JP2002309088A - Composition containing silicon compound - Google Patents

Composition containing silicon compound

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JP2002309088A
JP2002309088A JP2001115700A JP2001115700A JP2002309088A JP 2002309088 A JP2002309088 A JP 2002309088A JP 2001115700 A JP2001115700 A JP 2001115700A JP 2001115700 A JP2001115700 A JP 2001115700A JP 2002309088 A JP2002309088 A JP 2002309088A
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JP
Japan
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group
poly
compound
phenyleneethynylene
bond
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Application number
JP2001115700A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kishiyun Abe
阿部  貴春
Kenji Iwata
健二 岩田
Junichi Ishikawa
石川  淳一
Masayoshi Ito
正義 伊藤
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Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition containing silicon, excellent in heat resistance and mechanical characteristics. SOLUTION: This compound containing silicon comprises a polymeric compound having Si-H bond(s) and a compound having two or more hydroxyl groups in its molecule.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、Si−H結合を有
する高分子化合物とヒドロキシ基を有する化合物を含有
してなる耐熱性および機械的特性に優れたケイ素を含有
する組成物に関する。
The present invention relates to a silicon-containing composition comprising a polymer compound having a Si-H bond and a compound having a hydroxy group and having excellent heat resistance and mechanical properties.

【0002】[0002]

【従来の技術】軽量で力学特性に優れた成型加工可能な
耐熱材料として多くのエンジニアリングプラスチックが
研究開発されている。本発明者らは、ポリイミド系樹脂
に比べて機械的特性は劣るが、分子内に反応性の高い炭
素―炭素不飽和結合およびSi−H結合を有する繰り返
し単位を含む熱硬化性のケイ素系樹脂が極めて高い耐熱
性を有していることを見出している(特開平7−102
069)。他方、同じケイ素系樹脂でシロキサン結合を
含有するシリコーン類は離型剤、シール材など多岐の分
野で使用されているが、実用使用温度は300℃未満と耐
熱性はあまり高くなかった。耐熱性を有し、かつ機械的
特性に優れ、エレクトロニクス分野、精密機械分野等で
利用できるケイ素を含有する樹脂が望まれていた。
2. Description of the Related Art Many engineering plastics have been researched and developed as heat-resistant materials which are lightweight and have excellent mechanical properties and can be processed. The present inventors have found that a thermosetting silicon-based resin containing a repeating unit having a highly reactive carbon-carbon unsaturated bond and a Si-H bond in a molecule, although the mechanical properties are inferior to a polyimide-based resin. Have extremely high heat resistance (see JP-A-7-102).
069). On the other hand, silicones containing the same silicon-based resin and containing a siloxane bond are used in various fields such as mold release agents and sealing materials, but the practical use temperature is less than 300 ° C., and the heat resistance is not so high. There has been a demand for a silicon-containing resin that has heat resistance and excellent mechanical properties and can be used in the fields of electronics, precision machinery, and the like.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、優れた
耐熱性と機械特性を併せ持つ樹脂を開発することを目標
に鋭意努力し、Si−H結合を含む高分子化合物とヒド
ロキシ基を分子内に2個以上有する化合物とからなるケ
イ素を含有する組成物が耐熱性および機械特性にすぐれ
ていることを見出し、本発明に到達した。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have made an intensive effort to develop a resin having both excellent heat resistance and mechanical properties, and have developed a polymer compound containing a Si-H bond and a hydroxy group. The present inventors have found that a silicon-containing composition comprising a compound having two or more compounds therein has excellent heat resistance and mechanical properties, and have reached the present invention.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明はSi−H結合を
有する高分子化合物とヒドロキシ基を分子内に2個以上
有する化合物とからなるケイ素を含有する組成物に関す
るものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a silicon-containing composition comprising a polymer compound having a Si-H bond and a compound having two or more hydroxy groups in a molecule.

【0005】また本発明は一般式(1)Further, the present invention provides a compound represented by the general formula (1)

【化2】 (式中、R1は酸素あるいは炭素数1から30のアルキ
レン基、アルケニレン基、アルキニレン基及び2価の芳
香族基であり、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、カル
ボキシル基、エーテル基の置換基を有しても良い。R2
は水素原子あるいは炭素数1から30のアルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、芳香族基で
あり、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、カルボキシル
基、エーテル基の置換基を有しても良い。)で表される
Si−H結合を有する高分子化合物とヒドロキシ基を分
子内に2個以上有する化合物とからなるケイ素を含有す
る組成物に関するものである。
Embedded image (In the formula, R 1 is oxygen or an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, alkenylene group, alkynylene group or divalent aromatic group, and represents a substituent such as a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, or an ether group. R 2
Is a hydrogen atom or an alkyl, alkenyl, alkynyl, alkoxy, or aromatic group having 1 to 30 carbon atoms, and may have a substituent such as a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, or an ether group. . The present invention relates to a silicon-containing composition comprising a polymer compound having a Si-H bond and a compound having two or more hydroxy groups in the molecule.

【0006】また本発明は、Si−H結合を有する高分
子化合物とヒドロキシ基を分子内に2個以上有する化合
物とからなるケイ素を含有する組成物を50℃以上70
0℃以下で熱処理することにより得られる組成物に関す
るものである。
The present invention also relates to a silicon-containing composition comprising a polymer compound having a Si—H bond and a compound having two or more hydroxy groups in a molecule, having a temperature of 50.degree.
The present invention relates to a composition obtained by performing a heat treatment at 0 ° C. or lower.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下に本発明を説明するが、本発
明はこれらの製造方法に特に限定されるものではない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described below, but the present invention is not particularly limited to these production methods.

【0008】<Si−H結合を有する高分子化合物>本
発明における分子内に少なくとも一つのSi−H結合を
有する高分子化合物は、一般式(1)により表される。
式中、R1は酸素あるいは炭素数1から30のアルキレ
ン基、アルケニレン基、アルキニレン基及び2価の芳香
族基であり、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、カルボ
キシル基、エーテル基の置換基を有しても良い。アルキ
レン基としてはメチレン基、フルオロメチレン基、エチ
レン基、プロピレン基、テトラメチレン基、テトラフル
オロエチレン基等が、アルケニレン基としてはビニレン
基、プロペニレン基、ブタジエニレン基等が、アルキニ
レン基としてはエチニレン基、プロピニレン基、ブチニ
レン基等が、二価の芳香族基としてはフェニレン基、ナ
フチレン基、ビフェニレン基、アントラセネディル基、
ピリジネディル基、チオフェネディリル基、フルオロフ
ェニレン基、クロロフェニレン基、メチルフェニレン
基、シリルフェニレン基、ヒドロキシフェニレン基、ア
ミノフェニレン基、フェニレンメチレンフェニレン基、
フェニレンオキシフェニレン基、フェニレンプロピリデ
ンフェニレン基、フェニレン(ヘキサフルオロプロピリ
デン)フェニレン基等が挙げられる。R2は水素原子あ
るいは炭素数1から30のハロゲン原子、水酸基、アミ
ノ基、カルボキシル基、エーテル基の置換基を有しても
良いアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコ
キシ基、芳香族基である。アルキル基としては、例えば
メチル基、エチル基、ヘキシル基、オクチル基、オクタ
デシル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等が、
アルケニル基としてはビニル基、プロペニル基等が、ア
ルキニル基としてはエチニル基、プロピニル基等が、ア
ルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、フェノキ
シ基等が、芳香族基としてはフェニル基、ナフチル基、
4−メチルフェニル基、4−クロロフェニル基、4−メ
トキシフェニル基、アントリル基、ヒドロキシフェニル
基、フルオロフェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロ
キシナフチル基等が挙げられる。
<Polymer Compound Having Si-H Bond> The polymer compound having at least one Si-H bond in a molecule in the present invention is represented by the general formula (1).
In the formula, R 1 is oxygen or an alkylene group, alkenylene group, alkynylene group or divalent aromatic group having 1 to 30 carbon atoms, and has a substituent such as a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, or an ether group. You may. Examples of the alkylene group include a methylene group, a fluoromethylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, and a tetrafluoroethylene group.Alkenylene groups include a vinylene group, a propenylene group, and a butadienylene group. Propynylene group, butynylene group, etc., as a divalent aromatic group, phenylene group, naphthylene group, biphenylene group, anthracenedil group,
Pyridinedyl group, thiophenedilyl group, fluorophenylene group, chlorophenylene group, methylphenylene group, silylphenylene group, hydroxyphenylene group, aminophenylene group, phenylenemethylenephenylene group,
Examples include a phenyleneoxyphenylene group, a phenylenepropylidenephenylene group, and a phenylene (hexafluoropropylidene) phenylene group. R 2 is a hydrogen atom or a halogen atom having 1 to 30 carbon atoms, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, or an aromatic group which may have a substituent such as a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, or an ether group. is there. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a hexyl group, an octyl group, an octadecyl group, and a 3,3,3-trifluoropropyl group.
As an alkenyl group, a vinyl group, a propenyl group, etc., as an alkynyl group, an ethynyl group, a propynyl group, etc., as an alkoxy group, a methoxy group, an ethoxy group, a phenoxy group, etc., and as an aromatic group, a phenyl group, a naphthyl group,
Examples thereof include a 4-methylphenyl group, a 4-chlorophenyl group, a 4-methoxyphenyl group, an anthryl group, a hydroxyphenyl group, a fluorophenyl group, a methoxyphenyl group, and a hydroxynaphthyl group.

