JP2002326992A - N-spiro asymmetric phase transfer catalyst containing binaphthayl group and biphenyl group - Google Patents

N-spiro asymmetric phase transfer catalyst containing binaphthayl group and biphenyl group

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JP2002326992A
JP2002326992A JP2001135526A JP2001135526A JP2002326992A JP 2002326992 A JP2002326992 A JP 2002326992A JP 2001135526 A JP2001135526 A JP 2001135526A JP 2001135526 A JP2001135526 A JP 2001135526A JP 2002326992 A JP2002326992 A JP 2002326992A
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halogen atom
substituted
alkyl group
optionally substituted
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Japanese (ja)
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Keiji Maruoka
啓二 丸岡
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Nagase and Co Ltd
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Nagase and Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a binaphthyl group-containing N-spiro asymmetric phase transfer catalyst which is used for asymmetrically synthesizing various kinds of amino acid derivative without regard to natural or non-natural amino acid derivatives. SOLUTION: This new N-spiro asymmetric phase transfer catalyst contains a binaphthyl group and a biphenyl group in the structure and is useful for the selective synthesis, the so-called asymmetric synthesis, of optically active compounds.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ビナフチル基およびビ
フェニル基を含むN−スピロ不斉相間移動触媒に関し、
より詳細には、有機合成化学、ことに光学活性な化合物
を選択的に合成するための、いわゆる不斉合成において
有用である新規な相間移動触媒に関する。
The present invention relates to an N-spiro asymmetric phase transfer catalyst containing a binaphthyl group and a biphenyl group.
More specifically, the present invention relates to a novel phase transfer catalyst useful in so-called asymmetric synthesis for selectively synthesizing organic synthetic chemistry, particularly, an optically active compound.

【0002】[0002]

【従来の技術】本発明者は、すでに、軸不斉を有する二
つのビナフチル構造によってコンフォメーションが固定
された、キラルなN−スピロ4級アンモニウム塩を合成
し、これがN−保護グリシン誘導体の立体選択的モノア
ルキル化に有効な不斉相間移動触媒として作用すること
を見出した。このことは当業者に周知である(J.A
m.Chem.Soc.1999,121,6519−
6520)。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present inventors have already synthesized a chiral N-spiro quaternary ammonium salt in which the conformation is fixed by two binaphthyl structures having axial asymmetry, and this is a steric N-protected glycine derivative. They have been found to act as effective asymmetric phase transfer catalysts for selective monoalkylation. This is well known to those skilled in the art (J.A.
m. Chem. Soc. 1999, 121, 6519-
6520).

【0003】さらにまた、ビナフチル環上の置換基とし
て、例えば3,4,5−トリフルオロフェニルを導入し
た場合、N−保護グリシン誘導体の立体選択的ジアルキ
ル化にも有効であることも明らかにされている(J.A
m.Chem.Soc.2000,122,5228−
5229)。
Furthermore, it has been revealed that, for example, when 3,4,5-trifluorophenyl is introduced as a substituent on a binaphthyl ring, it is also effective for stereoselective dialkylation of an N-protected glycine derivative. (JA
m. Chem. Soc. 2000, 122, 5228-
5229).

【0004】ここで、アルキル化反応の立体選択性を確
保するためには、キラルなN−スピロ4級アンモニウム
塩のコンフォメーションが、軸不斉を有する二つのビナ
フチル構造によって固定されていることが不可欠と考え
られていた。
Here, in order to ensure the stereoselectivity of the alkylation reaction, the conformation of a chiral N-spiro quaternary ammonium salt must be fixed by two binaphthyl structures having axial asymmetry. Was considered indispensable.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明者は、不斉相間
移動触媒について、その構造がアルキル化反応の立体選
択性に及ぼす影響を追求し、研究を重ねた結果、本発明
に到達した。すなわち、本発明の目的は、天然または非
天然のいずれを問わず、各種のアミノ酸誘導体の不斉合
成において使用される新規な相間移動触媒を提供するこ
とにある。特に、これまでの触媒のビナフチル構造の一
つをビフェニル構造に置き換えたN−スピロ不斉相間移
動触媒を提供することにあり、当該新規触媒を使用した
アミノ酸の立体選択的合成方法をも提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present inventors have pursued the effect of the structure of the asymmetric phase transfer catalyst on the stereoselectivity of the alkylation reaction, and as a result of repeated studies, have reached the present invention. That is, an object of the present invention is to provide a novel phase transfer catalyst used in asymmetric synthesis of various amino acid derivatives, whether natural or unnatural. In particular, it is an object of the present invention to provide an N-spiro asymmetric phase transfer catalyst in which one of the binaphthyl structures of a conventional catalyst is replaced with a biphenyl structure, and also provides a method for stereoselective synthesis of amino acids using the novel catalyst. It is in.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、式(I)で表
される、N−スピロ4級アンモニウム塩化合物である:
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is an N-spiro quaternary ammonium salt compound represented by formula (I):

【0007】[0007]

【化8】 Embedded image

【0008】式中、Rは、水素原子;低級アルキル
基;低級アルコキシ基;低級アルケニル基;低級アルキ
ニル基;ハロゲン原子;低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリ
ール基;あるいは低級アルキル基、低級アルコキシ基、
またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリ
ール基であり、Rは、水素原子;低級アルキル基;低
級アルコキシ基;低級アルケニル基;低級アルキニル
基;ハロゲン原子;低級アルキル基、低級アルコキシ
基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリー
ル基;低級アルキル基、低級アルコキシ基、またはハロ
ゲン原子で置換されていても良いアリール基で置換され
た、アリール基;低級アルキル基、低級アルコキシ基、
またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリ
ール基で置換された、アリール基;低級アルキル基、低
級アルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていて
も良いヘテロアリール基;低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、ハロゲン原子で置換されていても良いアリール
基で置換されたヘテロアリール基;あるいは低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、またはハロゲン原子で置換さ
れていても良いヘテロアリール基で置換された、ヘテロ
アリール基であり、そしてXはハロゲン原子である。
In the formula, R 1 is a hydrogen atom; a lower alkyl group; a lower alkoxy group; a lower alkenyl group; a lower alkynyl group; a halogen atom; which may be substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a halogen atom. Aryl group; or lower alkyl group, lower alkoxy group,
Or a heteroaryl group which may be substituted with a halogen atom, wherein R 2 is a hydrogen atom; a lower alkyl group; a lower alkoxy group; a lower alkenyl group; a lower alkynyl group; a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group; Or an aryl group optionally substituted with a halogen atom; an aryl group substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or an aryl group optionally substituted with a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group,
Or an aryl group substituted with a heteroaryl group optionally substituted with a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a heteroaryl group optionally substituted with a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group A heteroaryl group substituted with an aryl group optionally substituted with a halogen atom; or a heteroaryl group substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a heteroaryl group optionally substituted with a halogen atom And X is a halogen atom.

【0009】好ましい実施形態においては、上記式
(I)において、Rは水素原子または4個〜10個の
炭素原子を有する有機残基であり、かつRは水素原子
または4個〜20個の炭素原子を有する有機残基であ
る。
In a preferred embodiment, in the above formula (I), R 1 is a hydrogen atom or an organic residue having 4 to 10 carbon atoms, and R 2 is a hydrogen atom or 4 to 20 carbon atoms. Is an organic residue having a carbon atom of

【0010】さらに好ましい実施形態においては、上記
4個〜10個の炭素原子を有する有機残基および上記4
個〜20個の炭素原子を有する有機残基がともに芳香族
炭化水素である。
In a further preferred embodiment, the organic residue having 4 to 10 carbon atoms and the organic residue having 4 to 10 carbon atoms.
Organic residues having from 20 to 20 carbon atoms are both aromatic hydrocarbons.

【0011】好ましい実施形態においては、XはBrで
ある。
In a preferred embodiment, X is Br.

【0012】好ましい実施形態においては、上記式
(I)において、Rは水素原子またはフェニル基であ
り、かつRはβ−ナフチル基または3,5−ジフェニ
ルフェニル基である。
In a preferred embodiment, in the above formula (I), R 1 is a hydrogen atom or a phenyl group, and R 2 is a β-naphthyl group or a 3,5-diphenylphenyl group.

【0013】本発明はまた、式(II)で表される、化
合物である:
The present invention is also a compound represented by formula (II):

【0014】[0014]

【化9】 Embedded image

【0015】式中、Rは、水素原子;低級アルキル
基;低級アルコキシ基;低級アルケニル基;低級アルキ
ニル基;ハロゲン原子;低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、ハロゲン原子で置換されていても良いアリール
基;あるいは低級アルキル基、低級アルコキシ基、また
はハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール
基であり、Rは、水素原子;低級アルキル基;低級ア
ルコキシ基;低級アルケニル基;低級アルキニル基;ハ
ロゲン原子;低級アルキル基、低級アルコキシ基、また
はハロゲン原子で置換されていても良いアリール基;低
級アルキル基、低級アルコキシ基、またはハロゲン原子
で置換されていても良いアリール基で置換された、アリ
ール基;低級アルキル基、低級アルコキシ基、またはハ
ロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基で
置換された、アリール基;低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘ
テロアリール基;低級アルキル基、低級アルコキシ基、
またはハロゲン原子で置換されていても良いアリール基
で置換されたヘテロアリール基;あるいは低級アルキル
基、低級アルコキシ基、またはハロゲン原子で置換され
ていても良いヘテロアリール基で置換されたヘテロアリ
ール基であり(ただし、RおよびRの両方が水素原
子である場合を除く)、Xはハロゲン原子である。
In the formula, R 1 is a hydrogen atom; a lower alkyl group; a lower alkoxy group; a lower alkenyl group; a lower alkynyl group; a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group, and an aryl which may be substituted with a halogen atom. A lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a heteroaryl group optionally substituted with a halogen atom; R 2 is a hydrogen atom; a lower alkyl group; a lower alkoxy group; a lower alkenyl group; a lower alkynyl group; A halogen atom; an aryl group optionally substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a halogen atom; an aryl substituted with an aryl group optionally substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a halogen atom Group; substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a halogen atom Even if it substituted with heteroaryl group, an aryl group, a lower alkyl group, a lower alkoxy group or optionally substituted with a halogen atom, a heteroaryl group; a lower alkyl group, a lower alkoxy group,
Or a heteroaryl group substituted with an aryl group optionally substituted with a halogen atom; or a heteroaryl group substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a heteroaryl group optionally substituted with a halogen atom. X (except when both R 1 and R 2 are hydrogen atoms), and X is a halogen atom.

【0016】本発明はまた、上記式(I)で表される化
合物を製造するための方法であって、式(II)で表さ
れる化合物
The present invention also relates to a process for producing the compound represented by the above formula (I), which comprises the compound represented by the formula (II)

【0017】[0017]

【化10】 Embedded image

【0018】(式中、Rは、水素原子;低級アルキル
基;低級アルコキシ基;低級アルケニル基;低級アルキ
ニル基;ハロゲン原子;低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリ
ール基;あるいは低級アルキル基、低級アルコキシ基、
またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリ
ール基であり、Rは、水素原子;低級アルキル基;低
級アルコキシ基;低級アルケニル基;低級アルキニル
基;ハロゲン原子;低級アルキル基、低級アルコキシ
基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリー
ル基;低級アルキル基、低級アルコキシ基、またはハロ
ゲン原子で置換されていても良いアリール基で置換され
た、アリール基;低級アルキル基、低級アルコキシ基、
またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリ
ール基で置換された、アリール基;低級アルキル基、低
級アルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていて
も良いヘテロアリール基;低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いア
リール基で置換された、ヘテロアリール基;あるいは低
級アルキル基、低級アルコキシ基、またはハロゲン原子
で置換されていても良いヘテロアリール基で置換され
た、ヘテロアリール基であり、そしてXはハロゲン原子
である。)と、式(III)で表される化合物:
(Wherein R 1 is a hydrogen atom; a lower alkyl group; a lower alkoxy group; a lower alkenyl group; a lower alkynyl group; a halogen atom; even if it is substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a halogen atom). Good aryl groups; or lower alkyl groups, lower alkoxy groups,
Or a heteroaryl group which may be substituted with a halogen atom, wherein R 2 is a hydrogen atom; a lower alkyl group; a lower alkoxy group; a lower alkenyl group; a lower alkynyl group; a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group; Or an aryl group optionally substituted with a halogen atom; an aryl group substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or an aryl group optionally substituted with a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group,
Or an aryl group substituted with a heteroaryl group optionally substituted with a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a heteroaryl group optionally substituted with a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group Or a heteroaryl group substituted with an aryl group optionally substituted with a halogen atom; or a heteroaryl group substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a heteroaryl group optionally substituted with a halogen atom. X is an aryl group, and X is a halogen atom. ) And a compound of formula (III):

【0019】[0019]

【化11】 Embedded image

【0020】とを、有機溶媒中、酸補足剤の存在下に反
応させる工程を包含する、方法である。
Is reacted in an organic solvent in the presence of an acid scavenger.

【0021】好ましい実施形態においては、XはBrで
ある。
In a preferred embodiment, X is Br.

【0022】好ましい実施形態においては、Rは水素
原子であり、かつRはβ−ナフチルまたは3,5−ジ
フェニルフェニルである。
In a preferred embodiment, R 1 is a hydrogen atom and R 2 is β-naphthyl or 3,5-diphenylphenyl.

【0023】好ましい実施形態においては、Rはフェ
ニルであり、かつRは3,5−ジフェニルフェニルで
ある。
In a preferred embodiment, R 1 is phenyl and R 2 is 3,5-diphenylphenyl.

【0024】本発明はまた、上記式(I)で表される化
合物の存在下、式(IV)で表される化合物:
The present invention also provides a compound represented by the formula (IV) in the presence of the compound represented by the above formula (I):

【0025】[0025]

【化12】 Embedded image

【0026】(式中、RおよびRは、同じまたは異
なって、水素原子であるか、あるいはC〜Cアルキ
ル基、C〜Cアルコキシ基、またはハロゲン原子で
置換されていても良いアリール基であり(ただしR
よびRの両方が同時に水素原子である場合を除く);
は、水素原子であるか、C〜Cアルキル基、C
〜Cアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換され
ていても良いアリール基であるか、分岐または環を形成
していても良いC〜Cアルキル基であるか、あるい
はC〜Cアルキル基、C〜Cアルコキシ基、ま
たはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基
であり;そしてRはC〜Cアルキル基である)
を、溶媒中、無機塩基の存在下、式(V)の化合物:
(Where R3And R4Are the same or different
Is a hydrogen atom or C1~ C3Archi
Group, C1~ C3With an alkoxy group or a halogen atom
An aryl group which may be substituted (provided that R3You
And R4Unless both are simultaneously hydrogen atoms);
R5Is a hydrogen atom or C1~ C3Alkyl group, C
1~ C3Substituted with an alkoxy group or a halogen atom
Is an optionally substituted aryl group or forms a branch or ring
C that may be1~ C6Is an alkyl group or
Is C1~ C3Alkyl group, C1~ C3An alkoxy group
Or an aralkyl group optionally substituted with a halogen atom
And R6Is C1~ C4Is an alkyl group)
With a compound of formula (V) in a solvent in the presence of an inorganic base:

【0027】[0027]

【化13】 Embedded image

【0028】(式中、Rは、C〜Cの分岐もしく
は環を形成していても良いアルキル基;C〜Cの分
岐もしくは環を形成していても良いアリル基または置換
アリル基;C〜Cのアルキル基、C〜Cのアル
コキシ基、ハロゲン原子、あるいはC〜Cのアルキ
ル基、C〜Cのアルコキシ基、またはハロゲン原子
で置換されていても良いアリール基、あるいはC〜C
のアルキル基、C〜Cのアルコキシ基、またはハ
ロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基で
置換されていても良いアラルキル基;C〜Cのアル
キル基、C〜C のアルコキシ基、ハロゲン原子、あ
るいはC〜Cのアルキル基、C〜C のアルコキ
シ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリ
ール基、あるいはC〜Cのアルキル基、C〜C
のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていて
も良いヘテロアリール基で置換されていても良いヘテロ
アラルキル基;もしくは、C〜Cの分岐していても
良いプロパルギル基または置換プロパルギル基であり;
そしてWは脱離能を有する官能基である)でアルキル化
する工程を包含する、式(VI):
(Where R7Is C1~ C6Branch of
Is an alkyl group which may form a ring;3~ C9Minute
Allyl group which may form a branch or ring or substitution
Allyl group; C1~ C4An alkyl group of C1~ C3Al
Coxy group, halogen atom or C1~ C4Archi
Group, C1~ C3An alkoxy group or a halogen atom
An aryl group optionally substituted with1~ C
4An alkyl group of C1~ C3An alkoxy group, or
A heteroaryl group which may be substituted with a
An optionally substituted aralkyl group; C1~ C3Al
Kill group, C1~ C 3An alkoxy group, a halogen atom,
Or C1~ C4An alkyl group of C1~ C 3Alcoqui
Ants which may be substituted with
Or C1~ C4An alkyl group of C1~ C3
Is substituted with an alkoxy group or a halogen atom,
Hetero which may be substituted with a heteroaryl group
An aralkyl group; or C3~ C9Even if it branches
Good propargyl or substituted propargyl;
And W is a functional group capable of leaving)
Formula (VI):

【0029】[0029]

【化14】 Embedded image

【0030】(式中、R、R、R、R、および
は前記と同様であり、かつ*印は不斉炭素原子を示
す)で示される化合物を立体選択的に製造する方法であ
る。
Wherein R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , and R 7 are the same as described above, and the asterisk indicates an asymmetric carbon atom. How to

【0031】本発明者は、軸不斉N−スピロ相間移動触
媒とN−保護グリシン誘導体のアルキル化反応の立体選
択性について、さらなる研究を重ねた結果、本発明を成
すに至ったものであって、その要点とするところは、以
下の通りである。
The present inventors have conducted further studies on the stereoselectivity of the axially asymmetric N-spiro phase transfer catalyst and the alkylation reaction of the N-protected glycine derivative, and as a result, have accomplished the present invention. The main points are as follows.

