JP2002292879A - Method of manufacturing printer head, apparatus therefor and boring apparatus - Google Patents
Method of manufacturing printer head, apparatus therefor and boring apparatusInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、レーザ照射方向
に対して逆テーパ状のオリフィス孔を形成するプリンタ
ヘッドの製造方法とその装置及びそれに用いる孔加工装
置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing a printer head for forming an orifice hole having a reverse taper shape with respect to a laser irradiation direction, and a hole processing apparatus used therefor.
【0002】[0002]
【従来の技術】上記インクジェットプリンタのヘッド部
分は、図9に示すようにプリンタヘッドヘッド筐体10
に複数のインク室1に対し、複数のオリフィス孔2が形
成された金属オリフィス板3が接着されている。この各
インク室1は、隔壁4によって区画され、所定のインク
吐出を行うための図示しない吐出機構によって逆テーパ
状のオリフィス孔2よりインク滴が吐出される。前記吐
出機構は、たとえばバブルジェット(登録商標)方式や
圧電振動板を備えたカイザー方式などが知られている。2. Description of the Related Art As shown in FIG.
A metal orifice plate 3 having a plurality of orifice holes 2 is bonded to a plurality of ink chambers 1. Each of the ink chambers 1 is partitioned by a partition wall 4, and ink droplets are ejected from an orifice hole 2 having a reverse taper shape by an ejection mechanism (not shown) for ejecting predetermined ink. As the ejection mechanism, for example, a bubble jet (registered trademark) method, a Kaiser method including a piezoelectric vibrating plate, and the like are known.
【0003】このようなインクジェットプリンタのオリ
フィス孔2は、約30ミクロンの直径に形成され、かつ
その金属オリフィス板3には板厚50μm程度のNi,
コバール等のプレートが用いられている。The orifice hole 2 of such an ink-jet printer is formed to have a diameter of about 30 μm, and the metal orifice plate 3 has a thickness of about 50 μm.
A plate such as Kovar is used.
【0004】そして、この金属オリフィス板3の製造に
は、通常、電鋳法と呼ばれるメッキ法が用いられている
が、その後のプリンタヘッド製作プロセスにおいて、プ
リンタのヘッド部分に金属オリフィス板3を接着すると
き、金属オリフィス板3の各オリフィス孔2と各インク
室1との位置決め精度を精度高く確保することが困難で
あり、又、オリフィス孔2が接着材5で塞がってしまう
問題がある。The metal orifice plate 3 is usually manufactured by a plating method called an electroforming method. In a subsequent printer head manufacturing process, the metal orifice plate 3 is bonded to a head portion of the printer. In this case, it is difficult to ensure the positioning accuracy between each orifice hole 2 of the metal orifice plate 3 and each ink chamber 1 with high accuracy, and there is a problem that the orifice hole 2 is closed by the adhesive 5.
【0005】このような問題を回避するために、オリフ
ィスプレートをプリンタのヘッド部分に接着した後、レ
ーザ光を用いてオリフィス孔2を開ける加工方法が提案
されており、その場合、孔パターンが形成されたマスク
を用いるようにしている。このような先行技術としては
特開2000−218802号公報がある。In order to avoid such a problem, there has been proposed a processing method in which an orifice plate is adhered to a head portion of a printer, and then the orifice hole 2 is opened using a laser beam. In this case, a hole pattern is formed. The used mask is used. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-218802 discloses such prior art.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】ところで、レーザ光に
よってオリフィス孔を加工する場合、レーザ光の強度や
ビーム形状がレーザ発振器や伝送光学系の経時変化の影
響によって変動するため、その変動の影響を受けて逆テ
ーパ状のオリフィス孔が所定の形状に加工されないとい
うことがある。When the orifice hole is machined by laser light, the intensity and beam shape of the laser light fluctuate due to the aging of the laser oscillator and the transmission optical system. In some cases, the reverse tapered orifice hole is not processed into a predetermined shape.
【0007】オリフィス孔は、表面の孔形状などは光学
顕微鏡などによって測定可能であるが、結像光学系を用
いているため、レーザ光の強度が変化しても、表面の孔
形状はほとんど変化しない。しかしながら、オリフィス
孔は上述したように逆テーパ形状であるため、その内部
形状はレーザ光の強度変化によって大きな影響を受け、
たとえばテーパ角が変動したり、極端な場合にはオリフ
ィス孔が貫通しないこともある。The shape of the orifice hole on the surface can be measured by an optical microscope or the like. However, since the imaging optical system is used, even if the intensity of the laser beam changes, the hole shape on the surface hardly changes. do not do. However, since the orifice hole has an inverted tapered shape as described above, its internal shape is greatly affected by the intensity change of the laser beam,
For example, the taper angle may fluctuate, or in extreme cases, the orifice hole may not penetrate.
【0008】そして、このような加工不良は光学顕微鏡
などの測定では加工中に見つけることができず、加工後
にオリフィス孔からインクを吐出させる吐出試験を行う
ことによって初めて分かることがほとんどである。その
ため、加工不良が発覚するまでに、不良品を大量に製造
してしまうということがあった。[0008] Such a processing defect cannot be detected during processing by measurement with an optical microscope or the like, but it is almost always found by performing a discharge test for discharging ink from the orifice hole after processing. For this reason, a large number of defective products may be manufactured before processing defects are discovered.
