JP2002363437A - Amorphous form of dipyrromethene metal chelate compound and method for producing the same - Google Patents

Amorphous form of dipyrromethene metal chelate compound and method for producing the same

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JP2002363437A
JP2002363437A JP2001174319A JP2001174319A JP2002363437A JP 2002363437 A JP2002363437 A JP 2002363437A JP 2001174319 A JP2001174319 A JP 2001174319A JP 2001174319 A JP2001174319 A JP 2001174319A JP 2002363437 A JP2002363437 A JP 2002363437A
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JP
Japan
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group
metal chelate
substituted
unsubstituted
chelate compound
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Application number
JP2001174319A
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Japanese (ja)
Inventor
Taizo Nishimoto
泰三 西本
Tsutayoshi Misawa
伝美 三沢
Kenichi Kato
健一 加藤
Yojiro Kumagai
洋二郎 熊谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yamamoto Chemicals Inc
Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Yamamoto Chemicals Inc
Mitsui Chemicals Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a dipyrromethene metal chelate compound improved in solubility. SOLUTION: The amorphous form of the dipyrromethene metal chelate compound of formula 1 [R<1> to R<8> are each H, a halogen atom, nitro, cyano, OH, amino, carboxy, sulfo, a <=20C (substituted) alkyl, alkoxy, alkylthio, aryloxy, arylthio, alkenyl, acyl, alkoxycarbonyl, carbamoyl, acylamino, aralkyl, aryl or heteroaryl; R<9> is a halogen atom, a <=20C (substituted) aryl, heteroaryl, alkoxy, alkylthio, aryloxy or arylthio, where R<1> and R<2> may form a ring via a linkage group; and M is a transition metal] is provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ジピロメテン金属
キレート化合物の結晶形を規制した、溶解性の優れたジ
ピロメテン金属キレート化合物のアモルファス体、及び
その製造方法に関する。本発明のジピロメテン金属キレ
ート化合物のアモルファス体は、液晶表示素子、光学フ
ィルター、追記型光記録媒体などの記録、記憶材料、特
に高密度に記録および再生可能な光記録媒体用の記録材
料として有用である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an amorphous form of a dipyrromethene metal chelate compound having excellent solubility, which regulates the crystal form of the dipyrromethene metal chelate compound, and a method for producing the same. The amorphous body of the dipyrromethene metal chelate compound of the present invention is useful as a recording and storage material for a liquid crystal display device, an optical filter, a write-once optical recording medium and the like, particularly a recording material for an optical recording medium capable of high-density recording and reproduction. is there.

【0002】[0002]

【従来の技術】記録、記憶材料、特に近年高密度光記録
媒体として注目されているDVD−R用の記録材料とし
ては、さまざまな有機色素が開発されており、シアニ
ン、アゾ、ベンゾピラン、ベンゾジフラノン、インジ
ゴ、ジオキサジン、ポルフィリン系色素等が提案されて
いる(特開平4−74690号公報、特開平5−388
78号公報、特開平6−40161号公報、特開平6−
40162号公報、特開平6−199045号公報、特
開平6−336086号公報、特開平7−76169号
公報、特開平7−125441号公報、特開平7−26
2604号公報、特開平9−156218号公報、特開
平9−193544号公報、特開平9−193545号
公報、特開平9−193547号公報、特開平9−19
4748号公報、特開平9−202052号公報、特開
平9−267562号公報、特開平9−274732号
公報等)。
2. Description of the Related Art Various organic dyes have been developed as recording and storage materials, and in particular, as recording materials for DVD-Rs, which have recently attracted attention as high-density optical recording media, and include cyanine, azo, benzopyran, benzodifuranone, and the like. Indigo, dioxazine, porphyrin dyes and the like have been proposed (JP-A-4-74690, JP-A-5-388).
No. 78, JP-A-6-40161, JP-A-6-401
40162, JP-A-6-199045, JP-A-6-336086, JP-A-7-76169, JP-A-7-125441, JP-A-7-26
2604, JP-A-9-156218, JP-A-9-193544, JP-A-9-193545, JP-A-9-193546, JP-A-9-19
4748, JP-A-9-20252, JP-A-9-267562, JP-A-9-274732, and the like.

【0003】しかしながら、耐久性の問題や、高密度記
録を行うためにレーザー光の発信波長が630nm〜6
80nm近傍とCDの場合より短波長化していることに
起因する問題、例えば、絞られたレーザー光で小さいピ
ットを開けるべきところが、周りへの影響が大きく、分
布の大きいピット形成に起因するジッターの悪化、半径
方向へのクロストークの悪化や、ピットが極端に小さく
なることに起因する変調度の悪化、あるいは、目的とす
るレーザー波長において、不適切な光学定数(屈折率、
消衰係数)を有する有機色素を記録層に選択することに
起因する反射率の低下や感度の悪化等についてはなんら
解決されていないのが現状である。
However, the transmission wavelength of the laser light is 630 nm to 6
Problems caused by the wavelength being shorter than that of the CD when the wavelength is around 80 nm, for example, where a small pit should be opened with a focused laser beam, the influence on the surroundings is large, and the jitter due to the formation of a large distribution of pits is large. Deterioration, deterioration of crosstalk in the radial direction, deterioration of the degree of modulation due to extremely small pits, or inappropriate optical constants (refractive index,
At present, no solution has been made to the reduction of the reflectance or the deterioration of the sensitivity caused by selecting an organic dye having an extinction coefficient) for the recording layer.

【0004】更に、記録に際し、通常の記録速度に比
べ、高速度の記録に対応した光記録媒体が望まれている
が、高速記録にともなう記録感度の悪化、ジッターの悪
化等についてはなんら解決されていないのが現状であ
る。
[0004] Further, in recording, an optical recording medium capable of recording at a higher speed than a normal recording speed is desired. However, deterioration of the recording sensitivity and jitter due to the high speed recording can be solved. It is not at present.

【0005】上記のような問題を解決するために、本発
明者らは、ジピロメテン金属キレート化合物を用いた光
記録媒体を提案しており、特開平10−226172号
公報、特開平11−092682号公報、特開平11−
165465号公報、特開平11−227332号公
報、特開平11−227333号公報、特開平11−3
21098号公報、、特願平13−052523号公報
等がある。ジピロメテン金属キレート化合物を用いて光
記録媒体の記録層を設ける方法としては例えば、スピン
コート法、スプレー法、キャスト法、浸漬法などの塗布
法、スパッタ法、化学蒸着法、真空蒸着法などが挙げら
れるが、スピンコート法が簡便で好ましい。このスピン
コート法の塗布液を作製する際にはジピロメテン金属キ
レート化合物を溶媒に1〜40質量%、好ましくは3〜
30質量%の濃度で溶解するが、上記のジピロメテン金
属キレート化合物の中には、最適の濃度まで溶解しなか
ったり、一度は溶解しても短時間で沈殿が生じてしま
い、必要な濃度の塗布液を調整できないことがあること
を見出した。
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have proposed an optical recording medium using a dipyrromethene metal chelate compound, which is disclosed in JP-A-10-226172 and JP-A-11-092682. Gazette, JP-A-11-
JP-A-165465, JP-A-11-227332, JP-A-11-227333, JP-A-11-3
No. 21098, Japanese Patent Application No. 13-052523, and the like. Examples of a method for providing a recording layer of an optical recording medium using a dipyrromethene metal chelate compound include spin coating, spraying, casting, coating such as dipping, sputtering, chemical vapor deposition, and vacuum vapor deposition. However, the spin coating method is simple and preferred. When preparing a coating solution for this spin coating method, the dipyrromethene metal chelate compound is used in a solvent in an amount of 1 to 40% by mass, preferably 3 to 40% by mass.
Although it dissolves at a concentration of 30% by mass, the above-mentioned dipyrromethene metal chelate compound does not dissolve to an optimum concentration, or precipitates in a short time even if dissolved once, so that the required concentration is applied. It has been found that the liquid cannot be adjusted in some cases.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、溶解
性が向上したアモルファス状態のジピロメテン金属キレ
ート化合物を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an amorphous dipyrromethene metal chelate compound having improved solubility.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記ジピ
ロメテン金属キレート化合物の溶解性を改善することを
鋭意検討した結果、ジピロメテン金属キレート化合物を
有機溶媒に溶解した後に、溶液を凍結させ、減圧下で凍
結物を加熱して溶媒を昇華させる真空凍結乾燥法によ
り、溶解性が向上したアモルファス状態のジピロメテン
金属キレート化合物が得られることを見出し、本発明を
完成させるに至った。即ち、本発明は、
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies on improving the solubility of the dipyrromethene metal chelate compound. As a result, after dissolving the dipyrromethene metal chelate compound in an organic solvent, the solution was frozen. The present inventors have found that an amorphous dipyrromethene metal chelate compound having improved solubility can be obtained by a vacuum freeze-drying method in which a frozen substance is heated under reduced pressure to sublime a solvent, thereby completing the present invention. That is, the present invention

【0008】 下記一般式(1)で示されるジピロメ
テン金属キレート化合物のアモルファス体。
An amorphous form of a dipyrromethene metal chelate compound represented by the following general formula (1).

【0009】[0009]

【化5】 Embedded image

【0010】〔式中、R1〜R8は、各々独立に、水素原
子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ
基、アミノ基、カルボキシル基、スルホン酸基、炭素数
20以下の置換または未置換のアルキル基、アルコキシ
基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ
基、アルケニル基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、アシルアミノ基、アラルキル基、
アリール基またはヘテロアリール基を表し、R9は、ハ
ロゲン原子、炭素数20以下の置換または未置換のアリ
ール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アルキルチ
オ基、アリールオキシ基、アリールチオ基を表し、R1
とR2は式(a)で表される連結基を介して環を形成し
てもよく、Mは遷移元素を表す。
[Wherein, R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, an amino group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, a substituent having 20 or less carbon atoms or Unsubstituted alkyl, alkoxy, alkylthio, aryloxy, arylthio, alkenyl, acyl, alkoxycarbonyl, carbamoyl, acylamino, aralkyl,
An aryl group or a heteroaryl group, R 9 represents a halogen atom, of 20 or less substituted or unsubstituted aryl group having a carbon heteroaryl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an aryloxy group, an arylthio group, R 1
And R 2 may form a ring via a linking group represented by formula (a), and M represents a transition element.

【0011】[0011]

【化6】 Embedded image

【0012】(Aは炭素数20以下の置換または未置換
の芳香環または複素環を表し、L1は、それが結合して
いる炭素原子と一緒になって環を形成する、ヘテロ原子
を含んでも良い置換または未置換の残基を表す)〕
(A represents a substituted or unsubstituted aromatic or heterocyclic ring having 20 or less carbon atoms, and L 1 includes a hetero atom which forms a ring together with the carbon atom to which it is bonded. Represents a substituted or unsubstituted residue)

【0013】 結晶性のジピロメテン金属キレート化
合物を有機溶媒に溶解した後に有機溶媒溶液を凍結乾燥
させることを特徴とする下記一般式(1)で示されるジ
ピロメテン金属キレート化合物のアモルファス体の製造
方法。
A method for producing an amorphous form of a dipyrromethene metal chelate compound represented by the following general formula (1), comprising dissolving a crystalline dipyrromethene metal chelate compound in an organic solvent and freeze-drying the organic solvent solution.

【0014】[0014]

【化7】 Embedded image

【0015】〔式中、R1〜R8は、各々独立に、水素原
子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ
基、アミノ基、カルボキシル基、スルホン酸基、炭素数
20以下の置換または未置換のアルキル基、アルコキシ
基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ
基、アルケニル基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、アシルアミノ基、アラルキル基、
アリール基またはヘテロアリール基を表し、R9は、ハ
ロゲン原子、炭素数20以下の置換または未置換のアリ
ール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アルキルチ
オ基、アリールオキシ基、アリールチオ基を表し、R1
とR2は式(a)で表される連結基を介して環を形成し
てもよく、Mは遷移元素を表す。
[Wherein R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, an amino group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, a substituent having 20 or less carbon atoms or Unsubstituted alkyl, alkoxy, alkylthio, aryloxy, arylthio, alkenyl, acyl, alkoxycarbonyl, carbamoyl, acylamino, aralkyl,
An aryl group or a heteroaryl group, R 9 represents a halogen atom, of 20 or less substituted or unsubstituted aryl group having a carbon heteroaryl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an aryloxy group, an arylthio group, R 1
And R 2 may form a ring via a linking group represented by formula (a), and M represents a transition element.

