JP2002338517A - METHOD OF PRODUCTION FOR gem-DIFLUORO COMPOUND - Google Patents
METHOD OF PRODUCTION FOR gem-DIFLUORO COMPOUNDInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ニューロキニンア
ンタゴニスト等の医農薬中間体等として有用なgem−
ジフッ化物を、高選択比で製造する方法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a gem- useful as an intermediate for medical and agricultural chemicals such as neurokinin antagonists.
The present invention relates to a method for producing difluoride with a high selectivity.
【0002】[0002]
【従来の技術】ケト基(−C−CO−C−)を有する化
合物の該ケト基を、−C−CF2−C−に変換する反応
(以下、デオキソフルオリネーションともいう。)につ
いては、以下の報告がある。 2. Description of the Related Art A reaction for converting a keto group (--C--CO--C--) of a compound having the keto group into --C--CF 2 --C-- (hereinafter also referred to as deoxofluorination) is described. There are the following reports.
【0003】(1)4−t−ブチルシクロヘキサノン
を、フッ素化剤としてのアミノサルファートリフルオリ
ドと、数日間反応させて4−t−ブチル−1,1−ジフ
ルオロシクロヘキサンを得る方法であり、4−t−ブチ
ルシクロヘキサノンと4−t−ブチルシクロヘキセンの
総量に対して4−t−ブチルシクロヘキセンが4%以上
生成する方法。該方法においては、HFを触媒量添加す
ることにより反応時間が16時間に短縮することが記載
されている。また、フッ素化剤がN−メチル−N−フェ
ニルサルファートリフルオリドである場合は、ルイス酸
としてのBF3・O(CH2CH3)2の不存在下では、反
応時間が69時間であるのに対して、ルイス酸の存在下
では、反応時間が16時間であると記載される。しか
し、フッ素化剤がジエチルアミノサルファートリフルオ
リド(以下、DASTと記す。)である場合には、反応
時間が短縮されないと記載されている(特開平11−1
71858)。(1) A method of reacting 4-t-butylcyclohexanone with aminosulfur trifluoride as a fluorinating agent for several days to obtain 4-t-butyl-1,1-difluorocyclohexane. A method in which 4-t-butylcyclohexene is formed in an amount of 4% or more based on the total amount of t-butylcyclohexanone and 4-t-butylcyclohexene. In this method, it is described that the reaction time is reduced to 16 hours by adding a catalytic amount of HF. When the fluorinating agent is N-methyl-N-phenylsulfur trifluoride, the reaction time is 69 hours in the absence of BF 3 .O (CH 2 CH 3 ) 2 as a Lewis acid. On the other hand, in the presence of a Lewis acid, the reaction time is stated to be 16 hours. However, it is described that the reaction time is not shortened when the fluorinating agent is diethylaminosulfur trifluoride (hereinafter, referred to as DAST) (Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-1).
71858).
【0004】(2)ケト基を有する化合物を、触媒量の
HFの存在下でフッ素化剤としてのN,N−ビス(2−
メトキシエチル)アミノサルファートリフルオリドと室
温で16時間反応させて、収率81〜98%で該ケト基
をCF2に変換した化合物を得る方法。また、同フッ素
化剤を用いた4−t−ブチルシクロヘキサノンのデオキ
ソフルオリネーションでは、4−t−ブチルシクロヘキ
サノンと4−t−ブチルシクロヘキセンの総量に対して
4−t−ブチルシクロヘキセンが16%生成し、フッ素
化剤がDASTである場合には4−t−ブチルシクロヘ
キセンが33%も生成すると記載されている。また一部
の原料に対しては、室温では反応が進行しないことも記
載されている(J.Org.Chem.1999,6
4,7048−7054.)。(2) A compound having a keto group is reacted with N, N-bis (2-
Methoxyethyl) by amino trifluoride at room temperature for 16 hours, the method of obtaining a compound obtained by converting the keto group to CF 2 in 81-98% yield. In addition, in the deoxofluorination of 4-t-butylcyclohexanone using the same fluorinating agent, 4-t-butylcyclohexene is produced at 16% of the total amount of 4-t-butylcyclohexanone and 4-t-butylcyclohexene. However, it is described that when the fluorinating agent is DAST, 33% of 4-t-butylcyclohexene is formed. It is also described that the reaction does not proceed at room temperature for some raw materials (J. Org. Chem. 1999, 6).
4,7048-7054. ).
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】従来の方法では反応時
間が長すぎる問題がある。さらに、4−t−ブチルシク
ロヘキサノンのデオキソフルオリネーションにおいては
副生成物である4−t−ブチルシクロヘキセンが4%以
上存在し、反応時間を短くすると副生成物の割合が多く
なる問題が認められた。また、副生する4−t−ブチル
シクロヘキセン等のフルオロオレフィンはgem−ジフ
ッ化物と沸点が近く、蒸留法により分離するのが困難で
ある問題があった。また、他の分離方法においても、フ
ルオロオレフィン体を分離するのは困難であり、また分
離操作が煩雑であり経済性にも劣る問題があった。The conventional method has a problem that the reaction time is too long. Furthermore, in the deoxofluorination of 4-t-butylcyclohexanone, there is a problem that 4-t-butylcyclohexene as a by-product is present in an amount of 4% or more, and the proportion of the by-product increases when the reaction time is shortened. Was. Further, by-produced fluoroolefins such as 4-t-butylcyclohexene have a problem that they have a boiling point close to that of gem-difluoride and are difficult to separate by a distillation method. Also, in other separation methods, it is difficult to separate the fluoroolefin compound, and the separation operation is complicated and economical.
