JP2002312980A - Optical recording medium, method of manufacturing the same, and target for sputtering - Google Patents

Optical recording medium, method of manufacturing the same, and target for sputtering

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JP2002312980A
JP2002312980A JP2001117220A JP2001117220A JP2002312980A JP 2002312980 A JP2002312980 A JP 2002312980A JP 2001117220 A JP2001117220 A JP 2001117220A JP 2001117220 A JP2001117220 A JP 2001117220A JP 2002312980 A JP2002312980 A JP 2002312980A
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Japan
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layer
additive
disk substrate
information signal
recording medium
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JP2001117220A
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Toru Abiko
透 安孫子
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Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress the difference in the recording power margin in an optical recording medium which uses the CAV method and to increase the total power margin. SOLUTION: A planar annular optical disk 1 has a first information signal layer 7 and a protective layer 8 protecting the first information signal layer 7 on one principal plane of a disk substrate 2 and is used to record and reproduce information signals by the CAV method. The first information signal layer 7 consists of a first dielectric layer 3, phase change recording layer 4, second dielectric layer 5 and first reflecting layer 6 which can reflect laser light L1 . In the optical disk 1, the first reflecting layer 6 is made of AlCu or AgPdCu and the add amount of Cu included in the Al alloy or the add amount of Pd and Cu included in the Ag alloy in the first reflecting layer 6 is monotonously increased from the inner circumference to the outer circumference of the first reflecting layer 6 along the radial direction of the optical disk 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、光学記録媒体お
よびその製造方法、並びにスパッタリング用ターゲット
に関し、特に、回転数一定(CAV,Constant Angular
Velocity)で情報信号の記録/再生を行う光学記録媒
体に適用して好適なものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium, a method for manufacturing the same, and a sputtering target, and more particularly, to a constant rotational speed (CAV, Constant Angular).
It is suitable for application to an optical recording medium for recording / reproducing an information signal in Velocity.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、相変化記録材料を用いた書き換え
可能な光ディスクの実用例として、いわゆるDVD−R
W(Digital Versatile Disc-ReWritable)が市販され
ている。このDVD−RWは、2枚の相変化型のディス
ク状光記録媒体(以下、光ディスク)を貼り合わせたも
のである。この貼り合わせ前の光ディスク101を図1
8に示す。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a practical example of a rewritable optical disk using a phase change recording material, a so-called DVD-R
W (Digital Versatile Disc-ReWritable) is commercially available. This DVD-RW is obtained by laminating two phase-change type disk-shaped optical recording media (hereinafter, optical disks). The optical disc 101 before bonding is shown in FIG.
FIG.

【0003】図18に示すように、この貼り合わせ前の
光ディスク101においては、PCからなるディスク基
板102の一主面102a上に、誘電体からなる第1の
誘電体層103、結晶相と非晶質相との相変化を利用し
て情報信号が記録される相変化記録層104、第2の誘
電体層105、レーザ光を反射するための反射層106
および、これらの第1の誘電体層103から反射層10
6の積層膜を保護するための保護層107が順次積層さ
れて設けられている。
As shown in FIG. 18, in an optical disk 101 before bonding, a first dielectric layer 103 made of a dielectric material and a crystal phase are formed on one main surface 102a of a disk substrate 102 made of a PC. A phase change recording layer 104 on which an information signal is recorded using a phase change with a crystalline phase, a second dielectric layer 105, and a reflection layer 106 for reflecting a laser beam
And the first dielectric layer 103 to the reflective layer 10
The protective layers 107 for protecting the six stacked films are sequentially provided.

【0004】そして、図19Aに示すように、以上のよ
うに構成された光ディスク101を2枚用意し、それら
の一主面102a側の保護層107どうしを、接着層1
08を介して貼り合わせることにより、両面記録構成の
DVD−RWを得ることができる。また、片面のみを記
録面とする場合には、図19Bに示すように、ディスク
基板102の一主面102a上に反射層109および保
護層107が順次積層されて構成されたダミーディスク
と、図18に示す光ディスクとを、それらの保護層10
7側を接着層108を介して貼り合わせることにより、
片面記録構成のDVD−RWを得ることができる。
[0004] As shown in FIG. 19A, two optical disks 101 configured as described above are prepared, and the protective layers 107 on one main surface 102a side are bonded to each other by the adhesive layer 1.
By pasting through the DVD, a DVD-RW having a double-sided recording configuration can be obtained. When only one surface is used as a recording surface, as shown in FIG. 19B, a dummy disk in which a reflective layer 109 and a protective layer 107 are sequentially laminated on one main surface 102a of a disk substrate 102 is illustrated. The optical disk shown in FIG.
By bonding the 7 side through an adhesive layer 108,
A single-sided recording DVD-RW can be obtained.

【0005】このようなDVD−RW101に対する記
録/再生時に用いられるレーザ光は、ディスク基板10
2側から相変化記録層104に向けて照射されるように
構成される。そして、このDVD−RW101において
は、線速が3.49m/s、記録ビット長が0.267
μm/bit、トラックピッチ(Tp)が0.74μ
m、レーザ光の波長が約650μm、データ転送レート
が11Mbps、記録容量4.7GBが実現されてい
る。ところが、近年のコンピュータなどのアプリケーシ
ョンを考慮すると、データ転送レートをより向上させ、
この高転送レートでのCAVによる記録/再生が望まれ
ている。
[0005] Laser light used for recording / reproducing on such a DVD-RW 101 is applied to the disk substrate 10.
It is configured to irradiate the phase change recording layer 104 from the second side. In this DVD-RW 101, the linear velocity is 3.49 m / s, and the recording bit length is 0.267.
μm / bit, track pitch (Tp) 0.74μ
m, the wavelength of the laser beam is about 650 μm, the data transfer rate is 11 Mbps, and the recording capacity is 4.7 GB. However, considering the recent applications such as computers, the data transfer rate has been further improved,
Recording / reproduction by CAV at this high transfer rate is desired.

【0006】そして、このDVD−RW101を上回る
大容量化、高転送レート化を実現するためには、記録用
のレーザ光におけるスポットサイズ(スポット径)を小
さくし、記録線速の向上する方法が有効である。ここ
で、記録用のレーザ光におけるスポットサイズを小さく
するためには、具体的には、レーザ光を短波長化する方
法や、対物レンズの開口数(NA)を大きくする方法な
どを挙げることができる。
In order to achieve a larger capacity and a higher transfer rate than the DVD-RW 101, there is a method of reducing the spot size (spot diameter) of the recording laser beam and improving the recording linear velocity. It is valid. Here, in order to reduce the spot size of the recording laser light, specifically, a method of shortening the wavelength of the laser light, a method of increasing the numerical aperture (NA) of the objective lens, and the like are mentioned. it can.

【0007】特に、レーザ光の短波長化と対物レンズの
高NA化とを併用すると、これらのそれぞれの方法を単
独に採用した場合に比べ、スポットサイズをより小さく
することができる。例えば、光源として、波長λが40
0nm付近のいわゆる青紫色レーザを用い、さらに対物
レンズのNAが0.85の対物レンズを用いると、理論
上、さらなる高密度記録が可能となる。
In particular, when the wavelength of the laser beam is shortened and the NA of the objective lens is increased, the spot size can be made smaller than when each of these methods is used alone. For example, as a light source, the wavelength λ is 40
If a so-called blue-violet laser near 0 nm is used and an objective lens with an NA of 0.85 is used, theoretically higher density recording is possible.

【0008】このように、記録密度を上げるためには、
NA/λの向上を図ることが不可欠となる。この場合、
記録容量として8GBを達成するためには、少なくとも
NAを0.70以上とし、さらにレーザ光の波長λを
0.68μm(680nm)以下にする必要がある。
As described above, in order to increase the recording density,
It is essential to improve NA / λ. in this case,
In order to achieve a recording capacity of 8 GB, it is necessary that the NA is at least 0.70 or more and the wavelength λ of the laser beam is 0.68 μm (680 nm) or less.

【0009】そして、現状用いられている赤色レーザか
ら、将来普及が見込まれる青色レーザまで対応すること
を考慮すると、光透過層は10〜177μmに設定する
のが最適である。すなわち、一般的に、ディスクスキュ
ーマージンΘと、記録再生用光学ピックアップの光源波
長λ、開口数(NA)および、ディスクの光透過保護層
の膜厚tとは相関関係にある。そして、実用上、そのプ
レイヤビリティが十分に実証されているコンパクトディ
スク(CD)を基準として、これらのパラメータとディ
スクスキューマージンΘとの関係が、特開平3−225
650号公報(文献1)に示されている。
[0009] Considering the compatibility from the currently used red laser to the blue laser expected to be widely used in the future, it is optimal to set the light transmission layer to 10 to 177 µm. That is, in general, there is a correlation between the disk skew margin Θ, the light source wavelength λ of the recording / reproducing optical pickup, the numerical aperture (NA), and the film thickness t of the light transmission protective layer of the disk. The relationship between these parameters and the disk skew margin Θ on the basis of a compact disk (CD) whose playability has been sufficiently demonstrated in practice is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-225.
No. 650 (Reference 1).

【0010】文献1によれば、−84.115(λ/N
3/t)≦Θ≦84.115(λ/NA3/t)にする
必要がある。ここで、ディスクを実際に量産する場合の
スキューマージンΘの具体的な限界値を考えると、0.
4°とするのが妥当である。これは、量産を考えた場
合、これより小さくすると製造歩留まりが低下し、コス
トが増加してしまうからである。既存の光学記録媒体に
ついても、ディスクスキューマージンΘの限界値は、C
Dにおいて0.6°、DVDにおいて0.4°である。
According to Document 1, -84.115 (λ / N
A 3 /t)≦Θ≦84.115 (λ / NA 3 / t). Here, considering a specific limit value of the skew margin 場合 when the disks are actually mass-produced, 0.
A value of 4 ° is reasonable. This is because, when considering mass production, if the size is smaller than this, the manufacturing yield decreases, and the cost increases. Even for existing optical recording media, the limit value of the disc skew margin Θ is C
D is 0.6 ° and DVD is 0.4 °.

【0011】そこで、Θ=0.4°として、レーザの短
波長化および高NA化により、光透過保護層の厚みをど
の程度に設定すべきかを計算すると、レーザ光の波長λ
がλ=0.65μm(赤色レーザ)である場合、NAは
0.78以上が要求される。また、レーザ光の短波長化
が進み、波長λが0.4μm程度の半導体レーザを用
い、NAを上述の0.78以上に固定した場合、ディス
クの光透過保護層の膜厚tは、177μm以下に小さく
する必要がある。他方、この光透過保護層の膜厚の下限
は、光記録層を保護する光透過保護層の保護機能によっ
て決定される。さらに、信頼性や2群レンズの衝突など
の影響を考慮すると、光透過保護層の膜厚としては、1
0μm以上が望ましい。
Therefore, when Θ is set to 0.4 ° and how much the thickness of the light transmission protective layer should be set by shortening the wavelength of the laser and increasing the NA, the wavelength λ of the laser light is calculated.
Is λ = 0.65 μm (red laser), the NA is required to be 0.78 or more. In addition, when the wavelength of the laser light is shortened and a semiconductor laser having a wavelength λ of about 0.4 μm is used and NA is fixed at 0.78 or more, the thickness t of the light transmission protection layer of the disk is 177 μm. It needs to be smaller below. On the other hand, the lower limit of the thickness of the light transmitting protective layer is determined by the protection function of the light transmitting protective layer for protecting the optical recording layer. Further, in consideration of the reliability and the influence of the collision of the second lens group, the thickness of the light transmission protection layer is set to 1
0 μm or more is desirable.

【0012】ここで、光透過保護層が薄膜化された、上
述したような光学記録媒体(光ディスク)について説明
する。図20に、この光ディスク201を示す。
Here, an optical recording medium (optical disk) as described above, in which the light transmission protection layer is thinned, will be described. FIG. 20 shows the optical disc 201.

【0013】図20に示すように、光透過保護層が薄膜
化された光ディスク201は、支持基板202上に、反
射層203、第1の誘電体層204、記録層205およ
び第2の誘電体層206からなる光記録層207と、こ
の光記録層207上に、接着層208を介して光透過保
護層209とが積層された構成を有する。これらのうち
支持基板202は、これを単板で構成する場合にある程
度の剛性が要求される。そのため、支持基板202の厚
さは、0.6mm程度である。
As shown in FIG. 20, an optical disc 201 having a thin light transmission protection layer is provided on a support substrate 202 with a reflection layer 203, a first dielectric layer 204, a recording layer 205, and a second dielectric layer. An optical recording layer 207 composed of the layer 206 and a light transmission protection layer 209 are laminated on the optical recording layer 207 via an adhesive layer 208. Among these, the support substrate 202 requires a certain degree of rigidity when it is formed of a single plate. Therefore, the thickness of the support substrate 202 is about 0.6 mm.

【0014】ところで、上述したようなDVD−RW1
01や光ディスク201などの光学記録媒体において、
支持基板として用いられるポリカーボネート樹脂やポリ
オレフィン系樹脂は、溶融成型時に耐熱性を有しつつ、
成形しやすく、変質が少なく、さらに機械的特性も優れ
ているという利点を有している。そのため、光学記録媒
体の支持基板として有用な材料である。
Incidentally, the DVD-RW1 as described above
01 or an optical recording medium such as the optical disk 201,
Polycarbonate resin and polyolefin resin used as a support substrate have heat resistance during melt molding,
It has the advantages that it is easy to mold, has little deterioration, and has excellent mechanical properties. Therefore, it is a material useful as a support substrate for an optical recording medium.

【0015】また、2枚のディスクを貼り合わせて構成
されるものにおいては、支持基板上に記録用薄膜を形成
後、貼り合わせにより光透過保護層が形成される点が重
要である。光ディスクにおいては、このような貼り合わ
せによって歩留まりや光学記録媒体の信頼性が左右され
ることも多い。
In the case where two disks are bonded to each other, it is important that a light-transmitting protective layer is formed by bonding a recording thin film on a support substrate and then bonding the recording thin film. In an optical disk, the yield and the reliability of the optical recording medium are often influenced by such bonding.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】以上のようなDVD−
RW101や、光透過保護層が薄膜化された光ディスク
201のような、大容量で高転送レートの光ディスクに
おいても、CAVにより記録可能および/または再生可
能とすることが要求されている。
SUMMARY OF THE INVENTION The above DVD-
It is required that even large-capacity, high-transfer-rate optical disks, such as the RW 101 and the optical disk 201 having a thin light transmission protection layer, be recordable and / or reproducible by CAV.

【0017】しかしながら、上述したような相変化記録
媒体においては、レーザ光による熱記録方式が採用され
ているため、CAVによる媒体の昇温や冷却の温度特性
の変化が、記録特性に大きな影響を与える。具体的に、
外径が120mmの平面円環形状の光ディスクにおい
て、記録領域における最内周の線速度と最外周の線速度
とは、約2.5倍異なってしまう。すなわち、外径が1
20mmの光ディスクにおいては、外周部の線速度は、
センターホール側(内周部)の線速度に比して、約2.
5倍大きくなる。このように、光ディスクの内周部と外
周部とにおいて線速度が大きく異なることにより、光デ
ィスクに情報信号を記録する際に、あらゆる線速度にお
いて記録特性を保証すること、すなわち光ディスク全面
での記録特性を保証することが困難であった。
However, in the above-described phase-change recording medium, a thermal recording method using a laser beam is employed. Therefore, a change in temperature characteristics of heating and cooling of the medium due to CAV greatly affects the recording characteristics. give. Specifically,
In an optical disk having a flat annular shape with an outer diameter of 120 mm, the linear velocity at the innermost circumference and the linear velocity at the outermost circumference in the recording area differ by about 2.5 times. That is, if the outer diameter is 1
For a 20 mm optical disk, the linear velocity at the outer periphery is
Compared to the linear velocity on the center hole side (inner circumference), about 2.
5 times larger. As described above, since the linear velocities of the inner and outer peripheral portions of the optical disc are largely different, when recording an information signal on the optical disc, the recording characteristics are guaranteed at all linear velocities. It was difficult to guarantee.

【0018】したがって、この発明の目的は、ディスク
基板を角速度一定(CAV)で回転させるとともにレー
ザ光を照射することにより、情報信号の記録/再生を行
うように構成された光学記録媒体において、記録パワー
マージンの差、特に、光学記録媒体における内周部と外
周部とにおける記録パワーマージンの差を抑制すること
ができ、光学記録媒体の全面のパワーマージンが増加さ
れた、光学記録媒体およびその製造方法を提供すること
にある。
Therefore, an object of the present invention is to provide an optical recording medium configured to record / reproduce an information signal by rotating a disk substrate at a constant angular velocity (CAV) and irradiating a laser beam. An optical recording medium and a method of manufacturing the optical recording medium, in which a difference in power margin, in particular, a difference in recording power margin between an inner peripheral portion and an outer peripheral portion of the optical recording medium can be suppressed, and the power margin of the entire optical recording medium is increased. It is to provide a method.

【0019】また、この発明の他の目的は、ディスク基
板を角速度一定(CAV)で回転させるとともにレーザ
光を照射することにより情報信号の記録/再生を行うよ
うに構成された平面円環状の光学記録媒体における記録
パワーマージンの差、特に内周と外周とにおける記録パ
ワーマージンの差を抑制し、光ディスク全体のパワーマ
ージンを増加可能な光学記録媒体を製造する際に行われ
る、スパッタリング法に用いられるスパッタリング用タ
ーゲットを提供することにある。
Another object of the present invention is to provide an optical disk having a flat annular shape configured to record / reproduce information signals by rotating a disk substrate at a constant angular velocity (CAV) and irradiating a laser beam. It is used for a sputtering method performed when manufacturing an optical recording medium capable of suppressing a difference in recording power margin in a recording medium, in particular, a difference in recording power margin between an inner periphery and an outer periphery and increasing a power margin of an entire optical disc. An object of the present invention is to provide a sputtering target.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】本発明者は従来技術が有
する上述の課題を解決するために鋭意検討を行った。以
下にその概要を説明する。
Means for Solving the Problems The present inventor has conducted intensive studies in order to solve the above-mentioned problems of the prior art. The outline is described below.

【0021】すなわち、本発明者の知見によれば、CA
V方式を採用した光ディスクにおいては、情報信号の記
録/再生時における回転数が一定であるため、上述した
ように、内周部における線速度と外周部における線速度
とは、約2.5倍も異なり、外周部における線速度が内
周部における線速度の約2.5倍になってしまう。これ
により、単位時間当たりにレーザスポットが照射する範
囲も約2.5倍異なってしまう。
That is, according to the findings of the present inventors, CA
In an optical disk employing the V system, the number of revolutions during recording / reproducing of an information signal is constant. Therefore, as described above, the linear velocity in the inner peripheral part and the linear velocity in the outer peripheral part are about 2.5 times. Also, the linear velocity at the outer peripheral part is about 2.5 times the linear velocity at the inner peripheral part. As a result, the irradiation range of the laser spot per unit time also differs by about 2.5 times.

【0022】そこで、本発明者は、このようなCAV方
式を採用した光ディスクにおいて、記録や再生のときの
内周部と外周部とにおける、その線速度の相違による昇
温や冷却などの温度特性の差を抑制するために種々検討
を重ねた。その結果、温度特性を左右する反射層に着眼
するに至った。
Therefore, the present inventor has developed a temperature characteristic such as a temperature rise or a cooling due to a difference in linear velocity between an inner peripheral portion and an outer peripheral portion at the time of recording or reproduction in an optical disk employing the CAV method. Various investigations were repeated in order to suppress the difference. As a result, the inventors came to focus on the reflective layer that affects the temperature characteristics.

【0023】すなわち、本発明者は、光ディスクの記録
層における昇温や冷却などを、記録層の全面にわたって
ほぼ等しくするには、反射層の熱伝導率を変化させるよ
うにすれば、温度特性を制御できることを想起するに至
った。具体的には、反射層の熱伝導率を、線速度の相違
に応じた熱伝導率、すなわちレーザ光が照射される部分
における昇温や冷却の特性が、記録層の全面においてほ
ぼ等しい状態となり、レーザ光が照射された部分におけ
る反射層の熱伝導率を、熱記録に適した熱伝導率となる
ようにすることができれば、光ディスクの記録領域全面
において記録特性を保証することが可能となる。
That is, the inventor of the present invention changes the thermal conductivity of the reflective layer so that the temperature rise and the cooling in the recording layer of the optical disk can be made substantially equal over the entire surface of the recording layer. I came to remember that I could control it. Specifically, the thermal conductivity of the reflective layer is set to a value corresponding to the difference in linear velocity, that is, the characteristics of temperature rise and cooling in the portion irradiated with the laser beam are almost equal over the entire surface of the recording layer. If the thermal conductivity of the reflective layer in the portion irradiated with the laser beam can be made to be a thermal conductivity suitable for thermal recording, it is possible to guarantee the recording characteristics over the entire recording area of the optical disc. .

【0024】そこで、本発明者は、線速度が比較的大き
い、平面円環状の光ディスクの外周部において、内周部
におけると同様の特性を得るための熱伝導率について、
さらに実験、検討を重ねた。その結果、反射層としてA
l合金やAg合金を用いる場合において、光ディスクの
外周部においてより熱を蓄えやすくする、すなわち熱伝
導率を低下させるようにすればよいことを想起した。
The present inventor has found that the thermal conductivity for obtaining the same characteristics as those at the inner peripheral portion at the outer peripheral portion of a flat annular optical disk having a relatively high linear velocity is as follows.
Further experiments and investigations were repeated. As a result, A
It has been recalled that when using an l-alloy or an Ag alloy, heat should be more easily stored in the outer peripheral portion of the optical disk, that is, the thermal conductivity should be reduced.

【0025】すなわち、本発明者の知見によれば、反射
層として用いられるAl合金やAg合金においては、A
lやAgを主成分とし、これらの金属に少量添加された
添加物の添加量に応じて、その熱伝導率は変化する。そ
の熱伝導率の変化の一例を以下の表1および表2に示
す。
That is, according to the knowledge of the present inventors, in an Al alloy or an Ag alloy used as a reflection layer, A
The thermal conductivity changes depending on the amount of an additive containing l or Ag as a main component and a small amount added to these metals. Examples of the change in the thermal conductivity are shown in Tables 1 and 2 below.

【0026】[0026]

【表1】 [Table 1]

【0027】[0027]

【表2】 [Table 2]

【0028】以上の表1および表2から、光ディスクの
反射層において、AlやAgなどの主成分に添加する添
加物の添加量を変化させることによって、反射層の熱伝
導率を半径方向に変化させることが好ましい。さらに、
反射層の外周部において、反射層の内周部より添加量を
増加させるようにすれば、反射層の外周部に熱が蓄えら
れやすくなり、内周部におけると同等の温度特性を得る
ことができる。
From the above Tables 1 and 2, the thermal conductivity of the reflective layer is changed in the radial direction by changing the amount of the additive added to the main component such as Al or Ag in the reflective layer of the optical disk. Preferably. further,
In the outer peripheral portion of the reflective layer, if the addition amount is increased from the inner peripheral portion of the reflective layer, heat is easily stored in the outer peripheral portion of the reflective layer, and the same temperature characteristics as in the inner peripheral portion can be obtained. it can.

【0029】そして、本発明者は、種々の光ディスクに
おける所望とする特性に応じて、その反射層の熱伝導率
を変化させることができれば、設計自由度を向上させる
ことができ、その設計において、より好ましい熱伝導率
分布とすることができることを想起するに至った。
The present inventor can improve the degree of freedom of design if the thermal conductivity of the reflective layer can be changed in accordance with the desired characteristics of various optical discs. It has been recalled that a more favorable thermal conductivity distribution can be obtained.

【0030】また、本発明者は、このような光ディスク
の反射層における熱伝導率を、その半径方向に沿って変
化させるために、その反射層の形成についても重ねて検
討し、反射層の形成に主に用いられるスパッタリング法
において、そのスパッタリング用ターゲットにおける材
料の添加量を、上述の反射層と同様にターゲットの半径
方向に変化させるようにすることを想起した。そして、
CAV方式の光ディスクにおいては、ターゲットの外周
部における上述の添加物の添加量を内周部におけるより
多くすることが好ましい。
In order to change the thermal conductivity of the reflective layer of such an optical disk in the radial direction, the present inventors have repeatedly studied the formation of the reflective layer, and formed the reflective layer. In the sputtering method mainly used, it has been conceived that the addition amount of a material in the sputtering target is changed in the radial direction of the target similarly to the above-mentioned reflection layer. And
In the CAV type optical disk, it is preferable to increase the amount of the above-described additive in the outer peripheral portion of the target than in the inner peripheral portion.

【0031】この発明は、以上の検討に基づいて案出さ
れたものである。
The present invention has been devised based on the above study.

【0032】したがって、上記目的を達成するために、
この発明の第1の発明は、平面円環状のディスク基板の
一主面上に、平面円環状に、情報信号の記録および/ま
たは再生に用いられるレーザ光を反射可能に構成された
反射層と情報信号を記録可能に構成された記録層とが少
なくとも設けられ、ディスク基板をほぼ一定の角速度で
回転させるとともに、レーザ光を少なくとも記録層に照
射することにより、情報信号を記録可能および/または
再生可能に構成された光学記録媒体であって、反射層
が、アルミニウムに添加物が添加されたアルミニウム合
金からなり、反射層を構成するアルミニウム合金中に含
有される添加物の添加量が、ディスク基板の半径方向に
沿って変化していることを特徴とするものである。
Therefore, in order to achieve the above object,
According to a first aspect of the present invention, there is provided a flat annular disk substrate having, on one principal surface thereof, a reflective layer configured to reflect a laser beam used for recording and / or reproducing information signals in a planar annular shape. At least a recording layer configured to record an information signal is provided, and the information signal can be recorded and / or reproduced by rotating the disk substrate at a substantially constant angular velocity and irradiating at least the recording layer with a laser beam. An optical recording medium configured so that the reflective layer is made of an aluminum alloy in which an additive is added to aluminum, and the additive amount of the additive contained in the aluminum alloy forming the reflective layer is smaller than that of the disk substrate. In the radial direction.

【0033】この第1の発明において、アルミニウム合
金における熱伝導率の制御を容易に行うとともに、十分
な耐食性を確保するために、典型的には、添加物は銅で
あり、添加物の含有率は、0.5重量パーセント以上
1.5重量パーセント以下である。
In the first invention, in order to easily control the thermal conductivity of the aluminum alloy and to secure sufficient corrosion resistance, the additive is typically copper, and the content of the additive is Is from 0.5% by weight to 1.5% by weight.

【0034】この発明の第2の発明は、平面円環状のデ
ィスク基板の一主面上に、平面円環状に、情報信号の記
録および/または再生に用いられるレーザ光を反射可能
に構成された反射層と情報信号を記録可能に構成された
記録層とが少なくとも設けられ、ディスク基板をほぼ一
定の角速度で回転させるとともに、レーザ光を少なくと
も記録層に照射することにより、情報信号を記録可能お
よび/または再生可能に構成された光学記録媒体であっ
て、反射層が、銀に添加物が添加された銀合金からな
り、反射層を構成する銀合金中に含有される添加物の添
加量が、平面円環状のディスク基板の半径方向に沿って
変化していることを特徴とするものである。
According to a second aspect of the present invention, a laser beam used for recording and / or reproducing an information signal can be reflected on one principal surface of a planar annular disk substrate in a planar annular shape. At least a reflective layer and a recording layer configured to record information signals are provided, and the disk substrate is rotated at a substantially constant angular velocity, and at least a recording layer is irradiated with laser light to record information signals. And / or an optical recording medium configured to be reproducible, wherein the reflective layer is made of a silver alloy obtained by adding an additive to silver, and the amount of the additive contained in the silver alloy constituting the reflective layer is reduced. , Which vary along the radial direction of the planar annular disk substrate.

【0035】この第2の発明において、銀合金における
熱伝導率の制御を容易に行うとともに、十分な耐食性を
確保するために、典型的には、添加物は、カルシウム
(Ca)、マグネシウム(Mg)、パラジウム(P
d)、鉄(Fe)および銅(Cu)からなる群より選ば
れた少なくとも1種類の元素であり、良好な信号特性
と、十分な耐食性を確保するために、好適には、添加物
の含有率は、0.5重量パーセント以上3.3重量パー
セント以下である。
In the second invention, in order to easily control the thermal conductivity of the silver alloy and to secure sufficient corrosion resistance, the additives are typically calcium (Ca) and magnesium (Mg). ), Palladium (P
d), at least one element selected from the group consisting of iron (Fe) and copper (Cu), and preferably contains an additive in order to ensure good signal characteristics and sufficient corrosion resistance. The percentage is between 0.5% and 3.3% by weight.

【0036】この第1および第2の発明において、平面
円環状の光学記録媒体において、内周部の熱伝導率を増
加させるとともに、外周部の熱伝導率を内周部に比して
低くするために、反射層の外周部における添加物の添加
量が、反射層の内周部における添加物の添加量より多
い。そして、角速度一定で情報信号の記録/再生を行う
場合に良好に信号特性を確保するために、好適には、こ
の反射層に添加された添加物の添加量は、ディスク基板
の半径方向に沿って、反射層の内周部から外周部に向け
て増加している。
In the first and second aspects of the present invention, in the planar annular optical recording medium, the thermal conductivity of the inner peripheral portion is increased and the thermal conductivity of the outer peripheral portion is made lower than that of the inner peripheral portion. Therefore, the additive amount of the additive at the outer peripheral portion of the reflective layer is larger than the additive amount of the additive at the inner peripheral portion of the reflective layer. In order to ensure good signal characteristics when recording / reproducing an information signal at a constant angular velocity, the amount of the additive added to the reflective layer is preferably set along the radial direction of the disk substrate. Therefore, the thickness increases from the inner peripheral portion to the outer peripheral portion of the reflection layer.

