JP2002336687A - Method for producing compound - Google Patents

Method for producing compound

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JP2002336687A
JP2002336687A JP2001143404A JP2001143404A JP2002336687A JP 2002336687 A JP2002336687 A JP 2002336687A JP 2001143404 A JP2001143404 A JP 2001143404A JP 2001143404 A JP2001143404 A JP 2001143404A JP 2002336687 A JP2002336687 A JP 2002336687A
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勝則 福田
Takayuki Isogai
隆行 磯貝
Katsuya Ando
勝也 安藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an industrially very economical production method in which a drier is made unnecessary or energy used for drying can be diminished as a method for producing a compound in which a slurry is formed under pressure and/or under heating. SOLUTION: The method for producing a compound has (A) a reaction step in which reaction is carried out in a reactor under a higher pressure than atmospheric pressure and a temperature equal to or higher than the boiling point of a used reaction medium under atmospheric pressure to form the compound, (B) a separation step in which a specific quantity or more of the reaction medium is separated from the resulting slurry containing the compound and the reaction medium in a separator under a higher pressure than atmospheric pressure and a temperature equal to or higher than the boiling point of the reaction medium under atmospheric pressure to obtain a cake in which the weight ratio of a liquid sticking to the cake to the solid component is <=50% and (C) a drying step in which the obtained cake is transferred to a compound recovery zone kept under a lower pressure than the pressure in the separator and a lower temperature than the temperature in the separator and the liquid sticking to the cake is evaporated by internal energy released by the transfer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は化合物の製造方法に
関する。さらに詳しくは、加圧及び加熱下に反応して得
られた化合物の製造方法において、内部エネルギーを利
用して反応媒体及び又は洗浄液等の付着物を化合物から
除去する工程を含む化合物の製造方法に関する。
The present invention relates to a method for producing a compound. More specifically, the present invention relates to a method for producing a compound obtained by reacting under pressure and heat, comprising a step of removing adhering substances such as a reaction medium and / or a washing solution from the compound using internal energy. .

【0002】[0002]

【従来の技術】所望する固体粒子製品が、反応母液との
混合物であるスラリーとして得られるケースは、化学プ
ロセスにおいて散見される。一般的には該スラリーが分
離および乾燥の単位操作を経ることで、固体粒子製品が
得られる。これまでに上記単位操作を改良し、プロセス
を向上させる試みが数多くなされてきた。例えば乾燥操
作について、特開昭52−59177号には圧搾空気移
送型乾燥機を使用し、熱ガスもしくは熱空気を使用した
外部加熱による乾燥の例が示されている。また、特公昭
58−11418号や特開昭55−164650号には
加熱管内でスラリーの液を蒸発させ、固体と気体を得る
という例が示されている。ただし、これらは独立した乾
燥操作を実施するという前提のもと、新たに熱を与える
ことでケーキを乾燥させるため、乾燥に相応のエネルギ
ーを使用することが必要であった。
BACKGROUND OF THE INVENTION The case where the desired solid particle product is obtained as a slurry which is a mixture with a reaction mother liquor is found in chemical processes. Generally, a solid particle product is obtained by subjecting the slurry to a unit operation of separation and drying. There have been many attempts to improve the above unit operation and process. For example, with respect to the drying operation, Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-59177 discloses an example in which a compressed air transfer dryer is used, and drying is performed by external heating using hot gas or hot air. JP-B-58-11418 and JP-A-55-164650 disclose examples in which a slurry liquid is evaporated in a heating tube to obtain a solid and a gas. However, in these methods, it is necessary to use energy corresponding to drying in order to dry the cake by newly applying heat on the premise that the drying operation is performed independently.

【0003】一方、固液分離の前処理としてスラリー状
態を保ちつつ温度を低下させて晶析を実施することは一
般的である。例えば、英国特許1152575号には、
溶媒を蒸発させて冷却を生じさせテレフタル酸を沈殿さ
せる例が示されている。ただし、蒸発そのものはスラリ
ー濃度を若干上げるにすぎず、温度を下げる以外にプロ
セスへの効果は見られない。また、特開平11−335
32号にはテレフタル酸を洗浄液でリスラリーしてフラ
ッシュさせる例が示されている。粉体を加圧状態より抜
き出すことは困難であるので、リスラリー化して抜き出
す方法は一般に知られているが、エネルギーを損失して
いる負の部分については着目されてこなかった。従って
上記2件の例に示されるような、スラリーの温度を下げ
てエネルギーを散逸させ乾燥で再加熱するプロセスは、
エネルギーが有効に利用されているとは言い難い。
On the other hand, it is common practice to carry out crystallization by lowering the temperature while maintaining a slurry state as a pretreatment for solid-liquid separation. For example, in British Patent No. 1152575,
An example is shown in which the solvent is evaporated to cause cooling and to precipitate terephthalic acid. However, evaporation itself only slightly increases the slurry concentration, and has no effect on the process other than lowering the temperature. Also, JP-A-11-335
No. 32 discloses an example in which terephthalic acid is reslurried and flushed with a cleaning liquid. Since it is difficult to extract the powder from the pressurized state, a method of extracting the powder by reslurrying is generally known, but attention has not been paid to the negative part where energy is lost. Thus, the process of lowering the temperature of the slurry, dissipating energy and reheating by drying, as shown in the two examples above,
It is hard to say that energy is being used effectively.

【0004】また、特開平1−299618号、米国特
許5698734号、WO91/09661では、加圧
状態でのケーキ分離が例示されているが、分離前スラリ
ーの熱エネルギー保持がケーキ乾燥に有効であることに
ついては何ら言及していない。また、特表平60−50
6461号には加圧下でテレフタル酸と水のスラリーを
分離してケーキ中に残留する水分をフラッシュ蒸発させ
る例が記載されている。しかし、水の蒸発潜熱は高いた
め、ケーキに付着している液の一部分しか蒸発させるこ
とが出来ず、化合物を取り出すためには通常の乾燥工程
を経ることが必要である。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-299618, US Pat. No. 5,698,734, and WO 91/09661 exemplify cake separation under a pressurized state. However, retention of thermal energy of a slurry before separation is effective for cake drying. Nothing is said about it. In addition, Japanese Patent Translation
No. 6461 describes an example in which a slurry of terephthalic acid and water is separated under pressure and the water remaining in the cake is flash evaporated. However, since the latent heat of evaporation of water is high, only a part of the liquid adhering to the cake can be evaporated, and it is necessary to go through a normal drying step to remove the compound.

【0005】[0005]

【発明の解決しようとする課題】本発明の目的は、反応
後のスラリーが持つ内部エネルギーを利用し、乾燥工程
におけるエネルギー使用を削減すること、特に好ましく
はスラリーの持つ内部エネルギーのみからケーキを乾燥
させることで、使用エネルギーを大幅に削減することと
分離/乾燥工程を一体化して簡略なプロセスを構築する
ことにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to utilize the internal energy of the slurry after the reaction to reduce the energy consumption in the drying step, and it is particularly preferable to dry the cake only from the internal energy of the slurry. In this case, the energy used is greatly reduced, and the separation / drying step is integrated to construct a simple process.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の製造工程を採
用することにより、加圧及び加熱下に反応を行って得ら
れた反応物の持つ内部エネルギーが、ケーキ付着液の大
半を蒸発させる能力を有することを見いだし、本発明を
完成するに至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, they have obtained a reaction under pressure and heating by employing a specific manufacturing process. The inventors have found that the internal energy of the reactants has the ability to evaporate most of the cake adhering liquid, and have completed the present invention.

【0007】すなわち本発明の要旨は、少なくとも以下
の工程を有する化合物の製造方法に存する。 (A)反応器中で、大気圧より高い圧力下であり、且
つ、反応媒体の大気圧における沸点以上で反応を行っ
て、化合物を生成する反応工程、(B)分離装置中で、
大気圧より高い圧力且つ反応媒体の大気圧における沸点
以上の温度にて化合物と反応媒体を含むスラリーから一
定量以上の反応媒体を分離してケーキ付着液の固形分に
対する重量比が50%以下のケーキを得る分離工程、及
び(C)得られたケーキを分離装置中の圧力より低い圧
力且つ分離装置中の温度より低い温度の化合物回収帯域
へ移動させ、その移動によって開放された内部エネルギ
ーによりケーキ付着液を蒸発せしめる乾燥工程。
That is, the gist of the present invention resides in a method for producing a compound having at least the following steps. (A) a reaction step of performing a reaction in a reactor at a pressure higher than the atmospheric pressure and at a temperature equal to or higher than the boiling point of the reaction medium at the atmospheric pressure to produce a compound;
At a pressure higher than the atmospheric pressure and a temperature higher than the boiling point of the reaction medium at the atmospheric pressure, a certain amount or more of the reaction medium is separated from the slurry containing the compound and the reaction medium, and the weight ratio of the cake adhering liquid to the solid content is 50% or less. A separation step of obtaining a cake, and (C) transferring the obtained cake to a compound recovery zone at a pressure lower than the pressure in the separation device and lower than the temperature in the separation device, and the internal energy released by the movement moves the cake. A drying step for evaporating the adhering liquid.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。図1は、本発明の具体的方法を説明するための概
念図である。反応器1にライン11より原料及び反応媒
体が供給される。反応器中で一定の条件下で反応が行わ
れる。反応後の反応物は液1相、気液2相、固液2相、
気液固3相であっても良く、特に固液2相、気液固3相
となっているものをスラリーと呼ぶ。本発明の製造方法
においては、分離工程において固液分離を行うため、少
なくとも分離装置に移されるまでにはスラリーとなって
いることが必要である。目的の化合物は固体として、好
ましくは結晶として得られ、少なくとも固体の化合物と
反応媒体含むスラリーが得られる。なお、目的の化合物
は一部反応媒体中に溶解していても良い。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. FIG. 1 is a conceptual diagram for explaining a specific method of the present invention. Raw materials and a reaction medium are supplied to the reactor 1 from a line 11. The reaction is carried out under certain conditions in the reactor. The reaction product after the reaction is one liquid phase, two gas-liquid phases, two solid-liquid phases,
A gas-liquid-solid three-phase may be used, and particularly a solid-liquid two-phase and a gas-liquid-solid three-phase are called a slurry. In the production method of the present invention, in order to perform solid-liquid separation in the separation step, it is necessary that the slurry be formed at least before being transferred to the separation device. The target compound is obtained as a solid, preferably as a crystal, and a slurry containing at least the solid compound and the reaction medium is obtained. Note that the target compound may be partially dissolved in the reaction medium.

【0009】反応物はライン12を経て必要に応じて中
間処理槽2へ移され、必要応じて晶析、溶解、その他の
中間処理が行わる。中間処理の行われた反応物はライン
13を経由して分離装置3へ移される。反応物の中間処
理を行わない場合には、反応器1から直接分離装置へ反
応物が移される。
The reactants are transferred via line 12 to intermediate treatment tank 2 as necessary, where crystallization, dissolution, and other intermediate treatments are performed as necessary. The reactant having undergone the intermediate treatment is transferred to the separation device 3 via the line 13. If no intermediate treatment of the reactants is performed, the reactants are transferred directly from the reactor 1 to the separation device.

【0010】分離装置3においては、スラリー中の固体
と液体が分離され、ケーキ付着液の固形分に対する重量
比が50%以下、好ましくは30%以下、更に好ましく
は20%以下、特に好ましくは15%以下のケーキが作
製される(以下、本明細書においては、ケーキ付着液
(W1)の固形分(W2)に対する重量比(W1/W
2)をケーキ付着液の含液率又は含有率と称する)。分
離装置内では、必要に応じて洗浄液を用いてケーキが洗
浄される。分離装置3において作製されたケーキは、チ
ャンバー4、バルブ5を通り粉体槽6(化合物回収帯
域)に移され、目的の化合物が固体として得られる。
In the separation device 3, the solid and the liquid in the slurry are separated, and the weight ratio of the cake adhering liquid to the solid content is 50% or less, preferably 30% or less, more preferably 20% or less, particularly preferably 15% or less. % Of the cake (hereinafter, in this specification, the weight ratio (W1 / W) of the cake adhering liquid (W1) to the solid content (W2).
2) is referred to as the liquid content or content of the cake adhering liquid). In the separation device, the cake is washed with a washing liquid as needed. The cake produced in the separation device 3 is transferred to the powder tank 6 (compound recovery zone) through the chamber 4 and the valve 5, and the target compound is obtained as a solid.

【0011】次に、本発明の製造方法における反応工程
(A)、分離工程(B)、乾燥工程(C)及び必要に応
じて付加される中間処理工程(D)の各工程について説
明する。
Next, the respective steps of the reaction step (A), the separation step (B), the drying step (C), and the intermediate treatment step (D) which is added if necessary, in the production method of the present invention will be described.

