JP2002244239A - Silver halide photographic sensitive material - Google Patents

Silver halide photographic sensitive material

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JP2002244239A
JP2002244239A JP2001038635A JP2001038635A JP2002244239A JP 2002244239 A JP2002244239 A JP 2002244239A JP 2001038635 A JP2001038635 A JP 2001038635A JP 2001038635 A JP2001038635 A JP 2001038635A JP 2002244239 A JP2002244239 A JP 2002244239A
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JP
Japan
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group
silver
silver halide
mol
grains
Prior art date
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Application number
JP2001038635A
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Japanese (ja)
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Katsuhisa Ozeki
勝久 大関
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a silver halide photographic sensitive material having high sensitivity, rapid processability and improved preservability. SOLUTION: In the silver halide photographic sensitive material having at least one photosensitive layer on the base, the photosensitive layer contains a silver halide emulsion containing a compound of the formula (X)k-(L)m-(A- B)n and silver halide grains containing >=90 mol% silver chloride. Flat platy grains having an average aspect ratio of >=5 and <=0.20 μm average thickness occupy >=90% of the total projected area of the silver halide grains. In the formula, X is a silver halide adsorption group or a light absorbing group having at least one atom selected from N, S, P, Se and Te; L is a divalent linking group having at least one atom selected from C, N, S and O; A is an electron donative group; B is a releasable group or H and forms a radical A* when released or deprotonated after oxidation; (k) and (m) are each an integer of 0-3; and (n) is 1 or 2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はハロゲン化銀写真感
光材料に関するものであり、平板状の塩化銀、あるいは
塩化銀含有量の高い塩臭化銀、塩沃化銀もしくは塩沃臭
化銀粒子を含有するハロゲン化銀乳剤を含むハロゲン化
銀写真感光材料に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material, and more particularly to tabular silver chloride or silver chlorobromide, silver chloroiodide or silver chloroiodobromide grains having a high silver chloride content. The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material containing a silver halide emulsion containing

【0002】[0002]

【従来の技術】現像処理の簡易迅速性を目的として、塩
化銀含有量の高い、所謂高塩化銀粒子(塩化銀含有率9
0モル%以上の粒子を意味し、以後高塩化銀粒子とい
う)を利用する技術が種々提案されている。高塩化銀粒
子を用いることで現像速度が速まり、かつ処理液の再利
用性が高まるなどの利点が得られる。このため、カラー
印画紙等のプリント用感光材料は高塩化銀粒子を用いる
タイプが主流を占めるに至っている。
2. Description of the Related Art For the purpose of simple and rapid development processing, so-called high silver chloride grains having a high silver chloride content (a silver chloride content of 9%).
Various techniques have been proposed for utilizing grains of 0 mol% or more (hereinafter referred to as high silver chloride grains). By using high silver chloride particles, advantages such as an increase in development speed and an increase in reusability of the processing solution can be obtained. For this reason, the type of photosensitive material for printing such as color photographic paper, which uses high silver chloride particles, has become the mainstream.

【0003】高塩化銀粒子は通常の製造条件では{10
0}面を主平面とする粒子(以下{100}粒子とい
う)になり、実用的に用いられてきた粒子も立方体であ
った。近年では比表面積(体積に対する表面積の割合)
が大きく有効に分光増感でき、現像後の被覆力が大きい
等の利点を有する平板状の{100}粒子も開発され、
その例が米国特許第5,320,938号、同5,26
4,337号、同5,292,632号等に開示されて
いる。分光増感効率が高いことは、青感性領域において
光吸収が沃臭化銀粒子に比較してわずかな高塩化銀粒子
では特に重要である。
[0003] Under normal production conditions, high silver chloride grains cost $ 10.
Particles having a main plane of 0 ° plane (hereinafter referred to as {100} particles) were also cubic particles that have been used practically. In recent years, specific surface area (ratio of surface area to volume)
Tabular {100} grains have been developed, which have advantages such as large spectral sensitization, and large covering power after development.
Examples are U.S. Patent Nos. 5,320,938 and 5,26.
No. 4,337, 5,292,632 and the like. High spectral sensitization efficiency is particularly important for high silver chloride grains whose light absorption in the blue-sensitive region is small compared to silver iodobromide grains.

【0004】しかしながら、高塩化銀{100}粒子は
常用の臭化銀粒子に比較してかぶり易いという問題点を
有していた。この問題を克服するために、高塩化銀で
{111}面を主平面とする粒子(以下{111}粒子
という)が利用された。この例が特開平6-138619に開示
されている。
However, high silver chloride {100} grains have a problem that they are more easily fogged than ordinary silver bromide grains. In order to overcome this problem, grains of high silver chloride having a {111} plane as a main plane (hereinafter referred to as {111} grains) have been used. This example is disclosed in JP-A-6-138819.

【0005】高塩化銀で{111}粒子を製造するため
には特別の工夫が必要である。Weyは米国特許第4,
399,215号でアンモニアを用いて高塩化銀平板粒
子を製造する方法を開示している。アンモニアを用いる
と、溶解度の高い塩化銀粒子をさらに高い溶解度で製造
することとなり、実用的に有用な小サイズ粒子を製造す
るには困難を生じた。また製造時のpHが8〜10と高
く、かぶりが発生しやすいという不利も有していた。
Maskaskyは米国特許第5,061,617号で
チオシアン酸塩を用いて製造した高塩化銀{111}粒
子を開示している。チオシアン酸塩はアンモニア同様塩
化銀の溶解度を増大させる。
[0005] Special measures are required to produce {111} grains with high silver chloride. Wey is U.S. Pat.
No. 399,215 discloses a method for producing high silver chloride tabular grains using ammonia. When ammonia is used, silver chloride particles having high solubility are produced with higher solubility, and it has been difficult to produce practically useful small-sized particles. In addition, there was a disadvantage that the pH at the time of production was as high as 8 to 10 and fogging easily occurred.
Maskasky in U.S. Pat. No. 5,061,617 discloses high silver chloride {111} grains made using thiocyanate. Thiocyanate, like ammonia, increases the solubility of silver chloride.

【0006】その他、高塩化銀粒子で{111}面を主
平面とする粒子を形成するために粒子形成時に添加剤
(晶相制御剤)を用いる方法が知られている。以下に示
す。
In addition, there is known a method of using an additive (crystal phase controlling agent) at the time of grain formation in order to form high silver chloride grains having a {111} plane as a main plane. It is shown below.

【0007】 特許番号 晶癖制御剤 発明者 US4,400,463 アザインデン類+ マスカスキー チオエーテルペプタイザー US4,783,398 2−4−ジチアゾリジノン 御舩等 US4,713,323 アミノピラゾロピリミジン マスカスキー US4,983,508 ビスピリジニウム塩 石黒等 US5,185,239 トリアミノピリミジン マスカスキー US5,178,997 7−アザインドール系化合物 マスカスキー US5,178,998 キサンチン マスカスキー 特開昭64−70741 色素 西川等 特開平3−212639 アミノチオエーテル 石黒 特開平4−283742 チオ尿素誘導体 石黒 特開平4−335632 トリアゾリウム塩 石黒 特開平2−32 ビスピリジニウム塩 石黒等 特開平8−227117 モノピリジニウム塩 大関等。Patent No. Crystal habit control agent Inventor US 4,400,463 Azaindenes + Mascasky thioether peptizer US 4,783,398 2-4-Dithiazolidinone Mifune US4,713,323 Aminopyrazolopyrimidine Mascasky US4 983,508 Bispyridinium salt Ishiguro US5,185,239 Triaminopyrimidine Mascasky US5,178,997 7-Azaindole-based compound Masukasky US5,178,998 Xanthine Maskasky JP-A 64-70741 Dye Nishikawa et al 3-212639 Aminothioether Ishiguro JP-A-4-283742 Thiourea derivative Ishiguro JP-A-4-335632 Triazolium salt Ishiguro JP-A-2-32 Bispyridinium salt Ishiguro etc. JP-A-8-227117 Monopyridinium Salt Ozeki and the like.

【0008】この結果、比較的サイズの大きい、平均円
相当径(投影面積の円相当直径の平均)が1μm程度の
粒子が得られるようになった。しかしながら実用的に
は、高塩化銀でさらにサイズが小さく、厚さも薄い平板
粒子が望まれていた。特に薄い平板粒子は比表面積が大
きく望まれていた。 薄い高塩化銀{111}平板粒子
の例としては米国特許第5,217,858号あるいは
同5,183,732号に開示されている。しかしなが
ら、平板粒子の厚さが低下すると、処理中に粒子が溶解
しやすくなるという問題を生じる。実際のカラー処理で
は、現像液→定着・漂白液→水洗水を感材は通過する。
そのため、定着・漂白液が現像液に混入する危険性が高
く、その結果、溶解物理現像が生じて写真性が損なわれ
る(増感、硬調化する)。この現象は粒子サイズの減少
によっても促進される。
As a result, particles having a relatively large size and an average equivalent circle diameter (average equivalent circle diameter of the projected area) of about 1 μm can be obtained. However, practically, tabular grains having a high silver chloride and a smaller size and a smaller thickness have been desired. In particular, thin tabular grains having a large specific surface area have been desired. Examples of thin high silver chloride {111} tabular grains are disclosed in U.S. Pat. Nos. 5,217,858 and 5,183,732. However, when the thickness of the tabular grains is reduced, there arises a problem that the grains are easily dissolved during the processing. In actual color processing, the light-sensitive material passes through a developer → fixing / bleaching liquid → wash water.
For this reason, there is a high risk that the fixing / bleaching solution is mixed into the developing solution. As a result, physical dissolution occurs and the photographic properties are impaired (sensitization and high contrast). This phenomenon is also promoted by a reduction in particle size.

【0009】さらに、粒子厚さやサイズの分布が大きい
(多分散)と、分布中の薄い部分を占める粒子や小サイ
ズ部分の粒子は特に溶解しやすく、処理液安定性が低い
という問題を生じる。前述の特許中には平均円相当径が
0.8μm以下の平板粒子が開示されているが、該平板
粒子の全投影面積に占める割合は85%であった。ま
た、沃化銀を含む粒子の場合には70%であった。粒子
形態の異なる粒子が混在した場合、増感色素吸着や化学
増感の粒子間不均一を生じ、写真特性を損なうという問
題も引き起こす。前述の如き小サイズ域の平板粒子に関
する問題点に関しては、厚さや円相当径が単分散な平板
粒子を形成することで改善できることが、特開2000
−171928に開示されている。
Further, when the distribution of the particle thickness and the size is large (polydispersion), particles occupying a thin portion in the distribution and particles in a small size portion are particularly easily dissolved, which causes a problem that the stability of the processing solution is low. Although the above-mentioned patent discloses tabular grains having an average equivalent circle diameter of 0.8 μm or less, the proportion of the tabular grains in the total projected area was 85%. In the case of grains containing silver iodide, the ratio was 70%. When grains having different grain morphologies are mixed, sensitizing dye adsorption or chemical sensitization causes non-uniformity among grains, which causes a problem of deteriorating photographic characteristics. Regarding the above-mentioned problems relating to the tabular grains in the small size region, it can be improved by forming monodisperse tabular grains having a thickness and a circle-equivalent diameter.
-171928.

【0010】また、最近になって米国特許第57472
35、同5747236、欧州特許第786692A
1、同893731A1、同893732A1、および
WO99/05570に記載されたような電子供与基と
脱離基からなる有機電子供与化合物を用いた増感技術が
報告されており、この方法は高感度化に有効な増感技術
である。
[0010] Also, recently, US Pat.
35, 5747236, European Patent No. 786,692A
A sensitizing technique using an organic electron-donating compound comprising an electron-donating group and a leaving group as described in JP-A Nos. 1,893731A1, 893732A1, and WO99 / 05570 has been reported. This is an effective sensitization technique.

【0011】一方、ハロゲン化銀粒子を用いた感光材料
は、製造後長期間保存された後、使用されることが頻繁
に生じる。そのため、製造後速やかに使用された場合と
長期保存後使用された場合とで性能変化が生じない感光
材料が望まれている。特に、保存中の感度の変動は商品
価値を損なうものであり、改良が望まれていた。
On the other hand, photosensitive materials using silver halide grains are frequently used after being stored for a long period of time after production. Therefore, there is a demand for a photosensitive material which does not change its performance when used immediately after production and when used after long-term storage. In particular, fluctuations in sensitivity during storage impair the commercial value, and improvements have been desired.

【0012】[0012]

【本発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高
感度で迅速処理性を有し、かつ、保存性を改良したハロ
ゲン化銀写真感光材料を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a silver halide photographic light-sensitive material having high sensitivity, rapid processing, and improved storage stability.

【0013】[0013]

【発明を解決するための手段】本発明の目的は以下の方
法により達成された。 1.支持体上に少なくとも一層の感光性層を有するハロ
ゲン化銀写真感光材料において、該感光性層に、下記一
般式(I)の化合物および少なくとも90モル%以上の
塩化銀を含むハロゲン化銀粒子を含有し、該粒子の全投
影面積の90%以上が、平均アスペクト比5以上、平均
厚さ0.20μm以下の平板粒子であるハロゲン化銀乳
剤を含むことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
The object of the present invention has been attained by the following method. 1. In a silver halide photographic light-sensitive material having at least one light-sensitive layer on a support, the light-sensitive layer contains silver halide grains containing a compound of the following general formula (I) and at least 90 mol% or more of silver chloride. A silver halide photographic material comprising a silver halide emulsion containing tabular grains having an average aspect ratio of 5 or more and an average thickness of 0.20 μm or less, wherein 90% or more of the total projected area of the grains is contained. .

【0014】 一般式(I) (X)k−(L)m−(A−B)n 式中、XはN、S、P、SeおよびTeから成る群から
選択される少なくとも一つの原子を有するハロゲン化銀
吸着基または光吸収基を表す。LはC、N、SおよびO
から成る群から選択される少なくとも一つの原子を有す
る2価の連結基を表す。Aは電子供与基を表し、Bは脱
離基または水素原子を表し、酸化後、離脱または脱プロ
トンされてラジカルAを生成する。kおよびmは各々
独立に0〜3の整数を表し、nは1または2を表す。
In the general formula (I) (X) k- (L) m- (AB) n , X represents at least one atom selected from the group consisting of N, S, P, Se and Te. Represents a silver halide adsorption group or a light absorption group. L is C, N, S and O
Represents a divalent linking group having at least one atom selected from the group consisting of A represents an electron donating group, B represents a leaving group or a hydrogen atom, after oxidation, is disengaged or deprotonated to generate a radical A · in. k and m each independently represent an integer of 0 to 3, and n represents 1 or 2.

【0015】2.前記平板粒子の厚さの変動係数が20
%以下であることを特徴とする上記1に記載のハロゲン
化銀写真感光材料。
2. The coefficient of variation of the thickness of the tabular grains is 20.
% Or less, the silver halide photographic light-sensitive material as described in 1 above,

【0016】3.前記平板粒子の円相当直径の変動係数
が22%以下であることを特徴とする上記1または2に
記載のハロゲン化銀写真感光材料。
3. 3. The silver halide photographic material as described in 1 or 2 above, wherein the coefficient of variation of the circle equivalent diameter of the tabular grains is 22% or less.

【0017】4.前記平板粒子が{111}主平面を有
することを特徴とする上記1、2または3に記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料。
4. 4. The silver halide photographic material as described in 1, 2, or 3, wherein the tabular grains have a {111} main plane.

【0018】5.前記ハロゲン化銀粒子が銀に対して
0.1モル%〜0.8モル%の沃化銀を含むことを特徴
とする上記1〜4のいずれか1に記載のハロゲン化銀写
真感光材料。
5. 5. The silver halide photographic material as described in any one of items 1 to 4, wherein the silver halide grains contain silver iodide in an amount of 0.1 mol% to 0.8 mol% based on silver.

【0019】6.前記ハロゲン化銀粒子が銀に対して
0.1モル%〜4モル%の臭化銀を含むことを特徴とす
る上記1〜5のいずれか1に記載のハロゲン化銀写真感
光材料。
6. The silver halide photographic material as described in any one of the above items 1 to 5, wherein the silver halide grains contain silver bromide in an amount of 0.1 mol% to 4 mol% based on silver.

【0020】7.前記ハロゲン化銀粒子がコアとシェル
からなっており、シェル部の沃化銀含有率が1〜13モ
ル%であることを特徴とする上記1〜6のいずれか1に
記載のハロゲン化銀写真感光材料。
[7] FIG. 7. The silver halide photograph as described in any one of the above items 1 to 6, wherein the silver halide grains are composed of a core and a shell, and the silver iodide content of the shell part is 1 to 13 mol%. Photosensitive material.

【0021】8.前記ハロゲン化銀粒子中に臭化銀濃度
が6モル%以上異なる臭化銀局在相を含むことを特徴と
する上記1〜7のいずれか1に記載のハロゲン化銀写真
感光材料。
8. 8. The silver halide photographic material as described in any one of the above items 1 to 7, wherein the silver halide grains contain a silver bromide localized phase having a silver bromide concentration of 6 mol% or more.

【0022】9.前記臭化銀局在相中に、粒子の全銀量
に対して1×10-8モル%〜1×10-5モル%のIr化
合物を含有することを特徴とする上記8に記載のハロゲ
ン化銀写真感光材料。
9. The halogen according to the above item 8 , wherein the silver bromide localized phase contains 1 × 10 −8 mol% to 1 × 10 −5 mol% of an Ir compound based on the total silver content of the grains. Silver halide photographic material.

【0023】10.60秒以下の処理工程時間で処理さ
れることを特徴とする、上記1〜9のいずれか1に記載
のハロゲン化銀写真感光材料。
10. The silver halide photographic material as described in any one of 1 to 9 above, wherein the photographic material is processed in a processing time of not more than 60 seconds.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】本発明のハロゲン化銀写真感光材
料が含有する、全粒子の投影面積の90%以上が平板粒
子である乳剤の粒子形成法について述べる。まず、主平
面が{111}面である平板粒子(以下、「本発明の
{111}平板粒子」ともいう。)について述べる。本
発明の{111}平板粒子は基本的に、核形成、熟成お
よび成長の3段階により形成される。極微粒子を形成す
る場合には、成長過程を除くこともできる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A grain forming method for an emulsion contained in the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention in which 90% or more of the projected area of all grains are tabular grains will be described. First, tabular grains whose principal plane is {111} planes (hereinafter, also referred to as “{111} tabular grains of the present invention”) will be described. The {111} tabular grains of the present invention are basically formed by three stages of nucleation, ripening and growth. When forming ultrafine particles, the growth process can be omitted.

【0025】<核形成>平板状粒子はふたつの平行な双
晶面を形成することにより得られる。双晶面の形成は反
応容器内の温度、分散媒(ゼラチン)、ハロゲン濃度等
により左右されるのでこれらの適当な条件を設定しなけ
ればならない。晶相制御剤を核形成時に存在させる場合
にはゼラチン濃度は0.1質量%〜10質量%が好まし
い。塩化物濃度は0.01モル/リットル以上、好まし
くは0.03モル/リットル以上である(以下、リット
ルを「L」とも表記する。)。
<Nucleation> Tabular grains are obtained by forming two parallel twin planes. The formation of the twin plane depends on the temperature in the reaction vessel, the dispersion medium (gelatin), the halogen concentration, and the like, so that appropriate conditions must be set. When a crystal habit controlling agent is present at the time of nucleation, the gelatin concentration is preferably 0.1% by mass to 10% by mass. The chloride concentration is 0.01 mol / L or more, preferably 0.03 mol / L or more (hereinafter, liter is also referred to as “L”).

【0026】また、粒子を単分散化するためには、核形
成に際して晶相制御剤を用いないのが好ましいことが特
開平8−184931に開示されている。晶相制御剤を
核形成時に用いない場合にはゼラチン濃度は0.03質
量%〜10質量%、好ましくは0.05質量%〜1.0
質量%である。塩化物濃度は0.001モル/L〜1モ
ル/L、好ましくは0.003モル/L〜0.1モル/
Lである。核形成温度は2℃〜60℃まで任意の温度を
選べるが5℃〜45℃が好ましく、特に5℃〜35℃が
好ましい。
It is disclosed in JP-A-8-184931 that it is preferable not to use a crystal habit-controlling agent at the time of nucleation in order to monodisperse the particles. When the crystal habit controlling agent is not used at the time of nucleation, the gelatin concentration is 0.03% by mass to 10% by mass, preferably 0.05% by mass to 1.0% by mass.
% By mass. The chloride concentration is 0.001 mol / L to 1 mol / L, preferably 0.003 mol / L to 0.1 mol / L.
L. The nucleation temperature can be any temperature from 2 ° C to 60 ° C, but is preferably from 5 ° C to 45 ° C, particularly preferably from 5 ° C to 35 ° C.

【0027】核形成に用いるゼラチンとしては分子量1
0万以上の高分子量ゼラチンが好ましい。平板核形成に
はpClは1.2から2.3が好ましいが、厚さを単分
散化するためには1.2から1.8が好ましい。
Gelatin used for nucleation has a molecular weight of 1
High molecular weight gelatin of at least 10,000 is preferred. The pCl is preferably 1.2 to 2.3 for plate nucleation, but is preferably 1.2 to 1.8 for monodispersing the thickness.

