JP2002258089A - Method of manufacturing optical waveguide and manufacturing device - Google Patents

Method of manufacturing optical waveguide and manufacturing device

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JP2002258089A
JP2002258089A JP2001058438A JP2001058438A JP2002258089A JP 2002258089 A JP2002258089 A JP 2002258089A JP 2001058438 A JP2001058438 A JP 2001058438A JP 2001058438 A JP2001058438 A JP 2001058438A JP 2002258089 A JP2002258089 A JP 2002258089A
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optical waveguide
inkjet head
optical
waveguide material
fine particles
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Tatsuya Sugita
辰哉 杉田
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Hitachi Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and a device for manufacturing an optical waveguide which manufactures the optical waveguide with a simple configuration. SOLUTION: When the optical waveguide is formed through the use of a liquid optical waveguide material as an optical waveguide formed member, the optical waveguide material is continuously discharged from an ink jet head and the optical waveguide formed member and the ink jet head are relatively moved so that the optical waveguide is manufactured.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光を閉じ込め伝送
する光導波路の作製方法および作製装置に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing an optical waveguide for confining and transmitting light.

【0002】[0002]

【従来の技術】特公平8―12303号公報には、押出
しノズルからポリマー材料を押し出し、押出しノズルを
移動させて光導波管パターンを形成するポリマー光導波
管の形成方法が開示されている。
2. Description of the Related Art Japanese Patent Publication No. 8-12303 discloses a method for forming a polymer optical waveguide in which a polymer material is extruded from an extrusion nozzle, and the extrusion nozzle is moved to form an optical waveguide pattern.

【0003】また、特開2000−108216号公報
に、板状の光学材料の上に光学樹脂材料の微小液滴を吐
出、着弾させた後、微小液滴を硬化させることによりマ
イクロレンズアレイを作製するマイクロレンズアレイ製
造方法が開示されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-108216 discloses a method of manufacturing a microlens array by discharging and landing minute droplets of an optical resin material on a plate-like optical material and then curing the minute droplets. A microlens array manufacturing method is disclosed.

【0004】なお、特開2000−21222号公報に
は、例えば光ファイバーからなる光導波路の光入射面上
に電極層を形成し、この電極層上に発光層を形成する場
合、前記発光層、さらには保護膜をインクジェット方式
により形成する技術が開示されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-21222 discloses that, for example, when an electrode layer is formed on a light incident surface of an optical waveguide made of an optical fiber and a light emitting layer is formed on this electrode layer, the light emitting layer, Discloses a technique for forming a protective film by an inkjet method.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、、従来の光
導波管の形成方法においては、押出し装置を用いて導波
管材料を押し出して光導波管を作製しているため押出し
機が必要であり、さらに、導波管材料の粘性を一定の状
態に保つためのヒータや混合装置等が必要となり、装置
が大掛かりとならざるを得ない。また、ノズルを用いて
ポリマー材料を連続して押し出すため、径の細い光導波
管は作製できず、微小な光部品を接続することができな
い。
By the way, in the conventional method for forming an optical waveguide, an extruder is necessary because an optical waveguide is manufactured by extruding a waveguide material using an extruder. Furthermore, a heater, a mixing device, and the like for maintaining the viscosity of the waveguide material at a constant state are required, and the device must be large-scale. Further, since the polymer material is continuously extruded using the nozzle, an optical waveguide having a small diameter cannot be manufactured, and a minute optical component cannot be connected.

【0006】一方、従来のマイクロレンズアレイ製造方
法は、インクジェットヘッドを用いて光学樹脂材料の微
小液滴を吐出、着弾させた後、微小液滴を硬化させるこ
とにより、金型や大掛かりな装置を必要とすることな
く、微小光学素子であるマイクロレンズアレイを作製す
るものであり、光学樹脂材料を液滴として飛翔させるよ
うに構成されたインクジェットヘッドを用いていた。そ
のため、連続して光学樹脂材料を吐出することができ
ず、連続的な構造を持つ光導波路を作製することはでき
なかった。
[0006] On the other hand, the conventional method of manufacturing a microlens array uses a inkjet head to discharge and land minute droplets of an optical resin material, and then hardens the minute droplets to form a mold or a large-scale apparatus. Without the necessity, a microlens array, which is a minute optical element, was manufactured, and an ink jet head configured to fly an optical resin material as droplets was used. Therefore, the optical resin material cannot be continuously discharged, and an optical waveguide having a continuous structure cannot be manufactured.

【0007】なお、前掲特開2000−21222号公
報には、光ファイバーなどの光導波路と組み合わせて使
用される発光装置の発光層および保護膜をインクジェッ
ト方式により形成する技術が開示されているが、これは
あくまでも発光装置の発光層および保護膜の形成に関す
る技術であって、本発明で対象としている光導波路の作
製に関する技術ではなく、しかもインクジェットヘッド
からは、材料を液滴状に吐出するというものであって、
後述する本発明のように、インクジェットヘッドから材
料を連続的に吐出する技術とは異なる。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-21222 discloses a technique in which a light emitting layer and a protective film of a light emitting device used in combination with an optical waveguide such as an optical fiber are formed by an ink jet method. This is merely a technique relating to the formation of a light-emitting layer and a protective film of a light-emitting device, not a technique relating to the production of an optical waveguide targeted by the present invention.Moreover, it is a technique of discharging a material in the form of droplets from an inkjet head. So,
This is different from a technique of continuously discharging a material from an inkjet head as in the present invention described later.

【0008】本発明の課題は、簡易な構成で光導波路を
作製する光導波路作製方法および光導波路作製装置を提
供することである。
An object of the present invention is to provide an optical waveguide manufacturing method and an optical waveguide manufacturing apparatus for manufacturing an optical waveguide with a simple configuration.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、光導波
路被形成部材として液体状の光導波路材を用いて光導波
路を形成する場合に、インクジェットヘッドから光導波
路材を連続的に吐出させ、光導波路被形成部材とインク
ジェットヘッドを相対的に移動させて光導波路を作製す
るようにした点にある。
SUMMARY OF THE INVENTION The gist of the present invention is to provide a method for forming an optical waveguide using a liquid optical waveguide material as an optical waveguide forming member, by continuously discharging the optical waveguide material from an ink jet head. In addition, the optical waveguide forming member and the ink jet head are relatively moved to manufacture the optical waveguide.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】はじめに、本発明の第1の実施形
態を図1から図3を用いて説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0011】図1は、本実施形態に係る光導波路作製装
置の構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram of an optical waveguide manufacturing apparatus according to this embodiment.