【0012】(A)反応工程 本発明の製造方法において、化合物を生成する反応は、
大気圧より高い圧力、且つ反応媒体の大気圧における沸
点以上の温度で行われる。反応器1には、ライン11か
ら原料が供給される。ライン11はフィード条件に合わ
せ単数であっても複数であっても良い。原料は気、液、
固、スラリーのいずれでも良く、かつ単相でも混合相で
も良い。さらに組成は純物質でも混合物でも良いが、通
常は反応基質に反応媒体、必要に応じて触媒や添加物が
加えられる。それらの組成は反応の種類に応じて任意に
決められる。温度も任意に決められるが、通常は反応基
質及び反応媒体の分解しない範囲である。また、温度に
応じて原料の相状態を意図的に変えることもある。例え
ば、温度を上げてスラリーを完全溶解相にしたり液相を
液ガス混合相にする例が挙げられる。
(A) Reaction Step In the production method of the present invention, the reaction for producing a compound is as follows:
The reaction is carried out at a pressure higher than the atmospheric pressure and at a temperature equal to or higher than the boiling point of the reaction medium at the atmospheric pressure. Raw materials are supplied to the reactor 1 from a line 11. The line 11 may be singular or plural according to the feed condition. Raw materials are gas, liquid,
It may be either solid or slurry, and may be a single phase or a mixed phase. Further, the composition may be a pure substance or a mixture, but usually a reaction medium, a catalyst and additives as needed are added to the reaction substrate. Their composition is arbitrarily determined according to the type of reaction. The temperature is also arbitrarily determined, but is usually within a range where the reaction substrate and the reaction medium are not decomposed. Further, the phase state of the raw material may be intentionally changed according to the temperature. For example, there is an example in which the temperature is raised to make the slurry into a completely dissolved phase or the liquid phase to be a liquid-gas mixed phase.

【0013】本発明に用いられる反応形態としては、酸
化反応、還元反応、置換反応、付加反応、脱離反応等、
いずれでもよい。又、発熱反応、吸熱反応のいずれでも
よいよいが、内部エネルギーを有効に利用する観点から
発熱反応が好ましい。また、反応容器において生成され
た化合物は、液体であってもよいが、好ましくは固体、
さらに好ましくは結晶として得られる。また、反応は回
分で行ってもよく、連続で行っても良い。
The reaction forms used in the present invention include oxidation reaction, reduction reaction, substitution reaction, addition reaction, elimination reaction and the like.
Either may be used. Further, any of an exothermic reaction and an endothermic reaction may be used, but an exothermic reaction is preferable from the viewpoint of effectively utilizing internal energy. Further, the compound produced in the reaction vessel may be a liquid, but is preferably a solid,
More preferably, it is obtained as a crystal. The reaction may be carried out batchwise or continuously.

【0014】本発明に用いられる反応媒体は、反応工程
中で液体または気液2相となるものであり、反応基質ま
たは反応後の目的化合物に化学的な変化をきたさないも
のが用いられる。また、反応媒体の大気圧における蒸発
潜熱(以下、本発明において蒸発潜熱を定義するときは
大気圧におけるものである)は、300kcal/kg
以下が好ましく、200kcal/kg以下が更に好ま
しく、150kcal/kg以下が特に好ましい。ま
た、蒸発潜熱の下限は特に規定されないが、通常50k
cal/kg以上であり、好ましくは70kcal/k
g以上である。
The reaction medium used in the present invention is a liquid or gas-liquid two-phase during the reaction step, and does not cause a chemical change in the reaction substrate or the target compound after the reaction. The latent heat of vaporization of the reaction medium at atmospheric pressure (hereinafter, the latent heat of vaporization is defined as atmospheric latent heat in the present invention) is 300 kcal / kg.
The following is preferable, 200 kcal / kg or less is more preferable, and 150 kcal / kg or less is particularly preferable. Although the lower limit of the latent heat of evaporation is not particularly defined, it is usually 50 kPa.
cal / kg or more, preferably 70 kcal / k
g or more.

【0015】また、反応媒体の大気圧における沸点は好
ましくは40℃以上200℃以下、さらに好ましくは5
0℃以上180℃以下、特に好ましくは60℃以上15
0℃以下である。反応媒体の大気圧下における沸点が上
記範囲より著しく低い場合には、各工程での反応媒体の
取り扱い及び回収が困難になる傾向にあり、著しく高い
場合には、分離工程において化合物回収帯域に目的化合
物を移動させた際に反応媒体の残留量が増加する傾向に
ある。
The boiling point of the reaction medium at atmospheric pressure is preferably 40 ° C. or more and 200 ° C. or less, more preferably 5 ° C. or less.
0 ° C to 180 ° C, particularly preferably 60 ° C to 15 ° C
0 ° C. or less. When the boiling point of the reaction medium at atmospheric pressure is significantly lower than the above range, the handling and recovery of the reaction medium in each step tends to be difficult. When the compound is moved, the residual amount of the reaction medium tends to increase.

【0016】反応器1では原料の供給を受け、対象とす
る反応基質を3割以上、好ましくは5割以上、さらに好
ましくは7割以上、例えば8割以上、化学的に変化させ
る。反応混合物は液1相、気/液2相、気/液/固3相
の様々なケースが挙げられる。反応条件は、反応速度や
副反応、反応媒体に対する溶解度等の様々な因子を勘案
して決められるが、温度は通常50℃以上350℃以下、好
ましくは100℃以上300℃以下、さらに好ましくは130℃
以上250℃以下、特に好ましくは150℃以上230℃以下の
範囲であり、且つ、反応媒体の大気圧における沸点以上
の温度で実施される。また、圧力は大気圧を越え20MPa
以下、好ましくは0.2MPa以上10MPa以下、さらに好まし
くは0.5MPa以上5MPa以下、特に好ましくは1MPa以上3MPa
以下の範囲で実施される。反応温度及び圧力が上記範囲
より著しく小さい場合には、本発明の製造工程中に得ら
れるケーキの有する内部エネルギーが小さく、化合物回
収帯域へケーキを移動させる際のケーキ付着液の蒸発が
十分ではない。また、反応温度及び圧力が上記範囲より
著しく大きい場合には、複反応が起きたり化合物の分解
が生じやすく、収率が低下する傾向にある。
In the reactor 1, the raw material is supplied, and the target reaction substrate is chemically changed to 30% or more, preferably 50% or more, more preferably 70% or more, for example, 80% or more. The reaction mixture can be in various cases of liquid 1 phase, gas / liquid 2 phase, gas / liquid / solid 3 phase. The reaction conditions are determined in consideration of various factors such as the reaction rate and side reactions, solubility in the reaction medium, and the like, and the temperature is usually 50 ° C or higher and 350 ° C or lower, preferably 100 ° C or higher and 300 ° C or lower, more preferably 130 ° C or lower. ° C
The reaction is carried out at a temperature of not less than 250 ° C., particularly preferably not less than 150 ° C. and not more than 230 ° C., and not less than the boiling point at the atmospheric pressure of the reaction medium. The pressure exceeds atmospheric pressure and is 20MPa
Or less, preferably 0.2 MPa or more and 10 MPa or less, more preferably 0.5 MPa or more and 5 MPa or less, particularly preferably 1 MPa or more and 3 MPa.
It is implemented in the following range. If the reaction temperature and pressure are significantly lower than the above ranges, the internal energy of the cake obtained during the production process of the present invention is small, and the evaporation of the cake adhering liquid when transferring the cake to the compound recovery zone is not sufficient. . On the other hand, when the reaction temperature and pressure are significantly higher than the above ranges, a double reaction is likely to occur or the compound is easily decomposed, and the yield tends to decrease.

【0017】本発明の製造方法において反応工程中、触
媒を用いてもよく、触媒は不均一触媒であっても均一触
媒であってもよい。反応器の温度コントロールは加熱も
しくは除熱によって実施する。これは、給液の温度や吸
熱及び発熱といった反応の種類等によって決まる。加熱
はジャケットやコイルによって行い、除熱はさらに蒸発
による操作も可能である。
In the production method of the present invention, a catalyst may be used during the reaction step, and the catalyst may be a heterogeneous catalyst or a homogeneous catalyst. The temperature of the reactor is controlled by heating or removing heat. This depends on the temperature of the liquid supply and the type of reaction such as endothermic and exothermic. Heating is performed by a jacket or a coil, and heat removal can be further performed by evaporation.

【0018】反応工程において、反応条件が途中で変化
する場合(反応器が複数ある場合も含む)があってもよ
く、その場合は本発明の反応工程の反応条件としての規
定(大気圧より高い圧力且つ反応媒体の大気圧における
沸点以上の温度)は、分離工程と時間的に最も近い反応
条件を指す。従って、本発明の製造方法は、反応工程に
おいて、大気圧以下の圧力又は反応媒体の大気圧におけ
る沸点以下の温度で反応を行い、反応終了後に加圧及び
/又は加熱を行って分離装置に到達した時点で大気圧よ
り高い圧力且つ反応媒体の大気圧における沸点以上の温
度がもたらされる製造方法とは区別される。なお、反応
器から必要に応じて用いられる中間処理槽を経て分離装
置までの工程は、圧力を大気圧以上、且つ温度を反応媒
体の沸点以上に維持する条件を満たすのであれば、希釈
や加熱等の追加の単位操作が入ってもかまわない。
In the reaction step, the reaction conditions may change on the way (including the case where there are a plurality of reactors). In such a case, the reaction conditions of the reaction step of the present invention are regulated (higher than atmospheric pressure). Pressure and temperature above the boiling point of the reaction medium at atmospheric pressure) refers to the reaction conditions closest in time to the separation step. Therefore, in the production method of the present invention, in the reaction step, the reaction is performed at a pressure lower than the atmospheric pressure or a temperature lower than the boiling point at the atmospheric pressure of the reaction medium, and after the reaction is completed, pressure and / or heating is performed to reach the separation device. A distinction is made between production processes in which a pressure above atmospheric pressure and a temperature above the boiling point of the reaction medium at atmospheric pressure is reached. In the process from the reactor to the separation device through the intermediate treatment tank used as needed, if the conditions for maintaining the pressure at or above atmospheric pressure and the temperature at or above the boiling point of the reaction medium are satisfied, dilution or heating may be performed. Additional unit operations such as may be entered.

【0019】(D)中間処理工程 中間処理工程は必須ではなく、また、中間処理槽は複数
設置することも可能である。中間処理工程としては例え
ば、冷却、加熱、昇圧、降圧、濃縮、希釈、沈殿、添加
等が挙げられ、典型的には晶析又は溶解が行われる。例
えば、化合物の回収率を高めたい場合には晶析が行わ
れ、化合物の純度を上げたいときには溶解が行われる。
これらの中間処理工程は、目的の化合物の種類や、製品
スペック等により適宜選択される。
(D) Intermediate treatment step The intermediate treatment step is not essential, and a plurality of intermediate treatment tanks can be provided. The intermediate treatment step includes, for example, cooling, heating, increasing pressure, decreasing pressure, concentrating, diluting, precipitating, adding, and the like. Typically, crystallization or dissolution is performed. For example, crystallization is performed to increase the recovery of the compound, and dissolution is performed to increase the purity of the compound.
These intermediate treatment steps are appropriately selected depending on the type of the target compound, product specifications, and the like.

【0020】なお、反応工程によって得られた反応物
が、過飽和の状態等、液1相、気液2相等の固体を含ま
ない状態の場合には、分離工程の前までに目的化合物を
固体化することが必須であり、好ましくは中間処理工程
において晶析が行われる。また、中間処理工程は、中間
処理槽のような容器を用いる必要はなく、反応工程から
分離工程へ移動するまでのライン中で行っても良い。
When the reaction product obtained in the reaction step does not contain a solid such as a liquid 1 phase or a gas-liquid 2 phase such as a supersaturated state, the target compound is solidified before the separation step. It is essential to carry out the crystallization in the intermediate treatment step. The intermediate treatment step does not need to use a container such as an intermediate treatment tank, and may be performed in a line from the reaction step to the separation step.

【0021】中間処理工程における操作の好ましい例と
して晶析を行う場合、晶析段数は4段以下、さらに好ま
しくは2段以下、特に好ましくは1段である。ライン1
2、中間処理槽2、ライン13のいずれの箇所において
も、反応物が反応媒体の大気圧における沸点以上の温度
を保っており、且つ大気圧より高い圧力を保っている。
その圧力範囲は好ましくは大気圧を越え20MPa以下、さ
らに好ましくは0.2MPa以上10MPa以下、特に好ましくは
0.3MPa以上5MPa以下である。その温度範囲は通常50℃
以上350℃以下、好ましくは100℃以上300℃以下、さら
に好ましくは130℃以上250℃以下である。
When crystallization is performed as a preferred example of the operation in the intermediate treatment step, the number of crystallization stages is four or less, more preferably two or less, and particularly preferably one. Line 1
2. At any point of the intermediate processing tank 2 and the line 13, the reactant maintains a temperature higher than the boiling point of the reaction medium at the atmospheric pressure and a pressure higher than the atmospheric pressure.
The pressure range is preferably above atmospheric pressure and 20 MPa or less, more preferably 0.2 MPa or more and 10 MPa or less, particularly preferably
It is 0.3 MPa or more and 5 MPa or less. The temperature range is usually 50 ° C
The temperature is not less than 350 ° C and preferably not less than 100 ° C and not more than 300 ° C, more preferably not less than 130 ° C and not more than 250 ° C.

