JP2002260954A - Ceramic green body and manufacturing of ceramic electronic component - Google Patents

Ceramic green body and manufacturing of ceramic electronic component

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JP2002260954A
JP2002260954A JP2001057729A JP2001057729A JP2002260954A JP 2002260954 A JP2002260954 A JP 2002260954A JP 2001057729 A JP2001057729 A JP 2001057729A JP 2001057729 A JP2001057729 A JP 2001057729A JP 2002260954 A JP2002260954 A JP 2002260954A
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ceramic
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a ceramic green body such as a green chip where defects cannot be easily generated in structure after burning. SOLUTION: The ceramic green body (42) has a ceramic green sheet (10a) containing a first bonding agent, and a metal film (22) formed in a specific pattern on the surface of the ceramic green sheet via a bonding layer (24) containing a second bonding agent. When thermal decomposition temperature in the first bonding agent is set to T1 deg.C, and that in the second one is set to T2 deg.C, the relation expression of T1-T2<20 is met, and the bonding layer containing the second bonding agent is composed by a compound that is not changed into carbon in the thermal decomposition process.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、セラミックグリー
ン体と、このセラミックグリーン体を用いたセラミック
電子部品の製造方法と、に関する。
The present invention relates to a ceramic green body and a method for manufacturing a ceramic electronic component using the ceramic green body.

【0002】[0002]

【従来の技術】セラミック電子部品の一例としての積層
セラミックコンデンサは、通常、誘電体層用ペーストと
内部電極層用ペーストとを交互に複数積層して得られる
グリーンチップ(焼成前素子本体)を同時焼成して製造
される。
2. Description of the Related Art A multilayer ceramic capacitor as an example of a ceramic electronic component generally includes a green chip (element body before firing) obtained by alternately laminating a plurality of dielectric layer pastes and internal electrode layer pastes. It is manufactured by firing.

【0003】グリーンチップを得る方法としては、キャ
リアフィルム上に誘電体層ペーストを用いてドクターブ
レード法などによりセラミックグリーンシートを形成
し、この上に内部電極層用ペーストを所定パターンで印
刷した後、これらを1層ずつ剥離、積層していく方法
(シート法)が知られている。また、たとえばスクリー
ン印刷法を用いて、キャリアフィルム上に誘電体層用ペ
ーストと内部電極層用ペーストとを交互に複数印刷した
後、キャリアフィルムを剥離する方法(印刷法)も知ら
れている。
As a method for obtaining a green chip, a ceramic green sheet is formed on a carrier film using a dielectric layer paste by a doctor blade method or the like, and an internal electrode layer paste is printed thereon in a predetermined pattern. A method of peeling and laminating these one by one (sheet method) is known. Also known is a method of printing a plurality of dielectric layer pastes and internal electrode layer pastes alternately on a carrier film by using, for example, a screen printing method, and then peeling the carrier film (printing method).

【0004】これらのシート法および印刷法は、いずれ
も内部電極層用ペーストを用いて内部電極パターンを印
刷により形成するものであることから、原料金属粒子の
粒子サイズまたはスクリーンの厚さなどにより内部電極
の薄層化に限界があった。
In each of these sheet methods and printing methods, an internal electrode pattern is formed by printing using a paste for an internal electrode layer. Therefore, the internal method depends on the particle size of raw metal particles or the thickness of a screen. There was a limit to the thickness of the electrode.

【0005】そこで、内部電極層用ペーストを用いず、
代わりにキャリアフィルム上に各種薄膜形成方法により
形成された金属膜を用い、これを内部電極パターンとし
て、セラミックグリーンシートの表面に転写する方法
(転写法)が提案されている。
Therefore, without using the internal electrode layer paste,
Instead, a method (transfer method) of using a metal film formed on a carrier film by various thin film forming methods and transferring it to the surface of a ceramic green sheet as an internal electrode pattern has been proposed.

【0006】その反面、接着性がほとんどない金属膜
を、一般に結合剤の含有量が少ないセラミックグリーン
シートの表面に欠陥なく転写することは困難であること
から、接着層を介して、金属膜をセラミックグリーンシ
ートの表面に形成することとしている。
On the other hand, since it is difficult to transfer a metal film having little adhesiveness to the surface of a ceramic green sheet having a low binder content without defects, it is difficult to transfer a metal film through an adhesive layer. It is formed on the surface of the ceramic green sheet.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】このように、各種方法
により製造されたグリーンチップを焼成して得られる積
層セラミックコンデンサは、セラミックと金属とをセラ
ミックの焼結温度で同時焼成することから、デラミネー
ションやクラックなどの構造欠陥を、コンデンサの内部
に生じることがあった。
As described above, the multilayer ceramic capacitor obtained by firing the green chips manufactured by various methods has the disadvantage that the ceramic and the metal are simultaneously fired at the sintering temperature of the ceramic. In some cases, structural defects such as lamination and cracks were generated inside the capacitor.

【0008】なお、文献:「ニューケラス3、積層セラ
ミックコンデンサ(学献社)」では、焼成前に行われる
脱バインダ処理工程において、セラミックグリーンシー
トに含まれる結合剤(バインダ)が急激に分解されるこ
とにより、コンデンサ内部の構造欠陥を生じることが示
されている(同文献57〜58頁参照)。そして、バイ
ンダの急激な分解を避けるためには、昇温速度をできる
だけ緩やかにすることが有効であることも開示されてい
る。
In the literature: "New Keras 3, Multilayer Ceramic Capacitor (Gakudensha)", the binder (binder) contained in the ceramic green sheet is rapidly decomposed in the binder removal step performed before firing. It is shown that this causes a structural defect inside the capacitor (see pages 57 to 58 of the same document). It is also disclosed that in order to avoid rapid decomposition of the binder, it is effective to make the heating rate as slow as possible.

【0009】本発明の目的は、焼成後に構造欠陥を生じ
るおそれが少ないグリーンチップなどのセラミックグリ
ーン体、およびこれを用いた積層セラミックコンデンサ
などのセラミック電子部品の製造方法を提供することで
ある。
It is an object of the present invention to provide a ceramic green body such as a green chip which is less likely to cause structural defects after firing, and a method for manufacturing a ceramic electronic component such as a multilayer ceramic capacitor using the same.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、所定パタ
ーンの金属膜を接着層を介してセラミックグリーンシー
トの表面に転写して得られるセラミックグリーン体を用
いて積層セラミックコンデンサなどのセラミック電子部
品を製造するに際し、セラミックグリーンシートに含ま
れる結合剤と、セラミックグリーンシートと金属膜との
間に介在された接着層に含まれる結合剤とを特定の樹脂
で構成することにより、電子部品内部の構造欠陥を少な
くできることを見出した。
Means for Solving the Problems The present inventors use a ceramic green body obtained by transferring a metal film of a predetermined pattern onto the surface of a ceramic green sheet via an adhesive layer to obtain a ceramic electronic device such as a multilayer ceramic capacitor. When manufacturing a component, the binder contained in the ceramic green sheet and the binder contained in the adhesive layer interposed between the ceramic green sheet and the metal film are made of a specific resin, so that the inside of the electronic component is Has been found to be able to reduce structural defects.

【0011】すなわち、本発明に係るセラミックグリー
ン体は、第1結合剤を含むセラミックグリーンシート
と、前記セラミックグリーンシートの表面に、第2結合
剤を含む接着層を介して所定パターンで形成された金属
膜とを有し、前記各結合剤の熱分解温度を、第1結合
剤:T1℃、第2結合剤:T2℃とした場合に、T1−
T2<20の関係式を満足し、前記第2結合剤を含む接
着層が、熱分解過程でカーボンとならない化合物で構成
してあることを特徴とする。
That is, the ceramic green body according to the present invention is formed in a predetermined pattern on a ceramic green sheet containing a first binder and an adhesive layer containing a second binder on the surface of the ceramic green sheet. When the first binder is T1 ° C. and the second binder is T2 ° C., the thermal decomposition temperature of each binder is T1-T1.
The adhesive layer containing the second binder, which satisfies the relational expression of T2 <20, is made of a compound that does not become carbon in the thermal decomposition process.

【0012】本発明に係るセラミック電子部品の製造方
法は、第1結合剤を含むセラミックグリーンシートの表
面に、第2結合剤を含む接着層を介して所定パターンで
金属膜が形成され、前記各結合剤の熱分解温度を、第1
結合剤:T1℃、第2結合剤:T2℃とした場合に、T
1−T2<20の関係式を満足し、前記第2結合剤を含
む接着層が、熱分解過程でカーボンとならない化合物で
構成されるセラミックグリーン体を有する焼成前素子本
体を脱バインダ処理する工程と、前記脱バインダ後の焼
成前素子本体を焼成する工程とを有する。
In the method for manufacturing a ceramic electronic component according to the present invention, a metal film is formed in a predetermined pattern on a surface of a ceramic green sheet containing a first binder via an adhesive layer containing a second binder. The thermal decomposition temperature of the binder is
When the binder is T1 ° C. and the second binder is T2 ° C., T
A step of performing a binder removal process on a pre-fired element body having a ceramic green body that satisfies the relational expression of 1-T2 <20 and in which the adhesive layer containing the second binder is formed of a compound that does not become carbon in a thermal decomposition process. And firing the element body before firing after the binder removal.

【0013】本明細書において、熱分解温度(T1,T
2)とは、熱重量分析(TG)を用い、大気中雰囲気に
おいて、昇温速度10℃/分にて600℃まで第2結合
剤成分を加熱していき、重量が、初期重量100から0
(ゼロ)になった時点での温度を意味する。熱分解過程
でカーボンとならない化合物としては、その構造中に、
(−C=C−)や(−C≡C−)の不飽和結合を多く含
む高分子量の有機化合物や、芳香族系以外の有機化合物
が挙げられる。
In this specification, the thermal decomposition temperatures (T1, T
2) means that, using thermogravimetric analysis (TG), the second binder component is heated to 600 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min in the atmosphere of the atmosphere, and the weight is reduced from the initial weight of 100 to 0%.
It means the temperature at the time when it becomes (zero). Compounds that do not become carbon during the pyrolysis process include
Examples include a high molecular weight organic compound containing a large amount of unsaturated bonds (-C = C-) and (-C−C-), and an organic compound other than an aromatic compound.

【0014】前記焼成前素子本体は、前記セラミックグ
リーン体を有していればよく、前記セラミックグリーン
体の単層で構成してあってもよいし、あるいは前記セラ
ミックグリーン体を、他のセラミックグリーン体および
/または他のセラミックグリーンシートとともに積層し
て得られる積層体で構成してあってもよい。積層セラミ
ックコンデンサなどの積層セラミック電子部品を製造す
る場合には、前記焼成前素子本体は、前記積層体で構成
される。
The element body before firing only needs to have the ceramic green body, and may be constituted by a single layer of the ceramic green body. Alternatively, the ceramic green body may be formed of another ceramic green body. It may be constituted by a laminate obtained by laminating together with a body and / or other ceramic green sheets. When a multilayer ceramic electronic component such as a multilayer ceramic capacitor is manufactured, the element body before firing is formed of the multilayer body.

【0015】好ましくは、前記脱バインダ処理を、5〜
300℃/時間の昇温速度、150〜400℃の保持温
度、および0.5〜24時間の保持時間で行う。
Preferably, the binder removal treatment is performed in a
The heating is performed at a heating rate of 300 ° C./hour, a holding temperature of 150 to 400 ° C., and a holding time of 0.5 to 24 hours.