【0009】この発明は、加工中にレーザ光によって加
工される被加工用プレートからの発光を測定すること
で、上記被加工用プレートに逆テーパ状の孔が確実に形
成されているか否かを判別できるようにしたプリンタヘ
ッドの製造方法とその装置及び孔加工装置を提供するこ
とにある。The present invention measures whether or not a reverse tapered hole is reliably formed in the work plate by measuring the light emission from the work plate processed by the laser beam during the work. It is an object of the present invention to provide a method and an apparatus for manufacturing a printer head which can be distinguished, and a hole processing apparatus.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、複数
のインク溝が形成されたプリンタヘッド筐体に被加工用
プレートを設け、この被加工用プレートにレーザ光によ
ってオリフィス孔を形成するプリンタヘッドの製造方法
において、レーザ光を所定のビーム形状に整形する工程
と、整形されたレーザ光を上記オリフィス孔と対応する
パターンが形成されたマスクに照射する工程と、上記マ
スクを通過したレーザ光を結像光学系で上記被加工用プ
レートに結像してオリフィス孔を形成する工程と、上記
被加工用プレートにレーザ光によってオリフィス孔を形
成する際にこの被加工用プレートから生じる発光を受光
する工程と、上記被加工用プレートから生じる発光に基
づいてこの被加工用プレートを照射するレーザ光のエネ
ルギを制御する工程とを具備したことを特徴とするプリ
ンタヘッドの製造方法にある。According to a first aspect of the present invention, a plate to be processed is provided on a printer head housing in which a plurality of ink grooves are formed, and an orifice hole is formed in the plate for processing by laser light. In the method of manufacturing a printer head, a step of shaping a laser beam into a predetermined beam shape, a step of irradiating the shaped laser beam onto a mask on which a pattern corresponding to the orifice hole is formed, and a step of laser beam passing through the mask Forming an orifice hole by imaging light on the plate to be processed by an imaging optical system, and emitting light generated from the plate to be processed when forming the orifice hole by laser light in the plate to be processed. A step of receiving light and a step of controlling energy of a laser beam for irradiating the plate to be processed based on light emission generated from the plate to be processed. In the manufacturing method of the printer head, characterized by comprising and.
【0011】請求項2の発明は、被加工用プレートを照
射するレーザ光のエネルギを、レーザ光の強度とパルス
数によって制御することを特徴とする請求項1記載のプ
リンタヘッドの製造方法にある。According to a second aspect of the present invention, there is provided the method of manufacturing a printer head according to the first aspect, wherein the energy of the laser beam for irradiating the plate to be processed is controlled by the intensity and the number of pulses of the laser beam. .
【0012】請求項3の発明は、複数のインク溝が形成
されたプリンタヘッド筐体に被加工用プレートを設け、
この被加工用プレートにレーザ光によってオリフィス孔
を形成するプリンタヘッドの製造装置において、レーザ
光を所定のビーム形状に整形する整形光学系と、この整
形光学系から出射するレーザ光の光路上に配置され上記
オリフィス孔に対応する孔パターンが形成されたマスク
と、このマスクを通過したレーザ光を上記被加工用プレ
ートに結像させてオリフィス孔を形成する結像光学系
と、上記被加工用プレートにレーザ光によってオリフィ
ス孔を形成する際にこの被加工用プレートから生じる発
光を受光する光検出器と、被加工用プレートから生じる
発光に基づいてこの被加工用プレートを照射するレーザ
光のエネルギを制御する制御手段とを具備したことを特
徴とするプリンタヘッドの製造装置にある。According to a third aspect of the present invention, a processing plate is provided on a printer head housing in which a plurality of ink grooves are formed.
In a manufacturing apparatus of a printer head for forming an orifice hole by laser light in a plate to be processed, a shaping optical system for shaping a laser beam into a predetermined beam shape, and a laser beam emitted from the shaping optical system are arranged on an optical path of the laser beam. A mask in which a hole pattern corresponding to the orifice hole is formed, an image forming optical system for forming an orifice hole by forming an image of the laser beam passing through the mask on the plate for processing, and the plate for processing. A light detector that receives light emitted from the plate to be processed when the orifice hole is formed by the laser light, and an energy of the laser light that irradiates the plate to be processed based on the light emitted from the plate to be processed. And a control means for controlling the printer head.
【0013】請求項4の発明は、被加工物に孔を形成す
る孔加工装置において、レーザ光を所定のビーム形状に
整形する整形光学系と、この整形光学系からのレーザ光
の光路上に配置され上記孔に対応する孔パターンが形成
されたマスクと、このマスクを通過したレーザ光を上記
被加工物に結像させて孔を形成する結像光学系と、上記
被加工物に孔を形成する際にこの被加工物から生じる発
光を受光する光検出器と、この光検出器が検出する発光
に基づいて上記被加工物を照射するレーザ光のエネルギ
を制御する制御手段とを具備したことを特徴とする孔加
工装置にある。According to a fourth aspect of the present invention, in a hole forming apparatus for forming a hole in a workpiece, a shaping optical system for shaping a laser beam into a predetermined beam shape, and a laser beam on the optical path of the laser beam from the shaping optical system. A mask in which a hole pattern corresponding to the hole is formed, an imaging optical system that forms a hole by imaging a laser beam passing through the mask on the workpiece, and a hole in the workpiece. A photodetector for receiving light emitted from the workpiece when forming; and control means for controlling energy of a laser beam for irradiating the workpiece based on the light emission detected by the photodetector. A hole machining apparatus characterized in that:
【0014】この発明によれば、オリフィス孔を加工す
る際に被加工用プレートから生じる発光を測定し、この
発光に基づいてレーザ光のエネルギを制御するため、上
記オリフィス孔を予め設定された形状に加工することが
可能となる。According to the present invention, when the orifice hole is machined, the light emitted from the plate to be processed is measured, and the energy of the laser beam is controlled based on the measured light emission. Can be processed.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて図1乃至図8を参照して説明する。図1はインクジ
ェットプリンタのオリフィス孔を形成するための孔加工
装置である、プリンタヘッドの製造装置の構成図であ
る。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 1 is a configuration diagram of a printer head manufacturing apparatus which is a hole processing apparatus for forming an orifice hole of an ink jet printer.