【0009】本発明におけるSi−H結合を有する高分
子化合物の具体例としては、ポリ(ジハイドロジェンシ
ロキサン)、ポリ(メチルハイドロジェンシロキサ
ン)、ポリ(エチルハイドロジェンシロキサン)、ポリ
(フェニルハイドロジェンシロキサン)、ポリ[(メチ
ルハイドロジェンシロキサン)(ジメチルシロキサ
ン)]コポリマー、ポリ[(メチルハイドロジェンシロ
キサン)(ジエチルシロキサン)]コポリマー、ポリ
[(メチルハイドロジェンシロキサン)(オクチルメチ
ルシロキサン)]コポリマー、ポリ[(メチルハイドロ
ジェンシロキサン)(フェニルメチルシロキサン)]コ
ポリマー、ポリ[(メチルハイドロジェンシロキサン)
(ジメトキシシロキサン)]コポリマー、ポリ[(ジハ
イドロジェンシロキサン)((2−メトキシエトキシ)
メチルシロキサン)]コポリマー、ポリ[(ジハイドロ
ジェンシロキサン)(フェノキシメチルシロキサン)]
コポリマー、ポリ[(ジハイドロジェンシロキサン)
(ナフチルメチルシロキサン)]コポリマー、ポリ
[(ジハイドロジェンシロキサン)((4−メトキシフ
ェニル)ジメチルシロキサン)]コポリマー、ポリ(シ
リレンエチレン)(化学式(2))
Specific examples of the polymer compound having a Si—H bond in the present invention include poly (dihydrogensiloxane), poly (methylhydrogensiloxane), poly (ethylhydrogensiloxane) and poly (phenylhydrogensiloxane). Siloxane), poly [(methylhydrogensiloxane) (dimethylsiloxane)] copolymer, poly [(methylhydrogensiloxane) (diethylsiloxane)] copolymer, poly [(methylhydrogensiloxane) (octylmethylsiloxane)] copolymer, poly [(Methylhydrogensiloxane) (phenylmethylsiloxane)] copolymer, poly [(methylhydrogensiloxane)
(Dimethoxysiloxane)] copolymer, poly [(dihydrogensiloxane) ((2-methoxyethoxy)
Methylsiloxane)] copolymer, poly [(dihydrogensiloxane) (phenoxymethylsiloxane)]
Copolymer, poly [(dihydrogensiloxane)
(Naphthylmethylsiloxane)] copolymer, poly [(dihydrogensiloxane) ((4-methoxyphenyl) dimethylsiloxane)] copolymer, poly (silyleneethylene) (chemical formula (2))

【化3】 Embedded image

【0010】ポリ[シリレン(メチル)メチレン](化
学式(3))
Poly [silylene (methyl) methylene] (chemical formula (3))

【化4】 Embedded image

【0011】ポリ(シリレンエチニレン)、ポリ(メチ
ルシリレンエチニレン)、ポリ(フェニルシリレンエチ
ニレン)、ポリ(シリレンエチニレン−1,3−フェニ
レンエチニレン)(化学式(4))、
Poly (silyleneethynylene), poly (methylsilyleneethynylene), poly (phenylsilyleneethynylene), poly (silyleneethynylene-1,3-phenyleneethynylene) (chemical formula (4)),

【化5】 Embedded image

【0012】ポリ(シリレンエチニレン−1,4−フェ
ニレンエチニレン)、ポリ(シリレンエチニレン−1,
2−フェニレンエチニレン、メチルシリレンエチニレン
−1,3−フェニレンエチニレン)(化学式(5))、
Poly (silyleneethynylene-1,4-phenyleneethynylene), poly (silyleneethynylene-1,
2-phenyleneethynylene, methylsilyleneethynylene-1,3-phenyleneethynylene (chemical formula (5)),

【化6】 Embedded image

【0013】ポリ(メチルシリレンエチニレン−1,4
−フェニレンエチニレン)、ポリ(メチルシリレンエチ
ニレン−1,2−フェニレンエチニレン)、ポリ(フェ
ニルシリレンエチニレン−1,3−フェニレンエチニレ
ン)(化学式(6))、
Poly (methylsilyleneethynylene-1,4)
-Phenyleneethynylene), poly (methylsilyleneethynylene-1,2-phenyleneethynylene), poly (phenylsilyleneethynylene-1,3-phenyleneethynylene) (chemical formula (6)),

【化7】 Embedded image

【0014】ポリ(フェニルシリレンエチニレン−1,
4−フェニレンエチニレン)、ポリ(フェニルシリレン
エチニレン−1,2−フェニレンエチニレン)、ポリ
(ヘキシルシリレンエチニレン−1,3−フェニレンエ
チニレン)、ポリ(ビニルシリレンエチニレン−1,3
−フェニレンエチニレン)(化学式(7))、
Poly (phenylsilyleneethynylene-1,
4-phenyleneethynylene), poly (phenylsilyleneethynylene-1,2-phenyleneethynylene), poly (hexylsilyleneethynylene-1,3-phenyleneethynylene), poly (vinylsilyleneethynylene-1,3)
-Phenyleneethynylene) (chemical formula (7)),

【化8】 Embedded image

【0015】ポリ(エチニルシリレンエチニレン−1,
3−フェニレンエチニレン)、ポリ(2−プロペニルシ
リレンエチニレン−1,3−フェニレンエチニレン)、
ポリ(2−プロピニルシリレンエチニレン−1,3−フ
ェニレンエチニレン)、ポリ(トリフルオメチルロシリ
レンエチニレン−1,3−フェニレンエチニレン)、ポ
リ(3,3,3−トリフルオロプロピルシリレンエチニレ
ン−1,3−フェニレンエチニレン)、ポリ(4−メチ
ルフェニルシリレンエチニレン−1,3−フェニレンエ
チニレン)、ポリ(4−ビニルフェニルシリレンエチニ
レン−1,3−フェニレンエチニレン)、ポリ[シリレ
ンエチニレン(5−メチル−1,3−フェニレン)エチ
ニレン]、ポリ[フェニルシリレンエチニレン(5−メ
チル−1,3−フェニレン)エチニレン]、ポリ[フェ
ニルシリレンエチニレン(5−シリル−1,3−フェニ
レン)エチニレン]、ポリ[フェニルシリレンエチニレ
ン(5−ヒドロキシ−1,3−フェニレン)エチニレ
ン]、ポリ(フェニルシリレンエチニレン−2,7−ナ
フチレンエチニレン)、ポリ(シリレンエチニレン−
5,10−アントラセネディルエチニレン)、ポリ(フ
ェニルシリレンエチニレン−4,4'−ビフェニレンエチ
ニレン)(化学式(8))、
Poly (ethynylsilyleneethynylene-1,
3-phenyleneethynylene), poly (2-propenylsilyleneethynylene-1,3-phenyleneethynylene),
Poly (2-propynylsilyleneethynylene-1,3-phenyleneethynylene), poly (trifluoromethylsilylyleneethynylene-1,3-phenyleneethynylene), poly (3,3,3-trifluoropropylsilyleneethynylene) -1,3-phenyleneethynylene), poly (4-methylphenylsilyleneethynylene-1,3-phenyleneethynylene), poly (4-vinylphenylsilyleneethynylene-1,3-phenyleneethynylene), poly [ Silyleneethynylene (5-methyl-1,3-phenylene) ethynylene], poly [phenylsilyleneethynylene (5-methyl-1,3-phenylene) ethynylene], poly [phenylsilyleneethynylene (5-silyl-1, 3-phenylene) ethynylene], poly [phenylsilyleneethynylene (5-hydroxy-1,3- Eniren) ethynylene, poly (silylene ethynylene-2,7-naphthylene ethynylene), poly (silylene ethynylene -
5,10-anthracene diethynylene), poly (phenylsilyleneethynylene-4,4′-biphenyleneethynylene) (chemical formula (8)),