【0022】反応媒体の大気圧における沸点(Bp1)
と、中間処理工程2の反応物の温度(TD)との差(T
D−Bp1)は、好ましくは5℃以上200℃以下の範
囲、さらに好ましくは10℃以上150℃以下の範囲、
特に好ましくは15℃以上100℃以下の範囲である。
上記の温度差を保つことによってライン12から抜き出
した反応物が持つ熱エネルギーの少なくとも一部はライ
ン13の反応物に残留させることが可能となる。なお、
前述の通り反応物は液1相、気液2相、固液2相、気液
固3相であっても良く、特に固液2相、気液固3相とな
っているものをスラリーと呼ぶが、本発明の製造工程
中、反応物はライン13を移動する時点では通常スラリ
ーとなっている。
The boiling point of the reaction medium at atmospheric pressure (Bp1)
And the difference (T) between the temperature (TD) of the reactant in the intermediate treatment step 2
D-Bp1) is preferably in the range of 5 ° C to 200 ° C, more preferably in the range of 10 ° C to 150 ° C,
Particularly preferably, the temperature is in the range of 15 ° C to 100 ° C.
By maintaining the above temperature difference, at least a part of the thermal energy of the reactant extracted from the line 12 can be left in the reactant in the line 13. In addition,
As described above, the reactant may be a liquid 1 phase, a gas-liquid 2 phase, a solid-liquid 2 phase, and a gas-liquid solid 3 phase. As will be appreciated, during the manufacturing process of the present invention, the reactants are usually slurries at the time they move through line 13.

【0023】(B)分離工程 スラリー状の反応物は、中間処理槽2からライン13を
経由するか、または反応器1から別のライン(図示せ
ず)を経由して分離装置3に移される。分離装置3は機
構に特に制限はなく、特表平7−507291に示され
るような遠心分離機、水平ベルトフィルター、ロータリ
ーバキュームフィルター等の一般に知られたものや、特
表平6−502653に示されたフィルターセルを使用
することもできる。特に、遠心分離機を使用する場合は
スクリーンボウルデカンターやソリッドボウルデカンタ
ーからの選択が可能である。
(B) Separation Step The slurry-like reactant is transferred from the intermediate treatment tank 2 via the line 13 or from the reactor 1 to the separation apparatus 3 via another line (not shown). . The mechanism of the separation device 3 is not particularly limited, and is generally known such as a centrifugal separator, a horizontal belt filter, a rotary vacuum filter and the like as shown in JP-A-7-507291, and as shown in JP-A-6-502653. Filter cells can also be used. In particular, when a centrifuge is used, a screen bowl decanter or a solid bowl decanter can be selected.

【0024】ライン13から分離装置3に入るスラリー
のもつ熱エネルギーが完全に散逸してしまわないため
に、分離装置3の圧力及び温度は調整される。分離装置
3の圧力が低いとスラリーがフラッシュを起こし温度が
低下する。従って、分離装置3の圧力は大気圧以上で、
所望に応じて反応器1または中間処理槽2の圧力より高
くてもよい。分離装置に移されたスラリーは、分離装置
内で固液分離が行われ、スラリー中の反応媒体の固形分
に対する含有率を50%以下、好ましくは30%以下ま
で低下させ、ケーキを得る。本発明の製造方法において
は、目的化合物は固体としてケーキの主成分をなし、こ
れに反応媒体あるいは、後述のようにケーキを洗浄する
場合には洗浄液(本明細書においては、ケーキ中に存在
する反応媒体と洗浄液とを併せてケーキ付着液と称す
る)の固形分に対する含有率が50%以下、好ましくは
30%以下の範囲で含まれる。
The pressure and temperature of the separator 3 are adjusted so that the thermal energy of the slurry entering the separator 3 from the line 13 is not completely dissipated. If the pressure of the separation device 3 is low, the slurry is flushed and the temperature is lowered. Therefore, the pressure of the separation device 3 is higher than the atmospheric pressure,
If desired, the pressure may be higher than the pressure in the reactor 1 or the intermediate processing tank 2. The slurry transferred to the separator is subjected to solid-liquid separation in the separator, and the content of the reaction medium in the slurry with respect to the solid content is reduced to 50% or less, preferably 30% or less, to obtain a cake. In the production method of the present invention, the target compound forms a main component of the cake as a solid, to which a reaction medium or a washing liquid is used to wash the cake as described below (in the present specification, the washing liquid is present in the cake. The reaction medium and the washing liquid are collectively referred to as a cake adhering liquid) in the range of 50% or less, preferably 30% or less, based on the solid content.

【0025】分離装置3中で得られた排出直前のケーキ
の温度(TB2)は、分離装置3より排出される直前の
ケーキ付着液の大気圧における沸点(Bp2)より高い
ことが好ましい。例えば、圧力の高い分離工程3にライ
ン13よりスラリーを移送する場合、分離工程3に入る
前でポンプ等により昇圧する事で移送可能となる。分離
工程3の圧力範囲は好ましくは0.11Mpa以上22MPa以下、
さらに好ましくは0.21MPa以上12MPa以下、特に好ましく
は0.31MPa以上7MPa以下である。排出直前のケーキ温度
の範囲は50℃以上350℃以下、好ましくは100℃以上300
℃以下、さらに好ましくは130℃以上250℃以下である。
分離工程3より排出される直前のケーキ付着液の大気圧
における沸点と、分離工程3より排出されるケーキの温
度差(TB2−Bp2)は、好ましくは5℃以上200
℃以下の範囲、さらに好ましくは10℃以上150℃以
下の範囲、特に好ましくは15℃以上100℃以下の範
囲である。
The temperature (TB2) of the cake immediately before discharge obtained in the separator 3 is preferably higher than the boiling point (Bp2) at atmospheric pressure of the cake adhering liquid immediately before discharge from the separator 3. For example, when transferring the slurry from the line 13 to the separation step 3 having a high pressure, the slurry can be transferred by increasing the pressure by a pump or the like before the separation step 3 is started. The pressure range of the separation step 3 is preferably from 0.11 MPa to 22 MPa,
More preferably, it is 0.21 MPa or more and 12 MPa or less, particularly preferably 0.31 MPa or more and 7 MPa or less. The range of the cake temperature immediately before discharge is 50 ° C or higher and 350 ° C or lower, preferably 100 ° C or higher and 300 ° C or lower.
° C or lower, more preferably 130 ° C or higher and 250 ° C or lower.
The difference between the boiling point of the cake adhering liquid immediately before being discharged from the separation step 3 at atmospheric pressure and the temperature difference (TB2-Bp2) of the cake discharged from the separation step 3 is preferably 5 ° C. or more and 200 ° C.
C. or lower, more preferably 10 to 150.degree. C., particularly preferably 15 to 100.degree.

【0026】また、分離装置3に洗浄機能を付加するこ
とも可能である。洗浄液の種類は特に限定されず、反応
媒体と全く異なる成分であっても逆に同一の成分であっ
ても構わない。また、洗浄におけるリスラリー化の有無
も特に限定されない。ここでも、分離ケーキの熱エネル
ギーが散逸しないために、洗浄液の量と温度が制御され
る。温度の低い洗浄液を用いる場合には、影響を抑える
ために洗浄液の量を少なくする。洗浄液の温度を上げ
て、ケーキからの除熱を抑制できれば洗浄液の量を増や
すことが可能となる。従って、洗浄液の具体的な温度
は、洗浄液の大気圧における沸点より高くTB1+10
0℃以下の範囲(ただし、TB1は未洗浄ケーキの温度
であり、これは通常洗浄前の分離装置中の温度にほぼ等
しい)、好ましくはTB1以上TB1+80℃以下の範
囲、さらに好ましくはTB1+5℃以上TB1+60℃
以下の範囲である。
It is also possible to add a washing function to the separation device 3. The type of the washing solution is not particularly limited, and may be a component completely different from the reaction medium or, conversely, the same component. Further, the presence or absence of reslurry in cleaning is not particularly limited. Again, the amount and temperature of the cleaning liquid is controlled so that the thermal energy of the separation cake is not dissipated. When a low-temperature cleaning solution is used, the amount of the cleaning solution is reduced to suppress the influence. If the temperature of the cleaning liquid can be increased to suppress heat removal from the cake, the amount of the cleaning liquid can be increased. Therefore, the specific temperature of the cleaning liquid is higher than the boiling point of the cleaning liquid at atmospheric pressure, and TB1 + 10
0 ° C. or less (where TB1 is the temperature of the unwashed cake, which is generally approximately equal to the temperature in the separator before washing), preferably in the range of TB1 or more and TB1 + 80 ° C. or less, more preferably TB1 + 5 ° C. or more TB1 + 60 ° C
The range is as follows.

【0027】また、具体的な洗浄液量は好ましくはケー
キ中の固形分に対する重量比で0.03以上5.0以下
であり、さらに好ましくは0.05以上4.0以下であ
り、特に好ましくは0.1以上3.0以下である。な
お、洗浄液の突沸を避けるために、洗浄液を導入する分
離装置内の圧力は洗浄液の蒸気圧以上とする。好ましく
は分離装置への供給スラリーの蒸気圧より分離装置内圧
力が0.01〜2.0MPa高く、さらに好ましくは
0.01〜1.0MPa高く、特に好ましくは0.02
〜0.5MPa高い範囲である。
The specific amount of the washing liquid is preferably 0.03 or more and 5.0 or less, more preferably 0.05 or more and 4.0 or less, particularly preferably 0.05 to 4.0 in terms of weight ratio to the solid content in the cake. It is 0.1 or more and 3.0 or less. In addition, in order to avoid bumping of the cleaning liquid, the pressure in the separation device for introducing the cleaning liquid is set to be higher than the vapor pressure of the cleaning liquid. Preferably, the pressure in the separator is higher than the vapor pressure of the slurry supplied to the separator by 0.01 to 2.0 MPa, more preferably 0.01 to 1.0 MPa, and particularly preferably 0.02 to 2.0 MPa.
0.50.5 MPa higher range.

【0028】洗浄液の種類は、分離装置中の圧力、温度
条件で液体で存在することを除けば、特に制限はされな
い。また、洗浄液の組成が反応媒体と全く異なっていて
も良いし、反応媒体の蒸発潜熱には何ら制限はない。洗
浄液の蒸発潜熱は、好ましくは300kcal/kg以
下、さらに好ましくは200kcal/kg以下、特に
好ましくは150kcal/kg以下である。また、蒸
発潜熱の下限は特に規定されず洗浄液として使用可能で
あれば出来る限り小さい方が良いが、通常50Kcal
/kg以上であり、好ましくは70kcal/kg以上
である。
The type of the washing liquid is not particularly limited, except that it is present as a liquid under the pressure and temperature conditions in the separation device. Further, the composition of the cleaning liquid may be completely different from that of the reaction medium, and there is no limitation on the latent heat of vaporization of the reaction medium. The latent heat of evaporation of the washing liquid is preferably 300 kcal / kg or less, more preferably 200 kcal / kg or less, and particularly preferably 150 kcal / kg or less. The lower limit of the latent heat of vaporization is not particularly limited, and it is better to be as small as possible as long as it can be used as a cleaning liquid.
/ Kg or more, preferably 70 kcal / kg or more.

【0029】また、洗浄液の大気圧下における沸点は好
ましくは40℃以上200℃以下、さらに好ましくは5
0℃以上180℃以下、特に好ましくは60℃以上15
0℃以下である。洗浄液の大気圧下における沸点が上記
範囲より著しく低い場合には、洗浄液の取り扱いが困難
になる傾向にあり、著しく高い場合には、分離工程にお
いて化合物回収帯域に目的化合物を移動させた際に洗浄
液の残留量が増加する傾向にある。なお分離され、必要
に応じて洗浄されたケーキの含液率(ケーキ中の付着液
の固形分に対する重量比)は50%以下であり、好まし
くは30%以下、さらに好ましくは20%以下、特に好
ましくは15%以下である。
The boiling point of the cleaning solution at atmospheric pressure is preferably 40 ° C. or more and 200 ° C. or less, more preferably 5 ° C. or less.
0 ° C to 180 ° C, particularly preferably 60 ° C to 15 ° C
0 ° C. or less. If the boiling point of the washing solution at atmospheric pressure is significantly lower than the above range, the handling of the washing solution tends to be difficult.If the boiling point is extremely high, the washing solution is transferred when the target compound is moved to the compound recovery zone in the separation step. Tends to increase. The liquid content (weight ratio to the solid content of the adhering liquid in the cake) of the cake separated and optionally washed is 50% or less, preferably 30% or less, more preferably 20% or less, particularly Preferably it is 15% or less.

【0030】(C)乾燥工程 本発明に用いられる乾燥装置の形式は、以下に述べる乾
燥工程の各操作が行えるものである限り特に制限はない
が、通常ディスチャージバルブ(以下、単にバルブと称
することがある)を備えた加圧乾燥装置が用いられる。
分離されたケーキはチャンバー4に保持され、必要に応
じて粉面を制御しながらバルブ5によって粉体槽(化合
物回収帯域)6へ抜き出す。チャンバー4と分離装置3
は実質的に同圧である。また、粉体槽6は分離装置3よ
りも低い圧力であり、好ましくは大気圧である。チャン
バー4の加圧下のケーキをバルブ5を通して大気圧に解
放することでケーキ付着液の沸点が下がり、沸点差によ
る顕熱でケーキ付着液が蒸発する。従って、本発明にお
いては顕熱として利用できる内部エネルギーを反応より
一貫して残留させていることが重要である。そのため
に、反応物、ケーキ、目的の化合物等は、反応工程
(A)、中間処理工程(D)、分離工程(B)、そして
乾燥工程(C)においてバルブ5を通過するまでの温度
及び圧力について、各工程が、各形に存在する液体の大
気圧における沸点以上の温度を保ち、且つ各工程が大気
圧より高い圧力を保っている。
(C) Drying Step The type of the drying apparatus used in the present invention is not particularly limited as long as each operation of the drying step described below can be performed, but it is usually a discharge valve (hereinafter simply referred to as a valve). Is used.
The separated cake is held in the chamber 4 and extracted to the powder tank (compound recovery zone) 6 by the valve 5 while controlling the powder surface as needed. Chamber 4 and separation device 3
Are substantially the same pressure. The pressure of the powder tank 6 is lower than that of the separation device 3, and is preferably atmospheric pressure. By releasing the pressurized cake in the chamber 4 to the atmospheric pressure through the valve 5, the boiling point of the cake adhering liquid is lowered, and the cake adhering liquid evaporates by sensible heat due to the boiling point difference. Therefore, in the present invention, it is important that the internal energy that can be used as sensible heat is left more consistently than the reaction. Therefore, the reaction product, cake, target compound, etc. are subjected to the temperature and pressure until passing through the valve 5 in the reaction step (A), the intermediate treatment step (D), the separation step (B), and the drying step (C). In each of the steps, each step maintains a temperature equal to or higher than the boiling point of the liquid present in each form at the atmospheric pressure, and each step maintains a pressure higher than the atmospheric pressure.

