JP2002371147A - Coated molding for ultraviolet shielding and gas barrier - Google Patents

Coated molding for ultraviolet shielding and gas barrier

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JP2002371147A
JP2002371147A JP2001180270A JP2001180270A JP2002371147A JP 2002371147 A JP2002371147 A JP 2002371147A JP 2001180270 A JP2001180270 A JP 2001180270A JP 2001180270 A JP2001180270 A JP 2001180270A JP 2002371147 A JP2002371147 A JP 2002371147A
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group
gas barrier
coating layer
substrate
carbon atoms
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JP2001180270A
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Tetsuya Yamamoto
哲也 山本
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Nippon Shokubai Co Ltd
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Nippon Shokubai Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide coated moldings for UV shielding and gas barrier that has a variety of excellent characteristics, for example, gas barrier properties, UV shielding properties, adhesion to the substrate, transparency, flexibility. SOLUTION: The substrate is coated with a composition that includes a silicon compound bearing amino group and SiOR<1> group (R<1> is H or a 1-4C alkyl group), an organic compound bearing amino group-reactive functional group in the molecule, an organometallic compound represented by the general formula: R<2> m (OR<3> )n (wherein M is Si or a metal element; R<2> is a 1-4C alkyl or a 1-4C alkyl bearing a functional group unreactive toward amino group; R<3> is H or a 1-4C alkyl; n is an integer of >=1 and the value of m+n coincides the atomic value of M) and/or a hydrolyzate thereof) and further coated with the UV coating layer to obtain the molded products with UV-blocking and gas barrier coating layers.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なUV遮断性
ガスバリア用コーティング成形体に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel UV-shielded gas barrier coating molding.

【0002】[0002]

【従来の技術】酸素、窒素、炭酸ガス、水蒸気等の気体
の透過度が極めて小さいガスバリア材は包装用材料等の
分野において需要が増大している。さらに紫外線の透過
度が極めて小さい紫外線遮断材も、紫外線が当たると味
が変わってしまうような、ポテトチップスなどの揚げ物
やアルコール分を含む酒類などの食品包装用材料の分野
において需要が増大している。こうした飲料品や食品用
容器などの包装用材料等において、ガスバリア性をプラ
スチックフィルムまたはシート等の成形体材料に付与す
るためには、エチレン−ビニルアルコール共重合体、
塩化ビニリデン系共重合体、芳香族系ナイロン等の気体
不透過性素材で成形体を形成する、これらの気体不透
過性素材を他の材料にラミネートまたはコーティングす
る、アルミ箔をフィルム状材料にラミネートする、
金属酸化物を蒸着する等の方法がとられている。
2. Description of the Related Art There is an increasing demand for gas barrier materials having extremely low permeability of gases such as oxygen, nitrogen, carbon dioxide, water vapor and the like in the field of packaging materials and the like. Further, the demand for ultraviolet ray blocking materials having extremely low transmittance of ultraviolet rays is increasing in the field of food packaging materials such as fried foods such as potato chips and alcoholic beverages such as alcoholic beverages, the taste of which changes when exposed to ultraviolet rays. I have. In packaging materials such as beverages and food containers, in order to impart gas barrier properties to molded materials such as plastic films or sheets, ethylene-vinyl alcohol copolymers,
Forming molded objects with gas impermeable materials such as vinylidene chloride copolymers and aromatic nylons, laminating or coating these gas impermeable materials with other materials, laminating aluminum foil on film materials Do
A method such as vapor deposition of a metal oxide is used.

【0003】しかしながら、これらの気体不透過性素材
のうち、エチレン−ビニルアルコール共重合体や芳香族
系ナイロンは耐湿性に劣り、雰囲気の湿度が大きくなる
に従ってガスバリア性が大幅に低下するという問題があ
り、塩化ビニリデン系共重合体は塩素原子を含んでいる
ため、公害の原因となる恐れがある。また、上記アルミ
箔ラミネートフィルムでは、包装された内容物を外から
見ることができず、金属酸化物蒸着フィルムは可とう性
に劣るため食品包装用材料に適用しにくいほか、蒸着層
にクラックが生じ易く、ガスバリア性の低下を引き起こ
すという問題があった。
However, among these gas-impermeable materials, ethylene-vinyl alcohol copolymer and aromatic nylon are inferior in moisture resistance, and have a problem that gas barrier properties are greatly reduced as the humidity of the atmosphere increases. In addition, since the vinylidene chloride-based copolymer contains a chlorine atom, it may cause pollution. Also, in the above aluminum foil laminated film, the packaged contents cannot be seen from the outside, and the metal oxide vapor-deposited film is inferior in flexibility, so it is difficult to apply it to food packaging materials, and cracks are formed in the vapor-deposited layer. There is a problem in that it is likely to occur and causes a decrease in gas barrier properties.

【0004】また、上記ガスバリア性にさらに紫外線遮
断性を兼ね備えたプラスチックフィルムまたはシート等
の成形体材料としては、上記アルミ蒸着やアルミ箔ラミ
ネートフィルム、あるいは金属酸化物蒸着フィルムが多
く利用されているものの、上述したように、包装された
内容物を外から見ることができなかったり、食品包装用
材料に適用しにくいほか、ガスバリア性や紫外線遮断性
の低下を引き起こすという問題があった。
[0004] As a molded material such as a plastic film or a sheet having the above-mentioned gas barrier properties and ultraviolet shielding properties, the above-mentioned aluminum vapor-deposited or aluminum foil-laminated film or metal oxide-deposited film is often used. However, as described above, there are problems that the packaged contents cannot be seen from the outside, it is difficult to apply the packaged materials to food packaging materials, and the gas barrier property and the ultraviolet shielding property are deteriorated.

【0005】また、一般に、ABS(アクリロニトリル
−ブタジエン−スチレン)樹脂、FRP(繊維強化プラ
スチック)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、
ポリスチレン、PP(ポリプロピレン)、PC(ポリカ
ーボネート)、アクリル系樹脂等の各種プラスチック
(基材)からなる成形品(加工製品)は、ガラス基材に
比べ紫外線に曝されると黄変等の劣化が生じやすい。そ
こで、従来より、これらプラスチック成形品表面に耐候
性を有する樹脂フィルムを積層することにより、紫外線
劣化を防止することが行われている。
In general, ABS (acrylonitrile-butadiene-styrene) resin, FRP (fiber reinforced plastic), PET (polyethylene terephthalate),
Molded products (processed products) made of various plastics (substrates) such as polystyrene, PP (polypropylene), PC (polycarbonate), and acrylic resin are more resistant to deterioration such as yellowing when exposed to ultraviolet rays than glass substrates. Easy to occur. Therefore, conventionally, it has been practiced to prevent ultraviolet light deterioration by laminating a weather-resistant resin film on the surface of these plastic molded products.

【0006】しかしながら、上記積層用樹脂フィルムに
あっても、紫外線に曝されると若干進行は遅くなるが黄
変等の劣化が生じることに変わりはなく、その耐候性が
不充分となっている。つまり、上記積層用樹脂フィルム
では、下地保護効果や黄変防止効果等が不良であり、耐
候性が劣るという問題点を有している。
[0006] However, even when the above-mentioned laminating resin film is exposed to ultraviolet rays, its progress is slightly delayed, but deterioration such as yellowing remains unchanged, and its weather resistance is insufficient. . That is, the resin film for lamination has a problem that the protective effect of the underlayer and the effect of preventing yellowing are poor and the weather resistance is poor.

【0007】そこで、例えば、特開平4−311754
号公報には、ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収性単量
体とフッ素含有単量体とを共重合してなるフッ素樹脂組
成物を用いて、上記の成形品に耐候性を付与することが
提案されている。ところが、該フッ素樹脂組成物は、成
形品であるプラスチック(基材など)との密着性や接着
性に劣っている。また、フッ素樹脂組成物は高価であ
り、かつ、汚損し易い(汚れ易い)という問題点を有し
ている。
Therefore, for example, Japanese Patent Laid-Open Publication No.
Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H11-216, proposes that a weather resistance is imparted to the above-mentioned molded article by using a fluororesin composition obtained by copolymerizing a benzotriazole-based ultraviolet-absorbing monomer and a fluorine-containing monomer. ing. However, the fluororesin composition is inferior in adhesion and adhesion to plastics (substrates and the like) as molded articles. Further, the fluororesin composition has a problem that it is expensive and is easily stained (easily stained).

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】さらに、こうした食料
・飲料品の容器や包装材等に使用される食品包装用材料
に対しては、商品購入時の消費者の厳しいチェックがあ
り、例えば、基材との密着不良や可とう性に問題があり
剥がれがあったり、透明性に問題があったり、印刷不良
があるものに対しては、食料・飲料品自体の品質如何に
かかわらず購入されずに売れ残ったり、返品されること
もあり、食料・飲料品の容器や包装材等に使用される食
品包装用材料に対する要求基準は極めてシビアなものと
いえ、ガスバリア性、紫外線遮断性のほかに、基材との
密着性、透明性、可とう性、印刷性、耐候性、光沢、耐
湿性、耐水性、耐溶剤性などに高い要求性能が求められ
てきており、こうした諸特性を兼ね備えた新素材を提供
できるUV遮断性ガスバリア用コーティング成形体の開
発が急務になっている。
Further, with respect to food packaging materials used for such food and beverage containers and packaging materials, there are strict checks by consumers at the time of product purchase. If there is a problem with the adhesion to the material or the flexibility, there is a problem with peeling, transparency, or poor printing, it will not be purchased regardless of the quality of the food or beverage itself. In some cases, the standards for food packaging materials used for food and beverage containers and packaging materials are extremely severe, and in addition to gas barrier properties and UV shielding properties, High performance requirements are required for adhesion to substrates, transparency, flexibility, printability, weather resistance, gloss, moisture resistance, water resistance, solvent resistance, etc. UV shielding that can provide materials The development of the gas barrier coating molded body is in urgent need.

【0009】したがって、本発明の目的は、上記の従来
技術に鑑み、ガスバリア性および紫外線遮断性に優れ、
さらには基材等との密着性、透明性、可とう性などに優
れ、これらの特性を常に安定して発現させることのでき
る新規なUV遮断性ガスバリア用コーティング成形体を
提供するものである。
[0009] Accordingly, an object of the present invention is to provide a gas barrier property and an ultraviolet blocking property,
Furthermore, the present invention provides a novel UV-blocking gas barrier coating molded article having excellent adhesion to a substrate or the like, transparency, flexibility, and the like, and capable of stably exhibiting these properties.

【0010】さらに、本発明は、上記目的に加え、より
多様な要求基準に対応できるように、上記諸特性に加
え、耐候性、光沢、耐湿性、耐水性、耐溶剤性、機械的
強度、耐久性、耐衝撃性、耐熱性、耐光性、柔軟性、印
刷性などの特性を常に安定して発現させることのできる
新規なUV遮断性ガスバリア用コーティング成形体を提
供するものである。
Further, in addition to the above-mentioned objects, the present invention provides weather resistance, gloss, moisture resistance, water resistance, solvent resistance, mechanical strength, An object of the present invention is to provide a novel UV-blocking gas barrier coating molded article capable of constantly stably expressing properties such as durability, impact resistance, heat resistance, light resistance, flexibility, and printability.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
上記課題を鋭意検討した結果、これらの諸目的は、高い
ガスバリア性を発現し、さらに基材等との密着性、透明
性、可とう性、UV遮断性等の特性を有する被覆層と、
高いUV遮断性を発現し、さらに基材等との密着性、透
明性、可とう性、ガスバリア性等の特性を有する被覆層
とを基材上に積層することにより、食品包装用材料など
に求められる厳しい要求基準をクリアでき、視認性に優
れ、内容物の品質(味、香り、色など)をも保持できる
ことを見出し、本発明を完成するに至ったものである。
Means for Solving the Problems Accordingly, the present inventors have:
As a result of diligent study of the above problems, these objects express a high gas barrier property, and further have a coating layer having properties such as adhesion to a substrate and the like, transparency, flexibility, UV blocking properties,
By expressing a high UV blocking property and further laminating a coating layer having properties such as adhesion to the substrate, transparency, flexibility and gas barrier properties on the substrate, it can be used for food packaging materials, etc. The present inventors have found that they can meet the required strict requirements, are excellent in visibility, and can maintain the quality (taste, aroma, color, etc.) of the contents, and have completed the present invention.