【0012】光導波路作製装置のヘッド部10には、イ
ンクジェットヘッド部50、光導波路材供給部54が設
けられている。光導波路材供給部54には、光導波路材
供給ホース30から光導波路材が供給される。インクジ
ェットヘッド部50は、形成する光導波路形状データを
もとに制御回路70で制御されたヘッド駆動回路114
により駆動される。制御回路70は、カメラ16により
撮影した画像をもとに基板56上に設置された発光素
子、受光素子、光ファイバ等の光学部品82a、82b
の位置、あるいは基板に描かれたマーカを検出し、ステ
ージ駆動回路68を制御して予め指定した経路に従って
XYステージ12を動かして、光学部品82a、82b
間に光導波路80を形成する。
In the head section 10 of the optical waveguide manufacturing apparatus, an ink jet head section 50 and an optical waveguide material supply section 54 are provided. The optical waveguide material is supplied to the optical waveguide material supply unit 54 from the optical waveguide material supply hose 30. The inkjet head unit 50 includes a head driving circuit 114 controlled by the control circuit 70 based on optical waveguide shape data to be formed.
Driven by The control circuit 70 includes optical components 82 a and 82 b such as a light emitting element, a light receiving element, and an optical fiber,
And the marker drawn on the substrate are detected, and the stage drive circuit 68 is controlled to move the XY stage 12 according to a previously designated path, thereby to control the optical components 82a and 82b.
An optical waveguide 80 is formed therebetween.

【0013】次に、インクジェットヘッド部50の構造
および駆動方法を説明する。
Next, the structure and driving method of the ink jet head unit 50 will be described.

【0014】図2は、本実施形態に係るインクヘッド部
の構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram of the ink head unit according to the present embodiment.

【0015】インクジェットヘッド122は、主に吐出
電極134と制御電極144との間に電圧を印加して形
成した電場によって光導波路材142に静電力を働か
せ、光導波路材142を吐出させる静電吸引方式を用い
ている。吐出した光導波路材142は、開口部146を
通して基板56上に付着し、光導波路を形成する。本実
施形態においては、光導波路材142として液体状の透
明樹脂溶媒中に0.01〜3μm程度の透明微粒子を分
散させたものを用いている。透明樹脂溶媒内において透
明微粒子が帯電するように透明微粒子と透明樹脂溶媒の
材質の組み合わせを選び、絶縁性の高い透明樹脂溶媒を
用いている。この帯電した透明微粒子が吐出電極134
と制御電極144との間に形成された電場に引き出さ
れ、光導波路材142が突出する。さらに、本実施形態
におけるインクジェットヘッド122は、電場の作用に
より帯電した透明微粒子が吐出電極134の先端で凝集
され、濃縮されて吐出されることにも特徴がある。
The ink-jet head 122 applies electrostatic force to the optical waveguide member 142 by an electric field formed by applying a voltage mainly between the ejection electrode 134 and the control electrode 144 to discharge the optical waveguide member 142 by electrostatic attraction. Method is used. The ejected optical waveguide material 142 adheres onto the substrate 56 through the opening 146 to form an optical waveguide. In the present embodiment, as the optical waveguide material 142, a material in which transparent fine particles of about 0.01 to 3 μm are dispersed in a liquid transparent resin solvent is used. A combination of materials of the transparent fine particles and the transparent resin solvent is selected so that the transparent fine particles are charged in the transparent resin solvent, and a transparent resin solvent having a high insulating property is used. The charged transparent fine particles form the discharge electrode 134.
The optical waveguide material 142 is drawn out by an electric field formed between the control electrode 144 and the optical waveguide 142. Further, the inkjet head 122 according to the present embodiment is also characterized in that transparent fine particles charged by the action of an electric field are aggregated at the tip of the discharge electrode 134, concentrated, and discharged.

【0016】光導波路材142は光導波路材タンクより
インクジェットヘッド122に導かれ、光導波路材流路
に均一に流れるように配分される。吐出電極134には
可変バイアス電源124、バイアス電源128とパルス
電源130からなる電圧印加手段が接続される。突出電
極134と制御電極144間には、バイアス電源128
とパルス電源130による電圧が印加される。パルス電
源130は、所望の光導波路形状に応じたデータに応じ
てデータ変換回路66により変調された信号をもとに駆
動回路62により駆動され、パルス電圧を出力する。バ
イアス電源128によるバイアス電圧と記録信号に応じ
て重畳されるパルス電源130による電圧との和によっ
て吐出電極134と制御電極144間に形成される電場
強度が臨界電場強度を超えた場合に、光導波路材142
が吐出電極134より吐出する。この臨界電場強度を越
えた電場が印加されている間、光導波路材142は連続
的に吐出される。吐出電極134から飛び出した光導波
路材142は、制御電極144に設けられている開口部
146を通って予めベースとなるクラッド部を形成した
基板56に到達する。開口部146を通過した光導波路
材142は、可変バイアス電源124から制御電極14
4に印加された電圧により、接地されたXYステージ1
2との間に形成された静電場を受け、基板56に到る。
連続的に吐出された光導波路材142は、XYステージ
12の移動に従い、基板56上に所望の経路に従って塗
布される。基板56上に塗布された光導波路材146は
紫外線の照射または熱処理され、透明樹脂溶媒を硬化さ
せることにより光導波路のコアを形成する。硬化させた
透明樹脂溶媒と透明微粒子との屈折率をほぼ等しくする
ことにより、損失の少ない光導波路を形成することがで
きる。形成したコアが汚染される恐れがある場合や、光
導波路の開口数を所定の値とする場合は、さらにコアを
覆うようにクラッド材を塗布すればよい。
The optical waveguide material 142 is guided from the optical waveguide material tank to the ink jet head 122 and is distributed so as to flow uniformly in the optical waveguide material flow path. The ejection electrode 134 is connected to a variable bias power supply 124, and a voltage applying means including a bias power supply 128 and a pulse power supply 130. A bias power supply 128 is provided between the projecting electrode 134 and the control electrode 144.
And a voltage from the pulse power supply 130 is applied. The pulse power supply 130 is driven by the drive circuit 62 based on a signal modulated by the data conversion circuit 66 according to data corresponding to a desired optical waveguide shape, and outputs a pulse voltage. When the electric field strength formed between the ejection electrode 134 and the control electrode 144 exceeds the critical electric field strength due to the sum of the bias voltage from the bias power supply 128 and the voltage from the pulse power supply 130 superimposed according to the recording signal, the optical waveguide Lumber 142
Is discharged from the discharge electrode 134. While the electric field exceeding the critical electric field intensity is applied, the optical waveguide member 142 is continuously discharged. The optical waveguide material 142 that has protruded from the ejection electrode 134 passes through the opening 146 provided in the control electrode 144 and reaches the substrate 56 on which a clad portion serving as a base has been formed in advance. The optical waveguide material 142 that has passed through the opening 146 is supplied from the variable bias power supply 124 to the control electrode 14.
XY stage 1 grounded by the voltage applied to
2 and reaches the substrate 56.
The continuously ejected optical waveguide material 142 is applied on the substrate 56 according to a desired path as the XY stage 12 moves. The optical waveguide material 146 applied on the substrate 56 is irradiated with ultraviolet rays or heat-treated, and the transparent resin solvent is cured to form a core of the optical waveguide. By making the refractive indices of the cured transparent resin solvent and the transparent fine particles substantially equal, an optical waveguide with less loss can be formed. When the formed core may be contaminated, or when the numerical aperture of the optical waveguide is set to a predetermined value, a clad material may be applied so as to further cover the core.