【0032】従来、軸不斉N−スピロ相間移動触媒を使
用して、N−保護グリシン誘導体を立体選択的にアルキ
ル化するには、軸不斉を有する二つのビナフチル構造に
よってコンフォメーションが固定されたキラルなN−ス
ピロ4級アンモニウム塩が必要であると考えられていた
ことは先に述べた通りである。
Conventionally, in order to stereoselectively alkylate N-protected glycine derivatives using an axially asymmetric N-spiro phase transfer catalyst, the conformation is fixed by two binaphthyl structures having axial asymmetry. As described above, it was considered that a chiral N-spiro quaternary ammonium salt was required.

【0033】[0033]

【化15】 Embedded image

【0034】[0034]

【化16】 Embedded image

【0035】しかし、式(VII)で示される化合物と
式(VIII)で示される化合物とについて、触媒活性
を調べたところ、以下のような事実が見出された。すな
わち、式(VII)で示される化合物を、1mol%用
い、50%の水酸化カリウム水溶液とトルエン(1:
3)の2相系混合物中、グリシン誘導体(IX)に1.
2当量の臭化ベンジルを0℃で3時間反応させ、生成し
た化合物(X)の加水分解を伴う後処理の後、光学純度
94%eeの(R)−フェニルアラニン(XI)を収率
91%で得ることができた。他方、式(VIII)の化
合物の場合には、同様の条件下に反応を62時間継続し
ても、反応はわずかに53%の進行にとどまり、後処理
の後に得た(R)−フェニルアラニンの光学純度も、わ
ずかに18%eeであった。
However, when the catalytic activities of the compound represented by the formula (VII) and the compound represented by the formula (VIII) were examined, the following facts were found. That is, the compound represented by the formula (VII) was used at 1 mol%, and a 50% aqueous solution of potassium hydroxide and toluene (1:
In the two-phase mixture of 3), the glycine derivative (IX) was added with 1: 1.
After reaction of 2 equivalents of benzyl bromide at 0 ° C. for 3 hours, the resulting compound (X) is subjected to a post-treatment involving hydrolysis, and then (R) -phenylalanine (XI) having an optical purity of 94% ee is obtained in a yield of 91%. Could be obtained. On the other hand, in the case of the compound of formula (VIII), the reaction progresses only 53% even if the reaction is continued for 62 hours under the same conditions, and the (R) -phenylalanine obtained after work-up The optical purity was also only 18% ee.

【0036】[0036]

【化17】 Embedded image

【0037】このような結果を踏まえ、化合物(VI
I)と化合物(VIII)とをそれぞれ0.5モル%ず
つ混合したものを触媒として使用し、同様の反応を行っ
たところ、13時間後に、光学純度94%eeの(R)
−フェニルアラニンが収率88%で得られた。
Based on these results, the compound (VI
The same reaction was carried out using a mixture of 0.5 mol% each of I) and the compound (VIII) as a catalyst. After 13 hours, (R) having an optical purity of 94% ee was obtained.
-Phenylalanine was obtained in a yield of 88%.

【0038】すなわち、二つのビナフチル基で構成され
たキラルなN−スピロ4級アンモニウム塩のうち、一方
のビナフチル基の軸不斉のみが高い触媒活性と立体選択
性に寄与していることを見出したのである。本発明はか
かる知見に基づいて成されたものである。
That is, among chiral N-spiro quaternary ammonium salts composed of two binaphthyl groups, it was found that only the axial asymmetry of one binaphthyl group contributed to high catalytic activity and stereoselectivity. It was. The present invention has been made based on such findings.

【0039】[0039]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳述する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.

【0040】本明細書で用いられる用語は以下のように
定義される。
The terms used in this specification are defined as follows.

【0041】用語「低級アルキル基」とは、C
、好ましくはC〜Cの分岐または環を形成して
いても良いアルキル基を指し、炭素数1個〜6個(好ま
しくは1個〜4個)の直鎖、分岐鎖および環状アルキル
を包含していう。このような低級アルキル基の例として
は、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、シ
クロプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert
−ブチル、シクロブチル、ペンチル、シクロペンチル、
ヘキシル、およびシクロへキシルが挙げられる。本発明
においては、メチル、イソプロピルおよびtert−ブ
チルが特に好ましい。
The term "lower alkyl" refers to C 1 -C.
C 6 , preferably a C 1 to C 4 alkyl group which may form a branch or a ring, and is a linear, branched or cyclic C 1 to C 6 (preferably 1 to 4) carbon group The term includes alkyl. Examples of such lower alkyl groups include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, cyclopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert.
-Butyl, cyclobutyl, pentyl, cyclopentyl,
Hexyl, and cyclohexyl. In the present invention, methyl, isopropyl and tert-butyl are particularly preferred.

【0042】用語「低級アルコキシ基」とは、C〜C
、好ましくはC〜Cの分岐または環を形成してい
ても良いアルコキシ基を指し、炭素数1個〜6個(好ま
しくは1個〜4個)の直鎖、分岐鎖および環状アルコキ
シを包含していう。このような低級アルコキシ基の例と
しては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポ
キシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、t
ert−ブトキシ、およびフェノキシが挙げられる。本
発明においては、メトキシおよびエトキシが特に好まし
い。
The term “lower alkoxy” refers to C 1 -C
6 , preferably a C 1 -C 4 alkoxy group which may form a branch or a ring, having 1 to 6 (preferably 1 to 4) carbon atoms of a linear, branched or cyclic alkoxy group Including. Examples of such lower alkoxy groups include methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, t
tert-butoxy, and phenoxy. In the present invention, methoxy and ethoxy are particularly preferred.

【0043】用語「低級アルケニル基」とは、C〜C
、好ましくはC〜Cの分岐または環を形成してい
ても良いアルケニル基を指し、炭素数2個〜6個(好ま
しくは2個〜4個)の直鎖、分岐鎖および環状アルケニ
ルを包含していう。このような低級アルケニル基の例と
しては、エテニル、プロペニル、イソプロペニル、シク
ロプロペニル、ブテニル、1−メチル−1−プロペニ
ル、1−メチル−2−プロペニル、2−メチル−1−プ
ロペニル、2−メチル−2−プロペニル、シクロブテニ
ル、ペンテニル、シクロペンテニル、ヘキセニル、およ
びシクロヘキセニルが挙げられる。本発明においては、
プロペニルおよびブテニルが特に好ましい。
The term “lower alkenyl” refers to C 2 -C
6 , preferably a C 2 -C 4 alkenyl group which may form a branch or a ring, having 2 to 6 (preferably 2 to 4) carbon atoms of a linear, branched or cyclic alkenyl group Including. Examples of such lower alkenyl groups include ethenyl, propenyl, isopropenyl, cyclopropenyl, butenyl, 1-methyl-1-propenyl, 1-methyl-2-propenyl, 2-methyl-1-propenyl, 2-methyl -2-propenyl, cyclobutenyl, pentenyl, cyclopentenyl, hexenyl, and cyclohexenyl. In the present invention,
Propenyl and butenyl are particularly preferred.

【0044】用語「低級アルキニル基」とは、C〜C
、好ましくはC〜Cの分岐または環構造を含んで
いても良いアルキニル基を指し、炭素数2個〜6個(好
ましくは2個〜4個)の直鎖、分岐鎖および環状アルキ
ニルを包含していう。このような低級アルキニル基の例
としては、エチニル、プロピニル、シクロプロピルエチ
ニル、ブチニル、1−メチル−2−プロピニル、ペンチ
ニル、シクロブチルエチニル、ヘキシニル、およびトリ
メチルシリルエチニルが挙げられる。本発明において
は、エチニルおよびトリメチルシリルエチニルが特に好
ましい。
The term "lower alkynyl" refers to C 2 -C
6 , preferably an alkynyl group optionally having a C 2 to C 4 branched or cyclic structure, and having 2 to 6 (preferably 2 to 4) carbon atoms of a linear, branched or cyclic alkynyl group Including. Examples of such lower alkynyl groups include ethynyl, propynyl, cyclopropylethynyl, butynyl, 1-methyl-2-propynyl, pentynyl, cyclobutylethynyl, hexynyl, and trimethylsilylethynyl. In the present invention, ethynyl and trimethylsilylethynyl are particularly preferred.

【0045】本発明における「ハロゲン原子」の例とし
ては、塩素、臭素、ヨウ素、およびフッ素が挙げられ
る。
Examples of the “halogen atom” in the present invention include chlorine, bromine, iodine and fluorine.

【0046】用語「4個〜10個の炭素原子を有する有
機残基」とは、嵩だかとなっている脂肪族炭化水素であ
って、t−ブチル、ネオペンチル、および2,2−ジメ
チルヘキシルのような3級または4級炭素原子を含む脂
肪族炭化水素、あるいは芳香族炭化水素、例えば、フェ
ニル、ナフチルおよびピリジルのような芳香族炭化水素
を包含していい、かつこれらの一部がハロゲン原子、脂
肪族アルキル基または脂肪族アルコキシ基で置換されて
いるものも包含していう。
The term "organic residue having 4 to 10 carbon atoms" refers to a bulky aliphatic hydrocarbon, such as t-butyl, neopentyl, and 2,2-dimethylhexyl. Aliphatic hydrocarbons containing tertiary or quaternary carbon atoms, or aromatic hydrocarbons such as phenyl, naphthyl and pyridyl, and some of these may be halogen atoms. And those substituted with an aliphatic alkyl group or an aliphatic alkoxy group.

【0047】用語「4個〜20個の炭素原子を有する有
機残基」とは、嵩だかとなっている脂肪族炭化水素であ
って、t−ブチル、ネオペンチル、および2,2−ジメ
チルヘキシルのような3級または4級炭素原子を含む脂
肪族炭化水素または長鎖脂肪族炭化水素、あるいはフェ
ニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、フェニ
ル置換フェニル、およびピリジルのような芳香族炭化水
素を包含していい、かつこれらの一部がハロゲン原子、
脂肪族アルキル基または脂肪族アルコキシ基で置換され
ているものも包含していう。
The term "organic residue having 4 to 20 carbon atoms" refers to a bulky aliphatic hydrocarbon, such as t-butyl, neopentyl, and 2,2-dimethylhexyl. Aliphatic or long chain aliphatic hydrocarbons containing such tertiary or quaternary carbon atoms, or aromatic hydrocarbons such as phenyl, naphthyl, anthryl, phenanthryl, phenyl substituted phenyl, and pyridyl. And some of these are halogen atoms,
Those substituted with an aliphatic alkyl group or an aliphatic alkoxy group are also included.

【0048】本発明における「アリール基」の例として
は、フェニル、ビフェニル、ナフチル、およびアントラ
セニルが挙げられる。
Examples of the "aryl group" in the present invention include phenyl, biphenyl, naphthyl and anthracenyl.

【0049】本発明における「ヘテロアリール基」の例
としては、ピリジル、キノニル、ピロリル、イミダゾリ
ル、フリル、インドリル、チエニル、オキサゾリル、お
よびチアゾリルが挙げられる。
Examples of the "heteroaryl group" in the present invention include pyridyl, quinonyl, pyrrolyl, imidazolyl, furyl, indolyl, thienyl, oxazolyl and thiazolyl.

【0050】本発明における「アラルキル基」の例とし
ては、ベンジル、フェネチル、ナフチルメチル、および
アンスラセニルメチルが挙げられる。
[0050] Examples of the "aralkyl group" in the present invention include benzyl, phenethyl, naphthylmethyl and anthracenylmethyl.

【0051】本発明におけるヘテロアラルキル基の例と
しては、ピリジルメチル、キノニルメチル、インドリル
メチル、フリルメチル、チエニルメチル、およびピロリ
ルメチルが挙げられる。
Examples of the heteroaralkyl group in the present invention include pyridylmethyl, quinonylmethyl, indolylmethyl, furylmethyl, thienylmethyl, and pyrrolylmethyl.

【0052】用語「C〜Cの分岐していても良いプ
ロパルギル基または置換プロパルギル基」 は、プロパ
ルギル基、あるいは1および/または3位に置換基を有
する合計炭素数4個〜9個の置換プロパルギル基を意味
し、例えば、2−ブチニル、3−トリメチルシリル−2
−プロピニルなどが挙げられる。本発明においては、プ
ロパルギルおよび3−トリメチルシリル−2−プロピニ
ルが好ましい。
The term "C 3 -C 9 optionally branched propargyl group or substituted propargyl group" means a propargyl group or a C 4 -C 9 substituted or unsubstituted propargyl group having a substituent at the 1- and / or 3-position. A substituted propargyl group means, for example, 2-butynyl, 3-trimethylsilyl-2
-Propynyl and the like. In the present invention, propargyl and 3-trimethylsilyl-2-propynyl are preferred.

【0053】用語「脱離能を有する官能基」は、置換反
応あるいは脱離反応において、反応基質から離れていく
原子または原子団、つまり脱離基を意味し、例えば、ハ
ロゲン原子およびスルフォニルオキシ基が挙げられる。
The term "functional group capable of leaving" refers to an atom or an atomic group leaving a reaction substrate in a substitution reaction or elimination reaction, that is, a leaving group, for example, a halogen atom and a sulfonyloxy group. Is mentioned.

【0054】本発明における「スルフォニルオキシ基」
の例としては、メタンスルフォニルオキシ、p−トルエ
ンスルフォニルオキシ、およびトリフルオロメタンスル
フォニルオキシが挙げられる。
"Sulfonyloxy group" in the present invention
Examples include methanesulfonyloxy, p-toluenesulfonyloxy, and trifluoromethanesulfonyloxy.

【0055】本発明のN−スピロ4級アンモニウム塩化
合物は、式(I):
The N-spiro quaternary ammonium salt compound of the present invention has the formula (I):

【0056】[0056]

【化18】 Embedded image

【0057】(式中、Rは、水素原子;低級アルキル
基;低級アルコキシ基;低級アルケニル基;低級アルキ
ニル基;ハロゲン原子;低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリ
ール基;あるいは低級アルキル基、低級アルコキシ基、
またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリ
ール基であり、Rは、水素原子;低級アルキル基;低
級アルコキシ基;低級アルケニル基;低級アルキニル
基;ハロゲン原子;低級アルキル基、低級アルコキシ
基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリー
ル基;低級アルキル基、低級アルコキシ基、またはハロ
ゲン原子で置換されていても良いアリール基で置換され
たアリール基;低級アルキル基、低級アルコキシ基、ま
たはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリー
ル基で置換された、アリール基;低級アルキル基、低級
アルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても
良いヘテロアリール基;低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリ
ール基で置換された、ヘテロアリール基;あるいは低級
アルキル基、低級アルコキシ基、またはハロゲン原子で
置換されていても良いヘテロアリール基で置換された、
ヘテロアリール基であり、そしてXは、ハロゲン原子で
ある)である。このN−スピロ4級アンモニウム塩化合
物は相間移動触媒として用いることができる。
(Wherein R 1 is a hydrogen atom; a lower alkyl group; a lower alkoxy group; a lower alkenyl group; a lower alkynyl group; a halogen atom; even if it is substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a halogen atom). Good aryl groups; or lower alkyl groups, lower alkoxy groups,
Or a heteroaryl group which may be substituted with a halogen atom, wherein R 2 is a hydrogen atom; a lower alkyl group; a lower alkoxy group; a lower alkenyl group; a lower alkynyl group; a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group; Or an aryl group optionally substituted with a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or an aryl group substituted with an aryl group optionally substituted with a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a halogen An aryl group substituted with a heteroaryl group optionally substituted with an atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a heteroaryl group optionally substituted with a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or Substituted with an aryl group which may be substituted with a halogen atom, A heteroaryl group; or a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a heteroaryl group optionally substituted with a halogen atom,
A heteroaryl group and X is a halogen atom). This N-spiro quaternary ammonium salt compound can be used as a phase transfer catalyst.