【化9】 Embedded image

【0016】ポリ(フェニルシリレンエチニレン−1,
4−フェニレンメチレン−1',4'−フェニレンエチニ
レン)、ポリ(フェニルシリレンエチニレン−1,4−
フェニレン−2,2−プロピリデン−1',4'−フェニレ
ンエチニレン)、ポリ[フェニルシリレンエチニレン−
1,4−フェニレン−2,2−(1,1,1,3,3,3−ヘ
キサフルオロプロピリデン)−1',4'−フェニレンエ
チニレン]、(化学式(9))、
Poly (phenylsilyleneethynylene-1,
4-phenylenemethylene-1 ′, 4′-phenyleneethynylene), poly (phenylsilyleneethynylene-1,4-)
Phenylene-2,2-propylidene-1 ′, 4′-phenyleneethynylene), poly [phenylsilyleneethynylene-
1,4-phenylene-2,2- (1,1,1,3,3,3-hexafluoropropylidene) -1 ′, 4′-phenyleneethynylene], (chemical formula (9)),

【化10】 Embedded image

【0017】ポリ(フェニルシリレンエチニレン−1,
4−フェニレンオキシ−1',4'−フェニレンエチニレ
ン)(化学式(10))、
Poly (phenylsilyleneethynylene-1,
4-phenyleneoxy-1 ′, 4′-phenyleneethynylene) (chemical formula (10)),

【化11】 Embedded image

【0018】ポリ(フェニルシリレンエチニレン−2,
5−ピリジネディルエチニレン)、ポリ(フェニルシリ
レンエチニレン−2,5−チオフェネディリルエチニレ
ン)、ポリ(メチルシリレンエチニレンメチレンエチニ
レン)、ポリ[フェニルシリレン−1,4−フェニレン
(フェニルシリレン)エチニレン−1',3'−フェニレ
ンエチニレン](化学式(11))、
Poly (phenylsilyleneethynylene-2,
5-pyridinedylethynylene, poly (phenylsilyleneethynylene-2,5-thiophenedirylethynylene), poly (methylsilyleneethynylenemethyleneethynylene), poly [phenylsilylene-1,4-phenylene ( Phenylsilylene) ethynylene-1 ′, 3′-phenyleneethynylene] (chemical formula (11)),

【化12】 Embedded image

【0019】ポリ[フェニルシリレンオキシ(フェニル
シリレン)エチニレン−1',3'−フェニレンエチニレ
ン](化学式(12))、
Poly [phenylsilyleneoxy (phenylsilylene) ethynylene-1 ′, 3′-phenyleneethynylene] (chemical formula (12));

【化13】 Embedded image

【0020】ポリ[フェニルシリレンオキシ(フェニル
シリレン)エチニレン−1',4'−フェニレンエチニレ
ン]、ポリ[フェニルシリレンイミノ(フェニルシリレ
ン)エチニレン−1',3'−フェニレンエチニレン]
(化学式(13))、
Poly [phenylsilyleneoxy (phenylsilylene) ethynylene-1 ′, 4′-phenyleneethynylene], poly [phenylsilyleneimino (phenylsilylene) ethynylene-1 ′, 3′-phenyleneethynylene]
(Chemical formula (13)),

【化14】 Embedded image

【0021】ポリ[フェニルシリレンイミノ(フェニル
シリレン)エチニレン−1',4'−フェニレンエチニレ
ン]、ポリ[(フェニルシリレン)エチニレンエチニレ
ン](化学式(14))、
Poly [phenylsilyleneimino (phenylsilylene) ethynylene-1 ′, 4′-phenyleneethynylene], poly [(phenylsilylene) ethynyleneethynylene] (chemical formula (14)),

【化15】 Embedded image

【0022】ポリ[(フェニルシリレン)エチニレンメ
チレンエチニレン](化学式(15))
Poly [(phenylsilylene) ethynylenemethyleneethynylene] (chemical formula (15))

【化16】 Embedded image

【0023】化学式(16)Chemical formula (16)

【化17】 Embedded image

【0024】化学式(17)Chemical formula (17)

【化18】 Embedded image

【0025】化学式(18)Chemical formula (18)

【化19】 Embedded image

【0026】化学式(19)Chemical formula (19)

【化20】 化学式(20)Embedded image Chemical formula (20)

【化21】 Embedded image

【0027】ポリ(シリレン−1,3−フェニレンエチ
ニレン)(化学式(21))
Poly (silylene-1,3-phenyleneethynylene) (chemical formula (21))

【化22】 ポリ(シリレン−1,4−フェニレンエチニレン)、ポ
リ(シリレン−1,2−フェニレンエチニレン)、ポリ
(フェニルシリレン−1,3−フェニレンエチニレン)
(化学式(22))
Embedded image Poly (silylene-1,4-phenyleneethynylene), poly (silylene-1,2-phenyleneethynylene), poly (phenylsilylene-1,3-phenyleneethynylene)
(Chemical formula (22))

【化23】 Embedded image

【0028】ポリ(フェニルシリレン−1,4−フェニ
レンエチニレン)、ポリ(フェニルシリレン−1,2−
フェニレンエチニレン)、ポリ(ジフェニルシリレン−
1,3−フェニレンエチニレン)、ポリ(メチルシリレ
ン−1,3−フェニレンエチニレン)(化学式(2
3))、
Poly (phenylsilylene-1,4-phenyleneethynylene), poly (phenylsilylene-1,2-)
Phenyleneethynylene), poly (diphenylsilylene-
1,3-phenyleneethynylene), poly (methylsilylene-1,3-phenyleneethynylene) (chemical formula (2)
3)),

【化24】 Embedded image

【0029】ポリ(メチルシリレン−1,4−フェニレ
ンエチニレン)、ポリ(メチルシリレン−1,2−フェ
ニレンエチニレン)、ポリ(フェニルシリレン−1,3
−ブタジイニレン)、ポリ(フェニルシリレンメチレン
エチニレン)、ポリ(フェニルシリレンメチレンエチニ
レンメチレン)、ポリ(シリレン−1,4−フェニレン
エチニレン−1',4'−フェニレン)、ポリ(メチルシ
リレン−1,4−フェニレンエチニレン−1',4'−フ
ェニレン)、ポリ(フェニルシリレン−1,4−フェニ
レンエチニレン−1',4'−フェニレン)等が挙げられ
る。これらのSi−H結合を有する高分子化合物は2種
類以上用いても良い。
Poly (methylsilylene-1,4-phenyleneethynylene), poly (methylsilylene-1,2-phenyleneethynylene), poly (phenylsilylene-1,3)
-Butadiynylene), poly (phenylsilylenemethyleneethynylene), poly (phenylsilylenemethyleneethynylenemethylene), poly (silylene-1,4-phenyleneethynylene-1 ′, 4′-phenylene), poly (methylsilylene-1) , 4-phenyleneethynylene-1 ′, 4′-phenylene), poly (phenylsilylene-1,4-phenyleneethynylene-1 ′, 4′-phenylene) and the like. Two or more of these polymer compounds having a Si—H bond may be used.