【0028】<熟成>最初の核形成段階で平板粒子の核
が形成されるが、核形成直後には反応容器内には平板粒
子以外の核も多数含まれる。そのため、核形成後、熟成
を行い、平板粒子のみを残存させ他を消滅させる技術が
必要となる。通常のオストワルド熟成を行うと、平板粒
子核も溶解消滅するため、平板粒子核が減少し、結果と
して得られる平板粒子のサイズが増大してしまう。これ
を防止するために、晶相制御剤を添加する。特にフタル
化ゼラチン、琥珀化ゼラチンやトリメリットゼラチンを
併用することは、晶相制御剤の効果を高め、平板粒子の
溶解を防止できるとともに厚さの単分散化に有効であ
る。この際、晶相制御剤とゼラチンの比率は重要であ
り、フタル化、琥珀化あるいはメリットゼラチン1gあ
たり、3×10-6から6×10-6モルの晶相制御剤を併
用するが好ましい。併用する場合には、晶相制御剤とゼ
ラチン溶液とを同時に添加しても、あるいは時間をずら
せて添加してもよいが、予め両者を混合した溶液を添加
するのが好ましい。
<Maturation> Although nuclei of tabular grains are formed at the first nucleation stage, immediately after nucleation, the reaction vessel contains many nuclei other than tabular grains. Therefore, after nucleation, aging is required to leave only tabular grains and to eliminate others. When ordinary Ostwald ripening is performed, the tabular grain nuclei also dissolve and disappear, so that the tabular grain nuclei decrease and the size of the resulting tabular grains increases. To prevent this, a crystal habit controlling agent is added. In particular, the combined use of phthalated gelatin, ambered gelatin, and trimellit gelatin enhances the effect of the crystal habit controlling agent, can prevent the dissolution of tabular grains, and is effective in monodispersing the thickness. At this time, the ratio between the crystal habit controlling agent and the gelatin is important, and it is preferable to use 3 × 10 −6 to 6 × 10 −6 mol of the crystal habit controlling agent per 1 g of phthalated, ambered or merit gelatin. When used in combination, the crystal habit controlling agent and the gelatin solution may be added at the same time, or may be added with a delay, but it is preferable to add a solution in which both are mixed in advance.

【0029】熟成中のpAgは特に重要であり、銀塩化
銀電極に対して60〜130mVが好ましい。熟成温度
は核形成温度よりも高くするのが効率的である。特に核
形成温度に対して15℃以上高くすることが好ましい。
The pAg during ripening is particularly important, and is preferably 60 to 130 mV with respect to the silver-silver chloride electrode. It is efficient that the ripening temperature is higher than the nucleation temperature. In particular, it is preferable to increase the nucleation temperature by at least 15 ° C.

【0030】<成長>次に、形成した核を物理熟成及び
銀塩とハロゲン化物の添加により、晶相制御剤存在下に
成長させる。場合について述べる。この際には、塩化物
濃度は5モル/L以下、好ましくは0.05〜1モル/
Lである。粒子成長時の温度は10℃〜95℃の範囲で
選択できるが、30℃〜75℃の範囲が好ましい。
<Growth> Next, the formed nuclei are grown in the presence of a crystal habit controlling agent by physical ripening and addition of a silver salt and a halide. The case will be described. In this case, the chloride concentration is 5 mol / L or less, preferably 0.05 to 1 mol / L.
L. The temperature during grain growth can be selected in the range of 10 ° C to 95 ° C, but is preferably in the range of 30 ° C to 75 ° C.

【0031】晶相制御剤の全使用量は完成乳剤中のハロ
ゲン化銀1モルあたり、6×10-5モル以上、特に3×
10-4モル〜6×10-2モルが好ましい。晶相制御剤の
添加時期としては、ハロゲン化銀粒子の核形成時から物
理熟成、粒子成長途中のどの時期でもよい。晶相制御剤
は予め反応容器内に添加してもよいが、小サイズ平板粒
子形成する場合には、粒子成長とともに反応容器内に添
加し、その濃度を増大させるのが好ましい。
The total amount of the crystal habit controlling agent used is at least 6 × 10 -5 mol, particularly 3 × 10 5 mol per mol of silver halide in the finished emulsion.
It is preferably from 10 −4 mol to 6 × 10 −2 mol. The phase control agent may be added at any time during the nucleation of silver halide grains, physical ripening, and during grain growth. The crystal habit controlling agent may be added to the reaction vessel in advance, but in the case of forming small-sized tabular grains, it is preferable to add the crystal phase controlling agent to the reaction vessel together with the growth of the grains to increase the concentration.

【0032】核形成時あるいは成長時に使用した分散媒
量が成長にとって不足の場合には添加により補う必要が
ある。成長には10g/L〜100g/Lのゼラチンが
存在するのが好ましい。補うゼラチンとしてはフタル化
ゼラチンあるいはトリメリットゼラチンが好ましい。粒
子形成時のpHは任意であるが中性から酸性領域が好ま
しい。
When the amount of the dispersion medium used at the time of nucleation or growth is insufficient for growth, it is necessary to supplement the amount by addition. Preferably, 10 g / L to 100 g / L of gelatin is present for growth. As the complementary gelatin, phthalated gelatin or trimellit gelatin is preferable. The pH at the time of particle formation is arbitrary, but is preferably in a neutral to acidic range.

【0033】本発明の{111}平板粒子を形成するた
めに用いる晶相制御剤については、前述の如く多くの化
合物が開示されているが、一般式(GI)、(GII)お
よび(GIII)の化合物が好ましく、特に一般式(G
I)の化合物が好ましい。
As the crystal habit controlling agent used for forming the {111} tabular grains of the present invention, many compounds have been disclosed as described above, but the compounds represented by the general formulas (GI), (GII) and (GIII) The compound of the general formula (G)
Compounds of I) are preferred.

【0034】[0034]

【化1】 Embedded image

【0035】一般式(GI)において、R1は炭素数1
〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基(例えば、
メチル基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、
n−オクチル基、n−デシル基、n−ヘキサデシル基、
シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基)、炭素数2〜20のアルケニル基、(例えば、アリ
ル基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基)、炭素数7
〜20のアラルキル基、(例えば、ベンジル基、フェネ
チル基)が好ましい。R1で表される各基は置換されて
いてもよい。置換基としては以下のR2〜R6で表される
置換可能な基が挙げられる。
In the general formula (GI), R 1 has 1 carbon atom
-20 linear, branched or cyclic alkyl groups (e.g.,
Methyl group, ethyl group, isopropyl group, t-butyl group,
n-octyl group, n-decyl group, n-hexadecyl group,
Cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group), alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms (for example, allyl group, 2-butenyl group, 3-pentenyl group), carbon number 7
To 20 aralkyl groups (e.g., benzyl group, phenethyl group) are preferred. Each group represented by R1 may be substituted. Examples of the substituent include substitutable groups represented by the following R2 to R6.

【0036】R2、R3、R4、R5およびR6はそれぞれ
同じであっても異なっていてもよく、水素原子またはこ
れを置換可能な基を表す。置換可能な基としては以下の
ものが挙げられる。
R2, R3, R4, R5 and R6 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a group capable of substituting the same. Substitutable groups include the following.

【0037】ハロゲン原子(好ましくは、Cl、B
r)、および炭素数が好ましくは20以下の次に列挙す
る基:アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラ
ルキル基、アリール基、複素環基(例えば、ピリジル
基、フリル基、イミダゾリル基、ピペリジル基、モルホ
リノ基等)、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ
基、アシルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、スルホ
ニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ス
ルホニル基、スルフィニル基、アルキルオキシカルボニ
ル基、アシル基、アシルオキシ基、リン酸アミド基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、シアノ基、スルホ基、
カルボキシ基、ヒドロキシ基、ホスホノ基、ニトロ基、
スルフィノ基、アンモニオ基(例えば、トリメチルアン
モニオ基等)、ホスホニオ基、ヒドラジノ基等である。
これらの基はさらに置換されていてもよい。
Halogen atom (preferably Cl, B
r) and the following groups having preferably 20 or less carbon atoms: alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aralkyl group, aryl group, heterocyclic group (for example, pyridyl group, furyl group, imidazolyl group, piperidyl group) , Morpholino group, etc.), alkoxy group, aryloxy group, amino group, acylamino group, ureido group, urethane group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, sulfonyl group, sulfinyl group, alkyloxycarbonyl group, acyl group, acyloxy Group, phosphoric amide group, alkylthio group, arylthio group, cyano group, sulfo group,
Carboxy group, hydroxy group, phosphono group, nitro group,
Examples thereof include a sulfino group, an ammonio group (for example, a trimethylammonio group), a phosphonio group, and a hydrazino group.
These groups may be further substituted.

【0038】R2とR3、R3とR4、R4とR5、R5とR6
は縮環してキノリン環、イソキノリン環、アクリジン環
を形成してもよい。
R2 and R3, R3 and R4, R4 and R5, R5 and R6
May be condensed to form a quinoline ring, isoquinoline ring or acridine ring.

【0039】X-は対アニオンを表す。対アニオンとし
ては例えば、ハロゲンイオン(クロルイオン、臭素イオ
ン)、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンスルホン
酸イオン、トリフロロメタンスルホン酸イオン等が挙げ
られる。
[0039] X - represents a counter anion. Examples of the counter anion include a halogen ion (a chloride ion and a bromine ion), a nitrate ion, a sulfate ion, a p-toluenesulfonic acid ion, and a trifluoromethanesulfonic acid ion.

【0040】一般式(GI)において好ましくは、R1
がアラルキル基を表し、R2、R3、R4、R5およびR6
の少なくとも一つがアリール基を表す。
In the general formula (GI), R 1 is preferably
Represents an aralkyl group, and R2, R3, R4, R5 and R6
At least one represents an aryl group.

【0041】一般式(GI)においてより好ましくは、
R1がアラルキル基を表し、R4がアリール基を表し、X
-がハロゲンイオンを表す。これらの化合物例が特開平
8−227117の晶癖制御剤1〜29に記載されてい
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
More preferably, in the general formula (GI),
R1 represents an aralkyl group, R4 represents an aryl group, X
- represents a halogen ion. Examples of these compounds are described in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 8-227117, Crystal habit control agents 1 to 29, but the present invention is not limited thereto.

【0042】次に一般式(GII)及び(GIII)の化合
物について詳細に説明する。A1、A2、A3およびA
4は、それぞれ独立して含窒素複素環を完成させるため
の非金属元素群を表し、酸素原子、窒素原子、硫黄原子
を含んでもよく、ベンゼン環が縮環してもかまわない。
A1、A2、A3およびA4で構成される複素環は置換
基を有してもよく、それぞれが同一でも異なっていても
よい。置換基としてはアルキル基、アリール基、アラル
キル基、アルケニル基、ハロゲン原子、アシル基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ス
ルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アミド基、スルファモイル基、カル
バモイル基、ウレイド基、アミノ基、スルホニル基、シ
アノ基、ニトロ基、メルカプト基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基を表す。好ましい例としては、A1、A2、
A3およびA4は5〜6員環(例えば、ピリジン環、イミ
ダゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、ピラジン
環、ピリミジン環など)を挙げることができる。さらに
好ましい例としてピリジン環を挙げることができる。
Next, the compounds of the general formulas (GII) and (GIII) will be described in detail. A1, A2, A3 and A
4 independently represents a nonmetallic element group for completing a nitrogen-containing heterocyclic ring, which may contain an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, or a benzene ring may be condensed.
The heterocycle composed of A1, A2, A3 and A4 may have a substituent, and each may be the same or different. As the substituent, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, a halogen atom, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfo group, a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxy group,
Represents an aryloxy group, an amide group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, a ureido group, an amino group, a sulfonyl group, a cyano group, a nitro group, a mercapto group, an alkylthio group, and an arylthio group. Preferred examples are A1, A2,
A3 and A4 can be a 5- to 6-membered ring (for example, a pyridine ring, an imidazole ring, a thiazole ring, an oxazole ring, a pyrazine ring, a pyrimidine ring, etc.). A more preferred example is a pyridine ring.

【0043】Bは2価の連結基を表す。2価の連結基と
は、アルキレン、アリーレン、アルケニレン、−SO2
−、−SO−、−O−、−S−、−CO−、−N
(R2)−(式中、R2はアルキル基、アリール基、水素
原子を表す。)を単独または組み合わせて構成されるも
のを表す。好ましい例としては、Bはアルキレン、アル
ケニレンを挙げることができる。上記2価の連結基を形
成するアルキレン、アリーレン、アルケニレン、アルキ
ル基およびアリール基の炭素数は、好ましくは20以下
である。また、これらの2価の連結基を形成するアルキ
レン、アリーレン、アルケニレン、アルキル基およびア
リール基は、上述したA1〜A4で挙げた置換基と同じ
置換基を有していてもよい。
B represents a divalent linking group. Divalent linking groups include alkylene, arylene, alkenylene, and -SO 2
-, -SO-, -O-, -S-, -CO-, -N
(R 2 ) — (wherein, R 2 represents an alkyl group, an aryl group, or a hydrogen atom) alone or in combination. Preferred examples of B include alkylene and alkenylene. The alkylene, arylene, alkenylene, alkyl group, and aryl group forming the divalent linking group preferably have 20 or less carbon atoms. Further, the alkylene, arylene, alkenylene, alkyl group and aryl group forming these divalent linking groups may have the same substituents as those described above for A1 to A4.

【0044】R11とR12は炭素数1以上20以下のアル
キル基を表す。R11とR12は同一でも異なっていてもよ
い。アルキル基とは、置換あるいは無置換のアルキル基
を表し、置換基としては、A1、A2、A3およびA4の置
換基として挙げた置換基と同様である。好ましい例とし
ては、R11とR12はそれぞれ炭素数4〜10のアルキル
基を表す。さらに好ましい例として置換あるいは無置換
のアリール置換アルキル基を表す。
R11 and R12 represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. R11 and R12 may be the same or different. The alkyl group represents a substituted or unsubstituted alkyl group, and the substituents are the same as the substituents exemplified as the substituents for A1, A2, A3 and A4. As a preferred example, R11 and R12 each represent an alkyl group having 4 to 10 carbon atoms. A more preferred example is a substituted or unsubstituted aryl-substituted alkyl group.

【0045】Xはアニオンを表す。例えば、塩素イオ
ン、臭素イオン、沃素イオン、硝酸イオン、硫酸イオ
ン、p−トルエンスルホナート、オギザラートを表す。
mは0または1を表し、分子内塩の場合にはmは0であ
る。
X represents an anion. For example, they represent chlorine ion, bromine ion, iodine ion, nitrate ion, sulfate ion, p-toluenesulfonate, and oxalate.
m represents 0 or 1, and in the case of an inner salt, m is 0.

【0046】一般式(GII)または一般式(GIII)で
表される化合物の具体例が特開平2−32に開示されて
いる(化合物例1〜42)が、本発明はこれらの化合物
に限定されるものではない。
Specific examples of the compound represented by formula (GII) or (GIII) are disclosed in JP-A-2-32 (Compound Examples 1-42), but the present invention is limited to these compounds. It is not something to be done.

【0047】次に、主平面が{100}面である平板粒
子(以下、「本発明の{100}平板粒子」ともい
う。)について説明する。本発明の{100}平板粒子
は{100}面を主平面とした平板状粒子である。該主
平面の形状は、直角平行四辺形形状または、該直角平行
四辺形のある一つの角が欠落した3〜5角形形状(欠落
した形状とは、その角を頂点とし、その角をなす辺によ
って形成される直角三角形部分)、または該欠落部分が
2つ以上4つ以下存在する4〜8角形形状等がある。
Next, tabular grains having a principal plane of {100} plane (hereinafter, also referred to as “{100} tabular grains of the present invention”) will be described. The {100} tabular grains of the present invention are tabular grains having {100} faces as main planes. The shape of the main plane is a right-angled parallelogram or a triangular to pentagonal shape in which one corner of the right-angled parallelogram is missing (the missing shape is a side having the corner as a vertex and the corner forming the corner). A right-angled triangular portion), or a 4- to 8-octagonal shape having two or more and four or less of the missing portions.

【0048】欠落した部分を補った直角平行四辺形形状
を、補充四辺形とすると、該直角平行四辺形および該補
充四辺形の隣接辺比率(長辺の長さ/短辺の長さ)は1
〜6、好ましくは1〜4、より好ましくは1〜2である。
Assuming that the right-angled parallelogram shape supplementing the missing portion is a supplementary quadrilateral, the adjacent side ratio (long side length / short side length) of the right-angled parallelogram and the supplementary quadrangle is 1
-6, preferably 1-4, more preferably 1-2.

【0049】{100}主平面を有する平板状ハロゲン
化銀乳剤粒子の形成法としては、ゼラチン水溶液のよう
な分散媒中に銀塩水溶液とハロゲン化物塩水溶液を攪拌
しながら添加、混合することにより行うが、この時、例
えば、特開平6−301129号、同6−347929
号、同9−34045号、同9−96881号では、沃
化銀またはヨウ化物イオンを、あるいは、臭化銀または
臭化物イオンを存在させ、塩化銀との結晶格子の大きさ
の違いから核に歪みを生じさせ、螺旋転位の様な異方成
長性を付与する結晶欠陥を導入する方法が開示されてい
る。該螺旋転位が導入されると、低過飽和条件ではその
面での2次元核の形成が律速ではなくなるため、この面
での結晶化が進み、螺旋転位を導入することによって平
板状の粒子が形成される。ここで低過飽和条件とは臨界
添加時の好ましくは35%以下、より好ましくは2〜2
0%を示す。該結晶欠陥が螺旋転位であると確定された
わけでは無いが、転位の導入された方向、あるいは粒子
に異方成長性が付与される事から螺旋転位である可能性
が高いと考えられている。平板粒子をより薄くする為に
は、導入された該転位保持が好ましい事が特開平8−1
22954号、同9−189977号に開示されてい
る。
As a method for forming tabular silver halide emulsion grains having {100} major planes, a silver salt aqueous solution and a halide salt aqueous solution are added to a dispersion medium such as an aqueous gelatin solution with stirring and mixed. At this time, for example, JP-A-6-301129 and JP-A-6-347929.
In JP-A-9-34045 and JP-A-9-96881, silver iodide or iodide ions or silver bromide or bromide ions are present, and nuclei are formed due to the difference in crystal lattice size from silver chloride. There is disclosed a method of introducing a crystal defect that causes distortion and imparts anisotropic growth such as screw dislocation. When the screw dislocations are introduced, the formation of two-dimensional nuclei on the surface is not rate-determining under low supersaturation conditions, so crystallization proceeds on this surface, and tabular grains are formed by introducing the screw dislocations. Is done. Here, the low supersaturation condition is preferably 35% or less at the time of critical addition, more preferably 2 to 2%.
Indicates 0%. Although it is not determined that the crystal defect is a screw dislocation, it is considered that there is a high possibility that the crystal defect is a screw dislocation because the direction in which the dislocation is introduced or the particles are given anisotropic growth. In order to make tabular grains thinner, it is preferable that the introduced dislocations be retained.
Nos. 22954 and 9-189977.

【0050】核形成時の混合は重要で、厚さの単分散な
平板粒子を形成するためには攪拌効率が高く、硝酸銀お
よびハロゲン水溶液が短時間に混合される必要がある。
特開昭51−83097に記載の混合装置を使用した場
合には、攪拌回転数は800から2000rpmが好ま
しく1000から2000rpmが特に好ましい。
Mixing at the time of nucleation is important. In order to form monodisperse tabular grains having a large thickness, it is necessary to have high stirring efficiency and to mix silver nitrate and a halogen aqueous solution in a short time.
When the mixing apparatus described in JP-A-51-83097 is used, the stirring speed is preferably from 800 to 2,000 rpm, particularly preferably from 1,000 to 2,000 rpm.

【0051】また、特開平6−347928号ではイミ
ダゾール類、3,5−ジアミノトリアゾール類を用いた
り、特開平8−339044号ではポリビニルアルコー
ル類を用いるなどして、{100}面形成促進剤を添加
して{100}平板粒子を形成する方法が開示されてい
る。しかしながら、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
In JP-A-6-347928, imidazoles and 3,5-diaminotriazoles are used, and in JP-A-8-339044, polyvinyl alcohols are used. A method of forming {100} tabular grains by addition is disclosed. However, the present invention is not limited to these.

【0052】本発明のハロゲン化銀写真感光材料におい
て用いるハロゲン化銀乳剤は乳剤中の粒子の全投影面積
の90%以上が、平均アスペクト比が5以上で、かつ、
平均厚さが0.20μm以下の平板粒子である(以下、
このようなアスペクト比と厚さの要件を満足する粒子を
「本発明の平板粒子」ともいう。)。一般に平板粒子の
形態は、2つの平行な面を有する平板状であり、該2つ
の平行な面を主平面といい、主平面間の距離を「厚さ」
という。平均厚さは好ましくは0.03μm〜0.18
μmである。粒子厚さの均一性は重要で、本発明の上記
平板粒子の厚さの変動係数(標準偏差を平均値で除した
値)は20%以下が好ましい。粒子の厚さは、金属蒸着
を併用したカーボンレプリカ法電子顕微鏡写真の影の長
さなどから求めることができる。
In the silver halide emulsion used in the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention, 90% or more of the total projected area of the grains in the emulsion, the average aspect ratio is 5 or more, and
Tabular grains having an average thickness of 0.20 μm or less (hereinafter, referred to as
Grains satisfying such requirements of the aspect ratio and the thickness are also referred to as “tabular grains of the present invention”. ). Generally, the form of a tabular grain is a tabular shape having two parallel surfaces, and the two parallel surfaces are referred to as a principal plane, and the distance between the principal planes is referred to as “thickness”.
That. The average thickness is preferably 0.03 μm to 0.18
μm. The uniformity of the grain thickness is important, and the coefficient of variation (standard deviation divided by the average value) of the thickness of the tabular grains of the present invention is preferably 20% or less. The thickness of the particles can be determined from the length of a shadow of an electron micrograph of a carbon replica method using metal evaporation.