【0016】好ましくは、前記脱バインダ処理前に、前
記焼成前素子本体を切断する工程をさらに有する。
Preferably, the method further comprises a step of cutting the element body before firing before the binder removal processing.

【0017】好ましくは、前記金属膜が、前記セラミッ
クグリーンシートの表面に50g以上の接着力で形成し
てある。
[0017] Preferably, the metal film is formed on the surface of the ceramic green sheet with an adhesive force of 50 g or more.

【0018】本明細書において、金属膜の接着力は、リ
ード線(φ1.2mm)を金属膜の表面に瞬間接着剤を
用いて接着させ、当該リード線を引張試験機(商品名:
MODEL1311D、AIKOH ENGINEER
ING社製)につなぎ、金属膜の部分のみを引張速度:
2mm/分で引っ張る過程で、金属膜がセラミックグリ
ーンシートから剥がれる際の負荷荷重を意味する。
In this specification, the adhesive force of the metal film is determined by bonding a lead wire (φ1.2 mm) to the surface of the metal film using an instant adhesive, and attaching the lead wire to a tensile tester (trade name:
MODEL1311D, AIKOH ENGINEER
ING Co., Ltd.) and only the metal film portion has a pulling speed of:
It means a load applied when the metal film is peeled off from the ceramic green sheet in the process of being pulled at 2 mm / min.

【0019】好ましくは、前記接着層における第2結合
剤の含有量が50〜100重量%である。
Preferably, the content of the second binder in the adhesive layer is 50 to 100% by weight.

【0020】好ましくは、前記接着層の厚みが0.1〜
10μmである。
Preferably, the thickness of the adhesive layer is 0.1 to
10 μm.

【0021】好ましくは、前記セラミックグリーンシー
トにおける第1結合剤の含有量が1〜25重量%であ
る。
[0021] Preferably, the content of the first binder in the ceramic green sheet is 1 to 25% by weight.

【0022】好ましくは、前記金属膜が卑金属を含む。Preferably, the metal film contains a base metal.

【0023】なお、本発明に係るセラミックグリーン体
は、たとえば、基体の表面に所定パターンで金属膜が形
成され、前記金属膜の表面に第2結合剤を含む接着層が
形成されている金属膜転写用部材の接着層側を、第1結
合剤を含むセラミックグリーンシートに接触させる工程
と、前記セラミックグリーンシートから前記基体を引き
離し、前記セラミックグリーンシートの表面に前記接着
層を介して前記所定パターンの金属膜を転写する工程と
を有する製造方法により製造することができる。
The ceramic green body according to the present invention is, for example, a metal film in which a metal film is formed in a predetermined pattern on the surface of a substrate, and an adhesive layer containing a second binder is formed on the surface of the metal film. Contacting the adhesive layer side of the transfer member with a ceramic green sheet containing a first binder; separating the substrate from the ceramic green sheet; and forming the predetermined pattern on the surface of the ceramic green sheet via the adhesive layer. And a step of transferring the metal film.

【0024】本発明に係るセラミックグリーン体の製造
に用いることができる金属膜転写用部材は、たとえば、
基体の表面に所定パターンで金属膜を形成する工程と、
前記金属膜の表面に第2結合剤を含む接着層を形成する
工程とを有する製造方法により製造することができる。
The metal film transfer member that can be used for producing the ceramic green body according to the present invention is, for example,
Forming a metal film in a predetermined pattern on the surface of the base,
Forming an adhesive layer containing a second binder on the surface of the metal film.

【0025】前記接着層の形成方法は、特に限定され
ず、たとえば、電着塗装法や噴霧塗装法、印刷法などの
方法を挙げることができる。ただし、金属膜表面にのみ
形成できる観点からは電着塗装法により形成することが
好ましい。
The method for forming the adhesive layer is not particularly limited, and examples thereof include electrodeposition coating, spray coating, and printing. However, from the viewpoint of being able to form only on the surface of the metal film, it is preferable to form by the electrodeposition coating method.

【0026】[0026]

【作用】本発明に係るセラミックグリーン体では、セラ
ミックグリーンシートに含まれる第1結合剤の熱分解温
度(T1)と、接着層に含まれる第2結合剤の熱分解温
度(T2)とを特定の関係式を満足するように選択し、
しかも第2結合剤を含む接着層が熱分解過程でカーボン
とならない化合物で構成してある。
In the ceramic green body according to the present invention, the thermal decomposition temperature (T1) of the first binder contained in the ceramic green sheet and the thermal decomposition temperature (T2) of the second binder contained in the adhesive layer are specified. To satisfy the relational expression of
Moreover, the adhesive layer containing the second binder is made of a compound that does not become carbon during the thermal decomposition process.

【0027】このため、このセラミックグリーン体を用
いて脱バインダ処理しても、セラミックスと金属膜との
間でノンラミネーションが発生するおそれは少なく、焼
成後のセラミック電子部品内部にデラミネーションなど
の構造欠陥を生じるおそれは少ない。その結果、本発明
のセラミックグリーン体を用いて製造されたセラミック
電子部品は、電気特性、物理特性および耐久特性などの
種々の特性の低下を引き起こすことはない。
For this reason, even if the ceramic green body is used to remove the binder, non-lamination between the ceramic and the metal film is less likely to occur, and a structure such as delamination is formed inside the fired ceramic electronic component. There is little risk of defects. As a result, the ceramic electronic component manufactured using the ceramic green body of the present invention does not cause deterioration of various characteristics such as electric characteristics, physical characteristics and durability characteristics.

【0028】本発明において、前記金属膜を前記セラミ
ックグリーンシートの表面に50g以上の接着力で形成
することで、金属膜がセラミックグリーンシートの表面
に確実に固定されるので、セラミックグリーン体を積層
する際に金属膜の位置ずれや剥がれを生じるおそれは少
ない。
In the present invention, by forming the metal film on the surface of the ceramic green sheet with an adhesive force of 50 g or more, the metal film is securely fixed to the surface of the ceramic green sheet. In this case, there is little possibility that the metal film is displaced or peeled off.

【0029】従って、金属膜の位置ずれにより生じうる
ショート不良や、金属膜の剥がれにより生じうるノンラ
ミネーションが発生するおそれは少なく、その結果、焼
成後のセラミック電子部品内部の構造欠陥が防止され
る。
Accordingly, there is little risk of short-circuit failure which may occur due to displacement of the metal film and non-lamination which may occur due to peeling of the metal film. As a result, structural defects inside the ceramic electronic component after firing are prevented. .

【0030】セラミック電子部品としては、特に限定さ
れず、たとえば積層セラミックコンデンサ、圧電素子、
チップインダクタ、チップバリスタ、チップサーミス
タ、チップ抵抗、その他の表面実装(SMD)チップ型
電子部品などが挙げられる。
The ceramic electronic component is not particularly limited, and may be, for example, a multilayer ceramic capacitor, a piezoelectric element,
Examples include chip inductors, chip varistors, chip thermistors, chip resistors, and other surface mount (SMD) chip-type electronic components.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】以下、本発明を、図面に示す実施
形態に基づき説明する。図1は本実施形態に係る積層セ
ラミックコンデンサの一部破断断面図、図2は図1の積
層セラミックコンデンサの平面図、図3は図1および図
2に示すコンデンサの製造過程に用いるセラミックグリ
ーン体の斜視図、図4は図3のIV−IV線に沿う断面図、
図5はセラミックグリーン体の製造過程に用いる金属膜
転写用部材の斜視図、図6は図5のVI−VI線に沿う断面
図、図7(A)〜図7(F)はセラミックグリーンシー
トへの金属膜の転写方法の一例を示す工程図、図8
(A)および図8(B)は図1および図2に示すコンデ
ンサの製造過程に用いるセラミックグリーン体の斜視図
である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below based on embodiments shown in the drawings. 1 is a partially cutaway cross-sectional view of the multilayer ceramic capacitor according to the present embodiment, FIG. 2 is a plan view of the multilayer ceramic capacitor of FIG. 1, and FIG. 3 is a ceramic green body used in the process of manufacturing the capacitors shown in FIGS. FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG.
5 is a perspective view of a member for transferring a metal film used in a process of manufacturing a ceramic green body, FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line VI-VI of FIG. 5, and FIGS. 7A to 7F are ceramic green sheets. FIG. 8 is a process chart showing an example of a method for transferring a metal film to a substrate.
(A) and FIG. 8 (B) are perspective views of the ceramic green body used in the process of manufacturing the capacitor shown in FIGS. 1 and 2.

【0032】本実施形態では、セラミック電子部品の一
例としての積層セラミックコンデンサの構成と、前記積
層セラミックコンデンサの製造に用いるセラミックグリ
ーン体の構成およびその製造方法と、前記セラミックグ
リーン体を用いた積層セラミックコンデンサの製造方法
とを、この順で説明することとする。
In this embodiment, the structure of a multilayer ceramic capacitor as an example of a ceramic electronic component, the structure of a ceramic green body used for manufacturing the multilayer ceramic capacitor, a method of manufacturing the same, and a multilayer ceramic capacitor using the ceramic green body The method of manufacturing the capacitor will be described in this order.

【0033】積層セラミックコンデンサ 図1および図2に示すように、本実施形態に係る積層セ
ラミックコンデンサ2は、コンデンサ素体4と、第1端
子電極6と、第2端子電極8とを有する。コンデンサ素
体4は、誘電体層10と、第1内部電極層12と、第2
内部電極層14とを有し、誘電体層10の間に、第1内
部電極層12と第2内部電極層14とが交互に積層して
ある多層構造を持つ。各第1内部電極層12の一端は、
コンデンサ素体4の第1端部4aの外側に形成してある
第1端子電極6の内側に対して電気的に接続してある。
また、各第2内部電極層14の一端は、コンデンサ素体
4の第2端部4bの外側に形成してある第2端子電極8
の内側に対して電気的に接続してある。
[0033] Multilayer Ceramic Capacitor As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the multilayer ceramic capacitor 2 according to the present embodiment has a capacitor element body 4, a first terminal electrode 6, and a second terminal electrode 8. The capacitor body 4 includes a dielectric layer 10, a first internal electrode layer 12,
It has an internal electrode layer 14, and has a multilayer structure in which first internal electrode layers 12 and second internal electrode layers 14 are alternately stacked between dielectric layers 10. One end of each first internal electrode layer 12 is
It is electrically connected to the inside of the first terminal electrode 6 formed outside the first end 4a of the capacitor body 4.
One end of each second internal electrode layer 14 is connected to a second terminal electrode 8 formed outside the second end 4 b of the capacitor body 4.
Is electrically connected to the inside.

【0034】本実施形態では、内部電極層12,14
は、金属膜22(図3〜4参照)をセラミックグリーン
シートに転写して形成され、金属膜22と同じ材質で構
成されるが、その厚みは、焼成による水平方向の収縮分
だけ金属膜22よりも厚くなる。
In this embodiment, the internal electrode layers 12 and 14
Is formed by transferring a metal film 22 (see FIGS. 3 and 4) to a ceramic green sheet, and is made of the same material as the metal film 22, but has a thickness corresponding to the horizontal shrinkage due to firing. Thicker than

【0035】誘電体層10の材質は、特に限定されず、
たとえばチタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム
および/またはチタン酸バリウムなどの誘電体材料で構
成される。各誘電体層10の厚みは、特に限定されない
が、数μm〜数百μmのものが一般的である。
The material of the dielectric layer 10 is not particularly limited.
For example, it is composed of a dielectric material such as calcium titanate, strontium titanate and / or barium titanate. The thickness of each dielectric layer 10 is not particularly limited, but is generally several μm to several hundred μm.