【0016】図中30はエキシマレーザ発振器で、この
エキシマレーザ発振器30は波長400nm以下のレー
ザ光をパルス状に出力する。エキシマレーザ発振器30
から出力されるレーザ光の光路上には、バリアブルアッ
テネータ31、アップコリメータ32、イメージローテ
ータ33、ミラー34が配置され、さらにこのミラー3
4の反射光路上には、アレイレンズ照明系35、リレー
レンズ39、マスク36及び投影レンズ(結像レンズ)
37が配置されている。In the figure, reference numeral 30 denotes an excimer laser oscillator, and this excimer laser oscillator 30 outputs a laser beam having a wavelength of 400 nm or less in a pulse shape. Excimer laser oscillator 30
A variable attenuator 31, an up collimator 32, an image rotator 33, and a mirror 34 are arranged on the optical path of the laser light output from the
On the reflection optical path of No. 4, an array lens illumination system 35, a relay lens 39, a mask 36, and a projection lens (imaging lens)
37 are arranged.
【0017】一方、上記投影レンズ37の光軸方向には
xステージ38a、yステージ38b及びzステージ3
8cが設けられ、このzステージ38c上に被加工物と
してのオリフィスプレート(被加工用プレート)20が
載置されるようになっている。On the other hand, an x stage 38a, a y stage 38b, and a z stage 3
An orifice plate (working plate) 20 as a work is placed on the z stage 38c.
【0018】ここで、上記アレイレンズ照明系35から
リレーレンズ39、マスク36、投影レンズ37にかけ
ての光学系の具体的な構成について図2を参照して説明
する。同図に示すようにレーザ光の光路上には、アレイ
レンズ照明系35、リレーレンズ39、マスク36及び
投影レンズ37が配置されている。Here, a specific configuration of an optical system from the array lens illumination system 35 to the relay lens 39, the mask 36, and the projection lens 37 will be described with reference to FIG. As shown in the figure, an array lens illumination system 35, a relay lens 39, a mask 36, and a projection lens 37 are arranged on the optical path of the laser light.
【0019】アレイレンズ照明系35は、図2と図3に
示すように2つのシリンドリカルアレイレンズ35a、
35bを互いに垂直に交わる方向に間隔L0 をおいて
配置したものとなっている。The array lens illumination system 35 includes two cylindrical array lenses 35a, as shown in FIGS.
35b in the mutually direction intersecting perpendicularly and is obtained by spaced L 0.
【0020】これらシリンドリカルアレイレンズ35
a、35bの各集光面40(図2に示す)は、シリンド
リカルアレイレンズ35bから距離L1 のところの同
一面に一致するようになっている。These cylindrical array lenses 35
a, each of 35b condensing surface 40 (shown in FIG. 2) is adapted to match the cylindrical array lens 35b on the same surface where the distance L 1.
【0021】又、これらシリンドリカルアレイレンズ3
5a、35bの集光面40をリレーレンズ39により投
影レンズ37の入射瞳(絞り)41の面に結像し、これ
により投影レンズ37に対してテレセントリックな条件
が成立するようにアレイレンズ照明系35、リレーレン
ズ39、入射瞳41、投影レンズ37に対してマスク3
6が配置されている。Further, these cylindrical array lenses 3
The condensing surfaces 40 of the lenses 5a and 35b are imaged on the surface of the entrance pupil (aperture) 41 of the projection lens 37 by the relay lens 39, whereby the telecentric condition for the projection lens 37 is established. 35, relay lens 39, entrance pupil 41, and projection lens 37, mask 3
6 are arranged.
【0022】このようなテレセントリックな光学系によ
りオリフィスプレート20の板面に対して垂直な軸線を
有する逆テーパのオリフィス孔21(図2に示す)が形
成されるものとなる。上記マスク36は、図4に示すよ
うに細長い長方形状に形成され、その長手方向にインク
ジェットプリンタのオリフィス孔を形成するための複数
の円形開口36aが長手方向に所定のピッチ間隔で形成
されている。By such a telecentric optical system, an orifice hole 21 (shown in FIG. 2) having an inverse taper and having an axis perpendicular to the plate surface of the orifice plate 20 is formed. The mask 36 is formed in an elongated rectangular shape as shown in FIG. 4, and a plurality of circular openings 36a for forming orifice holes of the ink jet printer are formed in the longitudinal direction at predetermined pitch intervals in the longitudinal direction. .
【0023】上記マスク36に対してレーザ光を均一な
強度分布で照射するために、上記アップコリメータ32
は、エキシマレーザ発振器30から出力されたレーザ光
を、アレイレンズ35a、35bの矩形開口に合致する
ようビーム形状を変換する機能を有している。In order to irradiate the mask 36 with laser light with a uniform intensity distribution, the up collimator 32
Has a function of converting the beam shape of the laser light output from the excimer laser oscillator 30 so as to match the rectangular apertures of the array lenses 35a and 35b.
【0024】又、アレイレンズ照明系35及びリレーレ
ンズ39の焦点距離とアレイレンズ照明系35の幅によ
りマスク36上でのレーザ光のビームサイズ22が図4
に示すようにXYサイズに決定されるものとなってい
る。The beam size 22 of the laser beam on the mask 36 is determined by the focal length of the array lens illumination system 35 and the relay lens 39 and the width of the array lens illumination system 35 in FIG.
The XY size is determined as shown in FIG.
【0025】これらアレイレンズ照明系35、リレーレ
ンズ39、マスク36及び投影レンズ37の距離及び焦
点距離の関係を具体的に示すと次の通りとなる。The relationship between the distance and the focal length of the array lens illumination system 35, the relay lens 39, the mask 36 and the projection lens 37 is specifically shown as follows.
【0026】各シリンドリカルアレイレンズ35a、3
5bの各焦点距離をf0 、f1、リレーレンズ39の
焦点距離をf2 、投影レンズの焦点距離をf3 、各
シリンドリカルアレイレンズ35a、35bの単位アレ
イレンズの幅をW、これらシリンドリカルアレイレンズ
35a、35bの列数をN、アレイレンズ照明系35に
よって決定されるレーザ光の矩形状のビームサイズをX
Y、投影レンズ37の倍率をMとすると、図2に示すよ
うに各シリンドリカルアレイレンズ35a、35bの間
隔L0 は、 L0 =f0 −f1 …(1) となり、アレイレンズ照明系35からその集光点までの
距離は、 L1 =f1 …(2) となる。Each cylindrical array lens 35a, 3
F 0 The respective focal lengths of 5b, f 1, a focal length of f 2 of the relay lens 39, the focal distance f 3 of the projection lens, width W of each cylindrical array lenses 35a, 35b units array lenses, these cylindrical array The number of columns of the lenses 35a and 35b is N, and the rectangular beam size of the laser light determined by the array lens illumination system 35 is X
Assuming that Y is M and the magnification of the projection lens 37 is M, the interval L 0 between the cylindrical array lenses 35 a and 35 b is L 0 = f 0 −f 1 (1) as shown in FIG. The distance from to the focal point is L 1 = f 1 (2).