【0030】これらの一般式(1)で表されるSi−H
結合を有する高分子化合物の製造方法としては、ジアル
コキシシラン化合物やジクロロシラン化合物の加水分解
を行う方法、塩基性酸化物、金属水素化物、金属化合物
類を触媒としてジエチニル化合物とシラン化合物の脱水
素共重合を行う方法(特開平7−90085、特開平1
0−120689、特開平11−158187)、塩基
性酸化物を触媒としてエチニルシラン化合物の脱水素重
合を行う方法(特開平9−143271)、有機マグネ
シウム試薬とジクロロシラン類を反応させる方法(特開
平7−102069)、塩化第一銅と三級アミンを触媒
としてジエチニル化合物とヒドロシラン化合物の脱水素
共重合を行う方法(Hua Qin Liu and John F. Ha
rrod, The Canadian Journal of Chemistry, Vo
l. 68, 1100-1105(1990))等が使用できるが、特にこ
れらの方法に限定されるものではない。
The Si—H represented by the general formula (1)
As a method for producing a polymer compound having a bond, a method of hydrolyzing a dialkoxysilane compound or a dichlorosilane compound, dehydrogenation of a diethynyl compound and a silane compound using a basic oxide, a metal hydride, or a metal compound as a catalyst are used. Copolymerization method (JP-A-7-90085, JP-A-190085)
0-120689, JP-A-11-158187), a method of performing dehydrogenation polymerization of an ethynylsilane compound using a basic oxide as a catalyst (JP-A-9-143271), and a method of reacting an organomagnesium reagent with dichlorosilanes (JP-A-Hei. 7-102069), a method of performing dehydrogenation copolymerization of a diethynyl compound and a hydrosilane compound using cuprous chloride and a tertiary amine as catalysts (Hua Qin Liu and John F. Ha)
rrod, The Canadian Journal of Chemistry, Vo
l. 68, 1100-1105 (1990)) and the like, but are not particularly limited to these methods.

【0031】<ヒドロキシ化合物>もう一つの化合物で
あるヒドロキシ基を分子内に2個以上有する化合物は脂
肪族ヒドロキシ類、芳香族ヒドロキシ類に分類できる。
<Hydroxy compound> Another compound having two or more hydroxy groups in the molecule can be classified into aliphatic hydroxys and aromatic hydroxys.

【0032】ヒドロキシ基を分子内に2個以上有する化
合物の脂肪族ヒドロキシ類は具体例としては、エチレン
グリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタン
ジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジ
オール、3,3−ジメチル−1,2−ブタンジオール、
ピナコール、1,5−ペンタンジオール、2,4−ペン
タンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2,5−ヘ
キサンジオール、2−クロロ−5−メチル−2,5−ヘ
キサンジオール、1,7−ヘプタンジオール、2,6−
ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、2−ブ
チン−1,4−ジオール、3−ヘキシン−1,6−ジオ
ール、3−ヘキシン−2,5−ジオール、4−オクチン
−1,8−ジオール、2,5−ジメチル−3−ヘキシン
−2,5−ジオール、2−クロロ−5−メチル−3−ヘ
キシン−2,5−ジオール、3,6−ジメチル−4−オ
クチン−3,6−ジオール、2,4,7.9−テトラメ
チル−5−デシン−4,7−ジオール、2,4−ヘキサ
ジイン−1,6−ジオール、3,5−オクタジイン−
1,8−ジオール、2,7−ジメチル−3,5−オクタ
ジイン−2,7−ジオール、1,4−ビス(1’−ヒド
ロキシシクロペンチル)−1,3−ブタジイン、2−ブ
テン−1,4−ジオール、3−ヘキセン−1,6−ジオ
ール、3−ヘキセン−2,5−ジオール、4−オクテン
−1,8−ジオール、2,5−ジメチル−3−ヘキセン
−2,5−ジオール、2−クロロ−5−メチル−3−ヘ
キセン−2,5−ジオール、3,6−ジメチル−4−オ
クテン−3,6−ジオール、2,4,7.9−テトラメ
チル−5−デセン−4,7−ジオール、ヒドロキシパナ
キシジオール、1−ブロモ−7−オキサ−バイシクロ
(4.1.0)ヘプタン−2,3,4,5−テトラオー
ル、ジエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、
N,N’−ビス(2−ヒドロキシエチル)エチレンジア
ミン、2−アミノ−4−オクチン−1,8−ジオール、
2−アミノ−6−クロロ−4−オクチン−1,8−ジオ
ール、2−ヒドロキシ−4−オクチン−1,8−ジオー
ル等が挙げられる。
Specific examples of the aliphatic hydroxy of the compound having two or more hydroxy groups in the molecule include ethylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, , 3-butanediol, 3,3-dimethyl-1,2-butanediol,
Pinacol, 1,5-pentanediol, 2,4-pentanediol, 1,6-hexanediol, 2,5-hexanediol, 2-chloro-5-methyl-2,5-hexanediol, 1,7-heptane Diol, 2,6-
Heptanediol, 1,8-octanediol, 2-butyne-1,4-diol, 3-hexyne-1,6-diol, 3-hexyne-2,5-diol, 4-octyne-1,8-diol, 2,5-dimethyl-3-hexyne-2,5-diol, 2-chloro-5-methyl-3-hexyne-2,5-diol, 3,6-dimethyl-4-octyne-3,6-diol, 2,4,7.9-tetramethyl-5-decyne-4,7-diol, 2,4-hexadiyne-1,6-diol, 3,5-octadiyne-
1,8-diol, 2,7-dimethyl-3,5-octadiyne-2,7-diol, 1,4-bis (1′-hydroxycyclopentyl) -1,3-butadiyne, 2-butene-1,4 -Diol, 3-hexene-1,6-diol, 3-hexene-2,5-diol, 4-octene-1,8-diol, 2,5-dimethyl-3-hexene-2,5-diol, 2 -Chloro-5-methyl-3-hexene-2,5-diol, 3,6-dimethyl-4-octene-3,6-diol, 2,4,7.9-tetramethyl-5-decene-4, 7-diol, hydroxypanaxidiol, 1-bromo-7-oxa-bicyclo (4.1.0) heptane-2,3,4,5-tetraol, diethanolamine, diisopropanolamine,
N, N′-bis (2-hydroxyethyl) ethylenediamine, 2-amino-4-octyne-1,8-diol,
2-amino-6-chloro-4-octyne-1,8-diol, 2-hydroxy-4-octyne-1,8-diol and the like can be mentioned.

【0033】芳香族ヒドロキシ類はカテコール、3−フ
ルオロカテコール、4−メチルカテコール、4−アミノ
カテコール、レゾルシノール、4−ブロモレゾルシノー
ル、5−メトキシレゾルシノール、ヒドロキノン、メチ
ルヒドロキノン、テトラフルオロヒドロキノン、1,2
−ジヒドロキシナフタレン、1,3−ジヒドロキシナフ
タレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、2,3−ジ
ヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレ
ン、1−クロロ−2,6−ジヒドロキシナフタレン、1
−アミノ−2,6−ジヒドロキシナフタレン、4−(3
−ヒドロキシ−3−メチルブチン−1−イル)ベンジル
アルコール、1,1,4,4−テトラフェニル−2−ブ
チン−1,4ジオール、1,1,6,6−テトラフェニ
ル−ヘキサ−2,4−ジイン−1,6−ジオール、1,
1,1,8,8,8−ヘキサフェニル−オクタ−3,5
−ジイン−2,7−ジオール、1,1,4,4−テトラ
フェニル−2−ブテン−1,4−ジオール、テトラヒド
ロキシ−p−ベンゾキノン、3,5−ジヒドロキシアセ
トフェノン、アントラセンジオール、1,2−アントラ
センジオール、1,5−アントラセンジオール、1,8
−アントラセンジオール、2,6−アントラセンジオー
ル、1,3−ジヒドロキシアントラキノン、1,4−ジ
ヒドロキシアントラキノン、1,5−ジヒドロキシアン
トラキノン、1,6−ジヒドロキシアントラキノン、
1,7−ジヒドロキシアントラキノン、1,8−ジヒド
ロキシアントラキノン、2,3−ジヒドロキシアントラ
キノン、2,6−ジヒドロキシアントラキノン、2,7
−ジヒドロキシアントラキノン、N−フェニルジエタノ
ールアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−
M−クロロアミン、3−(N−ベンジル−N−メチルア
ミノ)−1,2−プロパンジオール、8−ヒドロキシ−
4−(7−ヒドロキシ−6−メトキシ−2−オキソ−1
A,2,7,7A−テトラヒドロナフト[2,3B]オキ
シリン、4−アミノ−カテコール、5−アミノレゾルシ
ノール、1,2,4−ベンゼントリオール、4−(7−
ヒドロキシ−2ナフチル)ピロガロール等を挙げること
ができる。ヒドロキシ基を分子内に2個以上有する化合
物は単独でもしくは2種以上混合して用いられる。
Aromatic hydroxys include catechol, 3-fluorocatechol, 4-methylcatechol, 4-aminocatechol, resorcinol, 4-bromoresorcinol, 5-methoxyresorcinol, hydroquinone, methylhydroquinone, tetrafluorohydroquinone, 1,2
-Dihydroxynaphthalene, 1,3-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, 1-chloro-2,6-dihydroxynaphthalene, 1
-Amino-2,6-dihydroxynaphthalene, 4- (3
-Hydroxy-3-methylbutyn-1-yl) benzyl alcohol, 1,1,4,4-tetraphenyl-2-butyne-1,4 diol, 1,1,6,6-tetraphenyl-hexa-2,4 -Diyne-1,6-diol, 1,
1,1,8,8,8-hexaphenyl-octa-3,5
-Diyne-2,7-diol, 1,1,4,4-tetraphenyl-2-butene-1,4-diol, tetrahydroxy-p-benzoquinone, 3,5-dihydroxyacetophenone, anthracenediol, 1,2 Anthracene diol, 1,5-anthracene diol, 1,8
-Anthracenediol, 2,6-anthracenediol, 1,3-dihydroxyanthraquinone, 1,4-dihydroxyanthraquinone, 1,5-dihydroxyanthraquinone, 1,6-dihydroxyanthraquinone,
1,7-dihydroxyanthraquinone, 1,8-dihydroxyanthraquinone, 2,3-dihydroxyanthraquinone, 2,6-dihydroxyanthraquinone, 2,7
-Dihydroxyanthraquinone, N-phenyldiethanolamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl)-
M-chloroamine, 3- (N-benzyl-N-methylamino) -1,2-propanediol, 8-hydroxy-
4- (7-hydroxy-6-methoxy-2-oxo-1
A, 2,7,7A-tetrahydronaphtho [2,3B] oxyline, 4-amino-catechol, 5-aminoresorcinol, 1,2,4-benzenetriol, 4- (7-
(Hydroxy-2naphthyl) pyrogallol and the like. Compounds having two or more hydroxy groups in the molecule may be used alone or as a mixture of two or more.

