JP2002301362A - Reactor and method for producing hydrogen iodide using the same - Google Patents

Reactor and method for producing hydrogen iodide using the same

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JP2002301362A
JP2002301362A JP2001105979A JP2001105979A JP2002301362A JP 2002301362 A JP2002301362 A JP 2002301362A JP 2001105979 A JP2001105979 A JP 2001105979A JP 2001105979 A JP2001105979 A JP 2001105979A JP 2002301362 A JP2002301362 A JP 2002301362A
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Ryoichi Seki
亮一 関
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reactor in which a solid is thrown in a liquid with good operability, particularly a reactor in which iodine as a starting material is added in the solid state when hydrogen iodide is produced from naphthalene hydride and iodine. SOLUTION: The reactor in which a solid is added to a liquid and reacted has a solid charger having two valves for controlling a flow of the solid in series, having a space having a mechanism with which the solid is held between the valves and can be quantitatively added and having an inlet for feeding a gas inert to the above reaction and an exhaust port for depressurizing the space between the first and second valves.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液体に固体を投入
する装置に関する。また、特にナフタレン水素化物にヨ
ウ素を添加してヨウ化水素を製造する装置およびそれを
用いたヨウ化水素の製造方法に関し、収率よくヨウ化水
素ガスを製造する方法について、原料であるヨウ素を固
体状態で添加する装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for introducing a solid into a liquid. Further, particularly with respect to an apparatus for producing hydrogen iodide by adding iodine to a naphthalene hydride and a method for producing hydrogen iodide using the same, a method for producing hydrogen iodide gas with a high yield, iodine as a raw material It relates to an apparatus for adding in a solid state.

【0002】ヨウ化水素は、各種ヨウ化物の合成原料、
医薬用中間体又は還元剤として用いられ、更に近年では
半導体分野におけるエッチング剤としてもにわかに脚光
を浴びている産業上有用な物質である。エッチング剤と
してはハロゲン化水素が広く利用されているが、中でも
ヨウ化水素はそのエッチング性能の高さにおいて注目さ
れているものである。
[0002] Hydrogen iodide is a raw material for synthesizing various iodides,
It is an industrially useful substance that is used as a pharmaceutical intermediate or a reducing agent, and has recently been spotlighted as an etching agent in the field of semiconductors. Hydrogen halide is widely used as an etching agent, and among them, hydrogen iodide has attracted attention for its high etching performance.

【0003】本発明の装置は、例えば、半導体製造分野
にて使用されるヨウ化水素を得ようとする際などに用い
られる。
[0003] The apparatus of the present invention is used, for example, when obtaining hydrogen iodide used in the semiconductor manufacturing field.

【0004】[0004]

【従来の技術】本発明の目的は、例えばヨウ化水素ガス
を製造するに際し、従来に知られる方法で問題となる欠
点のない製造方法を提供するとともに、ヨウ化水素ガス
を得るための工業的に適した装置を提供することにあ
る。ヨウ化水素ガスの製造方法としては種々の方法が知
られている。例えばUS4357309では固体ヨウ素
とテトラリンを反応させてヨウ化水素ガスを取り出す装
置について記載されている。この装置では固体ヨウ素と
テトラリンを予め仕込んでおいて、内部で固体ヨウ素と
テトラリンを対向させることによって溶解し、この後リ
アクター部に誘導してヨウ化水素ガスを発生させるもの
である。基本的に卓上で簡便にヨウ化水素ガスを発生さ
せようとする主旨の装置であって、反応収率や大型化を
目的としていない。即ち、ヨウ化水素ガスの発生は最大
でも室温下ヨウ素がテトラリンに溶解する分だけであ
り、テトラリンの転化率が低いという欠点がある。
BACKGROUND OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a method for producing hydrogen iodide gas, which is free from the drawbacks which are problematic in conventional methods, and to provide an industrial method for producing hydrogen iodide gas. It is to provide a device suitable for a computer. Various methods are known as a method for producing hydrogen iodide gas. For example, US Pat. No. 4,357,309 describes a device for extracting hydrogen iodide gas by reacting solid iodine with tetralin. In this apparatus, solid iodine and tetralin are charged in advance, and solid iodine and tetralin are dissolved therein by facing each other, and then guided to a reactor to generate hydrogen iodide gas. Basically, it is a device intended to easily generate hydrogen iodide gas on a table, and does not aim at increasing the reaction yield or size. That is, the generation of hydrogen iodide gas is limited to the amount of iodine dissolved in tetralin at room temperature at the maximum, and there is a disadvantage that the conversion of tetralin is low.

【0005】また、従来からヨウ化水素ガスの製造にお
いて工業的に行われている方法は、加熱されたテトラリ
ンが少量入った反応機に、溶解槽中でヨウ素を溶解させ
たテトラリン溶液を添加して反応機中でヨウ化水素を発
生させる方法で製造されていた。しかしこの方法では該
反応機には最初は少量のテトラリンしか装入できず、ヨ
ウ素を溶解させたテトラリン溶液を装入して該反応機に
満杯近くなったら反応が終了することとなり、反応機と
溶解槽の2基の装置が必要で、しかも反応機の容積効率
が悪いという欠点があり、より効率的な製造方法での製
造が望まれていた。
[0005] Further, a method conventionally used industrially in the production of hydrogen iodide gas is to add a tetralin solution in which iodine is dissolved in a dissolving tank to a reactor containing a small amount of heated tetralin. To produce hydrogen iodide in a reactor. However, in this method, only a small amount of tetralin can be initially charged into the reactor, and when the tetralin solution in which iodine is dissolved is charged and the reactor is almost full, the reaction is terminated. There is a drawback that two units of a dissolving tank are required and the volumetric efficiency of the reactor is poor. Therefore, production by a more efficient production method has been desired.