【0012】すなわち、本発明の目的は、基材上に、
(1)アミノ基とSiOR1基(R1は、水素原子また
は炭素数1〜4のアルキル基を表す。)を分子内に有す
るケイ素化合物(I)と、 アミノ基と反応し得る官能基を分子内に有する有機化
合物(II)と、 下記一般式(1)
[0012] That is, the object of the present invention is to provide
(1) A silicon compound (I) having an amino group and a SiOR 1 group (R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) in a molecule, and a functional group capable of reacting with the amino group. An organic compound (II) having a compound represented by the following general formula (1)

【0013】[0013]

【化2】 Embedded image

【0014】(ただし、式中、MはSiもしくは金属元
素であり、R2は炭素数1〜4のアルキル基またはアミ
ノ基と反応しない官能基を有する炭素数1〜4のアルキ
ル基であり、R3は水素原子または炭素数1〜4のアル
キル基であり、nは1以上の整数でかつm+nはMの原
子価と一致するものである。)で表される有機金属化合
物(III)および/またはその加水分解縮合物と、を含
む組成物から得られる被覆層と、(2)UV遮断性被覆
層と、を有するUV遮断性ガスバリア用コーティング成
形体により達成される。
(Wherein, M is Si or a metal element; R 2 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms having a functional group which does not react with an amino group; R 3 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, n is an integer of 1 or more, and m + n is the same as the valence of M.) And / or a hydrolytic condensate thereof; and (2) a UV-blocking gas barrier coating molded article having a UV-blocking coating layer.

【0015】[0015]

【発明の実施の態様】以下、本発明につき詳細に説明す
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0016】本発明のUV遮断性ガスバリア用コーティ
ング成形体に用いることのできる基材としては、UV遮
断性およびガスバリア性が要求される各種用途、例え
ば、食品(飲料品を含む。以下同様)の容器や包装材な
どに利用されてなるプラスチック基材などを用いること
ができる。具体的には、こうした用途ごとに該基材に求
められる要求特性も異なることから一義的に規定するこ
とはできず、それぞれの要求特性(例えば、機械的特
性、光学特性など)に応じて、最適な基材を適宜選択す
べきものであり、特に制限されるものではない。
The substrate which can be used for the UV-shielding gas-barrier coating molded article of the present invention includes various applications in which UV-shielding and gas-barrier properties are required, such as foods (including beverages; the same applies hereinafter). A plastic substrate used for a container, a packaging material, or the like can be used. Specifically, since the required properties required for the base material differ for each of these uses, it cannot be uniquely defined, and according to each required property (for example, mechanical properties, optical properties, etc.), The optimum base material should be appropriately selected, and is not particularly limited.

【0017】上記基材としては、例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、
ポリエチレン−2,6−ナフタレート、ポリブチレンテ
レフタレートやこれらの共重合体等のポリエステル系樹
脂、ポリアミド類、ポリスチレン、ABS樹脂、ポリ
(メタ)アクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、
ポリ酢酸ビニル、ポリカーボネート、セロファン、ポリ
イミド、ポリエーテルイミド、ポリスルフォン、ポリエ
ーテルケトン、アイオノマー樹脂、フッ素樹脂等の熱可
塑性樹脂や、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキ
シ樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ユ
リア樹脂、アルキド樹脂、珪素樹脂等の熱硬化性樹脂、
繊維強化プラスチック(FRP)などの複合材料等が挙
げられる。なお、最適な基材は上述したように用途ごと
に異なるものであるが、例えば、食品の容器や包装材に
利用する場合には、機械的強度、透明性、耐熱性(耐煮
沸性)、成形容易性、着色、低燃焼カロリー化などの観
点から、ポリカーボネート(PC)、耐衝撃性ポリスチ
レン(HIPS)、ポリエチレンテレフタレート(PE
T)、エチレンビニルアルコール共重合体(EVO
H)、ガスバリヤー性樹脂、ポリエチレンやポリプロピ
レンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリアクリロニトリ
ル、ポリアミド、セロハンが好ましく、特に加工のし易
さ、汎用性などの理由から、ポリプロピレン、ポリアミ
ド、PETなどの熱可塑性樹脂がより好ましい。これら
は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用して
もよい。また、これらの基材自身も単一材料では得られ
ない要求特性を得るために性質の異なる材料により多層
にしてもよい。なお、本発明では、上述したように透明
性を有するプラスチック基材の利用が最も一般的である
が、半透明ないし不透明なプラスチック基材、さらには
ガラス、セラミックス、金属などの適用(蒸着などによ
りその一部に適用する場合を含む)を排除するものでは
ない。
Examples of the substrate include polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene, polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, and the like.
Polyester resins such as polyethylene-2,6-naphthalate, polybutylene terephthalate and copolymers thereof, polyamides, polystyrene, ABS resin, poly (meth) acrylate, polyacrylonitrile,
Thermoplastic resins such as polyvinyl acetate, polycarbonate, cellophane, polyimide, polyetherimide, polysulfone, polyetherketone, ionomer resin, and fluororesin, melamine resin, polyurethane resin, epoxy resin, phenolic resin, unsaturated polyester resin, Thermosetting resin such as urea resin, alkyd resin, silicon resin,
Composite materials such as fiber reinforced plastic (FRP) and the like can be mentioned. The optimum base material varies depending on the application as described above. For example, when used as a food container or packaging material, the mechanical strength, transparency, heat resistance (boiling resistance), Polycarbonate (PC), high-impact polystyrene (HIPS), polyethylene terephthalate (PE) are used from the viewpoints of moldability, coloring, and low burn calorie.
T), ethylene vinyl alcohol copolymer (EVO
H), gas barrier resins, polyolefin-based resins such as polyethylene and polypropylene, polyacrylonitrile, polyamide, and cellophane are preferred, and thermoplastic resins such as polypropylene, polyamide, and PET are particularly preferred because of their ease of processing and versatility. Is more preferred. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, these base materials themselves may be formed into a multilayer structure with materials having different properties in order to obtain required characteristics that cannot be obtained with a single material. In the present invention, the use of a plastic base material having transparency as described above is most common, but the use of a translucent or opaque plastic base material, and further the application of glass, ceramics, metal, etc. (by vapor deposition, etc.) Including the case of applying to some of them).

【0018】上記基材の形状としては、特に制限される
ものではなく、任意の形状に成形できる特徴を有してお
り、使用用途に応じて適宜選択することができる。よっ
て、かかる基材上に上記ガスバリア性被覆層、UV遮断
性被覆層を形成して得られる本発明のUV遮断性ガスバ
リア用コーティング成形体も、その名称の拘泥されるべ
きものではなく、例えば、食品の容器や包装材などに使
用される形態であれば本発明の範囲に含まれるべきもの
である。かかる基材の形状としては、フィルム状のもの
以外にも、シート状、あるいはボトル形状(ペットボト
ルを含む)やトレイ形状などの成型形状のものであって
もよい。また、フィルム状やシート状のものでも、曲面
を有するものであってもよい。
The shape of the substrate is not particularly limited, and has a characteristic that it can be formed into an arbitrary shape, and can be appropriately selected according to the intended use. Therefore, the gas barrier coating layer on such a substrate, the UV-shielding gas barrier coating molded body of the present invention obtained by forming a UV-shielding coating layer, the name should not be limited, for example, Any form used for food containers and packaging materials should be included in the scope of the present invention. The shape of the substrate may be a sheet shape, or a molded shape such as a bottle shape (including a PET bottle) or a tray shape, in addition to the film shape. Further, it may be a film or sheet, or may have a curved surface.

【0019】上記基材の厚さは、使用用途により異なる
ため一義的に規定することは困難であり、用途に応じて
適宜選択されるべきものである。例えば、食品の容器や
包装材に利用する場合には、通常7〜100μm、好ま
しくは10〜30μmの範囲である。
Since the thickness of the above-mentioned base material varies depending on the intended use, it is difficult to uniquely define the thickness, and it should be appropriately selected according to the intended use. For example, when it is used for food containers and packaging materials, it is usually in the range of 7 to 100 μm, preferably 10 to 30 μm.

【0020】また、上記基材として、例えば、透明なプ
ラスチック基材等を用いる場合には、その表面を予めプ
ラズマ処理またはコロナ放電処理したり、あるいは、基
材(被塗物)表面を酸素を含む雰囲気中で200〜40
0nm付近の波長の紫外線を照射した後に、上記ガスバ
リア性被覆層やV遮断性被覆層を形成することが好まし
い。
When a transparent plastic substrate or the like is used as the substrate, for example, its surface is subjected to plasma treatment or corona discharge treatment in advance, or the surface of the substrate (substrate) is exposed to oxygen. 200 to 40 in an atmosphere containing
It is preferable to form the gas barrier coating layer and the V-blocking coating layer after irradiating ultraviolet rays having a wavelength near 0 nm.

【0021】また、上記基材(被塗物)の汚れの付着状
態によっては、上記組成物などをはじくなどして均一に
コーティングできない場合、基材表面の洗浄や表面改質
を行うことで改善できる。洗浄や表面改質の方法として
は、アルコール、アセトン、ヘキサンなどの有機溶媒に
よる脱脂洗浄、アルカリや酸による洗浄、研磨剤により
表面を研磨する方法、超音波洗浄などの洗浄法や、紫外
線照射処理、紫外線オゾン処理、プラズマ処理、コロナ
放電処理、熱処理などの表面改質法が挙げられる。
If the composition cannot be uniformly coated by repelling the above-mentioned composition or the like depending on the adhesion state of the dirt on the above-mentioned substrate (substrate to be coated), it can be improved by washing or modifying the surface of the substrate. it can. Methods of cleaning and surface modification include degreasing cleaning with an organic solvent such as alcohol, acetone, and hexane, cleaning with an alkali or acid, polishing the surface with an abrasive, cleaning methods such as ultrasonic cleaning, and ultraviolet irradiation treatment. And surface modification methods such as ultraviolet ozone treatment, plasma treatment, corona discharge treatment, and heat treatment.