【0058】上記式(I)で表される化合物は次のよう
にして製造される。すなわち、式(II)で表される化
合物:
The compound represented by the above formula (I) is produced as follows. That is, a compound represented by the formula (II):

【0059】[0059]

【化19】 Embedded image

【0060】(式中、Rは、水素原子;低級アルキル
基;低級アルコキシ基;低級アルケニル基;低級アルキ
ニル基;ハロゲン原子;低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリ
ール基;あるいは低級アルキル基、低級アルコキシ基、
またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリ
ール基であり、Rは、水素原子;低級アルキル基;低
級アルコキシ基;低級アルケニル基;低級アルキニル
基;ハロゲン原子;低級アルキル基、低級アルコキシ
基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリー
ル基;低級アルキル基、低級アルコキシ基、またはハロ
ゲン原子で置換されていても良いアリール基で置換され
た、アリール基;低級アルキル基、低級アルコキシ基、
またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリ
ール基で置換された、アリール基;低級アルキル基、低
級アルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていて
も良いヘテロアリール基;低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いア
リール基で置換された、ヘテロアリール基;あるいは低
級アルキル基、低級アルコキシ基、またはハロゲン原子
で置換されていても良いヘテロアリール基で置換され
た、ヘテロアリール基であり(ただしRとRとの両
方が水素原子である場合を除く)、そしてXはハロゲン
原子である。)と、式(III)で表される化合物:
(Wherein R 1 is a hydrogen atom; a lower alkyl group; a lower alkoxy group; a lower alkenyl group; a lower alkynyl group; a halogen atom; even if it is substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a halogen atom). Good aryl groups; or lower alkyl groups, lower alkoxy groups,
Or a heteroaryl group which may be substituted with a halogen atom, wherein R 2 is a hydrogen atom; a lower alkyl group; a lower alkoxy group; a lower alkenyl group; a lower alkynyl group; a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group; Or an aryl group optionally substituted with a halogen atom; an aryl group substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or an aryl group optionally substituted with a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group,
Or an aryl group substituted with a heteroaryl group optionally substituted with a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a heteroaryl group optionally substituted with a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group Or a heteroaryl group substituted with an aryl group optionally substituted with a halogen atom; or a heteroaryl group substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a heteroaryl group optionally substituted with a halogen atom. X is an aryl group (unless both R 1 and R 2 are hydrogen atoms), and X is a halogen atom. ) And a compound of formula (III):

【0061】[0061]

【化20】 Embedded image

【0062】とを、適切な有機溶媒中、酸補足剤の存在
下にて反応させることにより得られる。
Can be obtained in a suitable organic solvent in the presence of an acid scavenger.

【0063】ここで、使用され得る適切な有機溶媒とし
ては、反応に関与しないものであれば種類を問わない
が、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、
イソプロパノール、ブタノール、tert−ブチルアル
コール等のアルコール系溶媒が挙げられる。使用され得
る酸補足剤の例としては、炭酸カリウムおよび炭酸ナト
リウムが挙げられる。
Here, the suitable organic solvent that can be used is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction. For example, methanol, ethanol, propanol,
Alcohol solvents such as isopropanol, butanol and tert-butyl alcohol are exemplified. Examples of acid supplements that may be used include potassium carbonate and sodium carbonate.

【0064】上記式(II)で表される化合物と、上記
式(III)で表される化合物とを用いて、このような
適切な有機溶媒中、酸補足剤の存在下に室温から使用す
る有機溶媒の沸点までの間の適切な温度、好ましくは室
温から80℃で、30分から12時間、好ましくは2時
間から11時間、さらに好ましくは3時間から10時間
攪拌することにより式(I)で表される化合物を得るこ
とができる。
The compound represented by the above formula (II) and the compound represented by the above formula (III) are used at room temperature in such a suitable organic solvent in the presence of an acid scavenger. By stirring at a suitable temperature up to the boiling point of the organic solvent, preferably at room temperature to 80 ° C., for 30 minutes to 12 hours, preferably 2 hours to 11 hours, more preferably 3 hours to 10 hours, The compounds represented can be obtained.

【0065】この際、上記反応溶媒は、化合物(II
I)に対して、容積(mL)/重量(g)比で好ましく
は5倍から50倍、より好ましくは10倍から40倍使
用され、酸補足剤は化合物(III)に対して、好まし
くは2当量から4当量、より好ましくは2当量から3当
量使用されればよい。
At this time, the reaction solvent is the compound (II)
It is preferably used in a volume (mL) / weight (g) ratio of 5 to 50 times, more preferably 10 to 40 times with respect to I), and the acid scavenger is preferably used for compound (III). It is sufficient to use 2 to 4 equivalents, more preferably 2 to 3 equivalents.

【0066】上記式(I)で表される化合物において、
が水素原子であり、かつRがβ−ナフチルである
化合物は次のようにして製造される。
In the compound represented by the above formula (I),
A compound in which R 1 is a hydrogen atom and R 2 is β-naphthyl is produced as follows.

【0067】まず、2−アミノ−6−ニトロトルエンか
ら2−ヨード−6−ニトロトルエンを調製し、これをカ
ップリング反応に付すことにより、2,2’−ジメチル
−3,3’−ジニトロビフェニルが得られる。次いで、
この2,2’−ジメチル−3,3’−ジニトロビフェニ
ルのニトロ基をアミノ基に還元した後、ジアゾ化を経由
し、ヨード基に変換することにより、2,2′−ジメチ
ル−3,3′−ヨードビフェニルが製造される。
First, 2-iodo-6-nitrotoluene is prepared from 2-amino-6-nitrotoluene and subjected to a coupling reaction to obtain 2,2′-dimethyl-3,3′-dinitrobiphenyl. Can be Then
After reducing the nitro group of this 2,2'-dimethyl-3,3'-dinitrobiphenyl to an amino group, the resulting compound is converted to an iodine group via diazotization to give 2,2'-dimethyl-3,3. '-Iodobiphenyl is produced.

【0068】得られた2,2’−ジメチル−3,3’−
ヨードビフェニルにパラジウム触媒と酸補足剤との存在
下にて、2−ナフチルボロン酸を反応させて(鈴木カッ
プリング)、2,2’−ジメチル−3,3’−ジ(β−
ナフチル)ビフェニルとし、これをN−ブロムコハク酸
イミドでメチル基をブロム化して、3,3’−ジ(β−
ナフチル)−2,2’−ジブロモメチルビフェニルが得
られる。
The obtained 2,2'-dimethyl-3,3'-
Iodobiphenyl was reacted with 2-naphthylboronic acid in the presence of a palladium catalyst and an acid scavenger (Suzuki coupling) to give 2,2′-dimethyl-3,3′-di (β-
Naphthyl) biphenyl, which was brominated with N-bromosuccinimide to form a methyl group to give 3,3′-di (β-
(Naphthyl) -2,2'-dibromomethylbiphenyl is obtained.

【0069】さらに、得られた3,3’−ジ(β−ナフ
チル)−2,2’−ジブロモメチルビフェニルは、酸補
足剤の存在下にて、式(III)で示される(S)−
3,5−ジヒドロ−4H−ジナフト[2,1−c:
1’,2’−e]アゼピン化合物と反応させられる。こ
のようにして、式(I)で示される化合物のうち、ベン
ゼン環にβ−ナフチル基を置換したN−スピロキラルC
軸不斉四級アンモニウムブロミドを製造することがで
きる。
Further, the obtained 3,3′-di (β-naphthyl) -2,2′-dibromomethylbiphenyl is represented by the formula (III) in the presence of an acid scavenger.
3,5-dihydro-4H-dinaphtho [2,1-c:
1 ′, 2′-e] azepine compound. Thus, among the compounds represented by the formula (I), N-spirochiral C having a benzene ring substituted with a β-naphthyl group can be used.
It is possible to produce a 2 axial asymmetry quaternary ammonium bromide.

【0070】他方、上記式(I)で表される化合物にお
いて、Rが水素原子であり、かつRが3,5−ジフ
ェニルフェニルである化合物は次のようにして製造され
る。
On the other hand, in the compound represented by the above formula (I), the compound wherein R 1 is a hydrogen atom and R 2 is 3,5-diphenylphenyl is produced as follows.

【0071】まず、上記と同様にして2,2’−ジメチ
ル3,3’−ヨードビフェニルが製造される。次いで、
この2,2’−ジメチル−3,3’−ヨードビフェニル
に、3,5−ジフェニルフェニルボロン酸を反応させ、
2,2’−ジメチル−3,3’−ジ(3,5−ジフェニ
ルフェニル)ビフェニルとし、N−ブロムコハク酸イミ
ドでメチル基をブロム化して、3,3’−ジ(3”,
5”−ジフェニルフェニル)−2,2’−ジブロモメチ
ルビフェニルを得る。
First, 2,2'-dimethyl 3,3'-iodobiphenyl is produced in the same manner as described above. Then
The 2,2′-dimethyl-3,3′-iodobiphenyl is reacted with 3,5-diphenylphenylboronic acid,
2,2′-Dimethyl-3,3′-di (3,5-diphenylphenyl) biphenyl, and bromination of the methyl group with N-bromosuccinimide to give 3,3′-di (3 ″,
5 "-diphenylphenyl) -2,2'-dibromomethylbiphenyl is obtained.

【0072】得られた3,3’−ジ(3”,5”−ジフ
ェニルフェニル)−2,2’−ジブロモメチルビフェニ
ールは、式(III)で示される(S)−3,5−ジヒ
ドロ−4H−ジナフト[2,1−c:1’,2’−e]
アゼピン化合物と反応させられる。このようにして、式
(I)で示される化合物のうち、ベンゼン環に3,5−
ジフェニルフェニル基を置換したN−スピロキラルC
軸不斉四級アンモニウムブロミドが製造される。
The obtained 3,3′-di (3 ″, 5 ″ -diphenylphenyl) -2,2′-dibromomethylbiphenyl is represented by the formula (III) (S) -3,5-dihydro- 4H-dinaphtho [2,1-c: 1 ′, 2′-e]
React with azepine compound. Thus, among the compounds represented by the formula (I), 3,5-
N-spirochiral C 2 substituted with a diphenylphenyl group
An axially asymmetric quaternary ammonium bromide is produced.

【0073】さらに、Rがフェニルであり、かつR
が3,5−ジフェニルフェニルである式(I)で表され
る化合物は、2,2’−ジヒドロキシ−5,5’−ジフ
ェニルビフェニルから次のようにして製造される。
Further, R 1 is phenyl and R 2
Is a 3,5-diphenylphenyl, the compound represented by the formula (I) is produced from 2,2′-dihydroxy-5,5′-diphenylbiphenyl as follows.

【0074】まず、2,2’−ジヒドロキシ−5,5’
−ジフェニルビフェニルに、例えばメトキシメチルクル
リドを反応させて、2,2’−ジメトキシメトキシ−
5,5’−ジフェニルビフェニルとし、これを、n−ブ
チルリチウムでリチオ化した後、トリメトキシボランと
反応させ、最後に過酸化水素で酸化して、2,2’−ジ
メトキシメトキシ−3,3’−ジヒドロキシ−5,5’
−ジフェニルビフェニルを得る。
First, 2,2'-dihydroxy-5,5 '
-Diphenylbiphenyl is reacted with, for example, methoxymethyl chloride to give 2,2'-dimethoxymethoxy-
5,5′-diphenylbiphenyl was lithiated with n-butyllithium, reacted with trimethoxyborane, and finally oxidized with hydrogen peroxide to give 2,2′-dimethoxymethoxy-3,3. '-Dihydroxy-5,5'
To obtain diphenylbiphenyl.

【0075】次いで、メチルハライド(メチルヨウジ
ド、メチルブロミドなど)でO−アルキル化した後、濃
塩酸で処理して、2,2’−ジヒドロキシ−3,3’−
ジメトキシ−5,5’−ジフェニルビフェニルを得る。
得られた化合物を、O−トリフリル化し、メチルグリニ
ャール試薬(ヨウ化メチルマグネシウム、臭化メチルマ
グネシウムなど)と反応させて、2,2’−ジメチル−
3,3’−ジメトキシ−5,5’−ジフェニルビフェニ
ルを得る。
Then, after O-alkylation with methyl halide (methyl iodide, methyl bromide, etc.), the mixture is treated with concentrated hydrochloric acid to give 2,2′-dihydroxy-3,3′-.
Dimethoxy-5,5'-diphenylbiphenyl is obtained.
The resulting compound is O-tolylylated and reacted with a methyl Grignard reagent (methyl magnesium iodide, methyl magnesium bromide, etc.) to give 2,2′-dimethyl-
3,3'-Dimethoxy-5,5'-diphenylbiphenyl is obtained.

【0076】得られた化合物に三臭化ホウ素を反応させ
て、メトキシ基をヒドロキシ基に変え、O−トリフリル
化の後、3,5−ジフェニルフェニルボロン酸と反応さ
せて(鈴木カップリング)、2,2’−ジメチル−3,
3’−ビス(3,5−ジフェニルフェニル)−5,5’
−ジフェニルビフェニルを得る。
The obtained compound was reacted with boron tribromide to change a methoxy group to a hydroxy group, and after O-trifurylation, reacted with 3,5-diphenylphenylboronic acid (Suzuki coupling). 2,2′-dimethyl-3,
3'-bis (3,5-diphenylphenyl) -5,5 '
To obtain diphenylbiphenyl.

【0077】こうして得られた化合物が、N−ブロムコ
ハク酸イミドと反応させて、ブロムメチル化合物に変え
た後、 (S)−3,5−ジヒドロ−4H−ジナフト
[2,1−c:1’,2’−e]アゼピン化合物と反応
させられる。このようにして、式(I)で示される化合
物のうち、ベンゼン環がフェニル基および3,5−ジフ
ェニルフェニル基で置換されたN−スピロキラルC
不斉四級アンモニウムブロミドを製造することができ
る。
The compound thus obtained was reacted with N-bromosuccinimide to convert it to a bromomethyl compound, and then (S) -3,5-dihydro-4H-dinaphtho [2,1-c: 1 ′, 2′-e] azepine compound. Thus, among the compounds of formula (I), that the benzene ring to produce a substituted N- Supirokiraru C 2 axial asymmetry quaternary ammonium bromide in a phenyl group and 3,5-diphenyl phenyl group it can.

【0078】なお、式(I)で表される化合物におい
て、RおよびRの両方が水素原子である化合物は、
2,2’−ジメチルビフェニルを原料として使用し、ま
た、R がフェニルでありかつRが水素原子である化
合物は、2,2’−ジヒドロ−5,5’−ジフェニルビ
フェニルを原料として使用することにより、上記の方法
を適宜適用してそれぞれ合成することができる。
The compound represented by the formula (I)
And R1And R2Are both hydrogen atoms,
Using 2,2'-dimethylbiphenyl as a raw material,
R 1Is phenyl and R2Is a hydrogen atom
The compound is 2,2'-dihydro-5,5'-diphenylbi
By using phenyl as a raw material, the above method
Can be appropriately applied to each of them for synthesis.

【0079】上述の反応において使用される式(II
I)で示される(S)−3,5−ジヒドロ−4H−ジナ
フト[2,1−c:1’,2’−e]アゼピン化合物
は、本発明者の発表になるJournal of the
American Chemical Society
Vol.121 6519−6520に記載された方
法に従って製造することができる。
Formula (II) used in the above reaction
The (S) -3,5-dihydro-4H-dinaphtho [2,1-c: 1 ′, 2′-e] azepine compound represented by I) is published in Journal of the publication by the present inventors.
American Chemical Society
Vol. 121 6519-6520.

【0080】またさらに、式(I)で表される化合物に
おいて、RおよびRで特定される他の置換基を有す
る化合物もまた、上述した合成方法に準じて、これらを
製造することができる。
Further, in the compound represented by the formula (I), compounds having other substituents specified by R 1 and R 2 can also be produced according to the above-mentioned synthesis method. it can.

【0081】このようにして、式(I)で表される化合
物を製造することができる。
Thus, the compound represented by the formula (I) can be produced.

【0082】本発明の式(I)で表される化合物は、前
述したグリシン誘導体のアルキル化反応において使用さ
れる場合、高い光学純度を有する反応生成物を高収率で
与えることができる。
When the compound represented by the formula (I) of the present invention is used in the above-mentioned alkylation reaction of a glycine derivative, a reaction product having high optical purity can be obtained in high yield.

