JP2002263962A - Metal mesh formed of small gauge wire and its manufacturing method - Google Patents
Metal mesh formed of small gauge wire and its manufacturing methodInfo
- Publication number
- JP2002263962A JP2002263962A JP2001059115A JP2001059115A JP2002263962A JP 2002263962 A JP2002263962 A JP 2002263962A JP 2001059115 A JP2001059115 A JP 2001059115A JP 2001059115 A JP2001059115 A JP 2001059115A JP 2002263962 A JP2002263962 A JP 2002263962A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mesh
- wire diameter
- metal
- positron
- metal mesh
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、細線化した金属メ
ッシュ及びその製造方法に関する。この細線化した金属
メッシュは、荷電粒子ビーム引き出し電極、加速制御電
極あるいは低速陽電子生成のための減速材として用いる
のに好適である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin metal mesh and a method for manufacturing the same. The thinned metal mesh is suitable for use as a charged particle beam extraction electrode, an acceleration control electrode, or a moderator for low-speed positron generation.
【0002】[0002]
【従来の技術】金属メッシュは線材をメッシュに加工す
ることによって製作される。また、プレスすることによ
って板材に互い違いに切れ目を入れて、切れ目に対し垂
直方向に引き伸ばし加工したもの(エキスパンドメタル
と呼ぶ)を、さらにフラットロール加工により平滑にし
てフラットメッシュが製作される。メッシュの線の重な
り部分がなくなり、一体となったものである。また、板
材をプレスして穴をあけたメッシュ状の製品(アズメッ
シュ等)がある。2. Description of the Related Art A metal mesh is manufactured by processing a wire into a mesh. Further, the plate material is alternately cut by pressing, and the plate material which is stretched in a direction perpendicular to the cut (called expanded metal) is further smoothed by flat roll processing to produce a flat mesh. The overlapping portions of the mesh lines are eliminated, and the mesh is integrated. There is also a mesh-shaped product (such as as mesh) in which a plate material is pressed to form a hole.
【0003】電子をフィラメントから引き出して加速す
るための電極、あるいは減速材から放出される陽電子を
加速するためのグリッド電極、荷電粒子の加速管の電極
等、荷電粒子ビームの制御電極に金属メッシュが利用さ
れている。また、フィラメントから放出される電子、減
速材から放出される陽電子をビーム方向に引き出すため
にメッシュが利用される。荷電粒子ビームの加速減速制
御は静電レンズの電位を変えることによって行われる
が、静電レンズの端では面内の電位に勾配が生じるため
に荷電粒子の収束発散が生じる。この収束発散を防ぐた
めの静電レンズの端にメッシュを張ることによって、エ
ミッタンスの良いビームを得ることができる。メッシュ
の形状等は目的によって異なるが、低速陽電子ビームの
電極として用いられるメッシュの線径は30μm程度で
ある。ここで、30メッシュというのは長さ1インチの
中にあるメッシュの数が30あることを指している。[0003] A metal mesh is used as a control electrode for a charged particle beam, such as an electrode for extracting electrons from the filament and accelerating them, a grid electrode for accelerating positrons emitted from a moderator, and an electrode for a charged particle acceleration tube. It's being used. Further, a mesh is used to extract electrons emitted from the filament and positrons emitted from the moderator in the beam direction. The acceleration / deceleration control of the charged particle beam is performed by changing the potential of the electrostatic lens. However, at the end of the electrostatic lens, a convergence and divergence of the charged particles occurs because a gradient is generated in the in-plane potential. By forming a mesh on the end of the electrostatic lens to prevent the convergence and divergence, a beam with good emittance can be obtained. Although the shape and the like of the mesh differ depending on the purpose, the wire diameter of the mesh used as the electrode of the slow positron beam is about 30 μm. Here, 30 mesh means that there are 30 meshes in one inch in length.
【0004】陽電子消滅法により、陽電子と原子分子と
の相互作用の研究あるいは固体中の格子欠陥、不純物の
検出、プラスチックの自由体積、金属のフェルミ面の研
究等が行われている。この場合、放射性同位体RIのβ
+崩壊によって放出される連続したエネルギー分布(エ
ンドポイントエネルギー1MeV程度)を持つ陽電子が
利用されている。この高速の陽電子をある種の物質に入
射すると、一部の陽電子は物質中で周囲の温度と平衡状
態となるまで運動エネルギーを失い(以後、熱化と呼
ぶ)、さらに拡散によって物質表面に達して外に放出さ
れる。陽電子にとって物質中に存在するよりも外部の方
がエネルギー的に安定となるためである。したがって、
物質中から陽電子を取り出すための仕事が負であるよう
な物質が減速材として利用される。減速材から負の仕事
関数に相当する運動エネルギーを持って放出される陽電
子を電場で加速することによってエネルギー可変の陽電
子ビーム、低速陽電子ビームが得られる。The positron annihilation method has been used to study the interaction between positrons and atomic molecules, detect lattice defects and impurities in solids, study the free volume of plastics, and study the Fermi surface of metals. In this case, the β of the radioisotope RI
+ Positrons having a continuous energy distribution (end point energy of about 1 MeV) emitted by decay are used. When this high-speed positron is incident on some kind of material, some positrons lose kinetic energy until they reach equilibrium with the surrounding temperature in the material (hereinafter referred to as thermalization), and then reach the material surface by diffusion. Is released outside. This is because the positron is more energetically stable outside than in the substance. Therefore,
A substance whose work for extracting a positron is negative is used as a moderator. By accelerating positrons emitted from the moderator with a kinetic energy corresponding to a negative work function in an electric field, a positron beam with variable energy and a slow positron beam can be obtained.
【0005】低速陽電子ビームを用いると、バルクの情
報をノイズとして含まない固体表面、界面の選択的な電
子状態の研究、固体バルク中の不純物、空孔の分布の表
面からの深さ依存性の研究を行うことができる。また、
低速陽電子ビームを利用することによって測定試料の傍
に陽電子線源を置くことのできない、陽電子線源が試料
中に拡散してしまうような高温の厳しい条件下の測定が
可能となる。低速陽電子ビームの線源としては、β+崩
壊RIのほかに、電子線形加速器(LINAC)を用い
た電子陽電子対生成により放出される陽電子も利用され
る。[0005] When a slow positron beam is used, studies on the solid surface and the selective electronic state of the interface, which do not include information on the bulk as noise, and the dependence of the distribution of impurities and vacancies in the solid bulk on the depth from the surface. Can conduct research. Also,
The use of the slow positron beam enables measurement under severe high temperature conditions where the positron beam source cannot be placed beside the measurement sample and the positron beam source diffuses into the sample. As the source of the slow positron beam, positrons emitted by electron-positron pair generation using an electron linear accelerator (LINAC) are used in addition to β + decay RI.
