JP2002347112A - Method for manufacturing water-soluble embossed film - Google Patents

Method for manufacturing water-soluble embossed film

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JP2002347112A
JP2002347112A JP2001160845A JP2001160845A JP2002347112A JP 2002347112 A JP2002347112 A JP 2002347112A JP 2001160845 A JP2001160845 A JP 2001160845A JP 2001160845 A JP2001160845 A JP 2001160845A JP 2002347112 A JP2002347112 A JP 2002347112A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a water-soluble embossed film excellent in blocking resistance, free from shining, giving high quality feeling and excellent in pin hole resistance. SOLUTION: Embossing process is carried out by passing a water-soluble film between an embossed roll marked with uneven shape having satin patterns and a back up roll to form the satin patterns with the surface roughness (Ra) 0.1-8 μm and the uneven pattern with less than 100 meshes and 50-300 μm deep.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、耐ブロッキング性
に優れ、テカリがなく、高級品感、耐ピンホール性に優
れた水溶性エンボスフィルムの製造方法に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a water-soluble embossed film having excellent blocking resistance, no shininess, high quality and pinhole resistance.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、ポリビニルアルコール系フィ
ルム等の水溶性フィルムからなる包材は、農薬、薬剤、
染料、洗剤、肥料、化粧品、生理用品等を収容するため
の材料として多用されており、かかる包材は、フィルム
の水溶性を利用して、直接、水性媒体中へ投入して包材
を分解又は溶解せしめて溶液を得たり、使用時に開封し
た包材をそのまま水に流して捨てる等の用途に用いられ
ている。かかる水溶性フィルムは実用上表面処理が施さ
れ、例えば艶消しやブロッキング防止のために水溶性
フィルムに梨地模様をつける梨地処理を施こしたり、
ブロッキング性の改善のために、フィルムに凹凸形状を
つけるエンボス加工が行われており、例えば後者の例と
しては、エンボス加工法として特開平7−290567
号公報に、凹部の厚みが15〜25μm(凸部の厚み2
0〜100μm)で、フィルムの引張強度が2.5〜
4.5kg/mm2であるエンボス加工された水溶性フ
ィルムを製造する方法が提案されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, packaging materials made of water-soluble films such as polyvinyl alcohol-based films have been used for agricultural chemicals, drugs,
It is widely used as a material for accommodating dyes, detergents, fertilizers, cosmetics, sanitary products, etc. Such packaging materials are directly injected into aqueous media using the water solubility of the film to decompose the packaging materials. Alternatively, it is used for applications such as dissolving to obtain a solution, or disposing of a packaging material opened at the time of use by pouring it into water and discarding it. Such a water-soluble film is subjected to a surface treatment in practical use, for example, a matte treatment for giving a matte pattern to the water-soluble film for matting or blocking prevention,
In order to improve the blocking property, an embossing process for forming an uneven shape on the film is performed. For example, as the latter example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-290567 discloses an embossing method.
In the publication, the thickness of the concave portion is 15 to 25 μm (the thickness of the convex portion is 2 μm).
0-100 μm) and the tensile strength of the film is 2.5-
A method for producing an embossed water-soluble film of 4.5 kg / mm 2 has been proposed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、本発明者が上
記の従来技術について検討したところ、この従来技術で
は、耐ブロッキング性の点で、フィルムを多数枚重ねて
高温、高湿下で長期間保存したり、長尺のフィルムをロ
ール状に巻いて長期に保存するとその効果に限界があ
り、又フィルムのいわゆるテカリ現象防止と厚み感や立
体感を同時に兼ね備えた高級製品感覚に乏しいことが明
らかとなった。市場では高級品感のある製品の需要は高
く、又、上記のような過酷な条件下でもブロッキングが
起らない水溶性エンボスフィルムの製造方法が求められ
ている。
However, the present inventor studied the above-mentioned prior art, and found that in this prior art, in terms of blocking resistance, a large number of films were stacked for a long period of time under high temperature and high humidity. It is clear that the effect is limited when stored or when a long film is wound into a roll and stored for a long period of time. It became. In the market, there is a high demand for high-quality products, and a method for producing a water-soluble embossed film that does not cause blocking even under such severe conditions is required.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】そこで、本発明者は、梨
地模様をもつ凹凸形状が刻印されたエンボスロールとバ
ックアップロールの間に水溶性フィルムを通過させてエ
ンボス加工を行い、該フィルム面に表面粗さ(Ra)が
0.1〜8μmの梨地模様と100メッシュ以下で深さ
が50〜300μmの凹凸模様とを形成させることを特
徴とする水溶性エンボスフィルムの製造方法が上記の目
的を達成できることを見出し本発明を完成するに至っ
た。
Therefore, the present inventor has performed an embossing process by passing a water-soluble film between an embossing roll and a backup roll, each of which is imprinted with a satin pattern, and embossing the film surface. A method for producing a water-soluble embossed film, characterized by forming a matte pattern having a surface roughness (Ra) of 0.1 to 8 μm and a concavo-convex pattern having a depth of 50 to 300 μm with a mesh size of 100 mesh or less has the above object. We have found that we can achieve this and have completed the present invention.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳細に述べる。
本発明の水溶性フィルムの原料である水溶性樹脂として
は、特に限定されず、例えば、ポリビニルアルコール系
樹脂、カルボキシメチルセルロース類、澱粉類、ポリエ
チレンオキサイド類、プルラン類等の合成又は天然物誘
導体の各種樹脂材料が挙げられるが、中でもポリビニル
アルコール系樹脂が特に好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The water-soluble resin as a raw material of the water-soluble film of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include various types of synthetic or natural product derivatives such as polyvinyl alcohol-based resins, carboxymethyl celluloses, starches, polyethylene oxides, and pullulans. Although a resin material is mentioned, a polyvinyl alcohol-based resin is particularly preferable.