【0022】次に、本発明のUV遮断性ガスバリア用コ
ーティング成形体では、上記基材上に、ガスバリア性被
覆層およびUV遮断性被覆層が形成されてなるものであ
る。ここで、ガスバリア性被覆層およびUV遮断性被覆
層の積層順序は、特に限定されるものではなく、基材上
に、ガスバリア性被覆層、次いでUV遮断性被覆層の順
に積層されていてもよいし、基材上に、UV遮断性被覆
層、次いでガスバリア性被覆層の順に積層されていても
よい。また、ガスバリア性被覆層およびUV遮断性被覆
層は、基材上に直接形成されてもよいし、ガスバリア性
被覆層およびUV遮断性被覆層以外の他の被覆層(接着
層、化粧層などを含む)を介して間接的に形成されても
よい。好ましくは、ガスバリア性被覆層が膨潤するのを
防止する観点から、基材側(下層部側)にガスバリア性
被覆層を設け、上層部側にUV遮断性被覆層を設けるの
が望ましい。
Next, in the UV-shielding gas barrier coating molded article of the present invention, a gas-barrier coating layer and a UV-shielding coating layer are formed on the above substrate. Here, the lamination order of the gas barrier coating layer and the UV-blocking coating layer is not particularly limited, and the gas barrier coating layer and then the UV-blocking coating layer may be laminated on the substrate. Then, a UV blocking coating layer and then a gas barrier coating layer may be laminated on the substrate in this order. Further, the gas barrier coating layer and the UV blocking coating layer may be formed directly on the base material, or may be other coating layers (adhesive layer, decorative layer, etc.) other than the gas barrier coating layer and the UV blocking coating layer. ) May be formed indirectly. Preferably, from the viewpoint of preventing the gas barrier coating layer from swelling, it is desirable to provide the gas barrier coating layer on the substrate side (lower layer side) and to provide the UV blocking coating layer on the upper layer side.

【0023】このうち、上記ガスバリア性被覆層の形成
に用いられる上記組成物の主要構成成分の1つである、
ケイ素化合物(I)としては、アミノ基とSiOR1
(R1は、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を
表す。)を分子内に有するものであればよく、特に制限
されるものではない。かかるケイ素化合物(I)は、後
述する有機金属化合物(III)と共に、ガスバリア用コ
ーティング剤を基材にコーティングして得られるコーテ
ィング層中のSi源となる化合物である。
Among them, one of the main components of the composition used for forming the gas barrier coating layer,
The silicon compound (I) is not particularly limited as long as it has an amino group and a SiOR 1 group (R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) in the molecule. is not. The silicon compound (I) is a compound serving as a Si source in a coating layer obtained by coating a substrate with a gas barrier coating agent together with an organometallic compound (III) described later.

【0024】上記ケイ素化合物(I)は、後述のアミノ
基と反応し得る官能基を分子内に有する有機化合物(I
I)と反応する他、加水分解性基であるSi(OR1)基
(R1は、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を
表す。)を分子内に有しているので、有機化合物(II)
と反応する前もしくは反応後に加水分解縮合が進行し、
また後述の有機金属化合物(III)の加水分解性縮合基
と共加水分解縮合を起こして縮重合が進行していくた
め、速やかにハードコート性に優れた緻密な被覆層を形
成することができる。また、被覆層(膜)と基材(また
は他の被覆層等の被塗物)との密着性を高める効果も有
する。なお、上記組成物としては、上記ケイ素化合物
(I)を予め単独で、あるいは有機金属化合物(III)
と(共)加水分解縮重合を行っておいてもよい。これ
は、基材(または他の被覆層等の被塗物)上への該組成
物のコーティング時のケイ素化合物(I)や有機金属化
合物(III)の渾散を防ぐことができ、より速やかに被
覆層(コーティング膜)を形成することができるためで
ある。また有機化合物(II)として低分子化合物を使用
するときには、前もって加水分解縮合しておくことが好
ましい。
The silicon compound (I) is an organic compound (I) having a functional group capable of reacting with an amino group described later in the molecule.
In addition to reacting with I), the compound has a hydrolyzable Si (OR 1 ) group (R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) in the molecule. Compound (II)
Before or after the reaction with the hydrolysis hydrolysis condensation proceeds,
In addition, since condensation polymerization proceeds by causing co-hydrolytic condensation with a hydrolyzable condensed group of the organometallic compound (III) described below, a dense coating layer having excellent hard coat properties can be formed quickly. . Further, it also has an effect of increasing the adhesion between the coating layer (film) and the substrate (or another object to be coated such as a coating layer). As the composition, the silicon compound (I) may be used alone or in advance, or the organometallic compound (III) may be used.
And (co) hydrolytic condensation polymerization. This can prevent the silicon compound (I) and the organometallic compound (III) from permeating at the time of coating the composition on a substrate (or another object to be coated such as a coating layer). This is because a coating layer (coating film) can be formed on the substrate. When a low molecular weight compound is used as the organic compound (II), it is preferable to carry out hydrolysis and condensation in advance.

【0025】ここで、上記SiOR1基のR1は、水素原
子または炭素数1〜4のアルキル基である。ここで、炭
素数1〜4のアルキル基としては、特に制限されるもの
ではなく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
の直鎖アルキル基、イソプロピル基の分岐鎖アルキル
基、シクロプロピル基、シクロブチル基の環状(脂環
式)アルキル基のいずれであってもよい。上記R1とし
て、好ましくは加水分解縮合の反応性に優れ、緻密な被
膜を形成する上での有利性、反応容易性の観点から、メ
チル基、エチル基である。
Here, R 1 in the SiOR 1 group is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Here, the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is not particularly limited, and is a linear alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a branched chain alkyl group such as an isopropyl group, and a cyclopropyl group. And a cyclic (alicyclic) alkyl group of a cyclobutyl group. R 1 is preferably a methyl group or an ethyl group from the viewpoints of excellent hydrolytic condensation reactivity, advantages in forming a dense film, and ease of reaction.

【0026】上記アミノ基とSiOR1基(R1は、水素
原子または炭素数1〜4のアルキル基を表す。)を分子
内に有するケイ素化合物(I)としては、具体的には、
N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメト
キシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ
−アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、N−β
(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリブトキシシ
ラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−
アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミ
ノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジイソプロポキ
シシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピ
ルメチルジブトキシシラン、N−β(アミノエチル)−
γ−アミノプロピルエチルジメトキシシラン、N−β
(アミノエチル)−γ−アミノプロピルエチルジエトキ
シシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピ
ルエチルジイソプロポキシシラン、N−β(アミノエチ
ル)−γ−アミノプロピルエチルジブトキシシラン、γ
−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソ
プロポキシシラン、γ−アミノプロピルトリブトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノ
プロピルメチルジイソプロポキシシラン、γ−アミノプ
ロピルメチルジブトキシシラン、γ−アミノプロピルエ
チルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルエチルジエ
トキシシラン、γ−アミノプロピルエチルジイソプロポ
キシシラン、γ−アミノプロピルエチルジブトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリアセトキシシラン、γ−
(2−ウレイドエチル)アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−(2−ウレイドエチル)アミノプロピルトリ
エトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシ
ラン、N−β(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ
−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられ
る。これらは、1種単独で用いてもよいし、または2種
以上を併用して用いてもよい。好ましくは、反応容易性
の観点から、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、
γ−アミノプロピルトリエトキシシランである。
The silicon compound (I) having the above amino group and SiOR 1 group (R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) in the molecule includes, specifically,
N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ
-Aminopropyltriisopropoxysilane, N-β
(Aminoethyl) -γ-aminopropyltributoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-
Aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldiisopropoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldibutoxysilane, N-β (aminoethyl)-
γ-aminopropylethyldimethoxysilane, N-β
(Aminoethyl) -γ-aminopropylethyldiethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropylethyldiisopropoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropylethyldibutoxysilane, γ
-Aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriisopropoxysilane, γ-aminopropyltributoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ
-Aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropylmethyldiisopropoxysilane, γ-aminopropylmethyldibutoxysilane, γ-aminopropylethyldiethoxysilane, γ-aminopropylethyldiethoxysilane, γ-aminopropylethyl Diisopropoxysilane, γ-aminopropylethyldibutoxysilane, γ-aminopropyltriacetoxysilane, γ-
(2-ureidoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-ureidoethyl) aminopropyltriethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, N-β (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ
-Aminopropyltrimethoxysilane and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Preferably, from the viewpoint of ease of reaction, γ-aminopropyltrimethoxysilane,
γ-aminopropyltriethoxysilane.

【0027】また、本発明のUV遮断性ガスバリア用コ
ーティング成形体のガスバリア性被覆層の形成に用いら
れる上記組成物の主要構成成分の1つである、有機化合
物(II)は、アミノ基と反応し得る官能基を分子内に有
する有機化合物であればよく、特に制限されるべきもの
ではない。
The organic compound (II), which is one of the main components of the composition used for forming the gas barrier coating layer of the molded article for UV blocking gas barrier of the present invention, reacts with an amino group. Any organic compound having a possible functional group in the molecule may be used, and is not particularly limited.

【0028】ここで、上記アミノ基と反応し得る官能基
としては、特に制限されるものではなく、例えば、エポ
キシ基、カルボキシル基、イソシアネート基、チオイソ
シアネート基、オキサゾリニル基、(メタ)アクリル
基、アルデヒド基、ケトン基、アルキルハライド基など
が挙げられる。好ましくは、アミノ基との反応容易性、
耐熱水性の観点からエポキシ基である。
Here, the functional group capable of reacting with the amino group is not particularly restricted but includes, for example, an epoxy group, a carboxyl group, an isocyanate group, a thioisocyanate group, an oxazolinyl group, a (meth) acryl group, Examples include an aldehyde group, a ketone group, and an alkyl halide group. Preferably, ease of reaction with an amino group,
It is an epoxy group from the viewpoint of hot water resistance.

【0029】上述したようにアミノ基と反応し得る官能
基を分子内に有する有機化合物(II)としては、特に制
限されるべきものではないが、例えば、エポキシ基含有
化合物の具体例としては、2−エチルヘキシルグリシジ
ルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリ
エチレングリコールジグリシジルエーテル、テトラエチ
レングリコールジグリシジルエーテル、ノナエチレング
リコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコール
ジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリ
シジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジ
ルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエ
ーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテ
ル、グリセロールジグリシジルエーテル、トリメチロー
ルプロパンジグリシジルエーテル等の脂肪族モノ−、ジ
グリシジルエーテル類;グリセロールトリグリシジルエ
ーテル、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、トリ
グリシジルトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌ
レート、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテ
ル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル等
のポリグリシジルエーテル類;アジピン酸ジグリシジル
エステル、o−フタル酸ジグリシジルエステル、フェニ
ルグリシジルエーテル等の脂肪族および芳香族モノ−、
ジグリシジルエステル類;ビスフェノールAジグリシジ
ルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、ヒ
ドロキノンジグリシジルエーテル、ビシフェノールSジ
グリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエ
ーテル、および次式で表される化合物類;
As described above, the organic compound (II) having a functional group capable of reacting with an amino group in the molecule is not particularly limited. For example, specific examples of the epoxy group-containing compound include: 2-ethylhexyl glycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, triethylene glycol diglycidyl ether, tetraethylene glycol diglycidyl ether, nonaethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, dipropylene glycol diglycidyl ether , Tripropylene glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, glycerol jig Aliphatic mono- and diglycidyl ethers such as sidyl ether and trimethylolpropane diglycidyl ether; glycerol triglycidyl ether, diglycerol triglycidyl ether, triglycidyl tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, trimethylolpropane triglycidyl ether , Polyglycidyl ethers such as pentaerythritol tetraglycidyl ether; aliphatic and aromatic mono- such as adipic acid diglycidyl ester, o-phthalic acid diglycidyl ester and phenylglycidyl ether;
Diglycidyl esters; bisphenol A diglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, hydroquinone diglycidyl ether, bisiphenol S diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, and compounds represented by the following formula;

【0030】[0030]

【化3】 Embedded image

【0031】などの芳香環またはその水素添加環(核置
換誘導体も含む)を有するグリシジル類;あるいはグリ
シジル基を官能基として有するオリゴマー類(例えばビ
スフェノールAジグリシジルエーテルオリゴマーの場合
は下式の様に表せる);
Glycidyls having an aromatic ring or a hydrogenated ring thereof (including a nuclear-substituted derivative); or oligomers having a glycidyl group as a functional group (for example, in the case of bisphenol A diglycidyl ether oligomer, Can be expressed);

【0032】[0032]

【化4】 Embedded image

【0033】などが挙げられる。And the like.