【0053】また、本発明の平板粒子の平均円相当径は
0.3μmから10μmまで任意に選ぶことができる。
ここで、円相当径とは、電子顕微鏡写真における粒子の
投影面積に等しい面積の円の直径を云う。また、その直
径/厚さの比をアスペクト比という。円相当径は、特に
迅速処理感材に使用する粒子としては0.3μmから
1.6μmの小サイズ域が好ましい。さらに、円相当径
の分布は単分散であることが好ましく、上記平板粒子の
円相当径の変動係数は22%以下であるとき本発明の効
果は最大となる。本発明の平板粒子のアスペクト比の平
均は好ましくは7以上以上30以下である。
The average equivalent circle diameter of the tabular grains of the present invention can be arbitrarily selected from 0.3 μm to 10 μm.
Here, the equivalent circle diameter means the diameter of a circle having an area equal to the projected area of a particle in an electron micrograph. The ratio of the diameter / thickness is called an aspect ratio. The equivalent circle diameter is particularly preferably a small range of 0.3 μm to 1.6 μm for the particles used in the rapid processing light-sensitive material. Further, the distribution of the equivalent circle diameter is preferably monodisperse, and the effect of the present invention is maximized when the variation coefficient of the equivalent circle diameter of the tabular grains is 22% or less. The average aspect ratio of the tabular grains of the present invention is preferably 7 or more and 30 or less.

【0054】本発明のハロゲン化銀写真感光材料が含有
する乳剤に含まれるハロゲン化銀粒子は塩化銀含有量が
90モル%以上の粒子であるが、特に95%以上が塩化
銀であることが好ましい。
The silver halide grains contained in the emulsion contained in the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention are grains having a silver chloride content of 90 mol% or more, and in particular, 95% or more are silver chloride. preferable.

【0055】本発明の平板粒子は均一な構造であっても
よいが、コア部とコア部を取り囲むシェル部から構成さ
れる、いわゆるコア/シェル構造が好ましい。コア部は
95%以上が塩化銀であることが好ましい。コア部はハ
ロゲン組成の異なる二つ以上の部分からなっていてもよ
い。シェル部は全粒子体積の50%以下であることが好
ましく、20%以下であることが特に好ましい。
The tabular grains of the present invention may have a uniform structure, but preferably have a so-called core / shell structure comprising a core and a shell surrounding the core. Preferably, 95% or more of the core is silver chloride. The core portion may be composed of two or more portions having different halogen compositions. The shell portion preferably accounts for 50% or less of the total particle volume, particularly preferably 20% or less.

【0056】本発明の平板粒子は沃化銀を全銀量に対し
て、0.1モル%から0.8モル%含有することが好ま
しい。特に0.2モル%から0.6モル%含有すること
が好ましい。沃化銀はシェル部(最表層)に含有される
のが好ましい。シェル部の沃化銀含有量は1.0モル%
から13モル%であることが好ましく、2モル%から1
0モル%であることが特に好ましい。沃化銀を含有する
ことにより、厚さの単分散化による処理安定性の効果が
促進される。
The tabular grains of the present invention preferably contain silver iodide in an amount of 0.1 mol% to 0.8 mol% based on the total silver. In particular, it is preferable to contain 0.2 mol% to 0.6 mol%. Silver iodide is preferably contained in the shell part (outermost layer). The silver iodide content of the shell part is 1.0 mol%
To 13 mol%, preferably 2 mol% to 1 mol%.
It is particularly preferred that it is 0 mol%. By containing silver iodide, the effect of processing stability by monodispersion of the thickness is promoted.

【0057】また、臭化銀を含有することによっても、
厚さの単分散化による処理安定性の効果が促進される。
Also, by containing silver bromide,
The effect of processing stability due to monodispersion of the thickness is promoted.

【0058】臭化銀含有率は0.1モル%から4モル%
が好ましい。粒子内の臭化銀含有率はコア部よりもシェ
ル部が高いことが好ましい。また、粒子内に臭化銀含有
率が6モル%以上異なる相(臭化銀含有率の最も低い相
と最も高い相の含有率の差が6モル%以上異なる:臭化
銀含有率の高い相を臭化銀局在相という)が存在するの
が好ましい。具体的には、シェル部に、他の部分より臭
化銀含有率が6モル%以上高い臭化銀局在相を有するこ
とが好ましい。該臭化銀局在相中に粒子の全銀量に対し
て、1×10-8モル%〜1×10-5モル%のIr化合物
を含有することが好ましい。Ir化合物としては、特に
Ir錯イオンが好ましく、その配位子としては例えば、
ハロゲン(好ましくはCl、Br)、CN、SCN、O
CN、NO、H2Oのほか、有機配位子を挙げることが
できる。Ir化合物により、平板粒子の形態が安定化さ
れるとともに、高照度露光での写真性が改良される。
The silver bromide content is from 0.1 mol% to 4 mol%
Is preferred. The silver bromide content in the grains is preferably higher in the shell part than in the core part. Also, a phase in which the content of silver bromide differs by 6 mol% or more in the grains (the difference in content between the phase having the lowest silver bromide content and the content of the highest phase differs by 6 mol% or more: high content of silver bromide) Phase is referred to as a silver bromide localized phase). Specifically, the shell portion preferably has a silver bromide localized phase having a silver bromide content of 6 mol% or more higher than other portions. It is preferable that the silver bromide localized phase contains 1 × 10 −8 mol% to 1 × 10 −5 mol% of the Ir compound based on the total silver amount of the grains. As the Ir compound, an Ir complex ion is particularly preferable. As the ligand, for example,
Halogen (preferably Cl, Br), CN, SCN, O
In addition to CN, NO and H 2 O, organic ligands can be mentioned. The Ir compound stabilizes the morphology of the tabular grains and improves the photographic properties under high illuminance exposure.

【0059】晶相制御剤が粒子形成後も粒子表面に存在
すると、増感色素の吸着や現像に影響を与える。そのた
め、晶相制御剤は粒子形成後に除去することが好まし
い。ただし、晶相制御剤を除去した場合、高塩化銀粒子
は通常の条件では{111}面を維持するのが困難であ
る。したがって、増感色素等写真的に有用な化合物で置
換して粒子形態を保持することが好ましい。この方法に
ついては、特開平9−80656、特開平9−1060
26、米国特許第5,221,602号、同5,28
6,452号、同5,298,387号、同5,29
8,388号、同5,176,992号等に記載されて
いる。
If the crystal habit controlling agent is present on the surface of the grains even after the formation of the grains, it affects the adsorption of the sensitizing dye and the development. Therefore, the crystal habit controlling agent is preferably removed after the formation of the particles. However, when the crystal habit controlling agent is removed, it is difficult for the high silver chloride grains to maintain the {111} plane under ordinary conditions. Therefore, it is preferable to maintain the particle form by substituting with a photographically useful compound such as a sensitizing dye. This method is described in JP-A-9-80656 and JP-A-9-1060.
26, US Patent Nos. 5,221,602 and 5,28
6,452, 5,298,387, 5,29
Nos. 8,388 and 5,176,992.

【0060】本発明のハロゲン化銀粒子には周期律表VI
II族金属、即ちオスミウム、イリジウム、ロジウム、白
金、ルテニウム、パラジウム、コバルト、ニッケル、鉄
から選ばれた金属のイオンまたはその錯イオンを単独ま
たは組み合わせて用いることができる。更にこれらの金
属は、複数種用いてもよい。
In the silver halide grains of the present invention, the periodic table VI
A group II metal, that is, an ion of a metal selected from osmium, iridium, rhodium, platinum, ruthenium, palladium, cobalt, nickel, and iron or a complex ion thereof can be used alone or in combination. Further, a plurality of these metals may be used.

【0061】上記金属イオン提供化合物は、ハロゲン化
銀粒子形成時に分散媒になるゼラチン水溶液中、ハロゲ
ン化物水溶液中、銀塩水溶液中、またはその他の水溶液
中に添加するか、あるいは予め、金属イオンを含有せし
めたハロゲン化銀微粒子の形でハロゲン化銀乳剤に添加
し、この乳剤を溶解させる等の手段によって本発明のハ
ロゲン化銀粒子に含有せしめることができる。また、金
属イオンを該粒子中に含有せしめるには、粒子形成前、
粒子形成、粒子形成直後のいずれかで行うことができる
が、この添加時期は、金属イオンを粒子のどの位置にど
れだけの量含有させるかによって変えることができる。
The metal ion-providing compound is added to an aqueous gelatin solution, an aqueous halide solution, an aqueous silver salt solution, or another aqueous solution which serves as a dispersion medium at the time of forming silver halide grains. The silver halide grains of the present invention can be incorporated into the silver halide grains of the present invention by, for example, adding them to the silver halide emulsion in the form of fine silver halide grains and dissolving the emulsion. Further, in order to allow the metal ions to be contained in the particles, before forming the particles,
The addition can be performed either immediately after the formation of the particles or immediately after the formation of the particles. The timing of the addition can be changed depending on where and how much metal ions are contained in the particles.

【0062】本発明のハロゲン化銀粒子には、用いる金
属イオンの提供化合物のうち50モル%以上、好ましく
は80モル%以上が、より好ましくは100%がハロゲ
ン化銀粒子表面から粒子体積の50%以下に相当するま
での表面層に局在しているのが好ましい。この表面層の
体積は好ましくは30%以下である。金属イオンを表面
層に局在させることは、内部感度の上昇を抑制し、高感
度を得るのに有利である。こうしたハロゲン化銀粒子の
表面層に集中させて金属イオン提供化合物を含有せしめ
るには、例えば表面層を除いた部分のハロゲン化銀粒子
(コア)を形成した後、表面層を形成するための水溶性
銀塩溶液とハロゲン化物水溶液の添加にあわせて金属イ
オン提供化合物を供給することで行うことができる。
In the silver halide grains of the present invention, 50 mol% or more, preferably 80 mol% or more, and more preferably 100%, of the metal ion donating compound to be used is 50 mass% or less of the grain volume from the surface of the silver halide grains. % Is preferably localized in the surface layer up to the amount corresponding to not more than 10%. The volume of this surface layer is preferably 30% or less. Localizing metal ions in the surface layer is advantageous for suppressing an increase in internal sensitivity and obtaining high sensitivity. In order to concentrate the metal ion-providing compound in the surface layer of such silver halide grains, for example, after forming the silver halide grains (core) in a portion excluding the surface layer, a water solution for forming the surface layer is formed. It can be carried out by supplying the metal ion providing compound in accordance with the addition of the neutral silver salt solution and the aqueous halide solution.

【0063】本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、
第VIII族金属以外に、その乳剤粒子形成もしくは物理熟
成の過程において種々の多価金属イオン不純物を導入す
ることができる。これらの化合物の添加量は目的に応じ
て広範囲にわたるが、ハロゲン化銀1モルに対して、1
-9〜10-2モルが好ましい。
The silver halide emulsion used in the present invention is:
In addition to the Group VIII metal, various polyvalent metal ion impurities can be introduced during the process of emulsion grain formation or physical ripening. The addition amount of these compounds varies widely depending on the purpose, but is preferably 1 to 1 mol of silver halide.
0 -9 to 10 -2 mol is preferred.

【0064】本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、
通常化学増感される。化学増感法としてはいわゆる金化
合物による金増感法(例えば米国特許第2,448,0
60号、同3,320,069号)、イリジウム、白
金、ロジウム、パラジウム等の金属による増感法(例え
ば米国特許第2,448,060号、同2,566,2
45号、同2,566,263号)、含硫黄化合物を用
いる硫黄増感法(例えば米国特許第2,222,264
号)、セレン化合物を用いるセレン増感、テルル化合物
を用いるテルル増感あるいは錫塩類、二酸化チオ尿素、
ポリアミン等による還元増感法(例えば米国特許第2,
487,850号、同2,518,698号、同2,5
21,925号)がある。これらの増感法は単独もしく
は併用して用いることができる。
The silver halide emulsion used in the present invention is
Usually chemically sensitized. As the chemical sensitization method, a gold sensitization method using a so-called gold compound (for example, US Pat. No. 2,448,0
No. 60, No. 3,320,069), a sensitization method using a metal such as iridium, platinum, rhodium, palladium (for example, US Pat. Nos. 2,448,060 and 2,566,2).
No. 45, No. 2,566,263), a sulfur sensitization method using a sulfur-containing compound (for example, US Pat. No. 2,222,264)
No.), selenium sensitization using a selenium compound, tellurium sensitization using a tellurium compound or tin salts, thiourea dioxide,
Reduction sensitization method using polyamine or the like (for example, US Pat.
487,850, 2,518,698, 2,5
21,925). These sensitization methods can be used alone or in combination.

【0065】本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、
当業界で知られる金増感を施したものであることが好ま
しい。金増感を施すことにより、レーザー光等によって
走査露光したときの写真性能の変動を更に小さくするこ
とができるからである。金増感を施すには、塩化金酸も
しくはその塩、チオシアン酸金塩類チオ硫酸金類等の化
合物を用いることができる。これらの化合物の添加量は
場合に応じて変わるが、ハロゲン化銀1モルあたり5×
10-7〜5×10-2モル、好ましくは1×10 -6〜1×
10-3モルである。これらの化合物の添加時期は、本発
明に用いる化学増感が終了するまでに行われる。
The silver halide emulsion used in the present invention is:
Gold sensitized, known in the industry, is preferred
New By applying gold sensitization, laser light etc.
To further reduce fluctuations in photographic performance during scanning exposure
Because it can be. For gold sensitization, chloroauric acid
Or its salts, gold thiocyanates and gold thiosulfates
Compounds can be used. The amount of these compounds added
Depending on the case, 5 × per mole of silver halide
10-7~ 5 × 10-2Mol, preferably 1 × 10 -6~ 1 ×
10-3Is a mole. The timing of addition of these compounds
This is performed until the chemical sensitization used for lightening is completed.

【0066】本発明においては、金増感を他の増感法、
例えば硫黄増感、セレン増感、テルル増感、還元増感あ
るいは金化合物以外を用いた貴金属増感と組み合わせる
ことも好ましく行われる。
In the present invention, gold sensitization is performed by other sensitization methods,
For example, combination with sulfur sensitization, selenium sensitization, tellurium sensitization, reduction sensitization, or noble metal sensitization using a compound other than a gold compound is also preferably performed.

【0067】本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤に
は、感光材料の製造工程、保存中あるいは写真処理中の
かぶりを防止するあるいは写真性能を安定化させる目的
で種々の化合物あるいはそれらの前駆体を添加すること
ができる。これらの化合物の具体例は特開昭62−21
5272号の第39頁〜第72頁に記載のものが好まし
く用いられる。本発明に用いる乳剤は、潜像が主として
粒子表面に形成される、いわゆる表面潜像型乳剤が好ま
しい。
The silver halide emulsion used in the present invention contains various compounds or their precursors for the purpose of preventing fog during the production process, storage or photographic processing of the light-sensitive material or stabilizing photographic performance. Can be added. Specific examples of these compounds are described in JP-A-62-21.
No. 5,272, pp. 39-72 are preferably used. The emulsion used in the present invention is preferably a so-called surface latent image type emulsion in which a latent image is mainly formed on the grain surface.

【0068】次に本発明の一般式(I)で表される化合
物について説明する。一般式(I)で表される本発明の化
合物は、乳剤調製時、感材製造工程中のいかなる場合に
も使用しても良い。例えば粒子形成時、脱塩工程、化学
増感時、塗布前などである。またこれらの工程中の複数
回に分けて添加することも出来る。本発明の化合物は、
水、メタノール、エタノールなどの水可溶性溶媒または
これらの混合溶媒に溶解して添加することが好ましい。
水に溶解する場合、pHを高くまたは低くした方が溶解
度が上がる化合物については、pHを高くまたは低くし
て溶解し、これを添加しても良い。
Next, the compound represented by formula (I) of the present invention will be described. The compound of the present invention represented by the general formula (I) may be used at any time during the preparation of an emulsion or during the production of a light-sensitive material. For example, at the time of grain formation, at the desalting step, at the time of chemical sensitization, before coating, and the like. Also, it can be added in a plurality of times during these steps. The compounds of the present invention
It is preferable to add it after dissolving in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof.
In the case of dissolving in water, a compound whose solubility increases when the pH is increased or decreased may be dissolved by increasing or decreasing the pH, and then added.

【0069】一般式(I)で表される本発明の化合物は、
乳剤層中に使用するのが好ましいが、乳剤層と共に保護
層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよ
い。本発明の化合物の添加時期は増感色素の前後を問わ
ず、それぞれ好ましくはハロゲン化銀1モル当り、1×
10-9〜5×10-2モル、更に好ましくは1×10-8
2×10-3モルの割合でハロゲン化銀乳剤層に含有す
る。
The compound of the present invention represented by the general formula (I)
It is preferably used in an emulsion layer, but it may be added to a protective layer or an intermediate layer together with the emulsion layer and diffused during coating. The compound of the present invention may be added at any time before or after the sensitizing dye, and is preferably 1 × per mol of silver halide.
10 -9 to 5 × 10 -2 mol, more preferably 1 × 10 -8 to
It is contained in the silver halide emulsion layer at a ratio of 2 × 10 −3 mol.

【0070】一般式(I)で表される本発明の化合物は、
乳剤調製時、工程中のいかなる場合にも使用しても良
い。例えば粒子形成時、脱塩工程、化学増感時、塗布前
などである。またこれらの工程中の複数回に分けて添加
することも出来る。本発明の化合物は、水、メタノー
ル、エタノールなどの水可溶性溶媒またはこれらの混合
溶媒に溶解して添加することが好ましい。水に溶解する
場合、pHを高くまたは低くした方が溶解度が上がる化
合物については、pHを高くまたは低くして溶解し、こ
れを添加しても良い。
The compound of the present invention represented by the general formula (I)
The emulsion may be used at any time during the preparation of the emulsion. For example, at the time of grain formation, at the desalting step, at the time of chemical sensitization, before coating, and the like. Also, it can be added in a plurality of times during these steps. The compound of the present invention is preferably added after being dissolved in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. In the case of dissolving in water, a compound whose solubility increases when the pH is increased or decreased may be dissolved by increasing or decreasing the pH, and then added.

【0071】一般式(I)で表される本発明の化合物は、
乳剤層中に使用するのが好ましいが、乳剤層と共に保護
層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよ
い。本発明の化合物の添加時期は増感色素の前後を問わ
ず、それぞれ好ましくはハロゲン化銀1モル当り、1×
10-9〜5×10-2モル、更に好ましくは1×10-8
2×10-3モルの割合でハロゲン化銀乳剤層に含有す
る。
The compound of the present invention represented by the general formula (I)
It is preferably used in an emulsion layer, but it may be added to a protective layer or an intermediate layer together with the emulsion layer and diffused during coating. The compound of the present invention may be added at any time before or after the sensitizing dye, and is preferably 1 × per mol of silver halide.
10 -9 to 5 × 10 -2 mol, more preferably 1 × 10 -8 to
It is contained in the silver halide emulsion layer at a ratio of 2 × 10 −3 mol.

【0072】本発明に用いる化合物について詳細に説明
する。一般式(I)中、Xで表されるハロゲン化銀吸着基
としては、N、S、P、SeおよびTeからなる群から
選択される少なくとも1つを有し、好ましくは銀イオン
リガンド構造のものである。kが2以上の場合、複数個
のXは、同じでも異なっていてもよい。銀イオンリガン
ド構造のものとしては以下が挙げられる。
The compounds used in the present invention will be described in detail. In the general formula (I), the silver halide adsorbing group represented by X has at least one selected from the group consisting of N, S, P, Se and Te, and preferably has a silver ion ligand structure. Things. When k is 2 or more, a plurality of Xs may be the same or different. The following are examples of those having a silver ion ligand structure.

【0073】一般式(X−1) −G1−Z1−R1 式中、G1は2価の連結基であり、2価の複素環基、ま
たは2価の複素環基と置換もしくは無置換のアルキレン
基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、
SO2基のいずれかとが結合した2価の基を表す。Z
1は、S、SeまたはTe原子を表す。R1は水素原子ま
たはZ1の解離体となった場合に必要な対イオンとし
て、ナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオ
ンおよびアンモニウムイオンを表す。
In the general formula (X-1) -G 1 -Z 1 -R 1 , G 1 is a divalent linking group, which is substituted with a divalent heterocyclic group or a divalent heterocyclic group or Unsubstituted alkylene group, alkenylene group, alkynylene group, arylene group,
It represents a divalent group bonded to any of the SO 2 groups. Z
1 represents an S, Se or Te atom. R 1 is a counter ion necessary when a dissociation of the hydrogen atom or Z 1, represents sodium ion, potassium ion, lithium ion and ammonium ion.

