JP2002263596A - Ultraviolet irradiation device - Google Patents

Ultraviolet irradiation device

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JP2002263596A
JP2002263596A JP2001064552A JP2001064552A JP2002263596A JP 2002263596 A JP2002263596 A JP 2002263596A JP 2001064552 A JP2001064552 A JP 2001064552A JP 2001064552 A JP2001064552 A JP 2001064552A JP 2002263596 A JP2002263596 A JP 2002263596A
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JP
Japan
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excimer lamp
ultraviolet light
inert gas
irradiation device
light irradiation
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001064552A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shunji Niwa
俊二 丹羽
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Hoya Candeo Optronics Corp
Original Assignee
Hoya Schott Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the oxidation of the external electrode of an excimer lamp and other constituent parts thereof by ozone and to also efficiently cool the excimer lamp without using a lamp house high in airtightness or the like. SOLUTION: In the ultraviolet irradiation device 100, the cylindrical excimer lamp 104 is supported by a support means 102 arranged so as to cover the upper surface side of the excimer lamp. Nitrogen gas is ejected to the exposed surface of the excimer lamp during the operation of the excimer lamp from the nitrogen gas jet pipe 112 connected to a nitrogen gas supply source. The atmosphere around the excimer lamp 104 is substituted with the nitrogen gas ejected to the excimer lamp 104 to avoid such a phenomenon that ozone comes into contact with the external electrode to oxidize the same. Further, the cooling of the excimer lamp can be efficiently performed by directly spraying inert gas to the outer peripheral surface of the excimer lamp.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、真空紫外光領域の
光を放射し、該光とオゾンの共同作用を用いて半導体ウ
ェハやガラス基板の表面を洗浄し又は改質するために使
用される紫外光照射装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is used for radiating light in a vacuum ultraviolet region and for cleaning or modifying the surface of a semiconductor wafer or a glass substrate by using the synergistic action of the light and ozone. The present invention relates to an ultraviolet light irradiation device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体や液晶基板の有機物化合汚染に対
する許容レベルは、その加工の一層の微細化に伴い、よ
り厳しいものになってきている。この為、これらの製造
工程においては、近年、光洗浄又は光改質の技術が注目
されている。光洗浄又は光改質は、被加工物に真空紫外
光を所定時間照射し、その表面に付着した有機化合物を
光化学反応により洗浄し又は表面改質するものである。
2. Description of the Related Art The allowable level of organic compound contamination of a semiconductor or a liquid crystal substrate has become more severe with the further miniaturization of the processing. For these reasons, in these manufacturing processes, in recent years, the technology of light cleaning or light reforming has attracted attention. In the light cleaning or light reforming, a workpiece is irradiated with vacuum ultraviolet light for a predetermined time, and an organic compound attached to the surface is cleaned or surface modified by a photochemical reaction.

【0003】これらの用途に用いられる光源として近年
エキシマランプが注目され、既にその製造ラインへの導
入が開始されている。特にキセノンを封入したキセノン
エキシマランプは、真空紫外光である波長172nmの光を
放射するため、酸素を含む雰囲気中で照射すると、酸素
分子(O2)が該光を吸収し、酸素原子(O)やオゾン
(O3)などの活性酸素種を生成する。また、172nmの光
のフォトンエネルギーは約7.2eVであり、多くの有機物
化合物の結合エネルギーより大きい。
In recent years, attention has been paid to excimer lamps as light sources used in these applications, and their introduction to production lines has already begun. In particular, a xenon excimer lamp in which xenon is sealed emits light having a wavelength of 172 nm, which is vacuum ultraviolet light. Therefore, when irradiated in an atmosphere containing oxygen, oxygen molecules (O 2 ) absorb the light and oxygen atoms (O 2 ) And ozone (O 3 ). The photon energy of light at 172 nm is about 7.2 eV, which is larger than the binding energy of many organic compounds.

【0004】半導体デバイスの各生産工程において、シ
リコン基板が有機化合物に汚染される確率は高く、同様
に液晶分野のガラス基板においても各プロセスにおいて
有機化合物による汚染が、品質の向上の妨げになる。こ
のため、172nmの光を照射することにより、各種基板の
汚染要因である各種有機化合物の化学結合を切断し、生
成した活性酸素種により効率的に酸化分解して各種基板
から除去する事が可能である。
[0004] In each production process of a semiconductor device, there is a high probability that a silicon substrate is contaminated with an organic compound. Similarly, in a glass substrate in the field of liquid crystal, the contamination by an organic compound in each process hinders improvement in quality. Therefore, by irradiating 172nm light, it is possible to cut chemical bonds of various organic compounds, which are the causes of contamination of various substrates, and to efficiently oxidize and decompose them from various substrates by the generated active oxygen species. It is.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】このように、エキシマ
ランプは光洗浄及び光改質に大変有効であるが、一方
で、エキシマランプを用いた光洗浄及び光改質では、以
下のような2つの主要な問題があった。
As described above, an excimer lamp is very effective for light cleaning and light reforming. On the other hand, in light cleaning and light reforming using an excimer lamp, the following two methods are required. There were two major issues.

【0006】(1)前述のようにエキシマランプを用い
た光洗浄及び光改質では、エキシマランプ周辺にオゾン
が生成されるため、これが、ランプハウスやランプの外
部及び内部電極を容易に酸化させてしまう。これら部品
の酸化は、製品の寿命を短くすると共に、性能の劣化を
招来する。
(1) As described above, in the light cleaning and light reforming using the excimer lamp, ozone is generated around the excimer lamp, and this easily oxidizes the external and internal electrodes of the lamp house and the lamp. Would. Oxidation of these components shortens product life and leads to performance degradation.

【0007】(2)エキシマランプには、7〜10k
V、100kHz〜3MHz程度の高電圧が印加される
が、これによってエキシマランプの温度が上がると、ラ
ンプに投入する電力に対する光変換効率が低下する。
(2) Excimer lamps have a capacity of 7 to 10 k.
V, a high voltage of about 100 kHz to 3 MHz is applied. When the temperature of the excimer lamp rises, the light conversion efficiency with respect to the power supplied to the lamp decreases.

【0008】このような問題を解消する手段として、従
来、以下のことが知られている。すなわち、主として、
内部部品の酸化を防止する目的で、エキシマランプを、
紫外光透過ガラスを備えた密閉容器又はランプハウス内
に収容し、該容器内に窒素その他の不活性ガスを流入又
は充填し、これによってエキシマランプの電極その他の
部品にオゾンが接触するのを防止している。
As means for solving such a problem, the following is conventionally known. That is, mainly
In order to prevent oxidation of internal parts, excimer lamps
It is housed in a sealed container or lamp house equipped with ultraviolet light transmitting glass, and nitrogen or other inert gas is introduced or filled into the container, thereby preventing the contact of the electrodes and other parts of the excimer lamp with ozone. are doing.

【0009】しかしながら、このような方法を用いる場
合、前記密閉容器又はランプハウスには、高い気密性が
求められる。すなわち、容器の気密性が確実に保たれな
ければ、容器内の気体が不活性ガスにより完全に置換さ
れず、これによりオゾンが発生して外部及び内部電極を
酸化・腐食してしまうという問題点がある。
However, when such a method is used, the hermetic container or the lamp house is required to have high airtightness. That is, if the airtightness of the container is not reliably maintained, the gas in the container is not completely replaced by the inert gas, thereby generating ozone and oxidizing and corroding the external and internal electrodes. There is.

