求項５８】 前記しきい値は、２エルステッドよりも小さいことを特徴
    とする請求項５７記載のシステム。
  59. 【請求項５９】 前記しきい値は、１エルステッドよりも小さいことを特徴
    とする請求項５８記載のシステム。
  60. 【請求項６０】 呼びかけゾーン内の商品の存在を検出するためのシステム
    であって、 呼びかけゾーン内に交番磁気呼びかけフィールドを生成する手段であって、前
    記呼びかけゾーン内の前記呼びかけフィールドの大きさがしきい値を実質的に越
    えている、前記生成する手段と、 商品に固定されたマーカーであって、そのマーカーは、大きいバルクハウゼン
    不連続を持つ磁気ヒステリシスループを持つので、前記磁気要素の磁極性の方向
    の磁界の強さが前記しきい値を実質的に越えている外部磁界に前記磁気要素をさ
    らし、次いで前記しきい値より下のレベルに磁界の強さを下げることは、前記磁
    気要素の磁化におけるステップ減少を結果として生じる、前記磁気要素と、監視
    下で保守される商品に前記磁気要素を固定する手段とを備え、前記磁気要素は、
    縦軸と、その壁構成が複数の実質的に平行な磁壁とを含む領域を持ち、前記複数
    の実質的に平行な磁壁は、前記磁気要素の縦軸から少なくとも１０°傾けられる
    壁方向に延びている、前記マーカーと、 前記マーカーが前記呼びかけゾーン内に存在するときに、前記呼びかけゾーン
    内の呼びかけフィールドの摂動を検出する手段と、 を備えることを特徴とするシステム。
  61. 【請求項６１】 前記しきい値は、２エルステッドよりも小さいことを特徴
    とする請求項６０記載のシステム。
  62. 【請求項６２】 前記しきい値は、１エルステッドよりも小さいことを特徴
    とする請求項６１記載のシステム。
JP2000537188A 1998-03-18 1999-03-17 磁束のステップ変更を持つｅ．ａ．ｓマーカーを形成するための交軸フィールド焼き鈍しプロセス Withdrawn JP2002507806A (ja)

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