【0006】さらに、従来知られた方法では、ヨウ素の
テトラリンに対する溶解度の面で操作が制限されること
があった。
[0006] Further, in the conventionally known method, the operation is sometimes limited in terms of the solubility of iodine in tetralin.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従来、反応器等に外部
より固形物を投入して反応させる場合は、配管等による
添加形態が取れないため、通常はその反応系がガスの発
生等、圧力を生じることのない場合に実施されることが
多かった。また、ガスが発生する場合であってもその量
が比較的少なく、しかも発生するガスに危険性がない場
合に限られて実施されることが多かった。しかしなが
ら、反応器に外部より固形物を添加し、ガスを発生させ
発生ガスを回収するような場合は、生じる圧力により添
加する固形物が外部に飛散したり、あるいは発生ガスが
固形物添加口より漏洩し、環境に悪影響を与えたりする
等の問題がある。さらに、発生するガスが腐食性を有す
る場合は安全性および作業環境の面で困難性を伴う場合
が多く、この場合、固形物を直接反応器に添加するよう
な反応形態を採用するのは難しい。
Conventionally, when a solid substance is introduced into a reactor or the like from the outside and allowed to react, since the addition form by a pipe or the like cannot be taken, the reaction system usually generates pressure such as gas generation. In many cases, it is carried out when no problem occurs. In addition, even when gas is generated, the amount of the gas is relatively small, and is often limited to the case where the generated gas has no danger. However, when a solid is added to the reactor from the outside to generate gas and collect the generated gas, the generated solid may be scattered to the outside due to the generated pressure, or the generated gas may be discharged from the solid addition port. There are problems such as leakage and adverse effects on the environment. Furthermore, when the generated gas has corrosiveness, it is often difficult in terms of safety and working environment, and in this case, it is difficult to adopt a reaction mode in which solids are directly added to the reactor. .

【0008】本発明者らは、上記の目的を達成するため
に鋭意検討した結果、腐食性ガスを発生する反応系に直
接固体を制御された量で添加する装置、例えばナフタレ
ンの水素化物とヨウ素を反応してヨウ化水素ガスを発生
する系に原料である固体ヨウ素を添加するのに適した装
置について検討し本発明に到達した。
The inventors of the present invention have conducted intensive studies to achieve the above object, and as a result, a device for directly adding a solid in a controlled amount to a reaction system for generating a corrosive gas, for example, a hydride of naphthalene and iodine A device suitable for adding solid iodine, which is a raw material, to a system for generating hydrogen iodide gas by reacting with hydrogen was studied and arrived at the present invention.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は以下によ
り構成される。
That is, the present invention comprises the following.

【0010】 液体に固形物を添加し、両者を反応さ
せるための反応装置であって、該液体に該固形物を添加
するために設けられた固形物装入装置を有し、該装入装
置には固形物の流れを制御するための少なくとも第一の
弁と第二の弁の2つが直列的に具備され、両弁の間に固
形物を挟みこんで定量的に液体に固形物を添加できる機
能を有する空間を有し、かつ該第一の弁と第二の弁の間
には上記反応に不活性なガスを送入するための不活性ガ
ス送入口、および該第一の弁と第二の弁の間を脱圧する
ための脱気口が具備されてなる反応装置。
[0010] A reactor for adding a solid to a liquid and causing the two to react with each other, comprising a solid charging device provided for adding the solid to the liquid, the charging device comprising: At least two of the first valve and the second valve for controlling the flow of solids are provided in series, and the solids are quantitatively added to the liquid by sandwiching the solids between both valves An inert gas inlet for introducing an inert gas for the reaction between the first valve and the second valve, and an inert gas inlet between the first valve and the second valve; A reaction device comprising a degassing port for depressurizing between the second valves.

【0011】 該空間に定量的に固形物を装入する機
能を有する装置を、具備する記載の反応装置。
[0011] The reactor according to the above description, further comprising an apparatus having a function of quantitatively charging solids into the space.

【0012】 液体に固形物を添加し、両者を反応さ
せガスを発生させるためのまたは記載の装置。
An apparatus as described or described for adding a solid to a liquid and reacting the two to generate a gas.

【0013】 少なくとも該空間に定量的に固形物を
装入する機能を具備する装置を有し、かつ第1の弁及び
第2の弁を制御して、一定時間内に定量的に液体に固形
物が添加されるように制御されている〜の何れか記
載の装置。
[0013] At least a device having a function of quantitatively charging a solid substance into the space, and controlling the first valve and the second valve to quantitatively solidify the liquid within a certain period of time. The apparatus according to any one of-, wherein the substance is controlled to be added.

【0014】 液体がナフタレンの水素化物を含み、
かつ固形物は固体ヨウ素であり発生するガスがヨウ化水
素ガスである反応に用いる〜の何れかに記載の反応
装置。
The liquid comprises a hydride of naphthalene,
The reactor according to any one of the above, wherein the solid substance is solid iodine and the generated gas is a hydrogen iodide gas.