【0010】非常に高い気密性を容器に求めることは、
設計上困難なことが多く発生する。例えば、エキシマラ
ンプには前述のように高電圧を印加する必要があるの
で、容器乃至はランプハウスは高耐圧・高気密性の構造
が必要となり、装置の大型化、コストの上昇を伴う。特
に、紫外光透過ガラスとして一般に用いられる石英ガラ
ス板(例えば、幅:100mm、長さ:1000mm、厚さ:2〜3m
m)を、容器に対してOリング等を用いて高気密に取り
付けるためには、多大な労力とコストを必要とする。
[0010] The requirement for very high airtightness of the container is
Difficulty often occurs in design. For example, since a high voltage needs to be applied to an excimer lamp as described above, a container or a lamp house needs to have a structure with high pressure resistance and high airtightness, resulting in an increase in the size of the apparatus and an increase in cost. Particularly, a quartz glass plate generally used as an ultraviolet light transmitting glass (for example, width: 100 mm, length: 1000 mm, thickness: 2 to 3 m
In order to attach m) to the container in a highly airtight manner using an O-ring or the like, a great deal of labor and cost are required.

【0011】また、エキシマランプを密閉容器又はラン
プハウス内に収納する構造においては、前記紫外光透過
ガラスを通してエキシマランプからの紫外光を被照射物
に照射するため、ここでその減衰が生じ、ランプに投下
するエネルギーに対する洗浄効率が低下してしまうとい
う問題がある。更には、紫外光透過ガラスの存在によ
り、エキシマランプと被照射物との距離を一定以下にす
ることができず、被照射物に対する到達光量が減衰する
という問題がある(減衰率は、光源からの距離の二乗に
比例する)。
In a structure in which an excimer lamp is housed in a sealed container or a lamp house, an object to be irradiated is irradiated with ultraviolet light from the excimer lamp through the ultraviolet light transmitting glass. However, there is a problem that the cleaning efficiency with respect to the energy dropped into the device decreases. Further, the distance between the excimer lamp and the irradiation target cannot be reduced to a certain value or less due to the presence of the ultraviolet light transmitting glass, and the amount of light reaching the irradiation target is attenuated. Is proportional to the square of the distance).

【0012】また、従来、エキシマランプの冷却を目的
として、その内筒管内に水などの冷却液や窒素ガスなど
の冷却気体を流すものが知られている。しかしながら、
水などの液体を内筒管内に流すものにおいては、エキシ
マランプの冷却効率には優れるものの、エキシマランプ
をそれ専用に構成したものが必要となり、また窒素ガス
などの気体を内筒管内に流すものにおいては、エキシマ
ランプ全体を効率的に冷却することは困難であり、全体
の冷却を実現するためには、相当量の窒素の流入が必要
となって窒素ガスの消費コストが多く掛かるという問題
がある。
Conventionally, a cooling liquid such as water or a cooling gas such as nitrogen gas is passed through an inner tube of the excimer lamp for the purpose of cooling the excimer lamp. However,
In the case of flowing a liquid such as water into the inner tube, the excimer lamp is required to have a specially configured excimer lamp, although the cooling efficiency of the excimer lamp is excellent. In such a case, it is difficult to efficiently cool the entire excimer lamp, and in order to achieve the entire cooling, a considerable amount of nitrogen is required to flow, resulting in a high cost of consuming nitrogen gas. is there.

【0013】従って本発明の目的は、エキシマランプを
密閉容器に封入することなく、比較的簡単な構成によ
り、オゾンによるその外部及び内部電極の酸化を防止す
ることができる紫外光照射装置を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide an ultraviolet light irradiation apparatus which can prevent the external and internal electrodes from being oxidized by ozone with a relatively simple structure without enclosing the excimer lamp in a closed container. It is in.

【0014】また、本発明の別の目的は、比較的簡単な
構成により、効率的にエキシマランプを冷却することが
できる紫外光照射装置を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide an ultraviolet light irradiation apparatus which can efficiently cool an excimer lamp with a relatively simple structure.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明の紫外光照射装置は、内筒管と外筒管の間の空間
に封入した放電用ガスに高電圧を印加して、該外筒管の
外に紫外光を照射する円筒状のエキシマランプと、前記
エキシマランプの上面側を覆うように配置され、該エキ
シマランプを支承する支持手段と、前記エキシマランプ
の露出した面に向けて不活性ガスを噴霧し、これによっ
て前記エキシマランプからの紫外光の照射中に前記露出
した面を前記不活性ガスで覆う不活性ガス噴出手段とを
備えて構成される。
In order to achieve the above object, an ultraviolet light irradiation apparatus of the present invention applies a high voltage to a discharge gas sealed in a space between an inner tube and an outer tube, and A cylindrical excimer lamp for irradiating ultraviolet light to the outside of the outer tube, a support means arranged to cover an upper surface side of the excimer lamp, and supporting the excimer lamp; And an inert gas jetting means for covering the exposed surface with the inert gas during the irradiation of the excimer lamp with ultraviolet light.

【0016】前記構成によれば、紫外光の照射中、エキ
シマランプの上面側は前記支持手段により覆われ、一
方、外気に対し露出した下側の面は、前記不活性ガス噴
出手段から噴出される不活性ガスにより覆われているの
で、オゾンがエキシマランプの外部電極に接触し、これ
を酸化するということが回避される。また、エキシマラ
ンプの外周面に直接不活性ガスを吹き付けることによ
り、その冷却を効率的に行なうことができる。
According to the above configuration, during the irradiation of the ultraviolet light, the upper surface of the excimer lamp is covered by the supporting means, while the lower surface exposed to the outside air is ejected from the inert gas ejecting means. Ozone is prevented from contacting and oxidizing the external electrode of the excimer lamp because it is covered with the inert gas. Further, by blowing the inert gas directly onto the outer peripheral surface of the excimer lamp, the cooling can be efficiently performed.

【0017】本発明において、前記不活性ガス噴出手段
は、前記エキシマランプの軸方向に沿ってその両側に配
置される一対の不活性ガス噴出パイプであって、各不活
性ガス噴出パイプが、その長手方向に沿って1又は複数
の前記不活性ガスの噴出口を備えたものと、不活性ガス
を前記不活性ガス噴出パイプに供給する不活性ガス供給
源とを備えて構成することが好ましい。
In the present invention, the inert gas ejecting means is a pair of inert gas ejecting pipes arranged on both sides of the excimer lamp along the axial direction thereof, and each inert gas ejecting pipe is provided with an inert gas ejecting pipe. It is preferable that the apparatus is provided with one or more inert gas ejection ports along the longitudinal direction, and an inert gas supply source for supplying an inert gas to the inert gas ejection pipe.

【0018】この場合において、前記不活性ガス噴出パ
イプの前記噴出口の向きが、前記エキシマランプの軸心
に向いているか、または、水平面に対し20度〜60度
の範囲にあることが好ましい。
In this case, it is preferable that the direction of the jet port of the inert gas jet pipe is oriented toward the axis of the excimer lamp or in the range of 20 to 60 degrees with respect to a horizontal plane.