【0006】ポリビニルアルコール系樹脂は、通常、酢
酸ビニルを重合したポリ酢酸ビニルをケン化して製造さ
れるものであるが、本発明では必ずしもこれに限定され
るものではなく、少量の不飽和カルボン酸類(塩、エス
テル、アミド、ニトリル等を含む)、オレフィン類、ビ
ニルエーテル類、不飽和スルホン酸塩類、ポリオキシア
ルキレンアリルエーテル類等で変性されたものでもよ
い。
The polyvinyl alcohol resin is usually produced by saponifying polyvinyl acetate obtained by polymerizing vinyl acetate. However, the present invention is not limited to this, and a small amount of unsaturated carboxylic acid (Including salts, esters, amides, nitriles, etc.), olefins, vinyl ethers, unsaturated sulfonates, polyoxyalkylene allyl ethers, and the like.

【0007】かかるポリビニルアルコール系樹脂のなか
でも、特にケン化度が70〜100モル%が好ましく、
更には75〜99モル%が好ましい。かかるケン化度が
70モル%未満では水溶性が悪くなる傾向があり好まし
くない。又、平均重合度は300〜4000、更には5
00〜3000が好ましく、該平均重合度が300未満
ではフィルムの強度が劣り、4000を越えると製膜性
が悪くなり好ましくない。
Among such polyvinyl alcohol resins, a saponification degree of 70 to 100 mol% is particularly preferable.
Furthermore, 75 to 99 mol% is preferable. If the saponification degree is less than 70 mol%, the water solubility tends to deteriorate, which is not preferable. Further, the average degree of polymerization is 300 to 4000, and furthermore 5
When the average degree of polymerization is less than 300, the strength of the film is inferior. When the average degree of polymerization exceeds 4,000, the film-forming properties deteriorate, which is not preferable.

【0008】上記の水溶性樹脂を用いて、水溶性フィル
ムを得るには上記水溶性樹脂を、ドラム、エンドレスベ
ルト等の平滑な金属面上に流延する方法や押出法等の手
段によって溶融成形する方法等が挙げられる。
In order to obtain a water-soluble film using the above water-soluble resin, the water-soluble resin is melt-molded by a method such as a method of casting on a smooth metal surface such as a drum or an endless belt or an extrusion method. And the like.

【0009】かかる製膜時には必要に応じて、例えばグ
リセリン、ジエチレングリコール、トリエチレングリコ
ール等の多価アルコール類の可塑剤や、フェノール系、
アミン系等の抗酸化剤、リン酸エステル類等の安定剤の
他、着色料、香料、増量剤、消包剤、剥離剤、紫外線吸
収剤、無機粉体、界面活性剤等の通常の添加剤を添加し
ても差し支えない。
At the time of film formation, if necessary, a plasticizer of a polyhydric alcohol such as glycerin, diethylene glycol, triethylene glycol, or the like,
In addition to amine-based antioxidants, stabilizers such as phosphoric esters, etc., ordinary addition of coloring agents, fragrances, extenders, depackaging agents, release agents, ultraviolet absorbers, inorganic powders, surfactants, etc. An agent can be added.

【0010】該水溶性フィルムの膜厚については、特に
限定されないが、10〜120μmであることが好まし
く、より好ましくは15〜80μmであり、10μm未
満では機械強度が不足することとなり、120μmを越
えると水溶性の低下や製膜効率の低下を招き好ましくな
い。該水溶性フィルムの含水率については、特に限定さ
れないが、1〜15重量%であることが好ましく、より
好ましくは2〜10重量%であり、1重量%未満ではフ
ィルムが硬すぎて凹凸模様が付きにくくなり、15重量
%を越えるとフィルムが柔らかすぎて凹凸模様が保持さ
れず好ましくない。
The thickness of the water-soluble film is not particularly limited, but is preferably from 10 to 120 μm, more preferably from 15 to 80 μm, and if it is less than 10 μm, the mechanical strength will be insufficient, and will exceed 120 μm. This leads to a decrease in water solubility and a decrease in film formation efficiency, which is not preferable. The water content of the water-soluble film is not particularly limited, but is preferably from 1 to 15% by weight, more preferably from 2 to 10% by weight, and if it is less than 1% by weight, the film is too hard and an uneven pattern is formed. When the content exceeds 15% by weight, the film is too soft and the uneven pattern is not retained, which is not preferable.