【0034】<組成物>本発明のSi−H結合を有する
高分子化合物とヒドロキシ基を分子内に2個以上有する
化合物とからなるケイ素化合物を含有する組成物を調製
する方法としては、以下を例示できる。 (a)Si−H結合を有する高分子化合物とヒドロキシ
基を分子内に2個以上有する化合物を乳鉢、ヘンシェル
ミキサー、ドラムブレンダー、タンブラーブレンダー、
ボールミルリボンブレンダー等を用いて混練する。 (b)ヒドロキシ基を分子内に2個以上有する化合物が
液体の場合はSi−H結合を有する高分子化合物を添加
し、均一に溶解あるいは分散させる。 (c)Si−H結合を有する高分子化合物が液体の場合
はヒドロキシ基を分子内に2個以上有する化合物を添加
し、均一に溶解あるいは分散させる。 (d)ヒドロキシ基を分子内に2個以上有する化合物を
あらかじめ有機溶剤に溶解もしくは懸濁させ、この溶液
にSi−H結合を有する高分子化合物を添加し、均一に
溶解あるいは分散させそのまま、あるいは溶媒を除去し
て使用する。 (e)Si−H結合を有する高分子化合物をあらかじめ
有機溶剤に溶解もしくは懸濁させ、この溶液にヒドロキ
シ基を分子内に2個以上有する化合物を添加し、均一に
溶解あるいは分散させそのまま、あるいは溶媒を除去し
て使用する。(d)および(e)において、Si−H結
合を有するヒドロシラン化合物をヒドロキシ基を分子内
に2個以上有する化合物に溶解する場合に使用できる有
機溶剤としては、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン
などの飽和脂肪族溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン
などの芳香族系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、モノグライム、ジグライムなどのエーテル系溶媒、
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなど
のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノー
ルなどの脂肪族アルコール溶媒、N,N−ジメチルイミ
ダゾリディノン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、N−メチルピロリドンなどの有機極
性溶媒などが挙げられ、これらは単独または2種以上混
合して使用することもできる。
<Composition> A method for preparing a composition containing a silicon compound comprising the polymer compound having a Si—H bond of the present invention and a compound having two or more hydroxy groups in the molecule is as follows. Can be illustrated. (A) a mortar, a Henschel mixer, a drum blender, a tumbler blender, and a polymer compound having a Si—H bond and a compound having two or more hydroxy groups in a molecule;
Knead using a ball mill ribbon blender or the like. (B) When the compound having two or more hydroxy groups in the molecule is a liquid, a polymer compound having a Si—H bond is added and uniformly dissolved or dispersed. (C) When the polymer compound having a Si—H bond is a liquid, a compound having two or more hydroxy groups in the molecule is added and uniformly dissolved or dispersed. (D) A compound having two or more hydroxy groups in a molecule is dissolved or suspended in an organic solvent in advance, and a polymer compound having a Si-H bond is added to the solution and uniformly dissolved or dispersed, or Use after removing the solvent. (E) A polymer compound having a Si—H bond is dissolved or suspended in an organic solvent in advance, and a compound having two or more hydroxy groups in a molecule is added to the solution, and the compound is uniformly dissolved or dispersed, or Use after removing the solvent. In (d) and (e), when the hydrosilane compound having a Si—H bond is dissolved in a compound having two or more hydroxy groups in the molecule, the organic solvent used may be a saturated fat such as hexane, heptane, or cyclohexane. Aromatic solvents, aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, monoglyme, diglyme,
Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone; aliphatic alcohol solvents such as methanol, ethanol and propanol; organic polar solvents such as N, N-dimethylimidazolidinone, N, N-dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone Solvents and the like can be mentioned, and these can be used alone or in combination of two or more.

【0035】このようにして得られたSi−H結合を有
する高分子化合物とヒドロキシ基を分子内に2個以上有
する化合物とからなるケイ素を含有する組成物は、さら
に50℃〜700℃の温度範囲で加熱硬化される。この
場合、必要に応じて硬化剤を目的に損なわない範囲で添
加することもできる。Si−H結合を有する高分子化合
物とヒドロキシ基を分子内に2個以上有する化合物、お
よび必要に応じて硬化剤を添加した組成物の成形には、
各種の成形法、例えば、射出成形、圧縮成形、トランス
ファ成形、押し出し成形などの手法が用いられ、所定の
温度で所定の時間保つことにより硬化成形できる。ケイ
素を含有する組成物が溶液の場合は硬化する前に溶媒を
除去することが望ましい。
The thus obtained silicon-containing composition comprising the polymer compound having a Si--H bond and the compound having two or more hydroxy groups in the molecule further has a temperature of 50 to 700.degree. Heat cured in the range. In this case, if necessary, a curing agent can be added within a range that does not impair the purpose. For molding a polymer compound having a Si—H bond and a compound having two or more hydroxy groups in a molecule, and a composition to which a curing agent is added as necessary,
Various molding methods, for example, injection molding, compression molding, transfer molding, extrusion molding, and the like are used, and curing molding can be performed by maintaining a predetermined temperature at a predetermined temperature for a predetermined time. When the composition containing silicon is a solution, it is desirable to remove the solvent before curing.

【0036】本発明の組成物の5%重量減少温度は通常
250℃以上、好ましくは300℃以上、さらに好まし
くは350℃以上である。
The 5% weight loss temperature of the composition of the present invention is usually at least 250 ° C, preferably at least 300 ° C, more preferably at least 350 ° C.

【0037】本発明の組成物の硬化成形体の曲げ強度の
下限値は、通常15MPa以上、好ましくは20MPa
以上、さらに好ましくは25MPa以上である。
The lower limit of the bending strength of the cured molded article of the composition of the present invention is usually 15 MPa or more, preferably 20 MPa.
The pressure is more preferably 25 MPa or more.

【0038】<硬化剤>硬化剤としては、金属アルコキ
シド類、金属アミド類、金属イミド類、金属水素化物
類、有機金属化合物類、ラジカル開始剤、遷移金属錯
体、脂肪族アミン、芳香族アミン、イミダゾール類等を
用い得る。
<Curing Agent> As the curing agent, metal alkoxides, metal amides, metal imides, metal hydrides, organometallic compounds, radical initiators, transition metal complexes, aliphatic amines, aromatic amines, Imidazoles and the like can be used.