【0006】減速材には大きく分けると透過型と反射型
の2つがある。透過型減速材では、ある距離(侵入長)
だけ減速材中に侵入して熱化し、さらに表面にまで拡散
して放出される陽電子を利用する。したがって、入射面
と放出面は異なる。これに対し、反射型では入射面と放
出面が同じである。減速材には、通常、タングステン箔
が用いられるほか、さらに高い変換効率を得るために、
ネオンやアルゴンの希ガス固体が利用されている。The moderator is roughly classified into a transmission type and a reflection type. For transmission moderator, a certain distance (penetration length)
Only positrons that penetrate into the moderator, heat, diffuse to the surface, and are emitted. Therefore, the entrance surface and the emission surface are different. On the other hand, in the reflection type, the incident surface and the emission surface are the same. Normally, tungsten foil is used for the moderator, and in order to obtain higher conversion efficiency,
Noble gas solids such as neon and argon are used.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】数μmから10μm程
度の極細線材の加工は、線材が細くなるほど機械的強度
が小さくなるため困難になる。10〜数μ程度の金属線
を単線のままでメッシュ加工することは難しい。フラッ
トメッシュ、アズメッシュ等もプレス加工のため線幅
0.1mm程度が限界であり、開口率は50%程度が限
界である。また、線径や線幅は、線材の径あるいはプレ
スの条件で決まってしまう。なお、一例を挙げれば、現
在、市販品として入手できる最も線径の細いタングステ
ンメッシュの線径は30μmである。It is difficult to process an extremely fine wire having a thickness of about several μm to about 10 μm, as the thinner the wire, the lower the mechanical strength. It is difficult to mesh a metal wire of about 10 to several μm as a single wire. Flat mesh, as-mesh, etc. are limited to a line width of about 0.1 mm due to press working, and the aperture ratio is limited to about 50%. Further, the wire diameter and the wire width are determined by the diameter of the wire or the pressing conditions. In addition, as an example, the wire diameter of the finest tungsten mesh currently available as a commercial product is 30 μm.
【0008】荷電粒子ビームの引き出し電極、加速電極
に金属メッシュを使用した場合、荷電粒子ビームが金属
線と衝突すると、荷電粒子が失われるほかに、ビームの
エネルギー分布幅が広くなる。このため、金属メッシュ
の線径をできるだけ細くすることが望ましい。金属線と
荷電粒子の衝突によるビームの輸送効率の低下とエネル
ギー分布の広がりによるビームの質の劣化を防ぐために
は、線径が数μmのメッシュを使用するのが望ましい。[0008] When a metal mesh is used for the extraction electrode and the acceleration electrode of the charged particle beam, if the charged particle beam collides with a metal wire, the charged particle is lost and the energy distribution width of the beam is widened. For this reason, it is desirable to make the wire diameter of the metal mesh as small as possible. It is desirable to use a mesh having a wire diameter of several μm in order to prevent a reduction in beam transport efficiency due to collision between the metal wire and the charged particles and a deterioration in beam quality due to the spread of energy distribution.
【0009】一方、高強度の低速陽電子ビーム生成のた
めには、高速陽電子を低速陽電子に変換する効率の高い
減速材が必要である。最も良く利用されている多結晶タ
ングステン箔の変換効率は2.6×10-4、高価で取り
扱いの難しい単結晶タングステン箔(1μm)は5.9
×10-4、冷凍機、差動排気のための高性能真空ポンプ
が必要なため大仕掛けな固体希ガス減速材の変換効率は
7×10-3と報告されている。なお、希ガス固体モデレ
ーターの変換効率は安定性に欠けるとともに、充分に熱
化されずに放出される陽電子がビーム中に含まれるため
に、ビームのエネルギー分布の幅は広くなる。一般に低
速陽電子ビームの線源として利用されている22Naの強
度は最大100mCiである。強度最大の22Naを線源
とした場合でも、低速陽電子ビームのビーム強度は毎秒
106カウント程度である。電子ビームの強度に比べて
はるかに小さい。On the other hand, in order to generate a high-intensity slow positron beam, a moderator with high efficiency for converting a fast positron into a slow positron is required. The conversion efficiency of the most frequently used polycrystalline tungsten foil is 2.6 × 10 −4 , and the expensive and difficult to handle single crystal tungsten foil (1 μm) is 5.9.
× 10 -4, refrigerator, high conversion efficiency for the vacuum pump requires a large gimmick solid noble gases moderator for differential pumping is reported to 7 × 10 -3. In addition, the conversion efficiency of the rare gas solid moderator lacks stability, and the positrons emitted without being sufficiently heated are included in the beam, so that the energy distribution of the beam becomes wider. In general, the intensity of 22 Na used as a source of a slow positron beam is 100 mCi at the maximum. Even when the maximum intensity of 22 Na is used as the radiation source, the beam intensity of the slow positron beam is about 10 6 counts per second. Much smaller than the electron beam intensity.
【0010】本発明は、このような従来技術の問題点に
鑑み、高強度、高品質な荷電粒子ビームのための引き出
し電極用、加速電極用、あるいは強度の大きな低速陽電
子ビームを生成するための変換効率の高い減速材用とし
て好適な細線化した金属メッシュを提供することを目的
とする。また、本発明は、細線化した金属メッシュを容
易に製造することのできる方法を提供することを目的と
する。In view of the problems of the prior art, the present invention is directed to an extraction electrode for a high-intensity, high-quality charged particle beam, an acceleration electrode, or a method for generating a high-intensity slow positron beam. It is an object of the present invention to provide a thinned metal mesh suitable for a moderator having a high conversion efficiency. Another object of the present invention is to provide a method capable of easily producing a thinned metal mesh.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】機械的な強度が小さい線
径の細い単線であっても、メッシュに加工するとその強
度は大きなものとなり、取り扱いが容易となる。したが
って、十分な機械的強度を持った金属線をメッシュに加
工した後に線径を小さくする方法によって、機械的強度
が十分でない線径の単線を用いて金属メッシュを製作す
る困難を解決できる。金属メッシュの線径を小さくする
ために本発明では、電解液(希硫酸等の酸あるいは水酸
化ナトリウム等のアルカリ)中でメッシュを電極として
通電し、電解研磨を行う。電解研磨の時間あるいは電解
電流を調整することにより、任意の線径を持つメッシュ
を簡単に製作することができる。この方法は、板材を加
工したメッシュ状素材(フラットメッシュ、アズメッシ
ュ等)の線幅を小さくしたり、開口率を向上することに
も利用できる。Even if a single wire having a small mechanical strength and a small wire diameter is processed into a mesh, the strength becomes large and handling becomes easy. Therefore, by processing a metal wire having sufficient mechanical strength into a mesh and then reducing the wire diameter, it is possible to solve the difficulty of manufacturing a metal mesh using a single wire having a wire diameter with insufficient mechanical strength. In the present invention, in order to reduce the wire diameter of the metal mesh, electropolishing is performed by using a mesh as an electrode in an electrolytic solution (acid such as dilute sulfuric acid or alkali such as sodium hydroxide) as an electrode. By adjusting the electrolytic polishing time or the electrolytic current, a mesh having an arbitrary wire diameter can be easily manufactured. This method can also be used to reduce the line width of a mesh-like material (a flat mesh, an as-mesh, etc.) obtained by processing a plate material, and to improve the aperture ratio.