【0037】この第1および第2の発明において、従来
のDVD−RWなどの光学記録媒体よりも大容量化する
ために、典型的には、ディスク基板の一主面に凹凸の溝
トラックが形成されており、溝トラックのトラックピッ
チは0.74μm以下である。また、溝トラックのトラ
ックピッチは、照射されるレーザ光のスポット径などに
よって決定され、好適には、トラックピッチは、0.2
μm以上である。
In the first and second aspects of the present invention, in order to increase the capacity of the optical recording medium such as a conventional DVD-RW, a groove track having irregularities is typically formed on one main surface of a disk substrate. The track pitch of the groove track is 0.74 μm or less. Further, the track pitch of the groove track is determined by the spot diameter of the laser light to be irradiated, and preferably, the track pitch is 0.2
μm or more.

【0038】この第1および第2の発明において、光学
記録媒体を書換可能または追記可能とするために、典型
的には、記録層は、少なくとも2つの可逆的な状態の変
化により情報信号を記録可能に構成されており、好適に
は、記録層は、結晶相と非晶質相との相変化により情報
信号を記録可能に構成された相変化材料からなる。
In the first and second inventions, in order to make the optical recording medium rewritable or recordable, the recording layer typically records an information signal by at least two reversible state changes. Preferably, the recording layer is made of a phase change material capable of recording an information signal by a phase change between a crystalline phase and an amorphous phase.

【0039】この第1および第2の発明において、65
0nm程度のレーザ光を用いて情報信号の記録および/
または再生を行うために、具体的には、ディスク基板の
一主面上に、第1の誘電体層、記録層、第2の誘電体層
および反射層が順次積層されて構成された第1の情報信
号層が設けられ、ディスク基板の一主面とは反対側の他
主面から第1の情報信号層に向けてレーザ光を照射する
ことにより、第1の情報信号層に対して情報信号を記録
可能および/または再生可能に構成されている。また、
情報信号の記録/再生に寄与する第1の情報信号層を保
護するために、典型的には、ディスク基板の一主面上に
おける第1の情報信号層上に接着層を介して保護層が設
けられている。また、このように構成された光学記録媒
体を2枚用いて、それらの第1の保護層側を、接着剤を
介して貼り合わせることにより、両面記録型の光学記録
媒体を構成することも可能である。また、上述のように
構成された光学記録媒体と、記録/再生するための情報
信号層を有しないダミーディスクとを用いて、これらを
貼り合わせることにより、片面記録型の光学記録媒体を
構成することも可能である。
In the first and second inventions, 65
Recording of information signals using a laser beam of about 0 nm and / or
Or, in order to perform reproduction, specifically, a first dielectric layer, a first dielectric layer, a recording layer, a second dielectric layer, and a reflective layer which are sequentially laminated on one main surface of a disk substrate. The first information signal layer is irradiated with laser light from the other main surface opposite to the one main surface of the disk substrate toward the first information signal layer. The signal can be recorded and / or reproduced. Also,
In order to protect the first information signal layer contributing to recording / reproduction of the information signal, typically, a protection layer is provided on the first information signal layer on one main surface of the disk substrate via an adhesive layer. Is provided. In addition, a two-sided recording type optical recording medium can be configured by using two optical recording media configured as described above and bonding the first protective layer side through an adhesive. It is. In addition, a single-sided recording type optical recording medium is formed by using an optical recording medium configured as described above and a dummy disk having no information signal layer for recording / reproducing and bonding them together. It is also possible.

【0040】この第1および第2の発明において、レー
ザ光の波長がより短波長化され、対物レンズがより高開
口数(NA)化された光学ピックアップを用いて情報信
号の記録/再生を行うために、好適には、この第1およ
び第2の発明による光学記録媒体は、ディスク基板の一
主面上に、反射層、第3の誘電体層、記録層および第4
の誘電体層が順次積層されて構成された第2の情報信号
層が設けられ、ディスク基板に対して第2の情報信号層
が存在する側から第2の情報信号層に向けてレーザ光を
照射することにより、情報信号を記録可能および/また
は再生可能に構成されている。また、レーザ光の波長が
より短波長化され、対物レンズがより高開口数(NA)
化された光学ピックアップを用いて情報信号の記録/再
生を行う際に、光学ヘッドから第2の情報信号層を保護
するために、ディスク基板の一主面上における第2の情
報信号層上に第2の接着層を介して、少なくともレーザ
光を透過可能な光透過保護層が設けられている。
In the first and second aspects of the present invention, recording / reproducing of information signals is performed using an optical pickup in which the wavelength of the laser beam is made shorter and the objective lens is made higher in numerical aperture (NA). Therefore, preferably, the optical recording medium according to the first and second inventions has a reflective layer, a third dielectric layer, a recording layer and a fourth layer on one main surface of a disk substrate.
A second information signal layer, which is formed by sequentially laminating the dielectric layers, is provided, and a laser beam is directed toward the second information signal layer from the side where the second information signal layer exists on the disk substrate. By irradiating, the information signal can be recorded and / or reproduced. In addition, the wavelength of the laser light is shortened, and the objective lens has a higher numerical aperture (NA).
In order to protect the second information signal layer from the optical head when recording / reproducing the information signal using the optical pickup formed on the second information signal layer on one main surface of the disk substrate, A light-transmitting protective layer capable of transmitting at least laser light is provided via the second adhesive layer.

【0041】この発明の第3の発明は、平面円環状のデ
ィスク基板の一主面上に、平面円環状に、情報信号の記
録および/または再生に用いられるレーザ光を反射可能
に構成された反射層と情報信号を記録可能に構成された
記録層とが少なくとも設けられた光学記録媒体の製造方
法において、反射層を、アルミニウムに添加物が添加さ
れたアルミニウム合金から構成し、アルミニウム合金中
に含有される添加物の添加量が、ディスク基板の半径方
向に沿って変化するように反射層を成膜するようにした
ことを特徴とするものである。
According to a third aspect of the present invention, a laser beam used for recording and / or reproducing an information signal can be reflected on one principal surface of a planar annular disk substrate in a planar annular shape. In the method for manufacturing an optical recording medium provided with at least a reflective layer and a recording layer configured to record information signals, the reflective layer is made of an aluminum alloy in which an additive is added to aluminum, and the The reflective layer is formed so that the additive amount of the contained additive varies along the radial direction of the disk substrate.

【0042】この第3の発明において、典型的には、ア
ルミニウム合金からなるとともに、少なくとも内周部に
おける添加物の添加量と外周部における添加物の添加量
とが異なるスパッタリング用ターゲットを用いて、反射
層を形成する。
In the third aspect of the present invention, typically, a sputtering target made of an aluminum alloy and having at least an additive amount in the inner peripheral portion and an additive amount in the outer peripheral portion different from each other is used. Form a reflective layer.

【0043】この第3の発明において、典型的には、添
加物は銅であり、この添加物の含有率が0.5重量パー
セント以上1.5重量パーセント以下の範囲内になるよ
うに形成する。
In the third aspect of the present invention, the additive is typically copper, and is formed so that the content of the additive is in the range of 0.5% by weight or more and 1.5% by weight or less. .

【0044】この発明の第4の発明は、平面円環状のデ
ィスク基板の一主面上に、平面円環状に、情報信号の記
録および/または再生に用いられるレーザ光を反射可能
に構成された反射層と情報信号を記録可能に構成された
記録層とが少なくとも設けられた光学記録媒体の製造方
法において、反射層を、銀に添加物が添加された銀合金
から構成し、銀合金中に含有される添加物の添加量が、
ディスク基板の半径方向に沿って変化するように反射層
を成膜するようにしたことを特徴とするものである。
According to a fourth aspect of the present invention, a laser beam used for recording and / or reproducing an information signal can be reflected on one principal surface of a planar annular disk substrate in a planar annular shape. In the method for manufacturing an optical recording medium provided with at least a reflective layer and a recording layer configured to record an information signal, the reflective layer is made of a silver alloy in which an additive is added to silver, and the silver alloy contains The amount of additive contained is
The reflective layer is formed so as to change along the radial direction of the disk substrate.

【0045】この第4の発明において、典型的には、銀
合金からなるとともに、少なくとも内周部における添加
物の添加量と外周部における添加物の添加量とが異なる
スパッタリング用ターゲットを用いて、反射層を形成す
る。そして、この第4の発明において、典型的には、添
加物は、カルシウム、マグネシウム、パラジウム、鉄お
よび銅からなる群より選ばれた少なくとも1種類の元素
である。
In the fourth aspect of the invention, typically, a sputtering target made of a silver alloy and having at least an additive amount of an additive in the inner peripheral portion and an additive amount of the additive in the outer peripheral portion different from each other is used. Form a reflective layer. In the fourth aspect, typically, the additive is at least one element selected from the group consisting of calcium, magnesium, palladium, iron, and copper.

【0046】この第4の発明において、典型的には、反
射層における添加物の含有率が、0.5重量パーセント
以上3.3重量パーセント以下になるように形成する。
In the fourth invention, typically, the content of the additive in the reflection layer is formed so as to be 0.5% by weight or more and 3.3% by weight or less.

【0047】この第3および第4の発明において、典型
的には、反射層を、反射層に添加された添加物の添加量
が、ディスク基板の半径方向に沿って、反射層の内周か
ら外周に向かって連続的に単調増加するように形成す
る。
In the third and fourth aspects of the present invention, typically, the amount of the additive added to the reflective layer is changed along the radial direction of the disk substrate from the inner periphery of the reflective layer. It is formed so as to continuously increase monotonically toward the outer periphery.

【0048】この第3および第4の発明において、典型
的には、ディスク基板とスパッタリング用ターゲットと
を、互いに対向させるとともに、ディスク基板の一主面
に垂直な方向のディスク基板の中心軸と、スパッタリン
グ用ターゲットの固着面に垂直な方向のスパッタリング
用ターゲットの中心軸とを互いに一致させて配置し、反
射層を成膜する。また、少なくとも、ディスク基板の一
主面上に反射層を形成する際に、ディスク基板を、ディ
スク基板の中心軸の周りで面内方向に自転させるように
する。また、好適には、1枚のスパッタリング用ターゲ
ットと1枚のディスク基板とを互いに対向させるように
し、このディスク基板をその面内方向に自転させるとと
もに、ディスク基板上にスパッタリング用ターゲットの
材料を成膜して、反射層を形成する。
In the third and fourth inventions, typically, a disk substrate and a sputtering target are opposed to each other, and a center axis of the disk substrate in a direction perpendicular to one main surface of the disk substrate; The reflective layer is formed by arranging the sputtering target in a direction perpendicular to the fixed surface of the sputtering target so that the center axis of the sputtering target coincides with the central axis of the sputtering target. Further, at least when the reflective layer is formed on one main surface of the disk substrate, the disk substrate is rotated in an in-plane direction around a central axis of the disk substrate. Preferably, one sputtering target and one disk substrate are opposed to each other, the disk substrate is rotated in the in-plane direction, and the material of the sputtering target is formed on the disk substrate. Forming a reflective layer.

【0049】この第3および第4の発明において、典型
的には、スパッタリング用ターゲットとして、外周部に
おける添加物の添加量が内周部における添加物の添加量
より多いスパッタリング用ターゲットを用いることによ
り、反射層の外周部に添加される添加物の添加量が、反
射層の内周部に添加される添加物の添加量より多くなる
ように、反射層を形成する。
In the third and fourth aspects of the present invention, typically, a sputtering target is used in which the amount of additive in the outer peripheral portion is larger than the amount of additive in the inner peripheral portion. The reflective layer is formed such that the amount of the additive added to the outer peripheral portion of the reflective layer is larger than the amount of the additive added to the inner peripheral portion of the reflective layer.

【0050】この第3および第4の発明において、典型
的には、内周部における添加物の添加量と、外周部にお
ける添加物の添加量とが互いに異なるとともに、内周部
と外周部との間に挟まれた中周部における添加物の添加
量が、内周部における添加物の添加量と外周部における
添加物の添加量とのいずれの添加量とも異なるように構
成されたスパッタリング用ターゲットを用いて、反射層
を形成する。
In the third and fourth inventions, typically, the additive amount of the additive in the inner peripheral portion and the additive amount in the outer peripheral portion are different from each other, and the inner peripheral portion and the outer peripheral portion are different from each other. For sputtering, the additive amount of the additive in the middle portion sandwiched between is different from any of the additive amount of the additive in the inner peripheral portion and the additive amount in the outer peripheral portion. A reflective layer is formed using a target.

【0051】この第3および第4の発明において、典型
的には、ディスク基板の一主面に凹凸の溝トラックが形
成されており、溝トラックのトラックピッチは、0.7
4μm以下である。また、溝トラックのトラックピッチ
は、照射されるレーザ光のスポット径などによって決定
され、好適には、トラックピッチは、0.2μm以上で
ある。
In the third and fourth aspects of the present invention, typically, an uneven groove track is formed on one main surface of the disk substrate, and the track pitch of the groove track is 0.7.
4 μm or less. Further, the track pitch of the groove track is determined by the spot diameter of the laser beam to be irradiated and the like, and preferably, the track pitch is 0.2 μm or more.

【0052】この第3および第4の発明において、典型
的には、記録層が、結晶相と非晶質相との相変化により
情報信号を記録可能に構成された相変化材料からなる。
In the third and fourth aspects of the invention, typically, the recording layer is made of a phase change material capable of recording an information signal by a phase change between a crystalline phase and an amorphous phase.

【0053】この第3および第4の発明において、ディ
スク基板の一主面上に、第1の誘電体層、記録層、第2
の誘電体層および反射層を順次積層させた第1の情報信
号層を形成することにより、ディスク基板の一主面とは
反対側の他主面から記録層に向けてレーザ光を照射する
ことで情報信号を記録可能および/または再生可能に形
成する。また、この第3および第4の発明において、好
適には、ディスク基板の一主面上における第1の情報信
号層上に接着層を介して保護層を形成する。
In the third and fourth inventions, the first dielectric layer, the recording layer, and the second
Forming a first information signal layer in which a dielectric layer and a reflective layer are sequentially laminated to irradiate a laser beam toward a recording layer from the other main surface of the disk substrate opposite to the one main surface. To form a recordable and / or reproducible information signal. Further, in the third and fourth inventions, preferably, a protective layer is formed on the first information signal layer on one main surface of the disk substrate via an adhesive layer.

【0054】この第3および第4の発明において、典型
的には、ディスク基板の一主面上に、反射層、第3の誘
電体層、記録層および第4の誘電体層を順次積層した第
2の情報信号層を形成することにより、ディスク基板に
対して第2の情報信号層が存在する側から記録層に向け
てレーザ光を照射することで情報信号を記録可能および
/または再生可能に形成する。そして、この第3および
第4の発明において、好適には、さらに、ディスク基板
の一主面上における第2の情報信号層上に、接着層を介
して少なくともレーザ光を透過可能な光透過保護層が設
けられている。
In the third and fourth inventions, typically, a reflective layer, a third dielectric layer, a recording layer and a fourth dielectric layer are sequentially laminated on one main surface of a disk substrate. By forming the second information signal layer, the information signal can be recorded and / or reproduced by irradiating the disk substrate with laser light from the side where the second information signal layer is present toward the recording layer. Formed. In the third and fourth inventions, preferably, a light transmission protection that can transmit at least laser light via an adhesive layer is provided on the second information signal layer on one main surface of the disk substrate. A layer is provided.

【0055】この発明の第5の発明は、略円柱構造を有
するとともに、一主面が略円形状を有し、一主面をスパ
ッタリング可能に構成されたスパッタリング用ターゲッ
トにおいて、主成分となる材料に添加物が添加されて構
成される材料からなり、少なくとも、円形状の一主面に
おける外周部に添加された添加物の添加量と、円形状の
一主面における中央部に含有された添加物の添加量とが
相違するように構成されていることを特徴とするもので
ある。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a sputtering target having a substantially columnar structure, a substantially principal surface having a substantially circular shape, and a principal surface capable of being sputtered. At least the amount of the additive added to the outer peripheral portion of the one main surface of the circular shape and the amount of the additive contained in the center portion of the one main surface of the circular shape. It is characterized in that it is configured so that the amount of addition of the substance is different.

【0056】この第5の発明において、光学記録媒体に
おける反射層の形成に用いる場合に、典型的には、スパ
ッタリング用ターゲットにおける主成分となる材料はア
ルミニウム(Al)であり、アルミニウムに添加物が含
有されたアルミニウム合金からなる。また、光学記録媒
体の反射層に用いるとともに、その反射層における耐腐
食性や十分な反射率などの特性を確保するために、好適
には、その添加物は銅であり、その添加物の含有率は、
好ましくは、0.5重量パーセント以上1.5重量パー
セント以下である。
In the fifth aspect of the present invention, when used for forming a reflective layer in an optical recording medium, typically, a material serving as a main component in a sputtering target is aluminum (Al), and an additive is added to aluminum. It consists of a contained aluminum alloy. Further, in addition to being used for the reflective layer of the optical recording medium, in order to ensure characteristics such as corrosion resistance and sufficient reflectivity in the reflective layer, the additive is preferably copper, and The rate is
Preferably, it is 0.5% by weight or more and 1.5% by weight or less.

【0057】この第5の発明において、光学記録媒体の
反射層の形成に使用可能とするために、典型的には、ス
パッタリング用ターゲットにおける主成分となる材料
は、銀であり、銀に添加物が含有された銀合金からな
る。また、この反射層に用いるとともに、その反射層に
おける耐腐食性や十分な反射率などの特性を確保するた
めに、好適には、添加物が、カルシウム、マグネシウ
ム、パラジウム、鉄および銅からなる群より選ばれた少
なくとも1種類の元素からなり、その添加物の含有率
は、好ましくは、0.5重量パーセント以上3.3重量
パーセント以下である。
In the fifth aspect of the present invention, a material that is a main component of the sputtering target is typically silver so that it can be used for forming a reflective layer of an optical recording medium. Is comprised of a silver alloy. Further, while being used in the reflective layer, in order to ensure characteristics such as corrosion resistance and sufficient reflectance in the reflective layer, the additive is preferably a group consisting of calcium, magnesium, palladium, iron and copper. It is composed of at least one element selected from the group consisting of at least one element, and the content of the additive is preferably 0.5% by weight or more and 3.3% by weight or less.

【0058】この第5の発明において、典型的には、円
形状のスパッタ面の外周部における添加物の添加量が、
円形状のスパッタ面の内周部における添加物の添加量よ
り多くなるように構成されている。
In the fifth aspect of the invention, typically, the additive amount at the outer peripheral portion of the circular sputtering surface is
It is configured to be larger than the additive amount of the additive in the inner peripheral portion of the circular sputtering surface.

【0059】この第5の発明において、典型的には、ス
パッタリング用ターゲットは、円板形状を有する第1の
ターゲット部と円環形状を有する第2のターゲット部と
から構成され、第1のターゲット部の中心軸と第2のタ
ーゲット部の中心軸とが一致しつつ、第1のターゲット
部が第2のターゲット部の開口に嵌合されて構成されて
いる。また、第2のターゲット部に添加されている添加
物の添加量が、第1のターゲット部に添加されている添
加物の添加量より多くなるように構成されている。ま
た、添加物における所望とする添加量分布を得るため
に、好適には、第2のターゲット部が、複数の、円環形
状を有する円環状ターゲット部から構成され、複数の円
環状ターゲット部が互いの中心軸を一致させつつ互いに
嵌合されて構成されている。また、成膜される膜におい
て、その内周側から外周側に向かって、順次添加物の添
加量が増加するように成膜するために、典型的には、第
2のターゲット部を構成する複数の円環状ターゲット部
のうちの1つの円環状ターゲット部に添加されている添
加物の添加量が、この円環状ターゲット部より内周側の
円環状ターゲット部に添加されている添加物の添加量よ
り多くなるようにする。
In the fifth aspect of the invention, typically, the sputtering target comprises a first target having a disk shape and a second target having an annular shape. The first target portion is fitted into the opening of the second target portion while the central axis of the portion matches the central axis of the second target portion. Further, the amount of the additive added to the second target portion is configured to be larger than the amount of the additive added to the first target portion. In addition, in order to obtain a desired additive amount distribution in the additive, preferably, the second target portion includes a plurality of annular target portions having an annular shape, and the plurality of annular target portions include They are fitted to each other with their central axes aligned. In addition, in the film to be formed, a second target portion is typically formed in order to form a film so that the additive amount of the additive is sequentially increased from the inner peripheral side to the outer peripheral side. The amount of the additive added to one annular target portion of the plurality of annular target portions is equal to the amount of the additive added to the annular target portion on the inner peripheral side of the annular target portion. Be more than quantity.

【0060】この第5の発明において、このスパッタリ
ング用ターゲットは、典型的には、情報信号を記録可能
および/または再生可能に構成された光学記録媒体にお
けるディスク基板の一主面上に形成される積層膜のうち
の少なくとも1層を構成するとともに、光学記録媒体に
おける情報信号の記録時および/または再生時に用いら
れるレーザ光を反射可能に構成された、平面円環状の反
射層を形成する際に用いられる。
In the fifth aspect of the invention, the sputtering target is typically formed on one main surface of a disk substrate of an optical recording medium capable of recording and / or reproducing information signals. In forming at least one layer of the laminated film and forming a planar annular reflective layer configured to be able to reflect laser light used at the time of recording and / or reproducing information signals on the optical recording medium. Used.

【0061】この発明において、典型的には、光透過保
護層の材料として使用されるポリカーボネート樹脂は、
二価フェノール系(例えばビスフェノールA)を酸結合
剤(例えば水酸化ナトリウム(NaOH)など)の存在
下、ホスゲンと反応させることにより合成されるホスゲ
ン法によって製造されるものであり、具体的には、通常
のポリカーボネート樹脂のほか、分岐化剤としてフェノ
ール性水酸基を有する分岐化ポリカーボネート、末端停
止剤として長鎖アルキル酸クロライドもしくは長鎖アル
キルエステル置換フェノールなどの末端長鎖アルキルポ
リカーボネート樹脂、上述の分岐剤および末端停止剤を
ともに用いた末端長鎖アルキル分岐ポリカーボネート樹
脂、さらにこれらの混合物などが使用される。そして、
これらのポリカーボネート樹脂は、押し出し装置に投入
され、ヒータなどの加熱装置によって溶融してシート状
に押し出され、複数個の冷却ロールを用いることによ
り、シート状に形成される。
In the present invention, typically, a polycarbonate resin used as a material of the light transmission protective layer is:
It is produced by a phosgene method synthesized by reacting a dihydric phenol (for example, bisphenol A) with phosgene in the presence of an acid binder (for example, sodium hydroxide (NaOH) or the like). , Other than ordinary polycarbonate resins, a branched polycarbonate having a phenolic hydroxyl group as a branching agent, a long-chain alkyl polycarbonate resin such as a long-chain alkyl acid chloride or a long-chain alkyl ester-substituted phenol as a terminal terminator, and the above-mentioned branching agent And a terminal long-chain alkyl branched polycarbonate resin using both a terminal terminator and a mixture thereof. And
These polycarbonate resins are put into an extruder, melted by a heating device such as a heater, extruded into a sheet, and formed into a sheet by using a plurality of cooling rolls.

【0062】この発明において、典型的には、光記録層
の全体もしくは部分を構成する記録材料は、レーザ光の
照射により可逆的な状態変化を生じる材料からなる。特
に、非晶質状態と結晶状態との間において、可逆的相変
化(相転移)を生じる相変化材料が好ましく、カルゴゲ
ン化合物または単体のカルゴゲンなどの、公知のものが
いずれも使用可能である。具体的には、テルル(T
e)、セレン(Se)、ゲルマニウム・アンチモン・テ
ルル(Ge−Sb−Te)、Ge−Te、Sb−Te、
インジウム・アンチモン・テルル(In−Sb−T
e)、銀・インジウム・アンチモン・テルル(Ag−I
n−Sb−Te)、金・インジウム・アンチモン・テル
ル(Au−In−Sb−Te)、ゲルマニウム・アンチ
モン・テルル・パラジウム(Ge−Sb―Te−P
d)、ゲルマニウム・アンチモン・テルル・セレン(G
e−Sb―Te−Se)、インジウム・アンチモン・セ
レン(In−Sb−Se)、ビスマス・テルル(Bi−
Te)、ビスマス・セレン(Bi−Se)、Sb−S
e、Ge−Sb−Te−Bi、ゲルマニウム・アンチモ
ン・テルル・コバルト(Ge−Sb−Te−Co)、ま
たはGe−Sb−Te−Auを含む系、あるいはこれら
の系に窒素(N)、酸素(O)などのガス添加物を導入
した系などを挙げることができる。これらのうち、特に
好ましいのは、Sb−Te系を主成分とするものであ
り、このSb−Te系を主成分としたものに、例えばS
e、Pd、Ge、またはInなどの任意の元素を添加し
たものを用いるのが好ましい。
In the present invention, typically, the recording material constituting the whole or a part of the optical recording layer is made of a material which undergoes a reversible state change by irradiation with a laser beam. In particular, a phase change material that causes a reversible phase change (phase transition) between an amorphous state and a crystalline state is preferable, and any known material such as a chalcogen compound or a simple chalcogen can be used. Specifically, tellurium (T
e), selenium (Se), germanium antimony tellurium (Ge-Sb-Te), Ge-Te, Sb-Te,
Indium antimony tellurium (In-Sb-T
e), silver, indium, antimony, tellurium (Ag-I
n-Sb-Te), gold, indium, antimony, tellurium (Au-In-Sb-Te), germanium, antimony, tellurium, palladium (Ge-Sb-Te-P)
d), germanium, antimony, tellurium, selenium (G
e-Sb-Te-Se), indium antimony selenium (In-Sb-Se), bismuth tellurium (Bi-
Te), bismuth selenium (Bi-Se), Sb-S
e, Ge-Sb-Te-Bi, germanium-antimony tellurium-cobalt (Ge-Sb-Te-Co), or a system containing Ge-Sb-Te-Au, or nitrogen (N), oxygen And a system into which a gas additive such as (O) is introduced. Among them, particularly preferred are those containing Sb-Te as a main component, and those containing Sb-Te as a main component, such as Sb-Te.
It is preferable to use one to which an arbitrary element such as e, Pd, Ge, or In is added.

【0063】また、この発明において、記録層として相
変化記録層を用いた場合、レーザ光の強弱により非晶質
(アモルファス)状態と結晶状態の間を可逆的に相変化
(相転移)させることができる。そして、この非晶質状
態と結晶状態との2つの状態変化による反射率などの光
学的変化を利用して、記録、再生、消去などを行った
り、消去を行わずに直接上書き(オーバーライト)など
を行ったりすることができる。通常、記録層を成膜した
後、いったん結晶化して初期化(フォーマット)を行
い、その後に記録/再生を行うようにする。
In the present invention, when a phase change recording layer is used as the recording layer, the phase change (phase transition) between the amorphous state and the crystalline state is reversibly performed by the intensity of the laser beam. Can be. Then, recording, reproduction, erasing, and the like are performed by utilizing an optical change such as reflectance due to the two state changes of the amorphous state and the crystalline state, or overwriting is directly performed without erasing (overwriting). And so on. Normally, after a recording layer is formed, the recording layer is crystallized once to perform initialization (format), and thereafter, recording / reproduction is performed.

【0064】この発明は、例えば、DVR(Digital Vid
eo Recording system)などの、薄い光透過層を有する光
ディスクにも適用することができ、発光波長が650n
m程度の半導体レーザを用いて情報信号の記録や再生を
行うように構成された、いわゆるDVR−redや、発
光波長が400nm程度の半導体レーザを用いて情報信
号の記録や再生を行うように構成された、いわゆるDV
R−blueなどの光ディスクに適用することが可能で
ある。このDVRは、好ましくは、2個のレンズを直列
に組み合わせることによりNAを0.85以上にまで高
めた対物レンズを用いて、情報信号を記録可能に構成さ
れており、具体的には、片面で22GB程度の記憶容量
を有する。また、このDVRなど、この発明の適用が好
ましい光ディスクは、好適にはカートリッジに納められ
ているが、この発明の適用は、必ずしもカートリッジに
納められているものに限定されるものではない。
The present invention relates to, for example, DVR (Digital Vid
eo Recording system) such as an optical disc having a thin light transmitting layer, and has an emission wavelength of 650 nm.
A so-called DVR-red configured to record and reproduce information signals using a semiconductor laser of about m, and a configuration configured to record and reproduce information signals by using a semiconductor laser with an emission wavelength of about 400 nm. So-called DV
It is possible to apply to an optical disc such as R-blue. This DVR is preferably configured so that an information signal can be recorded by using an objective lens whose NA is increased to 0.85 or more by combining two lenses in series. And has a storage capacity of about 22 GB. An optical disk to which the present invention is preferably applied, such as the DVR, is preferably housed in a cartridge, but the application of the present invention is not necessarily limited to the one housed in a cartridge.

【0065】上述のように構成された第1から第4の発
明による光学記録媒体およびその製造方法によれば、反
射層におけるアルミニウム合金中もしくは銀合金中に含
有される添加物の添加量を、ディスク基板の半径方向に
沿って変化させるようにしていることにより、反射層の
熱伝導率をディスク基板の半径方向に沿って変化させる
ことができる。
According to the optical recording medium and the method for manufacturing the same according to the first to fourth aspects of the present invention, the amount of the additive contained in the aluminum alloy or the silver alloy in the reflective layer can be reduced. By changing the reflection layer along the radial direction of the disk substrate, the thermal conductivity of the reflective layer can be changed along the radial direction of the disk substrate.