【0083】すなわち、上記式(I)で表される化合物
を用いて、式(VI)で表される化合物:
That is, using the compound represented by the above formula (I), the compound represented by the formula (VI):

【0084】[0084]

【化21】 Embedded image

【0085】(式中、RおよびRは、同じまたは異
なって、水素原子であるか、あるいはC〜Cアルキ
ル基、C〜Cアルコキシ基、またはハロゲン原子で
置換されていても良いアリール基であり(ただしR
よびRの両方が同時に水素原子である場合を除く);
は、水素原子であるか、C〜Cアルキル基、C
〜Cアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換され
ていても良いアリール基であるか、分岐または環を形成
していても良いC〜Cアルキル基であるか、あるい
はC〜Cアルキル基、C〜Cアルコキシ基、ま
たはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基
であり;RはC〜Cアルキル基であり;そしてR
は、C〜Cの分岐もしくは環を形成していても良
いアルキル基;C〜Cの分岐もしくは環を形成して
いても良いアリル基または置換アリル基;C〜C
アルキル基、C〜Cのアルコキシ基、ハロゲン原
子、あるいはC〜Cのアルキル基、C〜Cのア
ルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良
いアリール基、あるいはC〜Cのアルキル基、C
〜Cのアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換され
ていても良いヘテロアリール基で置換されていても良い
アラルキル基;C〜Cのアルキル基、C〜C
アルコキシ基、ハロゲン原子、あるいはC〜Cのア
ルキル基、C〜Cのアルコキシ基、またはハロゲン
原子で置換されていても良いアリール基、あるいはC
〜Cのアルキル基、C〜Cのアルコキシ基、また
はハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール
基で置換されていても良いヘテロアラルキル基;もしく
は、C〜Cの分岐していても良いプロパルギル基ま
たは置換プロパルギル基であり、かつ*印は不斉炭素原
子を示す)を立体選択的に製造することができる。
(Where R3And R4Are the same or different
Is a hydrogen atom or C1~ C3Archi
Group, C1~ C3With an alkoxy group or a halogen atom
An aryl group which may be substituted (provided that R3You
And R4Unless both are simultaneously hydrogen atoms);
R5Is a hydrogen atom or C1~ C3Alkyl group, C
1~ C3Substituted with an alkoxy group or a halogen atom
Is an optionally substituted aryl group or forms a branch or ring
C that may be1~ C6Is an alkyl group or
Is C1~ C3Alkyl group, C1~ C3An alkoxy group
Or an aralkyl group optionally substituted with a halogen atom
And R6Is C1~ C4An alkyl group; and R
7Is C1~ C6May form a branch or ring of
Alkyl group; C3~ C9Form a branch or ring of
Optionally allyl or substituted allyl; C1~ C4of
Alkyl group, C1~ C3Alkoxy group, halogen source
Child or C1~ C4An alkyl group of C1~ C3No
May be substituted with a alkoxy group or a halogen atom
Aryl group or C1~ C4An alkyl group of C1
~ C3Is substituted with an alkoxy group or a halogen atom
Optionally substituted with a heteroaryl group
Aralkyl group; C1~ C3An alkyl group of C1~ C3of
An alkoxy group, a halogen atom, or C1~ C4No
Alkyl group, C1~ C3An alkoxy group, or halogen
An aryl group optionally substituted with an atom, or C1
~ C4An alkyl group of C1~ C3An alkoxy group of
Is a heteroaryl optionally substituted by a halogen atom
A heteroaralkyl group optionally substituted with a group; or
Is C3~ C9A propargyl group which may be branched
Or a substituted propargyl group, and * is an asymmetric carbon atom.
Can be produced stereoselectively.

【0086】具体的には、上記式(I)で表される化合
物の存在下、式(IV)で表される化合物:
Specifically, the compound represented by the formula (IV) in the presence of the compound represented by the above formula (I):

【0087】[0087]

【化22】 Embedded image

【0088】(式中、RおよびRは、同じまたは異
なって、水素原子であるか、あるいはC〜Cアルキ
ル基、C〜Cアルコキシ基、またはハロゲン原子で
置換されていても良いアリール基であり(ただしR
よびRの両方が同時に水素原子である場合を除く);
は、水素原子であるか、C〜Cアルキル基、C
〜Cアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換され
ていても良いアリール基であるか、分岐または環を形成
していても良いC〜Cアルキル基であるか、あるい
はC〜Cアルキル基、C〜Cアルコキシ基、ま
たはハロゲン原子で置換されていても良いアラルキル基
であり;そしてRはC〜Cアルキル基である)
を、溶媒中、無機塩基の存在下、式(V)の化合物:
(Wherein R3And R4Are the same or different
Is a hydrogen atom or C1~ C3Archi
Group, C1~ C3With an alkoxy group or a halogen atom
An aryl group which may be substituted (provided that R3You
And R4Unless both are simultaneously hydrogen atoms);
R5Is a hydrogen atom or C1~ C3Alkyl group, C
1~ C3Substituted with an alkoxy group or a halogen atom
Is an optionally substituted aryl group or forms a branch or ring
C that may be1~ C6Is an alkyl group or
Is C1~ C3Alkyl group, C1~ C3An alkoxy group
Or an aralkyl group optionally substituted with a halogen atom
And R6Is C1~ C4Is an alkyl group)
With a compound of formula (V) in a solvent in the presence of an inorganic base:

【0089】[0089]

【化23】 Embedded image

【0090】(式中、Rは、C〜Cの分岐もしく
は環を形成していても良いアルキル基;C〜Cの分
岐もしくは環を形成していても良いアリル基または置換
アリル基;C〜Cのアルキル基、C〜Cのアル
コキシ基、ハロゲン原子、あるいはC〜Cのアルキ
ル基、C〜Cのアルコキシ基、またはハロゲン原子
で置換されていても良いアリール基、あるいはC〜C
のアルキル基、C〜Cのアルコキシ基、またはハ
ロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリール基で
置換されていても良いアラルキル基;C〜Cのアル
キル基、C〜C のアルコキシ基、ハロゲン原子、あ
るいはC〜Cのアルキル基、C〜C のアルコキ
シ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いアリ
ール基、あるいはC〜Cのアルキル基、C〜C
のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていて
も良いヘテロアリール基で置換されていても良いヘテロ
アラルキル基;もしくは、C〜Cの分岐していても
良いプロパルギル基または置換プロパルギル基であり;
そしてWは脱離能を有する官能基である)でアルキル化
することにより、製造することができる。
(Where R7Is C1~ C6Branch of
Is an alkyl group which may form a ring;3~ C9Minute
Allyl group which may form a branch or ring or substitution
Allyl group; C1~ C4An alkyl group of C1~ C3Al
Coxy group, halogen atom or C1~ C4Archi
Group, C1~ C3An alkoxy group or a halogen atom
An aryl group optionally substituted with1~ C
4An alkyl group of C1~ C3An alkoxy group, or
A heteroaryl group which may be substituted with a
An optionally substituted aralkyl group; C1~ C3Al
Kill group, C1~ C 3An alkoxy group, a halogen atom,
Or C1~ C4An alkyl group of C1~ C 3Alcoqui
Ants which may be substituted with
Or C1~ C4An alkyl group of C1~ C3
Is substituted with an alkoxy group or a halogen atom,
Hetero which may be substituted with a heteroaryl group
An aralkyl group; or C3~ C9Even if it branches
Good propargyl or substituted propargyl;
And W is a functional group capable of leaving)
By doing so, it can be manufactured.

【0091】上記反応において、式(I)で表される化
合物は、軸不斉に関して純粋な形態で、相間移動触媒と
しての役割を果たす。ここで、「軸不斉に関して純粋」
とは、軸不斉に基づいて考えられる各種立体異性体のう
ち、1つの特定の異性体の存在率が他の異性体より多い
ことをいう。この1つの特定の異性体の存在率は、好ま
しくは90%以上、より好ましくは95%以上、さらに
より好ましくは98%以上である。
In the above reaction, the compound represented by the formula (I) plays a role as a phase transfer catalyst in a pure form with respect to axial asymmetry. Here, "pure with respect to axial asymmetry"
"It means that among various stereoisomers considered based on axial asymmetry, the abundance of one specific isomer is larger than that of the other isomer. The abundance of this one specific isomer is preferably at least 90%, more preferably at least 95%, even more preferably at least 98%.

【0092】本発明に従えば、炭化水素系溶媒とアルカ
リ水溶液とからなる二相系混合物中、化合物(IV)
と、化合物(IV)に対して好ましくは1当量〜1.5
当量、より好ましくは1.1当量〜1.3当量、最も好
ましくは1.2当量〜1.25当量の化合物(V)と
を、化合物(IV)に対して0.005当量〜0.03
当量、より好ましくは0.0075当量〜0.0125
当量の相間移動触媒として作用する、上記式(I)で表
される化合物の存在下にて、好ましくは−10℃から室
温までの間の適宜な温度、より好ましくは−5℃〜+5
℃で、好ましくは15分から3時間、より好ましくは
0.5時間〜2時間、最も好ましくは0.5時間〜1.
5時間攪拌することにより、式(VI)で表される光学
活性な化合物が高収率かつ高光学純度で得ることができ
る。
According to the present invention, the compound (IV) is contained in a two-phase mixture comprising a hydrocarbon solvent and an aqueous alkali solution.
And preferably 1 equivalent to 1.5 equivalents to compound (IV).
An equivalent, more preferably 1.1 equivalent to 1.3 equivalent, most preferably 1.2 equivalent to 1.25 equivalent of compound (V) is added with 0.005 equivalent to 0.03 equivalent of compound (IV).
Equivalent, more preferably 0.0075 equivalent to 0.0125 equivalent
In the presence of the compound represented by the above formula (I), which acts as an equivalent phase transfer catalyst, preferably at an appropriate temperature between −10 ° C. and room temperature, more preferably −5 ° C. to + 5 ° C.
C., preferably 15 minutes to 3 hours, more preferably 0.5 hours to 2 hours, most preferably 0.5 hours to 1.
By stirring for 5 hours, an optically active compound represented by the formula (VI) can be obtained with high yield and high optical purity.

【0093】具体的には、例えば、式(VI)で表され
る化合物の(S)体を合成する場合には、式(I)の化
合物として(R)の軸不斉を有するものが使用される。
また、式(VI)で表される化合物の(R)体を合成す
る場合には、式(I)で表される化合物として(S)の
軸不斉を有するものが使用される。
Specifically, for example, when synthesizing the (S) form of the compound represented by the formula (VI), a compound having the axial asymmetry of the formula (I) is used as the compound of the formula (I). Is done.
In the case of synthesizing the (R) form of the compound represented by the formula (VI), the compound represented by the formula (I) having the axial asymmetry of (S) is used.

【0094】なお、本明細書において、高光学純度と
は、好ましくは90%ee以上、より好ましくは95%
ee以上の光学純度をいう。
In this specification, high optical purity is preferably 90% ee or more, more preferably 95% ee.
ee or higher optical purity.

【0095】また、溶媒として炭化水素系溶媒が使用さ
れる場合、水と混和しないものであれば、どのような種
類のものでも良く、例えば、ヘキサン、トルエンなどを
式(IV)で表される化合物に対し容積(mL)/重量
(g)比で好ましくは5倍〜30倍、より好ましくは8
倍〜25倍使用される。さらに、溶媒としてアルカリ水
溶液が使用される場合は、水酸化リチウム、水酸化カリ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化セシウム、水酸化ルビ
ジウムなどのアルカリ金属水酸化物の10〜60%水溶
液が使用され得る。その容量は式(IV)で表される化
合物に対し、容積(mL)/重量(g)比で好ましくは
4倍〜20倍、より好ましくは8倍〜15倍であり得
る。
When a hydrocarbon solvent is used as the solvent, any solvent may be used as long as it is immiscible with water. For example, hexane, toluene and the like are represented by the formula (IV). The volume (mL) / weight (g) ratio of the compound is preferably 5 to 30 times, more preferably 8 to 30 times.
Used 25 times to 25 times. Further, when an aqueous alkali solution is used as the solvent, a 10 to 60% aqueous solution of an alkali metal hydroxide such as lithium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydroxide, cesium hydroxide, and rubidium hydroxide can be used. The volume can be preferably 4 to 20 times, more preferably 8 to 15 times, the volume (mL) / weight (g) ratio of the compound represented by the formula (IV).

【0096】また、本発明の上記式(VI)の化合物の
立体選択的な製造方法において使用され得る無機塩基と
しては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化カルシウム、水酸化ルビジウム、水酸化
セシウムなどが挙げられる。
The inorganic base which can be used in the stereoselective production method of the compound of the above formula (VI) of the present invention includes lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, rubidium hydroxide. And cesium hydroxide.

【0097】このようにして、上記式(I)で表される
化合物を用いて、式(VI)で表される化合物を立体選
択的に製造することができる。
Thus, the compound represented by the formula (VI) can be stereoselectively produced using the compound represented by the formula (I).

【0098】[0098]

【実施例】以下に実施例を記述して本発明を記述する。
しかし、本実施例は本発明を限定するものではない。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below by way of examples.
However, the present embodiment does not limit the present invention.

【0099】<製造例1>以下で表される2−メチル−
3−ニトロアニリン化合物 1(4.66g、30mmo
l):
<Production Example 1> 2-Methyl-
3-nitroaniline compound 1 (4.66 g, 30 mmol
l):

【0100】[0100]

【化24】 Embedded image

【0101】および6N塩酸(15mL)の混合物に、0
℃で亜硝酸ナトリウム(3.15g、45mmol)水溶
液(30mL)を滴下し、30分間撹拌した。次いで、反
応混合物をヨウ化カリウム(20.0g、120mmo
l)水溶液(100mL)に0℃で滴下した後、室温まで
昇温させ2時間撹拌した。次いで、反応混合物を飽和亜
硫酸ナトリウム水溶液にあけ、ジクロロメタンで抽出し
た。ジクロロメタン抽出液を飽和食塩水で洗い、乾燥
(NaSO)後、減圧濃縮した。残査をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、ジクロロメタン:ヘキ
サン(1:10)で溶出し、以下で表される化合物2(7.
75g、30mmol)を収率98%で得た。
And a mixture of 6N hydrochloric acid (15 mL).
An aqueous solution (30 mL) of sodium nitrite (3.15 g, 45 mmol) was added dropwise at 0 ° C, and the mixture was stirred for 30 minutes. Then, the reaction mixture was washed with potassium iodide (20.0 g, 120 mmol).
l) After dropwise adding to an aqueous solution (100 mL) at 0 ° C., the mixture was heated to room temperature and stirred for 2 hours. Then, the reaction mixture was poured into a saturated aqueous solution of sodium sulfite and extracted with dichloromethane. Wash the dichloromethane extract with saturated saline and dry
After (Na 2 SO 4 ), the mixture was concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography, and eluted with dichloromethane: hexane (1:10) to give Compound 2 (7.
75 g (30 mmol) was obtained in 98% yield.

【0102】[0102]

【化25】 Embedded image

【0103】得られた化合物2についての分析結果は以
下の通りであった。
The analysis results on the obtained compound 2 were as follows.

【0104】400MHz H−NMR(CDC
):δ8.06(1H,d,J=8.0Hz,Ar
−H),7.72(1H,d,J=8.0Hz,Ar−
H),7.04(1H,t,J=8.0Hz,Ar−
H),2.60(3H,s, ArCH)ppm。
400 MHz 1 H-NMR (CDC
l 3 ): δ 8.06 (1H, d, J = 8.0 Hz, Ar
-H), 7.72 (1H, d, J = 8.0 Hz, Ar-
H), 7.04 (1H, t, J = 8.0 Hz, Ar-
H), 2.60 (3H, s , ArCH 3) ppm.

【0105】<製造例2>アルゴン雰囲気下、製造例1
で得られた化合物2(7.75g、30mmol)、活
性銅粉末(15.0g)、およびN,N−ジメチルホルム
アミド(45mL)の混合物を、加熱環流下、15時間撹
拌した。室温まで放冷した後、セライトで濾過した。次
いで、濾液を水にあけ、ジクロロメタンで抽出した。ジ
クロロメタン抽出液を水、および飽和食塩水で洗い、乾
燥(NaSO)後、減圧濃縮した。残査をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、ジクロロメタン:ヘ
キサン(1:4)で溶出して、以下で表される化合物3
(3.63g、13mmol)を収率90%で得た。
<Production Example 2> Production Example 1 under an argon atmosphere
A mixture of the compound 2 (7.75 g, 30 mmol) obtained in the above, active copper powder (15.0 g), and N, N-dimethylformamide (45 mL) was stirred under reflux with heating for 15 hours. After allowing to cool to room temperature, the mixture was filtered through Celite. Then, the filtrate was poured into water and extracted with dichloromethane. The dichloromethane extract was washed with water and saturated saline, dried (Na 2 SO 4 ), and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography and eluted with dichloromethane: hexane (1: 4) to give compound 3 shown below.
(3.63 g, 13 mmol) was obtained with a yield of 90%.

【0106】[0106]

【化26】 Embedded image

【0107】得られた化合物3についての分析結果は以
下の通りであった。
The analysis results on the obtained compound 3 were as follows.

【0108】400MHz H−NMR(CDC
):δ7.90(2H,d,J=7.6Hz,Ar
−H),7.43(2H,t,J=7.6Hz,Ar−
H),7.35(2H,d,J=7.6Hz,Ar−
H),2.21(6H,s,ArCH)ppm。
400 MHz 1 H-NMR (CDC
l 3 ): δ 7.90 (2H, d, J = 7.6 Hz, Ar)
-H), 7.43 (2H, t, J = 7.6 Hz, Ar-
H), 7.35 (2H, d, J = 7.6 Hz, Ar−
H), 2.21 (6H, s , ArCH 3) ppm.

【0109】<製造例3>製造例2で得られた化合物3
(3.63g、13mmol)、三塩化鉄六水和物(7
1.9mg、2mol%)、活性炭(1.0g)、および
メタノール(45mL)の混合物を加熱環流下、10分間
撹拌した後、ヒドラジン一水和物(3.87mL、80
mmol)を滴下し、さらに5時間撹拌した。室温まで
放冷した後、セライトで濾過し、濾液を減圧濃縮した。
残査をヘキサンで洗い減圧乾燥後、以下で表される化合
物4(2.24g、11mmol)を収率80%で得
た。
<Production Example 3> Compound 3 obtained in Production Example 2
(3.63 g, 13 mmol), iron trichloride hexahydrate (7
After stirring a mixture of 1.9 mg, 2 mol%), activated carbon (1.0 g) and methanol (45 mL) for 10 minutes under reflux with heating, hydrazine monohydrate (3.87 mL, 80 mL) was added.
(mmol) was added dropwise and the mixture was further stirred for 5 hours. After allowing to cool to room temperature, the mixture was filtered through Celite, and the filtrate was concentrated under reduced pressure.
After washing the residue with hexane and drying under reduced pressure, the following compound 4 (2.24 g, 11 mmol) was obtained in a yield of 80%.