【0012】すなわち、本発明による金属メッシュは、
単線を加工してできた金属メッシュを電解研磨によって
平均線径1〜25μmに細線化したものである。また本
発明による金属メッシュは、金属板を加工してできたメ
ッシュ状素材を電解研磨によって細線化し、開口率60
%以上としたものである。That is, the metal mesh according to the present invention comprises:
A metal mesh formed by processing a single wire is thinned to an average wire diameter of 1 to 25 μm by electrolytic polishing. In addition, the metal mesh according to the present invention is obtained by thinning a mesh-like material formed by processing a metal plate by electrolytic polishing, so that the aperture ratio is 60%.
% Or more.
【0013】本発明による細線化した金属メッシュの製
造方法は、線径が4μm以上40μm以下の範囲の金属
メッシュ素材を電解液の中で電解研磨して、平均線径が
29μm以下、かつ、もとの金属メッシュ素材の線径よ
り細くもとの金属メッシュ素材の線径の1/3以上の線
径の金属メッシュとすることを特徴とする。The method for producing a thinned metal mesh according to the present invention is characterized in that a metal mesh material having a wire diameter in a range of 4 μm or more and 40 μm or less is electrolytically polished in an electrolytic solution to obtain an average wire diameter of 29 μm or less. And a metal mesh having a wire diameter that is smaller than the wire diameter of the metal mesh material and that is at least 1/3 of the wire diameter of the original metal mesh material.
【0014】本発明による金属フラットメッシュの製造
方法は、金属板を加工してできたメッシュ状素材を電解
研磨によって細線化し、開口率60%以上とすることを
特徴とする。この方法によると、開口率85%程度まで
のフラットメッシュを得ることができる。これらの金属
メッシュは、荷電粒子ビーム引き出しあるいは加速制御
のための電極として、あるいはこれらの金属メッシュを
複数枚重ねて固定したものは低速陽電子ビーム生成のた
めの減速材として有用である。A method of manufacturing a metal flat mesh according to the present invention is characterized in that a mesh material formed by processing a metal plate is thinned by electrolytic polishing to have an aperture ratio of 60% or more. According to this method, a flat mesh having an aperture ratio of up to about 85% can be obtained. These metal meshes are useful as electrodes for extracting a charged particle beam or controlling acceleration, or those in which a plurality of these metal meshes are fixed and fixed are useful as moderators for generating a slow positron beam.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図1は、電解研磨装置の概略図で
ある。1規定水酸化ナトリウム溶液10を電解液とし、
陰極に銅パイプ11、陽極に電解研磨を行うタングステ
ンメッシュ12を取り付けた。タングステンメッシュ1
2は、アクリル製の4cm角の枠13に固定した。電流
計と電圧計を設置し、電流、電圧を計測した。100メ
ッシュ/インチ、線径25μm程度及び線径30μmの
タングステンメッシュ12を電解研磨して細線化した。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram of an electrolytic polishing apparatus. 1N sodium hydroxide solution 10 is used as an electrolyte,
A copper pipe 11 was attached to the cathode, and a tungsten mesh 12 for electropolishing was attached to the anode. Tungsten mesh 1
2 was fixed to an acrylic 4 cm square frame 13. An ammeter and a voltmeter were installed, and the current and voltage were measured. The tungsten mesh 12 having a mesh size of 100 mesh / inch, a wire diameter of about 25 μm, and a wire diameter of 30 μm was thinned by electrolytic polishing.
【0016】陽極のタングステンメッシュの取り付けに
ついては、図1に示した角形の枠13の他に、図2に示
すアクリル製の円環状の枠15a,15b、及び図3に
示すテフロン(登録商標)製の支柱16の3例を試み
た。図2は、直径3cm程度のアクリル製の円環状の枠
15a,15bで0.5mmのタングステン線(導線と
する)とタングステンメッシュ12を挟んで電極とした
もの、図3は、テフロン製の円柱状支柱16にタングス
テンメッシュ(5cm×5cm)12を巻き、その上に
導線を巻いた後、めっき用テープ17で固定して電極と
したものである。これら3例のほかに、メッシュを高分
子樹脂の板に固定する方法も考えられる。As for the attachment of the tungsten mesh of the anode, in addition to the square frame 13 shown in FIG. 1, annular acrylic frames 15a and 15b shown in FIG. 2 and Teflon (registered trademark) shown in FIG. Three examples of struts 16 made of steel were tried. FIG. 2 shows an electrode formed by sandwiching a 0.5 mm tungsten wire (referred to as a conductive wire) and a tungsten mesh 12 between acrylic annular frames 15 a and 15 b having a diameter of about 3 cm, and FIG. 3 shows a Teflon circle. A tungsten mesh (5 cm × 5 cm) 12 is wound around a columnar support 16, a conductive wire is wound thereon, and then fixed with a plating tape 17 to form an electrode. In addition to these three examples, a method of fixing the mesh to a polymer resin plate is also conceivable.
【0017】電圧は1〜6V、電流値は0.1〜5.5
Aであった。電解研磨の温度は室温(23℃程度)とし
た。3〜180秒間の電解研磨毎に、メッシュを電解液
から取り出して水で洗浄することを繰り返した。線径が
大きい間は研磨時間を長くし、研磨が進み線径が小さく
なるとともに時間を短くした。全研磨時間は30秒から
12分程度で行った。5cm角の試料を図3の形状にし
て、室温で電圧6Vを印加すると5.5Aの電流が流れ
た。この条件で、電解時間と回数をそれぞれ、10秒3
回、3秒3回、1秒1回程度で、タングステンメッシュ
の線径を1/3程度にできた。The voltage is 1 to 6 V, and the current value is 0.1 to 5.5.
A. The temperature of the electropolishing was room temperature (about 23 ° C.). Every time the electropolishing was performed for 3 to 180 seconds, the process of removing the mesh from the electrolytic solution and washing with water was repeated. The polishing time was lengthened while the wire diameter was large, and the polishing was advanced and the wire diameter was reduced and the time was shortened. The total polishing time was about 30 seconds to 12 minutes. When a sample of 5 cm square was formed into the shape shown in FIG. 3 and a voltage of 6 V was applied at room temperature, a current of 5.5 A flowed. Under these conditions, the electrolysis time and the number of times were each 10 seconds 3
In this case, the wire diameter of the tungsten mesh could be reduced to about 1/3 in about 3 seconds, 3 times, and about 1 second.