【0066】また、上述のように構成された第5の発明
によれば、スパッタリング用ターゲットが、主成分とな
る材料に添加物が含有されて構成され、少なくとも、ス
パッタリングされる一主面の外周部に含有された添加物
の添加量と、スパッタ面の内周部に含有された添加物の
添加量とが互いに異なるようにしていることにより、成
膜する膜を構成する材料に含有される添加物の添加量
を、ディスク基板の半径方向に沿って変化させることが
できる。そして、このスパッタリング用ターゲットを光
学記録媒体の形成に用いる場合、光学記録媒体のディス
ク基板の一主面上に成膜する膜における熱伝導率などの
物理特性を、このディスク基板の半径方向に沿って変化
させることができる。
According to the fifth aspect of the present invention, the sputtering target is formed by adding an additive to a material serving as a main component, and at least the outer periphery of one principal surface to be sputtered. The amount of the additive contained in the part and the amount of the additive contained in the inner peripheral part of the sputtering surface are different from each other, so that the amount of the additive contained in the film to be formed is included. The amount of the additive can be changed along the radial direction of the disk substrate. When the sputtering target is used for forming an optical recording medium, physical properties such as thermal conductivity of a film formed on one main surface of the disk substrate of the optical recording medium are measured along the radial direction of the disk substrate. Can be changed.

【0067】[0067]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施形態につい
て図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施形態
の全図においては、同一または対応する部分には同一の
符号を付す。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In all the drawings of the following embodiments, the same or corresponding portions are denoted by the same reference numerals.

【0068】まず、この発明の第1の実施形態による光
学記録媒体について説明する。図1に、この第1の実施
形態による光学記録媒体を示す。
First, the optical recording medium according to the first embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 shows an optical recording medium according to the first embodiment.

【0069】この第1の実施形態による光学記録媒体
は、図1に示す相変化型ディスク状光記録媒体(以下、
光ディスク)を2枚貼り合わせたものである。この貼り
合わせ前の光ディスク1は、ディスク基板2の一主面2
a上に、第1の誘電体層3、相変化記録層4、第2の誘
電体層5および第1の反射層6が順次積層されて構成さ
れる第1の情報信号層7が設けられ、この第1の情報信
号層7を覆うようにして保護層8が設けられて構成され
ている。
The optical recording medium according to the first embodiment is a phase-change disk-shaped optical recording medium shown in FIG.
(Optical disks). The optical disk 1 before bonding is formed on one main surface 2 of the disk substrate 2.
On a, a first information signal layer 7, which is formed by sequentially laminating a first dielectric layer 3, a phase change recording layer 4, a second dielectric layer 5, and a first reflective layer 6, is provided. The protection layer 8 is provided so as to cover the first information signal layer 7.

【0070】そして、ディスク基板2上に設けられた、
第1の誘電体層3、相変化記録層4、第2の誘電体層5
および第1の反射層6から構成される第1の情報信号層
7は、平面円環形状を有し、その内径は例えば50mm
(半径rS1=25mm)、外径は例えば110mm(半
径rS2=55mm)である。
Then, provided on the disk substrate 2,
First dielectric layer 3, phase change recording layer 4, second dielectric layer 5
And the first information signal layer 7 composed of the first reflection layer 6 has a planar annular shape and an inner diameter of, for example, 50 mm.
(Radius r S1 = 25 mm), and the outer diameter is, for example, 110 mm (radius r S2 = 55 mm).

【0071】ディスク基板2は、ポリカーボネート系樹
脂、ポリオレフィン樹脂、またはアクリル系樹脂などの
プラスチック材料や、ガラスなどからなる。このディス
ク基板の材料としては、少なくとも情報信号の記録/再
生に用いられるレーザ光が透過可能な材料が選ばれ、さ
らにコストなどの観点からは、プラスチック材料を用い
るのが望ましい。また、このディスク基板2の厚さは例
えば0.6mm程度である。また、このディスク基板2
の一主面2aには、凹凸の溝トラックが形成されてお
り、凸部(ランド)および凹部(グルーブ)がトラック
状に形成されている。ここで、このディスク基板2の凹
凸の溝トラックにおけるトラックピッチTpは、例えば
0.74μmである。このような溝トラックには、情報
の記録/再生時におけるアドレスを読み込むための波状
のウォブル(図示せず)が形成されている。ここで、こ
のウォーブルにおける振幅は、十分なウォーブル信号(W
obble Signal)の確保、および記録信号特性の劣化防止
の観点から選ばれ、具体的には8〜36nmから選ばれ
る。
The disk substrate 2 is made of a plastic material such as a polycarbonate resin, a polyolefin resin or an acrylic resin, or glass. As a material of the disk substrate, a material that can transmit at least a laser beam used for recording / reproducing information signals is selected, and from the viewpoint of cost and the like, it is preferable to use a plastic material. The thickness of the disk substrate 2 is, for example, about 0.6 mm. Also, this disk substrate 2
An uneven groove track is formed on one main surface 2a, and a convex portion (land) and a concave portion (groove) are formed in a track shape. Here, the track pitch Tp of the concave and convex groove tracks of the disk substrate 2 is, for example, 0.74 μm. In such a groove track, a wavy wobble (not shown) for reading an address at the time of recording / reproducing information is formed. Here, the amplitude of this wobble is sufficient for a sufficient wobble signal (W
It is selected from the viewpoint of securing obble signal) and preventing deterioration of recording signal characteristics, and specifically, is selected from 8 to 36 nm.

【0072】また、第1の誘電体層3および第2の誘電
体層5の材料は、記録/再生用のレーザ光に対して吸収
能が低い材料、具体的には、消衰係数kが0.3以下の
材料より構成することが好ましく、耐熱性の観点をも考
慮すると、例えばZnS−SiO2(特に、そのモル比
率が約4:1のもの)を挙げることができる。なお、こ
れらの第1の誘電体層3と第2の誘電体層5において
は、それぞれ互いに異なる材料を用いることも可能であ
る。
Further, the material of the first dielectric layer 3 and the second dielectric layer 5 is a material having a low absorptivity to the recording / reproducing laser light, specifically, an extinction coefficient k. It is preferable to use a material of 0.3 or less, and taking into consideration the viewpoint of heat resistance, for example, ZnS—SiO 2 (particularly, having a molar ratio of about 4: 1) can be mentioned. The first dielectric layer 3 and the second dielectric layer 5 may be made of different materials.

【0073】また、この第1の誘電体層3における膜厚
は、反射率や変調度(Modulation)の観点から設定され、
具体的には、60〜140nmから選ばれ、この第1の
実施形態においては、例えば80nmに選ばれる。ま
た、第2の誘電体層5の膜厚は、相変化記録層4のヒー
トシンク効果や、アシンメトリー(Asymmetry)特性の劣
化防止の観点から設定され、具体的には、10〜30n
mが好ましく、この第1の実施形態においては、例えば
24nmである。
The film thickness of the first dielectric layer 3 is set from the viewpoint of reflectance and modulation.
Specifically, it is selected from 60 to 140 nm, and in the first embodiment, is selected, for example, to 80 nm. The thickness of the second dielectric layer 5 is set from the viewpoint of the heat sink effect of the phase-change recording layer 4 and the prevention of deterioration of asymmetry characteristics.
m is preferable, and in the first embodiment, for example, it is 24 nm.

【0074】また、相変化記録層4は、例えばSbTe
合金からなる。そして、この相変化記録層4を構成する
SbTe合金の組成は、保存安定性の低下、信号特性、
特にジッター特性の低下、相変化記録層4の結晶化、再
生安定性の低下、または線速度の高速領域および低速領
域における信号特性の低下の観点から設定される。ま
た、相変化記録層4の膜厚は、繰り返し記録特性の劣化
防止、モジュレーションの減少防止の観点から設定さ
れ、具体的には、5〜25nmから選ばれ、この第1の
実施形態においては、例えば14nmに選ばれる。
The phase change recording layer 4 is made of, for example, SbTe.
Made of alloy. The composition of the SbTe alloy constituting the phase-change recording layer 4 is reduced in storage stability, signal characteristics,
In particular, it is set from the viewpoint of a decrease in jitter characteristics, crystallization of the phase change recording layer 4, a decrease in reproduction stability, or a decrease in signal characteristics in high and low linear velocity regions. Further, the thickness of the phase change recording layer 4 is set from the viewpoint of preventing the deterioration of the repetitive recording characteristics and the decrease of the modulation, and is specifically selected from 5 to 25 nm. In the first embodiment, For example, it is selected to be 14 nm.

【0075】また、第1の反射層6は、例えば金属や半
金属からなる。そして、第1の反射層6における反射機
能を考慮すると、第1の反射層6の材料としては、記録
再生用に用いられるレーザ光の波長に対して反射能を有
するとともに、熱伝導率が例えば4.0×10-2〜4.
5×102J/m・K・s(4.0×10-4〜4.5J
/cm・K・s)の範囲内の値を有する金属元素、半金
属元素、およびこれらの化合物または混合物からなるこ
とが好ましい。すなわち、第1の反射層6の材料として
は、具体的には、アルミニウム(Al)、銀(Ag)、
金(Au)、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、チタ
ン(Ti)、パラジウム(Pd)、コバルト(Co)、
シリコン(Si)、タンタル(Ta)、タングステン
(W)、モリブデン(Mo)、ゲルマニウム(Ge)な
どの単体、またはこれらの単体を主成分とする合金を挙
げることができる。そして、実用性の面を考慮すると、
これらのうちのAl系、Ag系、Au系、Si系または
Ge系の合金材料が好ましい。具体的に、第1の反射層
6の材料として合金を用いる場合には、例えば、AlC
u、AlTi、AlCr、AlCo、AlMgSi、A
gPdCu、AgPdTi、AgCuTi、AgPdC
a、AgPdMg、AgPdFe、AgまたはSiBな
どが好ましい。さらに、第1の反射層6の材料は、光学
特性および熱特性を考慮して設定される。すなわち、一
般的に、第1の反射層6の膜厚を、レーザ光が透過しな
い程度の大きさ(例えば50nm以上)に設定すると、
反射率が高くなるとともに、放熱性が向上する。特に、
Al系の材料やAg系の材料は、例えば、波長λが40
0nm程度の青色レーザ光の照射に対して反射率が80
%以上になり、レーザ光が短波長の場合においても高い
反射率を有するため、第1の反射層6としては、Alを
主成分とした合金またはAgを主成分とした合金が好ま
しい。以上のことから、この第1の実施形態において
は、第1の反射層6としてAlCu合金を用いる。ま
た、第1の反射層6の膜厚は、相変化記録層4に生じる
熱の拡散、すなわち熱冷却特性を十分確保し、ジッター
特性を良好に保つとともに、第1の反射層6に生じる応
力により、スキューなどの機械的特性に与える影響を最
小限に抑える観点から設定され、具体的には、50〜2
00nmから選ばれ、この第1の実施形態においては、
例えば150nmに選ばれる。
The first reflection layer 6 is made of, for example, metal or metalloid. In consideration of the reflection function of the first reflection layer 6, the material of the first reflection layer 6 has a reflectivity with respect to the wavelength of the laser beam used for recording and reproduction, and has a thermal conductivity of, for example, 4.0 × 10 -2 to 4.
5 × 10 2 J / m · K · s (4.0 × 10 −4 to 4.5 J)
/ Cm · K · s), and is preferably composed of a metal element, a metalloid element, and a compound or mixture thereof having a value within the range. That is, as a material of the first reflection layer 6, specifically, aluminum (Al), silver (Ag),
Gold (Au), nickel (Ni), chromium (Cr), titanium (Ti), palladium (Pd), cobalt (Co),
A simple substance such as silicon (Si), tantalum (Ta), tungsten (W), molybdenum (Mo), and germanium (Ge), or an alloy mainly including these simple substances can be given. And considering the practicality,
Of these, Al-based, Ag-based, Au-based, Si-based or Ge-based alloy materials are preferable. Specifically, when an alloy is used as the material of the first reflection layer 6, for example, AlC
u, AlTi, AlCr, AlCo, AlMgSi, A
gPdCu, AgPdTi, AgCuTi, AgPdC
a, AgPdMg, AgPdFe, Ag or SiB is preferred. Further, the material of the first reflection layer 6 is set in consideration of optical characteristics and thermal characteristics. That is, in general, when the thickness of the first reflective layer 6 is set to a size (for example, 50 nm or more) at which laser light does not pass,
The reflectivity is increased and the heat dissipation is improved. In particular,
Al-based materials and Ag-based materials have a wavelength λ of 40, for example.
The reflectance is 80 with respect to irradiation of blue laser light of about 0 nm.
% Or more, and has a high reflectance even when the laser light has a short wavelength. Therefore, as the first reflective layer 6, an alloy mainly containing Al or an alloy mainly containing Ag is preferable. From the above, in the first embodiment, an AlCu alloy is used for the first reflection layer 6. In addition, the thickness of the first reflective layer 6 is such that the diffusion of heat generated in the phase change recording layer 4, that is, the thermal cooling property is sufficiently ensured, the jitter property is kept good, and the stress generated in the first reflective layer 6 Is set from the viewpoint of minimizing the influence on mechanical properties such as skew, and specifically, 50 to 2
00 nm, and in the first embodiment,
For example, 150 nm is selected.

【0076】また、この第1の実施形態においては、第
1の反射層6の組成がディスク基板2の半径方向に沿っ
て変化して構成されている。すなわち、第1の反射層6
を例えばAlCuから構成し、ディスク基板2の中心O
からの半径rS1=25mm付近の内周部における組成を
AlCuα(重量%)、半径rS2=55mm付近の外周
部における組成をAlCuβ(重量%)とした場合に、
この第1の実施形態においては、α<βが成立するよう
に構成されている。また、この第1の実施形態による光
ディスクにおいて、十分な耐腐食性を確保するために
は、0.5≦αとすることが好ましく、さらに、熱伝導
率を十分に大きくするために、β≦1.5とすることが
好ましい。そして、このような添加物において、好適に
は、ディスク基板2における半径rS1から半径rS2に向
かった半径方向にCuの添加量が連続的に増加するよう
に構成される。なお、この第1の反射層6を構成する材
料の組成の変化は、上述以外にも、所望とする特性に応
じて、α≧βとするようにしても良く、ディスク基板2
の半径方向に沿って第1の反射層6の内周部から外周部
の範囲内で変化させるようにすることが可能である。ま
た、この第1の実施形態による第1の反射層6の組成の
変化の詳細については後述する。
Further, in the first embodiment, the composition of the first reflection layer 6 is changed along the radial direction of the disk substrate 2. That is, the first reflection layer 6
Is made of, for example, AlCu, and the center O of the disk substrate 2 is
When the composition at the inner periphery near the radius r S1 = 25 mm from AlCu α (% by weight) and the composition at the outer periphery near the radius r S2 = 55 mm are AlCu β (% by weight),
In the first embodiment, the configuration is such that α <β is satisfied. In the optical disk according to the first embodiment, it is preferable to satisfy 0.5 ≦ α in order to secure sufficient corrosion resistance, and to satisfy β ≦ in order to sufficiently increase the thermal conductivity. It is preferably 1.5. Preferably, in such an additive, the addition amount of Cu is preferably increased continuously in the radial direction from the radius r S1 to the radius r S2 on the disk substrate 2. The change in the composition of the material forming the first reflective layer 6 may be set to α ≧ β in accordance with desired characteristics in addition to the above.
Can be changed within the range from the inner peripheral portion to the outer peripheral portion of the first reflection layer 6 along the radial direction. The change in the composition of the first reflective layer 6 according to the first embodiment will be described later in detail.

【0077】以上のようにして、ディスク基板2の一主
面2a上に、第1の誘電体層3、相変化記録層4、第2
の誘電体層5、および第1の反射層6が順次積層され
て、この第1の実施形態による第1の情報信号層7が構
成されている。
As described above, the first dielectric layer 3, the phase-change recording layer 4, the second
The dielectric layer 5 and the first reflective layer 6 are sequentially laminated to form a first information signal layer 7 according to the first embodiment.

【0078】また、第1の情報信号層7を覆うようにし
て設けられた保護層8は、例えば紫外線硬化型樹脂から
なる。この保護層8の膜厚は、例えば15μmである。
The protection layer 8 provided so as to cover the first information signal layer 7 is made of, for example, an ultraviolet curable resin. The thickness of the protective layer 8 is, for example, 15 μm.

【0079】そして、以上のようにして構成されたこの
第1の実施形態による光ディスク1を2枚用意し、それ
らの一主面2a側の保護層8どうしを、図2に示すよう
に、接着層9を介して貼り合わせることにより、両面記
録型光ディスク10を得ることができる。
Then, two optical disks 1 according to the first embodiment configured as described above are prepared, and the protective layers 8 on the one main surface 2a side are bonded together as shown in FIG. By laminating via the layer 9, a double-sided recording type optical disk 10 can be obtained.

【0080】また、図3に示すように、ディスク基板2
の一主面2a上に反射層11および保護層8を順次積層
したダミーディスク12を作製し、このダミーディスク
12と上述の光ディスク1との保護層8どうしを、接着
層9を介して貼り合わせることにより、光ディスク1の
存在する側が記録可能な側となる片面記録型光ディスク
13を得ることができる。
Further, as shown in FIG.
A dummy disk 12 in which a reflective layer 11 and a protective layer 8 are sequentially laminated on one main surface 2a is produced, and the protective layer 8 between the dummy disk 12 and the optical disk 1 is bonded to each other via an adhesive layer 9. Thus, it is possible to obtain the single-sided recording type optical disc 13 in which the side on which the optical disc 1 exists is the recordable side.

【0081】以上のように構成された光ディスク1にお
いては、所定の光学ピックアップから出射されるレーザ
光を、ディスク基板2の他主面2b側から照射すること
により、情報信号の記録および/または再生が行われ
る。
In the optical disk 1 configured as described above, a laser beam emitted from a predetermined optical pickup is irradiated from the other main surface 2b side of the disk substrate 2 to record and / or reproduce information signals. Is performed.

【0082】次に、以上のように構成された光ディスク
1の製造方法について説明する。すなわち、光ディスク
1における薄膜の形成には、一般的にスパッタリング法
が用いられている。この光ディスク1を製造する場合、
RF反応性スパッタリング法などでは成膜に時間を要す
るため、DCスパッタリング法による成膜方法が多く用
いられる。また、このスパッタリング法においては、基
板固定用マスクおよびパレットをディスク基板2に取り
付けた後、このディスク基板2を成膜用真空チャンバ内
に投入する。そして、誘電体層や記録層などを順次成膜
した後、真空チャンバ外でディスク基板を取り外す。そ
の後、同様にして、新たな基板を取り付け、真空チャン
バ内に投入し、光ディスクを順次製造していく。
Next, a method of manufacturing the optical disk 1 configured as described above will be described. That is, a sputtering method is generally used to form a thin film on the optical disc 1. When manufacturing this optical disc 1,
In the RF reactive sputtering method and the like, a long time is required for film formation, and thus a film formation method using a DC sputtering method is often used. In this sputtering method, a mask for fixing a substrate and a pallet are attached to the disk substrate 2, and then the disk substrate 2 is loaded into a vacuum chamber for film formation. Then, after sequentially forming a dielectric layer and a recording layer, the disk substrate is removed outside the vacuum chamber. Thereafter, in the same manner, a new substrate is attached and put into a vacuum chamber, and optical disks are sequentially manufactured.

【0083】以下に、このような光ディスク1の製造に
おけるスパッタリング法に用いられるDCスパッタリン
グ装置の具体的構成と動作の概要について説明する。図
4に、この第1の実施形態による静止対向型のDCスパ
ッタリング装置を示し、図5に、このDCスパッタリン
グ装置に用いられるターゲット、ディスク基板および、
それらの平面的な位置関係を示す。また、この静止対向
型のスパッタリング装置は、1枚のディスク基板2上に
薄膜を成膜する枚葉式のスパッタリング装置である。
Hereinafter, an outline of a specific configuration and operation of a DC sputtering apparatus used for a sputtering method in manufacturing the optical disk 1 will be described. FIG. 4 shows a stationary facing type DC sputtering apparatus according to the first embodiment. FIG. 5 shows a target, a disk substrate, and a target used in the DC sputtering apparatus.
The planar positional relationship is shown. The stationary facing sputtering apparatus is a single-wafer sputtering apparatus that forms a thin film on one disk substrate 2.

【0084】図4に示すように、この第1の実施形態に
よるスパッタリング装置においては、成膜室となる真空
チャンバ21、この真空チャンバ21内の真空状態を制
御する真空制御部22、プラズマ放電用DC高圧電源2
3、このプラズマ放電用DC高圧電源23と電源ライン
24を通じて接続されているスパッタリングカソード部
25、このスパッタリングカソード部25と所定の距離
を持って対向配置されているパレット26および、Ar
などの不活性ガスや反応ガスといったスパッタガスを真
空チャンバ21内に供給するためのスパッタガス供給部
27を有して構成されている。
As shown in FIG. 4, in the sputtering apparatus according to the first embodiment, a vacuum chamber 21 serving as a film forming chamber, a vacuum control unit 22 for controlling a vacuum state in the vacuum chamber 21, DC high voltage power supply 2
3, a sputtering cathode unit 25 connected to the plasma discharge DC high-voltage power supply 23 through a power supply line 24, a pallet 26 opposed to the sputtering cathode unit 25 at a predetermined distance, and Ar
And a sputtering gas supply unit 27 for supplying a sputtering gas such as an inert gas or a reaction gas into the vacuum chamber 21.

【0085】スパッタリングカソード部25において
は、負電極として機能するAlCu合金や、SbTe合
金や、ZnS−SiO2などのターゲット材料からなる
ターゲット28、このターゲット28を固着するように
構成されたバッキングプレート29および、このバッキ
ングプレート29のターゲット28が固着される面とは
反対側の面に設けられた磁石系30から構成されてい
る。また、正電極として機能するパレット26と、負電
極として機能するターゲット28とから、一対の電極が
構成されている。パレット26上には、スパッタリング
カソード部25と対向して被成膜体であるディスク基板
2が内周マスク31と外周マスク32とにより、ディス
クベース33を間にはさんで取り付けられている。ま
た、パレット26のディスクベース33が取り付けられ
る面とは反対側の面に、パレット26を、ディスク基板
2の面内方向に回転させ、これによってディスク基板2
を自転させるための基板自転駆動部34が連動可能に設
けられている。
In the sputtering cathode section 25, a target 28 made of a target material such as an AlCu alloy, an SbTe alloy, or ZnS—SiO 2 functioning as a negative electrode, and a backing plate 29 configured to fix the target 28 The backing plate 29 includes a magnet system 30 provided on a surface of the backing plate 29 opposite to the surface to which the target 28 is fixed. In addition, a pair of electrodes is constituted by a pallet 26 functioning as a positive electrode and a target 28 functioning as a negative electrode. On the pallet 26, a disk substrate 2, which is a film-forming object, is attached to the sputtering cathode portion 25 by an inner peripheral mask 31 and an outer peripheral mask 32 with a disk base 33 interposed therebetween. In addition, the pallet 26 is rotated in the in-plane direction of the disk substrate 2 on the surface of the pallet 26 opposite to the surface on which the disk base 33 is mounted, whereby the disk substrate 2 is rotated.
A substrate rotation drive unit 34 for rotating the substrate is provided so as to be interlocked therewith.

【0086】また、この第1の実施形態によるスパッタ
リング装置20において、図5Aに示すような平面円環
状を有する被成膜体としてのディスク基板2と、図5B
に示すような円板形状を有する成膜材料からなるターゲ
ット28とは、図5Cに示すように、それらの平面的な
位置関係において、ディスク基板2の中心Oと、ターゲ
ット28の中心O′とがほぼ一致するように配置され
る。また、ディスク基板2は、図4に示す基板自転駆動
部34により、その中心Oの周りで自転させることがで
きるように構成されている。
In the sputtering apparatus 20 according to the first embodiment, the disk substrate 2 as a film-forming object having a flat annular shape as shown in FIG.
5C, the center O of the disk substrate 2 and the center O ′ of the target 28 in a planar positional relationship with the target 28 made of a film-forming material having a disc shape as shown in FIG. Are arranged so as to substantially coincide with each other. In addition, the disk substrate 2 is configured to be able to rotate around its center O by a substrate rotation drive unit 34 shown in FIG.

【0087】以上のようにして、この第1の実施形態に
おける光ディスクの製造に用いられるスパッタリング装
置が構成されている。
As described above, the sputtering apparatus used for manufacturing the optical disk in the first embodiment is configured.

【0088】上述した図4に示すDCスパッタリング装
置を使用する際においては、まず、真空制御部22によ
り、真空チャンバ21内を、スパッタリングに好ましい
所定の真空状態になるまで排気を行う。
When the DC sputtering apparatus shown in FIG. 4 is used, first, the inside of the vacuum chamber 21 is evacuated by the vacuum controller 22 until a predetermined vacuum state suitable for sputtering is reached.

【0089】次に、スパッタガス供給部27により、真
空チャンバ21内に、例えばArガスやN2ガスなどの
スパッタガスを、所定の圧力になるまで導入する。その
後、この状態において、プラズマ放電用DC高圧電源2
3より、バッキングプレート29に所定の負電位を印加
することによって、ターゲット28に所定の負電位を印
加する。これにより一対の電極を形成するパレット26
とバッキングプレート29との間に電界が生じ、グロー
放電が発生する。このグロー放電によって、イオン化し
たArガスがターゲット28をスパッタリングする。こ
れにより、ターゲット28からターゲット材料が原子な
どの状態となって叩き出される。この叩き出されたター
ゲット材料は、ターゲット28に対向して配置されたパ
レット26に取り付けられたディスク基板2表面に堆積
する。この堆積を所定の時間継続させることにより、デ
ィスク基板2上に所望の材料からなる薄膜が形成され
る。
Next, a sputtering gas such as Ar gas or N 2 gas is introduced into the vacuum chamber 21 by the sputtering gas supply unit 27 until a predetermined pressure is reached. Thereafter, in this state, the DC high-voltage power supply 2 for plasma discharge is used.
3, a predetermined negative potential is applied to the target 28 by applying a predetermined negative potential to the backing plate 29. Thereby, the pallet 26 forming a pair of electrodes
An electric field is generated between the power supply and the backing plate 29 to generate glow discharge. By this glow discharge, the ionized Ar gas sputters the target 28. As a result, the target material is hit from the target 28 in a state of atoms or the like. The beaten target material is deposited on the surface of the disk substrate 2 attached to the pallet 26 arranged to face the target 28. By continuing this deposition for a predetermined time, a thin film made of a desired material is formed on the disk substrate 2.

【0090】この第1の実施形態による光ディスクの製
造においては、以上のように構成されたスパッタリング
装置を複数台用いて、ディスク基板2上に所定の膜を順
次成膜する。なお、以下の製造プロセスにおいて、各層
の成膜にそれぞれ用いられるスパッタリング装置の符号
に関しては、上述したDCスパッタリング装置における
と同様の符号を用いる。
In the manufacture of the optical disk according to the first embodiment, a predetermined film is sequentially formed on the disk substrate 2 by using a plurality of sputtering apparatuses configured as described above. Note that, in the following manufacturing process, the same reference numerals as in the DC sputtering apparatus described above are used for the reference numerals of the sputtering apparatus used for forming each layer.

【0091】この第1の実施形態による光ディスクの製
造においては、まず、例えばPC基板などのディスク基
板2を、ZnS−SiO2からなるターゲット28が設
置された真空チャンバ21内に搬入し、パレット26に
固定する。なお、ここで用いられるターゲット28は、
図6Aに示すように、ZnS−SiO2がほぼ均一に成
型された円板形状を有するターゲットである。次に、こ
の真空チャンバ21内の圧力を、例えば1.0×10-4
Pa程度まで真空引きする。その後、真空チャンバ21
内に例えばArガスなどの不活性ガスを導入しつつ、ス
パッタリングを行うことにより、ディスク基板2上にZ
nS−SiO2を成膜する。これにより、ディスク基板
2上に、ZnS−SiO2からなる第1の誘電体層3が
形成される。その後、このZnS−SiO2からなるタ
ーゲット28が設置された真空チャンバ21から、第1
の誘電体層3が形成されたディスク基板2を搬出する。
In the manufacture of the optical disk according to the first embodiment, first, the disk substrate 2 such as a PC substrate is loaded into the vacuum chamber 21 in which the target 28 made of ZnS-SiO 2 is installed, and the pallet 26 Fixed to. The target 28 used here is:
As shown in FIG. 6A, this is a target having a disk shape in which ZnS—SiO 2 is almost uniformly molded. Next, the pressure in the vacuum chamber 21 is reduced to, for example, 1.0 × 10 −4.
Vacuum to about Pa. Thereafter, the vacuum chamber 21
Sputtering is performed while introducing an inert gas such as Ar gas into the
the formation of the nS-SiO 2. As a result, the first dielectric layer 3 made of ZnS—SiO 2 is formed on the disk substrate 2. After that, the first chamber 28 in which the target 28 made of ZnS-SiO 2 is
The disk substrate 2 on which the dielectric layer 3 is formed is carried out.