【0031】ケーキ抜き出し方法としてチャンバー4で
ためるケーキ量および抜き出し頻度に特に制限はなく、
ケーキがチャンバー4内に常時滞留していても間欠的に
空になっても良い。なお、粉体槽6に対してチャンバー
4の圧力が高い状態を維持しつつ常時バルブ5を開けて
おくこともできるが、ガスシール性が必須のため間欠的
な開閉が好ましい。チャンバー4内のケーキ量の測定は
間接、直接特に制約はない。一般的には、ケーキ面の位
置を検知するために、電気的な接触式検知器や光や音波
を利用した距離測定器が用いられる。
There are no particular restrictions on the amount of cake collected in the chamber 4 and the frequency of withdrawal as a method for extracting the cake.
The cake may always stay in the chamber 4 or may be emptied intermittently. The valve 5 can be kept open while the pressure of the chamber 4 is kept high relative to the powder tank 6, but intermittent opening and closing are preferable because gas sealing is essential. The measurement of the cake amount in the chamber 4 is indirect and direct without any particular limitation. Generally, in order to detect the position of the cake surface, an electric contact type detector or a distance measuring device using light or sound waves is used.

【0032】分離装置3から化合物回収帯域への抜き出
しバルブは単数及び複数が可能で、複数にして化合物回
収帯域に最も近いバルブ5の前に他のバルブを追加する
ことも可能である。バルブ5又は9の例として、ボール
バルブ、バタフライバルブ、ロータリーバルブ、フラッ
プダンパー、スライドダンパー、スピンドル式バルブ等
が挙げられる。バルブ5およびバルブ9で例示されるよ
うに2つのバルブで抜き出す場合、例えばバルブ5およ
びバルブ9を交互に開閉することで、中間室16にケー
キを間欠的に溜めてバルブ5より排出することも可能で
ある。また、所望に応じて中間室16を密閉し、適宜加
温、冷却、加圧、減圧、ガス置換を実施してバルブ5よ
りケーキを排出してもよい。連続的にケーキを排出する
態様においては、バルブ9の解放とバルブ5の解放のタ
イミングが重ならないように制御され、その解放時間は
好ましくは0.5秒〜20秒、さらに好ましくは1秒〜
15秒、特に好ましくは2秒〜10秒である。具体的に
は、熱交換器の仕様やガスの圧入、ガスパージ等が挙げ
られる。また、更にバルブを追加して直列に連結された
中間室の数を増やしてバルブの開閉タイミングをコント
ロールすることで、各バルブ前後の圧力差を低減するこ
とも可能である。
A single or a plurality of extraction valves can be provided from the separation device 3 to the compound recovery zone, and another valve can be added before the valve 5 closest to the compound recovery zone. Examples of the valve 5 or 9 include a ball valve, a butterfly valve, a rotary valve, a flap damper, a slide damper, a spindle valve, and the like. When extracting with two valves as exemplified by the valve 5 and the valve 9, for example, by alternately opening and closing the valve 5 and the valve 9, the cake may be intermittently accumulated in the intermediate chamber 16 and discharged from the valve 5. It is possible. Further, the cake may be discharged from the valve 5 by sealing the intermediate chamber 16 as required, appropriately performing heating, cooling, pressurizing, depressurizing, and gas replacement. In the mode of continuously discharging the cake, the release timing of the valve 9 and the release timing of the valve 5 are controlled so as not to overlap, and the release time is preferably 0.5 seconds to 20 seconds, more preferably 1 second to
It is 15 seconds, particularly preferably 2 seconds to 10 seconds. Specifically, the specifications of the heat exchanger, gas injection, gas purge, and the like can be given. Further, it is also possible to reduce the pressure difference before and after each valve by controlling the opening and closing timing of the valve by increasing the number of intermediate chambers connected in series by adding a valve.

【0033】これらバルブはシール部の形状によって特
徴づけられ、例えば面接触、線接触があり、線接触にも
形状が方形のものや円形のものがある。本発明の適用例
として、中間室を設けるようなバルブを複数使用する場
合は、シール部の形状に特に制限はない。ただし、単数
のバルブで分離装置から化合物回収帯域へ化合物を排出
する場合、好ましくはシール部が線接触で円形のものが
用いられる。具体的にはスピンドル式で弁体が略円錐型
のバルブが用いられる。線接触であれば摺動部が少なく
固体のかこみこみを抑制する効果がある。さらに円形の
シール部形状をもつスピンドル式の略円錐型弁体のバル
ブであれば、高速駆動が可能である。バルブが単数の場
合、乾燥工程において解放時間が長いと、分離工程及び
それ以前の工程の圧力も漏出するため、解放時間を適度
に制御することが好ましく、例えば解放と閉止を繰り返
す操作が挙げられる。その解放時間は好ましくは0.0
1〜1秒、さらに好ましくは0.02〜0.5秒、特に
好ましくは0.04〜0.2秒、最も好ましくは0.0
5〜0.15秒である。さらに本形式のバルブを備えた
加圧乾燥装置を図2に示す。
These valves are characterized by the shape of the seal portion. For example, there are surface contact and line contact, and the line contact also has a square or circular shape. As an application example of the present invention, when a plurality of valves having an intermediate chamber are used, the shape of the seal portion is not particularly limited. However, when the compound is discharged from the separation device to the compound recovery zone with a single valve, preferably, the seal portion has a line contact and is circular. Specifically, a spindle-type valve having a substantially conical valve body is used. If it is in line contact, there are few sliding parts and there is an effect of suppressing solid entrapment. Further, a spindle-type substantially conical valve body valve having a circular seal portion shape can be driven at high speed. In the case of a single valve, if the release time is long in the drying step, the pressure in the separation step and the previous step will also leak, so it is preferable to appropriately control the release time, for example, an operation of repeating release and closing . Its release time is preferably 0.0
1 to 1 second, more preferably 0.02 to 0.5 second, particularly preferably 0.04 to 0.2 second, and most preferably 0.02 to 0.2 second.
5 to 0.15 seconds. FIG. 2 shows a pressure drying apparatus provided with a valve of this type.

【0034】分離装置より排出されたケーキはチャンバ
ー4へと移送される。チャンバー4は図2の例示に従え
ば、略円錐型の弁体上に備えられたシール22によりシ
ュート7とは隔てられている。検知器21によりケーキ
量が適切な量までたまったら、オイルユニットにつなが
れたシリンダー24が駆動してバルブ5が下がり、シー
ル22に開部ができてケーキを排出する。排出されたケ
ーキはシュートを通り、粉体槽へと移送される。また、
シール23により、シュート7と外気が遮断されてい
る。チャンバー4やシュート7の内面には必要に応じて
付着防止の処理を施す。シール22は高温及び高応力、
摩擦に耐えうる材質と形状が選定される。
The cake discharged from the separation device is transferred to the chamber 4. According to the example of FIG. 2, the chamber 4 is separated from the chute 7 by a seal 22 provided on a substantially conical valve body. When the amount of the cake is accumulated to an appropriate amount by the detector 21, the cylinder 24 connected to the oil unit is driven to lower the valve 5, and the seal 22 is opened to discharge the cake. The discharged cake passes through a chute and is transferred to a powder tank. Also,
The seal 23 blocks the chute 7 from the outside air. The inner surfaces of the chamber 4 and the chute 7 are subjected to a treatment for preventing adhesion as required. The seal 22 has a high temperature and a high stress,
A material and shape that can withstand friction are selected.

【0035】また、チャンバーと粉体槽をバルブを用い
て完全に遮断する方法の他に、ディスチャージバルブの
代わりにスクリュウコンベヤーを用い、スクリュウコン
ベヤー内のケーキによりシールする方法もある。この場
合は、スクリュウコンベヤーにより、ケーキがチャンバ
ーから粉体槽へ移送される。化合物回収帯域へ移送され
たケーキから温度差によって蒸発することによりケーキ
付着液の一部又は全部が除去されるが、蒸発したケーキ
付着液による再汚染を防ぐために、乾燥ガスを化合物回
収帯域又は中間室16に導入することが好ましい。乾燥
ガスとしては、化合物及び付着液に対して不活性であ
り、付着液の組成で飽和していないものであればいずれ
も用いることができ、例えば窒素ガス、アルゴン、ネオ
ン等の希ガス等が用いられる。
In addition to the method of completely shutting off the chamber and the powder tank by using a valve, there is also a method of using a screw conveyor instead of the discharge valve and sealing with a cake in the screw conveyor. In this case, the cake is transferred from the chamber to the powder tank by the screw conveyor. Some or all of the cake adhering liquid is removed by evaporating from the cake transferred to the compound recovery zone due to a temperature difference.However, in order to prevent recontamination by the evaporated cake adhering liquid, dry gas is supplied to the compound recovery zone or the intermediate zone. Preferably, it is introduced into the chamber 16. As the drying gas, any inert gas can be used as long as it is inert to the compound and the adhesion liquid and is not saturated in the composition of the adhesion liquid. For example, a rare gas such as nitrogen gas, argon, or neon can be used. Used.

【0036】チャンバー4内のケーキは、粉体槽6へ移
動する際に、開放された内部エネルギーにより付着液が
蒸発し、ケーキの含液率が低下するが、好ましくは3%
以上、さらに好ましくは6%以上、特に好ましくは9%
以上低下する。ここで、ケーキの含液率が3%低下する
とは、ケーキの含液率が例えば15%から12%へ低下
することを意味する。また、ケーキの含液率を10%以
下、好ましくは5%以下、さらに好ましくは2%以下に
下げることができ、ケーキは好ましくは含液率の低い粉
体として粉体槽に貯められる。
When the cake in the chamber 4 moves to the powder tank 6, the adhered liquid evaporates due to the opened internal energy, and the liquid content of the cake is reduced.
Or more, more preferably 6% or more, particularly preferably 9%
Or more. Here, the decrease in the liquid content of the cake by 3% means that the liquid content of the cake decreases from 15% to 12%, for example. Further, the liquid content of the cake can be reduced to 10% or less, preferably 5% or less, more preferably 2% or less, and the cake is preferably stored in a powder tank as powder having a low liquid content.

【0037】ケーキ付着液は反応媒体、洗浄液、反応副
生成物、反応基質、その他の添加剤等、及びこれらの混
合物であるが、主として反応媒体または洗浄液あるいは
これらの混合物である。本発明で効果のあるのは大気圧
におけるケーキ付着液の蒸発潜熱が300kcal/k
g以下であり、特に好ましくは250kcal/kg以
下でありさらに好ましくは200kcal/kg以下、
例えば150kcal/kg以下である。ケーキ付着液
が混合物の場合は、この蒸発潜熱は混合物の平均値とし
て求められる。付着液は蒸発してガスとなり、蒸発ガス
はライン14より排出され、必要に応じて回収される。
The cake adhering liquid is a reaction medium, a washing liquid, a reaction by-product, a reaction substrate, other additives and the like, and a mixture thereof, and is mainly a reaction medium or a washing liquid or a mixture thereof. The effect of the present invention is that the latent heat of evaporation of the cake adhering liquid at atmospheric pressure is 300 kcal / k.
g, particularly preferably 250 kcal / kg or less, more preferably 200 kcal / kg or less,
For example, it is 150 kcal / kg or less. When the cake adhering liquid is a mixture, the latent heat of evaporation is determined as an average value of the mixture. The adhering liquid evaporates to a gas, and the evaporative gas is discharged from the line 14 and collected as needed.

【0038】粉体槽6に抜き出した目的の化合物はライ
ン15を通して回収される。含液率が製品として許容で
きる範囲を超えていれば乾燥機に通す必要が生じるが、
その場合には、加熱乾燥操作をすることなく、中間槽1
6又は粉体槽6へ乾燥ガスを導入して化合物を乾燥する
のが好ましい。
The target compound extracted into the powder tank 6 is recovered through the line 15. If the liquid content exceeds the acceptable range for the product, it will be necessary to pass through a dryer,
In that case, the intermediate tank 1 can be used without performing the heating and drying operation.
It is preferable to dry the compound by introducing a drying gas into the powder bath 6 or the powder tank 6.

