JP2002246690A - Semiconductor laser device, method of manufacturing the same, and semiconductor laser module - Google Patents

Semiconductor laser device, method of manufacturing the same, and semiconductor laser module

Info

Publication number
JP2002246690A
JP2002246690A JP2001379271A JP2001379271A JP2002246690A JP 2002246690 A JP2002246690 A JP 2002246690A JP 2001379271 A JP2001379271 A JP 2001379271A JP 2001379271 A JP2001379271 A JP 2001379271A JP 2002246690 A JP2002246690 A JP 2002246690A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor laser
approximately
laser device
resonator length
optical output
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001379271A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Jiyunji Yoshida
順自 吉田
Naoki Tsukiji
直樹 築地
Toshio Kimura
俊雄 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Furukawa Electric Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Furukawa Electric Co Ltd filed Critical Furukawa Electric Co Ltd
Priority to JP2001379271A priority Critical patent/JP2002246690A/en
Publication of JP2002246690A publication Critical patent/JP2002246690A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor laser device and semiconductor laser module which can produce a minimum driving power and a maximum light power conversion efficiency when a semiconductor laser device for producing a desired light output is implemented. SOLUTION: A constant resonator length of 1,000 μm. or more as a parameter is determined so that a driving power corresponding to a desired light output is in the vicinity of a minimum on the basis of a relationship of the driving power to the light output of 50 mW or more. For example, when the light output is 360 mW, a resonator length of 1,500 μm is selected and determined.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、所望の光出力お
よび高い光電力交換効率を実現する構造が適切に組み合
わされた構造をもつ半導体レーザ装置およびその製造方
法ならびに半導体レーザモジュールに関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor laser device having a structure in which structures for achieving a desired optical output and a high optical power exchange efficiency are appropriately combined, a method for manufacturing the same, and a semiconductor laser module.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、インターネットをはじめとする様
々なマルチメディアの普及に伴って、光通信に対する大
容量化の要求が大きくなっている。従来、光通信では、
光ファイバによる光の吸収が少ない波長である1310
nmもしくは1550nmの帯域において、それぞれ単
一の波長による伝送が一般的であった。この方式では、
多くの情報を伝達するためには伝送経路に敷設する光フ
ァイバの芯数を増やす必要があり、伝送容量の増加に伴
ってコストが増加するという問題点があった。
2. Description of the Related Art In recent years, with the spread of various multimedia such as the Internet, there is an increasing demand for large capacity optical communication. Conventionally, in optical communication,
1310 which is a wavelength at which light absorption by an optical fiber is small.
Transmission using a single wavelength in the band of 1 nm or 1550 nm was common. In this scheme,
In order to transmit a large amount of information, it is necessary to increase the number of optical fibers laid in the transmission path, and there is a problem that the cost increases as the transmission capacity increases.

【0003】そこで、波長分割多重(WDM:Waveleng
th Division Multiplexing)通信方式が用いられるよう
になった。このWDM通信方式は、主にエルビウム添加
ファイバ増幅器(EDFA:Erbium Doped Fiber Ampli
fier)を用い、この動作帯域である1550nm帯にお
いて、複数の波長を使用して伝送を行う方式である。こ
のDWDM通信方式あるいはWDM通信方式では、1本
の光ファイバを用いて複数の異なる波長の光信号を同時
に伝送することから、新たな線路を敷設する必要がな
く、ネットワークの伝送容量の飛躍的な増加をもたらす
ことを可能としている。
Therefore, wavelength division multiplexing (WDM: Waveleng)
th Division Multiplexing) communication system has come to be used. This WDM communication system mainly uses an erbium-doped fiber amplifier (EDFA).
In this method, transmission is performed using a plurality of wavelengths in the 1550 nm band, which is the operating band. In this DWDM communication system or WDM communication system, optical signals of a plurality of different wavelengths are simultaneously transmitted using one optical fiber, so that it is not necessary to lay new lines, and the transmission capacity of the network is dramatically increased. It is possible to bring increase.

【0004】このEDFAの励起には高出力の励起用半
導体レーザモジュールが用いられる。特に、1480n
m帯の励起用半導体レーザモジュールは、1)高い信頼
性、2)エルビウム添加ファイバの変換効率が高く、増
幅器の高出力化に有利であること、3)エルビウム添加
ファイバの吸収帯域が広く多波長での合成が可能である
こと、4)アイソレータ,波長合成器,偏波合成器など
の周辺光学部品が揃っていること、などの利点を有して
いる。このことにより、波長合成、偏波合成などによっ
て、複数個の励起用半導体レーザモジュールを用いるこ
とで、高出力の光増幅器の励起光源が実現されるととも
に、光増幅システムに用いられている。
A high-output semiconductor laser module for excitation is used for exciting the EDFA. In particular, 1480n
The semiconductor laser module for pumping in the m band has 1) high reliability, 2) high conversion efficiency of the erbium-doped fiber, and is advantageous for increasing the output of the amplifier, 3) wide absorption band of the erbium-doped fiber and multi-wavelength And 4) peripheral optical components such as an isolator, a wavelength combiner, and a polarization combiner are provided. Thus, by using a plurality of pumping semiconductor laser modules by wavelength combining, polarization combining, and the like, a pumping light source of a high-output optical amplifier is realized and used in an optical amplification system.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、一般的に半
導体レーザ素子(半導体レーザ装置)に電流を注入して
いくと、光出力が上昇するが、半導体レーザ装置自体の
発熱による光出力低下が同時に生起し、一定の駆動電流
で飽和し、その後駆動電流を増大しても光出力は増大し
なくなる。
Generally, when a current is injected into a semiconductor laser device (semiconductor laser device), the optical output increases, but the decrease in the optical output due to heat generation of the semiconductor laser device itself occurs at the same time. This occurs and saturates at a constant drive current, and the light output does not increase even if the drive current is increased thereafter.

【0006】そこで、飽和が生じる駆動電流値を大きく
するために、半導体レーザ装置の共振器長を長くし、所
望の光出力を得るようにしていた。逆に、所望の光出力
を得るために必要な駆動電流を小さくするために、適切
な共振器長を選択し、この選択した共振器長をもつ半導
体レーザ装置を作っていた。図19は、半導体レーザ装
置の共振器長をパラメータとし、光出力に対する駆動電
流の関係を示した図である。たとえば、360mWの光
出力をもつ半導体レーザ装置を実現する場合、図19を
参照して、駆動電流が最小となる共振器長1300μm
を決定していた。
Therefore, in order to increase the drive current value at which saturation occurs, the length of the resonator of the semiconductor laser device is increased to obtain a desired optical output. Conversely, in order to reduce the drive current required to obtain a desired optical output, an appropriate resonator length is selected, and a semiconductor laser device having the selected resonator length has been manufactured. FIG. 19 is a diagram showing the relationship between the optical output and the drive current, using the resonator length of the semiconductor laser device as a parameter. For example, when realizing a semiconductor laser device having an optical output of 360 mW, referring to FIG. 19, a cavity length of 1300 μm at which the drive current is minimized
Was decided.

【0007】しかしながら、半導体レーザ装置の共振器
長を長くすると、物理的に半導体レーザ装置の形状が異
なるため、駆動電流のみの観点から半導体レーザ装置の
共振器長を決定する場合、駆動電力のうち、半導体レー
ザ装置の光出力に消費される電力のほかに、半導体レー
ザ装置自体の他の構成部分で消費される直列抵抗や熱抵
抗などによる無効電力も増大し、光電力変換効率が低下
する場合が生じるという問題点があった。ここで、光電
力変換効率とは、半導体レーザ装置の光出力を、半導体
レーザ装置の駆動電力で除算した値をいう。
However, if the length of the resonator of the semiconductor laser device is increased, the shape of the semiconductor laser device is physically different. Therefore, when determining the resonator length of the semiconductor laser device only from the viewpoint of the drive current, the In addition to the power consumed by the optical output of the semiconductor laser device, the reactive power due to series resistance and thermal resistance consumed by other components of the semiconductor laser device itself also increases, and the optical power conversion efficiency decreases. There is a problem that occurs. Here, the optical power conversion efficiency is a value obtained by dividing the optical output of the semiconductor laser device by the driving power of the semiconductor laser device.

【0008】また、半導体レーザ装置が消費する無効電
力、すなわち駆動電力と光出力との差が大きくなると、
この差が主として熱に変換されるため、放熱のための構
造が大がかりとなり、半導体レーザ装置が搭載される半
導体レーザモジュールが大型化するという問題点があっ
た。
Further, when the reactive power consumed by the semiconductor laser device, that is, the difference between the driving power and the optical output increases,
Since this difference is mainly converted into heat, there is a problem that the structure for heat dissipation becomes large and the semiconductor laser module on which the semiconductor laser device is mounted becomes large.

【0009】さらに、駆動電力を最小にし、あるいは光
電力変換効率を最大にするためには、共振器長の最適化
のほかに、たとえば上部クラッド層における不純物であ
るZnのキャリア濃度などのパラメータを最適化するこ
とも考えられる。
Further, in order to minimize the driving power or maximize the optical power conversion efficiency, besides optimizing the resonator length, for example, parameters such as the carrier concentration of Zn as an impurity in the upper cladding layer are changed. Optimization is also conceivable.

【0010】この発明は上記に鑑みてなされたもので、
所望の光出力が得られる半導体レーザ装置を実現する場
合に、駆動電力が最小となり、あるいは光電力変換効率
が最大となる半導体レーザ装置およびその製造方法なら
びに半導体レーザモジュールを提供することを目的とす
る。
[0010] The present invention has been made in view of the above,
It is an object of the present invention to provide a semiconductor laser device in which driving power is minimized or optical power conversion efficiency is maximized when realizing a semiconductor laser device capable of obtaining a desired optical output, a manufacturing method thereof, and a semiconductor laser module. .

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1にかかる半導体レーザ装置は、一定の光出
力をパラメータとした、半導体レーザ装置の共振器長お
よび該半導体レーザ装置の上部クラッド層のキャリア濃
度を含む該半導体レーザ装置の各要素と該半導体レーザ
装置の駆動電力あるいは光電力変換効率との関係をもと
に決定され、所望の光出力に対応して該駆動電力が最小
近傍あるいは該光電力変換効率が最大近傍となる該半導
体レーザ装置の各要素値を備えたことを特徴とする。
In order to achieve the above object, a semiconductor laser device according to a first aspect of the present invention has a cavity length of a semiconductor laser device and an upper clad of the semiconductor laser device, wherein a constant optical output is used as a parameter. The driving power is determined based on the relationship between each element of the semiconductor laser device including the carrier concentration of the layer and the driving power or the optical power conversion efficiency of the semiconductor laser device, and the driving power is close to the minimum corresponding to a desired optical output. Alternatively, each element value of the semiconductor laser device in which the light power conversion efficiency is close to the maximum is provided.

【0012】この請求項1の発明によれば、一定の光出
力をパラメータとした、半導体レーザ装置の共振器長お
よび該半導体レーザ装置の上部クラッド層のキャリア濃
度を含む該半導体レーザ装置の各要素と該半導体レーザ
装置の駆動電力あるいは光電力変換効率との関係をもと
に決定され、所望の光出力に対応して該駆動電力が最小
近傍あるいは該光電力変換効率が最大近傍となる該半導
体レーザ装置の各要素値を有した半導体レーザ装置を実
現することによって、駆動電力が最小近傍あるいは光電
力変換効率が最大近傍で、50mW以上の所望の光出力
を得ることができる。
According to the first aspect of the present invention, each element of the semiconductor laser device including the cavity length of the semiconductor laser device and the carrier concentration of the upper cladding layer of the semiconductor laser device, using a constant optical output as a parameter. And the drive power or optical power conversion efficiency of the semiconductor laser device is determined based on the relationship between the drive power and the optical power conversion efficiency corresponding to a desired optical output. By realizing a semiconductor laser device having each element value of the laser device, a desired optical output of 50 mW or more can be obtained when the driving power is near the minimum or the optical power conversion efficiency is near the maximum.

【0013】また、請求項2にかかる半導体レーザ装置
は、1000μm以上の一定の共振器長をパラメータと
した50mW以上の光出力に対する駆動電力の関係をも
とに決定され、所望の光出力に対応する駆動電力が最小
近傍となる1000μm以上の共振器長を備えたことを
特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a semiconductor laser device which is determined based on a relationship between a driving power and an optical output of 50 mW or more with a constant resonator length of 1000 μm or more as a parameter, and which corresponds to a desired optical output. And a resonator length of 1000 μm or more at which the driving power to be driven is close to the minimum.

【0014】この請求項2の発明によれば、1000μ
m以上の一定の共振器長をパラメータとした50mW以
上の光出力に対する駆動電力の関係をもとに、所望の光
出力に対応する駆動電力が最小近傍となる共振器長が決
定され、この決定された1000μm以上の共振器長を
有する半導体レーザ装置を実現することによって、駆動
電力が最小近傍で、50mW以上の所望の光出力を得る
ことができる。
According to the invention of claim 2, 1000 μm
Based on the relationship of the drive power to the optical output of 50 mW or more with the constant resonator length of m or more as a parameter, the resonator length at which the drive power corresponding to the desired optical output is near the minimum is determined. By realizing a semiconductor laser device having a cavity length of 1000 μm or more, a desired optical output of 50 mW or more can be obtained at a driving power near the minimum.

【0015】また、請求項3にかかる半導体レーザ装置
は、50mW以上の一定の光出力をパラメータとした1
000μm以上の共振器長に対する光電力変換効率の関
係をもとに決定され、所望の光出力に対応した光電力変
換効率が最大値近傍となる共振器長を備えたことを特徴
とする。
Further, according to a third aspect of the present invention, there is provided a semiconductor laser device having a constant light output of 50 mW or more as a parameter.
The optical power conversion efficiency is determined based on the relationship of the optical power conversion efficiency with respect to the cavity length of 000 μm or more, and the optical power conversion efficiency corresponding to the desired optical output has a resonator length near the maximum value.

【0016】この請求項3の発明によれば、50mW以
上の一定の光出力をパラメータとした1000μm以上
の共振器長に対する光電力変換効率の関係をもとに、所
望の光出力に対応した光電力変換効率が最大値近傍とな
る共振器長が決定され、この決定された1000μm以
上の共振器長をもった半導体レーザ装置を実現すること
によって、高い光電力変換効率で、50mW以上の所望
の光出力を得ることができる。
According to the third aspect of the present invention, based on the relationship between the optical power conversion efficiency and the cavity length of 1000 μm or more, with the constant optical output of 50 mW or more as a parameter, the light corresponding to the desired optical output is obtained. The resonator length at which the power conversion efficiency is close to the maximum value is determined. By realizing a semiconductor laser device having the determined resonator length of 1000 μm or more, a desired optical power conversion efficiency of 50 mW or more can be achieved. Light output can be obtained.

【0017】また、請求項4にかかる半導体レーザ装置
は、上記の発明において、前記共振器長は、前記所望の
光出力に対応して光電力変換効率が最大となる近似式を
もとに決定されることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor laser device according to the above invention, the cavity length is determined based on an approximate expression that maximizes optical power conversion efficiency corresponding to the desired optical output. It is characterized by being performed.

【0018】この請求項4の発明によれば、前記共振器
長を決定する際、前記所望の光出力に対応して光電力変
換効率が最大となる近似式をもとに決定するようにして
いる。
According to the fourth aspect of the present invention, when the length of the resonator is determined, the length is determined based on an approximate expression that maximizes the optical power conversion efficiency corresponding to the desired optical output. I have.

【0019】また、請求項5にかかる半導体レーザ装置
は、上記の発明において、50mW以上の一定の光出力
をパラメータとした1000μm以上の共振器長に対す
る駆動電力の関係をもとに決定された、所望の光出力に
対する駆動電力が最小近傍となる1000μm以上の共
振器長を備えたことを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in the above-described semiconductor laser device, the driving power is determined based on a relationship between a driving power and a cavity length of 1000 μm or more, with a constant optical output of 50 mW or more as a parameter. It is characterized by having a resonator length of 1000 μm or more at which the driving power for a desired optical output is near the minimum.

【0020】この請求項5の発明によれば、50mW以
上の一定の光出力をパラメータとした1000μm以上
の共振器長に対する駆動電力の関係をもとに決定され
た、所望の光出力に対する駆動電力が最小近傍となる1
000μm以上の共振器長をもった半導体レーザ装置を
実現することによって、低い駆動電力で、50mW以上
の所望の光出力を得ることができる。
According to the fifth aspect of the present invention, the driving power for a desired optical output is determined based on the relationship between the driving power and the resonator length of 1000 μm or more, using a constant optical output of 50 mW or more as a parameter. Is the minimum neighborhood 1
By realizing a semiconductor laser device having a cavity length of 000 μm or more, a desired optical output of 50 mW or more can be obtained with low driving power.

【0021】また、請求項6にかかる半導体レーザ装置
は、上記の発明において、前記共振器長は、前記所望の
光出力に対応して前記駆動電力が最小となる近似式をも
とに決定されることを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in the semiconductor laser device according to the above invention, the cavity length is determined based on an approximate expression that minimizes the driving power corresponding to the desired optical output. It is characterized by that.

【0022】この請求項6の発明によれば、前記共振器
長を決定する際、前記所望の光出力に対応して駆動電力
が最小となる近似式をもとに決定するようにしている。
According to the sixth aspect of the invention, when determining the cavity length, the cavity length is determined based on an approximate expression that minimizes the driving power corresponding to the desired optical output.

【0023】また、請求項7にかかる半導体レーザ装置
は、上記の発明において、前記共振器長の共振器を形成
する活性層は、歪多重量子井戸構造であることを特徴と
する。
According to a seventh aspect of the present invention, in the above-described semiconductor laser device, the active layer forming the resonator having the resonator length has a strained multiple quantum well structure.

【0024】この請求項7の発明によれば、前記共振器
長の共振器を形成する活性層として、歪多重量子井戸構
造を適用し、この歪多重量子井戸構造をもつ半導体レー
ザ装置であっても、高い光電力変換効率あるいは低駆動
電力で、50mW以上の所望の光出力を得ることができ
る。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a semiconductor laser device having a strained multiple quantum well structure, wherein a strained multiple quantum well structure is applied as an active layer forming a resonator having the resonator length. Also, a desired optical output of 50 mW or more can be obtained with high optical power conversion efficiency or low driving power.

【0025】また、請求項8にかかる半導体レーザ装置
は、上記の発明において、前記所望の光出力は、50〜
400mWの範囲内であり、前記共振器長は、1000
〜1600μmの範囲内であることを特徴とする。
In the semiconductor laser device according to the present invention, the desired light output is 50 to 50.
400 mW and the resonator length is 1000
6001600 μm.

【0026】この請求項8の発明によれば、前記所望の
光出力を、50〜400mWの範囲内とし、前記共振器
長を、1000〜1600μmの範囲内とし、光出力に
対する駆動電流の関係のみから共振器長を決定した場合
に特に差異を持たせることができる具体的な半導体レー
ザ装置を実現している。
According to the eighth aspect of the present invention, the desired light output is set in a range of 50 to 400 mW, the resonator length is set in a range of 1000 to 1600 μm, and only the relationship between the drive current and the light output is adjusted. Thus, a specific semiconductor laser device capable of giving a particular difference when the resonator length is determined from the above is realized.

【0027】また、請求項9にかかる半導体レーザ装置
は、上記の発明において、前記所望の光出力は、50〜
200mWの範囲内であり、前記共振器長は、1000
〜1400μmの範囲内であることを特徴とする。
According to a ninth aspect of the present invention, in the semiconductor laser device according to the above invention, the desired optical output is 50 to
200 mW, and the resonator length is 1000
4001400 μm.

【0028】この請求項9の発明によれば、前記所望の
光出力を、50〜200mWの範囲内とし、前記共振器
長を、1000〜1400μmの範囲内とし、光出力に
対する駆動電流の関係のみから共振器長を決定した場合
に特に差異を持たせることができる具体的な半導体レー
ザ装置を実現している。
According to the ninth aspect of the present invention, the desired light output is set in a range of 50 to 200 mW, the resonator length is set in a range of 1000 to 1400 μm, and only the relationship between the drive current and the light output is adjusted. Thus, a specific semiconductor laser device capable of giving a particular difference when the resonator length is determined from the above is realized.

【0029】また、請求項10にかかる半導体レーザ装
置は、上記の発明において、一定の光出力および一定の
共振器長をパラメータとし、上部クラッド層の不純物キ
ャリア濃度に対する駆動電力または光電力変換効率の関
係をもとに決定され、所望の光出力に対応し駆動電力が
最小近傍あるいは光電力変換効率が最大近傍となる該不
純物キャリア濃度が設定された前記上部クラッド層を備
えたことを特徴とする。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor laser device according to the above invention, wherein a constant optical output and a constant resonator length are used as parameters, and the driving power or the optical power conversion efficiency with respect to the impurity carrier concentration of the upper cladding layer. The upper cladding layer is set based on the relationship, and has the impurity carrier concentration set such that the driving power corresponds to a desired optical output and the driving power is near the minimum or the optical power conversion efficiency is near the maximum. .

【0030】この請求項10の発明によれば、一定の光
出力および一定の共振器長をパラメータとし、上部クラ
ッド層の不純物キャリア濃度に対する駆動電力の関係を
もとに決定され、所望の光出力に対応し駆動電力が最小
近傍あるいは光電力変換効率が最大近傍となる該不純物
キャリア濃度が設定された前記上部クラッド層をもった
半導体レーザ装置を実現することによって、駆動電力が
最小近傍あるいは光電力変換効率が最大近傍で、50m
W以上の所望の光出力を得ることができる。
According to the tenth aspect of the present invention, a desired light output is determined based on the relationship between the driving power and the impurity carrier concentration of the upper cladding layer, using a certain light output and a certain resonator length as parameters. By realizing a semiconductor laser device having the upper cladding layer in which the impurity carrier concentration is set such that the driving power is near the minimum or the optical power conversion efficiency is near the maximum corresponding to Conversion efficiency near the maximum, 50m
A desired light output of W or more can be obtained.

【0031】また、請求項11にかかる半導体レーザモ
ジュールは、請求項1〜10のいずれか一つに記載の半
導体レーザ装置と、前記半導体レーザ装置から出射され
たレーザ光を外部に導波する光ファイバと、前記半導体
レーザ装置と前記光ファイバと光結合を行う光結合レン
ズ系とを備えたことを特徴とする。
According to an eleventh aspect of the present invention, there is provided a semiconductor laser module, wherein the semiconductor laser device according to any one of the first to tenth aspects and a light for guiding a laser beam emitted from the semiconductor laser device to the outside. A fiber, and an optical coupling lens system that optically couples the semiconductor laser device and the optical fiber.

【0032】この請求項11の発明によれば、請求項1
〜10のいずれか一つに記載の半導体レーザ装置を搭載
した半導体レーザモジュールを実現し、所望の光出力
を、高い光電力変換効率あるいは低駆動電力で得ること
ができるようにしている。
According to the eleventh aspect of the present invention, the first aspect
A semiconductor laser module having the semiconductor laser device according to any one of (1) to (10) is realized, and a desired optical output can be obtained with high optical power conversion efficiency or low driving power.

【0033】また、請求項12にかかる半導体レーザモ
ジュールは、上述した発明において、前記半導体レーザ
装置の温度を制御する温度制御装置をさらに備え、前記
光ファイバの入射端近傍に光ファイバグレーティングを
形成したことを特徴とする。
According to a twelfth aspect of the present invention, in the above-mentioned semiconductor laser module, the semiconductor laser module further comprises a temperature control device for controlling a temperature of the semiconductor laser device, wherein an optical fiber grating is formed near an incident end of the optical fiber. It is characterized by the following.

【0034】この請求項12の発明によれば、前記光フ
ァイバの入射端近傍に光ファイバグレーティングを形成
し、この光ファイバグレーティングによって選択された
波長のレーザ光を出力するようにしている。
According to the twelfth aspect of the present invention, an optical fiber grating is formed near the incident end of the optical fiber, and a laser beam having a wavelength selected by the optical fiber grating is output.

【0035】また、請求項13にかかる半導体レーザモ
ジュールは、上記の発明において、前記半導体レーザ装
置の温度を制御する温度制御装置と、前記光結合レンズ
系内に配置され、光ファイバ側からの反射戻り光の入射
を抑制するアイソレータとをさらに備えたことを特徴と
する。
According to a thirteenth aspect of the present invention, in the semiconductor laser module according to the above invention, a temperature control device for controlling the temperature of the semiconductor laser device, and a temperature control device disposed in the optical coupling lens system for reflecting light from the optical fiber side. An isolator for suppressing incidence of return light is further provided.