【0036】端子電極6,8の材質も特に限定されない
が、通常、銅や銅合金、ニッケルやニッケル合金などが
用いられるが、銀や銀とパラジウムの合金なども使用す
ることができる。端子電極6および8の厚みも特に限定
されないが、通常10〜50μm程度である。
Although the material of the terminal electrodes 6 and 8 is not particularly limited, copper, a copper alloy, nickel or a nickel alloy is usually used, but silver or an alloy of silver and palladium can also be used. The thickness of the terminal electrodes 6 and 8 is not particularly limited, but is usually about 10 to 50 μm.

【0037】積層セラミックコンデンサ2の形状やサイ
ズは、目的や用途に応じて適宜決定すればよい。積層セ
ラミックコンデンサ2が直方体形状の場合は、通常、縦
(0.6〜5.6mm、好ましくは0.6〜3.2m
m)×横(0.3〜5.0mm、好ましくは0.3〜
1.6mm)×厚み(0.3〜1.9mm、好ましくは
0.3〜1.6mm)程度である。
The shape and size of the multilayer ceramic capacitor 2 may be appropriately determined according to the purpose and application. When the monolithic ceramic capacitor 2 has a rectangular parallelepiped shape, it usually has a vertical length (0.6 to 5.6 mm, preferably 0.6 to 3.2 m).
m) × width (0.3 to 5.0 mm, preferably 0.3 to 5.0 mm)
1.6 mm) x thickness (0.3 to 1.9 mm, preferably 0.3 to 1.6 mm).

【0038】セラミックグリーン体 本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ2の製造に
用いるセラミックグリーン体を説明する。
A ceramic green body used for manufacturing the multilayer ceramic capacitor 2 according to the present embodiment will be described.

【0039】図3および図4に示すように、本実施形態
に係るセラミックグリーン体42は、セラミックグリー
ンシート10aを有する。セラミックグリーンシート1
0aの表面には、接着層24を介して所定パターンの金
属膜22が形成してある。
As shown in FIGS. 3 and 4, the ceramic green body 42 according to the present embodiment has a ceramic green sheet 10a. Ceramic green sheet 1
On the surface of Oa, a metal film 22 having a predetermined pattern is formed via an adhesive layer 24.

【0040】セラミックグリーンシート10aは、第1
結合剤と誘電体材料とを含有する。
The ceramic green sheet 10a is made of the first
It contains a binder and a dielectric material.

【0041】第1結合剤としては、有機溶剤可溶系であ
ってもよいし、あるいは水可溶系もしくは水−アルコー
ル可溶系であってもよい。有機溶剤可溶系の結合剤とし
ては、たとえばエチルセルロース、ポリビニルブチラー
ル、アクリル樹脂などが挙げられる。水可溶系もしくは
水−アルコール可溶系の結合剤としては、たとえばポリ
ビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシエチ
ルセルロース、水溶性アクリル樹脂などが挙げられる。
The first binder may be an organic solvent-soluble system, a water-soluble system or a water-alcohol-soluble system. Examples of the organic solvent-soluble binder include ethyl cellulose, polyvinyl butyral, and acrylic resin. Examples of the water-soluble or water-alcohol-soluble binder include polyvinyl alcohol, methyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, and a water-soluble acrylic resin.

【0042】第1結合剤の熱分解温度をT1(℃)とし
た場合、T1は、好ましくは600℃以下、より好まし
くは500℃以下である。なお、T1の下限は、好まし
くは200℃である。熱分解温度の測定法は、前述した
とおりである。
When the thermal decomposition temperature of the first binder is T1 (° C.), T1 is preferably 600 ° C. or lower, more preferably 500 ° C. or lower. Note that the lower limit of T1 is preferably 200 ° C. The method for measuring the thermal decomposition temperature is as described above.

【0043】第1結合剤のセラミックグリーンシート1
0aに対する含有量は、好ましくは1〜25重量%、よ
り好ましくは5〜12.5重量%である。
Ceramic green sheet 1 of first binder
The content with respect to 0a is preferably 1 to 25% by weight, more preferably 5 to 12.5% by weight.

【0044】誘電体材料としては、複合酸化物や酸化物
となる各種化合物、たとえば炭酸塩、硝酸塩、水酸化
物、有機金属化合物などから適宜選択され、適宜混合し
て用いることができる。
The dielectric material is appropriately selected from composite oxides and various compounds to be oxides, for example, carbonates, nitrates, hydroxides, organometallic compounds, and the like, and can be used by appropriately mixing.

【0045】誘電体材料のセラミックグリーンシート1
0aに対する含有量は、好ましくは70〜99重量%、
より好ましくは80〜95重量%である。
Ceramic green sheet 1 of dielectric material
The content with respect to 0a is preferably 70 to 99% by weight,
More preferably, it is 80 to 95% by weight.

【0046】セラミックグリーンシート10aの厚み
は、好ましくは0.5〜30μm、より好ましくは0.
5〜10μmである。
The thickness of the ceramic green sheet 10a is preferably 0.5 to 30 μm, more preferably 0.5 μm to 30 μm.
5 to 10 μm.

【0047】金属膜22の組成は、特に限定されない
が、Ag、Cu、Pd、Niなどの金属もしくはこれら
の合金が好ましい。金属膜22を電気メッキ、無電解メ
ッキにより形成する場合には、さらにP、B、S、Cな
どの元素が含有してあってもよい。金属膜22の厚さD
1(図4参照)は、好ましくは0.1〜5μm、より好
ましくは0.1〜1.5μm程度である。金属膜22
は、単一の層で構成してあってもよく、あるいは2以上
の組成の異なる複数の層で構成してあってもよい。
The composition of the metal film 22 is not particularly limited, but is preferably a metal such as Ag, Cu, Pd, or Ni, or an alloy thereof. When the metal film 22 is formed by electroplating or electroless plating, elements such as P, B, S, and C may be further contained. Thickness D of metal film 22
1 (see FIG. 4) is preferably about 0.1 to 5 μm, more preferably about 0.1 to 1.5 μm. Metal film 22
May be composed of a single layer, or may be composed of two or more layers having different compositions.

【0048】接着層24は、第2結合剤を含有する。The adhesive layer 24 contains a second binder.

【0049】本発明では、第2結合剤を含む接着層24
は、熱分解過程でカーボンとならない化合物で構成され
る。第2結合剤を含む接着層24が熱分解過程でカーボ
ンとなる化合物で構成されていると、このカーボンによ
って金属膜22とセラミックグリーンシート10aとの
間でノンラミネーションが発生してしまい、その結果、
焼成後にコンデンサ内部の構造欠陥が生じてしまう。
In the present invention, the adhesive layer 24 containing the second binder is used.
Is composed of a compound that does not become carbon during the thermal decomposition process. If the adhesive layer 24 containing the second binder is made of a compound that becomes carbon in the course of thermal decomposition, the carbon causes non-lamination between the metal film 22 and the ceramic green sheet 10a. ,
After firing, a structural defect inside the capacitor occurs.

【0050】熱分解過程でカーボンとならない化合物と
しては、たとえば、その構造中に、(−C=C−)や
(−C≡C−)の不飽和結合を多く含む高分子量の有機
化合物や、芳香族系以外の有機化合物が挙げられる。こ
のような化合物としては、たとえば、エチルセルロー
ス、ポリビニルブチラールなどの有機溶剤可溶系;メチ
ルセルロース、ヒドロキシエチルセルロースなどの水可
溶系もしくは水−アルコール可溶系;が挙げられるが、
本発明の範囲を満たすものであれば特に限定されない。
Examples of the compound that does not become carbon during the thermal decomposition process include, for example, a high molecular weight organic compound containing a large amount of unsaturated bonds (—C = C—) and (—C≡C—) in its structure, Organic compounds other than aromatic compounds are exemplified. Examples of such a compound include organic solvent-soluble systems such as ethyl cellulose and polyvinyl butyral; water-soluble systems or water-alcohol-soluble systems such as methyl cellulose and hydroxyethyl cellulose;
There is no particular limitation as long as it satisfies the scope of the present invention.

【0051】第2結合剤の熱分解温度をT2(℃)とし
た場合、T2は、好ましくは600℃未満、より好まし
くは500℃以下である。なお、T2の下限は、好まし
くは200℃である。熱分解温度の測定法は、前述した
とおりである。
When the thermal decomposition temperature of the second binder is T2 (° C.), T2 is preferably less than 600 ° C., more preferably 500 ° C. or less. Note that the lower limit of T2 is preferably 200 ° C. The method for measuring the thermal decomposition temperature is as described above.

【0052】第2結合剤の接着層24に対する含有量
は、好ましくは50〜100重量%、より好ましくは6
7〜100重量%である。
The content of the second binder in the adhesive layer 24 is preferably 50 to 100% by weight, more preferably 6 to 100% by weight.
7 to 100% by weight.

【0053】接着層24には、可塑剤その他の添加剤が
含有してあってもよい。特に可塑剤を含有させること
で、セラミックグリーンシート10aに対する金属膜2
2の接着力を調整することが可能となる。可塑剤として
は、たとえばフタル酸エステル類、エタノールアミンな
どが挙げられる。添加剤の接着層24に対する含有量
は、好ましくは0〜50重量%程度である。
The adhesive layer 24 may contain a plasticizer and other additives. In particular, by including a plasticizer, the metal film 2 for the ceramic green sheet 10a can be formed.
2 can be adjusted. Examples of the plasticizer include phthalic esters and ethanolamine. The content of the additive in the adhesive layer 24 is preferably about 0 to 50% by weight.

【0054】接着層24は、金属膜22と同等程度に薄
く、かつ均一であることが好ましい。具体的な厚さD2
(図4参照)は、好ましくは0.1〜10μm、より好
ましくは0.1〜1μmである。
The adhesive layer 24 is preferably as thin as the metal film 22 and uniform. Specific thickness D2
(See FIG. 4) is preferably 0.1 to 10 μm, more preferably 0.1 to 1 μm.

【0055】本発明では、上記第1結合剤の熱分解温度
T1と、上記第2結合剤の熱分解温度T2とは、T1−
T2<20の関係式を満足する。このような関係式を満
足することにより、セラミックグリーンシート10aと
金属膜22との間でノンラミネーションが発生せず、焼
成後のコンデンサ内部にデラミネーションなどの構造欠
陥を生じるおそれが少なくなる。
In the present invention, the thermal decomposition temperature T1 of the first binder and the thermal decomposition temperature T2 of the second binder are T1-
The relational expression of T2 <20 is satisfied. By satisfying such a relational expression, non-lamination does not occur between the ceramic green sheet 10a and the metal film 22, and the possibility of causing structural defects such as delamination inside the fired capacitor is reduced.

【0056】本発明では、金属膜22が接着層24を介
してセラミックグリーンシート10aに対し、好ましく
は50g以上、より好ましくは60g以上の接着力で形
成するように、上記第1結合剤および第2結合剤を選択
する。接着力が50g未満であると、金属膜22がセラ
ミックグリーンシートの表面に確実に固定できず、セラ
ミックグリーン体を積層する際に金属膜22の位置ずれ
や剥がれが生じうる。金属膜22の位置ずれによりショ
ート不良を生じるおそれがあり、金属膜22の剥がれに
よりノンラミネーションを生じるおそれがある。
In the present invention, the first binder and the first binder are so formed that the metal film 22 is formed with an adhesive force of preferably 50 g or more, more preferably 60 g or more, to the ceramic green sheet 10 a via the adhesive layer 24. 2 Select binder. If the adhesive force is less than 50 g, the metal film 22 cannot be securely fixed to the surface of the ceramic green sheet, and the metal film 22 may be displaced or peeled off when the ceramic green body is laminated. There is a possibility that short-circuit failure may occur due to the displacement of the metal film 22, and non-lamination may occur due to peeling of the metal film 22.