【0027】又、リレーレンズ39の径dは、 d=W(N+L2 /L1 −1) …(3) となる。The diameter d of the relay lens 39 is as follows: d = W (N + L 2 / L 1 -1) (3)
【0028】各シリンドリカルアレイレンズ35a、3
5bの焦点距離f0 、f1 は、 f0 =f2 /X・W …(4) f1 =f2 /Y・W …(5) となる。Each cylindrical array lens 35a, 3
The focal lengths f 0 and f 1 of 5b are as follows: f 0 = f 2 / X · W (4) f 1 = f 2 / Y · W (5)
【0029】さらに、 L3 =f2 …(6) f2 =W(N−1)/NAin/2 …(7) L2 =f2 (f2 /L4 +1) …(8) NAin=NAout /M …(9) の関係となっている。Further, L 3 = f 2 (6) f 2 = W (N−1) / NA in / 2 (7) L 2 = f 2 (f 2 / L 4 +1) (8) NA in = NA out / M (9)
【0030】投影レンズ37の入射瞳41の瞳径EPD
は、 EPD=L4 ・NAin・2 …(10) により表される。The pupil diameter EPD of the entrance pupil 41 of the projection lens 37
Is represented by EPD = L 4 · NA in · 2 (10)
【0031】さらに、 f3 =L(2+M+1/M) …(11) L6 =(1+M)・f3 …(12) L5 =f3 …(13) L4 =(1+1/M)・f3 −f3 =f3 /M …(14) の関係となっている。Further, f 3 = L (2 + M + 1 / M) (11) L 6 = (1 + M) · f 3 (12) L 5 = f 3 (13) L 4 = (1 + 1 / M) · f 3 -f 3 = f 3 / M ... has become a relationship of (14).
【0032】ここで、上記マスク36はオリフィスプレ
ート20及び上記投影レンズ37に対して共役な位置関
係となるように配置されている。それによって、オリフ
ィスプレート20にはマスク36の孔形状が高精度に反
映して形成されることになる。Here, the mask 36 is disposed so as to have a conjugate positional relationship with the orifice plate 20 and the projection lens 37. Thus, the hole shape of the mask 36 is formed on the orifice plate 20 with high accuracy.
【0033】図1に示す微細加工コントローラ48は、
孔加工装置の全体を制御するもので、次の各機能を有し
ている。すなわち微細加工コントローラ48は、エキシ
マレーザ発振器30に対してレーザ制御信号(トリガ信
号)を送出し、エキシマレーザ発振器30の動作制御を
行う機能を有している。The micromachining controller 48 shown in FIG.
It controls the entire hole drilling apparatus and has the following functions. That is, the micromachining controller 48 has a function of transmitting a laser control signal (trigger signal) to the excimer laser oscillator 30 and controlling the operation of the excimer laser oscillator 30.
【0034】又、微細加工コントローラ48は、イメー
ジローテータ33の回転機構44に対して回転速度制御
信号を送出し、例えばオリフィスプレート20の孔開け
加工に必要な約200〜500パルスのレーザ光の照射
の間にイメージローテータ33を連続して回転させる機
能を有している。The micromachining controller 48 sends a rotation speed control signal to the rotation mechanism 44 of the image rotator 33, and irradiates, for example, a laser beam of about 200 to 500 pulses necessary for boring the orifice plate 20. Has a function of rotating the image rotator 33 continuously.
【0035】又、微細加工コントローラ48は、バリア
ブルアッテネータ31に対してフルエンス制御信号を送
出し、エキシマレーザ発振器30から出力されるレーザ
光のパルス数に応じてレーザ光の出力強度を調整する機
能を有している。The micro-machining controller 48 has a function of transmitting a fluence control signal to the variable attenuator 31 and adjusting the output intensity of the laser beam according to the number of pulses of the laser beam output from the excimer laser oscillator 30. Have.
【0036】又、微細加工コントローラ48は、オート
フォーカスユニット49に対してフォーカス制御信号を
送出し、マスク像をオリフィスプレート20に結像させ
る機能を有している。The micromachining controller 48 has a function of transmitting a focus control signal to the autofocus unit 49 to form a mask image on the orifice plate 20.
【0037】このオートフォーカスユニット49には、
カメラ50が接続され、このカメラ50により撮像され
るオリフィスプレート20上のマスク像に基づいてフォ
ーカスのずれを求め、このフォーカスのずれを無くす駆
動信号をドライバ51に送出する機能を有している。こ
のドライバ51は、オートフォーカスユニット48から
の駆動信号に従ってzステージ38cを動作させる機能
を有している。The auto focus unit 49 includes:
A camera 50 is connected, and has a function of calculating a focus shift based on a mask image on the orifice plate 20 captured by the camera 50 and transmitting a drive signal for eliminating the focus shift to the driver 51. The driver 51 has a function of operating the z stage 38c according to a drive signal from the autofocus unit 48.
【0038】又、微細加工コントローラ48は、xyド
ライバ52に対して位置制御信号を送出し、マスク像を
オリフィスプレート20上に投影させるようにxyテー
ブル38a、38bを動作させる機能を有している。The micromachining controller 48 has a function of sending a position control signal to the xy driver 52 and operating the xy tables 38a and 38b so that the mask image is projected on the orifice plate 20. .