【0019】前記不活性ガス噴出手段により供給される
不活性ガスとしては、光を吸収しにくい窒素、アルゴ
ン、ヘリウムガスなどを用いることができるが、そのコ
ストを考慮した場合窒素ガスが好適に用いられる。
As the inert gas supplied by the inert gas jetting means, nitrogen, argon, helium gas or the like, which hardly absorbs light, can be used. In view of the cost, nitrogen gas is preferably used. Can be

【0020】また、本発明の好適な実施形態において
は、前記支持手段が、前記エキシマランプの上面側の形
状に沿う凹面部を有し、該凹面部内に前記エキシマラン
プの上面側を納めた状態で該エキシマランプを支承す
る。
In a preferred embodiment of the present invention, the support means has a concave portion conforming to the shape of the upper surface of the excimer lamp, and the upper surface of the excimer lamp is accommodated in the concave portion. Supports the excimer lamp.

【0021】より好ましくは、前記支持手段の少なくと
も凹面部を含む領域が金属材料よりなり、該凹面部に前
記エキシマランプの上面側を略密接させた状態で該エキ
シマランプを支承する。本発明の構成によれば、エキシ
マランプの冷却効率を一層高めることができ、高効率の
紫外線照射を達成できる。
More preferably, at least a region including the concave portion of the support means is made of a metal material, and the excimer lamp is supported with the upper surface of the excimer lamp substantially in close contact with the concave portion. ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the structure of this invention, the cooling efficiency of an excimer lamp can be improved further and highly efficient ultraviolet irradiation can be achieved.

【0022】この場合において、前記支持手段の凹面部
が、前記エキシマランプの略上半部を覆うことが好まし
い。
In this case, it is preferable that the concave surface of the supporting means covers substantially the upper half of the excimer lamp.

【0023】本発明の好適な実施形態においては、紫外
線照射装置は、前記エキシマランプの軸方向に沿ってそ
の両側に配置され、前記不活性ガス噴出パイプから噴出
される不活性ガスを前記エキシマランプの露出した面に
導く一対の反射板を更に備える。
In a preferred embodiment of the present invention, the ultraviolet irradiation device is disposed on both sides of the excimer lamp along the axial direction of the excimer lamp, and emits the inert gas ejected from the inert gas ejection pipe to the excimer lamp. And a pair of reflectors leading to the exposed surface.

【0024】好適な実施形態において、前記反射板は、
前記エキシマランプから照射される紫外光を被照射物に
向けて反射させる機能を有する。
[0024] In a preferred embodiment, the reflecting plate includes:
It has a function of reflecting ultraviolet light emitted from the excimer lamp toward an object to be irradiated.

【0025】この場合において、前記反射板が前記凹面
部の両側において前記支持手段に取り付けられているこ
とが好ましい。
In this case, it is preferable that the reflecting plate is attached to the supporting means on both sides of the concave portion.

【0026】本発明の他の実施形態においては、前記エ
キシマランプ及び前記不活性ガス噴出パイプの下方に紫
外光透過板を備え、該紫外光透過板を介して、前記エキ
シマランプからの紫外光を被照射物に照射させることが
できる。
In another embodiment of the present invention, an ultraviolet light transmitting plate is provided below the excimer lamp and the inert gas ejection pipe, and the ultraviolet light from the excimer lamp is transmitted through the ultraviolet light transmitting plate. The object to be irradiated can be irradiated.

【0027】この場合において、前記エキシマランプ、
前記反射板及び前記紫外光透過板によって略囲まれた領
域内に、前記不活性ガス噴出パイプを配置することが好
ましい。このような配置構成は、エキシマランプに対す
る不活性ガスの到達効率を向上させる。
In this case, in the excimer lamp,
It is preferable to dispose the inert gas ejection pipe in a region substantially surrounded by the reflection plate and the ultraviolet light transmission plate. Such an arrangement improves the efficiency with which the inert gas reaches the excimer lamp.

【0028】また、本発明においては、前記エキシマラ
ンプの外筒管の外周面に設けられる外部電極のうち、前
記支持手段の凹面部に納まる領域を板状にすることが好
ましい。これによりエキシマランプからの支持手段に対
する放熱効率が向上する。
In the present invention, it is preferable that, of the external electrodes provided on the outer peripheral surface of the outer cylindrical tube of the excimer lamp, a region which fits in the concave portion of the support means is formed in a plate shape. Thereby, the heat radiation efficiency from the excimer lamp to the supporting means is improved.

【0029】また、前記エキシマランプの内筒管の内周
面に設けられる内部電極を板状のものにしてもよい。
The internal electrodes provided on the inner peripheral surface of the inner tube of the excimer lamp may be plate-shaped.

【0030】また、本発明の紫外光照射装置は、前記エ
キシマランプの内筒管の内面に向けて不活性ガスを噴霧
し、これによって前記エキシマランプからの紫外光の照
射中に前記内筒管の内面を前記不活性ガスで覆う第2の
不活性ガス噴出手段を更に備えることができる。これに
よって、内筒管内に配置した内部電極のオゾンによる酸
化が防止できると共に、エキシマランプの冷却が更に効
率的に行なえる。
Further, the ultraviolet light irradiation apparatus of the present invention sprays an inert gas toward the inner surface of the inner tube of the excimer lamp, whereby the inner tube is irradiated with ultraviolet light from the excimer lamp. And a second inert gas jetting means for covering the inner surface of the substrate with the inert gas. This can prevent oxidation of the internal electrode disposed in the inner tube by ozone, and can more efficiently cool the excimer lamp.

【0031】この場合において、前記第2の不活性ガス
噴出手段は、前記エキシマランプの内筒管内に沿って配
置され、その周囲に複数の前記不活性ガスの噴出口を備
えた不活性ガス噴出パイプを有することが好ましい。
In this case, the second inert gas jetting means is disposed along the inner tube of the excimer lamp, and is provided with a plurality of inert gas jetting ports around it. It is preferred to have a pipe.

【0032】[0032]

【発明の実施の形態】以下、図示した一実施形態に基い
て本発明を詳細に説明する。図1及び図2は、本発明の
一実施形態に係る紫外光照射装置を示す図であり、それ
ぞれ正面方向における断面図及び一部を破断して示す側
面図である。図において、紫外光照射装置100は、断
面凸型のランプ支承ブロック102の下面側に、円筒状
のエキシマランプ104を備えている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail based on one embodiment shown in the drawings. 1 and 2 are views showing an ultraviolet light irradiation device according to an embodiment of the present invention, and are a cross-sectional view in a front direction and a side view with a part thereof cut away. In the figure, the ultraviolet light irradiation device 100 includes a cylindrical excimer lamp 104 on the lower surface side of a lamp support block 102 having a convex cross section.