【0016】[0016]

【化8】 Embedded image

【0017】(Aは炭素数20以下の置換または未置換
の芳香環または複素環を表し、L1は、それが結合して
いる炭素原子と一緒になって環を形成する、ヘテロ原子
を含んでも良い置換または未置換の残基を表す)〕
(A represents a substituted or unsubstituted aromatic or heterocyclic ring having 20 or less carbon atoms, and L 1 contains a hetero atom which forms a ring together with the carbon atom to which it is bonded. Represents a substituted or unsubstituted residue)

【0018】 凍結乾燥に用いる有機溶媒の凝固点が
−40〜40℃であるの製造方法。 凍結温度が−
50〜0℃であるの製造方法。 凍結後の乾燥機の棚を加熱する熱媒の温度が−30
〜70℃であるの製造方法。 凍結後の乾燥機の棚を加熱する熱媒の温度が0〜7
0℃であるの製造方法。 乾燥時の圧力が133.32Pa(1000mTo
rr)〜1.33Pa(10mTorr)であるの製
造方法。
[0018] A production method in which the organic solvent used for freeze-drying has a freezing point of -40 to 40 ° C. The freezing temperature is-
The production method at 50 to 0 ° C. The temperature of the heating medium for heating the dryer shelf after freezing is -30.
-70 ° C. The temperature of the heating medium for heating the shelf of the dryer after freezing is 0 to 7
The production method at 0 ° C. The pressure during drying is 133.32 Pa (1000 mTo
rr) to 1.33 Pa (10 mTorr).

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0020】本発明に用いられる有機溶媒は、 1)結晶状態をアモルファス状態にするために、ジピロ
メテン金属キレート化合物を溶解すること、2)凍結乾
燥によって溶媒を除去するために、凝固点が−40℃以
上、好ましくは0℃以上40℃以下であること、の条件
を満たすことが好ましく、その具体例としては、1,2
−ジクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、
1,1,2−トリクロロエタン、ヨードベンゼン、ブロ
モベンゼン、1−メチルナフタレン、m−クロロトルエ
ン、o−キシレン、m−ジクロロベンゼン、四塩化炭
素、テトラクロロエチレン、1,6−ジメチルナフタレ
ン、1,2−ジクロロベンゼン。α,α−ジクロロトル
エン、3,4−ジクロロトルエン、2,4−ジクロロト
ルエン、α,α,α−トリクロロトルエン、1−クロロ
ナフタレン、1,2−ジメチルナフタレン、ジイソプロ
ピルエーテル、アニソール、1,1,2,2−テトラク
ロロエタン、1,3,5−トリクロロベンゼン、1,3
−ジブロモベンゼン、1,4−ジブロモベンゼン、好ま
しくはベンゼン、p−キシレン、1−ブロモナフタレ
ン、p−クロロトルエン、1,4−ジオキサン、1,2
−ジブロモエタン、1,2−ジブロモベンゼン、2−メ
チルナフタレン等が挙げられる。
The organic solvent used in the present invention is: 1) dissolving a dipyrromethene metal chelate compound to change the crystalline state to an amorphous state; 2) removing the solvent by freeze-drying; As described above, it is preferable that the condition of 0 ° C. or higher and 40 ° C. or lower be satisfied.
-Dichloroethane, 1,1,1-trichloroethane,
1,1,2-trichloroethane, iodobenzene, bromobenzene, 1-methylnaphthalene, m-chlorotoluene, o-xylene, m-dichlorobenzene, carbon tetrachloride, tetrachloroethylene, 1,6-dimethylnaphthalene, 1,2- Dichlorobenzene. α, α-dichlorotoluene, 3,4-dichlorotoluene, 2,4-dichlorotoluene, α, α, α-trichlorotoluene, 1-chloronaphthalene, 1,2-dimethylnaphthalene, diisopropyl ether, anisole, 1,1 , 2,2-tetrachloroethane, 1,3,5-trichlorobenzene, 1,3
-Dibromobenzene, 1,4-dibromobenzene, preferably benzene, p-xylene, 1-bromonaphthalene, p-chlorotoluene, 1,4-dioxane, 1,2
-Dibromoethane, 1,2-dibromobenzene, 2-methylnaphthalene and the like.

【0021】結乾燥はジピロメテン金属キレート化合物
の溶液を凍結乾燥機に入れ、常圧で−50℃以上、好ま
しくは−40以上0℃以下で、120分以内、好ましく
は60分以内に乾燥機内を冷却して溶液を凍結させた
後、減圧にして、乾燥機の棚を加熱する熱媒を−30か
ら70℃まで、好ましくは−30℃から40℃まで加熱
して気化潜熱を補いながら凍結した溶媒を昇華乾燥させ
る。この時、凍結乾燥機の内圧は概ね133.32Pa
(1000mTorr)以下、好ましくは概ね66.7
Pa(500mTorr)以下、乾燥の最終段階では概
ね26.7Pa(200mTorr)以下が好ましい。
For drying by drying, the solution of the dipyrromethene metal chelate compound is put into a freeze dryer, and is heated at normal pressure at a temperature of -50 ° C or higher, preferably -40 to 0 ° C within 120 minutes, preferably 60 minutes. After cooling and freezing the solution, the pressure was reduced and the heating medium for heating the shelf of the dryer was heated from -30 to 70 ° C, preferably from -30 ° C to 40 ° C to freeze while supplementing the latent heat of vaporization. The solvent is sublimated and dried. At this time, the internal pressure of the freeze dryer was approximately 133.32 Pa.
(1000 mTorr) or less, preferably approximately 66.7
Pa (500 mTorr) or less, and approximately 26.7 Pa (200 mTorr) or less at the final stage of drying is preferable.

【0022】一般式(1)で示されるジピロメテン金属
キレート化合物において、R1〜R8の具体例としては、 水素原子;フッ素、塩素、臭素、沃素等のハロゲン原
子;ニトロ基;シアノ基;ヒドロキシ基;アミノ基;カ
ルボキシル基;スルホン酸基;メチル基、エチル基、n
−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、i
so−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n
−ペンチル基、iso−ペンチル基、2−メチルブチル
基、1−メチルブチル基、neo−ペンチル基、1,2
−ジメチルプロピル基、1,1−ジメチルプロピル基、
cyclo−ペンチル基、n−ヘキシル基、4−メチル
ペンチル基、3−メチルペンチル基、2−メチルペンチ
ル基、1−メチルペンチル基、3,3−ジメチルブチル
基、2,3−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチ
ル基、2,2−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブ
チル基、1,1−ジメチルブチル基、3−エチルブチル
基、2−エチルブチル基、1−エチルブチル基、1,
2,2−トリメチルブチル基、1,1,2−トリメチル
ブチル基、1−エチル−2−メチルプロピル基、cyc
lo−ヘキシル基、n−ヘプチル基、2−メチルヘキシ
ル基、3−メチルヘキシル基、4−メチルヘキシル基、
5−メチルヘキシル基、2,4−ジメチルペンチル基、
n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、2,5−ジメ
チルヘキシル基、2,5,5−トリメチルペンチル基、
2,4−ジメチルヘキシル基、2,2,4−トリメチル
ペンチル基、3,5,5−トリメチルヘキシル基、n−
ノニル基、n−デシル基、4−エチルオクチル基、4−
エチル−4,5−ジメチルヘキシル基、n−ウンデシル
基、n−ドデシル基、1,3,5,7−テトラエチルオ
クチル基、4−ブチルオクチル基、6,6−ジエチルオ
クチル基、n−トリデシル基、6−メチル−4−ブチル
オクチル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル
基、3,5−ジメチルヘプチル基、2,6−ジメチルヘ
プチル基、2,4−ジメチルヘプチル基、2,2,5,
5−テトラメチルヘキシル基、1−cyclo−ペンチ
ル−2,2−ジメチルプロピル基、1−cyclo−ヘ
キシル−2,2−ジメチルプロピル基等の炭素数20以
下、好ましくは15以下の置換または未置換のアルキル
基;
In the dipyrromethene metal chelate compound represented by the general formula (1), specific examples of R 1 to R 8 include a hydrogen atom; a halogen atom such as fluorine, chlorine, bromine and iodine; a nitro group; a cyano group; Group; amino group; carboxyl group; sulfonic group; methyl group, ethyl group, n
-Propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, i
so-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n
-Pentyl group, iso-pentyl group, 2-methylbutyl group, 1-methylbutyl group, neo-pentyl group, 1,2
-Dimethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl group,
cyclo-pentyl group, n-hexyl group, 4-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 1-methylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 3-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1-ethylbutyl group,
2,2-trimethylbutyl group, 1,1,2-trimethylbutyl group, 1-ethyl-2-methylpropyl group, cyc
lo-hexyl group, n-heptyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group,
5-methylhexyl group, 2,4-dimethylpentyl group,
n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2,5-dimethylhexyl group, 2,5,5-trimethylpentyl group,
2,4-dimethylhexyl group, 2,2,4-trimethylpentyl group, 3,5,5-trimethylhexyl group, n-
Nonyl group, n-decyl group, 4-ethyloctyl group, 4-
Ethyl-4,5-dimethylhexyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, 1,3,5,7-tetraethyloctyl group, 4-butyloctyl group, 6,6-diethyloctyl group, n-tridecyl group , 6-methyl-4-butyloctyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, 3,5-dimethylheptyl group, 2,6-dimethylheptyl group, 2,4-dimethylheptyl group, 2,2,5 ,
Substituted or unsubstituted with 20 or less carbon atoms, preferably 15 or less carbon atoms, such as a 5-tetramethylhexyl group, a 1-cyclo-pentyl-2,2-dimethylpropyl group, and a 1-cyclo-hexyl-2,2-dimethylpropyl group. An alkyl group of

【0023】メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ
基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、iso−
ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n
−ペントキシ基、iso−ペントキシ基、neo−ペン
トキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ドデシルオキシ
基等の炭素数20以下、好ましくは15以下の置換また
は未置換のアルコキシ基;メチルチオ基、エチルチオ
基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n
−ブチルチオ基、iso−ブチルチオ基、sec−ブチ
ルチオ基、t−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ基、i
so−ペンチルチオ基、2−メチルブチルチオ基、1−
メチルブチルチオ基、neo−ペンチルチオ基、1,2
−ジメチルプロピルチオ基、1,1−ジメチルプロピル
チオ基等の炭素数20以下、好ましくは15以下の置換
または未置換のアルキルチオ基;フェノキシ基、2−メ
チルフェノキシ基、4−メチルフェノキシ基、4−t−
ブチルフェノキシ基、2−メトキシフェノキシ基、4−
iso−プロピルフェノキシ基等の炭素数20以下、好
ましくは15以下の置換または未置換のアリールオキシ
基;
Methoxy, ethoxy, n-propoxy, iso-propoxy, n-butoxy, iso-
Butoxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group, n
A substituted or unsubstituted alkoxy group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms, such as -pentoxy group, iso-pentoxy group, neo-pentoxy group, n-hexyloxy group, n-dodecyloxy group; methylthio group, ethylthio group , N-propylthio group, iso-propylthio group, n
-Butylthio group, iso-butylthio group, sec-butylthio group, t-butylthio group, n-pentylthio group, i
so-pentylthio group, 2-methylbutylthio group, 1-
Methylbutylthio group, neo-pentylthio group, 1,2
A substituted or unsubstituted alkylthio group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms, such as -dimethylpropylthio group and 1,1-dimethylpropylthio group; phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, -T-
Butylphenoxy group, 2-methoxyphenoxy group, 4-
a substituted or unsubstituted aryloxy group having 20 or less carbon atoms, preferably 15 or less carbon atoms, such as an iso-propylphenoxy group;

【0024】フェニルチオ基、4−メチルフェニルチオ
基、2−メトキシフェニルチオ基、4−t−ブチルフェ
ニルチオ基等の炭素数20以下、好ましくは15以下の
置換または未置換のアリ−ルチオ基;ビニル基、プロペ
ニル基、1−ブテニル基、iso−ブテニル基、1−ペ
ンテニル基、2−ペンテニル基、2−メチル−1−ブテ
ニル基、3−メチル−1−ブテニル基、2−メチル−2
−ブテニル基、2,2−ジシアノビニル基、2−シアノ
−2−メチルカルボキシルビニル基、2−シアノ−2−
メチルスルホンビニル基、2−フェニル−1−ブテニル
基等の炭素数20以下、好ましくは15以下の置換また
は未置換のアルケニル基;ホルミル基、アセチル基、エ
チルカルボニル基、n−プロピルカルボニル基、iso
−プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル基、i
so−ブチルカルボニル基、sec−ブチルカルボニル
基、t−ブチルカルボニル基、n−ペンチルカルボニル
基、iso−ペンチルカルボニル基、neo−ペンチル
カルボニル基、2−メチルブチルカルボニル基、ニトロ
ベンジルカルボニル基等の炭素数20以下、好ましくは
15以下の置換または未置換のアシル基;メトキシカル
ボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピルオキシ
カルボニル基、2,4−ジメチルブチルオキシカルボニ
ル基等の炭素数20以下、好ましくは15以下の置換ま
たは未置換のアルコキシカルボニル基;カルバモイル
基;
A substituted or unsubstituted arylthio group having a carbon number of 20 or less, preferably 15 or less, such as a phenylthio group, a 4-methylphenylthio group, a 2-methoxyphenylthio group and a 4-t-butylphenylthio group; Vinyl group, propenyl group, 1-butenyl group, iso-butenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 2-methyl-1-butenyl group, 3-methyl-1-butenyl group, 2-methyl-2
-Butenyl group, 2,2-dicyanovinyl group, 2-cyano-2-methylcarboxylvinyl group, 2-cyano-2-
A substituted or unsubstituted alkenyl group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms, such as a methylsulfone vinyl group and a 2-phenyl-1-butenyl group; formyl group, acetyl group, ethylcarbonyl group, n-propylcarbonyl group, iso
-Propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, i
carbon such as so-butylcarbonyl group, sec-butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, n-pentylcarbonyl group, iso-pentylcarbonyl group, neo-pentylcarbonyl group, 2-methylbutylcarbonyl group, nitrobenzylcarbonyl group, etc. A substituted or unsubstituted acyl group having a number of 20 or less, preferably 15 or less; a carbon number of 20 or less, preferably 15 or less, such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an isopropyloxycarbonyl group, and a 2,4-dimethylbutyloxycarbonyl group. A substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group; a carbamoyl group;