【0039】分離装置内のケーキ温度と化合物回収帯域
に排出されたケーキの温度差は、好ましくは5℃〜25
0℃、さらに好ましくは10℃〜200℃、特に好まし
くは20℃〜170℃である。上記範囲より著しく小さ
い場合には乾燥が不十分となり、上記範囲より著しく大
きい場合には分離装置内のケーキの温度が高くなりすぎ
るので、化合物の分解が起こる可能性がある。また、分
離装置内の圧力と化合物回収帯域の圧力の差は好ましく
は0.01MPa〜22MPa、さらに好ましくは0.
11MPa〜12MPa、特に好ましくは0.21MP
a〜7MPaである。上記範囲より著しく小さい場合に
はケーキの排出が困難となり、上記範囲より著しく大き
い場合には排出が急激になり制御が困難となる。分離装
置より排出されるケーキの体積平均粒径は好ましくは4
0μm以上、さらに好ましくは50μm以上、特に好ま
しくは60μm以上である。上記範囲より著しく小さい
場合には脱液が悪くなる。上限は特にないが、通常は3
00μm以下である。
The difference between the temperature of the cake in the separator and the temperature of the cake discharged to the compound recovery zone is preferably 5 ° C. to 25 ° C.
0 ° C, more preferably 10 ° C to 200 ° C, particularly preferably 20 ° C to 170 ° C. If the temperature is significantly lower than the above range, the drying becomes insufficient, and if the temperature is significantly higher than the above range, the temperature of the cake in the separator becomes too high, so that the decomposition of the compound may occur. The difference between the pressure in the separator and the pressure in the compound recovery zone is preferably 0.01 MPa to 22 MPa, more preferably 0.1 MPa to 22 MPa.
11 MPa to 12 MPa, particularly preferably 0.21 MP
a to 7 MPa. If the amount is significantly smaller than the above range, it becomes difficult to discharge the cake, and if the amount is significantly larger than the above range, the discharge becomes abrupt and control becomes difficult. The volume average particle size of the cake discharged from the separation device is preferably 4
It is at least 0 μm, more preferably at least 50 μm, particularly preferably at least 60 μm. If it is significantly smaller than the above range, the liquid removal will be poor. There is no upper limit, but usually 3
It is not more than 00 μm.

【0040】なお、上述した反応工程(A)、中間処理
工程(D)、分離工程(B)における温度及び圧力の相
対関係について、各工程が、各形に存在する液体の大気
圧におけるに沸点以上の温度を保っており、且つ各工程
が大気圧より高い圧力を保っておいること以外に制限さ
れない。例えば、温度について反応工程の温度(以下T
A)>中間処理工程の温度(以下TD)>分離工程の温
度(以下TB)の場合、TA>TD<TBの場合、TA
<TD<TBの場合のいずれも本発明に適合する。ま
た、反応工程と分離工程の関係においても、TA<T
B、TA>TBのいずれでも良い。圧力についても全く
同様であり、反応工程中の圧力(以下PA)>中間処理
工程中の圧力(以下PD)>分離工程中の圧力(以下P
B)の場合、PA>PD<PBの場合、PA<PD<P
Bの場合、PA<PBの場合、PA>PBの場合のいず
れでも良い。さらに、温度と圧力の関係が必ずしも連動
している必要はなく、例えば中間処理工程で昇圧して冷
却器に通せば、温度はPA>PBとなるが、圧力はPA
<PBとなる。
The relative relationship between the temperature and the pressure in the above-mentioned reaction step (A), intermediate treatment step (D) and separation step (B) is as follows. The temperature is not limited except that the above temperature is maintained and each step is maintained at a pressure higher than the atmospheric pressure. For example, regarding the temperature, the temperature of the reaction step (hereinafter T
A)> Temperature of intermediate treatment step (hereinafter TD)> Temperature of separation step (hereinafter TB), TA> TD <TB, TA
Any case where <TD <TB is applicable to the present invention. Also, in the relationship between the reaction step and the separation step, TA <T
B, TA> TB. The same applies to the pressure, and the pressure during the reaction step (hereinafter PA)> the pressure during the intermediate treatment step (hereinafter PD)> the pressure during the separation step (hereinafter P)
In the case of B), PA> PD <PB, PA <PD <P
In the case of B, any of the cases of PA <PB and PA> PB may be used. Further, the relationship between the temperature and the pressure does not necessarily need to be linked. For example, if the pressure is increased in the intermediate treatment step and passed through a cooler, the temperature becomes PA> PB, but the pressure becomes PA> PB.
<PB.

【0041】次に、本発明の製造方法は、目的化合物と
して固体として回収されるものに適用される。本発明の
製造方法によって製造される化合物は、上述した各工程
において安定に存在し、少なくとも分離工程前までに少
なくとも一部が固体として存在するものであればよい
が、好ましくは、芳香族カルボン酸であり、さらに好ま
しくは芳香族ジカルボン酸であり、特に好ましくはテレ
フタル酸である。
Next, the production method of the present invention is applied to those which are recovered as solids as target compounds. The compound produced by the production method of the present invention may be any compound as long as it is stably present in each of the above-described steps and at least partially exists as a solid before at least the separation step. And more preferably an aromatic dicarboxylic acid, and particularly preferably terephthalic acid.

【0042】また、本発明の製造方法は固液分離の工程
が含まれ、目的物が固体で回収されることから、未反応
の原料はそれ自身が液体であるか、または、反応媒体及
び/又は洗浄液に対する溶解性が高いもののほうが、目
的化合物の純度を高めることが出来るので好ましい。
Since the production method of the present invention includes a solid-liquid separation step and the target substance is recovered as a solid, the unreacted raw material is itself a liquid or a reaction medium and / or Alternatively, a compound having higher solubility in a washing solution is preferable because the purity of the target compound can be increased.

【0043】本発明における好ましい実施態様として、
アルキルベンゼンの分子状酸素による液相酸化が挙げら
れる。該反応により芳香族モノカルボン酸、芳香族ジカ
ルボン酸、芳香族トリカルボン酸等の芳香族カルボン酸
及びその一部のアルキル基が酸化されたものが得られ
る。本発明の方法に従い、代表例としてテレフタル酸の
製造に適用して以下説明する。なお、原料となるアルキ
ルベンゼンとしてはパラキシレンが挙げられる。
In a preferred embodiment of the present invention,
Liquid phase oxidation of alkylbenzene with molecular oxygen. By this reaction, an aromatic carboxylic acid such as an aromatic monocarboxylic acid, an aromatic dicarboxylic acid, or an aromatic tricarboxylic acid, and a product obtained by oxidizing some of the alkyl groups thereof are obtained. According to the method of the present invention, a description will be given below as applied to the production of terephthalic acid as a representative example. In addition, paraxylene is mentioned as an alkylbenzene used as a raw material.

【0044】パラキシレンの液相酸化は通常、反応媒体
として酢酸を使用する。反応媒体の使用量は、通常、パ
ラキシレンに対して1〜10重量倍、好ましくは2〜8
重量倍、更に好ましくは3〜6重量倍である。また、酢
酸に加えて通常25重量%以下、好ましくは10重量%
以下の水を含有していてもよい。また、パラキシレンの
液相酸化反応においては、水が生成するが、溶媒に当初
から含まれる水と併せて、反応媒体中の水分濃度は、最
大で通常5〜25重量%、好ましくは7〜20重量%と
なるよう制御される。この水分濃度の調整は常法に従っ
て、反応器より揮発したガスを凝縮して得られる凝縮還
流液の一部を系外にパージすることにより行うことがで
きる。
Liquid phase oxidation of para-xylene usually uses acetic acid as the reaction medium. The amount of the reaction medium used is usually 1 to 10 times by weight, preferably 2 to 8 times the weight of para-xylene.
The weight ratio is more preferably 3 to 6 times by weight. Also, in addition to acetic acid, usually 25% by weight or less, preferably 10% by weight
The following water may be contained. Further, in the liquid phase oxidation reaction of para-xylene, water is generated, and the water concentration in the reaction medium, together with the water originally contained in the solvent, is usually at most 5 to 25% by weight, preferably 7 to 25% by weight. It is controlled to be 20% by weight. The adjustment of the water concentration can be carried out by purging a part of the condensed reflux liquid obtained by condensing the gas volatilized from the reactor out of the system according to a conventional method.

【0045】パラキシレンの酸化に用いられる分子状酸
素含有ガスとしては、空気、酸素希釈空気、酸素富化空
気などが用いられるが、設備面及びコスト面などからは
空気が望ましい。
As the molecular oxygen-containing gas used in the oxidation of para-xylene, air, oxygen-diluted air, oxygen-enriched air and the like are used, but air is desirable from the viewpoint of equipment and cost.

【0046】また、酸化反応における触媒は公知のもの
をいずれも用いることが出来るが典型的には主としてコ
バルト、マンガン及び臭素が用いられる。触媒成分の具
体的な化合物として、コバルト化合物は、酢酸コバル
ト、ナフテン酸コバルト、臭化コバルトなどが例示さ
れ、中でも酢酸コバルトが好ましい。マンガン化合物と
しては、酢酸マンガン、ナフテン酸マンガン、臭化マン
ガンなどが例示され、中でも酢酸マンガンが好ましい。
また、臭素化合物としては、臭化水素、臭化ナトリウ
ム、臭化コバルト、臭化マンガン、ブロモエタンなどが
例示され、中でも臭化水素が好ましい。これらの化合物
は併用してもかまわない。また、酢酸溶媒中にはそれ以
外の金属成分が存在していても構わない。例えばナトリ
ウム成分が1ppm以上100ppm以下存在すると、
さらにマンガン成分の沈殿を防止する役割を持ちまた得
られるテレフタル酸の透過率を向上させる効果を持つ。
As the catalyst in the oxidation reaction, any known catalyst can be used, but typically cobalt, manganese and bromine are mainly used. As a specific compound of the catalyst component, examples of the cobalt compound include cobalt acetate, cobalt naphthenate, and cobalt bromide, and among them, cobalt acetate is preferable. Examples of the manganese compound include manganese acetate, manganese naphthenate, and manganese bromide. Among them, manganese acetate is preferable.
Examples of the bromine compound include hydrogen bromide, sodium bromide, cobalt bromide, manganese bromide, and bromoethane, with hydrogen bromide being preferred. These compounds may be used in combination. Further, other metal components may be present in the acetic acid solvent. For example, when the sodium component is present at 1 ppm or more and 100 ppm or less,
Further, it has a role of preventing precipitation of a manganese component and has an effect of improving the transmittance of the obtained terephthalic acid.

【0047】触媒の使用量は、コバルト成分の使用量が
コバルト金属換算で溶媒に対し、100重量ppm以
上、2000重量ppm以下、好ましくは200重量p
pm以上、1000重量ppm以下である。マンガン成
分の使用量は1重量ppm以上1000重量ppm以
下、好ましくは5重量ppm以上、500重量ppm以
下である。臭素成分の使用量は400ppm以上200
0ppm以下である。また、反応促進のために共酸化剤
を併用することもできる。なお、反応媒体には4カルボ
キシベンズアルデヒド、パラトルイル酸、パラトルアル
デヒドといった反応中間体、および安息香酸のような不
純物が含まれる。
The amount of the catalyst used is such that the amount of the cobalt component used is 100 ppm by weight or more and 2000 ppm by weight or less, preferably 200 wt.
pm or more and 1000 ppm by weight or less. The use amount of the manganese component is 1 ppm by weight or more and 1000 ppm by weight or less, preferably 5 ppm by weight or more and 500 ppm by weight or less. The amount of bromine used is 400 ppm or more and 200
It is 0 ppm or less. Further, a co-oxidizing agent can be used in combination for promoting the reaction. The reaction medium contains reaction intermediates such as 4-carboxybenzaldehyde, paratoluic acid, and paratolualdehyde, and impurities such as benzoic acid.

【0048】パラキシレンの酸化反応で、酢酸溶媒中、
コバルト、マンガン、及び臭素を含む触媒の存在下、1
40℃〜230℃、好ましくは150℃〜210℃の温
度で分子状酸素含有ガスを連続的に供給しながら、パラ
キシレンの95%以上を酸化する。これを第一反応帯域
と呼ぶ。反応圧力は少なくとも反応温度において混合物
が液相を保持できる圧力以上で、通常0.2〜5MPa
である。酸化の反応時間(平均滞留時間)は通常30〜
300分である。第一反応帯域において、反応系気相部
の酸素分圧を高めるために、反応器から抜き出したガス
から凝縮性成分を凝縮除去して得た酸化排ガスを2つの
流れに分岐させ、一方は系外に排出し、他方は反応器に
連続的に循環供給する方法を用いることもできる。
In the oxidation reaction of para-xylene, in an acetic acid solvent,
In the presence of a catalyst containing cobalt, manganese, and bromine,
95% or more of para-xylene is oxidized while continuously supplying a molecular oxygen-containing gas at a temperature of 40 ° C to 230 ° C, preferably 150 ° C to 210 ° C. This is called the first reaction zone. The reaction pressure is at least the pressure at which the mixture can maintain a liquid phase at the reaction temperature, and is usually 0.2 to 5 MPa.
It is. The oxidation reaction time (average residence time) is usually 30 to
300 minutes. In the first reaction zone, the oxidizing exhaust gas obtained by condensing and removing condensable components from the gas extracted from the reactor is branched into two streams in order to increase the oxygen partial pressure in the gas phase of the reaction system. It is also possible to use a method of discharging to the outside and continuously circulating the other to the reactor.