【0074】一般式(X−2a)、(X−2b)Formulas (X-2a) and (X-2b)

【化2】 Embedded image

【0075】一般式(X−2a)、(X−2b)は環形
成されており、その形態は、5〜7員の複素飽和環、複
素不飽和環、不飽和炭素環である。Zaは、O、N、
S、SeまたはTe原子を表し、n1は0〜3の整数を
表す。R2は水素原子、アルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基またはアリール基を表す。n1が2以上のと
き、複数個のZaは同じでも異なっていてもよい。
The general formulas (X-2a) and (X-2b) form a ring, and are in the form of a 5- to 7-membered hetero-saturated ring, hetero-unsaturated ring or unsaturated carbocyclic ring. Z a is, O, N,
Represents an S, Se or Te atom, and n 1 represents an integer of 0 to 3. R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group. when n 1 is 2 or more, a plurality of Z a may be the same or different.

【0076】一般式(X−3) −R3−(Z2)n2−R4 式中、Z2はS、SeまたはTe原子を表し,n2は1〜
3の整数を表す。R3は2価の連結基であり、アルキレ
ン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン
基、2価の複素環基、または2価の複素環基とアルキレ
ン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン
基、SO2基のいずれかとが結合した2価の基を表す。
4はアルキル基、アリール基または複素環基を表す。
2が2以上のとき、複数のZ2は、同じでも異なってい
てもよい。
Formula (X-3) -R 3- (Z 2 ) n 2 -R 4 In the formula, Z 2 represents an S, Se or Te atom, and n 2 represents 1 to
Represents an integer of 3. R 3 is a divalent linking group, and includes an alkylene group, alkenylene group, alkynylene group, arylene group, divalent heterocyclic group, or divalent heterocyclic group and alkylene group, alkenylene group, alkynylene group, arylene group, It represents a divalent group bonded to any of the SO 2 groups.
R 4 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group.
When n 2 is 2 or more, a plurality of Z 2 may be the same or different.

【0077】一般式(X−4)Formula (X-4)

【化3】 Embedded image

【0078】式中、R5およびR6は各々独立してアルキ
ル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表
す。
In the formula, R 5 and R 6 each independently represent an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group.

【0079】一般式(X−5a)、(X−5b)Formulas (X-5a) and (X-5b)

【化4】 Embedded image

【0080】式中、Z3は、S、SeまたはTe原子を
表し、E1は水素原子、NH2、NHR10、N
(R102、NHN(R102、OR10またはSR10を表
す。E2は2価の連結基であり、NH、NR10、NHN
10、OまたはSを表す。R7、R8およびR9は各々独
立して水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール
基または複素環基を表し、R8とR9は互いに結合して環
を形成していてもよい。R10は水素原子、アルキル基、
アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。
In the formula, Z 3 represents an S, Se or Te atom, and E 1 is a hydrogen atom, NH 2 , NHR 10 , N
(R 10 ) 2 , NHN (R 10 ) 2 , OR 10 or SR 10 . E 2 is a divalent linking group, NH, NR 10 , NHN
Represents R 10 , O or S. R 7 , R 8 and R 9 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and R 8 and R 9 may combine with each other to form a ring. R 10 is a hydrogen atom, an alkyl group,
Represents an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group.

【0081】一般式(X−6a)、(X−6b)Formulas (X-6a) and (X-6b)

【化5】 Embedded image

【0082】式中、R11は2価の連結基であり、アルキ
レン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン
基または2価の複素環基を表す。G2およびJは各々独
立して、COOR12、SO212、COR12、SO
12、CN、CHOまたはNO2を表す。R12はアルキ
ル基、アルケニル基またはアリール基を表す。
In the formula, R 11 is a divalent linking group, and represents an alkylene group, alkenylene group, alkynylene group, arylene group or divalent heterocyclic group. G 2 and J are each independently COOR 12 , SO 2 R 12 , COR 12 , SO
Represents R 12 , CN, CHO or NO 2 . R 12 represents an alkyl group, an alkenyl group or an aryl group.

【0083】一般式(X−1)について詳細に説明す
る。式中、G1で表される連結基としては、それぞれ炭
素数1〜20の置換もしくは無置換の直鎖または分岐の
アルキレン基(例えばメチレン、エチレン、トリメチレ
ン、プロピレン、テトラメチレン、ヘキサメチレン、3
−オキサペンチレン、2−ヒドロキシトリメチレン)、
炭素数3〜18の置換もしくは無置換の環状アルキレン
基(例えばシクロプロピレン、シクロペンチレン、シク
ロへキシレン)、炭素数2〜20の置換もしくは無置換
のアルケニレン基(例えばエテン、2−ブテニレン)、
炭素数2〜10のアルキニレン基(例えばエチン)、炭
素数6〜20の置換もしくは無置換のアリーレン基(例
えば無置換p−フェニレン、無置換2,5−ナフチレ
ン)が挙げられる。
The general formula (X-1) will be described in detail. In the formula, as the linking group represented by G 1 , a substituted or unsubstituted linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms (for example, methylene, ethylene, trimethylene, propylene, tetramethylene, hexamethylene, 3
-Oxapentylene, 2-hydroxytrimethylene),
A substituted or unsubstituted cyclic alkylene group having 3 to 18 carbon atoms (eg, cyclopropylene, cyclopentylene, cyclohexylene), a substituted or unsubstituted alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms (eg, ethene, 2-butenylene),
Examples thereof include an alkynylene group having 2 to 10 carbon atoms (eg, ethyne) and a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 20 carbon atoms (eg, unsubstituted p-phenylene, unsubstituted 2,5-naphthylene).

【0084】式中、G1で表されるSO2基としては、−
SO2−基の他に、炭素数1〜10の置換もしくは無置
換の直鎖または分岐のアルキレン基、炭素数3〜6の置
換もしくは無置換の環状アルキレン基あるいは炭素数2
〜10のアルケニレン基と結合した−SO2−基が挙げ
られる。
In the formula, as the SO 2 group represented by G 1 ,
In addition to the SO 2 — group, a substituted or unsubstituted linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cyclic alkylene group having 3 to 6 carbon atoms, or a carbon atom having 2 carbon atoms
-SO 2 bound to an alkenylene group of 10 - group.

【0085】さらに、G1で表される2価の連結基とし
ては、2価の複素環基、または2価の複素環基とアルキ
レン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン
基、SO2基のいずれかとが結合した2価の基、または
これらの基の複素環部分がベンゾ縮合またはナフト縮合
されたもの(例えば、2,3−テトラゾールジイル、
1,3−トリアゾールジイル、1,2−イミダゾールジ
イル、3,5−オキサジアゾールジイル、2,4−チア
ゾールジル、1,5−ベンゾイミダゾールジイル、2,
5−ベンゾチアゾールジイル、2,5−ベンゾオキサゾ
ールジイル、2,5−ピリミジンジイル、3−フェニル
−2,5−テトラゾールジイル、2,5−ピリジンジイ
ル、2,4−フランジイル、1,3−ピペリジンジイ
ル、2,4−モルホリンジイル)が挙げられる。
Further, as the divalent linking group represented by G 1 , a divalent heterocyclic group, or a divalent heterocyclic group and an alkylene group, alkenylene group, alkynylene group, arylene group or SO 2 group A divalent group bonded to any of them, or a group obtained by subjecting a heterocyclic portion of these groups to benzo- or naphtho-condensation (for example, 2,3-tetrazolediyl,
1,3-triazoldiyl, 1,2-imidazolediyl, 3,5-oxadiazolediyl, 2,4-thiazoledyl, 1,5-benzimidazolediyl, 2,
5-benzothiazoldiyl, 2,5-benzoxazoldiyl, 2,5-pyrimidinediyl, 3-phenyl-2,5-tetrazolediyl, 2,5-pyridinediyl, 2,4-furandyl, 1,3- Piperidinediyl, 2,4-morpholinediyl).

【0086】上記式中、G1には可能な限り置換基を有
していてもよい。置換基を以下に示すが、これら置換基
をここでは置換基Yと称する。
In the above formula, G 1 may have a substituent as much as possible. The substituents are shown below, and these substituents are referred to herein as substituents Y.

【0087】置換基としては例えばハロゲン原子(例え
ばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、アルキル基
(例えばメチル、エチル、イソプロピル、n−プロピ
ル、t−ブチル)、アルケニル基(例えばアリル、2−
ブテニル)、アルキニル基(例えばプロパルギル)、ア
ラルキル基(例えばベンジル)、アリール基(例えばフ
ェニル、ナフチル、4−メチルフェニル)、複素環基
(例えばピリジル、フリル、イミダゾリル、ピペリジニ
ル、モルホリル)、アルコキシ基(例えばメトキシ、エ
トキシ、ブトキシ、2−エチルヘキシルオキシ、エトキ
シエトキシ、メトキシエトキシ)、アリールオキシ基
(例えばフェノキシ、2−ナフチルオキシ)、アミノ基
(例えば無置換アミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
ノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、エチルアミ
ノ、アニリノ)、アシルアミノ基(例えばアセチルアミ
ノ、ベンゾイルアミノ)、ウレイド基(例えば無置換ウ
レイド、N−メチルウレイド)、ウレタン基(例えばメ
トキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミ
ノ)、スルフォニルアミノ基(例えばメチルスルフォニ
ルアミノ、フェニルスルフォニルアミノ)、スルファモ
イル基(例えば無置換スルファモイル、N,N−ジメチ
ルスルファモイル、N−フェニルスルファモイル)、カ
ルバモイル基(例えば無置換カルバモイル、N,N−ジ
エチルカルバモイル,N−フェニルカルバモイル)、ス
ルホニル基(例えばメシル、トシル)、スルフィニル基
(例えばメチルスルフィニル、フェニルスルフィニ
ル)、アルキルオキシカルボニル基(例えばメトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル)、アリールオキシカル
ボニル基(例えばフェノキシカルボニル)、アシル基
(例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイ
ル)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ、ベンゾイル
オキシ)、リン酸アミド基(例えばN,N−ジエチルリ
ン酸アミド)、シアノ基、スルホ基、チオスルホン酸
基、スルフィン酸基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、ホ
スホノ基、ニトロ基、アンモニオ基、ホスホニオ基、ヒ
ドラジノ基、チアゾリノ基が挙げられる。また、置換基
が2つ以上ある時は同じでも異なっていてもよく、置換
基はさらに置換基を有していてもよい。
Examples of the substituent include a halogen atom (eg, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, methyl, ethyl, isopropyl, n-propyl, t-butyl) and an alkenyl group (eg, allyl, 2-
Butenyl), alkynyl group (eg, propargyl), aralkyl group (eg, benzyl), aryl group (eg, phenyl, naphthyl, 4-methylphenyl), heterocyclic group (eg, pyridyl, furyl, imidazolyl, piperidinyl, morpholyl), alkoxy group ( For example, methoxy, ethoxy, butoxy, 2-ethylhexyloxy, ethoxyethoxy, methoxyethoxy), an aryloxy group (eg, phenoxy, 2-naphthyloxy), an amino group (eg, unsubstituted amino, dimethylamino, diethylamino, dipropylamino, dibutyl) Amino, ethylamino, anilino), acylamino group (eg, acetylamino, benzoylamino), ureido group (eg, unsubstituted ureido, N-methylureido), urethane group (eg, methoxycarbonylamino) Phenoxycarbonylamino), a sulfonylamino group (eg, methylsulfonylamino, phenylsulfonylamino), a sulfamoyl group (eg, unsubstituted sulfamoyl, N, N-dimethylsulfamoyl, N-phenylsulfamoyl), a carbamoyl group (eg, unsubstituted) Carbamoyl, N, N-diethylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl), sulfonyl group (eg, mesyl, tosyl), sulfinyl group (eg, methylsulfinyl, phenylsulfinyl), alkyloxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), aryloxy Carbonyl groups (eg, phenoxycarbonyl), acyl groups (eg, acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl), acyloxy groups (eg, acetoxy, benzoy) Oxy), phosphoric acid amide group (for example, N, N-diethylphosphoric acid amide), cyano group, sulfo group, thiosulfonic acid group, sulfinic acid group, carboxy group, hydroxy group, phosphono group, nitro group, ammonium group, phosphonio group , A hydrazino group and a thiazolino group. When there are two or more substituents, they may be the same or different, and the substituent may further have a substituent.

【0088】一般式(X−1)の好ましい例を示す。好
ましい一般式(X−1)としては、G1は炭素数6〜1
0の置換もしくは無置換のアリーレン基、置換もしくは
無置換のアルキレン基またはアリーレン基と結合され
た、もしくはベンゾ縮合またはナフト縮合された5〜7
員環を形成する複素環基が挙げられる。Z1としては
S、Seが挙げられ、R1としては、水素原子、ナトリ
ウムイオン、カリウムイオンが挙げられる。
Preferred examples of the formula (X-1) are shown below. As a preferable general formula (X-1), G 1 has 6 to 1 carbon atoms.
5-7 substituted or unsubstituted arylene group, substituted or unsubstituted alkylene group or arylene group, or benzo- or naphtho-condensed
And a heterocyclic group forming a membered ring. Examples of Z 1 include S and Se, and examples of R 1 include a hydrogen atom, a sodium ion, and a potassium ion.

【0089】さらに好ましくは、G1は、炭素数6〜8
の置換もしくは無置換のアリーレン基と結合された、ま
たはベンゾ縮合された5〜6員環を形成する複素環基で
あり、最も好ましくは、アリーレン基と結合された、も
しくはベンゾ縮合された5〜6員環を形成する複素環基
である。さらに好ましいZ1はSであり、R1は、水素原
子、ナトリウムイオンである。
More preferably, G 1 has 6 to 8 carbon atoms.
Is a heterocyclic group bonded to a substituted or unsubstituted arylene group or forms a 5- or 6-membered benzo-fused ring, and most preferably a 5- or 5-benzo-fused heterocyclic group bonded to an arylene group. It is a heterocyclic group forming a 6-membered ring. More preferred Z 1 is S, and R 1 is a hydrogen atom or a sodium ion.

【0090】一般式(X−2a)および(X−2b)に
ついて詳細に説明する。式中、R2で表されるアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基としては、炭素数1〜
10の置換もしくは無置換の直鎖または分岐のアルキル
基(例えばメチル、エチル、イソプロピル、n−プロピ
ル、n−ブチル、t−ブチル、2−ペンチル、n−ヘキ
シル、n−オクチル、t−オクチル、2−エチルヘキシ
ル、2−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシエチル、ジ
エチルアミノエチル、n−ブトキシプロピル、メトキシ
メチル)、炭素数3〜6の置換もしくは無置換の環状ア
ルキル基(例えばシクロプロピル、シクロペンチル、シ
クロヘキシル)、炭素数2〜10のアルケニル基(例え
ばアリル、2−ブテニル、3−ペンテニル)、炭素数2
〜10のアルキニル基(例えばプロパルギル、3−ペン
チニル)、炭素数6〜12のアラルキル基(例えばベン
ジル)等が挙げられる。アリール基としては、炭素数6
〜12の置換もしくは無置換のアリール基(例えば無置
換フェニル、4−メチルフェニル)等が挙げられる。上
記R2はさらに置換基Y等を有してもよい。
The general formulas (X-2a) and (X-2b) will be described in detail. In the formula, the alkyl group, alkenyl group, and alkynyl group represented by R 2 have 1 to 1 carbon atoms.
10 substituted or unsubstituted linear or branched alkyl groups (e.g., methyl, ethyl, isopropyl, n-propyl, n-butyl, t-butyl, 2-pentyl, n-hexyl, n-octyl, t-octyl, 2-ethylhexyl, 2-hydroxyethyl, 1-hydroxyethyl, diethylaminoethyl, n-butoxypropyl, methoxymethyl), a substituted or unsubstituted cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms (eg, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl), An alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms (e.g., allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl);
And alkynyl groups (e.g., propargyl and 3-pentynyl), aralkyl groups having 6 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl), and the like. The aryl group has 6 carbon atoms.
To 12 substituted or unsubstituted aryl groups (for example, unsubstituted phenyl and 4-methylphenyl). R 2 may further have a substituent Y or the like.

【0091】一般式(X−2a)および(X−2b)の
好ましい例を示す。式中、好ましくはR2が水素原子、
炭素数1〜6の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素
数6〜10の置換もしくは無置換のアリール基であり、
aはO、NまたはSであり、n1が1〜3の整数であ
る。
Preferred examples of formulas (X-2a) and (X-2b) are shown below. In the formula, preferably, R 2 is a hydrogen atom,
A substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms,
Z a is O, N or S, n 1 is an integer of 1 to 3.

【0092】さらに好ましくは、R2が水素原子および
炭素数1〜4のアルキル基であり、ZaはNまたはSで
あり、n1が2もしくは3である。
[0092] More preferably, R 2 is a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Z a is N or S, n 1 is 2 or 3.

【0093】次に一般式(X−3)について詳細に説明
する。式中、R3で表される連結基としては、それぞれ
炭素数1〜20の置換もしくは無置換の直鎖または分岐
のアルキレン基(例えばメチレン、エチレン、トリメチ
レン、イソプロピレン、テトラメチレン、ヘキサメチレ
ン、3−オキサペンチレン、2−ヒドロキシトリメチレ
ン)、炭素数3〜18の置換もしくは無置換の環状アル
キレン基(例えばシクロプロピレン、シクロペンチニレ
ン、シクロへキシレン)、炭素数2〜20の置換もしく
は無置換のアルケニレン基(例えばエテン、2−ブテニ
レン)、炭素数2〜10のアルキニレン基(例えばエチ
ン)、炭素数6〜20の置換もしくは無置換のアリーレ
ン基(例えば無置換p−フェニレン、無置換2,5−ナ
フチレン)が挙げられ、複素環基としては、置換もしく
は無置換の複素環基、およびアルキレン基、アルケニレ
ン基、アリーレン基、又はさらに複素環基が結合された
もの(例えば2,5−ピリジンジイル、3−フェニル−
2,5−ピリジンジイル、1,3−ピペリジンジイル、
2,4−モルホリンジイル)が挙げられる。
Next, the formula (X-3) will be described in detail. In the formula, as the linking group represented by R 3 , a substituted or unsubstituted linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms (eg, methylene, ethylene, trimethylene, isopropylene, tetramethylene, hexamethylene, 3-oxapentylene, 2-hydroxytrimethylene), a substituted or unsubstituted cyclic alkylene group having 3 to 18 carbon atoms (e.g., cyclopropylene, cyclopentynylene, cyclohexylene), substituted or unsubstituted having 2 to 20 carbon atoms Substituted alkenylene groups (eg, ethene, 2-butenylene), alkynylene groups having 2 to 10 carbon atoms (eg, ethyne), substituted or unsubstituted arylene groups having 6 to 20 carbon atoms (eg, unsubstituted p-phenylene, unsubstituted 2) , 5-naphthylene), and examples of the heterocyclic group include a substituted or unsubstituted heterocyclic group and Fine alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, or even those heterocyclic groups are attached (e.g., 2,5-pyridinediyl, 3-phenyl -
2,5-pyridinediyl, 1,3-piperidindiyl,
2,4-morpholinediyl).

【0094】式中、R4で表されるアルキル基として
は、炭素数1〜10の置換もしくは無置換の直鎖、また
は分岐のアルキル基(例えばメチル、エチル、イソプロ
ピル、n−プロピル、n−ブチル、t−ブチル、2−ペ
ンチル、n−ヘキシル、n−オクチル、t−オクチル、
2−エチルヘキシル、2−ヒドロキシエチル、1−ヒド
ロキシエチル、ジエチルアミノエチル、ジブチルアミノ
エチル、n−ブトキシメチル、メトキシメチル)、炭素
数3〜6の置換もしくは無置換の環状アルキル基(例え
ばシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル)
が挙げられ、アリール基としては、炭素数6〜12の置
換もしくは無置換のアリール基(例えば無置換フェニ
ル、2−メチルフェニル)が挙げられる。
In the formula, as the alkyl group represented by R 4 , a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (eg, methyl, ethyl, isopropyl, n-propyl, n- Butyl, t-butyl, 2-pentyl, n-hexyl, n-octyl, t-octyl,
2-ethylhexyl, 2-hydroxyethyl, 1-hydroxyethyl, diethylaminoethyl, dibutylaminoethyl, n-butoxymethyl, methoxymethyl), a substituted or unsubstituted cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms (eg, cyclopropyl, cyclopentyl) , Cyclohexyl)
And examples of the aryl group include a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (eg, unsubstituted phenyl and 2-methylphenyl).

【0095】複素環基としては、無置換もしくはアルキ
ル基、アルケニル基、アリール基、又は、さらに複素環
基が置換されたもの(例えばピリジル、3−フェニルピ
リジル、ピペリジル、モルホリル)が挙げられる。上記
4はさらに置換基Y等を有してもよい。
Examples of the heterocyclic group include unsubstituted or alkyl, alkenyl, and aryl groups, or those further substituted with a heterocyclic group (eg, pyridyl, 3-phenylpyridyl, piperidyl, morpholyl). R 4 may further have a substituent Y or the like.

【0096】一般式(X−3)の好ましい例を示す。式
中、好ましくはR3は炭素数1〜6の置換もしくは無置
換のアルキレン基、または炭素数6〜10の置換もしく
は無置換のアリーレン基であり、R4は炭素数1〜6の
置換もしくは無置換のアルキル基、または炭素数6〜1
0の置換もしくは無置換のアリール基であり、Z2はS
またはSeであり、n2は1〜2である。
Preferred examples of the formula (X-3) are shown below. In the formula, preferably, R 3 is a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 10 carbon atoms, and R 4 is a substituted or unsubstituted arylene group having 1 to 6 carbon atoms. An unsubstituted alkyl group or 6-1 carbon atoms
0 is a substituted or unsubstituted aryl group, and Z 2 is S
Or Se, and n 2 is 1-2.