【0039】上記オリフィスプレート20の斜め上方に
は光検出器61が配置されている。この光検出器61
は、オリフィスプレート20にレーザ光を照射し、この
オリフィスプレート20にオリフィス孔21を加工する
際、加工中にオリフィスプレート20の表面から生じる
発光を受光し、ついでその強度及び光量を測定する。光
検出器61による測定信号は微細加工コントローラ48
に入力され、ここでオリフィスプレート20の加工状態
が検出され、その検出結果に応じてレーザ光の強度が制
御される。A photodetector 61 is disposed diagonally above the orifice plate 20. This photodetector 61
Irradiates the orifice plate 20 with laser light, and when processing the orifice hole 21 in the orifice plate 20, receives light emitted from the surface of the orifice plate 20 during processing, and then measures the intensity and light amount. The measurement signal from the photodetector 61 is transmitted to the fine processing controller 48.
The processing state of the orifice plate 20 is detected here, and the intensity of the laser beam is controlled according to the detection result.
【0040】図5(a)〜(c)はオリフィスプレート
20にオリフィス孔21を加工する過程と、その過程に
おける発光との関係を説明する図である。図5(a)に
示すようにオリフィスプレート20に形成されるオリフ
ィス孔21が貫通する前は、オリフィスプレート20か
らの除去物Pがプルーム(発光)としてレーザ光の照射
側に飛び出してくるため、発光強度は比較的変化なく、
強度も大きい。FIGS. 5A to 5C are views for explaining the relationship between the process of forming the orifice hole 21 in the orifice plate 20 and the light emission in the process. Before the orifice hole 21 formed in the orifice plate 20 penetrates as shown in FIG. 5A, the removed matter P from the orifice plate 20 jumps out as a plume (light emission) toward the laser beam irradiation side. The emission intensity is relatively unchanged,
Great strength.
【0041】図5(b)に示すようにオリフィス孔21
がオリフィスプレート20を貫通した初期においては、
除去物Pの一部はオリフィスプレート20の下面側に排
出されるため、光検出器61によって検出されるレーザ
光の照射側の発光強度が図5(a)の場合に比べて低下
する。As shown in FIG. 5B, the orifice hole 21
In the early stage when penetrated the orifice plate 20,
Since a part of the removed matter P is discharged to the lower surface side of the orifice plate 20, the emission intensity of the laser beam on the irradiation side detected by the photodetector 61 is lower than that in the case of FIG.
【0042】図5(c)に示すようにオリフィス孔21
がテーパ形状に加工されると、除去物Pの発生がほとん
どなくなるから、発光もほとんど観察されなくなる。As shown in FIG. 5C, the orifice hole 21
Is processed into a tapered shape, the generation of the removed matter P hardly occurs, so that light emission is hardly observed.
【0043】図6(a)はオリフィス孔21を加工する
際に光検出器61が検出する発光強度の変化を示したグ
ラフであり、図6(b)はレーザ光の強度を示したグラ
フである。レーザ光はバリアブルアッテネータ31によ
って強度が一定となるよう制御されてパルス発振される
ようになっており、光検出器61が検出する発光強度は
上述したようにオリフィス孔21の加工の進行状態に応
じて低下してくる。FIG. 6A is a graph showing a change in light emission intensity detected by the photodetector 61 when the orifice hole 21 is processed, and FIG. 6B is a graph showing the intensity of laser light. is there. The laser light is controlled by the variable attenuator 31 so that the intensity is controlled to be constant, and pulse oscillation is performed. The emission intensity detected by the photodetector 61 depends on the progress of the processing of the orifice hole 21 as described above. And it falls.
【0044】つまり、図6(a)において、領域Xは図
5(a)に示す状態の発光強度であり、領域Yは図5
(b)の状態の発光強度であり、さらに領域Zは図5
(c)の状態の発光強度である。That is, in FIG. 6A, the area X is the light emission intensity in the state shown in FIG.
FIG. 5 shows the emission intensity in the state of FIG.
It is the light emission intensity in the state of (c).
【0045】次に上記の如く構成された装置の作用につ
いて説明する。Next, the operation of the device configured as described above will be described.
【0046】エキシマレーザ発振器30から出力された
パルス状のレーザ光は、先ず、バリアブルアッテネータ
31に入射して出力強度が調整される。次に、アップコ
リメータ32は、バリアブルアッテネータ31から出射
されたレーザ光を、マスク36上の全ての円形開口36
aを覆うように帯状のビームに変換し、イメージローテ
ータ33に送る。The pulsed laser light output from the excimer laser oscillator 30 first enters the variable attenuator 31 and the output intensity is adjusted. Next, the up collimator 32 transmits the laser beam emitted from the variable attenuator 31 to all the circular apertures 36 on the mask 36.
The light beam is converted into a belt-like beam so as to cover a, and is sent to the image rotator 33.
【0047】このイメージローテータ33は、エキシマ
レーザ発振器30から出力されるレーザ光が不均一な強
度分布を有しているので、上記イメージローテータ33
を例えばオリフィスプレート20の孔開け加工に必要な
約200〜500パルスのレーザ光の照射の間に連続し
て回転させ、アレイレンズ照明系35の入射面でレーザ
光を回転対称な強度分布に形成する。Since the laser light output from the excimer laser oscillator 30 has a non-uniform intensity distribution, the image rotator 33
Are continuously rotated during the irradiation of, for example, about 200 to 500 pulses of laser light required for forming a hole in the orifice plate 20, and the laser light is formed into a rotationally symmetric intensity distribution on the incident surface of the array lens illumination system 35. I do.
【0048】このイメージローテータ33から出射され
るレーザ光は、ミラー34で反射し、アレイレンズ照明
系35に入射する。このレーザ光は、アレイレンズ照明
系35の2つのシリンドリカルアレイレンズ35a、3
5bによって集光面40に集光され、さらにリレーレン
ズ39によりマスク36に照射される。The laser light emitted from the image rotator 33 is reflected by a mirror 34 and enters an array lens illumination system 35. This laser light is transmitted to two cylindrical array lenses 35a, 3a of the array lens illumination system 35.