【0039】金属アルコキシド類としてはリチウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド、カリウムヘキシルオキ
シド、ルビジウムイソプロポキシド、セシウムフェノキ
シド、ベリリウムジメトキシド、マグネシウムジエトキ
シド、ベリリウムブトキシド、カルシウムフェノキシ
ド、ストロンチウムメトキシエトキシド、バリウムジオ
クチルオキシド、ボロントリメトキシド、アルミニウム
トリフェノキシド、ガリウムトリヘキシルオキシド、イ
ンジウムトリメトキシド、イットリウムトリエトキシ
ド、チタンテトラメトキシド、ジルコニウムテトラエト
キシド、ニオブペンタエトキシド、クロムトリエトキシ
ド、マンガンジメトキシド、鉄トリエトキシド、マンガ
ンジメトキシド、コバルトジメトキシド、ニッケルジエ
トキシド、銅ジエトキシド、リチウムアルミニウムテト
ラエトキシドなどが挙げられる。
Metal alkoxides include lithium methoxide, sodium ethoxide, potassium hexyl oxide, rubidium isopropoxide, cesium phenoxide, beryllium dimethoxide, magnesium diethoxide, beryllium butoxide, calcium phenoxide, strontium methoxy ethoxide, barium dioctyl Oxide, boron trimethoxide, aluminum triphenoxide, gallium trihexyl oxide, indium trimethoxide, yttrium triethoxide, titanium tetramethoxide, zirconium tetraethoxide, niobium pentaethoxide, chromium triethoxide, manganese dimethoxide, Iron triethoxide, manganese dimethoxide, cobalt dimethoxide, nickel diethoxide, copper diethoxide De, and lithium aluminum tetraethoxide is.

【0040】金属アミド類としてリチウムアミド、リチ
ウムトリメチルシリルアミド、ナトリウムメチルアミ
ド、カリウムエチルアミド、カリウムフェニルアミド、
ルビジウムイソプロピルアミド、セシウムブチルアミ
ド、ベリリウムジアミド、マグネシウムビス(ブチルア
ミド)、カルシウムビス(ジヘキシルアミド)、ストロ
ンチウムビス(イソプチルアミド)、バリウムビス(ア
リルイミド)等が挙げられる。
As metal amides, lithium amide, lithium trimethylsilylamide, sodium methylamide, potassium ethylamide, potassium phenylamide,
Rubidium isopropylamide, cesium butylamide, beryllium diamide, magnesium bis (butylamide), calcium bis (dihexylamide), strontium bis (isobutylamide), barium bis (allylimide) and the like.

【0041】金属イミド類としてリチウムイミド、リチ
ウムトリメチルシリルイミド、ナトリウムメチルイミ
ド、カリウムエチルイミド、カリウムフェニルイミド、
ルビジウムイソプロピルイミド、セシウムブチルイミ
ド、ベリリウムジイミド、マグネシウムビス(ブチルイ
ミド)、カルシウムビス(ジヘキシルイミド)、ストロ
ンチウムビス(イソプチルイミド)、バリウムビス(ア
リルイミド)等が挙げられる。
As metal imides, lithium imide, lithium trimethylsilyl imide, sodium methyl imide, potassium ethyl imide, potassium phenyl imide,
Examples include rubidium isopropylimide, cesium butyl imide, beryllium diimide, magnesium bis (butyl imide), calcium bis (dihexyl imide), strontium bis (isobutyl imide), and barium bis (allyl imide).

【0042】金属水素化物類としてはLiH、CaH2、BH3
AlH3、NaBH4、KBH4、LiAlH4、(CH3) 4NBH4、LiBH(C2H
5)、KBH(C6H5)3、NaBH(OCH3)、NaBH3CN、(I-C3H7)2Al
H、LiAlH2(OC2H5)2、NaAlH2(C2H5)2、SnH(n-C4H9)3等が
挙げられる。
As metal hydrides, LiH, CaHTwo, BHThree,
AlHThree, NaBHFour, KBHFour, LiAlHFour, (CHThree) FourNBHFour, LiBH (C2H
5), KBH (C6H5) 3, NaBH (OCH3), NaBH3CN, (I-C3H7) 2Al
H, LiAlH2 (OC2H5) 2, NaAlHTwo(CTwoHFive)Two, SnH (n-CFourH9)ThreeEtc.
No.

【0043】有機金属化合物類としてはメチルリチウ
ム、エチルリチウム、プロピルナトリウム、アリルナト
リウム、エチルカリウム、ジメチルベリリウム、ジエチ
ルカルシウム、メチルマグネシウムアイオダイト、ジt
ーブチルカルシウム、トリtーブチルストロンチウム、
フェニルバリウム、トリメチルアルミニウム、ジメチル
亜鉛、ジnーブチルカドミウム、リチウムテトラエチル
アルミニウム等が挙げられる。
Examples of the organometallic compounds include methyl lithium, ethyl lithium, propyl sodium, allyl sodium, ethyl potassium, dimethyl beryllium, diethyl calcium, methyl magnesium iodide, di-t
-Butyl calcium, tri-t-butyl strontium,
Examples include phenyl barium, trimethyl aluminum, dimethyl zinc, di-n-butyl cadmium, lithium tetraethyl aluminum and the like.

【0044】金属ラジカル開始剤としては、過酸化水
素、過硫酸アンモン、過酸化ベンゾイル、クメンパーオ
キサイド、シクロヘキサンパーオキサイド、ジーtブチ
ルパーオキサイド、tーブチルハイドロパーオキサイ
ド、メチルエチルケトンパーオキサイド、アゾビスイソ
ブチロニトリルが挙げられる。
Examples of the metal radical initiator include hydrogen peroxide, ammonium persulfate, benzoyl peroxide, cumene peroxide, cyclohexane peroxide, di-tert-butyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, methyl ethyl ketone peroxide, and azobisiso-peroxide. Butyronitrile.

【0045】遷移金属錯体としてはRhCl(PPh3)3、RhCl
(PBu3)3、Rh4(CO)12、 [RhCl(CO)2] 2、RhCl(CO)(PPh3)
2、[RhCl(COD)] 2(式中、CODはシクロオクタジエンを
示す。以下同様)、[CpRhCl2] 2(式中、Cpはシクロペ
ンタジエニル基またはペンタメチルシクロペンタジエニ
ル基を示す。以下同様)、Rh/C、RuCl(PPh3)3、RuCl2(P
Ph3)3、Ru(CO)5、Ru(CO)4PPh3、Ru3(CO)12、Ru(PP
h3)5、[RuCl2(CO)3]2、RuClH(CO)(PPh3)3、RuH4(PP
h3)3、 [CpRuCl2] 2、Ru/C、Ru(COD)(COT)(式中、COT
はシクロオクタテトラエンを示す。以下同様)、Fe(CO)
5、Fe(CO)3(PPh3)2、Os3(CO)12、OsH2(CO)(PPh3)3、Os/
C、Co4(CO)12、HCo(CO)4、CoCl(PPh3)3、Ir4(CO)12
[IrCl(COD)] 2、IrCl(PPh3)3、IrH5(PPh3)2、Ni(C
O) 4、Ni(PPh3)4、NiCl2(PPh3)2、Pd(PEt3)2、Pd(PiP
r3)2、Pd(P(c-C6H11)3)2、Pd(PPh3)2、PdCl2(PMe3)2、P
dCl2(PEt3)2、PdCl2(PiPr3)2、PdCl2(PBu3)2、PdCl2(P
(c-C6H11)3)2、PdCl2(PPh3)2、PdCl2(PhNC)2、Pd(PPh3)
4、Pd(dba)2(式中、dbaはジベンジリデンアセトンを示
す。以下同様)、PdCl2(dba)2、Pd/C、PtCl(PPh3)2(CO
D)、PtCl2(PPh3) 2、PtCl2(PEt3)2、[PtCl2(CH2=C
H2)]2、PtCl2(COD) 2、Pt(PPh3)4、Pt(PPh3)3、Pt(CO)
(PPh3)3、Pt/C、PtHCl(PPh3)2、H2PtCl6、K2PtCl6、Pt
(dba)2、Pt2(dba)3などが挙げられる。
As the transition metal complex, RhCl (PPhThree)Three, RhCl
(PBuThree)Three, RhFour(CO)12, [RhCl (CO)Two] Two, RhCl (CO) (PPhThree)
Two, [RhCl (COD)]Two(Where COD is cyclooctadiene
Show. The same applies hereinafter), [CpRhClTwo]Two(Where Cp is cyclope
Antadienyl group or pentamethylcyclopentadienyl
Represents a hydroxyl group. The same applies hereinafter), Rh / C, RuCl (PPhThree)Three, RuClTwo(P
PhThree)Three, Ru (CO)Five, Ru (CO)FourPPhThree, RuThree(CO)12, Ru (PP
hThree)Five, [RuClTwo(CO)Three]Two, RuClH (CO) (PPhThree)Three, RuHFour(PP
hThree)Three, [CpRuClTwo]Two, Ru / C, Ru (COD) (COT) (where COT
Represents cyclooctatetraene. Hereinafter the same), Fe (CO)
Five, Fe (CO)Three(PPhThree)Two, OsThree(CO)12, OsHTwo(CO) (PPhThree)Three, Os /
C, CoFour(CO)12, HCo (CO)Four, CoCl (PPhThree)Three, IrFour(CO)12,
[IrCl (COD)]Two, IrCl (PPhThree)Three, IrHFive(PPhThree)Two, Ni (C
O)Four, Ni (PPhThree)Four, NiClTwo(PPhThree)Two, Pd (PEtThree)Two, Pd (PiP
rThree)Two, Pd (P (c-C6H11)Three)Two, Pd (PPhThree)Two, PdClTwo(PMeThree)Two, P
dClTwo(PEtThree)Two, PdClTwo(PiPrThree)Two, PdClTwo(PBuThree)Two, PdClTwo(P
(c-C6H11)Three)Two, PdClTwo(PPhThree)Two, PdClTwo(PhNC)Two, Pd (PPhThree)
Four, Pd (dba)Two(In the formula, dba indicates dibenzylideneacetone
You. The same applies hereinafter), PdClTwo(dba)Two, Pd / C, PtCl (PPhThree)Two(CO
D), PtClTwo(PPhThree) Two, PtClTwo(PEtThree)Two, [PtClTwo(CHTwo= C
HTwo)]Two, PtClTwo(COD)Two, Pt (PPhThree)Four, Pt (PPhThree)Three, Pt (CO)
(PPhThree)Three, Pt / C, PtHCl (PPhThree)Two, HTwoPtCl6, KTwoPtCl6, Pt
(dba)Two, PtTwo(dba)ThreeAnd the like.