【0025】アセチルアミノ基、エチルカルボニルアミ
ノ基、ブチルカルボニルアミノ基等の炭素数20以下、
好ましくは15以下の置換または未置換のアシルアミノ
基;ベンジル基、ニトロベンジル基、シアノベンジル
基、ヒドロキシベンジル基、メチルベンジル基、ジメチ
ルベンジル基、トリメチルベンジル基、ジクロロベンジ
ル基、メトキシベンジル基、エトキシベンジル基、トリ
フルオロメチルベンジル基、ナフチルメチル基、ニトロ
ナフチルメチル基、シアノナフチルメチル基、ヒドロキ
シナフチルメチル基、メチルナフチルメチル基、トリフ
ルオロメチルナフチルメチル基等の炭素数20以下、好
ましくは15以下の置換または未置換のアラルキル基;
フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、ヒ
ドロキシフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェ
ニル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、ジ
エチルフェニル基、トリエチルフェニル基、n−プロピ
ルフェニル基、ジ(n−プロピル)フェニル基、トリ
(n−プロピル)フェニル基、iso−プロピルフェニ
ル基、ジ(iso−プロピル)フェニル基、トリ(is
o−プロピル)フェニル基、n−ブチルフェニル基、ジ
(n−ブチル)フェニル基、トリ(n−ブチル)フェニ
ル基、iso−ブチルフェニル基、ジ(iso−ブチ
ル)フェニル基、トリ(iso−ブチル)フェニル基、
sec−ブチルフェニル基、ジ(sec−ブチル)フェ
ニル基、トリ(sec−ブチル)フェニル基、t−ブチ
ルフェニル基、ジ(t−ブチル)フェニル基、トリ(t
−ブチル)フェニル基、ジメチル−t−ブチルフェニル
基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル基、エ
トキシフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、
N,N−ジメチルアミノフェニル基、ナフチル基、ニト
ロナフチル基、シアノナフチル基、ヒドロキシナフチル
基、メチルナフチル基、フルオロナフチル基、クロロナ
フチル基、ブロモナフチル基、ヨードナフチル基、メト
キシナフチル基、トリフルオロメチルナフチル基、N,
N−ジメチルアミノナフチル基等の炭素数20以下、好
ましくは15以下の置換または未置換のアリール基;
An acetylamino group, an ethylcarbonylamino group, a butylcarbonylamino group and the like having 20 or less carbon atoms;
Preferably 15 or less substituted or unsubstituted acylamino groups; benzyl group, nitrobenzyl group, cyanobenzyl group, hydroxybenzyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, trimethylbenzyl group, dichlorobenzyl group, methoxybenzyl group, ethoxybenzyl Group, trifluoromethylbenzyl group, naphthylmethyl group, nitronaphthylmethyl group, cyanonaphthylmethyl group, hydroxynaphthylmethyl group, methylnaphthylmethyl group, trifluoromethylnaphthylmethyl group and the like having 20 or less carbon atoms, preferably 15 or less. A substituted or unsubstituted aralkyl group;
Phenyl, nitrophenyl, cyanophenyl, hydroxyphenyl, methylphenyl, dimethylphenyl, trimethylphenyl, ethylphenyl, diethylphenyl, triethylphenyl, n-propylphenyl, di (n-propyl ) Phenyl, tri (n-propyl) phenyl, iso-propylphenyl, di (iso-propyl) phenyl, tri (is
o-propyl) phenyl group, n-butylphenyl group, di (n-butyl) phenyl group, tri (n-butyl) phenyl group, iso-butylphenyl group, di (iso-butyl) phenyl group, tri (iso- Butyl) phenyl group,
sec-butylphenyl group, di (sec-butyl) phenyl group, tri (sec-butyl) phenyl group, t-butylphenyl group, di (t-butyl) phenyl group, tri (t
-Butyl) phenyl group, dimethyl-t-butylphenyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, iodophenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, trifluoromethylphenyl group,
N, N-dimethylaminophenyl group, naphthyl group, nitronaphthyl group, cyanonaphthyl group, hydroxynaphthyl group, methylnaphthyl group, fluoronaphthyl group, chloronaphthyl group, bromonaphthyl group, iodonaphthyl group, methoxynaphthyl group, trifluoro A methylnaphthyl group, N,
A substituted or unsubstituted aryl group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms, such as an N-dimethylaminonaphthyl group;

【0026】ピロリル基、チエニル基、フラニル基、オ
キサゾイル基、イソオキサゾイル基、オキサジアゾイル
基、イミダゾイル基、ベンゾオキサゾイル基、ベンゾチ
アゾイル基、ベンゾイミダゾイル基、ベンゾフラニル
基、インドイル基、イソインドイル基等の炭素数20以
下、好ましくは15以下の置換または未置換のヘテロア
リール基;等を挙げることができる。
Carbon such as pyrrolyl, thienyl, furanyl, oxazoyl, isoxazoyl, oxadiazoyl, imidazoyl, benzoxazoyl, benzothiazoyl, benzoimidazoyl, benzofuranyl, indoyl, isoindoyl, etc. A substituted or unsubstituted heteroaryl group having a number of 20 or less, preferably 15 or less;

【0027】R9の具体例としては、 フッ素、塩素、臭素、沃素等のハロゲン原子;フェニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、ヒドロキシ
フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、
トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、ジエチルフ
ェニル基、トリエチルフェニル基、n−プロピルフェニ
ル基、ジ(n−プロピル)フェニル基、トリ(n−プロ
ピル)フェニル基、iso−プロピルフェニル基、ジ
(iso−プロピル)フェニル基、トリ(iso−プロ
ピル)フェニル基、n−ブチルフェニル基、ジ(n−ブ
チル)フェニル基、トリ(n−ブチル)フェニル基、i
so−ブチルフェニル基、ジ(iso−ブチル)フェニ
ル基、トリ(iso−ブチル)フェニル基、sec−ブ
チルフェニル基、ジ(sec−ブチル)フェニル基、ト
リ(sec−ブチル)フェニル基、t−ブチルフェニル
基、ジ(t−ブチル)フェニル基、トリ(t−ブチル)
フェニル基、ジメチル−t−ブチルフェニル基、フルオ
ロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、
ヨードフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェ
ニル基、トリフルオロメチルフェニル基、N,N−ジメ
チルアミノフェニル基、ナフチル基、ニトロナフチル
基、シアノナフチル基、ヒドロキシナフチル基、メチル
ナフチル基、フルオロナフチル基、クロロナフチル基、
ブロモナフチル基、ヨードナフチル基、メトキシナフチ
ル基、トリフルオロメチルナフチル基、N,N−ジメチ
ルアミノナフチル基等の炭素数20以下、好ましくは1
5以下の置換または未置換のアリール基;
Specific examples of R 9 include halogen atoms such as fluorine, chlorine, bromine and iodine; phenyl, nitrophenyl, cyanophenyl, hydroxyphenyl, methylphenyl, dimethylphenyl,
Trimethylphenyl, ethylphenyl, diethylphenyl, triethylphenyl, n-propylphenyl, di (n-propyl) phenyl, tri (n-propyl) phenyl, iso-propylphenyl, di (iso- Propyl) phenyl group, tri (iso-propyl) phenyl group, n-butylphenyl group, di (n-butyl) phenyl group, tri (n-butyl) phenyl group, i
so-butylphenyl group, di (iso-butyl) phenyl group, tri (iso-butyl) phenyl group, sec-butylphenyl group, di (sec-butyl) phenyl group, tri (sec-butyl) phenyl group, t- Butylphenyl group, di (t-butyl) phenyl group, tri (t-butyl)
Phenyl group, dimethyl-t-butylphenyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group,
Iodophenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, trifluoromethylphenyl group, N, N-dimethylaminophenyl group, naphthyl group, nitronaphthyl group, cyanonaphthyl group, hydroxynaphthyl group, methylnaphthyl group, fluoronaphthyl group, Chloronaphthyl group,
A bromonaphthyl group, an iodonaphthyl group, a methoxynaphthyl group, a trifluoromethylnaphthyl group, an N, N-dimethylaminonaphthyl group, etc.
5 or less substituted or unsubstituted aryl groups;

【0028】ピロリル基、チエニル基、フラニル基、オ
キサゾイル基、イソオキサゾイル基、オキサジアゾイル
基、イミダゾイル基、ベンゾオキサゾイル基、ベンゾチ
アゾイル基、ベンゾイミダゾイル基、ベンゾフラニル
基、インドイル基、イソインドイル基等の炭素数20以
下、好ましくは15以下の置換または未置換のヘテロア
リール基;メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ
基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、iso−
ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n
−ペントキシ基、iso−ペントキシ基、neo−ペン
トキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ドデシルオキシ
基等の炭素数20以下、好ましくは15以下の置換また
は未置換のアルコキシ基;メチルチオ基、エチルチオ
基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n
−ブチルチオ基、iso−ブチルチオ基、sec−ブチ
ルチオ基、t−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ基、i
so−ペンチルチオ基、2−メチルブチルチオ基、1−
メチルブチルチオ基、neo−ペンチルチオ基、1,2
−ジメチルプロピルチオ基、1,1−ジメチルプロピル
チオ基等の炭素数20以下、好ましくは15以下の置換
または未置換のアルキルチオ基;
Carbon such as pyrrolyl, thienyl, furanyl, oxazoyl, isoxazoyl, oxadiazoyl, imidazoyl, benzoxazoyl, benzothiazoyl, benzoimidazoyl, benzofuranyl, indoyl, isoindoyl and the like A substituted or unsubstituted heteroaryl group having a number of 20 or less, preferably 15 or less; a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an iso-propoxy group, an n-butoxy group, an iso-
Butoxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group, n
A substituted or unsubstituted alkoxy group having 20 or less, preferably 15 or less carbon atoms, such as -pentoxy group, iso-pentoxy group, neo-pentoxy group, n-hexyloxy group, n-dodecyloxy group; methylthio group, ethylthio group , N-propylthio group, iso-propylthio group, n
-Butylthio group, iso-butylthio group, sec-butylthio group, t-butylthio group, n-pentylthio group, i
so-pentylthio group, 2-methylbutylthio group, 1-
Methylbutylthio group, neo-pentylthio group, 1,2
A substituted or unsubstituted alkylthio group having 20 or less carbon atoms, preferably 15 or less carbon atoms, such as -dimethylpropylthio group and 1,1-dimethylpropylthio group;

【0029】フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、
4−メチルフェノキシ基、4−t−ブチルフェノキシ
基、2−メトキシフェノキシ基、4−iso−プロピル
フェノキシ基等の炭素数20以下、好ましくは15以下
の置換または未置換のアリールオキシ基;フェニルチオ
基、4−メチルフェニルチオ基、2−メトキシフェニル
チオ基、4−t−ブチルフェニルチオ基等の炭素数20
以下、好ましくは15以下の置換または未置換のアリ−
ルチオ基;等を挙げることができる。
Phenoxy group, 2-methylphenoxy group,
A substituted or unsubstituted aryloxy group having 20 or less carbon atoms, preferably 15 or less carbon atoms, such as 4-methylphenoxy group, 4-t-butylphenoxy group, 2-methoxyphenoxy group, 4-iso-propylphenoxy group; phenylthio group , 4-methylphenylthio, 2-methoxyphenylthio, 4-t-butylphenylthio, etc.
Or less, preferably 15 or less substituted or unsubstituted allies.
A luthio group; and the like.