【0015】 〜記載の装置を用いて、ナフタレ
ンの水素化物を含む液体に固体ヨウ素を添加することを
特徴とするヨウ化水素ガスの製造方法。
[0015] A method for producing hydrogen iodide gas, comprising adding solid iodine to a liquid containing a hydride of naphthalene using the apparatus described in-.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】反応系からはガスが発生する反応
の場合は、系内は陽圧になる。固体投入口よりガスの漏
洩を防ぐ為に不活性ガスでシールする。反応系と直接接
触するバルブは耐腐食性の材質とし、腐食性ガスとの接
触に対応した。更に固体は腐食性固体である場合でも投
入できるように、使用する材質を樹脂、ガラス、セラミ
ックの組み合わせで対応した。これにより、腐食性ガス
が発生する反応系に直接固体を添加できる装置を完成す
るに至った。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the case of a reaction in which gas is generated from a reaction system, the inside of the system is at a positive pressure. Seal with inert gas to prevent gas leakage from solid inlet. The valve that is in direct contact with the reaction system is made of a corrosion-resistant material, and is compatible with corrosive gas. In addition, the material used is supported by a combination of resin, glass, and ceramic so that the solid can be charged even when it is a corrosive solid. As a result, a device capable of directly adding a solid to a reaction system in which corrosive gas is generated has been completed.

【0017】すなわち、本発明は、例えばヨウ化水素ガ
スを製造するに際し、従来に知られる方法における欠点
のない製造方法を提供するとともに、ヨウ化水素ガスを
得るための工業的に適した装置を提供することを特徴と
するものである。一般に、反応系でガスが発生している
箇所に固体を添加することは非常に困難を伴う。この場
合、固体を溶剤に溶解し液状で添加する方法が一般的で
ある。更に、例えばヨウ素とナフタレンの水素化物を反
応してヨウ化水素ガスを合成する系では、添加するヨウ
素は金属腐食性を有し、発生するヨウ化水素ガスも金属
腐食性を有すると共に、人体に有毒であり、漏洩に関し
ては注意すべきものである。この様な場合には、本発明
の方法で使用する固形物を定量的に添加する装置の材質
はガラス、セラミック、塩化ビニル及びポリプロピレン
等の汎用樹脂である。これらは一種類でも良いし、ある
いは二種以上の組み合わせでも構わない。また、固体添
加装置に導入する不活性ガスは窒素、ヘリウム、アルゴ
ン等が挙げられる。これらは一種類でも良いし、あるい
は二種以上の組み合わせでも構わないが特に好ましくは
ヘリウムである。以下、本発明に関する反応装置の具体
例について図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発
明の固体投入装置の基本的構成を示す。ホッパー1は定
量添加装置であるロータリーバルブ2の上部に位置し、
反応系に添加する固形物を入れることができる。ロータ
リーバルブ2は任意の電圧を加えることによって一定速
度で回転し、時間当たり一定量の固形物をスペーサー3
に送る。バルブ4は付属の電磁弁によって一定時間で開
き、固形物をスペーサー7に送って閉じる。この時、反
応器内ではガスが発生しているため、陽圧状態にある。
そこでバルブ8を開ける前にスペーサー7の内部を陽圧
にするため、バルブ12を開いて不活性ガスをスペーサ
ー7内部に導入する。この時反応系の圧力よりスペーサ
ー7内部の圧力が大きいことが必要である。スペーサー
7の内圧が反応系の内圧より大きくなったところでバル
ブ12を閉じる。スペーサー7の内圧は、反応系の内圧
より0.001〜10MPa高い圧力とし、より好まし
くは0.01〜0.1MPa高く調整する。これより圧
力差が小さいと、スペーサー7内部に反応系のガスが浸
入し、添加口より漏洩するなど不都合が生じ好ましくな
い。またこの圧力差より大きいと、反応系内部への圧力
変動に影響を与えるなど生産工程に不都合が生じ好まし
くない。次にバルブ8を開いて固形物を反応器中に添加
し閉じる。この際前述の様にスペーサー7の内圧は、反
応系の内圧より高いため、反応系で発生するガスがスペ
ーサー7の内部に浸入することを防ぐことができる。こ
の時スペーサー7の内圧は、反応系の内圧分の圧力が残
存する。この圧力を放出するため、バルブ13を開けて
閉じる。再びバルブ4が開閉し、前述の操作が繰り返さ
れる。一連の動作は電磁弁のタイマーによる開閉操作に
より、自動化することができる。更に、ロータリーバル
ブ2によって定量的な固形物の添加ができる。このよう
に簡便な装置でガスを発生する反応系に直接固形物を添
加することが可能となる。本発明の装置をナフタレンの
水素化物(例えばテトラリン、デカリン)とヨウ素から
ヨウ化水素を製造する方法に使用することができる。本
発明の方法では反応器は通常1基でよく、ヨウ素の溶解
槽は必要がない。また、本発明では反応器は最初からテ
トラリンを反応器に満杯近くまで装入してそれに固体の
ヨウ素を添加することができるので、従来法と比較する
と反応器の容積効率が数倍程度向上するので効率的に製
造することが可能となった。本発明のヨウ化水素の製造
方法では、加熱されたナフタレンの水素付加物にヨウ素
を添加しながら反応を行なわせる。ナフタレンの水素付
加物に固形のヨウ素を添加するに際し、固形ヨウ素の形
状は特に限定はなく、通常は粉状、粒状、あるいはフレ
ーク状等のものが多用され、特にフレーク状または粒状
であって、平均粒子径が1〜5mm、好ましくは2〜3
mmのものが固体として流動性が良く好ましい。
That is, the present invention provides, for example, a method for producing hydrogen iodide gas which does not have the drawbacks of conventionally known methods, and provides an industrially suitable apparatus for obtaining hydrogen iodide gas. It is characterized by providing. Generally, it is very difficult to add a solid to a place where a gas is generated in a reaction system. In this case, a method in which a solid is dissolved in a solvent and added in a liquid state is generally used. Furthermore, for example, in a system in which iodine and a hydride of naphthalene are reacted to synthesize hydrogen iodide gas, the iodine to be added has metal corrosiveness, and the generated hydrogen iodide gas also has metal corrosiveness, and it is harmful to humans. Toxic; caution is required against spills. In such a case, the material of the apparatus for quantitatively adding the solid used in the method of the present invention is a general-purpose resin such as glass, ceramic, vinyl chloride and polypropylene. These may be one kind or a combination of two or more kinds. The inert gas introduced into the solid addition device includes nitrogen, helium, argon and the like. These may be one kind or a combination of two or more kinds, but helium is particularly preferred. Hereinafter, specific examples of the reactor according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows the basic configuration of the solid dosing apparatus of the present invention. The hopper 1 is located above a rotary valve 2 which is a quantitative addition device,
A solid to be added to the reaction system can be added. The rotary valve 2 is rotated at a constant speed by applying an arbitrary voltage, and a certain amount of solids per hour is supplied to the spacer 3.
Send to The valve 4 is opened for a certain period of time by an attached solenoid valve, and sends the solid matter to the spacer 7 to close it. At this time, since the gas is generated in the reactor, the reactor is in a positive pressure state.
Therefore, in order to make the inside of the spacer 7 a positive pressure before opening the valve 8, the valve 12 is opened and an inert gas is introduced into the spacer 7. At this time, the pressure inside the spacer 7 needs to be higher than the pressure of the reaction system. When the internal pressure of the spacer 7 becomes larger than the internal pressure of the reaction system, the valve 12 is closed. The internal pressure of the spacer 7 is set to be higher than the internal pressure of the reaction system by 0.001 to 10 MPa, and more preferably adjusted to be higher by 0.01 to 0.1 MPa. If the pressure difference is smaller than this, the gas of the reaction system infiltrates the inside of the spacer 7 and leaks from the addition port. On the other hand, if the pressure difference is larger than this, the production process will be inconvenient, such as affecting the pressure fluctuation inside the reaction system, which is not preferable. Next, valve 8 is opened and the solids are added into the reactor and closed. At this time, since the internal pressure of the spacer 7 is higher than the internal pressure of the reaction system as described above, it is possible to prevent the gas generated in the reaction system from entering the inside of the spacer 7. At this time, the internal pressure of the spacer 7 remains as high as the internal pressure of the reaction system. In order to release this pressure, the valve 13 is opened and closed. The valve 4 opens and closes again, and the above operation is repeated. A series of operations can be automated by opening and closing the solenoid valve with a timer. In addition, the rotary valve 2 enables the quantitative addition of solid matter. As described above, it is possible to directly add a solid to a reaction system that generates a gas with a simple device. The apparatus of the present invention can be used in a method for producing hydrogen iodide from a hydride of naphthalene (eg, tetralin, decalin) and iodine. In the method of the present invention, usually only one reactor is required, and a dissolution tank for iodine is not required. Further, in the present invention, the reactor can be charged almost completely with tetralin from the beginning and solid iodine can be added thereto, so that the volumetric efficiency of the reactor is improved by several times compared to the conventional method. Therefore, it became possible to manufacture efficiently. In the method for producing hydrogen iodide of the present invention, a reaction is carried out while adding iodine to a heated hydrogenated product of naphthalene. When adding solid iodine to the hydrogenated product of naphthalene, the shape of solid iodine is not particularly limited, and usually powdery, granular, or flake-like ones are frequently used, and in particular, flake-like or granular, Average particle size is 1 to 5 mm, preferably 2 to 3
mm is preferable as a solid having good fluidity.