【0046】脂肪族アミンとしてはエチレンジアミン、
ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジプ
ロピレントリアミン、モノエタノールアミン、ヘキサメ
チレンジアミン等が挙げられる。
As the aliphatic amine, ethylenediamine,
Examples thereof include diethylenetriamine, triethylenetetramine, dipropylenetriamine, monoethanolamine, and hexamethylenediamine.

【0047】芳香族アミンとしてはフェニレンジアミ
ン、ジアミノアニソール、トルエンジアミン、キシレン
ジアミン、ジアミノビスジフェニルメタン、α―メチル
ジメチルアミン等が挙げられる。
Examples of the aromatic amine include phenylenediamine, diaminoanisole, toluenediamine, xylenediamine, diaminobisdiphenylmethane, α-methyldimethylamine and the like.

【0048】イミダゾール類としては2−メチルイミダ
ゾール、2−エチルー4−メチルイイミダゾール、2−
フェニルイミダゾール、1−シアノエチルー2−メチル
イミダゾール等が挙げられる。
Examples of imidazoles include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole,
Phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole and the like can be mentioned.

【0049】いずれの硬化剤も、これらに限定されるも
のではない。これらの金属アルコキシド類、金属アミド
類、金属イミド類、金属水素化物類、有機金属化合物
類、ラジカル開始剤、遷移金属錯体、脂肪族アミン、芳
香族アミン、イミダゾール類は単独で、もしくは2種以
上の混合物として用いることもでき、使用量はヒドロキ
シ基を分子内に2個以上有する化合物1g対し0.00
001mmol〜200mmol、好ましくは0.00
01mmol〜1mmol、さらに好ましくは0.00
01mmol〜0.1mmolである。
None of the curing agents is limited to these. These metal alkoxides, metal amides, metal imides, metal hydrides, organometallic compounds, radical initiators, transition metal complexes, aliphatic amines, aromatic amines, imidazoles may be used alone or in combination of two or more. Can be used as a mixture. The amount is 0.001 to 1 g of the compound having two or more hydroxy groups in the molecule.
001 mmol to 200 mmol, preferably 0.00
01 mmol to 1 mmol, more preferably 0.00
It is from 01 mmol to 0.1 mmol.

【0050】<硬化反応>加熱硬化の温度はSi−H結
合を有する高分子化合物とヒドロキシ基を分子内に2個
以上有する化合物の種類などにより異なるが50℃〜7
00℃、好ましくは50℃〜500℃、さらに好ましく
は100℃〜300℃である。硬化時間はSi−H結合
を有する高分子化合物とヒドロキシ基を分子内に2個以
上有する化合物の種類などにより異なるが30秒〜10
0日、好ましくは1分〜100時間、さらに好ましくは
10分〜24時間である。加熱硬化処理は空気、窒素、
アルゴン、ヘリウムなどのガス雰囲気下、常圧、加圧あ
るいは減圧下で行いうる。
<Curing Reaction> The temperature of the heat curing varies depending on the type of the polymer compound having a Si—H bond and the compound having two or more hydroxy groups in the molecule.
00 ° C, preferably 50 ° C to 500 ° C, more preferably 100 ° C to 300 ° C. The curing time varies depending on the type of the polymer compound having a Si—H bond and the compound having two or more hydroxy groups in the molecule, but is from 30 seconds to 10 seconds.
0 day, preferably 1 minute to 100 hours, more preferably 10 minutes to 24 hours. Heat curing treatment is air, nitrogen,
It can be carried out under a gas atmosphere such as argon or helium, at normal pressure, under pressure or under reduced pressure.

【0051】Si−H結合を有する高分子化合物とヒド
ロキシ基を分子内に2個以上有する化合物との硬化反応
は、反応容器中、溶媒の存在下あるいは非存在下におい
てラジカル開始剤や遷移金属錯体を用いて行うこともで
きる。反応系での各成分量は上述したものと同じであ
る。この場合には、反応終了後に溶媒を留出除去する、
あるいはイオン交換樹脂、金属酸化物や活性炭により触
媒残さを除去するなど方法を採用できる。
The curing reaction between a polymer compound having a Si—H bond and a compound having two or more hydroxy groups in a molecule is carried out in a reaction vessel in the presence or absence of a solvent in the presence of a radical initiator or a transition metal complex. Can also be performed. The amounts of each component in the reaction system are the same as those described above. In this case, the solvent is distilled off after the completion of the reaction,
Alternatively, a method such as removing the catalyst residue with an ion exchange resin, metal oxide or activated carbon can be employed.

【0052】[0052]

【実施例】以下、本発明を実施例及び比較例によって説
明する。
The present invention will be described below with reference to examples and comparative examples.

【0053】[0053]

【実施例1】ポリ(メチルハイドロジェンシロキサン)
2.40gとヒドロキノン2.20gを20mlのサン
プル管に仕込みスターラ(マキシミックスII型、サーモ
ライン製)にて2分間、懸濁混合した。アルミ製型に入
れ、プレス機にて200℃で10分間溶融後、300
℃、30分間、2.9MPaの加圧下でプレス成形し
た。このケイ素を含有する組成物の硬化成形体のアルゴ
ン気流中におけるTd5は308℃であった。1000
℃での重量減少は53%であった。また、このケイ素化
合物を含有する組成物の硬化成形体の曲げ破壊強度は1
5MPaであった。
Example 1 Poly (methyl hydrogen siloxane)
2.40 g and 2.20 g of hydroquinone were charged into a 20 ml sample tube, and suspended and mixed with a stirrer (Maximix II type, manufactured by Thermoline) for 2 minutes. Put in an aluminum mold, melt at 200 ° C for 10 minutes with a press machine,
Press molding was performed under a pressure of 2.9 MPa at 30 ° C. for 30 minutes. Td 5 of the cured molded product of the composition containing silicon in an argon stream was 308 ° C. 1000
Weight loss at 53 ° C. was 53%. The cured product of the composition containing this silicon compound has a flexural strength of 1
It was 5 MPa.

【0054】[0054]

【比較例1】実施例1に使用したポリ(メチルハイドロ
ジェンシロキサン)のアルゴン気流中におけるTd5
220℃であった。1000℃での重量減少は98%だ
った。
Comparative Example 1 Td 5 of the poly (methyl hydrogen siloxane) used in Example 1 in an argon stream was 220 ° C. The weight loss at 1000 ° C. was 98%.