【0011】本発明では、上記で得られた水溶性フィル
ムを梨地模様をもつ凹凸形状が刻印されたエンボスロー
ルとバックアップロールの間に通過させてエンボス加工
を行って、フィルム表面に表面粗さ(Ra)が0.1〜
8μm、更には0.4〜5μm、特には0.8〜4μm
の梨地模様と、100メッシュ以下、更には20〜80
メッシュで、深さが50〜300μm、更には60〜2
00μmの凹凸模様とを形成させるのが特徴であり、表
面粗さが0.1μm未満では耐ブロッキングが劣り、逆
に8μmを越えると耐ピンホール性が劣り不適当であ
る。また、凹凸模様が100メッシュを越えると得られ
た水溶性エンボスフィルムの耐ブロッキング性が劣り、
また高級品感のあるフィルムが得られなくなり不適当で
ある。更に、凹凸模様の深さが50μm未満では十分な
見掛け膜厚が得られず、300μmを越えるとフィルム
にピンホールが発生して本発明の目的を達成できない。
In the present invention, the water-soluble film obtained as described above is passed between an embossing roll and a backup roll on which a concavo-convex pattern having a satin finish is imprinted, and embossing is performed, so that the film has a surface roughness ( Ra) is 0.1 to
8 μm, further 0.4 to 5 μm, especially 0.8 to 4 μm
Pearskin pattern, 100 mesh or less, and even 20-80
Mesh with a depth of 50-300 μm, and even 60-2
It is characterized by forming an uneven pattern of 00 μm. If the surface roughness is less than 0.1 μm, the blocking resistance is poor, and if it exceeds 8 μm, the pinhole resistance is poor and unsuitable. Also, when the uneven pattern exceeds 100 mesh, the obtained water-soluble embossed film has poor blocking resistance,
In addition, a film having a high quality feeling cannot be obtained, which is inappropriate. Further, if the depth of the uneven pattern is less than 50 μm, a sufficient apparent film thickness cannot be obtained, and if it exceeds 300 μm, pinholes are generated in the film and the object of the present invention cannot be achieved.

【0012】なお、ここで言う表面粗さ(Ra)はレー
ザ顕微鏡(例えば超深度形状測定顕微鏡、株式会社キー
エンス製「VK−8510」)により測定されるもので
あり、また、凹凸模様の深さはJIS B 0601の
方法により測定されるものである。
The surface roughness (Ra) mentioned here is measured by a laser microscope (for example, an ultra-depth shape measuring microscope, "VK-8510" manufactured by KEYENCE CORPORATION). Is measured by the method of JIS B0601.

【0013】上記の条件を満足する凹凸模様としては、
格子模様、絹目模様、亀甲模様、菱型模様等を挙げるこ
とができ、その中でも高級品感、耐ブロッキング性の面
で絹目模様であることが好ましい。
As the uneven pattern satisfying the above conditions,
A lattice pattern, a silk pattern, a tortoise pattern, a rhombus pattern, and the like can be given. Among them, a silk pattern is preferable in terms of high-quality feel and blocking resistance.

【0014】エンボス加工にあたっては、梨地模様をも
つ凹凸形状が刻印されたエンボスロールとバックアップ
ロールが用いられるのであるが、該エンボスロールとし
ては、具体的には、表面粗さ(Ra)が0.3〜10μ
m、更には0.5〜7μm、特には1〜5μmの梨地形
状及び100メッシュ以下、更には80メッシュ以下、
特には20〜60メッシュで、深さが100〜400μ
m、更には150〜300μmの凹凸形状が刻印された
エンボスロールを用いることが好ましい。
In embossing, an embossing roll and a backup roll, each of which is imprinted with a textured pattern having a satin finish, are used. Specifically, the embossing roll has a surface roughness (Ra) of 0. 3-10μ
m, moreover, 0.5-7 μm, especially 1-5 μm satin shape and 100 mesh or less, further 80 mesh or less,
In particular, it is 20-60 mesh, and the depth is 100-400μ.
It is preferable to use an embossing roll on which an uneven shape of 150 m to 300 m is stamped.