【0018】線径25μmのタングステンメッシュでは
平均線径8μm程度、線径30μmのメッシュで平均線
径10μm程度まで細線化することができた。図4は未
加工の線径30μmの素材メッシュの写真、図5は電解
研磨によってそれを平均線径15μm程度に細線化した
メッシュの写真、図6はそれを更に平均線径10μm程
度にまで細線化したメッシュの写真である。また、図7
は図6の拡大写真である。図4〜図6は倍率245倍、
図7は倍率100倍である。With a tungsten mesh having a wire diameter of 25 μm, the average wire diameter could be reduced to about 8 μm, and with a mesh having a wire diameter of 30 μm, the wire could be reduced to an average wire diameter of about 10 μm. FIG. 4 is a photograph of a raw material mesh having a wire diameter of 30 μm, FIG. 5 is a photograph of a mesh obtained by electropolishing and thinning the wire to an average wire diameter of about 15 μm, and FIG. It is a photograph of the transformed mesh. FIG.
7 is an enlarged photograph of FIG. 4 to 6 are 245 times magnification,
FIG. 7 shows a magnification of 100 times.
【0019】実験した3例を比較すると、図3の例は、
試料が均一に研磨されるという点で、やや優れているよ
うに思われる。ただし、この結果は陰極の形状にも依存
するものと考えらる。サイズの大きなメッシュを電解研
磨する場合には、図8に示すように、他方の電極(陰
極)21も耐食性のある金属板あるいはメッシュを用い
て大きなサイズのものにして均一な電場が生じるように
する方法が考えられる。また、図9に示すように、耐食
性のある金属メッシュ(1つは金属板でもよい)22,
23で電解研磨を施す金属メッシュ12をはさむことに
よって、金属メッシュ面の電位差を小さくし線径を均一
にする方法が考えられる。Comparing the three experiments, the example of FIG.
It seems somewhat superior in that the sample is polished uniformly. However, it is considered that this result also depends on the shape of the cathode. In the case of electropolishing a large mesh, as shown in FIG. 8, the other electrode (cathode) 21 is also made to have a large size using a corrosion-resistant metal plate or mesh so that a uniform electric field is generated. There is a way to do it. Further, as shown in FIG. 9, a corrosion-resistant metal mesh (one of which may be a metal plate) 22,
A method of sandwiching the metal mesh 12 to be subjected to electrolytic polishing by 23 to reduce the potential difference on the metal mesh surface and make the wire diameter uniform can be considered.
【0020】電解が進むとメッシュの一部が融けて消失
する。これは何らかの原因で、金属メッシュ面に周囲よ
りも電位の高い部分が生じ、この部分で急速に電解研磨
が進むためと考えられる。そこで、図9に示すように、
耐食性の金属板と金属メッシュ、あるいは2枚の金属メ
ッシュで挟むことで試料金属メッシュ面内の電位をこれ
ら金属板メッシュと等しくする方法が有効と考えられ
る。なお、実施例では、面積の小さな試料を用いて電解
研磨を行い全部の利用を図ったが、面積の大きな試料メ
ッシュに対して電解研磨を行い、目的の線径の部分を切
り出す方法も有効である。As the electrolysis proceeds, a part of the mesh melts and disappears. This is presumably because, for some reason, a portion having a higher potential than the surroundings is formed on the metal mesh surface, and electrolytic polishing rapidly proceeds in this portion. Therefore, as shown in FIG.
It is considered that a method of sandwiching a corrosion-resistant metal plate and a metal mesh or two metal meshes to make the potential in the surface of the sample metal mesh equal to these metal plate meshes is effective. In the examples, electrolytic polishing was performed by using a sample having a small area, and all the components were used. However, a method of performing electrolytic polishing on a sample mesh having a large area and cutting out a portion having a desired wire diameter is also effective. is there.
【0021】電解液を冷却した場合には、電解研磨の速
度が遅くなることが確認された。同一のサンプルについ
て、液温23℃で1.2Vの電圧を印加すると500m
Aの電流が流れた。次に、液温3℃で1.4Vの電圧を
印加すると100mAの電流が流れた。この結果から、
冷却することによって、電解研磨の速度は1/5程度に
なると考えられる。また、電流値が数Aと大きい方が1
A未満の場合よりも、表面が平滑になる傾向が見られ
た。そのため、比較的に大きな電流値で、低温で電解研
磨をすることによって、研磨速度を容易に調節すること
ができる。It was confirmed that when the electrolytic solution was cooled, the speed of the electropolishing was reduced. For the same sample, when a voltage of 1.2 V is applied at a liquid temperature of 23 ° C., 500 m
A current flowed. Next, when a voltage of 1.4 V was applied at a liquid temperature of 3 ° C., a current of 100 mA flowed. from this result,
It is considered that the cooling reduces the rate of electropolishing to about 1/5. In addition, the larger the current value is several A, 1
The surface tended to be smoother than the case of less than A. Therefore, the polishing rate can be easily adjusted by performing electropolishing at a relatively large current value and at a low temperature.
【0022】次に、電解研磨するメッシュ素材を板厚
0.2mm、線幅0.1mmのニッケルフラットメッシ
ュにして、メッシュの線幅を小さくし、開口率を大きく
するために電解研磨を行った。ニッケルフラットメッシ
ュ(6cm×5cm)はステンレスの板枠に挟み、陰極
にはグラファイトを用いた。電解液には濃硫酸を2倍に
希釈した液を用いた。3V程度の電圧を印加し、7Aの
電流を30秒から2分ほど流した。図10は、この時の
結果を示す写真である。線幅は細いところで、30μm
程度である。なお、図11は、素材のフラッシュメッシ
ュの写真である。Next, the mesh material to be electropolished was a nickel flat mesh having a plate thickness of 0.2 mm and a line width of 0.1 mm, and electropolishing was performed to reduce the line width of the mesh and increase the aperture ratio. . A nickel flat mesh (6 cm × 5 cm) was sandwiched between stainless steel plate frames, and graphite was used as a cathode. As the electrolytic solution, a solution obtained by diluting concentrated sulfuric acid twice was used. A voltage of about 3 V was applied, and a current of 7 A was allowed to flow for 30 seconds to 2 minutes. FIG. 10 is a photograph showing the result at this time. Where the line width is narrow, 30 μm
It is about. FIG. 11 is a photograph of a flash mesh of a material.