【0018】反応圧力は特に限定されなく適宜選定する
ことができ、通常は常圧付近の操作が容易であることか
ら多用される。常圧下で反応を実施する場合の反応温度
は、好ましくは120〜210℃、より好ましくは15
0〜180℃である。120℃未満の温度では反応の進行
が極端に遅くなるため、温度 120℃〜反応液の沸点(例
えば、テトラヒドロナフタレンを用いる場合は 210℃程
度)の範囲で行なうのが適当である。この場合、上記の
反応温度より低ければ、ヨウ化水素の発生速度が著しく
小さくなり実用的ではない。反応液の沸点のような比較
的高温で反応を行なわせた際には、反応液よりヨウ化水
素の発生以外にナフタレンの水素付加物が蒸発する可能
性もあるが、発生した混合ガスをコールドトラップに通
気するなど、公知の方法によりこれらは充分分離するこ
とができる。
The reaction pressure is not particularly limited and can be appropriately selected. Usually, the reaction pressure is frequently used because the operation at around normal pressure is easy. When the reaction is carried out under normal pressure, the reaction temperature is preferably from 120 to 210 ° C, more preferably from 15 to 210 ° C.
0-180 ° C. If the temperature is lower than 120 ° C., the progress of the reaction becomes extremely slow. Therefore, it is appropriate to carry out the reaction at a temperature in the range of 120 ° C. to the boiling point of the reaction solution (for example, about 210 ° C. when tetrahydronaphthalene is used). In this case, if the reaction temperature is lower than the above-mentioned reaction temperature, the rate of generation of hydrogen iodide becomes extremely low, which is not practical. When the reaction is carried out at a relatively high temperature, such as the boiling point of the reaction solution, the hydrogen adduct of naphthalene may evaporate from the reaction solution in addition to the generation of hydrogen iodide. These can be sufficiently separated by a known method such as ventilating the trap.