【0006】本発明は、上記課題を解決する方法であ
り、分離しにくいフルオロオレフィン体の生成を抑制し
ながら短時間でカルボニル基を有する化合物からgem
−ジフッ化物を製造する方法を提供する。[0006] The present invention is a method for solving the above-mentioned problem, and it is intended to reduce the amount of gems from a compound having a carbonyl group in a short time while suppressing the formation of a fluoroolefin compound which is difficult to separate.
-To provide a method for producing difluoride.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、下式
(1)で表される化合物とフッ素化剤とをルイス酸触媒
の存在下で反応させることにより、下式(2)で表され
る化合物を選択比98%以上で生成させることを特徴と
する下式(2)で表されるgem−ジフッ化物の製造方
法。ただし、選択比とは式(2)で表される化合物と下
式(3)で表される化合物の総質量に対する下式(2)
で表される化合物の質量の割合であり、下式中のR1、
R2、およびR3は、それぞれ独立に1価基を示す。また
R1、R2、およびR3から選ばれる2つの基は、共同で
2価有機基を形成し、残余の基は1価基であってもよ
い。That is, the present invention provides a compound represented by the following formula (2) by reacting a compound represented by the following formula (1) with a fluorinating agent in the presence of a Lewis acid catalyst. A method for producing a gem-difluoride represented by the following formula (2), wherein a compound having a selectivity of 98% or more is produced. Here, the selectivity refers to the following formula (2) based on the total mass of the compound represented by the formula (2) and the compound represented by the following formula (3).
Is the proportion of the mass of the compound represented by the formula: R 1 in the following formula,
R 2 and R 3 each independently represent a monovalent group. Two groups selected from R 1 , R 2 and R 3 may together form a divalent organic group, and the remaining groups may be monovalent groups.
【0008】[0008]
【化4】 Embedded image
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】以下において、式(1)で表され
る化合物を化合物(1)のように記す。他の化合物にお
いても同様である。また本明細書における圧力は絶対圧
で記載する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the following, a compound represented by the formula (1) is described as a compound (1). The same applies to other compounds. Further, the pressure in this specification is described in absolute pressure.
【0010】本明細書において、ハロゲン原子とは、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子をいう。有
機基とは、炭素原子を必須とする基をいう。1価基と
は、結合手が1つである基をいい、1価有機基であって
も、1価原子であってもよい。2価有機基としては、結
合手が2つである有機基をいう。In the present specification, a halogen atom refers to a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. An organic group refers to a group that requires a carbon atom. The monovalent group refers to a group having one bond, and may be a monovalent organic group or a monovalent atom. The divalent organic group refers to an organic group having two bonds.
【0011】R1、R2、およびR3がそれぞれ1価原子
である場合には、水素原子、フッ素原子が好ましい。R
1、R2、およびR3がそれぞれ1価有機基である場合、
これらの基は本発明における反応では変化しない1価基
から選択され、以下に挙げる基が好ましい。When R 1 , R 2 and R 3 are each a monovalent atom, a hydrogen atom and a fluorine atom are preferred. R
1, if R 2, and R 3 is a monovalent organic group, respectively,
These groups are selected from monovalent groups which are not changed by the reaction in the present invention, and the following groups are preferred.
【0012】すなわち、1価脂肪族飽和炭化水素基、1
価芳香族炭化水素基および/または1価複素環基で置換
された1価脂肪族飽和炭化水素基、1価芳香族炭化水素
基、ならびに1価複素環基から選ばれる基(r1)。該
選ばれる基(r1)の炭素−炭素結合間に、エーテル性
酸素原子、チオエーテル性硫黄原子、もしくは置換窒素
原子が挿入された基。該選ばれる基(r1)の結合末端
に、エーテル性酸素原子、チオエーテル性硫黄原子、も
しくは置換窒素原子が結合した基。1価芳香族炭化水素
基、1価芳香族炭化水素基および/または1価複素環基
で置換された1価脂肪族炭化水素基、ならびに1価複素
環基において、それぞれ、該基中の水素原子の1個以上
が置換基(r2)で置換された基。That is, a monovalent aliphatic saturated hydrocarbon group,
A group (r 1 ) selected from a monovalent aliphatic saturated hydrocarbon group substituted with a valent aromatic hydrocarbon group and / or a monovalent heterocyclic group, a monovalent aromatic hydrocarbon group, and a monovalent heterocyclic group. A group wherein an etheric oxygen atom, a thioetheric sulfur atom, or a substituted nitrogen atom is inserted between carbon-carbon bonds of the selected group (r 1 ). A group in which an etheric oxygen atom, a thioetheric sulfur atom, or a substituted nitrogen atom is bonded to the bonding terminal of the selected group (r 1 ). In a monovalent aromatic hydrocarbon group, a monovalent aliphatic hydrocarbon group substituted with a monovalent aromatic hydrocarbon group and / or a monovalent heterocyclic group, and a monovalent heterocyclic group, each of A group in which one or more atoms have been substituted with a substituent (r 2 ).