【0015】かかるエンボスロールは、1)金属ロール
又はセラミックロールの表面をサンドブラスト法、ケミ
カルマット法、エッチング法により梨地模様を付与して
から、絹目形状(凸凹形状)の種ロールにて、絹目模様
を付与して、必要に応じてメッキ加工等を施す方法、
2)金属ロール又はセラミックロールの表面に絹目形状
の種ロールにて、絹目模様を付与してから、サンドブラ
スト法、ケミカルマット法、エッチング法により梨地模
様を付与して、必要に応じてメッキ加工等を施す方法、
3)トランジスターパルス電源の放電加工機により梨地
模様を付与してから、絹目形状の種ロールにて、絹目模
様を付与して、必要に応じてメッキ加工を施す方法等で
製作される。
[0015] Such embossing rolls are as follows: 1) The surface of a metal roll or a ceramic roll is provided with a satin pattern by a sand blasting method, a chemical matting method, or an etching method, and then a silk-shaped (irregularly shaped) seed roll is used. A method of applying an eye pattern and performing plating and the like as necessary,
2) A silk pattern is applied to the surface of a metal roll or a ceramic roll using a seed roll having a silk pattern, and then a matte pattern is applied by a sand blast method, a chemical mat method, or an etching method, and plating is performed as necessary. How to apply processing, etc.
3) It is manufactured by applying a satin pattern by an electric discharge machine of a transistor pulse power supply, then applying a silk pattern by a silk-shaped seed roll, and performing plating if necessary.

【0016】金属ロールとしては特に限定されるもので
ないが、鉄、SUS、軟鋼、硬鋼、クロム鋼、ニッケル
鋼、鋳鋼、黄銅等の金属ロールが挙げられ、セラミック
ロールとしては酸化アルミ、二酸化珪素、窒化ケイ素、
炭化珪素等のセラミックからなるセラミックロールが挙
げられる。
The metal roll is not particularly limited, but includes metal rolls such as iron, SUS, mild steel, hard steel, chromium steel, nickel steel, cast steel, and brass. Ceramic rolls include aluminum oxide and silicon dioxide. , Silicon nitride,
A ceramic roll made of a ceramic such as silicon carbide may be used.

【0017】上記のバックアップロールは、例えばウレ
タン系、シリコーン系、フッ素系、オレフィン系等の合
成ゴム等が被覆されたゴムロールや、コットンロールあ
るいはペーパロールであることが好ましい。かかるバッ
クアップロールが、ゴムロールの場合は、該ロール表面
硬度がA50°〜A95°であるものを用いることも好
ましく、更にはA55°〜A95°で、特にはA60°
〜A95°である。上記のロールの表面硬度がA50°
未満では充分な見かけ膜厚が得られず、又、A95°を
越えると見かけ膜厚は得られるものの充分なエンボス柄
の転写が行えず、又ピンホールが発生しやすく好ましく
ない。
The above-mentioned backup roll is preferably a rubber roll coated with a synthetic rubber such as a urethane-based, silicone-based, fluorine-based or olefin-based rubber, a cotton roll or a paper roll. When the backup roll is a rubber roll, it is preferable to use one having a roll surface hardness of A50 ° to A95 °, more preferably A55 ° to A95 °, and particularly A60 °.
~ A95 °. The surface hardness of the roll is A50 °
If it is less than A95 °, a sufficient apparent film thickness cannot be obtained, and if it exceeds A95 °, although an apparent film thickness can be obtained, transfer of an embossed pattern cannot be sufficiently performed and pinholes are easily generated, which is not preferable.

【0018】また、コットンロールあるいはペーパーロ
ールの場合はロール表面硬度がD50°〜D90°であ
るものを用いることも好ましく、更にはD55°〜D8
5°で、特にはD60°〜D85°である。上記のロー
ルの表面硬度がD50°未満では充分な見かけ膜厚が得
られず、又、D90°を越えると見かけ膜厚は得られる
ものの充分なエンボス柄の転写が行えず、又ピンホール
が発生しやすく好ましくない。ここで、表面硬度とは、
JIS K 6301に準じた測定方法により求められ
る硬度である。
In the case of a cotton roll or paper roll, it is preferable to use a roll having a surface hardness of D50 ° to D90 °, and more preferably D55 ° to D8.
5 °, in particular D60 ° to D85 °. If the surface hardness of the roll is less than D50 °, a sufficient apparent film thickness cannot be obtained, and if it exceeds D90 °, the apparent film thickness can be obtained, but sufficient embossed pattern transfer cannot be performed and pinholes are generated. It is not easy to do. Here, the surface hardness is
This is a hardness determined by a measuring method according to JIS K6301.

【0019】上記のエンボスロールとバックアップロー
ルの間に水溶性フィルムを通過させる時の水溶性フィル
ムへの押圧力は、通常10〜150kg/cmが好まし
く、より好ましくは30〜100kg/cmである。
The pressure applied to the water-soluble film when passing the water-soluble film between the embossing roll and the backup roll is preferably from 10 to 150 kg / cm, more preferably from 30 to 100 kg / cm.

