JP2002260290A - Optical card and its manufacturing method - Google Patents

Optical card and its manufacturing method

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JP2002260290A
JP2002260290A JP2001057884A JP2001057884A JP2002260290A JP 2002260290 A JP2002260290 A JP 2002260290A JP 2001057884 A JP2001057884 A JP 2001057884A JP 2001057884 A JP2001057884 A JP 2001057884A JP 2002260290 A JP2002260290 A JP 2002260290A
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optical card
card
molecular orientation
optical
transparent substrate
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JP2001057884A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideaki Shinozaki
秀明 篠崎
Masahiro Kikuchi
雅博 菊池
Rei Takeuchi
礼 竹内
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Toppan Infomedia Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Magnetic Printing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a highly flexible and easy-to-carry optical card that can suppress variations in reproduced outputs between the cards and minimize warped cards when mass-produced. SOLUTION: This is a rectangular card that has at least a transparent base, a recording layer containing organic pigments, an adhesion layer, and a lining base formed in this order. The transparent base is made of an extruded film, and θ<=20 deg. at least within the recording region of the transparent base when the angle between the length side and the molecular orientation axis is θ(0<=θ<=90 deg.).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は光学的に書き込みお
よび読み取りが可能な光カードと、その製造方法とに関
する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an optical card capable of optically writing and reading, and a method of manufacturing the optical card.

【0002】[0002]

【従来の技術】光記録媒体は、レーザー光を用いた大容
量の記録媒体として注目されている。
2. Description of the Related Art Optical recording media have attracted attention as large-capacity recording media using laser light.

【0003】光記録媒体の形状には、カートリッジ型、
円板型、カード型などがある。この中でカード型は、小
型で財布に収納できるなどの利点があり、携帯性に優れ
ている。光カードは再生専用型、追記型、書き換え型に
分類される。このうち追記型では、金属薄膜や有機色素
膜が記録層に使用され、レーザー照射により記録層にピ
ットが形成される。このピット形成は不可逆であり、記
録情報の書き換えが不可能であることから、追記型媒体
はデータの改竄を防げるという利点がある。
[0003] The optical recording medium has a cartridge type,
There are a disk type and a card type. Among them, the card type has advantages such as small size and can be stored in a wallet, and is excellent in portability. Optical cards are classified into read-only type, write-once type, and rewritable type. In the write-once type, a metal thin film or an organic dye film is used for the recording layer, and pits are formed in the recording layer by laser irradiation. Since the pit formation is irreversible and the recorded information cannot be rewritten, the write-once medium has the advantage of preventing data falsification.

【0004】従来の追記型光カードは、透明基材/記録
層/接着層/裏打ち基材を積層した構造を基本とする。
その製造に際しては、通常、透明基材上に記録層を設
け、一方で裏打ち基材上に接着層を設け、記録層と接着
層が接するように重ねあわせて、熱などによって貼り合
わせる方法が用いられる。透明基材は一般にポリカーボ
ネート(PC)やポリメチルメタクリレート(PMM
A)の射出成形品が使用されており、複屈折が低いこと
を特徴としている。このような光カードは、例えば特開
平11−353717号公報に記載されている。
A conventional write-once optical card has a basic structure in which a transparent substrate / recording layer / adhesive layer / backing substrate are laminated.
In the production, usually, a method is used in which a recording layer is provided on a transparent base material, an adhesive layer is provided on a backing base material, and the recording layer and the adhesive layer are superimposed so as to be in contact with each other and bonded by heat or the like. Can be Transparent substrates are generally made of polycarbonate (PC) or polymethyl methacrylate (PMM
The injection molded product of A) is used and is characterized by low birefringence. Such an optical card is described in, for example, JP-A-11-353717.

【0005】透明基材側と裏打ち基材側とを貼り合わせ
る熱ラミネート工程では、加熱によって光カードに反り
が発生しやすい。ISO/IEC7810のカード規格では、8
5.6mm×53.98mmサイズのカードにおいて、1.
5mm未満のカール量にすることとなっている。通常、接
着層に用いられる樹脂は、カード断面への接着層のはみ
出し防止、埃の付着防止、カードや接着層の保管による
ブロッキング防止のために、常温から50℃程度までの
温度範囲でタック性をもたないことが必要とされる。そ
のため接着層には、50℃以上のガラス転移温度を有す
る樹脂から構成されることが好ましい。このような樹脂
が接着部で十分な密着力を得るためには、熱ラミネート
工程における加熱温度を80℃以上とすることが好まし
い。また、有機色素からなる記録層の熱による劣化、カ
ールの発生、基材の熱変形などを考慮すると、熱ラミネ
ート工程における加熱温度は130℃程度以下とするこ
とが好ましい。
In the heat laminating step of bonding the transparent substrate side and the backing substrate side, the optical card is likely to be warped by heating. According to the card standard of ISO / IEC7810, 8
For a 5.6 mm × 53.98 mm card,
The curl amount is less than 5 mm. Generally, the resin used for the adhesive layer is tacky in the temperature range from room temperature to about 50 ° C to prevent the adhesive layer from sticking out to the cross section of the card, to prevent dust from adhering, and to prevent blocking due to storage of the card and the adhesive layer. Is required. Therefore, the adhesive layer is preferably made of a resin having a glass transition temperature of 50 ° C. or higher. In order for such a resin to obtain sufficient adhesion at the bonding portion, the heating temperature in the heat laminating step is preferably set to 80 ° C. or higher. Further, in consideration of the deterioration of the recording layer made of the organic dye due to heat, the occurrence of curling, the thermal deformation of the substrate, and the like, the heating temperature in the thermal laminating step is preferably about 130 ° C. or less.

【0006】通常、このようなラミネート条件で光カー
ドを作製し、層構成、材料や製造方法を適切に選択する
ことによってカードの反りを制御する方法が、特開平8
−161770号公報および特開2000−23346
6号公報に示されている。
[0006] In general, an optical card is manufactured under such laminating conditions and the warpage of the card is controlled by appropriately selecting a layer structure, a material and a manufacturing method.
-161770 and JP-A-2000-23346
No. 6 discloses this.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上述したように従来の
光カードは、射出成形法により製造された透明基材や裏
打ち基材を使用している。携帯性を特徴とする光カード
における透明基材は、耐薬品性があり、薄くフレキシビ
リティーのあることが望ましい。しかしながらPCやP
MMAは耐溶剤性が低く、かつ射出成形では薄いフィル
ムを製造することが困難である。そのため従来の光カー
ドは、透明基材が厚くなる結果、フレキシビリティーが
低くなり、携帯性が十分ではない。
As described above, a conventional optical card uses a transparent base material or a backing base material manufactured by an injection molding method. It is desirable that the transparent substrate in the optical card characterized by portability has chemical resistance, is thin and has flexibility. However, PC and P
MMA has low solvent resistance, and it is difficult to produce thin films by injection molding. Therefore, in the conventional optical card, the thickness of the transparent substrate is increased, resulting in low flexibility and insufficient portability.