The light is condensed on the light condensing surface 40 by 5b, and is further irradiated on the mask 36 by the relay lens 39.
【0049】そして、アレイレンズ照明系35の集光面
40はリレーレンズ39により投影レンズ37の入射瞳
41の面に結像されるので、レーザ光が投影レンズ37
を通してオリフィスプレート20に投影されることによ
り、図5(a)に示すようにオリフィスプレート20に
はオリフィス孔21が形成される。Then, the condensing surface 40 of the array lens illumination system 35 is imaged on the surface of the entrance pupil 41 of the projection lens 37 by the relay lens 39, so that the laser light is
Is projected on the orifice plate 20 through the orifice plate 20, thereby forming an orifice hole 21 in the orifice plate 20 as shown in FIG.
【0050】オリフィスプレート20にオリフィス孔2
1を加工する際、オリフィスプレート20からの発光が
光検出器61によって検出され、その検出に基づいてオ
リフィス孔21の加工が制御される。The orifice plate 2 has an orifice hole 2
When processing 1, light emission from the orifice plate 20 is detected by the photodetector 61, and processing of the orifice hole 21 is controlled based on the detection.
【0051】図7に示すフローチャートを参照しながら
オリフィス孔21を加工する手順を説明する。まず、S
1でスタート信号が出力されると、S2に示すようにエ
キシマレーザ30にトリガパルスが出力される。それに
よって、エキシマレーザ30からはパルスレーザ光が発
振出力されてオリフィスプレート20を照射する。The procedure for machining the orifice hole 21 will be described with reference to the flowchart shown in FIG. First, S
When the start signal is output in step 1, a trigger pulse is output to the excimer laser 30 as shown in S2. As a result, pulse laser light is oscillated and output from the excimer laser 30 to irradiate the orifice plate 20.
【0052】S3では光検出器61によってオリフィス
プレート20からの発光が受光され、ついで発光の強度
又は発光量L、この実施の形態では発光量Lが測定され
る。S4ではS3で測定された発光量Lが図5(c)の
ときの発光量、つまりLmin(最小発光量)と比較され
る。YESであれば、S5でトリガパルスカウント値N
がNminと比較される。Nminは所定の閾値であって、N
<NminがYESであると、S6に示すようにレーザ未
照射警告が発せられることになる。In S3, the light emitted from the orifice plate 20 is received by the photodetector 61, and then the intensity of the light emission or the light emission amount L, and in this embodiment, the light emission amount L is measured. In S4, the light emission amount L measured in S3 is compared with the light emission amount in FIG. 5C, that is, Lmin (minimum light emission amount). If YES, the trigger pulse count value N in S5
Is compared to Nmin. Nmin is a predetermined threshold, and Nmin
If <Nmin is YES, a laser non-irradiation warning is issued as shown in S6.
【0053】つまり、S4におけるL<Lminは図5
(c)に示すようにオリフィス孔21が貫通したための
光量低下でなく、レーザ光がオリフィスプレート20に
照射されないためであると判別される。That is, L <Lmin in S4 is the same as FIG.
It is determined that the reason is that the laser light is not irradiated on the orifice plate 20 because the light amount does not decrease because the orifice hole 21 penetrates as shown in FIG.
【0054】S5においてN<NminがNOであると、
S7ではトリガパルスカウント値N、つまりNmid>N
>Nminが判別される。YESであると、トリガパルス
カウント値Nが所定回数に達しない時期にオリフィス孔
21が貫通したと判断されるため、S8ではレーザ照射
過剰警告が発せられることになる。If N <Nmin is NO in S5,
In S7, the trigger pulse count value N, that is, Nmid> N
> Nmin. If YES, it is determined that the orifice hole 21 has penetrated when the trigger pulse count value N does not reach the predetermined number, so that an excessive laser irradiation warning is issued in S8.
【0055】Nmid>N>NminがNOであると、トリガ
パルスカウント値Nが所定回数に達した条件と、S4の
発光量が低下した条件とが満足されることになるから、
図5(c)に示すようにオリフィス孔21が貫通したこ
とになり、S9では正常に加工が終了したことが表示さ
れる。If Nmid>N> Nmin is NO, the condition that the trigger pulse count value N reaches the predetermined number and the condition that the light emission amount in S4 decreases are satisfied.
As shown in FIG. 5C, the orifice hole 21 has penetrated, and it is displayed in S9 that the processing has been completed normally.
【0056】上記S4で、L<Lminの判別がNOの場
合、S10ではLmax>L>Lminが判別される。NOで
あれば、S11でレーザ照射強度過剰警告が発せられ、
YESであれば、S12でN=Nmaxが判別される。N
Oであれば、照射パルス数が少ないことになるからS2
に戻る。YESであって、オリフィス孔21が貫通して
いない状態や加工不足状態が発生する場合は、S13の
加工再トライのYESを選択すればS2に戻り、はNO
を選択すればS14で加工異常終了が表示される。If it is determined in S4 that L <Lmin is NO, then in S10, Lmax>L> Lmin is determined. If NO, a laser irradiation intensity excess warning is issued in S11,
If YES, N = Nmax is determined in S12. N
If O, the number of irradiation pulses is small, so S2
Return to If YES, and the state where the orifice hole 21 does not penetrate or the state of insufficient processing occurs, if YES of the processing retry of S13 is selected, the process returns to S2, and NO
Is selected, processing abnormal end is displayed in S14.
【0057】このように、光検出器61の検出信号によ
って図7に示すフローチャートに基づく処理を行なえ
ば、エキシマレーザ発振器30や伝送光学系の経時変化
によってオリフィスプレート20を照射するパルスレー
ザ光の強度やビーム形状が変化しても、その変化に対応
して上記オリフィスプレート20にオリフィス孔21を
所定の形状に形成することができ、また加工状態に異常
が生じた場合には、その異常を早期に検出することがで
きるため、不良品を大量に製造してしまうのを未然に防
止することができる。As described above, if the processing based on the flowchart shown in FIG. 7 is performed based on the detection signal of the photodetector 61, the intensity of the pulse laser beam irradiating the orifice plate 20 due to the aging of the excimer laser oscillator 30 and the transmission optical system. Even if the beam shape changes, the orifice hole 21 can be formed in the orifice plate 20 in a predetermined shape in accordance with the change. Therefore, it is possible to prevent a large number of defective products from being manufactured in advance.