【0030】R1とR2を連結する式(a)で表される連
結基において、Aの具体例としては、ベンゼン、ニトロ
ベンゼン、シアノベンゼン、ヒドロキシベンゼン、メチ
ルベンゼン、ジメチルベンゼン、トリメチルベンゼン、
エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、トリエチルベンゼ
ン、n−プロピルベンゼン、ジ(n−プロピル)ベンゼ
ン、トリ(n−プロピル)ベンゼン、iso−プロピル
ベンゼン、ジ(iso−プロピル)ベンゼン、トリ(i
so−プロピル)ベンゼン、n−ブチルベンゼン、ジ
(n−ブチル)ベンゼン、トリ(n−ブチル)ベンゼ
ン、iso−ブチルベンゼン、ジ(iso−ブチル)ベ
ンゼン、トリ(iso−ブチル)ベンゼン、sec−ブ
チルベンゼン、ジ(sec−ブチル)ベンゼン、トリ
(sec−ブチル)ベンゼン、t−ブチルベンゼン、ジ
(t−ブチル)ベンゼン、トリ(t−ブチル)ベンゼ
ン、ジメチル−t−ブチルベンゼン、フルオロベンゼ
ン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、ヨードベンゼ
ン、メトキシベンゼン、エトキシベンゼン、トリフルオ
ロメチルベンゼン、N,N−ジメチルアミノベンゼン、
ナフタレン、ニトロナフタレン、シアノナフタレン、ヒ
ドロキシナフタレン、メチルナフタレン、フルオロナフ
タレン、クロロナフチル基、ブロモナフチル基、ヨード
ナフチル基、メトキシナフチル基、トリフルオロメチル
ナフタレン、N,N−ジメチルアミノナフタレン等の炭
素数20以下、好ましくは15以下の置換または未置換
の芳香環;
In the linking group represented by the formula (a) connecting R 1 and R 2 , specific examples of A include benzene, nitrobenzene, cyanobenzene, hydroxybenzene, methylbenzene, dimethylbenzene, trimethylbenzene,
Ethylbenzene, diethylbenzene, triethylbenzene, n-propylbenzene, di (n-propyl) benzene, tri (n-propyl) benzene, iso-propylbenzene, di (iso-propyl) benzene, tri (i
(so-propyl) benzene, n-butylbenzene, di (n-butyl) benzene, tri (n-butyl) benzene, iso-butylbenzene, di (iso-butyl) benzene, tri (iso-butyl) benzene, sec- Butylbenzene, di (sec-butyl) benzene, tri (sec-butyl) benzene, t-butylbenzene, di (t-butyl) benzene, tri (t-butyl) benzene, dimethyl-t-butylbenzene, fluorobenzene, Chlorobenzene, bromobenzene, iodobenzene, methoxybenzene, ethoxybenzene, trifluoromethylbenzene, N, N-dimethylaminobenzene,
20 carbon atoms such as naphthalene, nitronaphthalene, cyanonaphthalene, hydroxynaphthalene, methylnaphthalene, fluoronaphthalene, chloronaphthyl, bromonaphthyl, iodonaphthyl, methoxynaphthyl, trifluoromethylnaphthalene, N, N-dimethylaminonaphthalene, etc. Up to, and preferably up to 15 substituted or unsubstituted aromatic rings;

【0031】ピロール、N−メチルピロール、チオフェ
ン、メチルチオフェン、フラン、オキサゾール、イソオ
キサゾール、オキサジアゾール、イミダゾール、ベンゾ
オキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾー
ル、ベンゾフラン、インドール、イソインドール等の炭
素数20以下、好ましくは15以下の置換または未置換
の複素環;等を挙げることができる。
C20 or less carbon atoms such as pyrrole, N-methylpyrrole, thiophene, methylthiophene, furan, oxazole, isoxazole, oxadiazole, imidazole, benzoxazole, benzothiazole, benzimidazole, benzofuran, indole and isoindole; And preferably 15 or less substituted or unsubstituted heterocyclic rings; and the like.

【0032】L1は、ヘテロ原子を含んでも良い置換ま
たは未置換の残基を表し、それが結合している炭素原子
と一緒になって環を形成する。
L 1 represents a substituted or unsubstituted residue which may contain a hetero atom, and forms a ring together with the carbon atom to which it is bonded.

【0033】L1が結合している炭素原子と一緒になっ
て形成する環の具体例としては、置換または未置換の5
員環、6員環、7員環を挙げることができ、好ましく
は、置換または未置換の5員環、6員環を挙げることが
でき、さらに好ましくは、置換または未置換の6員環を
挙げることができる。
Specific examples of the ring formed together with the carbon atom to which L 1 is bonded include substituted or unsubstituted 5
A 6-membered ring, a 6-membered ring and a 7-membered ring can be mentioned, preferably a 5- or 6-membered ring substituted or unsubstituted, and more preferably a 6-membered ring substituted or unsubstituted. Can be mentioned.

【0034】5員環を形成するL1の具体例としては、
−CH2−、−CH(F)−、−CH(Cl)−、−C
H(Br)−、−CH(I)−、−C(F)2−、−C
(Cl)2−、−C(Br)2−、−C(I)2−、−C
H(CH3)−、−C(CH32−、−CH(OCH3
−、−C(OCH32−、−O−、−S−、等を挙げる
ことができ、
Specific examples of L 1 forming a 5-membered ring include:
-CH 2 -, - CH (F ) -, - CH (Cl) -, - C
H (Br)-, -CH (I)-, -C (F) 2- , -C
(Cl) 2- , -C (Br) 2- , -C (I) 2- , -C
H (CH 3) -, - C (CH 3) 2 -, - CH (OCH 3)
—, —C (OCH 3 ) 2 —, —O—, —S—, and the like.

【0035】6員環を形成するL1の具体例としては、
−CH2CH2−、−CH(F)CH2−、−CH(C
l)CH2−、−CH(Br)CH2−、−CH(I)C
2−、−CH(F)CH(F)−、−CH(Cl)C
H(Cl)−、−CH(Br)CH(Br)−、−CH
(I)CH(I)−、−C(F)2CH2−、−C(C
l)2CH2−、−C(Br)2CH2−、−C(I)2
2−、−C(F)2C(F)2−、−C(Cl)2C(C
l)2−、−C(Br)2C(Br)2−、−C(I)2
(I)2−、−CH(CH3)CH2−、−CH(CH3
CH(CH3)−、−C(CH32CH2−、−C(CH
32C(CH32−、−CH(OCH3)CH2−、−C
H(OCH3)CH(OCH3)−、−C(OCH32
2−、−C(OCH32C(OCH32−、−OCH2
−、−SCH2−、等を挙げることができ、
Specific examples of L 1 forming a 6-membered ring include:
-CH 2 CH 2 -, - CH (F) CH 2 -, - CH (C
l) CH 2 -, - CH (Br) CH 2 -, - CH (I) C
H 2 -, - CH (F ) CH (F) -, - CH (Cl) C
H (Cl)-, -CH (Br) CH (Br)-, -CH
(I) CH (I) - , - C (F) 2 CH 2 -, - C (C
l) 2 CH 2 —, —C (Br) 2 CH 2 —, —C (I) 2 C
H 2 -, - C (F ) 2 C (F) 2 -, - C (Cl) 2 C (C
l) 2- , -C (Br) 2 C (Br) 2- , -C (I) 2 C
(I) 2 -, - CH (CH 3) CH 2 -, - CH (CH 3)
CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 CH 2 -, - C (CH
3 ) 2 C (CH 3 ) 2- , -CH (OCH 3 ) CH 2- , -C
H (OCH 3) CH (OCH 3) -, - C (OCH 3) 2 C
H 2 —, —C (OCH 3 ) 2 C (OCH 3 ) 2 —, —OCH 2
-, -SCH 2- , and the like,

【0036】7員環を形成するL1の具体例としては、
−CH2CH2CH2−、−CH2CH(F)CH2−、−
CH2CH(Cl)CH2−、−CH2CH(Br)CH2
−、−CH2CH(I)CH2−、−CH2C(F)2CH
2−、−CH2C(Cl)2CH2−、−CH2C(Br)2
CH2−、−CH2C(I)2CH2−、−CH2CH(C
3)CH2−、−CH2C(CH32CH2−、−CH2
CH(OCH3)CH2−、−CH2C(OCH32CH2
−、−CH2OCH2−、−CH2SCH2−、等を挙げる
ことができる。
Specific examples of L 1 forming a 7-membered ring include:
-CH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH (F) CH 2 -, -
CH 2 CH (Cl) CH 2 -, - CH 2 CH (Br) CH 2
-, - CH 2 CH (I ) CH 2 -, - CH 2 C (F) 2 CH
2 -, - CH 2 C ( Cl) 2 CH 2 -, - CH 2 C (Br) 2
CH 2 —, —CH 2 C (I) 2 CH 2 —, —CH 2 CH (C
H 3) CH 2 -, - CH 2 C (CH 3) 2 CH 2 -, - CH 2
CH (OCH 3 ) CH 2 —, —CH 2 C (OCH 3 ) 2 CH 2
—, —CH 2 OCH 2 —, —CH 2 SCH 2 —, and the like.

【0037】Mの具体例としては、ジピロメテン化合物
とキレートを形成する能力を有する遷移元素であれば特
に制限されないが、8、9、10族(VIII族)、11族
(Ib族)、12族(IIb族)、3族(IIIa族)、4族
(IVa族)、5族(Va族)、6族(VIa族)、7族(VII
a族)の金属が挙げられ、好ましくは、ニッケル、コバ
ルト、鉄、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銅、オ
スミウム、イリジウム、白金、亜鉛等であり、耐光性の
点から特に銅、コバルトが好ましい。
Specific examples of M are not particularly limited as long as they are transition elements having the ability to form a chelate with a dipyrromethene compound, but may be any of groups 8, 9, 10 (Group VIII), 11 (Ib), and 12 (IIb group), 3 group (IIIa group), 4 group (IVa group), 5 group (Va group), 6 group (VIa group), 7 group (VII
Group a) metals are preferable, and nickel, cobalt, iron, ruthenium, rhodium, palladium, copper, osmium, iridium, platinum, zinc and the like are preferable, and copper and cobalt are particularly preferable in terms of light resistance.

【0038】本発明の一般式(1)で示されるジピロメ
テン金属キレート化合物は、限定されないが、例えば、
Aust. J. Chem, 1965, 11, 1835-45、Heteroatom Chemi
stry, Vol. 1, 5,389(1990)、USP-4,774,339、USP-5,43
3,896等に記載の方法に準じて製造される。代表的に
は、以下の2段階反応にて製造することができる。
The dipyrromethene metal chelate compound represented by the general formula (1) of the present invention is not limited.
Aust. J. Chem, 1965, 11, 1835-45, Heteroatom Chemi
stry, Vol. 1, 5,389 (1990), USP-4,774,339, USP-5,43
It is produced according to the method described in 3,896 and the like. Typically, it can be produced by the following two-step reaction.

【0039】まず、第1段階では一般式(2)で示され
る化合物と一般式(3)で示される化合物、または一般
式(4)で示される化合物と一般式(5)で示される化
合物とを臭化水素酸や塩化水素酸等の酸触媒の存在下、
適当な溶媒中で反応して、一般式(6)で示されるジピ
ロメテン化合物を得る。次いで第2段階では一般式
(6)で示されるジピロメテン化合物とニッケル、コバ
ルト、鉄、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銅、オ
スミウム、イリジウム、白金、亜鉛等金属の酢酸塩やハ
ロゲン化物とを反応させて、一般式(1)で示されるジ
ピロメテン金属キレート化合物を得る。
First, in the first step, the compound represented by the general formula (2) and the compound represented by the general formula (3), or the compound represented by the general formula (4) and the compound represented by the general formula (5) In the presence of an acid catalyst such as hydrobromic acid or hydrochloric acid,
The reaction is performed in an appropriate solvent to obtain a dipyrromethene compound represented by the general formula (6). Next, in a second step, the dipyrromethene compound represented by the general formula (6) is reacted with an acetate or halide of a metal such as nickel, cobalt, iron, ruthenium, rhodium, palladium, copper, osmium, iridium, platinum, and zinc. To obtain a dipyrromethene metal chelate compound represented by the general formula (1).

【0040】[0040]

【化9】 Embedded image

【0041】[0041]

【化10】 Embedded image

【0042】[0042]

【化11】 Embedded image

【0043】[0043]

【化12】 Embedded image

【0044】[0044]

【化13】 〔式(2)〜(6)において、R1〜R9は前記と同じ意
味を表す。〕
Embedded image [In the formulas (2) to (6), R 1 to R 9 represent the same meaning as described above. ]

【0045】[0045]

【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れによりなんら限定されるものではない。
EXAMPLES Examples of the present invention will be shown below, but the present invention is not limited by these examples.

【0046】尚、実施例中、凍結乾燥処理前後のジピロ
メテン金属キレート化合物のX線回折図を示すが、X線
回折の条件は以下に示すとおりである。
In the examples, X-ray diffraction diagrams of the dipyrromethene metal chelate compound before and after the freeze-drying treatment are shown. The conditions of the X-ray diffraction are as follows.