【0017】透明微粒子としては、ポリカーボネート、
ポリスチレン、アクリル等の透明樹脂を用いることがで
きる。また、透明樹脂溶媒としては、屈折率を調整した
紫外線硬化樹脂を用いることができる。
As the transparent fine particles, polycarbonate,
A transparent resin such as polystyrene or acrylic can be used. Further, as the transparent resin solvent, an ultraviolet curable resin whose refractive index is adjusted can be used.

【0018】吐出電極134の両側には接地されたガイ
ド電極136aと136bが設置されており、外乱の影
響を低減している。また、吐出電極134の先端には曲
率半径30〜60μmの丸みをつけ、吐出電極134先
端で最も電界が集中するようにして、光導波路材142
の吐出を容易にするとともに、吐出電極134において
透明微粒子が凝集し易くしている。
Guide electrodes 136a and 136b, which are grounded, are provided on both sides of the discharge electrode 134 to reduce the influence of disturbance. The tip of the discharge electrode 134 is rounded with a radius of curvature of 30 to 60 μm so that the electric field is concentrated at the tip of the discharge electrode 134 so that the optical waveguide material 142 is formed.
And the transparent fine particles are easily aggregated at the discharge electrode 134.

【0019】基板56の材質・厚さ等の情報に応じて、
可変バイアス電源124およびパルス電源130に印加
する電圧値を基板56の表面とインクジェットヘッド部
50間の距離に合わせて制御することにより、形成する
光導波路の太さを一定に保つことができる。電圧の制御
手段として用いた電圧補正回路64は基板56の材質・
厚さ等の情報をもとに可変バイアス電源124が印加す
る電圧を補正するとともに、パルス電源130に印加す
る電圧値を算出する。光導波路形状のデータを受けたデ
ータ変換回路66は、所定の時間駆動回路62を駆動
し、光導波路材を吐出させる。作製条件に応じて、バイ
アス電圧は2〜3kV、パルス電圧は200〜1000V
の間で調整することが望ましい。可変バイアス電源12
4、パルス電源130、データ変換回路66、駆動回路
62、および電圧補正回路64によりヘッド駆動回路1
14を構成している。
According to information such as the material and thickness of the substrate 56,
By controlling the voltage values applied to the variable bias power supply 124 and the pulse power supply 130 in accordance with the distance between the surface of the substrate 56 and the inkjet head unit 50, the thickness of the optical waveguide to be formed can be kept constant. The voltage correction circuit 64 used as the voltage control means is made of a material of the substrate 56.
The voltage applied by the variable bias power supply 124 is corrected based on information such as the thickness, and the voltage value applied to the pulse power supply 130 is calculated. The data conversion circuit 66 that has received the data of the optical waveguide shape drives the drive circuit 62 for a predetermined time to discharge the optical waveguide material. The bias voltage is 2-3 kV and the pulse voltage is 200-1000 V depending on the manufacturing conditions.
It is desirable to adjust between. Variable bias power supply 12
4. The head drive circuit 1 includes a pulse power supply 130, a data conversion circuit 66, a drive circuit 62, and a voltage correction circuit 64.
14.

【0020】本実施形態のインクジェットヘッドにおい
ては、吐出電極134と制御電極144との位置は固定
されており、光導波路材142の吐出条件は基板56と
の距離にほとんど因らないという特徴がある。制御電極
144の開口部146を通過した後光導波路材142が
受ける電場強度は基板56との距離によって変化する
が、光導波路材142を基板56の方へ駆動する電場が
形成されているためその大きさは光導波路形成にほとん
ど影響しない。したがって、基板との距離を一定に保ち
XYステージを一定の速度で移動すれば、一定の太さの
光導波路を形成できる。ただし、XYステージの移動に
伴ってインクジェットヘッドと基板との距離の変動が大
きい場合(インクジェットヘッド側の上下振動)や、基
板に凹凸がある場合には、基板とインクジェットヘッド
の間の距離を測定する距離測定手段を設け、バイアス電
源126を可変とし、バイアス電源126により印加す
る電圧を距離に応じて制御してもよい。あるいは、Z方
向の駆動装置を用いて距離が一定となるように制御して
もよい。電圧を制御する場合は、バイアス電圧およびパ
ルス電圧を、距離にほぼ比例して大きくすればよく、バ
イアス電圧を2〜3kV、パルス電圧を200〜1000
Vの間で調整することが望ましい。ただし、パルス電圧
は小さいほうがオン/オフの応答速度が向上するため望
ましい。可変バイアス電源124を用いることにより、
パルス電源130によって発生するパルス電圧の大きさ
を小さくしている。また、制御電極144を用いること
により、吐出電極134と制御電極144との距離を小
さくすることができ、バイアス電源128およびパルス
電源130の出力電圧を小さくすることができる。
In the ink jet head of this embodiment, the positions of the discharge electrode 134 and the control electrode 144 are fixed, and the discharge condition of the optical waveguide member 142 is hardly dependent on the distance from the substrate 56. . The electric field strength received by the optical waveguide member 142 after passing through the opening 146 of the control electrode 144 changes depending on the distance from the substrate 56, but the electric field that drives the optical waveguide member 142 toward the substrate 56 is formed. The size has little effect on the formation of the optical waveguide. Therefore, if the XY stage is moved at a constant speed while maintaining a constant distance from the substrate, an optical waveguide having a constant thickness can be formed. However, the distance between the substrate and the inkjet head is measured when the distance between the inkjet head and the substrate varies greatly with the movement of the XY stage (vertical vibration on the inkjet head side) or when the substrate has irregularities. It is also possible to provide a distance measuring means to make the bias power supply 126 variable, and to control the voltage applied by the bias power supply 126 according to the distance. Alternatively, control may be performed using a driving device in the Z direction so that the distance is constant. When controlling the voltage, the bias voltage and the pulse voltage may be increased almost in proportion to the distance.
It is desirable to adjust between V. However, it is desirable that the pulse voltage is small because the response speed of ON / OFF is improved. By using the variable bias power supply 124,
The magnitude of the pulse voltage generated by the pulse power supply 130 is reduced. Further, by using the control electrode 144, the distance between the ejection electrode 134 and the control electrode 144 can be reduced, and the output voltage of the bias power supply 128 and the pulse power supply 130 can be reduced.