【0023】図11に示す元のフラットメッシュ素材の
開口率は50%であったが、電解研磨後の開口率は75
%になった。このフラットメッシュは線幅15μm程度
にまで細線化することが可能であり、その場合の開口率
は85%程度となる。このように開口率を上げたフラッ
トメッシュは、メッシュの線の重なり部分がなく厚さが
均一であるためガラス板、合成樹脂板の中の導電シート
として有用である。Although the aperture ratio of the original flat mesh material shown in FIG. 11 was 50%, the aperture ratio after electrolytic polishing was 75%.
%Became. This flat mesh can be thinned to a line width of about 15 μm, and the aperture ratio in that case is about 85%. A flat mesh having an increased aperture ratio as described above is useful as a conductive sheet in a glass plate or a synthetic resin plate because the flat mesh does not have overlapping portions of the mesh lines and has a uniform thickness.
【0024】タングステンメッシュ、ニッケルフラット
メッシュを用いた実験例から、メッシュの密度、線径に
ついて特に制限はないものと思われる。ただし、線径が
素材のメッシュの線径の1/3程度になると線径の不均
一が進み、一部が融けて消失する現象が見られる。この
ため、目的とする線径の3倍以内の線径の素材を利用す
ることが望ましい。タングステン、ニッケル以外の金、
モリブデン、銅、アルミニウム等の金属に対しても適当
な電解液を選択することにより、本発明の方法でメッシ
ュの線径を細くできる。以下、本発明で製造した細線化
メッシュの利用例について説明する。図12は、低速陽
電子ビーム装置の概略図である。図13は陽電子減速材
と引き出し電極の概念図、図14は加速管に設けられた
加速電極の概略図である。From an experimental example using a tungsten mesh and a nickel flat mesh, it is considered that there is no particular limitation on the mesh density and the wire diameter. However, when the wire diameter becomes about 1/3 of the wire diameter of the mesh of the material, the unevenness of the wire diameter progresses, and a phenomenon is observed in which a part of the wire melts and disappears. For this reason, it is desirable to use a material having a wire diameter within three times the target wire diameter. Gold other than tungsten and nickel,
By selecting an appropriate electrolytic solution for metals such as molybdenum, copper, and aluminum, the wire diameter of the mesh can be reduced by the method of the present invention. Hereinafter, an example of using the thinned mesh manufactured by the present invention will be described. FIG. 12 is a schematic diagram of a slow positron beam device. FIG. 13 is a conceptual diagram of the positron moderator and the extraction electrode, and FIG. 14 is a schematic diagram of the acceleration electrode provided in the acceleration tube.
【0025】22Na等の陽電子線源から放出された陽電
子は、陽電子線源の前方に配置された減速材によって減
速され、減速材の前方に配置された引き出し電極によっ
てビーム方向に引き出され、加速管の加速電極によって
加速されて試料に照射される。E×Bフィルターは、陽
電子線源から放出された陽電子のうち減速材で減速され
た低速陽電子のみを取り出すためのフィルターである。
減速材で減速されなかった陽電子は、E×Bフィルター
によって偏向されず直線的に進みγ線シールドに入射し
てその中で消滅する。陽電子が消滅した際に発生するγ
線はγ線シールドで吸収され、外部に出ない。陽電子線
源から放出された陽電子のうち、ビーム形成方向以外に
放出された陽電子は陽電子線源を包囲しているγ線シー
ルド中で消滅する。Positrons emitted from a positron beam source such as 22 Na are decelerated by a moderator arranged in front of the positron beam source, extracted in the beam direction by an extraction electrode arranged in front of the moderator, and accelerated. The sample is irradiated by being accelerated by the accelerating electrode of the tube. The E × B filter is a filter for extracting only low-speed positrons slowed down by the moderator among positrons emitted from the positron beam source.
Positrons not decelerated by the moderator travel straight without being deflected by the E × B filter, enter the γ-ray shield, and disappear therein. Γ generated when the positron disappears
The rays are absorbed by the γ-ray shield and do not go outside. Of the positrons emitted from the positron source, those emitted in directions other than the beam forming direction disappear in the γ-ray shield surrounding the positron source.
【0026】最初に、減速材について説明する。22Na
から放出される陽電子線の運動エネルギーは最大0.5
4MeVから0まで連続に分布している。陽電子線をタ
ングステンに入射した場合、平均侵入距離は10μm程
度である。運動エネルギーを失った陽電子の一部は、熱
運動による拡散によってタングステンの表面に到達し、
さらに、仕事関数に相当する運動エネルギーを持って外
部に放出される。First, the moderator will be described. 22 Na
The kinetic energy of the positron beam emitted from the
It is continuously distributed from 4 MeV to 0. When a positron beam is incident on tungsten, the average penetration distance is about 10 μm. Some of the positrons that have lost their kinetic energy reach the tungsten surface by diffusion due to thermal motion,
Further, it is emitted to the outside with kinetic energy corresponding to the work function.
【0027】侵入距離は陽電子のエネルギーとともに大
きくなるが、拡散距離は一定である。陽電子がタングス
テン線に入射した場合、線径が細いほど外部に放出され
る確率が大きくなる。ただし、低速陽電子ビームとして
利用できるのは、タングステン中で熱化した陽電子であ
るから、陽電子を熱化できるタングステンの厚さを考慮
しなければならない。小さな線径のタングステンメッシ
ュでは、陽電子は複数のタングステン線へ入射すること
によって十分に熱化される。タングステン線に入射し減
速し十分に熱化しないで通りぬけた陽電子は、再度別の
タングステン線に入射し、そこで熱化する割合が大きく
なるとともに、再入射の侵入距離が小さくなるので減速
材の変換効率は大きくなると期待される。ただし、仕事
関数に相当する運動エネルギーで放出された陽電子は、
再度タングステン線と衝突すると、80%から90%程
度が失われると推定される。したがって、メッシュの重
ね合わせ枚数の最適値は、この2つの効果によって決定
される。陽電子が、メッシュ線材と2回ぐらい衝突する
として、線径5μm、100メッシュの場合、50枚程
度重ねる必要があると考えられる。The penetration distance increases with the energy of the positron, but the diffusion distance is constant. When a positron enters a tungsten wire, the smaller the wire diameter, the greater the probability of emission to the outside. However, since a positron that has been heated in tungsten can be used as a slow positron beam, the thickness of tungsten that can be used to heat the positron must be considered. In a tungsten mesh with a small wire diameter, the positron is sufficiently thermalized by being incident on a plurality of tungsten wires. The positron that has entered the tungsten wire and decelerated and passed through without being sufficiently heated is again incident on another tungsten wire, where the rate of thermalization increases and the penetration distance of the re-injection decreases. The conversion efficiency is expected to increase. However, the positron emitted with kinetic energy equivalent to the work function is
It is estimated that about 80% to 90% will be lost if it again collides with the tungsten wire. Therefore, the optimum value of the number of superimposed meshes is determined by these two effects. Assuming that the positron collides with the mesh wire twice or so, in the case of a wire diameter of 5 μm and 100 mesh, it is considered necessary to overlap about 50 sheets.