【0013】該置換基(r2)としては、アルキル基、
シクロアルキル基、1価芳香族炭化水素基が好ましい。
また、該置換基(r2)としては、フッ素原子、アルコ
キシル基、アルキル置換アミノ基、シクロアルキル置換
アミノ基、アリールオキシ基、アリール置換アミノ基、
−NO2、−CN、−COORa、−CONRbRc、−S
O2NRbRc、−S(O)Ra、−S(O)2Ra、および
−C(ORa)3から選ばれる基(以下、該選ばれる基を
まとめて置換基(r3)という。)も好ましい。As the substituent (r 2 ), an alkyl group,
Cycloalkyl groups and monovalent aromatic hydrocarbon groups are preferred.
The substituent (r 2 ) includes a fluorine atom, an alkoxyl group, an alkyl-substituted amino group, a cycloalkyl-substituted amino group, an aryloxy group, an aryl-substituted amino group,
-NO 2, -CN, -COOR a, -CONR b R c, -S
A group selected from O 2 NR b R c , —S (O) R a , —S (O) 2 R a , and —C (OR a ) 3 (hereinafter, the selected groups are collectively referred to as a substituent (r 3 ) is also preferred.
【0014】ここで、Ra、Rb、およびRcは、それぞ
れ独立に、炭素数1〜20のアルキル基(たとえば、メ
チル基、エチル基、2−プロピル基、tert−ブチル
基等)、炭素数3〜8のシクロアルキル基(シクロプロ
ピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、1
個以上のアリール基で置換されたアルキル基(たとえ
ば、ベンジル基、フェネチル基、トリチル基等)、1個
以上の1価複素環基で置換されたアルキル基(たとえ
ば、2−ピリジルメチル基など)、アリール基(たとえ
ば、フェニル基)、置換アリール基(たとえば、3−ク
ロロフェニル基、4−メチルフェニル基、2,3−ジメ
トキシフェニル基、2−ニトロフェニル基、4−アミノ
フェニル基等)、または炭素数1〜20のフルオロアル
キル基(たとえば、−CF3、−CF2CF3、−CH2C
F3等)等である。Here, R a , R b , and R c are each independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a 2-propyl group, a tert-butyl group, etc.); A cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms (such as a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, or a cyclohexyl group);
An alkyl group substituted with at least one aryl group (eg, benzyl group, phenethyl group, trityl group, etc.) and an alkyl group substituted with at least one monovalent heterocyclic group (eg, 2-pyridylmethyl group, etc.) An aryl group (eg, phenyl group), a substituted aryl group (eg, 3-chlorophenyl group, 4-methylphenyl group, 2,3-dimethoxyphenyl group, 2-nitrophenyl group, 4-aminophenyl group, etc.), or fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms (e.g., -CF 3, -CF 2 CF 3 , -CH 2 C
It is F 3, etc.) and the like.
【0015】R1、R2、およびR3が、それぞれ1価有
機基である場合は、アルキル基、シクロアルキル基、フ
ェニル基、アルキル置換フェニル基、アルキル置換1価
複素環基、およびベンジル基から選ばれる基、または該
選ばれる基中の水素原子の1個以上が前記置換基
(r3)で置換された基が好ましい。When R 1 , R 2 , and R 3 are each a monovalent organic group, an alkyl group, a cycloalkyl group, a phenyl group, an alkyl-substituted phenyl group, an alkyl-substituted monovalent heterocyclic group, and a benzyl group Or a group in which at least one hydrogen atom in the selected group is substituted with the substituent (r 3 ).
【0016】またR1、R2、およびR3から選ばれる2
つが共同で2価有機基を形成している(この場合、残り
1つの基は1価基であり、水素原子、フッ素原子、また
は1価有機基であるのが好ましい。)場合、2価飽和炭
化水素基、エーテル性酸素原子(−O−)含有2価飽和
炭化水素基、チオエーテル性硫黄原子(−S−)含有2
価飽和炭化水素基、および−NH−含有2価飽和炭化水
素基から選ばれる2価有機基、または該選ばれる2価有
機基中の炭素原子に結合した水素原子の1個以上が前記
置換基(r3)で置換された基が好ましい。ここで2価
有機基としては、アルキレン基または前記置換基
(r3)で置換されたアルキレン基が好ましく、−(C
H2)n−(ただし、nは1以上の整数である。)または
該基中の水素原子の1個が−COOR6で置換された基
が好ましい。−COOR6基を含む化合物、特に下記化
合物(1a)は、フルオロオレフィンの生成を顕著に抑
制し、また、反応時間の時間も短時間でよい利点があ
り、これはエステル部分がルイス酸と相互に作用するこ
とによると考えられる。Further, 2 selected from R 1 , R 2 and R 3
When one and the other form a divalent organic group (in this case, the remaining one group is a monovalent group, and is preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, or a monovalent organic group). Hydrocarbon group, etheric oxygen atom (-O-)-containing divalent saturated hydrocarbon group, thioetheric sulfur atom (-S-)-containing 2
A divalent organic group selected from a valent saturated hydrocarbon group and a -NH-containing divalent saturated hydrocarbon group, or one or more hydrogen atoms bonded to carbon atoms in the selected divalent organic group are the substituents A group substituted with (r 3 ) is preferred. Examples of the divalent organic group, an alkylene group is preferably substituted by an alkylene group or a substituent (r 3), - (C
H 2 ) n — (where n is an integer of 1 or more) or a group in which one of the hydrogen atoms in the group is substituted with —COOR 6 . A compound containing a —COOR 6 group, in particular, the following compound (1a) has the advantage that the formation of fluoroolefin is remarkably suppressed and the reaction time is short. It is thought to be due to acting on.