【0047】管球:Cu、管電圧:30kV、管電流:
14mA、ゴニオメーター:広角ゴニオメーター、サン
プリング角度:0.020°、スキャンスピード:8.
0°/分、走査軸:2θ/θ、フィルタ:Ni、発散ス
リット:1°、散乱スリット:1°、蛍光スリット:
0.15mm。
Tube: Cu, tube voltage: 30 kV, tube current:
14 mA, goniometer: wide-angle goniometer, sampling angle: 0.020 °, scan speed: 8.
0 ° / min, scanning axis: 2θ / θ, filter: Ni, divergence slit: 1 °, scattering slit: 1 °, fluorescent slit:
0.15 mm.

【0048】〔実施例1〕エタノール600mlに下記
構造式(4−a)で示される化合物18.9g及び下記
構造式(5−a)で示される化合物13.1gを溶解
し、47%臭化水素酸10.1gを滴下した後、室温で
2時間攪拌した。減圧濃縮後、クロロホルム500ml
で抽出、水洗、分液後、溶媒を溜去して、下記構造式
(6−a)で示される化合物28.1gを得た。
Example 1 18.9 g of the compound represented by the following structural formula (4-a) and 13.1 g of the compound represented by the following structural formula (5-a) were dissolved in 600 ml of ethanol, and 47% bromide was dissolved. After dropwise addition of 10.1 g of hydrochloric acid, the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. After concentration under reduced pressure, chloroform 500 ml
After extracting with water, washing and liquid separation, the solvent was distilled off to obtain 28.1 g of a compound represented by the following structural formula (6-a).

【0049】[0049]

【化14】 Embedded image

【0050】次に、エタノール900mlに式(6−
a)で示される化合物26.7gを溶解し、酢酸銅5.
1gを加えて、還流温度で2時間攪拌した。減圧濃縮
後、析出物を濾取し、メタノール及び水で洗浄して、下
記構造式(1−1)で示される化合物25.0gを得
た。
Next, the formula (6-) was added to 900 ml of ethanol.
26.7 g of the compound represented by a) were dissolved, and copper acetate was added.
1 g was added and the mixture was stirred at reflux temperature for 2 hours. After concentration under reduced pressure, the precipitate was collected by filtration and washed with methanol and water to obtain 25.0 g of a compound represented by the following structural formula (1-1).

【0051】[0051]

【化15】 下記の分析結果より、目的物であることを確認した。Embedded image From the following analysis results, it was confirmed that it was the target substance.

【0052】[0052]

【表1】 [Table 1]

【0053】このようにして得られた化合物は、トルエ
ン溶液中において584nmに吸収極大を示し、グラム
吸光係数は0.73×105ml/g.cmであった。
The compound thus obtained exhibits an absorption maximum at 584 nm in a toluene solution, and has a gram extinction coefficient of 0.73 × 10 5 ml / g. cm.

【0054】上記構造式(1−1)で示される化合物2
0.0g(X線回折図、図1)をp-キシレン500ml
に溶解し、25℃で1時間攪拌を行い、共和真空(株)凍
結乾燥機に入れ、−40℃まで冷却し溶液を凍結させ、
減圧下(2.67Pa(20mTorr))で乾燥機の
棚を加熱する熱媒を30℃まで昇温した。凍結したp-キ
シレンは徐々に昇華し、凍結物は25℃まで温度が上昇
し、25℃で安定した(このときの圧力は1.33Pa
(10mTorr))。乾燥機内を常圧に戻し、p-キシ
レンが除去されたジピロメテン金属キレート化合物を得
た。
Compound 2 represented by the above structural formula (1-1)
0.0 g (X-ray diffractogram, FIG. 1) in 500 ml of p-xylene
And stirred at 25 ° C. for 1 hour, put into a freeze dryer of Kyowa Vacuum Co., Ltd., cooled to −40 ° C. to freeze the solution,
The heating medium for heating the shelf of the dryer was heated to 30 ° C. under reduced pressure (2.67 Pa (20 mTorr)). The frozen p-xylene gradually sublimates, and the temperature of the frozen product rises to 25 ° C. and stabilizes at 25 ° C. (at this time, the pressure was 1.33 Pa).
(10 mTorr)). The inside of the dryer was returned to normal pressure to obtain a dipyrromethene metal chelate compound from which p-xylene had been removed.

【0055】このジピロメテン金属キレート化合物は2
0g/lの濃度でエチルシクロヘキサンに溶解し、20
時間後も沈殿は生じなかった。処理後のX線回折図を図
2に示す。処理前のものに比べ、ピークがブロードであ
り、アモルファス化していることが確認された。尚、処
理前のジピロメテン金属キレート化合物は、エチルシク
ロヘキサンに20g/lの濃度まで溶解しなかった。
The dipyrromethene metal chelate compound has 2
Dissolved in ethylcyclohexane at a concentration of 0 g / l,
No precipitation occurred after hours. The X-ray diffraction pattern after the treatment is shown in FIG. The peak was broader than that before the treatment, and it was confirmed that the peak was amorphous. The dipyrromethene metal chelate compound before the treatment did not dissolve in ethylcyclohexane up to a concentration of 20 g / l.

【0056】〔実施例2〕エタノール450mlに下記
構造式(4−b)で示される化合物14.7g及び前記
構造式(5−a)で示される化合物10.2gを溶解
し、47%臭化水素酸7.4gを滴下した後、室温で3
時間攪拌した。減圧濃縮後、クロロホルム500mlで
抽出、水洗、分液後、溶媒を溜去して、下記構造式(6
−b)で示される化合物21.2gを得た。
Example 2 14.7 g of the compound represented by the following structural formula (4-b) and 10.2 g of the compound represented by the above-mentioned structural formula (5-a) were dissolved in 450 ml of ethanol, and 47% bromide was dissolved. After dropwise addition of 7.4 g of hydrochloric acid, the mixture was added at room temperature for 3 hours.
Stirred for hours. After concentration under reduced pressure, extraction with 500 ml of chloroform, washing with water, and liquid separation, the solvent was distilled off, and the following structural formula (6)
21.2 g of the compound represented by -b) were obtained.

【0057】[0057]

【化16】 Embedded image

【0058】次に、エタノール600ml、トルエン3
00mlの混合溶媒に式(6−b)で示される化合物1
5.2gを溶解し、酢酸銅2.9gを加えて、還流温度
で2時間攪拌した。減圧濃縮後、析出物を濾取し、メタ
ノール及び水で洗浄して、下記構造式(1−1)で示さ
れる化合物15.2gを得た。
Next, 600 ml of ethanol and 3 parts of toluene
Compound 1 represented by Formula (6-b) in 00 ml of a mixed solvent
After dissolving 5.2 g, 2.9 g of copper acetate was added and the mixture was stirred at reflux temperature for 2 hours. After concentration under reduced pressure, the precipitate was collected by filtration and washed with methanol and water to obtain 15.2 g of a compound represented by the following structural formula (1-1).

【0059】[0059]

【化17】 下記の分析結果より、目的物であることを確認した。Embedded image From the following analysis results, it was confirmed that it was the target substance.

【0060】[0060]

【表2】 [Table 2]

【0061】このようにして得られた化合物は、トルエ
ン溶液中において586.4nmに吸収極大を示し、グ
ラム吸光係数は0.77×105ml/g.cmであっ
た。
The compound thus obtained exhibits an absorption maximum at 586.4 nm in a toluene solution, and has a gram extinction coefficient of 0.77 × 10 5 ml / g. cm.

【0062】上記構造式(1−2)で示される化合物1
2.5g(X線回折図、図3)をp−キシレン500m
lに溶解し、25℃で1時間攪拌を行い、共和真空(株)
凍結乾燥機に入れ、−40℃まで冷却し溶液を凍結さ
せ、減圧下(2.67Pa(20mTorr))で乾燥
機の棚を加熱する熱媒を30℃まで昇温した。凍結した
p−キシレンは徐々に昇華し、凍結物は25℃まで温度
が上昇し、25℃で安定した(このときの圧力は1.3
3Pa(10mTorr))。乾燥機内を常圧に戻し、
p−キシレンが除去されたジピロメテン金属キレート化
合物を得た。
Compound 1 represented by the above structural formula (1-2)
2.5 g (X-ray diffraction diagram, FIG. 3) was weighed to 500 m with p-xylene
and stirred at 25 ° C. for 1 hour.
The solution was put into a freeze dryer, cooled to −40 ° C. to freeze the solution, and the heating medium for heating the shelf of the dryer was heated to 30 ° C. under reduced pressure (20 mTorr). The frozen p-xylene gradually sublimates, and the temperature of the frozen product rises to 25 ° C. and stabilizes at 25 ° C. (The pressure at this time is 1.3.
3 Pa (10 mTorr)). Return the inside of the dryer to normal pressure,
A dipyrromethene metal chelate compound from which p-xylene was removed was obtained.

【0063】このジピロメテン金属キレート化合物は2
5g/lの濃度でエチルシクロヘキサンに溶解し、30
時間後も沈殿は生じなかった。処理後のX線回折図を図
4に示す。処理前のものに比べ、ピークがブロードであ
り、アモルファス化していることが確認された。尚、処
理前のジピロメテン金属キレート化合物は、エチルシク
ロヘキサンに25g/lの濃度まで溶解しなかった。
This dipyrromethene metal chelate compound has 2
Dissolved in ethylcyclohexane at a concentration of 5 g / l,
No precipitation occurred after hours. The X-ray diffraction pattern after the treatment is shown in FIG. The peak was broader than that before the treatment, and it was confirmed that the peak was amorphous. The dipyrromethene metal chelate compound before the treatment did not dissolve in ethylcyclohexane up to a concentration of 25 g / l.

【0064】〔実施例3〕エタノール2400mlに下
記構造式(4−c)で示される化合物60.8g及び下
記構造式(5−b)で示される化合物40.8gを溶解
し、47%臭化水素酸35.6gを滴下した後、室温で
2時間攪拌した。減圧濃縮後、クロロホルム1800m
lで抽出、水洗、分液後、溶媒を溜去して、下記構造式
(6−c)で示される化合物89.1gを得た。
Example 3 60.8 g of the compound represented by the following structural formula (4-c) and 40.8 g of the compound represented by the following structural formula (5-b) were dissolved in 2400 ml of ethanol, and 47% bromide was dissolved. After dropwise addition of 35.6 g of hydrochloric acid, the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. After concentration under reduced pressure, chloroform 1800m
After extracting with 1 and washing with water and liquid separation, the solvent was distilled off to obtain 89.1 g of a compound represented by the following structural formula (6-c).

【0065】[0065]

【化18】 Embedded image

【0066】次に、エタノール3500mlに式(6−
c)で示される化合物86.9gを溶解し、酢酸銅2
0.2gを加えて、還流温度で3時間攪拌した。減圧濃
縮後、析出物を濾取し、メタノール及び水で洗浄して、
下記構造式(1−3)で示される化合物82.0gを得
た。
Next, the formula (6-) was added to 3500 ml of ethanol.
86.9 g of the compound shown in c) was dissolved, and copper acetate 2
0.2 g was added, and the mixture was stirred at reflux temperature for 3 hours. After concentration under reduced pressure, the precipitate was collected by filtration, washed with methanol and water,
82.0 g of a compound represented by the following structural formula (1-3) was obtained.

【0067】[0067]

【化19】 下記の分析結果より、目的物であることを確認した。Embedded image From the following analysis results, it was confirmed that it was the target substance.

【0068】[0068]

【表3】 [Table 3]

【0069】このようにして得られた化合物は、トルエ
ン溶液中において585.5nmに吸収極大を示し、グ
ラム吸光係数は1.08×105ml/g.cmであっ
た。
The compound thus obtained exhibits an absorption maximum at 585.5 nm in a toluene solution, and has a gram extinction coefficient of 1.08 × 10 5 ml / g. cm.

【0070】上記構造式(1−3)で示される化合物6
0.0g(X線回折図、図5)を1,4−ジオキサン1
800mlに溶解し、25℃で1時間攪拌を行い、共和
真空(株)凍結乾燥機に入れ、−40℃まで冷却し溶液を
凍結させ、減圧下(2.67Pa(20mTorr))
で乾燥機の棚を加熱する熱媒を30℃まで昇温した。凍
結した1,4−ジオキサンは徐々に昇華し、凍結物は2
5℃まで温度が上昇し、25℃で安定した(このときの
圧力は1.33Pa(10mTorr))。乾燥機内を
常圧に戻し、1,4−ジオキサンが除去されたジピロメ
テン金属キレート化合物を得た。
Compound 6 represented by the above structural formula (1-3)
0.0 g (X-ray diffraction diagram, FIG. 5) was added to 1,4-dioxane 1
Dissolve in 800 ml, stir at 25 ° C. for 1 hour, put into a freeze dryer of Kyowa Vacuum Co., Ltd., cool to −40 ° C., freeze the solution, and reduce the pressure (2.67 Pa (20 mTorr)).
The heating medium for heating the shelf of the dryer was heated to 30 ° C. The frozen 1,4-dioxane gradually sublimates, and the frozen
The temperature rose to 5 ° C. and stabilized at 25 ° C. (at this time, the pressure was 1.33 Pa (10 mTorr)). The inside of the dryer was returned to normal pressure to obtain a dipyrromethene metal chelate compound from which 1,4-dioxane had been removed.