【0036】この請求項13の発明によれば、請求項1
〜10のいずれか一つに記載の半導体レーザ装置を搭載
した半導体レーザモジュールを実現し、温度制御装置が
搭載される半導体レーザモジュールであっても、所望の
光出力を、高い光電力変換効率あるいは低駆動電力で得
ることができるようにしている。
According to the thirteenth aspect of the present invention, the first aspect
A semiconductor laser module equipped with the semiconductor laser device according to any one of to 10 is realized, and even if the semiconductor laser module is equipped with a temperature control device, a desired optical output can be obtained with high optical power conversion efficiency or It can be obtained with low driving power.

【0037】また、請求項14にかかる半導体レーザ装
置の製造方法は、一定の光出力をパラメータとした、半
導体レーザ装置の共振器長および該半導体レーザ装置の
上部クラッド層のキャリア濃度を含む該半導体レーザ装
置の各要素と該半導体レーザ装置の駆動電力あるいは光
電力変換効率との関係を取得する関係取得工程と、前記
関係取得工程によって取得された前記関係をもとに決定
され、所望の光出力に対応して該駆動電力が最小近傍あ
るいは該光電力変換効率が最大近傍となる該半導体レー
ザ装置の各要素値を決定する要素値決定工程と、前記要
素値決定工程によって決定された各要素値をもつ半導体
レーザ装置を形成する形成工程とを含むことを特徴とす
る。
According to a fourteenth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a semiconductor laser device, the method comprising: using a constant optical output as a parameter, including a cavity length of the semiconductor laser device and a carrier concentration of an upper cladding layer of the semiconductor laser device. A relationship obtaining step of obtaining a relationship between each element of the laser device and the driving power or optical power conversion efficiency of the semiconductor laser device; and a desired light output determined based on the relationship obtained by the relationship obtaining step. An element value determining step of determining each element value of the semiconductor laser device in which the driving power is near the minimum or the optical power conversion efficiency is near the maximum, and each element value determined by the element value determining step Forming a semiconductor laser device having the following.

【0038】この請求項14の発明によれば、関係取得
工程によって、一定の光出力をパラメータとした、半導
体レーザ装置の共振器長および該半導体レーザ装置の上
部クラッド層のキャリア濃度を含む該半導体レーザ装置
の各要素と該半導体レーザ装置の駆動電力あるいは光電
力変換効率との関係を取得し、要素値決定工程によっ
て、前記関係取得工程によって取得された前記関係をも
とに決定され、所望の光出力に対応して該駆動電力が最
小近傍あるいは該光電力変換効率が最大近傍となる該半
導体レーザ装置の各要素値を決定し、形成工程によっ
て、前記要素値決定工程によって決定された各要素値を
もつ半導体レーザ装置を形成するようにしている。
According to the fourteenth aspect of the present invention, in the relation acquisition step, the semiconductor length including the cavity length of the semiconductor laser device and the carrier concentration of the upper cladding layer of the semiconductor laser device using a constant optical output as a parameter. The relationship between each element of the laser device and the drive power or optical power conversion efficiency of the semiconductor laser device is acquired, and the element value is determined based on the relationship acquired by the relationship acquisition step. Each element value of the semiconductor laser device in which the driving power is near the minimum or the light power conversion efficiency is near the maximum corresponding to the light output is determined, and each element determined by the element value determining step is determined by the forming step. A semiconductor laser device having a value is formed.

【0039】また、請求項15にかかる半導体レーザ装
置の製造方法は、1000μm以上の一定の共振器長を
パラメータとした50mW以上の光出力に対する駆動電
力の関係を取得する関係取得工程と、前記関係取得工程
によって取得された前記関係をもとに決定され、所望の
光出力に対応する駆動電力が最小近傍となる1000μ
m以上の共振器長を決定する共振器長決定工程と、前記
共振器長決定工程によって決定された共振器長をもつ半
導体レーザ装置を形成する形成工程とを含むことを特徴
とする。
A method for manufacturing a semiconductor laser device according to a fifteenth aspect includes a relationship obtaining step of obtaining a relationship between a driving power and an optical output of 50 mW or more using a constant resonator length of 1000 μm or more as a parameter. The driving power corresponding to the desired optical output is determined based on the relationship obtained in the obtaining step, and the driving power corresponding to the desired optical output is near the minimum.
The method includes a resonator length determining step of determining a resonator length of m or more, and a forming step of forming a semiconductor laser device having the resonator length determined by the resonator length determining step.

【0040】この請求項15の発明によれば、関係取得
工程によって、1000μm以上の一定の共振器長をパ
ラメータとした50mW以上の光出力に対する駆動電力
の関係を取得し、共振器長決定工程によって、前記関係
取得工程によって取得された前記関係をもとに決定さ
れ、所望の光出力に対応する駆動電力が最小近傍となる
1000μm以上の共振器長を決定し、形成工程によっ
て、前記共振器長決定工程によって決定された共振器長
をもつ半導体レーザ装置を形成するようにしている。
According to the fifteenth aspect of the present invention, in the relation obtaining step, the relation of the driving power to the optical output of 50 mW or more with the constant resonator length of 1000 μm or more as a parameter is obtained. Determining a resonator length of 1000 μm or more that is determined based on the relationship obtained in the relationship obtaining step and at which the driving power corresponding to a desired optical output is near the minimum, and forming the resonator length by a forming step. A semiconductor laser device having a cavity length determined by the determining step is formed.

【0041】また、請求項16にかかる半導体レーザ装
置の製造方法は、50mW以上の一定の光出力をパラメ
ータとした1000μm以上の共振器長に対する光電力
変換効率の関係を取得する関係取得工程と、前記関係取
得工程によって取得された前記関係をもとに決定され、
所望の光出力に対応した光電力変換効率が最大値近傍と
なる共振器長を決定する共振器長決定工程と、前記共振
器長決定工程によって決定された共振器長をもつ半導体
レーザ装置を形成する形成工程とを含むことを特徴とす
る。
A method of manufacturing a semiconductor laser device according to claim 16 includes a relation obtaining step of obtaining a relation of optical power conversion efficiency with respect to a cavity length of 1000 μm or more with a constant light output of 50 mW or more as a parameter; Determined based on the relationship acquired by the relationship acquisition step,
Forming a resonator length determining step of determining a resonator length at which the optical power conversion efficiency corresponding to a desired optical output is close to a maximum value, and forming a semiconductor laser device having a resonator length determined by the resonator length determining step And a forming step.

【0042】この請求項16の発明によれば、関係取得
工程によって、50mW以上の一定の光出力をパラメー
タとした1000μm以上の共振器長に対する光電力変
換効率の関係を取得し、共振器長決定工程によって、前
記関係取得工程によって取得された前記関係をもとに決
定され、所望の光出力に対応した光電力変換効率が最大
値近傍となる共振器長を決定し、形成工程によって、前
記共振器長決定工程によって決定された共振器長をもつ
半導体レーザ装置を形成するようにしている。
According to the sixteenth aspect of the present invention, the relationship obtaining step obtains the relationship between the optical power conversion efficiency and the cavity length of 1000 μm or more with the constant optical output of 50 mW or more as a parameter, and determines the cavity length. Determining a resonator length at which the optical power conversion efficiency corresponding to a desired optical output is close to a maximum value, the resonator length being determined based on the relationship obtained by the relationship obtaining step. A semiconductor laser device having a cavity length determined by the device length determining step is formed.

【0043】また、請求項17にかかる半導体レーザ装
置の製造方法は、上記の発明において、前記関係取得工
程によって取得された前記関係をもとに、前記所望の光
出力に対応して光電力変換効率が最大となる近似式を求
める近似式算出工程をさらに含み、前記共振器長決定工
程は、前記近似式をもとに前記共振器長を決定すること
を特徴とする。
According to a seventeenth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a semiconductor laser device according to the above invention, the optical power conversion is performed in accordance with the desired optical output based on the relationship obtained in the relationship obtaining step. The method further includes an approximate expression calculating step of obtaining an approximate expression that maximizes efficiency, and wherein the resonator length determining step determines the resonator length based on the approximate expression.

【0044】この請求項17の発明によれば、近似式算
出工程が、前記関係取得工程によって取得された前記関
係をもとに、前記所望の光出力に対応して光電力変換効
率が最大となる近似式を求め、前記共振器長決定工程
が、前記近似式をもとに前記共振器長を決定するように
している。
According to the seventeenth aspect of the present invention, the approximate expression calculating step determines that the optical power conversion efficiency is maximum corresponding to the desired optical output based on the relation acquired in the relation acquiring step. An approximate expression is obtained, and the resonator length determining step determines the resonator length based on the approximate expression.

【0045】また、請求項18にかかる半導体レーザ装
置の製造方法は、50mW以上の一定の光出力をパラメ
ータとした1000μm以上の共振器長に対する駆動電
力の関係を取得する関係取得工程と、前記関係取得工程
によって取得された前記関係をもとに決定され、所望の
光出力に対する駆動電力が最小近傍となる1000μm
以上の共振器長を決定する共振器長決定工程と、前記共
振器長決定工程によって決定された共振器長をもつ半導
体レーザ装置を形成する形成工程とを含むことを特徴と
する。
A method for manufacturing a semiconductor laser device according to claim 18 is a relation obtaining step of obtaining a relation of a driving power with respect to a cavity length of 1000 μm or more using a constant optical output of 50 mW or more as a parameter, 1000 μm, which is determined based on the relationship obtained in the obtaining step, and in which the driving power for the desired optical output is near the minimum.
The method includes a resonator length determining step of determining the above resonator length, and a forming step of forming a semiconductor laser device having the resonator length determined by the resonator length determining step.

【0046】この請求項18の発明によれば、関係取得
工程によって、50mW以上の一定の光出力をパラメー
タとした1000μm以上の共振器長に対する駆動電力
の関係を取得し、共振器長決定工程によって、前記関係
取得工程によって取得された前記関係をもとに決定さ
れ、所望の光出力に対する駆動電力が最小近傍となる1
000μm以上の共振器長を決定し、形成工程によっ
て、前記共振器長決定工程によって決定された共振器長
をもつ半導体レーザ装置を形成するようにしている。
According to the eighteenth aspect of the present invention, the relationship obtaining step obtains the relationship between the drive power and the resonator length of 1000 μm or more with the constant optical output of 50 mW or more as a parameter. , Which is determined based on the relationship acquired in the relationship acquiring step, and in which the driving power for the desired optical output is near the minimum.
A cavity length of 000 μm or more is determined, and a semiconductor laser device having the cavity length determined by the cavity length determining step is formed by the forming step.

【0047】また、請求項19にかかる半導体レーザ装
置の製造方法は、上記の発明において、前記関係取得工
程によって取得された前記関係をもとに、前記所望の所
望の光出力に対応して前記駆動電力が最小となる近似式
を求める近似式算出工程をさらに含み、前記共振器長決
定工程は、前記近似式をもとに前記共振器長を決定する
ことを特徴とする。
According to a nineteenth aspect of the present invention, in the above method, the semiconductor laser device according to the present invention is arranged so as to correspond to the desired light output based on the relationship acquired in the relationship acquiring step. The method further includes an approximate expression calculating step of obtaining an approximate expression that minimizes the driving power, and the resonator length determining step determines the resonator length based on the approximate expression.

【0048】この請求項19の発明によれば、近似式算
出工程が、前記関係取得工程によって取得された前記関
係をもとに、前記所望の所望の光出力に対応して前記駆
動電力が最小となる近似式を求め、前記共振器長決定工
程が、前記近似式をもとに前記共振器長を決定するよう
にしている。
According to the nineteenth aspect of the present invention, the approximation formula calculating step includes the step of minimizing the driving power corresponding to the desired light output based on the relation obtained in the relation obtaining step. Is obtained, and the resonator length determining step determines the resonator length based on the approximate expression.

【0049】また、請求項20にかかる半導体レーザ装
置の製造方法は、上記の発明において、前記共振器長の
共振器を形成する活性層は、歪多重量子井戸構造である
ことを特徴とする。
According to a twentieth aspect of the present invention, in the above method, the active layer forming the resonator having the resonator length has a strained multiple quantum well structure.

【0050】この請求項20の発明によれば、前記共振
器長の共振器を形成する活性層として、歪多重量子井戸
構造を適用し、この歪多重量子井戸構造をもつ半導体レ
ーザ装置であっても、高い光電力変換効率あるいは低駆
動電力で、50mW以上の所望の光出力を得ることがで
きる。
According to the twentieth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor laser device having a strained multiple quantum well structure, wherein a strained multiple quantum well structure is applied as an active layer forming a resonator having the resonator length. Also, a desired optical output of 50 mW or more can be obtained with high optical power conversion efficiency or low driving power.

【0051】また、請求項21にかかる半導体レーザ装
置の製造方法は、一定の光出力および一定の共振器長を
パラメータとし、上部クラッド層の不純物キャリア濃度
に対する駆動電力の関係を取得する関係取得工程と、前
記関係取得工程によって取得された前記関係をもとに決
定され、所望の光出力に対応し駆動電力が最小近傍とな
る該不純物キャリア濃度を決定するキャリア濃度決定工
程と、上部クラッド層の不純物キャリア濃度を前記キャ
リア濃度決定工程によって決定された不純物キャリア濃
度に設定した半導体レーザ装置を形成する形成工程とを
含むことを特徴とする。
According to a twenty-first aspect of the present invention, in the method of manufacturing a semiconductor laser device, a relationship between the driving power and the impurity carrier concentration of the upper cladding layer is obtained by using a constant optical output and a constant resonator length as parameters. And a carrier concentration determination step of determining the impurity carrier concentration, which is determined based on the relationship acquired in the relationship acquisition step and corresponds to a desired optical output and has a drive power near the minimum, and Forming a semiconductor laser device in which the impurity carrier concentration is set to the impurity carrier concentration determined in the carrier concentration determining step.

【0052】この請求項21の発明によれば、関係取得
工程によって、一定の光出力および一定の共振器長をパ
ラメータとし、上部クラッド層の不純物キャリア濃度に
対する駆動電力の関係を取得し、キャリア濃度決定工程
によって、前記関係取得工程によって取得された前記関
係をもとに決定され、所望の光出力に対応し駆動電力が
最小近傍となる該不純物キャリア濃度を決定し、形成工
程によって、上部クラッド層の不純物キャリア濃度を前
記キャリア濃度決定工程によって決定された不純物キャ
リア濃度に設定した半導体レーザ装置を形成するように
している。
According to the twenty-first aspect of the present invention, the relationship between the driving power and the impurity carrier concentration in the upper cladding layer is acquired by using the constant light output and the constant resonator length as parameters in the relationship acquiring step. The determining step determines the impurity carrier concentration determined based on the relationship obtained in the relationship obtaining step and corresponding to a desired optical output and having a driving power near the minimum, and forming the upper cladding layer by the forming step. A semiconductor laser device is formed in which the impurity carrier concentration is set to the impurity carrier concentration determined in the carrier concentration determining step.

【0053】また、請求項22にかかる半導体レーザ装
置は、前端面と後端面とを有し、共振器長が略900μ
mから略1800μmまでの長さを有した共振器と、前
記共振器内に積層され、電源からのバイアス電位を受け
る2つの電極に接続され、電流が注入される活性層と、
略4%以下の反射率を有し、前記前端面にコーティング
された低反射膜と、略80%以上の反射率を有し、前記
後端面にコーティングされた高反射膜と、前記電極に接
続され、前記共振器長に基づいた特定の上部境界以下で
あって特定の下部境界以上である光出力を当該半導体レ
ーザ装置に生じさせる電力量を供給する電源とを備え、
前記特定の上部境界は、略1000μmと略1380μ
mとの間の共振器長に対して50mWであり、略138
0μmから1480μmまでの間の共振器長に対して共
振器長をLとして(1mW)*[(L−1280μm)
/2μm]の値であり、略1480μmから略1700
μmまでの間の共振器長に対して(1mW)*[(L−
1260μm)/2.2μm]の値であり、略1700
μmから略1750μmまでの間の共振器長に対して
(2mW)*[(L−1600μm)/1μm]の値で
あり、略1750μmから略1770μmまでの間の共
振器長に対して(3mW)*[(L−1510μm)/
2μm]の値であり、前記特定の下部境界は、略100
0μmと略1050μmとの間の共振器長に対して(2
mW)*[(L−950μm)/1μm]の値であり、
略1050μmと略1200μmとの間の共振器長に対
して(2mW)*[(L−750μm)/3μm]の値
であり、略1200μmと略1350μmとの間の共振
器長に対して(2mW)*[(L−450μm)/5μ
m]の値であり、略1350μmと略1450μmとの
間の共振器長に対して(3mW)*[(L−150μ
m)/10μm]の値であり、略1450μmと略17
70μmとの間の共振器長に対して390mWの値であ
ることを特徴とする。
The semiconductor laser device according to claim 22 has a front end face and a rear end face, and has a resonator length of about 900 μm.
a resonator having a length from m to about 1800 μm, an active layer stacked in the resonator, connected to two electrodes receiving a bias potential from a power supply, and receiving a current,
A low reflection film having a reflectance of about 4% or less and coated on the front end face, a high reflection film having a reflectance of about 80% or more and coated on the rear end face, and being connected to the electrode; A power supply that supplies an amount of power that causes the semiconductor laser device to generate an optical output that is equal to or less than a specific upper boundary and equal to or greater than a specific lower boundary based on the resonator length,
The specific upper boundary is approximately 1000 μm and approximately 1380 μm
50 mW for a resonator length between
Assuming that the resonator length is L for a resonator length between 0 μm and 1480 μm, (1 mW) * [(L−1280 μm)
/ 2 μm], from about 1480 μm to about 1700 μm.
(1 mW) * [(L-
1260 μm) /2.2 μm], which is approximately 1700 μm.
The value is (2 mW) * [(L-1600 μm) / 1 μm] for a cavity length between μm and approximately 1750 μm, and (3 mW) for a cavity length between approximately 1750 μm and approximately 1770 μm. * [(L-1510 μm) /
2 μm], and the specific lower boundary is approximately 100
For resonator lengths between 0 μm and approximately 1050 μm, (2
mW) * [(L−950 μm) / 1 μm],
The value is (2 mW) * [(L−750 μm) / 3 μm] for a resonator length between approximately 1050 μm and approximately 1200 μm, and (2 mW) for a resonator length between approximately 1200 μm and approximately 1350 μm. ) * [(L-450 μm) / 5 μ
m], and (3 mW) * [(L−150 μm) for a resonator length between approximately 1350 μm and approximately 1450 μm.
m) / 10 μm], which is approximately 1450 μm and approximately 17
It is characterized by a value of 390 mW for a resonator length between 70 μm.

【0054】この請求項22の発明によれば、前記特定
の上部境界は、略1000μmと略1380μmとの間
の共振器長に対して50mWであり、略1380μmか
ら1480μmまでの間の共振器長に対して共振器長を
Lとして(1mW)*[(L−1280μm)/2μ
m]の値であり、略1480μmから略1700μmま
での間の共振器長に対して(1mW)*[(L−126
0μm)/2.2μm]の値であり、略1700μmか
ら略1750μmまでの間の共振器長に対して(2m
W)*[(L−1600μm)/1μm]の値であり、
略1750μmから略1770μmまでの間の共振器長
に対して(3mW)*[(L−1510μm)/2μ
m]の値であり、前記特定の下部境界は、略1000μ
mと略1050μmとの間の共振器長に対して(2m
W)*[(L−950μm)/1μm]の値であり、略
1050μmと略1200μmとの間の共振器長に対し
て(2mW)*[(L−750μm)/3μm]の値で
あり、略1200μmと略1350μmとの間の共振器
長に対して(2mW)*[(L−450μm)/5μ
m]の値であり、略1350μmと略1450μmとの
間の共振器長に対して(3mW)*[(L−150μ
m)/10μm]の値であり、略1450μmと略17
70μmとの間の共振器長に対して390mWの値であ
り、当該半導体レーザ装置は、前記共振器長に基づいた
特定の上部境界以下であって特定の下部境界以上である
光出力Poutを出力するように電源供給される。
According to the twenty-second aspect of the present invention, the specific upper boundary is 50 mW for a resonator length between approximately 1000 μm and approximately 1380 μm, and a resonator length between approximately 1380 μm and 1480 μm. (1 mW) * [(L-1280 μm) / 2 μ
m], and (1 mW) * [(L-126) for a cavity length between approximately 1480 μm and approximately 1700 μm.
0 μm) /2.2 μm] for a resonator length between approximately 1700 μm and approximately 1750 μm.
W) * [(L-1600 μm) / 1 μm],
(3 mW) * [(L-1510 μm) / 2 μ for a cavity length between approximately 1750 μm and approximately 1770 μm
m], and the specific lower boundary is approximately 1000 μm.
m and approximately 1050 μm for a resonator length of (2 m
W) * [(L−950 μm) / 1 μm], and for a resonator length between approximately 1050 μm and approximately 1200 μm, (2 mW) * [(L−750 μm) / 3 μm] For a resonator length between approximately 1200 μm and approximately 1350 μm, (2 mW) * [(L−450 μm) / 5 μm
m], and (3 mW) * [(L−150 μm) for a resonator length between approximately 1350 μm and approximately 1450 μm.
m) / 10 μm], which is approximately 1450 μm and approximately 17
The value is 390 mW with respect to the cavity length between 70 μm, and the semiconductor laser device outputs an optical output Pout that is equal to or less than a specific upper boundary and equal to or greater than a specific lower boundary based on the cavity length. Power is supplied.

【0055】また、請求項23にかかる半導体レーザ装
置は、前端面と後端面とを有し、共振器長が略900μ
mから略1800μmまでの長さを有した共振器と、前
記共振器内に積層された活性層と、略4%以下の反射率
を有し、前記前端面にコーティングされた低反射膜と、
略80%以上の反射率を有し、前記後端面にコーティン
グされた高反射膜とを備え、当該半導体レーザ装置は、
前記共振器長に基づいた特定の上部境界以下であって特
定の下部境界以上である光出力Poutを出力し、前記特
定の下部境界は、略1000μmと略1380μmとの
間の共振器長に対して50mWであり、略1380μm
から1480μmまでの間の共振器長に対して共振器長
をLとして(1mW)*[(L−1280μm)/2μ
m]の値であり、略1480μmから略1700μmま
での間の共振器長に対して(1mW)*[(L−126
0μm)/2.2μm]の値であり、略1700μmか
ら略1750μmまでの間の共振器長に対して(2m
W)*[(L−1600μm)/1μm]の値であり、
略1750μmから略1770μmまでの間の共振器長
に対して(3mW)*[(L−1510μm)/2μ
m]の値であり、前記特定の下部境界は、略1000μ
mと略1050μmとの間の共振器長に対して(2m
W)*[(L−950μm)/1μm]の値であり、略
1050μmと略1200μmとの間の共振器長に対し
て(2mW)*[(L−750μm)/3μm]の値で
あり、略1200μmと略1350μmとの間の共振器
長に対して(2mW)*[(L−450μm)/5μ
m]の値であり、略1350μmと略1450μmとの
間の共振器長に対して(3mW)*[(L−150μ
m)/10μm]の値であり、略1450μmと略17
70μmとの間の共振器長に対して390mWの値であ
ることを特徴とする。
A semiconductor laser device according to a twenty-third aspect has a front end face and a rear end face, and has a resonator length of about 900 μm.
a resonator having a length from m to about 1800 μm; an active layer laminated in the resonator; a low-reflection film having a reflectance of about 4% or less and coated on the front end face;
A high reflection film having a reflectance of about 80% or more and being coated on the rear end face;
An optical output Pout that is equal to or less than a specific upper boundary based on the resonator length and equal to or greater than a specific lower boundary is output, and the specific lower boundary has a cavity length between approximately 1000 μm and approximately 1380 μm. 50 mW, approximately 1380 μm
(1 mW) * [(L−1280 μm) / 2 μ for a resonator length between 1 and 1480 μm.
m], and (1 mW) * [(L-126) for a cavity length between approximately 1480 μm and approximately 1700 μm.
0 μm) /2.2 μm] for a resonator length between approximately 1700 μm and approximately 1750 μm.
W) * [(L-1600 μm) / 1 μm],
(3 mW) * [(L-1510 μm) / 2 μ for a cavity length between approximately 1750 μm and approximately 1770 μm
m], and the specific lower boundary is approximately 1000 μm.
m and approximately 1050 μm for a resonator length of (2 m
W) * [(L-950 μm) / 1 μm], and for a resonator length between approximately 1050 μm and approximately 1200 μm, (2 mW) * [(L−750 μm) / 3 μm], For a resonator length between approximately 1200 μm and approximately 1350 μm, (2 mW) * [(L−450 μm) / 5 μm
m], and (3 mW) * [(L−150 μm) for a resonator length between approximately 1350 μm and approximately 1450 μm.
m) / 10 μm], which is approximately 1450 μm and approximately 17
It is characterized by a value of 390 mW for a resonator length between 70 μm.