【0020】かかる押圧力が10kg/cm未満では充
分な深さを有するエンボス加工ができず、150kg/
cmを越えるとエンボスフィルムの厚みが部分的に薄く
なり機械的強度が低下し、又ピンホールが発生する傾向
にあり好ましくない。
If the pressing force is less than 10 kg / cm, embossing with a sufficient depth cannot be performed, and
When the thickness exceeds cm, the thickness of the embossed film is partially reduced, mechanical strength is reduced, and pinholes tend to occur, which is not preferable.

【0021】又、エンボス加工時のエンボスロールの表
面温度が100〜200℃で、かつ、バックアップロー
ルの表面温度が50℃以上であることが好ましい。エン
ボスロールのより好ましい表面温度は105〜170℃
であり、特に好ましくは110〜160℃であり、バッ
クアップロールのより好ましい表面温度は60〜110
℃であり、特に好ましくは65〜100℃である。
It is preferable that the surface temperature of the embossing roll during embossing is 100 to 200 ° C. and that the surface temperature of the backup roll is 50 ° C. or higher. More preferred surface temperature of the embossing roll is 105 to 170 ° C.
And particularly preferably 110 to 160 ° C., and more preferably the surface temperature of the backup roll is 60 to 110 ° C.
° C, and particularly preferably from 65 to 100 ° C.

【0022】エンボスロールの表面温度が100℃未満
では充分な深さを有するエンボス加工ができなくなり、
200℃を越えるとフィルムの水溶性が低下することと
なり好ましくない。又、バックアップロールの表面温度
が50℃未満では充分な深さを有するエンボス加工が得
られなくなり好ましくない。
If the surface temperature of the embossing roll is less than 100 ° C., embossing with a sufficient depth cannot be performed,
If the temperature exceeds 200 ° C., the water solubility of the film is undesirably reduced. On the other hand, if the surface temperature of the backup roll is less than 50 ° C., it is not preferable because embossing having a sufficient depth cannot be obtained.

【0023】かくして得られた水溶性エンボスフィルム
は、ロール状に巻取られ製品化される。本発明で得られ
る水溶性エンボスフィルムは、フィルム間に相当強力な
圧力が加わっても、又、高温、高湿度の雰囲気下で保存
した時でもブロッキングがなく、その上フィルム表面に
テカリがなく、高級品感があり、更には耐ピンホール性
にも優れるもので、農薬、薬剤、染料、洗剤、肥料、化
粧品、生理用品等の包材として有用で、特に各種薬剤等
のユニット包装用として非常に有用である。
The water-soluble embossed film thus obtained is wound into a roll and commercialized. The water-soluble embossed film obtained in the present invention, even when a fairly strong pressure is applied between the films, also has no blocking even when stored in a high-temperature, high-humidity atmosphere, and furthermore has no shine on the film surface, It has a high-quality feel and is also excellent in pinhole resistance, and is useful as a packaging material for agricultural chemicals, drugs, dyes, detergents, fertilizers, cosmetics, sanitary products, etc. Useful for

【0024】[0024]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。なお、例中「%」とあるのは、断りのない限り重
量基準を意味する。
The present invention will be specifically described below with reference to examples. In the examples, “%” means on a weight basis unless otherwise specified.

【0025】実施例1 〔水溶性フィルムの製造〕ポリビニルアルコール系樹脂
[平均重合度1400、ケン化度88モル%]の25%
水溶液を、93℃の熱ドラムへ流延し、製膜し、更に乾
燥して含水率を6%にして、厚さ40μmの水溶性フィ
ルムを製造した。
Example 1 [Production of water-soluble film] 25% of polyvinyl alcohol resin [average degree of polymerization: 1400, degree of saponification: 88 mol%]
The aqueous solution was cast on a hot drum at 93 ° C., formed into a film, and further dried to a water content of 6% to produce a water-soluble film having a thickness of 40 μm.

【0026】〔エンボスロールの作製〕エンボスロール
は40メッシュの絹目形状(深さ180μm)を施した
後、Ra=3μmとなるようにサンドブラスト処理を実
施し、梨地模様を施した。かかるサンドブラスト処理は
ブラスト装置(不二製作所製「FDO型」)を用いて、
ノズル圧3kg/cm2、セラミック系研磨剤#100
で実施した。
[Preparation of Emboss Roll] The emboss roll had a 40-mesh silk shape (depth: 180 μm), and was subjected to a sand blast treatment so that Ra = 3 μm to give a satin finish. Such sandblasting is performed using a blasting device (“FDO type” manufactured by Fuji Seisakusho).
Nozzle pressure 3 kg / cm 2 , ceramic abrasive # 100
It was carried out in.