【0034】また、ヘキサメチレンジイソシアネート、
トリレンジイソシアネート、1,4−ジフェニルメタン
ジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネー
ト、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリジン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジシ
クロヘキシルメタンジイソシアネート等のイソシアネー
ト類;酒石酸、アジピン酸等のジカルボン酸類;ポリア
クリル酸等のカルボキシル基含有重合体;オキサゾリニ
ル基含有重合体なども有機化合物(II)として用いるこ
とができる。これらは1種単独で用いてもよいし、2種
以上を併用して用いてもよい。なお、上記例示した有機
化合物(II)の中でも芳香環またはその水素添加環(核
置換誘導体も含む)を有する化合物は、上記組成物をコ
ーティングしてなるガスバリア性被覆層(膜)の耐水性
を向上させる作用がある点で有利である。
Hexamethylene diisocyanate,
Isocyanates such as tolylene diisocyanate, 1,4-diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tolidine diisocyanate, xylylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate; dicarboxylic acids such as tartaric acid and adipic acid; polyacrylic A carboxyl group-containing polymer such as an acid; an oxazolinyl group-containing polymer can also be used as the organic compound (II). These may be used alone or in combination of two or more. In addition, among the organic compounds (II) exemplified above, compounds having an aromatic ring or a hydrogenated ring thereof (including a nuclear-substituted derivative) have a water resistance of a gas barrier coating layer (film) formed by coating the composition. This is advantageous in that it has an effect of improving.

【0035】また、本発明のUV遮断性ガスバリア用コ
ーティング成形体のガスバリア性被覆層の形成に用いら
れる上記組成物の主要構成成分のさらに他の1つとし
て、下記一般式(1)
Further, as another one of the main constituent components of the above composition used for forming the gas barrier coating layer of the molded article for UV blocking gas barrier coating of the present invention, the following general formula (1):

【0036】[0036]

【化5】 Embedded image

【0037】(ただし、式中、MはSiもしくは金属元
素、R2は炭素数1〜4のアルキル基またはアミノ基と
反応しない官能基を有する炭素数1〜4のアルキル基で
あり、R3は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基
であり、nは1以上の整数でかつm+nはMの原子価と
一致するものである。)で表される有機金属化合物(II
I)および/またはその加水分解縮合物が含まれてなる
ものである。上記組成物が有機金属化合物(III)およ
び/またはその加水分解縮合物を含むことにより、基材
(被塗物)への密着性、ハードコート性、耐熱性を高
め、食品や飲料品の包装材として使用する上で不可避と
もいえる煮沸殺菌処理、さらにその後に過酷な保存環境
下(例えば、20℃90%Rh程度の高湿状態下)にお
いても十分に高いガスバリア性を保持することができる
ため好適である。この有機金属化合物(III)は、上記
ケイ素化合物(I)のもつ官能基と反応し得る官能基を
持たない点で有機化合物(II)と区別できる。
[0037] (wherein, M is Si or metal element, R 2 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms having a functional group which does not react with an alkyl group or an amino group having 1 to 4 carbon atoms, R 3 Is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, n is an integer of 1 or more, and m + n is the same as the valence of M.)
And / or a hydrolyzed condensate thereof. When the composition contains an organometallic compound (III) and / or a hydrolytic condensate thereof, it enhances adhesion to a substrate (substrate to be coated), hard coat properties, and heat resistance, and packages food and beverages. Because it can maintain a sufficiently high gas barrier property even under a severe storage environment (for example, at a high humidity of about 20 ° C. and 90% Rh) after boiling sterilization, which can be said to be inevitable when used as a material. It is suitable. The organometallic compound (III) can be distinguished from the organic compound (II) in that it does not have a functional group capable of reacting with the functional group of the silicon compound (I).

【0038】上記一般式(1)中のMは、Siもしくは
金属元素であれば特に制限されるものではないが、被覆
処理操作時の取扱い性が容易であるとの観点から、好ま
しくはSi、Ti、Zr、Alから選ばれる1種であ
り、特に好ましくはSiである。
M in the above general formula (1) is not particularly limited as long as it is Si or a metal element. However, from the viewpoint of easy handling during the coating treatment operation, M is preferably Si, It is one kind selected from Ti, Zr, and Al, and is particularly preferably Si.

【0039】上記一般式(1)中のR2は、炭素数1〜
4のアルキル基またはアミノ基と反応しない官能基を有
する炭素数1〜4のアルキル基であればよい。ここで、
アミノ基と反応しない官能基としては、特に制限される
ものではなく、例えば、アミノ基、ビニル基などが挙げ
られる。また、炭素数1〜4のアルキル基としては、特
に制限されるものではなく、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基の直鎖アルキル基、イソプロピル基の
分岐鎖アルキル基、シクロプロピル基、シクロブチル基
の環状(脂環式)アルキル基のいずれであってもよい
が、好ましくは加水分解縮合の反応性に優れ、緻密な被
膜の形成する上での有利性、反応容易性の観点から、メ
チル基、エチル基である。よって、R2として好ましく
は、耐熱性、耐煮沸性の観点からビニル基を有する炭素
数1〜4のアルキル基である。なお、R2は、mが2以
上の場合には、同一であってもよいし、異なっていても
よい。
R 2 in the above general formula (1) has 1 to 1 carbon atoms.
Any alkyl group having 1 to 4 carbon atoms having a functional group that does not react with an alkyl group of 4 or an amino group may be used. here,
The functional group that does not react with the amino group is not particularly limited, and includes, for example, an amino group and a vinyl group. The alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is not particularly limited, and may be a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a linear alkyl group such as a butyl group, a branched chain alkyl group such as an isopropyl group, a cyclopropyl group, Any of a cyclo (alicyclic) alkyl group of a cyclobutyl group may be used, but it is preferably excellent in the reactivity of hydrolytic condensation, advantageous in forming a dense film, and from the viewpoint of ease of reaction. These are a methyl group and an ethyl group. Therefore, R 2 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms having a vinyl group from the viewpoint of heat resistance and boiling resistance. When m is 2 or more, R 2 may be the same or different.

【0040】上記一般式(1)中のR3は、水素原子ま
たは炭素数1〜4のアルキル基である。炭素数1〜4の
アルキル基としては、特に制限されるものではなく、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基の直鎖アルキ
ル基、イソプロピル基の分岐鎖アルキル基、シクロプロ
ピル基、シクロブチル基の環状(脂環式)アルキル基の
いずれであってもよい。R3として好ましくは、加水分
解縮合の反応性に優れ、緻密な被膜の形成する上での有
利性の観点からメチル基、エチル基である。なお、R3
は、nが2以上の場合には、同一であってもよいし、異
なっていてもよい。
R 3 in the general formula (1) is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. The alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is not particularly limited, and may be a linear alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a branched chain alkyl group such as an isopropyl group, a cyclopropyl group, or a cyclobutyl group. May be any of the cyclic (alicyclic) alkyl groups. R 3 is preferably a methyl group or an ethyl group from the viewpoint of excellent hydrolytic condensation reactivity and the advantage of forming a dense film. Note that R 3
May be the same or different when n is 2 or more.

【0041】上記一般式(1)中のnは1以上の整数で
あり、mは0以上の整数であり、かつm+nはMの原子
価と一致するものである。例えば、MがSiの場合、m
+n=4であり、上記組成物を被覆して得られるガスバ
リア性被覆層の耐熱性、耐煮沸性、耐水性の観点から、
m=0であり、n=4であることが好ましい。
In the general formula (1), n is an integer of 1 or more, m is an integer of 0 or more, and m + n is equal to the valence of M. For example, when M is Si, m
+ N = 4, and from the viewpoints of heat resistance, boiling resistance, and water resistance of the gas barrier coating layer obtained by coating the composition,
Preferably, m = 0 and n = 4.

【0042】上述したような一般式(1)で表される有
機金属化合物(III)として具体的には、例えば、例え
ば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テ
トライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メ
チルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、
メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリブトキシ
シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキ
シシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルト
リブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチ
ルジエトキシシラン、ジメチルジイソプロポキシシラ
ン、ジメチルジブトキシシラン、ジエチルジメトキシシ
ラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジイソプロ
ポキシシラン、ジエチルジブトキシシラン、ビニルトリ
メトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルト
リイソプロポキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプ
ロピルトリエトキシシラン等のアルコキシシラン類、チ
タニウムテトラエトキシド、チタニウムテトライソプロ
ポキシド、チタニウムテトラブトキシド等のチタニウム
アルコキシド類、ジルコニウムテトラエトキシド、ジル
コニウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテトラ
ブトキシド等のジルコニウムアルコキシド類、アルミニ
ウムトリエトキシド、アルミニウムトリイソプロポキシ
ド、アルミニウムトリブトキシド等のアルミニウムアル
コキシド類、またこれらの錯体化合物、メチルトリアセ
トキシシラン、トリメチルシラノール等、またはこれら
の化合物を含む高分子有機化合物類などが挙げられ、こ
れらの1種または2種以上を用いることができる。なか
でも、反応性および得られる形成されたガスバリア性被
覆層が良好な耐煮沸性、耐湿性、耐水性を示す点から、
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランもしく
は、それらのオリゴマーが好ましい。
Specific examples of the organometallic compound (III) represented by the above general formula (1) include, for example, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyl Trimethoxysilane, methyltriethoxysilane,
Methyltriisopropoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltriisopropoxysilane, ethyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldiisopropoxysilane, dimethyldibutoxy Silane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diethyldiisopropoxysilane, diethyldibutoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltributoxysilane,
γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, alkoxysilanes such as γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, titanium tetraethoxide, titanium tetraisopropoxide, Titanium alkoxides such as titanium tetrabutoxide, zirconium tetraethoxide, zirconium tetraisopropoxide, zirconium alkoxides such as zirconium tetrabutoxide, aluminum triethoxide, aluminum triisopropoxide, aluminum alkoxides such as aluminum tributoxide, or These complex compounds, methyltriacetoxysilane, trimethylsilanol, etc. Organic compounds, etc. are mentioned, it is possible to use one or more of these. Above all, the reactivity and the resulting gas barrier coating layer obtained show good boiling resistance, moisture resistance, and water resistance,
Tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, or oligomers thereof are preferred.

【0043】また、上記一般式(1)で表される有機金
属化合物(III)の加水分解縮合物を含んでもよいとし
たのは、上記有機化合物(II)および上記有機金属化合
物(III)は、ガスバリア性被覆層を形成する際の乾燥
を防ぐためには、予め加水分解縮合を行っておくことが
好ましいためである。言い換えれば、上記組成物中に、
これらの加水分解縮合物が存在し得るものが好ましいと
いえる。これらの(共)加水分解縮合反応は、空気中の
水分で進行するが、酸または塩基等の公知の触媒を用い
ると効率よく行うことができる。また、加水分解反応は
溶媒中で行うことが好ましく、かかる溶媒を含む上記組
成物は、基材(あるいは他の被覆層や接着層など)上へ
のコーティング作業も容易となる。
The reason that the organic metal compound (III) represented by the above general formula (1) may contain a hydrolyzed condensate may be that the organic compound (II) and the organic metal compound (III) are This is because, in order to prevent drying when forming the gas barrier coating layer, it is preferable to carry out hydrolysis and condensation in advance. In other words, in the composition,
Those in which these hydrolysis condensates can exist can be said to be preferable. These (co) hydrolytic condensation reactions proceed with moisture in the air, but can be performed efficiently using a known catalyst such as an acid or a base. In addition, the hydrolysis reaction is preferably performed in a solvent, and the above composition containing such a solvent also facilitates a coating operation on a substrate (or another coating layer, an adhesive layer, or the like).