【0097】さらに好ましくは、R3は炭素数1〜4の
アルキレン基であり、R4は炭素数1〜4のアルキル基
であり、Z2はSであり、n2は1である。
More preferably, R 3 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, R 4 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Z 2 is S, and n 2 is 1.

【0098】次に一般式(X−4)について詳細に説明
する。式中、R5およびR6で表されるアルキル基、アル
ケニル基としては、炭素数1〜10の置換もしくは無置
換の直鎖、または分岐のアルキル基(例えばメチル、エ
チル、イソプロピル、n−プロピル、n−ブチル、t−
ブチル、2−ペンチル、n−ヘキシル、n−オクチル、
t−オクチル、2−エチルヘキシル、ヒドロキシメチ
ル、2−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシエチル、ジ
エチルアミノエチル、ジブチルアミノエチル、n−ブト
キシメチル、n−ブトキシプロピル、メトキシメチ
ル)、炭素数3〜6の置換もしくは無置換の環状アルキ
ル基(例えばシクロプロピル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル)、炭素数2〜10のアルケニル基(例えばア
リル、2−ブテニル、3−ペンテニル)が挙げられる。
アリール基としては、炭素数6〜12の置換もしくは無
置換のアリール基(例えば無置換フェニル、4−メチル
フェニル)が挙げられ、複素環基としては無置換もしく
はアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、又は
さらに複素環基が置換されたもの(例えばピリジル、3
−フェニルピリジル、フリル、ピペリジル、モルホリ
ル)が挙げられる。上記式中、R5およびR6にはさらに
置換基Y等を有していてもよい。
Next, the formula (X-4) will be described in detail. In the formula, as the alkyl group or alkenyl group represented by R 5 and R 6 , a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (eg, methyl, ethyl, isopropyl, n-propyl) , N-butyl, t-
Butyl, 2-pentyl, n-hexyl, n-octyl,
t-octyl, 2-ethylhexyl, hydroxymethyl, 2-hydroxyethyl, 1-hydroxyethyl, diethylaminoethyl, dibutylaminoethyl, n-butoxymethyl, n-butoxypropyl, methoxymethyl), substitution of 3 to 6 carbon atoms or Examples include an unsubstituted cyclic alkyl group (eg, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl) and an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms (eg, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl).
Examples of the aryl group include a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (eg, unsubstituted phenyl and 4-methylphenyl). Examples of the heterocyclic group include an unsubstituted or alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, Or those further substituted with a heterocyclic group (eg, pyridyl, 3
-Phenylpyridyl, furyl, piperidyl, morpholyl). In the above formula, R 5 and R 6 may further have a substituent Y or the like.

【0099】一般式(X−4)の好ましい例を示す。式
中、好ましくはR5およびR6が炭素数1〜6の置換もし
くは無置換のアルキル基、または炭素数6〜10の置換
もしくは無置換のアリール基である。さらに好ましくは
5およびR6が、炭素数6〜8のアリール基である。
Preferred examples of the formula (X-4) are shown below. In the formula, preferably, R 5 and R 6 are a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms. More preferably, R 5 and R 6 are an aryl group having 6 to 8 carbon atoms.

【0100】次に一般式(X−5a)および(X−5
b)について詳細に説明する。式中、E1で表される基
としてはNH2、NHCH3、NHC25、NHPh、N
(CH32、N(Ph)2、NHNHC37、NHNH
Ph、OC49、OPh、SCH 3、等が挙げられ、E2
としては、NH、NCH3、NC25、NPh、NHN
37、NHNPh等が挙げられる(ここで、Ph=フ
ェニル基(以下、同じ。))。
Next, general formulas (X-5a) and (X-5)
b) will be described in detail. Where E1Group represented by
As NHTwo, NHCHThree, NHCTwoHFive, NHPh, N
(CHThree)Two, N (Ph)Two, NHNHCThreeH7, NHNH
Ph, OCFourH9, OPh, SCH Three, Etc., and ETwo
As NH, NCHThree, NCTwoHFive, NPh, NHN
CThreeH7, NHNPh, etc. (where Ph = f
Phenyl group (hereinafter the same).

【0101】一般式(X−5a)および(X−5b)
中、R7、R8およびR9で表されるアルキル基、アルケ
ニル基としては、炭素数1〜10の置換もしくは無置換
の直鎖または、分岐のアルキル基(例えば、メチル、エ
チル、イソプロピル、n−プロピル、n−ブチル、t−
ブチル、2−ペンチル、n−ヘキシル、n−オクチル、
t−オクチル、2−エチルヘキシル、ヒドロキシメチ
ル、2−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシエチル、ジ
エチルアミノエチル、ジブチルアミノエチル、n−ブト
キシメチル、n−ブトキシプロピル、メトキシメチ
ル)、炭素数3〜6の置換もしくは無置換の環状アルキ
ル基(例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シク
ロヘキシル)、炭素数2〜10のアルケニル基(例え
ば、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニル)が挙げら
れる。アリール基としては、炭素数6〜12の置換もし
くは無置換のアリール基(例えば、無置換フェニル、4
−メチルフェニル)が挙げら、複素環基としては無置換
もしくはアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン
基、又はさらに複素環基が置換されたもの、(例えば、
ピリジル、3−フェニルピリジル、フリル、ピペリジ
ル、モルホリル)が挙げられる。R7、R8およびR9
さらに置換基Y等を有していてもよい。
Formulas (X-5a) and (X-5b)
Wherein the alkyl group and alkenyl group represented by R 7 , R 8 and R 9 include a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example, methyl, ethyl, isopropyl, n-propyl, n-butyl, t-
Butyl, 2-pentyl, n-hexyl, n-octyl,
t-octyl, 2-ethylhexyl, hydroxymethyl, 2-hydroxyethyl, 1-hydroxyethyl, diethylaminoethyl, dibutylaminoethyl, n-butoxymethyl, n-butoxypropyl, methoxymethyl), substitution of 3 to 6 carbon atoms or Examples include an unsubstituted cyclic alkyl group (for example, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl) and an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms (for example, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl). As the aryl group, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (for example, unsubstituted phenyl,
-Methylphenyl), and examples of the heterocyclic group include an unsubstituted or alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, or a group further substituted with a heterocyclic group (for example,
Pyridyl, 3-phenylpyridyl, furyl, piperidyl, morpholyl). R 7 , R 8 and R 9 may further have a substituent Y or the like.

【0102】一般式(X−5a)および(X−5b)の
好ましい例を示す。式中、好ましくはE1はアルキル置
換もしくは無置換のアミノ基またはアルコキシ基であ
り、E2はアルキル置換もしくは無置換のアミノ連結基
であり、R7、R8およびR9は炭素数1〜6の置換もし
くは無置換のアルキル基、または炭素数6〜10の置換
もしくは無置換のアリール基であり、Z3はSまたはS
eである。
Preferred examples of formulas (X-5a) and (X-5b) are shown below. In the formula, preferably, E 1 is an alkyl-substituted or unsubstituted amino group or an alkoxy group, E 2 is an alkyl-substituted or unsubstituted amino linking group, and R 7 , R 8 and R 9 each have 1 to 1 carbon atoms. 6 is a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and Z 3 is S or S
e.

【0103】さらに好ましくは、E1はアルキル置換も
しくは無置換のアミノ基であり、E2はアルキル置換も
しくは無置換のアミノ連結基であり、R7、R8およびR
9は炭素数1〜4の置換もしくは無置換のアルキル基で
あり、Z3はSである。
[0103] More preferably, E 1 is an alkyl substituted or unsubstituted amino group, E 2 is an amino linking group of the alkyl substituted or unsubstituted, R 7, R 8 and R
9 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and Z 3 is S.

【0104】次に一般式(X−6a)および(X−6
b)について詳細に説明する。式中、G2及びJで表さ
れる基としてはCOOCH3、COOC37、COOC 6
13、COOPh、SO2CH3、SO249、COC2
5、COPh、SOCH3、SOPh、CN、CHO、
NO2等が挙げられる。
Next, formulas (X-6a) and (X-6)
b) will be described in detail. Where GTwoAnd represented by J
COOCHThree, COOCThreeH7, COOC 6
H13, COOPh, SOTwoCHThree, SOTwoCFourH9, COCTwo
HFive, COPh, SOCHThree, SOPh, CN, CHO,
NOTwoAnd the like.

【0105】式中、R11で表される連結基としては、そ
れぞれ炭素数1〜20の置換もしくは無置換の直鎖また
は分岐のアルキレン基(例えばメチレン、エチレン、ト
リメチレン、プロピレン、テトラメチレン、ヘキサメチ
レン、3−オキサペンチレン、2−ヒドロキシトリメチ
レン)、炭素数3〜18の置換もしくは無置換の環状ア
ルキレン基(例えばシクロプロピレン、シクロペンチレ
ン、シクロへキシレン)、炭素数2〜20の置換もしく
は無置換のアルケニレン基(例えばエテン、2−ブテニ
レン)、炭素数2〜10のアルキニレン基(例えばエチ
ン)、炭素数6〜20の置換もしくは無置換のアリーレ
ン基(例えば無置換p−フェニレン、無置換2,5−ナ
フチレン)が挙げられる。
In the formula, the linking group represented by R 11 is a substituted or unsubstituted linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms (for example, methylene, ethylene, trimethylene, propylene, tetramethylene, hexamethylene). Methylene, 3-oxapentylene, 2-hydroxytrimethylene), a substituted or unsubstituted cyclic alkylene group having 3 to 18 carbon atoms (eg, cyclopropylene, cyclopentylene, cyclohexylene), substituted with 2 to 20 carbon atoms Alternatively, an unsubstituted alkenylene group (eg, ethene, 2-butenylene), an alkynylene group having 2 to 10 carbon atoms (eg, ethyne), a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 20 carbon atoms (eg, unsubstituted p-phenylene, Substituted 2,5-naphthylene).

【0106】さらに、R11で表される2価の連結基とし
ては、2価の複素環基、又は2価の複素環基とアルキレ
ン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン
基、SO2基のいずれかとが結合した2価の基(例えば
2,5−ピリジンジイル、3−フェニル−2,5−ピリ
ジンジイル、2,4−フランジイル、1,3−ピペリジ
ンジイル、2,4−モルホリンジイル)が挙げられる。
式中、R11はさらに置換基Y等を有していてもよい。
Further, as the divalent linking group represented by R 11 , a divalent heterocyclic group, or a divalent heterocyclic group and an alkylene group, alkenylene group, alkynylene group, arylene group or SO 2 group A divalent group bonded to any of them (eg, 2,5-pyridinediyl, 3-phenyl-2,5-pyridinediyl, 2,4-furandiyl, 1,3-piperidindiyl, 2,4-morpholinediyl) Is mentioned.
In the formula, R 11 may further have a substituent Y or the like.

【0107】一般式(X−6a)および(X−6b)の
好ましい例を示す。式中、好ましくはG2およびJが炭
素数2〜6のカルボン酸エステル類又はカルボニル類で
あり、R11が炭素数1〜6の置換もしくは無置換のアル
キレン基または炭素数6〜10の置換もしくは無置換の
アリーレン基である。
Preferred examples of formulas (X-6a) and (X-6b) are shown below. In the formula, preferably, G 2 and J are carboxylic acid esters or carbonyls having 2 to 6 carbon atoms, and R 11 is a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 6 carbon atoms or substituted with 6 to 10 carbon atoms. Alternatively, it is an unsubstituted arylene group.

【0108】さらに好ましくは、G2およびJが炭素数
2〜4のカルボン酸エステル類であり、R11が炭素数1
〜4の置換もしくは無置換のアルキレン基または炭素数
6〜8の置換もしくは無置換のアリーレン基である。
More preferably, G 2 and J are carboxylic acid esters having 2 to 4 carbon atoms, and R 11 is a carboxylic acid ester having 1 carbon atom.
A substituted or unsubstituted alkylene group having 4 to 4 carbon atoms or a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 8 carbon atoms.

【0109】Xで表されるハロゲン化銀吸着基の好まし
い一般式の序列は(X−1)>(X−2a)>(X−2
b)>(X−3)>(X−5a)>(X−5b)>(X
−4)>(X−6a)>(X−6b)である。
The preferred general formula of the silver halide adsorbing group represented by X is (X-1)>(X-2a)> (X-2
b)>(X-3)>(X-5a)>(X-5b)> (X
-4)>(X-6a)> (X-6b).

【0110】次に、一般式(I)中、Xで表される光吸収
基について詳細に説明する。一般式(I)中、Xで表され
る光吸収基としては以下が挙げられる。 一般式(X−7)
Next, the light absorbing group represented by X in the general formula (I) will be described in detail. In the general formula (I), examples of the light absorbing group represented by X include the following. General formula (X-7)

【化6】 Embedded image

【0111】式中、Z4は5または6員の含窒素複素環
を形成するために必要な原子群を表し、L2、L3、L4
およびL5はメチン基を表す。p1は0または1を表し、
3は0〜3の整数を表す。M1は電荷均衡対イオンを表
し、m2は分子の電荷を中和するために必要な0〜10
の整数を表す。Z4が形成する含窒素複素環には、ベン
ゼン環のような不飽和炭素環が縮合していてもよい。
In the formula, Z 4 represents an atom group necessary for forming a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring, and L 2 , L 3 , L 4
And L 5 represents a methine group. p 1 represents 0 or 1,
n 3 represents an integer of 0 to 3. M 1 represents a charge-balancing counter ion, and m 2 represents 0 to 10 required to neutralize the molecular charge.
Represents an integer. An unsaturated carbocycle such as a benzene ring may be condensed with the nitrogen-containing heterocyclic ring formed by Z 4 .

【0112】式中、Z4で表される5または6員の含窒
素複素環としては、チアゾリジン核、チアゾール核、ベ
ンゾチアゾール核、オキサゾリン核、オキサゾール核、
ベンゾオキサゾール核、セレナゾリン核、セレナゾール
核、ベンゾセレナゾール核、3,3−ジアルキルインド
レニン核(例えば、3,3−ジメチルインドレニン)、
イミダゾリン核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール
核、2−ピリジン核、4−ピリジン核、2−キノリン
核、4−キノリン核、1−イソキノリン核、3−イソキ
ノリン核、イミダゾ〔4,5−b〕キノキザリン核、オ
キサジアゾール核、チアジアゾール核、テトラゾール
核、ピリミジン核等が挙げられる。Z4で表される5ま
たは6員の含窒素複素環は前述の置換基Yを有していて
もよい。
In the formula, the 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring represented by Z 4 includes a thiazolidine nucleus, a thiazole nucleus, a benzothiazole nucleus, an oxazoline nucleus, an oxazole nucleus,
Benzoxazole nucleus, selenazoline nucleus, selenazole nucleus, benzoselenazole nucleus, 3,3-dialkylindolenine nucleus (for example, 3,3-dimethylindolenine),
Imidazoline nucleus, imidazole nucleus, benzimidazole nucleus, 2-pyridine nucleus, 4-pyridine nucleus, 2-quinoline nucleus, 4-quinoline nucleus, 1-isoquinoline nucleus, 3-isoquinoline nucleus, imidazo [4,5-b] quinoxalin nucleus , Oxadiazole nucleus, thiadiazole nucleus, tetrazole nucleus, pyrimidine nucleus and the like. The 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring represented by Z 4 may have the substituent Y described above.

【0113】式中、L2、L3、L4およびL5はそれぞれ
独立したメチン基を表す。L2、L3、L4およびL5で表
されるメチン基は置換基を有していてもよく、置換基と
しては例えば、置換もしくは無置換の炭素数1〜15の
アルキル基(例えばメチル、エチル、2−カルボキシエ
チル)、置換もしくは無置換の炭素数6〜20のアリー
ル基(例えばフェニル、o−カルボキシフェニル)、置
換もしくは無置換の炭素数3〜20の複素環基(例えば
N,N−ジエチルバルビツール酸から水素原子1個を除
いて1価の基にしたもの)、ハロゲン原子(例えば塩
素、臭素、フッ素、沃素)、炭素数1〜15のアルコキ
シ基(例えばメトキシ、エトキシ)、炭素数1〜15の
アルキルチオ基(例えばメチルチオ、エチルチオ)、炭
素数6〜20のアリールチオ基(例えばフェニルチ
オ)、炭素数0〜15のアミノ基(例えばN,N−ジフ
ェニルアミノ、N−メチル−N−フェニルアミノ、N−
メチルピペラジノ)等が挙げられる。また、他のメチン
基と環を形成してもよい。あるいは、その他の部分と環
を形成することもできる。
In the formula, L 2 , L 3 , L 4 and L 5 each represent an independent methine group. The methine groups represented by L 2 , L 3 , L 4 and L 5 may have a substituent. Examples of the substituent include a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 15 carbon atoms (eg, methyl , Ethyl, 2-carboxyethyl), a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms (eg, phenyl, o-carboxyphenyl), and a substituted or unsubstituted heterocyclic group having 3 to 20 carbon atoms (eg, N, A monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from N-diethylbarbituric acid), a halogen atom (eg, chlorine, bromine, fluorine, iodine), an alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms (eg, methoxy, ethoxy) An alkylthio group having 1 to 15 carbon atoms (eg, methylthio, ethylthio), an arylthio group having 6 to 20 carbon atoms (eg, phenylthio), an amino group having 0 to 15 carbon atoms (eg, N, N -Diphenylamino, N-methyl-N-phenylamino, N-
Methylpiperazino) and the like. Further, a ring may be formed with another methine group. Alternatively, a ring can be formed with other parts.

【0114】式中、M1は光吸収基のイオン電荷を中性
にするために必要であるとき、陽イオン叉は陰イオンの
存在を示すために式の中に含まれている。典型的な陽イ
オンとしては水素イオン(H)、アルカリ金属イオン
(例えば、ナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウ
ムイオン)等の無機陽イオン、アンモニウムイオン(例
えば、アンモニウムイオン、テトラアルキルアンモニウ
ムイオン、ピリジニウムイオン、エチルピリジニウムイ
オン)等の有機陽イオンが挙げられる。陰イオンも無機
陰イオンあるいは有機陰イオンのいずれであってもよ
く、ハロゲン陰イオン(例えば、フッ素イオン、塩素イ
オン、沃素イオン)、置換アリールスルホン酸イオン
(例えば、p−トルエンスルホン酸イオン、p−クロロ
ベンゼンスルホン酸イオン)、アリールジスルホン酸イ
オン(例えば、1,3−ベンゼンジスルホン酸イオン、
1,5−ナフタレンジスルホン酸イオン、2,6−ナフ
タレンジスルホン酸イオン)、アルキル硫酸イオン(例
えば、メチル硫酸イオン)、硫酸イオン、チオシアン酸
イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオ
ン、ピクリン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロメタ
ンスルホン酸イオンが挙げられる。さらに、イオン性ポ
リマーまたは逆電荷を有する光吸収基を用いてもよい。
In the formula, M 1 is included in the formula to indicate the presence of a cation or an anion when necessary to neutralize the ionic charge of the light absorbing group. Typical cations include inorganic ions such as hydrogen ion (H + ), alkali metal ions (eg, sodium ion, potassium ion, lithium ion), and ammonium ions (eg, ammonium ion, tetraalkylammonium ion, pyridinium ion). , Ethyl pyridinium ion). The anion may be either an inorganic anion or an organic anion, and may be a halogen anion (eg, a fluorine ion, a chloride ion, an iodine ion), a substituted arylsulfonate ion (eg, a p-toluenesulfonic acid ion, -Chlorobenzenesulfonate ion), aryldisulfonate ion (for example, 1,3-benzenedisulfonate ion,
1,5-naphthalenedisulfonic acid ion, 2,6-naphthalenedisulfonic acid ion), alkyl sulfate ion (for example, methyl sulfate ion), sulfate ion, thiocyanate ion, perchlorate ion, tetrafluoroborate ion, picric acid Ions, acetate ions, and trifluoromethanesulfonate ions. Further, an ionic polymer or a light absorbing group having a reverse charge may be used.

【0115】本発明では例えば、スルホ基をSO3 -、カ
ルボキシ基をCO2 -と表記しているが、対イオンが水素
イオンである時は各々SO3H、CO2Hと表記すること
ができる。式中、m2は電荷を均衡させるために必要な
数を表し、分子内で塩を形成する場合は0である。
In the present invention, for example, a sulfo group is represented by SO 3 and a carboxy group is represented by CO 2 . However, when a counter ion is a hydrogen ion, they may be represented by SO 3 H and CO 2 H, respectively. it can. In the formula, m 2 represents a number necessary to balance the charges, and is 0 when a salt is formed in the molecule.

【0116】一般式(X−7)の好ましい例を示す。好
ましい一般式(X−7)としては、Z4がベンゾオキサ
ゾール核、ベンゾチアゾール核、ベンゾイミダゾール核
またはキノリン核であり、L2、L3、L4およびL5が無
置換のメチン基であり、p1が0であり、n3が1もしく
は2である。
Preferred examples of the formula (X-7) are shown below. In a preferred general formula (X-7), Z 4 is a benzoxazole nucleus, a benzothiazole nucleus, a benzimidazole nucleus or a quinoline nucleus, and L 2 , L 3 , L 4 and L 5 are unsubstituted methine groups. , P 1 is 0, and n 3 is 1 or 2.