【0027】〔バックアップロール〕バックアップロー
ルは合成ゴムが被覆された由利ロール社製のゴムロール
(ロールの表面硬度A80°)を用いた。
[Backup Roll] A rubber roll coated with synthetic rubber and manufactured by Yuri Roll Co. (roll surface hardness A80 °) was used.

【0028】〔水溶性エンボスフィルムの製造方法〕上
記のフィルムにエンボスロールとバックアップロールを
用いてエンボス加工を実施した。まず120℃に加熱さ
れたエンボスロールと65℃に加熱されたバックアップ
ロールとの間を押圧力50kg/cmで、10m/mi
nの速度で水溶性フィルムを通過させ、エンボス加工を
施し、Ra=2.4μmの梨地模様と40メッシュで深
さ140μmの凹凸模様(絹目模様)とが形成された水
溶性エンボスフィルムを製造した。得られたフィルムに
ついて、以下の評価を行った。
[Production Method of Water-Soluble Embossed Film] The above film was embossed using an embossing roll and a backup roll. First, the pressing force between the embossing roll heated to 120 ° C. and the backup roll heated to 65 ° C. is 50 kg / cm and the pressure is 10 m / mi.
Passing through the water-soluble film at the speed of n, embossing is performed to produce a water-soluble embossed film having a satin pattern of Ra = 2.4 μm and a concavo-convex pattern (silk pattern) of 40 μm and a depth of 140 μm. did. The following evaluation was performed about the obtained film.

【0029】(耐ブロッキング性) A.得られた水溶性エンボスフィルム100mを、張力
3kg/m、巻き取り速度10m/minでロール状
(支管径約3inch)に巻き取って、横置きにして3
0℃×80RH%の雰囲気下に3ヶ月間放置後、ロール
を解いて、以下のように評価した。 ○・・・ブロッキングが認められず、巻芯部分までスム
ースに巻き解きができた ×・・・巻芯部分にブロッキングが見られ、巻き解き時
にフィルムの一部に破損が認められた
(Blocking resistance) The obtained water-soluble embossed film (100 m) is wound into a roll (with a branch pipe diameter of about 3 inches) at a tension of 3 kg / m and a winding speed of 10 m / min.
After being left for 3 months in an atmosphere of 0 ° C. × 80 RH%, the roll was released and evaluated as follows.・ ・ ・: No blocking was observed, and the core could be unwound smoothly up to the core. ×: Blocking was observed at the core, and a part of the film was damaged when unwound.

【0030】B.得られた水溶性エンボスフィルム(2
00×200mm)を100枚重ね、その上に100m
mφで10kgのステンレス円柱を置き、60℃×90
%RHの雰囲気下に7日間放置した後の様子を以下のよ
うに評価した。 ○・・・ブロッキングが認められない ×・・・ブロッキングが見られた
B. The obtained water-soluble embossed film (2
00 × 200 mm), and 100 m
Place a 10kg stainless steel cylinder with mφ, 60 ℃ × 90
The state after standing for 7 days in an atmosphere of% RH was evaluated as follows.・ ・ ・: No blocking was observed ×: blocking was observed

【0031】(テカリ)得られた水溶性エンボスフィル
ムに斜め45度の角度から白熱灯でフィルム表面を照ら
して、反対側45度の方向から目視観察して、以下のよ
うに評価した。 ○・・・テカリが認めらない ×・・・テカリが認められる
(Tint) The obtained water-soluble embossed film was illuminated with an incandescent lamp at an oblique angle of 45 ° from the film surface, and visually observed from the opposite 45 ° direction, and evaluated as follows. ○ ・ ・ ・ Shining is not recognized × ・ ・ ・ Shining is recognized

【0032】(高級品感)得られた水溶性エンボスフィ
ルムの外観を以下のように評価した。 ○・・・立体感があり、高級品感が認められる。 ×・・・立体感がなく、廉価品に見える
(Luxury Quality) The appearance of the obtained water-soluble embossed film was evaluated as follows.・ ・ ・: There is a three-dimensional effect, and a high-quality impression is recognized. × ・ ・ ・ Less expensive

【0033】(耐ピンホール性)得られた水溶性エンボ
スフィルムをろ紙上に置き、その上からピンホール検査
液(キシダ化学社製、「ローダミンB」の0.1%メタ
ノール溶液)をハケにて塗布し、裏面でのピンホールに
よるしみだし箇所を測定することにより評価した。尚、
評価基準は下記の通りである。 ○・・・しみだしなし ×・・・しみだしあり
(Pinhole Resistance) The obtained water-soluble embossed film was placed on a filter paper, and a pinhole test solution (0.1% methanol solution of Rhodamine B, manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd.) was poured over the filter paper. It was evaluated by measuring the bleeding point due to a pinhole on the back surface. still,
The evaluation criteria are as follows. ○ ・ ・ ・ No exudation × ・ ・ ・ Exudation