【0017】本発明における化合物(1)としては、R
1が水素原子であり、R2とR3とが共同で、−COOR6
で置換されたテトラメチレン基を形成した場合の化合物
(1a)が好ましい。また、本発明の目的化合物である
gem−ジフッ化物(2)としては、該化合物(1a)
に対応する下記化合物(2a)が好ましく、化合物
(3)としては化合物(3a)が好ましい。In the present invention, the compound (1) includes R
1 is a hydrogen atom, and R 2 and R 3 are taken together to form -COOR 6
The compound (1a) in which a tetramethylene group substituted with is formed is preferred. The gem-difluoride (2), which is the target compound of the present invention, includes the compound (1a)
The following compound (2a) corresponding to is preferred, and compound (3a) is preferred as compound (3).
【0018】[0018]
【化5】 Embedded image
【0019】ここで、R6は、Raと同様の基であり、炭
素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアル
キル基、1個以上のアリール基で置換されたアルキル
基、1個以上の1価複素環基で置換されたアルキル基、
アリール基、置換アリール基、または炭素数1〜20の
フルオロアルキル基を示し、炭素数1〜20のアルキル
基、または炭素数3〜8のシクロアルキル基が好まし
く、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチ
ル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、置換フェニル基
が特に好ましい。R 6がメチルまたはエチルである化合
物(1a)は公知の化合物であり、市販品として、また
は公知の製造方法により入手できる化合物である。他の
化合物(1a)は公知の化合物から誘導できる。Here, R6Is RaIs the same group as
An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl having 3 to 8 carbon atoms
Alkyl group substituted with a kill group or one or more aryl groups
A group, an alkyl group substituted with one or more monovalent heterocyclic groups,
An aryl group, a substituted aryl group, or a group having 1 to 20 carbon atoms
A fluoroalkyl group, an alkyl having 1 to 20 carbon atoms
Or a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms is preferred.
Methyl, ethyl, phenyl, benzyl,
Propyl group, isopropyl group, butyl group, tert-butyl
Group, hexyl group, cyclohexyl group, substituted phenyl group
Is particularly preferred. R 6Is methyl or ethyl
The product (1a) is a known compound, and is commercially available or
Is a compound obtainable by a known production method. other
Compound (1a) can be derived from a known compound.
【0020】本発明おける原料は化合物(1)である。
該化合物(1)の入手方法としては特に限定されず、公
知の化合物、または公知の方法により製造される化合物
であるのが好ましい。The starting material in the present invention is the compound (1).
The method for obtaining the compound (1) is not particularly limited, and is preferably a known compound or a compound produced by a known method.
【0021】本発明においては、上記のケトン基を有す
る化合物(1)をルイス酸触媒の存在下でフッ素化剤と
反応させる。In the present invention, the compound (1) having a ketone group is reacted with a fluorinating agent in the presence of a Lewis acid catalyst.
【0022】ルイス酸としては、つぎの例が挙げられ
る。ただし、Xはハロゲン原子を示し、Xが2個以上で
ある場合のXは、同一のハロゲン原子であっても異なる
ハロゲン原子であってもよく、またXの一部はアルキル
基になっていてもよい。Xがアルキル基である場合に
は、炭素数が1〜9のアルキル基であるのが好ましい。The following examples are given as Lewis acids. However, X represents a halogen atom, and when X is 2 or more, X may be the same halogen atom or different halogen atoms, and part of X is an alkyl group. Is also good. When X is an alkyl group, it is preferably an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms.
【0023】ハロゲン化アルカリ金属(たとえば、Ma
Xで表される化合物。ただし、Maはアルカリ金属原子
を示す。)、ハロゲン化アルカリ土類金属(たとえば、
MbX2で表される化合物。ただし、Mbはアルカリ土類
金属原子を示す。)、ハロゲン化遷移金属(たとえば、
McXjで表される化合物。ただし、Mcはj価遷移金属
原子を示し、jは2〜6の整数を示す。遷移金属原子と
は、21番元素から30番元素、39番元素から48番
元素、57番元素〜80番元素、および89番元素以上
の元素をいう。)、ハロゲン化シラン(たとえば、Si
X4で表される化合物。)、ハロゲン化ゲルマニウム、
ハロゲン化ホウ素(たとえば、BX3で表される化合
物。)、ハロゲン化アルミニウム(たとえば、AlX3
で表される化合物。)。Alkali metal halides (eg, M a
A compound represented by X. However, M a represents an alkali metal atom. ), Alkaline earth metal halides (e.g.,
A compound represented by M b X 2 . Here, Mb represents an alkaline earth metal atom. ), Transition metal halides (e.g.,
A compound represented by M c X j . Here, Mc represents a j-valent transition metal atom, and j represents an integer of 2 to 6. Transition metal atoms refer to elements from element 21 to element 30, element 39 to element 48, element 57 to element 80, and element 89 or more. ), Halogenated silanes (eg, Si
A compound represented by X 4. ), Germanium halide,
Boron halide (for example, a compound represented by BX 3 ), aluminum halide (for example, AlX 3
A compound represented by the formula: ).