【0117】さらに好ましくは、Z4がベンゾオキサゾ
ール核、ベンゾチアゾール核であり、n3が1である。
特に好ましいZ4はベンゾチアゾール核である。
More preferably, Z 4 is a benzoxazole nucleus or benzothiazole nucleus, and n 3 is 1.
Particularly preferred Z 4 is a benzothiazole nucleus.

【0118】一般式(I)中、好ましいkは0もしくは1
であり、さらに好ましくは1である。
In the general formula (I), preferred k is 0 or 1.
And more preferably 1.

【0119】以下に本発明に用いられるX基の具体例を
挙げるが、本発明に用いられる化合物はこれに限定され
るものではない。
The specific examples of the X group used in the present invention are shown below, but the compounds used in the present invention are not limited to these.

【0120】[0120]

【化7】 Embedded image

【0121】[0121]

【化8】 Embedded image

【0122】[0122]

【化9】 Embedded image

【0123】[0123]

【化10】 Embedded image

【0124】[0124]

【化11】 Embedded image

【0125】[0125]

【化12】 Embedded image

【0126】次に一般式(I)中、Lで表される連結基に
ついて詳細に説明する。一般式(I)中、Lで表される連
結基としては、それぞれ炭素数1〜20の置換もしくは
無置換の直鎖または分岐のアルキレン基(例えば、メチ
レン、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメ
チレン、ヘキサメチレン、3−オキサペンチレン、2−
ヒドロキシトリメチレン)、炭素数3〜18の置換もし
くは無置換の環状アルキレン基(例えば、シクロプロピ
レン、シクロペンチレン、シクロへキシレン)、炭素数
2〜20の置換もしくは無置換のアルケニレン基(例え
ば、エテン、2−ブテニレン)、炭素数2〜10のアル
キニレン基(例えば、エチン)、炭素数6〜20の置換
もしくは無置換のアリーレン基(例えば、無置換p−フ
ェニレン、無置換2,5−ナフチレン)、複素環連結基
(例えば、2,6−ピリジンジイル)、カルボニル基、
チオカルボニル基、イミド基、スルホニル基、2価のス
ルホン酸基、エステル基、チオエステル基、2価のアミ
ド基、エーテル基、チオエーテル基、2価のアミノ基、
2価のウレイド基、2価のチオウレイド基、チオスルホ
ニル基、等が挙げられる。また、これらの連結基が、互
いに連結して新たに連結基を形成してもよい。mが2以
上の場合、複数個のLは同じでも異なっていてもよい。
Next, the linking group represented by L in formula (I) will be described in detail. In the general formula (I), examples of the linking group represented by L include a substituted or unsubstituted linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms (for example, methylene, ethylene, trimethylene, propylene, tetramethylene, Hexamethylene, 3-oxapentylene, 2-
Hydroxytrimethylene), a substituted or unsubstituted cyclic alkylene group having 3 to 18 carbon atoms (eg, cyclopropylene, cyclopentylene, cyclohexylene), a substituted or unsubstituted alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms (eg, Ethene, 2-butenylene), alkynylene group having 2 to 10 carbon atoms (eg, ethyne), substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 20 carbon atoms (eg, unsubstituted p-phenylene, unsubstituted 2,5-naphthylene) ), A heterocyclic linking group (eg, 2,6-pyridinediyl), a carbonyl group,
Thiocarbonyl group, imide group, sulfonyl group, divalent sulfonic acid group, ester group, thioester group, divalent amide group, ether group, thioether group, divalent amino group,
Examples thereof include a divalent ureido group, a divalent thioureido group, and a thiosulfonyl group. Further, these linking groups may be linked to each other to form a new linking group. When m is 2 or more, a plurality of Ls may be the same or different.

【0127】Lはさらに前述の置換基Y等を有していて
もよい。好ましい連結基Lとしては、炭素数1〜10の
無置換のアルキレン基とアミノ基、アミド基、チオエー
テル基、ウレイド基またはスルホニル基と連結した炭素
数1〜10のアルキレン基が挙げられ、さらに好ましく
は炭素数1〜6の無置換のアルキレン基とアミノ基、ア
ミド基またはチオエーテル基と連結した炭素数1〜6の
アルキレン基が挙げられる。
L may further have the aforementioned substituent Y or the like. Preferred examples of the linking group L include an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms linked to an unsubstituted alkylene group having 1 to 10 carbon atoms and an amino group, an amide group, a thioether group, a ureido group or a sulfonyl group. Is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms linked to an unsubstituted alkylene group having 1 to 6 carbon atoms and an amino group, an amide group or a thioether group.

【0128】一般式(I)中、好ましいmは0もしくは1
であり、さらに好ましくは1である。
In the general formula (I), preferred m is 0 or 1.
And more preferably 1.

【0129】次に電子供与基Aについて詳細に説明す
る。A−B部が酸化及びフラグメント化を受けて電子を
発生してラジカルAが生成し、さらにラジカルA
酸化を受けて電子を発生させ、高感度化する反応過程を
以下に示す。
Next, the electron donating group A will be described in detail. And generating electrons radical A · is generated A-B portion undergoes oxidation and fragmentation to generate electrons more radical A · is subjected to oxidation, the following reaction process of high sensitivity.

【0130】[0130]

【化13】 Embedded image

【0131】Aは電子供与基であるので、いずれの構造
のものでも芳香基上の置換基はAが電子過多である状態
にするように選定するのが好ましい。例えば、芳香環が
電子過多でない場合は、電子供与性基を導入し、逆にア
ントラセンのように非常に電子過多となっているような
場合は、電子吸引性基を導入してそれぞれ酸化電位を調
節するのが好ましい。
Since A is an electron donating group, the substituent on the aromatic group in any structure is preferably selected so that A has an excess of electrons. For example, when the aromatic ring is not excessive in electrons, an electron-donating group is introduced. Conversely, when the electron concentration is extremely large as in anthracene, an electron-withdrawing group is introduced to increase the oxidation potential. Adjustment is preferred.

【0132】好ましい、A基は次の一般式を有するもの
である。 一般式(A−1)、(A−2)、(A−3)
Preferred A groups are those having the following general formula: General formulas (A-1), (A-2), (A-3)

【化14】 Embedded image

【0133】一般式(A−1)および(A−2)中、R
12およびR13はそれぞれ独立して水素原子、置換もしく
は無置換のアルキル基、アリール基、アルキレン基又は
アリーレン基を表し、R14はアルキル基、COOH、ハ
ロゲン、N(R152、OR1 5、SR15、CHO、CO
15、COOR15、CONHR15、CON(R152
SO315、SO2NHR15、SO2NR15、SO215
SOR15、CSR15を表す。Ar1はアリーレン基、複
素環連結基を表す。R12とR13およびR12とAr1は結
合して環を形成していてもよい。Q2はO、S、Se又
はTeを表し、m3およびm4は0もしくは1を表し、n
4は1〜3の整数を表す。L2はN−R(ここで、Rは、
置換もしくは無置換のアルキル基を表す。)、N−A
r、O、S、Seを表す。R12とR13、R12とAr1
それぞれ結合して形成する環状形態は、5〜7員の複素
環基もしくは不飽和環を表す。R15は水素原子、アルキ
ル基又はアリール基を表す。一般式(A−3)の環状形
態は、置換もしくは無置換の5〜7員環の不飽和環また
は複素環基を表す。
In the general formulas (A-1) and (A-2), R
12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, an aryl group, an alkylene group or an arylene group, and R 14 represents an alkyl group, COOH, halogen, N (R 15 ) 2 , OR 1 5, SR 15, CHO, CO
R 15 , COOR 15 , CONHR 15 , CON (R 15 ) 2 ,
SO 3 R 15 , SO 2 NHR 15 , SO 2 NR 15 , SO 2 R 15 ,
Represents SOR 15 and CSR 15 . Ar 1 represents an arylene group or a heterocyclic linking group. R 12 and R 13, or R 12 and Ar 1 may combine to form a ring. Q 2 represents O, S, Se or Te; m 3 and m 4 represent 0 or 1;
4 represents an integer of 1 to 3. L 2 is N—R (where R is
Represents a substituted or unsubstituted alkyl group. ), NA
represents r, O, S, Se. The cyclic form formed by the bonding of R 12 and R 13 and the bonding of R 12 and Ar 1 each represents a 5- to 7-membered heterocyclic group or unsaturated ring. R 15 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. The cyclic form of formula (A-3) represents a substituted or unsubstituted 5- to 7-membered unsaturated ring or heterocyclic group.

【0134】一般式(A−1)、(A−2)および(A
−3)について詳細に説明する。式中、R12およびR13
で表されるアルキル基としては、炭素数1〜10の置換
もしくは無置換の直鎖、または分岐のアルキル基(例え
ばメチル、エチル、イソプロピル、n−プロピル、n−
ブチル、t−ブチル、2−ペンチル、n−ヘキシル、n
−オクチル、t−オクチル、2−エチルヘキシル、2−
ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシエチル、ジエチルア
ミノエチル、ジブチルアミノエチル、n−ブトキシメチ
ル、メトキシメチル)、炭素数3〜6の置換もしくは無
置換の環状アルキル基(例えばシクロプロピル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル)が挙げられ、アリール基と
しては、炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリー
ル基(例えば無置換フェニル、2−メチルフェニル)が
挙げられる。
Formulas (A-1), (A-2) and (A
-3) will be described in detail. Wherein R 12 and R 13
The substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (e.g., methyl, ethyl, isopropyl, n-propyl, n-
Butyl, t-butyl, 2-pentyl, n-hexyl, n
-Octyl, t-octyl, 2-ethylhexyl, 2-
Hydroxyethyl, 1-hydroxyethyl, diethylaminoethyl, dibutylaminoethyl, n-butoxymethyl, methoxymethyl), and a substituted or unsubstituted cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms (eg, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl). Examples of the aryl group include a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (for example, unsubstituted phenyl and 2-methylphenyl).

【0135】アルキレン基としては、炭素数1〜10の
置換もしくは無置換の直鎖、または分岐のアルキレン基
(例えばメチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメ
チレン、メトキシエチレン)が挙げられ、アリーレン基
としては炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリー
レン基(例えば無置換フェニレン、2−メチルフェニレ
ン、ナフチレン)が挙げられる。
Examples of the alkylene group include a substituted or unsubstituted linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms (for example, methylene, ethylene, trimethylene, tetramethylene, methoxyethylene). Examples include substituted or unsubstituted arylene groups represented by Formulas 6 to 12 (for example, unsubstituted phenylene, 2-methylphenylene, and naphthylene).

【0136】一般式(A−1)および(A−2)中、R
14で表される基としては、アルキル基(例えばメチル、
エチル、イソプロピル、n−プロピル、n−ブチル、2
−ペンチル、n−ヘキシル、n−オクチル、2−エチル
ヘキシル、2−ヒドロキシエチル、n−ブトキシメチ
ル)、COOH基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、
塩素原子、臭素原子)、OH、N(CH32、NP
2、OCH3、OPh、SCH3、SPh、CHO、C
OCH3、COPh、COOC49、COOCH3、CO
NHC25、CON(CH32、SO3CH3、SO33
7、SO2NHCH3、SO2N(CH32、SO22
5、SOCH3、CSPh、CSCH3が挙げられる。
In the general formulas (A-1) and (A-2), R
As the group represented by 14 , an alkyl group (for example, methyl,
Ethyl, isopropyl, n-propyl, n-butyl, 2
-Pentyl, n-hexyl, n-octyl, 2-ethylhexyl, 2-hydroxyethyl, n-butoxymethyl), a COOH group, a halogen atom (for example, a fluorine atom,
Chlorine atom, bromine atom), OH, N (CH 3 ) 2 , NP
h 2, OCH 3, OPh, SCH 3, SPh, CHO, C
OCH 3 , COPh, COOC 4 H 9 , COOCH 3 , CO
NHC 2 H 5 , CON (CH 3 ) 2 , SO 3 CH 3 , SO 3 C 3
H 7 , SO 2 NHCH 3 , SO 2 N (CH 3 ) 2 , SO 2 C 2 H
5 , SOCH 3 , CSPh and CSCH 3 .

【0137】一般式(A−1)および(A−2)で表さ
れるAr1としては、炭素数6〜12の置換もしくは無
置換のアリーレン基(例えば、フェニレン、2−メチル
フェニレン、ナフチレン)、置換もしくは無置換の複素
環基(例えば、ピリジル、3−フェニルピリジル、ピペ
リジル、モルホリル)から水素原子1つ又は2つを除い
た2価又は3価の基が挙げられる。
Ar 1 represented by the general formulas (A-1) and (A-2) is a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 12 carbon atoms (for example, phenylene, 2-methylphenylene, naphthylene) And a divalent or trivalent group in which one or two hydrogen atoms have been removed from a substituted or unsubstituted heterocyclic group (eg, pyridyl, 3-phenylpyridyl, piperidyl, morpholyl).

【0138】一般式(A−1)で表されるL2として
は、NH、NCH3、NC49、NC37(i)、NP
h、NPh−CH3、O、S、Se、Teが挙げられる。
L 2 represented by the general formula (A-1) includes NH, NCH 3 , NC 4 H 9 , NC 3 H 7 (i), NP
h, NPh-CH 3, O , S, Se, Te and the like.

【0139】一般式(A−3)の環状形態としては、不
飽和の5〜7員炭素環、飽和又は不飽和の5〜7員複素
環(例えば、フリル、ピペリジル、モルホリル)が挙げ
られる。
Examples of the cyclic form of formula (A-3) include an unsaturated 5- to 7-membered carbocyclic ring and a saturated or unsaturated 5- to 7-membered heterocyclic ring (for example, furyl, piperidyl, morpholyl).

【0140】一般式(A−1)および(A−2)中のR
12、R13、R14、Ar1、L2、および一般式(A−3)
中の環状上には前述の置換基Y等をさらに有してもよ
い。
R in the general formulas (A-1) and (A-2)
12 , R 13 , R 14 , Ar 1 , L 2 , and general formula (A-3)
The above-mentioned substituent Y and the like may further be present on the inner ring.

【0141】一般式(A−1)、(A−2)および(A
−3)の好ましい例を示す。一般式(A−1)および
(A−2)中、好ましくはR12、R13が炭素数1〜6の
置換もしくは無置換のアルキル基、アルキレン基、また
は炭素数6〜10の置換もしくは無置換のアリール基で
あり、R14が炭素数1〜6の置換もしくは無置換のアル
キル基、炭素数1〜4のアルキル基でモノ置換またはジ
置換されたアミノ基、カルボン酸、ハロゲンまたは炭素
数1〜4のカルボン酸エステルであり、Ar1が炭素数
6〜10の置換もしくは無置換のアリーレン基であり、
2がO、SまたはSeであり、m3及びm4が0もしく
は1であり、n4が1〜3であり、L2が、炭素数0〜3
のアルキル置換されたアミノ基である。一般式(A−
3)中、好ましい環状形態は5〜7員環の飽和又は不飽
和複素環である。
Formulas (A-1), (A-2) and (A
Preferred examples of -3) are shown below. In the general formulas (A-1) and (A-2), preferably, R 12 and R 13 are a substituted or unsubstituted alkyl group or alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted alkyl group having 6 to 10 carbon atoms. A substituted aryl group, wherein R 14 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an amino group mono- or disubstituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a carboxylic acid, a halogen or a carbon atom; A carboxylic acid ester of 1-4, wherein Ar 1 is a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 10 carbon atoms,
Q 2 is O, S or Se, m 3 and m 4 are 0 or 1, n 4 is 1 to 3, and L 2 is 0 to 3 carbon atoms.
Is an alkyl-substituted amino group. The general formula (A-
In 3), a preferred cyclic form is a 5- to 7-membered saturated or unsaturated heterocyclic ring.

【0142】一般式(A−1)および(A−2)中、さ
らに好ましくは、R12、R13が炭素数1〜4の置換もし
くは無置換のアルキル基またはアルキレン基であり、R
14が炭素数1〜4の無置換のアルキル基、炭素数1〜4
のモノアミノ置換もしくはジアミノ置換されたアルキル
基であり、Ar1が炭素数6〜10の置換もしくは無置
換のアリーレン基であり、Q2がOまたはSであり、m3
及びm4が0であり、n4が1であり、L2が炭素数0〜
3のアルキル置換されたアミノ基である。一般式(A−
3)中、さらに好ましい環状形態は5〜6員環の複素環
である。
In the general formulas (A-1) and (A-2), more preferably, R 12 and R 13 are a substituted or unsubstituted alkyl or alkylene group having 1 to 4 carbon atoms;
14 is an unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, 1 to 4 carbon atoms
Is a monoamino-substituted or diamino-substituted alkyl group, Ar 1 is a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 10 carbon atoms, Q 2 is O or S, and m 3
And m 4 is 0, n 4 is 1, and L 2 has 0 to 0 carbon atoms.
3 alkyl-substituted amino groups. The general formula (A-
In 3), a more preferred cyclic form is a 5- to 6-membered heterocyclic ring.

【0143】A基がL基(m=0の場合は、X基)と結
合する部分はAr1およびR12またはR13である。
The portion where the group A is bonded to the group L (the group X when m = 0) is Ar 1 and R 12 or R 13 .

【0144】以下に本発明に用いられるA基の具体例を
挙げるが、本発明に用いられる化合物はこれに限定され
るものではない。
Specific examples of the group A used in the present invention are shown below, but the compounds used in the present invention are not limited to these.

【0145】[0145]

【化15】 Embedded image

【0146】[0146]

【化16】 Embedded image

【0147】[0147]

【化17】 Embedded image

【0148】[0148]

【化18】 Embedded image

【0149】[0149]

【化19】 Embedded image

【0150】[0150]

【化20】 Embedded image

【0151】次にB基について詳細に説明する。Bが水
素原子の場合は酸化後、分子内塩基によって脱プロトン
されてラジカルAを生成する。
Next, the group B will be described in detail. After when B is hydrogen atom oxidation, by intramolecular base is deprotonated to generate a radical A ·.

【0152】好ましい、B基は水素原子および次の一般
式を有するものである。一般式(B−1)、(B−
2)、(B−3)
Preferred groups B are those having a hydrogen atom and the following general formula: General formulas (B-1), (B-
2), (B-3)

【化21】 Embedded image

【0153】一般式(B−1)、(B−2)および(B
−3)中、WはSi、SnまたはGeを表し、R16は各
々独立してアルキル基を表し、Ar2は各々独立してア
リール基を表す。
Formulas (B-1), (B-2) and (B
In -3), W represents Si, Sn or Ge, R 16 each independently represents an alkyl group, and Ar 2 each independently represents an aryl group.

【0154】一般式(B−2)および(B−3)は吸着
基Xと結合させることができる。
The formulas (B-2) and (B-3) can be bonded to the adsorbing group X.

【0155】一般式(B−1)、(B−2)および(B
−3)について詳細に説明する。式中、R16で表される
アルキル基としては、炭素数1〜6の置換もしくは無置
換の直鎖、または分岐のアルキル基(例えば、メチル、
エチル、イソプロピル、n−プロピル、n−ブチル、t
−ブチル、2−ペンチル、n−ヘキシル、n−オクチ
ル、t−オクチル,2−エチルヘキシル,2−ヒドロキ
シエチル、1−ヒドロキシエチル、n−ブトキシエチ
ル、メトキシメチル)、炭素数6〜12の置換もしくは
無置換のアリール基(例えば、フェニル、2−メチルフ
ェニル)が挙げられる。
Formulas (B-1), (B-2) and (B
-3) will be described in detail. In the formula, as the alkyl group represented by R 16 , a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methyl,
Ethyl, isopropyl, n-propyl, n-butyl, t
-Butyl, 2-pentyl, n-hexyl, n-octyl, t-octyl, 2-ethylhexyl, 2-hydroxyethyl, 1-hydroxyethyl, n-butoxyethyl, methoxymethyl), substitution of 6 to 12 carbon atoms or An unsubstituted aryl group (for example, phenyl, 2-methylphenyl) is exemplified.

【0156】一般式(B−2)および(B−3)中のR
16およびAr2は前述の置換基Y等をさらに有していて
もよい。
R in the general formulas (B-2) and (B-3)
16 and Ar 2 may further have the aforementioned substituent Y or the like.

【0157】一般式(B−1)、(B−2)および(B
−3)の好ましい例を以下に示す。一般式(B−2)お
よび(B−3)中、好ましくは、R16が炭素数1〜4の
置換もしくは無置換のアルキル基であり、Ar2が炭素
数6〜10の置換もしくは無置換のアリール基であり、
WはSiまたはSnである。
Formulas (B-1), (B-2) and (B
Preferred examples of -3) are shown below. In formulas (B-2) and (B-3), preferably, R 16 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and Ar 2 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 6 to 10 carbon atoms. Is an aryl group of
W is Si or Sn.

【0158】一般式(B−2)および(B−3)中、さ
らに好ましくは、R16が炭素数1〜3の置換もしくは無
置換のアルキル基であり、Ar2が炭素数6〜8の置換
もしくは無置換のアリール基であり、WはSiである。
In the general formulas (B-2) and (B-3), more preferably, R 16 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and Ar 2 is a group having 6 to 8 carbon atoms. It is a substituted or unsubstituted aryl group, and W is Si.