【0110】[0110]

【化27】 Embedded image

【0111】得られた化合物4についての分析結果は以
下の通りであった。
The analysis results on the obtained compound 4 were as follows.

【0112】400MHz H−NMR(CDC
):δ7.04(2H,t,J=7.6Hz,Ar
−H),9.69(2H,d,J=7.6Hz,Ar−
H),6.59(2H,d,J=7.6Hz,Ar−
H),3.65(4H,brs,ArNH),1.8
7(6H,s,ArCH)ppm。
400 MHz 1 H-NMR (CDC
l 3 ): δ 7.04 (2H, t, J = 7.6 Hz, Ar
-H), 9.69 (2H, d, J = 7.6 Hz, Ar-
H), 6.59 (2H, d, J = 7.6 Hz, Ar-
H), 3.65 (4H, brs , ArNH 2), 1.8
7 (6H, s, ArCH 3 ) ppm.

【0113】<製造例4>製造例3で得られた化合物4
(2.24g、11mmol)および濃硫酸(10 m
L)の混合物に、0℃で亜硝酸ナトリウム(2.23
g、32mmol)の水溶液(30 mL)を滴下し、
30分間撹拌した。次いで、反応混合物をヨウ化カリウ
ム(14.1g、85mmol)水溶液(150mL)へ
0℃で滴下した後、80℃で1時間撹拌した。反応混合
物を飽和亜硫酸ナトリウム水溶液にあけ、ジクロロメタ
ンで抽出した。ジクロロメタン抽出液を飽和食塩水で洗
い、乾燥(NaSO)後、減圧濃縮した。残査をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ジクロロメタ
ン:ヘキサン(1:30)で溶出して、以下で表される
化合物5(2.90g、6.7mmol)を収率63%
で得た。
<Production Example 4> Compound 4 obtained in Production Example 3
(2.24 g, 11 mmol) and concentrated sulfuric acid (10 m
L) at 0 ° C with sodium nitrite (2.23).
g, 32 mmol) in water (30 mL),
Stir for 30 minutes. Next, the reaction mixture was added dropwise to an aqueous solution (150 mL) of potassium iodide (14.1 g, 85 mmol) at 0 ° C., and the mixture was stirred at 80 ° C. for 1 hour. The reaction mixture was poured into a saturated aqueous solution of sodium sulfite and extracted with dichloromethane. The dichloromethane extract was washed with saturated saline, dried (Na 2 SO 4 ), and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography, and eluted with dichloromethane: hexane (1:30) to give the compound 5 (2.90 g, 6.7 mmol) shown below in a yield of 63%.
I got it.

【0114】[0114]

【化28】 Embedded image

【0115】得られた化合物5についての分析結果は以
下の通りであった。
The analysis results on the obtained compound 5 were as follows.

【0116】400Hz H−NMR(CDC
):δ7.85(2H,d,J=8.0Hz,Ar
−H), 7.04(2H,d,J=8.0Hz,Ar−
H),6.90(2H,t,J=8.0Hz,Ar−
H),2.16(6H,s,ArCH )ppm。
[0116] 400 Hz1H-NMR (CDC
l3): Δ 7.85 (2H, d, J = 8.0 Hz, Ar
-H), 7.04 (2H, d, J = 8.0 Hz, Ar-
H), 6.90 (2H, t, J = 8.0 Hz, Ar−
H), 2.16 (6H, s, ArCH 3) Ppm.

【0117】<製造例5>アルゴン雰囲気下、製造例4
で得られた化合物5(0.217g、0.50mmo
l)、2−ナフチルボロン酸(0.206g、1.2m
mol)、水酸化バリウム8水和物(0.483g、
1.5mmol)、エチレングリコールジメチルエーテ
ル(4.5mL)、水(0.5mL)、およびテトラキ
ス(トリフェニルフォスフィン)パラジウム(28.9
mg、5mol%)の混合物を加熱環流下、24時間撹
拌した。反応混合物を飽和食塩水にあけ、ジクロロメタ
ンで抽出した。ジクロロメタン抽出液を乾燥(Na
)後、減圧濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、ジクロロメタン:ヘキサン
(1:50)で溶出し、以下で表される化合物6(0.
217g、0.50mmol)を定量的収率で得た。
<Production Example 5> Production Example 4 under an argon atmosphere
Compound 5 (0.217 g, 0.50 mmol) obtained in
l), 2-naphthylboronic acid (0.206 g, 1.2 m
mol), barium hydroxide octahydrate (0.483 g,
1.5 mmol), ethylene glycol dimethyl ether (4.5 mL), water (0.5 mL), and tetrakis (triphenylphosphine) palladium (28.9).
mg, 5 mol%) was stirred for 24 hours under reflux with heating. The reaction mixture was poured into saturated saline and extracted with dichloromethane. Dry the dichloromethane extract (Na 2 S
After O 4 ), the mixture was concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography, and eluted with dichloromethane: hexane (1:50) to give compound 6 (0.
217 g, 0.50 mmol) were obtained in quantitative yield.

【0118】[0118]

【化29】 Embedded image

【0119】得られた化合物6についての分析結果は以
下の通りであった。
The analysis results on the obtained compound 6 were as follows.

【0120】400MHz H−NMR(CDC
):δ7.89(2H,t,J=8.0Hz,Ar
−H),7.84(2H,s,Ar−H),7.50−
7.54(6H,m,Ar−H),7.33−7.35
(4H,m,Ar−H),7.24−7.26(2H,
m,Ar−H),3.18(6H,s,ArCH)p
pm。
400 MHz 1 H-NMR (CDC
l 3 ): δ 7.89 (2H, t, J = 8.0 Hz, Ar
-H), 7.84 (2H, s, Ar-H), 7.50-
7.54 (6H, m, Ar-H), 7.33-7.35
(4H, m, Ar-H), 7.24-7.26 (2H,
m, Ar-H), 3.18 (6H, s, ArCH 3) p
pm.

【0121】<実施例1>製造例5で得られた化合物6
(0.217g、0.50mmol)、2,2'−アゾ
ビス(イソブチロニトリル)(8.4mg、10mol
%)、N−ブロモコハク酸イミド(0.191mg、
1.1mmol)、およびベンゼン(5mL)の混合物
を、加熱環流下、1時間撹拌した。反応混合物を水にあ
け、エーテルで抽出した。エーテル抽出液を乾燥(Na
SO)後、減圧濃縮した。残査をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付し、ジクロロメタン:ヘキサン
(1:30)で溶出して、以下で表される化合物7
(0.215g、0.36mmol)を収率73%で得
た。
Example 1 Compound 6 obtained in Production Example 5
(0.217 g, 0.50 mmol), 2,2′-azobis (isobutyronitrile) (8.4 mg, 10 mol)
%), N-bromosuccinimide (0.191 mg,
1.1 mmol) and benzene (5 mL) was stirred for 1 hour under heated reflux. The reaction mixture was poured into water and extracted with ether. Dry the ether extract (Na
After 2 SO 4 ), the mixture was concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography and eluted with dichloromethane: hexane (1:30) to give compound 7 shown below.
(0.215 g, 0.36 mmol) in 73% yield.

【0122】[0122]

【化30】 Embedded image

【0123】得られた化合物7についての分析結果は以
下の通りであった。
The analysis results on the obtained compound 7 were as follows.

【0124】400MHz H−NMR(CDC
):δ8.00(2H,s,Ar−H),7.90
−7.95(6H,m,Ar−H),7.65(2H,
dd,J=1.6,8.4Hz,Ar−H),7.53
−7.55(4H,m,Ar−H),7.40−7.5
1(6H,m,Ar−H),4.40(2H,d,J=
10.0Hz, ArCHBr),4.26(2H,
d,J=10.0Hz, ArCHBr)ppm。
400 MHz 1 H-NMR (CDC
1 3): δ8.00 (2H, s, Ar-H), 7.90
-7.95 (6H, m, Ar-H), 7.65 (2H,
dd, J = 1.6, 8.4 Hz, Ar-H), 7.53
-7.55 (4H, m, Ar-H), 7.40-7.5
1 (6H, m, Ar-H), 4.40 (2H, d, J =
10.0 Hz, ArCH 2 Br), 4.26 (2H,
d, J = 10.0 Hz, ArCH 2 Br) ppm.

【0125】<実施例2>以下で表される化合物8(7
3.8mg,0.25mmol):
<Example 2> Compound 8 (7
(3.8 mg, 0.25 mmol):

【0126】[0126]

【化31】 Embedded image

【0127】のアセトニトリル溶液(5mL)へ、炭酸
カリウム(52.1mg、0.38mmol)を加え、
室温で30分撹拌した後、実施例1で得られた化合物7
(0.163g、0.28mmol)を加えた。反応混
合物を、加熱環流下に7時間撹拌した後、水にあけ、ジ
クロロメタンで抽出した。ジクロロメタン抽出液を乾燥
(NaSO)後、減圧濃縮した。残査をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、メタノール:ジクロロ
メタン(1:20)で溶出し、以下で表される化合物9
(0.192g、0.24mmol)を収率95%で得
た。
To an acetonitrile solution (5 mL) of was added potassium carbonate (52.1 mg, 0.38 mmol),
After stirring at room temperature for 30 minutes, the compound 7 obtained in Example 1 was obtained.
(0.163 g, 0.28 mmol) was added. The reaction mixture was stirred for 7 hours under heated reflux, then poured into water and extracted with dichloromethane. Dry dichloromethane extract
After (Na 2 SO 4 ), the mixture was concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography and eluted with methanol: dichloromethane (1:20) to give compound 9 shown below.
(0.192 g, 0.24 mmol) in a yield of 95%.

【0128】[0128]

【化32】 Embedded image

【0129】得られた化合物9についての分析結果は以
下の通りであった。
The results of analysis of the obtained compound 9 are as follows.

【0130】[α] 22174.2°(c=0.2
5,CHCl)。 400MHz H−NMR(CDCl):δ7.8
0(8H,t,J=7.6Hz,Ar−H),7.35
(4H,t,J=7.6Hz,Ar−H),7.20−
8.10(16H,br m,Ar−H),7.06
(4H,t,J=7.6Hz,Ar−H),6.90
(2H,d,J=8.4Hz,Ar−H),4.84
(2H,br,ArCH),4.57(2H,br,
ArCH),4.55(2H,d,J=13.2H
z,ArCH),3.00(2H,br,ArC
)ppm。 IR(KBr):νmax3383,3051,162
2,1595,1504,1456,1357,119
7,864,821,797,752cm−1。 MS:m/z726(M)(100%),266,1
65,154,136。 HRMS C5640Nとして計算値:726.31
63(M);実測値:726.3167(M)。
[Α] D 22 174.2 ° (c = 0.2
5, CHCl 3 ). 400 MHz 1 H-NMR (CDCl 3 ): δ7.8
0 (8H, t, J = 7.6 Hz, Ar-H), 7.35
(4H, t, J = 7.6 Hz, Ar-H), 7.20-
8.10 (16H, brm, Ar-H), 7.06
(4H, t, J = 7.6 Hz, Ar-H), 6.90
(2H, d, J = 8.4 Hz, Ar-H), 4.84
(2H, br, ArCH 2 ), 4.57 (2H, br,
ArCH 2 ), 4.55 (2H, d, J = 13.2H)
z, ArCH 2 ), 3.00 (2H, br, ArC
H 2) ppm. IR (KBr): ν max 3383, 3051, 162
2,1595,1504,1456,1357,119
7,864,821,797,752 cm- 1 . MS: m / z 726 (M <+> ) (100%), 266.1
65,154,136. Calculated HRMS C 56 H 40 N: 726.31
63 (M <+> ); found: 726.3167 (M <+> ).

【0131】<製造例6>アルゴン雰囲気下、製造例4
で得られた化合物5(0.109g、0.25mmo
l)、3,5−ジフェニルフェニルボロン酸(0.16
4g、0.6mmol)、水酸化バリウム8水和物
(0.241g、0.75mmol)、エチレングリコ
ールジメチルエーテル(4.5mL)、水(0.5m
L)、およびテトラキス(トリフェニルフォスフィン)パ
ラジウム(14.4mg、5mol%)の混合物を加熱
環流下、20時間撹拌した。反応混合物を飽和食塩水に
あけ、ジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン抽出
液を乾燥(NaSO)後、減圧濃縮した。残査をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ジクロロメタ
ン:ヘキサン(1:50)で溶出し、以下で表される化
合物10(0.160g,0.25mmol)を定量的
収率で得た。
<Production Example 6> Production Example 4 under an argon atmosphere
5 (0.109 g, 0.25 mmol
l), 3,5-diphenylphenylboronic acid (0.16
4g, 0.6mmol), barium hydroxide octahydrate (0.241g, 0.75mmol), ethylene glycol dimethyl ether (4.5mL), water (0.5m
L) and a mixture of tetrakis (triphenylphosphine) palladium (14.4 mg, 5 mol%) were stirred for 20 hours under reflux with heating. The reaction mixture was poured into saturated saline and extracted with dichloromethane. The dichloromethane extract was dried (Na 2 SO 4 ) and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography and eluted with dichloromethane: hexane (1:50) to give the following compound 10 (0.160 g, 0.25 mmol) in a quantitative yield.

【0132】[0132]

【化33】 Embedded image

【0133】得られた化合物10についての分析結果は
以下の通りであった。
The analysis results on the obtained compound 10 were as follows.

【0134】200MHz H−NMR(CDC
):δ7.81(2H,s,Ar−H),7.68
−7.73(8H,m,Ar−H),7.60(4H,
d,J=1.8Hz,Ar−H),7.34−7.49
(16H,m,Ar−H),7.21−7.26(2
H,m,Ar−H),2.11(6H,s,ArC
)ppm。
200 MHz 1 H-NMR (CDC
1 3): δ7.81 (2H, s, Ar-H), 7.68
-7.73 (8H, m, Ar-H), 7.60 (4H,
d, J = 1.8 Hz, Ar-H), 7.34-7.49
(16H, m, Ar-H), 7.21-7.26 (2
H, m, Ar-H), 2.11 (6H, s, ArC
H 3) ppm.

【0135】<実施例3>製造例6で得られた化合物1
0(0.160g、0.25mmol)、2,2'−ア
ゾビス(イソブチロニトリル)(4.2mg、10mo
l%)、N−ブロムコハク酸イミド(95.4mg、
0.53mmol)、およびベンゼン(5mL)の混合
物を、加熱環流下、3時間撹拌した。反応混合物を水に
あけ、エーテルで抽出した。エーテル抽出液を乾燥(N
SO)後、減圧濃縮した。残査をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付し、ジクロロメタン:ヘキサ
ン(1:20)で溶出して、以下で表される化合物11
(0.180g、0.23mmol)を収率91%で得
た。
<Example 3> Compound 1 obtained in Production Example 6
0 (0.160 g, 0.25 mmol), 2,2'-azobis (isobutyronitrile) (4.2 mg, 10 mo
1%), N-bromosuccinimide (95.4 mg,
0.53 mmol) and benzene (5 mL) were stirred for 3 hours under heated reflux. The reaction mixture was poured into water and extracted with ether. Dry the ether extract (N
After a 2 SO 4 ), the mixture was concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography, and eluted with dichloromethane: hexane (1:20) to obtain a compound 11 represented by the following.
(0.180 g, 0.23 mmol) in 91% yield.

【0136】[0136]

【化34】 Embedded image

【0137】得られた化合物11についての分析結果は
以下の通りであった。
The analysis results on the obtained compound 11 were as follows.

【0138】400MHz H−NMR(CDC
):δ7.88(2H,t,J=1.80Hz,A
r−H),7.73−7.75(12H,m,Ar−
H),7.43−7.52(14H,m,Ar−H),
7.38(4H,t,J=7.2Hz,Ar−H)4.
43(2H,d,J=10.0Hz,ArCH
r),4.30(2H,d,J=10.0Hz,ArC
Br)ppm。
400 MHz 1 H-NMR (CDC
1 3): δ7.88 (2H, t, J = 1.80Hz, A
rH), 7.73-7.75 (12H, m, Ar-
H), 7.43-7.52 (14H, m, Ar-H),
7.38 (4H, t, J = 7.2 Hz, Ar-H) 4.
43 (2H, d, J = 10.0 Hz, ArCH 2 B
r), 4.30 (2H, d, J = 10.0 Hz, ArC
H 2 Br) ppm.