【0024】ハロゲン化ガリウム、ハロゲン化インジウ
ム、ハロゲン化タリウム、ハロゲン化スズ(たとえば、
MdXkで表される化合物。ただし、Mdはk価スズ原子
を示し、kは2〜4の整数を示す。)、ハロゲン化鉛
(たとえば、MeXpで表される化合物。ただし、Meは
p価鉛原子を示し、pは2〜6の整数を示す。)、ハロ
ゲン化ビスマス(たとえば、MfXqで表される化合物。
ただし、Mfはq価ビスマス原子を示し、qは2〜6の
整数を示す。)、ハロゲン化アンチモン、ハロゲン化テ
ルリウム、ハロゲン化セレン、およびハロゲン化ゲルマ
ニウムから選ばれる1種以上であるのが好ましい。Gallium halide, indium halide, thallium halide, tin halide (for example,
A compound represented by M d X k . Here, Md represents a k-valent tin atom, and k represents an integer of 2 to 4. ), Lead halide (e.g., a compound represented by M e X p. However, M e represents a p Atainamari atoms, p is an integer of 2-6.), Halogenated bismuth (e.g., M f a compound represented by X q.
Here, M f represents a q-valent bismuth atom, and q represents an integer of 2 to 6. ), Antimony halide, tellurium halide, selenium halide, and germanium halide.
【0025】ルイス酸としては、トリハロゲン化3価ア
ンチモン、ペンタハロゲン化5価アンチモン、トリハロ
ゲン化3価アルミニウム、トリハロゲン化3価クロム、
ジハロゲン化2価カルシウム、トリハロゲン化3価ホウ
素、ジハロゲン化2価マグネシウム、ジハロゲン化2価
ベリリウム、またはトリハロゲン化3価ルビジウムから
選ばれる1種以上であるのが特に好ましく、トリハロゲ
ン化3価アンチモン、ペンタハロゲン化5価アンチモン
がとりわけ好ましく、さらに3塩化アンチモンまたは5
塩化アンチモンが好ましい。As the Lewis acid, trivalent antimony trihalide, pentavalent antimony pentahalide, trivalent aluminum trihalide, trivalent chromium trihalide,
It is particularly preferably at least one selected from divalent calcium dihalide, trivalent boron trihalide, divalent magnesium dihalide, divalent beryllium dihalide or trivalent rubidium trihalide, and trivalent trihalide. Antimony and pentavalent antimony pentahalide are particularly preferred.
Antimony chloride is preferred.
【0026】ルイス酸の量は、フッ素化剤に対して0.
01〜10.0倍モル量が好ましく、0.1〜2.0倍
モル量が特に好ましい。The amount of the Lewis acid is 0.1 to the fluorinating agent.
The molar amount is preferably from 01 to 10.0 times, and particularly preferably from 0.1 to 2.0 times.
【0027】フッ素化剤としては、カルボニル基をフッ
素化しうる公知のフッ素化剤から選択するのが好まし
く、下記化合物(4)、下記化合物(5)、下記化合物
(6)、下記化合物(7)、下記化合物(8)、下記化
合物(9)、IF3、IF5、またはIF7等が挙げら
れ、化合物(4)、IF3、IF5、またはIF7である
のが好ましく、作業上の安全性に優れ、取り扱いが容易
かつ、入手も容易である化合物(4)が特に好ましい。The fluorinating agent is preferably selected from known fluorinating agents capable of fluorinating a carbonyl group. The following compounds (4), (5), (6) and (7) , The following compound (8), the following compound (9), IF 3 , IF 5 , or IF 7, and the like, and the compound (4), IF 3 , IF 5 , or IF 7 is preferable. Compound (4) which is excellent in safety, easy to handle and easily available is particularly preferred.
【0028】[0028]
【化6】 Embedded image
【0029】ただし、R7〜R20はそれぞれ独立に、炭
素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアル
キル基、1以上のアリール基で置換されたアルキル基、
1以上の複素環基で置換されたアルキル基、アリール
基、置換アリール基、または炭素数1〜20のフルオロ
アルキル基を示す。Wherein R 7 to R 20 are each independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, an alkyl group substituted with at least one aryl group,
An alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, or a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms substituted with one or more heterocyclic groups.
【0030】化合物(4)としては、DAST、N,N
−ビス(2−メトキシエチル)アミノサルファートリフ
ルオリド、N,N−ビス(フェニル)アミノサルファー
トリフルオリド、N,N−ビス(4−メチルフェニル)
アミノサルファートリフルオリド、N,N−ビス(4−
メトキシフェニル)アミノサルファートリフルオリド、
N−2−メトキシエチル−N−フェニルアミノサルファ
ートリフルオリド、N−メチル−N−フェニルアミノサ
ルファートリフルオリドが特に好ましい。フッ素化剤に
化合物(4)を用いる場合には、化合物(4)の1種の
みを用いるのが好ましい。As the compound (4), DAST, N, N
-Bis (2-methoxyethyl) aminosulfur trifluoride, N, N-bis (phenyl) aminosulfur trifluoride, N, N-bis (4-methylphenyl)
Aminosulfur trifluoride, N, N-bis (4-
Methoxyphenyl) aminosulfur trifluoride,
N-2-methoxyethyl-N-phenylaminosulfur trifluoride and N-methyl-N-phenylaminosulfur trifluoride are particularly preferred. When compound (4) is used as the fluorinating agent, it is preferable to use only one of compound (4).