【0028】ここでは、一例として、100メッシュの
タングステンメッシュを電解研磨によって平均線径8μ
m程度に細線化した後、18×7mm程度に切り出した
ものを12枚重ねた。これを、二つ折りにしたタングス
テンフォイル(20μm)に包み、焼鈍炉の真空チェン
バー内の電極に固定し真空引きを行い、10-7Torr
程度の真空下、2000℃で2分間の通電加熱による焼
鈍処理を行った。常温に下がった後に大気圧に戻し、真
空チェンバーの外に取り出した。タングステンフォイル
から外した12枚重ねの細線化メッシュを、内径10m
mのリング状のステンレス板材にはさんで固定した。Here, as an example, a 100 mesh tungsten mesh is electrolytically polished to have an average wire diameter of 8 μm.
After thinning to about m, 12 pieces cut out to about 18 × 7 mm were stacked. This was wrapped in a two-folded tungsten foil (20 μm), fixed to an electrode in a vacuum chamber of an annealing furnace, and evacuated to 10 −7 Torr.
Annealing treatment was performed by heating at 2000 ° C. for 2 minutes under a slight vacuum. After cooling to room temperature, the pressure was returned to atmospheric pressure, and it was taken out of the vacuum chamber. A 12-layer thinned mesh removed from the tungsten foil was used for an inner diameter of 10 m.
m and fixed to a ring-shaped stainless steel plate.
【0029】減速材は、陽電子線源の前方1mmの位置
に設置した。これは、線源からの立体角の大きな位置に
減速材を置いて、線源から放出される陽電子を効率良く
減速材に入射させるためである。減速材の電位は陽電子
線源よりも10V程度低いが、引き出し電極よりも高
い。こうすることによって、減速材中で熱化して線源方
向に放出された陽電子(運動エネルギー2eV程度)も
電場でビーム軸方向に加速して利用できる。これは、メ
ッシュ減速材の利点の1つである。The moderator was placed at a position 1 mm in front of the positron beam source. This is because the moderator is placed at a position having a large solid angle from the source and positrons emitted from the source are efficiently incident on the moderator. The potential of the moderator is about 10 V lower than the positron source, but higher than the extraction electrode. By doing so, the positrons (kinetic energy of about 2 eV) which have been heated in the moderator and emitted in the direction of the source can also be used by accelerating them in the beam axis direction with an electric field. This is one of the advantages of the mesh moderator.
【0030】高い変換効率の減速材の条件は、[1]入
射した陽電子の減速材中で熱化する割合が大きいこと、
[2]熱化した陽電子の減速材からの放出率の大きいこ
とである。線径の細い金属メッシュを減速材にした場合
には、体積に対する表面積の割合が大きくなり、[2]
の条件に良く適う。また、金属メッシュを重ねることに
よって[1]の条件を満たすことができる。The condition of the moderator having a high conversion efficiency is as follows: [1] The rate of thermalization of the incident positron in the moderator is large;
[2] The rate of release of the heated positron from the moderator is large. When a metal mesh having a small wire diameter is used as the moderator, the ratio of the surface area to the volume increases, and [2]
Well suited for the conditions. In addition, the condition [1] can be satisfied by stacking metal meshes.
【0031】22Naから放出される高速陽電子から数e
Vの低速陽電子への変換効率は、2μmのタングステン
単結晶箔で最高5.9×10-4、多結晶タングステンで
2.6×10-4という値が報告されている。多結晶タン
グステンに比べて単結晶タングステンの方が高効率であ
るが、取り扱いが面倒であるばかりでなく、定期的に焼
鈍する必要がある。なお、変換効率は線源から放出され
る陽電子数(線源の放射能強度とβ+崩壊の確率の積)
に対する、陽電子ビームの強度である。陽電子ビームの
強度は、陽電子の仕事関数が正の物質(グラファイト
等)を標的としてビームを入射し、陽電子の消滅γ線を
シンチレーション計測器や半導体検出器などで計測す
る。From the fast positron emitted from 22 Na, several e
It has been reported that the conversion efficiency of V to a slow positron is a maximum of 5.9 × 10 −4 for a 2 μm tungsten single crystal foil and 2.6 × 10 −4 for a polycrystalline tungsten. Single crystal tungsten is more efficient than polycrystalline tungsten, but it is not only difficult to handle, but also requires periodic annealing. The conversion efficiency is the number of positrons emitted from the source (product of the radiation intensity of the source and the probability of β + decay)
Is the intensity of the positron beam with respect to The intensity of the positron beam is measured by injecting a beam into a substance (eg, graphite) having a positive positron work function and measuring the annihilation γ-ray of the positron with a scintillation measuring device or a semiconductor detector.
【0032】そこで、本発明では、単結晶タングステン
よりも高い変換効率を持ち、取り扱いが簡単で長期的に
安定な減速材の候補として、単結晶タングステン箔に比
べて、はるかに安価で入手が容易なタングステンメッシ
ュを複数枚重ねて利用する方法に注目した。減速材中で
エネルギーを失った陽電子が放出される表面の面積の体
積に対する割合が大きいほど放出効率が大きくなる。し
たがって、線径の大きなメッシュよりも小さなメッシュ
の方が変換効率は大きいと期待される。Therefore, in the present invention, as a candidate for a moderator which has a higher conversion efficiency than single-crystal tungsten, is easy to handle, and is stable for a long period of time, it is much cheaper and easier to obtain than single-crystal tungsten foil. Attention was paid to the method of stacking and using multiple tungsten meshes. The emission efficiency increases as the ratio of the area of the surface from which the positrons having lost energy in the moderator are released to the volume increases. Therefore, a smaller mesh is expected to have a higher conversion efficiency than a larger mesh.
【0033】100メッシュ/インチ、平均線径25μ
mのタングステンメッシュを電解研磨によって平均線径
を元のおよそ1/3程度、およそ8μmと小さくした減
速材により変換効率6.4×10-4を得た。この値は、
平均線径25μmのタングステンメッシュをそのまま利
用したときの変換効率4.5×10-4より高いのみなら
ず、単結晶タングステンの値をも超えるものである。ま
た、変換効率は長期的に安定していた。100 mesh / inch, average wire diameter 25 μ
A conversion efficiency of 6.4 × 10 −4 was obtained by using a moderator whose average wire diameter was reduced to about 1/3 of the original diameter and about 8 μm by electropolishing the tungsten mesh of m. This value is
The conversion efficiency is not only higher than 4.5 × 10 −4 when a tungsten mesh having an average wire diameter of 25 μm is used as it is, but also exceeds the value of single crystal tungsten. The conversion efficiency was stable for a long time.