【0033】エキシマランプ104は、一般的に知られ
ている二重管内に封入した放電用ガスに高電圧を印加し
て紫外光を照射するものである。一実施例において、肉
厚が1.5mm、長さが30cmの石英ガラス管からな
る外筒管104aと、それより径の小さい同じく肉厚
1.5mm、長さが30cmの石英ガラスからなる内筒
管104bを同心円上に配置し、両円筒管の両端を封止
し、それによってできた空間104c内にキセノンガス
を封入したものが好適に用いられる。外筒管104aの
外面には、網目状の光を通す外部電極104dが、内筒
管104bの内面には、スパイラル形状をした内部電極
104eが配置され、この電極間に電源200(図2)
から高電圧を印加することにより、真空紫外光である1
72nmのエキシマ光が外筒管外へ放射される。
The excimer lamp 104 irradiates ultraviolet light by applying a high voltage to a discharge gas sealed in a generally known double tube. In one embodiment, an outer cylindrical tube 104a made of a quartz glass tube having a thickness of 1.5 mm and a length of 30 cm, and an inner tube made of a quartz glass having a smaller diameter and also having a thickness of 1.5 mm and a length of 30 cm. A tube in which the cylindrical tubes 104b are arranged concentrically, both ends of both the cylindrical tubes are sealed, and a xenon gas is sealed in a space 104c formed thereby is preferably used. On the outer surface of the outer tube 104a, an external electrode 104d through which mesh-like light passes is provided, and on the inner surface of the inner tube 104b, a spiral-shaped inner electrode 104e is arranged. A power supply 200 (FIG. 2) is provided between the electrodes.
By applying a high voltage from the
Excimer light of 72 nm is emitted outside the outer tube.

【0034】ランプ支承ブロック102は、その下面中
央長手方向に沿って、エキシマランプ104の上半部に
沿った形状、すなわちハーフパイプ状の支承面102a
を有する。エキシマランプ104は、その上方の外周面
が支承面102aに接した状態で、この支承面102a
内にその上半部を納められており、更に、図2に示すよ
うに、エキシマランプ104の長手方向両端側におい
て、ランプ支承ブロック102からの固定バンド202
で該ブロックに対し固定されている。
The lamp support block 102 has a shape along the upper half of the excimer lamp 104 along the longitudinal center of the lower surface thereof, that is, a half pipe-shaped support surface 102a.
Having. The excimer lamp 104 is mounted on the support surface 102a with its outer peripheral surface in contact with the support surface 102a.
The upper half of the excimer lamp 104 is fixed at the both ends in the longitudinal direction of the excimer lamp 104 as shown in FIG.
Is fixed to the block.

【0035】前記支承面102aは、基本的に2つの機
能を有している。支承面102aの第1の機能は、真空
紫外光が、エキシマランプ104の上半部から外部に放
射されないようにすることである。これにより、エキシ
マランプ104の上半部の周囲にはオゾンが生成されな
いので、この領域に配置された外部電極104dの酸化
が防止されることとなる。支承面102aの第2の機能
は、支承面102aがエキシマランプ104の上半部外
面に接することにより、その効率的な放熱を実現するこ
とである。前述のようにエキシマランプ104には、7
〜10kV、100kHz〜3MHz程度の高電圧が印
加されるので、使用中エキシマランプは相当高温にな
る。本実施形態のようにランプ支承ブロックの支承面1
02aは、エキシマランプ104の上半部全域に渡って
面接触しているので、エキシマランプ104からの熱が
効率的にランプ支承ブロック102側に伝達されること
となる。この機能を効果的にする目的から、ランプ支承
ブロック102は、熱伝導性の比較的高い材料、例え
ば、アルミニウムやステンレス合金(SUS304など)その
他の金属であることが好ましい。
The bearing surface 102a has basically two functions. The first function of the bearing surface 102a is to prevent vacuum ultraviolet light from being emitted from the upper half of the excimer lamp 104 to the outside. As a result, ozone is not generated around the upper half of the excimer lamp 104, so that oxidation of the external electrode 104d disposed in this region is prevented. The second function of the bearing surface 102a is to achieve efficient heat dissipation by contacting the bearing surface 102a with the outer surface of the upper half of the excimer lamp 104. As described above, the excimer lamp 104
Since a high voltage of about 10 to 10 kV and about 100 kHz to 3 MHz is applied, the excimer lamp becomes extremely high during use. Bearing surface 1 of lamp bearing block as in this embodiment
Since 02a is in surface contact over the entire upper half of the excimer lamp 104, heat from the excimer lamp 104 is efficiently transmitted to the lamp support block 102 side. For the purpose of making this function effective, the lamp support block 102 is preferably made of a material having relatively high thermal conductivity, for example, aluminum, a stainless alloy (such as SUS304), or other metals.

【0036】本実施形態に係る紫外光照射装置100
は、更に、紫外光透過ガラス106及びリフレクタ10
8を備える。紫外光透過ガラス106は、図で示すよう
に、エキシマランプ104の下方に設置され、これを通
してエキシマランプ104からの紫外光が、被照射物に
対し照射される。ここで、エキシマランプ104は、前
記ランプ支承ブロック102によりその上半部が覆わ
れ、下半部のみが外部に対し露出されているので、その
露出した領域から紫外光が下方に向けて照射されること
となる。紫外光透過ガラス106は、ランプ支承ブロッ
ク102の両側から垂下されたガラス支持アーム110
により、エキシマランプ104の直下に支承されるが、
図1においてランプ支承ブロック102、ガラス支持ア
ーム110及び紫外光透過ガラス106により囲まれた
空間は、その紙面方向において抜けており、従って、こ
の空間は外気に対し密閉されることなく晒されている。
好適な実施例において、紫外光透過ガラス106は、幅
100mm、長さ330mm、厚み1mmの石英ガラス
を用いることができる。
The ultraviolet light irradiation device 100 according to this embodiment
Further comprises an ultraviolet light transmitting glass 106 and a reflector 10
8 is provided. The ultraviolet light transmitting glass 106 is provided below the excimer lamp 104 as shown in the figure, and the object to be irradiated is irradiated with ultraviolet light from the excimer lamp 104 through the glass. Here, since the excimer lamp 104 has its upper half covered by the lamp support block 102 and only the lower half is exposed to the outside, ultraviolet light is irradiated downward from the exposed region. The Rukoto. The ultraviolet light transmitting glass 106 has glass support arms 110 suspended from both sides of the lamp support block 102.
Is supported immediately below the excimer lamp 104,
In FIG. 1, the space surrounded by the lamp support block 102, the glass support arm 110, and the ultraviolet light transmitting glass 106 escapes in the direction of the plane of the paper, and is thus exposed to the outside air without being sealed. .
In a preferred embodiment, quartz glass having a width of 100 mm, a length of 330 mm, and a thickness of 1 mm can be used as the ultraviolet light transmitting glass 106.

【0037】もっとも、本発明の実現に際しては、後述
するように、エキシマランプ104の周囲空間を外気に
対し密閉する必要が無いことから、この紫外光透過ガラ
スは必ずしも必要ないことに留意されたい。紫外光透過
ガラス106を設けない場合、その透過の際の減衰が無
くなると共に、エキシマランプと被照射物との間の距離
をより小さくできるので、より効率的な光洗浄・光改質
が可能となる。
However, it should be noted that, when the present invention is realized, the space surrounding the excimer lamp 104 does not need to be sealed from the outside air, as described later, so that the ultraviolet light transmitting glass is not necessarily required. When the ultraviolet light transmitting glass 106 is not provided, the attenuation at the time of transmission is eliminated, and the distance between the excimer lamp and the object to be irradiated can be reduced, so that more efficient light cleaning and light reforming can be performed. Become.