【0008】本発明は上記問題を鑑みてなされたもので
ある。本発明の目的は、フレキシビリティーが高く携帯
性が良好である光カードを提供することにある。また、
本発明の他の目的は、このような光カードを量産した場
合において、光カード間での再生出力ばらつきを抑える
ことにある。また、本発明の他の目的は、このような光
カードの捻れを小さくすることにある。
[0008] The present invention has been made in view of the above problems. An object of the present invention is to provide an optical card having high flexibility and good portability. Also,
It is another object of the present invention to suppress variations in reproduction output between optical cards when such optical cards are mass-produced. Another object of the present invention is to reduce the twist of such an optical card.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的は、下記(1)
〜(7)の本発明により達成される。 (1) 少なくとも透明基材、有機色素を含有する記録
層、接着層、および裏打ち基材をこの順で有する矩形の
光カードであって、透明基材が延伸成形フィルムから構
成され、透明基材において、長辺と分子配向軸とのなす
角度をθ(0≦θ≦90°)としたとき、透明基材の少
なくとも記録対象領域内において、 θ≦20° である光カード。 (2) 裏打ち基材が延伸成形フィルムから構成され、
透明基材の平均分子配向軸と裏打ち基材の平均分子配向
軸とのなす角度が10°以下である上記(1)の光カー
ド。 (3) 裏打ち基材が延伸成形フィルムから構成され、
透明基材の最大熱収縮率と裏打ち基材の最大熱収縮率と
が共に0.5%以下である上記(1)または(2)の光
カード。 (4) 少なくとも透明基材、有機色素を含有する記録
層、接着層、および裏打ち基材をこの順で有する矩形の
光カードを製造する方法であって、透明基材が延伸成形
フィルムから構成されており、光カードの形状に対応す
る矩形の打ち抜きパターンが複数配置された打ち抜き型
を用いて、長尺の原反から複数の光カードを打ち抜くに
際し、打ち抜きパターンの長辺または短辺が放射状に配
置された打ち抜き型を用いる光カードの製造方法。 (5) 少なくとも透明基材、有機色素を含有する記録
層、接着層、および裏打ち基材をこの順で有する矩形の
光カードを製造する方法であって、透明基材が延伸成形
フィルムから構成されており、光カードの形状に対応す
る矩形の打ち抜きパターンが複数配置された打ち抜き型
を用いて、長尺の原反から複数の光カードを打ち抜くに
際し、原反を長手方向と平行な切断面で2分割して2枚
の分割原反を得、各打ち抜きパターンの長辺または短辺
が互いに平行である打ち抜き型により一方の分割原反を
打ち抜くと共に、長手方向を軸として他方の分割原反を
裏返した状態で前記打ち抜き型により打ち抜く光カード
の製造方法。 (6) 透明基材において、長辺と分子配向軸とのなす
角度をθ(0≦θ≦90°)としたとき、すべての光カ
ードにおいて、 θ≦20° となるように原反を打ち抜く上記(4)または(5)の
光カードの製造方法。 (7) 上記(1)の光カードが製造される上記(4)
〜(6)のいずれかの光カードの製造方法。
The above object is achieved by the following (1).
This is achieved by the present invention according to (7). (1) A rectangular optical card having at least a transparent substrate, an organic dye-containing recording layer, an adhesive layer, and a backing substrate in this order, wherein the transparent substrate is composed of a stretch-formed film, In the optical card according to the above, when the angle between the long side and the molecular orientation axis is θ (0 ≦ θ ≦ 90 °), θ ≦ 20 ° at least in the recording target area of the transparent base material. (2) The backing substrate is composed of a stretch-formed film,
The optical card according to the above (1), wherein the angle between the average molecular orientation axis of the transparent substrate and the average molecular orientation axis of the backing substrate is 10 ° or less. (3) The backing substrate is composed of a stretch-formed film,
The optical card according to the above (1) or (2), wherein both the maximum thermal shrinkage of the transparent substrate and the maximum thermal shrinkage of the backing substrate are 0.5% or less. (4) A method for producing a rectangular optical card having at least a transparent substrate, a recording layer containing an organic dye, an adhesive layer, and a backing substrate in this order, wherein the transparent substrate is composed of a stretch-formed film. When punching a plurality of optical cards from a long web using a punching die in which a plurality of rectangular punching patterns corresponding to the shape of the optical card are arranged, the long side or short side of the punching pattern is radial. A method for manufacturing an optical card using the arranged punching die. (5) A method for producing a rectangular optical card having at least a transparent substrate, a recording layer containing an organic dye, an adhesive layer, and a backing substrate in this order, wherein the transparent substrate is composed of a stretch-formed film. When punching a plurality of optical cards from a long raw material using a punching die in which a plurality of rectangular punching patterns corresponding to the shape of the optical card are arranged, the raw material is cut with a cut surface parallel to the longitudinal direction. Two divided raw materials are obtained by dividing into two, and one of the divided raw materials is punched out by a punching die in which the long side or the short side of each punched pattern is parallel to each other. A method for manufacturing an optical card, wherein the optical card is punched out by the punching die in an upside down state. (6) When the angle between the long side and the molecular orientation axis in the transparent substrate is θ (0 ≦ θ ≦ 90 °), the raw material is punched out so that θ ≦ 20 ° in all optical cards. The method for manufacturing an optical card according to the above (4) or (5). (7) The optical card according to (1) above, wherein the optical card is manufactured.
(6) The method for manufacturing an optical card according to any of (6).

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明の発明者らは、薄くかつ十
分な機械的強度を有し、しかも耐溶剤性の良好な樹脂が
使用できるフィルムとして延伸成形フィルムを選択し、
これを透明基材に用いて光カードを作製した。延伸成形
フィルムは、延伸法によりプラスチックフィルムを2次
転移点以上の温度で延伸して分子配向させたフィルムで
あり、射出成形フィルムと比較して機械的強度が高い。
そしてポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエ
チレンナフタレート(PEN)などからなる延伸成形フ
ィルムを使用することで、耐薬品性、耐折強さが強くな
り、携帯性向上に有効である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The inventors of the present invention have selected a stretch-formed film as a film that is thin and has sufficient mechanical strength and can be used with a resin having good solvent resistance.
Using this as a transparent substrate, an optical card was produced. The stretch-formed film is a film in which a plastic film is stretched by a stretching method at a temperature equal to or higher than a secondary transition point and is molecularly oriented, and has a higher mechanical strength than an injection-molded film.
By using a stretch-formed film made of polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), or the like, chemical resistance and bending resistance are enhanced, which is effective for improving portability.

【0011】しかし、延伸成形フィルムから透明基材を
形成した光カードでは、量産した場合に、光カード間で
の再生出力のばらつきが大きくなってしまった。その理
由は以下のように考えられる。
However, in the case of an optical card in which a transparent substrate is formed from a stretch-formed film, when mass-produced, the reproduction output among optical cards has a large variation. The reason is considered as follows.

【0012】まず、光カードの製造工程について説明す
る。前述したように、光カードは透明基材/記録層/接
着層/裏打ち基材を積層した構造を基本とする。ただ
し、透明基材と裏打ち基材とは、あらかじめカード形状
およびカード寸法となるように打ち抜いておくのではな
く、通常、貼り合わせて積層体とした後に、カード形状
に打ち抜く。以下の説明では、打ち抜き前の積層体を原
反という。通常、原反は、長尺状として用いられる。
First, the manufacturing process of the optical card will be described. As described above, the optical card has a basic structure in which a transparent base material / recording layer / adhesive layer / backing base material is laminated. However, the transparent base material and the backing base material are not punched in advance to have a card shape and card dimensions, but are usually punched into a card shape after being laminated to form a laminate. In the following description, the laminate before punching is referred to as a raw material. Usually, the raw material is used in a long shape.

【0013】延伸成形フィルムからなる透明基材では、
延伸方向とほぼ平行に基材分子が配向するため、分子配
向に依存した複屈折を生じる。本明細書では、この分子
配向の方向を分子配向軸の方向という。分子配向軸をも
つ透明基材に直線偏光の再生光が入射した場合、光の偏
波面には基材の分子配向軸に対応した位相差が生じるた
め、戻り光は惰円偏光となる。基材の分子配向軸と光の
偏波面とのなす角度が、再生光の走査領域において変化
しなければ、再生出力は一定に保たれる。
In the case of a transparent substrate made of a stretch-formed film,
Since the base molecules are oriented substantially parallel to the stretching direction, birefringence depending on the molecular orientation occurs. In this specification, the direction of the molecular orientation is referred to as the direction of the molecular orientation axis. When linearly polarized reproduction light is incident on a transparent base material having a molecular orientation axis, a phase difference corresponding to the molecular orientation axis of the base material is generated on the plane of polarization of the light, so that return light becomes circularly polarized light. If the angle formed between the molecular orientation axis of the substrate and the plane of polarization of the light does not change in the reproduction light scanning region, the reproduction output is kept constant.

【0014】しかし、直交する2方向に延伸することに
より製造された2軸延伸成形フィルムからなる透明基材
の分子配向軸の分布を調べると、図2に示すように透明
基材1面内において分子配向軸の方向がばらついてい
た。なお、2軸延伸成形フィルムでは分子配向軸は2方
向に存在するが、図2ではフィルムの長手方向に延びる
分子配向軸だけを表示してある。本発明者らの研究によ
れば、2軸延伸成形フィルムにおいてその長手方向に延
びる分子配向軸の方向は、フィルムの幅方向中央付近で
は延伸方向とほぼ一致するが、フィルム端に近づくにし
たがって延伸方向からのずれが大きくなることがわかっ
た。また、2軸延伸成形フィルムにおいてその幅方向に
延びる分子配向軸の方向は、フィルムの幅方向中央付近
では延伸方向とほぼ一致するが、フィルム端に近づくに
したがって延伸方向からのずれが大きくなることがわか
った。
However, when examining the distribution of molecular orientation axes of a transparent substrate made of a biaxially stretched formed film produced by stretching in two orthogonal directions, as shown in FIG. The direction of the molecular orientation axis was varied. In the biaxially stretched film, the molecular orientation axes exist in two directions, but FIG. 2 shows only the molecular orientation axes extending in the longitudinal direction of the film. According to the study of the present inventors, the direction of the molecular orientation axis extending in the longitudinal direction in a biaxially stretched film almost coincides with the stretching direction near the center in the width direction of the film, but stretches toward the film end. It was found that the deviation from the direction became large. Also, in the biaxially stretched film, the direction of the molecular orientation axis extending in the width direction substantially coincides with the stretching direction near the center in the width direction of the film, but the deviation from the stretching direction becomes larger as approaching the film end. I understood.

【0015】このように分子配向軸がばらついているフ
ィルムをカード状に打ち抜いて透明基材として使用する
と、光カードの記録領域を光ヘッドが走査する際に、走
査方向の各位置において複屈折軸の方向が異なるため、
戻り光の惰円偏光の状態が走査に伴って変動する。戻り
光の偏光状態が変動すると、ビームスプリッター(B
S)を介して検出器に戻る光量が変動するため、再生出
力が変動することになる。ただし、通常、フィルム幅に
比べカード寸法はかなり小さいため、カード内において
分子配向軸はほぼ一定であり、再生変動出力は実質的に
生じない。しかし、図2に示す原反10において、原反
10の中央付近から打ち抜いた光カードと端部付近から
打ち抜いた光カードとでは、再生光の走査方向に対する
透明基材の分子配向軸の方向が異なり、特に原反幅が広
いと分子配向軸の方向が大きく異なるため、打ち抜き位
置の相異なる複数の光カードにおいて、再生出力が異な
ってしまう。なお、この出力変動は、再生光が媒体で反
射する際に偏光状態が変動することによって生じるた
め、直線偏光の再生光に限らず、円偏光や楕円偏光の再
生光においても生じる。
[0015] When a film having a molecular orientation axis that varies as described above is punched into a card shape and used as a transparent base material, when the optical head scans the recording area of the optical card, the birefringence axis at each position in the scanning direction. Because the direction of
The state of the circularly polarized light of the return light changes with scanning. When the polarization state of the return light changes, the beam splitter (B
Since the amount of light returning to the detector via S) fluctuates, the reproduction output fluctuates. However, since the card size is usually much smaller than the film width, the molecular orientation axis is almost constant in the card, and the reproduction fluctuation output does not substantially occur. However, in the blank 10 shown in FIG. 2, the optical card punched from the vicinity of the center of the blank 10 and the optical card punched from the end of the blank 10 have a direction of the molecular orientation axis of the transparent substrate with respect to the scanning direction of the reproduction light. In particular, if the width of the raw material is large, the direction of the molecular orientation axis is largely different, so that a plurality of optical cards having different punching positions have different reproduction outputs. Note that this output fluctuation is caused by a change in the polarization state when the reproduction light is reflected by the medium, and therefore occurs not only in the reproduction light of linear polarization but also in the reproduction light of circular polarization or elliptically polarization.