【0021】図3は、本実施形態に係る光導波路材供給
部54の構成図である。ポンプ等の加圧装置や弁等で構
成される光導波路材流量調整装置106は、光導波路材
タンク100に蓄えられている光導波路材142をイン
クジェットヘッド部50に供給する。吐出されなかった
大部分の光導波路材は、光導波路材搬送装置102によ
って光導波路材タンク100に搬送回収され、再利用す
る。
FIG. 3 is a configuration diagram of the optical waveguide material supply section 54 according to the present embodiment. The optical waveguide material flow rate adjusting device 106 including a pressurizing device such as a pump and a valve supplies the optical waveguide material 142 stored in the optical waveguide material tank 100 to the inkjet head unit 50. Most of the optical waveguide material that has not been discharged is transported and collected to the optical waveguide material tank 100 by the optical waveguide material transport device 102, and is reused.

【0022】本実施形態のインクジェットヘッドにおい
ては、吐出電極134にパルス電圧が印加されている
間、インクが糸状になって連続的に飛翔する。そのた
め、XYステージを一定速度で動かすことにより、一定
の太さで光導波路を形成できる。したがって、微少液滴
を飛翔させる場合に比べて光導波路表面の凹凸が生じに
くく、光損失の小さな光導波路を作製することができ
る。また、光導波路コアとなる液体のみを吐出・塗布し
て光導波路を形成しようとすると基板との濡れ性の影響
を強く受けるため、基板と液体との濡れ性がよい場合に
は光導波路材が薄く広がってしまい立体的なコアが形成
されず、一方、濡れ性が悪いと表面張力により丸まって
しまう。しかし、本実施形態のインクジェットヘッドに
おいては、透明樹脂溶媒に分散させた透明微粒子が電場
の作用により凝集されて吐出される。そのため、基板に
到達する光導波路材は、液体の透明樹脂溶剤の割合が少
なくなっており、基板と光導波路材との濡れ性の影響を
受けにくく、安定して光導波路を形成できる。
In the ink jet head of the present embodiment, while the pulse voltage is applied to the discharge electrode 134, the ink forms a string and continuously flies. Therefore, by moving the XY stage at a constant speed, the optical waveguide can be formed with a constant thickness. Therefore, as compared with the case where the minute droplet is caused to fly, irregularities on the surface of the optical waveguide are less likely to occur, and an optical waveguide with small light loss can be manufactured. In addition, when an optical waveguide is formed by discharging and applying only a liquid serving as an optical waveguide core, the wettability of the substrate is strongly affected. It spreads thinly and does not form a three-dimensional core. On the other hand, if wettability is poor, the core is rounded due to surface tension. However, in the ink jet head of this embodiment, the transparent fine particles dispersed in the transparent resin solvent are aggregated and discharged by the action of the electric field. Therefore, the ratio of the liquid transparent resin solvent in the optical waveguide material reaching the substrate is small, and the optical waveguide material is not easily affected by the wettability between the substrate and the optical waveguide material, so that the optical waveguide can be formed stably.

【0023】本実施形態において、光導波路材の粘度・
表面張力、光導波路材の吐出速度、ステージの移動速度
を調整することにより、幅が5μmから100μmの光
導波路を作製することができた。したがって、シングル
モードの細い光導波路からマルチモードの光導波路まで
作製でき、シングルモード光ファイバや、コア径50μ
m、62.5μmのマルチモードファイバとも接続する
ことが可能である。
In this embodiment, the viscosity of the optical waveguide material
By adjusting the surface tension, the discharge speed of the optical waveguide material, and the moving speed of the stage, an optical waveguide having a width of 5 μm to 100 μm could be manufactured. Therefore, a single mode thin optical waveguide to a multimode optical waveguide can be manufactured, and a single mode optical fiber and a core diameter of 50 μm can be manufactured.
It is also possible to connect to a multimode fiber of m, 62.5 μm.

【0024】本実施形態においては、導波路形成基板を
動かし光導波路を形成したが、インクジェットヘッドを
動かすことにより基板上に光導波路を描画・形成しても
よい。特に、少なくとも一方の光学部品として長い光フ
ァイバを用いる場合には、インクジェットヘッドを動か
すことが望ましい。
In the present embodiment, the optical waveguide is formed by moving the waveguide forming substrate. However, the optical waveguide may be drawn and formed on the substrate by moving the ink jet head. In particular, when a long optical fiber is used as at least one optical component, it is desirable to move the ink jet head.

【0025】次に、本発明の第2の実施形態を図4から
図6を用いて説明する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0026】図4は、本実施形態に係る光導波路作製装
置の構成図である。
FIG. 4 is a configuration diagram of an optical waveguide manufacturing apparatus according to the present embodiment.

【0027】光導波路作製装置のヘッド部10には、イ
ンクジェットヘッド部50、インクジェットヘッド部5
1a、51b、光導波路材供給部54、光導波路材供給
部55a、55b、紫外線照射用光ファイバ164a、
164b、164cを有している。光導波路材供給部5
4には光導波路材供給ホース30から、光導波路材供給
部55a、55bには光導波路材供給ホース31a、3
1bから光導波路材が供給される。インクジェットヘッ
ド部50、インクジェットヘッド部51a、51bは、
形成する光導波路形状データをもとに制御回路で制御さ
れたヘッド駆動回路により駆動される。制御回路は、カ
メラ16により撮影した画像をもとに基板56上に設置
された発光素子、受光素子、光ファイバ等の光学部品8
2a、82bの位置、あるいは基板に描かれたマーカを
検出し、予め指定した経路に従って光導波路80を形成
するように、ステージ駆動回路を制御し、XYステージ
12を動かす。XYステージ12の進行方向に対して、
インクジェットヘッド部50、インクジェットヘッド部
51a、51bが直線に並ぶように、回転ステージ14
でヘッド部10を回転する。
The head section 10 of the optical waveguide manufacturing apparatus includes an ink jet head section 50 and an ink jet head section 5.
1a, 51b, an optical waveguide material supply unit 54, optical waveguide material supply units 55a, 55b, an ultraviolet irradiation optical fiber 164a,
164b and 164c. Optical waveguide material supply unit 5
4 is an optical waveguide material supply hose 30, and the optical waveguide material supply sections 55a and 55b are optical waveguide material supply hoses 31a and 3b.
An optical waveguide material is supplied from 1b. The inkjet head unit 50, the inkjet head units 51a and 51b
Driven by a head drive circuit controlled by a control circuit based on the optical waveguide shape data to be formed. The control circuit includes optical components 8 such as a light emitting element, a light receiving element, and an optical fiber, which are installed on the substrate 56 based on an image captured by the camera 16.
The position of 2a, 82b or a marker drawn on the substrate is detected, and the stage drive circuit is controlled to move the XY stage 12 so as to form the optical waveguide 80 according to a previously specified path. With respect to the traveling direction of the XY stage 12,
The rotary stage 14 is arranged such that the inkjet head unit 50 and the inkjet head units 51a and 51b are arranged in a straight line.
To rotate the head unit 10.