【0056】この請求項23の発明によれば、前記特定
の下部境界は、略1000μmと略1380μmとの間
の共振器長に対して50mWであり、略1380μmか
ら1480μmまでの間の共振器長に対して共振器長を
Lとして(1mW)*[(L−1280μm)/2μ
m]の値であり、略1480μmから略1700μmま
での間の共振器長に対して(1mW)*[(L−126
0μm)/2.2μm]の値であり、略1700μmか
ら略1750μmまでの間の共振器長に対して(2m
W)*[(L−1600μm)/1μm]の値であり、
略1750μmから略1770μmまでの間の共振器長
に対して(3mW)*[(L−1510μm)/2μ
m]の値であり、前記特定の下部境界は、略1000μ
mと略1050μmとの間の共振器長に対して(2m
W)*[(L−950μm)/1μm]の値であり、略
1050μmと略1200μmとの間の共振器長に対し
て(2mW)*[(L−750μm)/3μm]の値で
あり、略1200μmと略1350μmとの間の共振器
長に対して(2mW)*[(L−450μm)/5μ
m]の値であり、略1350μmと略1450μmとの
間の共振器長に対して(3mW)*[(L−150μ
m)/10μm]の値であり、略1450μmと略17
70μmとの間の共振器長に対して390mWの値であ
り、当該半導体レーザ装置は、前記共振器長に基づいた
特定の上部境界以下であって特定の下部境界以上である
光出力Poutを出力するように選択される。
According to the twenty-third aspect of the present invention, the specific lower boundary is 50 mW with respect to a resonator length between approximately 1000 μm and approximately 1380 μm, and a resonator length between approximately 1380 μm and 1480 μm. (1 mW) * [(L-1280 μm) / 2 μ
m], and (1 mW) * [(L-126) for a cavity length between approximately 1480 μm and approximately 1700 μm.
0 μm) /2.2 μm] for a resonator length between approximately 1700 μm and approximately 1750 μm.
W) * [(L-1600 μm) / 1 μm],
(3 mW) * [(L-1510 μm) / 2 μ for a cavity length between approximately 1750 μm and approximately 1770 μm
m], and the specific lower boundary is approximately 1000 μm.
m and approximately 1050 μm for a resonator length of (2 m
W) * [(L-950 μm) / 1 μm], and for a resonator length between approximately 1050 μm and approximately 1200 μm, (2 mW) * [(L−750 μm) / 3 μm], For a resonator length between approximately 1200 μm and approximately 1350 μm, (2 mW) * [(L−450 μm) / 5 μm
m], and (3 mW) * [(L−150 μm) for a resonator length between approximately 1350 μm and approximately 1450 μm.
m) / 10 μm], which is approximately 1450 μm and approximately 17
The value is 390 mW with respect to the cavity length between 70 μm, and the semiconductor laser device outputs an optical output Pout that is equal to or less than a specific upper boundary and equal to or greater than a specific lower boundary based on the cavity length. To be selected.

【0057】また、請求項24にかかる半導体レーザ装
置は、上記の発明において、前記電極に印加される電力
量は、略50mWと略100mWとの間の光出力レベル
Poutで当該半導体レーザ装置を動作させ、前記共振器
長は、略1000μmと略{2μm*(Pout/1m
W)+1280μm}との間であることを特徴とする。
According to a twenty-fourth aspect of the present invention, in the above-mentioned invention, the semiconductor laser device operates at an optical output level Pout between about 50 mW and about 100 mW. The resonator length is approximately 1000 μm and approximately {2 μm * (Pout / 1 m
W) +1280 μm}.

【0058】この請求項24の発明によれば、前記電極
に印加される電力量は、略50mWと略100mWとの
間の光出力レベルPoutで当該半導体レーザ装置を動作
させ、前記共振器長は、略1000μmと略{2μm*
(Pout/1mW)+1280μm}との間とし、当該
半導体レーザ装置を最適動作させることができる。
According to the twenty-fourth aspect of the present invention, the semiconductor laser device is operated at an optical output level Pout between about 50 mW and about 100 mW, and the length of the resonator is reduced. , Approximately 1000 μm and approximately {2 μm *
(Pout / 1 mW) +1280 μm}, and the semiconductor laser device can be operated optimally.

【0059】また、請求項25にかかる半導体レーザ装
置は、上記の発明において、前記電極に印加される電力
量は、略100mWと略200mWとの間の光出力レベ
ルPoutで当該半導体レーザ装置を動作させ、前記共振
器長は、略{1μm*(Pout/2mW)+950μ
m}と略{2.2μm*(Pout/1mW)+1260
μm}との間であることを特徴とする。
According to a twenty-fifth aspect of the present invention, in the above-mentioned invention, the semiconductor laser device operates at an optical output level Pout between about 100 mW and about 200 mW. And the resonator length is approximately {1 μm * (Pout / 2 mW) +950 μm
m} and approximately {2.2 μm * (Pout / 1 mW) +1260
μm}.

【0060】この請求項25の発明によれば、前記電極
に印加される電力量は、略100mWと略200mWと
の間の光出力レベルPoutで当該半導体レーザ装置を動
作させ、前記共振器長は、略{1μm*(Pout/2m
W)+950μm}と略{2.2μm*(Pout/1m
W)+1260μm}との間とし、当該半導体レーザ装
置を最適動作させることができる。
According to the twenty-fifth aspect, the semiconductor laser device is operated at an optical output level Pout between about 100 mW and about 200 mW, and the length of the resonator is , Approximately {1 μm * (Pout / 2m
W) +950 μm} and approximately {2.2 μm * (Pout / 1 m
W) +1260 μm}, and the semiconductor laser device can be operated optimally.

【0061】また、請求項26にかかる半導体レーザ装
置は、上記の発明において、前記電極に印加される電力
量は、略200mWと略300mWとの間の光出力レベ
ルPoutで当該半導体レーザ装置を動作させ、前記共振
器長は、略{3μm*(Pout/2mW)+750μ
m}と略{1μm*(Pout/2mW)+1600μ
m}との間であることを特徴とする。
According to a twenty-sixth aspect of the present invention, in the above-mentioned invention, the semiconductor laser device operates at a light output level Pout between about 200 mW and about 300 mW in the amount of electric power applied to the electrode. And the resonator length is approximately {3 μm * (Pout / 2 mW) +750 μm
m} and approximately {1μm * (Pout / 2mW) + 1600μ
m}.

【0062】この請求項26の発明によれば、前記電極
に印加される電力量は、略200mWと略300mWと
の間の光出力レベルPoutで当該半導体レーザ装置を動
作させ、前記共振器長は、略{3μm*(Pout/2m
W)+750μm}と略{1μm*(Pout/2mW)
+1600μm}との間とし、当該半導体レーザ装置を
最適動作させることができる。
According to the twenty-sixth aspect of the present invention, the semiconductor laser device is operated at an optical output level Pout between about 200 mW and about 300 mW, and the resonator length is , Approximately {3 μm * (Pout / 2m
W) +750 μm} and approximately {1 μm * (Pout / 2 mW)
+1600 μm}, and the semiconductor laser device can be operated optimally.

【0063】また、請求項27にかかる半導体レーザ装
置は、上記の発明において、前記電極に印加される電力
量は、略300mWと略360mWとの間の光出力レベ
ルPoutで当該半導体レーザ装置を動作させ、前記共振
器長は、略{5μm*(Pout/2mW)+450μ
m}と略1750μmとの間であることを特徴とする。
According to a twenty-seventh aspect of the present invention, in the semiconductor laser device according to the above invention, the semiconductor laser device operates at an optical output level Pout between about 300 mW and about 360 mW. And the resonator length is approximately {5 μm * (Pout / 2 mW) +450 μm
m} and approximately 1750 μm.

【0064】この請求項27の発明によれば、前記電極
に印加される電力量は、略300mWと略360mWと
の間の光出力レベルPoutで当該半導体レーザ装置を動
作させ、前記共振器長は、略{5μm*(Pout/2m
W)+450μm}と略1750μmとの間とし、当該
半導体レーザ装置を最適動作させることができる。
According to the twenty-seventh aspect of the present invention, the semiconductor laser device is operated at an optical output level Pout between about 300 mW and about 360 mW, and the resonator length is , About $ 5m * (Pout / 2m
W) Between +450 μm and approximately 1750 μm, the semiconductor laser device can be operated optimally.

【0065】また、請求項28にかかる半導体レーザ装
置は、上記の発明において、前記電極に印加される電力
量は、略360mWと略390mWとの間の光出力レベ
ルPoutで当該半導体レーザ装置を動作させ、前記共振
器長は、略{10μm*(Pout/3mW)+150μ
m}と略{2μm*(Pout/3mW)+1510μ
m}との間であることを特徴とする。
According to a twenty-eighth aspect of the present invention, in the above-described semiconductor laser device, the semiconductor laser device operates at an optical output level Pout between about 360 mW and about 390 mW. And the resonator length is approximately {10 μm * (Pout / 3 mW) +150 μm
m} and approximately {2μm * (Pout / 3mW) + 1510μ
m}.

【0066】この請求項28の発明によれば、前記電極
に印加される電力量は、略360mWと略390mWと
の間の光出力レベルPoutで当該半導体レーザ装置を動
作させ、前記共振器長は、略{10μm*(Pout/3
mW)+150μm}と略{2μm*(Pout/3m
W)+1510μm}との間とし、当該半導体レーザ装
置を最適動作させることができる。
According to the twenty-eighth aspect of the present invention, the semiconductor laser device is operated at an optical output level Pout between about 360 mW and about 390 mW, and the resonator length is , Approximately {10 μm * (Pout / 3
mW) +150 μm and approximately {2 μm * (Pout / 3 m
W) +1510 μm}, and the semiconductor laser device can be operated optimally.

【0067】また、請求項29にかかる半導体レーザ装
置は、上記の発明において、前記共振器長は、略100
0μmと略1100μmとの間であり、電極に印加され
る電力量は、略50mWと略100mWとの間の光出力
レベルPoutで当該半導体レーザ装置を動作させる前記
電極に印加されることを特徴とする。
Further, in the semiconductor laser device according to claim 29, in the above-mentioned invention, the resonator length is approximately 100
0 μm and approximately 1100 μm, and the amount of electric power applied to the electrode is applied to the electrode for operating the semiconductor laser device at an optical output level Pout between approximately 50 mW and approximately 100 mW. I do.

【0068】この請求項29の発明によれば、前記共振
器長は、略1000μmと略1100μmとの間であ
り、電極に印加される電力量は、略50mWと略100
mWとの間の光出力レベルPoutで当該半導体レーザ装
置を動作させる前記電極に印加されるようにしている。
According to the twenty-ninth aspect of the present invention, the length of the resonator is between approximately 1000 μm and approximately 1100 μm, and the amount of power applied to the electrode is approximately 50 mW and approximately 100 μm.
The power is applied to the electrode for operating the semiconductor laser device at a light output level Pout of between mW and mW.

【0069】また、請求項30にかかる半導体レーザ装
置は、上記の発明において、前記共振器長は、略120
0μmと略1600μmとの間であり、電極に印加され
る電力量は、略200mWと略300mWとの間の光出
力レベルPoutで当該半導体レーザ装置を動作させる前
記電極に印加されることを特徴とする。
Further, in the semiconductor laser device according to claim 30, in the above invention, the resonator length is approximately 120
0 μm and approximately 1600 μm, and the amount of power applied to the electrode is applied to the electrode for operating the semiconductor laser device at an optical output level Pout between approximately 200 mW and approximately 300 mW. I do.

【0070】この請求項30の発明によれば、前記共振
器長は、略1200μmと略1600μmとの間であ
り、電極に印加される電力量は、略200mWと略30
0mWとの間の光出力レベルPoutで当該半導体レーザ
装置を動作させる前記電極に印加されるようにしてい
る。
According to the thirtieth aspect of the present invention, the resonator length is between approximately 1200 μm and approximately 1600 μm, and the amount of power applied to the electrode is approximately 200 mW and approximately 30 μm.
An optical output level Pout between 0 mW is applied to the electrode for operating the semiconductor laser device.

【0071】[0071]

【発明の実施の形態】以下に添付図面を参照して、この
発明にかかる半導体レーザ装置およびその製造方法なら
びに半導体レーザモジュールの好適な実施の形態につい
て説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of a semiconductor laser device, a method of manufacturing the same, and a semiconductor laser module according to the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

【0072】(実施の形態1)まず、この発明の実施の形
態1について説明する。図1は、この発明の実施の形態
1である半導体レーザ装置の概要構成を示す斜めからみ
た破断図である。また、図2は、図1に示した半導体レ
ーザ装置の長手方向の縦断面図である。さらに、図3
は、図2に示した半導体レーザ装置のA−A線断面図で
ある。図1〜図3において、この半導体レーザ装置20
は、n−InP基板1の(100)面上に、順次、n−
InPによるバッファ層と下部クラッド層とを兼ねたn
−InPクラッド層2、圧縮歪みをもつGRIN−SC
H−MQW(Graded Index-Separate Confinement Hete
rostructure Multi Quantum Well)活性層3、およびp
−InPクラッド層6、p−InGaAsPキャップ層
7が積層された構造を有する。
(Embodiment 1) First, Embodiment 1 of the present invention will be described. FIG. 1 is an oblique cutaway view showing a schematic configuration of a semiconductor laser device according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a longitudinal sectional view in the longitudinal direction of the semiconductor laser device shown in FIG. Further, FIG.
FIG. 3 is a sectional view taken along line AA of the semiconductor laser device shown in FIG. 2. 1 to 3, the semiconductor laser device 20
Are sequentially formed on the (100) plane of the n-InP substrate 1 by n-
N serving as both a buffer layer of InP and a lower cladding layer
-InP clad layer 2, GRIN-SC with compressive strain
H-MQW (Graded Index-Separate Confinement Hete
rostructure Multi Quantum Well) active layer 3 and p
-InP clad layer 6 and p-InGaAsP cap layer 7 are laminated.

【0073】p−InPクラッド層6の一部、GRIN
−SCH−MQW活性層3、およびn−InPクラッド
層2の上部は、メサストライプ状に加工され、メサスト
ライプの両側は、電流ブロッキング層として形成された
p−InPブロッキング層8とn−InPブロッキング
層9によって埋め込まれている。また、p−InGaA
sPキャップ層7の上面には、p側電極10が形成さ
れ、n−InP基板1の裏面には、n側電極11が形成
される。
A part of the p-InP cladding layer 6, GRIN
-The upper portions of the SCH-MQW active layer 3 and the n-InP cladding layer 2 are processed into a mesa stripe shape, and the p-InP blocking layer 8 and the n-InP blocking layer formed as current blocking layers are formed on both sides of the mesa stripe. Embedded by layer 9. Also, p-InGaAs
A p-side electrode 10 is formed on the upper surface of the sP cap layer 7, and an n-side electrode 11 is formed on the back surface of the n-InP substrate 1.

【0074】半導体レーザ装置20の長手方向の一端面
である光反射端面には、反射率80%以上の高光反射率
をもつ反射膜14が形成され、他端面である光出射端面
には、反射率が1〜5%の低光反射率をもつ出射側反射
膜15が形成される。反射膜14と出射側反射膜15と
によって形成された光共振器のGRIN−SCH−MQ
W活性層3内に発生した光は、反射膜14によって反射
し、出射側反射膜15を介し、レーザ光として出射され
る。
On the light reflecting end face, which is one end face in the longitudinal direction of the semiconductor laser device 20, a reflective film 14 having a high light reflectivity of 80% or more is formed. The emission side reflection film 15 having a low light reflectance of 1 to 5% is formed. GRIN-SCH-MQ of the optical resonator formed by the reflection film 14 and the emission-side reflection film 15
The light generated in the W active layer 3 is reflected by the reflection film 14 and is emitted as laser light via the emission-side reflection film 15.

【0075】ここで、共振器長Lは、GRIN−SCH
−MQW活性層3の長手方向の長さであり、1000μ
m以上としている。また、この半導体レーザ装置20か
ら出力される光出力は50mW以上としている。
Here, the resonator length L is GRIN-SCH
-The length in the longitudinal direction of the MQW active layer 3,
m or more. The light output from the semiconductor laser device 20 is set to 50 mW or more.

【0076】図1に示した半導体レーザ装置の共振器長
Lは、図4に示した関係をもとに決定される。図4は、
共振器長をパラメータとし、光出力に対する駆動電力と
の関係を示す図である。図4は、図1に示した半導体レ
ーザ装置20の構造を有することを前提に、共振器長を
800μm、1000μm、1300μm、1500μ
m、1800μmとした場合における光出力と駆動電力
との関係を示している。
The resonator length L of the semiconductor laser device shown in FIG. 1 is determined based on the relationship shown in FIG. FIG.
FIG. 4 is a diagram illustrating a relationship between a light output and a driving power using a resonator length as a parameter. FIG. 4 assumes that the resonator length is 800 μm, 1000 μm, 1300 μm, 1500 μm on the assumption that the semiconductor laser device 20 has the structure shown in FIG.
3 shows the relationship between the optical output and the driving power when m and 1800 μm are set.

【0077】図4において、全体的に、共振器長が短い
の半導体レーザ装置は、一定の光出力を得る場合、共振
器長が長い半導体レーザ装置に比して大きな駆動電力を
必要とする。しかし、共振器長が1500μmと180
0μmとを比べると、光出力が420mW近傍(P1)
で逆転し、420mW以上の光出力を得る場合、共振器
長が長い1800μmの半導体レーザ装置の方が低い駆
動電力で済むことがわかる。同様に、共振器長が130
0μmと1800μmとを比べると、光出力が350m
W近傍(P2)で逆転し、350mW以上の光出力を得
る場合、共振器長が長い1800μmの半導体レーザ装
置の方が低い駆動電力で済むことがわかる。さらに、共
振器長が1000μmと1800μmとを比べると、光
出力が250mW近傍(P3)で逆転し、250mW以
上の光出力を得る場合、共振器長が長い1800μmの
半導体レーザ装置の方が低い駆動電力で済むことがわか
る。すなわち、一定の光出力を得る場合に、この一定の
光出力の値によって、駆動電力が最小となる最適な共振
器長の値が変化することになる。
In FIG. 4, a semiconductor laser device having a short resonator length generally requires a larger driving power to obtain a constant optical output than a semiconductor laser device having a long resonator length. However, the cavity length is 1500 μm and 180 μm.
When compared with 0 μm, the optical output is around 420 mW (P1)
In the case where an optical output of 420 mW or more is obtained, a 1800 μm semiconductor laser device having a long cavity length requires lower driving power. Similarly, if the resonator length is 130
Compared with 0 μm and 1800 μm, the light output is 350 m
It can be seen that in the case of reversing near W (P2) and obtaining an optical output of 350 mW or more, a 1800 μm semiconductor laser device having a long resonator length requires lower drive power. Furthermore, when the cavity length is compared with 1000 μm and 1800 μm, the optical output is reversed around 250 mW (P3), and when an optical output of 250 mW or more is obtained, the 1800 μm semiconductor laser device having a longer cavity length has a lower drive. It turns out that only electric power is enough. That is, when obtaining a constant optical output, the value of the constant optical output changes the optimum value of the resonator length at which the driving power is minimized.

【0078】ここで、図14に示した従来の光出力に対
する駆動電流との関係をもとに、共振器長を選択した場
合を考えると、従来は駆動電流が小さい半導体レーザ装
置が、駆動電力が小さい半導体レーザ装置であるとみな
していたので、光出力が約220mWまでは、共振器長
を800μmとし、光出力が約220mWから約350
mWまでは、共振器長を1000μmとし、光出力が約
350μmから約380μmまでは、共振器長を130
0μmとし、光出力が約380mWから約420mWま
では、共振器長を1500μmとし、光出力が約420
mW以上では、共振器長を1800μmとし、光出力の
増大とともに、増大する共振器長を決定していた。
Here, considering the case where the cavity length is selected based on the relationship between the conventional optical output and the driving current shown in FIG. 14, the semiconductor laser device having a small driving current conventionally requires a driving power of Is considered to be a small semiconductor laser device, the cavity length is set to 800 μm and the optical output is increased from about 220 mW to about 350 m until the optical output is about 220 mW.
Up to mW, the resonator length is set to 1000 μm, and when the optical output is from about 350 μm to about 380 μm, the resonator length is set to 130 μm.
0 μm, and when the optical output is from about 380 mW to about 420 mW, the cavity length is 1500 μm and the optical output is about 420 mW.
At mW or more, the cavity length was set to 1800 μm, and the cavity length that increased as the optical output increased was determined.

【0079】したがって、たとえば、光出力が360m
Wの半導体レーザ装置を得ようとする場合、従来は共振
器長を1300μmとして決定していたが、この場合、
実際には、図4に示した関係に基づいて共振器長を15
00μmとする方が、小さな駆動電力で駆動できるた
め、適切でない共振器長の判断、決定を行っていたこと
になる。
Therefore, for example, when the light output is 360 m
In the case of obtaining a semiconductor laser device of W, conventionally, the cavity length was determined to be 1300 μm, but in this case,
Actually, based on the relationship shown in FIG.
When the diameter is set to 00 μm, the driving can be performed with a small driving power. Therefore, an inappropriate resonator length is determined and determined.

【0080】これに対し、この実施の形態1では、図4
に示すように、共振器長をパラメータとし、光出力に対
する駆動電力との関係をもとに、所望の光出力を得るこ
とができる共振器長の中で、最も駆動電力が小さい共振
器長を選択決定するようにしているので、常に駆動電力
が小さい半導体レーザ装置を実現することができる。
On the other hand, in Embodiment 1, FIG.
As shown in the figure, the resonator length having the smallest drive power among the resonator lengths that can obtain a desired optical output is set based on the relationship between the optical power and the drive power with the resonator length as a parameter. Since the selection is determined, it is possible to realize a semiconductor laser device having a small driving power at all times.

【0081】なお、上述した実施の形態1では、圧縮歪
みを有するGRIN−SCH−MQW活性層3を用いた
半導体レーザ装置20によって所望の光出力を得る場合
に、最小の駆動電力となる共振器長を決定するようにし
ていたが、これに限らず、他の構造をもった半導体レー
ザ装置に対しても適用することができる。
In the first embodiment, when a desired optical output is obtained by the semiconductor laser device 20 using the GRIN-SCH-MQW active layer 3 having a compressive strain, the resonator having the minimum drive power is required. Although the length is determined, the present invention is not limited to this, and can be applied to a semiconductor laser device having another structure.

【0082】ここで、図5に示すフローチャートを参照
して、この発明の実施の形態1における半導体レーザ装
置の製造方法について説明する。図5において、まず、
共振器長をパラメータとした、光出力に対する駆動電力
の関係、すなわち、図4に示した関係をデータベース3
0から取得する(ステップS101)。その後、所望の
光出力の設定を行い(ステップS102)、この設定さ
れた所望の光出力に対応し、最小の駆動電力をもつ共振
器長を決定する(ステップS103)。その後、この決
定した共振器長をもつ半導体レーザ装置を製造し(ステ
ップS104)、本処理を終了する。
Here, a method for manufacturing the semiconductor laser device according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to a flowchart shown in FIG. In FIG. 5, first,
The relationship between the drive power and the optical output with the resonator length as a parameter, that is, the relationship shown in FIG.
It is obtained from 0 (step S101). Thereafter, a desired optical output is set (step S102), and a resonator length having a minimum drive power corresponding to the set desired optical output is determined (step S103). Thereafter, a semiconductor laser device having the determined resonator length is manufactured (step S104), and the process ends.

【0083】なお、上述した実施の形態1では、共振器
長を800μm、1000μm、1300μm、150
0μm、1800μmとした5つのパラメータについて
述べたが、これに限らず、他の共振器長について、光出
力に対する駆動電力との関係を求め、あるいは補完し、
さらに詳細な共振器長を精度高く決定するようにしても
よい。この場合、共振器長を決定する際、最小の駆動電
力に対応する共振器長を決定するのではなく、所定の駆
動電力以下となる共振器長を決定するようにしてもよ
い。
In the first embodiment, the resonator length is set to 800 μm, 1000 μm, 1300 μm, 150 μm,
The five parameters of 0 μm and 1800 μm have been described. However, the present invention is not limited to this. For other resonator lengths, the relationship between the optical output and the driving power is obtained or complemented.
A more detailed resonator length may be determined with high accuracy. In this case, when determining the resonator length, the resonator length corresponding to the predetermined drive power or less may be determined instead of determining the resonator length corresponding to the minimum drive power.

【0084】さらに、上述した実施の形態1では、図4
に示す特性曲線を具体的な実験値を理論値によって補完
しているが、さらに実験値を多く求め、確からしさを高
めるようにしてもよい。
Further, in the first embodiment described above, FIG.
Although the characteristic curve shown in (1) is supplemented with specific experimental values by theoretical values, more experimental values may be obtained to increase the certainty.