【0139】<実施例4>以下で表される化合物8(4
4.3mg、0.15mmol):
Example 4 Compound 8 (4
4.3 mg, 0.15 mmol):

【0140】[0140]

【化35】 Embedded image

【0141】のアセトニトリル溶液(5mL)へ、炭酸
カリウム(31.1mg、0.23mmol)を加え、
室温で30分撹拌した後、実施例3で得られた化合物1
1(0.131g、0.17mmol)を加えた。反応
混合物を、加熱環流下に16時間撹拌した後、水にあ
け、ジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン抽出液
を乾燥(NaSO)後、減圧濃縮した。残査をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、メタノール:ジ
クロロメタン(1:20)で溶出し、以下で表される化
合物12(0.120g、0.12mmol)を収率7
9%で得た。
To an acetonitrile solution (5 mL) of was added potassium carbonate (31.1 mg, 0.23 mmol),
After stirring at room temperature for 30 minutes, the compound 1 obtained in Example 3 was obtained.
1 (0.131 g, 0.17 mmol) was added. The reaction mixture was stirred under heated reflux for 16 hours, poured into water and extracted with dichloromethane. The dichloromethane extract was dried (Na 2 SO 4 ) and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography, and eluted with methanol: dichloromethane (1:20) to give the following compound 12 (0.120 g, 0.12 mmol) in a yield of 7
Obtained at 9%.

【0142】[0142]

【化36】 Embedded image

【0143】得られた化合物12についての分析結果は
以下の通りであった。
The analysis results of the obtained compound 12 were as follows.

【0144】[α] 2455.0°(c=0.25,
CHCl)。 400MHz H−NMR(CDCl)δ7.08
−7.80(44H,br m、Ar−H),4.83
(4H,d,J=13.2Hz,ArCH),4.5
7(2H,d,J=13.2Hz,ArCH)、2.
78(2H,br,ArCH)ppm。 IR(KBr):νmax3399,3055,295
9,1593,1574,1499,1454,141
4,1358,883,825,760,696cm
−1。 MS:m/z930(M)(100%),266,2
65,154,136。 HRMS C7252Nとして計算値:930.41
03(M);実測値:9304101(M)。
[Α] D 24 55.0 ° (c = 0.25,
CHCl 3 ). 400 MHz 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 7.08
-7.80 (44H, brm, Ar-H), 4.83
(4H, d, J = 13.2 Hz, ArCH 2 ), 4.5
7 (2H, d, J = 13.2 Hz, ArCH 2 );
78 (2H, br, ArCH 2 ) ppm. IR (KBr): ν max 3399, 3055, 295
9,1593,1574,1499,1454,141
4,1358,883,825,760,696cm
-1 . MS: m / z 930 (M <+> ) (100%), 266,2
65,154,136. Calculated HRMS C 72 H 52 N: 930.41
03 (M + ); Found: 9304101 (M + ).

【0145】<製造例7>アルゴン雰囲気下、水素化ナ
トリウム(0.301g、7.5mmol)、およびT
HF(5mL)の混合物に、以下で表される化合物13
(0.981g、2.9mmol):
<Production Example 7> Sodium hydride (0.301 g, 7.5 mmol) and T
Compound 13 represented by the following was added to a mixture of HF (5 mL).
(0.981 g, 2.9 mmol):

【0146】[0146]

【化37】 Embedded image

【0147】のTHF(5mL)溶液を0℃で滴下し、
30分間撹拌した。次いで、反応混合物にクロロメチル
メチルエーテル(0.597mL、7.5mmol)を
0℃で滴下し、2時間撹拌した後、水にあけ、酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル抽出液を飽和食塩水で洗い、
乾燥(NaSO)後、減圧濃縮した。残査をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル:ヘキ
サン(1:5)で溶出し、以下で表される化合物14
(1.22g、2.9mmol)を収率99%で得た。
A solution of THF (5 mL) was added dropwise at 0 ° C.
Stir for 30 minutes. Then, chloromethyl methyl ether (0.597 mL, 7.5 mmol) was added dropwise to the reaction mixture at 0 ° C., stirred for 2 hours, poured into water, and extracted with ethyl acetate. Wash the ethyl acetate extract with saturated saline,
After drying (Na 2 SO 4 ), the solution was concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography, and eluted with ethyl acetate: hexane (1: 5) to give compound 14 shown below.
(1.22 g, 2.9 mmol) in 99% yield.

【0148】[0148]

【化38】 Embedded image

【0149】得られた化合物14についての分析結果は
以下の通りであった。
The analysis results on the obtained Compound 14 were as follows.

【0150】400MHz H−NMR(CDC
):δ7.56−7.60(8H,m,Ar−
H),7.41(4H,t,J=8.04Hz,Ar−
H),7.28−7.33(4H,m,Ar−H),
5.13(4H,s,ArOCH),3.01(6
H,s,OCH)ppm。
400 MHz 1 H-NMR (CDC
1 3): δ7.56-7.60 (8H, m, Ar-
H), 7.41 (4H, t, J = 8.04 Hz, Ar-
H), 7.28-7.33 (4H, m, Ar-H),
5.13 (4H, s, ArOCH 2 ), 3.01 (6
H, s, OCH 3) ppm .

【0151】<製造例8>アルゴン雰囲気下、製造例7
で得られた化合物14(1.22g、2.9mmol)
のエーテル溶液(10mL)へ、n−ブチルリチウムの
ヘキサン溶液(1.56M、4.46ml、 7.0m
mol)を室温で滴下し、3時間撹拌した。次いで、反
応混合物を−78℃まで冷却し、THF(10mL)を
加えた後、トリメトキシボラン(0.992mL、8.
7mmol)を滴下し、室温に昇温して10時間撹拌し
た。反応混合物をエバポレーターで減圧濃縮した後、ベ
ンゼン(10mL)を加え、0℃に冷却し、次いで過酸
化水素水(30%、2mL)を滴下した。反応混合物を
加熱環流下、2時間撹拌した後、飽和亜硝酸ナトリウム
水溶液にあけ、エーテルで抽出した。エーテル抽出液を
飽和食塩水で洗い、乾燥(NaSO)後、減圧濃縮し
た。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、酢酸エチル:ヘキサン(1:2)で溶出し、以下で
表される化合物15(0.850g、 1.9mmo
l)を収率64%で得た。
<Production Example 8> Production Example 7 under an argon atmosphere
Compound 14 obtained in (1.22 g, 2.9 mmol)
Into an ether solution (10 mL) of n-butyllithium (1.56 M, 4.46 ml, 7.0 m)
mol) was added dropwise at room temperature and stirred for 3 hours. The reaction mixture was then cooled to −78 ° C. and THF (10 mL) was added, followed by trimethoxyborane (0.992 mL, 8.
7 mmol), and the mixture was heated to room temperature and stirred for 10 hours. After the reaction mixture was concentrated under reduced pressure using an evaporator, benzene (10 mL) was added, the mixture was cooled to 0 ° C., and aqueous hydrogen peroxide (30%, 2 mL) was added dropwise. The reaction mixture was stirred under reflux with heating for 2 hours, poured into a saturated aqueous solution of sodium nitrite, and extracted with ether. The ether extract was washed with brine, dried (Na 2 SO 4 ) and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography, and eluted with ethyl acetate: hexane (1: 2) to give Compound 15 (0.850 g, 1.9 mmol) represented below.
l) was obtained with a yield of 64%.

【0152】[0152]

【化39】 Embedded image

【0153】得られた化合物15についての分析結果は
以下の通りであった。
The analysis results on the obtained compound 15 were as follows.

【0154】400MHz H−NMR(CDC
):δ7.38−7.60(4H,m,Ar−
H),7.34−7.44(4H,m,Ar−H),
7.31−7.35(2H,m,Ar−H),7.28
(4H,d,J=2.4Hz,Ar−H),7.08
(2H,d,J=2.4Hz,Ar−H),4.48
(4H,s,ArOCH),3.50(6H,s,O
CH)ppm。
400 MHz 1 H-NMR (CDC
1 3): δ7.38-7.60 (4H, m, Ar-
H), 7.34-7.44 (4H, m, Ar-H),
7.31-7.35 (2H, m, Ar-H), 7.28
(4H, d, J = 2.4 Hz, Ar-H), 7.08
(2H, d, J = 2.4 Hz, Ar-H), 4.48
(4H, s, ArOCH 2 ), 3.50 (6H, s, O
CH 3) ppm.

【0155】<製造例9>製造例8で得られた化合物1
5(0.850g、1.9mmol)、炭酸カリウム
(0.729g、 5.7mmol)、ヨウ化メチル
(0.747mL、11.4mmol)、およびアセト
ン(6mL)の混合物を、加熱環流下、13時間撹拌し
た。次いで反応混合物を水にあけ、エーテルで抽出し
た。エーテル抽出液を飽和食塩水で洗い、乾燥(Na
SO)後、減圧濃縮した。残査をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、酢酸エチル:ヘキサン(1:
3)で溶出して、以下で表される化合物16(0.84
3g、 1.7mmol)を収率91%で得た。
<Production Example 9> Compound 1 obtained in Production Example 8
A mixture of 5 (0.850 g, 1.9 mmol), potassium carbonate (0.729 g, 5.7 mmol), methyl iodide (0.747 mL, 11.4 mmol), and acetone (6 mL) was heated under reflux with heating. Stirred for hours. Then the reaction mixture was poured into water and extracted with ether. The ether extract was washed with saturated saline and dried (Na 2
After SO 4 ), the mixture was concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography, and ethyl acetate: hexane (1: 1).
Eluted with 3) to give compound 16 (0.84
3 g, 1.7 mmol) were obtained with a yield of 91%.

【0156】[0156]

【化40】 Embedded image

【0157】得られた化合物16についての分析結果は
以下の通りであった。
The analysis results on the obtained compound 16 were as follows.

【0158】400MHz H−NMR(CDC
):δ7.58−7.61(4H,m,Ar−
H), 7.42(4H,t,J=7.2Hz,Ar−
H),7.29−735(4H,m,Ar−H),7.
15(2H,d,J=2.0Hz,Ar−H),4.9
6(4H,br s,ArOCH),3.05(6
H,s,OCH)ppm。
400 MHz 1 H-NMR (CDC
1 3): δ7.58-7.61 (4H, m, Ar-
H), 7.42 (4H, t, J = 7.2 Hz, Ar-
H), 7.29-735 (4H, m, Ar-H), 7.
15 (2H, d, J = 2.0 Hz, Ar-H), 4.9
6 (4H, br s, ArOCH 2), 3.05 (6
H, s, OCH 3) ppm .

【0159】<製造例10>製造例9で得られた化合物
16(0.843g,1.7mmol)、1,4−ジオ
キサン(5mL)、および濃塩酸(0.5mL)の混合
物を加熱下、50℃で4時間撹拌した。次いで、反応混
合物を水にあけ、エーテルで抽出した。エーテル抽出液
を水、および飽和食塩水で洗い、乾燥(NaSO)
後、減圧濃縮した。次いで、残査をジクロロメタン(5
mL)に溶解後、アルゴン雰囲気下、トリエチルアミン
(0.722mL,5.1mmol)を室温で加えた
後、−78℃まで冷却した。次で、トリフルオロメタン
スルフォン酸無水物(0.676mL,4.1mmo
l)を滴下した後、反応混合物を室温まで昇温し、5時
間撹拌した。反応混合物を飽和NHCl水溶液にあ
け、ジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン抽出液
を乾燥(NaSO)後、減圧濃縮した。残査をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ジクロロメタ
ン:ヘキサン(1:3)で溶出して、以下で表される化
合物17(0.882g,1.3mmol)を収率72
%で得た。
<Production Example 10> A mixture of compound 16 (0.843 g, 1.7 mmol) obtained in Production Example 9, 1,4-dioxane (5 mL), and concentrated hydrochloric acid (0.5 mL) was heated under heating. Stirred at 50 ° C. for 4 hours. Then the reaction mixture was poured into water and extracted with ether. The ether extract was washed with water and saturated saline, and dried (Na 2 SO 4 )
Then, the mixture was concentrated under reduced pressure. Then, the residue was treated with dichloromethane (5
Then, triethylamine (0.722 mL, 5.1 mmol) was added at room temperature under an argon atmosphere, and then cooled to -78 ° C. Next, trifluoromethanesulfonic anhydride (0.676 mL, 4.1 mmol)
After l) was added dropwise, the reaction mixture was warmed to room temperature and stirred for 5 hours. The reaction mixture was poured into saturated aqueous NH 4 Cl and extracted with dichloromethane. The dichloromethane extract was dried (Na 2 SO 4 ) and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography, and eluted with dichloromethane: hexane (1: 3) to give compound 17 (0.882 g, 1.3 mmol) represented by the following yield 72.
%.

【0160】[0160]

【化41】 Embedded image

【0161】得られた化合物17についての分析結果は
以下の通りであった。
The analysis results of the obtained compound 17 were as follows.

【0162】400MHz H−NMR(CDC
):δ7.57−7.59(4H,m,Ar−
H),7.39−7.48(6H,m,Ar−H),
7.25−7.29(4H,m,Ar−H),4.04
(6H,s,ArOCH)ppm。
400 MHz 1 H-NMR (CDC
1 3): δ7.57-7.59 (4H, m, Ar-
H), 7.39-7.48 (6H, m, Ar-H),
7.25-7.29 (4H, m, Ar-H), 4.04
(6H, s, ArOCH 3) ppm.

【0163】<製造例11>アルゴン雰囲気下、製造例
10で得られた化合物17(0.882g、1.3mm
ol)、[1,3−ビス(ジフェニルフォスフィノ)プ
ロパン]塩化ニッケル[NiCl(dppp)、 3
5.2mg、5mol%]、およびエーテル(2mL)
の混合物に、MeMgIのエーテル溶液(1.0M、
7.0mL、7.0mmol)を0℃で滴下した。反応
混合物を室温で30時間撹拌した後、飽和NHCl水
溶液にあけた。ニッケル触媒を濾別し、濾液をエーテル
で抽出した。エーテル抽出液を飽和食塩水で洗い、乾燥
(NaSO)後、減圧濃縮した。残査をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、エーテル:ヘキサン
(1:10)で溶出し、以下で表される化合物18
(0.324g、0.82mmol)を63%の収率で
得た。
<Production Example 11> The compound 17 obtained in Production Example 10 (0.882 g, 1.3 mm
ol), [1,3-bis (diphenylphosphino) propane] nickel chloride [NiCl 2 (dppp), 3
5.2 mg, 5 mol%], and ether (2 mL)
Was added to an ether solution of MeMgI (1.0 M,
(7.0 mL, 7.0 mmol) was added dropwise at 0 ° C. After the reaction mixture was stirred at room temperature for 30 hours, it was poured into saturated aqueous NH 4 Cl. The nickel catalyst was filtered off, and the filtrate was extracted with ether. Wash the ether extract with saturated saline and dry
After (Na 2 SO 4 ), the mixture was concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography and eluted with ether: hexane (1:10) to give compound 18 shown below.
(0.324 g, 0.82 mmol) in 63% yield.

【0164】[0164]

【化42】 Embedded image

【0165】得られた化合物18についての分析結果は
以下の通りであった。
The results of analysis of the obtained compound 18 are as follows.

【0166】400MHz H−NMR(CDC
):δ7.61−7.63(4H,m,Ar−
H),7.40−7.44(4H,m,Ar−H),
7.32(2H,ddt,J=1.2,6.8,8.0
Hz,Ar−H),7.08(4H,dd,J=1.
6,8.0Hz,Ar−H),3.95(6H,s,A
rOCH),2.01(6H,s,ArCH)pp
m。
400 MHz 1 H-NMR (CDC
1 3): δ7.61-7.63 (4H, m, Ar-
H), 7.40-7.44 (4H, m, Ar-H),
7.32 (2H, ddt, J = 1.2, 6.8, 8.0
Hz, Ar-H), 7.08 (4H, dd, J = 1.
6, 8.0 Hz, Ar-H), 3.95 (6H, s, A)
rOCH 3), 2.01 (6H, s, ArCH 3) pp
m.

【0167】<製造例12>アルゴン雰囲気下、製造例
11で得られた化合物18(0.324g、0.82m
mol)のジクロロメタン溶液(5mL)へ、三臭化ホ
ウ素(0.188mL、2.0mmol)を0℃で滴下
した。反応混合物を室温まで昇温して2時間撹拌した
後、再び0℃に冷却して、水を滴下した。ジクロロメタ
ンで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗い、乾燥(Na
SO)後、減圧濃縮した。次いで、残査をジクロロメ
タン溶液(5mL)に溶解し、アルゴン雰囲気下、トリ
エチルアミン(0.348mL、2.5mmol)を室
温で加えた後、−78℃まで冷却した。次いで、トリフ
ルオロメタンスルフォン酸無水物(0.326mL、
2.0mmol)を滴下した後、反応混合物を室温まで
昇温し、2時間撹拌した。反応混合物を飽和NHCl
水溶液にあけ、ジクロロメタンで抽出した。ジクロロメ
タン抽出液を乾燥(NaSO)後、減圧濃縮した。残
査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ジク
ロロメタン:ヘキサン(1:5)で溶出し、以下で表さ
れる化合物19(0.494g、0.78mmol)を
96%の収率で得た。
<Production Example 12> The compound 18 obtained in Production Example 11 (0.324 g, 0.82 m
mol) in dichloromethane solution (5 mL) at 0 ° C. was added dropwise boron tribromide (0.188 mL, 2.0 mmol). After the temperature of the reaction mixture was raised to room temperature and stirred for 2 hours, the mixture was cooled again to 0 ° C., and water was added dropwise. Extract with dichloromethane, wash the extract with saturated saline, and dry (Na 2
After SO 4 ), the mixture was concentrated under reduced pressure. Next, the residue was dissolved in a dichloromethane solution (5 mL), and triethylamine (0.348 mL, 2.5 mmol) was added at room temperature under an argon atmosphere, and then cooled to -78 ° C. Then, trifluoromethanesulfonic anhydride (0.326 mL,
(2.0 mmol) was added dropwise, and the reaction mixture was warmed to room temperature and stirred for 2 hours. The reaction mixture is washed with saturated NH 4 Cl
It was poured into an aqueous solution and extracted with dichloromethane. The dichloromethane extract was dried (Na 2 SO 4 ) and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography and eluted with dichloromethane: hexane (1: 5) to give the compound 19 (0.494 g, 0.78 mmol) shown below in a 96% yield.