【0049】次に必要に応じて130℃〜240℃、好
ましくは140℃〜220℃、さらに好ましくは160
℃〜200℃の第二反応帯域を設けることが出来る。該
帯域においてパラキシレンを追加することなく分子状酸
素により低温追酸化を行う。低温追酸化の反応時間(平
均滞留時間)は通常20〜90分である。次に必要に応
じて第二反応帯域より高い温度の150〜300℃、好
ましくは200℃〜280℃の第三反応帯域においてパ
ラキシレンを追加することなく分子状酸素により追酸化
を行うこともできる。追酸化の反応時間(平均滞留時
間)は5〜120分である。
Next, if necessary, 130 ° C. to 240 ° C., preferably 140 ° C. to 220 ° C., more preferably 160 ° C. to 220 ° C.
A second reaction zone at between 200C and 200C can be provided. In this zone, low-temperature re-oxidation is performed with molecular oxygen without adding para-xylene. The reaction time (average residence time) of the low temperature additional oxidation is usually 20 to 90 minutes. Next, if necessary, in the third reaction zone at a temperature higher than the second reaction zone of 150 to 300 ° C., preferably 200 to 280 ° C., additional oxidation can be carried out with molecular oxygen without adding para-xylene. . The reoxidation reaction time (average residence time) is 5 to 120 minutes.

【0050】酸化反応は第一反応帯域で終了しても良い
し、第二反応帯域もしくは第三反応帯域まで実施しても
良い。本明細書中の定義によれば、選択したプロセスに
おける最後の反応帯域が図1の反応器1に相当する。例
えば第三反応帯域まで実施すれば、第三反応帯域が図1
の反応器1に相当する。図1のライン12より中間処理
工程へと導かれるスラリーは上記例示に従えば130℃
から300℃となる。本中間処理は実施しても良いし、
実施せずに直接ライン13より分離工程3へ移送しても
良い。たとえば、テレフタル酸の例で第二反応帯域まで
反応を実施した場合、130℃〜240℃のスラリーが
得られるが晶析は不要なため、反応温度を維持して分離
装置へと移送される。スラリーの圧力はスラリー中母液
の蒸気圧もしくはそれ以上である。該圧力を下げると温
度も下がるので、実際にはスラリーの圧力を操作して温
度を制御する。
The oxidation reaction may be terminated in the first reaction zone, or may be performed up to the second reaction zone or the third reaction zone. According to the definition herein, the last reaction zone in the selected process corresponds to the reactor 1 in FIG. For example, if the operation is performed up to the third reaction zone,
Correspond to the reactor 1. According to the above example, the slurry led to the intermediate treatment step from the line 12 in FIG.
To 300 ° C. This intermediate processing may be performed,
The transfer may be directly performed from the line 13 to the separation step 3 without being performed. For example, when the reaction is carried out up to the second reaction zone in the case of terephthalic acid, a slurry at 130 ° C. to 240 ° C. is obtained, but crystallization is not required, so that the slurry is transferred to the separation device while maintaining the reaction temperature. The pressure of the slurry is equal to or higher than the vapor pressure of the mother liquor in the slurry. When the pressure is reduced, the temperature also decreases. Therefore, actually, the temperature of the slurry is controlled by manipulating the pressure of the slurry.

【0051】図1のライン13より分離装置に供給され
るスラリーは、ケーキから蒸発させるべきケーキ付着液
の量を勘案して温度が決められる。例えば、反応媒体中
の水濃度が10重量%、酢酸濃度が90重量%である混
合液がテレフタル酸のケーキに重量比11%で付着して
いるとして、ケーキ付着母液を完全に蒸発させるのに必
要なケーキ温度は170℃以上である。従って、第二反
応帯域まで反応を実施して得られるスラリーは例えば1
30℃〜240℃だが、170℃より高い温度で第二反
応帯域での反応を実施するのが好ましい。なお、170
℃より低い温度で反応を実施しても、大気圧下での沸点
である110℃より高い温度を維持していれば、実際の
ケーキ温度との差を顕熱としてケーキ乾燥に工業的に利
用することが可能となる。
The temperature of the slurry supplied from the line 13 in FIG. 1 to the separation device is determined in consideration of the amount of cake adhering liquid to be evaporated from the cake. For example, assuming that a mixed solution having a water concentration of 10% by weight and an acetic acid concentration of 90% by weight in the reaction medium adheres to the terephthalic acid cake at a weight ratio of 11%, the mother liquor adhered to the cake is completely evaporated. The required cake temperature is 170 ° C. or higher. Therefore, the slurry obtained by carrying out the reaction up to the second reaction zone is, for example, 1 slurry.
It is preferred to carry out the reaction in the second reaction zone at a temperature between 30 ° C and 240 ° C but above 170 ° C. Note that 170
Even if the reaction is carried out at a temperature lower than ℃, if it is maintained at a temperature higher than the boiling point under atmospheric pressure of 110 ℃, the difference from the actual cake temperature is industrially used for cake drying as sensible heat It is possible to do.

【0052】従って、反応後のプロセス内でスラリー圧
力を大気圧まで解放せず、温度を常圧沸点以上に保つこ
とは本発明におけるエネルギー利用の観点から重要な意
味を持つ。ただし、例示されたケースで170℃以下の
スラリーしか得られない場合、ケーキ乾燥に不足した熱
量は補わなければならず、分離前スラリー、分離後ケー
キ、排出後ケーキのいずれかに加熱を実施する。分離前
のスラリーであれば熱交換機の使用、分離後のケーキで
あれば洗浄液の加温やガス雰囲気の加温、排出後ケーキ
であれば粉体槽外部からの加温やガス雰囲気の加温更新
等が挙げられる。なお、スラリーを170℃以上に維持
するためには0.6MPa以上の圧力が必要であり、分離器の
圧力は、好ましくは0.65MPa以上1.5MPa以下、さらに好
ましくは0.7MPa以上1.3MPa以下、特に好ましくは0.8MPa
以上1.0MPa以下である。
Therefore, keeping the temperature above the normal pressure boiling point without releasing the slurry pressure to the atmospheric pressure in the process after the reaction is important from the viewpoint of energy utilization in the present invention. However, if only a slurry of 170 ° C. or less is obtained in the illustrated case, the amount of heat insufficient for drying the cake must be compensated for, and heating is performed on any of the slurry before separation, the cake after separation, and the cake after discharge. . Use of a heat exchanger for slurry before separation, heating of washing liquid and heating of gas atmosphere for cake after separation, heating of powder atmosphere from outside of powder tank and heating of gas atmosphere for cake after discharge Update and the like. In order to maintain the slurry at 170 ° C. or more, a pressure of 0.6 MPa or more is required, and the pressure of the separator is preferably 0.65 MPa or more and 1.5 MPa or less, more preferably 0.7 MPa or more and 1.3 MPa or less, and particularly preferably. Is 0.8MPa
Not less than 1.0 MPa.

【0053】なお、ケーキ洗浄液についてはケーキの持
つ熱エネルギーを持ち去らないためにケーキと同温もし
くはそれ以上の温度であることが好ましい。具体例を挙
げればケーキ温度が170℃であれば170℃以上の酢
酸を主成分とする洗浄液で、例えば5℃以上高い洗浄液
を準備する。さらに、洗浄液の突沸を避けるために、洗
浄液を導入する分離装置内の圧力は洗浄液の蒸気圧以上
とする。例示すると、分離装置への供給スラリーの蒸気
圧より分離装置内圧力が0.01〜1.0MPa高く、洗浄液の蒸
気圧がこの範囲に入ることが好ましい。ケーキ洗浄液の
種類は、各成分の蒸発潜熱を積み上げて、300Kca
l/kg以下であることが好ましい。単体では水の蒸発
潜熱は500kcal/kg以上あるが、混合物として
平均値が300kcal/kgの蒸発潜熱となるのであ
れば、水が含まれていても好ましく用いられる。また、
洗浄液の組成が反応媒体と全く異なっていても良い。例
えば、該例示における酢酸を主成分とする反応媒体のケ
ースで、洗浄液は全く異なる、例えば酢酸エステルの純
物質でも良いし、また不純物を除いて反応媒体と全く同
じ成分であっても良い。
The temperature of the cake washing liquid is preferably equal to or higher than that of the cake so as not to carry away the heat energy of the cake. As a specific example, if the cake temperature is 170 ° C., a cleaning liquid containing acetic acid at 170 ° C. or higher as a main component, for example, a cleaning liquid higher by 5 ° C. or higher is prepared. Further, in order to avoid bumping of the cleaning liquid, the pressure in the separation device for introducing the cleaning liquid is set to be higher than the vapor pressure of the cleaning liquid. For example, it is preferable that the pressure in the separator is higher than the vapor pressure of the slurry supplied to the separator by 0.01 to 1.0 MPa, and the vapor pressure of the cleaning liquid falls within this range. The type of cake washing liquid is 300 Kca by accumulating the latent heat of evaporation of each component.
It is preferably 1 / kg or less. Although the latent heat of vaporization of water alone is 500 kcal / kg or more, it is preferably used even if water is contained as long as the mixture has an average latent heat of vaporization of 300 kcal / kg. Also,
The composition of the cleaning liquid may be completely different from the reaction medium. For example, in the case of the reaction medium containing acetic acid as a main component in the above example, the cleaning liquid may be completely different, for example, a pure substance of acetic ester, or may be the same component as the reaction medium except for impurities.

【0054】分離装置を出たテレフタル酸ケーキは図1
に例示されるチャンバー4に滞留する。ケーキは間欠も
しくは連続的に大気圧の粉体槽へと抜き出される。チャ
ンバー4のケーキ滞留量の平均値は例えば1時間の処理
量を1とすれば重量比で0.0001〜0.1が好まし
く、チャンバーの形状やケーキ量上限、ケーキ量下限の
設定に依存する。チャンバー4内でのケーキ上限及び下
限と滞留量から抜き出し量を決めるが、例えば1時間の
処理量を1とすればバルブ5の駆動1回当たりの排出量
は0.002から0.02である。なおバルブ5の駆動距離は3〜
50mmが好ましく、10〜25mmが更に好ましい。また、駆動
頻度は50〜500回/hrが好ましい。駆動距離と駆動頻
度を好ましい範囲とすることによって、分離装置から化
合物回収帯域への化合物の排出が良好となる。
The terephthalic acid cake leaving the separator is shown in FIG.
Stays in the chamber 4 illustrated in FIG. The cake is withdrawn intermittently or continuously into a powder tank at atmospheric pressure. The average value of the cake retention amount in the chamber 4 is preferably 0.0001 to 0.1 in terms of weight ratio, for example, assuming that the processing amount per hour is 1, and depends on the shape of the chamber and the setting of the cake amount upper limit and the cake amount lower limit. . The extraction amount is determined from the upper and lower limits of the cake in the chamber 4 and the retained amount. For example, if the processing amount per hour is 1, the discharge amount per drive of the valve 5 is 0.002 to 0.02. The driving distance of the valve 5 is 3 ~
It is preferably 50 mm, more preferably 10 to 25 mm. The driving frequency is preferably 50 to 500 times / hr. By setting the driving distance and the driving frequency within the preferable ranges, the discharge of the compound from the separation device to the compound recovery zone is improved.

【0055】図1に例示される粉体槽6に排出されたテ
レフタル酸ケーキは、必要であれば例えば乾燥ガスによ
る微量ケーキ付着液の除去等を実施した後、ライン15
から回収される。また大気圧系内に発生した酢酸を主成
分とするガス及び導入した乾燥ガスはライン14より除
去される。ライン15より回収されたケーキは必要に応
じてさらに精製の工程を経て製品となる。
The terephthalic acid cake discharged into the powder tank 6 illustrated in FIG.
Recovered from. The gas containing acetic acid as a main component and the introduced dry gas generated in the atmospheric pressure system are removed from the line 14. The cake recovered from the line 15 becomes a product through further purification steps as necessary.

【0056】[0056]

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はその要旨を越えない限りこれら実
施例に限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which should not be construed as limiting the scope of the invention.

【0057】比較例1 テレフタル酸の生産量が36Ton/hrの設備におい
て液相酸化反応器に連続的にパラキシレン、パラキシレ
ンの5.5重量倍の酢酸、酢酸コバルト、酢酸マンガ
ン、臭化水素を供給し、温度197℃、圧力1.45M
pa、反応時間(平均滞留時間)90分で酸化反応を行
った。触媒の使用量は、コバルト成分の使用量がコバル
ト金属換算で溶媒に対し、280重量ppm、マンガン
成分の使用量は280重量ppm、臭素成分の使用量は
700ppmである。
COMPARATIVE EXAMPLE 1 In a facility where the production of terephthalic acid is 36 Ton / hr, paraxylene, acetic acid, cobalt acetate, manganese acetate, hydrogen bromide 5.5 times by weight of paraxylene were continuously fed into the liquid phase oxidation reactor. At a temperature of 197 ° C. and a pressure of 1.45M.
The oxidation reaction was performed at pa and a reaction time (average residence time) of 90 minutes. The amount of the catalyst used is such that the amount of the cobalt component is 280 ppm by weight, the amount of the manganese component is 280 ppm by weight, and the amount of the bromine component is 700 ppm relative to the solvent in terms of cobalt metal.