【0071】このジピロメテン金属キレート化合物は2
5g/lの濃度でエチルシクロヘキサンに溶解し、20
時間後も沈殿は生じなかった。処理後のX線回折図を図
6に示す。処理前のものに比べ、ピークがブロードであ
り、アモルファス化していることが確認された。尚、処
理前のジピロメテン金属キレート化合物は、エチルシク
ロヘキサンに25g/lの濃度まで溶解しなかった。
This dipyrromethene metal chelate compound has 2
Dissolved in ethylcyclohexane at a concentration of 5 g / l,
No precipitation occurred after hours. FIG. 6 shows the X-ray diffraction pattern after the treatment. The peak was broader than that before the treatment, and it was confirmed that the peak was amorphous. The dipyrromethene metal chelate compound before the treatment did not dissolve in ethylcyclohexane up to a concentration of 25 g / l.

【0072】〔実施例4〕エタノール630mlに下記
構造式(4−d)で示される化合物15.8g及び下記
構造式(5−c)で示される化合物11.2gを溶解
し、47%臭化水素酸9.8gを滴下した後、室温で1
時間攪拌した。減圧濃縮後、クロロホルム500mlで
抽出、水洗、分液後、溶媒を溜去して、下記構造式(6
−d)で示される化合物22.1gを得た。
Example 4 15.8 g of the compound represented by the following structural formula (4-d) and 11.2 g of the compound represented by the following structural formula (5-c) were dissolved in 630 ml of ethanol, and 47% bromide was dissolved. After dropwise addition of 9.8 g of hydrochloric acid, 1
Stirred for hours. After concentration under reduced pressure, extraction with 500 ml of chloroform, washing with water, and liquid separation, the solvent was distilled off, and the following structural formula (6)
22.1 g of a compound represented by -d) were obtained.

【0073】[0073]

【化20】 Embedded image

【0074】次に、エタノール900mlに式(6−
d)で示される化合物21.4gを溶解し、酢酸銅8.
8gを加えて、還流温度で2時間攪拌した。減圧濃縮
後、析出物を濾取し、メタノール及び水で洗浄して、下
記構造式(1−4)で示される化合物21.5gを得
た。
Next, the formula (6-) was added to 900 ml of ethanol.
21.4 g of the compound represented by d) was dissolved, and copper acetate was added.
8 g was added, and the mixture was stirred at reflux temperature for 2 hours. After concentration under reduced pressure, the precipitate was collected by filtration and washed with methanol and water to obtain 21.5 g of a compound represented by the following structural formula (1-4).

【0075】[0075]

【化21】 下記の分析結果より、目的物であることを確認した。Embedded image From the following analysis results, it was confirmed that it was the target substance.

【0076】[0076]

【表4】 [Table 4]

【0077】このようにして得られた化合物は、トルエ
ン溶液中において588.5nmに吸収極大を示し、グ
ラム吸光係数は1.29×105ml/g.cmであっ
た。
The compound thus obtained shows an absorption maximum at 588.5 nm in a toluene solution, and has a gram extinction coefficient of 1.29 × 10 5 ml / g. cm.

【0078】上記構造式(1−3)で示される化合物1
7.9g(X線回折図、図7)をp−キシレン1500
mlに溶解し、25℃で1時間攪拌を行い、共和真空
(株)凍結乾燥機に入れ、−40℃まで冷却し溶液を凍結
させ、減圧下(2.67Pa(20mTorr))で乾
燥機の棚を加熱する熱媒を30℃まで昇温した。凍結し
たp−キシレンは徐々に昇華し、凍結物は25℃まで温
度が上昇し、25℃で安定した(このときの圧力は1.
33Pa(10mTorr))。乾燥機内を常圧に戻
し、p−キシレンが除去されたジピロメテン金属キレー
ト化合物を得た。
Compound 1 represented by the above structural formula (1-3)
7.9 g (X-ray diffraction diagram, FIG. 7) was added to p-xylene 1500
and stirred for 1 hour at 25 ° C.
The solution was placed in a freeze dryer, cooled to −40 ° C. to freeze the solution, and the heating medium for heating the shelf of the dryer was heated to 30 ° C. under reduced pressure (2.67 Pa (20 mTorr)). The frozen p-xylene gradually sublimates, and the temperature of the frozen product rises to 25 ° C. and stabilizes at 25 ° C. (The pressure at this time was 1.
33 Pa (10 mTorr). The inside of the dryer was returned to normal pressure to obtain a dipyrromethene metal chelate compound from which p-xylene had been removed.

【0079】このジピロメテン金属キレート化合物は3
0g/lの濃度でエチルシクロヘキサンに溶解し、20
時間後も沈殿は生じなかった。処理後のX線回折図を図
8に示す。処理前のものに比べ、ピークがブロードであ
り、アモルファス化していることが確認された。尚、処
理前のジピロメテン金属キレート化合物は、エチルシク
ロヘキサンに30g/lの濃度まで溶解しなかった。
This dipyrromethene metal chelate compound has 3
Dissolved in ethylcyclohexane at a concentration of 0 g / l,
No precipitation occurred after hours. FIG. 8 shows the X-ray diffraction pattern after the treatment. The peak was broader than that before the treatment, and it was confirmed that the peak was amorphous. The dipyrromethene metal chelate compound before the treatment did not dissolve in ethylcyclohexane up to a concentration of 30 g / l.

【0080】〔実施例5〕エタノール1000mlに前
記構造式(4−b)で示される化合物27.0g及び前
記構造式(5−b)で示される化合物15.3gを溶解
し、47%臭化水素酸13.7gを滴下した後、室温で
1時間攪拌した。減圧濃縮後、クロロホルム600ml
で抽出、水洗、分液後、溶媒を溜去して、下記構造式
(6−e)で示される化合物36.8gを得た。
Example 5 27.0 g of the compound represented by the formula (4-b) and 15.3 g of the compound represented by the formula (5-b) were dissolved in 1000 ml of ethanol, and 47% bromide was dissolved. After dropwise addition of 13.7 g of hydrochloric acid, the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. After concentration under reduced pressure, chloroform 600 ml
After extraction, washing with water and liquid separation, the solvent was distilled off to obtain 36.8 g of a compound represented by the following structural formula (6-e).

【0081】[0081]

【化22】 Embedded image

【0082】次に、エタノール1700mlに式(6−
e)で示される化合物35.2gを溶解し、酢酸銅7.
3gを加えて、還流温度で2時間攪拌した。減圧濃縮
後、析出物を濾取し、メタノール及び水で洗浄して、下
記構造式(1−5)で示される化合物34.2gを得
た。
Next, the formula (6-) was added to 1700 ml of ethanol.
35.2 g of the compound shown in e) was dissolved, and copper acetate was added.
3 g was added, and the mixture was stirred at reflux temperature for 2 hours. After concentration under reduced pressure, the precipitate was collected by filtration and washed with methanol and water to obtain 34.2 g of a compound represented by the following structural formula (1-5).

【0083】[0083]

【化23】 下記の分析結果より、目的物であることを確認した。Embedded image From the following analysis results, it was confirmed that it was the target substance.

【0084】[0084]

【表5】 [Table 5]

【0085】このようにして得られた化合物は、トルエ
ン溶液中において587.5nmに吸収極大を示し、グ
ラム吸光係数は0.93×105ml/g.cmであっ
た。
The compound thus obtained exhibits an absorption maximum at 587.5 nm in a toluene solution, and has a gram extinction coefficient of 0.93 × 10 5 ml / g. cm.

【0086】上記構造式(1−5)で示される化合物3
2.0g(X線回折図、図9)をp−キシレン2240
mlに溶解し、25℃で1時間攪拌を行い、共和真空
(株)凍結乾燥機に入れ、−40℃まで冷却し溶液を凍結
させ、減圧下(2.67Pa(20mTorr))で乾
燥機の棚を加熱する熱媒を30℃まで昇温した。凍結し
たp−キシレンは徐々に昇華し、凍結物は25℃まで温
度が上昇し、25℃で安定した(このときの圧力は1.
33Pa(10mTorr))。乾燥機内を常圧に戻
し、p−キシレンが除去されたジピロメテン金属キレー
ト化合物を得た。
Compound 3 represented by the above structural formula (1-5)
2.0 g (X-ray diffraction pattern, FIG. 9) was added to p-xylene 2240
and stirred for 1 hour at 25 ° C.
The solution was placed in a freeze dryer, cooled to −40 ° C. to freeze the solution, and the heating medium for heating the shelf of the dryer was heated to 30 ° C. under reduced pressure (2.67 Pa (20 mTorr)). The frozen p-xylene gradually sublimates, and the temperature of the frozen product rises to 25 ° C. and stabilizes at 25 ° C. (The pressure at this time was 1.
33 Pa (10 mTorr). The inside of the dryer was returned to normal pressure to obtain a dipyrromethene metal chelate compound from which p-xylene had been removed.

【0087】このジピロメテン金属キレート化合物は3
0g/lの濃度でジメチルシクロヘキサンに溶解し、2
4時間後も沈殿は生じなかった。処理後のX線回折図を
図10に示す。処理前のものに比べ、ピークがブロード
であり、アモルファス化していることが確認された。
尚、処理前のジピロメテン金属キレート化合物は、ジメ
チルシクロヘキサンに30g/lの濃度で溶解したが、
8時間で沈殿が生じた。
This dipyrromethene metal chelate compound has 3
Dissolved in dimethylcyclohexane at a concentration of 0 g / l,
No precipitation occurred after 4 hours. The X-ray diffraction pattern after the treatment is shown in FIG. The peak was broader than that before the treatment, and it was confirmed that the peak was amorphous.
The dipyrromethene metal chelate compound before the treatment was dissolved in dimethylcyclohexane at a concentration of 30 g / l.
A precipitate formed in 8 hours.

【0088】〔実施例6〕エタノール630mlに前記
構造式(4−b)で示される化合物15.9g及び下記
構造式(5−d)で示される化合物8.8gを溶解し、
47%臭化水素酸7.7gを滴下した後、室温で1時間
攪拌した。減圧濃縮後、クロロホルム600mlで抽
出、水洗、分液後、溶媒を溜去して、下記構造式(6−
f)で示される化合物21.2gを得た。
Example 6 15.9 g of the compound represented by the structural formula (4-b) and 8.8 g of the compound represented by the following structural formula (5-d) were dissolved in 630 ml of ethanol.
After dripping 7.7 g of 47% hydrobromic acid, the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. After concentration under reduced pressure, extraction with chloroform (600 ml), washing with water and liquid separation, the solvent was distilled off, and the following structural formula (6-
21.2 g of the compound shown in f) were obtained.

【0089】[0089]

【化24】 次に、エタノール800mlに式(6−f)で示される
化合物19.7gを溶解し、酢酸銅4.8gを加えて、
還流温度で3時間攪拌した。減圧濃縮後、析出物を濾取
し、メタノール及び水で洗浄して、下記構造式(1−
6)で示される化合物18.3gを得た。
Embedded image Next, 19.7 g of the compound represented by the formula (6-f) was dissolved in 800 ml of ethanol, and 4.8 g of copper acetate was added.
Stir at reflux temperature for 3 hours. After concentration under reduced pressure, the precipitate was collected by filtration, washed with methanol and water, and treated with the following structural formula (1-
18.3 g of the compound represented by 6) was obtained.

【0090】[0090]

【化25】 下記の分析結果より、目的物であることを確認した。Embedded image From the following analysis results, it was confirmed that it was the target substance.

【0091】[0091]

【表6】 [Table 6]

【0092】このようにして得られた化合物は、トルエ
ン溶液中において609.0nmに吸収極大を示し、グ
ラム吸光係数は1.05×105ml/g.cmであっ
た。
The compound thus obtained exhibits an absorption maximum at 609.0 nm in a toluene solution, and has a gram extinction coefficient of 1.05 × 10 5 ml / g. cm.