【0057】セラミックグリーン体の製造方法 本実施形態に係るセラミックグリーン体42の製造方法
の一例を説明する。
A method for manufacturing the ceramic green body An example of a method for manufacturing the ceramic green body 42 according to this embodiment will be described.

【0058】図3および図4に示すセラミックグリーン
体42は、たとえば図5および図6に示す金属膜転写用
部材30と、たとえば図7(E)に示すセラミックグリ
ーンシート10aとを用い、以下のようにして製造でき
る。
The ceramic green body 42 shown in FIGS. 3 and 4 uses, for example, the metal film transfer member 30 shown in FIGS. 5 and 6 and the ceramic green sheet 10a shown in FIG. It can be manufactured as follows.

【0059】図5および図6に示すように、本実施形態
に係る金属膜転写用部材30は、基体20を有する。基
体20の表面には、パターン化された金属膜22が形成
してある。金属膜22の表面には、接着層24が形成し
てある。
As shown in FIGS. 5 and 6, the metal film transfer member 30 according to the present embodiment has a base 20. On the surface of the base 20, a patterned metal film 22 is formed. An adhesive layer 24 is formed on the surface of the metal film 22.

【0060】基体20は、金属板、金属箔などの導電性
基体、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンな
どの絶縁性基体、あるいは実質的に剥離しないように導
電性薄膜を絶縁性基体の表面に形成またはラミネートし
た複合基体のいずれでも良いが、本実施形態では、導電
性基体を採用してあり、背面を絶縁被覆してある。な
お、基体20の表面粗さは、形成する金属膜の厚さと比
較して充分に小さいことが望ましい。基体20の厚み
は、10〜100μm程度とすればよい。
The substrate 20 is a conductive substrate such as a metal plate or a metal foil, an insulating substrate such as polyethylene terephthalate or polypropylene, or a conductive thin film formed or laminated on the surface of the insulating substrate so as not to be substantially peeled off. Although any of composite substrates may be used, a conductive substrate is employed in the present embodiment, and the back surface is insulated and coated. It is desirable that the surface roughness of the base 20 be sufficiently smaller than the thickness of the metal film to be formed. The thickness of the base 20 may be about 10 to 100 μm.

【0061】金属膜22の組成、厚みなどは、上述した
とおりである。接着層24の組成、厚みなども上述した
とおりである。
The composition and thickness of the metal film 22 are as described above. The composition and thickness of the adhesive layer 24 are also as described above.

【0062】本実施形態に係る金属膜転写用部材30
は、たとえば以下の工程を経て製造される。
The metal film transfer member 30 according to the present embodiment
Is manufactured, for example, through the following steps.

【0063】まず、たとえば図7(A)に示すように、
基体20の表面に、所望のパターン形状の開口部62を
有するメッキレジスト層60を形成する。メッキレジス
ト層60の形成方法は、スクリーン印刷法などの印刷法
を用いてもよいが、その他に感光性ドライフィルムを基
体20の表面に貼付して、金属マスクを介して露光した
後に現像するフォトリソグラフ法を用いて形成してもよ
い。メッキレジスト層60の材質は、金属膜22を形成
するのに用いられるメッキ液の種類に応じて適宜選択す
れば良い。メッキレジスト層60の厚さは、1〜30μ
m程度とすれば良い。
First, for example, as shown in FIG.
A plating resist layer 60 having an opening 62 having a desired pattern is formed on the surface of the base 20. The plating resist layer 60 may be formed by a printing method such as a screen printing method. Alternatively, a photosensitive dry film may be attached to the surface of the substrate 20 and then exposed through a metal mask and then developed. It may be formed using a lithographic method. The material of the plating resist layer 60 may be appropriately selected according to the type of plating solution used to form the metal film 22. The thickness of the plating resist layer 60 is 1 to 30 μm.
m.

【0064】次に、図7(B)に示すように、基体20
の表面に形成されたメッキレジスト層60の開口部62
に、電気メッキや無電解メッキなどの湿式成膜法により
金属膜22を形成する。
Next, as shown in FIG.
Opening 62 of plating resist layer 60 formed on the surface of
Next, the metal film 22 is formed by a wet film forming method such as electroplating or electroless plating.

【0065】電気メッキ法により金属膜22を形成する
場合のメッキ浴としては、たとえばニッケル金属膜を製
膜する場合は、硫酸ニッケル、塩化ニッケル、ほう酸を
主成分とするいわゆるワット浴、スルファミン酸ニッケ
ル、臭化ニッケル、ほう酸を主成分とするスルファミン
酸浴が、また、銅金属膜を製膜する場合はピロリン酸
銅、ピロリン酸カリウムを主成分とするいわゆるピロ銅
浴等の広く使われているメッキ浴が使用できる。また、
上記主成分以外に、応力調整剤、界面活性剤、レベリン
グ剤等の添加剤を含んでいても良い。
As a plating bath when the metal film 22 is formed by the electroplating method, for example, when a nickel metal film is formed, a so-called Watt bath containing nickel sulfate, nickel chloride, and boric acid as main components, nickel sulfamate Sulfamic acid baths containing nickel bromide and boric acid as the main components, and copper pyrophosphate and potassium pyrophosphate as the main components when forming copper metal films are widely used. A plating bath can be used. Also,
In addition to the above main components, additives such as a stress adjusting agent, a surfactant, and a leveling agent may be included.

【0066】無電解メッキ法により金属膜22を形成す
る場合のメッキ浴としては、たとえばニッケル合金膜の
場合には、ホスフィン酸ナトリウムを還元剤としたニッ
ケル−リンタイプの浴、水素化ほう素ナトリウム、ジメ
チルアミンボランなどを還元剤としたニッケル−ほう素
タイプの浴などを用いれば良いが、積層セラミック電子
部品の電極として用いる場合には、焼結時のセラミック
との反応を考慮して、P、Bなどの共析量が少ない浴を
選択するのが望ましい。
As the plating bath for forming the metal film 22 by the electroless plating method, for example, in the case of a nickel alloy film, a nickel-phosphorus type bath using sodium phosphinate as a reducing agent, sodium borohydride A nickel-boron type bath using dimethylamine borane or the like as a reducing agent may be used. However, when used as an electrode of a multilayer ceramic electronic component, a reaction with ceramic during sintering is taken into consideration. It is desirable to select a bath having a small amount of eutectoid such as B and B.

【0067】次いで、図7(C)に示すように、基体2
0上に形成された金属膜22の表面に接着層24を積層
する。
Next, as shown in FIG.
The adhesive layer 24 is laminated on the surface of the metal film 22 formed on the substrate 0.

【0068】接着層24を金属膜22の表面に形成する
には、たとえば、金属膜22が表面に形成された基体2
0を、第2結合剤を含有する溶液中に浸漬する。
In order to form the adhesive layer 24 on the surface of the metal film 22, for example, the base 2 on which the metal film 22 is formed
0 is immersed in the solution containing the second binder.

【0069】次いで、図7(D)に示すように、メッキ
レジスト層60を剥離する。その結果、基体20の表面
に所定パターンの金属膜22が形成され、前記金属膜2
2の表面に接着層24が形成された金属膜転写用部材3
0が得られる。
Next, as shown in FIG. 7D, the plating resist layer 60 is peeled off. As a result, a metal film 22 having a predetermined pattern is formed on the surface of the base 20, and the metal film 2 is formed.
2 is a metal film transfer member 3 having an adhesive layer 24 formed on its surface.
0 is obtained.

【0070】図7(E)に示す本実施形態に係るセラミ
ックグリーンシート10aは、たとえば以下の工程を経
て製造される。
The ceramic green sheet 10a according to the present embodiment shown in FIG. 7E is manufactured, for example, through the following steps.

【0071】まず、誘電体ペーストを準備する。誘電体
ペーストは、誘電体材料と有機ビヒクルとを混練して得
られた有機溶剤系ペースト、または水溶性溶剤系ペース
トで構成される。
First, a dielectric paste is prepared. The dielectric paste is composed of an organic solvent-based paste obtained by kneading a dielectric material and an organic vehicle, or a water-soluble solvent-based paste.

【0072】誘電体材料としては、上述したとおりであ
る。有機ビヒクルとは、バインダ(第1結合剤)を有機
溶剤中に溶解したものであり、バインダとしては、上述
したとおりである。有機溶剤としては、特に限定され
ず、テルピネオール、ブチルカルビトール、アセトン、
トルエンなどが挙げられる。また、水溶性溶剤系ペース
トに用いられる水溶性溶剤としては、水に水溶性バイン
ダ、分散剤などを溶解させた溶剤が用いられる。水溶系
バインダ(第1結合剤)としては、上述したとおりであ
る。
The dielectric material is as described above. The organic vehicle is obtained by dissolving a binder (first binder) in an organic solvent, and the binder is as described above. The organic solvent is not particularly limited, terpineol, butyl carbitol, acetone,
Examples include toluene. As the water-soluble solvent used for the water-soluble solvent-based paste, a solvent in which a water-soluble binder, a dispersant, and the like are dissolved in water is used. The aqueous binder (first binder) is as described above.

【0073】上述した誘電体ペーストの有機ビヒクルの
含有量は特に限定されず、通常の含有量、たとえばバイ
ンダ(第1結合剤)は1〜5重量%程度、溶剤は10〜
50重量%程度とすればよい。誘電体ペースト中には、
必要に応じて各種分散剤、可塑剤、ガラスフリット、絶
縁体などから選択される添加物が含有されても良い。
The content of the organic vehicle in the above-mentioned dielectric paste is not particularly limited, and is usually a content, for example, about 1 to 5% by weight of a binder (first binder) and about 10 to 5% by weight of a solvent.
It may be about 50% by weight. In the dielectric paste,
If necessary, additives selected from various dispersants, plasticizers, glass frit, insulators and the like may be contained.

【0074】この誘電体ペーストを用いて、ドクターブ
レード法などにより、図7(E)に示すセラミックグリ
ーンシート10aをキャリアフィルム(図示省略)上に
剥離可能に形成する。
Using this dielectric paste, a ceramic green sheet 10a shown in FIG. 7E is formed on a carrier film (not shown) so as to be peelable by a doctor blade method or the like.

【0075】以下に示す説明では、金属膜転写用部材3
0と、セラミックグリーンシート10aとを用い、図8
(A)に示す第1セラミックグリーン体42aを、直接
転写法にて製造する場合を例示する。
In the following description, the metal film transfer member 3
8 and the ceramic green sheet 10a, FIG.
The case where the first ceramic green body 42a shown in (A) is manufactured by a direct transfer method will be exemplified.