【0016】ISO/IEC11694-3では、光カードにおいて、
平均反射率の10%以下に反射率変動を抑えなければな
らないと規定されている。したがって、再生出力の変動
が平均再生出力の10%以下であればよい。
According to ISO / IEC11694-3, in an optical card,
It is stipulated that the variation in reflectance must be suppressed to 10% or less of the average reflectance. Therefore, it is sufficient that the fluctuation of the reproduction output is 10% or less of the average reproduction output.

【0017】本発明では、延伸成形フィルム、特に2軸
延伸成形フィルムを透明基材に用いた場合において、十
分に大きな再生出力を確保すると共に再生出力変動を低
減するために、分子配向軸とカード長辺とのなす角度を
θ(0≦θ≦90°)で表したとき、光カードの記録領
域内において、角度θが20°以下となるように、延伸
成形フィルムから透明基材を打ち抜く。本発明の光カー
ドにおける再生出力は、再生光の偏波面(直線偏光の場
合。円偏光の場合はその直線偏光成分の偏波面)と透明
基材の分子配向軸とのなす角度に依存する。そのため、
本発明の光カードの情報再生に際しては、光カードの分
子配向軸が光カード長辺と平行であるとき、すなわちθ
=0°であるときに、最も高い再生出力が得られる偏光
系を備える光ヘッドを用いる。これにより、複屈折に起
因する再生出力変動を、1枚のカード内および複数のカ
ード間において平均再生出力の10%以下に抑えること
が可能となり、かつ、十分に高い再生出力が得られる。
According to the present invention, when a stretch-formed film, particularly a biaxially stretched film is used as a transparent substrate, a sufficiently large reproduction output and a fluctuation in the reproduction output are reduced by using a molecular orientation axis and a card. When the angle with the long side is represented by θ (0 ≦ θ ≦ 90 °), the transparent base material is punched from the stretch-formed film so that the angle θ is 20 ° or less in the recording area of the optical card. The reproduction output of the optical card of the present invention depends on the angle between the plane of polarization of the reproduction light (in the case of linearly polarized light; in the case of circularly polarized light, the plane of polarization of the linearly polarized light component) and the molecular orientation axis of the transparent substrate. for that reason,
In reproducing information from the optical card of the present invention, when the molecular orientation axis of the optical card is parallel to the long side of the optical card, that is, θ
When = 0 °, an optical head having a polarization system that can obtain the highest reproduction output is used. This makes it possible to suppress the reproduction output fluctuation due to birefringence to 10% or less of the average reproduction output within one card and between a plurality of cards, and to obtain a sufficiently high reproduction output.

【0018】なお、2軸延伸成形フィルムにおける分子
配向軸は、2方向に存在するが、本発明では、そのうち
の1方向の分子配向軸において、上記角度θが20°以
下であればよい。
Although the molecular orientation axis in the biaxially stretched formed film exists in two directions, in the present invention, it is sufficient that the angle θ is 20 ° or less in one of the molecular orientation axes.

【0019】透明基材の面内における分子配向軸の分布
は、光学的測定法、例えばエリプソメトリにより測定で
きる。具体的には、透明基材に直線偏光のレーザー光を
入射させ、その反射光または透過光の偏光状態を調べる
ことによって測定できる。この測定によって求まる分子
配向軸の方向は、厳密にいうと、測定に用いるレーザー
光のビームスポット内における平均値であるが、本明細
書ではこれを単に分子配向軸の方向という。このレーザ
ー光のビームスポット径は、光カード再生に用いるレー
ザー光のビームスポット径と同等であることが好まし
い。
The distribution of molecular orientation axes in the plane of the transparent substrate can be measured by an optical measurement method, for example, ellipsometry. Specifically, it can be measured by irradiating a linearly polarized laser beam to the transparent substrate and examining the polarization state of the reflected light or transmitted light. Strictly speaking, the direction of the molecular orientation axis determined by this measurement is an average value in the beam spot of the laser beam used for the measurement. In this specification, this is simply referred to as the direction of the molecular orientation axis. The beam spot diameter of the laser beam is preferably equal to the beam spot diameter of the laser beam used for reproducing the optical card.

【0020】光カードの全厚を薄くして十分なフレキシ
ビリティーを得るためには、透明基材に加え、裏打ち基
材も延伸成形フィルムから構成することが好ましい。し
かし、両基材を延伸成形フィルムから構成した場合、光
カードにカールが発生しやすいことがわかった。延伸成
形フィルムには、分子配向軸に依存して、面内方向にお
いて熱収縮率の分布が存在する。そのため、いずれも延
伸成形フィルムからなる透明基材と裏打ち基材とを熱ラ
ミネートするときに、分子配向軸の方向が両基材間でず
れていると、貼り合わせ後、冷却する際に熱収縮率の分
布に起因する応力が生じ、この応力によって光カードに
ねじれ(ツイスト)が発生し、カールしてしまう。この
カールは、熱ラミネートの際の加熱温度が高いほど大き
くなる。これに対し本発明では、透明基材と裏打ち基材
とを、互いの平均分子配向軸がほぼ揃うように貼り合わ
せることにより、カードのツイストを防止する。両基材
における平均分子配向軸のずれを10°以下とすること
により、光カード4隅の最大カール量を1.5mm未満と
することが可能である。なお、2軸延伸成形フィルムに
おいては、平均分子配向軸が2方向に延びている。した
がって、2軸延伸成形フィルムを使う場合には、2本の
平均分子配向軸のそれぞれについて、透明基材と裏打ち
基材とでずれを10°以下にする必要がある。
In order to reduce the total thickness of the optical card and obtain sufficient flexibility, it is preferable that the backing substrate be formed of a stretched film in addition to the transparent substrate. However, it was found that when both substrates were composed of stretch-formed films, curling was likely to occur in the optical card. The stretched film has a distribution of the heat shrinkage in the in-plane direction depending on the molecular orientation axis. Therefore, when laminating a transparent substrate and a backing substrate, both made of stretch-formed films, if the direction of the molecular orientation axis is shifted between the two substrates, heat shrinkage occurs during cooling after lamination. A stress is generated due to the distribution of the ratio, and the stress causes a twist (twist) in the optical card, thereby curling the optical card. This curl increases as the heating temperature during thermal lamination increases. On the other hand, in the present invention, twisting of the card is prevented by laminating the transparent base material and the backing base material such that their average molecular orientation axes are substantially aligned. The maximum curl amount at the four corners of the optical card can be reduced to less than 1.5 mm by setting the deviation of the average molecular orientation axis of both substrates to 10 ° or less. In the biaxially stretched film, the average molecular orientation axis extends in two directions. Therefore, when using a biaxially stretched film, it is necessary to make the deviation between the transparent substrate and the backing substrate 10 ° or less for each of the two average molecular orientation axes.

【0021】両基材における分子配向軸のずれを求める
に際しては、上記した光学的測定により求めた分子配向
軸の方向は使用せず、音響的測定によって求めた分子配
向軸の方向を使用する。音響的測定では、透明基材また
は裏打ち基材の面内における音波伝搬速度の分布を全方
向において測定することにより、分子配向軸の方向を求
める。したがって、音響的測定は、基材が不透明であっ
ても実施できる。音響的測定では、光学的測定と異な
り、基材面内の各位置における分子配向軸の分布ではな
く、基材面内における分子配向軸の平均的な方向が求ま
る。本明細書では、音響的測定により求めた分子配向軸
を、平均分子配向軸という。なお、音響的測定には、例
えば超音波を利用する測定装置(例えば野村商事株式会
社のスーパーソニックテスタ)を利用することができ
る。
In determining the deviation of the molecular orientation axis between the two substrates, the direction of the molecular orientation axis obtained by the above-described optical measurement is not used, but the direction of the molecular orientation axis obtained by the acoustic measurement is used. In the acoustic measurement, the direction of the molecular orientation axis is determined by measuring the distribution of the sound wave propagation velocity in the plane of the transparent substrate or the backing substrate in all directions. Thus, acoustic measurements can be performed even when the substrate is opaque. In the acoustic measurement, unlike the optical measurement, an average direction of the molecular orientation axis in the substrate surface is obtained instead of the distribution of the molecular orientation axis in each position in the substrate surface. In the present specification, the molecular orientation axis determined by acoustic measurement is referred to as an average molecular orientation axis. In addition, for the acoustic measurement, for example, a measuring device using an ultrasonic wave (for example, a supersonic tester manufactured by Nomura Corporation) can be used.