【0019】また、例えば液体にテトラヒドロナフタレ
ンを使用する場合、上記上限温度よりも高い場合は、テ
トラヒドロナフタレンの沸点を越えるために、常圧下に
おけるヨウ化水素の製造が非常に困難となり、更には得
られるヨウ化水素もテトラヒドロナフタレンの混入した
ものとなりやすいので好ましくない。もちろん、本反応
は加圧下でも可能であるが、この場合には、上記したこ
とは懸念されなく、温度 210℃を越えて反応を行なわせ
ることも可能である。
Further, for example, when tetrahydronaphthalene is used as the liquid, if the temperature is higher than the above-mentioned maximum temperature, the boiling point of tetrahydronaphthalene will be exceeded, and it will be very difficult to produce hydrogen iodide under normal pressure. Hydrogen iodide is also unfavorable because it tends to contain tetrahydronaphthalene. Of course, this reaction can be performed under pressure, but in this case, there is no concern about the above, and the reaction can be performed at a temperature exceeding 210 ° C.

【0020】本発明によるヨウ化水素の製法において、
反応に用いられるナフタレンの水素付加物の量がヨウ素
量に対して当量倍未満である場合は、反応時にナフタレ
ンの水素付加物中に未反応のヨウ素が存在しやすくなる
とともに、場合によってはヨウ化水素以外にヨウ素蒸気
の発生することも考えられることから、ナフタレンの水
素付加物の使用量は、反応に用いられるヨウ素に対し通
常、当量倍以上の量を用いる。なお、本発明ではナフタ
レンの水素付加物の使用量が比較的多くても、目的を達
成する上では特に問題はない。
In the method for producing hydrogen iodide according to the present invention,
When the amount of the hydrogenated product of naphthalene used in the reaction is less than the equivalent amount of the amount of iodine, unreacted iodine tends to be present in the hydrogenated product of naphthalene during the reaction, and in some cases, iodine Since it is conceivable that iodine vapor is generated in addition to hydrogen, the amount of use of the hydrogenated product of naphthalene is usually at least equivalent to iodine used in the reaction. In the present invention, even if the amount of the hydrogenated product of naphthalene is relatively large, there is no particular problem in achieving the object.

【0021】本発明の方法において、固形ヨウ素の、ナ
フタレンの水素付加物への添加速度は、使用するナフタ
レンの水素付加物量、添加操作の形態、反応温度、製造
量、又は反応容器の形状などにも左右され、一概には述
べられないが、通常は、反応液上部における気相の色が
褐色ないしは紫色を呈しない速度であれば、充分本発明
の目的を達成することができる。
In the method of the present invention, the rate of addition of solid iodine to the hydrogenated product of naphthalene depends on the amount of the hydrogenated product of naphthalene used, the mode of addition, the reaction temperature, the production amount, or the shape of the reaction vessel. Although it is also unconditionally stated, usually, the object of the present invention can be sufficiently achieved as long as the color of the gas phase in the upper part of the reaction solution does not exhibit brown or purple.

【0022】通常は、仕込み固体のヨウ素をナフタレン
の水素付加物のモル数に対して、通常0.005〜1.0当量/
h、より好ましくは0.01〜0.1当量/hの添加速度で添加
して反応させ、反応液よりヨウ化水素を発生させる。
Usually, iodine in the charged solid is usually added in an amount of 0.005 to 1.0 equivalent / mol of the hydrogenated product of naphthalene.
h, more preferably at an addition rate of 0.01 to 0.1 equivalent / h, and the reaction is carried out to generate hydrogen iodide from the reaction solution.

【0023】また、ヨウ素の添加速度は上記下限よりも
遅ければ、時間的な効率が悪く現実的ではなく、また副
生成物のナフタレンが生成し易く、反応液を冷却した場
合に固化する欠点が生じることがある。また上記上限よ
りも添加速度が速い場合は、ヨウ化水素ガスの発生速度
が大きくなり、反応機の加熱能力とヨウ化水素ホルダー
の冷却能力に著しい負担がかかるため現実的ではない。
On the other hand, if the addition rate of iodine is lower than the above lower limit, it is not practical because the time efficiency is poor and naphthalene as a by-product is easily formed, and the reaction liquid is solidified when cooled. May occur. When the addition rate is higher than the above upper limit, the generation rate of the hydrogen iodide gas becomes large, and a considerable load is imposed on the heating capacity of the reactor and the cooling capacity of the hydrogen iodide holder, which is not practical.

【0024】ヨウ素の添加終了後は、更に反応溶液を攪
拌するなどし、熟成させて反応を完結させることが好ま
しい。この熟成に要する時間はその温度に左右され一定
しないが、通常は10分間以上、好ましくは1時間以上で
ある。
After the completion of the addition of iodine, the reaction solution is preferably aged by stirring or the like to complete the reaction. The time required for this aging is not fixed depending on the temperature, but is usually 10 minutes or more, preferably 1 hour or more.

【0025】こうして反応を行わせたテトラヒドロナフ
タレンは、ほぼ定量的に消費することが可能である。
The thus reacted tetrahydronaphthalene can be consumed almost quantitatively.

【0026】[0026]

【実施例】以下、本発明におけるヨウ化水素の製造方法
を実施例により更に詳細に説明する。以下において
「%」は全て質量基準である。また、ヨウ化水素の収率
は、各々その反応時に新たに使用したヨウ素量を基準と
して算出した値であり、有機分は高速液体クロマトグラ
フィーにより測定した。 実施例1 ヨウ化水素を製造するための反応装置の操作に関する例
を図1に示した。ポリ塩化ビニル(以下PVC)製バル
ブ14を開けてヘリウム(400ml/min.)を系内に流し
た。次にテトラリン(90kg,0.681kmol)を100リット
ルガラスライニング製反応器に仕込み、攪拌を開始。反
応器内温を170℃まで昇温した。
EXAMPLES Hereinafter, the method for producing hydrogen iodide in the present invention will be described in more detail with reference to examples. In the following, “%” is based on mass. The yield of hydrogen iodide was a value calculated based on the amount of iodine newly used at the time of the reaction, and the organic content was measured by high performance liquid chromatography. Example 1 An example of the operation of a reactor for producing hydrogen iodide is shown in FIG. Helium (400 ml / min.) Was flowed into the system by opening a valve 14 made of polyvinyl chloride (hereinafter PVC). Next, tetralin (90 kg, 0.681 kmol) was charged into a 100-liter glass-lined reactor, and stirring was started. The reactor internal temperature was raised to 170 ° C.