【0076】まず、図7(E)に示すように、キャリア
フィルム(図示省略)上に剥離可能に形成されたセラミ
ックグリーンシート10aの表面に、図5および図6に
示す金属膜転写用部材30の接着層24を接触するよう
に積層させ、両者を、好ましくは30〜150℃、より
好ましくは50〜120℃の温度、および好ましくは
0.01〜10MPa、より好ましくは0.01〜1M
Paの圧力にて加熱加圧する。その結果、接着層24の
作用により、所定パターンの金属膜22は、セラミック
グリーンシート10aの表面に良好に接着する。
First, as shown in FIG. 7E, a metal film transfer member 30 shown in FIGS. 5 and 6 is formed on the surface of a ceramic green sheet 10a formed on a carrier film (not shown) so as to be peelable. Are laminated so as to be in contact with each other, and both are preferably at a temperature of 30 to 150 ° C., more preferably 50 to 120 ° C., and preferably 0.01 to 10 MPa, more preferably 0.01 to 1 M.
Heat and pressurize at a pressure of Pa. As a result, the metal film 22 having the predetermined pattern adheres favorably to the surface of the ceramic green sheet 10a by the action of the adhesive layer 24.

【0077】次いで、図7(F)に示すように、基体2
0を引き剥がすことでセラミックグリーンシート10a
の表面に金属膜22(=12a)が転写され、図8
(A)に示す第1セラミックグリーン体42a、すなわ
ちセラミックグリーンシート10aの表面に第1内部電
極層12(図1参照)となる金属膜のパターン12aが
形成された第1セラミックグリーン体42aが得られ
る。
Next, as shown in FIG.
0 to peel off the ceramic green sheet 10a
The metal film 22 (= 12a) is transferred to the surface of FIG.
A first ceramic green body 42a shown in (A), that is, a first ceramic green body 42a in which a metal film pattern 12a to be the first internal electrode layer 12 (see FIG. 1) is formed on the surface of the ceramic green sheet 10a is obtained. Can be

【0078】図8(B)に示す第2セラミックグリーン
体42b、すなわち別のセラミックグリーンシート10
aの表面に第2内部電極層14(図1参照)となる金属
膜のパターン14aが形成された第2セラミックグリー
ン体42bも、同様にして得ることができる。
The second ceramic green body 42b shown in FIG.
A second ceramic green body 42b in which a metal film pattern 14a to be the second internal electrode layer 14 (see FIG. 1) is formed on the surface of a can be obtained in the same manner.

【0079】積層セラミックコンデンサの製造方法 本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ2の製造方
法の一例を説明する。積層セラミックコンデンサ2は、
図8(A)に示す第1セラミックグリーン体42aと、
図8(B)に示す第2セラミックグリーン体42bとを
用い、以下のようにして製造される。
Method of Manufacturing Multilayer Ceramic Capacitor An example of a method of manufacturing the multilayer ceramic capacitor 2 according to this embodiment will be described. The multilayer ceramic capacitor 2
A first ceramic green body 42a shown in FIG.
It is manufactured as follows using the second ceramic green body 42b shown in FIG.

【0080】まず、第1セラミックグリーン体42aと
第2セラミックグリーン体42bとを、必要に応じて何
らパターンが形成されていないセラミックグリーンシー
ト10aと共に複数枚積層し、切断線16に沿って切断
することでグリーンチップを得る。
First, a plurality of the first ceramic green bodies 42a and the second ceramic green bodies 42b are laminated together with the ceramic green sheets 10a on which no pattern is formed, if necessary, and cut along the cutting lines 16. To get a green chip.

【0081】次に、グリーンチップに対して脱バインダ
処理および焼成処理を行う。
Next, binder removal processing and firing processing are performed on the green chip.

【0082】グリーンチップの脱バインダ処理は、焼成
前に行われるが、特に金属膜(焼成後には内部電極1
2,14になる)にNiやNi合金などの卑金属を含む
場合には、空気雰囲気において、昇温速度を5〜300
℃/時間、より好ましくは10〜100℃/時間、保持
温度を150〜400℃、より好ましくは200〜30
0℃、保持時間を0.5〜24時間、より好ましくは5
〜20時間とする。
The binder removal treatment of the green chip is performed before the firing, and in particular, a metal film (the internal electrode 1 after the firing) is used.
2, 14) contains a base metal such as Ni or a Ni alloy, and in an air atmosphere, the rate of temperature rise is 5 to 300.
° C / hour, more preferably 10 to 100 ° C / hour, and the holding temperature is 150 to 400 ° C, more preferably 200 to 30 ° C.
0 ° C, holding time 0.5 to 24 hours, more preferably 5 to 24 hours.
To 20 hours.

【0083】グリーンチップの焼成雰囲気は、金属膜の
種類に応じて適宜決定すればよいが、NiやNi合金な
どの卑金属を含む場合には、焼成雰囲気の酸素分圧を1
〜10−3Paとすることが好ましい。酸素分圧
が低すぎると金属膜の金属が異常焼結を起こして途切れ
てしまい、酸素分圧が高すぎると金属膜が酸化される傾
向にある。また、焼成時の保持温度は1100〜140
0℃、より好ましくは1200〜1380℃である。こ
の保持温度が低すぎると緻密化が不充分となり、保持温
度が高すぎると金属膜の金属の異常焼結による電極の途
切れまたは内部電極材質の拡散により容量温度特性が悪
化する傾向にある。
The firing atmosphere of the green chip may be appropriately determined according to the type of the metal film. In the case where a base metal such as Ni or a Ni alloy is included, the oxygen partial pressure of the firing atmosphere is reduced by 1%.
0 - 7 is preferably a to 10 -3 Pa. If the oxygen partial pressure is too low, the metal of the metal film will be abnormally sintered and will be interrupted. If the oxygen partial pressure is too high, the metal film will tend to be oxidized. The holding temperature during firing is 1100 to 140
It is 0 degreeC, More preferably, it is 1200-1380 degreeC. If the holding temperature is too low, densification will be insufficient, and if the holding temperature is too high, the electrode will be interrupted due to abnormal sintering of the metal of the metal film or the diffusion of the internal electrode material will tend to deteriorate the capacitance temperature characteristics.

【0084】これ以外の焼成条件としては、昇温速度を
50〜500℃/時間、より好ましくは200〜300
℃/時間、温度保持時間を0.5〜8時間、より好まし
くは1〜3時間、冷却速度を50〜500℃/時間、よ
り好ましくは200〜300℃/時間とし、焼成雰囲気
は還元性雰囲気とすることが望ましく、雰囲気ガスとし
てはたとえば窒素ガスと水素ガスとの混合ガスを加湿し
て用いることが望ましい。
Other firing conditions include a heating rate of 50 to 500 ° C./hour, more preferably 200 to 300 ° C.
° C / hour, the temperature holding time is 0.5-8 hours, more preferably 1-3 hours, the cooling rate is 50-500 ° C / hour, more preferably 200-300 ° C / hour, and the firing atmosphere is a reducing atmosphere. It is desirable to use, for example, a mixed gas of nitrogen gas and hydrogen gas as the atmosphere gas after humidification.

【0085】還元性雰囲気で焼成した場合は、コンデン
サチップの焼結体にアニールを施すことが望ましい。上
述した脱バインダ処理、焼成およびアニール工程におい
て、窒素ガスや混合ガスを加湿するためには、たとえば
ウェッターなどを用いることができる。この場合の水温
は5〜75℃とすることが望ましい。
When firing in a reducing atmosphere, it is desirable to anneal the sintered body of the capacitor chip. In the above-described binder removal processing, firing and annealing steps, for example, a wetter or the like can be used to humidify the nitrogen gas or the mixed gas. The water temperature in this case is desirably 5 to 75 ° C.

【0086】以上のようにして、図1および図2に示す
コンデンサ素体4が得られる。この得られたコンデンサ
素体4の両端部に、端子電極6および8を形成すれば、
積層セラミックコンデンサ2が得られる。
As described above, the capacitor body 4 shown in FIGS. 1 and 2 is obtained. By forming terminal electrodes 6 and 8 at both ends of the obtained capacitor body 4,
The multilayer ceramic capacitor 2 is obtained.

【0087】本実施形態に係るセラミックグリーン体4
2では、セラミックグリーンシート10aに含まれる第
1結合剤の熱分解温度(T1)と、接着層24に含まれ
る第2結合剤の熱分解温度(T2)とを特定の関係式を
満足するように選択し、しかも第2結合剤を含む接着層
24を、熱分解過程でカーボンとならない化合物で構成
してある。
The ceramic green body 4 according to the present embodiment
In No. 2, the thermal decomposition temperature (T1) of the first binder included in the ceramic green sheet 10a and the thermal decomposition temperature (T2) of the second binder included in the adhesive layer 24 satisfy a specific relational expression. And the adhesive layer 24 containing the second binder is made of a compound that does not become carbon during the thermal decomposition process.

【0088】このため、このセラミックグリーン体42
を用いて脱バインダ処理しても、セラミックスと金属膜
との間でノンラミネーションが発生するおそれは少な
く、焼成後の積層セラミックコンデンサ2の内部にデラ
ミネーションなどの構造欠陥を生じるおそれは少ない。
その結果、製造される積層セラミックコンデンサ2に、
電気特性、物理特性および耐久特性などの種々の特性の
低下を引き起こすことはない。
Therefore, the ceramic green body 42
Even when the binder is removed by using the method, non-lamination between the ceramic and the metal film is less likely to occur, and structural defects such as delamination are less likely to occur inside the laminated ceramic capacitor 2 after firing.
As a result, the manufactured multilayer ceramic capacitor 2
It does not cause deterioration of various characteristics such as electric characteristics, physical characteristics and durability characteristics.

【0089】さらに、金属膜22をセラミックグリーン
シート10aの表面に、好ましくは50g以上、より好
ましくは60g以上の接着力で形成することで、金属膜
22がセラミックグリーンシート10aの表面に確実に
固定されるので、セラミックグリーン体42を積層する
際に金属膜22の位置ずれや剥がれが生じるおそれは少
ない。
Further, by forming the metal film 22 on the surface of the ceramic green sheet 10a with an adhesive force of preferably 50 g or more, more preferably 60 g or more, the metal film 22 is securely fixed to the surface of the ceramic green sheet 10a. Therefore, when the ceramic green bodies 42 are stacked, the metal film 22 is less likely to be displaced or peeled off.

【0090】従って、金属膜22の位置ずれにより生じ
うるショート不良や、金属膜22の剥がれにより生じう
るノンラミネーションが発生するおそれは少なく、その
結果、焼成後の積層セラミックコンデンサ2の内部の構
造欠陥が防止される。
Therefore, there is little possibility that short-circuit failure which may occur due to displacement of the metal film 22 or non-lamination which may occur due to peeling of the metal film 22 may occur. As a result, structural defects inside the multilayer ceramic capacitor 2 after firing may occur. Is prevented.

【0091】以上、本発明の実施形態について説明して
きたが、本発明はこうした実施形態に何等限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において
種々なる態様で実施し得ることは勿論である。
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to these embodiments at all, and can be implemented in various modes without departing from the gist of the present invention. Of course.

【0092】たとえば、上述した実施形態では、セラミ
ックグリーンシート10aの表面に電極のパターン12
aを形成する方法として直接転写法を採用しているが、
これに限定されず、1種以上の中間媒体を介して間接的
に電極パターン12aを形成する間接転写法を採用して
もよい。電極パターン12aをセラミックグリーンシー
ト10aの表面に直接転写せず、一旦、紙などの高い強
度を持つ中間媒体(図示省略)に転写しておき、これを
用いてセラミックグリーンシート10aの表面に前記電
極パターン12aを転写させる間接転写法を用いること
により、電極パターン12aのより完全な転写が可能と
なる。
For example, in the above-described embodiment, the electrode pattern 12 is formed on the surface of the ceramic green sheet 10a.
Although a direct transfer method is employed as a method for forming a,
The present invention is not limited to this, and an indirect transfer method in which the electrode pattern 12a is formed indirectly via one or more intermediate media may be employed. The electrode pattern 12a is not directly transferred to the surface of the ceramic green sheet 10a, but is temporarily transferred to an intermediate medium (not shown) having a high strength such as paper, and the electrode pattern 12a is used to transfer the electrode pattern By using the indirect transfer method for transferring the pattern 12a, more complete transfer of the electrode pattern 12a becomes possible.