【0093】上記構造式(1−6)で示される化合物1
4.2g(X線回折図、図11)を1,4−ジオキサン
568mlに溶解し、25℃で1時間攪拌を行い、共和
真空(株)凍結乾燥機に入れ、−40℃まで冷却し溶液
を凍結させ、減圧下(2.67Pa(20mTor
r))で乾燥機の棚を加熱する熱媒を30℃まで昇温し
た。凍結した1,4−ジオキサンは徐々に昇華し、凍結
物は25℃まで温度が上昇し、25℃で安定した(この
ときの圧力は1.33Pa(10mTorr))。乾燥
機内を常圧に戻し、1,4−ジオキサンが除去されたジ
ピロメテン金属キレート化合物を得た。
Compound 1 represented by the above structural formula (1-6)
Dissolve 4.2 g (X-ray diffraction diagram, FIG. 11) in 568 ml of 1,4-dioxane, stir at 25 ° C. for 1 hour, put into a freeze dryer of Kyowa Vacuum Co., Ltd., cool to −40 ° C. Is frozen under reduced pressure (2.67 Pa (20 mTorr).
In r)), the heating medium for heating the shelf of the dryer was heated to 30 ° C. The frozen 1,4-dioxane gradually sublimated, and the temperature of the frozen product rose to 25 ° C. and stabilized at 25 ° C. (at this time, the pressure was 1.33 Pa (10 mTorr)). The inside of the dryer was returned to normal pressure to obtain a dipyrromethene metal chelate compound from which 1,4-dioxane had been removed.

【0094】このジピロメテン金属キレート化合物は2
5g/lの濃度でエチルシクロヘキサンに溶解し、24
時間後も沈殿は生じなかった。処理後のX線回折図を図
12に示す。処理前のものに比べ、ピークがブロードで
あり、アモルファス化していることが確認された。尚、
処理前のジピロメテン金属キレート化合物は、エチルシ
クロヘキサンに25g/lの濃度で溶解したが、8時間
で沈殿が生じた。
This dipyrromethene metal chelate compound has 2
Dissolved in ethylcyclohexane at a concentration of 5 g / l,
No precipitation occurred after hours. FIG. 12 shows the X-ray diffraction pattern after the treatment. The peak was broader than that before the treatment, and it was confirmed that the peak was amorphous. still,
The dipyrromethene metal chelate compound before the treatment was dissolved in ethylcyclohexane at a concentration of 25 g / l, but a precipitate was formed in 8 hours.

【0095】〔実施例7〕エタノール700mlに下記
構造式(4−e)で示される化合物14.1g及び前記
構造式(5−d)で示される化合物8.9gを溶解し、
47%臭化水素酸8.0gを滴下した後、室温で2時間
攪拌した。減圧濃縮後、クロロホルム500mlで抽
出、水洗、分液後、溶媒を溜去して、下記構造式(6−
g)で示される化合物20.2gを得た。
Example 7 14.1 g of the compound represented by the following structural formula (4-e) and 8.9 g of the compound represented by the above-mentioned structural formula (5-d) were dissolved in 700 ml of ethanol.
After dropping 8.0 g of 47% hydrobromic acid, the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. After concentration under reduced pressure, extraction with chloroform (500 ml), washing with water and liquid separation, the solvent was distilled off, and the following structural formula (6-
20.2 g of the compound of the formula g) were obtained.

【0096】[0096]

【化26】 Embedded image

【0097】次に、エタノール570mlに式(6−
g)で示される化合物18.9gを溶解し、酢酸銅7.
2gを加えて、還流温度で2時間攪拌した。減圧濃縮
後、析出物を濾取し、メタノール及び水で洗浄して、下
記構造式(1−7)で示される化合物19.3gを得
た。
Next, the formula (6-) was added to 570 ml of ethanol.
18.9 g of the compound of the formula
2 g was added, and the mixture was stirred at reflux temperature for 2 hours. After concentration under reduced pressure, the precipitate was collected by filtration and washed with methanol and water to obtain 19.3 g of a compound represented by the following structural formula (1-7).

【0098】[0098]

【化27】 下記の分析結果より、目的物であることを確認した。Embedded image From the following analysis results, it was confirmed that it was the target substance.

【0099】[0099]

【表7】 [Table 7]

【0100】このようにして得られた化合物は、トルエ
ン溶液中において599.0nmに吸収極大を示し、グ
ラム吸光係数は1.72×105ml/g.cmであっ
た。
The compound thus obtained exhibits an absorption maximum at 599.0 nm in a toluene solution, and has a gram extinction coefficient of 1.72 × 10 5 ml / g. cm.

【0101】上記構造式(1−7)で示される化合物1
7.8g(X線回折図、図13)を1,4−ジオキサン
1068mlに溶解し、25℃で1時間攪拌を行い、共
和真空(株)凍結乾燥機に入れ、−40℃まで冷却し溶
液を凍結させ、減圧下(2.67Pa(20mTor
r))で乾燥機の棚を加熱する熱媒を30℃まで昇温し
た。凍結した1,4−ジオキサンは徐々に昇華し、凍結
物は25℃まで温度が上昇し、25℃で安定した(この
ときの圧力は1.33Pa(10mTorr))。乾燥
機内を常圧に戻し、1,4−ジオキサンが除去されたジ
ピロメテン金属キレート化合物を得た。
Compound 1 represented by the above structural formula (1-7)
7.8 g (X-ray diffractogram, FIG. 13) was dissolved in 1068 ml of 1,4-dioxane, stirred at 25 ° C. for 1 hour, put in a freeze dryer of Kyowa Vacuum Co., Ltd., cooled to −40 ° C. Is frozen under reduced pressure (2.67 Pa (20 mTorr).
In r)), the heating medium for heating the shelf of the dryer was heated to 30 ° C. The frozen 1,4-dioxane gradually sublimated, and the temperature of the frozen product rose to 25 ° C. and stabilized at 25 ° C. (at this time, the pressure was 1.33 Pa (10 mTorr)). The inside of the dryer was returned to normal pressure to obtain a dipyrromethene metal chelate compound from which 1,4-dioxane had been removed.

【0102】このジピロメテン金属キレート化合物は1
5g/lの濃度でジメチルシクロヘキサンに溶解し、2
4時間後も沈殿は生じなかった。処理後のX線回折図を
図14に示す。処理前のものに比べ、ピークがブロード
であり、アモルファス化していることが確認された。
尚、処理前のジピロメテン金属キレート化合物は、ジメ
チルシクロヘキサンに15g/lの濃度まで溶解しなか
った。
This dipyrromethene metal chelate compound has 1
Dissolved in dimethylcyclohexane at a concentration of 5 g / l,
No precipitation occurred after 4 hours. FIG. 14 shows an X-ray diffraction pattern after the treatment. The peak was broader than that before the treatment, and it was confirmed that the peak was amorphous.
The dipyrromethene metal chelate compound before the treatment did not dissolve in dimethylcyclohexane up to a concentration of 15 g / l.

【0103】〔実施例8〕エタノール570mlに下記
構造式(4−f)で示される化合物14.3g及び前記
構造式(5−d)で示される化合物9.0gを溶解し、
47%臭化水素酸8.0gを滴下した後、室温で3時間
攪拌した。減圧濃縮後、クロロホルム500mlで抽
出、水洗、分液後、溶媒を溜去して、下記構造式(6−
h)で示される化合物18.8gを得た。
Example 8 14.3 g of the compound represented by the following structural formula (4-f) and 9.0 g of the compound represented by the above-mentioned structural formula (5-d) were dissolved in 570 ml of ethanol.
After dropping 8.0 g of 47% hydrobromic acid, the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. After concentration under reduced pressure, extraction with chloroform (500 ml), washing with water and liquid separation, the solvent was distilled off, and the following structural formula (6-
18.8 g of the compound of the formula h) were obtained.

【0104】[0104]

【化28】 Embedded image

【0105】次に、エタノール800mlに式(6−
h)で示される化合物16.7gを溶解し、酢酸銅3.
8gを加えて、還流温度で2時間攪拌した。減圧濃縮
後、析出物を濾取し、メタノール及び水で洗浄して、下
記構造式(1−8)で示される化合物15.4gを得
た。
Next, the formula (6-) was added to 800 ml of ethanol.
16.7 g of the compound of the formula (h) was dissolved, and copper acetate was added.
8 g was added, and the mixture was stirred at reflux temperature for 2 hours. After concentration under reduced pressure, the precipitate was collected by filtration and washed with methanol and water to obtain 15.4 g of a compound represented by the following structural formula (1-8).

【0106】[0106]

【化29】 下記の分析結果より、目的物であることを確認した。Embedded image From the following analysis results, it was confirmed that it was the target substance.

【0107】[0107]

【表8】 [Table 8]

【0108】このようにして得られた化合物は、トルエ
ン溶液中において594.0nmに吸収極大を示し、グ
ラム吸光係数は1.64×105ml/g.cmであっ
た。
The compound thus obtained exhibits an absorption maximum at 594.0 nm in a toluene solution, and has a gram extinction coefficient of 1.64 × 10 5 ml / g. cm.

【0109】上記構造式(1−8)で示される化合物1
0.2g(X線回折図、図15)を1,4−ジオキサン
714mlに溶解し、25℃で1時間攪拌を行い、共和
真空(株)凍結乾燥機に入れ、−40℃まで冷却し溶液
を凍結させ、減圧下(2.67Pa(20mTor
r))で乾燥機の棚を加熱する熱媒を30℃まで昇温し
た。凍結した1,4−ジオキサンは徐々に昇華し、凍結
物は25℃まで温度が上昇し、25℃で安定した(この
ときの圧力は1.33Pa(10mTorr))。乾燥
機内を常圧に戻し、1,4−ジオキサンが除去されたジ
ピロメテン金属キレート化合物を得た。
Compound 1 represented by the above structural formula (1-8)
Dissolve 0.2 g (X-ray diffraction diagram, FIG. 15) in 714 ml of 1,4-dioxane, stir at 25 ° C. for 1 hour, put in a freeze dryer of Kyowa Vacuum Co., Ltd., cool to −40 ° C. Is frozen under reduced pressure (2.67 Pa (20 mTorr).
In r)), the heating medium for heating the shelf of the dryer was heated to 30 ° C. The frozen 1,4-dioxane gradually sublimated, and the temperature of the frozen product rose to 25 ° C. and stabilized at 25 ° C. (at this time, the pressure was 1.33 Pa (10 mTorr)). The inside of the dryer was returned to normal pressure to obtain a dipyrromethene metal chelate compound from which 1,4-dioxane had been removed.

【0110】このジピロメテン金属キレート化合物は2
0g/lの濃度でエチルシクロヘキサンに溶解し、24
時間後も沈殿は生じなかった。処理後のX線回折図を図
16に示す。処理前のものに比べ、ピークがブロードで
あり、アモルファス化していることが確認された。尚、
処理前のジピロメテン金属キレート化合物は、ジメチル
シクロヘキサンに20g/lの濃度まで溶解しなかっ
た。
This dipyrromethene metal chelate compound has 2
Dissolved in ethylcyclohexane at a concentration of 0 g / l,
No precipitation occurred after hours. FIG. 16 shows the X-ray diffraction pattern after the treatment. The peak was broader than that before the treatment, and it was confirmed that the peak was amorphous. still,
The dipyrromethene metal chelate compound before the treatment did not dissolve in dimethylcyclohexane up to a concentration of 20 g / l.

【0111】〔実施例9〕エタノール340mlに前記
構造式(4−f)で示される化合物8.5g及び下記構
造式(5−e)で示される化合物7.5gを溶解し、4
7%臭化水素酸4.7gを滴下した後、室温で1時間攪
拌した。減圧濃縮後、クロロホルム300mlで抽出、
水洗、分液後、溶媒を溜去して、下記構造式(6−i)
で示される化合物14.1gを得た。
Example 9 8.5 g of the compound represented by the structural formula (4-f) and 7.5 g of the compound represented by the following structural formula (5-e) were dissolved in 340 ml of ethanol.
After dropping 4.7 g of 7% hydrobromic acid, the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. After concentration under reduced pressure, extracted with 300 ml of chloroform,
After washing with water and liquid separation, the solvent was distilled off to obtain the following structural formula (6-i)
14.1 g of a compound represented by the formula was obtained.

【0112】[0112]

【化30】 次に、エタノール530mlに式(6−i)で示される
化合物13.2gを溶解し、酢酸銅2.6gを加えて、
還流温度で1時間攪拌した。減圧濃縮後、析出物を濾取
し、メタノール及び水で洗浄して、下記構造式(1−
9)で示される化合物25.9gを得た。
Embedded image Next, 13.2 g of the compound represented by the formula (6-i) was dissolved in 530 ml of ethanol, and 2.6 g of copper acetate was added.
Stirred at reflux temperature for 1 hour. After concentration under reduced pressure, the precipitate was collected by filtration, washed with methanol and water, and treated with the following structural formula (1-
25.9 g of the compound represented by 9) was obtained.

【0113】[0113]

【化31】 下記の分析結果より、目的物であることを確認した。Embedded image From the following analysis results, it was confirmed that it was the target substance.

【0114】[0114]

【表9】 [Table 9]

【0115】このようにして得られた化合物は、トルエ
ン溶液中において592.5nmに吸収極大を示し、グ
ラム吸光係数は1.22×105ml/g.cmであっ
た。
The compound thus obtained exhibits an absorption maximum at 592.5 nm in a toluene solution, and has a gram extinction coefficient of 1.22 × 10 5 ml / g. cm.