【0038】リフレクタ108は、図1に示されるよう
に、エキシマランプ104の両側において、ランプ支承
ブロック102に取り付けられる。リフレクタ108の
下面側は鏡面加工が施され、エキシマランプ104から
の紫外光を効率的に反射して被照射物に導くよう機能さ
れる。一つの実施例において、リフレクタ108は、厚
さ1.5mm程のアルミニウム板を鏡面加工して構成さ
れる。リフレクタ108は、また、後述する窒素ガス噴
出パイプ112から噴出される窒素ガスをエキシマラン
プ104の露出した面に向けて導くという機能を有して
いる。
The reflector 108 is mounted on the lamp support block 102 on both sides of the excimer lamp 104 as shown in FIG. The lower surface side of the reflector 108 is mirror-finished, and functions to efficiently reflect ultraviolet light from the excimer lamp 104 and guide it to an object to be irradiated. In one embodiment, the reflector 108 is formed by mirror-finish an aluminum plate having a thickness of about 1.5 mm. The reflector 108 also has a function of guiding nitrogen gas ejected from a nitrogen gas ejection pipe 112 described later toward an exposed surface of the excimer lamp 104.

【0039】紫外光照射装置100は、更に、エキシマ
ランプ104の露出した表面に窒素ガスを噴出する窒素
ガス供給手段を備え、これは、一対の窒素ガス噴出パイ
プ112、マスフローコントローラ114及び窒素ガス
供給源116を含んで構成されている。
The ultraviolet light irradiation apparatus 100 further includes nitrogen gas supply means for ejecting nitrogen gas to the exposed surface of the excimer lamp 104, which comprises a pair of nitrogen gas ejection pipes 112, a mass flow controller 114, and a nitrogen gas supply. A source 116 is included.

【0040】一対の窒素ガス噴出パイプ112は、図1
に示すように、エキシマランプ104の軸方向に沿うそ
の両側において、前記紫外光透過ガラス106とリフレ
クタ108との間の空間に設置されている。各窒素ガス
噴出パイプ112には、その長手方向に沿って一定の間
隔で、多数の噴出口112aが一列に開口され、これら
は、エキシマランプ104の外表面に向けられている。
窒素ガス供給源116から供給される窒素ガスは、マス
フローコントローラ114で一定の流量(例えば、5〜
10L/min)流量調整された後、両窒素ガス噴出パ
イプ112に与えられ、各噴出口112aからエキシマ
ランプ104に向けて噴出される。エキシマランプ10
4に向けて噴出される窒素ガスは、その露出した発光面
を覆う。すなわち、エキシマランプ104の外筒管表面
に設けられた外部電極104dは、エキシマランプ10
4の点灯中、窒素ガス雰囲気内に置かれる。従って、エ
キシマランプ104の点灯により発生するオゾンがその
外部電極104dに触れることが無くなり、その酸化が
防止される。また、吹き付けられた窒素ガスは、ランプ
の下半部を効果的に冷却する。特に、本実施形態におい
ては、窒素ガス噴出パイプ112は、エキシマランプ1
04、リフレクタ108及び紫外光透過ガラス106に
よって略囲まれた空間内に窒素ガスを噴出することとな
るので、該空間が窒素雰囲気に保たれやすくなり、エキ
シマランプ104表面に対する窒素ガスの到達率が向上
する。
The pair of nitrogen gas ejection pipes 112 is shown in FIG.
As shown in the figure, on both sides of the excimer lamp 104 along the axial direction, it is installed in a space between the ultraviolet light transmitting glass 106 and the reflector 108. Each of the nitrogen gas ejection pipes 112 has a large number of ejection ports 112a opened in a line at regular intervals along the longitudinal direction thereof, and these are directed to the outer surface of the excimer lamp 104.
The nitrogen gas supplied from the nitrogen gas supply source 116 has a constant flow rate (for example,
After the flow rate is adjusted, the gas is supplied to both nitrogen gas ejection pipes 112, and is ejected from each ejection port 112a toward the excimer lamp 104. Excimer lamp 10
The nitrogen gas ejected toward 4 covers the exposed light emitting surface. That is, the external electrode 104d provided on the outer tube surface of the excimer lamp 104 is
During the lighting of 4, it is placed in a nitrogen gas atmosphere. Therefore, the ozone generated by the lighting of the excimer lamp 104 does not touch the external electrode 104d, thereby preventing the oxidation of the external electrode 104d. Also, the blown nitrogen gas effectively cools the lower half of the lamp. In particular, in the present embodiment, the nitrogen gas ejection pipe 112 is connected to the excimer lamp 1.
Since the nitrogen gas is ejected into the space substantially surrounded by the reflector 04, the reflector 108 and the ultraviolet light transmitting glass 106, the space is easily maintained in a nitrogen atmosphere, and the arrival rate of the nitrogen gas to the surface of the excimer lamp 104 is reduced. improves.

【0041】各窒素ガス噴出パイプ112は、窒素ガス
をエキシマランプ104に効率的に噴出できるようその
噴出口112aの向きを設定される。好適な実施例にお
いて、噴出口112aの向きは、水平面に対し20度〜
60度の範囲、特に好ましくは30度であり、また、こ
の向きをエキシマランプ104の軸心に向くように設置
しても良い。
Each nitrogen gas ejection pipe 112 is oriented so that its ejection port 112a can eject nitrogen gas to the excimer lamp 104 efficiently. In a preferred embodiment, the direction of the spout 112a is from 20 degrees to the horizontal plane.
The range is 60 degrees, particularly preferably 30 degrees, and the direction may be set so as to face the axis of the excimer lamp 104.

【0042】前述のように各窒素ガス噴出パイプ112
の上部には、リフレクタ108が設置されており、これ
は各窒素ガス噴出パイプ112から噴出される窒素ガス
を効率的にエキシマランプ104の表面に導くよう機能
される。なお、リフレクタ108は、この結果としてそ
の表面が窒素ガス雰囲気内に置かれることとなるので、
その酸化が防止される。
As described above, each nitrogen gas ejection pipe 112
A reflector 108 is provided at the upper part of the excimer lamp 104 and functions to efficiently guide the nitrogen gas ejected from each nitrogen gas ejection pipe 112 to the surface of the excimer lamp 104. Since the surface of the reflector 108 is placed in a nitrogen gas atmosphere as a result,
Its oxidation is prevented.