【0168】[0168]

【化43】 Embedded image

【0169】得られた化合物19についての分析結果は
以下の通りであった。
The results of analysis of the obtained compound 19 are as follows.

【0170】400MHz H−NMR(CDC
):δ7.55−7.60(6H,m,Ar−
H),7.45−7.49(6H,m,Ar−H),
7.38−7.42(2H,m,Ar−H),2.15
(6H,s,ArCH)ppm。
400 MHz 1 H-NMR (CDC
1 3): δ7.55-7.60 (6H, m, Ar-
H), 7.45-7.49 (6H, m, Ar-H),
7.38-7.42 (2H, m, Ar-H), 2.15
(6H, s, ArCH 3) ppm.

【0171】<製造例13>アルゴン雰囲気下、製造例
12で得られた化合物19(0.189g、0.30m
mol)、3,5−ジフェニルフェニルボロン酸(0.
197g、0.72mmol)、テトラキス(トリフェ
ニルフォスフィン)パラジウム(17.3mg、 5m
ol%)、リン酸カリウム水和物(0.257g、0.
90mmol)、およびN,N−ジメチルホルムアミド
(6mL)の混合物を、加熱下、80℃で18時間撹拌
した。次いで、反応混合物を飽和食塩水にあけた。パラ
ジウム触媒を濾別し、濾液をエーテルで抽出した。エー
テル抽出液を乾燥(NaSO )後、減圧濃縮した。残
査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ジク
ロロメタン:ヘキサン(1:20)で溶出して、以下で
表される化合物20(0.221mg、0.28mmo
l)を収率93%で得た。
<Production Example 13> Production example under argon atmosphere
Compound 19 obtained in Example 12 (0.189 g, 0.30 m
mol), 3,5-diphenylphenylboronic acid (0.
197 g, 0.72 mmol), tetrakis (triphe
Nylphosphine) palladium (17.3 mg, 5 m
ol%), potassium phosphate hydrate (0.257 g, 0.1 g).
90 mmol), and N, N-dimethylformamide
(6 mL) is stirred under heating at 80 ° C. for 18 hours
did. Then, the reaction mixture was poured into saturated saline. Para
The indium catalyst was filtered off and the filtrate was extracted with ether. A
Dry the ter extract (Na2SO 4) Then, the mixture was concentrated under reduced pressure. Remaining
The silica gel was subjected to silica gel column chromatography.
Elution with dichloromethane: hexane (1:20)
Compound 20 represented (0.221 mg, 0.28 mmol
l) was obtained in 93% yield.

【0172】[0172]

【化44】 Embedded image

【0173】得られた化合物20についての分析結果は
以下の通りであった。
The analysis results of the obtained compound 20 were as follows.

【0174】400MHz H−NMR(CDC
):δ7.85(2H,t,J=1.6Hz,Ar
−H),7.65−7.73(16H,m,Ar−
H),7.59(2H,d,J=2.4Hz,Ar−
H),7.33−7.49(20H,m,Ar−H),
1.91(6H,s,ArCH)ppm。
400 MHz 1 H-NMR (CDC
1 3): δ7.85 (2H, t, J = 1.6Hz, Ar
-H), 7.65-7.73 (16H, m, Ar-
H), 7.59 (2H, d, J = 2.4 Hz, Ar-
H), 7.33-7.49 (20H, m, Ar-H),
1.91 (6H, s, ArCH 3 ) ppm.

【0175】<実施例5>製造例13で得られた化合物
20(0.221g、0.28mmol)、2,2'−
アゾビス(イソブチロニトリル)(4.7mg、10m
ol%)、N−ブロモコハク酸イミド(0.112g、
0.62mmol)、およびベンゼン(12mL)の混
合物を、加熱環流下、1時間撹拌した。反応混合物を水
にあけ、エーテルで抽出した。エーテル抽出液を乾燥
(NaSO)後、減圧濃縮した。残査をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、エーテル:ヘキサン
(1:20)で溶出して、以下で表される化合物21
(0.259g、0.27mmol)を収率97%で得
た。
Example 5 Compound 20 (0.221 g, 0.28 mmol) obtained in Production Example 13, 2,2'-
Azobis (isobutyronitrile) (4.7 mg, 10 m
ol%), N-bromosuccinimide (0.112 g,
0.62 mmol) and benzene (12 mL) were stirred for 1 hour under heated reflux. The reaction mixture was poured into water and extracted with ether. Dry ether extract
After (Na 2 SO 4 ), the mixture was concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography and eluted with ether: hexane (1:20) to give compound 21 shown below.
(0.259 g, 0.27 mmol) was obtained with a yield of 97%.

【0176】[0176]

【化45】 Embedded image

【0177】得られた化合物21についての分析結果は
以下の通りであった。
The analysis results on the obtained compound 21 were as follows.

【0178】400MHz H−NMR(CDC
):δ7.91(2H,t,J=1.6Hz,Ar
−H),7.84(4H,d,J=1.6Hz,Ar−
H),7.71−7.79(16H,m,Ar−H),
7.34−7.50(18H,m,Ar−H),4.5
4(2H,d,J=9.6Hz, ArCHBr),
4.10(2H,d,J=9.6Hz, ArCH
r)ppm。
400 MHz 1 H-NMR (CDC
1 3): δ7.91 (2H, t, J = 1.6Hz, Ar
-H), 7.84 (4H, d, J = 1.6 Hz, Ar-
H), 7.71-7.79 (16H, m, Ar-H),
7.34-7.50 (18H, m, Ar-H), 4.5
4 (2H, d, J = 9.6 Hz, ArCH 2 Br),
4.10 (2H, d, J = 9.6 Hz, ArCH 2 B
r) ppm.

【0179】<実施例6>以下で表される化合物8(4
4.3mg、0.15mmol):
Example 6 Compound 8 (4
4.3 mg, 0.15 mmol):

【0180】[0180]

【化46】 Embedded image

【0181】のアセトニトリル溶液(10mL)へ、炭
酸カリウム(31.1mg、0.23mmol)を加
え、室温で30分撹拌した後、実施例5で得られた化合
物21(0.157g、0.17mmol)を加えた。
反応混合物を、加熱環流下に9時間撹拌した後、水にあ
け、ジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン抽出液
を乾燥(NaSO)後、減圧濃縮した。残査をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、メタノール:ジ
クロロメタン(1:20)で溶出し、以下で表される化
合物22(0.146g、0.13mmol)を収率8
4%で得た。
Potassium carbonate (31.1 mg, 0.23 mmol) was added to an acetonitrile solution (10 mL) of the above, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. Then, the compound 21 obtained in Example 5 (0.157 g, 0.17 mmol) was obtained. ) Was added.
The reaction mixture was stirred for 9 hours under reflux, then poured into water and extracted with dichloromethane. The dichloromethane extract was dried (Na 2 SO 4 ) and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography, and eluted with methanol: dichloromethane (1:20) to give the following compound 22 (0.146 g, 0.13 mmol) in a yield of 8:
Obtained at 4%.

【0182】[0182]

【化47】 Embedded image

【0183】得られた化合物22についての分析結果は
以下の通りであった。
The analysis results of the obtained compound 22 were as follows.

【0184】[α] 2541.2°(c=0.25,
CHCl)。 400MHz H−NMR(CDCl);δ7.1
0−8.02(52H,brm、Ar−H),4.96
(2H,d,J=13.2Hz,ArCH),4.8
6(2H,br,ArCH),4.65(2H,d,
J=13.2Hz,ArCH),2.77(2H,b
r,ArCH)ppm。 IR(KBr):νmax3895,3047,161
8,1587,1454,897,860,825,7
50cm−1。 MS:m/z1082(M)(100%),800,
266,265,136。 HRMS C8460Nとして計算値:1082.4
729(M);実測値:1082.4713
(M)。
[Α] D 25 41.2 ° (c = 0.25,
CHCl 3 ). 400 MHz 1 H-NMR (CDCl 3 ); δ 7.1
0-8.02 (52H, brm, Ar-H), 4.96
(2H, d, J = 13.2 Hz, ArCH 2 ), 4.8
6 (2H, br, ArCH 2 ), 4.65 (2H, d,
J = 13.2 Hz, ArCH 2 ), 2.77 (2H, b
r, ArCH 2) ppm. IR (KBr): ν max 3895, 3047, 161
8, 1587, 1454, 897, 860, 825, 7
50 cm- 1 . MS: m / z 1082 (M <+> ) (100%), 800,
266,265,136. Calculated HRMS C 84 H 60 N: 1082.4
729 (M <+> ); found: 1082.4713.
(M + ).

【0185】<実施例7>化合物21の代わりに2,
2’−ジブロモメチルビフェニル(57.8mg、0.
17mmol)を用いたこと以外は、実施例6と同様に
して以下で表される化合物23を得た。
<Example 7> In place of compound 21, 2
2'-dibromomethylbiphenyl (57.8 mg, 0.1
Compound 23 shown below was obtained in the same manner as in Example 6 except that 17 mmol) was used.

【0186】[0186]

【化48】 Embedded image

【0187】得られた化合物23についての分析結果は
以下の通りであった。
The results of analysis of the obtained compound 23 are as follows.

【0188】[α] 28−110.2°(c=0.2
5,CHCl)。 400MHz H−NMR(CDCl):δ8.2
9(2H,d,J=8.4Hz,Ar−H),8.08
(2H,d,J=8.0Hz,Ar−H),8.05
(2H,d,J=8.4Hz,Ar−H),7.88
(2H,br d,J=6.8Hz,Ar−H),7.
70−7.77(6H,m,Ar−H)7.63(2
H,ddd,J=1.2,6.4,8.0Hz,Ar−
H),7.50(2H,d,J=8.4Hz,Ar−
H),7.39(2H,ddd,J=1.2,6.8,
8.0Hz,Ar−H),4.78(2H,d,J=1
3.6Hz,ArCH),4.33(2H,d,J=
13.6Hz,ArCH),4.04(2H,d,J
=13.2Hz,ArCH),3.95(2H,d,
J=13.2Hz,ArCH)ppm。 IR(KBr):νmax3638,3385,305
3,2359,1622,1456,1354,120
0,1028,878,854,818,758cm
−1。 MS:m/z474(M),327,266,16
5,136(100%)。 HRMS C3628Nとして計算値:474.22
23(M);実測値:474.2238(M)。
[Α] D 28 -110.2 ° (c = 0.2
5, CHCl 3 ). 400 MHz 1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 8.2
9 (2H, d, J = 8.4 Hz, Ar-H), 8.08
(2H, d, J = 8.0 Hz, Ar-H), 8.05
(2H, d, J = 8.4 Hz, Ar-H), 7.88
(2H, brd, J = 6.8 Hz, Ar-H), 7.
70-7.77 (6H, m, Ar-H) 7.63 (2
H, ddd, J = 1.2, 6.4, 8.0 Hz, Ar-
H), 7.50 (2H, d, J = 8.4 Hz, Ar−
H), 7.39 (2H, ddd, J = 1.2, 6.8,
8.0 Hz, Ar-H), 4.78 (2H, d, J = 1)
3.6 Hz, ArCH 2 ), 4.33 (2H, d, J =
13.6 Hz, ArCH 2 ), 4.04 (2H, d, J
= 13.2 Hz, ArCH 2 ), 3.95 (2H, d,
J = 13.2Hz, ArCH 2) ppm . IR (KBr): ν max 3638, 3385, 305
3,2359,1622,1456,1354,120
0,1028,878,854,818,758cm
-1 . MS: m / z 474 (M <+> ), 327, 266, 16
5,136 (100%). Calculated HRMS C 36 H 28 N: 474.22
23 (M <+> ); found: 474.2238 (M <+> ).

【0189】<実施例8>化合物8の代わりに、(J.
Am.Chem.Soc.1999,121,6519
に記載の方法に従い、(S)−1,1'−ビ−2−(ブ
ロモメチル)−3−(β−ナフチル)ナフタレンから調
製した)(S)−2,6−ジ(β−ナフチル)−3,5
−ジヒドロ−4H−ジナフト[2,1−c;1’,2’
−e]アゼピン(82.1mg、0.15mmol)を
用いたこと以外は、実施例4と同様にして、2,2'−
ジブロモメチル−ビ−フェニルを反応させ、以下で表さ
れる化合物24を得た。
Example 8 Instead of compound 8, (J.
Am. Chem. Soc. 1999, 121, 6519
(S) -2,6-di (β-naphthyl)-(prepared from (S) -1,1′-bi-2- (bromomethyl) -3- (β-naphthyl) naphthalene) 3,5
-Dihydro-4H-dinaphtho [2,1-c; 1 ′, 2 ′
-E] 2,2′- as in Example 4, except that azepine (82.1 mg, 0.15 mmol) was used.
The compound 24 was reacted with dibromomethyl-bi-phenyl to obtain a compound 24 shown below.

【0190】[0190]

【化49】 Embedded image

【0191】得られた化合物24についての分析結果は
以下の通りであった。
The results of analysis of the obtained compound 24 are as follows.

【0192】[α] 28−5.98°(c=0.2
5,CHCl)。 400MHz HNMR(CDCl):δ7.07
−8.44(30H,brm,Ar−H),5.71
(2H,br,Ar−H),5.27(1.36H,b
r,ArCH,ホモキラル),4.91(0.64
H,br,ArCH ,ヘテロキラル),4.67
(0.64H,br,ArCH,ヘテロキラル)4.
43(1.36H,br,ArCH,ホモキラル),
4.32(0.64H,br,ArCH,ヘテロキラ
ル),3.91(1.36H,br,ArCH,ホモ
キラル),3.67(1.36H,br,ArCH
ヘテロキラル),2.62(0.64H,br,ArC
,ヘテロキラル)。 IR(KBr):νmax3895,3047,161
8,1587,1454,897,860,825,7
50cm−1。 MS:m/z726(M)(100%),518,2
65,179,136。 HRMS C5640Nとして計算値726.316
3(M);実測値726.3156(M)。
[Α]D 28−5.98 ° (c = 0.2
5, CHCl3). 400MHz1HNMR (CDCl3): Δ7.07
-8.44 (30H, brm, Ar-H), 5.71
(2H, br, Ar-H), 5.27 (1.36H, b
r, ArCH2, Homochiral), 4.91 (0.64
H, br, ArCH 2, Heterochiral), 4.67.
(0.64H, br, ArCH2, Heterochiral) 4.
43 (1.36H, br, ArCH2, Homochiral),
4.32 (0.64H, br, ArCH2, Heterokira
3.91 (1.36H, br, ArCH)2, Homo
Chiral), 3.67 (1.36H, br, ArCH2,
Heterochiral), 2.62 (0.64H, br, ArC
H2, Heterochiral). IR (KBr): νmax3895, 3047, 161
8, 1587, 1454, 897, 860, 825, 7
50cm-1. MS: m / z 726 (M+) (100%), 518, 2
65,179,136. HRMS C56H40Calculated value 726.316 as N
3 (M+); Found 726.3156 (M+).