【0085】(実施の形態2)つぎに、この発明の実施
の形態2について説明する。上述した実施の形態1で
は、図4に示した光出力と駆動電力との関係をもとに、
所望の光出力を得る場合に最小の駆動電力となる共振器
長を決定するようにしていたが、この実施の形態2で
は、光出力をパラメータとし、共振器長に対する光電力
変換効率の関係をもとに、所望の光出力を得る場合に、
最大の光電力変換効率に対応する共振器長を決定するよ
うにしている。
(Embodiment 2) Next, Embodiment 2 of the present invention will be described. In the first embodiment described above, based on the relationship between the optical output and the driving power shown in FIG.
In order to obtain a desired optical output, the resonator length that minimizes the driving power is determined. However, in the second embodiment, the relationship between the optical power conversion efficiency and the resonator length is determined by using the optical output as a parameter. To obtain the desired light output,
The resonator length corresponding to the maximum optical power conversion efficiency is determined.

【0086】図6に示すように、光出力をパラメータと
して、共振器長に対する光電力変換効率の関係を求める
と、各光出力に対して光電力変換効率が最大となる最適
値が存在する。したがって、所望の光電力に対する光電
力変換効率が最大となる点に対応する共振器長を求める
ことによって、光電力変換効率が最大となる共振器長を
決定することができ、この共振器長をもった半導体レー
ザ装置とすることによって、光電力変換効率が高い半導
体レーザ装置を実現することができる。なお、光電力変
換効率が高いことは、駆動電力が最小であることを意味
する。
As shown in FIG. 6, when the relationship between the optical power conversion efficiency and the cavity length is obtained using the optical output as a parameter, there is an optimum value at which the optical power conversion efficiency is maximized for each optical output. Therefore, by determining the resonator length corresponding to the point where the optical power conversion efficiency with respect to the desired optical power becomes the maximum, the resonator length at which the optical power conversion efficiency becomes the maximum can be determined. With a semiconductor laser device having such a configuration, a semiconductor laser device having high optical power conversion efficiency can be realized. In addition, high optical power conversion efficiency means that drive power is minimum.

【0087】たとえば、図6において、360mWの光
出力を得る場合、光電力変換効率の最大値は、0.15
であり、そのときの共振器長は1500μmである。し
たがって、共振器長を1500μmとすることによっ
て、光電力変換効率が最も高い360mW光出力の半導
体レーザ装置を実現することができる。また、50mW
の光出力を得る場合、光電力変換効率の最大値は、0.
34であり、そのときの共振器長は1000μmであ
る。したがって、共振器長を1000μmとすることに
よって、光電力変換効率が最も高い50mW光出力の半
導体レーザ装置を実現することができる。
For example, in FIG. 6, when obtaining an optical output of 360 mW, the maximum value of the optical power conversion efficiency is 0.15
And the resonator length at that time is 1500 μm. Therefore, by setting the cavity length to 1500 μm, it is possible to realize a 360 mW optical output semiconductor laser device with the highest optical power conversion efficiency. Also, 50mW
When the optical output of the optical power conversion is obtained, the maximum value of the optical power conversion efficiency is 0.
34, and the resonator length at that time is 1000 μm. Therefore, by setting the cavity length to 1000 μm, it is possible to realize a semiconductor laser device having the highest optical power conversion efficiency and a light output of 50 mW.

【0088】ここで、図7に示すフローチャートを参照
して、この発明の実施の形態2における半導体レーザ装
置の製造方法について説明する。図7において、まず、
一定の光出力をパラメータとした、共振器長に対する光
電力変換効率の関係、すなわち、図6に示した関係をデ
ータベース30から取得する(ステップS201)。そ
の後、所望の光出力の設定を行い(ステップS20
2)、この設定された所望の光出力に対応し、最大ある
いは最大値近傍の光電力変換効率をもつ共振器長を決定
する(ステップS203)。その後、この決定した共振
器長をもつ半導体レーザ装置を製造し(ステップS20
4)、本処理を終了する。
Here, a method of manufacturing the semiconductor laser device according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to a flowchart shown in FIG. In FIG. 7, first,
The relationship between the optical power conversion efficiency and the cavity length, that is, the relationship shown in FIG. 6 with the constant optical output as a parameter, is acquired from the database 30 (step S201). Thereafter, a desired light output is set (step S20).
2) A resonator length corresponding to the set desired optical output and having a maximum or near optical power conversion efficiency is determined (step S203). Thereafter, a semiconductor laser device having the determined cavity length is manufactured (step S20).
4), end this processing.

【0089】なお、図6に示した光電力変換効率が最大
となる共振器長と光出力との関係をもとに、共振器長と
光出力との関係を示す近似式L1をもとめ、この近似式
L1をもとに、共振器長を決定するようにしてもよい。
この近似式L1は、求められた最大値の値を所定の近似
方式によって関係づけたものである。この近似式L1で
は、光出力と最適な共振器長との関係を示すため、所望
の光出力の値を入力することによって、最適な共振器長
を直ちに求めることができる。
An approximate expression L1 showing the relationship between the cavity length and the optical output is obtained based on the relationship between the cavity length and the optical output at which the optical power conversion efficiency is maximized as shown in FIG. The resonator length may be determined based on the approximate expression L1.
This approximation formula L1 relates the obtained maximum value by a predetermined approximation method. In this approximation L1, the relationship between the optical output and the optimal resonator length is shown. Therefore, by inputting a desired optical output value, the optimal resonator length can be immediately obtained.

【0090】なお、上述した実施の形態2では、光電力
変換効率が最大となる共振器長を決定するようにしてい
たが、これに限らず、所定の光電力変換効率以下の共振
器長を決定するようにしてもよいし、光電力変換効率が
最大近傍となる共振器長を決定するようにしてもよい。
最大値近傍の範囲は、最大値の光電力変換効率に対応す
る所定の百分率で規定した範囲内の共振器長としてもよ
く、最大値の光電力変換効率に対応する共振器長を基準
として所定の百分率で規定した範囲内の共振器長として
もよい。また、近似式L1によって求められた共振器長
に対して所定のマージンを設けるようにしてもよい。こ
のマージンは、最大値近傍の範囲に対応する。
In the second embodiment described above, the resonator length at which the optical power conversion efficiency is maximized is determined. However, the present invention is not limited to this. It may be determined, or the resonator length at which the optical power conversion efficiency is close to the maximum may be determined.
The range near the maximum value may be a resonator length within a range defined by a predetermined percentage corresponding to the maximum value of the optical power conversion efficiency, and may be determined based on the resonator length corresponding to the maximum value of the optical power conversion efficiency. The length of the resonator may be within a range defined by the percentage. Further, a predetermined margin may be provided for the resonator length obtained by the approximate expression L1. This margin corresponds to a range near the maximum value.

【0091】(実施の形態3)つぎに、この発明の実施
の形態3について説明する。上述した実施の形態2で
は、光出力をパラメータとし、共振器長に対する光電力
変換効率の関係をもとに、所望の光出力を得る場合に、
光電力変換効率が最大となる共振器長を決定するように
していたが、この実施の形態3では、光出力をパラメー
タとし、共振器長に対する駆動電力の関係をもとに、所
望の光出力を得る場合に、駆動電力が最小となる共振器
長を決定するようにしている。すなわち、実施の形態2
の光電力変換効率を、実質的に同一な駆動電力としてい
る。
(Embodiment 3) Next, Embodiment 3 of the present invention will be described. In the second embodiment, when a desired optical output is obtained based on the relationship between the optical power conversion efficiency and the cavity length using the optical output as a parameter,
Although the resonator length at which the optical power conversion efficiency is maximized is determined, in the third embodiment, a desired optical output is determined based on the relationship between the resonator length and the driving power using the optical output as a parameter. Is obtained, the resonator length that minimizes the driving power is determined. That is, Embodiment 2
The optical power conversion efficiency is substantially the same drive power.

【0092】図8は、一定の光出力をパラメータとし、
共振器長に対する駆動電力の関係を示す図である。図8
では、図6に示した光電力変換効率とは逆に、駆動電力
が最小値をもつ特性となる。図8において、各光出力に
対して、それぞれ駆動電力が最小の値となる共振器長を
もつ。特に、光出力が大きくなるに従って、最小値が顕
著にあらわれる。たとえば、光出力が360mWの場
合、駆動電力の最小値は、2.4Wであり、このときの
共振器長は1500μmとなる。このようにして、所望
の光出力に対して、駆動電力が最小となる共振器長を求
めることができる。
FIG. 8 shows a constant light output as a parameter,
FIG. 5 is a diagram illustrating a relationship between a driving power and a resonator length. FIG.
Then, contrary to the optical power conversion efficiency shown in FIG. 6, the driving power has a characteristic having a minimum value. In FIG. 8, each optical output has a resonator length at which the drive power has a minimum value. In particular, as the light output increases, the minimum value appears remarkably. For example, when the optical output is 360 mW, the minimum value of the driving power is 2.4 W, and the resonator length at this time is 1500 μm. In this way, the resonator length that minimizes the driving power for the desired optical output can be determined.

【0093】ここで、図9に示すフローチャートを参照
して、この発明の実施の形態3における半導体レーザ装
置の製造方法について説明する。図9において、まず、
一定の光出力をパラメータとした、共振器長に対する駆
動電力の関係、すなわち、図8に示した関係をデータベ
ース30から取得する(ステップS301)。その後、
所望の光出力の設定を行い(ステップS302)、この
設定された所望の光出力に対応し、最小あるいは最小値
近傍の駆動電力をもつ共振器長を決定する(ステップS
303)。その後、この決定した共振器長をもつ半導体
レーザ装置を製造し(ステップS304)、本処理を終
了する。
Here, a method of manufacturing a semiconductor laser device according to the third embodiment of the present invention will be described with reference to a flowchart shown in FIG. In FIG. 9, first,
The relationship between the drive power and the resonator length with the constant optical output as a parameter, that is, the relationship shown in FIG. 8 is acquired from the database 30 (step S301). afterwards,
A desired optical output is set (step S302), and a resonator length corresponding to the set desired optical output and having a minimum or near minimum drive power is determined (step S302).
303). Thereafter, a semiconductor laser device having the determined resonator length is manufactured (step S304), and the process ends.

【0094】なお、図8に示した駆動電力が最小となる
共振器長と光出力との関係をもとに、共振器長と光出力
との関係を示す近似式L2をもとめ、この近似式L2を
もとに、共振器長を決定するようにしてもよい。この近
似式L2は、求められた最小値を所定の近似方式によっ
て関係づけたものである。この近似式L2では、光出力
と最適な共振器長との関係を示すため、所望の光出力の
値を入力することによって、最適な共振器長を直ちに求
めることができる。
An approximate expression L2 showing the relationship between the cavity length and the optical output is obtained based on the relationship between the optical cavity and the cavity length at which the driving power is minimized as shown in FIG. The resonator length may be determined based on L2. This approximation formula L2 relates the obtained minimum value by a predetermined approximation method. In this approximation formula L2, the relationship between the optical output and the optimum resonator length is shown. Therefore, by inputting a desired optical output value, the optimum resonator length can be immediately obtained.

【0095】また、上述した実施の形態3では、駆動電
力が最小となる共振器長を決定するようにしていたが、
これに限らず、所定の駆動電力以下の共振器長を決定す
るようにしてもよいし、駆動電力が最小近傍となる共振
器長を決定するようにしてもよい。最小値近傍の範囲
は、最小値の駆動電力に対応する所定の百分率で規定し
た範囲内の共振器長としてもよく、最小値の駆動電力に
対応する共振器長を基準として所定の百分率で規定した
範囲内の共振器長としてもよい。また、近似式L2によ
って求められた共振器長に対して所定のマージンを設け
るようにしてもよい。このマージンは、最小値近傍の範
囲に対応する。
In the third embodiment, the resonator length at which the driving power is minimized is determined.
The present invention is not limited to this, and a resonator length equal to or less than a predetermined drive power may be determined, or a resonator length at which the drive power is near the minimum may be determined. The range near the minimum value may be a resonator length within a range defined by a predetermined percentage corresponding to the minimum drive power, or specified by a predetermined percentage based on the resonator length corresponding to the minimum drive power. The resonator length may be in the range described above. Further, a predetermined margin may be provided for the resonator length obtained by the approximate expression L2. This margin corresponds to the range near the minimum value.

【0096】なお、上述した実施の形態1〜3におい
て、共振器長は最大で1800μmとして説明したが、
これに限らず、さらに長い共振器長についても、同様に
適用することができる。とくに、光出力の増大が要望さ
れる場合には、さらに長い共振器長が必要になり、この
場合における半導体レーザ装置20の駆動電力は大きな
ものとなり、一層、この実施の形態に示した作用効果が
あらわれるものと考えられる。
In the first to third embodiments described above, the resonator length has been described as being at most 1800 μm.
However, the present invention is not limited to this, and can be similarly applied to a longer resonator length. In particular, when it is desired to increase the optical output, a longer cavity length is required. In this case, the driving power of the semiconductor laser device 20 becomes large, and the operation and effect shown in this embodiment are further improved. Is considered to appear.

【0097】(実施の形態4)つぎに、この発明の実施
の形態4について説明する。上述した実施の形態1〜3
では、いずれも、所望の光出力から、駆動電力が最小あ
るいは光電力変換効率が最大となる共振器長を求めるも
のであったが、この実施の形態4では、所望の光出力お
よび一定の共振器長から、駆動電力が最小となる上部ク
ラッド層(p−InPクラッド層6)のZnキャリア濃
度を求めるようにしている。
(Embodiment 4) Next, Embodiment 4 of the present invention will be described. Embodiments 1 to 3 described above
In each of the above embodiments, the resonator length at which the driving power is minimum or the optical power conversion efficiency is maximum is obtained from the desired optical output. However, in the fourth embodiment, the desired optical output and the constant resonance are obtained. The Zn carrier concentration of the upper clad layer (p-InP clad layer 6) that minimizes the driving power is determined from the device length.

【0098】図10は、一定の光出力および一定の共振
器長をパラメータとし、上部クラッド層におけるZnキ
ャリア濃度に対する駆動電力の関係を示す図である。図
10において、800μm、1000μmの一定の共振
器長と150mW、170mW、190mWなどの一定
の光出力の組み合わせに対して駆動電力の値が最小とな
る上部クラッド層のZnキャリア濃度が存在する。な
お、図20に示したように、一定の光出力および一定の
共振器長をパラメータとし、上部クラッド層におけるZ
nキャリア濃度に対する駆動電流の関係を求めると、Z
nキャリア濃度が高くなるにつれて、駆動電流が単調に
増大する関係となり、最適値は存在しない。すなわち、
Znキャリア濃度は、駆動電力の観点からみると、最小
値が存在することがわかる。
FIG. 10 is a diagram showing the relationship between the driving power and the Zn carrier concentration in the upper cladding layer, using a constant optical output and a constant resonator length as parameters. In FIG. 10, there is a Zn carrier concentration in the upper cladding layer where the value of the driving power is minimum for a combination of a fixed resonator length of 800 μm or 1000 μm and a fixed optical output such as 150 mW, 170 mW or 190 mW. As shown in FIG. 20, a constant optical output and a constant resonator length are used as parameters, and Z
When the relationship between the drive current and the n carrier concentration is obtained, Z
As the n carrier concentration increases, the driving current monotonically increases, and there is no optimum value. That is,
From the viewpoint of driving power, it can be seen that the Zn carrier concentration has a minimum value.

【0099】したがって、所望の光出力および一定の共
振器長に対して駆動電流を最小化することができる上部
クラッド層のZnキャリア濃度を決定することができ
る。なお、共振器長を最適化すると、一層駆動電流を低
くすることができるのは、実施の形態1〜3で説明した
とおりである。
Therefore, it is possible to determine the Zn carrier concentration of the upper cladding layer that can minimize the driving current for a desired optical output and a constant resonator length. It is to be noted that the drive current can be further reduced by optimizing the resonator length, as described in the first to third embodiments.

【0100】たとえば、所望の光出力が190mWであ
る場合に、共振器長が800μmの場合、駆動電力が最
小となる上部クラッド層のZnキャリア濃度は値Czで
あり、このときの駆動電力は1.2Wとなる。この場
合、共振器長を1000μmとすることによって、駆動
電力は1.1Wとなる。
For example, when the desired optical output is 190 mW, and when the cavity length is 800 μm, the Zn carrier concentration of the upper cladding layer where the driving power is minimum is Cz, and the driving power at this time is 1 .2W. In this case, the drive power is 1.1 W by setting the resonator length to 1000 μm.

【0101】ここで、図11に示すフローチャートを参
照して、この発明の実施の形態4における半導体レーザ
装置の製造方法について説明する。図11において、ま
ず、一定の光出力および一定の共振器長をパラメータと
した、上部クラッド層のZnキャリア濃度に対する駆動
電力の関係、すなわち、図10に示した関係をデータベ
ース30から取得する(ステップS401)。その後、
所望の光出力および一定の共振器長の設定を行い(ステ
ップS402)、この設定された所望の光出力および一
定の共振器長に対応し、最小あるいは最小値近傍の駆動
電力をもつZnキャリア濃度を決定する(ステップS4
03)。その後、この決定したZnキャリア濃度をもつ
半導体レーザ装置を製造し(ステップS404)、本処
理を終了する。
Here, a method for manufacturing a semiconductor laser device according to the fourth embodiment of the present invention will be described with reference to the flowchart shown in FIG. In FIG. 11, first, the relationship between the Zn carrier concentration of the upper cladding layer and the driving power, that is, the relationship shown in FIG. 10, using the constant optical output and the constant resonator length as parameters, is acquired from the database 30 (step S10). S401). afterwards,
A desired optical output and a constant resonator length are set (step S402), and a Zn carrier concentration corresponding to the set desired optical output and the constant resonator length and having a minimum or near-minimum driving power is set. (Step S4)
03). After that, a semiconductor laser device having the determined Zn carrier concentration is manufactured (step S404), and the process ends.

【0102】なお、図8に示した駆動電力が最小となる
Znキャリア濃度と、光出力および共振器長との関係を
もとに、Znキャリア濃度と、光出力および共振器長と
の関係を示す近似式をもとめ、この近似式をもとに、Z
nキャリア濃度を決定するようにしてもよい。この近似
式は、求められた最小値を所定の近似方式によって関係
づけたものである。この近似式では、光出力および共振
器長の組み合わせと、最適なZnキャリア濃度との関係
を示すため、所望の光出力および一定の共振器長の値を
入力することによって、最適なZnキャリア濃度を直ち
に求めることができる。
The relationship between the Zn carrier concentration, the optical output, and the resonator length is shown on the basis of the relationship between the Zn carrier concentration at which the driving power is minimized and the optical output and the resonator length shown in FIG. From the approximate expression shown below, Z
The n carrier concentration may be determined. This approximation formula is obtained by associating the obtained minimum values with a predetermined approximation method. In this approximation, the relationship between the combination of the optical output and the resonator length and the optimum Zn carrier concentration is shown. Therefore, by inputting a desired optical output and a constant resonator length value, the optimum Zn carrier concentration can be obtained. Can be requested immediately.

【0103】なお、この実施の形態4では、Znキャリ
ア濃度に対する駆動電力の関係をもとに、最適なZnキ
ャリア濃度を求めるようにしていたが、これに限らず、
実施の形態2と同様に、一定の光出力および一定の共振
器長をパラメータとし、Znキャリア濃度に対する光電
力変換効率の関係を求め、光電力変換効率が最大となる
Znキャリア濃度を求めるようにしてもよい。
In the fourth embodiment, the optimum Zn carrier concentration is obtained based on the relationship between the Zn carrier concentration and the driving power. However, the present invention is not limited to this.
As in the second embodiment, the relationship between the optical power conversion efficiency and the Zn carrier concentration is determined by using the constant optical output and the constant resonator length as parameters, and the Zn carrier concentration at which the optical power conversion efficiency is maximized is determined. You may.

【0104】また、上述した実施の形態4では、駆動電
力が最小となるZnキャリア濃度を決定するようにして
いたが、これに限らず、所定の駆動電力以下のZnキャ
リア濃度を決定するようにしてもよいし、駆動電力が最
小近傍となるZnキャリア濃度を決定するようにしても
よい。最小値近傍の範囲は、最小値の駆動電力に対応す
る所定の百分率で規定した範囲内のZnキャリア濃度と
してもよく、最小値の駆動電力に対応するZnキャリア
濃度を基準として所定の百分率で規定した範囲内のZn
キャリア濃度としてもよい。また、近似式によって求め
られたZnキャリア濃度に対して所定のマージンを設け
るようにしてもよい。このマージンは、最小値近傍の範
囲に対応する。
In the fourth embodiment, the Zn carrier concentration at which the driving power is minimized is determined. However, the present invention is not limited to this, and the Zn carrier concentration at a predetermined driving power or less may be determined. Alternatively, the Zn carrier concentration at which the driving power is close to the minimum may be determined. The range near the minimum value may be a Zn carrier concentration within a range defined by a predetermined percentage corresponding to the minimum drive power, or specified by a predetermined percentage based on the Zn carrier concentration corresponding to the minimum drive power. Within the specified range
The carrier concentration may be used. Further, a predetermined margin may be provided for the Zn carrier concentration obtained by the approximate expression. This margin corresponds to the range near the minimum value.

【0105】なお、上述した実施の形態1〜4では、駆
動電力が最小あるいは最小近傍または光電力変換効率が
最大あるいは最大近傍となる半導体レーザ装置20の共
振器長あるいは上部クラッド層のZnキャリア濃度を決
定するようにしていたが、これに限らず、半導体レーザ
装置20の各種要素を同様にして決定するようにしても
よい。たとえば、半導体レーザ装置20の反射膜14あ
るいは出射側反射膜15の反射率の値を決定するように
してもよい。
In the first to fourth embodiments, the resonator length of the semiconductor laser device 20 or the Zn carrier concentration of the upper cladding layer in which the driving power is at or near the minimum or the optical power conversion efficiency is at or near the maximum. Is determined, but the present invention is not limited to this, and various elements of the semiconductor laser device 20 may be determined in a similar manner. For example, the value of the reflectance of the reflection film 14 or the emission side reflection film 15 of the semiconductor laser device 20 may be determined.

【0106】ここで、上述した実施の形態1〜4の結果
から、上述した実施の形態1〜4で示した半導体レーザ
装置は、一般的につぎの条件を備えたIII−V族半導体
レーザである言える。すなわち、第1に約1000μm
から約1800μmまでの範囲の共振器長Lを有し、反
射膜14側端面と出射側反射膜15端面とを有した共振
器構造を形成している。第2に、共振器構造内に活性層
を有し、電源からバイアスを受ける2つの電極が結合さ
れている。第3に、出射側反射膜15は、約4%以下の
低い反射率をもつ。第4に、反射膜14は、約80%以
上の高い反射率をもつ。第5に、活性層の上部に形成さ
れた上部クラッド層の正孔キャリア濃度、好ましくはZ
nのドープによる正孔キャリア濃度が4×1017cm-3
から1×1018cm-3たとえば7×1017cm-3までの
範囲の値を有している。ここで、このIII−V族半導体
レーザは、層構造として、1以上のGaAs,InGa
As,AlGaAs,InGaAsP,InP,GaI
nNAs,AlGaInAs,AlGaInAsP,A
lGaInP,GaAsSbなどが用いられる。
Here, from the results of the above-described first to fourth embodiments, the semiconductor laser devices shown in the first to fourth embodiments are generally III-V group semiconductor lasers having the following conditions. I can say that. That is, first, about 1000 μm
And a cavity length L ranging from about 1800 μm to about 1800 μm, and a resonator structure having an end face on the reflection film 14 side and an end face on the emission side reflection film 15 is formed. Second, two electrodes having an active layer in the resonator structure and receiving a bias from a power supply are coupled. Third, the emission side reflection film 15 has a low reflectance of about 4% or less. Fourth, the reflection film 14 has a high reflectance of about 80% or more. Fifth, the hole carrier concentration of the upper cladding layer formed on the active layer, preferably Z
The hole carrier concentration by doping n is 4 × 10 17 cm -3
From 1 × 10 18 cm −3 to, for example, 7 × 10 17 cm −3 . Here, this III-V group semiconductor laser has one or more GaAs, InGa
As, AlGaAs, InGaAsP, InP, GaI
nNAs, AlGaInAs, AlGaInAsP, A
1GaInP, GaAsSb, or the like is used.