【0092】次に、第1の誘電体層3が形成されたディ
スク基板2を、相変化記録材料としてのSbTe合金か
らなるターゲット28が設置された真空チャンバ21内
に搬入し、パレット26に固定する。なお、ここで用い
られるターゲット28は、図6Aに示すように、SbT
e合金材料がほぼ均一に成型された、円板形状を有する
ターゲットである。次に、この真空チャンバ21内の圧
力を、例えば1.0×10-4Pa程度にまで真空引きす
る。その後、真空チャンバ21内に例えばArガスなど
の不活性ガスを導入しつつ、第1の誘電体層3上にSb
Teを成膜する。これにより、第1の誘電体層3上にS
bTe合金からなる相変化記録層4が形成される。その
後、SbTe合金ターゲットが設置されている真空チャ
ンバ21から、相変化記録層4まで形成されたディスク
基板2を搬出する。
Next, the disk substrate 2 on which the first dielectric layer 3 is formed is carried into a vacuum chamber 21 in which a target 28 made of an SbTe alloy as a phase change recording material is installed, and is fixed on a pallet 26. I do. Note that the target 28 used here is a SbT
This is a disk-shaped target in which an e-alloy material is almost uniformly molded. Next, the pressure in the vacuum chamber 21 is evacuated to, for example, about 1.0 × 10 −4 Pa. Then, while introducing an inert gas such as Ar gas into the vacuum chamber 21, Sb is deposited on the first dielectric layer 3.
Te is deposited. Thereby, S on the first dielectric layer 3
The phase change recording layer 4 made of the bTe alloy is formed. Thereafter, the disk substrate 2 formed up to the phase change recording layer 4 is carried out from the vacuum chamber 21 in which the SbTe alloy target is installed.

【0093】次に、第1の誘電体層3および相変化記録
層4が順次積層されたディスク基板2を、ZnS−Si
2からなるターゲット28が設置された真空チャンバ
21内に搬入し、パレット26に固定する。なお、ここ
で用いられるターゲット28は、図6Aに示すZnS−
SiO2材料がほぼ均一に成型された、円板形状を有す
るターゲットである。次に、この真空チャンバ21内の
圧力を、例えば1.0×10-4Pa程度まで真空引きす
る。その後、真空チャンバ21内に例えばArガスなど
の不活性ガスを導入しつつ、スパッタリングを行うこと
によって、相変化記録層4上にZnS−SiO2を成膜
する。これにより、相変化記録層4上にZnS−SiO
2からなる第2の誘電体層5が形成される。その後、こ
のZnS−SiO2からなるターゲット28が設置され
た真空チャンバ21から、第2の誘電体層5まで形成さ
れたディスク基板2を搬出する。
Next, the disk substrate 2 on which the first dielectric layer 3 and the phase change recording layer 4 are sequentially laminated is mounted on a ZnS-Si
It is carried into the vacuum chamber 21 in which the target 28 made of O 2 is installed, and is fixed to the pallet 26. Note that the target 28 used here is a ZnS-
This is a disk-shaped target in which a SiO 2 material is almost uniformly molded. Next, the pressure in the vacuum chamber 21 is evacuated to, for example, about 1.0 × 10 −4 Pa. Thereafter, ZnS—SiO 2 is formed on the phase change recording layer 4 by performing sputtering while introducing an inert gas such as Ar gas into the vacuum chamber 21. As a result, the ZnS-SiO
A second dielectric layer 5 of 2 is formed. Thereafter, the disk substrate 2 formed up to the second dielectric layer 5 is carried out from the vacuum chamber 21 in which the target 28 made of ZnS-SiO 2 is installed.

【0094】次に、第1の誘電体層3、相変化記録層4
および第2の誘電体層5が形成されたディスク基板2
を、例えばAlにCuを添加したAlCu合金からなる
ターゲット28が設置された真空チャンバ21内に搬入
し、パレット26に固定する。次に、スパッタガスとし
て例えばArガスを用いたスパッタリング法により、第
2の誘電体層5上にAlCu合金を成膜する。これによ
り、第2の誘電体層5上にAlCu合金からなる第1の
反射層6が形成される。ここで、この第1の実施形態に
よる第1の反射層6の形成においては、ディスク基板2
の中心Oから半径rS1=25mm付近の内周側における
組成をAlCu0.5とし、中心Oから半径rS2=55m
m付近の外周側における組成をAlCu1.2とする。そ
して、このディスク基板2における半径rS1から半径r
S2に向かって、半径方向にCuの添加量が連続的に単調
増加するように形成する。
Next, the first dielectric layer 3, the phase change recording layer 4
And disk substrate 2 on which second dielectric layer 5 is formed
Is loaded into a vacuum chamber 21 in which a target 28 made of, for example, an AlCu alloy obtained by adding Cu to Al is fixed to a pallet 26. Next, an AlCu alloy is formed on the second dielectric layer 5 by a sputtering method using, for example, Ar gas as a sputtering gas. Thus, the first reflection layer 6 made of an AlCu alloy is formed on the second dielectric layer 5. Here, in forming the first reflection layer 6 according to the first embodiment, the disk substrate 2
The composition on the inner circumferential side near the radius r S1 = 25 mm from the center O is AlCu 0.5, and the radius r S2 = 55 m from the center O.
The composition on the outer periphery near m is AlCu 1.2 . Then, from the radius r S1 on the disk substrate 2 to the radius r
It is formed such that the addition amount of Cu continuously and monotonically increases in the radial direction toward S2 .

【0095】その後、真空チャンバ21から、第1の誘
電体層3、相変化記録層4、第2の誘電体層5および第
1の反射層6が順次積層されたディスク基板2を搬出す
る。
Thereafter, the disk substrate 2 on which the first dielectric layer 3, the phase change recording layer 4, the second dielectric layer 5, and the first reflective layer 6 are sequentially stacked is carried out from the vacuum chamber 21.

【0096】続いて、例えばスピンコータを用い、ディ
スク基板2の全面に第1の情報信号層7を覆うようにし
て、例えば紫外線硬化樹脂からなる保護層8を形成す
る。
Subsequently, a protective layer 8 made of, for example, an ultraviolet curable resin is formed on the entire surface of the disk substrate 2 using, for example, a spin coater so as to cover the first information signal layer 7.

【0097】以上により、図1に示す光ディスク1が製
造される。
Thus, the optical disc 1 shown in FIG. 1 is manufactured.

【0098】その後、以上のようにして製造された光デ
ィスク1を2枚用意し、それらの保護層8側が内側にな
るようにして、接着層9を介して貼り合わせる。これに
より、図2に示す両面記録型光ディスク10が製造され
る。
Thereafter, two optical disks 1 manufactured as described above are prepared, and the optical disks 1 are bonded via the adhesive layer 9 so that the protective layer 8 side faces inside. Thus, the double-sided recording type optical disc 10 shown in FIG. 2 is manufactured.

【0099】また、図1に示す光ディスク1とは別の製
造プロセスにおいてダミーディスク12を製造し、これ
らの光ディスク1とダミーディスク12とを、それらの
保護層8側が内側になるようにして、接着層9を介して
貼り合わせる。これにより、図3に示す片面記録型光デ
ィスク13が製造される。
A dummy disk 12 is manufactured in a manufacturing process different from that of the optical disk 1 shown in FIG. 1, and the optical disk 1 and the dummy disk 12 are bonded together so that their protective layers 8 are on the inside. Lamination is performed via the layer 9. Thus, the single-sided recording type optical disc 13 shown in FIG. 3 is manufactured.

【0100】次に、上述の第1の実施形態に基づいた第
1および第2の実施例と、この第1の実施形態による効
果を比較するための第1の比較例とについて説明する。
Next, the first and second examples based on the above-described first embodiment and a first comparative example for comparing the effects of the first embodiment will be described.

【0101】第1の実施例 この第1の実施例においては、光ディスク1における第
1の反射層6をAlCu合金から構成する。また、そし
て、この第1の実施例による光ディスク1を、その第1
の反射層6を構成するAlCu合金の組成が半径rS1
ら半径rS2に向かう半径方向に、Cuの添加量が連続的
に増加するように構成する。すなわち、ディスク基板2
の中心Oからの半径rS1=25mm付近の内周側におけ
る第1の反射層6の組成を、例えば、AlにCuを0.
5重量%含有したAlCu0.5とし、他方、半径rS2
55mm付近の外周側における第1の反射層6の組成
を、例えば、AlにCuを1.2重量%含有したAlC
1.2とする。また、第1の反射層6のAlCu合金の
組成、すなわち、Cuの含有率が半径rS1の内周側から
半径rS2の外周側に向けて、0.5重量%から1.2重
量%まで連続的に変化するように構成されている。そし
て、ディスク基板2の半径方向に沿って、第1の反射層
6を構成するAlCu合金のCuの濃度分布を変化させ
ることにより、光ディスク1において、この添加物とし
てのCuの濃度に依存する熱伝導率が、第1の反射層6
の内周側と外周側とで異なるように構成されている。
First Embodiment In the first embodiment, the first reflection layer 6 of the optical disc 1 is made of an AlCu alloy. Further, the optical disc 1 according to the first embodiment is
The composition of the AlCu alloy constituting the reflective layer 6 is such that the addition amount of Cu continuously increases in the radial direction from the radius r S1 to the radius r S2 . That is, the disk substrate 2
The composition of the first reflective layer 6 on the inner peripheral side in the vicinity of a radius r S1 = 25 mm from the center O of, for example, Cu is set to 0.1 in Al.
AlCu 0.5 containing 5% by weight, while radius r S2 =
The composition of the first reflective layer 6 on the outer peripheral side near 55 mm is, for example, AlC containing 1.2% by weight of Cu in Al.
u 1.2 . Further, the composition of the AlCu alloy of the first reflective layer 6, i.e., the Cu content is from the inner circumference side in the radial r S1 toward the outer circumferential side in the radial r S2, 1.2% to 0.5% by weight It is configured to change continuously up to. By changing the Cu concentration distribution of the AlCu alloy constituting the first reflective layer 6 along the radial direction of the disk substrate 2, the optical disk 1 has a heat dependent on the concentration of Cu as an additive. When the conductivity is higher than the first reflective layer 6
Are different on the inner peripheral side and the outer peripheral side.

【0102】また、この第1の実施例による第1の反射
層6の形成においては、図4に示すスパッタリング装置
20を用いるとともに、図6Bに示すターゲット28を
用いる。すなわち、この第1の実施例による第1の反射
層6の形成に用いられるターゲット28は、第1の反射
層6の内周側に対応した組成、すなわちAlCu0.5
ら構成される円板状の低濃度ターゲット部28aと、こ
の低濃度ターゲット部28aを取り囲むようにして設け
られ、第1の反射層6の外周側に対応した組成、すなわ
ちAlCu1.2から構成される円環状の高濃度ターゲッ
ト部28bとから構成される。
In forming the first reflective layer 6 according to the first embodiment, the sputtering apparatus 20 shown in FIG. 4 is used and the target 28 shown in FIG. 6B is used. That is, the target 28 used to form the first reflective layer 6 according to the first embodiment has a composition corresponding to the inner peripheral side of the first reflective layer 6, that is, a disk-shaped target made of AlCu 0.5 . a low concentration target portion 28a, provided so as to surround the low concentration target portion 28a, composition corresponding to the outer peripheral side of the first reflective layer 6, i.e. annular consists AlCu 1.2 high density target portion 28b It is composed of

【0103】ここで、このターゲット28の嵌合部28
cについて説明する。図7に、図6Bのターゲット28
の嵌合部28cにおけるVII−VII線に沿った断面
の例を示す。
Here, the fitting portion 28 of the target 28
c will be described. FIG. 7 shows the target 28 of FIG. 6B.
7 shows an example of a cross section taken along line VII-VII of the fitting portion 28c of FIG.

【0104】すなわち、図7Aに示す例においては、嵌
合部28cにおいて、双方のターゲット部が嵌合可能に
構成されている。すなわち、低濃度ターゲット部28a
を円錐台形状に形成するとともに、高濃度ターゲット部
28bの中央に、この低濃度ターゲット部28aを嵌合
可能で、その中心が高濃度ターゲット部28bの中心に
一致する円錐台形状の開口を形成する。そして、低濃度
ターゲット部28aを高濃度ターゲット部28bの開口
に嵌合したターゲット28が、例えばインジウム(I
n)およびスズ(Sn)からなる半田などの接合剤35
を用いて、バッキングプレート29に接合されている。
このように、低濃度ターゲット部28aを円錐台形状に
形成し、この低濃度ターゲット部28aを高濃度ターゲ
ット部28bの開口において嵌合させることによりター
ゲット28を構成しているので、嵌合部28cにおい
て、接合剤35にスパッタ粒子が衝突することを防止す
ることができる。
That is, in the example shown in FIG. 7A, in the fitting portion 28c, both target portions can be fitted. That is, the low concentration target portion 28a
Is formed in a truncated cone shape, and the low-concentration target portion 28a can be fitted to the center of the high-concentration target portion 28b, and a truncated cone-shaped opening whose center coincides with the center of the high-concentration target portion 28b I do. Then, the target 28 in which the low-concentration target portion 28a is fitted into the opening of the high-concentration target portion 28b is, for example, indium (I
n) and a bonding agent 35 such as solder made of tin (Sn)
Are joined to the backing plate 29.
As described above, since the low concentration target portion 28a is formed in a truncated cone shape and the low concentration target portion 28a is fitted in the opening of the high concentration target portion 28b to form the target 28, the fitting portion 28c In this case, it is possible to prevent the sputtered particles from colliding with the bonding agent 35.

【0105】また、図7Bに示す例においては、嵌合部
28cにおいて、一方のターゲット部における嵌合部2
8cが、ほぼ半円形にくぼんだ凹形状に形成されている
とともに、他方のターゲット部における嵌合部28c
が、一方のターゲット部における凹形状に沿ったほぼ半
円形に盛り上がった凸形状に形成されている。そして、
これらの凹形状と凸形状とが互いに合わされて、低濃度
ターゲット部28aが高濃度ターゲット部28bの開口
に嵌合され、ターゲット28が構成されている。そし
て、このターゲット28が、半田などの接合剤35を用
いて、バッキングプレート29に接合されている。この
ようにして嵌合部28cを構成することによって、スパ
ッタ粒子が接合剤35に衝突することを防止することが
できる。
In the example shown in FIG. 7B, in the fitting portion 28c, the fitting portion 2 in one target portion is used.
8c is formed in a concave shape that is substantially semicircularly concave, and the fitting portion 28c in the other target portion is formed.
Are formed in a convex shape which is raised almost in a semicircular shape along the concave shape in one target portion. And
The concave shape and the convex shape are combined with each other, and the low concentration target portion 28a is fitted into the opening of the high concentration target portion 28b to form the target 28. Then, the target 28 is bonded to the backing plate 29 using a bonding agent 35 such as solder. By configuring the fitting portion 28c in this way, it is possible to prevent the sputtered particles from colliding with the bonding agent 35.

【0106】また、図7Cに示す例においては、嵌合部
28cにおいて、低濃度ターゲット部28aが、外径が
互いに異なる複数の円柱体(図7Cにおいては2つの円
柱体)をそれらの中心軸を一致させて外径順に重ねた形
状、いわゆる段差形状を有するとともに、高濃度ターゲ
ット部28bが、内径が互いに異なり外径が一致する複
数の円環体(図7Cにおいては2つの円環体)を、それ
らの外周を一致させて内径順に重ねた形状を有する。す
なわち、高濃度ターゲット部28bは、低濃度ターゲッ
ト部28aを嵌合可能な段差状の開口を有する。そし
て、段差状の低濃度ターゲット部28aを高濃度ターゲ
ット部28bの段差状の開口に嵌合させたターゲット2
8が、接合剤35を用いてバッキングプレート29に接
合されている。このようにして嵌合部28cを構成する
ことによって、嵌合部28cにおいて、接合剤35にス
パッタ粒子が衝突することを防止することができる。
In the example shown in FIG. 7C, in the fitting portion 28c, the low-concentration target portion 28a has a plurality of cylindrical bodies (two cylindrical bodies in FIG. 7C) having different outer diameters. And a plurality of toroids having a high concentration target portion 28b having different inner diameters and having the same outer diameter (two annular bodies in FIG. 7C). Are stacked in the order of the inner diameter with their outer circumferences matched. That is, the high-concentration target portion 28b has a stepped opening into which the low-concentration target portion 28a can be fitted. Then, the target 2 in which the step-shaped low-density target portion 28a is fitted into the step-shaped opening of the high-density target portion 28b.
8 is bonded to the backing plate 29 using a bonding agent 35. By configuring the fitting portion 28c in this manner, it is possible to prevent the sputtered particles from colliding with the bonding agent 35 in the fitting portion 28c.

【0107】以上のように、低濃度ターゲット部28a
と高濃度ターゲット部28bとの嵌合部28cを構成す
ることにより、接合剤35にスパッタ粒子が衝突し、接
合剤35自体がスパッタリングされるのを防止すること
ができる。これにより、所望としない例えばInやPb
などの不純物が第1の反射層6に混入することを防止す
ることができる。
As described above, the low concentration target portion 28a
And the high-concentration target portion 28b, it is possible to prevent the sputter particles from colliding with the bonding agent 35 and sputtering the bonding agent 35 itself. Thereby, for example, undesired In or Pb
And the like can be prevented from being mixed into the first reflection layer 6.

【0108】そして、上述の構成を有するターゲット2
8のスパッタ面側と、ディスク基板2の第1の反射層6
が形成される一主面側とが、それらの中心軸を重ねて互
いに対向して配置される。これらの互いに対向して配置
されたターゲット28とディスク基板2との、対向面に
垂直な面に沿った位置関係を図8に示す。
Then, the target 2 having the above configuration
8 and the first reflective layer 6 of the disk substrate 2
Are formed to face each other with their central axes overlapping. FIG. 8 shows a positional relationship between the target 28 and the disk substrate 2 arranged facing each other along a plane perpendicular to the facing surface.

【0109】図8に示すように、この第1の実施例にお
いては、ディスク基板2として、センターホール2cが
形成され、その一主面上に第1の誘電体層3、相変化記
録層4および第2の誘電体層5が順次積層されたディス
ク基板を用い、ターゲット28として、低濃度ターゲッ
ト部28aと高濃度ターゲット部28bとが嵌合部28
cにおいて嵌合された2分割のターゲット(図6B参
照)を用いる。ここで、ディスク基板の外径φは、例え
ばφ=120mm(半径rS=60mm)である。ま
た、低濃度ターゲット部28aの半径は、この第1の実
施例において製造する光ディスク1の記録領域36にお
ける半径方向に沿った中間部程度に選ばれ、具体的には
T1=40mm(直径80mm)に選ばれる。また、外
周側の円環状を有する高濃度ターゲット部28bの外径
Φは、ディスク基板2の外径以上に選ばれ、具体的には
例えばΦ=200mm(半径RT=100mm)に選ば
れる。また、その内径は、低濃度ターゲット部28aの
径にほぼ一致するように選ばれる。また、ターゲット2
8のスパッタ面とディスク基板2の積層膜が形成されて
いる一主面との距離(TS間距離dTS)は30〜50m
mに選ばれ、具体的には例えばdTS=40mmに選ばれ
る。
As shown in FIG. 8, in the first embodiment, a center hole 2c is formed as a disk substrate 2, and a first dielectric layer 3 and a phase change recording layer 4 are formed on one main surface thereof. And a disk substrate on which the second dielectric layer 5 is sequentially laminated, and a low concentration target portion 28a and a high concentration target portion 28b
A two-part target fitted in c (see FIG. 6B) is used. Here, the outer diameter φ of the disk substrate is, for example, φ = 120 mm (radius r S = 60 mm). The radius of the low-concentration target portion 28a is selected to be about the middle portion along the radial direction in the recording area 36 of the optical disk 1 manufactured in the first embodiment, and specifically, r T1 = 40 mm (diameter 80 mm ). The outer diameter Φ of the high-concentration target portion 28b having an annular shape on the outer peripheral side is selected to be equal to or larger than the outer diameter of the disk substrate 2, specifically, Φ = 200 mm (radius R T = 100 mm). The inner diameter is selected so as to substantially match the diameter of the low concentration target portion 28a. In addition, target 2
The distance (inter-TS distance d TS ) between the sputtering surface No. 8 and one main surface of the disk substrate 2 on which the laminated film is formed is 30 to 50 m.
m, specifically, for example, d TS = 40 mm.

【0110】そして、真空チャンバ21内において、タ
ーゲット28とディスク基板2とを以上のように配置
し、第1の実施形態において述べたスパッタリング法に
より、ディスク基板2上に、この第1の実施例による第
1の反射層6を形成し、その後、第1の実施形態におい
て述べたように順次所定のプロセスを経る。これによ
り、この第1の実施例による光ディスク1が製造され
る。
Then, the target 28 and the disk substrate 2 are arranged in the vacuum chamber 21 as described above, and the first example is formed on the disk substrate 2 by the sputtering method described in the first embodiment. Is formed, and thereafter, a predetermined process is sequentially performed as described in the first embodiment. Thus, the optical disc 1 according to the first embodiment is manufactured.

【0111】第2の実施例 この第2の実施例においては、第1の実施例におけると
同様に、光ディスク1における第1の反射層6をAlC
u合金から構成し、第1の反射層6を構成するAlCu
合金の組成が、半径rS1から半径rS2に向かう半径方向
にCuの添加量が連続的に増加するように構成する。ま
た、第1の実施例と異なり、ディスク基板2の中心Oか
らの半径rS1=25mm付近の第1の反射層6の内周部
における組成を、例えばAlにCuを0.5重量%含有
したAlCu0.5とし、他方、半径rS2=55mm付近
の第1の反射層6の外周部における第1の反射層6の組
成を、例えばAlにCuを1.5重量%含有したAlC
1.5とし、さらに、第1の反射層6の内周部(rS1
25mm)と外周部(rS2=55mm)との中間部分、
すなわち半径rS3=40mm程度の中周部における第1
の反射層6の組成を、例えばAlにCuを1.0重量%
含有したAlCu1.0とする。そして、第1の反射層6
のAlCu合金の組成、すなわちCuの含有率が、半径
S1の内周部から半径rS3の中周部を介して半径rS2
外周部に向けて、0.5重量%から1.0重量%を介し
1.5重量%まで連続的に単調増加するように構成され
ている。そして、第1の実施例による光ディスク1と同
様に、ディスク基板2の半径方向に沿って、第1の反射
層6を構成するAlCu合金のCuの濃度分布を変化さ
せることにより、光ディスク1において、この添加物と
してのCuの濃度に依存する熱伝導率が、第1の反射層
6の内周側と外周側とで異なるように構成されている。
Second Embodiment In the second embodiment, as in the first embodiment, the first reflection layer 6 of the optical disc 1 is made of AlC.
AlCu made of a u-alloy and constituting the first reflective layer 6
The composition of the alloy is configured such that the addition amount of Cu continuously increases in the radial direction from the radius r S1 to the radius r S2 . Further, unlike the first embodiment, the composition of the inner peripheral portion of the first reflective layer 6 near the radius r S1 = 25 mm from the center O of the disk substrate 2 is, for example, 0.5 wt% of Cu in Al AlC and was AlCu 0.5, while the first composition of the reflection layer 6 in the first outer peripheral portion of the reflection layer 6 in the vicinity of radius r S2 = 55 mm, for example containing 1.5% by weight of Cu to Al
u 1.5, and further, the inner peripheral portion (r S1 =
25 mm) and an outer peripheral portion (r S2 = 55 mm),
That is, the first in the middle part of the radius r S3 = about 40 mm
The composition of the reflective layer 6 is, for example, 1.0% by weight of Cu in Al.
AlCu 1.0 contained. Then, the first reflection layer 6
The composition of the AlCu alloy, i.e. the content of Cu is, toward the outer periphery of the radius r S2 from the inner periphery of the radius r S1 through the periphery in the radius r S3, from 0.5 wt% 1.0 It is configured to increase monotonically continuously from 1.5% by weight to 1.5% by weight. Then, similarly to the optical disc 1 according to the first embodiment, by changing the Cu concentration distribution of the AlCu alloy constituting the first reflective layer 6 along the radial direction of the disc substrate 2, the optical disc 1 The thermal conductivity depending on the concentration of Cu as the additive is configured to be different between the inner peripheral side and the outer peripheral side of the first reflection layer 6.

【0112】また、この第2の実施例による第1の反射
層6の形成においては、図4に示すスパッタリング装置
20を用いるとともに、図6Cに示すターゲット28を
用いる。すなわち、この第2の実施例による第1の反射
層6の形成の際に用いられるターゲット28は、第1の
反射層6の内周部に対応した組成、すなわちAlCu
0.5から構成される円板状の低濃度ターゲット部28d
と、この低濃度ターゲット部28dを取り囲むようにし
て設けられ、第1の反射層6の中周部に対応した組成、
すなわちAlCu1.0から構成される円環状の中濃度タ
ーゲット部28eと、この中濃度ターゲット部28eを
取り囲むようにして設けられ、第1の反射層6の外周部
に対応した組成、すなわちAlCu1.5から構成される
円環状の高濃度ターゲット部28fとから構成される。
また、嵌合部28cは、第1の実施例による図7に示す
嵌合部28cにおけると同様である。
Further, the first reflection according to the second embodiment is performed.
In the formation of the layer 6, the sputtering apparatus shown in FIG.
20 and the target 28 shown in FIG.
Used. That is, the first reflection according to the second embodiment.
The target 28 used in forming the layer 6 includes a first
The composition corresponding to the inner peripheral portion of the reflective layer 6, that is, AlCu
0.5Disc-shaped low-concentration target portion 28d composed of
So as to surround the low concentration target portion 28d.
A composition corresponding to the middle portion of the first reflective layer 6,
That is, AlCu1.0Annular medium concentration
Target portion 28e and the medium concentration target portion 28e.
The outer peripheral portion of the first reflective layer 6 is provided so as to surround the first reflective layer 6.
, That is, AlCu1.5Composed of
And an annular high-concentration target portion 28f.
The fitting portion 28c is shown in FIG. 7 according to the first embodiment.
This is the same as in the fitting portion 28c.

【0113】そして、上述の構成を有するターゲット2
8のスパッタ面側と、ディスク基板2の第1の反射層6
が形成される一主面側とが、それらの中心軸を重ねて互
いに対向して配置される。これらの互いに対向して配置
されたターゲット28とディスク基板2との、対向面に
垂直な面に沿った位置関係を図9に示す。
The target 2 having the above configuration
8 and the first reflective layer 6 of the disk substrate 2
Are formed to face each other with their central axes overlapping. FIG. 9 shows a positional relationship between the target 28 and the disk substrate 2 which are arranged to face each other along a plane perpendicular to the facing surface.

【0114】図9に示すように、この第1の実施例にお
いては、ディスク基板2として、センターホール2cが
形成され、その一主面上に第1の誘電体層3、相変化記
録層4および第2の誘電体層5が順次積層されたディス
ク基板を用い、ターゲット28として、低濃度ターゲッ
ト部28dと、中濃度ターゲット部28eと、高濃度タ
ーゲット部28bとが嵌合部28cにおいて嵌合された
3分割のターゲット(図6C参照)を用いる。ここで、
ディスク基板の外径φは、例えばφ=120mm(半径
S=60mm)である。また、低濃度ターゲット部2
8dの半径rT2は、この第2の実施例において製造する
光ディスク1の記録領域36を半径方向にほぼ3分割し
た部分程度に選ばれ、具体的にはrT2=25mm(外
径:50mm)に選ばれる。また、3分割の中間におけ
る円環状の中濃度ターゲット部28eにおける外周半径
T3は、具体的にはrT3=40mm(外径:80mm)
に選ばれ、内径は、低濃度ターゲット部28dの外径に
ほぼ一致するように選ばれる。また、外周側の円環状を
有する高濃度ターゲット部28fの外径Φは、第1の実
施例におけると同様に、具体的には例えばΦ=200m
m(半径RT=100mm)に選ばれ、内径は、中濃度
ターゲット部28eの外径にほぼ一致するように選ばれ
る。また、ターゲット28のスパッタ面とディスク基板
2の積層膜が形成されている一主面との距離(TS間距
離dTS)は30〜50mmに選ばれ、具体的には例えば
TS=40mmに選ばれる。
As shown in FIG. 9, in the first embodiment, a center hole 2c is formed as a disk substrate 2, and a first dielectric layer 3 and a phase change recording layer 4 are formed on one main surface thereof. And a low density target portion 28d, a medium density target portion 28e, and a high density target portion 28b are fitted in the fitting portion 28c as the target 28 using a disk substrate on which the second dielectric layer 5 is sequentially laminated. The divided target (see FIG. 6C) is used. here,
The outer diameter φ of the disc substrate is, for example, φ = 120 mm (radius r S = 60 mm). In addition, the low concentration target section 2
The radius r T2 of 8d is selected to be approximately the radially divided portion of the recording area 36 of the optical disc 1 manufactured in the second embodiment, and specifically, r T2 = 25 mm (outer diameter: 50 mm). Is chosen. Further, the outer peripheral radius r T3 of the annular middle concentration target portion e in the middle of the three divisions is specifically r T3 = 40 mm (outer diameter: 80 mm)
And the inner diameter is selected so as to substantially match the outer diameter of the low-concentration target portion 28d. The outer diameter Φ of the high-concentration target portion 28f having an annular shape on the outer peripheral side is specifically, for example, Φ = 200 m, as in the first embodiment.
m (radius R T = 100 mm), and the inner diameter is selected so as to substantially match the outer diameter of the medium concentration target portion 28e. The distance between the sputtering surface of the target 28 and one principal surface of the disk substrate 2 on which the laminated film is formed (inter-TS distance d TS ) is selected to be 30 to 50 mm, and specifically, for example, d TS = 40 mm. To be elected.