【0027】PVC製ホッパー1に固体ヨウ素(22.8k
g)を入れ、PVCコーティングされたロータリーバル
ブを起動して固体ヨウ素を指定速度(6.3kg/h)で添加
した。以下、バルブ開閉のシーケンスは図2参照。PV
Cバルブ4の電磁弁が5秒間開き、固体ヨウ素をPVC
製スペーサー7に送って閉じた。反応器内では通常ヨウ
化水素ガスが発生しているため、陽圧状態(0.003MPa)
にある。次にPVCバルブ12が10秒間開いてヘリウ
ムをスペーサー7内部に導入した。この時、ヘリウムの
圧力は0.01Mpaに設定した。バルブ12を閉じたあと、
セラミック製バルブ8が2秒間開いて固体ヨウ素を反応
器内のテトラリン中に添加し閉じた。次いでPVCバル
ブ13が5秒間開いて、スペーサー7内部の残圧分を放
出し閉じた。残圧ガスの放出先は通常除害装置である
が、ヨウ化水素ガス成分をモニターするため、アルカリ
トラップを設置した。一連のバルブ開閉を図2の様に繰
り返し自動で行い、ホッパー内の固体ヨウ素を3.6時間
で添加した。固体ヨウ素添加終了後、1時間同温で攪拌
を続けた。この結果反応収率で99.7%のヨウ化水素ガス
を得た。発生したヨウ化水素ガスは、−25℃に冷却さ
れて液化され、モレキュラーシーブスに通され水分を除
去され、次いで活性炭に通されて同伴する有機分を除去
されて、精製ヨウ化水素ガスとなる。
Solid iodine (22.8k
g) was charged and the PVC coated rotary valve was activated to add solid iodine at the specified rate (6.3 kg / h). Hereinafter, the valve opening / closing sequence is shown in FIG. PV
The solenoid valve of C valve 4 opens for 5 seconds, and solid iodine is
It was sent to the spacer 7 and closed. Since hydrogen iodide gas is usually generated in the reactor, a positive pressure state (0.003 MPa)
It is in. Next, the PVC valve 12 was opened for 10 seconds to introduce helium into the spacer 7. At this time, the pressure of helium was set to 0.01 Mpa. After closing the valve 12,
The ceramic valve 8 was opened for 2 seconds to add solid iodine into the tetralin in the reactor and closed. Next, the PVC valve 13 was opened for 5 seconds to release the residual pressure inside the spacer 7 and closed. The discharge destination of the residual pressure gas is usually an abatement apparatus, but an alkali trap was installed to monitor the hydrogen iodide gas component. A series of opening and closing of the valves was repeatedly and automatically performed as shown in FIG. 2, and solid iodine in the hopper was added in 3.6 hours. After the addition of solid iodine, stirring was continued for 1 hour at the same temperature. As a result, hydrogen iodide gas having a reaction yield of 99.7% was obtained. The generated hydrogen iodide gas is cooled to −25 ° C., liquefied, passed through molecular sieves to remove moisture, and then passed through activated carbon to remove accompanying organic components, resulting in purified hydrogen iodide gas. .

【0028】一連の反応終了後、バルブ13から放出さ
れたガス中のヨウ化水素ガス濃度を測定した結果、検知
されなかった。即ち、発生ヨウ化水素ガスはヨウ素ホッ
パー側には全く漏洩しなかった。なお、添加装置はトラ
ブルもなく安定に操作することができた。
After a series of reactions, the concentration of hydrogen iodide gas in the gas released from the valve 13 was not detected. That is, the generated hydrogen iodide gas did not leak at all to the iodine hopper side. The addition device could be operated stably without any trouble.

【0029】実施例2 図1に示す装置を用い、反応器(100リットルガラスラ
イニング製)にテトラヒドロナフタレン 90kgを入
れ、攪拌下 190℃に加熱し、この温度を維持しながら、
上部のホッパーより粒状の固体ヨウ素284kgをロータ
リーバルブにより8時間かけ、反応器中に添加し反応さ
せた。この際の図1に示す4,8,12および13の各
弁の開閉周期設定は図2に示したように行った。
Example 2 Using the apparatus shown in FIG. 1, 90 kg of tetrahydronaphthalene was charged into a reactor (manufactured by 100 liter glass lining), heated to 190 ° C. with stirring, and maintained at this temperature.
From the upper hopper, 284 kg of granular solid iodine was added for 8 hours by a rotary valve, and added to the reactor to react. At this time, the opening / closing cycle of each of the valves 4, 8, 12, and 13 shown in FIG. 1 was set as shown in FIG.