【0159】一般式(B−1)、(B−2)および(B
−3)中、最も好ましいのは、B−1のCOO-および
B−2におけるSi−(R163である。
General formulas (B-1), (B-2) and (B
-3) in, most preferred, B-1 of COO - and Si- in B-2 (R 16) 3.

【0160】一般式(I)中、好ましいnは1である。な
お、一般式(I)において、nが2の場合、2つの(A−
B)は、同じでも異なっていてもよい。
In the general formula (I), preferred n is 1. In addition, in general formula (I), when n is 2, two (A-
B) may be the same or different.

【0161】以下に本発明で用いられるA−B基の例を
挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
Hereinafter, examples of the AB group used in the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto.

【0162】[0162]

【化22】 Embedded image

【0163】[0163]

【化23】 Embedded image

【0164】[0164]

【化24】 Embedded image

【0165】[0165]

【化25】 Embedded image

【0166】[0166]

【化26】 Embedded image

【0167】[0167]

【化27】 Embedded image

【0168】上記化合物A−Bの電荷バランスに必要な
対イオンとしては、ナトリウムイオン、カリウムイオ
ン、トリエチルアンモニウムイオン、ジイソプロピルア
ンモニウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオン、
およびテトラメチルグアニジニウムイオンが挙げられ
る。
The counter ions necessary for the charge balance of the compounds AB include sodium ion, potassium ion, triethylammonium ion, diisopropylammonium ion, tetrabutylammonium ion,
And tetramethylguanidinium ion.

【0169】A−Bの好ましい酸化電位は0〜1.5V
であり、より好ましくは0〜1.0Vであり、さらに好
ましくは0.3〜1.0Vの範囲である。
The preferred oxidation potential of AB is 0 to 1.5 V
, More preferably 0 to 1.0 V, and still more preferably 0.3 to 1.0 V.

【0170】結合開裂反応から生じるラジカルA(E
2)の好ましい酸化電位は−0.6〜−2.5Vであ
り、より好ましくは−0.9〜−2Vであり、さらに好
ましくは−0.9〜−1.6Vの範囲である。
The radical A (E) resulting from the bond cleavage reaction
The preferred oxidation potential of 2 ) is -0.6 to -2.5 V, more preferably -0.9 to -2 V, and still more preferably -0.9 to -1.6 V.

【0171】酸化電位の測定法は以下の通りである。E
1はサイクリックボルタンメトリー法で行うことができ
る。電子供与体Aをアセトニトリル/0.1Mか塩素酸
リチウムを含有する水80%/20%(容量%)の溶液
に溶解させる。ガラス状のカーボンディスクを動作電極
に用い、プラチナ線を対電極に用い、飽和カロメル電極
(SCE)を参照電極に用いる。25℃で、0.1V/
秒の電位走査速度で測定する。サイクリックボルタンメ
トリー波のピーク電位の時に酸化電位対SCEをとる。
これらA−B化合物のE1値は欧州特許第93,731
A1に記載されている。
The measuring method of the oxidation potential is as follows. E
1 can be performed by cyclic voltammetry. The electron donor A is dissolved in a solution of acetonitrile / 0.1M or 80% / 20% (vol%) of water containing lithium chlorate. A glassy carbon disk is used for the working electrode, a platinum wire is used for the counter electrode, and a saturated calomel electrode (SCE) is used for the reference electrode. 0.1 V /
Measure at a potential scan rate of seconds. The oxidation potential versus SCE is taken at the peak potential of the cyclic voltammetry wave.
The E 1 values of these AB compounds are described in EP 93,731.
A1.

【0172】ラジカルの酸化電位測定は過度的な電気化
学およびパルス放射線分解法によって行われる。これら
はJ.Am.Chem.Soc.1988,110,.
132、同1974,96,.1287、同1974,
96,.1295で報告されている。
The measurement of the oxidation potential of radicals is carried out by excessive electrochemical and pulse radiolysis methods. These are described in J.A. Am. Chem. Soc. 1988, 110,.
132, 1974, 96,. 1287, 1974,
96,. 1295.

【0173】以下に一般式(I)で表される化合物の具体
例を記すが、本発明に用いられる化合物はこれらに限定
されるものではない。
Specific examples of the compound represented by formula (I) are shown below, but the compounds used in the present invention are not limited to these.

【0174】[0174]

【化28】 Embedded image

【0175】[0175]

【化29】 Embedded image

【0176】[0176]

【化30】 Embedded image

【0177】[0177]

【化31】 Embedded image

【0178】[0178]

【化32】 Embedded image

【0179】[0179]

【化33】 Embedded image

【0180】[0180]

【化34】 Embedded image

【0181】[0181]

【化35】 Embedded image

【0182】[0182]

【化36】 Embedded image

【0183】[0183]

【化37】 Embedded image

【0184】[0184]

【化38】 Embedded image

【0185】[0185]

【化39】 Embedded image

【0186】[0186]

【化40】 Embedded image

【0187】[0187]

【化41】 Embedded image

【0188】一般式(I)で表される化合物の合成法とし
ては、米国特許5,747,235、同5,747,2
35、欧州特許786,692A1、同893,731
A1、同893,732A1、WO99/05570等
に記載の方法、あるいはそれに準じた方法で容易に合成
することができる。
As a method for synthesizing the compound represented by the general formula (I), US Pat. No. 5,747,235 and US Pat.
35, European Patent 786,692A1, 893,731
A1, 893, 732A1, WO99 / 05570, or the like, or a method analogous thereto can be easily synthesized.

【0189】本発明に規定する一般式(I)の化合物と、
少なくとも90モル%の塩化銀を含むハロゲン化銀粒子
を含有し、該粒子の投影面積の90%以上が、平均アス
ペクト比5以上、平均厚さ0.2μm以下の平板粒子で
あるハロゲン化銀乳剤とを含む感光性層(以下、「本発
明の感光性層」ともいう。)は、支持体上に一層もしく
はそれ以上設けることができる。また、本発明の感光性
層は、青感色性層、緑感性層、赤感性層のいずれの感色
性層としても用いることができる。さらに、本発明の感
光性層は、支持体の片側に限らず両面に設けることがで
きる。本発明の感光性層は、黒白ハロゲン化銀写真感光
材料(例えば、Xレイ感材、リス型感材、黒白撮影用ネ
ガフィルムなど)やカラー写真感光材料(例えば、カラ
ーネガフィルム、カラー反転フィルム、カラーペーパー
等)に用いることができる。さらに、拡散転写用感光材
料(例えば、カラー拡散転写要素、銀塩拡散転写要
素)、熱現像感光材料(黒白、カラー)等にも用いるこ
とができる。これらの感光材料の中では、プリント材
料、特にカラーペーパーが好ましい。また、特に迅速処
理される感光材料、たとえば、処理工程の時間(現像工
程から漂白・定着、水洗を経て乾燥工程終了までの時
間)が60秒以下で処理される感光材料において、本発
明の効果が有効に発揮される。
A compound of the general formula (I) as defined in the present invention,
A silver halide emulsion containing silver halide grains containing at least 90 mol% of silver chloride, wherein 90% or more of the projected area of the grains are tabular grains having an average aspect ratio of 5 or more and an average thickness of 0.2 μm or less. (Hereinafter, also referred to as “photosensitive layer of the present invention”) can be provided on the support in one or more layers. Further, the photosensitive layer of the present invention can be used as any of the blue-sensitive layer, the green-sensitive layer, and the red-sensitive layer. Further, the photosensitive layer of the present invention can be provided not only on one side of the support but also on both sides. The photosensitive layer of the present invention includes a black-and-white silver halide photographic light-sensitive material (for example, an X-ray light-sensitive material, a squirrel-type light-sensitive material, a negative film for black-and-white photography) and a color photographic light-sensitive material (for example, a color negative film, a color reversal film, Color paper). Further, it can be used as a photosensitive material for diffusion transfer (for example, a color diffusion transfer element, a silver salt diffusion transfer element), a heat development photosensitive material (black and white, color) and the like. Among these photosensitive materials, printing materials, especially color paper, are preferred. Particularly, the present invention can be applied to a light-sensitive material which is processed rapidly, for example, a light-sensitive material processed in a processing step (time from the development step to the end of the drying step after bleaching / fixing and water washing) of 60 seconds or less. Is effectively exhibited.

【0190】以下、カラー写真感光材料について詳細に
説明するが、これらに限定されるものではない。
Hereinafter, the color photographic light-sensitive material will be described in detail, but is not limited thereto.

【0191】感光材料は、支持体上に青感色性層、緑感
色性層、赤感色性層のハロゲン化銀乳剤層の少なくとも
1層が設けられていればよく、ハロゲン化銀乳剤層およ
び非感光性層の層数および層順に特に制限はない。典型
的な例としては、支持体上に、実質的に感色性は同じで
あるが感光度の異なる複数のハロゲン化銀乳剤層から成
る感色性層を少なくとも1つ有するハロゲン化銀写真感
光材料であり、該感光性層は青色光、緑色光、および赤
色光の何れかに感色性を有する単位感光性層であり、多
層ハロゲン化銀カラー写真感光材料においては、一般に
単位感光性層の配列が、支持体側から順に赤感色性層、
緑感色性層、青感色性層の順に設置される。しかし、目
的に応じて上記設置順が逆であっても、また同一感色性
層中に異なる感光性層が挾まれたような設置順をもとり
得る。上記のハロゲン化銀感光性層の間および最上層、
最下層には各層の中間層等の非感光性層を設けてもよ
い。
The light-sensitive material only needs to have at least one of a blue-sensitive layer, a green-sensitive layer and a red-sensitive layer on a support. There is no particular limitation on the number of layers and the order of the non-photosensitive layers. A typical example is a silver halide photographic light-sensitive material having at least one color-sensitive layer comprising a plurality of silver halide emulsion layers having substantially the same color sensitivity but different sensitivities on a support. The light-sensitive layer is a unit light-sensitive layer having color sensitivity to any of blue light, green light, and red light. The sequence of the red-sensitive layer in order from the support side,
A green color sensitive layer and a blue color sensitive layer are provided in this order. However, the order of installation may be reversed depending on the purpose, or the order of installation may be such that different photosensitive layers are sandwiched between layers of the same color sensitivity. Between and above the silver halide photosensitive layer,
A non-photosensitive layer such as an intermediate layer of each layer may be provided as the lowermost layer.

【0192】本発明の写真乳剤の各種添加剤、写真感光
材料としての層構成、現像液などの処理液組成などにつ
いては特に制限はなく、例えば、下記の公知例での記載
を参考にする事が出来る。
The various additives of the photographic emulsion of the present invention, the layer constitution as a photographic light-sensitive material, the composition of a processing solution such as a developing solution and the like are not particularly limited. For example, refer to the description in the following known examples. Can be done.

【0193】 写真要素 特開平7−104448号 特開平7−310895号 支持体 7欄12行〜12欄19行 5欄40行〜9欄26行 安定剤、 75欄9〜18行 18欄11行〜31欄37行 カブリ防止剤 化学増感剤 74欄45行〜75欄6行 81欄9〜17行 分光増感剤 75欄19行〜76欄45行 81欄21行〜82欄48行 シアンカプラー 12欄20行〜39欄49行 88欄49行〜89欄19行 イエローカプラー 87欄40行〜88欄3行 89欄19行〜30行 マゼンタカプラー 88欄4行〜89欄19行 32欄34行〜77欄44行 乳化分散方法 71欄3行〜72欄11行 87欄35行〜48行 色像安定剤 39欄50行〜70欄9行 87欄49行〜88欄48行 褪色防止剤 70欄10行〜71欄2行 染料 77欄42行〜78欄41行 9欄27行〜18欄10行 層構成 39欄11行〜26行 31欄38行〜32欄33行 走査露光 76欄6行〜77欄41行 82欄49行〜83欄12行 現像液 88欄19行〜89欄22行。Photographic element JP-A-7-104448 JP-A-7-310895 Support 7 column 12 line to 12 column 19 line 5 column 40 line to 9 column 26 line Stabilizer 75 column 9 to 18 line 18 column 11 line Column 31, line 37, antifoggant Chemical sensitizer column 74, line 45 to column 75, line 6, column 81, line 9 to 17 spectral sensitizer column 75, line 19 to column 76, line 45 column 81, line 21 to column 82, line 48 cyan Coupler 12 column 20 line-39 column 49 line 88 column 49 line-89 column 19 line Yellow coupler 87 column 40 line-88 column 3 line 89 column 19 line-30 line Magenta coupler 88 column 4 line-89 column 19 line 32 column Line 34 to column 77, line 44 Emulsification dispersion method Column 71, line 3 to column 72, line 11 Column 87, line 35 to line 48 Color image stabilizer Column 39, line 50 to column 70, line 9 Column 87, line 49 to column 88, line 48 Agent column 70, line 10 to column 71, line 2 Dye column 77, line 42 to column 78, line 41, column 9 line 27 to column 18, line 10 Scanning exposure 76, column 11 line 26 to line 31, column 38 to line 32, line 32 Column 6 line-77 column 41 line 82 column 49 line-83 column 12 line Developer 88 column 19 line-89 column 89 line 22.

【0194】[0194]

【実施例】以下に実施例をあげ、本発明をさらに詳細に
説明する。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.

【0195】(実施例1) <1.{111}高塩化銀平板粒子乳剤(A)の調製>
水1.2L中に塩化ナトリウム1.0g及び不活性ゼラ
チン2.5gを添加し27℃に保った容器中へ撹拌しな
がら硝酸銀水溶液75ミリリットル(硝酸銀18gを含
む)と塩化ナトリウム水溶液75ミリリットル(塩化ナ
トリウム6.2gおよび不活性ゼラチン0.75gを含
む)をダブルジェット法により1分間で添加した(以
下、ミリリットルを「mL」とも表記する)。添加終了1
分後に晶相制御剤1を0.92ミリモルを含む水溶液1
8.6mLを添加した。さらに1分後に10%酸化処理ゼ
ラチン溶液450mLを添加した。次の28分間で反応容
器の温度を55℃に昇温した後、27分間熟成した。
(Example 1) <1. Preparation of {111} high silver chloride tabular grain emulsion (A)>
1.0 g of sodium chloride and 2.5 g of inert gelatin were added to 1.2 L of water, and 75 ml of an aqueous silver nitrate solution (containing 18 g of silver nitrate) and 75 ml of an aqueous sodium chloride solution (containing 6.2 g of sodium and 0.75 g of inert gelatin) were added in one minute by the double jet method (hereinafter, milliliter is also referred to as “mL”). End of addition 1
Minutes later, an aqueous solution 1 containing 0.92 mmol of the crystal habit controlling agent 1
8.6 mL was added. One minute later, 450 mL of a 10% oxidized gelatin solution was added. After the temperature of the reaction vessel was raised to 55 ° C. in the next 28 minutes, aging was performed for 27 minutes.

【0196】熟成後、ベンジルチオ硫酸ナトリウムを
2.35mg加えた後、加速された流量で32分間に硝
酸銀水溶液(硝酸銀263gを含む)とNaCl水溶液
(NaCl、96gおよびK2IrCl6、0.016m
gを含む)を添加した。この間、同時に加速された流量
(硝酸銀添加量に比例)で晶相制御剤1を2.63ミリ
モル添加した。次に、加速された流量で14分間に硝酸
銀水溶液(硝酸銀71gを含む)とNaCl水溶液(N
aCl、24.2g、KI、1.39gおよび黄血塩1
2mgを含む)を添加した。添加終了後、20分間で温
度を75℃上昇させた後、一定流量で一分間に硝酸銀水
溶液(硝酸銀2.9gを含む)とKBr水溶液(KB
r、2.25gを含む)を添加した。
After aging, 2.35 mg of sodium benzylthiosulfate was added, and an aqueous silver nitrate solution (containing 263 g of silver nitrate) and an aqueous solution of NaCl (96 g of NaCl and 0.016 m 2 of K 2 IrCl 6 ) were added at an accelerated flow rate for 32 minutes.
g) was added. During this time, 2.63 mmol of the crystal habit controlling agent 1 was simultaneously added at an accelerated flow rate (proportional to the added amount of silver nitrate). Next, an aqueous silver nitrate solution (containing 71 g of silver nitrate) and an aqueous NaCl solution (N
aCl, 24.2 g, KI, 1.39 g and yellow blood salt 1
2 mg). After the addition is completed, the temperature is raised to 75 ° C. for 20 minutes, and then at a constant flow rate for one minute, an aqueous silver nitrate solution (containing 2.9 g of silver nitrate) and an aqueous KBr solution (KB
r, including 2.25 g).

【0197】温度を40℃に降下させた後、通常のフロ
キュレーション法で水洗した。水洗後、不活性ゼラチン
175gとフェノキシエタノール(35%)を34mL及
び蒸留水を700mLを添加した。さらに苛性ソーダと塩
化ナトリウム水溶液でpH6.2、pAg7.5に調整
した。得られた粒子(A)は全投影面積の99%以上が
平板粒子であり、平均の円相当径は0.85μm、平均
厚さは0.146μm、平均アスペクト比は5.9であ
った。厚さの変動係数は16.8%であり、円相当径の
変動係数は19.0%であった。
After the temperature was lowered to 40 ° C., the product was washed with water by a usual flocculation method. After washing with water, 175 g of inert gelatin, 34 mL of phenoxyethanol (35%) and 700 mL of distilled water were added. Further, the pH was adjusted to 6.2 and the pAg to 7.5 with sodium hydroxide and an aqueous sodium chloride solution. In the obtained grains (A), 99% or more of the total projected area were tabular grains, the average equivalent circle diameter was 0.85 μm, the average thickness was 0.146 μm, and the average aspect ratio was 5.9. The coefficient of variation of the thickness was 16.8%, and the coefficient of variation of the equivalent circle diameter was 19.0%.

【0198】[0198]

【化42】 Embedded image

【0199】<2.{100}高塩化銀平板粒子乳剤
(B)>特開昭51−83097に記載の反応容器に
[H2O 1200mL、ゼラチン(メチオニン含率が約40μ
モル/gの脱イオン化アルカリ処理骨ゼラチン)25g、N
aCl 1g、HNO3 1N液4.5mLを含みpH4.5]を入れ、40℃に恒
温した。1200rpmで撹拌しながらAg-1液(AgNO3 0.2g/m
L)とX-1液(NaCl 0.069g/mL)を同時に48mL/分で15秒間
添加した。その3分後にX-2液(KBr 0.012g/mL)を60mL
/分で20秒間添加した。また3分後にAg-1液(AgNO3 0.
2g/mL)とX-1液(NaCl 0.069g/mL)を48mL/分で45秒間、同
時混合添加した。攪拌回転数を750rpmに下げ、更に1分
後ゼラチン水溶液[H2O 120mL、ゼラチン10g、NaOH 1N
液7mL、NaCl 1.7g]を添加し、更に4分後、12分間で75℃
に昇温し、25分間熟成した。さらにKI溶液(0.01
g/mL)を7.5mL添加して5分間熟成した。
<2. {100} High silver chloride tabular grain emulsion (B)> In a reaction vessel described in JP-A-51-83097, [H 2 O 1200 mL, gelatin (methionine content is about 40 μm)
Mol / g deionized alkali-treated bone gelatin) 25 g, N
pH 4.5] containing 1 g of aCl and 4.5 mL of a HNO 3 1N solution was added thereto, and the temperature was kept at 40 ° C. Ag-1 liquid (AgNO 3 0.2g / m while stirring at 1200rpm)
L) and X-1 solution (NaCl 0.069 g / mL) were simultaneously added at 48 mL / min for 15 seconds. Three minutes later, 60 mL of X-2 solution (KBr 0.012 g / mL)
Per minute for 20 seconds. After 3 minutes, the Ag-1 solution (AgNO 3 0.
2 g / mL) and the X-1 solution (NaCl 0.069 g / mL) were simultaneously added at 48 mL / min for 45 seconds. The stirring rotation speed was reduced to 750 rpm, and after another minute, an aqueous gelatin solution [H 2 O 120 mL, gelatin 10 g, NaOH 1N
Solution 7mL, NaCl 1.7g], and after 4 minutes, 75 ℃ in 12 minutes
And aged for 25 minutes. Further, the KI solution (0.01
g / mL) and ripened for 5 minutes.

【0200】温度を40℃に降下させた後、通常のフロ
キュレーション法で水洗した。水洗後、乳剤1gあたり
ゼラチン0.1gとなるようにゼラチンと蒸留水を加え
た。さらに、苛性ソーダとNaClでpH6.2、pA
g7.5に調整した。得られた乳剤(B)を採取し、粒
子のレプリカの電子顕微鏡写真像(TEM像)を観察した。
それによると、全AgX粒子の投影面積計の98%が主平面が
{100}面の平板状粒子であり、その円相当直径の平均
は0.66μm、円相当直径の変動係数は16.7%、厚さの平
均は0.11μm、その該主平面間の距離の変動係数が14.9
%、平均アスペクト比は7.3であった。
After the temperature was lowered to 40 ° C., the product was washed with water by a usual flocculation method. After washing with water, gelatin and distilled water were added so that the gelatin became 0.1 g per 1 g of the emulsion. Further, pH 6.2, pA with sodium hydroxide and NaCl.
g was adjusted to 7.5. The obtained emulsion (B) was collected, and an electron microscope photograph image (TEM image) of the particle replica was observed.
According to that, 98% of the projected area meter of all AgX grains are tabular grains with a principal plane of {100} plane, the average of the circle equivalent diameter is 0.66 μm, the coefficient of variation of the circle equivalent diameter is 16.7%, The average thickness is 0.11 μm, and the coefficient of variation of the distance between the main planes is 14.9 μm.
%, And the average aspect ratio was 7.3.