【0031】化合物(5)としては、ジエチルモノ(2
−クロロ−1,1,2−トリフルオロエチル)アミンが
好ましい。化合物(6)としては、ジエチルモノ(1,
1,2,2−テトラフルオロエチル)アミンが好まし
い。化合物(5)または化合物(6)をフッ素化剤とし
て用いる場合には、それぞれの化合物の2種以上を用い
てもよい。As the compound (5), diethyl mono (2
-Chloro-1,1,2-trifluoroethyl) amine is preferred. As the compound (6), diethyl mono (1,
1,2,2-tetrafluoroethyl) amine is preferred. When compound (5) or compound (6) is used as the fluorinating agent, two or more of each compound may be used.
【0032】化合物(7)としては、ジエチルモノ
(1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロプロピル)
アミンが好ましい。化合物(8)としては、ジエチル
(ヘキサフルオロ−1−プロペニル)アミンが好まし
い。化合物(7)と化合物(8)を用いる場合には、R
13とR15、および、R14とR16がそれぞれ同一である両
化合物の1:1(モル比)の混合物を用いるのが好まし
い。化合物(9)としては、テトラ(n−ブチル)アン
モニウムフルオリドが好ましい。As the compound (7), diethyl mono (1,1,2,3,3,3-hexafluoropropyl)
Amines are preferred. As the compound (8), diethyl (hexafluoro-1-propenyl) amine is preferable. When compound (7) and compound (8) are used, R
It is preferred to use a 1: 1 (molar ratio) mixture of both compounds wherein 13 and R 15 and R 14 and R 16 are identical. As the compound (9), tetra (n-butyl) ammonium fluoride is preferable.
【0033】また、フッ素化剤の量は、化合物(1)に
対して、0.1〜100倍モル量が好ましく、0.2〜
10倍モル量が特に好ましい。The amount of the fluorinating agent is preferably 0.1 to 100 times the molar amount of the compound (1),
A 10-fold molar amount is particularly preferred.
【0034】化合物(1)をルイス酸触媒の存在下にフ
ッ素化剤と反応させる際には、溶媒を存在させてもよ
い。溶媒としては、本発明の反応において不活性な溶媒
の1種以上を用いるのが好ましい。溶媒の例としては、
トルエン、キシレン、ベンゼン、シクロヘキサン、n−
ヘキサン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、ジクロ
ロエタン、四塩化炭素、クロロホルム等のハロゲン化炭
化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、メチル−tert−ブチルエーテル、エチレング
リコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等のニトリ
ル系溶媒、その他、ジメチルスルホキシド、水等が挙げ
られる。このうち溶媒としては、トルエン、キシレン、
ベンゼン、ジクロロメタン、シクロヘキサン、n−ヘキ
サン等の炭化水素系溶媒が好ましい。When reacting compound (1) with a fluorinating agent in the presence of a Lewis acid catalyst, a solvent may be present. As the solvent, it is preferable to use one or more solvents inert in the reaction of the present invention. Examples of solvents include
Toluene, xylene, benzene, cyclohexane, n-
Hydrocarbon solvents such as hexane, halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane, dichloroethane, carbon tetrachloride and chloroform; ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-tert-butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane And nitrile solvents such as acetonitrile, dimethyl sulfoxide, water and the like. Among these, toluene, xylene,
Hydrocarbon solvents such as benzene, dichloromethane, cyclohexane and n-hexane are preferred.
【0035】溶媒を用いる場合の量は、後処理の容易さ
等の理由から、化合物(1)の1gに対して0.5〜2
00mlが好ましく、特には1〜50mlが好ましい。The amount of the solvent used is 0.5 to 2 per gram of the compound (1) for reasons such as ease of post-treatment.
00 ml is preferable, and particularly preferably 1 to 50 ml.
【0036】反応温度は溶媒の凝固点以上沸点未満が好
ましく、−78℃〜+100℃が特に好ましい。反応圧
力は大気圧〜10kPa(ゲージ圧)が好ましく、大気
圧〜0.3kPa(ゲージ圧)が特に好ましい。反応時
間は通常は0.1〜12時間が好ましく、0.5〜8時
間が特に好ましい。通常は、反応時間が長くなると選択
比が向上する傾向があるが、本発明方法においては、反
応時間が短くても選択比が向上し、副生しうるモノフル
オロ体である化合物(3)よりもジフルオロ体である目
的物(2)が優先的に生成する。なお、化合物(3)に
は、E体とZ体が存在しうるが、本発明における化合物
(3)の概念には、E体のみ、Z体のみ、およびE体と
Z体の混合物の全てが含まれる。The reaction temperature is preferably from the freezing point of the solvent to less than the boiling point, and particularly preferably from -78 ° C to + 100 ° C. The reaction pressure is preferably from atmospheric pressure to 10 kPa (gauge pressure), particularly preferably from atmospheric pressure to 0.3 kPa (gauge pressure). The reaction time is usually preferably from 0.1 to 12 hours, particularly preferably from 0.5 to 8 hours. In general, the selectivity tends to increase as the reaction time becomes longer. However, in the method of the present invention, the selectivity is improved even when the reaction time is short, and the compound (3), which is a by-product monofluoro compound, can be obtained. The target product (2), which is also a difluoro compound, is preferentially generated. The compound (3) may have an E-form and a Z-form, but the concept of the compound (3) in the present invention includes all of the E-form only, the Z-form only, and the mixture of the E-form and the Z-form. Is included.