【0030】反応に伴ない反応器からのヨウ化水素ガス
は、モレキュラーシーブスと接触させ水分除去操作を行
った後、次いで活性炭と接触させて有機分の除去操作を
行い、−50℃に冷却したステンレススチール(SUS
−304)製ホルダー中に捕集した。次いでこのホルダ
ー中のヨウ化水素はボンベに充填し、成分分析および収
量測定を行った。この結果、得られたヨウ化水素の純度
は99.99%以上で収量は281kgであり、収率は
97.9%であった。
After the reaction, the hydrogen iodide gas from the reactor was brought into contact with molecular sieves to remove water, then contacted with activated carbon to remove organic components, and cooled to -50 ° C. Stainless steel (SUS
-304) collected in a holder. Next, hydrogen iodide in the holder was filled in a cylinder, and the components were analyzed and the yield was measured. As a result, the purity of the obtained hydrogen iodide was 99.99% or more, the yield was 281 kg, and the yield was 97.9%.

【0031】実施例3 実施例2において、粒状固体ヨウ素284kgをロータリ
ーバルブにより24時間かけて添加するようにした以外
は全て同様に操作した。その結果、得られたヨウ化水素
の純度は99.99%以上で収量は280kgであり、
収率は97.5%であった。
Example 3 The same operation as in Example 2 was carried out except that 284 kg of granular solid iodine was added by a rotary valve over 24 hours. As a result, the purity of the obtained hydrogen iodide was 99.99% or more, and the yield was 280 kg.
The yield was 97.5%.

【0032】実施例4 実施例2において、粒状固体ヨウ素284kgをロータリ
ーバルブにより63時間かけて添加するようにした以外
は全て同様に操作した。その結果、得られたヨウ化水素
の純度は99.99%以上で収量は283kgであり、
収率は98.6%であった。
Example 4 The same operation as in Example 2 was carried out except that 284 kg of granular solid iodine was added by a rotary valve over 63 hours. As a result, the purity of the obtained hydrogen iodide was 99.99% or more, and the yield was 283 kg.
The yield was 98.6%.

【0033】実施例5 実施例2において、反応を170℃で行う以外は全て同
様に操作した。その結果、得られたヨウ化水素の純度は
99.99%以上で収量は283kgであり、収率は9
8.7%であった。
Example 5 The same operation as in Example 2 was carried out except that the reaction was carried out at 170 ° C. As a result, the purity of the obtained hydrogen iodide was 99.99% or more, the yield was 283 kg, and the yield was 9%.
It was 8.7%.

【0034】実施例6 実施例2において、反応を170℃で行い、また粒状固
体ヨウ素284kgをロータリーバルブにより24時間か
けて添加するようにした以外は全て同様に操作した。そ
の結果、得られたヨウ化水素の純度は99.99%以上
で収量は283kgであり、収率は98.7%であっ
た。
Example 6 The procedure of Example 2 was repeated, except that the reaction was carried out at 170 ° C., and 284 kg of granular solid iodine was added over 24 hours by a rotary valve. As a result, the purity of the obtained hydrogen iodide was 99.99% or more, the yield was 283 kg, and the yield was 98.7%.

【0035】実施例7 実施例2において、反応を170℃で行い、また粒状固
体ヨウ素284kgをロータリーバルブにより63時間か
けて添加するようにした以外は全て同様に操作した。そ
の結果、得られたヨウ化水素の純度は99.99%以上
で収量は283kgであり、収率は97.0%であっ
た。
Example 7 The procedure of Example 2 was repeated, except that the reaction was carried out at 170 ° C., and 284 kg of granular solid iodine was added over 63 hours by a rotary valve. As a result, the purity of the obtained hydrogen iodide was 99.99% or more, the yield was 283 kg, and the yield was 97.0%.

【0036】実施例8 図1に示す装置を用い、反応器(100リットルガラスラ
イニング製)にテトラヒドロナフタレン 92kgを入れ、
攪拌下 170℃に加熱し、この温度を維持しながら、上部
のホッパーより粒状の固体ヨウ素230kgをロータリーバ
ルブの回転数調整により35時間かけ、反応器中に添加し
反応させた。この際の図1に示す4,8,12および1
3の各弁の開閉周期設定は図2に示す通りである。
Example 8 Using the apparatus shown in FIG. 1, 92 kg of tetrahydronaphthalene was charged into a reactor (manufactured by 100 liter glass lining).
The mixture was heated to 170 ° C. with stirring, and while maintaining this temperature, 230 kg of granular solid iodine was added from the upper hopper to the reactor over 35 hours by adjusting the number of revolutions of a rotary valve, and allowed to react. At this time, 4, 8, 12 and 1 shown in FIG.
The setting of the open / close cycle of each valve of No. 3 is as shown in FIG.

【0037】反応に伴ない反応器からのガスは、モレキ
ュラーシーブスと接触させ水分除去操作を行った後、次
いで活性炭と接触させて有機分の除去操作を行い、−5
0℃に冷却したSUS−304製ホルダー中に捕集し
た。次いでこのホルダー中のヨウ化水素はボンベに充填
し、成分分析および収量測定を行った。この結果、得ら
れたヨウ化水素は純度は99.99%以上で、収量22
7kgであり、収率は97.9%であった。
The gas from the reactor accompanying the reaction was brought into contact with molecular sieves to remove water, and then contacted with activated carbon to remove organic components.
The sample was collected in a SUS-304 holder cooled to 0 ° C. Next, hydrogen iodide in the holder was filled in a cylinder, and the components were analyzed and the yield was measured. As a result, the obtained hydrogen iodide had a purity of 99.99% or more and a yield of 22
7 kg, and the yield was 97.9%.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上詳述したように、当該装置を使用す
ることによって、ガスを発生する反応系に直接固形物を
添加することができる。更にロータリーバルブの組み合
わせにより、定量的な添加が可能である。また、直列に
配置された第一の弁と第二の弁の間には不活性なガスを
送入するための不活性ガス送入口と脱気口設けることに
よって、ガスの漏洩もなく安全に固体添加作業を行うこ
とができる。
As described in detail above, by using the above-mentioned apparatus, a solid can be directly added to a reaction system for generating gas. Furthermore, quantitative addition is possible by a combination of rotary valves. In addition, by providing an inert gas inlet and a degassing port for feeding an inert gas between the first valve and the second valve arranged in series, the gas can be safely leaked without gas leakage. A solid addition operation can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の反応装置の一例である。FIG. 1 is an example of the reaction apparatus of the present invention.