【0093】また、上述した実施形態では、セラミック
電子部品として、積層型のセラミックコンデンサを例示
したが、これに限定する趣旨ではなく、本発明のセラミ
ックグリーン体の単層で製造される単層型のものであっ
てもよい。
Further, in the above-described embodiment, a multilayer ceramic capacitor is exemplified as the ceramic electronic component. However, the present invention is not limited to this, and a single-layer ceramic capacitor manufactured by a single layer of the ceramic green body of the present invention. May be used.

【0094】[0094]

【実施例】以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づ
き説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described based on more detailed examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0095】実施例1 金属膜転写用部材の作製 まず、以下に示すようにして、金属膜転写用部材を作製
した。
Example 1 Production of Metal Film Transfer Member First, a metal film transfer member was produced as described below.

【0096】ステンレス板を基体として準備した。次い
で、この基体の一方の面の全面を絶縁した後、基体の他
方の面にメッキレジストを形成して、開口部を有する所
定形状のパターンを形成した。ステンレス板に対する前
処理として、アルカリ電解脱脂、および塩酸酸洗を行っ
た後、剥離処理液(日本化学産業製、ニッカノンタッ
ク)に1分間浸漬して易剥離化処理を行った。
A stainless plate was prepared as a substrate. Next, after insulating the entire surface of one surface of the substrate, a plating resist was formed on the other surface of the substrate to form a pattern having a predetermined shape having an opening. As a pretreatment for the stainless steel plate, alkaline electrolytic degreasing and hydrochloric acid pickling were performed, and then the plate was immersed in a stripping solution (Nikka Non-Tack, manufactured by Nihon Kagaku Sangyo) for 1 minute to perform an easy stripping process.

【0097】次いで、この所定パターンのメッキレジス
トが片面に形成された基体を、スルファミン酸ニッケル
メッキ浴に浸漬し、メッキレジストの開口部内にニッケ
ルメッキ膜を形成した。ニッケルメッキ膜の厚さを、蛍
光X線膜厚計を用いて測定したところ、平均で0.5μ
mであった。
Next, the substrate on which the plating resist of the predetermined pattern was formed on one surface was immersed in a nickel sulfamate plating bath to form a nickel plating film in the opening of the plating resist. When the thickness of the nickel plating film was measured using a fluorescent X-ray film thickness meter, the average was 0.5 μm.
m.

【0098】なお、スルファミン酸ニッケルメッキ浴の
組成は、スルファミン酸ニッケル:300g/L、臭化
ニッケル:5g/L、ほう酸:30g/L、およびナフ
タリンジスルホン酸ナトリウム(応力減少剤):0.5
g/Lとを含有したものであった。メッキ処理は、温度
50℃、pH4.5、陰極電流密度0.5A/dm
て6分間行った。
The nickel sulfamate plating bath
Composition: nickel sulfamate: 300 g / L, bromide
Nickel: 5 g / L, boric acid: 30 g / L, and naph
Sodium tarin disulfonate (stress reducing agent): 0.5
g / L. Plating process is temperature
50 ° C., pH 4.5, cathode current density 0.5 A / dm2 To
For 6 minutes.

【0099】次いで、この所定パターンのニッケルメッ
キ膜が形成されたステンレス板を、予め固形分濃度が1
%となるように接着層成分をトルエンに溶解しておいた
溶液中に、1秒間浸漬することによって、ニッケルメッ
キ膜の表面に接着層を形成した。接着層の外観は透明
で、全面的に干渉色を呈しており、重量増加量からその
厚さを求めたところ0.6μmであった。接着層の組成
は、第2結合剤としてのアクリル系樹脂A(熱分解温度
T2=400℃):67重量%およびフタル酸エステル
系可塑剤:33重量%で構成してあった。
Next, the stainless steel plate on which the nickel plating film of the predetermined pattern is formed is set in advance to a solid concentration of 1%.
% Was immersed for 1 second in a solution in which the adhesive layer component was dissolved in toluene, so that the adhesive layer was formed on the surface of the nickel plating film. The appearance of the adhesive layer was transparent and exhibited an interference color over the entire surface. The thickness was determined from the increase in weight to be 0.6 μm. The composition of the adhesive layer was composed of an acrylic resin A (pyrolysis temperature T2 = 400 ° C.) as the second binder: 67% by weight and a phthalate ester plasticizer: 33% by weight.

【0100】次いで、メッキレジストのみを除去して金
属膜転写用部材を得た。
Next, only the plating resist was removed to obtain a metal film transfer member.

【0101】セラミックグリーン体の作製 次に、得られた金属膜転写用部材を用い、セラミックグ
リーン体を複数枚作製した。
Preparation of Ceramic Green Body Next, a plurality of ceramic green bodies were prepared using the obtained metal film transfer member.

【0102】得られた金属膜転写用部材の接着層側を、
PETフィルム上に形成された厚さ4μmのセラミック
グリーンシート上に重ね合わせ、50℃−0.01MP
a−1分の加熱加圧処理した後、ステンレス板をセラミ
ックグリーンシートの表面から引き離してセラミックグ
リーン体を得た。
The adhesive layer side of the obtained metal film transfer member was
Overlaid on a 4 μm thick ceramic green sheet formed on a PET film,
After heating and pressing for a-1 minute, the stainless steel plate was separated from the surface of the ceramic green sheet to obtain a ceramic green body.

【0103】なお、セラミックグリーンシートの組成
は、第1結合剤としてのアクリル系樹脂(熱分解温度T
1=410℃):5重量部、チタン酸バリウム:90重
量部、および可塑剤:5重量部を含有するものであっ
た。本実施例では、T1−T2<20の関係式を満足し
ていた。
The composition of the ceramic green sheet is an acrylic resin (the thermal decomposition temperature T) as the first binder.
1 = 410 ° C.): 5 parts by weight, barium titanate: 90 parts by weight, and plasticizer: 5 parts by weight. In the present embodiment, the relational expression of T1−T2 <20 was satisfied.

【0104】そして、セラミックグリーンシート上に
は、金属膜が、転写不良なく良好に転写されていた。セ
ラミックグリーンシートに対するニッケルメッキ膜の接
着力を調べたところ150gと良好であった。ニッケル
メッキ膜の接着力は、リード線(φ1.2mm)をニッ
ケルメッキ膜の表面に瞬間接着剤を用いて接着させ、当
該リード線を引張試験機(商品名:MODEL1311
D、AIKOH ENGINEERING社製)につな
ぎ、ニッケルメッキ膜の部分のみを引張速度:2mm/
分で引っ張る過程で、金属膜がセラミックグリーンシー
トから剥がれる際の負荷荷重とした。
The metal film was satisfactorily transferred onto the ceramic green sheet without transfer failure. When the adhesion of the nickel plating film to the ceramic green sheet was examined, it was as good as 150 g. The adhesive strength of the nickel plating film is determined by bonding a lead wire (φ1.2 mm) to the surface of the nickel plating film using an instant adhesive, and attaching the lead wire to a tensile tester (trade name: MODEL1311).
D, manufactured by AIKOH ENGINEERING Co., Ltd.), and only the nickel-plated film portion is pulled at a speed of 2 mm /
The load applied when the metal film was peeled off from the ceramic green sheet in the process of pulling in minutes.

【0105】なお、第1および第2結合剤の熱分解温度
(T1,T2)は、熱重量分析(TG)を用い、大気中
雰囲気において、昇温速度10℃/分にて600℃まで
前記第1および第2結合剤成分を加熱していき、重量
が、初期重量100から0(ゼロ)になった時点での温
度とした。
The thermal decomposition temperatures (T1, T2) of the first and second binders were determined by thermogravimetric analysis (TG) up to 600 ° C. at a rate of 10 ° C./min. The first and second binder components were heated to a temperature at which the weight became 0 (zero) from the initial weight of 100.

【0106】セラミック焼成体の作製 得られたセラミックグリーン体を10枚積層、圧着して
グリーンチップを得た後、脱バインダ処理と、焼成とを
行って、セラミック焼成体を得た。脱バインダ処理は、
空気雰囲気において、昇温速度:50℃/時間、保持温
度:250℃、保持時間:10時間の条件で行った。ま
た、焼成は、加湿したN+H混合ガス雰囲気に
おいて、昇温速度:300℃/時間、保持温度:125
0℃、保持時間:5時間、冷却速度:300℃/時間の
条件で行った。焼成の際の雰囲気ガスの加湿には、水温
を35℃としたウェッターを用いた。
Preparation of Fired Ceramic Body Ten ceramic green bodies thus obtained were laminated and pressed to obtain a green chip, and then subjected to binder removal treatment and firing to obtain a fired ceramic body. The binder removal process
In an air atmosphere, the temperature was raised at a rate of 50 ° C./hour, the holding temperature was 250 ° C., and the holding time was 10 hours. The firing was performed in a humidified N 2 + H 2 mixed gas atmosphere at a temperature rising rate of 300 ° C./hour and a holding temperature of 125 ° C.
The test was performed under the conditions of 0 ° C., holding time: 5 hours, and cooling rate: 300 ° C./hour. A wetter with a water temperature of 35 ° C. was used for humidifying the atmosphere gas during firing.

【0107】デラミネーションの発生率は0%であっ
た。
The occurrence rate of delamination was 0%.

【0108】デラミネーションの発生率は、100個の
セラミック焼成体の側面を研磨し、光学顕微鏡にて研磨
面全長分を観察した結果、デラミネーションが全く観察
されなかった焼成体の個数を100で除した値である。
The incidence of delamination was determined by polishing the side surfaces of 100 ceramic fired bodies and observing the entire polished surface with an optical microscope. As a result, the number of fired bodies in which no delamination was observed was 100. This is the divided value.

【0109】これらの結果を表1に示す。なお、第2結
合剤を含む接着層の熱分解過程でのカーボンの有無は、
以下の方法により判定した。すなわちカーボンの有無
は、熱重量分析(TG)を用い、大気中雰囲気におい
て、昇温速度10℃/分にて600℃まで前記第2結合
剤を含む接着層成分を加熱していき、冷却後、目視にて
確認した。
Table 1 shows the results. The presence or absence of carbon during the thermal decomposition process of the adhesive layer containing the second binder is determined by
It was determined by the following method. That is, the presence or absence of carbon is determined by using a thermogravimetric analysis (TG) to heat the adhesive layer component containing the second binder up to 600 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min in the air atmosphere, And visually confirmed.

【0110】実施例2 接着層の組成を、第2結合剤としてのアクリル系樹脂A
(熱分解温度T2=400℃):100重量%で構成
し、第1結合剤としてのアクリル系樹脂(熱分解温度T
1=400℃)で構成した以外は、実施例1と同様にし
て、セラミックグリーン体およびセラミック焼成体を得
た。本実施例では、T1−T2<20の関係式を満足し
ていた。
Example 2 The composition of the adhesive layer was changed to the acrylic resin A as the second binder.
(Pyrolysis temperature T2 = 400 ° C.): 100% by weight, acrylic resin as first binder (Pyrolysis temperature T2)
1 = 400 ° C) to obtain a ceramic green body and a ceramic fired body in the same manner as in Example 1. In the present embodiment, the relational expression of T1−T2 <20 was satisfied.