【0115】そして、スパッタリング装置20の真空チ
ャンバ21内において、以上のようにターゲット28と
ディスク基板2とを配置し、第1の実施形態において説
明したスパッタリング法により、ディスク基板2上に、
この第2の実施例による第1の反射層6を形成し、その
後、第1の実施形態において述べたように順次所定のプ
ロセスを経る。これにより、この第2の実施例による光
ディスク1が製造される。
Then, in the vacuum chamber 21 of the sputtering apparatus 20, the target 28 and the disk substrate 2 are arranged as described above, and the disk substrate 2 is placed on the disk substrate 2 by the sputtering method described in the first embodiment.
The first reflection layer 6 according to the second embodiment is formed, and thereafter, a predetermined process is sequentially performed as described in the first embodiment. Thus, the optical disc 1 according to the second embodiment is manufactured.

【0116】第1の比較例 この第1の比較例においては、第1の実施例におけると
同様に、光ディスク1における第1の反射層6をAlC
u合金から構成する。また、第1の実施例と異なり、半
径rS1=25mm付近における第1の反射層6の内周部
から、半径rS2=55mm付近における第1の反射層6
の外周部までにおいて、第1の反射層6の組成をほぼ同
じ組成とし、具体的には、AlにCuを1.0重量%含
有したAlCu1.0とする。すなわち、第1の反射層6
におけるAlCu合金の組成、すなわちCuの含有率
が、半径rS1の内周部から半径rS3の中周部を介して半
径r S2の外周部に向けて、常に、ほぼ1.0重量%程度
で一定になるように構成されている。このように、ディ
スク基板2の半径方向に沿って、第1の反射層6を構成
するAlCu合金中のCuの濃度分布が一定であること
により、光ディスク1の第1の反射層6における熱伝導
率が、全面においてほぼ一定になるように構成されてい
る。
First Comparative Example In this first comparative example, the first embodiment is different from the first embodiment.
Similarly, the first reflection layer 6 of the optical disc 1 is made of AlC
u alloy. Also, unlike the first embodiment, a half
Diameter rS1= Inner periphery of the first reflective layer 6 near 25 mm
From the radius rS2= First reflective layer 6 near 55 mm
Up to the outer peripheral portion, the composition of the first reflective layer 6 is substantially the same.
Specifically, Al contains 1.0% by weight of Cu.
AlCu having1.0And That is, the first reflection layer 6
Composition of AlCu alloy, ie Cu content
Is the radius rS1Radius r from the inner circumference ofS3Half through the middle circumference
Diameter r S2About 1.0% by weight toward the outer periphery of
It is configured to be constant. Thus, day
A first reflection layer 6 is formed along the radial direction of the disk substrate 2.
That the concentration distribution of Cu in the AlCu alloy is constant
Heat conduction in the first reflective layer 6 of the optical disc 1
The rate is designed to be almost constant over the entire surface.
You.

【0117】また、この第1の比較例による第1の反射
層6の形成においては、多数枚対応で、2枚のターゲッ
トを用いた従来の光ディスクの製造に用いられているス
パッタリング装置を用いる。すなわち、このスパッタリ
ング装置は、図4に示すスパッタリング装置20におい
て、ディスクベース33に8枚のディスク基板2が固定
され、スパッタリングカソード部25のターゲット28
の部分に2枚のターゲット28が固着されるような構成
を有する。このように構成されたスパッタリング装置に
おけるディスク基板2とターゲット28との、これらの
面に沿った平面の位置関係を図10に示す。
Further, in forming the first reflective layer 6 according to the first comparative example, a sputtering apparatus which is compatible with a large number of sheets and is used for manufacturing a conventional optical disk using two targets is used. That is, in this sputtering apparatus, the eight disk substrates 2 are fixed to the disk base 33 in the sputtering apparatus 20 shown in FIG.
The structure is such that two targets 28 are fixed to the portion. FIG. 10 shows the positional relationship between the disk substrate 2 and the target 28 in the sputtering apparatus thus configured, in a plane along these surfaces.

【0118】図10Aに示すように、8枚のディスク基
板2は、それらのディスク基板2におけるそれぞれの中
心が円周上に位置するように固定され、ディスク基板2
の中心が位置する円の中心の周りを矢印b方向に回転す
るように構成される。すなわち、ディスク基板2は、円
の中心の周りを公転するように構成される。また、図1
0Bに示すように、2枚のターゲット28が並べて固着
される。そして、図10Cに示すように、8枚のディス
ク基板2を公転させるとともに、ターゲット28のスパ
ッタリングを行う。
As shown in FIG. 10A, the eight disk substrates 2 are fixed such that the centers of the disk substrates 2 are located on the circumference.
Is configured to rotate in the direction of the arrow b around the center of the circle where the center of is located. That is, the disk substrate 2 is configured to revolve around the center of the circle. FIG.
As shown in FIG. 0B, two targets 28 are fixed side by side. Then, as shown in FIG. 10C, the eight disk substrates 2 are revolved and the sputtering of the target 28 is performed.

【0119】また、ターゲットとしては、図6Aに示す
ターゲット28と同様の、分割されていないターゲット
を用いる。すなわち、この第1の比較例による第1の反
射層6の形成の際に用いられるターゲット28は、Al
に、添加物としてのCuが均等に分布されたAlCu
1.0から構成される。
As the target, an undivided target similar to the target 28 shown in FIG. 6A is used. That is, the target 28 used when forming the first reflective layer 6 according to the first comparative example is made of Al
AlCu in which Cu as an additive is evenly distributed
Consists of 1.0 .

【0120】そして、スパッタリング装置20の真空チ
ャンバ21内において、ターゲット28とディスク基板
2とを、以上のように配置し、ディスク基板2を公転さ
せつつスパッタリングを行うことにより、ディスク基板
2上に、この第1の比較例による第1の反射層6を形成
し、その後、第1の実施形態において述べたように順次
所定のプロセスを経る。これにより、この第1の比較例
による光ディスク1が製造される。なお、この第1の比
較例による光ディスク1の構成および製造における、そ
の他のことについては、第1の実施例におけると同様で
あるので、説明を省略する。
Then, in the vacuum chamber 21 of the sputtering apparatus 20, the target 28 and the disk substrate 2 are arranged as described above, and sputtering is performed while revolving the disk substrate 2, so that the disk substrate 2 The first reflection layer 6 according to the first comparative example is formed, and thereafter, a predetermined process is sequentially performed as described in the first embodiment. Thus, the optical disc 1 according to the first comparative example is manufactured. The rest of the configuration and the manufacture of the optical disc 1 according to the first comparative example are the same as those in the first embodiment, and a description thereof will not be repeated.

【0121】本発明者は、以上のように構成された第1
の実施例、第2の実施例および第1の比較例によるそれ
ぞれの光ディスク1について、それぞれジッター特性の
評価を行った。すなわち、光ディスク1を、記録領域の
最内周(rS1=25mm)における線速度が3.49m
/sとなり、最外周(rS2=55mm)における線速度
が8.30m/sとなるような、角速度一定(CAV)
で回転させる。これとともに、波長が650nm程度の
レーザ光L1を、開口数NAが0.65の対物レンズを
通じて、ディスク基板2の他主面2b側から第1の情報
信号層7に向けて照射する。これにより、光ディスク1
に情報信号を記録する。また、この情報信号の記録にお
いては、線密度を1ビット当たり0.267μmとす
る。そして、記録波形として図11に示す記録波形にお
いて、Pe/Pp=0.45とした記録波形を用いて、
ジッターの記録パワーPp(mW)依存性を評価した。
ここで、第1の実施例による光ディスク1におけるジッ
ター特性の評価結果を図12に示し、第2の実施例によ
る光ディスク1におけるジッター特性の評価結果を図1
3に示し、第1の比較例による光ディスク1におけるジ
ッター特性の評価結果を図14に示す。なお、光ディス
ク1の記録領域36の最内周(半径rS1=25mm)で
のジッターの記録パワー依存性を黒丸(●)で示し、最
外周(半径rS2=55mm)でのジッターの記録パワー
依存性を白抜き三角(△)で示す。
The present inventor has made the first
The jitter characteristics of each of the optical discs 1 according to the example, the second example, and the first comparative example were evaluated. That is, the optical disc 1 is moved at a linear velocity of 3.49 m at the innermost circumference (r S1 = 25 mm) of the recording area.
/ S, and a constant angular velocity (CAV) such that the linear velocity at the outermost periphery (r S2 = 55 mm) is 8.30 m / s.
Rotate with. At the same time, a laser beam L 1 having a wavelength of about 650 nm is irradiated from the other main surface 2 b side of the disc substrate 2 toward the first information signal layer 7 through an objective lens having a numerical aperture NA of 0.65. Thereby, the optical disk 1
Record an information signal. In recording this information signal, the linear density is set to 0.267 μm per bit. Then, using the recording waveform of Pe / Pp = 0.45 in the recording waveform shown in FIG. 11 as the recording waveform,
The recording power Pp (mW) dependency of jitter was evaluated.
Here, the evaluation result of the jitter characteristic of the optical disk 1 according to the first embodiment is shown in FIG. 12, and the evaluation result of the jitter characteristic of the optical disk 1 according to the second embodiment is shown in FIG.
FIG. 14 shows an evaluation result of the jitter characteristic of the optical disc 1 according to the first comparative example. The recording power dependency of the jitter at the innermost circumference (radius r S1 = 25 mm) of the recording area 36 of the optical disk 1 is indicated by a black circle (●), and the recording power of the jitter at the outermost circumference (radius r S2 = 55 mm). Dependencies are indicated by open triangles (△).

【0122】図12、図13および図14から、光ディ
スク1の内周部(半径rS1)におけるジッター特性の記
録パワー依存性に関しては、第1の実施例、第2の実施
例、および第1の比較例によるいずれの光ディスク1に
おいても、記録パワーを増加させるのに伴い、ジッター
が12.5%程度から8%程度まで、ほぼ単調に減少す
ることが分かる。すなわち、光ディスク1の内周部にお
いては、ジッターの記録パワー依存性はほぼ同様の傾向
を有し、それらの間において差異がほとんど存在しない
ことが分かる。すなわち、低線速度領域においては、第
1の比較例と、第1の実施例および第2の実施例との間
にほとんど差異がないことが分かる。
From FIG. 12, FIG. 13 and FIG. 14, the recording power dependence of the jitter characteristic at the inner peripheral portion (radius r S1 ) of the optical disk 1 is shown in the first embodiment, the second embodiment, and the first embodiment. In any of the optical discs 1 according to the comparative examples, the jitter decreases almost monotonically from about 12.5% to about 8% as the recording power is increased. That is, in the inner peripheral portion of the optical disc 1, the recording power dependence of the jitter has almost the same tendency, and it can be seen that there is almost no difference between them. That is, in the low linear velocity region, it can be seen that there is almost no difference between the first comparative example and the first and second examples.

【0123】他方、光ディスク1の外周部(半径rS2
におけるジッターの記録パワー依存性に関しては、図1
4に示す第1の比較例による光ディスク1において、P
p=11mWのときのジッター値(14%)を極小とし
て、記録パワーを増加させるのに伴ってジッター値が急
激に増加していき、Pp=15mWの時にはジッター値
が25%を超え、ジッター特性が大幅に劣化してしまう
のに対し、図12に示す第1の実施例による光ディスク
1および、図13に示す第2の実施例による光ディスク
1においては、Pp=11mWの時のジッター値(1
2.5%程度)を極小として、記録パワーを増加させる
のに伴ってジッター値が緩やかに増加していき、Pp=
15mWの時においてもジッター値が15%程度である
ことが分かる。すなわち、外周部における高線速度領域
において、第1の実施例および第2の実施例による光デ
ィスク1のジッター特性が大幅に改善されていることが
分かる。
On the other hand, the outer peripheral portion (radius r S2 ) of the optical disk 1
The recording power dependence of jitter in
In the optical disc 1 according to the first comparative example shown in FIG.
The jitter value (14%) at p = 11 mW is minimized, and the jitter value sharply increases as the recording power is increased. When Pp = 15 mW, the jitter value exceeds 25%, and the jitter characteristic increases. Whereas the optical disc 1 according to the first embodiment shown in FIG. 12 and the optical disc 1 according to the second embodiment shown in FIG. 13 have a jitter value (1) at Pp = 11 mW.
(Approximately 2.5%), the jitter value gradually increases with increasing recording power, and Pp =
It can be seen that the jitter value is about 15% even at 15 mW. That is, it can be seen that the jitter characteristics of the optical disc 1 according to the first and second embodiments are greatly improved in the high linear velocity region in the outer peripheral portion.

【0124】以上の評価に関して、本発明者が鋭意検討
した結果得られた知見によれば、第1の比較例による光
ディスク1において、記録パワーを増加させるのに伴っ
て、ジッター特性が劣化してしまうのは、記録時におい
て外周部における第1の反射層6の熱伝導率が内周部に
おけると等しいため、高線速度領域となる外周部におい
ては冷却速度が内周部に比して速くなってしまうことに
より、十分に結晶化が行われず非晶質化しているためで
ある。これに対し、この発明の第1の実施形態に基づい
た第1の実施例および第2の実施例において、記録パワ
ーを増加させた場合においても、第1の反射層6の組成
を、内周部と外周部とで互いに変化させ、特に、光ディ
スク1の特性に合わせ、第1の反射層6の内周部におい
ては、熱伝導率を増加させるために添加物(Cu)の添
加量を少なくし、第1の反射層6の外周部においては、
熱伝導率を減少させるために添加物の添加量を多くして
いるので、外周部における記録時の冷却速度が低下し、
高線速度での記録であっても、結晶化させることが可能
となったためである。
According to the knowledge obtained as a result of the inventor's earnest study on the above evaluations, in the optical disc 1 according to the first comparative example, as the recording power was increased, the jitter characteristics deteriorated. This is because the thermal conductivity of the first reflective layer 6 at the outer peripheral portion during recording is equal to that at the inner peripheral portion, so that the cooling speed is higher at the outer peripheral portion, which is a high linear velocity region, than at the inner peripheral portion. This is because crystallization is not sufficiently performed and the film becomes amorphous. On the other hand, in the first and second examples based on the first embodiment of the present invention, even when the recording power is increased, the composition of the first In the inner peripheral portion of the first reflective layer 6, the additive amount (Cu) is reduced in order to increase the thermal conductivity in accordance with the characteristics of the optical disc 1 in particular. In the outer peripheral portion of the first reflection layer 6,
Since the amount of the additive is increased to reduce the thermal conductivity, the cooling rate at the time of recording in the outer peripheral portion is reduced,
This is because crystallization can be performed even at a high linear velocity.

【0125】以上説明したように、この第1の実施形態
によれば、光ディスク1の第1の反射層6をAlCu合
金から構成し、第1の反射層6を構成するAlCu合金
の組成を内周部と外周部とで異なるように、具体的に
は、第1の反射層6の内周部の組成をAlCu0.5
し、外周部の組成をAlCu1.2と異なるようにしてい
ることにより、また、第1の反射層6の内周部の組成を
AlCu0.5とし、中周部の組成をAlCu1.0とし、外
周部の組成をAlCu1.5としていることにより、これ
らの組成に起因した第1の反射層6の熱伝導率を光ディ
スク1の半径方向に沿って変化させることができる。そ
のため、光ディスク1において、その内周部の低線速度
領域における相変化記録層4の結晶化および非晶質化の
制御を良好に行うことができるとともに、光ディスク1
の外周部の高線速度領域における相変化記録層4の結晶
化および非晶質化を記録特性の劣化を招くことなく行う
ことができる。これにより、光ディスク1の全面におい
て、記録パワーマージンに差が生じることが抑制される
ため、総合的なパワーマージンを増加させることができ
る。したがって、CAV方式を採用した光ディスク1に
おいて、良好な記録/再生特性を得ることができる。
As described above, according to the first embodiment, the first reflection layer 6 of the optical disc 1 is made of an AlCu alloy, and the composition of the AlCu alloy forming the first reflection layer 6 is To be different between the peripheral portion and the outer peripheral portion, specifically, the composition of the inner peripheral portion of the first reflective layer 6 is set to AlCu 0.5 and the composition of the outer peripheral portion is different from AlCu 1.2, and Since the composition of the inner peripheral portion of the first reflective layer 6 is AlCu 0.5 , the composition of the middle peripheral portion is AlCu 1.0, and the composition of the outer peripheral portion is AlCu 1.5 , the first reflection caused by these compositions is obtained. The thermal conductivity of the layer 6 can be changed along the radial direction of the optical disc 1. Therefore, in the optical disc 1, the crystallization and the amorphization of the phase change recording layer 4 in the low linear velocity region on the inner peripheral portion can be controlled well, and the optical disc 1 can be controlled.
The crystallization and amorphization of the phase change recording layer 4 in the high linear velocity region on the outer peripheral portion can be performed without deteriorating the recording characteristics. This suppresses a difference in the recording power margin over the entire surface of the optical disc 1, so that the overall power margin can be increased. Therefore, good recording / reproducing characteristics can be obtained in the optical disc 1 employing the CAV method.

【0126】次に、この発明の第2の実施形態による光
学記録媒体について説明する。図15にこの第2の実施
形態による光ディスクを示す。
Next, an optical recording medium according to a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 15 shows an optical disk according to the second embodiment.

【0127】図15に示すように、この第2の実施形態
による相変化型の光ディスク40においては、ディスク
基板41の一主面上に、第2の反射層42、第3の誘電
体層43、記録層44および第4の誘電体層45が順次
積層されて構成された第2の情報信号層46が設けられ
ている。また、このディスク基板41の一主面上の第2
の情報信号層46における、ディスク基板41が存在す
る側とは反対側の主面に、接着層47および光透過保護
層48が順次積層された光透過層49が設けられてい
る。以上のようにして、ディスク基板41の一主面上に
第2の情報信号層46および光透過層49が順次設けら
れ、この第2の実施形態による光ディスク40が構成さ
れている。また、この光ディスク40において、記録/
再生用のレーザ光L1は、ディスク基板41に対して光
透過層49が設けられた側から照射される。また、この
光ディスク40は、その一主面に形成された凹凸の双方
に情報信号が記録される、いわゆるランド・グルーブ記
録方式を採用した光ディスクである。
As shown in FIG. 15, in the phase-change type optical disk 40 according to the second embodiment, a second reflection layer 42 and a third dielectric layer 43 are formed on one main surface of a disk substrate 41. , A second information signal layer 46 configured by sequentially laminating a recording layer 44 and a fourth dielectric layer 45. Also, the second on the main surface of the disk substrate 41
A light transmission layer 49 in which an adhesive layer 47 and a light transmission protection layer 48 are sequentially laminated is provided on a main surface of the information signal layer 46 opposite to the side on which the disk substrate 41 is present. As described above, the second information signal layer 46 and the light transmitting layer 49 are sequentially provided on one main surface of the disk substrate 41, and the optical disk 40 according to the second embodiment is configured. In this optical disc 40, recording /
The laser light L 1 for reproduction, the light transmission layer 49 is irradiated from the side provided with respect to the disk substrate 41. The optical disk 40 is an optical disk that employs a so-called land / groove recording method in which an information signal is recorded on both the unevenness formed on one main surface thereof.

【0128】ディスク基板41は、例えばポリカーボネ
ート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂な
どの、低コスト化に優れたプラスチック材料からなる。
これらの材料のうち、ポリカーボネート(PC)を用い
る場合には、熱膨張係数が7.0×10-5程度で、曲げ
弾性率が2.4×104程度のものが用いられる。ま
た、シクロオレフィンポリマーなどの低吸水性のポリオ
レフィン系樹脂(例えばゼオネックス(登録商標))を
用いる場合には、熱膨張係数が6.0×10-5程度で、
曲げ弾性率が2.3×104程度のものが用いられる。
なお、この第2の実施形態による光ディスク40は、デ
ィスク基板41に対して、薄い光透過層49が設けられ
た側からレーザ光を照射することにより、情報信号の記
録/再生を行うように構成されている。そのため、ディ
スク基板41としては、透過性を有するか否かを考慮す
る必要がないので、例えばAlなどの金属からなる基板
を用いることも可能である。このディスク基板41の作
製は、例えば、射出成形法や紫外線硬化樹脂を用いた2
P法により行われる。また、ディスク基板41の厚さ
は、0.3〜1.3mmから選ばれ、この第2の実施形
態においては、例えば1.1mmに選ばれる。これは、
ディスク基板の厚さが0.3mmより小さいと、光ディ
スク40自体の強度が下がったり、反りやすくなったり
するためである。他方、ディスク基板41の厚さが1.
3mmより大きいと、光ディスク40の厚みが、CDや
DVDなどの光ディスクの厚さ(約1.2mm)に比し
て大きくなってしまい、CDやDVDと、この第2の実
施形態による光ディスクとの両方に対応する駆動装置の
商品化を考慮すると、同じディスクトレイを共用できな
くなる可能性があるためである。
The disk substrate 41 is made of a plastic material excellent in cost reduction, such as a polycarbonate resin, a polyolefin resin, and an acrylic resin.
When using polycarbonate (PC) among these materials, those having a thermal expansion coefficient of about 7.0 × 10 −5 and a flexural modulus of about 2.4 × 10 4 are used. When a low water-absorbing polyolefin resin such as a cycloolefin polymer (for example, ZEONEX (registered trademark)) is used, the coefficient of thermal expansion is about 6.0 × 10 −5 ,
A material having a flexural modulus of about 2.3 × 10 4 is used.
The optical disc 40 according to the second embodiment is configured to record / reproduce an information signal by irradiating the disc substrate 41 with laser light from the side where the thin light transmitting layer 49 is provided. Have been. Therefore, as the disk substrate 41, it is not necessary to consider whether the disk substrate 41 has transmissivity or not. For example, a substrate made of a metal such as Al can be used. The disk substrate 41 is manufactured by, for example, an injection molding method or an ultraviolet curing resin.
This is performed by the P method. In addition, the thickness of the disk substrate 41 is selected from 0.3 to 1.3 mm, and in the second embodiment, is selected to be, for example, 1.1 mm. this is,
If the thickness of the disk substrate is smaller than 0.3 mm, the strength of the optical disk 40 itself is reduced or the optical disk 40 is easily warped. On the other hand, when the thickness of the disk substrate 41 is 1.
If it is larger than 3 mm, the thickness of the optical disk 40 becomes larger than the thickness of the optical disk such as a CD or DVD (about 1.2 mm), and the CD or DVD and the optical disk according to the second embodiment are different from each other. This is because there is a possibility that the same disk tray cannot be shared when considering the commercialization of the drive devices corresponding to both.

【0129】また、ディスク基板41は、その中央部に
センターホール(図示せず)が形成された平面円環形状
を有する。そして、ディスク基板41の内径(センター
ホールの径)は例えば15mm、外径は例えば120m
mである。なお、このディスク基板41の第2の情報信
号層46が形成される一主面には、ランドおよびグルー
ブからなる凹凸の溝トラック(図示せず)が形成されて
いる。この凹凸の溝トラックにおけるトラックピッチT
pは、例えば0.3μmである。また、溝トラックの形
状においては、スパイラル状、同心円状、ピット列など
の様々な形状とすることが可能である。そして、このよ
うな溝トラックによる案内により、光ディスク40を回
転させてレーザスポットを任意の位置に移動可能に構成
されている。
The disk substrate 41 has a planar annular shape with a center hole (not shown) formed in the center. The inner diameter (diameter of the center hole) of the disk substrate 41 is, for example, 15 mm, and the outer diameter is, for example, 120 m.
m. In addition, on one main surface of the disk substrate 41 on which the second information signal layer 46 is formed, groove tracks (not shown) formed of lands and grooves are formed. The track pitch T in this uneven groove track
p is, for example, 0.3 μm. Further, the groove track may be formed in various shapes such as a spiral shape, a concentric shape, and a pit row. The optical disc 40 can be rotated to move the laser spot to an arbitrary position by the guide using the groove track.

【0130】また、第2の反射層42は、例えば金属や
半金属からなる。そして、第2の反射層42における反
射機能を考慮すると、第2の反射層42の材料として
は、記録再生用に用いられるレーザ光の波長に対して反
射能を有するとともに、熱伝導率が例えば4.0×10
-2〜4.5×102J/m・K・s(4.0×10-4
4.5J/cm・K・s)の範囲内の値を有する金属元
素、半金属元素、およびこれらの化合物または混合物か
らなることが好ましい。すなわち、第2の反射層42の
材料としては、具体的には、Al、Ag、Au、Ni、
Cr、Ti、Pd、Co、Si、Ta、W、Mo、Ge
などの単体、またはこれらの単体を主成分とする合金を
挙げることができる。そして、実用性の面を考慮する
と、これらのうちのAl系、Ag系、Au系、Si系ま
たはGe系の材料が好ましい。また、第2の反射層42
の材料として合金を用いる場合には、例えば、AlC
u、AlTi、AlCr、AlCo、AlMgSi、A
gPdCu、AgPdTi、AgCuTi、AgPdC
a、AgPdMg、AgPdFe、AgまたはSiBな
どが好ましい。さらに、第2の反射層42の材料は、光
学特性および熱特性を考慮して設定される。すなわち、
一般的に、第2の反射層42の膜厚を、レーザ光L 2
透過しない程度の大きさ(例えば50nm以上)に設定
すると、反射率が高くなるとともに、放熱性が向上す
る。特に、Al系の材料やAg系の材料は、波長λが4
00nm程度の青色レーザ光の照射に対して、その反射
率は80%以上になるなど、レーザ光が短波長の場合に
おいても高い反射率を有するため、Alを主成分とした
合金またはAgを主成分とした合金が好ましい。以上の
ことから、この第2の実施形態においては、第2の反射
層42として、例えばAg合金を用いる。また、第2の
反射層42の膜厚は、記録層44に生じる熱の拡散、す
なわち熱冷却特性を十分確保し、ジッター特性を良好に
保つとともに、第2の反射層42に生じる応力により、
スキューなどの機械的特性に与える影響を最小限に抑え
る観点から設定され、具体的には、50〜200nmか
ら選ばれ、この第2の実施形態においては、例えば12
0nmに選ばれる。
The second reflective layer 42 is made of, for example, metal or
Made of semi-metal. Then, the antireflection in the second reflection layer 42
Considering the radiation function, the material of the second reflective layer 42
Is opposite to the wavelength of the laser beam used for recording and reproduction.
It has radioactivity and thermal conductivity of, for example, 4.0 × 10
-2~ 4.5 × 10TwoJ / m · K · s (4.0 × 10-Four~
Metal element having a value within the range of 4.5 J / cm · K · s)
Elements, metalloid elements, and their compounds or mixtures
Preferably. That is, the second reflection layer 42
As the material, specifically, Al, Ag, Au, Ni,
Cr, Ti, Pd, Co, Si, Ta, W, Mo, Ge
Etc., or alloys containing these
Can be mentioned. And consider the practicality aspect
And Al-based, Ag-based, Au-based, and Si-based
Or a Ge-based material is preferable. Also, the second reflection layer 42
When an alloy is used as the material of
u, AlTi, AlCr, AlCo, AlMgSi, A
gPdCu, AgPdTi, AgCuTi, AgPdC
a, AgPdMg, AgPdFe, Ag or SiB
Which is preferred. Further, the material of the second reflection layer 42 is
It is set in consideration of chemical characteristics and thermal characteristics. That is,
In general, the thickness of the second reflective layer 42 TwoBut
Set to a size that does not transmit (for example, 50 nm or more)
Then, the reflectance increases and the heat dissipation improves.
You. In particular, Al-based materials and Ag-based materials have a wavelength λ of 4
Reflection of blue laser light of about 00 nm
When the laser light has a short wavelength, such as when the rate becomes 80% or more,
Has a high reflectivity, so that the main component is Al.
An alloy or an alloy containing Ag as a main component is preferable. More than
Therefore, in the second embodiment, the second reflection
As the layer 42, for example, an Ag alloy is used. Also, the second
The thickness of the reflective layer 42 depends on the diffusion of heat generated in the recording
In other words, sufficient thermal cooling characteristics and good jitter characteristics
While maintaining, the stress generated in the second reflective layer 42
Minimize impact on mechanical properties such as skew
It is set from the point of view, specifically, 50 to 200 nm
In the second embodiment, for example, 12
0 nm is selected.

【0131】また、この第2の実施形態においては、第
2の反射層42の組成がディスク基板41の半径方向に
沿って変化して構成されている。すなわち、第2の反射
層42を例えばAg合金(AgM(Mは、少なくとも1
種類の元素))から構成し、ディスク基板41の中心O
からの半径rS1=25mm付近の内周部における組成を
AgMγ(重量%)、半径rS2=55mm付近の外周部
における組成をAgM δ(重量%)とした場合に、この
第2の実施形態においては、γ<δが成立するように構
成されている。また、この第2の実施形態による光ディ
スクにおいては、十分な耐腐食性を確保するために、
0.5≦γとすることが好ましく、さらに、熱伝導率を
十分な値で確保するために、δ≦3.3とすることが好
ましい。そして、このような添加物Mにおいて、好適に
は、ディスク基板41における半径rS1から半径rS2
向かった半径方向に添加量が単調増加するように構成さ
れる。なお、この第2の反射層42を構成する材料の組
成の変化は、上述以外にも、所望とする特性に応じて、
γ≧βとするようにしても良く、ディスク基板41の半
径方向に沿って第2の反射層42の内周部から外周部の
範囲内で変化させるようにすることが可能である。ま
た、この第2の実施形態による第2の反射層42の組成
の変化の詳細については後述する。
Further, in the second embodiment, the second embodiment
2 in the radial direction of the disk substrate 41
It is configured to vary along. That is, the second reflection
The layer 42 is made of, for example, an Ag alloy (AgM (M is at least 1
Elements)) and the center O of the disk substrate 41
Radius r fromS1= The composition at the inner periphery near 25 mm
AgMγ(% By weight), radius rS2= Outer circumference around 55mm
AgM δ(% By weight)
In the second embodiment, the configuration is such that γ <δ is satisfied.
Has been established. Further, the optical disk according to the second embodiment is used.
In the disc, in order to ensure sufficient corrosion resistance,
0.5 ≦ γ is preferable, and the thermal conductivity is
In order to secure a sufficient value, it is preferable that δ ≦ 3.3.
Good. And, in such an additive M, preferably
Is the radius r of the disk substrate 41S1Radius rS2To
It is configured so that the addition amount increases monotonically in the radial direction
It is. Note that a set of materials forming the second reflective layer 42
In addition to the above, depending on the desired characteristics,
γ ≧ β may be satisfied, and the half of the disk substrate 41 may be set.
From the inner periphery to the outer periphery of the second reflection layer 42 along the radial direction.
It is possible to vary within a range. Ma
The composition of the second reflection layer 42 according to the second embodiment
The details of the change will be described later.