【0044】また、本発明のUV遮断性ガスバリア用コ
ーティング成形体のガスバリア性被覆層の形成に用いら
れる上記組成物には、上述した主要構成成分等を好適に
溶解(ないし分散)し得る溶媒が含まれていてもよい。
かかる溶媒としては、上記ケイ素化合物(I)、有機化
合物(II)、並びに有機金属化合物(III)および/ま
たはその加水分解縮合物、さらに必要に応じて用いられ
る各種添加剤を溶解し得るものであれば特に制限される
べきものではなく、例えば、メタノール、エタノール、
2−プロパノール、ブタノール、ペンタノール、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレン
グリコールモノメチルエーテル等のアルコール類;アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノン等のケトン類;トルエン、ベンゼン、
キシレン等の芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタン、
オクタン等の炭化水素類;メチルアセテート、エチルア
セテート、プロピルアセテート、ブチルアセテート等の
アセテート類;その他、エチルフェノールエーテル、プ
ロピルエーテル、テトラヒドロフラン、水などが挙げら
る。これらは、1種単独で使用しても良いし、2種以上
を混合して用いてもよい。なかでも加水分解反応時の安
定性や保存安定性に優れている点で、メタノール、エタ
ノールなどのアルコール類が好ましい。特に本発明にお
いては、これらの中から上記組成物の当該溶媒以外の他
の構成成分の種類に応じて、得られるガスバリア性被覆
層の架橋が緻密になり、所望のガスバリア性等の諸特性
が有効に発現できるように適当な溶媒を適宜選択するこ
とが望ましい。
The above-mentioned composition used for forming the gas-barrier coating layer of the UV-shielding gas-barrier coating molding of the present invention contains a solvent capable of suitably dissolving (or dispersing) the above-mentioned main components and the like. May be included.
Examples of the solvent include those capable of dissolving the silicon compound (I), the organic compound (II), and the organometallic compound (III) and / or a hydrolyzed condensate thereof, and various additives used as necessary. If it is not particularly limited, for example, methanol, ethanol,
Alcohols such as 2-propanol, butanol, pentanol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, and triethylene glycol monomethyl ether; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone;
Ketones such as cyclohexanone; toluene, benzene,
Aromatic hydrocarbons such as xylene; hexane, heptane,
Hydrocarbons such as octane; acetates such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, and butyl acetate; and others, ethyl phenol ether, propyl ether, tetrahydrofuran, water and the like. These may be used alone or as a mixture of two or more. Among them, alcohols such as methanol and ethanol are preferred because they are excellent in stability during hydrolysis reaction and storage stability. In particular, in the present invention, the cross-linking of the obtained gas barrier coating layer becomes dense depending on the type of the other components of the composition other than the solvent, and various properties such as a desired gas barrier property are obtained. It is desirable to appropriately select an appropriate solvent so that the expression can be effectively performed.

【0045】さらに、本発明のUV遮断性ガスバリア用
コーティング成形体のガスバリア性被覆層の形成に用い
られる上記組成物には、必要に応じて、硬化触媒、濡れ
性改良剤、可塑剤、消泡剤、増粘剤などの無機ないし有
機系の各種添加剤を適量添加することもできる。
The composition used for forming the gas barrier coating layer of the molded article for UV blocking gas barrier of the present invention may further comprise a curing catalyst, a wettability improver, a plasticizer, a defoamer, if necessary. An appropriate amount of various inorganic or organic additives such as an agent and a thickener can also be added.

【0046】次に、上記ケイ素化合物(I)の配合量
は、有機化合物(II)、並びに有機金属化合物(III)
および/または有機金属化合物(III)の加水分解縮合
物の配合比率や他の添加剤の使用の有無などによっても
異なることから一義的に規定することはできないが、上
記組成物の構成成分(ただし、溶媒を除く)の合計配合
量に対して、通常5〜70質量%、好ましくは10〜6
0質量%、より好ましくは15〜40質量%の範囲であ
る。上記ケイ素化合物(I)の配合量が5質量%未満の
場合には、ガスバリア性被覆層の製膜性が劣ることがあ
る。一方、70質量%を越える場合には、ガスバリア性
被覆層の可とう性、耐水性が劣ることがある。
Next, the compounding amount of the silicon compound (I) depends on the organic compound (II) and the organometallic compound (III).
And / or the presence / absence of the use of other additives cannot be unambiguously defined because the ratio varies depending on the compounding ratio of the hydrolyzed condensate of the organometallic compound (III) and the presence or absence of other additives. , Excluding the solvent), usually 5 to 70% by mass, preferably 10 to 6% by mass.
0 mass%, more preferably 15 to 40 mass%. When the compounding amount of the silicon compound (I) is less than 5% by mass, the film forming property of the gas barrier coating layer may be poor. On the other hand, if it exceeds 70% by mass, the flexibility and water resistance of the gas barrier coating layer may be poor.

【0047】上記有機化合物(II)の配合量は、ケイ素
化合物(I)、並びに有機金属化合物(III)および/
またはその加水分解縮合物の配合比率や他の添加剤の使
用の有無などによっても異なることから一義的に規定す
ることはできないが、上記組成物の構成成分(ただし、
溶媒を除く)の合計配合量に対して、通常1〜50質量
%、好ましくは3〜30質量%、より好ましくは5〜1
5質量%の範囲である。上記有機化合物(II)の配合量
が1質量%未満の場合には、ガスバリア性被覆層の可と
う性が劣ることがある。一方、50質量%を越える場合
には、ガスバリア性被覆層の耐水性が劣ることがある。
The compounding amount of the organic compound (II) depends on the silicon compound (I), the organometallic compound (III) and / or
Alternatively, it cannot be uniquely defined because it differs depending on the compounding ratio of the hydrolysis-condensation product, the presence or absence of other additives, and the like, but the components of the composition (however,
(Excluding the solvent), usually 1 to 50% by mass, preferably 3 to 30% by mass, more preferably 5 to 1% by mass.
The range is 5% by mass. If the amount of the organic compound (II) is less than 1% by mass, the flexibility of the gas barrier coating layer may be poor. On the other hand, if it exceeds 50% by mass, the water resistance of the gas barrier coating layer may be poor.

【0048】上記有機金属化合物(III)および/また
はその加水分解縮合物の配合量は、上記ケイ素化合物
(I)や有機化合物(II)の配合比率や他の添加剤の使
用の有無などによっても異なることから一義的に規定す
ることはできないが、上記組成物の構成成分(ただし、
溶媒を除く)の合計配合量に対して、通常10〜80質
量%、好ましくは20〜70質量%、より好ましくは3
0〜60質量%の範囲である。上記有機金属化合物(II
I)および/またはその加水分解縮合物の配合量が80
質量%を越える場合には、ガスバリア性被覆層の可とう
性が劣ることがある。一方、10質量%未満の場合に
は、ガスバリア性被覆層の耐水性が劣ることがある。
The amount of the organometallic compound (III) and / or the hydrolytic condensate thereof may be determined depending on the mixing ratio of the silicon compound (I) or the organic compound (II), the presence or absence of other additives, and the like. Although it cannot be unambiguously defined because of the difference, the components of the composition (however,
(Excluding solvent), usually 10 to 80% by mass, preferably 20 to 70% by mass, more preferably 3 to 80% by mass.
It is in the range of 0 to 60% by mass. The above organometallic compounds (II
I) and / or the amount of the hydrolyzed condensate is 80
If the amount is more than mass%, the flexibility of the gas barrier coating layer may be poor. On the other hand, if it is less than 10% by mass, the water resistance of the gas barrier coating layer may be poor.

【0049】上記溶媒の配合量は、特に限定されない
が、上記組成物(ここでは、溶媒を含む)の全質量を1
00質量%としたときに、10〜95質量%、好ましく
は50〜90質量%、より好ましくは70〜90質量%
の範囲である。溶媒の配合量が10質量%未満の場合に
は、上記組成物の反応安定性に劣ることがあり、また塗
工中に、上記組成物の粘度が上昇して均一塗工ができな
くなる可能性がある。一方、95質量%を超える場合に
は、ガスバリア性被覆層を形成する際の生産性が劣るこ
とがあるほか、有効成分が低濃度となり過ぎるため、必
要なガスバリア性被覆層の膜厚を確保できない場合があ
る。
Although the amount of the solvent is not particularly limited, the total weight of the composition (including the solvent in this case) is 1%.
10% to 95% by mass, preferably 50% to 90% by mass, and more preferably 70% to 90% by mass,
Range. If the compounding amount of the solvent is less than 10% by mass, the reaction stability of the composition may be poor, and the viscosity of the composition may increase during coating, making uniform coating impossible. There is. On the other hand, if it exceeds 95% by mass, the productivity in forming the gas barrier coating layer may be poor, and the active ingredient may be too low in concentration, so that the required film thickness of the gas barrier coating layer cannot be secured. There are cases.

【0050】また、上記ケイ素化合物(I)、有機化合
物(II)、有機金属化合物(III)および/またはその
加水分解縮合物、並びに溶媒以外の他の硬化触媒、濡れ
性改良剤、可塑剤、消泡剤、増粘剤などの無機ないし有
機系の各種添加剤の配合量にあっては、かかる添加剤の
持つ諸特性を十分に発現でき、かつ上記ケイ素化合物
(I)、有機化合物(II)、有機金属化合物(III)お
よび/またはその加水分解縮合物、並びに溶媒による本
発明のガスバリア性等の発現効果に影響を及ぼさない範
囲内であれば、特に制限されるべきものではない。
The above-mentioned silicon compound (I), organic compound (II), organometallic compound (III) and / or a hydrolytic condensate thereof, a curing catalyst other than a solvent, a wettability improver, a plasticizer, With respect to the compounding amount of various inorganic or organic additives such as an antifoaming agent and a thickening agent, various characteristics of the additive can be sufficiently exhibited, and the silicon compound (I) and the organic compound (II) ), The organometallic compound (III) and / or its hydrolytic condensate, and the solvent are not particularly limited as long as they do not affect the gas barrier properties and the like of the present invention.

【0051】なお、上記ケイ素化合物(I)、有機化合
物(II)、有機金属化合物(III)および/またはその
加水分解縮合物、さらにはその他の添加剤を含む上記組
成物(ただし、溶媒を除く)の合計配合量は、いかなる
組み合わせであっても常に100質量%である。
The above composition containing the silicon compound (I), the organic compound (II), the organometallic compound (III) and / or a hydrolytic condensate thereof, and other additives (excluding the solvent) ) Is always 100% by mass in any combination.