【0058】また、光検出器61をzステージ38c上
に設けられるオリフィスプレート20の斜め上方に配置
するようにした。つまり、この光検出器61を光学系の
光軸から外れた位置に配置できるから、この光検出器6
1を投影レンズ37やマスク36などの邪魔ならずに配
置することができる。The photodetector 61 is arranged obliquely above the orifice plate 20 provided on the z-stage 38c. That is, the photodetector 61 can be arranged at a position off the optical axis of the optical system.
1 can be arranged without disturbing the projection lens 37 and the mask 36.
【0059】図8(a)〜(d)はこの発明のプリンタ
ヘッドの製造方法を示す工程図である。FIGS. 8A to 8D are process diagrams showing a method for manufacturing a printer head according to the present invention.
【0060】まず、図8(a)に示すようにインクジェ
ットプリンタのヘッド筐体101に接着剤111を塗付
したならば、そこに図8(b)に示すように被加工用プ
レートとしてのポリイミドシートなどの高分子材料から
なるオリフィスプレート20を接着する。なお、オリフ
ィスプレート20はポリイミドシートに限られず、ポリ
サルフォンなどを用いてもよい。First, if an adhesive 111 is applied to the head casing 101 of the ink jet printer as shown in FIG. 8A, then a polyimide as a plate to be processed is applied thereto as shown in FIG. 8B. The orifice plate 20 made of a polymer material such as a sheet is bonded. The orifice plate 20 is not limited to a polyimide sheet, but may be polysulfone.
【0061】つぎに、上記ヘッド筐体101を図1に示
すzステージ38c上に位置決め載置したのち、図8
(c)に示すように上記オリフィスプレート20にマス
ク36および投影レンズ37(ともに図1に示す)を通
過したレーザ光を照射する。それによって、図8(d)
に示すように上記オリフィスプレート20に所望する形
状のオリフィス孔21を高精度に加工することができ
る。Next, after the head housing 101 is positioned and mounted on the z stage 38c shown in FIG.
As shown in (c), the orifice plate 20 is irradiated with laser light that has passed through the mask 36 and the projection lens 37 (both shown in FIG. 1). As a result, FIG.
As shown in (1), an orifice hole 21 having a desired shape can be formed in the orifice plate 20 with high accuracy.
【0062】オリフィス孔21を加工する際に、光検出
器61によってオリフィスプレート20からの発光を検
出し、検出された発光によって図7のフローチャートに
基づく制御を行なうことで、上記オリフィス孔21を高
精度の形状で形成することができる。When the orifice hole 21 is processed, light emission from the orifice plate 20 is detected by the photodetector 61, and control is performed based on the detected light emission based on the flowchart of FIG. It can be formed with an accurate shape.
【0063】この発明は上記一実施の形態に限定され
ず、種々変形可能である。たとえば、光検出器61はオ
リフィスプレート20の斜め上方でなく、加工点に対し
て投影レンズ37を介して共役な位置に配置するように
してもよい。そうすれば、この光検出器61にオリフィ
スプレート20の加工点が結像されることになるから、
この加工点からの発光を検出することが可能となる。The present invention is not limited to the above embodiment, but can be variously modified. For example, the photodetector 61 may be arranged at a position conjugate to the processing point via the projection lens 37 instead of obliquely above the orifice plate 20. Then, since the processing point of the orifice plate 20 is imaged on the photodetector 61,
Light emission from this processing point can be detected.
【0064】[0064]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、オリフィ
ス孔を加工する際に被加工用プレートから生じる発光を
受光し、この発光に基づいてレーザ光のエネルギを制御
するようにした。As described above, according to the present invention, the light emitted from the plate to be processed when the orifice hole is machined is received, and the energy of the laser beam is controlled based on this light emission.
【0065】そのため、上記オリフィス孔を予め設定さ
れた形状に加工することが可能となるばかりか、加工不
良が生じるのを防止することができる。Therefore, not only can the orifice hole be machined into a preset shape, but also the occurrence of machining defects can be prevented.
【図1】本発明に係わる孔加工装置の一実施の形態を示
す構成図。FIG. 1 is a configuration diagram showing an embodiment of a hole drilling apparatus according to the present invention.
【図2】アレイレンズ照明系からマスク、投影レンズに
かけての具体的な構成図。FIG. 2 is a specific configuration diagram from an array lens illumination system to a mask and a projection lens.
【図3】アレイレンズ照明系の一部の構成図。FIG. 3 is a configuration diagram of a part of an array lens illumination system.
【図4】レーザ光がマスクを照射する状態の平面図。FIG. 4 is a plan view showing a state in which a laser beam irradiates a mask.
【図5】オリフィスプレートにオリフィス孔を形成する
状態の説明図。FIG. 5 is an explanatory view of a state in which an orifice hole is formed in an orifice plate.
【図6】オリフィスプレートにオリフィス孔を形成する
際の発光強度とレーザ強度を示す説明図。FIG. 6 is an explanatory diagram showing light emission intensity and laser intensity when forming an orifice hole in an orifice plate.
【図7】光検出器が検出する発光量に基づきオリフィス
孔を加工する手順を示すフローチャート。FIG. 7 is a flowchart showing a procedure for processing an orifice hole based on a light emission amount detected by a photodetector.
【図8】この発明のプリンタヘッドを製造するための工
程図。FIG. 8 is a process chart for manufacturing the printer head of the present invention.
【図9】従来におけるインクジェットプリンタのオリフ
ィス孔の加工方法を説明するための図。FIG. 9 is a view for explaining a method of processing an orifice hole of a conventional ink jet printer.