【0034】次に、引き出し電極について説明する。引
き出し電極は、タングステン30メッシュを用いた直径
10mmである。電解研磨によって平均線径を8μmに
細線化したメッシュを使用した。減速材に対し150V
から350V程度電位を低くして、減速材から放出され
る陽電子を中心軸方向に引き出しビームとする。メッシ
ュの線径が小さくなると、これら荷電粒子と電極の衝突
する断面積が小さくなることは明らかである。したがっ
て衝突の確率が小さくなり、衝突による荷電粒子の損失
少なくなり輸送効率の低下を防ぐことができる。また、
衝突した荷電粒子の運動エネルギー変化によるビームエ
ネルギー分布の広がりを小さくすることができる。Next, the extraction electrode will be described. The lead electrode has a diameter of 10 mm using tungsten 30 mesh. A mesh whose average wire diameter was reduced to 8 μm by electrolytic polishing was used. 150V for moderator
The potential is lowered by about 350 V from the positron, and the positron emitted from the moderator is extracted in the direction of the central axis to be a beam. It is clear that as the wire diameter of the mesh becomes smaller, the cross-sectional area where these charged particles collide with the electrode becomes smaller. Therefore, the probability of collision is reduced, the loss of charged particles due to collision is reduced, and a decrease in transport efficiency can be prevented. Also,
The spread of the beam energy distribution due to the change in the kinetic energy of the colliding charged particles can be reduced.
【0035】加速管の加速電極として、引き出し電極と
同じく、電解研磨によって平均線径を8μmに細線化し
た30メッシュ、直径25mmのタングステンメッシュ
を使用した。加速電極として金属メッシュを使用するこ
とにより平面状の等電位面を容易に形成することができ
るようになる。この時、線径の小さなメッシュを使用す
ることで荷電粒子との衝突の確率が小さくなり、輸送効
率の低下を防ぐことができる。また、メッシュと衝突し
た荷電粒子の運動エネルギー変化によるビームエネルギ
ー分布の広がりを小さくすることができる。As the accelerating electrode of the accelerating tube, a 30-mesh and 25-mm-diameter tungsten mesh whose average wire diameter was reduced to 8 μm by electrolytic polishing was used as in the case of the extraction electrode. By using a metal mesh as the acceleration electrode, a planar equipotential surface can be easily formed. At this time, by using a mesh having a small wire diameter, the probability of collision with charged particles is reduced, and a decrease in transport efficiency can be prevented. Further, the spread of the beam energy distribution due to the change in the kinetic energy of the charged particles colliding with the mesh can be reduced.
【0036】[0036]
【発明の効果】本発明によると、単線では機械的強度が
小さいためにメッシュ加工が困難な線径を持つ金属メッ
シュを容易に製造できる。また電解研磨の時間を調節す
ることによって、素材の金属線の径に依存しない任意の
線径のメッシュが得られる。この金属メッシュを荷電粒
子の引き出し、加速電極として利用することによって荷
電粒子ビームの輸送効率の低下とビームエネルギー分布
の広がりを小さくできる。また、この金属メッシュを低
速陽電子ビーム生成の減速材として利用することによっ
て、高い変換効率が長期にわたって安定して得られる。According to the present invention, a single wire can easily produce a metal mesh having a wire diameter which is difficult to be processed because of its low mechanical strength. Further, by adjusting the time of the electrolytic polishing, a mesh having an arbitrary wire diameter independent of the diameter of the metal wire of the material can be obtained. By drawing out the charged particles and using the metal mesh as an accelerating electrode, it is possible to reduce the transport efficiency of the charged particle beam and reduce the spread of the beam energy distribution. In addition, by using this metal mesh as a moderator for slow positron beam generation, high conversion efficiency can be stably obtained for a long period of time.
【図1】電解研磨装置の概略図。FIG. 1 is a schematic diagram of an electrolytic polishing apparatus.
【図2】アクリル製の枠に導線とメッシュをはさんだ電
極の概略図。FIG. 2 is a schematic diagram of an electrode in which a conductive wire and a mesh are sandwiched between acrylic frames.
【図3】テフロン製の支柱にタングステンメッシュを巻
いた電極の概略図。FIG. 3 is a schematic view of an electrode in which a tungsten mesh is wound around a Teflon support.
【図4】線径30μmの未加工素材メッシュの写真。FIG. 4 is a photograph of a raw material mesh having a wire diameter of 30 μm.
【図5】電解研磨によって平均線径15μm程度に細線
化したメッシュの写真。FIG. 5 is a photograph of a mesh thinned to an average wire diameter of about 15 μm by electrolytic polishing.
【図6】電解研磨によって平均線径10μm程度にまで
細線化したメッシュの写真。FIG. 6 is a photograph of a mesh thinned to an average wire diameter of about 10 μm by electrolytic polishing.
【図7】図6の拡大写真。FIG. 7 is an enlarged photograph of FIG. 6;
【図8】面積の大きなメッシュを電解研磨する場合の電
極の例の説明図。FIG. 8 is an explanatory diagram of an example of an electrode when a large-area mesh is electropolished.
【図9】金属メッシュ面の電位差を小さくする方法の説
明図。FIG. 9 is an explanatory diagram of a method for reducing a potential difference on a metal mesh surface.
【図10】電解研磨後のニッケルフラットメッシュの写
真。FIG. 10 is a photograph of a nickel flat mesh after electrolytic polishing.
【図11】電解研磨する前のニッケルフラットメッシュ
の写真。FIG. 11 is a photograph of a nickel flat mesh before electrolytic polishing.
【図12】低速陽電子ビーム装置の概略図。FIG. 12 is a schematic diagram of a slow positron beam apparatus.
【図13】陽電子減速材と引き出し電極の概念図。FIG. 13 is a conceptual diagram of a positron moderator and an extraction electrode.
【図14】加速管に設けられた加速電極の概略図。FIG. 14 is a schematic diagram of an acceleration electrode provided in an acceleration tube.
10…電解液、11…陰極(銅パイプ)、12…タング
ステンメッシュ、13…角型の枠、15a,15b…円
環状の枠、16…支柱、17…めっき用テープ、21…
陰極、22,23…金属メッシュDESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Electrolyte solution, 11 ... Cathode (copper pipe), 12 ... Tungsten mesh, 13 ... Square frame, 15a, 15b ... Annular frame, 16 ... Post, 17 ... Plating tape, 21 ...