【0037】本発明方法においては、化合物(2)を選
択比98%以上で生成させる。選択比とは、化合物
(2)と化合物(3)の総質量に対する化合物(2)の
質量の割合であり、該選択比は99%以上が好ましく、
特に実質的に100%(すなわち、選択比が実質的に1
00%であるとは、生成物中に化合物(3)が実質的に
生成しないことを意味する。)であるのが好ましい。該
選択比は、生成物をガスクロマトグラフィー等で分析す
ることにより求められる値である。In the method of the present invention, compound (2) is formed with a selectivity of 98% or more. The selectivity is the ratio of the mass of the compound (2) to the total mass of the compound (2) and the compound (3), and the selectivity is preferably 99% or more,
In particular, substantially 100% (ie a selectivity of substantially 1%)
00% means that the compound (3) is not substantially formed in the product. ) Is preferred. The selectivity is a value determined by analyzing the product by gas chromatography or the like.
【0038】本発明方法において、生成物中の化合物
(3)の量を減少させうることは、精製工程の手間を省
略できるだけでなく、精製工程における目的化合物
(2)のロスを防ぎうることから、化合物(2)の収量
が多くなる利点がある。また化合物(2)と化合物
(3)は、蒸留分離しにくい化合物であることから、高
い純度で化合物(2)が得られる。In the method of the present invention, the fact that the amount of the compound (3) in the product can be reduced means that not only the labor of the purification step can be omitted, but also the loss of the target compound (2) in the purification step can be prevented. This has the advantage of increasing the yield of compound (2). Further, the compound (2) and the compound (3) are compounds that are difficult to separate by distillation, so that the compound (2) can be obtained with high purity.
【0039】化合物(2)を含む反応生成物において
は、必要に応じて通常の後処理操作を行ってもよい。得
られた化合物(2)は、そのまま用いてもよく、また目
的に応じた誘導体化を行ってもよい。たとえば、化合物
(2a)においては、加水分解によりエステル部分をカ
ルボン酸に変換することにより、下記化合物(2b)を
高純度で得られる。The reaction product containing the compound (2) may be subjected to a usual post-treatment if necessary. The obtained compound (2) may be used as it is, or may be derivatized according to the purpose. For example, in the compound (2a), the following compound (2b) can be obtained with high purity by converting the ester moiety into a carboxylic acid by hydrolysis.
【0040】[0040]
【化7】 Embedded image
【0041】[0041]
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されない。 [例1]N,N−ビス(2−メトキシエチル)アミノサ
ルファートリフルオリド(39g、0.176mol)
をジクロロメタン(100ml)中に加えて0℃まで冷
却した。これにルイス酸として3塩化アンチモン(4.
42g、0.019mol)を加えて、大気圧条件下で
2時間撹拌を行った。つぎに4−オキソシクロヘキサン
カルボン酸エチル(20g、0.118mol)を滴下
した。滴下終了後室温(25℃)まで昇温し、さらに4
時間撹拌した。この溶液を炭酸水素ナトリウム懸濁水溶
液(50g、200ml)に加えることにより反応を停
止させた。生成物をガスクロマトグラフィーにより分析
した結果、4−フルオロ−3−シクロヘキセンカルボン
酸エチルの生成は認められなかった。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. [Example 1] N, N-bis (2-methoxyethyl) aminosulfur trifluoride (39 g, 0.176 mol)
Was added to dichloromethane (100 ml) and cooled to 0 ° C. Antimony trichloride (4.
42 g, 0.019 mol), and the mixture was stirred for 2 hours under atmospheric pressure. Next, ethyl 4-oxocyclohexanecarboxylate (20 g, 0.118 mol) was added dropwise. After the completion of the dropwise addition, the temperature was raised to room temperature (25 ° C.).
Stirred for hours. The reaction was stopped by adding this solution to an aqueous sodium hydrogen carbonate suspension (50 g, 200 ml). As a result of analyzing the product by gas chromatography, formation of ethyl 4-fluoro-3-cyclohexenecarboxylate was not recognized.
【0042】該水溶液にジクロロメタンを加えて抽出を
行った。つぎにジクロロメタン層を飽和食塩水で洗い、
ジクロロメタン層を硫酸マグネシウムで乾燥させた。つ
ぎにジクロロメタン層を濃縮し、減圧下で蒸留すること
により、4,4−ジフルオロシクロヘキサンカルボン酸
エチルを収率52.7%(12.4g)で得た。Extraction was performed by adding dichloromethane to the aqueous solution. Next, the dichloromethane layer was washed with saturated saline,
The dichloromethane layer was dried with magnesium sulfate. Next, the dichloromethane layer was concentrated and distilled under reduced pressure to obtain ethyl 4,4-difluorocyclohexanecarboxylate in a yield of 52.7% (12.4 g).
【0043】[0043]
【発明の効果】本発明の方法によれば、分離しにくいフ
ルオロオレフィン体の生成を抑制しながらカルボニル基
を有する化合物からgem−ジフッ化物を製造できる。
本発明の方法は、特別な操作が不要であり、生成物を分
離する手間が省略でき短時間で反応を終了させうること
から、経済的に有利な方法であり、かつ、工業的製造方
法としても採用できる効率のよい方法である。According to the method of the present invention, gem-difluoride can be produced from a compound having a carbonyl group while suppressing formation of a fluoroolefin compound which is difficult to separate.