20…オリフィスプレート 21…オリフィス孔 30…エキシマレーザ発振器 31…バリアブルアッテネータ 32…アップコリメータ 33…イメージローテータ 35…アレイレンズ照明系 36…マスク 37…投影レンズ 61…光検出器 101…プリンタヘッド筐体 Reference Signs List 20 orifice plate 21 orifice hole 30 excimer laser oscillator 31 variable attenuator 32 up collimator 33 image illuminator 35 array lens illumination system 36 mask 37 projection lens 61 photodetector 101 printer housing
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 伊左雄 静岡県三島市南町6番78号 東芝テック株 式会社三島事業所内 (72)発明者 下里 正志 静岡県三島市南町6番78号 東芝テック株 式会社三島事業所内 Fターム(参考) 2C057 AF93 AP13 AP23 AQ03 4E068 AF02 CA02 CA03 CA17 CD05 CD10 DA00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Isao Suzuki 6-78, Minamicho, Mishima-shi, Shizuoka Toshiba Tec Co., Ltd. Mishima Plant (72) Inventor Masashi Shimozato 6-78, Minami-cho, Mishima-shi, Shizuoka Toshiba Tec F-term (reference) at Mishima Plant, Inc. 2C057 AF93 AP13 AP23 AQ03 4E068 AF02 CA02 CA03 CA17 CD05 CD10 DA00
Claims (4)
ッド筐体に被加工用プレートを設け、この被加工用プレ
ートにレーザ光によってオリフィス孔を形成するプリン
タヘッドの製造方法において、 レーザ光を所定のビーム形状に整形する工程と、 整形されたレーザ光を上記オリフィス孔と対応するパタ
ーンが形成されたマスクに照射する工程と、 上記マスクを通過したレーザ光を結像光学系で上記被加
工用プレートに結像してオリフィス孔を形成する工程
と、 上記被加工用プレートにレーザ光によってオリフィス孔
を形成する際にこの被加工用プレートから生じる発光を
受光する工程と、 上記被加工用プレートから生じる発光に基づいてこの被
加工用プレートを照射するレーザ光のエネルギを制御す
る工程とを具備したことを特徴とするプリンタヘッドの
製造方法。1. A method of manufacturing a printer head, comprising: forming a plate to be processed on a printer head housing in which a plurality of ink grooves are formed; and forming an orifice hole in the plate for processing by laser light. Shaping the laser beam into a beam shape; irradiating the shaped laser beam onto a mask on which a pattern corresponding to the orifice hole is formed; and applying the laser beam passing through the mask to an image forming optical system for processing the laser beam. Forming an orifice hole by forming an image on the plate; receiving light emitted from the plate when forming the orifice hole by laser light on the plate; and Controlling the energy of the laser beam for irradiating the plate for processing based on the generated light emission. Method of manufacturing a printer head.
エネルギを、レーザ光の強度とパルス数によって制御す
ることを特徴とする請求項1記載のプリンタヘッドの製
造方法。2. The method according to claim 1, wherein the energy of the laser beam for irradiating the plate to be processed is controlled by the intensity of the laser beam and the number of pulses.
ッド筐体に被加工用プレートを設け、この被加工用プレ
ートにレーザ光によってオリフィス孔を形成するプリン
タヘッドの製造装置において、 レーザ光を所定のビーム形状に整形する整形光学系と、 この整形光学系から出射するレーザ光の光路上に配置さ
れ上記オリフィス孔に対応する孔パターンが形成された
マスクと、 このマスクを通過したレーザ光を上記被加工用プレート
に結像させてオリフィス孔を形成する結像光学系と、 上記被加工用プレートにレーザ光によってオリフィス孔
を形成する際にこの被加工用プレートから生じる発光を
受光する光検出器と、 被加工用プレートから生じる発光に基づいてこの被加工
用プレートを照射するレーザ光のエネルギを制御する制
御手段とを具備したことを特徴とするプリンタヘッドの
製造装置。3. A printer head manufacturing apparatus in which a plate to be processed is provided in a printer head housing in which a plurality of ink grooves are formed, and an orifice hole is formed in the plate to be processed by laser light. A shaping optical system for shaping into a beam shape of a laser beam, a mask disposed on an optical path of laser light emitted from the shaping optical system and having a hole pattern corresponding to the orifice hole formed thereon, and a laser beam passing through the mask, An imaging optical system that forms an orifice hole by forming an image on a processing plate; and a photodetector that receives light emitted from the processing plate when the orifice hole is formed by laser light in the processing plate. And control means for controlling the energy of the laser beam for irradiating the plate for processing based on the light emission generated from the plate for processing. Apparatus for manufacturing a printer head, characterized by comprising.
いて、 レーザ光を所定のビーム形状に整形する整形光学系と、 この整形光学系からのレーザ光の光路上に配置され上記
孔に対応する孔パターンが形成されたマスクと、 このマスクを通過したレーザ光を上記被加工物に結像さ
せて孔を形成する結像光学系と、 上記被加工物に孔を形成する際にこの被加工物から生じ
る発光を受光する光検出器と、 この光検出器が検出する発光に基づいて上記被加工物を
照射するレーザ光のエネルギを制御する制御手段とを具
備したことを特徴とする孔加工装置。4. A drilling apparatus for forming a hole in a workpiece, comprising: a shaping optical system for shaping a laser beam into a predetermined beam shape; and a laser beam arranged on the optical path of the laser beam from the shaping optical system. A mask on which a corresponding hole pattern is formed, an imaging optical system for forming a hole by forming an image of the laser beam passing through the mask on the workpiece, A photodetector for receiving light emitted from the workpiece; and control means for controlling energy of laser light for irradiating the workpiece based on the light detected by the photodetector. Hole processing equipment.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001098781A JP2002292879A (en) | 2001-03-30 | 2001-03-30 | Method of manufacturing printer head, apparatus therefor and boring apparatus |
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Legal Events
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080318 |
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A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20101020 |