JP2002263644A - 抗菌方法 - Google Patents

抗菌方法

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JP2002263644A
JP2002263644A JP2001070542A JP2001070542A JP2002263644A JP 2002263644 A JP2002263644 A JP 2002263644A JP 2001070542 A JP2001070542 A JP 2001070542A JP 2001070542 A JP2001070542 A JP 2001070542A JP 2002263644 A JP2002263644 A JP 2002263644A
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laser
present
pulse
laser beam
bacteria
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JP2001070542A
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Toshihiko Oya
利彦 大家
Hideki Obika
秀樹 小比賀
Tetsuo Yano
哲夫 矢野
Akihiro Uchiumi
明博 内海
Michifumi Yoneda
理史 米田
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 薬剤を用いることなく、安全かつ効果的に細
菌数の増殖を抑制しうる物理的な抗菌方法を提供する。 【解決手段】 紫外、可視若しくは近赤外域の高ピーク
パワーパルスレーザビームを照射して抗菌する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、殺菌剤や静菌剤の
ような薬剤を用いることなく、安全かつ効果的に細菌類
の増殖を抑制しうる新規な抗菌方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】これまで、食品や飲料中に存在する有害
細菌の除去や、器具、装置の消毒などには、主として種
々の殺菌剤、静菌剤、消毒剤を用いて細菌を殺滅した
り、その増殖を抑制する化学的、生理的な処理が行われ
ている。しかしながら、殺菌剤や静菌剤は、人体に対し
ても悪影響を与えるものが多く、その使用が制限される
傾向があるし、アルコール、オゾン、塩素などによる消
毒、滅菌においても、環境汚染などの事後処理について
配慮しなければならないという問題がある。
【0003】一方、放射線技術の急速な発展に伴って、
これを用いる除菌方法も開発されているが、この方法は
特殊な設備を必要とする上に、対象物に対する品質の損
傷を伴うことから、目下のところプラスチック器材の消
毒に用いられているだけであり、食品に対しては、品質
の変化、毒性物質の副生などの危険性からその適用範囲
が著しく制限されている。
【0004】その他、最近に至り、超音波、超高圧、電
気的衝撃などによる物理的な殺菌方法も提案されている
が、経済的な問題や対象物の品質低下、損傷などの問題
が解決されないため、実用化には至っていない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情のもとで.薬剤を用いることなく、安全かつ効果的
に細菌数の増殖を抑制しうる物理的な抗菌方法を提供す
ることを目的としてなされたものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、レーザを
用いる抗菌方法を開発するために鋭意研究を重ねた結
果、特定の照射条件において、レーザを照射すると細菌
の増殖が抑制されること見出し、この知見に基づいて本
発明をなすに至った。
【0007】すなわち、本発明は、紫外、可視若しくは
近赤外域の高ピークパワーパルスレーザビームを照射す
ることを特徴とする抗菌方法を提供するものである。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明方法においては、細菌を含
む流体や細菌が付着した固体に対し、紫外、可視若しく
は近赤外域、すなわち波長150nm〜10μmの範囲
に高ピークパワーを有するレーザビームを照射する。上
記の流体の例としては、塩水、淡水及び各種物質の水溶
液のような液体や、空気、酸素ガスのような気体を挙げ
ることができる。
【0009】また、本発明方法において用いるレーザと
しては、例えば、エキシマレーザ、QスイッチYAGレ
ーザ、ガラスレーザ、アレキサンドライトレーザ、Qス
イッチYLFレーザ、チタンサファイアレーザなどがあ
る。本発明方法においては、これらのレーザを80ナノ
秒以下、好ましくは10フェムト秒〜50ナノ秒のパル
ス幅を有するパルスレーザとして用いるのがよい。80
ナノ秒よりもパルス幅が大きいと、細菌に対する増殖抑
制効果が不十分になる。
【0010】また、これらのパルスレーザは、レンズや
ミラーなどからなる光学系により、パルスピークにおい
て100kW/cm2以上、好ましくは1000kW/