【0058】分子状酸素による酸化反応を行うためのガ
スとしては空気を用いる。このとき空気の酸素含有率は
21%である。そして、反応器から排出されるガス(以
下、廃ガスと称することがある)中の酸素濃度が5容量
%になるように反応器中に圧縮空気を供給した。次いで
低温追酸化反応器に酸化スラリーを連続的に移し、温度
190℃、圧力1.3Mpa、反応時間(平均滞留時
間)35分で酸化反応を行うためのガスとして空気(酸
素含有率21%)を、廃ガス中の酸素濃度が6容量%に
なるように供給し、低温追酸化を行った。
Air is used as a gas for performing an oxidation reaction by molecular oxygen. At this time, the oxygen content of the air is 21%. Then, compressed air was supplied into the reactor such that the oxygen concentration in the gas discharged from the reactor (hereinafter sometimes referred to as waste gas) became 5% by volume. Next, the oxidized slurry was continuously transferred to a low-temperature post-oxidation reactor, and air (oxygen content 21%) was used as a gas for performing an oxidation reaction at a temperature of 190 ° C., a pressure of 1.3 MPa, and a reaction time (average residence time) of 35 minutes. Was supplied so that the oxygen concentration in the waste gas became 6% by volume, and low-temperature additional oxidation was performed.

【0059】低温追酸化スラリーは3段の中間処理槽に
て連続的に晶析し、大気圧において固液分離を行なっ
た。このとき固液分離されたケーキの含液率は15.0
%であった。
The low-temperature reoxidation slurry was continuously crystallized in a three-stage intermediate treatment tank, and subjected to solid-liquid separation at atmospheric pressure. At this time, the liquid content of the cake separated into solid and liquid was 15.0.
%Met.

【0060】次に、このケーキを蒸気を加熱源とするス
チームチューブドライヤー型乾燥機にて大気圧において
乾燥させた。乾燥機の周囲には0.4Mpaの圧力を有
する蒸気が循環されて乾燥炉が加熱される。加熱により
蒸発したケーキ付着液は、乾燥機内に流通させている窒
素ガスにより、系外に取り出される。また、乾燥機の出
口温度140℃である。この乾燥機によってテレフタル
酸1Tonを乾燥したところ、乾燥機に使用さ蒸気の熱
量は36000Kcalであった。また、得られたテレ
フタル酸の含液率は0.1%であった。従って、テレフ
タル酸ケーキを15.0%の含液率から0.1%の含液
率まで大気圧において乾燥する場合、テレフタル酸1T
onあたり、36000Kcalの熱量が必要となる。
Next, the cake was dried at atmospheric pressure using a steam tube drier using steam as a heating source. Steam having a pressure of 0.4 Mpa is circulated around the dryer to heat the drying oven. The cake adhering liquid evaporated by heating is taken out of the system by the nitrogen gas flowing in the dryer. The outlet temperature of the dryer is 140 ° C. When 1 Ton terephthalic acid was dried by this dryer, the calorific value of the steam used in the dryer was 36000 Kcal. The liquid content of the obtained terephthalic acid was 0.1%. Therefore, when the terephthalic acid cake is dried at atmospheric pressure from a liquid content of 15.0% to a liquid content of 0.1%, 1T of terephthalic acid is required.
A heat of 36000 Kcal is required per on.

【0061】実施例1 次に、本発明の製造方法、即ち、反応工程で生ずる圧力
及び温度を維持したまま固液を分離しそのケーキを分離
帯域よりも低い帯域へ移した場合において発生する顕熱
差を利用するケーキ付着液を蒸発分離する効果を検証す
る実験を行なった。比較例と同様の方法によって得られ
たケーキを、図3に示す設備を用いてフラッシュ分離に
よる乾燥を行った。
Example 1 Next, the production method according to the present invention, ie, the phenomenon that occurs when the solid and liquid are separated while maintaining the pressure and temperature generated in the reaction step, and the cake is transferred to a zone lower than the separation zone. An experiment was conducted to verify the effect of evaporating and separating the cake adhering liquid using the heat difference. The cake obtained by the same method as in the comparative example was dried by flash separation using the equipment shown in FIG.

【0062】フラッシュ分離装置は内容積1.2リット
ル(内径40mm、長さ800mmの円筒状)、の加熱
器32と内容積3リットルの受器34(化合物回収帯
域)ならびに加熱器を加熱するためのジャケット38、
受器は、加熱又は冷却するために、オイルバス35に浸
漬可能となっている。比較例1と同様な方法によって得
られた含液率14.1%のケーキ(固形分として700
g相当:水濃度10%−酢酸濃度90%のケーキ付着液
組成)を大気圧下において上部バルブ31から加熱器3
2に仕込んだ。そのまま加熱するとケーキに付着した酢
酸および水の一部が気化しケーキに含液する量が変わる
のでその分をあらかじめ加熱器に加えたのちに加熱器を
密閉して173℃まで昇温した。このときの加熱器内の
圧力は0.6Mpaであった。
The flash separation device is used to heat the heater 32 having a capacity of 1.2 liters (a cylindrical shape having an inner diameter of 40 mm and a length of 800 mm), a receiver 34 having a capacity of 3 liters (compound recovery zone), and a heater. Jacket 38,
The receiver can be immersed in an oil bath 35 for heating or cooling. A cake having a liquid content of 14.1% (a solid content of 700%) obtained by the same method as in Comparative Example 1.
g equivalent: composition of the cake adhering liquid having a water concentration of 10% -acetic acid concentration of 90%) from the upper valve 31 to the heater 3 under atmospheric pressure.
2 If heated as it is, part of the acetic acid and water adhering to the cake would evaporate and the amount contained in the cake would change. The amount was added to the heater in advance, and then the heater was closed and the temperature was raised to 173 ° C. At this time, the pressure in the heater was 0.6 MPa.

【0063】加熱器の下に位置する受器においてはその
内部を酢酸蒸気雰囲気とするために気化してその容積に
相当する量の酢酸をあらかじめ仕込んだのち受器は11
5℃の熱媒油に浸漬した。そして、底部バルブ33を開
放し、加熱器内のケーキおよび付着液が気化した蒸気を
大気圧の受器へ移送した。加熱器の圧力は瞬時に大気圧
となったのですぐさま加熱器の底部バルブを閉止すると
ともに、受器とエチレングリコールの入ったトラップ容
器37間の弁36を閉止した。受器内の温度は123℃
で安定したので冷却した。フラッシュ分離後に受器を大
気に開放しておくとケーキ表面に残存する液成分の大気
への拡散が速いために真の値が測定し難い。そのために
受器は密閉系で冷却し、受器の気相部にあるガス成分を
凝縮させたのち、具体的には酢酸、水の蒸気が殆ど生じ
ない20℃まで十分冷却したのち、受器内にある酢酸を
含んだケーキ全量を回収した。ケーキ乾燥後の重量減か
らケーキ付着液量を求める方法とケーキ表面を水洗した
液中の組成分析を行なってケーキ付着液量を求める双方
の結果が一致することを確認した。
In the receiver located below the heater, the interior of the receiver is vaporized so as to have an acetic acid vapor atmosphere, and an amount of acetic acid corresponding to the volume thereof is charged in advance, and then the receiver is set to 11
It was immersed in a heating medium oil at 5 ° C. Then, the bottom valve 33 was opened, and the cake in the heater and the vaporized adhering liquid were transferred to a receiver at atmospheric pressure. Since the pressure of the heater immediately became atmospheric pressure, the bottom valve of the heater was immediately closed, and the valve 36 between the receiver and the trap container 37 containing ethylene glycol was closed. The temperature inside the receiver is 123 ° C
Then it was cooled down. If the receiver is opened to the atmosphere after the flash separation, the true value is difficult to measure because the liquid components remaining on the cake surface diffuse rapidly into the atmosphere. For this purpose, the receiver is cooled in a closed system, and the gas components in the gas phase of the receiver are condensed. Specifically, the receiver is cooled sufficiently to 20 ° C. where almost no acetic acid or water vapor is generated. The entire cake containing acetic acid inside was recovered. It was confirmed that both the method of obtaining the amount of the cake adhering liquid from the weight loss after drying the cake and the analysis of the composition in the liquid obtained by washing the cake surface with water were identical.

【0064】フラッシュ分離によって受器を経由して排
出する酢酸ならびに水の蒸気はエチレングリコールや水
を入れた容器に導いて吸収したのち酢酸および水量を重
量の増加量ならびに容器内の液成分をガスクロマトグラ
フィーによって分析しマスバランスを確認した。このよ
うにして求められたケーキ付着液量から受器を冷却する
前の受器気相部に存在していた酢酸量を差し引いた値を
フラッシュ分離直後のケーキに付着した液量としてを含
液率を求めた。なお、このケーキのメディアン径は99
μmだった。メディアン径の分析は、セイシン企業社製
のレーザー散乱式粒度分布計「Lazer Micro
n Sizer/LMS−24」を使用した。本装置の
水を張った試料室に回収ケーキ1gと界面活性剤を入れ
た。その後、30秒間超音波下での分散と、レーザー散
乱による分析が自動で進行する。分析が終了すると、各
粒径区間毎の体積度数分布が得られる。その結果から累
積度数50%となる粒径を算出した。
Acetic acid and water vapor discharged through a receiver by flash separation are introduced into a container containing ethylene glycol and water and absorbed, and then the amount of acetic acid and water is increased in weight and the liquid component in the container is converted into gas. Analysis by chromatography confirmed the mass balance. The value obtained by subtracting the amount of acetic acid present in the gas phase of the receiver before cooling the receiver from the amount of cake adhering liquid thus obtained is defined as the amount of liquid adhering to the cake immediately after flash separation. The rate was determined. The median diameter of this cake is 99
μm. Analysis of the median diameter was performed using a laser scattering particle size distribution analyzer “Lazer Micro” manufactured by Seishin Enterprise.
n Sizer / LMS-24 "was used. 1 g of the recovered cake and a surfactant were placed in a water-filled sample chamber of the apparatus. Thereafter, the dispersion under the ultrasonic wave for 30 seconds and the analysis by the laser scattering automatically proceed. When the analysis is completed, a volume frequency distribution for each particle size section is obtained. From the results, the particle size at which the cumulative frequency became 50% was calculated.

【0065】実施例2 実施例1において、水濃度10%-酢酸濃度90%のケ
ーキ付着液組成、ケーキの含液率10.4%、加熱器の
温度187℃とした以外は、実施例1と同様にフラッシ
ュ分離を行なった。フラッシュ分離後の受器温度は11
0℃で安定したので冷却した。
Example 2 Example 1 was the same as Example 1 except that the composition of the cake adhering liquid having a water concentration of 10% and the acetic acid concentration of 90%, the liquid content of the cake was 10.4%, and the temperature of the heater was 187 ° C. Flash separation was performed in the same manner as described above. Receiver temperature after flash separation is 11
It was cooled at 0 ° C. and cooled.

【0066】実施例3 実施例1において、酢酸濃度100%のケーキ付着液組
成、ケーキの含液率15.0%、加熱器の温度144℃
とした以外は、実施例1と同様にフラッシュ分離を行な
った。
Example 3 In Example 1, the composition of the cake adhering liquid having an acetic acid concentration of 100%, the liquid content of the cake was 15.0%, and the temperature of the heater was 144 ° C.
Flash separation was performed in the same manner as in Example 1 except that

【0067】実施例1〜3の実施条件を第1表に、結果
を第2表に纏めて示す。実施例1〜3のいずれの場合
も、反応工程で生じた温度及び圧力を維持したまま、分
離工程と乾燥工程を行うことを想定したものである。従
って、反応工程で生じた温度及び圧力以外には、新たな
エネルギーを乾燥工程において用いられていない。実施
例1においては、含液率14.1%から1.3%へ、実
施例2においては含液率10.4%〜0.1%へ、実施
例3においては含液率15.0%から5.7%へ、新た
な熱量を加えることなくそれぞれ乾燥されている。
Table 1 shows the working conditions of Examples 1 to 3, and Table 2 shows the results. In each case of Examples 1 to 3, it is assumed that the separation step and the drying step are performed while maintaining the temperature and pressure generated in the reaction step. Therefore, other than the temperature and pressure generated in the reaction step, no new energy is used in the drying step. In Example 1, the liquid content was 14.1% to 1.3%, in Example 2, the liquid content was 10.4% to 0.1%, and in Example 3, the liquid content was 15.0. % To 5.7%, respectively, without any additional heat being applied.

【0068】また、第2表に示されたとおり、フラッシ
ュ分離操作後のケーキ含液率はその系がもつエンタルピ
ーから計算される量と合致した。従って、本発明の製造
方法を採用することにより、反応工程でもたらされた内
部エネルギーを乾燥工程に有効利用でき、従来乾燥工程
で必要であった大量の熱エネルギーを節減することが出
来ることが示された。
Further, as shown in Table 2, the cake liquid content after the flash separation operation matched the amount calculated from the enthalpy of the system. Accordingly, it is shown that by employing the production method of the present invention, the internal energy generated in the reaction step can be effectively used for the drying step, and a large amount of heat energy conventionally required in the drying step can be saved. Was done.

【0069】[0069]

【表1】 [Table 1]

【0070】[0070]

【表2】 [Table 2]

【0071】[0071]

【発明の効果】大気圧下において固液を分離したのち再
加熱乾燥する方法においては多大な熱量を必要とする
が、それは蒸発させるべき母液媒体のほかにテレフタル
酸自体も加熱する必要があるためであり、それと比べて
大気圧以上においてその温度を保持したまま固液を分離
したのち加圧乾燥する方法においては、乾燥に費やされ
るエネルギーを大幅に削減できる。
According to the method of reheating and drying after separating solid and liquid under atmospheric pressure, a large amount of heat is required, because terephthalic acid itself needs to be heated in addition to the mother liquor medium to be evaporated. On the other hand, in a method in which solid-liquid is separated while maintaining the temperature at or above atmospheric pressure and then dried under pressure, the energy consumed for drying can be significantly reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を実施するためのプロセス例の概略図で
ある。
FIG. 1 is a schematic diagram of an example process for implementing the present invention.