【0107】図12は、50mWと390mWとの間に
おいて与えられた光出力に対して最小駆動電力の約5%
〜10%の範囲内の入力駆動電力とすることができ、お
よび/または、与えられた光出力に対して最大光電力変
換効率の約5%〜10%の範囲内とすることができるII
I−V族半導体レーザの共振器長Lの範囲を示してい
る。この領域の外部点は、以下に示す値を有する点P1
〜P12(図12参照)として与えられる。すなわち、 点 共振器長 光出力値 P1 1380μm 50mW P2 1480μm 100mW P3 1700μm 200mW P4 1750μm 300mW P5 1750μm 360mW P6 1770μm 390mW P7 1450μm 390mW P8 1350μm 360mW P9 1200μm 300mW P10 1050μm 200mW P11 1000μm 100mW P12 1000μm 50mW である。各点P1〜P12を接続するラインセグメント
540〜551は、領域の外部線として定義される。こ
こで、ラインセグメント547〜551は、共振器長の
下部境界(図上左側)を示し、ラインセグメント541
〜545は、共振器長の上部境界(図上右側)を示す。
図12は、また、このIII−V族半導体レーザに与えら
れた共振器長に対する光出力の好ましい動作範囲を示し
ている。この場合、ラインセグメント540〜545
は、光出力の下部境界(底側)を示し、ラインセグメン
ト546〜551は、光出力の上部境界(上側)を示し
ている。
FIG. 12 shows that for a given optical output between 50 mW and 390 mW about 5% of the minimum drive power
The input drive power can be in the range of 10% to 10% and / or can be in the range of about 5% to 10% of the maximum light power conversion efficiency for a given light output II.
The range of the cavity length L of the IV semiconductor laser is shown. The point outside this area is a point P1 having the following values:
PP12 (see FIG. 12). That is, point resonator length Optical output value P1 1380 μm 50 mW P2 1480 μm 100 mW P3 1700 μm 200 mW P4 1750 μm 300 mW P5 1750 μm 360 mW P6 1770 μm 390 mW P7 1450 μm PW 1300 μm Line segments 540 to 551 connecting the points P1 to P12 are defined as external lines of the region. Here, the line segments 547 to 551 indicate the lower boundary (left side in the drawing) of the resonator length, and the line segment 541
545 indicate the upper boundary (right side in the figure) of the resonator length.
FIG. 12 also shows a preferable operation range of the optical output with respect to the cavity length given to the III-V semiconductor laser. In this case, the line segments 540 to 545
Indicates a lower boundary (bottom side) of the light output, and line segments 546 to 551 indicate an upper boundary (upper side) of the light output.

【0108】図12に示したラインセグメント540〜
551は、共振器長Lの関数あるいは光出力Poutの関
数として表現できる式によって数学的に定義することが
できる。 1)ラインセグメント540 共振器長Lスパン:1000μm〜1380μm 光出力Poutスパン:50mW〜50mW L=[1000μm,1380μm] (1A) Pout =50mW (1B) 2)ラインセグメント541 共振器長Lスパン:1380μm〜1480μm 光出力Poutスパン:50mW〜100mW L=(100μm/50mW)*Pout+1280μm (2A) =2μm*(Pout/1mW)+1280μm (2B) Pout =(1mW)*[(L−1280μm)/2μm] (2C) 3)ラインセグメント542 共振器長Lスパン:1480μm〜1700μm 光出力Poutスパン:100mW〜200mW L=(220μm/100mW)*Pout+1260μm (3A) =2.2μm*(Pout/1mW)+1260μm (3B) Pout =(1mW)*[(L−1260μm)/2.2μm] (3C) 4)ラインセグメント543 共振器長Lスパン:1700μm〜1750μm 光出力Poutスパン:200mW〜300mW L=(50μm/100mW)*Pout+1600μm (4A) =1μm*(Pout/2mW)+1600μm (4B) Pout =(2mW)*[(L−1600μm)/1μm] (4C) 5)ラインセグメント544 共振器長Lスパン:1750μm〜1750μm 光出力Poutスパン:300mW〜360mW L=1750μm (5A) Pout =[300mW,360mW] (5B) 6)ラインセグメント545 共振器長Lスパン:1750μm〜1770μm 光出力Poutスパン:360mW〜390mW L=(20μm/30mW)*Pout+1510μm (6A) =2μm*(Pout/3mW)+1510μm (6B) Pout =(3mW)*[(L−1510μm)/2μm] (6C) 7)ラインセグメント546 共振器長Lスパン:1450μm〜1770μm 光出力Poutスパン:390mW〜390mW L=[1450μm,1770μm] (7A) Pout =390mW (7B) 8)ラインセグメント547 共振器長Lスパン:1350μm〜1450μm 光出力Poutスパン:360mW〜390mW L=(100μm/30mW)*Pout+150μm (8A) =10μm*(Pout/3mW)+150μm (8B) Pout =(3mW)*[(L−150μm)/10μm] (8C) 9)ラインセグメント548 共振器長Lスパン:1200μm〜1350μm 光出力Poutスパン:300mW〜360mW L=(150μm/60mW)*Pout+450μm (9A) =5μm*(Pout/2mW)+450μm (9B) Pout =(2mW)*[(L−450μm)/5μm] (9C) 10)ラインセグメント549 共振器長Lスパン:1050μm〜1200μm 光出力Poutスパン:200mW〜300mW L=(150μm/100mW)*Pout+750μm (10A) =3μm*(Pout/2mW)+750μm (10B) Pout =(2mW)*[(L−750μm)/3μm] (10C) 11)ラインセグメント550 共振器長Lスパン:1000μm〜1050μm 光出力Poutスパン:100mW〜200mW L=(50μm/100mW)*Pout+950μm (11A) =1μm*(Pout/2mW)+950μm (11B) Pout =(2mW)*[(L−950μm)/1μm] (11C) 12)ラインセグメント551 共振器長Lスパン:1000μm〜1000μm 光出力Poutスパン:50mW〜100mW L=1000μm (12A) Pout =[50mW,100mW] (12B)
The line segments 540 to 540 shown in FIG.
551 can be mathematically defined by an expression that can be expressed as a function of the resonator length L or a function of the optical output Pout. 1) Line segment 540 Resonator length L span: 1000 μm to 1380 μm Optical output Pout span: 50 mW to 50 mW L = [1000 μm, 1380 μm] (1A) Pout = 50 mW (1B) 2) Line segment 541 Resonator length L span: 1380 μm 141480 μm Optical output Pout span: 50 mW to 100 mW L = (100 μm / 50 mW) * Pout + 1280 μm (2A) = 2 μm * (Pout / 1 mW) +1280 μm (2B) Pout = (1 mW) * [(L−1280 μm) / 2 μm] ( 2C) 3) Line segment 542 Resonator length L span: 1480 μm to 1700 μm Optical output Pout span: 100 mW to 200 mW L = (220 μm / 100 mW) * Pout + 1260 μm (3A) = 2.2 μm * (Pout / 1 mW) +1260 μm (3B) P out = (1 mW) * [(L-1260 μm) /2.2 μm] (3C) 4) Line segment 543 Resonator length L span: 1700 μm to 1750 μm Optical output Pout span: 200 mW to 300 mW L = (50 μm / 100 mW) * Pout + 1600 μm (4A) = 1 μm * (Pout / 2 mW) +1600 μm (4B) Pout = (2 mW) * [(L-1600 μm) / 1 μm] (4C) 5) Line segment 544 Resonator length L span: 1750 μm to 1750 μm Pout span: 300 mW to 360 mW L = 1750 μm (5A) Pout = [300 mW, 360 mW] (5B) 6) Line segment 545 Resonator length L span: 1750 μm to 1770 μm Optical output Pout span: 360 mW to 390 mW L = (20 μm / 30 mW ) * Pout + 1510 μm (6A) = 2 μm * (Pout / 3 mW) +1510 μm (6B) Pout = (3 mW) * [(L−1510 μm) / 2 μm] (6C) 7) Line segment 546 Resonator length L span: 1450 μm to 1770 μm Optical output Pout Span: 390 mW to 390 mW L = [1450 μm, 1770 μm] (7A) Pout = 390 mW (7B) 8) Line segment 547 Resonator length L span: 1350 μm to 1450 μm Optical output Pout span: 360 mW to 390 mW L = (100 μm / 30 mW) * Pout + 150 μm (8A) = 10 μm * (Pout / 3 mW) +150 μm (8B) Pout = (3 mW) * [(L−150 μm) / 10 μm] (8C) 9) Line segment 548 Resonator length L span: 1200 μm to 1350 μm Light Output Pout span: 300mW ~ 60 mW L = (150 μm / 60 mW) * Pout + 450 μm (9A) = 5 μm * (Pout / 2 mW) +450 μm (9B) Pout = (2 mW) * [(L−450 μm) / 5 μm] (9C) 10) Line segment 549 Resonator Long L span: 1050 μm to 1200 μm Optical output Pout span: 200 mW to 300 mW L = (150 μm / 100 mW) * Pout + 750 μm (10 A) = 3 μm * (Pout / 2 mW) +750 μm (10B) Pout = (2 mW) * [(L−750 μm ) / 3 μm] (10C) 11) Line segment 550 Resonator length L span: 1000 μm to 1050 μm Optical output Pout span: 100 mW to 200 mW L = (50 μm / 100 mW) * Pout + 950 μm (11A) = 1 μm * (Pout / 2 mW) +950 μm (11B) Pout (2 mW) * [(L-950 μm) / 1 μm] (11C) 12) Line segment 551 Resonator length L span: 1000 μm to 1000 μm Optical output Pout span: 50 mW to 100 mW L = 1000 μm (12A) Pout = [50 mW, 100 mW ] (12B)

【0109】領域は、50mW,100mW,200m
W,300mW,360mW,および390mWの光出
力に対してとられた、図6および図8に示す6つの一連
のデータを含む。これら6つの一連のデータは、図12
においてラインセグメント501〜506として示して
ある。
The area is 50 mW, 100 mW, 200 m
Includes the six series of data shown in FIGS. 6 and 8 taken for optical powers of W, 300 mW, 360 mW, and 390 mW. These six sets of data are shown in FIG.
Are shown as line segments 501-506.

【0110】所望の共振器長Lは、図13に示すように
9つに区分される。なお、図13において「〜」は、
「約」を意味する。これら9つの区分内における光出力
Poutの値は、図13に示したラインセグメントによっ
て区分される。
The desired resonator length L is divided into nine as shown in FIG. In FIG. 13, "~" indicates
"About" means. The values of the optical output Pout in these nine sections are divided by the line segments shown in FIG.

【0111】特定の共振器長をもった半導体レーザが与
えられると、その特定の共振器長に対して関連づけられ
た領域として位置づけられ、その共振器長の範囲に対し
て特定された下部領域と上部領域との間の光出力でレー
ザ発振動作する。このような動作は、図1に示した電源
PSによって容易に実現される。この電源PSは、半導
体レーザの電極に接続され、選択された光出力で、この
半導体レーザが動作する電力量を供給する。すなわち、
この発明では、図12および図13に示した共振器長L
に対応した光出力を選択し、半導体レーザを動作させる
ようにしている。
When a semiconductor laser having a specific resonator length is given, it is positioned as a region associated with the specific resonator length, and a lower region specified with respect to the range of the resonator length. A laser oscillation operation is performed with the light output between the upper region. Such an operation is easily realized by the power supply PS shown in FIG. The power supply PS is connected to the electrodes of the semiconductor laser, and supplies an amount of power for operating the semiconductor laser with a selected optical output. That is,
According to the present invention, the resonator length L shown in FIGS.
Is selected to operate the semiconductor laser.

【0112】同様にして、光出力Poutのスパンは、図
14に示した5つの領域に区分できる。これら5つの区
分内における共振器長Lの値は、図13に示したライン
セグメントによって区分される。
Similarly, the span of the optical output Pout can be divided into the five regions shown in FIG. The values of the resonator length L in these five sections are divided by the line segments shown in FIG.

【0113】半導体レーザに対する特定の光出力が与え
られると、その特定の光出力に対して関連づけられた領
域として位置づけられ、その光出力の範囲に対して特定
された下部領域と上部領域との間の共振器長Lが選択さ
れる。この共振器長の選択は、レーザチップの端面間を
所望の共振器長となるように劈開することによって実現
される。このようにして、この発明では、図12および
図14をもとに、所望の光出力に対応した共振器長をも
つ半導体レーザを選択することができる。
When a specific light output to the semiconductor laser is given, it is positioned as a region associated with the specific light output, and a region between the lower region and the upper region specified for the range of the light output. Is selected. The selection of the resonator length is realized by cleaving the end faces of the laser chip so as to have a desired resonator length. Thus, according to the present invention, a semiconductor laser having a cavity length corresponding to a desired optical output can be selected based on FIGS.

【0114】上述したように、図13を調べ、与えられ
た共振器長に基づいて動作する光出力を選択することが
できる。一方、さらに、図14に基づいた選択プロセス
を実行することができる。この場合、第2および第3の
列を調べて、与えられた共振器長を含む1以上の光出力
領域を見いだす。この見いだされた領域の中から、与え
られた共振器長に対して関連づけられた光出力を選択す
ることができる。上述した発明は、図13および図14
に示した内容によって提供された1つの領域を用いて実
行してもよいし、図13および図14に示した2以上の
領域の組合せを用いて実行するようにしてもよい。
As described above, by examining FIG. 13, it is possible to select an optical output that operates based on a given resonator length. Meanwhile, a selection process based on FIG. 14 can be further performed. In this case, the second and third columns are examined to find one or more light output regions that include a given resonator length. From within this found area, an associated light output can be selected for a given cavity length. The above-described invention is shown in FIGS.
May be executed using one area provided by the contents shown in FIG. 13 or may be executed using a combination of two or more areas shown in FIG. 13 and FIG.

【0115】上述した発明は、次に示す、図12におけ
る3つの好ましい複合領域内で実行することもできる。
その第1の複合領域として、約1000μmから約11
00μmの領域内の共振器長をもつ半導体レーザは、約
50mWと約100mWとの間の光出力で動作する。そ
の第2の複合領域として、約1200μmから約160
0μmの領域内の共振器長をもつ半導体レーザは、約2
00mWと約300mWとの間の光出力で動作する。そ
の第3の複合領域として、約1300μmから約180
0μmの領域内の共振器長をもつ半導体レーザは、約3
50mWと約400mWとの間の光出力で動作する。
The invention described above can also be implemented in the following three preferred composite areas in FIG.
As the first composite region, about 1000 μm to about 11 μm
Semiconductor lasers having a cavity length in the region of 00 μm operate with optical powers between about 50 mW and about 100 mW. As the second composite region, from about 1200 μm to about 160 μm
A semiconductor laser having a cavity length in the region of 0 μm is about 2 μm.
It operates with optical power between 00mW and about 300mW. As the third composite region, from about 1300 μm to about 180 μm
A semiconductor laser having a cavity length in the region of 0 μm is about 3 μm.
It operates at an optical power between 50 mW and about 400 mW.

【0116】(実施の形態5)つぎに、この発明の実施
の形態5について説明する。この実施の形態5では、上
述した実施の形態1〜4で示した半導体レーザ装置をモ
ジュール化したものである。
(Fifth Embodiment) Next, a fifth embodiment of the present invention will be described. In the fifth embodiment, the semiconductor laser device described in the first to fourth embodiments is modularized.

【0117】図15は、この発明の実施の形態5である
半導体レーザモジュールの構成を示す縦断面図である。
図15において、この半導体レーザモジュール50は、
上述した実施の形態1〜4で示した半導体レーザ装置に
対応する半導体レーザ装置51を有する。半導体レーザ
モジュール50の筐体として、セラミックなどによって
形成されたパッケージ59の内部底面上に、温度制御装
置としてのペルチェ素子58が配置される。ペルチェ素
子58上にはベース57が配置され、このベース57上
にはヒートシンク57aが配置される。
FIG. 15 is a longitudinal sectional view showing a configuration of a semiconductor laser module according to Embodiment 5 of the present invention.
In FIG. 15, this semiconductor laser module 50
A semiconductor laser device 51 corresponding to the semiconductor laser devices described in the first to fourth embodiments is provided. As a housing of the semiconductor laser module 50, a Peltier device 58 as a temperature control device is disposed on an inner bottom surface of a package 59 formed of ceramic or the like. A base 57 is arranged on the Peltier element 58, and a heat sink 57a is arranged on the base 57.

【0118】ベース57上には、半導体レーザ装置51
およびサーミスタ58aを配置したヒートシンク57
a、第1レンズ52、および電流モニタ56が配置され
る。半導体レーザ装置51から出射されたレーザ光は、
第1レンズ52、アイソレータ53、および第2レンズ
54を介し、光ファイバ55上に導波される。第2レン
ズ54は、レーザ光の光軸上であって、パッケージ59
上に設けられ、外部接続される光ファイバ55に光結合
される。なお、電流モニタ56は、半導体レーザ装置5
1の反射膜側から漏れた光をモニタ検出する。
The semiconductor laser device 51 is provided on the base 57.
And a heat sink 57 in which a thermistor 58a is arranged
a, the first lens 52, and the current monitor 56 are arranged. The laser light emitted from the semiconductor laser device 51 is
The light is guided onto the optical fiber 55 via the first lens 52, the isolator 53, and the second lens 54. The second lens 54 is located on the optical axis of the laser beam,
It is optically coupled to an externally connected optical fiber 55 provided above. The current monitor 56 is connected to the semiconductor laser device 5.
The light leaked from the reflective film 1 is detected by monitor.

【0119】ここで、この半導体レーザモジュール50
では、他の光学部品などによる反射戻り光が共振器内に
再入力しないように、半導体レーザ装置51と光ファイ
バ55との間にアイソレータ53を介在させている。
Here, the semiconductor laser module 50
In such a case, an isolator 53 is interposed between the semiconductor laser device 51 and the optical fiber 55 so that the return light reflected by other optical components does not reenter the resonator.

【0120】図16は、外部温度と半導体レーザ装置5
1の温度との温度差をパラメータとした場合における半
導体レーザ装置51の駆動電力とペルチェ素子58の駆
動電力との関係を示す図である。ペルチェ素子58に供
給される駆動電力は、半導体レーザモジュール50の外
部温度と半導体レーザ装置51の温度との温度差ΔTの
大きさによって変化する。図16に示すように温度差Δ
Tが大きいほど、ペルチェ素子58に加えられる駆動電
力は大きくなる。たとえば、外部温度が75℃で半導体
レーザ装置51の温度を25℃に保つためには、温度差
ΔTを50℃とする必要があり、この場合、半導体レー
ザ装置51の駆動電力が1.7Wである場合、ペルチェ
素子58に加えられる駆動電力は7Wとなる。
FIG. 16 shows the relationship between the external temperature and the semiconductor laser device 5.
FIG. 4 is a diagram showing a relationship between the driving power of the semiconductor laser device 51 and the driving power of the Peltier element 58 when a temperature difference from the temperature of 1 is used as a parameter. The drive power supplied to the Peltier element 58 changes depending on the magnitude of the temperature difference ΔT between the external temperature of the semiconductor laser module 50 and the temperature of the semiconductor laser device 51. As shown in FIG.
As T increases, the driving power applied to the Peltier element 58 increases. For example, in order to maintain the temperature of the semiconductor laser device 51 at 25 ° C. at an external temperature of 75 ° C., the temperature difference ΔT needs to be 50 ° C. In this case, the driving power of the semiconductor laser device 51 is 1.7 W and In some cases, the driving power applied to the Peltier device 58 is 7 W.

【0121】ここで、上述した実施の形態1〜4に示し
た半導体レーザ装置51を半導体レーザモジュール50
に適用することによって、半導体レーザ装置51の駆動
電力が小さくなるため、ペルチェ素子58に加えられる
駆動電力も小さくなる。たとえば、温度差ΔT=50℃
を維持させる場合で半導体レーザ装置51の駆動電力が
1.7Wから1.25Wに減少することができた場合、
ペルチェ素子58に加えられる駆動電力は、7Wから4
Wに減少し、半導体レーザ装置51の低消費電力化に加
えて、さらに3W分の低消費電力化が実現されたことに
なる。このようにして、半導体レーザ装置51自体の低
消費電力化を図ることによって、結果として半導体レー
ザモジュール50全体の低消費電力化が実現される。
Here, the semiconductor laser device 51 shown in the first to fourth embodiments is replaced with the semiconductor laser module 50.
Since the driving power of the semiconductor laser device 51 is reduced by applying the method described above, the driving power applied to the Peltier element 58 is also reduced. For example, temperature difference ΔT = 50 ° C.
Is maintained, and when the driving power of the semiconductor laser device 51 can be reduced from 1.7 W to 1.25 W,
The driving power applied to the Peltier element 58 is 4 W
W, which means that the power consumption of the semiconductor laser device 51 is reduced by 3 W in addition to the reduced power consumption. In this manner, by reducing the power consumption of the semiconductor laser device 51 itself, as a result, the power consumption of the entire semiconductor laser module 50 is reduced.

【0122】なお、上述した実施の形態5では、半導体
レーザ装置51から出力されたレーザ光をそのまま出力
する形態の半導体レーザモジュールであったが、光ファ
イバ55の第2レンズ54側端部の近傍に光ファイバグ
レーティングを形成し、この光ファイバグレーティング
によって半導体レーザ装置51から出力されたレーザ光
を波長選択して出力する光ファイバグレーティングを有
した半導体レーザ装置を搭載した半導体レーザモジュー
ルにも適用できる。
In the above-described fifth embodiment, the semiconductor laser module is configured to output the laser light output from the semiconductor laser device 51 as it is. However, in the vicinity of the end of the optical fiber 55 on the second lens 54 side. An optical fiber grating is formed on the optical fiber grating, and the semiconductor laser device having an optical fiber grating that selects and outputs the wavelength of the laser light output from the semiconductor laser device 51 by the optical fiber grating can be applied.

【0123】この実施の形態5では、実施の形態1〜4
で示した半導体レーザ装置をモジュール化しているた
め、特にペルチェ素子58が消費する電力を削減するこ
とができ、結果として半導体レーザモジュール50全体
としての駆動電力が小さくなり、光電力変換効率を高く
することができる。
In the fifth embodiment, the first to fourth embodiments
Since the semiconductor laser device shown in (1) is modularized, in particular, the power consumed by the Peltier element 58 can be reduced, and as a result, the driving power of the semiconductor laser module 50 as a whole decreases and the optical power conversion efficiency increases. be able to.

【0124】(実施の形態6)つぎに、この発明の実施
の形態6について説明する。この実施の形態6は、上述
した実施の形態1〜4で示した半導体レーザ装置あるい
は実施の形態5で示した半導体レーザモジュールの効率
を改善した他の半導体レーザ装置あるいは他の半導体レ
ーザモジュールの一例を示している。この実施の形態6
における半導体レーザ装置は、実施の形態1〜4に示し
た半導体レーザ装置の構造の最適化をさらに図り、しか
も実施の形態5に示したヒートシンク57aとしてダイ
ヤモンドヒートシンクを用いて熱伝導性を高め、半導体
レーザ装置からの熱の逃げを高めている。
Embodiment 6 Next, Embodiment 6 of the present invention will be described. The sixth embodiment is an example of another semiconductor laser device or another semiconductor laser module in which the efficiency of the semiconductor laser device described in the first to fourth embodiments or the semiconductor laser module described in the fifth embodiment is improved. Is shown. Embodiment 6
In the semiconductor laser device according to the third embodiment, the structure of the semiconductor laser device described in the first to fourth embodiments is further optimized, and the heat conductivity is increased by using a diamond heat sink as the heat sink 57a described in the fifth embodiment. The escape of heat from the laser device is increased.

【0125】図17は、共振器長Lが1500μmと2
000μmの場合における半導体レーザ装置の光出力に
対する駆動電流の関係を示した図である。この半導体レ
ーザ装置は、上述した実施の形態1〜4に示した半導体
レーザ装置と同じ機能構成であるが、各半導体層などの
詳細構成を改善したものであり、上述したようにダイヤ
モンドヒートシンクを用いている。この半導体レーザ装
置では、図17に示すように、光出力が680mWまで
は共振器長Lが1500μmの方が少ない駆動電流で動
作し、光出力が680mWを超えると共振器長Lが20
00μmの方が少ない駆動電流で動作する。
FIG. 17 shows that the resonator length L is 1500 μm and 2 μm.
FIG. 9 is a diagram illustrating a relationship between a drive current and an optical output of a semiconductor laser device in the case of 000 μm. This semiconductor laser device has the same functional configuration as the semiconductor laser devices described in the above-described first to fourth embodiments, but is a detailed configuration of each semiconductor layer and the like, and uses a diamond heat sink as described above. ing. In this semiconductor laser device, as shown in FIG. 17, the cavity length L of 1500 μm operates with a smaller driving current until the optical output is up to 680 mW, and the cavity length L becomes 20 when the optical output exceeds 680 mW.
The operation with a drive current of 00 μm is smaller.