【0028】インクジェットヘッド部51aは、基板5
6上にクラッド用透明樹脂154を吐出し、紫外線照射
用光ファイバ164aにより紫外線を照射して硬化さ
せ、クラッド157を形成する。続いて、クラッド15
7上にインクジェットヘッド部50により、帯電した透
明微粒子を含み紫外線硬化樹脂からなるコア材151を
吐出する。紫外線照射用光ファイバ164bにより紫外
線を照射してコア材151を硬化させ、コア基材部15
8を形成する。最後に、インクジェットヘッド部51b
により、コア基材部158上に透明樹脂152を吐出
し、紫外線照射用光ファイバ164cにより紫外線を照
射してコア159を形成する。インクジェットヘッド部
50には第一の実施形態に示した静電式インクジェット
ヘッド、インクジェットヘッド部51a、51bにはピ
エゾ方式、あるいはバブルジェット方式を用いた。イン
クジェットヘッド部51a、51bとして、これら以外
に、いわゆるコンテニュアス方式と呼ばれる、マイクロ
ドット方式、Hertz方式、荷電変調方式等のインク
ジェット方式を用いてもよい。
The ink-jet head 51a is connected to the substrate 5
The transparent resin 154 for cladding is discharged onto the substrate 6, and is irradiated with ultraviolet rays by the ultraviolet irradiating optical fiber 164 a to be cured, thereby forming the cladding 157. Then, clad 15
A core material 151 containing charged transparent fine particles and made of an ultraviolet curable resin is ejected onto the substrate 7 by the inkjet head unit 50. The core material 151 is cured by irradiating ultraviolet rays with the ultraviolet irradiating optical fiber 164b.
8 is formed. Finally, the inkjet head unit 51b
As a result, the transparent resin 152 is discharged onto the core base portion 158, and the core 159 is formed by irradiating ultraviolet rays through the ultraviolet irradiation optical fiber 164c. The inkjet head unit 50 uses the electrostatic inkjet head described in the first embodiment, and the inkjet head units 51a and 51b use a piezo method or a bubble jet method. In addition to these, an inkjet system such as a so-called continuous system, such as a microdot system, a Hertz system, or a charge modulation system, may be used as the inkjet head units 51a and 51b.

【0029】本実施形態におけるコア部の形成について
図5を用いてさらに詳しく説明する。
The formation of the core portion in this embodiment will be described in more detail with reference to FIG.

【0030】図5は、光導波路部の断面図である。FIG. 5 is a sectional view of the optical waveguide section.

【0031】クラッド157上に薄く透明微粒子を含む
透明樹脂を用いてコア基材158の層を形成する。本実
施形態のインクジェットヘッドにおいては、コア材に分
散させた透明微粒子が電場の作用により凝集されて吐出
されるため、基板に到達するコア材は液体の割合が小さ
くなっており、基板と光導波路材との濡れ性の影響を余
り受けずに、安定して一定の幅・厚さで光導波路を形成
できる。コア材を硬化させ、コア基材158を形成した
後、コア基材部158層上に、透明樹脂152を吐出し
硬化させて、コア159を形成する。コア基材部158
は透明微粒子を含むため表面に凹凸が形成されるため透
明樹脂152との濡れ性が良くなり、コア基材部158
上に吐出された透明樹脂152はコア基材部158上を
広がり、表面張力によりかまぼこ状のコア部を形成す
る。一方、透明樹脂152とクラッド用透明樹脂154
との濡れ性を悪くすることにより、透明樹脂152はク
ラッド157へは広がらない。予め、コアのベースとな
るコア基材部158を連続吐出する静電式インクジェッ
トを用いて形成しているため、その上に吐出する透明樹
脂152は連続的に吐出する必要はなく、微小液滴を吐
出するピエゾ方式、あるいはバブルジェット(登録商
標)方式のインクジェットヘッドを用いることができ
る。
A layer of the core substrate 158 is formed on the clad 157 by using a transparent resin containing thin transparent fine particles. In the ink jet head of the present embodiment, since the transparent fine particles dispersed in the core material are aggregated and discharged by the action of the electric field, the ratio of the liquid to the core material reaching the substrate is small, and the substrate and the optical waveguide The optical waveguide can be stably formed with a constant width and thickness without being significantly affected by wettability with the material. After the core material is cured and the core base material 158 is formed, the transparent resin 152 is discharged and cured on the core base material part 158 layer to form the core 159. Core base part 158
Since the resin contains transparent fine particles, unevenness is formed on the surface, so that the wettability with the transparent resin 152 is improved, and
The transparent resin 152 discharged above spreads on the core base portion 158 and forms a semi-cylindrical core portion due to surface tension. On the other hand, the transparent resin 152 and the transparent resin 154 for cladding are used.
The transparent resin 152 does not spread to the cladding 157 due to poor wettability with the cladding 157. Since the core base portion 158 serving as the base of the core is formed in advance by using the electrostatic ink jet that continuously discharges, the transparent resin 152 to be discharged on the core base portion 158 does not need to be continuously discharged. , Or a bubble jet (registered trademark) type ink jet head.

【0032】別のコア部の形成について図6を用いて説
明する。
The formation of another core portion will be described with reference to FIG.

【0033】図6は、光導波路部の断面図である。FIG. 6 is a sectional view of the optical waveguide section.

【0034】静電式インクジェットヘッド部50から、
揮発性の溶媒中に透明微粒子を分散したコア材151を
吐出する。クラッド157上に吐出されたコア材は溶剤
が揮発し、透明微粒子150からなるポーラスな状態に
なる。このポーラスな透明微粒子150に透明樹脂15
2を吐出させると、毛細管現象により透明樹脂152が
透明微粒子150の隙間を埋め、紫外線を照射して硬化
させることにより光導波路のコア159を形成する。透
明樹脂152を硬化後、透明微粒子150と透明樹脂1
52の屈折率を等しくなるようにすることにより、透明
微粒子150による光散乱を抑え、良好な光導波路を形
成できる。この場合、紫外線照射用光ファイバ164b
を用いて紫外線を照射するに代わり、赤外線を照射して
加熱し、溶媒を乾燥させることが望ましい。
From the electrostatic ink jet head 50,
The core material 151 in which transparent fine particles are dispersed in a volatile solvent is discharged. The solvent discharged from the core material on the clad 157 volatilizes, and becomes a porous state composed of the transparent fine particles 150. A transparent resin 15 is added to the porous transparent fine particles 150.
When 2 is discharged, the transparent resin 152 fills the gaps between the transparent fine particles 150 by capillary action, and is irradiated with ultraviolet rays to be cured, thereby forming the core 159 of the optical waveguide. After curing the transparent resin 152, the transparent fine particles 150 and the transparent resin 1
By making the refractive indices 52 equal, light scattering by the transparent fine particles 150 can be suppressed, and a good optical waveguide can be formed. In this case, the ultraviolet irradiation optical fiber 164b
Instead of irradiating with ultraviolet rays, it is desirable to irradiate with infrared rays and heat to dry the solvent.