【0022】両基材を延伸成形フィルムから構成した場
合において光カードのカールを小さくするためには、透
明基材と裏打ち基材とにおいて共に熱収縮率を小さくす
ることが好ましい。透明基材と裏打ち基材とを共に最大
熱収縮率0.5%以下とすれば、光カード4隅の最大カ
ール量を1.5mm未満とすることが可能である。延伸成
形フィルムの熱収縮率を0.5%以下にするためには、
フィルムをあらかじめアニールしておいて貼り合わせれ
ばよい。なお、本発明で限定する熱収縮率は、JIS C231
8-72に規定された熱収縮率である。また、2軸延伸成形
フィルムからなる基材の熱収縮率は、基材をカード状に
打ち抜く前の長尺フィルムの状態において、幅方向と長
手方向とで異なる。そのため本発明では、両方向におい
ていずれも熱収縮率が0.5%以下となるように、すな
わち、最大熱収縮率が0.5%以下となるようにする。
In order to reduce the curl of the optical card when both substrates are formed from stretch-formed films, it is preferable to reduce the heat shrinkage of both the transparent substrate and the backing substrate. If both the transparent base material and the backing base material have a maximum thermal shrinkage of 0.5% or less, the maximum curl amount at the four corners of the optical card can be less than 1.5 mm. In order to reduce the heat shrinkage of the stretched film to 0.5% or less,
The films may be annealed in advance and bonded. The heat shrinkage rate limited in the present invention is JIS C231
This is the heat shrinkage specified in 8-72. In addition, the heat shrinkage of the substrate made of the biaxially stretched molded film differs between the width direction and the longitudinal direction in the state of the long film before the substrate is punched into a card shape. Therefore, in the present invention, the heat shrinkage in both directions is set to 0.5% or less, that is, the maximum heat shrinkage is set to 0.5% or less.

【0023】上記した両基材における平均分子配向軸の
ずれの制御と、両基材における熱収縮率の制御とを共に
行えば、光カードのカールをより小さくすることができ
る。
If the control of the deviation of the average molecular orientation axis in both substrates and the control of the heat shrinkage in both substrates are performed together, the curl of the optical card can be further reduced.

【0024】以下、本発明の光カードの具体的な構成を
図面に基づいて説明する。
Hereinafter, the specific structure of the optical card of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0025】図1に、本発明の光カードの構成例を示
す。この光カードは、透明基材1、有機色素を含有する
記録層2、接着層3、および裏打ち基材4をこの順で有
する。この光カードは、まず、透明基材1上に記録層2
を形成し、次いで、記録層2と裏打ち基材4の間に接着
層3を設けて貼り合わせることにより製造される。
FIG. 1 shows a configuration example of the optical card of the present invention. This optical card has a transparent substrate 1, a recording layer 2 containing an organic dye, an adhesive layer 3, and a backing substrate 4 in this order. This optical card first has a recording layer 2 on a transparent substrate 1.
Is formed, and then an adhesive layer 3 is provided between the recording layer 2 and the backing substrate 4 and bonded to each other.

【0026】透明基材1には延伸成形フィルムが用いら
れる。透明基材構成材料は、記録再生用のレーザー光に
対し高い透過性を示すことが好ましく、また、携帯性な
どの観点からは、耐溶剤性が高く、引張り強さや衝撃性
の強いものが好ましい。具体的には、例えばポリプロピ
レン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリスチレン、
PET、PEN、PCなどが好ましい。延伸成形方法と
しては、一軸延伸や二軸延伸等のいずれであってもよ
い。ただし、機械的強度が高いこと、比較的安価である
こと、耐溶剤性に優れていること、などの点から、PE
TまたはPENの2軸延伸成形フィルムが望ましい。
A stretch-formed film is used for the transparent substrate 1. The transparent base material is preferably a material having high transparency to a laser beam for recording and reproduction, and from the viewpoint of portability and the like, a material having high solvent resistance, high tensile strength and high impact strength is preferable. . Specifically, for example, polypropylene, polyvinyl chloride, polyethylene, polystyrene,
PET, PEN, PC and the like are preferred. The stretching method may be any of uniaxial stretching and biaxial stretching. However, from the viewpoint of high mechanical strength, relatively low cost, excellent solvent resistance, etc., PE
A biaxially stretched T or PEN film is preferred.

【0027】透明基材中には、帯電防止剤やUV吸収剤
などが含まれていてもよい。また、隣接層を密着させる
ためのプライマー層などを積層した、複数層構成のもの
としてもよい。透明基材の厚さは、透明基材の屈折率と
記録再生用レーザービームのスポット径とを考慮して適
宜決定すればよい。ただし、十分なフレキシビリティー
を得るためには厚さを500μm以下とすること好まし
く、一方、十分な機械的強度を得るためには厚さを50
μm以上とすることが好ましい。
The transparent substrate may contain an antistatic agent, a UV absorber and the like. Also, a multilayer structure in which a primer layer or the like for adhering the adjacent layers is laminated may be used. The thickness of the transparent substrate may be appropriately determined in consideration of the refractive index of the transparent substrate and the spot diameter of the recording / reproducing laser beam. However, in order to obtain sufficient flexibility, the thickness is preferably set to 500 μm or less, while, in order to obtain sufficient mechanical strength, the thickness is set to 50 μm.
It is preferably at least μm.

【0028】記録層2が含有する有機色素は、レーザー
光の照射により光熱変換してピットを形成する材料であ
る。用いる有機色素は特に限定されず、例えばトリフェ
ニルメタン系、ポリメチン系、ポルフィン系、インダン
スレン系、キノン系、ジチオール系などのいずれであっ
てもよい。記録層中には、耐光性を向上するためにクエ
ンチャなどを添加してもかまわない。記録層の厚さは、
高S/Nが得られるように、使用する有機色素の光学特
性に応じて適宜決定すればよい。ただし、本発明の光カ
ードはフレキシビリティーをもつので、有機色素の凝集
破壊抑制のために記録層の厚さを100nm以下にするこ
とが望ましい。記録層の形成方法は特に限定されず、例
えば、有機色素を水系、アルコール系、ケトン系、アミ
ン系、エステル系、エーテル系、炭化水素系等の各種溶
剤に溶解し、ロールコート、スピンコート、スプレーコ
ートなどにより塗布する方法が利用でき、また、真空蒸
着法も利用可能である。
The organic dye contained in the recording layer 2 is a material that forms pits by photothermal conversion by irradiation with a laser beam. The organic dye used is not particularly limited, and may be, for example, any of triphenylmethane, polymethine, porphine, indanthrene, quinone, and dithiol. A quencher or the like may be added to the recording layer to improve light resistance. The thickness of the recording layer is
What is necessary is just to determine suitably according to the optical characteristic of the organic dye used so that high S / N may be obtained. However, since the optical card of the present invention has flexibility, the thickness of the recording layer is desirably 100 nm or less in order to suppress cohesion and destruction of the organic dye. The method for forming the recording layer is not particularly limited. For example, an organic dye is dissolved in various solvents such as aqueous, alcohol, ketone, amine, ester, ether, and hydrocarbon solvents, and roll coating, spin coating, A method of applying by a spray coat or the like can be used, and a vacuum evaporation method can also be used.

【0029】接着層3は、記録層2と裏打ち基材4とを
密着させるために設けられる。接着層の構成材料は、耐
光性や耐熱性に問題がなく、記録層の記録再生特性を低
下させないことが望ましく、例えばアクリル系、ポリウ
レタン系、ポリエステル系、エポキシ系などの各種熱可
塑性樹脂が使用できる。接着層に用いる樹脂は、接着層
形成工程、カード製品化工程、カード保管工程における
トラブルを避けるために、室温から50℃程度の範囲で
タック性をもたないことが望ましい。また、80〜13
0℃程度の加熱により、被着面に対し十分な密着力が得
られるものが望ましい。接着層中には、顔料などの各種
添加物を混入させてもよい。接着層の厚さは、十分な密
着力が得られるように適宜決定すればよいが、好ましく
は1〜20μm、より好ましくは3〜20μmとする。接
着層が薄すぎると、十分な密着強度が得られない。一
方、接着層が厚すぎると、接着層の柔軟性が低くなって
光カードを曲げたときに追従できず、その結果、層にク
ラックが生じやすい。接着層は、あらかじめシート状と
したものを使用してもよく、被着面の少なくとも一方に
コーティングしてもよい。コーティング方法としては、
例えばロールコートやスピンコート、カーテンフローコ
ート、スプレーコートなどが使用できる。塗布法に用い
る樹脂は、溶液型、エマルジョン型、ホットメルト型等
のいずれであってもよい。
The adhesive layer 3 is provided for bringing the recording layer 2 and the backing substrate 4 into close contact with each other. It is desirable that the constituent material of the adhesive layer has no problem with light resistance and heat resistance and does not lower the recording / reproducing characteristics of the recording layer. For example, various thermoplastic resins such as acrylic, polyurethane, polyester, and epoxy are used. it can. The resin used for the adhesive layer desirably does not have tackiness in the range of room temperature to about 50 ° C. in order to avoid troubles in the adhesive layer forming step, the card productizing step, and the card storing step. Also, 80 to 13
It is desirable that a material having sufficient adhesion to the adherend surface be obtained by heating at about 0 ° C. Various additives such as a pigment may be mixed in the adhesive layer. The thickness of the adhesive layer may be appropriately determined so as to obtain sufficient adhesion, but is preferably 1 to 20 μm, more preferably 3 to 20 μm. If the adhesive layer is too thin, sufficient adhesion strength cannot be obtained. On the other hand, if the adhesive layer is too thick, the flexibility of the adhesive layer is so low that it cannot follow the optical card when it is bent, and as a result cracks tend to occur in the layer. The adhesive layer may be in the form of a sheet in advance, or may be coated on at least one of the adhered surfaces. As a coating method,
For example, roll coating, spin coating, curtain flow coating, spray coating and the like can be used. The resin used for the coating method may be any of a solution type, an emulsion type, a hot melt type and the like.