cm2以上のパワー密度を有するように調整された後で
処理対象物に照射される。パルスピークにおけるパワー
密度が100kW/cm2よりも小さいと、細菌に対す
る十分な増殖効果が得られない。
【0011】本発明方法においては、照射するレーザの
パルスエネルギーを一定とした場合、パルス幅を小さく
すれば、ピークパワー密度を高くすることができる。す
なわち、短パルス化することにより、小さいレーザエネ
ルギーで高い抗菌効果を得ることができる。
【0012】次に、添付図面に従って、本発朋方法をさ
らに詳細に説明する。図1は本発明方法を実施するのに
用いられる装置の1例の側面略解図であって、この図に
おいてレーザ発振器1から出力されたレーザビーム2は
波長変換装置3により1/2波長に変換され、ミラー4
及びミラー5で反射され、余分な波長成分が取り除かれ
たのち、凹レンズ6及び凹レンズ7で整波され、流体流
路又は容器すなわち対象処理物8に照射される。
【0013】上記の流体流路又は容器8の少なくとも被
照射部は、レーザ波長に対して十分な透過性を有する材
料、例えば透明ガラス、透明プラスチックで構成されて
いることが必要である。本発明方法は、パイプのような
流路内に流体を通しながら、操業を停止することなく抗
菌処理することができるという利点を有している。
【0014】
【発明の効果】本発明によれば、塩水、淡水及び各種水
溶液のような液体や空気のような気体を、有害な化学薬
品を用いることなく、また、基本的な装置のレイアウト
変更を施すことなく、しかも操業を停止せずに、効果的
に抗菌処理しうるという利点がある。
【0015】
【実施例】次に実施例により本発明をさらに詳細に説明
するが、本発明はこれらの例によってなんら限定される
ものではない。
【0016】実施例1 図1に示される装置において、容器として直径15mm
のガラス製試験管を、レーザ発振器及び波長変換装置と
してスペクトラフィジックス社製Nd:YAGレーザ発
振器、製品記号GCR−170を用い、塩水中で活性な
海洋性ビブリオ菌(原名Viblio.sp)1単位
を、塩水ベースの培養液[デイフコ社製、製品名「マリ
ン・ブロス(Marine broth)」5mlとと
もに容器に収容し、振とう培養した。次いで、濁度計
(タイテック社製、製品記号mini photo51
8)の吸収指示値が0.15となった時点で、Nd:Y
AGレーザ2倍波を1パルス当り0.05J/cm2
なるように整形し、パルス幅5ナノ秒、パルスピークに
おけるパワー密度107W/cm2の条件下で5分間又は
15分間照射して得たサンプルと未照射のサンプルにつ
いて、その増殖カーブを求め、図2に示した。この図か
ら分るように、経過時間200分で、各サンプルの濁度
計指示値は0.15となり、照射後の値は、未照射、5
分間照射、15分間照射の順に低下している。そして、
この濁度計指示値を比較することにより、レーザ照射に
より、細菌の増殖は15分ないし50分ほど遅れること
が分る。
【0017】実施例2 実施例1において、パルス幅20ナノ秒及び100マイ
クロ秒の基本波に変えた以外は、同じ条件で15分間照
射したところ、前者では増殖抑制効果が認められたが、
後者では認められなかった。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明方法において用いられる装置の1例の
側面略解図。
【図2】 レーザ照射時間と細菌の増殖との関係を示す
グラフ。
【符号の説明】
1 レーザ発振器 2 レーザビーム 3 波長変換装置 4,5 ミラー 6,7 凹レンズ 8 対象処理物
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 矢野 哲夫 香川県高松市林町2217番14 経済産業省産 業技術総合研究所四国工業技術研究所内 (72)発明者 内海 明博 香川県高松市林町2217番14 経済産業省産 業技術総合研究所四国工業技術研究所内 (72)発明者 米田 理史 香川県高松市林町2217番14 経済産業省産 業技術総合研究所四国工業技術研究所内 Fターム(参考) 4C058 AA01 AA20 AA25 BB06 CC02 KK02 KK05 KK46 4D037 AA05 AA06 AB03 BA16 BA17 BA18

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 紫外、可視若しくは近赤外域の高ピーク
    パワーパルスレーザビームを照射することを特徴とする
    抗菌方法。
  2. 【請求項2】 パルスピークにおけるパワー密度が少な
    くとも100kW/cm2の高ピークパワーパルスレー
    ザビームを80ナノ秒以下のパルス幅で照射する請求項
    1記載の抗菌方法。
  3. 【請求項3】 少なくとも一部がレーザ波長に対して十
    分な透過性を有する材料からなる流路中に、細菌を含む
    流体を通過させながら、上記材料部分を通して、高ピー
    クパワーパルスレーザビームを照射する請求項1又は2
    記載の抗菌方法。
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