【0035】本実施例のインクジェットヘッドにおいて
は、コア材に分散させた透明微粒子が電場の作用により
凝集されて吐出される。そのため、基板に到達するコア
材は、溶媒の割合が少なくなっており、基板と光導波路
材との濡れ性の影響を余り受けず、安定して光導波路を
形成できる。
In the ink jet head of this embodiment, the transparent fine particles dispersed in the core material are aggregated and discharged by the action of the electric field. Therefore, the ratio of the solvent in the core material reaching the substrate is small, and the optical waveguide can be stably formed without being significantly affected by the wettability between the substrate and the optical waveguide material.

【0036】次に、本発明の第3の実施形態を図7から
図8を用いて説明する。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0037】図7は本実施形態に係わるインクジェット
ヘッド部の斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view of the ink jet head according to this embodiment.

【0038】電極基板132上に、等間隔に複数の吐出
電極134を形成する。光導波路材は、光導波路材供給
口160より吐出電極134に供給され、光導波路材回
収口162より回収されて再利用される。各吐出電極1
34の構造は、第一の実施形態と同じであり、電場を利
用して光導波路材を吐出する。各吐出電極134ごとに
インクジェット制御装置を設けることにより、個々の吐
出電極134を独立で駆動することができる。本実施形
態に用いたインクジェットヘッドは、半導体製造に用い
られているフォトリソグラフィの手法を用いて作製する
ことができ、吐出電極の間隔・形状を精密に定めること
ができる。本実施形態のインクジェットヘッドアレイを
用いることにより、同時に複数の光導波路を形成するこ
とができる。
On the electrode substrate 132, a plurality of ejection electrodes 134 are formed at equal intervals. The optical waveguide material is supplied from the optical waveguide material supply port 160 to the discharge electrode 134, collected from the optical waveguide material recovery port 162, and reused. Each discharge electrode 1
The structure of 34 is the same as that of the first embodiment, and discharges the optical waveguide material using an electric field. By providing an inkjet control device for each ejection electrode 134, each ejection electrode 134 can be driven independently. The inkjet head used in the present embodiment can be manufactured by using a photolithography technique used in semiconductor manufacturing, and can precisely determine the interval and shape of the ejection electrodes. By using the inkjet head array of the present embodiment, a plurality of optical waveguides can be simultaneously formed.

【0039】図8は、本実施形態のインクインクジェッ
トヘッド部を用いて形成した、並列光導波路の例であ
る。予め、レーザアレイ84a、84bおよびファイバ
アレイ86を基板56と高さを合わせて設置する。レー
ザアレイ84a、84bは125μmピッチでそれぞれ
6個のレーザが並んでおり、ファイバアレイも、V溝ブ
ロックを用いて正確に125μmピッチで並べている。
本実施形態の光導波路アレイ作製装置を用いて予め設置
したレーザアレイ84a、84bとファイバアレイ86
の間に、光導波路アレイ81a、81bを形成し、光学
的に接続する。インクジェットヘッドアレイの吐出電極
間をレーザアレイ84a、84bとファイバアレイ86
の間隔よりも若干広くしておくことにより、インクジェ
ットヘッド部を斜めにしてレーザアレイ84a、84b
とファイバアレイ86の間隔に合わせて光導波路間隔を
微調整することができる。本実施形態のインクジョット
ヘッドは、吐出部間隔を正確に作製できるため、本実施
形態のように、予め設置したアレイ光学素子に合わせて
光導波路を形成することができる。光導波路に合わせて
アレイ光学素子の位置を調整する場合に比べて、容易に
作製することができる。
FIG. 8 shows an example of a parallel optical waveguide formed by using the ink jet head of this embodiment. The laser arrays 84a and 84b and the fiber array 86 are set in advance so as to have the same height as the substrate 56. The laser arrays 84a and 84b each have six lasers arranged at a pitch of 125 μm, and the fiber arrays are also precisely arranged at a pitch of 125 μm using V-groove blocks.
Laser arrays 84a and 84b and fiber array 86 previously set using the optical waveguide array manufacturing apparatus of the present embodiment.
Between them, optical waveguide arrays 81a and 81b are formed and optically connected. A laser array 84a, 84b and a fiber array 86
Is slightly wider than the distance between the laser arrays 84a and 84b
The distance between the optical waveguides can be finely adjusted according to the distance between the optical waveguide and the fiber array 86. In the ink jet head according to the present embodiment, since the interval between the ejection portions can be accurately manufactured, the optical waveguide can be formed in accordance with the array optical element installed in advance as in the present embodiment. It can be easily manufactured as compared with the case where the position of the array optical element is adjusted according to the optical waveguide.

【0040】また、本実施形態に用いているインクジェ
ットヘッドにおいては、飛翔させる光導波路材が帯電し
ているため、飛翔路中に偏向用の電極を設けることによ
り光導波路材の着弾位置を制御することもできる。イン
クジェットヘッドアレイにおいては、各吐出部ごとに偏
向電極を設け、独立に制御することで、各光導波路材の
着弾位置を微調整することもできる。
In the ink jet head used in this embodiment, since the optical waveguide material to be fly is charged, the landing position of the optical waveguide material is controlled by providing a deflection electrode in the flight path. You can also. In the ink jet head array, the landing position of each optical waveguide material can be finely adjusted by providing a deflection electrode for each ejection unit and controlling the deflection electrode independently.

【0041】またさらに、本発明の光導波路作製装置
は、光導波路の作製に限定したものではなく、かまぼこ
状の微小なシリンドリカルレンズ等光学部品の作成にも
適用することができる。
Furthermore, the apparatus for producing an optical waveguide of the present invention is not limited to the production of an optical waveguide, but can also be applied to the production of optical components such as a cylindrical lens having a small cylindrical shape.