The method of the present invention is economically advantageous because it does not require any special operation, and can end the reaction in a short time without the need for separating the product, and as an industrial production method. Is an efficient method that can be adopted.
フロントページの続き Fターム(参考) 4H006 AA02 AC30 BA13 BA37 BA67 BE90 BJ20 BM20 BM71 BS20 4H039 CA50 CD40 Continued on the front page F term (reference) 4H006 AA02 AC30 BA13 BA37 BA67 BE90 BJ20 BM20 BM71 BS20 4H039 CA50 CD40
Claims (7)
とをルイス酸触媒の存在下で反応させることにより、下
式(2)で表される化合物を選択比98%以上で生成さ
せることを特徴とする下式(2)で表されるgem−ジ
フッ化物の製造方法。ただし、選択比とは式(2)で表
される化合物と下式(3)で表される化合物の総質量に
対する下式(2)で表される化合物の質量の割合であ
り、式中のR1、R2、およびR3は、それぞれ独立に1
価基を示す。またR1、R2、およびR3から選ばれる2
つの基は、共同で2価有機基を形成し、残余の基は1価
基であってもよい。 【化1】 A compound represented by the following formula (2) is reacted with a fluorinating agent in the presence of a Lewis acid catalyst to give a compound represented by the following formula (2) at a selectivity of 98% or more: A method for producing gem-difluoride represented by the following formula (2): Here, the selectivity is a ratio of the mass of the compound represented by the following formula (2) to the total mass of the compound represented by the formula (2) and the compound represented by the following formula (3). R 1 , R 2 and R 3 are each independently 1
Represents a valence group. 2 selected from R 1 , R 2 and R 3
The two groups together form a divalent organic group, and the remaining groups may be monovalent groups. Embedded image
しない請求項1に記載の製造方法。2. The method according to claim 1, wherein the compound represented by the formula (3) is not substantially produced.
物、IF3、IF5、およびIF7から選ばれる1種以上
である請求項1または2に記載の製造方法。ただし、下
式中のR7およびR8は、それぞれ独立に1価基を示す。 【化2】 3. The method according to claim 1, wherein the fluorinating agent is at least one selected from the compounds represented by the following formula (4), IF 3 , IF 5 and IF 7 . However, R 7 and R 8 in the following formula each independently represent a monovalent group. Embedded image
ロゲン化アルカリ土類金属、ハロゲン化遷移金属、ハロ
ゲン化シラン、ハロゲン化ゲルマニウム、ハロゲン化ホ
ウ素、ハロゲン化アルミニウム、ハロゲン化ガリウム、
ハロゲン化インジウム、ハロゲン化タリウム、ハロゲン
化スズ、ハロゲン化鉛、ハロゲン化ビスマス、ハロゲン
化アンチモン、ハロゲン化テルリウム、およびハロゲン
化セレンから選ばれる1種以上である請求項1、2、ま
たは3に記載の製造方法。4. A Lewis acid comprising an alkali metal halide, an alkaline earth metal halide, a transition metal halide, a silane halide, a germanium halide, a boron halide, an aluminum halide, a gallium halide,
4. The method according to claim 1, which is at least one selected from indium halide, thallium halide, tin halide, lead halide, bismuth halide, antimony halide, tellurium halide, and selenium halide. Manufacturing method.
化アンチモンである請求項4に記載の製造方法。5. The method according to claim 4, wherein the Lewis acid is antimony trichloride or antimony pentachloride.
で表される化合物(R6は1価基を示す。)であり、式
(2)で表される化合物が下式(2a)で表される化合
物であり、式(3)で表される化合物が下式(3a)で
表される化合物である請求項1〜5のいずれかに記載の
製造方法。 【化3】 6. A compound represented by the formula (1):
Wherein R 6 represents a monovalent group, and the compound represented by the formula (2) is a compound represented by the following formula (2a), and represented by the formula (3) The production method according to any one of claims 1 to 5, wherein the compound is a compound represented by the following formula (3a). Embedded image
1〜6のいずれかに記載の製造方法。7. The method according to claim 1, wherein the reaction time is 0.1 to 12 hours.
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009102034A1 (en) * | 2008-02-15 | 2009-08-20 | Asahi Glass Co., Ltd. | Method for producing fluoro-compound |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11171858A (en) * | 1997-09-29 | 1999-06-29 | Air Prod And Chem Inc | Fluorination using aminosulfur trifluoride |
WO2002060853A1 (en) * | 2001-01-31 | 2002-08-08 | Asahi Glass Company, Limited | Process for producing fluorine compound |
-
2001
- 2001-05-18 JP JP2001149392A patent/JP2002338517A/en not_active Withdrawn
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11171858A (en) * | 1997-09-29 | 1999-06-29 | Air Prod And Chem Inc | Fluorination using aminosulfur trifluoride |
WO2002060853A1 (en) * | 2001-01-31 | 2002-08-08 | Asahi Glass Company, Limited | Process for producing fluorine compound |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009102034A1 (en) * | 2008-02-15 | 2009-08-20 | Asahi Glass Co., Ltd. | Method for producing fluoro-compound |
JP2009191031A (en) * | 2008-02-15 | 2009-08-27 | Hokkaido Univ | Method for producing fluoro compound |
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