【0052】本発明に係るUV遮断性ガスバリア用コー
ティング成形体のガスバリア性被覆層の形成に用いられ
る上記組成物の調製方法としては、特に限定されるもの
ではなく、例えば、(1) 上記ケイ素化合物(I)
と、上記有機化合物(II)と、上記有機金属化合物(II
I)および/またはその加水分解縮合物と、並びに溶媒
とを含む配合成分(他の任意成分を含んでいても良い)
を単に混合する方法、(2) 予め溶媒の存在下で、上
記ケイ素化合物(I)と上記有機化合物(II)との官能
基反応を行ってから上記有機金属化合物(III)および
/またはその加水分解縮合物を加える方法、(3) 上
記有機化合物(II)および溶媒の存在下で、上記ケイ素
化合物(I)と上記有機金属化合物(III)を共加水分
解縮合する方法、(4) 溶媒の存在下で、上記ケイ素
化合物(I)と上記有機金属化合物(III)を共加水分
解縮合してから上記有機化合物(II)と反応させる方
法、などが挙げられるが、これらに何ら制限されるべき
ものではない。なお、上記溶媒は、その調製段階や方法
に応じて適当なものを適時、補充ないし追加することが
望ましい。
The method of preparing the composition used for forming the gas barrier coating layer of the UV-shielding gas barrier coating molded article according to the present invention is not particularly limited. For example, (1) the silicon compound (I)
And the organic compound (II) and the organometallic compound (II
A compounding component containing I) and / or a hydrolysis condensate thereof, and a solvent (other optional components may be contained)
(2) performing a functional group reaction between the silicon compound (I) and the organic compound (II) in the presence of a solvent in advance, and then mixing the organometallic compound (III) and / or a hydrolyzate thereof. A method of adding a decomposition condensate, (3) a method of co-hydrolyzing and condensing the silicon compound (I) and the organometallic compound (III) in the presence of the organic compound (II) and a solvent, and (4) A method of co-hydrolyzing and condensing the above-mentioned silicon compound (I) and the above-mentioned organometallic compound (III) in the presence and then reacting with the above-mentioned organic compound (II). Not something. It is desirable that the above-mentioned solvent be appropriately replenished or added in a timely manner depending on the preparation step and method.

【0053】また、上記組成物を基材ないし他の被覆層
等(本明細書中では、単に基材等ともいう)の表面にコ
ーティングする方法としては、特に制限されるべきもの
ではなく、従来公知の技術を適宜利用することができる
ものであり、例えば、ロールコーティング法、ディップ
コーティング法、バーコーティング法、ノズルコーティ
ング法、ダイコーティング法、スプレーコーティング
法、スピンコーティング法、カーテンコーティング法、
フローコーティング法、スクリーン印刷、グラビア印
刷、曲面印刷などの各種印刷法など、あるいはこれらを
組み合わせた方法を採用できる。なかでも、ダイコーテ
ィング法は、上記組成物の安定性を増す上で好ましい。
The method for coating the above composition on the surface of a substrate or another coating layer (hereinafter also simply referred to as a substrate or the like in the present specification) is not particularly limited. Known techniques can be appropriately used, for example, roll coating, dip coating, bar coating, nozzle coating, die coating, spray coating, spin coating, curtain coating,
Various printing methods, such as a flow coating method, screen printing, gravure printing, and curved surface printing, or a combination thereof can be employed. Among them, the die coating method is preferable for increasing the stability of the composition.

【0054】上記組成物のコーティング後は、該コーテ
ィング層(ガスバリア性被覆層)の硬化および乾燥を行
う。かかる硬化および乾燥では、加熱、あるいは加熱・
加湿を行えば、ハードコート性に優れた緻密なコーティ
ング層(ガスバリア性被覆層)を速やかに形成すること
ができる点で好ましい。ここで加熱を行う場合には、基
材ないしないし他の被覆層等の耐熱温度以下で加熱する
ことが好ましい。なお、乾燥の際に上記有機金属化合物
(III)の蒸発を防ぐ観点からは、上記有機金属化合物
(III)の加水分解縮合物を配合してなる上記組成物を
用いることが好ましい。
After coating the above composition, the coating layer (gas barrier coating layer) is cured and dried. In such curing and drying, heating or heating
Humidification is preferred in that a dense coating layer (gas barrier coating layer) having excellent hard coat properties can be formed quickly. When heating here, it is preferable to heat at a temperature lower than the heat-resistant temperature of the substrate or other coating layer. From the viewpoint of preventing evaporation of the organometallic compound (III) at the time of drying, it is preferable to use the above composition comprising a hydrolyzed condensate of the organometallic compound (III).

【0055】さらにコーティング層(ガスバリア性被覆
層)中の未反応の上記ケイ素化合物(I)のSiOR1
基や有機金属化合物(III)のMOR3基を低減すること
が高温多湿の環境下においても十分なガスバリア性を保
持させる上で望ましいことから、上記組成物を基材等の
表面に適当なコーティング方法によりコーティングした
後に、該コーティング層(ガスバリア性被覆層)の硬化
および乾燥を行い、その後に該コーティング層中の未反
応の上記ケイ素化合物(I)のSiOR1基や有機金属
化合物(III)のMOR3基を反応(縮合)させるエージ
ング(熟成)処理を行うのが好ましく、例えば、上記組
成物を基材等の表面上に塗布乾燥後に、未反応基を減少
させる上で有効な加熱処理(例えば、40〜60℃の間
の温度で1〜7日間熱処理すること)やコロナ処理を行
う方法などが好ましい。ただし、該エージング処理は、
(1)上記組成物を基材等の表面に塗布し、乾燥硬化し
てガスバリア性被覆層を形成した後に、直ぐに行っても
よいし、(2)後述する実施例に示すように、上記組成
物を基材等の表面に塗布し、乾燥硬化してガスバリア性
被覆層を形成した後、UV遮断性被覆層、さらには他の
被覆層を形成した後に行ってもよい。ここで、基材等の
耐熱温度とは、実質上基材等の特性が保持できる上限の
温度のことであり、ガラス基材ならば、例えば、軟化点
や失透温度(通常600〜700℃)など、プラスチッ
ク基材ならば、例えば、ガラス転移点や結晶化温度や分
解点などが挙げられる。なお、上記組成物の塗工前に、
基材等の表面にウレタン樹脂等の公知のアンカーコート
層等の他の被覆層や接着層などを設けてもよいことはい
うまでもない。
Further, the SiOR 1 of the unreacted silicon compound (I) in the coating layer (gas barrier coating layer)
It is desirable to reduce the MOR 3 group of the organometallic compound (III) and the organometallic compound (III) in order to maintain a sufficient gas barrier property even in a high-temperature and high-humidity environment. After coating by the method, the coating layer (gas barrier coating layer) is cured and dried, and then the unreacted SiOR 1 group of the silicon compound (I) and the organometallic compound (III) in the coating layer are dried. It is preferable to carry out an aging (aging) treatment for reacting (condensing) the MOR 3 groups. For example, after applying and drying the above composition on the surface of a substrate or the like, an effective heat treatment for reducing unreacted groups ( For example, a method of performing heat treatment at a temperature between 40 to 60 ° C. for 1 to 7 days), a method of performing corona treatment, and the like are preferable. However, the aging process is
(1) The composition may be applied to the surface of a substrate or the like and dried and cured to form a gas-barrier coating layer, and then immediately, or (2) As described in Examples described later, the composition may be used. The method may be carried out after the product is applied to the surface of a substrate or the like, dried and cured to form a gas barrier coating layer, and then after forming a UV blocking coating layer and further another coating layer. Here, the heat-resistant temperature of the base material or the like is substantially the upper limit temperature at which the properties of the base material or the like can be maintained, and for a glass base material, for example, the softening point or the devitrification temperature (normally 600 to 700 ° C.) ), For example, a glass transition point, a crystallization temperature, a decomposition point, and the like. Before the application of the composition,
It goes without saying that another coating layer such as a known anchor coat layer such as a urethane resin or an adhesive layer may be provided on the surface of the base material or the like.

【0056】上記硬化および乾燥、さらには熱処理によ
り、基材等の表面上に上記組成物から得られるガスバリ
ア性被覆層を形成することができる。かかるガスバリア
性被覆層の乾燥後の厚みとしては、使用用途により異な
るため一義的に規定することはできないが、高いガスバ
リア性を発現し、さらに基材等との密着性、透明性、可
とう性、耐湿性等を有することができるものであればよ
く、通常0.01〜20μm、好ましくは0.1〜10
μm、より好ましくは0.5〜5μmの範囲である。か
かるガスバリア性被覆層の乾燥後の厚みが0.01μm
未満の場合には、被膜が均一にならないとともに、ガス
バリア性、基材等との密着性、透明性、可とう性、耐湿
性等の特性が充分に発現しにくい。一方、ガスバリア性
被覆層の乾燥後の厚みが20μmを超える場合には、被
膜にクラックが生じ易くなる。
By the above curing, drying and heat treatment, a gas barrier coating layer obtained from the above composition can be formed on the surface of a substrate or the like. The thickness of the gas barrier coating layer after drying cannot be uniquely defined because it differs depending on the intended use. However, it exhibits high gas barrier properties and further exhibits adhesion, transparency, and flexibility with a substrate or the like. Any material that can have moisture resistance and the like may be used, and is usually 0.01 to 20 μm, preferably 0.1 to 10 μm.
μm, more preferably in the range of 0.5 to 5 μm. The thickness of the gas barrier coating layer after drying is 0.01 μm
If it is less than 1, the coating will not be uniform, and properties such as gas barrier properties, adhesion to substrates and the like, transparency, flexibility, and moisture resistance will not be sufficiently exhibited. On the other hand, when the thickness of the gas barrier coating layer after drying exceeds 20 μm, cracks tend to occur in the coating.

【0057】なお、上記組成物を基材等に被覆して得ら
れるガスバリア性被覆層においては、基材等に同じ種類
(組成)の上記組成物を何度かに分けて塗布してもよい
し、あるいは種類(組成)の異なる上記組成物を別々に
塗布することにより、各層ごとに組成及び厚さの異なる
多層構造(途中にUV遮断性被覆層や他の被覆層が挟ま
れていてもよい)のガスバリア性被覆層を形成してもよ
い。
In the gas barrier coating layer obtained by coating the above composition on a substrate or the like, the same type (composition) of the above composition may be separately applied to the substrate or the like. Alternatively, by separately applying the above compositions of different types (compositions), a multilayer structure having a different composition and thickness for each layer (even if a UV blocking coating layer or another coating layer is interposed in the middle) Good) gas barrier coating layer.

【0058】次に、上記UV遮断性被覆層としては、特
に制限されるべきものではなく、従来公知の各種UV遮
断性コーテイング剤を用いて形成することのできるUV
遮断性被覆層であればよいが、高いUV遮断性を発現
し、さらに基材等(上記ガスバリア性被覆層を含む)と
の密着性、透明性、可とう性、耐候性、光沢、耐水性、
耐溶剤性等の特性を有する被覆層が好ましく、具体的に
は、例えば、下記一般式(2)
Next, the UV-blocking coating layer is not particularly limited, and can be formed by using various known UV-blocking coating agents.
Any barrier coating layer may be used, but it exhibits high UV blocking properties, and further has adhesion to a substrate or the like (including the gas barrier coating layer), transparency, flexibility, weather resistance, gloss, and water resistance. ,
A coating layer having characteristics such as solvent resistance is preferable. Specifically, for example, the following general formula (2)

【0059】[0059]

【化6】 Embedded image

【0060】(式中、R4は水素原子または炭素数1〜
8の炭化水素基を表し、R5は炭素数1〜6の直鎖状ま
たは枝分れ鎖状のアルキレン基を表し、R6は水素原子
またはメチル基を表し、Xは水素原子、ハロゲン基、炭
素数1〜8の炭化水素基、炭素数1〜4のアルコキシ
基、シアノ基またはニトロ基を表す)で表される紫外線
吸収性単量体と、下記一般式(3)
(Wherein R 4 is a hydrogen atom or a carbon atom having 1 to
8 represents a hydrocarbon group, R 5 represents a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, R 6 represents a hydrogen atom or a methyl group, X represents a hydrogen atom or a halogen group. , A hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a cyano group or a nitro group), and the following general formula (3)

【0061】[0061]

【化7】 Embedded image

【0062】(式中、R7は水素原子または炭素数1〜
2の炭化水素基を表し、Zは置換基を有していてもよい
シクロアルキル基を表す)で表される不飽和単量体とを
含む単量体組成物を共重合してなる共重合体層(UV遮
断性被覆層)などが挙げられる。
(Wherein R 7 is a hydrogen atom or a group having 1 to 1 carbon atoms)
2 represents a hydrocarbon group, and Z represents a cycloalkyl group which may have a substituent). Coalescing layer (UV blocking coating layer);

【0063】以下、本発明のUV遮断性被覆層の好適な
一実施形態として、上記共重合体層につき、説明する
が、本発明のUV遮断性被覆層がこれらに制限されるべ
きものでないことはいうまでもない。
Hereinafter, the copolymer layer will be described as a preferred embodiment of the UV blocking coating layer of the present invention. However, the UV blocking coating layer of the present invention should not be limited to these. Needless to say.