【0126】一方、図18は、共振器長Lが1500μ
mと2000μmの場合における半導体レーザ装置の光
出力に対する駆動電力の関係を示した図である。図18
に示すように、光出力が180mWまでは、共振器長L
が1500μmと2000μmとのいずれも同じ駆動電
力を必要とするが、光出力が180mWを超えると、共
振器長2000μmの方が少ない駆動電力で動作し、そ
の駆動電力差は、光出力の増大とともに増大する傾向が
ある。
On the other hand, FIG. 18 shows that the resonator length L is 1500 μm.
FIG. 4 is a diagram illustrating a relationship between a light output of a semiconductor laser device and a driving power in the case of m and 2000 μm. FIG.
As shown in the figure, the resonator length L
Require the same drive power for both 1500 μm and 2000 μm, but when the optical output exceeds 180 mW, the cavity length of 2000 μm operates with less drive power, and the difference in drive power increases with the increase in optical output. Tends to increase.

【0127】したがって、図17に示す光出力に対する
駆動電流の関係から光出力に対応した共振器長Lを選択
すると、共振器長Lが180mWから680mWまでの
間において誤った選択をすることになり、図18に示す
光出力に対する駆動電力との関係をもとに所望の光出力
に対する共振器長Lを選択することによって、無効電力
が抑制され、半導体レーザ装置の活性層の温度上昇が抑
制され、半導体レーザ装置の信頼性を向上させることが
できる。また、実施の形態1〜5では、共振器長Lが1
800μmまでであったが、この実施の形態6では、共
振器長Lが2000μmまで適用できることを示してい
る。したがって、共振器長Lが1800μmを超え、さ
らに2000μmを超える場合であっても、実施の形態
1〜5における図5(共振器長に対する光電力変換効
率)、図8(共振器長に対する駆動電力)、図10(キ
ャリア濃度に対する駆動電力)、図12(共振器長に対
する光出力との最適関係)などを求めることができ、実
施の形態1〜5と同様に実施の形態6の半導体レーザ装
置に対する最適化を行うことができる。
Therefore, if the resonator length L corresponding to the optical output is selected from the relationship between the drive current and the optical output shown in FIG. 17, an incorrect selection is made when the resonator length L is between 180 mW and 680 mW. By selecting the resonator length L for a desired optical output based on the relationship between the optical output and the driving power shown in FIG. 18, the reactive power is suppressed, and the temperature rise of the active layer of the semiconductor laser device is suppressed. Thus, the reliability of the semiconductor laser device can be improved. In the first to fifth embodiments, the resonator length L is 1
Although it was up to 800 μm, the sixth embodiment indicates that the resonator length L can be applied up to 2000 μm. Therefore, even when the resonator length L exceeds 1800 μm and further exceeds 2000 μm, FIGS. 5 (optical power conversion efficiency with respect to resonator length) and FIG. ), FIG. 10 (driving power with respect to carrier concentration), FIG. 12 (optimum relationship with optical output with respect to resonator length), and the like. Can be optimized.

【0128】[0128]

【発明の効果】以上説明したように、この請求項1の発
明によれば、一定の光出力をパラメータとした、半導体
レーザ装置の共振器長および該半導体レーザ装置の上部
クラッド層のキャリア濃度を含む該半導体レーザ装置の
各要素と該半導体レーザ装置の駆動電力あるいは光電力
変換効率との関係をもとに決定され、所望の光出力に対
応して該駆動電力が最小近傍あるいは該光電力変換効率
が最大近傍となる該半導体レーザ装置の各要素値を有し
た半導体レーザ装置を実現することによって、駆動電力
が最小近傍あるいは光電力変換効率が最大近傍で、50
mW以上の所望の光出力を得ることができるので、駆動
電力が最小近傍あるいは光電力変換効率が最大近傍で、
所望の光出力を得ることができる半導体レーザ装置を容
易に実現することができるという効果を奏する。また、
光電力変換効率が最大近傍となることで、無効電力が抑
制されるため、半導体レーザ装置の活性層の温度上昇が
抑制され、これによって半導体レーザ装置の信頼性を向
上させることができるという効果を奏する。
As described above, according to the first aspect of the present invention, the resonator length of the semiconductor laser device and the carrier concentration of the upper cladding layer of the semiconductor laser device are determined with a constant optical output as a parameter. The driving power is determined based on the relationship between each element of the semiconductor laser device, including the driving power or the optical power conversion efficiency of the semiconductor laser device, and the driving power is close to the minimum or the optical power conversion corresponding to a desired optical output. By realizing a semiconductor laser device having each element value of the semiconductor laser device in which the efficiency is close to the maximum, the drive power is close to the minimum or the optical power conversion efficiency is close to the maximum.
Since a desired optical output of mW or more can be obtained, the driving power is near the minimum or the optical power conversion efficiency is near the maximum,
There is an effect that a semiconductor laser device capable of obtaining a desired optical output can be easily realized. Also,
Since the optical power conversion efficiency is close to the maximum, the reactive power is suppressed, so that the temperature rise of the active layer of the semiconductor laser device is suppressed, thereby improving the reliability of the semiconductor laser device. Play.

【0129】また、請求項2の発明によれば、1000
μm以上の一定の共振器長をパラメータとした50mW
以上の光出力に対する駆動電力の関係をもとに、所望の
光出力に対応する駆動電力が最小近傍となる共振器長が
決定され、この決定された1000μm以上の共振器長
を有する半導体レーザ装置を実現することによって、駆
動電力が最小近傍で、50mW以上の所望の光出力を得
ることができるので、駆動電力が最小近傍で、所望の光
出力を得ることができる半導体レーザ装置を容易に実現
することができるという効果を奏する。また、駆動電力
が最小近傍となることで、無効電力が抑制されるため、
半導体レーザ装置の活性層の温度上昇が抑制され、これ
によって半導体レーザ装置の信頼性を向上させることが
できるという効果を奏する。
According to the invention of claim 2, 1000
50 mW with a constant resonator length of μm or more as a parameter
Based on the relationship between the drive power and the optical output, the resonator length at which the drive power corresponding to the desired optical output is near the minimum is determined, and the semiconductor laser device having the determined resonator length of 1000 μm or more Is realized, a desired optical output of 50 mW or more can be obtained in the vicinity of the minimum driving power, so that a semiconductor laser device capable of obtaining a desired optical output in the vicinity of the minimum driving power can be easily realized. It has the effect that it can be done. Also, since the driving power is near the minimum, the reactive power is suppressed,
The temperature rise of the active layer of the semiconductor laser device is suppressed, whereby the reliability of the semiconductor laser device can be improved.

【0130】また、請求項3の発明によれば、50mW
以上の一定の光出力をパラメータとした1000μm以
上の共振器長に対する光電力変換効率の関係をもとに、
所望の光出力に対応した光電力変換効率が最大値近傍と
なる共振器長が決定され、この決定された1000μm
以上の共振器長をもった半導体レーザ装置を実現するこ
とによって、高い光電力変換効率で、50mW以上の所
望の光出力を得ることができるので、光電力変換効率の
高く、所望の光出力を得ることができる半導体レーザ装
置を容易に実現することができるという効果を奏する。
According to the third aspect of the present invention, 50 mW
Based on the relationship between the optical power conversion efficiency and the cavity length of 1000 μm or more with the above constant optical output as a parameter,
The resonator length at which the optical power conversion efficiency corresponding to the desired optical output is near the maximum value is determined, and the determined 1000 μm
By realizing a semiconductor laser device having the above cavity length, a desired optical output of 50 mW or more can be obtained with high optical power conversion efficiency. There is an effect that a semiconductor laser device that can be obtained can be easily realized.

【0131】また、請求項4の発明によれば、前記共振
器長を決定する際、前記所望の光出力に対応して光電力
変換効率が最大となる近似式をもとに決定するようにし
ているので、コンピュータプログラムなどを用いて、所
望の光出力を、高い光電力変換効率をもって、得ること
ができる半導体レーザ装置の共振器長を迅速に決定する
ことができるという効果を奏する。
According to the fourth aspect of the present invention, when determining the resonator length, it is determined based on an approximate expression that maximizes the optical power conversion efficiency corresponding to the desired optical output. Therefore, it is possible to quickly determine the cavity length of the semiconductor laser device that can obtain a desired optical output with high optical power conversion efficiency by using a computer program or the like.

【0132】また、請求項5の発明によれば、50mW
以上の一定の光出力をパラメータとした1000μm以
上の共振器長に対する駆動電力の関係をもとに決定され
た、所望の光出力に対する駆動電力が最小近傍となる1
000μm以上の共振器長をもった半導体レーザ装置を
実現することによって、低い駆動電力で、50mW以上
の所望の光出力を得ることができるので、駆動電力が低
く、所望の光出力を得ることができる半導体レーザ装置
を容易に実現することができるという効果を奏する。
According to the fifth aspect of the present invention, 50 mW
The driving power for the desired light output, which is determined based on the relationship between the driving power and the cavity length of 1000 μm or more using the above constant light output as a parameter, is near the minimum 1
By realizing a semiconductor laser device having a cavity length of 000 μm or more, a desired optical output of 50 mW or more can be obtained with low driving power, so that a low optical power and a desired optical output can be obtained. There is an effect that a semiconductor laser device that can be realized can be easily realized.

【0133】また、請求項6の発明によれば、前記共振
器長を決定する際、前記所望の光出力に対応して駆動電
力が最小となる近似式をもとに決定するようにしている
ので、コンピュータプログラムなどを用いて、所望の光
出力を、低い駆動電力で得ることができる半導体レーザ
装置の共振器長を迅速に決定することができるという効
果を奏する。
According to the invention of claim 6, when the resonator length is determined, it is determined based on an approximate expression that minimizes the driving power in accordance with the desired optical output. Therefore, it is possible to quickly determine the resonator length of the semiconductor laser device that can obtain a desired optical output with a low driving power by using a computer program or the like.

【0134】また、請求項7の発明によれば、前記共振
器長の共振器を形成する活性層として、歪多重量子井戸
構造を適用し、この歪多重量子井戸構造をもつ半導体レ
ーザ装置であっても、高い光電力変換効率あるいは低駆
動電力で、50mW以上の所望の光出力を得ることがで
きるので、各種の構造をもった半導体レーザ装置に適用
することができる高い柔軟性を有するという効果を奏す
る。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a semiconductor laser device having a strained multiple quantum well structure, wherein a strained multiple quantum well structure is applied as an active layer forming a resonator having the resonator length. However, since a desired optical output of 50 mW or more can be obtained with high optical power conversion efficiency or low driving power, it has a high flexibility that can be applied to semiconductor laser devices having various structures. To play.

【0135】また、請求項8の発明によれば、前記所望
の光出力を、50〜400mWの範囲内とし、前記共振
器長を、1000〜1600μmの範囲内とし、光出力
に対する駆動電流の関係のみから共振器長を決定した場
合に特に差異を持たせることができる具体的な半導体レ
ーザ装置を実現しているので、所望の光出力を、高い光
電力変換効率あるいは低駆動電力で得ることができると
いう効果を奏する。
According to the eighth aspect of the present invention, the desired light output is set in a range of 50 to 400 mW, the resonator length is set in a range of 1000 to 1600 μm, and the relationship between the drive current and the light output is set. Since a specific semiconductor laser device that can make a difference particularly when the cavity length is determined only from the above is realized, it is possible to obtain a desired optical output with high optical power conversion efficiency or low driving power. It has the effect of being able to.

【0136】また、請求項9の発明によれば、前記所望
の光出力を、50〜200mWの範囲内とし、前記共振
器長を、1000〜1400μmの範囲内とし、光出力
に対する駆動電流の関係のみから共振器長を決定した場
合に特に差異を持たせることができる具体的な半導体レ
ーザ装置を実現しているので、所望の光出力を、高い光
電力変換効率あるいは低駆動電力で得ることができると
いう効果を奏する。
According to the ninth aspect of the present invention, the desired optical output is set in the range of 50 to 200 mW, the resonator length is set in the range of 1000 to 1400 μm, and the relationship between the optical output and the drive current is adjusted. Since a specific semiconductor laser device that can make a difference particularly when the cavity length is determined only from the above is realized, it is possible to obtain a desired optical output with high optical power conversion efficiency or low driving power. It has the effect of being able to.

【0137】また、請求項10の発明によれば、一定の
光出力および一定の共振器長をパラメータとし、上部ク
ラッド層の不純物キャリア濃度に対する駆動電力の関係
をもとに決定され、所望の光出力に対応し駆動電力が最
小近傍あるいは光電力変換効率が最大近傍となる該不純
物キャリア濃度が設定された前記上部クラッド層をもっ
た半導体レーザ装置を実現することによって、駆動電力
が最小近傍あるいは光電力変換効率が最大近傍で、50
mW以上の所望の光出力を得ることができるので、駆動
電力が最小近傍あるいは光電力変換効率が最大近傍で、
所望の光出力を得ることができる半導体レーザ装置を容
易に実現することができるという効果を奏する。
According to the tenth aspect of the present invention, a predetermined light output and a predetermined resonator length are used as parameters, and are determined based on the relationship between the driving power and the impurity carrier concentration of the upper cladding layer. By realizing a semiconductor laser device having the upper cladding layer in which the impurity carrier concentration is set so that the driving power is near the minimum or the optical power conversion efficiency is near the maximum corresponding to the output, the driving power is near the minimum or the light When the power conversion efficiency is near the maximum, 50
Since a desired optical output of mW or more can be obtained, the driving power is near the minimum or the optical power conversion efficiency is near the maximum,
There is an effect that a semiconductor laser device capable of obtaining a desired optical output can be easily realized.

【0138】また、請求項11の発明によれば、請求項
1〜10のいずれか一つに記載の半導体レーザ装置を搭
載した半導体レーザモジュールを実現し、所望の光出力
を、高い光電力変換効率あるいは低駆動電力で実現する
ことができるようにしているので、半導体レーザモジュ
ール全体としても、高い光電力変換効率あるいは低駆動
電力で、所望の光出力を得ることができるという効果を
奏する。
According to the eleventh aspect of the present invention, a semiconductor laser module having the semiconductor laser device according to any one of the first to tenth aspects is realized, and a desired optical output can be converted to a high optical power conversion. Since the semiconductor laser module can be realized with high efficiency or low driving power, a desired optical output can be obtained with high optical power conversion efficiency or low driving power even in the semiconductor laser module as a whole.

【0139】また、請求項12の発明によれば、前記光
ファイバの入射端近傍に光ファイバグレーティングを形
成し、この光ファイバグレーティングによって選択され
た波長のレーザ光を出力するようにしているので、光フ
ァイバグレーティングを用いた半導体レーザ装置を実現
する半導体レーザモジュールであっても、高い光電力変
換効率あるいは低駆動電力で、所望の光出力を得ること
ができるという効果を奏する。
According to the twelfth aspect of the present invention, an optical fiber grating is formed near the input end of the optical fiber, and a laser beam having a wavelength selected by the optical fiber grating is output. Even a semiconductor laser module that realizes a semiconductor laser device using an optical fiber grating has an effect that a desired optical output can be obtained with high optical power conversion efficiency or low driving power.

【0140】また、請求項13の発明によれば、請求項
1〜10のいずれか一つに記載の半導体レーザ装置を搭
載した半導体レーザモジュールを実現し、温度制御装置
が搭載される半導体レーザモジュールであっても、所望
の光出力を、高い光電力変換効率あるいは低駆動電力で
得ることができるようにしているので、半導体レーザモ
ジュール全体としても、高い光電力変換効率あるいは低
駆動電力で、所望の光出力を得ることができるという効
果を奏する。
According to a thirteenth aspect of the present invention, a semiconductor laser module having the semiconductor laser device according to any one of the first to tenth aspects is realized, and a semiconductor laser module having a temperature control device mounted thereon. However, since a desired optical output can be obtained with high optical power conversion efficiency or low drive power, the semiconductor laser module as a whole can achieve desired optical output with high optical power conversion efficiency or low drive power. This has the effect that the optical output can be obtained.

【0141】また、請求項14の発明によれば、関係取
得工程によって、一定の光出力をパラメータとした、半
導体レーザ装置の共振器長および該半導体レーザ装置の
上部クラッド層のキャリア濃度を含む該半導体レーザ装
置の各要素と該半導体レーザ装置の駆動電力あるいは光
電力変換効率との関係を取得し、要素値決定工程によっ
て、前記関係取得工程によって取得された前記関係をも
とに決定され、所望の光出力に対応して該駆動電力が最
小近傍あるいは該光電力変換効率が最大近傍となる該半
導体レーザ装置の各要素値を決定し、形成工程によっ
て、前記要素値決定工程によって決定された各要素値を
もつ半導体レーザ装置を形成するようにしているので、
駆動電力が最小近傍あるいは光電力変換効率が最大近傍
で、所望の光出力を得ることができる半導体レーザ装置
を容易に製造することができるという効果を奏する。
According to the fourteenth aspect of the present invention, the relation acquisition step includes the step of obtaining the resonator length of the semiconductor laser device and the carrier concentration of the upper cladding layer of the semiconductor laser device using a constant optical output as a parameter. The relationship between each element of the semiconductor laser device and the drive power or optical power conversion efficiency of the semiconductor laser device is acquired, and the element value is determined based on the relationship acquired in the relationship acquisition step. Each element value of the semiconductor laser device in which the driving power is near the minimum or the light power conversion efficiency is near the maximum in accordance with the light output of Since a semiconductor laser device having an element value is formed,
With the driving power near the minimum or the optical power conversion efficiency near the maximum, it is possible to easily manufacture a semiconductor laser device capable of obtaining a desired optical output.

【0142】また、請求項15の発明によれば、関係取
得工程によって、1000μm以上の一定の共振器長を
パラメータとした50mW以上の光出力に対する駆動電
力の関係を取得し、共振器長決定工程によって、前記関
係取得工程によって取得された前記関係をもとに決定さ
れ、所望の光出力に対応する駆動電力が最小近傍となる
1000μm以上の共振器長を決定し、形成工程によっ
て、前記共振器長決定工程によって決定された共振器長
をもつ半導体レーザ装置を形成するようにしているの
で、駆動電力が最小近傍で、所望の光出力を得ることが
できる半導体レーザ装置を容易に実現することができる
という効果を奏する。
According to the fifteenth aspect of the present invention, the relationship obtaining step obtains the relationship between the driving power and the optical output of 50 mW or more with the constant resonator length of 1000 μm or more as a parameter. Is determined based on the relationship obtained in the relationship obtaining step, and a resonator length of 1000 μm or more at which the driving power corresponding to a desired optical output is near the minimum is determined. Since the semiconductor laser device having the cavity length determined by the length determining step is formed, it is possible to easily realize a semiconductor laser device capable of obtaining a desired optical output with a driving power near the minimum. It has the effect of being able to.

【0143】また、請求項16の発明によれば、関係取
得工程によって、50mW以上の一定の光出力をパラメ
ータとした1000μm以上の共振器長に対する光電力
変換効率の関係を取得し、共振器長決定工程によって、
前記関係取得工程によって取得された前記関係をもとに
決定され、所望の光出力に対応した光電力変換効率が最
大値近傍となる共振器長を決定し、形成工程によって、
前記共振器長決定工程によって決定された共振器長をも
つ半導体レーザ装置を形成するようにしているので、光
電力変換効率の高く、所望の光出力を得ることができる
半導体レーザ装置を容易に実現することができるという
効果を奏する。
According to the sixteenth aspect of the present invention, the relationship obtaining step obtains the relationship between the optical power conversion efficiency and the cavity length of 1000 μm or more with a constant optical output of 50 mW or more as a parameter. By the decision process,
Determined based on the relationship acquired by the relationship acquisition step, determine the cavity length optical power conversion efficiency corresponding to the desired optical output is near the maximum value, by the forming step,
Since the semiconductor laser device having the resonator length determined in the resonator length determining step is formed, a semiconductor laser device having high optical power conversion efficiency and capable of obtaining a desired optical output can be easily realized. It has the effect that it can be done.

【0144】また、請求項17の発明によれば、近似式
算出工程が、前記関係取得工程によって取得された前記
関係をもとに、前記所望の光出力に対応して光電力変換
効率が最大となる近似式を求め、前記共振器長決定工程
が、前記近似式をもとに前記共振器長を決定するように
しているので、コンピュータプログラムなどを用いて、
所望の光出力を、高い光電力変換効率をもって、得るこ
とができる半導体レーザ装置の共振器長を迅速に決定す
ることができるという効果を奏する。
Further, according to the seventeenth aspect of the present invention, the approximate expression calculating step is a step in which the optical power conversion efficiency is maximized corresponding to the desired optical output based on the relation obtained in the relation obtaining step. Obtain an approximate expression, and the resonator length determining step determines the resonator length based on the approximate expression, so using a computer program or the like,
There is an effect that the resonator length of the semiconductor laser device that can obtain a desired optical output with high optical power conversion efficiency can be determined quickly.

【0145】また、請求項18の発明によれば、関係取
得工程によって、50mW以上の一定の光出力をパラメ
ータとした1000μm以上の共振器長に対する駆動電
力の関係を取得し、共振器長決定工程によって、前記関
係取得工程によって取得された前記関係をもとに決定さ
れ、所望の光出力に対する駆動電力が最小近傍となる1
000μm以上の共振器長を決定し、形成工程によっ
て、前記共振器長決定工程によって決定された共振器長
をもつ半導体レーザ装置を形成するようにしているの
で、駆動電力が低く、所望の光出力を得ることができる
半導体レーザ装置を容易に実現することができるという
効果を奏する。
According to the eighteenth aspect of the present invention, the relationship obtaining step obtains the relationship of the driving power with respect to the resonator length of 1000 μm or more using the constant light output of 50 mW or more as a parameter, and determines the resonator length. Is determined based on the relationship obtained in the relationship obtaining step, and the driving power for the desired light output becomes near the minimum.
Since the semiconductor laser device having the cavity length determined by the cavity length determining step is formed by determining the cavity length of 000 μm or more, the driving power is low, and the desired optical output is obtained. The semiconductor laser device capable of achieving the above can be easily realized.

【0146】また、請求項19の発明によれば、近似式
算出工程が、前記関係取得工程によって取得された前記
関係をもとに、前記所望の所望の光出力に対応して前記
駆動電力が最小となる近似式を求め、前記共振器長決定
工程が、前記近似式をもとに前記共振器長を決定するよ
うにしているので、コンピュータプログラムなどを用い
て、所望の光出力を、低い駆動電力で得ることができる
半導体レーザ装置の共振器長を迅速に決定することがで
きるという効果を奏する。
According to the nineteenth aspect of the present invention, in the approximate expression calculating step, based on the relation obtained in the relation obtaining step, the driving power is set to correspond to the desired light output. A minimum approximate expression is obtained, and the resonator length determining step determines the resonator length based on the approximate expression.Therefore, using a computer program or the like, a desired optical output is reduced. This has the effect that the resonator length of the semiconductor laser device that can be obtained with the driving power can be determined quickly.

【0147】また、請求項20の発明によれば、前記共
振器長の共振器を形成する活性層として、歪多重量子井
戸構造を適用し、この歪多重量子井戸構造をもつ半導体
レーザ装置であっても、高い光電力変換効率あるいは低
駆動電力で、50mW以上の所望の光出力を得ることが
できるので、各種の構造をもった半導体レーザ装置に適
用することができる高い柔軟性を有するという効果を奏
する。
According to the twentieth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor laser device having a strained multiple quantum well structure, wherein a strained multiple quantum well structure is applied as an active layer forming a resonator having the resonator length. However, since a desired optical output of 50 mW or more can be obtained with high optical power conversion efficiency or low driving power, it has a high flexibility that can be applied to semiconductor laser devices having various structures. To play.

【0148】また、請求項21の発明によれば、関係取
得工程によって、一定の光出力および一定の共振器長を
パラメータとし、上部クラッド層の不純物キャリア濃度
に対する駆動電力の関係を取得し、キャリア濃度決定工
程によって、前記関係取得工程によって取得された前記
関係をもとに決定され、所望の光出力に対応し駆動電力
が最小近傍となる該不純物キャリア濃度を決定し、形成
工程によって、上部クラッド層の不純物キャリア濃度を
前記キャリア濃度決定工程によって決定された不純物キ
ャリア濃度に設定した半導体レーザ装置を形成するよう
にしているので、駆動電力が最小近傍あるいは光電力変
換効率が最大近傍で、所望の光出力を得ることができる
半導体レーザ装置を容易に実現することができるという
効果を奏する。
According to the twenty-first aspect of the present invention, the relationship between the driving power and the impurity carrier concentration of the upper cladding layer is acquired by using the constant light output and the constant resonator length as parameters in the relationship acquiring step. In the concentration determining step, the impurity carrier concentration determined based on the relationship obtained in the relationship obtaining step and corresponding to a desired optical output and having a driving power near the minimum is determined. Since the semiconductor laser device in which the impurity carrier concentration of the layer is set to the impurity carrier concentration determined in the carrier concentration determining step is formed, the driving power is in the vicinity of the minimum or the optical power conversion efficiency is in the vicinity of the maximum. There is an effect that a semiconductor laser device capable of obtaining an optical output can be easily realized.