【0034】実施例2 実施例1において、サンドブラストのノズル圧条件を調
整してエンボスロールの梨地模様をRa=1μmになる
ように変更した以外は同様に行って、Ra=0.8μm
の梨地模様と40メッシュで深さが140μmの絹目模
様とが形成された水溶性エンボスフィルムを得て、同様
に評価を行った。
Example 2 The procedure of Example 1 was repeated except that the sandblasted nozzle pressure condition was adjusted to change the satin pattern of the embossing roll so that Ra = 1 μm. Ra = 0.8 μm
A water-soluble embossed film having a satin pattern and a 40-mesh silk pattern having a depth of 140 μm was obtained and evaluated in the same manner.

【0035】実施例3 実施例1において、エンボスロールの絹目形状を50メ
ッシュに変更した以外は同様に行って、Ra=2.4μ
mの梨地模様と50メッシュで深さ140μmの絹目模
様とが形成された水溶性エンボスフィルムを得て、同様
に評価を行った。
Example 3 The procedure of Example 1 was repeated, except that the shape of the embossing roll was changed to 50 mesh, and Ra = 2.4 μm.
A water-soluble embossed film having a pear-skin pattern of m and a mesh pattern of 50 mesh and a depth of 140 μm was obtained and similarly evaluated.

【0036】実施例4 実施例1において、エンボスロールの絹目形状の深さを
250μmに変更した以外は同様に行って、Ra=2.
4μmの梨地模様と40メッシュで深さ200μmの絹
目模様とが形成された水溶性エンボスフィルムを得て、
同様に評価を行った。
Example 4 The procedure of Example 1 was repeated, except that the depth of the embossing roll was changed to 250 μm, and Ra = 2.
To obtain a water-soluble embossed film in which a 4 μm satin pattern and a 200 μm deep silk pattern with 40 mesh were formed,
Evaluation was performed similarly.

【0037】比較例1 実施例1において、サンドブラストのノズル圧条件を調
整してエンボスロールの梨地形状をRa=0.1μmに
なるように変更した以外は同様に行って、Ra=0.0
8μmの梨地模様と40メッシュで深さ140μmの絹
目模様とが形成された水溶性エンボスフィルムを得て、
同様に評価を行った。
Comparative Example 1 The procedure of Example 1 was repeated except that the sandblasted nozzle pressure condition was adjusted to change the satin finish of the embossing roll so that Ra = 0.1 μm.
To obtain a water-soluble embossed film formed with a 8 μm satin pattern and a 140 μm deep silk pattern with 40 mesh,
Evaluation was performed similarly.

【0038】比較例2 実施例1において、サンドブラストのノズル圧条件を調
整してエンボスロールの梨地形状をRa=12μmにな
るように変更した以外は同様に行って、Ra=10μm
の梨地模様と40メッシュで深さ140μmの絹目模様
とが形成された水溶性エンボスフィルムを得て、同様に
評価を行った。
Comparative Example 2 The procedure of Example 1 was repeated except that the sandblasting nozzle pressure condition was adjusted to change the satin finish of the embossing roll so that Ra = 12 μm, and Ra = 10 μm.
A water-soluble embossed film on which a satin pattern and a 40-mesh silk pattern with a depth of 140 μm were formed was evaluated in the same manner.

【0039】比較例3 実施例1において、エンボスロールの絹目形状を120
メッシュに変更した以外は同様に行って、Ra=2.4
μmの梨地模様と120メッシュで深さ140μmの絹
目模様とが形成された水溶性エンボスフィルムを得て、
同様に評価を行った。
Comparative Example 3 In Example 1, the embossing roll was changed to a silk shape of 120.
The same operation was performed except that the mesh was changed to Ra = 2.4.
to obtain a water-soluble embossed film in which a matte pattern of 140 μm and a silk pattern of 140 μm in depth with 120 mesh were formed,
Evaluation was performed similarly.

【0040】比較例4 実施例1において、エンボスロールの絹目形状の深さを
55μmに変更した以外は同様に行って、Ra=2.4
μmの梨地模様と40メッシュで深さ44μmの絹目模
様とが形成された水溶性エンボスフィルムを得て、同様
に評価を行った。
Comparative Example 4 The procedure of Example 1 was repeated, except that the depth of the embossing roll was changed to 55 μm, and Ra = 2.4.
A water-soluble embossed film having a μm satin pattern and a 40-mesh silk pattern having a depth of 44 μm was obtained and similarly evaluated.