【0030】裏打ち基材4の構成材料は特に限定されな
い。ただし、光カードの全厚を薄くして十分なフレキシ
ビリティーを得るためには、裏打ち基材にも透明基材と
同様に延伸成形フィルムを用いることが好ましい。ま
た、カードのカールを小さくするためには、裏打ち基材
と透明基材とを同種の樹脂から構成することが好まし
い。裏打ち基材中にも、帯電防止剤等の各種添加剤が含
まれていてよい。また、隣接層を密着させるためのプラ
イマー層などを積層した、複数層構成のものとしてもよ
い。裏打ち基材の厚さは、透明基材と同様に、十分なフ
レキシビリティーと十分な機械的強度とを確保するため
に、50〜500μmとすることが好ましい。透明基材
と裏打ち基材とを同等の厚さとすれば、カードを反りを
低減できる。また、その場合、記録層がカードの厚さ方
向中央に位置することになるので、記録層の位置が厚さ
方向において一方に偏っている場合に比べ、カードが屈
曲したときの記録層の屈曲が小さくなり、その結果、カ
ード屈曲による記録層破壊を抑制することができる。
The constituent material of the backing substrate 4 is not particularly limited. However, in order to obtain sufficient flexibility by reducing the total thickness of the optical card, it is preferable to use a stretch-formed film for the backing substrate as well as the transparent substrate. Further, in order to reduce the curl of the card, it is preferable that the backing substrate and the transparent substrate are made of the same kind of resin. Various additives such as an antistatic agent may be contained in the backing substrate. Also, a multilayer structure in which a primer layer or the like for adhering the adjacent layers is laminated may be used. Like the transparent substrate, the thickness of the backing substrate is preferably 50 to 500 μm in order to secure sufficient flexibility and sufficient mechanical strength. If the transparent base material and the backing base material have the same thickness, the warpage of the card can be reduced. Also, in this case, the recording layer is located at the center in the thickness direction of the card, so that the bending of the recording layer when the card is bent is compared to the case where the position of the recording layer is biased to one side in the thickness direction. Is reduced, and as a result, recording layer destruction due to card bending can be suppressed.

【0031】カードの光入射面の耐擦傷性を高めるた
め、およびカードの耐衝撃性、耐薬品性を向上させるた
めには、図1に示すように透明基材1の光入射面側にハ
ードコート層5を設けることが好ましい。このハードコ
ート層は、例えばシリコーン系やアクリル系、フッ素系
等の各種樹脂から構成すればよい。ハードコート層は、
ロールコート、スピンコート、スプレーコート等の各種
塗布法や、真空蒸着法などにより形成すればよい。
In order to improve the scratch resistance of the light incident surface of the card and to improve the shock resistance and chemical resistance of the card, as shown in FIG. It is preferable to provide the coat layer 5. The hard coat layer may be made of, for example, various resins such as silicone, acrylic, and fluorine. The hard coat layer is
It may be formed by various coating methods such as roll coating, spin coating, spray coating, etc., or a vacuum evaporation method.

【0032】光カードに記録した情報のインデックスや
内容を、文字や画像として書き込む場合には、図示する
ように、裏打ち基材表面に画像形成層6を必要に応じて
設けることが好ましい。画像形成方式は、記録層に影響
を及ぼさないものであれば特に制限なく選択でき、例え
ば熱転写記録、昇華転写記録、インクジェット記録、電
子写真記録、発色型感熱記録、可逆性感熱記録などのい
ずれであってもよい。画像形成層の構成材料は、用いる
画像形成方式に応じて適宜決定すればよい。例えば、熱
転写記録、昇華転写記録、インクジェット記録、電子写
真記録などの色材受容型方式を用いる場合には、色材特
性に応じて受容性、吸収性などを調整した樹脂やフィラ
ーなどを選択すればよい。また、発色型感熱記録、可逆
性感熱記録などの自己発色方式を用いる場合には、発色
機能に応じて構成材料を選択し、必要であれば多層構造
にしてもよい。画像形成層の厚さは、通常、0.1〜2
0μm程度とすることが好ましい。
When writing the index or content of the information recorded on the optical card as characters or images, it is preferable to provide an image forming layer 6 on the surface of the backing substrate as required, as shown in the figure. The image forming method can be selected without particular limitation as long as it does not affect the recording layer.For example, any one of thermal transfer recording, sublimation transfer recording, ink jet recording, electrophotographic recording, coloring type thermal recording, reversible thermal recording, etc. There may be. The constituent material of the image forming layer may be appropriately determined according to the image forming method to be used. For example, when a color material receiving type system such as thermal transfer recording, sublimation transfer recording, ink jet recording, and electrophotographic recording is used, a resin or filler whose acceptability and absorptivity are adjusted according to the color material characteristics may be selected. I just need. In the case of using a self-coloring system such as a coloring type thermosensitive recording and a reversible thermosensitive recording, a constituent material may be selected according to a coloring function, and a multilayer structure may be used if necessary. The thickness of the image forming layer is usually 0.1 to 2
Preferably, the thickness is about 0 μm.

【0033】次に、本発明の光カードを製造する方法に
ついて説明する。光カードは、記録層2を設けた透明基
材1と裏打ち基材3とを貼りあわせることにより製造さ
れる。ただし、透明基材1と裏打ち基材3とは、あらか
じめカード形状およびカード寸法となるように打ち抜い
ておくのではなく、通常、貼り合わせ後にカード形状に
打ち抜く。以下の説明では、貼り合わせ前の透明基材お
よび裏打ち基材を原反という。
Next, a method for manufacturing the optical card of the present invention will be described. The optical card is manufactured by laminating a transparent substrate 1 provided with a recording layer 2 and a backing substrate 3. However, the transparent base material 1 and the backing base material 3 are not punched in advance to have a card shape and card dimensions, but are usually punched into a card shape after bonding. In the following description, the transparent base material and the backing base material before bonding are referred to as a raw material.

【0034】透明基材の原反および裏打ち基材の原反
は、貼り合わせ工程の前に、アニールしておくことが好
ましい。このアニールは、前述したように両基材の熱収
縮率を低減するための熱処理である。アニール温度は、
ラミネート時の加熱温度以上にすることが望ましい。ア
ニールは、記録層などを形成する前であっても形成した
後であってもよい。アニール前の原反の熱収縮率は、2
軸延伸したPET原反の場合は幅方向で0.2〜0.3
%程度、長手方向で3%程度であり、熱処理後は、幅方
向でほとんど変わらず、長手方向で0.2%程度まで低
下する。
It is preferable that the raw material of the transparent base material and the raw material of the backing base material are annealed before the bonding step. This annealing is a heat treatment for reducing the thermal shrinkage of both substrates as described above. The annealing temperature is
It is desirable that the temperature be equal to or higher than the heating temperature during lamination. Annealing may be performed before or after the formation of the recording layer or the like. The thermal contraction rate of the raw material before annealing is 2
In the case of axially stretched PET stock, 0.2 to 0.3 in the width direction
%, About 3% in the longitudinal direction, and after heat treatment, hardly changes in the width direction, and decreases to about 0.2% in the longitudinal direction.

【0035】貼り合わせに際しては、透明基材の原反の
平均分子配向軸と裏打ち基材の原反の平均分子配向軸と
のなす角度が10°以下となるように、両原反を重ね合
わせることが好ましい。その理由は前述したとおりであ
る。貼り合わせ手段は、十分な密着力を得るために熱と
圧力とを同時に加えるものが望ましく、例えば加熱しな
がらのプレスやロールプレスが利用できる。ラミネート
温度は、80〜130℃程度となるように設定すること
が好ましい。
At the time of lamination, the two raw materials are overlapped so that the angle between the average molecular orientation axis of the raw material of the transparent substrate and the average molecular orientation axis of the raw material of the backing substrate is 10 ° or less. Is preferred. The reason is as described above. The bonding means desirably applies heat and pressure simultaneously in order to obtain a sufficient adhesive force. For example, a press or a roll press while heating can be used. The laminating temperature is preferably set to be about 80 to 130 ° C.

【0036】貼り合わせ後、カード形状(矩形)に対応
する複数の打ち抜きパターンを有する打ち抜き型を用い
て光カードの原反をカード形状に打ち抜き、複数の光カ
ードを得る。このとき、長辺と分子配向軸とのなす角度
θが、各光カードで20°以下となるように打ち抜く。
原反の幅方向全域において、分子配向軸と原反の長さ方
向とのなす角が20°以内に収まっていれば、各打ち抜
きパターンの長辺が、原反の長さ方向と平行となるよう
に打ち抜いてよい。また、2軸延伸成形フィルムでは、
原反の幅方向への延伸により生じた分子配向軸と、原反
の幅方向とのなす角が20°以内に収まっていれば、各
打ち抜きパターンの長辺が、原反の幅方向と平行となる
ように打ち抜いてもよい。
After the bonding, the original optical card is punched into a card shape by using a punching die having a plurality of punching patterns corresponding to the card shape (rectangle) to obtain a plurality of optical cards. At this time, punching is performed so that the angle θ between the long side and the molecular orientation axis is 20 ° or less in each optical card.
If the angle between the molecular orientation axis and the length direction of the raw material is within 20 ° in the entire width direction of the raw material, the long side of each punched pattern is parallel to the length direction of the raw material. May be punched. In the biaxially stretched film,
If the angle between the molecular orientation axis generated by stretching in the width direction of the raw material and the width direction of the raw material is within 20 °, the long side of each punched pattern is parallel to the width direction of the raw material. You may punch out so that it becomes.