【0149】また、請求項21の発明によれば、前記特
定の上部境界は、略1000μmと略1380μmとの
間の共振器長に対して50mWであり、略1380μm
から1480μmまでの間の共振器長に対して共振器長
をLとして(1mW)*[(L−1280μm)/2μ
m]の値であり、略1480μmから略1700μmま
での間の共振器長に対して(1mW)*[(L−126
0μm)/2.2μm]の値であり、略1700μmか
ら略1750μmまでの間の共振器長に対して(2m
W)*[(L−1600μm)/1μm]の値であり、
略1750μmから略1770μmまでの間の共振器長
に対して(3mW)*[(L−1510μm)/2μ
m]の値であり、前記特定の下部境界は、略1000μ
mと略1050μmとの間の共振器長に対して(2m
W)*[(L−950μm)/1μm]の値であり、略
1050μmと略1200μmとの間の共振器長に対し
て(2mW)*[(L−750μm)/3μm]の値で
あり、略1200μmと略1350μmとの間の共振器
長に対して(2mW)*[(L−450μm)/5μ
m]の値であり、略1350μmと略1450μmとの
間の共振器長に対して(3mW)*[(L−150μ
m)/10μm]の値であり、略1450μmと略17
70μmとの間の共振器長に対して390mWの値であ
り、当該半導体レーザ装置は、前記共振器長に基づいた
特定の上部境界以下であって特定の下部境界以上である
光出力Poutを出力するように電源供給される。これに
よって、駆動電力が最小近傍あるいは光電力変換効率が
最大近傍で、所望の光出力を得ることができる半導体レ
ーザ装置を容易に実現でき、無効電力が抑制され、半導
体レーザ装置の活性層の温度上昇が抑制され、半導体レ
ーザ装置の信頼性も向上させることができるという効果
を奏する。
According to the twenty-first aspect of the present invention, the specific upper boundary is 50 mW for a resonator length between approximately 1000 μm and approximately 1380 μm, and approximately 1380 μm
(1 mW) * [(L−1280 μm) / 2 μ for a resonator length between 1 and 1480 μm.
m], and (1 mW) * [(L-126) for a cavity length between approximately 1480 μm and approximately 1700 μm.
0 μm) /2.2 μm] for a resonator length between approximately 1700 μm and approximately 1750 μm.
W) * [(L-1600 μm) / 1 μm],
(3 mW) * [(L-1510 μm) / 2 μ for a cavity length between approximately 1750 μm and approximately 1770 μm
m], and the specific lower boundary is approximately 1000 μm.
m and approximately 1050 μm for a resonator length of (2 m
W) * [(L−950 μm) / 1 μm], and for a resonator length between approximately 1050 μm and approximately 1200 μm, (2 mW) * [(L−750 μm) / 3 μm] For a resonator length between approximately 1200 μm and approximately 1350 μm, (2 mW) * [(L−450 μm) / 5 μm
m], and (3 mW) * [(L−150 μm) for a resonator length between approximately 1350 μm and approximately 1450 μm.
m) / 10 μm], which is approximately 1450 μm and approximately 17
The value is 390 mW with respect to the cavity length between 70 μm, and the semiconductor laser device outputs an optical output Pout that is equal to or less than a specific upper boundary and equal to or greater than a specific lower boundary based on the cavity length. Power is supplied. This makes it possible to easily realize a semiconductor laser device capable of obtaining a desired optical output when the driving power is near the minimum or the optical power conversion efficiency is near the maximum, the reactive power is suppressed, and the temperature of the active layer of the semiconductor laser device is reduced. The effect is obtained that the rise is suppressed and the reliability of the semiconductor laser device can be improved.

【0150】また、請求項23の発明によれば、前記特
定の下部境界は、略1000μmと略1380μmとの
間の共振器長に対して50mWであり、略1380μm
から1480μmまでの間の共振器長に対して共振器長
をLとして(1mW)*[(L−1280μm)/2μ
m]の値であり、略1480μmから略1700μmま
での間の共振器長に対して(1mW)*[(L−126
0μm)/2.2μm]の値であり、略1700μmか
ら略1750μmまでの間の共振器長に対して(2m
W)*[(L−1600μm)/1μm]の値であり、
略1750μmから略1770μmまでの間の共振器長
に対して(3mW)*[(L−1510μm)/2μ
m]の値であり、前記特定の下部境界は、略1000μ
mと略1050μmとの間の共振器長に対して(2m
W)*[(L−950μm)/1μm]の値であり、略
1050μmと略1200μmとの間の共振器長に対し
て(2mW)*[(L−750μm)/3μm]の値で
あり、略1200μmと略1350μmとの間の共振器
長に対して(2mW)*[(L−450μm)/5μ
m]の値であり、略1350μmと略1450μmとの
間の共振器長に対して(3mW)*[(L−150μ
m)/10μm]の値であり、略1450μmと略17
70μmとの間の共振器長に対して390mWの値であ
り、当該半導体レーザ装置は、前記共振器長に基づいた
特定の上部境界以下であって特定の下部境界以上である
光出力Poutを出力するように選択される。これによっ
て、駆動電力が最小近傍あるいは光電力変換効率が最大
近傍で、所望の光出力を得ることができる半導体レーザ
装置を容易に実現でき、無効電力が抑制され、半導体レ
ーザ装置の活性層の温度上昇が抑制され、半導体レーザ
装置の信頼性も向上させることができるという効果を奏
する。
According to the twenty-third aspect of the present invention, the specific lower boundary is 50 mW for a resonator length between approximately 1000 μm and approximately 1380 μm, and approximately 1380 μm
(1 mW) * [(L−1280 μm) / 2 μ for a resonator length between 1 and 1480 μm.
m], and (1 mW) * [(L-126) for a cavity length between approximately 1480 μm and approximately 1700 μm.
0 μm) /2.2 μm] for a resonator length between approximately 1700 μm and approximately 1750 μm.
W) * [(L-1600 μm) / 1 μm],
(3 mW) * [(L-1510 μm) / 2 μ for a cavity length between approximately 1750 μm and approximately 1770 μm
m], and the specific lower boundary is approximately 1000 μm.
m and approximately 1050 μm for a resonator length of (2 m
W) * [(L−950 μm) / 1 μm], and for a resonator length between approximately 1050 μm and approximately 1200 μm, (2 mW) * [(L−750 μm) / 3 μm] For a resonator length between approximately 1200 μm and approximately 1350 μm, (2 mW) * [(L−450 μm) / 5 μm
m], and (3 mW) * [(L−150 μm) for a resonator length between approximately 1350 μm and approximately 1450 μm.
m) / 10 μm], which is approximately 1450 μm and approximately 17
The value is 390 mW with respect to the cavity length between 70 μm, and the semiconductor laser device outputs an optical output Pout that is equal to or less than a specific upper boundary and equal to or greater than a specific lower boundary based on the cavity length. To be selected. This makes it possible to easily realize a semiconductor laser device capable of obtaining a desired optical output when the driving power is near the minimum or the optical power conversion efficiency is near the maximum, the reactive power is suppressed, and the temperature of the active layer of the semiconductor laser device is reduced. The effect is obtained that the rise is suppressed and the reliability of the semiconductor laser device can be improved.

【0151】また、請求項24の発明によれば、前記電
極に印加される電力量は、略50mWと略100mWと
の間の光出力レベルPoutで当該半導体レーザ装置を動
作させ、前記共振器長は、略1000μmと略{2μm
*(Pout/1mW)+1280μm}との間とし、当
該半導体レーザ装置を最適動作させることができるの
で、駆動電力が最小近傍あるいは光電力変換効率が最大
近傍で、所望の光出力を得ることができる半導体レーザ
装置を容易に実現できるという効果を奏する。
According to the twenty-fourth aspect of the present invention, the semiconductor laser device is operated at an optical output level Pout between about 50 mW and about 100 mW, and Is approximately 1000 μm and approximately {2 μm
* (Pout / 1 mW) +1280 μm}, and the semiconductor laser device can be operated optimally, so that a desired optical output can be obtained when the driving power is near the minimum or the optical power conversion efficiency is near the maximum. There is an effect that the semiconductor laser device can be easily realized.

【0152】また、請求項25の発明によれば、前記電
極に印加される電力量は、略100mWと略200mW
との間の光出力レベルPoutで当該半導体レーザ装置を
動作させ、前記共振器長は、略{1μm*(Pout/2
mW)+950μm}と略{2.2μm*(Pout/1
mW)+1260μm}との間とし、当該半導体レーザ
装置を最適動作させることができるので、駆動電力が最
小近傍あるいは光電力変換効率が最大近傍で、所望の光
出力を得ることができる半導体レーザ装置を容易に実現
できるという効果を奏する。
According to the twenty-fifth aspect of the present invention, the amount of power applied to the electrodes is approximately 100 mW and approximately 200 mW.
The semiconductor laser device is operated at an optical output level Pout between the above and the cavity length is approximately {1 μm * (Pout / 2
mW) +950 μm} and approximately {2.2 μm * (Pout / 1
mW) +1260 μm}, and the semiconductor laser device can be operated optimally. Therefore, a semiconductor laser device capable of obtaining a desired optical output with a driving power near the minimum or a light power conversion efficiency near the maximum. There is an effect that it can be easily realized.

【0153】また、請求項26の発明によれば、前記電
極に印加される電力量は、略200mWと略300mW
との間の光出力レベルPoutで当該半導体レーザ装置を
動作させ、前記共振器長は、略{3μm*(Pout/2
mW)+750μm}と略{1μm*(Pout/2m
W)+1600μm}との間とし、当該半導体レーザ装
置を最適動作させることができるので、駆動電力が最小
近傍あるいは光電力変換効率が最大近傍で、所望の光出
力を得ることができる半導体レーザ装置を容易に実現で
きるという効果を奏する。
According to the twenty-sixth aspect, the electric power applied to the electrodes is approximately 200 mW and approximately 300 mW.
The semiconductor laser device is operated at an optical output level Pout between the above, and the cavity length is approximately {3 μm * (Pout / 2
mW) +750 μm and approximately {1 μm * (Pout / 2m
W) +1600 μm}, and the semiconductor laser device can be operated optimally. Therefore, a semiconductor laser device capable of obtaining a desired optical output with a driving power near a minimum or a light power conversion efficiency near a maximum. There is an effect that it can be easily realized.

【0154】また、請求項27の発明によれば、前記電
極に印加される電力量は、略300mWと略360mW
との間の光出力レベルPoutで当該半導体レーザ装置を
動作させ、前記共振器長は、略{5μm*(Pout/2
mW)+450μm}と略1750μmとの間とし、当
該半導体レーザ装置を最適動作させることができるの
で、駆動電力が最小近傍あるいは光電力変換効率が最大
近傍で、所望の光出力を得ることができる半導体レーザ
装置を容易に実現できるという効果を奏する。
According to the twenty-seventh aspect, the electric power applied to the electrodes is approximately 300 mW and approximately 360 mW.
The semiconductor laser device is operated at an optical output level Pout between the above and the resonator length is approximately {5 μm * (Pout / 2
mW) +450 μm} and approximately 1750 μm, and the semiconductor laser device can be operated optimally, so that a semiconductor device capable of obtaining a desired optical output with a driving power near a minimum or a light power conversion efficiency near a maximum. There is an effect that the laser device can be easily realized.

【0155】また、請求項28の発明によれば、前記電
極に印加される電力量は、略360mWと略390mW
との間の光出力レベルPoutで当該半導体レーザ装置を
動作させ、前記共振器長は、略{10μm*(Pout/
3mW)+150μm}と略{2μm*(Pout/3m
W)+1510μm}との間とし、当該半導体レーザ装
置を最適動作させることができるので、駆動電力が最小
近傍あるいは光電力変換効率が最大近傍で、所望の光出
力を得ることができる半導体レーザ装置を容易に実現で
きるという効果を奏する。
According to the twenty-eighth aspect of the present invention, the amount of power applied to the electrodes is approximately 360 mW and approximately 390 mW.
The semiconductor laser device is operated at an optical output level Pout between the above, and the cavity length is approximately {10 μm * (Pout /
3mW) + 150μm and approximately {2μm * (Pout / 3m
W) +1510 μm}, and the semiconductor laser device can be operated optimally, so that a semiconductor laser device capable of obtaining a desired optical output with a driving power near the minimum or a light power conversion efficiency near the maximum. There is an effect that it can be easily realized.

【0156】また、請求項29の発明によれば、前記共
振器長は、略1000μmと略1100μmとの間であ
り、電極に印加される電力量は、略50mWと略100
mWとの間の光出力レベルPoutで当該半導体レーザ装
置を動作させる前記電極に印加されるようにしているの
で、駆動電力が最小近傍あるいは光電力変換効率が最大
近傍で、所望の光出力を得ることができる半導体レーザ
装置を容易に実現できるという効果を奏する。
According to the invention of claim 29, the length of the resonator is between approximately 1000 μm and approximately 1100 μm, and the amount of power applied to the electrodes is approximately 50 mW and approximately 100 mW.
Since the light is applied to the electrode for operating the semiconductor laser device at an optical output level Pout between mW and a desired optical output when the driving power is near the minimum or the optical power conversion efficiency is near the maximum. There is an effect that a semiconductor laser device that can be easily realized can be realized.

【0157】また、請求項30の発明によれば、前記共
振器長は、略1200μmと略1600μmとの間であ
り、電極に印加される電力量は、略200mWと略30
0mWとの間の光出力レベルPoutで当該半導体レーザ
装置を動作させる前記電極に印加されるようにしている
ので、駆動電力が最小近傍あるいは光電力変換効率が最
大近傍で、所望の光出力を得ることができる半導体レー
ザ装置を容易に実現できるという効果を奏する。
Further, according to the invention of claim 30, the length of the resonator is between approximately 1200 μm and approximately 1600 μm, and the amount of power applied to the electrode is approximately 200 mW and approximately 30 μm.
Since the light is applied to the electrode for operating the semiconductor laser device at an optical output level Pout between 0 mW, a desired optical output is obtained when the driving power is near the minimum or the optical power conversion efficiency is near the maximum. There is an effect that a semiconductor laser device that can be easily realized can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の実施の形態1である半導体レーザ装
置を斜めからみた破断図である。
FIG. 1 is a cutaway view of a semiconductor laser device according to a first embodiment of the present invention as viewed obliquely;

【図2】図1に示した半導体レーザ装置の概要構成を示
す長手方向の縦断面図である。
FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of the semiconductor laser device shown in FIG. 1 in a longitudinal direction.

【図3】図2に示した半導体レーザ装置のA−A線断面
図である。
FIG. 3 is a sectional view taken along line AA of the semiconductor laser device shown in FIG. 2;

【図4】図1に示した半導体レーザ装置に適用され、共
振器長をパラメータとし、光出力に対する駆動電力の関
係を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing the relationship between optical power and drive power, with the cavity length as a parameter, applied to the semiconductor laser device shown in FIG. 1;

【図5】図4に示した関係をもとに形成される半導体レ
ーザ装置の製造方法を示すフローチャートである。
5 is a flowchart showing a method for manufacturing a semiconductor laser device formed based on the relationship shown in FIG.

【図6】図1に示した半導体レーザ装置に適用され、光
出力をパラメータとし、共振器長に対する光電力変換効
率の関係を示す図である。
6 is a diagram showing a relationship between the optical power conversion efficiency and the cavity length, which is applied to the semiconductor laser device shown in FIG. 1 and uses the optical output as a parameter.

【図7】図6に示した関係をもとに形成される半導体レ
ーザ装置の製造方法を示すフローチャートである。
7 is a flowchart showing a method for manufacturing a semiconductor laser device formed based on the relationship shown in FIG.

【図8】図1に示した半導体レーザ装置に適用され、光
出力をパラメータとし、共振器長に対する駆動電力の関
係を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a relationship between the cavity length and the driving power applied to the semiconductor laser device shown in FIG. 1 and using the optical output as a parameter.

【図9】図8に示した関係をもとに形成される半導体レ
ーザ装置の製造方法を示すフローチャートである。
9 is a flowchart showing a method for manufacturing a semiconductor laser device formed based on the relationship shown in FIG.

【図10】図1に示した半導体レーザ装置に適用され、
光出力をパラメータとし、上部クラッド層のZnキャリ
ア濃度に対する駆動電力の関係を示す図である。
10 is applied to the semiconductor laser device shown in FIG. 1,
FIG. 9 is a diagram illustrating a relationship between a driving power and a Zn carrier concentration of an upper cladding layer, using an optical output as a parameter.

【図11】図10に示した関係をもとに形成される半導
体レーザ装置の製造方法を示すフローチャートである。
11 is a flowchart showing a method for manufacturing a semiconductor laser device formed based on the relationship shown in FIG.

【図12】共振器長に対する光出力との最適関係を示す
図である。
FIG. 12 is a diagram showing an optimal relationship between a resonator length and an optical output.

【図13】図12をもとに求めた、共振器長領域区分に
対する最適光出力の関係を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing a relationship between an optimum optical output and a resonator length region section obtained based on FIG. 12;

【図14】図12をもとに求めた、光出力領域区分に対
する最適共振器長の関係を示す図である。
FIG. 14 is a diagram showing the relationship between the optimum resonator length and the light output area division obtained based on FIG.

【図15】この発明の実施の形態5である半導体レーザ
モジュールの構成を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing a configuration of a semiconductor laser module according to Embodiment 5 of the present invention;

【図16】外部温度と半導体レーザ装置温度との温度差
をパラメータとした場合における半導体レーザ装置の駆
動電力とペルチェ素子の駆動電力との関係を示す図であ
る。
FIG. 16 is a diagram showing the relationship between the driving power of the semiconductor laser device and the driving power of the Peltier element when the temperature difference between the external temperature and the semiconductor laser device temperature is used as a parameter.

【図17】この発明の実施の形態6である半導体レーザ
装置(L=1500μm,2000μm)における光出
力に対する駆動電流の関係を示す図である。
FIG. 17 is a diagram illustrating a relationship between a light output and a drive current in a semiconductor laser device (L = 1500 μm, 2000 μm) according to a sixth embodiment of the present invention;

【図18】この発明の実施の形態6である半導体レーザ
装置(L=1500μm,2000μm)における光出
力に対する駆動電力の関係を示す図である。
FIG. 18 is a diagram showing a relationship between a light output and a driving power in a semiconductor laser device (L = 1500 μm, 2000 μm) according to a sixth embodiment of the present invention;

【図19】従来の半導体レーザ装置の共振器長決定に用
いられた、共振器長をパラメータとした光出力に対する
駆動電流の関係を示す図である。
FIG. 19 is a diagram showing a relationship between a drive current and an optical output using the cavity length as a parameter, which is used for determining the cavity length of the conventional semiconductor laser device.

【図20】従来の半導体レーザ装置の上部クラッド層に
おけるZnキャリア濃度決定に用いられた、一定の光出
力をパラメータとしたZnキャリア濃度に対する駆動電
流の関係を示す図である。
FIG. 20 is a diagram showing a relationship between a Zn carrier concentration and a drive current with a constant optical output used as a parameter, which is used for determining a Zn carrier concentration in an upper clad layer of a conventional semiconductor laser device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 n−InP基板 2 n−Inpクラッド層 3 GRIN−SCH−MQW活性層 6 p−InPクラッド層 7 p−InGaAsPキャップ層 8 p−InPブロッキング層 9 n−InPブロッキング層 10 p側電極 11 n側電極 14 反射膜 15 出射側反射膜 20,51 半導体レーザ装置 30 データベース 50 半導体レーザモジュール 52 第1レンズ 53 アイソレータ 54 第2レンズ 55 光ファイバ 56 電流モニタ 57 ベース 57a ヒートシンク 58 ペルチェ素子 58a サーミスタ 59 パッケージ Reference Signs List 1 n-InP substrate 2 n-Inp cladding layer 3 GRIN-SCH-MQW active layer 6 p-InP cladding layer 7 p-InGaAsP cap layer 8 p-InP blocking layer 9 n-InP blocking layer 10 p-side electrode 11 n side Electrode 14 Reflection film 15 Emission-side reflection film 20, 51 Semiconductor laser device 30 Database 50 Semiconductor laser module 52 First lens 53 Isolator 54 Second lens 55 Optical fiber 56 Current monitor 57 Base 57a Heat sink 58 Peltier element 58a Thermistor 59 Package

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木村 俊雄 東京都千代田区丸の内2丁目6番1号 古 河電気工業株式会社内 Fターム(参考) 5F073 AA22 AA45 AA74 AA83 AB27 AB28 AB30 BA09 CA12 EA24 EA29 FA02 FA06 FA25  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Toshio Kimura 2-6-1, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Furukawa Electric Co., Ltd. F-term (reference) 5F073 AA22 AA45 AA74 AA83 AB27 AB28 AB30 BA09 CA12 EA24 EA29 FA02 FA06 FA25