【0193】<実施例9:(R)−フェニルアラニン−
tert−ブチルエステルベンゾフェノンシッフ塩基の
調製>
Example 9 (R) -Phenylalanine-
Preparation of tert-butyl ester benzophenone Schiff base>

【0194】グリシン−tert−ブチルエステルベン
ゾフェノンシッフ塩基(148mg、0.5mmo
l)、実施例6で得られた不斉移動触媒(化合物22)
(5.51mg、0.005mmol)、トルエン
(3.25mL)および50%水酸化カリウム水溶液
(1.05mL)の混合物に、臭化ベンジル(72.1
μL、0.6mmol)を0℃で滴下した。0℃で48
時間攪拌した後、反応混合物を水にあけた。混合物をエ
ーテルで抽出し、エーテル抽出液を飽和食塩水で洗い、
乾燥(NaSO)後、減圧濃縮した。残査をシリカ
ゲルクロマトグラフィに付し、エーテル:ヘキサン
(1:10)で溶出して、(R)−フェニルアラニンー
tert−ブチルエステルベンゾフェノンシッフ塩基を
得た。収量156mg(0.405mmol)。収率8
1%得られたこの生成物の光学純度は、HPLC分析の
結果、95%eeであった。(DAICEL CHIR
AL OD;ヘキサン:2−プロパノール(100:
1);0.5mL/分;(R)−体:14分;(S)−
体:28.2分)。
Glycine-tert-butyl ester benzophenone Schiff base (148 mg, 0.5 mmol
l), the asymmetric transfer catalyst obtained in Example 6 (compound 22)
(5.51 mg, 0.005 mmol), toluene (3.25 mL) and a 50% aqueous potassium hydroxide solution (1.05 mL) were added to benzyl bromide (72.1.
μL, 0.6 mmol) was added dropwise at 0 ° C. 48 at 0 ° C
After stirring for an hour, the reaction mixture was poured into water. The mixture was extracted with ether, and the ether extract was washed with saturated saline,
After drying (Na 2 SO 4 ), the solution was concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel chromatography and eluted with ether: hexane (1:10) to give (R) -phenylalanine-tert-butyl ester benzophenone Schiff base. Yield 156 mg (0.405 mmol). Yield 8
The optical purity of this product obtained at 1% was 95% ee as a result of HPLC analysis. (DAICEL CHIR
AL OD; Hexane: 2-propanol (100:
1); 0.5 mL / min; (R) -form: 14 minutes; (S)-
Body: 28.2 minutes).

【0195】<実施例10〜13>各実施例について、
化合物22の代わりに、表1に示される触媒およびその
量を用い、表1に示される反応温度および時間で反応さ
せたこと以外は、実施例9と同様にしてアルキル化反応
を行い、それぞれの生成物を得た。
<Embodiments 10 to 13> For each embodiment,
An alkylation reaction was carried out in the same manner as in Example 9, except that the catalyst and the amount thereof shown in Table 1 were used instead of the compound 22, and the reaction was carried out at the reaction temperature and time shown in Table 1. The product was obtained.

【0196】[0196]

【表1】 [Table 1]

【0197】得られた各生成物の収率および光学純度を
表2に示す。
Table 2 shows the yield and optical purity of each product obtained.

【0198】[0198]

【表2】 [Table 2]

【0199】表2に示されるように、本発明の不斉触媒
を用いることにより、いずれの実施例においても、優れ
た収率および光学純度でグリシン誘導体のアルキル化反
応を行うことができたことがわかる。
As shown in Table 2, by using the asymmetric catalyst of the present invention, the alkylation reaction of the glycine derivative could be carried out with excellent yield and optical purity in any of the examples. I understand.

【0200】[0200]

【発明の効果】本発明によれば、天然または非天然のい
ずれを問わず、各種のα−アミノ酸誘導体を立体選択的
に合成することがでる。したがって、本発明はα−アミ
ノ酸の不斉合成化学分野において有用である。
According to the present invention, various α-amino acid derivatives, whether natural or non-natural, can be synthesized stereoselectively. Therefore, the present invention is useful in the field of asymmetric synthetic chemistry of α-amino acids.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C07B 53/00 C07B 53/00 B 61/00 300 61/00 300 C07M 7:00 C07M 7:00 Fターム(参考) 4C050 AA04 BB09 CC10 EE01 FF05 GG01 HH01 4G069 AA06 AA08 BA21A BA21B BE14C BE17A BE17B BE19C BE20C BE21C BE33C BE37A BE37B BE37C BE38A BE38B BE45A BE45B CB57 FA01 FB77 FC02 4H006 AA01 AA02 AB84 AC24 AC81 BA02 BA29 BA51 BA65 BB11 4H039 CA19 CD10 CD20 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) // C07B 53/00 C07B 53/00 B 61/00 300 61/00 300 C07M 7:00 C07M 7:00 F-term (reference) 4C050 AA04 BB09 CC10 EE01 FF05 GG01 HH01 4G069 AA06 AA08 BA21A BA21B BE14C BE17A BE17B BE19C BE20C BE21C BE33C BE37A BE37B BE37C BE38A BE38B BE45A BE45B CB57 AC01 BA02 BA01 AC02 CD20

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 式(I)で表される、N−スピロ4級ア
ンモニウム塩化合物: 【化1】 式中、Rは、水素原子;低級アルキル基;低級アルコ
キシ基;低級アルケニル基;低級アルキニル基;ハロゲ
ン原子;低級アルキル基、低級アルコキシ基、またはハ
ロゲン原子で置換されていても良いアリール基;あるい
は低級アルキル基、低級アルコキシ基、またはハロゲン
原子で置換されていても良いヘテロアリール基であり、
は、水素原子;低級アルキル基;低級アルコキシ
基;低級アルケニル基;低級アルキニル基;ハロゲン原
子;低級アルキル基、低級アルコキシ基、またはハロゲ
ン原子で置換されていても良いアリール基;低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、またはハロゲン原子で置換さ
れていても良いアリール基で置換された、アリール基;
低級アルキル基、低級アルコキシ基、またはハロゲン原
子で置換されていても良いヘテロアリール基で置換され
た、アリール基;低級アルキル基、低級アルコキシ基、
またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリ
ール基;低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン
原子で置換されていても良いアリール基で置換されたヘ
テロアリール基;あるいは低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘ
テロアリール基で置換された、ヘテロアリール基であ
り、そしてXはハロゲン原子である。
An N-spiro quaternary ammonium salt compound represented by the formula (I): In the formula, R 1 represents a hydrogen atom; a lower alkyl group; a lower alkoxy group; a lower alkenyl group; a lower alkynyl group; a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or an aryl group optionally substituted with a halogen atom; Or a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a heteroaryl group which may be substituted with a halogen atom,
R 2 is a hydrogen atom; a lower alkyl group; a lower alkoxy group; a lower alkenyl group; a lower alkynyl group; a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or an aryl group optionally substituted with a halogen atom; An aryl group substituted with an aryl group which may be substituted with a lower alkoxy group or a halogen atom;
An aryl group substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a heteroaryl group optionally substituted with a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group,
Or a heteroaryl group optionally substituted with a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a heteroaryl group substituted with an aryl group optionally substituted with a halogen atom; or a lower alkyl group, a lower alkoxy group, Or a heteroaryl group substituted with a heteroaryl group which may be substituted with a halogen atom, and X is a halogen atom.
【請求項2】 Rが水素原子または4個〜10個の炭
素原子を有する有機残基であり、かつRが水素原子ま
たは4個〜20個の炭素原子を有する有機残基である、
請求項1に記載の化合物。
2. R 1 is a hydrogen atom or an organic residue having 4 to 10 carbon atoms, and R 2 is a hydrogen atom or an organic residue having 4 to 20 carbon atoms.
A compound according to claim 1.
【請求項3】 前記4個〜10個の炭素原子を有する有
機残基および前記4個〜20個の炭素原子を有する有機
残基がともに芳香族炭化水素である、請求項2に記載の
化合物。
3. The compound according to claim 2, wherein the organic residue having 4 to 10 carbon atoms and the organic residue having 4 to 20 carbon atoms are both aromatic hydrocarbons. .
【請求項4】 XがBrである、請求項1に記載の化合
物。
4. The compound according to claim 1, wherein X is Br.
【請求項5】 Rが水素原子またはフェニル基であ
り、かつRがβ−ナフチル基または3,5−ジフェニ
ルフェニル基である、請求項1または3に記載の化合
物。
5. The compound according to claim 1 , wherein R 1 is a hydrogen atom or a phenyl group, and R 2 is a β-naphthyl group or a 3,5-diphenylphenyl group.
【請求項6】 式(II)で表される、化合物: 【化2】 式中、Rは、水素原子;低級アルキル基;低級アルコ
キシ基;低級アルケニル基;低級アルキニル基;ハロゲ
ン原子;低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン
原子で置換されていても良いアリール基;あるいは低級
アルキル基、低級アルコキシ基、またはハロゲン原子で
置換されていても良いヘテロアリール基であり、R
は、水素原子;低級アルキル基;低級アルコキシ基;
低級アルケニル基;低級アルキニル基;ハロゲン原子;
低級アルキル基、低級アルコキシ基、またはハロゲン原
子で置換されていても良いアリール基;低級アルキル
基、低級アルコキシ基、またはハロゲン原子で置換され
ていても良いアリール基で置換された、アリール基;低
級アルキル基、低級アルコキシ基、またはハロゲン原子
で置換されていても良いヘテロアリール基で置換され
た、アリール基;低級アルキル基、低級アルコキシ基、
またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロアリ
ール基;低級アルキル基、低級アルコキシ基、またはハ
ロゲン原子で置換されていても良いアリール基で置換さ
れたヘテロアリール基;あるいは低級アルキル基、低級
アルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても
良いヘテロアリール基で置換されたヘテロアリール基で
あり(ただし、RおよびRの両方が水素原子である
場合を除く)、Xはハロゲン原子である。
6. A compound represented by the formula (II): In the formula, R 1 is a hydrogen atom; a lower alkyl group; a lower alkoxy group; a lower alkenyl group; a lower alkynyl group; a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group, an aryl group optionally substituted with a halogen atom; A lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a heteroaryl group optionally substituted with a halogen atom;
2 is a hydrogen atom; a lower alkyl group; a lower alkoxy group;
Lower alkenyl group; lower alkynyl group; halogen atom;
An aryl group optionally substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a halogen atom; an aryl group substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or an aryl group optionally substituted with a halogen atom; An aryl group substituted with an alkyl group, a lower alkoxy group, or a heteroaryl group optionally substituted with a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group,
Or a heteroaryl group optionally substituted with a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a heteroaryl group substituted with an aryl group optionally substituted with a halogen atom; or a lower alkyl group or a lower alkoxy group Or a heteroaryl group substituted with a heteroaryl group which may be substituted with a halogen atom (except when both R 1 and R 2 are hydrogen atoms), and X is a halogen atom.
【請求項7】 請求項1に記載の化合物を製造するため
の方法であって、式(II)で表される化合物 【化3】 (式中、Rは、水素原子;低級アルキル基;低級アル
コキシ基;低級アルケニル基;低級アルキニル基;ハロ
ゲン原子;低級アルキル基、低級アルコキシ基、または
ハロゲン原子で置換されていても良いアリール基;ある
いは低級アルキル基、低級アルコキシ基、またはハロゲ
ン原子で置換されていても良いヘテロアリール基であ
り、Rは、水素原子;低級アルキル基;低級アルコキ
シ基;低級アルケニル基;低級アルキニル基;ハロゲン
原子;低級アルキル基、低級アルコキシ基、またはハロ
ゲン原子で置換されていても良いアリール基;低級アル
キル基、低級アルコキシ基、またはハロゲン原子で置換
されていても良いアリール基で置換された、アリール
基;低級アルキル基、低級アルコキシ基、またはハロゲ
ン原子で置換されていても良いヘテロアリール基で置換
された、アリール基;低級アルキル基、低級アルコキシ
基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロ
アリール基;低級アルキル基、低級アルコキシ基、また
はハロゲン原子で置換されていても良いアリール基で置
換された、ヘテロアリール基;あるいは低級アルキル
基、低級アルコキシ基、またはハロゲン原子で置換され
ていても良いヘテロアリール基で置換された、ヘテロア
リール基であり、そしてXはハロゲン原子である。)
と、式(III)で表される化合物 【化4】 とを、有機溶媒中、酸補足剤の存在下に反応させる工程
を包含する、方法。
7. A method for producing the compound according to claim 1, wherein the compound is represented by the formula (II): (Wherein R 1 is a hydrogen atom; a lower alkyl group; a lower alkoxy group; a lower alkenyl group; a lower alkynyl group; a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or an aryl group optionally substituted with a halogen atom) Or a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a heteroaryl group optionally substituted with a halogen atom, wherein R 2 is a hydrogen atom; a lower alkyl group; a lower alkoxy group; a lower alkenyl group; a lower alkynyl group; Atom; aryl group optionally substituted by lower alkyl group, lower alkoxy group, or halogen atom; aryl group substituted by lower alkyl group, lower alkoxy group, or aryl group optionally substituted by halogen atom ; Substituted by a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a halogen atom An aryl group substituted by a heteroaryl group which may be substituted; a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a heteroaryl group optionally substituted by a halogen atom; a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a halogen atom A heteroaryl group substituted with an optionally substituted aryl group; or a heteroaryl group substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a heteroaryl group optionally substituted with a halogen atom, and X Is a halogen atom.)
And a compound represented by the formula (III): And a reaction in an organic solvent in the presence of an acid scavenger.
【請求項8】 XがBrである、請求項7に記載の方
法。
8. The method of claim 7, wherein X is Br.
【請求項9】 Rが水素原子であり、かつRがβ−
ナフチルまたは3,5−ジフェニルフェニルである、請
求項7または8に記載の方法。
9. R 1 is a hydrogen atom, and R 2 is β-
The method according to claim 7 or 8, wherein the method is naphthyl or 3,5-diphenylphenyl.
【請求項10】 Rがフェニルであり、かつR
3,5−ジフェニルフェニルである、請求項7または8
に記載の方法。
10. The method of claim 7, wherein R 1 is phenyl and R 2 is 3,5-diphenylphenyl.
The method described in.
【請求項11】 請求項1に記載の化合物の存在下、式
(IV)で表される化合物: 【化5】 (式中、RおよびRは、同じまたは異なって、水素
原子であるか、あるいはC〜Cアルキル基、C
アルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されてい
ても良いアリール基であり(ただしRおよびRの両
方が同時に水素原子である場合を除く);Rは、水素
原子であるか、C〜Cアルキル基、C 〜Cアル
コキシ基、またはハロゲン原子で置換されていても良い
アリール基であるか、分岐または環を形成していても良
いC〜Cアルキル基であるか、あるいはC〜C
アルキル基、C〜Cアルコキシ基、またはハロゲン
原子で置換されていても良いアラルキル基であり;そし
てRはC〜Cアルキル基である)を、溶媒中、無
機塩基の存在下、式(V)の化合物: 【化6】 (式中、Rは、C〜Cの分岐もしくは環を形成し
ていても良いアルキル基;C〜Cの分岐もしくは環
を形成していても良いアリル基または置換アリル基;C
〜Cのアルキル基、C〜Cのアルコキシ基、ハ
ロゲン原子、あるいはC〜Cのアルキル基、C
のアルコキシ基、またはハロゲン原子で置換されて
いても良いアリール基、あるいはC〜Cのアルキル
基、C〜Cのアルコキシ基、またはハロゲン原子で
置換されていても良いヘテロアリール基で置換されてい
ても良いアラルキル基;C〜Cのアルキル基、C
〜C のアルコキシ基、ハロゲン原子、あるいはC
のアルキル基、C〜C のアルコキシ基、または
ハロゲン原子で置換されていても良いアリール基、ある
いはC〜Cのアルキル基、C〜Cのアルコキシ
基、またはハロゲン原子で置換されていても良いヘテロ
アリール基で置換されていても良いヘテロアラルキル
基;もしくは、C〜Cの分岐していても良いプロパ
ルギル基または置換プロパルギル基であり;そしてWは
脱離能を有する官能基である)でアルキル化する工程を
包含する、式(VI): 【化7】 (式中、R、R、R、R、およびRは前記と
同様であり、かつ*印は不斉炭素原子を示す)で示され
る化合物を立体選択的に製造する方法。
11. In the presence of a compound according to claim 1, a compound of the formula
Compound represented by (IV):(Where R3And R4Is the same or different and is hydrogen
Is an atom or C1~ C3Alkyl group, C1~
C3Substituted with an alkoxy group or a halogen atom
An aryl group (where R3And R4Both
R and R are not hydrogen atoms at the same time);5Is hydrogen
Atom or C1~ C3Alkyl group, C 1~ C3Al
May be substituted with a oxy group or a halogen atom
May be an aryl group, or form a branch or ring
C1~ C6An alkyl group or C1~ C3
Alkyl group, C1~ C3Alkoxy group or halogen
An aralkyl group optionally substituted with an atom;
R6Is C1~ C4An alkyl group) in a solvent
In the presence of an organic base, a compound of formula (V):(Where R7Is C1~ C6Form a branch or ring of
An optionally substituted alkyl group; C3~ C9Branch or ring of
An allyl group or a substituted allyl group which may form
1~ C4An alkyl group of C1~ C3An alkoxy group, c
Logen atom or C1~ C4An alkyl group of C1~
C3Substituted with an alkoxy group or a halogen atom
Optionally an aryl group, or C1~ C4The alkyl of
Group, C1~ C3With an alkoxy group or a halogen atom
Substituted with an optionally substituted heteroaryl group
Aralkyl groups which may be substituted; C1~ C3An alkyl group of C1
~ C 3An alkoxy group, a halogen atom, or C1~
C4An alkyl group of C1~ C 3An alkoxy group, or
Some aryl groups which may be substituted by halogen atoms
I C1~ C4An alkyl group of C1~ C3The alkoxy of
Group or hetero optionally substituted with a halogen atom
Heteroaralkyl optionally substituted with an aryl group
Group; or C3~ C9Properties that may be branched
A Lugyl group or a substituted propargyl group; and W is
Alkylation with a functional group capable of leaving)
Including, formula (VI):(Where R3, R4, R5, R6, And R7Is
The same is true, and * indicates an asymmetric carbon atom).
To produce a compound stereoselectively.
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