【0111】得られたセラミックグリーン体を用いてニ
ッケルメッキ膜の接着力を調べたところ60gと良好で
あった。デラミネーションの発生率は5%であった。こ
れらの結果を表1に示す。
When the adhesive strength of the nickel plating film was examined using the obtained ceramic green body, it was as good as 60 g. The incidence of delamination was 5%. Table 1 shows the results.

【0112】実施例3 接着層の組成を、第2結合剤としてのアクリル系樹脂B
(熱分解温度T2=460℃):100重量%で構成し
た以外は、実施例2と同様にして、セラミックグリーン
体およびセラミック焼成体を得た。本実施例では、T1
−T2<20の関係式を満足していた。
Example 3 The composition of the adhesive layer was changed to acrylic resin B as the second binder.
(Thermal decomposition temperature T2 = 460 ° C.): A ceramic green body and a ceramic fired body were obtained in the same manner as in Example 2, except that the composition was 100% by weight. In this embodiment, T1
-T2 <20 was satisfied.

【0113】得られたセラミックグリーン体を用いてニ
ッケルメッキ膜の接着力を調べたところ100gと良好
であった。デラミネーションの発生率は5%であった。
これらの結果を表1に示す。
When the adhesion of the nickel plating film was examined using the obtained ceramic green body, it was as good as 100 g. The incidence of delamination was 5%.
Table 1 shows the results.

【0114】実施例4 接着層の組成を、第2結合剤としてのブチラール系樹脂
C(熱分解温度T2=490℃):100重量%で構成
し、第1結合剤としてのアクリル系樹脂(熱分解温度T
1=450℃)で構成した以外は、実施例1と同様にし
て、セラミックグリーン体およびセラミック焼成体を得
た。本実施例では、T1−T2<20の関係式を満足し
ていた。
Example 4 The composition of the adhesive layer was 100% by weight of butyral resin C (pyrolysis temperature T2 = 490 ° C.) as the second binder, and acrylic resin (thermal Decomposition temperature T
1 = 450 ° C.), and a ceramic green body and a ceramic fired body were obtained in the same manner as in Example 1. In the present embodiment, the relational expression of T1−T2 <20 was satisfied.

【0115】得られたセラミックグリーン体を用いてニ
ッケルメッキ膜の接着力を調べたところ100gと良好
であった。デラミネーションの発生率は0%であった。
これらの結果を表1に示す。
When the adhesive strength of the nickel plating film was examined using the obtained ceramic green body, it was as good as 100 g. The incidence of delamination was 0%.
Table 1 shows the results.

【0116】実施例5 接着層の組成を、第2結合剤としてのブチラール系樹脂
C(熱分解温度T2=490℃):67重量%およびフ
タル酸エステル系可塑剤:33重量%で構成し、第1結
合剤としてのアクリル系樹脂(熱分解温度T1=400
℃)で構成した以外は、実施例1と同様にして、セラミ
ックグリーン体およびセラミック焼成体を得た。本実施
例では、T1−T2<20の関係式を満足していた。
Example 5 The composition of the adhesive layer was composed of a butyral resin C (pyrolysis temperature T2 = 490 ° C.) as a second binder: 67% by weight and a phthalate ester plasticizer: 33% by weight. Acrylic resin as first binder (pyrolysis temperature T1 = 400
C), a ceramic green body and a ceramic fired body were obtained in the same manner as in Example 1. In the present embodiment, the relational expression of T1−T2 <20 was satisfied.

【0117】得られたセラミックグリーン体を用いてニ
ッケルメッキ膜の接着力を調べたところ120gと良好
であった。デラミネーションの発生率は0%であった。
これらの結果を表1に示す。
When the adhesive strength of the nickel plating film was examined using the obtained ceramic green body, it was as good as 120 g. The incidence of delamination was 0%.
Table 1 shows the results.

【0118】実施例6 接着層の組成を、第2結合剤としてのブチラール系樹脂
D(熱分解温度T2=480℃):100重量%で構成
し、第1結合剤としてのアクリル系樹脂(熱分解温度T
1=400℃)で構成した以外は、実施例1と同様にし
て、セラミックグリーン体およびセラミック焼成体を得
た。本実施例では、T1−T2<20の関係式を満足し
ていた。
Example 6 The composition of the adhesive layer was 100% by weight of butyral-based resin D (the thermal decomposition temperature T2 = 480 ° C.) as the second binder, and the composition of the acrylic resin (thermal Decomposition temperature T
1 = 400 ° C) to obtain a ceramic green body and a ceramic fired body in the same manner as in Example 1. In the present embodiment, the relational expression of T1−T2 <20 was satisfied.

【0119】得られたセラミックグリーン体を用いてニ
ッケルメッキ膜の接着力を調べたところ50gであっ
た。デラミネーションの発生率は10%であった。これ
らの結果を表1に示す。
When the adhesion of the nickel plating film was examined using the obtained ceramic green body, it was 50 g. The incidence of delamination was 10%. Table 1 shows the results.

【0120】なお、デラミネーションの発生率が10%
となったのは、ニッケルメッキ膜の接着力が50gと若
干低いことにより、セラミックグリーン体を積層する際
に、若干、金属膜の剥がれを生じたものと推定される。
The rate of delamination was 10%.
It is presumed that the metal film was slightly peeled off when the ceramic green bodies were laminated because the adhesion of the nickel plating film was slightly low at 50 g.

【0121】実施例7 接着層の組成を、第2結合剤としてのエチルセルロース
E(熱分解温度T2=420℃):100重量%で構成
し、第1結合剤としてのアクリル系樹脂(熱分解温度T
1=400℃)で構成した以外は、実施例1と同様にし
て、セラミックグリーン体およびセラミック焼成体を得
た。本実施例では、T1−T2<20の関係式を満足し
ていた。
Example 7 The composition of the adhesive layer was composed of 100% by weight of ethylcellulose E as a second binder (thermal decomposition temperature T2 = 420 ° C.) and an acrylic resin as a first binder (thermal decomposition temperature). T
1 = 400 ° C) to obtain a ceramic green body and a ceramic fired body in the same manner as in Example 1. In the present embodiment, the relational expression of T1−T2 <20 was satisfied.

【0122】得られたセラミックグリーン体を用いてニ
ッケルメッキ膜の接着力を調べたところ70gと良好で
あった。デラミネーションの発生率は5%であった。こ
れらの結果を表1に示す。
When the adhesive strength of the nickel plating film was examined using the obtained ceramic green body, it was as good as 70 g. The incidence of delamination was 5%. Table 1 shows the results.

【0123】比較例1 接着層の組成を、第2結合剤としてのアクリル系樹脂F
(熱分解温度T2=380℃):80重量%およびフタ
ル酸エステル系可塑剤:20重量%で構成した以外は、
実施例1と同様にして、セラミックグリーン体およびセ
ラミック焼成体を得た。
Comparative Example 1 The composition of the adhesive layer was changed to an acrylic resin F as a second binder.
(Thermal decomposition temperature T2 = 380 ° C.): 80% by weight and phthalate plasticizer: 20% by weight, except that
In the same manner as in Example 1, a ceramic green body and a ceramic fired body were obtained.

【0124】本例では、T1−T2<20の関係式を満
足していなかった。また、得られたセラミックグリーン
体を用いてニッケルメッキ膜の接着力を調べたところ4
0gであった。デラミネーションの発生率は90%であ
った。これらの結果を表1に示す。
In this example, the relational expression of T1−T2 <20 was not satisfied. The adhesion of the nickel plating film was examined using the obtained ceramic green body.
It was 0 g. The incidence of delamination was 90%. Table 1 shows the results.

【0125】なお、デラミネーションの発生率が90%
と非常に高くなったのは、T1,T2が上記関係式を満
足しなかったことにより、セラミックグリーンシートと
金属膜との間でノンラミネーションが発生し、かつニッ
ケルメッキ膜の接着力が40gと低いことにより、セラ
ミックグリーン体を積層する際に金属膜の剥がれを生じ
たことによる、と推定される。
The delamination rate is 90%.
The reason why T1 and T2 did not satisfy the above relational expression was that non-lamination occurred between the ceramic green sheet and the metal film, and the adhesion of the nickel plating film was 40 g. It is presumed that the metal film was peeled off when the ceramic green body was laminated due to the low value.

【0126】比較例2 接着層の組成を、第2結合剤としてのアクリル系樹脂F
(熱分解温度T2=380℃):67重量%およびフタ
ル酸エステル系可塑剤:33重量%で構成し、第1結合
剤としてのアクリル系樹脂(熱分解温度T1=400
℃)で構成した以外は、実施例1と同様にして、セラミ
ックグリーン体およびセラミック焼成体を得た。
Comparative Example 2 The composition of the adhesive layer was changed to an acrylic resin F as a second binder.
(Thermal decomposition temperature T2 = 380 ° C.): 67% by weight and phthalate plasticizer: 33% by weight, and an acrylic resin as the first binder (Thermal decomposition temperature T1 = 400)
C), a ceramic green body and a ceramic fired body were obtained in the same manner as in Example 1.

【0127】本例では、T1−T2<20の関係式を満
足していなかった。また、得られたセラミックグリーン
体を用いてニッケルメッキ膜の接着力を調べたところ8
0gであった。デラミネーションの発生率は70%であ
った。これらの結果を表1に示す。
In this example, the relational expression of T1-T2 <20 was not satisfied. Further, the adhesion of the nickel plating film was examined using the obtained ceramic green body.
It was 0 g. The rate of delamination was 70%. Table 1 shows the results.

【0128】なお、デラミネーションの発生率が70%
と高くなったのは、T1,T2が上記関係式を満足しな
かったことにより、セラミックグリーンシートと金属膜
との間でノンラミネーションが発生し、その結果、セラ
ミックグリーン体を積層する際に金属膜の剥がれを生じ
たことによる、と推定される。
The delamination rate was 70%.
The reason is that non-lamination occurs between the ceramic green sheet and the metal film because T1 and T2 did not satisfy the above relational expression, and as a result, when laminating the ceramic green body, It is presumed that the film was peeled off.

【0129】比較例3 接着層の組成を、第2結合剤としてのフェノール系樹脂
G(熱分解温度T2=600℃以上):67重量%およ
びフタル酸エステル系可塑剤:33重量%で構成し、第
1結合剤としてのアクリル系樹脂(熱分解温度T1=4
00℃)で構成した以外は、実施例1と同様にして、セ
ラミックグリーン体およびセラミック焼成体を得た。
Comparative Example 3 The composition of the adhesive layer was composed of a phenolic resin G (pyrolysis temperature T2 = 600 ° C. or higher) as a second binder: 67% by weight and a phthalate ester plasticizer: 33% by weight. , An acrylic resin as the first binder (the thermal decomposition temperature T1 = 4
(00 ° C.), and a ceramic green body and a ceramic fired body were obtained in the same manner as in Example 1.