Claims (30)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一定の光出力をパラメータとした、半導
体レーザ装置の共振器長および該半導体レーザ装置の上
部クラッド層のキャリア濃度を含む該半導体レーザ装置
の各要素と該半導体レーザ装置の駆動電力あるいは光電
力変換効率との関係をもとに決定され、所望の光出力に
対応して該駆動電力が最小近傍あるいは該光電力変換効
率が最大近傍となる該半導体レーザ装置の各要素値を備
えたことを特徴とする半導体レーザ装置。
1. A semiconductor laser device including a resonator length and a carrier concentration of an upper cladding layer of the semiconductor laser device, and a driving power of the semiconductor laser device. Alternatively, each element value of the semiconductor laser device is determined based on the relationship with the optical power conversion efficiency, and the driving power is near the minimum or the optical power conversion efficiency is near the maximum corresponding to the desired optical output. A semiconductor laser device.
【請求項2】 1000μm以上の一定の共振器長をパ
ラメータとした50mW以上の光出力に対する駆動電力
の関係をもとに決定され、所望の光出力に対応する駆動
電力が最小近傍となる1000μm以上の共振器長を備
えたことを特徴とする半導体レーザ装置。
2. A driving power corresponding to a desired optical output, which is determined on the basis of a driving power relationship with respect to an optical output of 50 mW or more using a constant resonator length of 1000 μm or more as a parameter. A semiconductor laser device comprising:
【請求項3】 50mW以上の一定の光出力をパラメー
タとした1000μm以上の共振器長に対する光電力変
換効率の関係をもとに決定され、所望の光出力に対応し
た光電力変換効率が最大値近傍となる共振器長を備えた
ことを特徴とする半導体レーザ装置。
3. The optical power conversion efficiency corresponding to a desired optical output is determined based on the relationship of optical power conversion efficiency with respect to a cavity length of 1000 μm or more using a constant optical output of 50 mW or more as a parameter. A semiconductor laser device having a resonator length near the semiconductor laser device.
【請求項4】 前記共振器長は、前記所望の光出力に対
応して光電力変換効率が最大となる近似式をもとに決定
されることを特徴とする請求項3に記載の半導体レーザ
装置。
4. The semiconductor laser according to claim 3, wherein the cavity length is determined based on an approximate expression that maximizes optical power conversion efficiency corresponding to the desired optical output. apparatus.
【請求項5】 50mW以上の一定の光出力をパラメー
タとした1000μm以上の共振器長に対する駆動電力
の関係をもとに決定された、所望の光出力に対する駆動
電力が最小近傍となる1000μm以上の共振器長を備
えたことを特徴とする半導体レーザ装置。
5. A driving power for a desired optical output, which is determined based on a relationship between a driving power for a resonator length of 1000 μm or more and a constant optical output of 50 mW or more as a parameter, is 1000 μm or more. A semiconductor laser device having a resonator length.
【請求項6】 前記共振器長は、前記所望の光出力に対
応して前記駆動電力が最小となる近似式をもとに決定さ
れることを特徴とする請求項5に記載の半導体レーザ装
置。
6. The semiconductor laser device according to claim 5, wherein the cavity length is determined based on an approximate expression that minimizes the driving power corresponding to the desired optical output. .
【請求項7】 前記共振器長の共振器を形成する活性層
は、歪多重量子井戸構造であることを特徴とする請求項
2〜6のいずれか一つに記載の半導体レーザ装置。
7. The semiconductor laser device according to claim 2, wherein the active layer forming the resonator having the resonator length has a strained multiple quantum well structure.
【請求項8】 前記所望の光出力は、50〜400mW
の範囲内であり、 前記共振器長は、1000〜1600μmの範囲内であ
ることを特徴とする請求項2〜7のいずれか一つに記載
の半導体レーザ装置。
8. The desired light output is 50 to 400 mW.
The semiconductor laser device according to claim 2, wherein the cavity length is in a range of 1000 to 1600 μm.
【請求項9】 前記所望の光出力は、50〜200mW
の範囲内であり、 前記共振器長は、1000〜1400μmの範囲内であ
ることを特徴とする請求項2〜7のいずれか一つに記載
の半導体レーザ装置。
9. The desired light output is 50 to 200 mW.
The semiconductor laser device according to any one of claims 2 to 7, wherein the cavity length is in a range of 1000 to 1400 µm.
【請求項10】 一定の光出力および一定の共振器長を
パラメータとし、上部クラッド層の不純物キャリア濃度
に対する駆動電力または光電力変換効率の関係をもとに
決定され、所望の光出力に対応し駆動電力が最小近傍あ
るいは光電力変換効率が最大近傍となる該不純物キャリ
ア濃度が設定された前記上部クラッド層を備えたことを
特徴とする半導体レーザ装置。
10. A constant optical output and a constant resonator length are used as parameters, and are determined based on the relationship between the driving power or the optical power conversion efficiency with respect to the impurity carrier concentration of the upper cladding layer, and correspond to a desired optical output. A semiconductor laser device comprising the upper cladding layer in which the impurity carrier concentration is set such that the driving power is near the minimum or the optical power conversion efficiency is near the maximum.
【請求項11】 請求項1〜10のいずれか一つに記載
の半導体レーザ装置と、 前記半導体レーザ装置から出射されたレーザ光を外部に
導波する光ファイバと、 前記半導体レーザ装置と前記光ファイバと光結合を行う
光結合レンズ系と、 を備えたことを特徴とする半導体レーザモジュール。
11. The semiconductor laser device according to claim 1, an optical fiber for guiding a laser beam emitted from the semiconductor laser device to the outside, the semiconductor laser device and the light. A semiconductor laser module comprising: an optical coupling lens system that optically couples with a fiber.
【請求項12】 前記半導体レーザ装置の温度を制御す
る温度制御装置をさらに備え、 前記光ファイバの入射端近傍に光ファイバグレーティン
グを形成したことを特徴とする請求項11に記載の半導
体レーザモジュール。
12. The semiconductor laser module according to claim 11, further comprising a temperature control device for controlling a temperature of said semiconductor laser device, wherein an optical fiber grating is formed near an incident end of said optical fiber.
【請求項13】 前記半導体レーザ装置の温度を制御す
る温度制御装置と、 前記光結合レンズ系内に配置され、光ファイバ側からの
反射戻り光の入射を抑制するアイソレータと、 をさらに備えたことを特徴とする請求項11に記載の半
導体レーザモジュール。
13. A temperature control device for controlling a temperature of the semiconductor laser device, and an isolator arranged in the optical coupling lens system for suppressing incidence of reflected return light from an optical fiber side. The semiconductor laser module according to claim 11, wherein:
【請求項14】 一定の光出力をパラメータとした、半
導体レーザ装置の共振器長および該半導体レーザ装置の
上部クラッド層のキャリア濃度を含む該半導体レーザ装
置の各要素と該半導体レーザ装置の駆動電力あるいは光
電力変換効率との関係を取得する関係取得工程と、 前記関係取得工程によって取得された前記関係をもとに
決定され、所望の光出力に対応して該駆動電力が最小近
傍あるいは該光電力変換効率が最大近傍となる該半導体
レーザ装置の各要素値を決定する要素値決定工程と、 前記要素値決定工程によって決定された各要素値をもつ
半導体レーザ装置を形成する形成工程と、 を含むことを特徴とする半導体レーザ装置の製造方法。
14. Each element of the semiconductor laser device including the resonator length of the semiconductor laser device and the carrier concentration of the upper cladding layer of the semiconductor laser device, and the driving power of the semiconductor laser device, using a constant optical output as a parameter. Alternatively, a relation obtaining step of obtaining a relation with the optical power conversion efficiency, and the driving power is determined based on the relation obtained in the relation obtaining step, and the driving power is close to the minimum or the optical power corresponding to a desired light output. An element value determining step of determining each element value of the semiconductor laser device whose power conversion efficiency is close to the maximum; and a forming step of forming a semiconductor laser device having each element value determined by the element value determining step. A method for manufacturing a semiconductor laser device, comprising:
【請求項15】 1000μm以上の一定の共振器長を
パラメータとした50mW以上の光出力に対する駆動電
力の関係を取得する関係取得工程と、 前記関係取得工程によって取得された前記関係をもとに
決定され、所望の光出力に対応する駆動電力が最小近傍
となる1000μm以上の共振器長を決定する共振器長
決定工程と、 前記共振器長決定工程によって決定された共振器長をも
つ半導体レーザ装置を形成する形成工程と、 を含むことを特徴とする半導体レーザ装置の製造方法。
15. A relation acquisition step of acquiring a relation of drive power to an optical output of 50 mW or more with a constant resonator length of 1000 μm or more as a parameter, and the relation is determined based on the relation acquired in the relation acquisition step. A resonator length determining step of determining a resonator length of 1000 μm or more at which a driving power corresponding to a desired optical output becomes a minimum, and a semiconductor laser device having a resonator length determined by the resonator length determining step Forming a semiconductor laser device.
【請求項16】 50mW以上の一定の光出力をパラメ
ータとした1000μm以上の共振器長に対する光電力
変換効率の関係を取得する関係取得工程と、 前記関係取得工程によって取得された前記関係をもとに
決定され、所望の光出力に対応した光電力変換効率が最
大値近傍となる共振器長を決定する共振器長決定工程
と、 前記共振器長決定工程によって決定された共振器長をも
つ半導体レーザ装置を形成する形成工程と、 を含むことを特徴とする半導体レーザ装置の製造方法。
16. A relation obtaining step of obtaining a relation of optical power conversion efficiency with respect to a cavity length of 1000 μm or more using a constant optical output of 50 mW or more as a parameter, and a relation based on the relation obtained in the relation obtaining step. A resonator length determining step of determining a resonator length at which the optical power conversion efficiency corresponding to a desired optical output is close to a maximum value; and a semiconductor having a resonator length determined by the resonator length determining step. A method for manufacturing a semiconductor laser device, comprising: forming a laser device.
【請求項17】 前記関係取得工程によって取得された
前記関係をもとに、前記所望の光出力に対応して光電力
変換効率が最大となる近似式を求める近似式算出工程を
さらに含み、 前記共振器長決定工程は、前記近似式をもとに前記共振
器長を決定することを特徴とする請求項16に記載の半
導体レーザ装置の製造方法。
17. An approximate expression calculating step of obtaining an approximate expression that maximizes optical power conversion efficiency corresponding to the desired optical output based on the relationship obtained in the relationship obtaining step, further comprising: 17. The method according to claim 16, wherein the resonator length determining step determines the resonator length based on the approximate expression.
【請求項18】 50mW以上の一定の光出力をパラメ
ータとした1000μm以上の共振器長に対する駆動電
力の関係を取得する関係取得工程と、 前記関係取得工程によって取得された前記関係をもとに
決定され、所望の光出力に対する駆動電力が最小近傍と
なる1000μm以上の共振器長を決定する共振器長決
定工程と、 前記共振器長決定工程によって決定された共振器長をも
つ半導体レーザ装置を形成する形成工程と、 を含むことを特徴とする半導体レーザ装置の製造方法。
18. A relation obtaining step of obtaining a relation of drive power with respect to a cavity length of 1000 μm or more using a constant optical output of 50 mW or more as a parameter, and a determination based on the relation obtained in the relation obtaining step. A resonator length determining step of determining a resonator length of 1000 μm or more at which the driving power for a desired optical output is close to a minimum; and forming a semiconductor laser device having a resonator length determined by the resonator length determining step. A method of manufacturing a semiconductor laser device, comprising:
【請求項19】 前記関係取得工程によって取得された
前記関係をもとに、前記所望の所望の光出力に対応して
前記駆動電力が最小となる近似式を求める近似式算出工
程をさらに含み、 前記共振器長決定工程は、前記近似式をもとに前記共振
器長を決定することを特徴とする請求項18に記載の半
導体レーザ装置の製造方法。
19. An approximate expression calculating step of obtaining an approximate expression that minimizes the driving power corresponding to the desired light output based on the relationship acquired in the relationship acquiring step, further comprising: 19. The method according to claim 18, wherein the resonator length determining step determines the resonator length based on the approximate expression.
【請求項20】 前記共振器長の共振器を形成する活性
層は、歪多重量子井戸構造であることを特徴とする請求
項14〜19のいずれか一つに記載の半導体レーザ装置
の製造方法。
20. The method of manufacturing a semiconductor laser device according to claim 14, wherein the active layer forming the resonator having the resonator length has a strained multiple quantum well structure. .
【請求項21】 一定の光出力および一定の共振器長を
パラメータとし、上部クラッド層の不純物キャリア濃度
に対する駆動電力の関係を取得する関係取得工程と、 前記関係取得工程によって取得された前記関係をもとに
決定され、所望の光出力に対応し駆動電力が最小近傍と
なる該不純物キャリア濃度を決定するキャリア濃度決定
工程と、 上部クラッド層の不純物キャリア濃度を前記キャリア濃
度決定工程によって決定された不純物キャリア濃度に設
定した半導体レーザ装置を形成する形成工程と、 を含むことを特徴とする半導体レーザ装置の製造方法。
21. A relation obtaining step of obtaining a relation of the driving power to the impurity carrier concentration of the upper cladding layer using a constant optical output and a constant resonator length as parameters, and the relation obtained in the relation obtaining step. A carrier concentration determining step of determining the impurity carrier concentration, which is determined based on the driving power and corresponding to a desired optical output and is near the minimum, and the impurity carrier concentration of the upper cladding layer is determined by the carrier concentration determining step. Forming a semiconductor laser device having an impurity carrier concentration set therein. A method for manufacturing a semiconductor laser device, comprising:
【請求項22】 前端面と後端面とを有し、共振器長が
略900μmから略1800μmまでの長さを有した共
振器と、 前記共振器内に積層され、電源からのバイアス電位を受
ける2つの電極に接続され、電流が注入される活性層
と、 略4%以下の反射率を有し、前記前端面にコーティング
された低反射膜と、 略80%以上の反射率を有し、前記後端面にコーティン
グされた高反射膜と、 前記電極に接続され、前記共振器長に基づいた特定の上
部境界以下であって特定の下部境界以上である光出力を
当該半導体レーザ装置に生じさせる電力量を供給する電
源と、 を備え、前記特定の上部境界は、略1000μmと略1
380μmとの間の共振器長に対して50mWであり、
略1380μmから1480μmまでの間の共振器長に
対して共振器長をLとして(1mW)*[(L−128
0μm)/2μm]の値であり、略1480μmから略
1700μmまでの間の共振器長に対して(1mW)*
[(L−1260μm)/2.2μm]の値であり、略
1700μmから略1750μmまでの間の共振器長に
対して(2mW)*[(L−1600μm)/1μm]
の値であり、略1750μmから略1770μmまでの
間の共振器長に対して(3mW)*[(L−1510μ
m)/2μm]の値であり、 前記特定の下部境界は、略1000μmと略1050μ
mとの間の共振器長に対して(2mW)*[(L−95
0μm)/1μm]の値であり、略1050μmと略1
200μmとの間の共振器長に対して(2mW)*
[(L−750μm)/3μm]の値であり、略120
0μmと略1350μmとの間の共振器長に対して(2
mW)*[(L−450μm)/5μm]の値であり、
略1350μmと略1450μmとの間の共振器長に対
して(3mW)*[(L−150μm)/10μm]の
値であり、略1450μmと略1770μmとの間の共
振器長に対して390mWの値であることを特徴とする
半導体レーザ装置。
22. A resonator having a front end face and a rear end face, and having a resonator length of about 900 μm to about 1800 μm, laminated in the resonator and receiving a bias potential from a power supply. An active layer connected to the two electrodes and into which current is injected, having a reflectivity of about 4% or less, a low-reflection film coated on the front end face, and having a reflectivity of about 80% or more; A high-reflection film coated on the rear end face; and an optical output connected to the electrode, the optical output being equal to or less than a specific upper boundary and equal to or greater than a specific lower boundary based on the resonator length. And a power supply for supplying an amount of power, wherein the specific upper boundary is approximately 1000 μm and approximately
50 mW for a resonator length between 380 μm,
The resonator length is L (1 mW) * [(L-128) for a resonator length between approximately 1380 μm and 1480 μm.
0 μm) / 2 μm] for a resonator length between approximately 1480 μm and approximately 1700 μm (1 mW) *
[(L-1260 μm) /2.2 μm], and (2 mW) * [(L-1600 μm) / 1 μm] for a resonator length between approximately 1700 μm and approximately 1750 μm.
And (3 mW) * [(L-1510 μm) for a resonator length between approximately 1750 μm and approximately 1770 μm.
m) / 2 μm], and the specific lower boundary is approximately 1000 μm and approximately 1050 μm.
m (2 mW) * [(L−95
0 μm) / 1 μm], which is approximately 1050 μm and approximately 1
(2 mW) * for a cavity length between 200 μm *
[(L−750 μm) / 3 μm], which is approximately 120
For resonator lengths between 0 μm and approximately 1350 μm, (2
mW) * [(L-450 μm) / 5 μm],
(3 mW) * [(L-150 μm) / 10 μm] for a resonator length between approximately 1350 μm and approximately 1450 μm, and 390 mW for a resonator length between approximately 1450 μm and approximately 1770 μm. A semiconductor laser device characterized by being a value.
【請求項23】 前端面と後端面とを有し、共振器長が
略900μmから略1800μmまでの長さを有した共
振器と、 前記共振器内に積層された活性層と、 略4%以下の反射率を有し、前記前端面にコーティング
された低反射膜と、 略80%以上の反射率を有し、前記後端面にコーティン
グされた高反射膜と、 を備え、当該半導体レーザ装置は、前記共振器長に基づ
いた特定の上部境界以下であって特定の下部境界以上で
ある光出力Poutを出力し、 前記特定の下部境界は、略1000μmと略1380μ
mとの間の共振器長に対して50mWであり、略138
0μmから1480μmまでの間の共振器長に対して共
振器長をLとして(1mW)*[(L−1280μm)
/2μm]の値であり、略1480μmから略1700
μmまでの間の共振器長に対して(1mW)*[(L−
1260μm)/2.2μm]の値であり、略1700
μmから略1750μmまでの間の共振器長に対して
(2mW)*[(L−1600μm)/1μm]の値で
あり、略1750μmから略1770μmまでの間の共
振器長に対して(3mW)*[(L−1510μm)/
2μm]の値であり、 前記特定の下部境界は、略1000μmと略1050μ
mとの間の共振器長に対して(2mW)*[(L−95
0μm)/1μm]の値であり、略1050μmと略1
200μmとの間の共振器長に対して(2mW)*
[(L−750μm)/3μm]の値であり、略120
0μmと略1350μmとの間の共振器長に対して(2
mW)*[(L−450μm)/5μm]の値であり、
略1350μmと略1450μmとの間の共振器長に対
して(3mW)*[(L−150μm)/10μm]の
値であり、略1450μmと略1770μmとの間の共
振器長に対して390mWの値であることを特徴とする
半導体レーザ装置。
23. A resonator having a front end face and a rear end face, and having a resonator length of about 900 μm to about 1800 μm; an active layer laminated in the resonator; A semiconductor laser device comprising: a low-reflection film having the following reflectance and coated on the front end face; and a high-reflection film having a reflectance of about 80% or more and coated on the rear end face. Outputs an optical output Pout that is equal to or less than a specific upper boundary and equal to or greater than a specific lower boundary based on the resonator length. The specific lower boundary is approximately 1000 μm and approximately 1380 μm.
50 mW for a resonator length between
Assuming that the resonator length is L for a resonator length between 0 μm and 1480 μm, (1 mW) * [(L−1280 μm)
/ 2 μm], from about 1480 μm to about 1700 μm.
(1 mW) * [(L-
1260 μm) /2.2 μm], which is approximately 1700 μm.
The value is (2 mW) * [(L-1600 μm) / 1 μm] for a cavity length between μm and approximately 1750 μm, and (3 mW) for a cavity length between approximately 1750 μm and approximately 1770 μm. * [(L-1510 μm) /
2 μm], and the specific lower boundary is approximately 1000 μm and approximately 1050 μm.
m (2 mW) * [(L−95
0 μm) / 1 μm], which is approximately 1050 μm and approximately 1
(2 mW) * for a cavity length between 200 μm *
[(L−750 μm) / 3 μm], which is approximately 120
For resonator lengths between 0 μm and approximately 1350 μm, (2
mW) * [(L-450 μm) / 5 μm],
(3 mW) * [(L-150 μm) / 10 μm] for a resonator length between approximately 1350 μm and approximately 1450 μm, and 390 mW for a resonator length between approximately 1450 μm and approximately 1770 μm. A semiconductor laser device characterized by being a value.
【請求項24】 前記電極に印加される電力量は、略5
0mWと略100mWとの間の光出力レベルPoutで当
該半導体レーザ装置を動作させ、前記共振器長は、略1
000μmと略{2μm*(Pout/1mW)+128
0μm}との間であることを特徴とする請求項22また
は23に記載の半導体レーザ装置。
24. The amount of power applied to the electrodes is approximately 5
The semiconductor laser device is operated at an optical output level Pout between 0 mW and approximately 100 mW, and the cavity length is approximately 1
2,000 μm and approximately μ2 μm * (Pout / 1 mW) +128
24. The semiconductor laser device according to claim 22, wherein the distance is between 0 μm}.
【請求項25】 前記電極に印加される電力量は、略1
00mWと略200mWとの間の光出力レベルPoutで
当該半導体レーザ装置を動作させ、前記共振器長は、略
{1μm*(Pout/2mW)+950μm}と略
{2.2μm*(Pout/1mW)+1260μm}と
の間であることを特徴とする請求項22または23に記
載の半導体レーザ装置。
25. The amount of power applied to the electrode is approximately 1
The semiconductor laser device is operated at an optical output level Pout between 00 mW and approximately 200 mW, and the cavity length is approximately {1 μm * (Pout / 2 mW) +950 μm} and approximately {2.2 μm * (Pout / 1 mW). 24. The semiconductor laser device according to claim 22, wherein the value is between +1260 μm}.
【請求項26】 前記電極に印加される電力量は、略2
00mWと略300mWとの間の光出力レベルPoutで
当該半導体レーザ装置を動作させ、前記共振器長は、略
{3μm*(Pout/2mW)+750μm}と略{1
μm*(Pout/2mW)+1600μm}との間であ
ることを特徴とする請求項22または23に記載の半導
体レーザ装置。
26. The amount of power applied to the electrodes is approximately 2
The semiconductor laser device is operated at an optical output level Pout between 00 mW and approximately 300 mW, and the resonator length is approximately {3 μm * (Pout / 2 mW) +750 μm} and approximately {1}
24. The semiconductor laser device according to claim 22, wherein the value is between μm * (Pout / 2 mW) +1600 μmμ.
【請求項27】 前記電極に印加される電力量は、略3
00mWと略360mWとの間の光出力レベルPoutで
当該半導体レーザ装置を動作させ、前記共振器長は、略
{5μm*(Pout/2mW)+450μm}と略17
50μmとの間であることを特徴とする請求項22また
は23に記載の半導体レーザ装置。
27. The amount of power applied to the electrodes is approximately 3
The semiconductor laser device is operated at an optical output level Pout between 00 mW and approximately 360 mW, and the cavity length is approximately {5 μm * (Pout / 2 mW) +450 μm} and approximately 17
24. The semiconductor laser device according to claim 22, wherein the distance is between 50 [mu] m.
【請求項28】 前記電極に印加される電力量は、略3
60mWと略390mWとの間の光出力レベルPoutで
当該半導体レーザ装置を動作させ、前記共振器長は、略
{10μm*(Pout/3mW)+150μm}と略
{2μm*(Pout/3mW)+1510μm}との間
であることを特徴とする請求項22または23に記載の
半導体レーザ装置。
28. The electric energy applied to the electrode is approximately 3
The semiconductor laser device is operated at an optical output level Pout between 60 mW and approximately 390 mW, and the resonator length is approximately {10 μm * (Pout / 3 mW) +150 μm} and approximately {2 μm * (Pout / 3 mW) +1510 μm}. 24. The semiconductor laser device according to claim 22, wherein
【請求項29】 前記共振器長は、略1000μmと略
1100μmとの間であり、電極に印加される電力量
は、略50mWと略100mWとの間の光出力レベルP
outで当該半導体レーザ装置を動作させる前記電極に印
加されることを特徴とする請求項22または23に記載
の半導体レーザ装置。
29. The length of the resonator is between approximately 1000 μm and approximately 1100 μm, and the amount of power applied to the electrode is a light output level P between approximately 50 mW and approximately 100 mW.
24. The semiconductor laser device according to claim 22, wherein the voltage is applied to the electrode for operating the semiconductor laser device at out.
【請求項30】 前記共振器長は、略1200μmと略
1600μmとの間であり、電極に印加される電力量
は、略200mWと略300mWとの間の光出力レベル
Poutで当該半導体レーザ装置を動作させる前記電極に
印加されることを特徴とする請求項22または23に記
載の半導体レーザ装置。
30. The resonator length is between approximately 1200 μm and approximately 1600 μm, and the amount of electric power applied to the electrode is set at an optical output level Pout between approximately 200 mW and approximately 300 mW. 24. The semiconductor laser device according to claim 22, wherein the voltage is applied to the electrode to be operated.
JP2001379271A 2000-12-12 2001-12-12 Semiconductor laser device, method of manufacturing the same, and semiconductor laser module Pending JP2002246690A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001379271A JP2002246690A (en) 2000-12-12 2001-12-12 Semiconductor laser device, method of manufacturing the same, and semiconductor laser module

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000-378103 2000-12-12
JP2000378103 2000-12-12
JP2001379271A JP2002246690A (en) 2000-12-12 2001-12-12 Semiconductor laser device, method of manufacturing the same, and semiconductor laser module

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002246690A true JP2002246690A (en) 2002-08-30

Family

ID=26605712

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001379271A Pending JP2002246690A (en) 2000-12-12 2001-12-12 Semiconductor laser device, method of manufacturing the same, and semiconductor laser module

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002246690A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006179565A (en) * 2004-12-21 2006-07-06 Sony Corp Semiconductor laser device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006179565A (en) * 2004-12-21 2006-07-06 Sony Corp Semiconductor laser device
US7729396B2 (en) 2004-12-21 2010-06-01 Sony Corporation Laser diode device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2854241B1 (en) Mopa laser source with wavelength control
US7466736B2 (en) Semiconductor laser diode, semiconductor optical amplifier, and optical communication device
US6375364B1 (en) Back facet flared ridge for pump laser
WO2014129613A1 (en) Optical amplifier and laser oscillator
US6614822B2 (en) Semiconductor laser devices, and semiconductor laser modules and optical communication systems using the same
US6829285B2 (en) Semiconductor laser device and method for effectively reducing facet reflectivity
US6898228B2 (en) Semiconductor laser device, semiconductor laser module, Raman amplifier using the device or module, and method for forming a suitable current blocking layer
JP2003023208A (en) Variable wavelength semiconductor laser
WO2000045482A1 (en) Semiconductor laser module
US20020136254A1 (en) Semiconductor laser devices, and semiconductor laser modules and optical communication systems using the same
JP2003283036A (en) Semiconductor laser module and raman amplifier employing the same
JP5276030B2 (en) Semiconductor laser and semiconductor laser module
US6876680B2 (en) Semiconductor laser device, semiconductor laser module, and optical fiber amplifier
US6798798B2 (en) Semiconductor laser apparatus and fabrication method of same, and semiconductor laser module
JP2002246690A (en) Semiconductor laser device, method of manufacturing the same, and semiconductor laser module
JP2005072402A (en) Semiconductor laser device, semiconductor laser module using the same and optical fiber amplifying device
US6925102B2 (en) Semiconductor laser device, semiconductor laser module, and Raman amplifier using the device or module
US7072372B2 (en) Semiconductor laser device, semiconductor laser module, and optical fiber amplifier
JP2002374037A (en) Semiconductor laser module, fiber-optic amplifier using the same and optical communication system
Kimura et al. 1480-nm laser diode module with 250-mw output for optical amplifiers (fol 1404qq series)
JPH10290052A (en) Semiconductor laser
JP2003174230A (en) Semiconductor laser device, semiconductor laser module and optical fiber amplifier using the semiconductor laser module
JP4274393B2 (en) Semiconductor light emitting device
JP2003204115A (en) Semiconductor laser equipment semiconductor laser module, and optical fiber amplifier
JP4162905B2 (en) Optical fiber amplifier

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040617

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040706

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20050329