【0037】しかし、比較的幅広の原反を用いる場合に
は、原反の長さ方向または原反の幅方向と分子配向軸と
のなす角が20°を超えることがある。その場合には、
以下の説明する方法を利用して打ち抜くことが好まし
い。
However, when a relatively wide raw material is used, the angle between the length direction of the raw material or the width direction of the raw material and the molecular orientation axis may exceed 20 °. In that case,
Punching is preferably performed using the method described below.

【0038】図2に示すように、透明基材が延伸成形フ
ィルム、特に2軸延伸成形フィルムである光カード原反
10では、原反の長手方向(図中における上下方向)へ
の延伸によって生じた分子配向軸が、原反の長手方向を
中心として放射状に延びている。したがって、図2に示
すように、打ち抜きパターンの長辺が放射状に配置され
た打ち抜き型を用いれば、打ち抜く位置における分子配
向軸の方向と各打ち抜きパターン20の長辺とのなす角
度θを、打ち抜いたすべての光カードにおいて20°以
内に収めることが可能であり、各光カードのθをほぼ一
致させることも可能である。したがって、このような打
ち抜き型を用いれば、幅広の原反を一度に打ち抜いて
も、打ち抜かれたすべての光カード間での再生出力ばら
つきを低く抑えることが可能となる。
As shown in FIG. 2, in the optical card raw material 10 in which the transparent base material is a stretch-formed film, particularly a biaxially stretch-formed film, the optical card is produced by stretching in the longitudinal direction (vertical direction in the figure) of the raw material. The molecular orientation axis extends radially around the longitudinal direction of the raw material. Therefore, as shown in FIG. 2, if a punching die in which the long sides of the punching pattern are arranged radially is used, the angle θ between the direction of the molecular orientation axis at the punching position and the long side of each punching pattern 20 is punched out. In addition, it is possible to fit within 20 ° in all the optical cards, and it is also possible to make θ of each optical card substantially equal. Therefore, if such a punching die is used, even if a wide web is punched at once, it is possible to suppress variations in reproduction output among all punched optical cards.

【0039】なお、図示はしないが、原反が2軸延伸成
形フィルムである場合には、原反の幅方向への延伸によ
って生じた分子配向軸が、原反の幅方向を中心として放
射状に延びている。したがって、この方向の分子配向軸
に注目して本発明を適用する場合には、図2に示す打ち
抜きパターンを90°回転させて用いればよい。
Although not shown, when the raw material is a biaxially stretched film, the molecular orientation axis generated by stretching the raw material in the width direction is radially centered on the raw material in the width direction. Extending. Therefore, when applying the present invention paying attention to the molecular orientation axis in this direction, the punching pattern shown in FIG.

【0040】図2に示す方法のほか、図3に示す方法も
利用できる。この方法では、原反を長手方向と平行な切
断面で2分割して2枚の分割原反11、12を得、各打
ち抜きパターン20の長辺が互いに平行である打ち抜き
型を用い、一方の分割原反11はそのままで、他方の分
割原反12は裏返した状態で、それぞれ打ち抜く。分割
原反12を裏返せば、2枚の分割原反11、12におい
て分子配向軸分布はほぼ同じとなる。そのため、幅が比
較的狭い原反を打ち抜く場合と同様に、各光カードにお
けるθを20°以内とすることが容易にできる。
In addition to the method shown in FIG. 2, the method shown in FIG. 3 can also be used. In this method, the raw material is divided into two by a cutting plane parallel to the longitudinal direction to obtain two divided raw materials 11 and 12, and a punching die in which the long sides of each punching pattern 20 are parallel to each other is used. The split raw material 11 is punched out while the other split raw material 12 is turned upside down. If the divided raw material 12 is turned over, the molecular orientation axis distributions of the two divided raw materials 11 and 12 are substantially the same. Therefore, as in the case of punching a relatively narrow raw material, it is easy to set θ in each optical card to within 20 °.

【0041】以上、本発明をその代表例について述べた
が、記録層と接着層との間に金属反射層を設けた構成と
してもよい。また、記録層構成材料の接着層への拡散を
防止して記録層の劣化を防ぐために、記録層と接着層と
の間に拡散防止層を設けてもよい。拡散防止層は、樹脂
またはその溶液を記録層上に直接塗布することにより形
成する。そのため、拡散防止層を形成するための塗料に
は、記録層に含有される有機色素を溶かす溶媒は使用し
ないことが好ましく、具体的には水系樹脂を含有する水
系塗料を用いることが好ましい。水系樹脂は、水を溶媒
として利用できるものであれば特に限定されず、水溶性
樹脂であってもエマルジョン型樹脂であってもよい。樹
脂種としては、例えば、アクリル系、ポリウレタン系、
エポキシ系、ポリエステル系などのいずれであってもよ
い。また、記録感度向上のための緩衝層を設けた構成と
してもよい。
As described above, the present invention has been described with reference to the typical example. However, a configuration in which a metal reflective layer is provided between the recording layer and the adhesive layer may be adopted. Further, a diffusion preventing layer may be provided between the recording layer and the adhesive layer in order to prevent the recording layer constituent material from diffusing into the adhesive layer and prevent the recording layer from deteriorating. The diffusion preventing layer is formed by directly applying a resin or a solution thereof on the recording layer. Therefore, it is preferable not to use a solvent for dissolving the organic dye contained in the recording layer as a paint for forming the diffusion prevention layer, and specifically, it is preferable to use an aqueous paint containing an aqueous resin. The aqueous resin is not particularly limited as long as water can be used as a solvent, and may be a water-soluble resin or an emulsion resin. As the resin type, for example, acrylic, polyurethane,
Any of epoxy type, polyester type and the like may be used. Further, a configuration may be adopted in which a buffer layer for improving recording sensitivity is provided.

【0042】[0042]

【実施例】次に本発明における実施例を挙げて説明す
る。
Next, an embodiment of the present invention will be described.

【0043】実施例1 光カードNo.101 図1に示す構造の光カードを以下の手順で作製した。た
だし、画像形成層6は設けなかった。透明基材1には、
ハードコート層5を設けた2軸延伸成形フィルム(厚さ
100μmの透明PET:東レ(株)製のタフトップ)
を使用した。次に透明基材1のハードコート層5形成面
とは反対の面に、シアニン色素(林原生物化学研究所
(株)製:NK1414)をスピンコートにより塗布
し、厚さ0.1μmの記録層2を形成した。裏打ち基材
4には、2軸延伸成形フィルム(厚さ100μmの白色
PET:東レ(株)製のE20)を使用した。裏打ち基
材表面に、酢酸ビニル変性樹脂(日本合成化学(株)
製:コーポニール102X)を塗布し、厚さ5μmの接
着層3を形成した。次に、記録層2と接着層3とが向か
い合うように貼り合わせた。貼り合わせの際には、接着
層の温度が100℃となるように加熱した。最後に、透
明基材1がもつ2方向の分子配向軸の一方とカード長辺
とのなす角度θが5°となるようにカード形状に打ち抜
き、全厚208μmの光カードを得た。なお、分子配向
軸の方向は、エリプソメトリにより測定した。カード内
において分子配向軸の分布は認められず、カードの全域
においてθは5°であった。
Example 1 Optical card No. 101 An optical card having the structure shown in FIG. 1 was manufactured by the following procedure. However, the image forming layer 6 was not provided. In the transparent substrate 1,
Biaxially stretched molded film provided with a hard coat layer 5 (transparent PET having a thickness of 100 μm: tough top manufactured by Toray Industries, Inc.)
It was used. Next, on the surface of the transparent substrate 1 opposite to the surface on which the hard coat layer 5 is formed, a cyanine dye (manufactured by Hayashibara Biochemical Laboratory Co., Ltd .: NK1414) is applied by spin coating, and a recording layer having a thickness of 0.1 μm is formed. 2 was formed. As the backing substrate 4, a biaxially stretched formed film (white PET having a thickness of 100 μm: E20 manufactured by Toray Industries, Inc.) was used. Vinyl acetate modified resin (Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.)
(Corponyl 102X) was applied to form an adhesive layer 3 having a thickness of 5 μm. Next, the recording layer 2 and the adhesive layer 3 were bonded so as to face each other. At the time of bonding, heating was performed so that the temperature of the adhesive layer became 100 ° C. Finally, an optical card having a total thickness of 208 μm was obtained by punching out a card so that the angle θ formed between one of the two molecular orientation axes of the transparent substrate 1 and the long side of the card was 5 °. In addition, the direction of the molecular orientation axis was measured by ellipsometry. No distribution of molecular orientation axes was observed in the card, and θ was 5 ° over the entire area of the card.

【0044】光カードNo.102〜No.105 打ち抜き工程においてθが表1に示す値となるように打
ち抜いたほかは光カードNo.101と同様にして、光カ
ードを作製した。
An optical card was manufactured in the same manner as in the optical card No. 101, except that the optical card No. 102 to No. 105 were punched out so that θ became the value shown in Table 1.