【0055】[0055]

【合成例1】特開平7−90085に記載されている方
法に基づきポリ(フェニルシリレンエチニレン−1,3
−フェニレンエチニレン)を合成した。粒径が30〜6
0メッシュの水酸化マグネシウム144gを石英焼成管
に仕込み、0.3mmHgの減圧下において350℃で
3時間熱分解して100gの酸化マグネシウムを得た。
2000mlのガラス製容器の内部に攪拌羽を設置し、
容器内を高純度窒素ガスで置換した。続いて容器内に原
料のジエチニルベンゼン50.4g(0.4mol)と
フェニルシラン43.2g(0.4mol)及び溶媒と
してトルエン800mlを仕込み、撹拌しながら先に得
た酸化マグネシウム100gを窒素シール下で加えた。
30℃で1時間、40℃で1時間、50℃で1時間、6
0℃で1時間、さらに80℃で2時間撹拌後、反応液を
ガラスフィルターで濾過し触媒を除去した。さらに反応
液を濃縮後、ヘプタン8000ml中でポリマーを析出
させ56.2gの目的生成物であるポリ(フェニルシリ
レンエチニレン−1,3−フェニレンエチニレン)(M
SP−1)が得られた。収率は61%であった。GPC
(ゲル透過クロマトグラフィー)によるポリスチレン換
算重量平均分子量は6900であった。
Synthesis Example 1 Poly (phenylsilyleneethynylene-1,3) was prepared based on the method described in JP-A-7-90085.
-Phenyleneethynylene). Particle size is 30-6
144 g of 0-mesh magnesium hydroxide was charged into a quartz firing tube, and pyrolyzed at 350 ° C. for 3 hours under a reduced pressure of 0.3 mmHg to obtain 100 g of magnesium oxide.
Place a stirring blade inside the 2000 ml glass container,
The inside of the vessel was replaced with high-purity nitrogen gas. Subsequently, 50.4 g (0.4 mol) of the raw material diethynylbenzene, 43.2 g (0.4 mol) of phenylsilane, and 800 ml of toluene as a solvent were charged into the container, and 100 g of the previously obtained magnesium oxide was sealed with nitrogen while stirring. Added below.
1 hour at 30 ° C, 1 hour at 40 ° C, 1 hour at 50 ° C, 6
After stirring at 0 ° C for 1 hour and further at 80 ° C for 2 hours, the reaction solution was filtered through a glass filter to remove the catalyst. After further concentrating the reaction solution, the polymer was precipitated in 8000 ml of heptane, and 56.2 g of the desired product, poly (phenylsilyleneethynylene-1,3-phenyleneethynylene) (M
SP-1) was obtained. The yield was 61%. GPC
The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by (gel permeation chromatography) was 6,900.

【0056】[0056]

【実施例2】合成例1で得られたMSP−1を2.30
gとヒドロキノン0.28gを粉砕機(A−10、イカ
ジャパン製)にて1分間、粉砕混合した。アルミ製型に
入れ、プレス機にて150℃で15分間溶融後、300
℃、30分間、2.9MPaの加圧下でプレス成形し
た。このケイ素を含有する組成物の硬化成形体のアルゴ
ン気流中におけるTd5は478℃であった。1000
℃での重量減少は16%であった。また、このケイ素化
合物を含有する組成物の硬化成形体の曲げ破壊強度は2
5MPaであった。
Example 2 MSP-1 obtained in Synthesis Example 1 was obtained at 2.30.
g and hydroquinone 0.28 g were pulverized and mixed in a pulverizer (A-10, manufactured by Squid Japan) for 1 minute. Put in an aluminum mold, melt at 150 ° C for 15 minutes with a press machine,
Press molding was performed under a pressure of 2.9 MPa at 30 ° C. for 30 minutes. Td 5 of the cured molded product of the composition containing silicon in an argon stream was 478 ° C. 1000
Weight loss at 16 ° C. was 16%. The flexural strength of a cured product of the composition containing the silicon compound is 2
It was 5 MPa.

【0057】[0057]

【実施例3】合成例1で得られたMSP−1を2,30
gと1,6−ジヒドロキシナフタレン0.20gを粉砕
機(A−10、イカジャパン製)にて1分間、粉砕混合
した。アルミ製型に入れ、真空プレス機にて3mmHg
の減圧下200℃で10分間溶融後、3mmHgの減圧
下250℃、30分間、2.9MPaの加圧下でプレス
成形した。さらに400℃で2時間、アルゴン気流中に
て電気炉で焼成した。このケイ素を含有する組成物の硬
化成形体のアルゴン気流中におけるTd5は530℃で
あった。このケイ素化合物を含有する組成物の硬化成形
体の曲げ破壊強度は27MPaであった。
Example 3 MSP-1 obtained in Synthesis Example 1 was converted to 2,30
g and 0.20 g of 1,6-dihydroxynaphthalene were pulverized and mixed for 1 minute by a pulverizer (A-10, manufactured by Squid Japan). Put into aluminum mold, 3mmHg with vacuum press
After melting at 200 ° C. for 10 minutes under reduced pressure, press molding was performed at 250 ° C. for 30 minutes under reduced pressure of 3 mmHg under a pressure of 2.9 MPa. Further, firing was performed in an electric furnace at 400 ° C. for 2 hours in an argon stream. Td 5 of the cured molded product of the composition containing silicon in an argon stream was 530 ° C. The flexural strength of the cured molded article of the composition containing the silicon compound was 27 MPa.

【0058】[0058]

【比較例2】実施例3のMSP−1に1,6−ヒドロキ
ノンを加えずその他は実施例3と同様の処理を行いMS
P−1樹脂硬化物を作製した。このMSP−1硬化成形
体の曲げ破壊強度は10MPaであった。
COMPARATIVE EXAMPLE 2 MSP-1 of Example 3 was treated in the same manner as in Example 3 except that 1,6-hydroquinone was not added.
A cured product of P-1 resin was produced. The flexural breaking strength of this MSP-1 cured molded product was 10 MPa.

【0059】[0059]

【発明の効果】Si−H結合を有する高分子化合物とヒ
ドロキシ基を分子内に2個以上有する化合物とからなる
ケイ素を含有する組成物から、耐熱性および機械的特性
に優れたケイ素を含有する組成物を得ることができた。
According to the present invention, a silicon-containing composition comprising a polymer compound having a Si-H bond and a compound having two or more hydroxy groups in a molecule contains silicon having excellent heat resistance and mechanical properties. A composition could be obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 正義 千葉県袖ヶ浦市長浦580番32 三井化学株 式会社内 Fターム(参考) 4J002 CP041 CP131 CP211 EC046 EJ016 EN106  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Masayoshi Ito 580-32 Nagaura, Sodegaura-shi, Chiba F-term in Mitsui Chemicals, Inc. (reference) 4J002 CP041 CP131 CP211 EC046 EJ016 EN106

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】Si−H結合を有する高分子化合物とヒド
ロキシ基を分子内に2個以上有する化合物とからなるケ
イ素を含有する組成物。
1. A silicon-containing composition comprising a polymer compound having a Si--H bond and a compound having two or more hydroxy groups in a molecule.
【請求項2】Si−H結合を有する高分子化合物が一般
式(1) 【化1】 (式中、R1は酸素あるいは炭素数1から30のアルキ
レン基、アルケニレン基、アルキニレン基及び2価の芳
香族基であり、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、カル
ボキシル基、エーテル基の置換基を有しても良い。R2
は水素原子あるいは炭素数1から30のアルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、芳香族基で
あり、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、カルボキシル
基、エーテル基の置換基を有しても良い。)で表される
ことを特徴とする請求項1記載の方法。
2. A polymer compound having a Si--H bond is represented by the general formula (1): ## STR1 ## (In the formula, R 1 is oxygen or an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, alkenylene group, alkynylene group and divalent aromatic group, and represents a substituent such as a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, or an ether group. R 2
Is a hydrogen atom or an alkyl, alkenyl, alkynyl, alkoxy, or aromatic group having 1 to 30 carbon atoms, and may have a substituent such as a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, or an ether group. . 2. The method according to claim 1, wherein the method is represented by:
【請求項3】請求項1および2いずれかに記載のケイ素
を含有する組成物を50℃以上700℃以下で熱処理す
ることにより得られるケイ素を含有する組成物。
3. A silicon-containing composition obtained by subjecting the silicon-containing composition according to claim 1 to a heat treatment at 50 ° C. or more and 700 ° C. or less.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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