【0132】また、第3の誘電体層43および第4の誘
電体層45は、記録再生用レーザ光に対して、吸収能が
低い材料から構成され、具体的には、消衰係数kの値が
0.3以下の材料から構成することが好ましい。この第
2の実施形態においては、第3の誘電体層43および第
4の誘電体層45として、例えばZnS−SiO2(特
に、モル比が約4:1)が用いられる。また、第3の誘
電体層43の膜厚は、例えば14nmであり、第4の誘
電体層45の膜厚は、例えば140nmである。
The third dielectric layer 43 and the fourth dielectric layer 45 are made of a material having a low absorption capacity for the recording / reproducing laser beam. It is preferable to use a material having a value of 0.3 or less. In the second embodiment, as the third dielectric layer 43 and the fourth dielectric layer 45, for example, ZnS—SiO 2 (particularly, the molar ratio is about 4: 1) is used. The thickness of the third dielectric layer 43 is, for example, 14 nm, and the thickness of the fourth dielectric layer 45 is, for example, 140 nm.

【0133】また、記録層44は、この光ディスク40
として相変化型の光ディスクを採用しているため、相変
化記録材料からなり、この第2の実施形態においては、
例えばSbTe系材料、具体的にはSbTeからなる。
また、記録層44の膜厚は、例えば12nmである。
The recording layer 44 is provided on the optical disc 40.
Since a phase-change type optical disk is adopted as the optical disk, the optical disk is made of a phase-change recording material. In the second embodiment,
For example, it is made of an SbTe-based material, specifically, SbTe.
The thickness of the recording layer 44 is, for example, 12 nm.

【0134】また、第2の情報信号層46上に設けられ
た接着層47は、例えば感圧性粘着剤や紫外線硬化樹脂
などからなる。そして、第2の情報信号層46の経時変
化を防止するために、好ましくは、接着層47の半径方
向における外周端は、第2の情報信号層46における半
径方向の外周端より0.5mm以上外周側になるように
設けられる。
The adhesive layer 47 provided on the second information signal layer 46 is made of, for example, a pressure-sensitive adhesive or an ultraviolet curable resin. In order to prevent the second information signal layer 46 from changing with time, the outer peripheral end of the adhesive layer 47 in the radial direction is preferably 0.5 mm or more from the outer peripheral end of the second information signal layer 46 in the radial direction. It is provided so as to be on the outer peripheral side.

【0135】また、第2の情報信号層46上に接着層4
7を介して形成された光透過保護層48は、記録/再生
に用いられるレーザ光に対して、吸収能が低い材料から
構成することが好ましく、レーザ光の透過率が90%以
上の材料から構成することがより望ましい。具体的に
は、光透過保護層48は、例えばポリカーボネート樹脂
材料やポリオレフィン系樹脂から構成された平面円環状
のシート状基材からなる。具体的には、ポリカーボネー
ト(PC)を用いる場合、熱膨張係数が7.0×10-5
程度、曲げ弾性率が2.4×104程度の材料が用いら
れ、ポリオレフィン系樹脂(例えばゼオネックス(登録
商標))を用いる場合、熱膨張係数が6.0×10-5
度、曲げ弾性率が2.3×104程度の材料が用いられ
る。また、この光透過保護層48の厚さは、3〜177
μmの範囲内から選ばれ、この第2の実施形態において
は、接着層47との合計の厚さが例えば100μmにな
るように選ばれる。なお、この第2の実施形態による光
透過保護層48は、ポリカーボネート樹脂を押出機に投
入し、このポリカーボネート樹脂をヒータ(図示せず)
を用いて250〜300℃の温度で溶融させ、複数個の
冷却ロールを用いてシート状に成形され、ディスク基板
41に合わせた形状に裁断することにより形成されたも
のである。
Further, the adhesive layer 4 is formed on the second information signal layer 46.
The light transmission protection layer 48 formed through the layer 7 is preferably made of a material having a low absorptivity to laser light used for recording / reproduction, and a material having a laser light transmittance of 90% or more. It is more desirable to configure. Specifically, the light transmission protection layer 48 is made of a planar annular sheet-like base made of, for example, a polycarbonate resin material or a polyolefin resin. Specifically, when polycarbonate (PC) is used, the thermal expansion coefficient is 7.0 × 10 −5.
When a polyolefin resin (for example, ZEONEX (registered trademark)) is used, the thermal expansion coefficient is about 6.0 × 10 −5 and the flexural modulus is about 2.4 × 10 4. Is about 2.3 × 10 4 . The thickness of the light transmission protection layer 48 is 3 to 177.
In the second embodiment, the thickness is selected so that the total thickness with the adhesive layer 47 becomes, for example, 100 μm. The light transmission protection layer 48 according to the second embodiment is formed by charging a polycarbonate resin into an extruder and heating the polycarbonate resin with a heater (not shown).
Is formed at a temperature of 250 to 300 ° C. using a plurality of cooling rolls, formed into a sheet shape using a plurality of cooling rolls, and cut into a shape conforming to the disk substrate 41.

【0136】また、以上のように構成された光ディスク
40の作成方法としては、大きく分けて以下の2つの方
法を用いることができる。
Further, as a method for producing the optical disk 40 configured as described above, the following two methods can be roughly divided.

【0137】第1の方法は、案内溝が形成された支持基
板上に多層膜を積層し、最後に平滑な光透過保護層を形
成する方法である。光透過保護層の形成方法としては、
例えば厚さ100μm以下のポリカーボネート系樹脂や
ポリオレフィン系樹脂などからなる光学的に十分平滑な
光透過性のシート(フィルム)を、紫外線硬化樹脂を接
着剤とし紫外線照射により貼り合わせる方法、または粘
着性の機能を有する感圧性粘着剤を介し貼り合わせる方
法を用いることができる。
The first method is a method in which a multilayer film is laminated on a support substrate in which a guide groove is formed, and finally, a smooth light transmitting protective layer is formed. As a method of forming the light transmission protection layer,
For example, a method of laminating an optically sufficiently smooth light-transmitting sheet (film) made of a polycarbonate resin or a polyolefin resin having a thickness of 100 μm or less by using an ultraviolet-curable resin as an adhesive, or by applying an adhesive. A method of laminating via a pressure-sensitive adhesive having a function can be used.

【0138】また、第2の方法は、案内溝が形成された
光透過保護層上に多層膜を積層し、最後に平滑なディス
ク基板41を形成する方法である。なお、厚さ100μ
m以下の光透過保護層に凹凸の溝トラックを形成する方
法としては、射出成形法、2P法、または圧着および加
圧により凹凸を転写する方法などを用いることができ
る。
The second method is a method of laminating a multilayer film on the light transmitting protective layer in which the guide groove is formed, and finally forming a smooth disk substrate 41. In addition, thickness 100μ
As a method of forming the groove tracks of the unevenness on the light transmitting protective layer of m or less, an injection molding method, a 2P method, a method of transferring the unevenness by pressing and pressing, or the like can be used.

【0139】以上のような2つの方法のうち、光透過保
護層上に凹凸を形成する工程または多層膜を成膜する工
程は必ずしも容易ではないので、量産性を考慮すると第
1の方法を用いることが望ましい。以下に、上述の2つ
の方法のうちの、第1の方法による光ディスク40の製
造方法について説明する。なお、この第2の実施形態に
よる光ディスク40の製造に用いられるスパッタリング
装置においては、第1の実施形態におけると同様の基板
自転可能な枚様式の静止対向型スパッタリング装置を用
いるので、説明を省略する。また、スパッタリング用タ
ーゲットにおいては、図6に示すターゲット28と同様
の構造を有し、その材料が異なるターゲットを用いるた
め、その詳細な説明は省略する。
Of the two methods described above, the step of forming irregularities on the light transmitting protective layer or the step of forming a multilayer film is not always easy. Therefore, the first method is used in consideration of mass productivity. It is desirable. Hereinafter, a method of manufacturing the optical disc 40 by the first method of the above two methods will be described. In the sputtering apparatus used for manufacturing the optical disk 40 according to the second embodiment, a stationary facing sputtering apparatus of a sheet type capable of rotating on the same substrate as in the first embodiment is used, and a description thereof will be omitted. . In addition, the sputtering target has the same structure as the target 28 shown in FIG. 6 and uses a target made of a different material, and a detailed description thereof will be omitted.

【0140】さて、この第2の実施形態による光ディス
クの製造方法においては、まず、PC基板などのディス
ク基板2を、例えば、Agに添加物(M)が添加された
Ag合金からなるターゲット28が設置された真空チャ
ンバ21内に搬入し、パレット26に固定する。なお、
ここで用いられるターゲット28は、図6Bに示すよう
に、低濃度ターゲット部28aと高濃度ターゲット部2
8bとに2分割された円板形状のターゲット28であ
る。次に、スパッタガスとして例えばArガスを用いた
スパッタリング法により、ディスク基板41の一主面上
にAg合金を成膜する。これにより、ディスク基板41
の一主面上にAg合金からなる第2の反射層42が形成
される。ここで、この第2の実施形態による第2の反射
層42の形成においては、ディスク基板41の中心Oか
ら半径rS1=25mm付近の内周部における組成AgM
γと、中心Oから半径rS2=55mm付近の外周部にお
ける組成AlMδとにおいて、γ<δとなるようにし、
ディスク基板41における半径rS1から半径rS2に向か
って、半径方向にMの添加量が連続的に単調増加するよ
うに形成する。
In the method of manufacturing an optical disk according to the second embodiment, first, a disk substrate 2 such as a PC substrate is placed on a target 28 made of an Ag alloy in which an additive (M) is added to Ag. It is carried into the installed vacuum chamber 21 and fixed to the pallet 26. In addition,
As shown in FIG. 6B, the target 28 used here has a low concentration target portion 28a and a high concentration target portion 2.
8b is a disk-shaped target 28 divided into two. Next, an Ag alloy is formed on one main surface of the disk substrate 41 by a sputtering method using, for example, Ar gas as a sputtering gas. Thereby, the disk substrate 41
A second reflective layer 42 made of an Ag alloy is formed on one main surface of the second reflective layer 42. Here, in the formation of the second reflective layer 42 according to the second embodiment, the composition AgM in the inner peripheral portion near the radius r S1 = 25 mm from the center O of the disk substrate 41 is used.
and gamma, in the composition Alm [delta] at the outer peripheral portion in the vicinity of radius r S2 = 55 mm from the center O, as a gamma <[delta],
The M is formed such that the addition amount of M continuously increases monotonously in the radial direction from the radius r S1 to the radius r S2 on the disk substrate 41.

【0141】次に、第2の反射層42が形成されたディ
スク基板41を、例えばZnS−SiO2からなるター
ゲット28が設置された真空チャンバ21内に搬入し、
パレット26に固定する。なお、ここで用いられるター
ゲット28は、図6Aに示すように、ZnS−SiO2
がほぼ均一に成型された、円板形状を有するターゲット
である。次に、この真空チャンバ21内の圧力を、例え
ば1.0×10-4Pa程度まで真空引きする。その後、
真空チャンバ21内に例えばArガスなどの不活性ガス
を導入しつつ、スパッタリングを行うことにより、第2
の反射層42上にZnS−SiO2を成膜する。これに
より、第2の反射層42上に、ZnS−SiO2からな
る第3の誘電体層43が形成される。その後、このZn
S−SiO2からなるターゲット28が設置された真空
チャンバ21から、第3の誘電体層43が形成されたデ
ィスク基板41を搬出する。
Next, the disk substrate 41 on which the second reflection layer 42 is formed is carried into the vacuum chamber 21 in which the target 28 made of, for example, ZnS-SiO 2 is installed.
It is fixed to the pallet 26. Note that the target 28 used here is ZnS—SiO 2 , as shown in FIG. 6A.
Is a substantially disk-shaped target molded almost uniformly. Next, the pressure in the vacuum chamber 21 is evacuated to, for example, about 1.0 × 10 −4 Pa. afterwards,
By performing sputtering while introducing an inert gas such as Ar gas into the vacuum chamber 21, the second
Depositing a ZnS-SiO 2 on the reflective layer 42 of. Thus, a third dielectric layer 43 made of ZnS—SiO 2 is formed on the second reflective layer 42. Then, this Zn
The disk substrate 41 on which the third dielectric layer 43 is formed is carried out from the vacuum chamber 21 in which the target 28 made of S-SiO 2 is installed.

【0142】次に、第2の反射層42および第3の誘電
体層43が形成されたディスク基板41を、相変化記録
材料としてのSbTe合金からなるターゲット28が設
置された真空チャンバ21内に搬入し、パレット26に
固定する。なお、ここで用いられるターゲット28は、
図6Aに示すような、SbTe合金材料がほぼ均一に成
型された、円板形状を有するターゲット28である。次
に、この真空チャンバ21内の圧力を、例えば1.0×
10-4Pa程度にまで真空引きする。その後、真空チャ
ンバ21内に例えばArガスなどの不活性ガスを導入し
つつ、第3の誘電体層43上にSbTeを成膜する。こ
れにより、第3の誘電体層43上にSbTe合金からな
る記録層44が形成される。その後、SbTe合金ター
ゲットが設置されている真空チャンバ21から、記録層
44まで形成されたディスク基板41を搬出する。
Next, the disk substrate 41 on which the second reflective layer 42 and the third dielectric layer 43 are formed is placed in the vacuum chamber 21 in which the target 28 made of an SbTe alloy as a phase change recording material is installed. It is carried in and fixed to the pallet 26. The target 28 used here is:
As shown in FIG. 6A, a target 28 having a disc shape and formed of a substantially uniform SbTe alloy material. Next, the pressure in the vacuum chamber 21 is set to, for example, 1.0 ×
Evacuate to about 10 -4 Pa. Thereafter, SbTe is formed on the third dielectric layer 43 while introducing an inert gas such as Ar gas into the vacuum chamber 21. Thus, the recording layer 44 made of the SbTe alloy is formed on the third dielectric layer 43. Thereafter, the disk substrate 41 formed up to the recording layer 44 is carried out from the vacuum chamber 21 in which the SbTe alloy target is installed.

【0143】次に、第2の反射層42、第3の誘電体層
43および記録層44が順次積層されたディスク基板4
1を、ZnS−SiO2からなるターゲット28が設置
された真空チャンバ21内に搬入し、パレット26に固
定する。なお、ここで用いられるターゲット28は、図
6Aに示すような、ZnS−SiO2がほぼ均一に成型
された、円板形状を有するターゲットである。次に、こ
の真空チャンバ21内の圧力を、例えば1.0×10-4
Pa程度まで真空引きする。その後、真空チャンバ21
内に例えばArガスなどの不活性ガスを導入しつつ、ス
パッタリングを行うことによって、記録層44上にZn
S−SiO2を成膜する。これにより、記録層44上に
ZnS−SiO2からなる第4の誘電体層45が形成さ
れる。その後、真空チャンバ21から、一主面上に第2
の反射層42、第3の誘電体層43、記録層44、およ
び第2の誘電体層45からなる第2の情報信号層46が
形成されたディスク基板41を搬出する。
Next, the disk substrate 4 on which the second reflection layer 42, the third dielectric layer 43, and the recording layer 44 are sequentially laminated.
1 is carried into a vacuum chamber 21 in which a target 28 made of ZnS-SiO 2 is installed, and is fixed to a pallet 26. The target 28 used here is a disk-shaped target in which ZnS—SiO 2 is almost uniformly molded as shown in FIG. 6A. Next, the pressure in the vacuum chamber 21 is reduced to, for example, 1.0 × 10 −4.
Vacuum to about Pa. Thereafter, the vacuum chamber 21
The sputtering is performed while introducing an inert gas such as Ar gas into the
S-SiO 2 is formed. As a result, a fourth dielectric layer 45 made of ZnS—SiO 2 is formed on the recording layer 44. Then, the second chamber is placed on one main surface from the vacuum chamber 21.
The disc substrate 41 on which the second information signal layer 46 including the reflective layer 42, the third dielectric layer 43, the recording layer 44, and the second dielectric layer 45 is formed is carried out.

【0144】その後、例えばブロッキング現象や気泡混
入の防止が図られた所定の貼り合わせ装置を用いて、平
面円環形状の光透過性シートからなる光透過保護層48
の一面に感圧性粘着剤(PSA)からなる接着層47が
被着されたシートを、ディスク基板41の第2の情報信
号層46が形成された一主面に、接着層47の面におい
て貼り合わせる。これにより、ディスク基板41の第2
の情報信号層46を覆うようにして、光透過層49が形
成される。
Thereafter, the light transmitting protection layer 48 made of a flat annular light transmitting sheet is formed by using a predetermined bonding apparatus which prevents the blocking phenomenon and the mixing of air bubbles.
A sheet having an adhesive layer 47 made of a pressure-sensitive adhesive (PSA) adhered to one surface of the disc substrate 41 on one main surface of the disc substrate 41 on which the second information signal layer 46 is formed, on the surface of the adhesive layer 47. Match. Thereby, the second of the disk substrate 41
A light transmitting layer 49 is formed so as to cover the information signal layer 46 of FIG.

【0145】以上により、図15に示す光ディスク40
が製造される。
As described above, the optical disk 40 shown in FIG.
Is manufactured.

【0146】その後、必要に応じて、以上のようにして
製造された光ディスク40を2枚用意し、それらのディ
スク基板41側が内側になるようにして、所定の接着剤
を用いて貼り合わせることにより、両面記録型光ディス
クが製造される。
After that, if necessary, two optical disks 40 manufactured as described above are prepared, and the disk substrate 41 side is placed inside, and the optical disks 40 are bonded using a predetermined adhesive. Then, a double-sided recording type optical disk is manufactured.

【0147】次に、上述の第2の実施形態に基づいた第
3の実施例、およびこの第2の実施形態による効果を比
較するための第2の比較例について説明する。
Next, a third example based on the above-described second embodiment and a second comparative example for comparing the effects of the second embodiment will be described.

【0148】第3の実施例 この第3の実施例においては、光ディスク40における
第2の反射層42をAgPdCuから構成する。すなわ
ち、AgMにおけるMとして、PdCuを用いる。ま
た、この第1の実施例による光ディスク40を、その第
2の反射層42を構成するAgPdCu合金の組成が、
半径rS1から半径rS2に向かう半径方向に、Pdおよび
Cuの添加量が連続的に単調増加するように構成する。
すなわち、ディスク基板41の中心Oからの半径rS1
25mm付近の内周部における第2の反射層42の組成
を、例えば、AgにPdを0.6重量%含有するととも
にCuを0.8重量%含有したAlPd0.6Cu0.8
し、他方、半径rS2=55mm付近の外周部における第
2の反射層42の組成を、例えば、AgにPdを1.0
重量%含有するとともにCuを1.2重量%含有したA
gPd1.0Cu1.2とする。また、第2の反射層42にお
けるAgPdCu合金の組成、すなわち、半径r S1の内
周部から半径rS2の外周部に向けて、PdCuの含有率
が1.4重量%から2.2重量%まで連続的に単調増加
し、Pdの含有率が0.6重量%から1.0重量%まで
連続的に単調増加し、Cuの含有率が0.8重量%から
1.2重量%まで連続的に単調増加するように構成され
ている。そして、ディスク基板2の半径方向に沿って、
第2の反射層42を構成するAgPdCu合金中のPd
Cuの濃度分布を変化させることにより、光ディスク4
0において、添加物としてのPdCuの濃度に依存する
熱伝導率が、第2の反射層42の内周側と外周側とで異
なるように構成されている。
Third Embodiment In the third embodiment, the optical disc 40
The second reflection layer 42 is made of AgPdCu. Sand
That is, PdCu is used as M in AgM. Ma
Further, the optical disc 40 according to the first embodiment is
The composition of the AgPdCu alloy constituting the second reflective layer 42 is
Radius rS1Radius rS2In the radial direction toward, Pd and
The addition amount of Cu is configured to increase continuously and monotonously.
That is, the radius r from the center O of the disk substrate 41S1=
Composition of the second reflective layer 42 in the inner peripheral portion near 25 mm
For example, containing 0.6% by weight of Pd in Ag
Containing 0.8% by weight of Cu0.6Cu0.8When
And, on the other hand, the radius rS2= 55th in the outer periphery near 55 mm
2, the composition of the reflection layer 42 is, for example,
A containing 1.2% by weight of Cu and 1.2% by weight of Cu
gPd1.0Cu1.2And Also, the second reflective layer 42
AgPdCu alloy composition, ie, radius r S1Within
Radius r from the circumferenceS2PdCu content toward the outer periphery
Continuously increases monotonically from 1.4% to 2.2% by weight
And the Pd content is from 0.6% by weight to 1.0% by weight.
Continuously monotonically increasing, Cu content from 0.8% by weight
Constructed to increase monotonically continuously to 1.2% by weight
ing. Then, along the radial direction of the disk substrate 2,
Pd in AgPdCu alloy constituting the second reflection layer 42
By changing the Cu concentration distribution, the optical disk 4
0, depends on the concentration of PdCu as additive
The thermal conductivity differs between the inner peripheral side and the outer peripheral side of the second reflection layer 42.
It is configured to be.

【0149】また、この第3の実施例による第2の反射
層42の形成においては、図4に示すスパッタリング装
置20を用いるとともに、図6Bに示すターゲット28
を用いる。すなわち、この第3の実施例による第2の反
射層42の形成の際に用いられるターゲット28は、第
2の反射層42の内周側に対応した組成、すなわちAg
Pd0.6Cu0.8から構成される円板状の低濃度ターゲッ
ト部28aと、この低濃度ターゲット部28aを取り囲
むようにして設けられ、第2の反射層42の外周部に対
応した組成、すなわちAlPd0.8Cu1.2から構成され
る円環状の高濃度ターゲット部28bとから構成され
る。
In forming the second reflective layer 42 according to the third embodiment, the sputtering apparatus 20 shown in FIG. 4 is used and the target 28 shown in FIG. 6B is used.
Is used. That is, the target 28 used in forming the second reflective layer 42 according to the third embodiment has a composition corresponding to the inner peripheral side of the second reflective layer 42, that is, Ag.
A disk-shaped low-concentration target portion 28a composed of Pd 0.6 Cu 0.8 and a composition corresponding to the outer peripheral portion of the second reflection layer 42, which are provided so as to surround the low-concentration target portion 28a, ie, AlPd 0.8 And an annular high-concentration target portion 28b made of Cu 1.2 .

【0150】そして、上述の構成を有するターゲット2
8のスパッタ面側と、ディスク基板41の第2の反射層
42が形成される一主面側とが、それらの中心軸を重ね
て互いに対向して配置される。これらの互いに対向して
配置されたターゲット28とディスク基板41との位置
関係に関しては図8に示すと同様である。
Then, the target 2 having the above configuration
The sputter surface 8 and the one main surface of the disk substrate 41 on which the second reflective layer 42 is formed face each other with their central axes overlapping. The positional relationship between the target 28 and the disk substrate 41 arranged opposite to each other is the same as that shown in FIG.

【0151】そして、第1の実施例におけると同様にし
て、真空チャンバ21内において、ターゲット28とデ
ィスク基板41とを図8に示すと同様に配置し、ディス
ク基板41の一主面上に、この第3の実施例による第2
の反射層42を形成し、その後、第2の実施形態におい
て述べたように順次所定のプロセスを経る。これによ
り、この第3の実施例による光ディスク40が製造され
る。
Then, similarly to the first embodiment, the target 28 and the disk substrate 41 are arranged in the vacuum chamber 21 in the same manner as shown in FIG. The second embodiment according to the third embodiment
Is formed, and thereafter, a predetermined process is sequentially performed as described in the second embodiment. Thus, the optical disc 40 according to the third embodiment is manufactured.

【0152】第2の比較例 この第2の比較例においては、第3の実施例におけると
同様に、光ディスク40における第2の反射層42をA
gPdCu合金から構成する。また、第3の実施例と異
なり、半径rS1=25mm付近の第2の反射層42の内
周部から、半径rS2=55mm付近の第2の反射層42
の外周部までにおいて、第2の反射層42の組成をほぼ
同じ組成とし、具体的には、AgにPdを0.8重量%
含有するとともに、Cuを1.0重量%含有したAgP
0.8Cu1.0とする。すなわち、第2の反射層42のA
gPdCu合金の組成、すなわちPdCuの含有率が、
半径rS1の内周部から半径rS2の外周部に向けて、ほぼ
1.8重量%程度で一定になるように構成されている。
このように、ディスク基板41の半径方向に沿って、第
2の反射層42を構成するAgPdCu合金中の、Pd
およびCuの濃度分布が一定であることにより、光ディ
スク40の第2の反射層42における熱伝導率が、全面
においてほぼ一定になるように構成されている。なお、
この第2の比較例による第2の反射層42の形成におい
ては、図4に示すスパッタリング装置20と同様の装置
を用いる。
Second Comparative Example In this second comparative example, the second reflection layer 42 of the optical disc 40 is
It is composed of a gPdCu alloy. Further, different from the third embodiment, the second reflection layer 42 having a radius of about r S2 = 55 mm extends from the inner peripheral portion of the second reflection layer 42 having a radius of about r S1 = 25 mm.
Up to the outer peripheral portion, the composition of the second reflective layer 42 is substantially the same, and specifically, 0.8 wt% of Pd is added to Ag.
AgP containing 1.0% by weight of Cu
d 0.8 Cu 1.0 . That is, the A of the second reflection layer 42
gPdCu alloy composition, that is, the content of PdCu,
From the inner periphery of the radius r S1 toward the outer circumferential portion of the radius r S2, it is configured to be constant at the order of 1.8 wt%.
Thus, along the radial direction of the disk substrate 41, the Pd in the AgPdCu alloy forming the second reflective layer 42
By keeping the concentration distribution of Cu and Cu constant, the thermal conductivity of the second reflective layer 42 of the optical disc 40 is configured to be substantially constant over the entire surface. In addition,
In forming the second reflective layer 42 according to the second comparative example, an apparatus similar to the sputtering apparatus 20 shown in FIG. 4 is used.

【0153】本発明者は、以上のように構成された第3
の実施例および第2の比較例によるそれぞれの光ディス
ク40において、特に外周部について、それぞれジッタ
ー特性の評価を行った。すなわち、光ディスク40を外
周部(rS2=55mm)における線速度が5.7m/s
となるような角速度一定(CAV)で回転させる。これ
とともに、波長が405nm程度のレーザ光L2を、開
口数NAが0.85の対物レンズを通じて、ディスク基
板41の光透過層49が設けられた側から第2の情報信
号層46に向けて照射する。これにより、光ディスク4
0に情報信号を記録する。また、この情報信号の記録に
おいては、線密度を1ビット当たり0.13μm(0.
13μm/bit)とする。そして、図11に示す記録
波形においてPe/Pp=0.45とした記録波形を用
いて、ジッターの記録パワーPp(mW)依存性を評価
した結果を図16に示す。なお、第3の実施例による光
ディスクにおけるジッターの記録パワー依存性を黒丸
(●)で示し、第2の比較例におけるジッターの記録パ
ワー依存性を白抜き三角(△)で示す。
The inventor of the present invention has made the third
In each of the optical discs 40 according to the example of the present invention and the second comparative example, the jitter characteristics were evaluated, especially for the outer peripheral portion. That is, the linear velocity of the optical disc 40 at the outer peripheral portion (r S2 = 55 mm) is 5.7 m / s.
It is rotated at a constant angular velocity (CAV) such that At the same time, the laser beam L 2 having a wavelength of about 405 nm is directed toward the second information signal layer 46 from the side of the disk substrate 41 where the light transmitting layer 49 is provided, through an objective lens having a numerical aperture NA of 0.85. Irradiate. Thereby, the optical disk 4
An information signal is recorded at 0. In recording this information signal, the linear density is set to 0.13 μm (0.
13 μm / bit). FIG. 16 shows the result of evaluating the dependency of jitter on the recording power Pp (mW) using the recording waveform of Pe / Pp = 0.45 in the recording waveform shown in FIG. The recording power dependency of the jitter in the optical disc according to the third embodiment is indicated by a black circle (•), and the recording power dependency of the jitter in the second comparative example is indicated by a white triangle (△).