【0041】比較例5 実施例1において、エンボスロールの絹目形状の深さを
400μmに変更した以外は同様に行って、Ra=2.
4μmの梨地模様と40メッシュで深さ320μmの絹
目模様とが形成された水溶性エンボスフィルムを得て、
同様に評価を行った。実施例及び比較例の結果を表1に
示す。
Comparative Example 5 The procedure of Example 1 was repeated, except that the depth of the embossing roll was changed to 400 μm, and Ra = 2.
A water-soluble embossed film having a matte pattern of 4 μm and a silk pattern having a depth of 320 μm with 40 mesh was obtained.
Evaluation was performed similarly. Table 1 shows the results of Examples and Comparative Examples.

【0042】 〔表1〕 耐ブロッキング性 テカリ 高級品感 耐ピンホール性 A B 実施例1 ○ ○ ○ ○ ○ 〃 2 ○ ○ ○ ○ ○ 〃 3 ○ ○ ○ ○ ○ 〃 4 ○ ○ ○ ○ ○ 比較例1 × × × × ○ 〃 2 ○ ○ ○ ○ × 〃 3 × × × × ○ 〃 4 × × × × ○ 〃 5 ○ ○ ○ ○ × [0042] Table 1 Blocking resistance shine luxury feel pinhole resistance A B Example 1 ○ ○ ○ ○ ○ 〃 2 ○ ○ ○ ○ ○ 〃 3 ○ ○ ○ ○ ○ 〃 4 ○ ○ ○ ○ ○ Comparative Example 1 × × × × ○ 〃 2 ○ ○ ○ ○ × 〃 3 × × × × ○ 4 4 × × × × ○ 5 5 ○ ○ ○ ○ ×

【0043】[0043]

【発明の効果】本発明では、梨地模様をもつ凹凸形状が
刻印されたエンボスロールとバックアップロールの間に
水溶性フィルムを通過させてエンボス加工を行い、該フ
ィルム面に表面粗さ(Ra)が0.1〜8μmの梨地模
様と100メッシュ以下で深さが50〜300μmの凹
凸模様とを形成させるので、得られた水溶性エンボスフ
ィルムは、ロール状に巻いて保存したり、高温高湿下で
長期間放置したときにも耐ブロッキング性に優れ、テカ
リがなく、高級品感に優れ、耐ピンホール性に優れるも
ので、かかるフィルムは、農薬、薬剤、染料、洗剤、肥
料、化粧品、生理用品等の包材として有用で、特に各種
薬剤等のユニット包装用として非常に有用である。
According to the present invention, embossing is performed by passing a water-soluble film between an embossing roll having a pear-skin pattern and an embossed shape engraved thereon and a backup roll, so that the film has a surface roughness (Ra). Since a pear-skin pattern of 0.1 to 8 μm and a concavo-convex pattern having a depth of 50 to 300 μm with a mesh size of 100 mesh or less are formed, the obtained water-soluble embossed film can be stored in a roll or stored under high temperature and high humidity. It has excellent blocking resistance even when left for a long period of time, has no shine, has excellent luxury, and has excellent pinhole resistance. Such films are used for pesticides, drugs, dyes, detergents, fertilizers, cosmetics, and physiology. It is useful as a packaging material for articles and the like, and particularly very useful for unit packaging of various chemicals and the like.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 梨地模様をもつ凹凸形状が刻印されたエ
ンボスロールとバックアップロールの間に水溶性フィル
ムを通過させてエンボス加工を行い、該フィルム面に表
面粗さ(Ra)が0.1〜8μmの梨地模様と100メ
ッシュ以下で深さが50〜300μmの凹凸模様とを形
成させることを特徴とする水溶性エンボスフィルムの製
造方法。
An embossing process is carried out by passing a water-soluble film between an embossing roll and a backup roll on which a concavo-convex pattern having a satin finish is imprinted, and the surface of the film has a surface roughness (Ra) of 0.1 to 0.1. A method for producing a water-soluble embossed film, comprising forming a matte pattern of 8 μm and a concavo-convex pattern having a depth of 50 to 300 μm with 100 mesh or less.
【請求項2】 凹凸模様が絹目模様であることを特徴と
する請求項1記載の水溶性エンボスフィルムの製造方
法。
2. The method for producing a water-soluble embossed film according to claim 1, wherein the uneven pattern is a silk pattern.
【請求項3】 水溶性フィルムがポリビニルアルコール
系フィルムであることを特徴とする請求項1あるいは2
記載の水溶性エンボスフィルムの製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the water-soluble film is a polyvinyl alcohol film.
A method for producing the water-soluble embossed film according to the above.
【請求項4】 エンボスロールが表面粗さ(Ra)0.
3〜10μmの梨地模様と深さが100〜400μmの
凹凸形状をもつことを特徴とする請求項1〜3いずれか
記載の水溶性エンボスフィルムの製造方法。
4. An embossing roll having a surface roughness (Ra) of 0.
The method for producing a water-soluble embossed film according to any one of claims 1 to 3, wherein the water-soluble embossed film has a matte pattern of 3 to 10 µm and an uneven shape having a depth of 100 to 400 µm.
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