Cathode, 22, 23 ... metal mesh
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G21K 5/04 G21K 5/04 Z H01J 37/04 H01J 37/04 Z // B23H 3/00 B23H 3/00 (72)発明者 栗原 俊一 茨城県つくば市春日1−1−103−101 (72)発明者 矢野 安重 埼玉県和光市広沢2番1号 理化学研究所 内 (72)発明者 加瀬 昌之 埼玉県和光市広沢2番1号 理化学研究所 内 (72)発明者 後藤 彰 埼玉県和光市広沢2番1号 理化学研究所 内 (72)発明者 妹尾 克己 埼玉県和光市広沢2番1号 理化学研究所 内 (72)発明者 新岡 勇三 埼玉県大宮市日進町1−242 Fターム(参考) 3C059 AA02 AB01 HA15 5C030 BB09 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (Reference) G21K 5/04 G21K 5/04 Z H01J 37/04 H01J 37/04 Z // B23H 3/00 B23H 3/00 (72 Inventor Shunichi Kurihara 1-1-103-101, Kasuga 1-1, Tsukuba-shi, Ibaraki Pref. (72) Inventor Yasushige Yano 2-1 Hirosawa, Wako-shi, Saitama Prefecture Inside RIKEN (72) Inventor Masayuki Kase Hirosawa, Wako-shi, Saitama Pref. No. 1 in RIKEN (72) Akira Goto, inventor 2-1 Hirosawa, Wako-shi, Saitama Pref. Inventor Yuzo Shinoka 1-242 Nisshin-cho, Omiya-shi, Saitama F-term (reference) 3C059 AA02 AB01 HA15 5C030 BB09
Claims (6)
解研磨によって平均線径1〜25μmに細線化したこと
を特徴とする金属メッシュ。1. A metal mesh obtained by processing a single wire and thinning the metal mesh to an average wire diameter of 1 to 25 μm by electrolytic polishing.
を電解研磨によって細線化し、開口率60%以上とした
ことを特徴とする金属フラットメッシュ。2. A metal flat mesh, wherein a mesh-like material formed by processing a metal plate is thinned by electrolytic polishing to have an aperture ratio of 60% or more.
金属メッシュ素材を電解液の中で電解研磨して、平均線
径が29μm以下、かつ、もとの金属メッシュ素材の線
径より細くもとの金属メッシュ素材の線径の1/3以上
の線径の金属メッシュとすることを特徴とする細線化し
た金属メッシュの製造方法。3. A metal mesh material having a wire diameter of 4 μm or more and 40 μm or less is electrolytically polished in an electrolytic solution to have an average wire diameter of 29 μm or less and smaller than the wire diameter of the original metal mesh material. Characterized in that the metal mesh has a wire diameter of 1/3 or more of the wire diameter of the metal mesh material.
ュを電解研磨によって細線化し、開口率60%以上とす
ることを特徴とする開口率を増大した金属フラットメッ
シュの製造方法。4. A method for producing a metal flat mesh having an increased aperture ratio, wherein a flat mesh formed by processing a metal plate is thinned by electrolytic polishing to have an aperture ratio of 60% or more.
いたことを特徴とする荷電粒子ビーム引き出しあるいは
加速制御のための電極。5. An electrode for extracting a charged particle beam or controlling acceleration, wherein the metal mesh according to claim 1 or 2 is used.
数枚重ねて固定したことを特徴とする低速陽電子ビーム
生成のための減速材。6. A moderator for generating a low-speed positron beam, wherein a plurality of metal meshes according to claim 1 or 2 are stacked and fixed.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001059115A JP2002263962A (en) | 2001-03-02 | 2001-03-02 | Metal mesh formed of small gauge wire and its manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001059115A JP2002263962A (en) | 2001-03-02 | 2001-03-02 | Metal mesh formed of small gauge wire and its manufacturing method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002263962A true JP2002263962A (en) | 2002-09-17 |
Family
ID=18918731
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001059115A Pending JP2002263962A (en) | 2001-03-02 | 2001-03-02 | Metal mesh formed of small gauge wire and its manufacturing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002263962A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4762368B2 (en) * | 2009-12-04 | 2011-08-31 | 三井金属鉱業株式会社 | Porous metal foil and method for producing the same |
-
2001
- 2001-03-02 JP JP2001059115A patent/JP2002263962A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4762368B2 (en) * | 2009-12-04 | 2011-08-31 | 三井金属鉱業株式会社 | Porous metal foil and method for producing the same |
US8497026B2 (en) | 2009-12-04 | 2013-07-30 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | Porous metal foil and production method therefor |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Khatri et al. | Improvement of rare‐gas solid moderators by using conical geometry | |
US20140369476A1 (en) | Device for generating x-rays having a liquid metal anode | |
Burns | Angular distribution of secondary electrons from (100) faces of copper and nickel | |
CN102908902B (en) | Technique for producing nucleopore membranes by miniature particle accelerator | |
Zhang et al. | Evolution of vacuum surface flashover for angled dielectric insulators with particle-in-cell simulation | |
US8227020B1 (en) | Dislocation site formation techniques | |
Fang et al. | Research on a neutron detector with a boron-lined honeycomb neutron converter | |
Iwamura et al. | Increase of reaction products in deuterium permeation-induced transmutation | |
JP2002263962A (en) | Metal mesh formed of small gauge wire and its manufacturing method | |
US10841989B2 (en) | Gaseous-phase ionizing radiation generator | |
Roustaie et al. | In situ synthesis of metallic nanowire arrays for ionization gauge electron sources | |
Ivanov et al. | Role of contrast of a relativistic femtosecond laser pulse interacting with solid and structured targets | |
US20150076320A1 (en) | Electronic multiplier porous glass plate and detector | |
Lipson et al. | Phenomenon of an energetic charged particle emission from hydrogen/deuterium loaded metals | |
US11011340B2 (en) | Ion generation composite target and laser-driven ion acceleration apparatus using the same | |
Hyodo et al. | Slow positron applications at slow positron facility of institute of materials structure science, KEK | |
US6818902B2 (en) | Positron source | |
Dalkarov et al. | Investigation of the interaction of the ion beams with deuterated crystal structures at the HELIS facility | |
Tsuchiya et al. | Radiation damage of proton conductive ceramics under 14 MeV fast neutron irradiation | |
JP4340773B2 (en) | Slow positron pulse beam device | |
Esfandi et al. | Simulation, optimization and testing of a novel high spatial resolution X-ray imager based on Zinc Oxide nanowires in Anodic Aluminium Oxide membrane using Geant4 | |
Ying et al. | Changes in Work Functions of Vacuum Distilled Gold Films | |
US2957096A (en) | Neutron source | |
Yoshida et al. | Extraction of negative hydrogen ions produced with aluminum plasma grid | |
US20230367024A1 (en) | Nanostructured high-energy particle imaging sensor and a nanoinjection molding process for making the same and other nanostructures |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20031201 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20040323 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040407 |