【0154】図16から、光ディスク40の外周部(半
径rS2)におけるジッターの記録パワー依存性に関して
は、第2の比較例による光ディスク40において、Pp
=3.8mWのときのジッター値(8.7%)を極小と
して、記録パワーを増加させるのに伴ってジッター値が
急激に増加していき、Pp=5mWの時にはジッター値
が11%を超え、劣化してしまうのに対し、第3の実施
例による光ディスク40においては、Pp=3mW以上
の場合において、記録パワーを増加させるのに伴ってジ
ッター値は緩やかに増加する程度であることが分かる。
すなわち、外周部における高線速度領域において、第3
の実施例による光ディスク40のジッター特性が、従来
の第2の比較例に比して、大幅に改善されていることが
分かる。すなわち、記録/再生に用いられるレーザ光の
波長が短波長化されるとともに、高NA化に対応したこ
の第2の実施形態による光ディスク40においても、第
1の実施形態による光ディスク1と同様の効果を得るこ
とができることが分かる。
As shown in FIG. 16, the recording power dependence of the jitter at the outer peripheral portion (radius r S2 ) of the optical disk 40 is higher than that of the optical disk 40 according to the second comparative example.
= 3.8 mW, the jitter value (8.7%) is minimized, and the jitter value sharply increases as the recording power is increased. When Pp = 5 mW, the jitter value exceeds 11%. On the other hand, in the optical disk 40 according to the third embodiment, when Pp = 3 mW or more, the jitter value increases only moderately with increasing recording power. .
That is, in the high linear velocity region at the outer peripheral portion, the third
It can be seen that the jitter characteristic of the optical disc 40 according to the example is greatly improved as compared with the conventional second comparative example. That is, the wavelength of the laser beam used for recording / reproduction is shortened, and the optical disk 40 according to the second embodiment corresponding to the increase in NA has the same effect as the optical disk 1 according to the first embodiment. It can be seen that can be obtained.

【0155】以上説明したように、この第2の実施形態
によれば、光ディスク40の第2の反射層42をAg合
金から構成し、第2の反射層42を構成するAg合金の
組成を内周部と外周部とで異なるように、具体的には、
第2の反射層42の内周部の組成をAgPd0.6
0.8、外周部の組成をAgPd1.0Cu1.2と異なるよ
うにしていることにより、これらの組成に起因した第2
の反射層42の熱伝導率を光ディスク40の半径方向に
沿って変化させることができる。そのため、光ディスク
40において、その内周部の低線速度領域における記録
層44の結晶化および非晶質化の制御を良好に行うこと
ができるとともに、光ディスク40の外周部の高線速度
領域における記録層44の結晶化および非晶質化を記録
特性の劣化を招くことなく行うことができる。これによ
り、光ディスク40の全面において、線速度の違いによ
る記録パワーマージンに差が生じることを抑制すること
ができるため、総合的なパワーマージンを増加させるこ
とができる。したがって、CAV方式を採用した光ディ
スク40において、良好な記録/再生特性を得ることが
できる。
As described above, according to the second embodiment, the second reflective layer 42 of the optical disk 40 is made of an Ag alloy, and the composition of the Ag alloy forming the second reflective layer 42 is As different between the peripheral part and the outer peripheral part, specifically,
The composition of the inner peripheral portion of the second reflection layer 42 is AgPd 0.6 C
u 0.8 and the composition of the outer peripheral part are different from those of AgPd 1.0 Cu 1.2 ,
Can be changed along the radial direction of the optical disc 40. Therefore, in the optical disc 40, crystallization and amorphization of the recording layer 44 in the low linear velocity region on the inner peripheral portion can be controlled well, and recording in the high linear velocity region on the outer peripheral portion of the optical disc 40 can be performed. The crystallization and amorphization of the layer 44 can be performed without deteriorating the recording characteristics. Thus, a difference in recording power margin due to a difference in linear velocity can be suppressed over the entire surface of the optical disc 40, and a total power margin can be increased. Therefore, good recording / reproducing characteristics can be obtained in the optical disc 40 employing the CAV method.

【0156】以上、この発明の実施形態について具体的
に説明したが、この発明は、上述の実施形態に限定され
るものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の
変形が可能である。
Although the embodiments of the present invention have been specifically described above, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications based on the technical concept of the present invention are possible.

【0157】例えば、上述の実施形態において挙げた、
各膜の成膜方法、ディスク基板や保護層の材料はあくま
でも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる成膜方法を
用いても良く、これら以外の材料からディスク基板や保
護層を構成しても良い。
For example, in the above embodiment,
The method of forming each film and the material of the disk substrate and the protective layer are merely examples, and a different film forming method may be used as necessary. May be.

【0158】例えば、第1の実施形態における第1の情
報信号層7、もしくは第2の実施形態による第2の情報
信号層46として、図17に示すように、添加物の濃度
がディスク基板の半径方向に沿って変化するように構成
された第3の反射層51、誘電体からなる第5の誘電体
層52、第1の記録層53、第2の記録層54、誘電体
からなる第6の誘電体層55を順次積層したもの、もし
くは逆順に積層したものから構成することも可能であ
る。ここで、第1の記録層53と第2の記録層54と
は、材料、組成、複素屈折率のいずれかが異なるような
ものが選ばれる。なお、この記録層を3層以上の、材
料、組成、複素屈折率のいずれかが互いに異なる層から
構成することも可能である。
For example, as the first information signal layer 7 in the first embodiment or the second information signal layer 46 in the second embodiment, as shown in FIG. The third reflecting layer 51, which is configured to change along the radial direction, the fifth dielectric layer 52 made of a dielectric, the first recording layer 53, the second recording layer 54, and the third made of the dielectric It is also possible to form a structure in which the six dielectric layers 55 are sequentially stacked or in a reverse order. Here, the first recording layer 53 and the second recording layer 54 are selected so as to differ from one another in material, composition, or complex refractive index. The recording layer may be composed of three or more layers, each of which has a different material, composition, or complex refractive index.

【0159】また、例えば上述の第1および第2の実施
形態においては、誘電体層の材料として、ZnS−Si
2を用いたが、消衰係数kが0.3以下の材料であれ
ば、どのような材料を用いることも可能である。具体的
には、誘電体層の材料として、Al、Si、Ta、T
i、Zr、Nb、Mg、B、Zn、Pb、Ca、La、
Geなどの金属および半金属などの元素の、窒化物、酸
化物、炭化物、フッ化物、硫化物、窒酸化物、窒炭化
物、または酸炭化物などからなる材料や、これらを主成
分とする材料を用いることが可能である。また、より具
体的には、第1の誘電体層3および第2の誘電体層5の
材料として、AlNx(0.5≦x≦1、特に、Al
N))、Al23-x(0≦x≦1、(特に、Al
23))、Si34-x(0≦x≦1、(特に、Si
34))、SiOx(1≦x≦2、(特に、SiO2、S
iO)、MgO、Y23、MgAl24、TiOx(1
≦x≦2、(特に、TiO2))、BaTiO3、SrT
iO3、Ta25-x(0≦x≦1、(特に、Ta
25))、GeOx(1≦x≦2)、SiC、ZnS、
PbS、Ge−N、Ge−N−O、Si−N−O、Ca
2、LaF、MgF2、NaF、TiF4などを用いる
ことも可能であり、さらに、これらの材料を主成分とす
る材料や、これらの材料の混合物、例えばAlN−Si
2を用いることも可能である。
In the first and second embodiments, for example, ZnS-Si is used as the material of the dielectric layer.
Although O 2 was used, any material can be used as long as the extinction coefficient k is 0.3 or less. Specifically, as the material of the dielectric layer, Al, Si, Ta, T
i, Zr, Nb, Mg, B, Zn, Pb, Ca, La,
Materials consisting of nitrides, oxides, carbides, fluorides, sulfides, oxynitrides, oxycarbides, or oxycarbides of metals such as Ge and metals and metalloids, and materials containing these as main components It can be used. More specifically, as a material of the first dielectric layer 3 and the second dielectric layer 5, AlN x (0.5 ≦ x ≦ 1, especially Al
N)), Al 2 O 3-x (0 ≦ x ≦ 1, (in particular, Al
2 O 3 )), Si 3 N 4-x (0 ≦ x ≦ 1, especially (Si
3 N 4 )), SiO x (1 ≦ x ≦ 2, (especially SiO 2 , S
iO), MgO, Y 2 O 3 , MgAl 2 O 4 , TiO x (1
≦ x ≦ 2 (particularly TiO 2 ), BaTiO 3 , SrT
iO 3 , Ta 2 O 5-x (0 ≦ x ≦ 1, (in particular, Ta
2 O 5 )), GeO x (1 ≦ x ≦ 2), SiC, ZnS,
PbS, Ge-N, Ge-NO, Si-NO, Ca
It is also possible to use F 2 , LaF, MgF 2 , NaF, TiF 4, etc. Further, a material containing these materials as a main component or a mixture of these materials, for example, AlN—Si
O 2 can also be used.

【0160】例えば、上述の第2の実施形態において
は、ディスク基板41を射出成形法やフォトポリマー法
により作製しているが、これらの2つの方法以外であっ
ても、所望の形状、すなわち、厚さが例えば1.1m
m、直径が例えば120mmのディスク形状と、光学的
に十分な基板表面の平滑性を得ることができる方法であ
れば、どのような方法を用いることも可能である。
For example, in the above-described second embodiment, the disk substrate 41 is manufactured by an injection molding method or a photopolymer method. 1.1m thick
Any method can be used as long as it can obtain a disk shape having a diameter of 120 mm and an optically sufficient surface smoothness of the substrate surface.

【0161】また、上述の実施形態においては、記録層
の材料として、SbTe系材料からなる相変化材料を用
いているが、相変化材料以外の材料に限定されるもので
はなく、比較的腐食に弱いとされているテルビウム・鉄
(TbFe)系、TbFeCo系、GdFe系、GdF
eCo系の光磁気記録材料を用いることも可能である。
また、この発明を、アルミニウム(Al)合金や銀(A
g)合金を反射層として用いた再生専用(ROM)ディ
スクに適用することも可能である。
In the above embodiment, the recording layer is made of a SbTe-based phase change material. However, the recording layer is not limited to a material other than the phase change material. Terbium iron (TbFe), TbFeCo, GdFe, GdF
An eCo-based magneto-optical recording material can also be used.
Also, the present invention relates to an aluminum (Al) alloy or a silver (A
g) It is also possible to apply to a read-only (ROM) disk using an alloy as a reflective layer.

【0162】また、上述の第1の実施形態においては、
ターゲット28を低濃度ターゲット部28aと高濃度タ
ーゲット部28bとを互いに嵌合させるようにしたが、
ターゲット28を円柱構造の円形状の一主面において、
その添加物濃度が半径方向に連続的に変化するようなタ
ーゲットを用いることも可能である。
In the first embodiment described above,
Although the low concentration target portion 28a and the high concentration target portion 28b of the target 28 are fitted to each other,
The target 28 is placed on one principal surface of a circular columnar structure,
It is also possible to use a target whose additive concentration changes continuously in the radial direction.

【0163】また、上述の第1の実施形態による第1の
実施例において、第2の反射層42を構成するAlCu
合金の組成を、内周側をAlCu0.5、外周側をAlC
1.2とし、そのCuの添加量を内周から外周に向けて
連続的に増加するようにし、第2の実施例において、第
2の反射層42を構成するAlCu合金の組成を、内周
部をAlCu0.5、中周部をAlCu1.0、外周部をAl
Cu1.5として、そのCuの添加量を内周部から外周部
に向けて連続的に増加するようにしているが、添加量
(添加物濃度)および添加量分布(添加物濃度分布)に
おいては、必ずしも上述の値や分布に限定されるもので
はなく、その他の添加量や添加量分布にすることも可能
である。
Further, in the first example according to the first embodiment described above, the AlCu
The composition of the alloy was AlCu 0.5 on the inner circumference and AlC on the outer circumference.
u 1.2, and the addition amount of Cu is continuously increased from the inner periphery toward the outer periphery. In the second embodiment, the composition of the AlCu alloy forming the second reflective layer 42 is changed to the inner periphery. Is AlCu 0.5 , the middle part is AlCu 1.0 , and the outer part is Al
As Cu 1.5 , the added amount of Cu is continuously increased from the inner peripheral portion toward the outer peripheral portion. However, in the added amount (additive concentration) and the added amount distribution (additive concentration distribution), It is not necessarily limited to the above-described values and distributions, and other addition amounts and addition amount distributions are also possible.

【0164】[0164]

【発明の効果】以上説明したように、この発明の第1か
ら第4の発明によれば、光学記録媒体の積層膜の部分を
構成する反射層におけるアルミニウム合金中もしくは銀
合金中に含有される添加物の添加量を、ディスク基板の
半径方向に沿って変化させていることにより、反射層の
熱伝導率をディスク基板の半径方向に沿って変化させる
ことができる。したがって、ディスク基板を角速度一定
で回転させるとともにレーザ光を照射することにより、
情報信号の記録/再生を行うように構成された、CAV
方式を採用した光学記録媒体において、記録パワーマー
ジンの差、特に、光学記録媒体における内周部と外周部
とにおける記録パワーマージンの差を抑制することがで
き、光学記録媒体の全面における総合的なパワーマージ
ンを増加させることができる。
As described above, according to the first to fourth aspects of the present invention, the reflection layer contained in the aluminum alloy or the silver alloy in the reflection layer constituting the laminated film portion of the optical recording medium. By changing the amount of the additive in the radial direction of the disk substrate, the thermal conductivity of the reflective layer can be changed in the radial direction of the disk substrate. Therefore, by rotating the disk substrate at a constant angular velocity and irradiating the laser beam,
CAV configured to record / reproduce information signals
In the optical recording medium employing the method, the difference in the recording power margin, in particular, the difference in the recording power margin between the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the optical recording medium can be suppressed, and the overall Power margin can be increased.

【0165】また、この発明の第5の発明によれば、主
成分となる材料に添加物が添加されて構成される材料か
らなり、少なくとも、円形状の一主面における外周部に
添加された添加物の添加量と、円形状の一主面における
中央部に含有された添加物の添加量とが相違するように
構成されていることにより、ディスク基板上に成膜する
膜の構成材料に含有される添加物の添加量を、ディスク
基板の半径方向に沿って変化させることができるので、
成膜する膜における熱伝導率などの物理特性をディスク
基板の半径方向に沿って変化させることができる。した
がって、このターゲットを用いて光学記録媒体の反射層
を形成する場合において、光学記録媒体における記録パ
ワーマージンの差、特に内周と外周とにおける記録パワ
ーマージンの差を抑制し、媒体全体のパワーマージンを
増加可能なスパッタリング用ターゲットを得ることがで
きる。
According to the fifth aspect of the present invention, the material is made of a material obtained by adding an additive to a material serving as a main component, and is added at least to the outer peripheral portion of one circular main surface. Since the additive amount of the additive is different from the additive amount of the additive contained in the central portion of the one main surface of the circular shape, the composition material of the film formed on the disk substrate is reduced. Since the additive amount of the contained additive can be changed along the radial direction of the disk substrate,
Physical characteristics such as thermal conductivity of the film to be formed can be changed along the radial direction of the disk substrate. Therefore, when the reflective layer of the optical recording medium is formed using this target, the difference in the recording power margin in the optical recording medium, particularly, the difference in the recording power margin between the inner circumference and the outer circumference is suppressed, and the power margin of the entire medium is reduced. Can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の第1の実施形態による貼り合わせ前
の光ディスクを示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing an optical disc before bonding according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1に示す光ディスクを2枚貼り合わせた後の
両面記録型光ディスクを示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a double-sided recording type optical disc after two optical discs shown in FIG. 1 are bonded together.

【図3】図1に示す光ディスクとダミーディスクとを貼
り合わせた後の片面記録型光ディスクを示す断面図であ
る。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing the single-sided recording type optical disc after bonding the optical disc shown in FIG. 1 and a dummy disc.

【図4】この発明の第1の実施形態による情報信号層を
構成する各層の成膜に用いられるDCスパッタリング装
置を示す略線図である。
FIG. 4 is a schematic diagram showing a DC sputtering apparatus used for forming each layer constituting an information signal layer according to the first embodiment of the present invention.

【図5】この発明の第1の実施形態によるディスク基板
と、ターゲットと、これらの平面的な位置関係とを示す
平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing a disk substrate according to the first embodiment of the present invention, a target, and their planar positional relationship.

【図6】この発明の第1の実施形態による光ディスクの
製造に用いられるターゲットを示す平面図である。
FIG. 6 is a plan view showing a target used for manufacturing the optical disc according to the first embodiment of the present invention.

【図7】この発明の第1の実施形態による分割されたタ
ーゲットにおける嵌合部を説明するための断面図であ
る。
FIG. 7 is a cross-sectional view for explaining a fitting portion in the divided target according to the first embodiment of the present invention.

【図8】この発明の第1の実施形態における第1の実施
例のディスク基板およびターゲットの面に対して垂直な
面に沿ったディスク基板とターゲットとの位置関係を示
す断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a positional relationship between the disk substrate and the target along a plane perpendicular to the surfaces of the disk substrate and the target of the first example of the first embodiment of the present invention.

【図9】この発明の第1の実施形態における第2の実施
例のディスク基板およびターゲットの面に対して垂直な
面に沿ったディスク基板とターゲットとの位置関係を示
す断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a positional relationship between the disk substrate and the target along a plane perpendicular to the planes of the disk substrate and the target of the second example of the first embodiment of the present invention.

【図10】第1の比較例による光ディスクの反射層を成
膜する際に用いられるスパッタリング装置におけるディ
スク基板とターゲットとの平面的な位置関係を説明する
ための平面図である。
FIG. 10 is a plan view for explaining a planar positional relationship between a disk substrate and a target in a sputtering apparatus used for forming a reflective layer of an optical disk according to a first comparative example.

【図11】この発明の第1の実施形態による光ディスク
のジッター特性を評価する際に用いられる記録発光パタ
ーンを示すグラフである。
FIG. 11 is a graph showing a recording light emission pattern used when evaluating the jitter characteristic of the optical disc according to the first embodiment of the present invention.

【図12】この発明の第1の実施形態に基づいた第1の
実施例による光ディスクの内周部および外周部における
ジッターの記録パワー依存性を示すグラフである。
FIG. 12 is a graph showing the recording power dependence of jitter at the inner and outer peripheral portions of the optical disc according to the first example based on the first embodiment of the present invention.

【図13】この発明の第1の実施形態に基づいた第2の
実施例による光ディスクの内周部および外周部における
ジッターの記録パワー依存性を示すグラフである。
FIG. 13 is a graph showing the recording power dependence of jitter in the inner and outer peripheral portions of the optical disc according to the second example based on the first embodiment of the present invention.

【図14】この発明の第1の実施形態に基づいた第1お
よび第2の実施例と比較するための従来技術による第1
の比較例におけるジッターの記録パワー依存性を示すグ
ラフである。
FIG. 14 shows a first prior art for comparison with the first and second examples based on the first embodiment of the present invention.
7 is a graph showing the dependency of jitter on recording power in Comparative Example.

【図15】この発明の第2の実施形態による光ディスク
を示す断面図である。
FIG. 15 is a sectional view showing an optical disc according to a second embodiment of the present invention.

【図16】この発明の第2の実施形態に基づいた第3の
実施例による光ディスクの外周部におけるジッターの記
録パワー依存性と、従来技術に基づいた第2の比較例に
よる光ディスクの外周部におけるジッターの記録パワー
依存性を示すグラフである。
FIG. 16 shows the dependency of jitter on the recording power in the outer peripheral portion of the optical disc according to the third embodiment based on the second embodiment of the present invention, and the outer peripheral portion of the optical disc according to the second comparative example based on the prior art. 6 is a graph showing the recording power dependency of jitter.

【図17】この発明による反射層を有する情報信号層の
他の例を示す断面図である。
FIG. 17 is a sectional view showing another example of the information signal layer having the reflection layer according to the present invention.

【図18】従来のDVD−RWを構成する光ディスクを
示す断面図である。
FIG. 18 is a cross-sectional view showing an optical disk constituting a conventional DVD-RW.

【図19】従来技術による両面記録型DVD−RWと片
面記録型DVD−RWとを示す断面図である。
FIG. 19 is a cross-sectional view showing a double-sided recording type DVD-RW and a single-sided recording type DVD-RW according to the related art.

【図20】薄い光透過層を有し、ディスク基板に対して
光透過層が設けられた側からレーザ光を照射することに
より情報信号の記録/再生が行われる、光ディスクを示
す断面図である。
FIG. 20 is a cross-sectional view showing an optical disk having a thin light transmitting layer and recording / reproducing an information signal by irradiating a laser beam to a disk substrate from the side where the light transmitting layer is provided. .

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,40・・・光ディスク、2,41・・・ディスク基
板、2a・・・一主面、2b・・・他主面、2c・・・
センターホール、3・・・第1の誘電体層、4・・・相
変化記録層、5・・・第2の誘電体層、6・・・第1の
反射層、7・・・第1の情報信号層、8・・・保護層、
9,47・・・接着層、10・・・両面記録型光ディス
ク、13・・・片面記録型光ディスク、28・・・ター
ゲット、28a,28d・・・低濃度ターゲット部、2
8b,28f・・・高濃度ターゲット部、28c・・・
嵌合部、28e・・・中濃度ターゲット部、34・・・
基板自転駆動部、35・・・接合剤、36・・・記録領
域、42・・・第2の反射層、43・・・第3の誘電体
層、44・・・記録層、45・・・第4の誘電体層、4
6・・・第2の情報信号層、48・・・光透過保護層、
49・・・光透過層
1, 40: optical disk, 2, 41: disk substrate, 2a: one main surface, 2b: other main surface, 2c ...
Center hole, 3 ... first dielectric layer, 4 ... phase change recording layer, 5 ... second dielectric layer, 6 ... first reflective layer, 7 ... first Information signal layer, 8 ... protective layer,
9, 47: adhesive layer, 10: double-sided recording type optical disk, 13: single-sided recording type optical disk, 28: target, 28a, 28d: low concentration target portion, 2
8b, 28f ... high concentration target part, 28c ...
Fitting part, 28e ... Medium concentration target part, 34 ...
Substrate rotation drive unit, 35 ... bonding agent, 36 ... recording area, 42 ... second reflective layer, 43 ... third dielectric layer, 44 ... recording layer, 45 ... .4th dielectric layer, 4
6 ... second information signal layer, 48 ... light transmission protection layer,
49 ・ ・ ・ Light transmitting layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 7/26 531 G11B 7/26 531 Fターム(参考) 4K029 AA24 BA22 BA23 BC07 BD00 BD09 CA05 DC04 DC13 5D029 JB13 KB03 KB08 MA13 MA14 MA17 RA19 RA34 RA45 RA46 RA49 WB11 5D121 AA02 AA04 AA05 AA07 AA09 EE03 EE09 EE13 FF01 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI theme coat ゛ (reference) G11B 7/26 531 G11B 7/26 531 F term (reference) 4K029 AA24 BA22 BA23 BC07 BD00 BD09 CA05 DC04 DC13 5D029 JB13 KB03 KB08 MA13 MA14 MA17 RA19 RA34 RA45 RA46 RA49 WB11 5D121 AA02 AA04 AA05 AA07 AA09 EE03 EE09 EE13 FF01