【0043】図3は、窒素ガス噴出パイプ112の一例
を示す断面及び側面図である。図に示すように、窒素ガ
ス噴出パイプ112の一端は開放され、他端は閉じられ
ている。この開放された一端に、窒素ガス供給源116
に接続された図示しない窒素ガスの供給管路を接続し、
その閉じられた他端に向けて窒素ガスを供給することに
よって、側面に一列に開口した多数の噴出口112aよ
り窒素ガスを噴出する。好適な実施例において、窒素ガ
ス噴出パイプ112は、長さ300mm、外径30mm
のエキシマランプに対して、長さ390mm、外径3m
m、内径2mmのステンレス製パイプに、ピッチ5mm
で、直径0.3mmの円形噴出口112aを約60個設
けたものを用いることができる。
FIG. 3 is a sectional view and a side view showing an example of the nitrogen gas ejection pipe 112. As shown in the figure, one end of the nitrogen gas ejection pipe 112 is open and the other end is closed. At this open end, a nitrogen gas supply source 116 is provided.
Connect a nitrogen gas supply pipe (not shown) connected to
By supplying nitrogen gas toward the closed other end, nitrogen gas is ejected from a large number of ejection ports 112a opened in a line on the side surface. In a preferred embodiment, the nitrogen gas ejection pipe 112 has a length of 300 mm and an outer diameter of 30 mm.
390mm in length and 3m in outer diameter for the excimer lamp
m, stainless steel pipe with inner diameter 2mm, pitch 5mm
In this case, the one provided with about 60 circular ejection ports 112a having a diameter of 0.3 mm can be used.

【0044】もっとも、窒素ガス噴出パイプ112は、
その両端側から窒素ガスを供給できるように、その両端
を開放した構造を有してもよく、また、窒素ガスの噴出
口として、一定幅(例えば、0.3〜0.5mm)の一
条のスリットを形成し、ここから窒素ガスを噴出するよ
う構成してもよい。
However, the nitrogen gas ejection pipe 112 is
It may have a structure in which both ends are opened so that nitrogen gas can be supplied from both ends thereof, and a single width of a single width (for example, 0.3 to 0.5 mm) is used as a nitrogen gas ejection port. A slit may be formed, and nitrogen gas may be ejected from the slit.

【0045】図1に示した紫外光照射装置の実施形態に
おいては、エキシマランプ104の外部電極104dを
網目状で構成したものを示した。しかしながら、エキシ
マランプ104の上半部は、紫外光をその外部に透過さ
せる必要がないので、図4に示すような板状の外部電極
400で構成することができる。板状外部電極400
は、エキシマランプ104の上半部及びランプ支承ブロ
ック102の支承面102aに沿う半円状で構成され、
装着時に両者に密着する。これによって、エキシマラン
プ104の放熱効率が一層良好なものとなる。また、エ
キシマランプ104から上方に向けて放射される紫外光
が、この板状外部電極400で反射されることになり、
エキシマランプの下方から外部に放射される紫外光を増
すことができる。なお、外部電極は、その上半部が図4
に示す板状をなし、その下半部が網目状をなす一体的な
ものとすることができる。
In the embodiment of the ultraviolet light irradiation device shown in FIG. 1, the external electrode 104d of the excimer lamp 104 is formed in a mesh. However, since the upper half of the excimer lamp 104 does not need to transmit ultraviolet light to the outside, it can be configured with a plate-shaped external electrode 400 as shown in FIG. Plate-shaped external electrode 400
Is formed in a semicircular shape along the upper half of the excimer lamp 104 and the bearing surface 102a of the lamp bearing block 102,
Adheres to both when attached. Thereby, the heat radiation efficiency of the excimer lamp 104 is further improved. Further, ultraviolet light radiated upward from the excimer lamp 104 is reflected by the plate-shaped external electrode 400,
Ultraviolet light radiated from the lower side of the excimer lamp to the outside can be increased. The upper half of the external electrode is shown in FIG.
, And the lower half of the plate has a mesh shape.

【0046】また、エキシマランプ104の内部電極
は、スパイラル状のものに代えて、図5に示すような円
筒板状の内部電極500とすることができる。円筒板状
内部電極500は、外力を加えない状態で、エキシマラ
ンプの内筒管104bの内径よりも僅かに大きい外径を
有し、且つその軸線方向全域に沿ってスリット500a
が形成されている。内部電極500は、このスリット5
00aによりその径を縮小可能に構成されており、外力
を加えることによってその径を縮小した状態で、エキシ
マランプの内筒管104b内に挿入され、その外力を開
放することによって該弾性力によって内筒管104bの
内面に密着するようになる。このように、内部電極50
0を円筒板状で構成することにより、エキシマランプ1
04から放射される紫外光は、これにより反射され、外
部に真空紫外光をより効率よく導くことができる。ま
た、円筒板状内部電極500は、エキシマランプの内筒
管104bに密着して設置されるので、高電圧を電極間
に印加するときに発生することがあるマイクロディスチ
ャージを防ぐことができる。
The internal electrode of the excimer lamp 104 can be a cylindrical plate-shaped internal electrode 500 as shown in FIG. 5 instead of a spiral-shaped internal electrode. The cylindrical plate-shaped internal electrode 500 has an outer diameter slightly larger than the inner diameter of the inner cylindrical tube 104b of the excimer lamp when no external force is applied, and has a slit 500a along the entire axial direction thereof.
Are formed. The internal electrode 500 is
The diameter of the excimer lamp is reduced by applying an external force and inserted into the inner tube 104b of the excimer lamp, and the internal force is reduced by releasing the external force. It comes into close contact with the inner surface of the cylindrical tube 104b. Thus, the internal electrode 50
The excimer lamp 1 is constituted by forming a cylindrical plate
The ultraviolet light radiated from the liquid crystal 04 is reflected thereby, and the vacuum ultraviolet light can be guided to the outside more efficiently. Further, since the cylindrical plate-shaped internal electrode 500 is provided in close contact with the inner cylindrical tube 104b of the excimer lamp, it is possible to prevent micro-discharge that may occur when a high voltage is applied between the electrodes.

【0047】図6は、本発明に係る紫外光照射装置の他
の実施形態を示している。本実施形態に係る紫外光照射
装置600は、先の実施形態における紫外光照射装置の
エキシマランプ104内に、更に、窒素ガス噴出パイプ
602を備えて構成されるものである。本実施形態にお
いて先の実施形態と同じ構成部分には、同じ符号を用い
その説明を省略する。
FIG. 6 shows another embodiment of the ultraviolet light irradiation apparatus according to the present invention. The ultraviolet light irradiation device 600 according to the present embodiment is configured to further include a nitrogen gas ejection pipe 602 in the excimer lamp 104 of the ultraviolet light irradiation device in the previous embodiment. In the present embodiment, the same components as those in the previous embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