【0045】評価 上記各光カードについて、再生出力を測定した。結果を
表1に示す。なお、表1に示す再生出力は、光カードN
o.101の再生出力を1とした相対値である。
Evaluation The reproduction output of each of the above optical cards was measured. Table 1 shows the results. The playback output shown in Table 1 is based on the optical card N
This is a relative value when the reproduction output of o.101 is 1.

【0046】評価用再生装置の一例として、本実施例に
用いた光学系を図4に示す。この光学系に使用した偏光
ビームスプリッタ(PBS)は、SBSとよばれる特殊
なものであり、P成分を75%透過し、25%反射する
と共に、S成分は100%反射して透過しない。このP
BSにより、入射光をP成分の直線偏光としてカードに
入射させる。カードによって偏光された戻り光は、その
S成分が100%、そのP成分は25%検出器に戻るた
め、再生出力は戻り光のS成分が支配的となる。この再
生装置において、再生光の直線偏光の偏波面の向きと入
射光の走査方向との関係を調整することにより、カード
の長辺と分子配向軸とのなす角度θが0°の場合に再生
出力が最も高くなるようにした。
FIG. 4 shows an optical system used in the present embodiment as an example of the reproducing apparatus for evaluation. The polarizing beam splitter (PBS) used in this optical system is a special one called SBS, which transmits 75% of the P component, reflects 25%, and reflects 100% of the S component and does not transmit. This P
The incident light is incident on the card as linearly polarized light of the P component by the BS. The return light polarized by the card has its S component returned to the detector at 100% and its P component returns to the detector at 25%. Therefore, the S component of the return light is dominant in the reproduction output. In this reproducing apparatus, by adjusting the relationship between the direction of the plane of polarization of the linearly polarized light of the reproducing light and the scanning direction of the incident light, the reproducing is performed when the angle θ between the long side of the card and the molecular orientation axis is 0 °. The output is set to be the highest.

【0047】[0047]

【表1】 [Table 1]

【0048】表1から、各カードにおいてθを20°以
下とすることにより、各カードにおいて十分に高い再生
出力が得られ、かつカード間における再生出力変動を平
均再生出力(表1では0.91)の10%以下に抑えら
れることがわかる。
As shown in Table 1, by setting θ to 20 ° or less in each card, a sufficiently high reproduction output can be obtained in each card, and the reproduction output fluctuation between the cards can be reduced by the average reproduction output (0.91 in Table 1). ) Can be suppressed to 10% or less.

【0049】なお、上記各光カードにおいて、透明基材
の最大熱収縮率は0.5%、裏打ち基材の最大熱収縮率
は0.2%であった。また、各光カードにおいて、透明
基材の平均分子配向軸の方向と裏打ち基材の平均分子配
向軸の方向とのなす角度は、2方向の平均分子配向軸の
いずれにおいても10°以下であった。平均分子配向軸
は、野村商事株式会社のスーパーソニックテスタにより
測定した。
In each of the above optical cards, the maximum thermal shrinkage of the transparent substrate was 0.5%, and the maximum thermal shrinkage of the backing substrate was 0.2%. In each optical card, the angle between the direction of the average molecular orientation axis of the transparent substrate and the direction of the average molecular orientation axis of the backing substrate is 10 ° or less in any of the two average molecular orientation axes. Was. The average molecular orientation axis was measured by a supersonic tester of Nomura Corporation.

【0050】実施例2 光カードNo.201〜No.206 ラミネート時に接着層の温度が100℃となるように
し、また、透明基材の平均分子配向軸と裏打ち基材の平
均分子配向軸とのずれが表2に示す値となるように両基
材を貼り合わせたほかは実施例1の光カードNo.101
と同様にして、光カードを作製した。なお、それぞれの
光カードでは、平均分子配向軸がほぼ直交する2方向に
存在するが、これらの2方向において平均分子配向軸の
ずれはほぼ同じであった。
Example 2 The temperature of the adhesive layer was set to 100 ° C. during lamination of optical cards No. 201 to No. 206, and the average molecular orientation axis of the transparent substrate and the average molecular orientation axis of the backing substrate were adjusted . Optical card No. 101 of Example 1 was used except that both substrates were bonded so that the displacement became the value shown in Table 2.
In the same manner as in the above, an optical card was produced. In each optical card, the average molecular orientation axis exists in two directions substantially orthogonal to each other, but the deviation of the average molecular orientation axis in these two directions was almost the same.

【0051】評価 上記各光カードについて、4隅のカール量を測定した。
結果を表2に示す。
Evaluation The curl amounts at the four corners of each of the above optical cards were measured.
Table 2 shows the results.

【0052】[0052]

【表2】 [Table 2]

【0053】表2から、透明基材の平均分子配向軸と裏
打ち基材の平均分子配向軸とのずれを10°以下とする
ことにより、カードのカールを小さくできることがわか
る。
From Table 2, it can be seen that curling of the card can be reduced by setting the difference between the average molecular orientation axis of the transparent substrate and the average molecular orientation axis of the backing substrate to 10 ° or less.

【0054】実施例3 光カードNo.301 記録層と接着層との間に拡散防止層を設けたほかは図1
と同様な構造の光カードを、以下の手順で作製した。透
明基材1には、易接着層を設けた2軸延伸成形フィルム
(厚さ100μmの透明PET:東レ(株)製のタフト
ップ)を用いた。裏打ち基材4には、易接着層付きの2
軸延伸白色PETフィルム(東レ(株)製のE08J、
厚さ100μm)を使用した。透明基材1は、100℃
で30分間アニールすることにより熱収縮率を0.5%
とした。また、裏打ち基材は、150℃で30分間アニ
ールすることにより熱収縮率を0.2%とした。記録層
2は実施例1と同様にして形成した。拡散防止層は、記
録層2の表面に、ジョンソンポリマー(株)製のジョン
クリルJ63を1μmの厚さでスピンコートすることに
より形成した。接着層3は実施例1と同様にして形成し
た。貼り合わせの際には、接着層3が表3に示す温度と
なるように加熱し、貼り合わせ温度の異なる5種のカー
ドを得た。また、貼り合わせに際しては、透明基材の平
均分子配向軸と裏打ち基材の平均分子配向軸とのずれが
10°以下となるようにした。
Example 3 Optical card No. 301 except that a diffusion preventing layer was provided between the recording layer and the adhesive layer.
An optical card having the same structure as that of was manufactured by the following procedure. As the transparent substrate 1, a biaxially stretched film provided with an easy-adhesion layer (transparent PET having a thickness of 100 μm: tough top manufactured by Toray Industries, Inc.) was used. The backing substrate 4 has a 2
Axial stretched white PET film (E08J manufactured by Toray Industries, Inc.,
(Thickness: 100 μm) was used. The transparent substrate 1 is at 100 ° C.
0.5% by heat annealing for 30 minutes
And The backing substrate was annealed at 150 ° C. for 30 minutes to have a heat shrinkage of 0.2%. The recording layer 2 was formed in the same manner as in Example 1. The diffusion preventing layer was formed by spin-coating the surface of the recording layer 2 with a thickness of 1 μm of Joncryl J63 manufactured by Johnson Polymer Co., Ltd. The adhesive layer 3 was formed in the same manner as in Example 1. At the time of bonding, the adhesive layer 3 was heated to a temperature shown in Table 3 to obtain five types of cards having different bonding temperatures. Further, upon bonding, the deviation between the average molecular orientation axis of the transparent base material and the average molecular orientation axis of the backing base material was set to 10 ° or less.

【0055】光カードNo.302〜No.303 アニール条件を変更することにより裏打ち基材の最大熱
収縮率を表3に示す値としたほかは光カードNo.301
と同様にして、光カードを作製した。
Optical card No. 301 except that the maximum thermal shrinkage of the backing substrate was changed to the value shown in Table 3 by changing the annealing conditions of optical cards No. 302 to No. 303.
In the same manner as in the above, an optical card was produced.

【0056】評価 上記各光カードについて、4隅のカール量を測定した。
各カードの最大カール量を表3に示す。
Evaluation The curl amounts at the four corners of each of the above optical cards were measured.
Table 3 shows the maximum curl amount of each card.

【0057】[0057]

【表3】 [Table 3]

【0058】表3から、透明基材および裏打ち基材を共
に最大熱収縮率0.5%以下とすることにより、80〜
130℃の温度域でラミネートしたときのカールを小さ
くできることがわかる。
From Table 3, it can be seen that the maximum thermal shrinkage of both the transparent substrate and the backing substrate is 0.5% or less, and
It can be seen that curling when laminated in a temperature range of 130 ° C. can be reduced.

【0059】[0059]

【発明の効果】本発明では、延伸成形フィルムを光カー
ドの透明基材またはこれと裏打ち基材とに利用する。延
伸成形フィルムは機械的強度が高いため、光カードを薄
くできる。そのため本発明では、フレキシビリティーが
あり携帯性に優れた光カードを提供することができる。
また、射出成形と異なり延伸成形では耐溶剤性の良好な
PETが使用できるので、有機色素を含有する記録層を
塗布法により形成する際に、溶剤の選択範囲が広がる。
また、延伸成形フィルムはロール形状で使用することが
でき、そのため、記録層や接着層などをロールコーティ
ングすることができる。ロールコーティングは、従来用
いられている枚葉式であるスピンコートと比較して量産
性に優れるので、低コストの光カードを提供することが
可能である。
According to the present invention, the stretch-formed film is used as a transparent substrate of an optical card or a backing substrate thereof. Since the stretch-formed film has high mechanical strength, the optical card can be made thin. Therefore, according to the present invention, an optical card having flexibility and excellent portability can be provided.
Further, unlike injection molding, in stretch molding, PET having good solvent resistance can be used, so that when a recording layer containing an organic dye is formed by a coating method, the selection range of the solvent is widened.
Further, the stretch-formed film can be used in the form of a roll, and therefore, the recording layer, the adhesive layer and the like can be roll-coated. The roll coating is superior in mass productivity as compared with a conventionally used single-wafer spin coating, so that a low-cost optical card can be provided.