【0116】上記構造式(1−9)で示される化合物2
4.1g(X線回折図、図17)を1,4−ジオキサン
240mlに溶解し、25℃で1時間攪拌を行い、共和
真空(株)凍結乾燥機に入れ、−40℃まで冷却し溶液
を凍結させ、減圧下(2.67Pa(20mTor
r))で乾燥機の棚を加熱する熱媒を30℃まで昇温し
た。凍結した1,4−ジオキサンは徐々に昇華し、凍結
物は25℃まで温度が上昇し、25℃で安定した(この
ときの圧力は1.33Pa(10mTorr))。乾燥
機内を常圧に戻し、1,4−ジオキサンが除去されたジ
ピロメテン金属キレート化合物を得た。
Compound 2 represented by the above structural formula (1-9)
Dissolve 4.1 g (X-ray diffraction diagram, FIG. 17) in 240 ml of 1,4-dioxane, stir at 25 ° C. for 1 hour, put into a freeze dryer of Kyowa Vacuum Co., Ltd., cool to −40 ° C. Is frozen under reduced pressure (2.67 Pa (20 mTorr).
In r)), the heating medium for heating the shelf of the dryer was heated to 30 ° C. The frozen 1,4-dioxane gradually sublimated, and the temperature of the frozen product rose to 25 ° C. and stabilized at 25 ° C. (at this time, the pressure was 1.33 Pa (10 mTorr)). The inside of the dryer was returned to normal pressure to obtain a dipyrromethene metal chelate compound from which 1,4-dioxane had been removed.

【0117】このジピロメテン金属キレート化合物は2
0g/lの濃度でエチルシクロヘキサンに溶解し、24
時間後も沈殿は生じなかった。処理後のX線回折図を図
18に示す。処理前のものに比べ、ピークがブロードで
あり、アモルファス化していることが確認された。尚、
処理前のジピロメテン金属キレート化合物は、エチルシ
クロヘキサンに20g/lの濃度まで溶解しなかった。
This dipyrromethene metal chelate compound has 2
Dissolved in ethylcyclohexane at a concentration of 0 g / l,
No precipitation occurred after hours. FIG. 18 shows the X-ray diffraction pattern after the treatment. The peak was broader than that before the treatment, and it was confirmed that the peak was amorphous. still,
The dipyrromethene metal chelate compound before the treatment did not dissolve in ethylcyclohexane to a concentration of 20 g / l.

【0118】[0118]

【発明の効果】本発明の処理を行う前のジピロメテン金
属キレート化合物は多くの場合、ある結晶状態をとって
おり、そのため溶剤溶解性が低い。即ち、塗布液の所定
の濃度まで溶解しなかったり、溶剤に一旦溶解しても短
時間で沈殿が発生したりしていたが、本発明の処理を行
うことにより、アモルファス状態のジピロメテン金属キ
レート化合物が得られ、溶解性が著しく向上する。
The dipyrromethene metal chelate compound before the treatment of the present invention is often in a certain crystalline state, and therefore has low solvent solubility. That is, the coating solution did not dissolve to a predetermined concentration, or even once dissolved in a solvent, precipitation occurred in a short time, but by performing the treatment of the present invention, the amorphous dipyrromethene metal chelate compound Is obtained, and the solubility is remarkably improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1の処理前のジピロメテン金属キレート
化合物のX線回折図である。
FIG. 1 is an X-ray diffraction diagram of a dipyrromethene metal chelate compound before treatment in Example 1.

【図2】実施例1の処理後のジピロメテン金属キレート
化合物のX線回折図である。
FIG. 2 is an X-ray diffraction diagram of a dipyrromethene metal chelate compound after the treatment in Example 1.

【図3】実施例2の処理前のジピロメテン金属キレート
化合物のX線回折図である。
FIG. 3 is an X-ray diffraction diagram of a dipyrromethene metal chelate compound before treatment in Example 2.

【図4】実施例2の処理後のジピロメテン金属キレート
化合物のX線回折図である。
FIG. 4 is an X-ray diffraction diagram of a dipyrromethene metal chelate compound after the treatment in Example 2.

【図5】実施例3の処理前のジピロメテン金属キレート
化合物のX線回折図である。
FIG. 5 is an X-ray diffraction diagram of a dipyrromethene metal chelate compound before treatment in Example 3.

【図6】実施例3の処理後のジピロメテン金属キレート
化合物のX線回折図である。
FIG. 6 is an X-ray diffraction diagram of a dipyrromethene metal chelate compound after the treatment in Example 3.

【図7】実施例4の処理前のジピロメテン金属キレート
化合物のX線回折図である。
FIG. 7 is an X-ray diffraction diagram of a dipyrromethene metal chelate compound before treatment in Example 4.

【図8】実施例4の処理後のジピロメテン金属キレート
化合物のX線回折図である。
FIG. 8 is an X-ray diffraction diagram of the dipyrromethene metal chelate compound after the treatment in Example 4.

【図9】実施例5の処理前のジピロメテン金属キレート
化合物のX線回折図である。
FIG. 9 is an X-ray diffraction diagram of a dipyrromethene metal chelate compound before treatment in Example 5.

【図10】実施例5の処理後のジピロメテン金属キレー
ト化合物のX線回折図である。
FIG. 10 is an X-ray diffraction diagram of a dipyrromethene metal chelate compound after the treatment in Example 5.

【図11】実施例6の処理前のジピロメテン金属キレー
ト化合物のX線回折図である。
FIG. 11 is an X-ray diffraction diagram of a dipyrromethene metal chelate compound before treatment in Example 6.

【図12】実施例6の処理後のジピロメテン金属キレー
ト化合物のX線回折図である。
FIG. 12 is an X-ray diffraction diagram of a dipyrromethene metal chelate compound after the treatment in Example 6.

【図13】実施例7の処理前のジピロメテン金属キレー
ト化合物のX線回折図である。
FIG. 13 is an X-ray diffraction diagram of a dipyrromethene metal chelate compound before treatment in Example 7.

【図14】実施例7の処理後のジピロメテン金属キレー
ト化合物のX線回折図である。
FIG. 14 is an X-ray diffraction diagram of the dipyrromethene metal chelate compound after the treatment in Example 7.

【図15】実施例8の処理前のジピロメテン金属キレー
ト化合物のX線回折図である。
FIG. 15 is an X-ray diffraction diagram of a dipyrromethene metal chelate compound before treatment in Example 8.

【図16】実施例8の処理後のジピロメテン金属キレー
ト化合物のX線回折図である。
FIG. 16 is an X-ray diffraction diagram of the dipyrromethene metal chelate compound after the treatment in Example 8.

【図17】実施例9の処理前のジピロメテン金属キレー
ト化合物のX線回折図である。
FIG. 17 is an X-ray diffraction diagram of a dipyrromethene metal chelate compound before treatment in Example 9.

【図18】実施例9の処理後のジピロメテン金属キレー
ト化合物のX線回折図である。
FIG. 18 is an X-ray diffraction diagram of a dipyrromethene metal chelate compound after the treatment in Example 9.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三沢 伝美 千葉県袖ヶ浦市長浦580−32 三井化学株 式会社内 (72)発明者 加藤 健一 大阪府八尾市弓削町南1丁目43番地 山本 化成株式会社内 (72)発明者 熊谷 洋二郎 大阪府八尾市弓削町南1丁目43番地 山本 化成株式会社内 Fターム(参考) 2H111 EA03 EA04 EA22 EA23 FB42 4C063 AA01 BB03 CC07 DD04 EE10 4H056 CA01 CC02 CC08 CE03 CE06 DD03  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Denmi Misawa, 580-32 Nagaura, Sodegaura City, Chiba Prefecture Mitsui Chemicals, Inc. (72) Inventor Youjiro Kumagai 1-443 Minami Yuge-cho, Yao-shi, Osaka Prefecture F-term in Yamamoto Kasei Co., Ltd.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(1)で示されるジピロメテ
ン金属キレート化合物のアモルファス体。 【化1】 〔式中、R1〜R8は、各々独立に、水素原子、ハロゲン
原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、
カルボキシル基、スルホン酸基、炭素数20以下の置換
または未置換のアルキル基、アルコキシ基、アルキルチ
オ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基、アシルアミノ基、アラルキル基、アリール基または
ヘテロアリール基を表し、R9は、ハロゲン原子、炭素
数20以下の置換または未置換のアリール基、ヘテロア
リール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールオ
キシ基、アリールチオ基を表し、R1とR2は式(a)で
表される連結基を介して環を形成してもよく、Mは遷移
元素を表す。 【化2】 (Aは炭素数20以下の置換または未置換の芳香環また
は複素環を表し、L1は、それが結合している炭素原子
と一緒になって環を形成する、ヘテロ原子を含んでも良
い置換または未置換の残基を表す)〕
1. An amorphous form of a dipyrromethene metal chelate compound represented by the following general formula (1). Embedded image [Wherein, R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, an amino group,
Carboxyl group, sulfonic acid group, substituted or unsubstituted alkyl group having 20 or less carbon atoms, alkoxy group, alkylthio group, aryloxy group, arylthio group, alkenyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, acylamino group, aralkyl Represents a group, an aryl group or a heteroaryl group, R 9 represents a halogen atom, a substituted or unsubstituted aryl group having 20 or less carbon atoms, a heteroaryl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an aryloxy group, an arylthio group; R 1 and R 2 may form a ring via a linking group represented by the formula (a), and M represents a transition element. Embedded image (A represents a substituted or unsubstituted aromatic or heterocyclic ring having 20 or less carbon atoms, and L 1 represents a substituted or unsubstituted heteroatom which forms a ring together with the carbon atom to which it is bonded. Or represents an unsubstituted residue)]
【請求項2】 結晶性のジピロメテン金属キレート化合
物を有機溶媒に溶解した後に有機溶媒溶液を凍結乾燥さ
せることを特徴とする下記一般式(1)で示されるジピ
ロメテン金属キレート化合物のアモルファス体の製造方
法。 【化3】 〔式中、R1〜R8は、各々独立に、水素原子、ハロゲン
原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、
カルボキシル基、スルホン酸基、炭素数20以下の置換
または未置換のアルキル基、アルコキシ基、アルキルチ
オ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基、アシルアミノ基、アラルキル基、アリール基または
ヘテロアリール基を表し、R9は、ハロゲン原子、炭素
数20以下の置換または未置換のアリール基、ヘテロア
リール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールオ
キシ基、アリールチオ基を表し、R1とR2は式(a)で
表される連結基を介して環を形成してもよく、Mは遷移
元素を表す。 【化4】 (Aは炭素数20以下の置換または未置換の芳香環また
は複素環を表し、L1は、それが結合している炭素原子
と一緒になって環を形成する、ヘテロ原子を含んでも良
い置換または未置換の残基を表す)〕
2. A method for producing an amorphous form of a dipyrromethene metal chelate compound represented by the following general formula (1), comprising dissolving a crystalline dipyrromethene metal chelate compound in an organic solvent and freeze-drying the organic solvent solution. . Embedded image [Wherein, R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, an amino group,
Carboxyl group, sulfonic acid group, substituted or unsubstituted alkyl group having 20 or less carbon atoms, alkoxy group, alkylthio group, aryloxy group, arylthio group, alkenyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, acylamino group, aralkyl Represents a group, an aryl group or a heteroaryl group, R 9 represents a halogen atom, a substituted or unsubstituted aryl group having 20 or less carbon atoms, a heteroaryl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an aryloxy group, an arylthio group; R 1 and R 2 may form a ring via a linking group represented by the formula (a), and M represents a transition element. Embedded image (A represents a substituted or unsubstituted aromatic or heterocyclic ring having 20 or less carbon atoms, and L 1 represents a substituted or unsubstituted heteroatom which forms a ring together with the carbon atom to which it is bonded. Or represents an unsubstituted residue)]
【請求項3】 凍結乾燥に用いる有機溶媒の凝固点が−
40〜40℃である請求項2の製造方法。
3. The freezing point of an organic solvent used for freeze-drying is-
The method according to claim 2, wherein the temperature is 40 to 40C.
【請求項4】 凍結温度が−50〜0℃である請求項3
の製造方法。
4. The freezing temperature is -50 to 0 ° C.
Manufacturing method.
【請求項5】 凍結後の乾燥機の棚を加熱する熱媒の温
度が−30〜70℃である請求項2の製造方法。
5. The method according to claim 2, wherein the temperature of the heating medium for heating the shelf of the dryer after freezing is −30 to 70 ° C.
【請求項6】 凍結後の乾燥機の棚を加熱する熱媒の温
度が0〜70℃である請求項5の製造方法。
6. The method according to claim 5, wherein the temperature of the heating medium for heating the shelf of the dryer after freezing is 0 to 70 ° C.
【請求項7】 乾燥時の圧力が133.32〜1.33
Paである請求項2の製造方法。
7. The drying pressure is 133.32 to 1.33.
3. The method according to claim 2, wherein Pa is Pa.
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