【0042】[0042]

【発明の効果】本発明によれば、インクジェットヘッド
から光導波路材を連続的に吐出させ、光導波路被形成部
材とインクジェットヘッドを相対的に移動させて光導波
路を作製するため、簡易な構成で光導波路を作製するこ
とができる。また、本発明によれば、予め光部品を設置
し、その後光部品の位置に合わせて光導波路を作製する
ことができる。
According to the present invention, the optical waveguide material is continuously discharged from the ink jet head, and the optical waveguide forming member and the ink jet head are relatively moved to produce the optical waveguide. An optical waveguide can be manufactured. Further, according to the present invention, it is possible to install an optical component in advance and then fabricate an optical waveguide in accordance with the position of the optical component.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態に係る二分岐光ファイ
バの光導波路作製装置の構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram of a device for manufacturing an optical waveguide of a bifurcated optical fiber according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態に係るインクヘッド部
の構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram of an ink head unit according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施形態に係る光導波路材供給
部の構成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram of an optical waveguide material supply unit according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第2の実施形態に係る光導波路作製装
置の構成図である。
FIG. 4 is a configuration diagram of an optical waveguide manufacturing device according to a second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第2の実施形態に係る光導波路コア部
の形成方法を説明する光導波路部の断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of an optical waveguide section for explaining a method of forming an optical waveguide core section according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第2の実施形態に係る光導波路コア部
の第2の形成方法を説明する光導波路部の断面図であ
る。
FIG. 6 is a cross-sectional view of an optical waveguide unit for explaining a second method of forming an optical waveguide core unit according to a second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第3の実施形態に係る光導波路作製装
置のインクジェット部の斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view of an ink jet unit of an optical waveguide manufacturing device according to a third embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第3の実施形態を用いて作製した並列
光導波路を示す上面図である。
FIG. 8 is a top view showing a parallel optical waveguide manufactured by using the third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…ヘッド部、12…XYステージ、14…回転ステ
ージ、16…カメラ、20…ヘッド部、30…光導波路
材供給ホース、31a、31b…光導波路材供給ホー
ス、50…インクジェットヘッド部、51a、51b…
インクジェットヘッド部、54…光導波路材供給部、5
5a、55b…光導波路材供給部、56…基板、62…
電圧駆動回路、64…電圧補正回路、66…データ変換
回路、68…ステージ駆動回路、70…制御回路、80
…光導波路、81a、81b…光導波路アレイ、82
a、82b…光学部品、84a、84b…レーザアレ
イ、86…ファイバアレイ、88…ベース、90…V溝
ブロック、100…光導波路材タンク、102…光導波
路材搬送装置、106…光導波路材流量調整装置、11
4…ヘッド駆動回路、122…インクジェットヘッド、
124…可変バイアス電源、126…バイアス電源、1
28…バイアス電源、130…パルス電源、132…電
極基板、134…吐出電極、136a、136b…ガイ
ド電極、140…スペーサ、142…光導波路材、14
4…制御電極、146…開口部、148…光導波路材流
路、150…透明微粒子、151…コア材、152…透
明樹脂(母材)、154…クラッド用透明樹脂、157
…クラッド、158…コア基材部、159…コア、16
0…光導波路材供給口、162…光導波路材回収口、1
64a、164b、164c…紫外線照射用光ファイ
バ。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Head part, 12 ... XY stage, 14 ... Rotation stage, 16 ... Camera, 20 ... Head part, 30 ... Optical waveguide material supply hose, 31a, 31b ... Optical waveguide material supply hose, 50 ... Inkjet head part, 51a, 51b ...
Ink-jet head part, 54 ... optical waveguide material supply part, 5
5a, 55b: optical waveguide material supply unit, 56: substrate, 62 ...
Voltage drive circuit, 64: Voltage correction circuit, 66: Data conversion circuit, 68: Stage drive circuit, 70: Control circuit, 80
... Optical waveguides, 81a and 81b ... Optical waveguide arrays, 82
a, 82b: optical components, 84a, 84b: laser array, 86: fiber array, 88: base, 90: V-groove block, 100: optical waveguide material tank, 102: optical waveguide material conveying device, 106: optical waveguide material flow rate Adjustment device, 11
4 head drive circuit 122 ink jet head
124: variable bias power supply, 126: bias power supply, 1
28: bias power supply, 130: pulse power supply, 132: electrode substrate, 134: discharge electrode, 136a, 136b: guide electrode, 140: spacer, 142: optical waveguide material, 14
4 Control electrode, 146 Opening, 148 Optical waveguide material channel, 150 Transparent fine particles, 151 Core material, 152 Transparent resin (base material), 154 Transparent resin for cladding, 157
... clad, 158 ... core base part, 159 ... core, 16
0: Optical waveguide material supply port, 162: Optical waveguide material recovery port, 1
64a, 164b, 164c: Optical fibers for ultraviolet irradiation.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[The claims] 【請求項1】 光導波路被形成部材に、液体状の光導波
路材を用いて光導波路を形成する光導波路作製装置であ
って、 前記光導波路材を吐出するインクジェットヘッドと、 前記光導波路被形成部材と前記インクジェットヘッドを
相対的に移動させる移動手段と、 前記インクジェットヘッドと前記移動手段とを制御する
制御手段とを有し、 前記光導波路部材をインクジェットヘッドで吐出しなが
ら、前記光導波路被形成部材を相対的に移動させてコア
部を形成し、前記コア部を硬化させて光導波路を作製す
る場合に、前記インクジェットヘッドから光導波路材を
連続的に吐出する構成としたことをを特徴とする光導波
路作製装置。
1. An optical waveguide manufacturing apparatus for forming an optical waveguide by using a liquid optical waveguide material as an optical waveguide forming member, comprising: an ink jet head for discharging the optical waveguide material; A moving unit that relatively moves the member and the inkjet head; and a control unit that controls the inkjet head and the moving unit. The optical waveguide member is formed while the optical waveguide member is ejected by the inkjet head. A member is relatively moved to form a core portion, and when the core portion is cured to produce an optical waveguide, the optical waveguide material is continuously discharged from the inkjet head. Optical waveguide manufacturing equipment.
【請求項2】 請求項1記載の光導波路作製装置におい
て、 前記インクジェットヘッドが、 吐出電極と、 前記吐出電極に電圧を印加する電圧印加手段と、 前記吐出電極に前記光導波路材を供給する供給手段とを
有し、 前記光導波路材が、透明微粒子を含有しており、 前記吐出電極に印加した電圧によって生じた電場を前記
透明微粒子に働かせ前記光導波路材を吐出させる構成と
したことを特徴とする光導波路作製装置。
2. The optical waveguide manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the inkjet head comprises: an ejection electrode; a voltage application unit for applying a voltage to the ejection electrode; and a supply for supplying the optical waveguide material to the ejection electrode. Means, wherein the optical waveguide material contains transparent fine particles, and an electric field generated by a voltage applied to the discharge electrode is applied to the transparent fine particles to discharge the optical waveguide material. Optical waveguide manufacturing apparatus.