【図2】図1の反応装置の各種バルブの開閉サイクルの
一例を示す。
FIG. 2 shows an example of an opening / closing cycle of various valves of the reactor of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ホッパー(PVC製15L) 2 ロータリーバルブ 3、5、7 PVC製スペーサー 4、12,13 PVC電磁弁 6 テフロン(登録商標)コーティング
サイドグラス 8 セラミック製電磁弁 9 テフロン製スペーサー 10 GLレジューサー 11 GL管台 14 PVC製電磁弁 15 粒状ヨウ素 17 透視窓 18 反応器
Reference Signs List 1 hopper (15L made of PVC) 2 Rotary valve 3, 5, 7 PVC spacer 4, 12, 13 PVC solenoid valve 6 Teflon (registered trademark) coated side glass 8 Ceramic solenoid valve 9 Teflon spacer 10 GL reducer 11 GL Nozzle 14 PVC solenoid valve 15 granular iodine 17 see-through window 18 reactor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐川 栄一 千葉県茂原市東郷1900 三井化学株式会社 内 (72)発明者 海宝 龍夫 千葉県茂原市東郷1900 三井化学株式会社 内 Fターム(参考) 4G068 AA02 AB22 AC03 AC11 AC13 AD01 AE01 AF09 AF15 AF22 AF36 DA01 DA04 DB11 DC01 DC05 DD11 DD15 4G075 AA05 AA53 AA62 AA63 AA70 BB04 BB05 BB07 BD16 CA03 CA57 CA63 EA01 EB01 EC10 ED09 FB04 FB06 FB12 FC02 FC09  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Eiichi Sagawa 1900 Togo, Mobara-shi, Chiba Mitsui Chemicals, Inc. (72) Inventor Tatsuo Kaiho 1900 Togo, Togo, Mobara-shi, Chiba F-term (reference) 4G068 AA02 AB22 AC03 AC11 AC13 AD01 AE01 AF09 AF15 AF22 AF36 DA01 DA04 DB11 DC01 DC05 DD11 DD15 4G075 AA05 AA53 AA62 AA63 AA70 BB04 BB05 BB07 BD16 CA03 CA57 CA63 EA01 EB01 EC10 ED09 FB04 FB06 FB12 FC02 FC09

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液体に固形物を添加し、両者を反応させ
るための反応装置であって、該液体に該固形物を添加す
るために設けられた固形物装入装置を有し、該装入装置
には固形物の流れを制御するための少なくとも第一の弁
と第二の弁の2つが直列的に具備され、両弁の間に固形
物を挟みこんで定量的に液体に固形物を添加できる機能
を有する空間を有し、かつ該第一の弁と第二の弁の間に
は上記反応に不活性なガスを送入するための不活性ガス
送入口、および該第一の弁と第二の弁の間を脱圧するた
めの脱気口が具備されてなる反応装置。
Claims: 1. A reactor for adding a solid to a liquid and reacting the two with each other, the reactor comprising a solid charging device provided for adding the solid to the liquid. The inlet device is provided with at least two valves, a first valve and a second valve, in series for controlling the flow of the solid material. An inert gas inlet for introducing an inert gas to the reaction between the first valve and the second valve, and an inert gas inlet between the first valve and the second valve. A reactor comprising a deaeration port for depressurizing between a valve and a second valve.
【請求項2】 該空間に定量的に固形物を装入する機能
を有する装置を、具備する請求項1記載の反応装置。
2. The reactor according to claim 1, further comprising an apparatus having a function of quantitatively charging solids into the space.
【請求項3】 液体に固形物を添加し、両者を反応させ
ガスを発生させるための請求項1または2記載の装置。
3. The apparatus according to claim 1, wherein a solid substance is added to the liquid, and the two react to generate a gas.
【請求項4】 少なくとも該空間に定量的に固形物を装
入する機能を具備する装置を有し、かつ第1の弁及び第
2の弁を制御して、一定時間内に定量的に液体に固形物
が添加されるように制御されている請求項1〜3の何れ
か記載の装置。
4. A device having a function of at least quantitatively charging a solid substance into the space, and controlling the first valve and the second valve to quantitatively control the liquid within a certain period of time. The apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the apparatus is controlled so that a solid substance is added to the apparatus.
【請求項5】液体がナフタレンの水素化物を含み、かつ
固形物は固体ヨウ素であり発生するガスがヨウ化水素ガ
スである反応に用いる請求項1〜4の何れかに記載の反
応装置。
5. The reactor according to claim 1, wherein the liquid contains a hydride of naphthalene, the solid is solid iodine, and the generated gas is hydrogen iodide gas.
【請求項6】 請求項1〜5の何れかに記載の装置を用
いて、ナフタレンの水素化物を含む液体に固体ヨウ素を
添加することを特徴とするヨウ化水素ガスの製造方法。
6. A method for producing hydrogen iodide gas, comprising adding solid iodine to a liquid containing a hydride of naphthalene using the apparatus according to any one of claims 1 to 5.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN105664800A (en) * 2014-12-19 2016-06-15 程叶红 Reaction kettle for chemical production
CN114653307A (en) * 2022-03-09 2022-06-24 东营威联化学有限公司 Continuous reforming injection device

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