【0064】上記一般式(2)で表される紫外線吸収性
単量体(以下、紫外線吸収性単量体(2)と記す)は、
式中、R4で示される置換基が水素原子または炭素数1
〜8の炭化水素基で構成され、R5で示される置換基が
炭素数1〜6の直鎖状または枝分れ鎖状のアルキレン基
で構成され、R6で示される置換基が水素原子またはメ
チル基で構成され、Xで示される置換基が水素原子、ハ
ロゲン基、炭素数1〜8の炭化水素基、炭素数1〜4の
アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基で構成されるベ
ンゾトリアゾール類である。
The ultraviolet absorbing monomer represented by the above general formula (2) (hereinafter referred to as ultraviolet absorbing monomer (2))
In the formula, a substituent represented by R 4 is a hydrogen atom or a group having 1 carbon atom.
And a substituent represented by R 5 is a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and a substituent represented by R 6 is a hydrogen atom. Or a benzotriazole composed of a methyl group, wherein the substituent represented by X is a hydrogen atom, a halogen group, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a cyano group or a nitro group. Kind.

【0065】上記紫外線吸収性単量体(2)としては、
具体的には、例えば、2−〔2’−ヒドロキシ−5’−
(メタクリロイルオキシメチル)フェニル〕−2H−ベ
ンゾトリアゾール、2−〔2’−ヒドロキシ−5’−
(メタクリロイルオキシエチル)フェニル〕−2H−ベ
ンゾトリアゾール、2−〔2’−ヒドロキシ−5’−
(メタクリロイルオキシプロピル)フェニル〕−2H−
ベンゾトリアゾール、2−〔2’−ヒドロキシ−5’−
(メタクリロイルオキシヘキシル)フェニル〕−2H−
ベンゾトリアゾール、2−〔2’−ヒドロキシ−3’−
t−ブチル−5’−(メタクリロイルオキシエチル)フ
ェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、2−〔2’−ヒ
ドロキシ−5’−t−ブチル−3’−(メタクリロイル
オキシエチル)フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾー
ル、2−〔2’−ヒドロキシ−5’−(メタクリロイル
オキシエチル)フェニル〕−5−クロロ−2H−ベンゾ
トリアゾール、2−〔2’−ヒドロキシ−5’−(メタ
クリロイルオキシエチル)フェニル〕−5−メトキシ−
2H−ベンゾトリアゾール、2−〔2’−ヒドロキシ−
5’−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル〕−5
−シアノ−2H−ベンゾトリアゾール、2−〔2’−ヒ
ドロキシ−5’−(メタクリロイルオキシエチル)フェ
ニル〕−5−t−ブチル−2H−ベンゾトリアゾール、
2−〔2’−ヒドロキシ−5’−(メタクリロイルオキ
シエチル)フェニル〕−5−ニトロ−2H−ベンゾトリ
アゾール等が挙げられるが、特に限定されるものではな
い。これら紫外線吸収性単量体(2)は、一種類のみを
用いてもよく、また、二種類以上を適宜混合して用いて
もよい。
As the ultraviolet absorbing monomer (2),
Specifically, for example, 2- [2′-hydroxy-5′-
(Methacryloyloxymethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2′-hydroxy-5′-
(Methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5'-
(Methacryloyloxypropyl) phenyl] -2H-
Benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5'-
(Methacryloyloxyhexyl) phenyl] -2H-
Benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-3'-
t-butyl-5 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5'-t-butyl-3'-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole 2- [2'-hydroxy-5 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -5-chloro-2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5'-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -5- Methoxy-
2H-benzotriazole, 2- [2′-hydroxy-
5 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -5
-Cyano-2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -5-t-butyl-2H-benzotriazole,
Examples thereof include 2- [2′-hydroxy-5 ′-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -5-nitro-2H-benzotriazole, but are not particularly limited. One kind of these ultraviolet absorbing monomers (2) may be used alone, or two or more kinds thereof may be appropriately mixed and used.

【0066】上記一般式(3)で表される不飽和単量体
は、式中、R7で示される置換基が水素原子または炭素
数1〜2の炭化水素基で構成され、Zで示される置換基
が、置換基を有していてもよいシクロアルキル基で構成
される化合物である。
The unsaturated monomer represented by the above general formula (3) has a substituent represented by R 7 which is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 2 carbon atoms, and is represented by Z Wherein the substituent is a cycloalkyl group which may have a substituent.

【0067】上記Zで示される置換基におけるシクロア
ルキル基とは、具体的には、例えば、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、シクロドデシル基等の単環式飽
和炭化水素残基である。そして、該シクロアルキル基
は、炭素数1〜7のアルキル基を置換基として有してい
てもよい。該置換基とは、具体的には、例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、ヘプチル基等である。
The cycloalkyl group in the substituent represented by Z is, for example, a monocyclic saturated hydrocarbon residue such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group or a cyclododecyl group. And the cycloalkyl group may have a C1-C7 alkyl group as a substituent. Specific examples of the substituent include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and a heptyl group.

【0068】上記の不飽和単量体(以下、シクロアルキ
ル基含有単量体と記す)としては、具体的には、例え
ば、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、メチルシク
ロヘキシル(メタ)アクリレート、t−ブチルシクロヘ
キシル(メタ)アクリレート、シクロドデシル(メタ)
アクリレート等が挙げられるが、特に限定されるもので
はない。シクロアルキル基含有単量体は、一種類のみを
用いてもよく、また、二種類以上を適宜混合して用いて
もよい。
Specific examples of the unsaturated monomer (hereinafter, referred to as a cycloalkyl group-containing monomer) include, for example, cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, t-butylcyclohexyl (Meth) acrylate, cyclododecyl (meth)
Examples include acrylates, but are not particularly limited. As the cycloalkyl group-containing monomer, only one type may be used, or two or more types may be appropriately mixed and used.

【0069】上記UV遮断性被覆層を基材等の表面上に
形成する形成方法は、特に限定されるものではない。例
えば、単量体組成物を共重合してなる共重合体を含む重
合体組成物に、架橋剤を添加してなる塗料用組成物を作
成し、この塗料用組成物を塗布等することによりUV遮
断性被覆層を形成してもよく、また、該塗料用組成物を
一旦フィルムに成形した後、このフィルムを基材等の表
面上に融着、熱圧着または接着することによりUV遮断
性被覆層を形成してもよく、さらに、型の成形面に一旦
UV遮断性被覆層を形成した後、このUV遮断性被覆層
を基材側に転写してもよい。
The method for forming the above-mentioned UV-blocking coating layer on the surface of a substrate or the like is not particularly limited. For example, by preparing a coating composition obtained by adding a crosslinking agent to a polymer composition containing a copolymer obtained by copolymerizing a monomer composition, and applying the coating composition or the like. A UV-blocking coating layer may be formed. Also, once the coating composition is formed into a film, the film is fused, thermocompressed, or adhered to the surface of a substrate or the like to thereby form a UV-blocking coating. A coating layer may be formed. Further, after a UV-blocking coating layer is once formed on the molding surface of the mold, the UV-blocking coating layer may be transferred to the substrate.

【0070】前記塗料用組成物において、単量体組成物
における上記各単量体の含有量は、特に限定されるもの
ではないが、紫外線吸収性単量体(2)は、0.1〜3
0質量%の範囲内が好ましく、1〜20質量%の範囲内
がさらに好ましく、2〜15質量%の範囲内が特に好ま
しい。また、シクロアルキル基含有単量体は、2〜95
質量%の範囲内が好ましく、5〜85質量%の範囲内が
さらに好ましく、10〜75質量%の範囲内が特に好ま
しい。
In the coating composition, the content of each of the monomers in the monomer composition is not particularly limited. 3
The range is preferably 0% by mass, more preferably 1 to 20% by mass, and particularly preferably 2 to 15% by mass. Further, the cycloalkyl group-containing monomer is 2-95.
It is preferably within the range of 5% by mass, more preferably within the range of 5 to 85% by mass, and particularly preferably within the range of 10 to 75% by mass.

【0071】UV遮断性被覆は、波長360nmでの光
線透過率が、好ましくは30%以下、より好ましくは1
0%以下となる。
The UV-blocking coating has a light transmittance at a wavelength of 360 nm of preferably 30% or less, more preferably 1% or less.
0% or less.

【0072】本発明のUV遮断性ガスバリア用コーティ
ング成形体は、ガスバリア性および紫外線遮断性に優
れ、さらには基材等との密着性、透明性、可とう性など
に優れ、これらの特性を常に安定して発現させることが
できるものであればよく、ガスバリア性に関しては、使
用用途により要求される基準が異なるほか、基材の種類
や全体の積層構造などによっても異なるため一義的に規
定することはできないが、例えば、酸化を受けやすく紫
外線により風味が失われたり、変色(黄変)しやすいポ
テトチップスや酒類などの食品や飲料品の容器や包装用
のフィルムとして使用する場合を例にとり説明すれば、
高湿下(20℃90%Rh)での気体(酸素)透過度が
30ml/m2・24hrs以下、好ましくは20ml
/m2・24hrs以下、より好ましくは10ml/m2
・24hrs以下であることが望ましい。該気体(酸
素)透過度が30ml/m2・24hrsを超える場合
には、UV遮断性ガスバリア用コーティング成形体にて
十分に酸素などの気体をカットできず、かなりの酸素量
が透過することになるため、酸素等により、経時的にで
はあるが、ポテトチップスや酒類などの風味が失われた
り、変色(黄変)するようになるため、こうした食品の
賞味期限の長期化(高品質の長期保持)が充分に達成で
きないことになる。
The UV-shielding gas barrier coating molded article of the present invention is excellent in gas barrier properties and ultraviolet ray blocking properties, and is also excellent in adhesion to substrates and the like, transparency, flexibility and the like. As long as it can be expressed stably, the gas barrier properties must be uniquely defined because the required standards differ depending on the intended use, and also vary depending on the type of substrate and the overall laminated structure. Although it is not possible, for example, it is used as a film for containers and packaging of foods and drinks such as potato chips and alcoholic beverages that are easily oxidized, loses flavor due to ultraviolet rays, and easily discolors (yellowing) if,
Gas (oxygen) permeability under high humidity (20 ° C. 90% Rh) is 30 ml / m 2 · 24 hrs or less, preferably 20 ml
/ M 2 · 24 hrs or less, more preferably 10 ml / m 2
・ It is desirable to be 24 hours or less. If the gas (oxygen) permeability exceeds 30 ml / m 2 · 24 hrs, a gas such as oxygen cannot be sufficiently cut by the UV-shielding gas barrier coating molded body, and a considerable amount of oxygen permeates. As a result, the flavor of potato chips, alcoholic beverages, and the like is lost or discolored (yellowing) due to oxygen and the like over time, and the shelf life of such foods is prolonged (high-quality long-term Retention) cannot be achieved sufficiently.