【0130】本例では、T1−T2<20の関係式を満
足していた。また、得られたセラミックグリーン体を用
いてニッケルメッキ膜の接着力を調べたところ120g
であった。また、熱重量分析(TG)を用いて、第2結
合剤を含む接着層についてカーボンの有無を調べたとこ
ろ、目視にて煤状のカーボンが観察された。デラミネー
ションの発生率は95%であった。これらの結果を表1
に示す。
In this example, the relationship of T1−T2 <20 was satisfied. In addition, when the adhesive strength of the nickel plating film was examined using the obtained ceramic green body, 120 g was obtained.
Met. When the presence or absence of carbon was examined in the adhesive layer containing the second binder using thermogravimetric analysis (TG), soot-like carbon was visually observed. The incidence of delamination was 95%. Table 1 shows these results.
Shown in

【0131】なお、デラミネーションの発生率が95%
と非常に高くなったのは、脱バインダ工程から焼成工程
の間で、第2結合剤を含む接着層がカーボンとして残っ
たことによって、セラミック層と金属膜との間にノンラ
ミネーションが発生したことによる、と推定される。
The delamination rate was 95%
The reason for this was that non-lamination occurred between the ceramic layer and the metal film because the adhesive layer containing the second binder remained as carbon between the binder removal step and the firing step. It is estimated that

【0132】比較例4 接着層の組成を、第2結合剤としてのアクリル系樹脂H
(熱分解温度T2=360℃):67重量%およびフタ
ル酸エステル系可塑剤:33重量%で構成し、第1結合
剤としてのアクリル系樹脂(熱分解温度T1=400
℃)で構成した以外は、実施例1と同様にして、セラミ
ックグリーン体およびセラミック焼成体を得た。
Comparative Example 4 The composition of the adhesive layer was changed to an acrylic resin H as a second binder.
(Thermolysis temperature T2 = 360 ° C.): 67% by weight and phthalate plasticizer: 33% by weight, an acrylic resin as the first binder (Thermolysis temperature T1 = 400)
C), a ceramic green body and a ceramic fired body were obtained in the same manner as in Example 1.

【0133】本例では、T1−T2<20の関係式を満
足していなかった。また、得られたセラミックグリーン
体を用いてニッケルメッキ膜の接着力を調べたところ1
00gであった。デラミネーションの発生率は70%で
あった。これらの結果を表1に示す。
In this example, the relational expression of T1-T2 <20 was not satisfied. The adhesion of the nickel plating film was examined using the obtained ceramic green body.
00 g. The rate of delamination was 70%. Table 1 shows the results.

【0134】なお、デラミネーションの発生率が70%
と高くなったのは、T1,T2が上記関係式を満足しな
かったことにより、セラミックグリーンシートと金属膜
との間でノンラミネーションが発生し、その結果、セラ
ミックグリーン体を積層する際に金属膜の剥がれを生じ
たことによる、と推定される。
The rate of occurrence of delamination was 70%.
The reason is that non-lamination occurs between the ceramic green sheet and the metal film because T1 and T2 did not satisfy the above relational expression, and as a result, when laminating the ceramic green body, It is presumed that the film was peeled off.

【0135】比較例5 接着層を介在させず、第1結合剤としてのアクリル系樹
脂(熱分解温度T1=400℃)で構成した以外は、実
施例1と同様にして、セラミックグリーン体およびセラ
ミック焼成体を得た。
Comparative Example 5 A ceramic green body and a ceramic green body were prepared in the same manner as in Example 1 except that an acrylic resin (pyrolysis temperature T1 = 400 ° C.) was used as the first binder without an intervening adhesive layer. A fired body was obtained.

【0136】得られたセラミックグリーン体を用いてニ
ッケルメッキ膜の接着力を調べたところ30gであっ
た。デラミネーションの発生率は95%であった。これ
らの結果を表1に示す。
When the adhesion of the nickel plating film was examined using the obtained ceramic green body, it was 30 g. The incidence of delamination was 95%. Table 1 shows the results.

【0137】なお、デラミネーションの発生率が95%
と非常に高くなったのは、ニッケルメッキ膜の接着力が
30gと低いことにより、セラミックグリーン体を積層
する際に金属膜の剥がれを生じたことによる、と推定さ
れる。
The rate of delamination was 95%
It is highly probable that the metal film peeled off when the ceramic green body was laminated because the adhesive strength of the nickel plating film was as low as 30 g.

【0138】[0138]

【表1】 [Table 1]

【0139】[0139]

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、焼成後に構造欠陥を生じるおそれが少ないグリーン
チップなどのセラミックグリーン体、およびこれを用い
た積層セラミックコンデンサなどのセラミック電子部品
の製造方法を提供できる。
As described above, according to the present invention, a ceramic green body such as a green chip which is less likely to cause a structural defect after firing, and a ceramic electronic component such as a multilayer ceramic capacitor using the same are manufactured. We can provide a method.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 図1は本実施形態に係る積層セラミックコン
デンサの一部破断断面図である。
FIG. 1 is a partially cutaway sectional view of a multilayer ceramic capacitor according to the present embodiment.

【図2】 図2は図1の積層セラミックコンデンサの平
面図である。
FIG. 2 is a plan view of the multilayer ceramic capacitor of FIG.

【図3】 図3は図1および図2に示すコンデンサの製
造過程に用いるセラミックグリーン体の斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view of a ceramic green body used in a process of manufacturing the capacitor shown in FIGS. 1 and 2.

【図4】 図4は図3のIV−IV線に沿う断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along the line IV-IV in FIG.

【図5】 図5はセラミックグリーン体の製造過程に用
いる金属膜転写用部材の斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view of a metal film transfer member used in a process of manufacturing a ceramic green body.

【図6】 図6は図5のVI−VI線に沿う断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along the line VI-VI of FIG.

【図7】 図7(A)〜図7(F)はセラミックグリー
ンシートへの金属膜の転写方法の一例を示す工程図であ
る。
FIGS. 7A to 7F are process diagrams showing an example of a method for transferring a metal film to a ceramic green sheet.

【図8】 図8(A)および図8(B)は図1および図
2に示すコンデンサの製造過程に用いるセラミックグリ
ーン体の斜視図である。
FIGS. 8A and 8B are perspective views of a ceramic green body used in the process of manufacturing the capacitor shown in FIGS. 1 and 2. FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2… 積層セラミックコンデンサ(セラミック電子部
品) 4… コンデンサ素体 6… 第1端子電極 8… 第2端子電極 10… 誘電体層 10a… セラミックグリーンシート 12… 第1内部電極層 12a… パターン 14… 第2内部電極層 14a… パターン 20… 基体 22… 金属膜 24… 接着層 30… 金属膜転写用部材 42… セラミックグリーン体 42a… 第1セラミックグリーン体 42b… 第2セラミックグリーン体 60… メッキレジスト層 62… 開口部
2 multilayer ceramic capacitor (ceramic electronic component) 4 capacitor element 6 first terminal electrode 8 second terminal electrode 10 dielectric layer 10a ceramic green sheet 12 first internal electrode layer 12a pattern 14th 2 Internal electrode layer 14a Pattern 20 Substrate 22 Metal film 24 Adhesive layer 30 Metal film transfer member 42 Ceramic green body 42a First ceramic green body 42b Second ceramic green body 60 Plating resist layer 62 … Aperture

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5E082 AA01 AB03 BC32 BC38 EE04 EE05 EE31 EE35 EE39 FG06 FG26 FG54 LL03 MM24 PP03 PP06 PP09 PP10  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 5E082 AA01 AB03 BC32 BC38 EE04 EE05 EE31 EE35 EE39 FG06 FG26 FG54 LL03 MM24 PP03 PP06 PP09 PP10

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1結合剤を含むセラミックグリーンシ
ートと、 前記セラミックグリーンシートの表面に、第2結合剤を
含む接着層を介して所定パターンで形成された金属膜と
を有し、 前記各結合剤の熱分解温度を、第1結合剤:T1℃、第
2結合剤:T2℃とした場合に、T1−T2<20の関
係式を満足し、 前記第2結合剤を含む接着層が、熱分解過程でカーボン
とならない化合物で構成してあることを特徴とするセラ
ミックグリーン体。
1. A ceramic green sheet including a first binder, and a metal film formed in a predetermined pattern on a surface of the ceramic green sheet via an adhesive layer including a second binder. When the thermal decomposition temperature of the binder is T1 ° C. for the first binder and T2 ° C. for the second binder, the relational expression of T1−T2 <20 is satisfied, and the adhesive layer containing the second binder is A ceramic green body comprising a compound that does not become carbon during the thermal decomposition process.
【請求項2】 前記金属膜が、前記セラミックグリーン
シートの表面に50g以上の接着力で形成してある請求
項1に記載のセラミックグリーン体。
2. The ceramic green body according to claim 1, wherein the metal film is formed on the surface of the ceramic green sheet with an adhesive force of 50 g or more.
【請求項3】 前記接着層における第2結合剤の含有量
が50〜100重量%である請求項1または2に記載の
セラミックグリーン体。
3. The ceramic green body according to claim 1, wherein the content of the second binder in the adhesive layer is 50 to 100% by weight.
【請求項4】 前記接着層の厚みが0.1〜10μmで
ある請求項1〜3のいずれかに記載のセラミックグリー
ン体。
4. The ceramic green body according to claim 1, wherein said adhesive layer has a thickness of 0.1 to 10 μm.
【請求項5】 前記セラミックグリーンシートにおける
第1結合剤の含有量が1〜25重量%である請求項1〜
4のいずれかに記載のセラミックグリーン体。
5. The ceramic green sheet according to claim 1, wherein the content of the first binder is 1 to 25% by weight.
5. The ceramic green body according to any one of 4.
【請求項6】 前記金属膜が卑金属を含む請求項1〜5
のいずれかに記載のセラミックグリーン体。
6. The metal film according to claim 1, wherein said metal film contains a base metal.
The ceramic green body according to any one of the above.
【請求項7】 第1結合剤を含むセラミックグリーンシ
ートの表面に、第2結合剤を含む接着層を介して所定パ
ターンで金属膜が形成され、 前記各結合剤の熱分解温度を、第1結合剤:T1℃、第
2結合剤:T2℃とした場合に、T1−T2<20の関
係式を満足し、 前記第2結合剤を含む接着層が、熱分解過程でカーボン
とならない化合物で構成されるセラミックグリーン体を
有する焼成前素子本体を脱バインダ処理する工程と、 前記脱バインダ後の焼成前素子本体を焼成する工程とを
有するセラミック電子部品の製造方法。
7. A metal film is formed in a predetermined pattern on a surface of a ceramic green sheet containing a first binder via an adhesive layer containing a second binder, and a thermal decomposition temperature of each of the binders is set to a first temperature. When the binder is T1 ° C. and the second binder is T2 ° C., the compound satisfies the relational expression of T1−T2 <20, and the adhesive layer containing the second binder does not become carbon in a thermal decomposition process. A method for producing a ceramic electronic component, comprising: a step of removing a binder from a pre-fired element body having a ceramic green body constituted; and a step of firing the pre-fired element body after the binder removal.
【請求項8】 前記脱バインダ処理を、5〜300℃/
時間の昇温速度、150〜400℃の保持温度、および
0.5〜24時間の保持時間で行うことを特徴とする請
求項7に記載のセラミック電子部品の製造方法。
8. The method according to claim 1, wherein the binder removal treatment is performed at 5 to 300 ° C. /
The method for manufacturing a ceramic electronic component according to claim 7, wherein the heating is performed at a temperature rising rate of time, a holding temperature of 150 to 400 ° C., and a holding time of 0.5 to 24 hours.
【請求項9】 前記脱バインダ処理前に、前記焼成前素
子本体を切断する工程をさらに有する請求項8に記載の
セラミック電子部品の製造方法。
9. The method for manufacturing a ceramic electronic component according to claim 8, further comprising a step of cutting the element body before firing before the binder removal treatment.
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