【図2】本発明を実施するための好ましいフラッシュ槽
の一例の概略図である。
FIG. 2 is a schematic view of an example of a preferred flash tank for carrying out the present invention.

【図3】実施例で使用したフラッシュ槽の概略図であ
る。
FIG. 3 is a schematic view of a flash tank used in an example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 反応器 2 中間処理槽 3 分離装置 4 チャンバー 5 ディスチャージバルブ 6 粉体槽(化合物回収帯域) 7 シュート 8 略円錐型の弁体 9 上部バルブ 11 原料等導入ライン 12 反応物移送ライン 13 反応物移送ライン 14 蒸発ガス排出ライン 15 化合物回収ライン 16 中間室 21 検知器 22 シール 23 シール 24 シリンダー 31 加熱器の上部バルブ 32 加熱器 33 加熱器の底部バルブ 34 受器(化合物回収帯域) 35 オイルバス 36 受器とトラップの間の弁 37 トラップ 38 ジャケット DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Reactor 2 Intermediate processing tank 3 Separation device 4 Chamber 5 Discharge valve 6 Powder tank (compound recovery zone) 7 Chute 8 Substantially conical valve element 9 Upper valve 11 Raw material etc. introduction line 12 Reactant transfer line 13 Reactant transfer Line 14 Evaporated gas discharge line 15 Compound recovery line 16 Intermediate chamber 21 Detector 22 Seal 23 Seal 24 Cylinder 31 Upper valve of heater 32 Heater 33 Bottom valve of heater 34 Receiver (compound recovery zone) 35 Oil bath 36 Receiving Valve between vessel and trap 37 trap 38 jacket

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) F26B 5/14 F26B 5/14 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (72)発明者 福田 勝則 福岡県北九州市八幡西区黒崎城石1番1号 三菱化学株式会社内 (72)発明者 磯貝 隆行 福岡県北九州市八幡西区黒崎城石1番1号 三菱化学株式会社内 (72)発明者 安藤 勝也 東京都中央区日本橋三丁目9番2号 巴工 業株式会社内 Fターム(参考) 3H052 AA01 BA03 BA35 CA23 DA06 EA06 EA07 3L113 AC23 AC67 BA39 CB40 DA02 4G075 AA03 AA13 AA22 AA35 AA41 BA06 BA10 BB02 BB03 BB05 BB10 CA02 CA03 CA54 CA63 DA01 DA02 DA18 EC09 ED01 ED03 ED04 ED11 4H006 AA02 AC46 BA16 BA20 BA32 BB11 BC10 BC11 BC14 BD80 BD84 BJ50 BS30 4H039 CA65 CC30 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) F26B 5/14 F26B 5/14 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (72) Inventor Katsunori Fukuda Mitsubishi Chemical Co., Ltd. (1-1) Kurosaki Castle Stone, Kitakyushu City, Fukuoka Prefecture (72) Takayuki Isogai 1-1, Kurosaki Castle Stone, Yawata Nishi Ward, Kitakyushu City, Fukuoka Prefecture Mitsubishi Chemical Corporation (72) Inventor Katsuya Ando Tokyo 3-9-2, Nihonbashi, Chuo-ku Tomoe Industry Co., Ltd. F-term (reference) 3H052 AA01 BA03 BA35 CA23 DA06 EA06 EA07 3L113 AC23 AC67 BA39 CB40 DA02 4G075 AA03 AA13 AA22 AA35 AA41 BA06 BA10 BB02 CA54 CA02 DA01 DA02 DA18 EC09 ED01 ED03 ED04 ED11 4H006 AA02 AC46 BA16 BA20 BA32 BB11 BC10 BC11 BC14 BD80 BD84 BJ50 BS30 4H039 CA65 CC30

Claims (24)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)反応器中で、大気圧より高い圧
力、且つ反応媒体の大気圧における沸点以上で反応を行
って、化合物を生成する反応工程、(B)分離装置中
で、大気圧より高い圧力、且つ反応媒体の大気圧におけ
る沸点以上の温度にて、化合物と反応媒体を含むスラリ
ーから一定量以上の反応媒体を分離してケーキ付着液の
固形分に対する重量比が50%以下のケーキを得る分離
工程、及び(C)得られたケーキを分離装置中の圧力よ
り低い圧力、且つ分離装置中の温度より低い温度の化合
物回収帯域へ移動させ、その移動によって開放された内
部エネルギーによりケーキ付着液を蒸発せしめる乾燥工
程を有する化合物の製造方法。
(A) a reaction step in which a reaction is carried out in a reactor at a pressure higher than the atmospheric pressure and at a temperature equal to or higher than the boiling point of the reaction medium at the atmospheric pressure to produce a compound; At a pressure higher than the atmospheric pressure and a temperature higher than the boiling point of the reaction medium at the atmospheric pressure, a certain amount or more of the reaction medium is separated from the slurry containing the compound and the reaction medium, and the weight ratio of the cake adhering liquid to the solid content is 50% or less. And (C) transferring the obtained cake to a compound recovery zone at a pressure lower than the pressure in the separator and lower than the temperature in the separator, and releasing the internal energy released by the transfer. A method for producing a compound having a drying step of evaporating a cake adhering liquid by the method.
【請求項2】 分離工程(B)において、大気圧より高
い圧力、且つ反応媒体の大気圧における沸点以上の温度
に維持した状態で、ケーキを大気圧での沸点における蒸
発潜熱が300kcal/kg以下の洗浄液で洗浄する
請求項1に記載の化合物の製造方法。
2. In the separation step (B), the cake is heated at a pressure higher than the atmospheric pressure and at a temperature not lower than the boiling point at the atmospheric pressure and the latent heat of vaporization at the boiling point at the atmospheric pressure is 300 kcal / kg or less. The method for producing a compound according to claim 1, wherein the compound is washed with a washing solution.
【請求項3】 反応媒体の大気圧での沸点における蒸発
潜熱が300kcal/kg以下である請求項1又は2
に記載の化合物の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the latent heat of vaporization at a boiling point of the reaction medium at atmospheric pressure is 300 kcal / kg or less.
The method for producing a compound according to the above.
【請求項4】 分離工程(B)において、洗浄液の大気
圧における沸点以上「TB1+100℃」以下(ただ
し、TB1は未洗浄ケーキの温度(℃)を示す)の範囲
の温度の洗浄液によってケーキを洗浄する請求項1乃至
3のいずれかに記載の化合物の製造方法。
4. In the separation step (B), the cake is washed with a washing solution having a temperature in the range from the boiling point of the washing solution at atmospheric pressure to “TB1 + 100 ° C.” (TB1 indicates the temperature (° C.) of the unwashed cake). A method for producing the compound according to any one of claims 1 to 3.
【請求項5】 分離工程(B)において、ケーキ中の固
形分の重量に対して0.03〜5.0倍の洗浄液によっ
てケーキを洗浄する請求項1乃至4のいずれかに記載の
化合物の製造方法。
5. The method according to claim 1, wherein in the separation step (B), the cake is washed with a washing solution 0.03 to 5.0 times the weight of the solid content in the cake. Production method.
【請求項6】 反応工程(A)において生成する化合物
が、芳香族カルボン酸である請求項1乃至5のいずれか
に記載の化合物の製造方法。
6. The method for producing a compound according to claim 1, wherein the compound formed in the reaction step (A) is an aromatic carboxylic acid.
【請求項7】 芳香族カルボン酸がテレフタル酸である
請求項6に記載の化合物の製造方法。
7. The method according to claim 6, wherein the aromatic carboxylic acid is terephthalic acid.
【請求項8】 反応工程(A)において、分子状酸素に
よりアルキル基置換芳香族化合物を液相酸化し、芳香族
カルボン酸を得る請求項6に記載の化合物の製造方法。
8. The process for producing a compound according to claim 6, wherein in the reaction step (A), an aromatic compound is obtained by subjecting an alkyl group-substituted aromatic compound to liquid phase oxidation with molecular oxygen to obtain an aromatic carboxylic acid.
【請求項9】 反応工程(A)において、分子状酸素に
よりパラキシレンを液相酸化し、テレフタル酸を得る請
求項7に記載の化合物の製造方法。
9. The process according to claim 7, wherein in the reaction step (A), paraxylene is oxidized in a liquid phase with molecular oxygen to obtain terephthalic acid.
【請求項10】 反応工程(A)が、50℃以上350
℃以下の温度範囲で行われる請求項1乃至9のいずれか
に記載の化合物の製造方法。
10. The reaction step (A) is performed at 50 ° C. or more and 350 ° C.
The method for producing a compound according to any one of claims 1 to 9, which is performed in a temperature range of not more than ° C.
【請求項11】 反応工程(A)が、大気圧を越え20
MPa以下の圧力範囲で行われる請求項1乃至10のい
ずれかに記載の化合物の製造方法。
11. The method according to claim 1, wherein the reaction step (A) is carried out at a pressure exceeding atmospheric pressure.
The method for producing a compound according to any one of claims 1 to 10, which is performed in a pressure range of not more than MPa.
【請求項12】 乾燥工程(C)において、分離装置内
のケーキの温度と化合物回収帯域に排出されたケーキの
温度差が5℃〜250℃である請求項1乃至11のいず
れかに記載の化合物の製造方法。
12. The method according to claim 1, wherein in the drying step (C), the difference between the temperature of the cake in the separation device and the temperature of the cake discharged to the compound recovery zone is 5 ° C. to 250 ° C. A method for producing a compound.
【請求項13】 乾燥工程(C)において、分離装置内
の圧力と化合物回収帯域の圧力差が0.01MPa〜2
2MPaである請求項1乃至12のいずれかに記載の化
合物の製造方法。
13. In the drying step (C), the pressure difference between the pressure in the separation apparatus and the pressure in the compound recovery zone is 0.01 MPa to 2 MPa.
The method for producing a compound according to any one of claims 1 to 12, wherein the pressure is 2 MPa.
【請求項14】 乾燥工程(C)において、排出された
化合物のメディアン径が40μm以上、300μm以下
である請求項1乃至13のいずれかに記載の化合物の製
造方法。
14. The method for producing a compound according to claim 1, wherein the discharged compound has a median diameter of 40 μm or more and 300 μm or less in the drying step (C).
【請求項15】 乾燥工程(C)において、ケーキ付着
液の固形分に対する重量比を10%以下とする請求項1
乃至14のいずれかに記載の化合物の製造方法。
15. The method according to claim 1, wherein in the drying step (C), the weight ratio of the cake adhering liquid to the solid content is 10% or less.
15. The method for producing a compound according to any one of the above items.
【請求項16】 乾燥工程(C)において、ケーキ付着
液の固形分に対する重量比を3%以上低下させる請求項
1乃至15のいずれかに記載の化合物の製造方法。
16. The method according to claim 1, wherein in the drying step (C), the weight ratio of the cake adhering liquid to the solid content is reduced by 3% or more.
【請求項17】 乾燥工程(C)において、分離装置と
化合物回収帯域との間に中間室を有する請求項1乃至1
6のいずれかに記載の化合物の製造方法。
17. The drying step (C), wherein an intermediate chamber is provided between the separation device and the compound recovery zone.
7. A method for producing the compound according to any one of the above items 6.
【請求項18】 乾燥工程(C)において、中間室及び
/又は化合物回収帯域に乾燥ガスを導入する請求項1乃
至17のいずれかに記載の化合物の製造方法。
18. The method for producing a compound according to claim 1, wherein a drying gas is introduced into the intermediate chamber and / or the compound recovery zone in the drying step (C).
【請求項19】 乾燥工程(C)において、化合物回収
帯域の圧力が大気圧である請求項1乃至18のいずれか
に記載の化合物の製造方法。
19. The method for producing a compound according to claim 1, wherein in the drying step (C), the pressure in the compound recovery zone is atmospheric pressure.
【請求項20】 乾燥工程(C)において、ディスチャ
ージバルブを備えた加圧乾燥装置を用いる請求項1乃至
19のいずれかに記載の化合物の製造方法。
20. The method for producing a compound according to claim 1, wherein in the drying step (C), a pressure drying device equipped with a discharge valve is used.
【請求項21】 ディスチャージバルブの弁体と弁座の
接触部が線状で形状が円形である請求項20に記載の化
合物の製造方法。
21. The method for producing a compound according to claim 20, wherein the contact portion between the valve body and the valve seat of the discharge valve is linear and circular in shape.
【請求項22】 乾燥工程(C)において、ディスチャ
ージバルブが間欠的に解放し、解放時間が0.01秒〜
1秒である請求項20又は21に記載の化合物の製造方
法。
22. In the drying step (C), the discharge valve is intermittently opened, and the release time is 0.01 second to
22. The method for producing a compound according to claim 20, wherein the time is 1 second.
【請求項23】 反応工程(A)と分離工程(B)との
間に、化合物の晶析又は溶解を行う中間処理工程(D)
を有する請求項1乃至22のいずれかに記載の化合物の
製造方法。
23. An intermediate treatment step (D) in which a compound is crystallized or dissolved between the reaction step (A) and the separation step (B).
The method for producing a compound according to any one of claims 1 to 22, comprising:
【請求項24】 反応工程(A)において、生成した化
合物が固体として得られる請求項1乃至23のいずれか
に記載の化合物の製造方法。
24. The method for producing a compound according to claim 1, wherein the compound produced in the reaction step (A) is obtained as a solid.
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