【0060】また、本発明では、透明基材またはこれと
裏打ち基材とを延伸成形フィルムから構成した場合の問
題点、すなわち複数のカード間における再生出力のばら
つきやカードの捻れ、を低減できる。
Further, in the present invention, problems when the transparent base material or the backing base material and the backing base material are formed from a stretch-formed film, that is, variation in reproduction output between a plurality of cards and twisting of the cards can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の光カードの構成例を示す断面図であ
る。
FIG. 1 is a sectional view showing a configuration example of an optical card of the present invention.

【図2】2軸延伸成形フィルムからなる透明基材を用い
た光カードの原反と、カード打ち抜き型とを示す平面図
である。
FIG. 2 is a plan view showing a raw material of an optical card using a transparent substrate made of a biaxially stretch-formed film and a card punching die.

【図3】2軸延伸成形フィルムからなる透明基材を用い
た光カードの原反と、カード打ち抜き型とを示す平面図
である。
FIG. 3 is a plan view showing a raw material of an optical card using a transparent substrate made of a biaxially stretched molded film and a card punching die.

【図4】光カード評価用再生装置の光学系を示す模式図
である。
FIG. 4 is a schematic diagram showing an optical system of an optical card evaluation reproducing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明基材 2 光記録層 3 接着層 4 裏打ち基材 5 ハードコート層 6 画像形成層 10 光カード原反 11、21 分割原反 20 打ち抜きパターン DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent base material 2 Optical recording layer 3 Adhesive layer 4 Backing base material 5 Hard coat layer 6 Image forming layer 10 Raw optical card 11, 21 Split raw material 20 Punched pattern

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 竹内 礼 東京都台東区台東1丁目5番1号 東京磁 気印刷株式会社内 Fターム(参考) 2H111 EA14 FA01 FA15 FA35 FA39 FA45 FB42 5B035 AA07 AA08 BA05 BB04 BC00 5D029 JA04 KC14 TA08 TA10 5D121 AA02 DD13 DD17 GG24  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Rei Takeuchi 1-5-1, Taito, Taito-ku, Tokyo Tokyo Magnetic Printing Co., Ltd. F-term (reference) 2H111 EA14 FA01 FA15 FA35 FA39 FA45 FB42 5B035 AA07 AA08 BA05 BB04 BC00 5D029 JA04 KC14 TA08 TA10 5D121 AA02 DD13 DD17 GG24

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも透明基材、有機色素を含有す
る記録層、接着層、および裏打ち基材をこの順で有する
矩形の光カードであって、 透明基材が延伸成形フィルムから構成され、透明基材に
おいて、長辺と分子配向軸とのなす角度をθ(0≦θ≦
90°)としたとき、透明基材の少なくとも記録対象領
域内において、 θ≦20° である光カード。
1. A rectangular optical card having at least a transparent base material, a recording layer containing an organic dye, an adhesive layer, and a backing base material in this order, wherein the transparent base material is composed of a stretch-formed film, In the base material, the angle between the long side and the molecular orientation axis is θ (0 ≦ θ ≦
90 °), the optical card satisfies θ ≦ 20 ° at least in the recording target area of the transparent substrate.
【請求項2】 裏打ち基材が延伸成形フィルムから構成
され、透明基材の平均分子配向軸と裏打ち基材の平均分
子配向軸とのなす角度が10°以下である請求項1の光
カード。
2. The optical card according to claim 1, wherein the backing substrate is composed of a stretch-formed film, and the angle between the average molecular orientation axis of the transparent substrate and the average molecular orientation axis of the backing substrate is 10 ° or less.
【請求項3】 裏打ち基材が延伸成形フィルムから構成
され、透明基材の最大熱収縮率と裏打ち基材の最大熱収
縮率とが共に0.5%以下である請求項1または2の光
カード。
3. The light according to claim 1, wherein the backing substrate is composed of a stretch-formed film, and both the maximum thermal shrinkage of the transparent substrate and the maximum thermal shrinkage of the backing substrate are 0.5% or less. card.
【請求項4】 少なくとも透明基材、有機色素を含有す
る記録層、接着層、および裏打ち基材をこの順で有する
矩形の光カードを製造する方法であって、 透明基材が延伸成形フィルムから構成されており、 光カードの形状に対応する矩形の打ち抜きパターンが複
数配置された打ち抜き型を用いて、長尺の原反から複数
の光カードを打ち抜くに際し、打ち抜きパターンの長辺
または短辺が放射状に配置された打ち抜き型を用いる光
カードの製造方法。
4. A method for producing a rectangular optical card having at least a transparent substrate, a recording layer containing an organic dye, an adhesive layer, and a backing substrate in this order, wherein the transparent substrate is formed from a stretch-formed film. When punching a plurality of optical cards from a long raw material using a punching die in which a plurality of rectangular punching patterns corresponding to the shape of the optical card are arranged, the long side or the short side of the punching pattern is A method for manufacturing an optical card using radially arranged punching dies.
【請求項5】 少なくとも透明基材、有機色素を含有す
る記録層、接着層、および裏打ち基材をこの順で有する
矩形の光カードを製造する方法であって、 透明基材が延伸成形フィルムから構成されており、 光カードの形状に対応する矩形の打ち抜きパターンが複
数配置された打ち抜き型を用いて、長尺の原反から複数
の光カードを打ち抜くに際し、原反を長手方向と平行な
切断面で2分割して2枚の分割原反を得、各打ち抜きパ
ターンの長辺または短辺が互いに平行である打ち抜き型
により一方の分割原反を打ち抜くと共に、長手方向を軸
として他方の分割原反を裏返した状態で前記打ち抜き型
により打ち抜く光カードの製造方法。
5. A method for producing a rectangular optical card having at least a transparent substrate, a recording layer containing an organic dye, an adhesive layer, and a backing substrate in this order, wherein the transparent substrate is formed from a stretch-formed film. When punching a plurality of optical cards from a long raw material using a punching die having a plurality of rectangular punching patterns corresponding to the shape of the optical card, the raw material is cut parallel to the longitudinal direction. The raw material is divided into two by the surface, and two raw materials are obtained. One raw material is punched out by a punching die in which the long side or the short side of each punched pattern is parallel to each other, and the other raw material is made with the longitudinal direction as an axis. A method for producing an optical card, wherein the optical card is punched out by the punching die in a state where the sheet is turned upside down.
【請求項6】 透明基材において、長辺と分子配向軸と
のなす角度をθ(0≦θ≦90°)としたとき、すべて
の光カードにおいて、 θ≦20° となるように原反を打ち抜く請求項4または5の光カー
ドの製造方法。
6. In a transparent base material, when an angle between a long side and a molecular orientation axis is θ (0 ≦ θ ≦ 90 °), an original film is formed so that θ ≦ 20 ° in all optical cards. 6. The method for manufacturing an optical card according to claim 4, wherein the optical card is punched.
【請求項7】 請求項1の光カードが製造される請求項
4〜6のいずれかの光カードの製造方法。
7. The method for manufacturing an optical card according to claim 4, wherein the optical card according to claim 1 is manufactured.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009283929A (en) * 2008-04-25 2009-12-03 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Manufacturing process of semiconductor device and semiconductor device
WO2014126960A2 (en) 2013-02-13 2014-08-21 Composecure, Llc Durable card
CN107870695A (en) * 2016-09-27 2018-04-03 星电株式会社 Manufacture the method and touch-sensing device of touch-sensing device
US10332846B2 (en) 2007-12-31 2019-06-25 Composecure, Llc Foil composite card
US10479130B2 (en) 2009-07-24 2019-11-19 Composecure, L.L.C. Card with embedded image

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11367693B2 (en) 2007-12-31 2022-06-21 Composecure, Llc Foil composite card
US10373920B2 (en) 2007-12-31 2019-08-06 Composecure, Llc Foil composite card
US10332846B2 (en) 2007-12-31 2019-06-25 Composecure, Llc Foil composite card
JP2009283929A (en) * 2008-04-25 2009-12-03 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Manufacturing process of semiconductor device and semiconductor device
US9171808B2 (en) 2008-04-25 2015-10-27 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing the same
US10479130B2 (en) 2009-07-24 2019-11-19 Composecure, L.L.C. Card with embedded image
US10311346B2 (en) 2013-02-13 2019-06-04 Composecure, Llc Durable card
EP3345771A3 (en) * 2013-02-13 2018-07-18 Composecure, LLC Durable card
US10395153B2 (en) 2013-02-13 2019-08-27 Composecure, Llc Durable card
EP2956310A4 (en) * 2013-02-13 2017-03-08 Composecure, LLC Durable card
WO2014126960A2 (en) 2013-02-13 2014-08-21 Composecure, Llc Durable card
US11915074B2 (en) 2013-02-13 2024-02-27 Composecure, Llc Laser-personalized card having a hard coat subassembly and a core subassembly having non-metal layers with carbon particles
CN107870695A (en) * 2016-09-27 2018-04-03 星电株式会社 Manufacture the method and touch-sensing device of touch-sensing device
CN107870695B (en) * 2016-09-27 2022-02-08 星电株式会社 Method of manufacturing touch sensing device and touch sensing device

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