【請求項3】 請求項2記載の光導波路作製装置におい
て、 複数の前記吐出電極と、 前記吐出電極を独立に駆動する前記電圧印加手段とを有
することを特徴とする光導波路作製装置。
3. The optical waveguide manufacturing apparatus according to claim 2, further comprising: a plurality of said discharge electrodes; and said voltage applying means for independently driving said discharge electrodes.
【請求項4】 光導波路被形成部材に、液体状の光導波
路材を用いて光導波路を形成する光導波路作製装置であ
って、 第一の光導波路材を吐出する第一のインクジェットヘッ
ドと、 第二の光導波路材を吐出する第二のインクジェットヘッ
ドと、 前記光導波路被形成部材と前記第一および第二のインク
ジェットヘッドとを相対的に移動させる移動手段と、 前記第一および第二のインクジェットヘッドと前記移動
手段とを制御する制御手段とを有し、 前記第一の光導波路部材を前記第一のインクジェットヘ
ッドで吐出した後、前記第一の光導波路部材上に前記第
二の光導波路部材を前記第二のインクジェットヘッドで
吐出して光導波路を作製する場合に、前記第一のインク
ジェットヘッドから第一の光導波路材を連続的に吐出す
る構成としたことを特徴とする光導波路作製装置。
4. An optical waveguide manufacturing apparatus for forming an optical waveguide by using a liquid optical waveguide material on an optical waveguide forming member, comprising: a first inkjet head for discharging a first optical waveguide material; A second inkjet head that discharges a second optical waveguide material, a moving unit that relatively moves the optical waveguide forming member and the first and second inkjet heads, and the first and second inkjet heads. Having an ink jet head and control means for controlling the moving means, after the first optical waveguide member is ejected by the first ink jet head, the second light guide is formed on the first optical waveguide member. In the case where an optical waveguide is manufactured by discharging a waveguide member with the second inkjet head, the first optical waveguide material is continuously discharged from the first inkjet head. Optical waveguide manufacturing apparatus according to claim.
【請求項5】 請求項4記載の光導波路作製装置におい
て、 前記第一の光導波路形成材が透明微粒子を含有し、 前記第一のインクジェットヘッドが電場発生手段を有
し、 前記電場発生手段により印加した電場による静電力より
に前記光導波路材を吐出させ、 前記第二のインクジェットヘッドが、第二の光導波路材
の粒滴を吐出する構成としたことを特徴とする光導波路
作製装置。
5. The optical waveguide manufacturing apparatus according to claim 4, wherein the first optical waveguide forming material contains transparent fine particles, the first inkjet head has an electric field generating unit, and the first inkjet head has an electric field generating unit. An optical waveguide manufacturing apparatus, characterized in that the optical waveguide material is ejected from electrostatic force caused by an applied electric field, and the second inkjet head ejects droplets of the second optical waveguide material.
【請求項6】 請求項1から5のいずれか1項記載の光
導波路作製装置において、 画像認識手段を有し、 前記画像認識手段により、前記光導波路被形成部材上の
光部品、またはマーカを認識し、 前記光部品に光学的に接続するように光導波路を形成す
る構成としたことを特徴とする光導波路作製装置。
6. The optical waveguide manufacturing device according to claim 1, further comprising an image recognition unit, wherein the optical component or the marker on the optical waveguide forming member is removed by the image recognition unit. An optical waveguide manufacturing apparatus, characterized in that the optical waveguide is formed so as to be recognized and optically connected to the optical component.
【請求項7】 光導波路被形成部材上に、液体状の光導
波路材を用いて光導波路を形成する光導波路作製方法で
あって、 透明微粒子を含む前記光導波路材を用い、 吐出前の前記光導波路材中の前記透明微粒子の濃度よ
り、吐出した後の前記透明微粒子の濃度を濃くして、前
記光導波路部材を吐出させ、 前記光導波路被形成部材上に、インクジェットヘッドを
用いて前記光導波路材を連続的に吐出しながら、前記光
導波路被形成部材とインクジェットヘッドを相対的に移
動させることにより光導波路コアを形成することを特徴
とする光導波路作製方法。
7. An optical waveguide manufacturing method for forming an optical waveguide on a member on which an optical waveguide is to be formed using a liquid optical waveguide material, comprising: using the optical waveguide material containing transparent fine particles; The concentration of the transparent fine particles after being discharged is made higher than the concentration of the transparent fine particles in the optical waveguide material to discharge the optical waveguide member, and the light guide is formed on the optical waveguide forming member using an inkjet head. An optical waveguide manufacturing method, wherein an optical waveguide core is formed by relatively moving the optical waveguide forming member and an inkjet head while continuously discharging a waveguide material.
【請求項8】 光導波路被形成部材上に、液体状の光導
波路材を用いて光導波路を形成する光導波路作製方法で
あって、 前記光導波路被形成部材上に、インクジェットヘッドを
用いて透明微粒子を含む第一の光導波路材を連続的に吐
出しながら、前記光導波路被形成部材と前記インクジェ
ットヘッドを相対的に移動させて、光導波路基材を形成
した後、前記光導波路基材を硬化させ、 続いて、前記光導波路被形成部材上の前記第一の光導波
路材の上に、硬化後において前記第一の光導波路材とほ
ぼ等しい屈折率を持つ第二の光導波路材を吐出し、前記
第二の光導波路材を硬化させて、光導波路コアを形成す
ることを特徴とする光導波路作製方法。
8. An optical waveguide manufacturing method for forming an optical waveguide on an optical waveguide forming member using a liquid optical waveguide material, wherein the optical waveguide forming member is transparent on the optical waveguide forming member using an inkjet head. While continuously discharging the first optical waveguide material containing fine particles, the optical waveguide forming member and the inkjet head are relatively moved to form an optical waveguide substrate, and then the optical waveguide substrate is removed. After curing, a second optical waveguide material having a refractive index substantially equal to that of the first optical waveguide material after curing is discharged onto the first optical waveguide material on the optical waveguide forming member. And an optical waveguide core formed by curing the second optical waveguide material.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002323630A (en) * 2001-04-25 2002-11-08 Ntt Advanced Technology Corp Method and device for manufacturing optical circuit with liquid discharging machine
US7197212B2 (en) 2002-09-27 2007-03-27 Seiko Epson Corporation Optical waveguide and method of manufacturing the same, circuit board, optical module, and optical transfer apparatus

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002323630A (en) * 2001-04-25 2002-11-08 Ntt Advanced Technology Corp Method and device for manufacturing optical circuit with liquid discharging machine
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