【0048】窒素ガス噴出パイプ602は、図に示すよ
うに、エキシマランプ104の中心、すなわち内筒管1
04b内に、その軸線に沿って設置される。窒素ガス噴
出パイプ602には、その周面略全域に渡って、窒素ガ
スの噴出口602aが開口される。窒素ガス噴出パイプ
602の一端は、前記窒素ガス供給源116に、マスフ
ローコントローラ114を介して接続されており、ここ
から供給される流量調整された窒素ガス(例えば、流
量:3〜5L/min)は、窒素ガス噴出パイプ602
の各噴出口602aから内筒管104b内面に向けて噴
出される。これによって、エキシマランプ104の内部
を効率的に冷却できる。また、内筒管104bの内壁面
には、前述したように内部電極104eが配置されてい
るが、窒素ガスの供給により、内筒管104b内に存在
する酸素を含む空気がこの窒素ガスで置換され、従って
エキシマランプから放射される紫外光によるオゾンの発
生を無くし、オゾンによる内部電極の酸化が防止され
る。好適な実施例において、この窒素ガス噴出パイプ6
02は、外径3mm、内径2mmの片側を封鎖したステ
ンレス製パイプに、直径0.1mmの噴出口602aを
ピッチ3mmでパイプの略全面に開口したものとするこ
とができる。なお、窒素ガス噴出パイプ602は、エキ
シマランプの外側の窒素ガス噴出パイプ112と同様
に、その両端側から窒素ガスを供給できるように、その
両端を開放した構造を有してもよい。
As shown in the figure, the nitrogen gas ejection pipe 602 is located at the center of the excimer lamp 104, that is, the inner cylinder 1
04b is installed along its axis. The nitrogen gas ejection pipe 602 is provided with a nitrogen gas ejection port 602a over substantially the entire peripheral surface thereof. One end of the nitrogen gas ejection pipe 602 is connected to the nitrogen gas supply source 116 via the mass flow controller 114, and the flow rate of the supplied nitrogen gas (for example, 3 to 5 L / min) is supplied thereto. Is a nitrogen gas ejection pipe 602
Are ejected toward the inner surface of the inner tube 104b from the respective ejection ports 602a. Thereby, the inside of the excimer lamp 104 can be efficiently cooled. Although the inner electrode 104e is disposed on the inner wall surface of the inner tube 104b as described above, the supply of nitrogen gas replaces the oxygen-containing air present in the inner tube 104b with the nitrogen gas. Therefore, generation of ozone due to ultraviolet light emitted from the excimer lamp is eliminated, and oxidation of the internal electrodes due to ozone is prevented. In a preferred embodiment, this nitrogen gas ejection pipe 6
Reference numeral 02 denotes a stainless steel pipe having an outer diameter of 3 mm and an inner diameter of 2 mm, which is closed on one side, and a jet port 602 a having a diameter of 0.1 mm is opened at a pitch of 3 mm over substantially the entire surface of the pipe. Note that, similarly to the nitrogen gas ejection pipe 112 outside the excimer lamp, the nitrogen gas ejection pipe 602 may have a structure in which both ends are opened so that nitrogen gas can be supplied from both ends.

【0049】以上、本発明の一実施形態を図面に沿って
説明した。しかしながら本発明は前記実施形態に示した
事項に限定されず、特許請求の範囲の記載に基いてその
変更、改良等が可能であることは明らかである。前記各
実施形態においては、エキシマランプを外部に対し密閉
する構成を採っていないが、必要であれば、エキシマラ
ンプその他の構成部品を、密閉容器又はランプハウス内
に収容するように構成しても良い。
The embodiment of the present invention has been described with reference to the drawings. However, it is apparent that the present invention is not limited to the matters described in the above embodiments, and that changes, improvements, and the like can be made based on the description in the claims. In each of the above embodiments, the excimer lamp is not sealed off from the outside, but if necessary, the excimer lamp or other components may be housed in a sealed container or a lamp house. good.

【0050】また、本発明の実施に際し、エキシマラン
プは、ランプ支承ブロックに対し、固定バンドを用いた
方法以外の方法、例えば、エキシマランプの両端をラン
プ支承ブロックに固定したキャップ状の受け部内に嵌合
するなど、により固定することができる。また、窒素ガ
ス噴出パイプは、エキシマランプからの紫外光が被照射
物に到達することを妨げない位置に設置されればよく、
前記実施形態の配置に限定されない。
In practicing the present invention, the excimer lamp is mounted on the lamp support block by a method other than the method using a fixed band, for example, by placing the excimer lamp in a cap-shaped receiving portion in which both ends of the excimer lamp are fixed to the lamp support block. It can be fixed by fitting or the like. Also, the nitrogen gas ejection pipe may be installed at a position that does not prevent the ultraviolet light from the excimer lamp from reaching the irradiation object,
It is not limited to the arrangement of the above embodiment.

【0051】[0051]

【発明の効果】以上の如く本発明によれば、気密性の高
いランプハウス等を用いることなく、エキシマランプの
外部電極その他の構成部品のオゾンによる酸化を防止す
ることができると共に、エキシマランプを極めて効率的
に冷却することができる。本発明に基づいて構成される
紫外光照射装置は、装置構成が比較的簡単なので、安価
に製造できる。
As described above, according to the present invention, the oxidation of the external electrodes and other components of the excimer lamp by ozone can be prevented without using a highly airtight lamp house or the like. It can be cooled very efficiently. The ultraviolet light irradiation device configured based on the present invention can be manufactured at low cost because the device configuration is relatively simple.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係る紫外光照射装置の正
面方向における断面図である。
FIG. 1 is a sectional view in the front direction of an ultraviolet light irradiation device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の紫外光照射装置の一部を破断して示す側
面図である。
FIG. 2 is a side view showing a part of the ultraviolet light irradiation device of FIG.

【図3】窒素ガス噴出パイプの一例を示す断面及び側面
図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view and a side view showing an example of a nitrogen gas ejection pipe.

【図4】板状の外部電極を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing a plate-like external electrode.

【図5】円筒板状の内部電極を示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing a cylindrical plate-like internal electrode.

【図6】本発明に係る紫外光照射装置の他の実施形態を
示す正面方向における断面図である。
FIG. 6 is a front sectional view showing another embodiment of the ultraviolet light irradiation device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 紫外光照射装置 102 ランプ支承ブロック 102a 支承面 104 エキシマランプ 104a 外筒管 104b 内筒管 104c 空間 104d 外部電極 104e 内部電極 106 紫外光透過ガラス 108 リフレクタ 110 ガラス支持アーム 112 窒素ガス噴出パイプ 112a 噴出口 114 マスフローコントローラ 116 窒素ガス供給源 200 電源 202 固定バンド 400 板状外部電極 500 円筒板状内部電極 500a スリット 600 紫外光照射装置 602 窒素ガス噴出パイプ 602a 噴出口 DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Ultraviolet light irradiation apparatus 102 Lamp support block 102a Bearing surface 104 Excimer lamp 104a Outer tube 104b Inner tube 104c Space 104d Outer electrode 104e Inner electrode 106 Ultraviolet light transmitting glass 108 Reflector 110 Glass support arm 112 Nitrogen gas ejection pipe 112a Spout 114 Mass flow controller 116 Nitrogen gas supply source 200 Power supply 202 Fixed band 400 Plate external electrode 500 Cylindrical plate internal electrode 500a Slit 600 Ultraviolet light irradiation device 602 Nitrogen gas ejection pipe 602a Spout

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // F21V 29/00 H01L 21/302 N ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) // F21V 29/00 H01L 21/302 N