Claims (66)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 平面円環状のディスク基板の一主面上
に、平面円環状に、情報信号の記録および/または再生
に用いられるレーザ光を反射可能に構成された反射層と
上記情報信号を記録可能に構成された記録層とが少なく
とも設けられ、 上記ディスク基板をほぼ一定の角速度で回転させるとと
もに、上記レーザ光を少なくとも上記記録層に照射する
ことにより、上記情報信号を記録可能および/または再
生可能に構成された光学記録媒体であって、 上記反射層が、アルミニウムに添加物が添加されたアル
ミニウム合金からなり、 上記反射層を構成するアルミニウム合金中に含有される
上記添加物の添加量が、上記ディスク基板の半径方向に
沿って変化していることを特徴とする光学記録媒体。
A reflection layer formed on one main surface of a planar annular disk substrate and capable of reflecting a laser beam used for recording and / or reproducing of an information signal in a planar annular shape, and the information signal is transferred to the reflective layer. At least a recording layer configured to be recordable is provided, and the information signal is recordable and / or by rotating the disc substrate at a substantially constant angular velocity and irradiating the laser beam to at least the recording layer. An optical recording medium configured to be reproducible, wherein the reflective layer is made of an aluminum alloy in which an additive is added to aluminum, and the amount of the additive contained in the aluminum alloy forming the reflective layer Wherein the optical recording medium changes along the radial direction of the disk substrate.
【請求項2】 上記反射層の外周部における上記添加物
の添加量が、上記反射層の内周部における上記添加物の
添加量より多くなるように構成されていることを特徴と
する請求項1記載の光学記録媒体。
2. The method according to claim 1, wherein an amount of the additive at an outer peripheral portion of the reflective layer is larger than an amount of the additive at an inner peripheral portion of the reflective layer. 2. The optical recording medium according to 1.
【請求項3】 上記反射層に添加された上記添加物の添
加量が、上記ディスク基板の半径方向に沿って、上記反
射層の内周部から外周部に向けて増加するように構成さ
れていることを特徴とする請求項1記載の光学記録媒
体。
3. The method according to claim 1, wherein an amount of the additive added to the reflective layer increases from an inner peripheral portion to an outer peripheral portion of the reflective layer along a radial direction of the disk substrate. The optical recording medium according to claim 1, wherein
【請求項4】 上記添加物が銅であり、上記反射層にお
ける上記添加物の含有率が、0.5重量パーセント以上
1.5重量パーセント以下であることを特徴とする請求
項1記載の光学記録媒体。
4. The optical device according to claim 1, wherein the additive is copper, and the content of the additive in the reflective layer is 0.5% by weight or more and 1.5% by weight or less. recoding media.
【請求項5】 上記ディスク基板の上記一主面に凹凸の
溝トラックが形成されており、上記溝トラックのトラッ
クピッチが0.74μm以下であることを特徴とする請
求項1記載の光学記録媒体。
5. The optical recording medium according to claim 1, wherein an uneven groove track is formed on the one main surface of the disk substrate, and a track pitch of the groove track is 0.74 μm or less. .
【請求項6】 上記記録層が、可逆的に変化する少なく
とも2つの状態の変化により上記情報信号を記録可能に
構成されていることを特徴とする請求項1記載の光学記
録媒体。
6. The optical recording medium according to claim 1, wherein the recording layer is configured to be capable of recording the information signal by at least two reversibly changing states.
【請求項7】 上記記録層が、結晶相と非晶質相との相
変化により上記情報信号を記録可能に構成された相変化
材料からなることを特徴とする請求項1記載の光学記録
媒体。
7. The optical recording medium according to claim 1, wherein said recording layer is made of a phase change material capable of recording said information signal by a phase change between a crystalline phase and an amorphous phase. .
【請求項8】 上記ディスク基板の一主面上に、第1の
誘電体層、上記記録層、第2の誘電体層および上記反射
層が順次積層されて構成された第1の情報信号層が設け
られ、上記ディスク基板の一主面とは反対側の他主面か
ら上記記録層に向けてレーザ光を照射することにより、
上記情報信号を記録可能および/または再生可能に構成
されていることを特徴とする請求項1記載の光学記録媒
体。
8. A first information signal layer in which a first dielectric layer, a recording layer, a second dielectric layer, and a reflective layer are sequentially laminated on one main surface of the disk substrate. Is provided, by irradiating the recording layer with laser light from the other main surface opposite to the one main surface of the disk substrate,
2. The optical recording medium according to claim 1, wherein the information signal is recordable and / or reproducible.
【請求項9】 上記ディスク基板の一主面上における上
記第1の情報信号層上に上記第1の情報信号層を保護す
る保護層が設けられていることを特徴とする請求項8記
載の光学記録媒体。
9. The disk drive according to claim 8, wherein a protection layer for protecting the first information signal layer is provided on the first information signal layer on one main surface of the disk substrate. Optical recording medium.
【請求項10】 上記ディスク基板の一主面上に、上記
反射層、第3の誘電体層、上記記録層および第4の誘電
体層が順次積層されて構成された第2の情報信号層が設
けられ、上記ディスク基板に対して上記第2の情報信号
層が存在する側から上記記録層に向けてレーザ光を照射
することにより、上記情報信号を記録可能および/また
は再生可能に構成されていることを特徴とする請求項1
記載の光学記録媒体。
10. A second information signal layer in which the reflective layer, the third dielectric layer, the recording layer, and the fourth dielectric layer are sequentially laminated on one main surface of the disk substrate. And irradiating the disk substrate with laser light from the side where the second information signal layer is present toward the recording layer, so that the information signal can be recorded and / or reproduced. 2. The method according to claim 1, wherein
The optical recording medium according to the above.
【請求項11】 上記ディスク基板の一主面上における
上記第2の情報信号層上に接着層を介して、少なくとも
上記レーザ光を透過可能で、上記第2の情報信号層を保
護する光透過保護層が設けられていることを特徴とする
請求項10記載の光学記録媒体。
11. A light transmission that allows at least the laser light to pass through the adhesive layer on the second information signal layer on one main surface of the disk substrate and protects the second information signal layer. The optical recording medium according to claim 10, further comprising a protective layer.
【請求項12】 平面円環状のディスク基板の一主面上
に、平面円環状に、情報信号の記録および/または再生
に用いられるレーザ光を反射可能に構成された反射層と
上記情報信号を記録可能に構成された記録層とが少なく
とも設けられ、 上記ディスク基板をほぼ一定の角速度で回転させるとと
もに、上記レーザ光を少なくとも上記記録層に照射する
ことにより、上記情報信号を記録可能および/または再
生可能に構成された光学記録媒体であって、 上記反射層が、銀に添加物が添加された銀合金からな
り、 上記反射層を構成する銀合金中に含有される上記添加物
の添加量が、平面円環状の上記ディスク基板の半径方向
に沿って変化していることを特徴とする光学記録媒体。
12. A reflective layer formed on one principal surface of a planar annular disk substrate and capable of reflecting a laser beam used for recording and / or reproduction of an information signal in a planar annular shape, and the information signal is transferred to the reflective layer. At least a recording layer configured to be recordable is provided, and the information signal is recordable and / or by rotating the disc substrate at a substantially constant angular velocity and irradiating the laser beam to at least the recording layer. An optical recording medium configured to be reproducible, wherein the reflective layer is made of a silver alloy in which an additive is added to silver, and the amount of the additive contained in the silver alloy constituting the reflective layer The optical recording medium is characterized by changing along a radial direction of the disk substrate having a flat annular shape.
【請求項13】 上記反射層の外周部における上記添加
物の添加量が、上記反射層の内周部における上記添加物
の添加量より多くなるように構成されていることを特徴
とする請求項12記載の光学記録媒体。
13. The method according to claim 1, wherein an amount of the additive at an outer peripheral portion of the reflective layer is larger than an amount of the additive at an inner peripheral portion of the reflective layer. 13. The optical recording medium according to 12.
【請求項14】 上記添加物が、カルシウム、マグネシ
ウム、パラジウム、鉄および銅からなる群より選ばれた
少なくとも1種類の元素であることを特徴とする請求項
12記載の光学記録媒体。
14. The optical recording medium according to claim 12, wherein said additive is at least one element selected from the group consisting of calcium, magnesium, palladium, iron and copper.
【請求項15】 上記添加物が、カルシウム、マグネシ
ウム、パラジウム、鉄および銅からなる群より選ばれた
少なくとも1種類の元素であり、上記反射層における上
記添加物の含有率が、0.5重量パーセント以上3.3
重量パーセント以下であることを特徴とする請求項12
記載の光学記録媒体。
15. The additive is at least one element selected from the group consisting of calcium, magnesium, palladium, iron and copper, and the content of the additive in the reflective layer is 0.5% by weight. 3.3% or more
13. The composition according to claim 12, wherein the amount is not more than weight percent.
The optical recording medium according to the above.
【請求項16】 上記ディスク基板の上記一主面に凹凸
の溝トラックが形成されており、上記溝トラックのトラ
ックピッチが0.74μm以下であることを特徴とする
請求項12記載の光学記録媒体。
16. The optical recording medium according to claim 12, wherein an uneven groove track is formed on said one main surface of said disk substrate, and a track pitch of said groove track is 0.74 μm or less. .
【請求項17】 上記記録層が、可逆的に変化する少な
くとも2つの状態の変化により上記情報信号を記録可能
に構成されていることを特徴とする請求項12記載の光
学記録媒体。
17. The optical recording medium according to claim 12, wherein the recording layer is configured to record the information signal by at least two reversibly changing states.
【請求項18】 上記記録層が、結晶相と非晶質相との
相変化により上記情報信号を記録可能に構成された相変
化材料からなることを特徴とする請求項12記載の光学
記録媒体。
18. The optical recording medium according to claim 12, wherein said recording layer is made of a phase change material capable of recording said information signal by a phase change between a crystalline phase and an amorphous phase. .
【請求項19】 上記ディスク基板の一主面上に、第1
の誘電体層、上記記録層、第2の誘電体層および上記反
射層が順次積層されて構成された第1の情報信号層が設
けられ、上記ディスク基板の一主面とは反対側の他主面
から上記記録層に向けてレーザ光を照射することによ
り、上記情報信号を記録可能および/または再生可能に
構成されていることを特徴とする請求項12記載の光学
記録媒体。
19. A first substrate on one main surface of the disk substrate.
A first information signal layer, which is formed by sequentially laminating a dielectric layer, a recording layer, a second dielectric layer, and the reflective layer, and providing a first information signal layer on a side opposite to one main surface of the disk substrate. 13. The optical recording medium according to claim 12, wherein the information signal is recordable and / or reproducible by irradiating a laser beam from the main surface toward the recording layer.
【請求項20】 上記ディスク基板の一主面上における
上記第1の情報信号層上に上記第1の情報信号層を保護
する保護層が設けられていることを特徴とする請求項1
9記載の光学記録媒体。
20. A protection layer for protecting the first information signal layer on the first information signal layer on one main surface of the disk substrate.
10. The optical recording medium according to item 9.
【請求項21】 上記ディスク基板の一主面上に、上記
反射層、第3の誘電体層、上記記録層および第4の誘電
体層が順次積層されて構成された第2の情報信号層が設
けられ、上記ディスク基板に対して上記第2の情報信号
層が存在する側から上記記録層に向けてレーザ光を照射
することにより、上記情報信号を記録可能および/また
は再生可能に構成されていることを特徴とする請求項1
2記載の光学記録媒体。
21. A second information signal layer in which the reflective layer, the third dielectric layer, the recording layer, and the fourth dielectric layer are sequentially laminated on one main surface of the disk substrate. And irradiating the disk substrate with laser light from the side where the second information signal layer is present toward the recording layer, so that the information signal can be recorded and / or reproduced. 2. The method according to claim 1, wherein
3. The optical recording medium according to 2.
【請求項22】 上記ディスク基板の一主面上における
上記第2の情報信号層上に接着層を介して、少なくとも
上記レーザ光を透過可能で上記第2の情報信号層を保護
する光透過保護層が設けられていることを特徴とする請
求項21記載の光学記録媒体。
22. Light transmission protection for transmitting at least the laser beam and protecting the second information signal layer via an adhesive layer on the second information signal layer on one main surface of the disk substrate. 22. The optical recording medium according to claim 21, wherein a layer is provided.
【請求項23】 平面円環状のディスク基板の一主面上
に、平面円環状に、情報信号の記録および/または再生
に用いられるレーザ光を反射可能に構成された反射層と
上記情報信号を記録可能に構成された記録層とが少なく
とも設けられた光学記録媒体の製造方法において、 上記反射層を、アルミニウムに添加物が添加されたアル
ミニウム合金から構成し、 上記アルミニウム合金中に含有される上記添加物の添加
量が、上記ディスク基板の半径方向に沿って変化するよ
うに上記反射層を成膜することを特徴とする光学記録媒
体の製造方法。
23. A reflection layer formed on one principal surface of a planar annular disk substrate and capable of reflecting a laser beam used for recording and / or reproducing of an information signal in a planar annular shape, and the information signal is transferred to the reflective layer. In the method for manufacturing an optical recording medium provided with at least a recording layer configured to be recordable, the reflective layer is made of an aluminum alloy in which an additive is added to aluminum, and the reflection layer is contained in the aluminum alloy. A method for manufacturing an optical recording medium, comprising: forming the reflective layer so that the amount of the additive varies along the radial direction of the disk substrate.
【請求項24】 上記反射層を、上記添加物の添加量が
上記ディスク基板の半径方向に沿って、上記反射層の内
周から外周に向かって単調増加するように成膜すること
を特徴とする請求項23記載の光学記録媒体の製造方
法。
24. The reflective layer is formed such that the additive amount of the additive monotonically increases from the inner periphery to the outer periphery of the reflective layer along a radial direction of the disk substrate. A method for manufacturing an optical recording medium according to claim 23.
【請求項25】 上記アルミニウム合金からなるととも
に、内周部における上記添加物の添加量と外周部におけ
る上記添加物の添加量とが異なるスパッタリング用ター
ゲットを用いて、上記反射層をスパッタリング法により
成膜することを特徴とする請求項23記載の光学記録媒
体の製造方法。
25. The reflecting layer is formed by a sputtering method using a sputtering target made of the aluminum alloy and having different amounts of the additive in the inner periphery and the additive in the outer periphery. The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 23, wherein the film is formed as a film.
【請求項26】 上記ディスク基板と上記スパッタリン
グ用ターゲットとを互いに対向させるとともに、上記デ
ィスク基板の一主面に垂直な方向の上記ディスク基板の
中心軸と、上記スパッタリング用ターゲットの固着面に
垂直な方向の上記スパッタリング用ターゲットの中心軸
とが互いに重なるように配置した状態で、上記反射層を
成膜するようにしたことを特徴とする請求項25記載の
光学記録媒体の製造方法。
26. The disk substrate and the sputtering target are opposed to each other, and a center axis of the disk substrate in a direction perpendicular to one main surface of the disk substrate and a surface perpendicular to a fixing surface of the sputtering target. 26. The method of manufacturing an optical recording medium according to claim 25, wherein the reflective layer is formed in a state where the central axes of the sputtering targets in the directions overlap each other.
【請求項27】 少なくとも上記ディスク基板の一主面
上に上記反射層を成膜する際に、上記ディスク基板を、
上記ディスク基板の上記中心軸の周りで面内方向に自転
させるようにしたことを特徴とする請求項26記載の光
学記録媒体の製造方法。
27. When forming the reflective layer on at least one principal surface of the disk substrate, the disk substrate is
27. The method of manufacturing an optical recording medium according to claim 26, wherein the disk substrate is rotated in an in-plane direction around the central axis.
【請求項28】 上記スパッタリング用ターゲットとし
て、外周部における上記添加物の添加量が内周部におけ
る上記添加物の添加量より多いスパッタリング用ターゲ
ットを用いることにより、上記反射層の外周部における
上記アルミニウム合金中の上記添加物の添加量が、上記
反射層の内周部における上記アルミニウム合金中の上記
添加物の添加量より多くなるようにしたことを特徴とす
る請求項25記載の光学記録媒体の製造方法。
28. The sputtering target, wherein the additive amount of the additive in the outer peripheral portion is larger than the additive amount of the additive in the inner peripheral portion, whereby the aluminum in the outer peripheral portion of the reflective layer is used. 26. The optical recording medium according to claim 25, wherein an amount of the additive in the alloy is larger than an amount of the additive in the aluminum alloy in an inner peripheral portion of the reflective layer. Production method.
【請求項29】 内周部における上記添加物の添加量
と、外周部における上記添加物の添加量とが互いに異な
るとともに、上記内周部と上記外周部との間に挟まれた
中周部における上記添加物の添加量が、上記内周部にお
ける上記添加物の添加量と上記外周部における上記添加
物の添加量とのいずれの添加量とも異なるように構成さ
れたスパッタリング用ターゲットを用いて、上記反射層
を成膜するようにしたことを特徴とする請求項23記載
の光学記録媒体の製造方法。
29. An addition amount of the additive in the inner peripheral portion and an additive amount of the additive in the outer peripheral portion are different from each other, and a middle peripheral portion sandwiched between the inner peripheral portion and the outer peripheral portion. Using a sputtering target configured to be different from any addition amount of the additive in the inner peripheral portion and the additive amount of the additive in the outer peripheral portion. 24. The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 23, wherein said reflective layer is formed.
【請求項30】 上記添加物が銅であり、上記反射層に
おける上記添加物の含有率が、0.5重量パーセント以
上1.5重量パーセント以下の範囲内になるように上記
反射層を成膜するようにしたことを特徴とする請求項2
3記載の光学記録媒体の製造方法。
30. The reflective layer is formed so that the additive is copper and the content of the additive in the reflective layer is in the range of 0.5% by weight or more and 1.5% by weight or less. 3. The method according to claim 2, wherein
4. The method for producing an optical recording medium according to 3.
【請求項31】 上記ディスク基板の上記一主面に凹凸
の溝トラックが形成されており、上記溝トラックのトラ
ックピッチが0.74μm以下であることを特徴とする
請求項23記載の光学記録媒体の製造方法。
31. The optical recording medium according to claim 23, wherein an uneven groove track is formed on the one main surface of the disk substrate, and a track pitch of the groove track is 0.74 μm or less. Manufacturing method.
【請求項32】 上記記録層を、少なくとも2つの可逆
的な状態の変化が生じる材料から構成するようにしたこ
とを特徴とする請求項23記載の光学記録媒体の製造方
法。
32. The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 23, wherein said recording layer is made of a material which causes at least two reversible changes in state.
【請求項33】 上記記録層を、結晶相と非晶質相との
相変化が生じる相変化材料から構成するようにしたこと
を特徴とする請求項23記載の光学記録媒体の製造方
法。
33. The method of manufacturing an optical recording medium according to claim 23, wherein said recording layer is made of a phase change material in which a phase change between a crystalline phase and an amorphous phase occurs.
【請求項34】 上記ディスク基板の一主面上に、第1
の誘電体層、上記記録層、第2の誘電体層および上記反
射層を順次成膜して第1の情報信号層を形成することに
よって、上記ディスク基板の一主面とは反対側の他主面
から上記記録層に向けてレーザ光を照射することにより
上記情報信号を記録可能および/または再生可能とする
ことを特徴とする請求項23記載の光学記録媒体の製造
方法。
34. A first surface on one main surface of the disk substrate.
Forming a first information signal layer by sequentially forming a dielectric layer, the recording layer, the second dielectric layer, and the reflective layer, thereby forming a first information signal layer on the opposite side to one main surface of the disk substrate. The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 23, wherein the information signal is recordable and / or reproducible by irradiating a laser beam from the main surface toward the recording layer.
【請求項35】 上記ディスク基板の一主面上における
上記第1の情報信号層上に上記第1の情報信号層を保護
する保護層を形成するようにしたことを特徴とする請求
項34記載の光学記録媒体の製造方法。
35. The apparatus according to claim 34, wherein a protection layer for protecting the first information signal layer is formed on the first information signal layer on one main surface of the disk substrate. A method for manufacturing an optical recording medium.
【請求項36】 上記ディスク基板の一主面上に、上記
反射層、第3の誘電体層、上記記録層および第4の誘電
体層を順次積層した第2の情報信号層を形成することに
よって、上記ディスク基板に対して上記第2の情報信号
層が存在する側から上記記録層に向けてレーザ光を照射
することにより上記情報信号を記録可能および/または
再生可能とすることを特徴とする請求項23記載の光学
記録媒体の製造方法。
36. A second information signal layer in which the reflective layer, the third dielectric layer, the recording layer, and the fourth dielectric layer are sequentially laminated on one main surface of the disk substrate. By irradiating the disk substrate with laser light from the side where the second information signal layer is present toward the recording layer, the information signal can be recorded and / or reproduced. A method for manufacturing an optical recording medium according to claim 23.
【請求項37】 上記ディスク基板の一主面上における
上記第2の情報信号層上に、接着層を介して少なくとも
上記レーザ光を透過可能で、上記第2の情報信号層を保
護する光透過保護層を形成するようにしたことを特徴と
する請求項36記載の光学記録媒体の製造方法。
37. A light transmission that allows at least the laser light to pass through an adhesive layer and protects the second information signal layer on the second information signal layer on one main surface of the disk substrate. The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 36, wherein a protective layer is formed.
【請求項38】 平面円環状のディスク基板の一主面上
に、平面円環状に、情報信号の記録および/または再生
に用いられるレーザ光を反射可能に構成された反射層と
上記情報信号を記録可能に構成された記録層とが少なく
とも設けられた光学記録媒体の製造方法において、 上記反射層を、銀に添加物が添加された銀合金から構成
し、 上記銀合金中に含有される上記添加物の添加量が、上記
ディスク基板の半径方向に沿って変化するように上記反
射層を成膜するようにしたことを特徴とする光学記録媒
体の製造方法。
38. A reflection layer formed on one principal surface of a planar annular disk substrate and capable of reflecting a laser beam used for recording and / or reproducing of an information signal in a planar annular shape, and the information signal is transferred to the reflective layer. In the method for manufacturing an optical recording medium provided with at least a recording layer configured to be recordable, the reflection layer is made of a silver alloy in which an additive is added to silver, and the reflection layer is contained in the silver alloy. A method for manufacturing an optical recording medium, wherein the reflective layer is formed so that the amount of the additive varies along the radial direction of the disk substrate.
【請求項39】 上記反射層を、上記添加物の添加量
が、上記ディスク基板の半径方向に沿って、上記反射層
の内周から外周に向かって単調増加するように形成する
ことを特徴とする請求項38記載の光学記録媒体の製造
方法。
39. The reflective layer is formed such that the additive amount of the additive monotonically increases from an inner periphery to an outer periphery of the reflective layer along a radial direction of the disk substrate. The method for producing an optical recording medium according to claim 38.
【請求項40】 上記銀合金からなるとともに、内周部
における上記添加物の添加量と外周部における上記添加
物の添加量とが異なるスパッタリング用ターゲットを用
いて、上記反射層をスパッタリング法により成膜するよ
うにしたことを特徴とする請求項38記載の光学記録媒
体の製造方法。
40. The reflective layer is formed by a sputtering method using a sputtering target made of the silver alloy and having a different additive amount of the additive in the inner peripheral portion and an additive amount in the outer peripheral portion. The method for producing an optical recording medium according to claim 38, wherein the optical recording medium is formed into a film.
【請求項41】 上記ディスク基板と上記スパッタリン
グ用ターゲットとを、互いに対向させるとともに、上記
ディスク基板の一主面に垂直な方向の上記ディスク基板
の中心軸と、上記スパッタリング用ターゲットの固着面
に垂直な方向の上記スパッタリング用ターゲットの中心
軸とが互いに重なるように配置した状態で、上記反射層
を成膜するようにしたことを特徴とする請求項40記載
の光学記録媒体の製造方法。
41. The disk substrate and the sputtering target are opposed to each other, and are perpendicular to a center axis of the disk substrate in a direction perpendicular to one main surface of the disk substrate and a fixing surface of the sputtering target. 41. The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 40, wherein the reflective layer is formed in a state where the central axes of the sputtering targets in different directions overlap each other.
【請求項42】 少なくとも上記ディスク基板の一主面
上に上記反射層を成膜する際に、上記ディスク基板を、
上記ディスク基板の上記中心軸の周りで面内方向に自転
させるようにしたことを特徴とする請求項41記載の光
学記録媒体の製造方法。
42. When forming the reflective layer on at least one principal surface of the disk substrate, the disk substrate is
42. The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 41, wherein the disk substrate is rotated in an in-plane direction around the central axis.
【請求項43】 上記スパッタリング用ターゲットとし
て、外周部における上記添加物の添加量が内周部におけ
る上記添加物の添加量より多いスパッタリング用ターゲ
ットを用いることにより、上記反射層の外周部に添加さ
れる上記添加物の添加量が、上記反射層の内周部におけ
る上記銀合金中の上記添加物の添加量より多くなるよう
にしたことを特徴とする請求項40記載の光学記録媒体
の製造方法。
43. A sputtering target in which the additive amount of the additive in the outer peripheral portion is larger than the additive amount of the additive in the inner peripheral portion as the sputtering target is added to the outer peripheral portion of the reflective layer. 41. The method of manufacturing an optical recording medium according to claim 40, wherein the amount of the additive is larger than the amount of the additive in the silver alloy in the inner peripheral portion of the reflective layer. .
【請求項44】 内周部における上記添加物の添加量
と、外周部における上記添加物の添加量とが互いに異な
るとともに、上記内周部と上記外周部との間に挟まれた
中周部における上記添加物の添加量が、上記内周部にお
ける上記添加物の添加量と上記外周部における上記添加
物の添加量とのいずれの添加量とも異なるように構成さ
れたスパッタリング用ターゲットを用いて、上記反射層
を成膜するようにしたことを特徴とする請求項38記載
の光学記録媒体の製造方法。
44. An additive amount of the additive in the inner peripheral portion and an additive amount of the additive in the outer peripheral portion are different from each other, and a middle peripheral portion sandwiched between the inner peripheral portion and the outer peripheral portion. Using a sputtering target configured to be different from any addition amount of the additive in the inner peripheral portion and the additive amount of the additive in the outer peripheral portion. 39. The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 38, wherein said reflective layer is formed.
【請求項45】 上記添加物が、カルシウム、マグネシ
ウム、パラジウム、鉄および銅からなる群より選ばれた
少なくとも1種類の元素であることを特徴とする請求項
38記載の光学記録媒体の製造方法。
45. The method according to claim 38, wherein the additive is at least one element selected from the group consisting of calcium, magnesium, palladium, iron and copper.
【請求項46】 上記反射層における上記添加物の含有
率が、0.5重量パーセント以上3.3重量パーセント
以下の範囲内になるように上記反射層を成膜するように
したことを特徴とする請求項38記載の光学記録媒体の
製造方法。
46. The reflective layer is formed such that the content of the additive in the reflective layer is in the range of 0.5% by weight or more and 3.3% by weight or less. The method for producing an optical recording medium according to claim 38.
【請求項47】 上記ディスク基板の上記一主面に凹凸
の溝トラックが形成されており、上記溝トラックのトラ
ックピッチが0.74μm以下であることを特徴とする
請求項38記載の光学記録媒体の製造方法。
47. The optical recording medium according to claim 38, wherein an uneven groove track is formed on said one main surface of said disk substrate, and a track pitch of said groove track is 0.74 μm or less. Manufacturing method.
【請求項48】 上記記録層を、少なくとも2つの可逆
的な状態の変化を生じる材料から構成するようにしたこ
とを特徴とする請求項38記載の光学記録媒体の製造方
法。
48. The method of manufacturing an optical recording medium according to claim 38, wherein said recording layer is made of a material which causes at least two reversible changes in state.
【請求項49】 上記記録層を、結晶相と非晶質相との
相変化が生じる相変化材料からなることを特徴とする請
求項38記載の光学記録媒体の製造方法。
49. The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 38, wherein said recording layer is made of a phase change material in which a phase change between a crystalline phase and an amorphous phase occurs.
【請求項50】 上記ディスク基板の一主面上に、第1
の誘電体層、上記記録層、第2の誘電体層および上記反
射層を順次成膜して第1の情報信号層を形成することに
よって、上記ディスク基板の一主面とは反対側の他主面
から上記記録層に向けてレーザ光を照射することにより
上記情報信号を記録可能および/または再生可能とする
ことを特徴とする請求項38記載の光学記録媒体の製造
方法。
50. A first substrate on one main surface of the disk substrate.
Forming a first information signal layer by sequentially forming a dielectric layer, the recording layer, the second dielectric layer, and the reflective layer, thereby forming a first information signal layer on the opposite side to one main surface of the disk substrate. The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 38, wherein the information signal is recordable and / or reproducible by irradiating a laser beam from the main surface to the recording layer.
【請求項51】 上記ディスク基板の一主面上における
上記第1の情報信号層上に上記第1の情報信号層を保護
する保護層を形成するようにしたことを特徴とする請求
項50記載の光学記録媒体の製造方法。
51. A protection layer for protecting the first information signal layer on the first information signal layer on one main surface of the disk substrate. A method for manufacturing an optical recording medium.
【請求項52】 上記ディスク基板の一主面上に、上記
反射層、第3の誘電体層、上記記録層および第4の誘電
体層を順次成膜して第2の情報信号層を形成することに
よって、上記ディスク基板に対して上記第2の情報信号
層が存在する側から上記記録層に向けてレーザ光を照射
することにより上記情報信号を記録可能および/または
再生可能とすることを特徴とする請求項38記載の光学
記録媒体の製造方法。
52. A second information signal layer is formed by sequentially forming the reflective layer, the third dielectric layer, the recording layer, and the fourth dielectric layer on one main surface of the disk substrate. By irradiating the disk substrate with laser light from the side where the second information signal layer is present toward the recording layer, the information signal can be recorded and / or reproduced. The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 38, wherein:
【請求項53】 上記ディスク基板の一主面上における
上記第2の情報信号層上に、接着層を介して少なくとも
上記レーザ光を透過可能で、上記第2の情報信号層を保
護する光透過保護層を形成するようにしたことを特徴と
する請求項52記載の光学記録媒体の製造方法。
53. A light transmission that allows at least the laser light to pass through an adhesive layer and protects the second information signal layer on the second information signal layer on one main surface of the disk substrate. The method for producing an optical recording medium according to claim 52, wherein a protective layer is formed.
【請求項54】 略円柱構造を有するとともに、上記円
柱構造の略円形状を有する一主面をスパッタリング可能
に構成されたスパッタリング用ターゲットにおいて、 主成分となる材料に添加物が添加されて構成される材料
からなり、 少なくとも、上記円形状の一主面における外周部に添加
された上記添加物の添加量と、上記円形状の一主面にお
ける中央部に含有された添加物の添加量とが相違するよ
うに構成されていることを特徴とするスパッタリング用
ターゲット。
54. A sputtering target having a substantially cylindrical structure and one principal surface having a substantially circular shape of the above-mentioned cylindrical structure capable of being sputtered, wherein an additive is added to a material serving as a main component. At least the additive amount of the additive added to the outer peripheral portion of the one main surface of the circular shape and the additive amount of the additive contained in the central portion of the one main surface of the circular shape are different from each other. A sputtering target, which is configured to be different.
【請求項55】 上記主成分となる材料がアルミニウム
であることを特徴とする請求項54記載のスパッタリン
グ用ターゲット。
55. The sputtering target according to claim 54, wherein the material serving as the main component is aluminum.
【請求項56】 上記添加物が銅であることを特徴とす
る請求項55記載のスパッタリング用ターゲット。
56. The sputtering target according to claim 55, wherein the additive is copper.
【請求項57】 上記添加物の含有率が0.5重量パー
セント以上1.5重量パーセント以下であることを特徴
とする請求項55記載のスパッタリング用ターゲット。
57. The sputtering target according to claim 55, wherein the content of the additive is 0.5% by weight or more and 1.5% by weight or less.
【請求項58】 上記主成分となる材料が銀であること
を特徴とする請求項54記載のスパッタリング用ターゲ
ット。
58. The sputtering target according to claim 54, wherein the material serving as the main component is silver.
【請求項59】 上記添加物が、カルシウム、マグネシ
ウム、パラジウム、鉄および銅からなる群より選ばれた
少なくとも1種類の元素からなることを特徴とする請求
項58記載のスパッタリング用ターゲット。
59. The sputtering target according to claim 58, wherein said additive comprises at least one element selected from the group consisting of calcium, magnesium, palladium, iron and copper.
【請求項60】 上記添加物の含有率が、0.5重量パ
ーセント以上3.3重量パーセント以下であることを特
徴とする請求項58記載のスパッタリング用ターゲッ
ト。
60. The sputtering target according to claim 58, wherein the content of the additive is 0.5% by weight or more and 3.3% by weight or less.
【請求項61】 上記円形状の一主面の外周部における
上記添加物の添加量が、上記円形状の一主面の中央部に
おける上記添加物の添加量より多いことを特徴とする請
求項54記載のスパッタリング用ターゲット。
61. An additive amount of the additive at an outer peripheral portion of the one main surface of the circular shape is larger than an additive amount of the additive at a central portion of the one main surface of the circular shape. 54. The sputtering target according to 54.
【請求項62】 上記一主面が円形状を有する第1のタ
ーゲット部と、上記一主面が円環形状を有する第2のタ
ーゲット部とから構成され、上記第1のターゲット部の
中心軸と上記第2のターゲット部の中心軸とが重なると
ともに、上記第1のターゲット部が上記第2のターゲッ
ト部の開口に嵌合されて構成されていることを特徴とす
る請求項54記載のスパッタリング用ターゲット。
62. A first target portion having one main surface having a circular shape, and a second target portion having one main surface having an annular shape, wherein a central axis of the first target portion is provided. 55. The sputtering according to claim 54, wherein the first target portion is fitted into an opening of the second target portion while the center axis of the second target portion overlaps with the central axis of the second target portion. For target.
【請求項63】 上記第2のターゲット部に添加されて
いる上記添加物の添加量が、上記第1のターゲット部に
添加されている上記添加物の添加量より多いことを特徴
とする請求項62記載のスパッタリング用ターゲット。
63. An additive amount of the additive added to the second target portion is larger than an additive amount of the additive added to the first target portion. 62. The sputtering target according to 62.
【請求項64】 上記第2のターゲット部が、上記一主
面がそれぞれ円環形状を有する複数の円環状ターゲット
部から構成され、上記複数の円環状ターゲット部が互い
の中心軸を重ねつつ互いに嵌合されて構成されているこ
とを特徴とする請求項62記載のスパッタリング用ター
ゲット。
64. The second target portion is composed of a plurality of annular target portions, each of which has a main surface having an annular shape, and the plurality of annular target portions overlap each other while overlapping their central axes. 63. The sputtering target according to claim 62, wherein the sputtering target is fitted.
【請求項65】 上記第2のターゲット部を構成する複
数の円環状ターゲット部のうちの1つの円環状ターゲッ
ト部に添加されている上記添加物の添加量が、この円環
状ターゲット部より内周側の円環状ターゲット部および
上記第1のターゲット部に添加されている上記添加物の
添加量より多いことを特徴とする請求項64記載のスパ
ッタリング用ターゲット。
65. The amount of the additive added to one of the plurality of annular target portions constituting the second target portion, which is added to the inner periphery of the annular target portion, 65. The sputtering target according to claim 64, wherein the amount of the additive added to the annular target portion on the side and the first target portion is greater than the additive amount.
【請求項66】 情報信号を記録可能および/または再
生可能に構成された光学記録媒体におけるディスク基板
の一主面上に形成される積層膜のうちの少なくとも1層
を構成するとともに、上記光学記録媒体に対する上記情
報信号の記録および/または再生に用いられるレーザ光
を反射可能に構成されたスパッタリング法により反射層
を成膜する際に用いられることを特徴とする請求項54
記載のスパッタリング用ターゲット。
66. An optical recording medium capable of recording and / or reproducing information signals, comprising at least one layer of a laminated film formed on one main surface of a disk substrate, and the optical recording medium comprising: 55. A method for forming a reflective layer by a sputtering method capable of reflecting a laser beam used for recording and / or reproducing the information signal on a medium.
The target for sputtering according to the above.
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