【0073】なお、本発明にかかるUV遮断性ガスバリ
ア用コーティング成形体としては、例えば、特に食品や
飲料品の容器や包装用のフィルムのほか、タンクやコン
テナ等のプラスチック成形品、家電製品、鋼製品、大型
構造物、自動車内外装部品、建材、木工品、ガラス製品
等が挙げられるが、特に限定されるものではない。
Examples of the coating molded article for UV barrier gas barrier according to the present invention include, in particular, films for containers and packaging of foods and beverages, plastic molded articles such as tanks and containers, household electrical appliances, steel and the like. Examples include, but are not limited to, products, large structures, automotive interior / exterior parts, building materials, woodwork, glass products, and the like.

【0074】[0074]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説
明するが、下記実施例は、本発明を何ら制限するもので
はなく、前、後記の趣旨を逸脱しない範囲で変更、実施
する事は全て本発明の技術範囲に包含される。また、各
成分量を表す「部」は、いずれも「質量部」である。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the following examples do not limit the present invention in any way, and can be modified and implemented without departing from the spirit of the preceding and the following. Everything is included in the technical scope of the present invention. The “parts” representing the amounts of the respective components are all “parts by mass”.

【0075】参考例1 2−[2’−ヒドロキシ−5’−(メタクリロイルオキ
シエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール2.
5部、シクロヘキシルメタクリレート20.0部、4−
メタクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン1.2部、メタクリル酸0.3部、ヒドロキ
シエチルアクリレート6.0部、ブチルアクリレート1
0.0部およびメチルメタクリレート10.0部を、ト
ルエン30.0部と酢酸ブチル19.0部の混合溶媒中
で2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)
0.8部を重合開始剤として、90℃で重合し、UV遮
断用被覆剤(1)を得た。
Reference Example 1 2- [2'-hydroxy-5 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole
5 parts, cyclohexyl methacrylate 20.0 parts, 4-
Methacryloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1.2 parts, methacrylic acid 0.3 parts, hydroxyethyl acrylate 6.0 parts, butyl acrylate 1
0.0 part and 10.0 parts of methyl methacrylate were mixed with 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile) in a mixed solvent of 30.0 parts of toluene and 19.0 parts of butyl acetate.
Polymerization was performed at 90 ° C. using 0.8 part as a polymerization initiator to obtain a UV blocking coating agent (1).

【0076】実施例1 N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメト
キシシラン{ケイ素化合物(I)}14gと、ビスフェ
ノールAジグリシジルエーテル{有機化合物(II)}2
gと、トルエン(溶媒)10gおよびメタノール(溶
媒)30gの混合液を60℃で3時間反応後、室温まで
冷却し、水(溶媒)2.8gとメタノール(溶媒)10
gの混合液を加えて、30分間反応し、さらにMシリケ
ート51(テトラメトキシシランオリゴマー;多摩化学
株式会社製、有機金属化合物(III)の加水分解縮合
物)8.5gとメタノール(溶媒)20gを加えて1時
間反応してコーティング剤(1)を得た。
Example 1 N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane {silicon compound (I)} 14 g and bisphenol A diglycidyl ether {organic compound (II)} 2
g, a mixture of 10 g of toluene (solvent) and 30 g of methanol (solvent) at 60 ° C. for 3 hours, and then cooled to room temperature, 2.8 g of water (solvent) and 10 g of methanol (solvent).
g of the mixed solution, and reacted for 30 minutes. Further, 8.5 g of M silicate 51 (tetramethoxysilane oligomer; manufactured by Tama Chemical Co., Ltd., hydrolyzed condensate of organometallic compound (III)) and 20 g of methanol (solvent) Was added and reacted for 1 hour to obtain a coating agent (1).

【0077】このコーティング剤(1)を25μmPE
Tフィルムに乾燥後の厚みが1μmになるように塗布
し、100℃で20秒乾燥し、さらに参考例1で得られ
たUV遮断用被覆剤(1)を乾燥後の厚みが2μmにな
るように塗布し、100℃で20秒乾燥後、50℃で5
日間熟成して、PETフィルム基材上にガスバリア性被
覆層、UV遮断性被覆層の順に積層されてなるUV遮断
性ガスバリア用コーティング成形体(1)を得た。
This coating agent (1) was treated with 25 μm PE
The film was coated on a T film so that the thickness after drying was 1 μm, dried at 100 ° C. for 20 seconds, and the UV blocking coating agent (1) obtained in Reference Example 1 was dried so as to have a thickness of 2 μm. And dried at 100 ° C for 20 seconds.
After aging for a day, a UV-shielding gas barrier coating molded article (1) was obtained, which was laminated on a PET film substrate in the order of a gas-barrier coating layer and a UV-shielding coating layer.

【0078】このコーティング成形体(1)の特性評価
を下記表1に示す。
Table 1 below shows the characteristic evaluation of the coated molded article (1).

【0079】比較例1 実施例1で、UV遮断用被覆剤(1)によるUV遮断性
被覆層を設けなかった以外は実施例1と同様にして、比
較用コーティング成形体(1)を得た。
Comparative Example 1 A comparative coated molded product (1) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the UV-blocking coating layer of the UV-blocking coating agent (1) was not provided. .

【0080】比較用コーティング成形体(1)の特性評
価を下記表1に併せて示す。
The evaluation of the properties of the comparative coated molded article (1) is also shown in Table 1 below.

【0081】比較例2 実施例1でコーティング剤(1)によるガスバリア被覆
層を設けなかった以外は実施例1と同様にして、比較用
コーティング成形体(2)を得た。
Comparative Example 2 A comparative coated molded article (2) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the gas barrier coating layer of the coating agent (1) was not provided.

【0082】比較用コーティング成形体(2)の特性評
価を下記表1に併せて示す。
The evaluation of the properties of the comparative coated molded article (2) is also shown in Table 1 below.

【0083】[0083]

【表1】 [Table 1]

【0084】表1中の光透過率(%):360nmでの
光線透過率を測定した。
Light transmittance (%) in Table 1: The light transmittance at 360 nm was measured.

【0085】表1中の酸素透過度:モダンコントロール
ズ社製の酸素透過度測定装置にて、20℃90%Rhで
測定した。単位は、ml/m2・24hrs・atmで
ある。
Oxygen permeability in Table 1: Measured at 20 ° C. and 90% Rh using an oxygen permeability measuring device manufactured by Modern Controls. The unit is ml / m 2 · 24 hrs · atm.

【0086】表1中の可とう性:以下の試験により判定
した。
Flexibility in Table 1: Judgment was made by the following tests.

【0087】○:成形体を180°折り曲げてクラック
が発生せず。
:: The molded article was bent at 180 ° and no crack was generated.

【0088】×:成形体を180°折り曲げてクラック
が発生する。
×: Cracks occur when the molded body is bent at 180 °.

【0089】[0089]

【発明の効果】上述したように、本発明のUV遮断性ガ
スバリア用コーティング成形体は、優れたUV遮断性、
ガスバリア性、基材等との密着性、透明性、可とう性、
さらには耐候性、光沢、耐湿性、耐水性、耐溶剤性、機
械的強度、耐久性、耐衝撃性、耐熱性、耐光性、柔軟
性、印刷性などの特性を有するため、これらの特性(の
一部)が要求される各種分野において幅広く適用するこ
とができるものであり、例えば、食料や飲料品の容器や
包装材、特に、酸化を受けやすく紫外線により風味が失
われたり、変色(黄変)しやすいポテトチップスなどの
揚げ物やアルコールを含む酒類などの食品や飲料品の容
器や包装材(具体的には、プラスチック基材上に、ガス
バリア性被覆層、UV遮断性被覆層の順に積層される形
で形成された食品包装用フィルムやペットボトルの容器
など)、液晶表示装置、携帯端末ないしモバイル機器な
どに用いられる電子部品(例えば、液晶ディスプレイの
UV遮断性被覆層、ガスバリア性被覆層が形成されたポ
リマーフィルム基材など)、医療機器や医療器具(例え
ば、血液保存バックなど)などの幅広い用途に適用でき
るものである。また、収縮による応力を受けても基材上
に形成された各被覆層の特性が損なわれることもないた
め、食品や飲料品の容器や包装材に使われているシュリ
ンクフィルム(収縮性フィルム)にも適用可能であり、
極めて広範囲に適用できるものである。
As described above, the coating product for UV barrier gas barrier of the present invention has excellent UV blocking properties,
Gas barrier properties, adhesion to substrates, etc., transparency, flexibility,
Furthermore, it has properties such as weather resistance, gloss, moisture resistance, water resistance, solvent resistance, mechanical strength, durability, impact resistance, heat resistance, light resistance, flexibility, and printability. ) Can be widely applied in various fields requiring, for example, containers and packaging materials for foods and beverages, in particular, are easily oxidized, lose their flavor due to ultraviolet rays, and discolor (yellow). Containers and packaging materials for foods and beverages such as fried foods such as potato chips and alcoholic beverages (specifically, laminating a gas barrier coating layer and a UV blocking coating layer on a plastic base material) Electronic components (eg, a UV-blocking coating layer of a liquid crystal display, a liquid crystal display device, a portable terminal or a mobile device, etc.) Such as gas barrier coating layer polymer film substrate is formed), medical equipment and medical instruments (e.g., blood storage back, etc.) is applicable to a wide range of applications, such as. In addition, since the properties of each coating layer formed on the substrate are not impaired even when subjected to stress due to shrinkage, shrink films (shrinkable films) used in containers and packaging materials for food and beverages Is also applicable to
It is very widely applicable.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4F006 AA35 AB32 AB34 AB37 AB39 BA05 CA07 4F100 AH03B AH06B AH08B AK25 AK42 AR00C AT00A BA03 BA07 BA10A BA10C EH46 EJ86 GB15 GB23 GB41 GB66 JB07 JD02 JD03 JD04 JD09 JD09C JJ03 JK01 JK06 JK09 JK10 JK13 JK17 JL00 JN01 JN21  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page F term (reference) 4F006 AA35 AB32 AB34 AB37 AB39 BA05 CA07 4F100 AH03B AH06B AH08B AK25 AK42 AR00C AT00A BA03 BA07 BA10A BA10C EH46 EJ86 GB15 GB23 GB41 GB66 JB07 JD02 JD03 JD09 JD09 JD09 JK17 JL00 JN01 JN21

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材上に、アミノ基とSiOR1基(R1
は、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表
す。)を分子内に有するケイ素化合物(I)と、アミノ
基と反応し得る官能基を分子内に有する有機化合物(I
I)と、下記一般式(1) 【化1】 (ただし、式中、MはSiもしくは金属元素であり、R
2は炭素数1〜4のアルキル基またはアミノ基と反応し
ない官能基を有する炭素数1〜4のアルキル基であり、
3は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基であ
り、nは1以上の整数でかつm+nはMの原子価と一致
するものである。)で表される有機金属化合物(III)
および/またはその加水分解縮合物とを含む組成物から
得られる被覆層と、UV遮断性被覆層とを有するUV遮
断性ガスバリア用コーティング成形体。
1. An amino group and a SiOR 1 group (R 1
Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. ) In the molecule and an organic compound (I) having a functional group capable of reacting with an amino group in the molecule.
I) and the following general formula (1) (Where M is Si or a metal element;
2 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms having a functional group that does not react with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an amino group;
R 3 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, n is an integer of 1 or more, and m + n is the same as the valence of M. Organometallic compound (III) represented by
And / or a UV-shielding gas barrier coated molded article having a coating layer obtained from a composition containing a hydrolysis-condensation product thereof and a UV-shielding coating layer.
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