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 内筒管と外筒管の間の空間に封入した放
電用ガスに高電圧を印加して、該外筒管の外に紫外光を
照射する円筒状のエキシマランプと、 前記エキシマランプの上面側を覆うように配置され、該
エキシマランプを支承する支持手段と、 前記エキシマランプの露出した面に向けて不活性ガスを
噴霧し、これによって前記エキシマランプからの紫外光
の照射中に前記露出した面を前記不活性ガスで覆う不活
性ガス噴出手段と、を備えた紫外光照射装置。
1. A cylindrical excimer lamp for applying a high voltage to a discharge gas sealed in a space between an inner tube and an outer tube to irradiate ultraviolet light outside the outer tube; A support means arranged to cover the upper surface side of the excimer lamp, and supporting the excimer lamp; and spraying an inert gas toward an exposed surface of the excimer lamp, thereby irradiating ultraviolet light from the excimer lamp. And an inert gas jetting means for covering the exposed surface with the inert gas.
【請求項2】 前記不活性ガス噴出手段は、 前記エキシマランプの軸方向に沿ってその両側に配置さ
れる一対の不活性ガス噴出パイプであって、各不活性ガ
ス噴出パイプが、その長手方向に沿って1又は複数の前
記不活性ガスの噴出口を備えたものと、 不活性ガスを前記不活性ガス噴出パイプに供給する不活
性ガス供給源と、を備えた請求項1に記載の紫外光照射
装置。
2. The inert gas ejecting means is a pair of inert gas ejecting pipes arranged on both sides of the excimer lamp along an axial direction of the excimer lamp. 2. The ultraviolet according to claim 1, further comprising: one provided with one or a plurality of outlets of the inert gas along the line, and an inert gas supply source for supplying an inert gas to the inert gas ejection pipe. 3. Light irradiation device.
【請求項3】 前記不活性ガス噴出パイプの前記噴出口
の向きが、前記エキシマランプの軸心に向いている請求
項2に記載の紫外光照射装置。
3. The ultraviolet light irradiation apparatus according to claim 2, wherein the direction of the discharge port of the inert gas discharge pipe is directed to the axis of the excimer lamp.
【請求項4】 前記不活性ガス噴出パイプの前記噴出口
の向きが、水平面に対し20度〜60度の範囲にある請
求項2又は3に記載の紫外光照射装置。
4. The ultraviolet light irradiation device according to claim 2, wherein the direction of the jet port of the inert gas jet pipe is in a range of 20 degrees to 60 degrees with respect to a horizontal plane.
【請求項5】 前記支持手段が、前記エキシマランプの
上面側の形状に沿う凹面部を有し、該凹面部内に前記エ
キシマランプの上面側を納めた状態で該エキシマランプ
を支承する請求項1〜4の何れかに記載の紫外光照射装
置。
5. The excimer lamp according to claim 1, wherein the supporting means has a concave portion along the shape of the upper surface of the excimer lamp, and supports the excimer lamp in a state where the upper surface of the excimer lamp is accommodated in the concave surface. 5. The ultraviolet light irradiation device according to any one of items 1 to 4,
【請求項6】 前記支持手段の少なくとも凹面部を含む
領域が金属材料よりなり、該凹面部に前記エキシマラン
プの上面側を略密接させた状態で該エキシマランプを支
承する請求項5に記載の紫外光照射装置。
6. The excimer lamp according to claim 5, wherein a region including at least the concave portion of the support means is made of a metal material, and the excimer lamp is supported in a state where the upper surface side of the excimer lamp is substantially in close contact with the concave portion. Ultraviolet light irradiation device.
【請求項7】 前記支持手段の凹面部が、前記エキシマ
ランプの略上半部を覆う請求項5又は6に記載の紫外光
照射装置。
7. The ultraviolet light irradiation device according to claim 5, wherein the concave portion of the supporting means covers a substantially upper half of the excimer lamp.
【請求項8】 前記エキシマランプの軸方向に沿ってそ
の両側に配置され、前記不活性ガス噴出パイプから噴出
される不活性ガスを前記エキシマランプの露出した面に
導く一対の反射板を更に備えた請求項2〜6の何れかに
記載の紫外光照射装置。
8. The apparatus further comprises a pair of reflectors disposed on both sides of the excimer lamp along an axial direction thereof and guiding an inert gas ejected from the inert gas ejection pipe to an exposed surface of the excimer lamp. The ultraviolet light irradiation device according to claim 2.
【請求項9】 前記反射板が、前記エキシマランプから
照射される紫外光を被照射物に向けて反射させる機能を
有する請求項8に記載の紫外光照射装置。
9. The ultraviolet light irradiation device according to claim 8, wherein the reflection plate has a function of reflecting ultraviolet light emitted from the excimer lamp toward an object to be irradiated.
【請求項10】 前記反射板が前記凹面部の両側におい
て前記支持手段に取り付けられている請求項8又は9に
記載の紫外光照射装置。
10. The ultraviolet light irradiation device according to claim 8, wherein the reflector is attached to the supporting means on both sides of the concave portion.
【請求項11】 前記エキシマランプ及び前記不活性ガ
ス噴出パイプの下方に紫外光透過板を備え、該紫外光透
過板を介して、前記エキシマランプからの紫外光を被照
射物に照射させる請求項2〜10の何れかに記載の紫外
光照射装置。
11. An ultraviolet light transmitting plate below the excimer lamp and the inert gas ejection pipe, and irradiates an object to be irradiated with ultraviolet light from the excimer lamp via the ultraviolet light transmitting plate. The ultraviolet light irradiation device according to any one of 2 to 10.
【請求項12】 前記エキシマランプ、前記反射板及び
前記紫外光透過板によって略囲まれた領域内に、前記不
活性ガス噴出パイプを配置した請求項11に記載の紫外
光照射装置。
12. The ultraviolet light irradiation device according to claim 11, wherein the inert gas ejection pipe is disposed in a region substantially surrounded by the excimer lamp, the reflection plate, and the ultraviolet light transmission plate.
【請求項13】 前記エキシマランプの外筒管の外周面
に設けられる外部電極のうち、前記支持手段の凹面部に
納まる領域を板状にした請求項5〜12の何れかに記載
の紫外光照射装置。
13. The ultraviolet light according to claim 5, wherein a region of the external electrode provided on the outer peripheral surface of the outer cylindrical tube of the excimer lamp, which is accommodated in the concave portion of the support means, has a plate shape. Irradiation device.
【請求項14】 前記エキシマランプの内筒管の内周面
に設けられる内部電極を板状のものにした請求項1〜1
3の何れかに記載の紫外光照射装置。
14. An internal electrode provided on an inner peripheral surface of an inner tube of the excimer lamp has a plate-like shape.
4. The ultraviolet light irradiation device according to any one of 3.
【請求項15】 前記エキシマランプの内筒管の内面に
向けて不活性ガスを噴霧し、これによって前記エキシマ
ランプからの紫外光の照射中に前記内筒管の内面を前記
不活性ガスで覆う第2の不活性ガス噴出手段を更に備え
た請求項1〜14の何れかに記載の紫外光照射装置。
15. An inert gas is sprayed toward the inner surface of the inner tube of the excimer lamp, thereby covering the inner surface of the inner tube with the inert gas during irradiation of ultraviolet light from the excimer lamp. The ultraviolet light irradiation device according to claim 1, further comprising a second inert gas ejection unit.
【請求項16】 前記第2の不活性ガス噴出手段は、前
記エキシマランプの内筒管内に沿って配置され、その周
囲に複数の前記不活性ガスの噴出口を備えた不活性ガス
噴出パイプを有する請求項15に記載の紫外光照射装
置。
16. The inert gas jetting means is arranged along an inner tube of the excimer lamp and has an inert gas jetting pipe having a plurality of the inert gas jetting ports around the second inert gas jetting means. The ultraviolet light irradiation device according to claim 15, comprising:
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