【0201】<3.高塩化銀{100}正常晶粒子を含
む乳剤Cの調製;比較>水1L中に塩化ナトリウム4.
8g、不活性ゼラチン30gを添加し45℃に保った容
器中へ撹拌しながら硝酸銀水溶液18mL(硝酸銀1.0
8g)と塩化ナトリウム水溶液18mL(塩化ナトリウム
0.389g)をダブルジェット法により3分間で添加
した。10分後より硝酸銀水溶液270mL(硝酸銀1
6.2g)と塩化ナトリウム水溶液270mL(塩化ナト
リウム5.832g)を18分間かけて添加した。さら
に3分後より、硝酸銀水溶液595mL(硝酸銀119
g)および塩化ナトリウム水溶液595mL(塩化ナトリ
ウム43.0g)を41分間かけて添加した。この間
に、反応容器内の温度を60℃に昇温した。次に、硝酸
銀水溶液170mL(硝酸銀34g)および塩化ナトリウ
ム水溶液(塩化ナトリウム7.88g、黄血塩11ミリ
グラムおよび6塩化イリジウム1.5×10-8モルを含
む)を加えた。
<3. Preparation of Emulsion C containing high silver chloride {100} normal crystal grains; Comparison> Sodium chloride in 1 L of water
8 g of silver nitrate aqueous solution (18 mL of silver nitrate 1.0 g) was added to a container maintained at 45 ° C. while stirring.
8 g) and 18 mL of an aqueous sodium chloride solution (0.389 g of sodium chloride) were added over 3 minutes by the double jet method. After 10 minutes, 270 mL of an aqueous silver nitrate solution (silver nitrate 1
6.2 g) and 270 mL of an aqueous sodium chloride solution (5.832 g of sodium chloride) were added over 18 minutes. After 3 minutes, 595 mL of an aqueous silver nitrate solution (119 silver nitrate) was added.
g) and 595 mL of an aqueous sodium chloride solution (43.0 g of sodium chloride) were added over 41 minutes. During this time, the temperature inside the reaction vessel was raised to 60 ° C. Next, 170 mL of an aqueous silver nitrate solution (34 g of silver nitrate) and an aqueous sodium chloride solution (containing 7.88 g of sodium chloride, 11 mg of yellow blood salt and 1.5 × 10 −8 mol of iridium hexachloride) were added.

【0202】添加終了後、温度を40℃に下げてから通
常のフロキュレーション法により脱塩行程を行った。ゼ
ラチン78g、フェノール(5%)80mL及び蒸留水を
199mLを添加した。苛性ソーダと硝酸銀溶液でpH
6.2、pAg7.5に調整した。こうして高塩化銀で
平均球相当直径0.63μmの粒子を含む乳剤Cを得
た。
After the addition was completed, the temperature was lowered to 40 ° C., and then a desalting step was performed by a usual flocculation method. 78 g of gelatin, 80 mL of phenol (5%) and 199 mL of distilled water were added. PH with caustic soda and silver nitrate solution
It adjusted to 6.2 and pAg7.5. Thus, Emulsion C containing high silver chloride grains having an average equivalent spherical diameter of 0.63 μm was obtained.

【0203】<4.化学増感>乳剤A、BおよびCを6
0℃において、増感色素IおよびII、ベンジルチオスル
ホン酸ナトリウム、チオシアン酸ナトリウム、1−(5
−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾ
ール、チオ硫酸ナトリウム及び塩化金酸を用いて最適に
化学増感した。こうして、化学増感乳剤A、BおよびC
を得た。
<4. Chemical sensitization> Emulsions A, B and C
At 0 ° C., sensitizing dyes I and II, sodium benzylthiosulfonate, sodium thiocyanate, 1- (5
-Methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole, sodium thiosulfate and chloroauric acid. Thus, chemically sensitized emulsions A, B and C
I got

【0204】[0204]

【化43】 Embedded image

【0205】<5.塗布試料の調製と写真性および安定
性の評価>紙の両面をポリエチレン樹脂で被覆してなる
支持体の表面に、コロナ放電処理を施した後、ドデシル
ベンゼンスルホン酸ナトリウムを含むゼラチン下塗り層
を設け、さらに第一層〜第七層の写真構成を順次塗設し
て、以下に示す層構成のハロゲン化銀カラー写真感光材
料の塗布試料を作成した。各写真構成層の塗布液は、以
下のようにして調製した。
<5. Preparation of coated sample and evaluation of photographic properties and stability> After performing corona discharge treatment on the surface of a support obtained by coating both sides of paper with a polyethylene resin, a gelatin undercoat layer containing sodium dodecylbenzenesulfonate was provided. Further, the photographic constitutions of the first to seventh layers were sequentially applied to prepare a coating sample of a silver halide color photographic light-sensitive material having the following layer constitution. The coating solution for each photographic constituent layer was prepared as follows.

【0206】塗布液調製 カプラー、色像安定剤、紫外線吸収剤を溶媒および酢酸
エチルに溶解し、この液を界面活性剤を含む10質量%
ゼラチン水溶液に高速撹拌乳化機(ディゾルバー)で乳
化分散させ、乳化分散物を調製した。前記乳化分散物と
塩臭化銀乳剤とを混合溶解し、後記組成となるように塗
布液を調製した。
Preparation of Coating Solution A coupler, a color image stabilizer and an ultraviolet absorber were dissolved in a solvent and ethyl acetate, and this solution was added to a 10% by mass containing a surfactant.
The resulting mixture was emulsified and dispersed in an aqueous gelatin solution using a high-speed stirring emulsifier (dissolver) to prepare an emulsified dispersion. The emulsified dispersion and the silver chlorobromide emulsion were mixed and dissolved to prepare a coating solution having the following composition.

【0207】各層のゼラチン硬化剤として、1−オキシ
−3,5−ジクロロ−s−トリアジンナトリウムを用い
た。
As the gelatin hardener for each layer, sodium 1-oxy-3,5-dichloro-s-triazine was used.

【0208】また、各層にAb−1、Ab−2およびA
b−3をそれぞれ全量が15.0mg/m2、60.0
mg/m2、5.0mg/m2および10.0mg/m2
となるように添加した。
Further, Ab-1, Ab-2 and A
The total amount of b-3 was 15.0 mg / m 2 and 60.0, respectively.
mg / m 2 , 5.0 mg / m 2 and 10.0 mg / m 2
Was added so that

【0209】[0209]

【化44】 Embedded image

【0210】各感光性乳剤層に用いた高塩化銀乳剤は以
下である。
The high silver chloride emulsion used for each photosensitive emulsion layer is as follows.

【0211】青感性乳剤層(表1参照)Blue-sensitive emulsion layer (see Table 1)

【表1】 [Table 1]

【0212】緑感性乳剤 塩臭化銀乳剤(平均粒子サイズ0.45μm(球相当
径)の大サイズ立方体乳剤と0.35μmの小サイズ立
方体乳剤との1:3混合物(銀モル比)。粒子サイズの
変動係数は10%および8%。各サイズの乳剤とも臭化
銀0.4モル%を塩化銀を基体とする粒子表面の一部に
局在含有させた)に増感色素Dを、ハロゲン化銀1モル
あたり、大サイズ乳剤に対しては3.0×10-4モル、
小サイズ乳剤に対しては3.6×10-4モル添加した。
また、増感色素Eを、ハロゲン化銀1モルあたり、大サ
イズ乳剤に対しては4.0×10-5モル、小サイズ乳剤
に対しては2.8×10-4モル添加した。
Green-sensitive emulsion Silver chlorobromide emulsion (1: 3 mixture (silver molar ratio) of a large cubic emulsion having an average grain size of 0.45 μm (sphere equivalent diameter) and a small cubic emulsion of 0.35 μm. The variation coefficients of the sizes are 10% and 8%, and in each emulsion, 0.4 mol% of silver bromide is locally contained on a part of the surface of a grain based on silver chloride. 3.0 × 10 -4 mol for a large-sized emulsion, per mol of silver halide,
3.6 × 10 -4 mol was added to the small size emulsion.
Sensitizing dye E was added in an amount of 4.0 × 10 −5 mol for a large-sized emulsion and 2.8 × 10 −4 mol for a small-sized emulsion per mol of silver halide.

【0213】[0213]

【化45】 Embedded image

【0214】赤感光性乳剤層 塩臭化銀乳剤(平均粒子サイズ0.40μm(球相当
径)の大サイズ立方体乳剤と0.30μmの小サイズ立
方体乳剤との1:1混合物(銀モル比)。粒子サイズの
変動係数は0.09と0.11。各サイズの乳剤とも臭
化銀0.5モル%を塩化銀を基体とする粒子表面の一部
に局在含有させた)に増感色素GおよびHを、ハロゲン
化銀1モルあたり、大サイズ乳剤に対してはそれぞれ
9.0×10 -5モル、小サイズ乳剤に対してはそれぞれ
1.2×10-4モル添加した。さらに、以下の化合物I
をハロゲン化銀1モルあたり3.0×10-3モル添加し
た。
Red-sensitive emulsion layer Silver chlorobromide emulsion (average grain size 0.40 μm (equivalent to sphere)
Diameter) large cubic emulsion and 0.30 μm small cubic emulsion
1: 1 mixture with silver emulsion (silver molar ratio). Particle size
The coefficients of variation are 0.09 and 0.11. Odor of each size emulsion
Part of the grain surface with 0.5 mol% of silver chloride as the base of silver chloride
Sensitizing dyes G and H, and halogen
Per mole of silver halide, for large emulsions
9.0 × 10 -FiveFor mole and small size emulsions respectively
1.2 × 10-FourMole was added. Further, the following compound I
3.0 × 10 3 per mole of silver halide-3Mole added
Was.

【0215】[0215]

【化46】 Embedded image

【0216】また、青感性、緑感性および赤感性乳剤層
に対し、1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メ
ルカプトテトラゾールを、それぞれハロゲン化銀1モル
あたり、3.3×10-4モル、1.0×10-3モルおよ
び5.9×10-4モル添加した。
Also, 1- (3-methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole was added to the blue-sensitive, green-sensitive and red-sensitive emulsion layers in an amount of 3.3 × 10 -4 mol per mol of silver halide. , 1.0 × 10 -3 mol and 5.9 × 10 -4 mol.

【0217】さらに、第二層、第四層、第六層および第
七層にも、1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−
メルカプトテトラゾールを、それぞれ0.2mg/
2、0.2mg/m2、0.6mg/m2および0.1
mg/m2となるように添加した。また、青感性乳剤層
および緑感性乳剤層に対し、4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1、3、3a,7−テトラアザインデンをハロゲン
化銀1モルあたり、それぞれ1×10-4モル、2×10
-4モル添加した。
Further, the second layer, the fourth layer, the sixth layer and the seventh layer also have 1- (3-methylureidophenyl) -5-
Mercaptotetrazole was added at 0.2 mg /
m 2 , 0.2 mg / m 2 , 0.6 mg / m 2 and 0.1
mg / m 2 . Also, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetraazaindene was added to the blue-sensitive emulsion layer and the green-sensitive emulsion layer in an amount of 1 × 10 -4 mol, × 10
-4 mol was added.

【0218】また、赤感性乳剤層にメタクリル酸とアク
リル酸ブチルの共重合体(質量比1:1、平均分子量2
00000〜400000)を0.05g/m2添加し
た。また、第二層、第四層および第六層にカテコール−
3,5−ジスルホン酸二ナトリウムをそれぞれ6mg/
2、6mg/m2および18mg/m2となるように添
加した。また、イラジエーション防止のために、以下の
染料(カッコ内は塗布量を表す)を添加した。
In the red-sensitive emulsion layer, a copolymer of methacrylic acid and butyl acrylate (weight ratio 1: 1, average molecular weight 2
0000-400,000) was added at 0.05 g / m 2 . Catechol-in the second, fourth and sixth layers
Each of disodium 3,5-disulfonate at 6 mg /
m 2 , 6 mg / m 2 and 18 mg / m 2 . To prevent irradiation, the following dyes were added (in parentheses, the coating amount is shown).

【0219】[0219]

【化47】 Embedded image

【0220】(層構成)以下に各層の構成を示す。数字
は塗布量(g/m2)を表す。乳剤の場合は銀換算塗布
量を表す。
(Layer Structure) The structure of each layer is shown below. The numbers represent the coating amount (g / m 2 ). In the case of an emulsion, the coating amount is expressed in terms of silver.

【0221】支持体 ポリエチレン樹脂ラミネート紙 [第一層側のポリエチレン樹脂に白色顔料(TiO2
含有率16質量%、ZnO;含有量4質量%)と蛍光増
白剤(4,4’−ビス(5−メチルベンゾオキサゾリ
ル)スチルベンを13mg/m2)、青味染料(群青)
を96mg/m2含む]。
Support Polyethylene resin laminated paper [A white pigment (TiO 2 ;
Content: 16% by mass, ZnO; content: 4% by mass), fluorescent whitening agent (13 mg / m 2 of 4,4'-bis (5-methylbenzoxazolyl) stilbene), bluish dye (ultramarine)
96 mg / m 2 ].

【0222】 第一層(赤感性乳剤層) 乳剤(前述の赤感性乳剤) 0.12 ゼラチン 0.59 シアンカプラー(ExC−1) 0.13 シアンカプラー(ExC−2) 0.03 色像安定剤(Cpd−7) 0.01 色像安定剤(Cpd−9) 0.04 色像安定剤(Cpd−15) 0.19 色像安定剤(Cpd−18) 0.04 溶媒(Solv−5) 0.09。First layer (red-sensitive emulsion layer) Emulsion (red-sensitive emulsion described above) 0.12 Gelatin 0.59 Cyan coupler (ExC-1) 0.13 Cyan coupler (ExC-2) 0.03 Color image stability Agent (Cpd-7) 0.01 Color image stabilizer (Cpd-9) 0.04 Color image stabilizer (Cpd-15) 0.19 Color image stabilizer (Cpd-18) 0.04 Solvent (Solv-5) ) 0.09.

【0223】 第二層(混色防止層) ゼラチン 0.60 混色防止剤(Cpd−19) 0.09 色像安定剤(Cpd−5) 0.007 色像安定剤(Cpd−7) 0.007 紫外線吸収剤(UV−C) 0.05 溶媒(Solv−5) 0.11。Second layer (color mixture prevention layer) Gelatin 0.60 Color mixture prevention agent (Cpd-19) 0.09 Color image stabilizer (Cpd-5) 0.007 Color image stabilizer (Cpd-7) 0.007 UV absorber (UV-C) 0.05 Solvent (Solv-5) 0.11.

【0224】 第三層(緑感性乳剤層) 乳剤(緑感性乳剤) 0.14 ゼラチン 0.73 マゼンタカプラー(ExM) 0.15 紫外線吸収剤(UV−A) 0.05 色像安定剤(Cpd−2) 0.02 色像安定剤(Cpd−7) 0.008 色像安定剤(Cpd−8) 0.07 色像安定剤(Cpd−9) 0.03 色像安定剤(Cpd−10) 0.009 色像安定剤(Cpd−11) 0.0001 溶媒(Solv−3) 0.06 溶媒(Solv−4) 0.11 溶媒(Solv−5) 0.06。Third layer (green-sensitive emulsion layer) Emulsion (green-sensitive emulsion) 0.14 gelatin 0.73 magenta coupler (ExM) 0.15 ultraviolet absorber (UV-A) 0.05 color image stabilizer (Cpd) -2) 0.02 Color image stabilizer (Cpd-7) 0.008 Color image stabilizer (Cpd-8) 0.07 Color image stabilizer (Cpd-9) 0.03 Color image stabilizer (Cpd-10) 0.009 color image stabilizer (Cpd-11) 0.0001 solvent (Solv-3) 0.06 solvent (Solv-4) 0.11 solvent (Solv-5) 0.06.

【0225】 第四層(混色防止層) ゼラチン 0.48 混色防止剤(Cpd−4) 0.07 色像安定剤(Cpd−5) 0.006 色像安定剤(Cpd−7) 0.006 紫外線吸収剤(UV−C) 0.04 溶媒(Solv−5) 0.09。Fourth layer (color mixture prevention layer) Gelatin 0.48 Color mixture prevention agent (Cpd-4) 0.07 Color image stabilizer (Cpd-5) 0.006 Color image stabilizer (Cpd-7) 0.006 UV absorber (UV-C) 0.04 Solvent (Solv-5) 0.09.

【0226】 第五層(青感性乳剤層) 乳剤(表1参照) 0.24 ゼラチン 1.25 イエロ−カプラー(ExY) 0.57 色像安定剤(Cpd−1) 0.07 色像安定剤(Cpd−2) 0.04 色像安定剤(Cpd−3) 0.07 色像安定剤(Cpd−8) 0.02 溶媒(Solv−1) 0.21。Fifth layer (blue-sensitive emulsion layer) Emulsion (see Table 1) 0.24 Gelatin 1.25 Yellow-coupler (ExY) 0.57 Color image stabilizer (Cpd-1) 0.07 Color image stabilizer (Cpd-2) 0.04 Color image stabilizer (Cpd-3) 0.07 Color image stabilizer (Cpd-8) 0.02 Solvent (Solv-1) 0.21.

【0227】 第六層(紫外線吸収層) ゼラチン 0.32 紫外線吸収剤(UV−C) 0.42 溶媒(Solv−7) 0.08。Sixth layer (ultraviolet absorbing layer) Gelatin 0.32 Ultraviolet absorbing agent (UV-C) 0.42 Solvent (Solv-7) 0.08.

【0228】 第七層(保護層) ゼラチン 0.70 ポリビニルアルコールのアクリル変成共重合体 0.04 (変成度17%) 流動パラフィン 0.01 界面活性剤(Cpd−13) 0.01 ポリジメチルシロキサン 0.01 二酸化珪素 0.003。Seventh layer (protective layer) Gelatin 0.70 Acrylic modified copolymer of polyvinyl alcohol 0.04 (Modification degree 17%) Liquid paraffin 0.01 Surfactant (Cpd-13) 0.01 Polydimethylsiloxane 0.01 silicon dioxide 0.003.

【0229】[0229]

【化48】 Embedded image

【0230】[0230]

【化49】 Embedded image

【0231】[0231]

【化50】 Embedded image

【0232】[0232]

【化51】 Embedded image

【0233】[0233]

【化52】 Embedded image

【0234】[0234]

【化53】 Embedded image

【0235】[0235]

【化54】 Embedded image

【0236】[0236]

【化55】 Embedded image

【0237】[0237]

【化56】 Embedded image

【0238】以上のような層構成を持つ感光材料の青感
性層に、表1の乳剤を用いて塗布試料1〜15を得た。
Coating samples 1 to 15 were obtained by using the emulsions shown in Table 1 in the blue-sensitive layer of the light-sensitive material having the above layer constitution.

【0239】(露光)下記露光装置を用い、B、G、R、3色
のレーザー光で3色分解の階調を露光を与えた。その
際、各試料に対して、最適な改良が得られるようにレー
ザー出力を補正した。
(Exposure) Using the following exposure apparatus, exposure was performed with laser light of three colors, B, G, R, to give a gradation of three colors. At that time, the laser output was corrected for each sample so as to obtain the optimum improvement.

【0240】(露光装置)光源は、半導体レーザーGaAlAs
(発振波長;808.5nm)を励起光源としたYAG固体レーザー
(発振波長;946nm)を反転ドメイン構造を有するLiNbO3
のSHG結晶により波長変換して取り出した473nmと、半導
体レーザーGaAlAs(発振波長;808.5nm)を励起光源とし
たYVO4固体レーザー(発振波長;1064nm)を反転ドメイン
構造を有するLiNbO3のSHG結晶により波長変換して取り
出した532nmと、AlGaInP(発振波長;680nm:松下電産製
タイプNo.LN9R20)とを用いた。3色それぞれのレーザー
光はAOMにて強度変調されポリゴンミラーにより走査方
向に対して垂直方向に移動し、カラー印画紙上に、順次
走査露光できるようにした。半導体レーザーの温度によ
る光量変動は、ペルチェ素子を利用して温度が一定に保
たれることで抑えられている。この走査露光は、600dpi
であり、光ビーム径測定装置[1180GP/ビームスキャン
社製(米国)]を用いた光ビーム径測定では、B、G、Rとも
65μmであった(主走査方向径/副走査方向径の差が1%以
内の円形ビームであった)。
(Exposure apparatus) The light source is a semiconductor laser GaAlAs
(Oscillation wavelength: 808.5nm) YAG solid-state laser with excitation light source
(Oscillation wavelength: 946 nm) with LiNbO 3 having an inverted domain structure
The SHG crystal of LiNbO 3 having an inverted domain structure is obtained by using a 473 nm wavelength-converted SHG crystal and a YVO 4 solid-state laser (oscillation wavelength: 1064 nm) using a semiconductor laser GaAlAs (oscillation wavelength: 808.5 nm) as an excitation light source. 532 nm extracted after wavelength conversion and AlGaInP (oscillation wavelength; 680 nm: type No. LN9R20 manufactured by Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.) were used. The laser light of each of the three colors was intensity-modulated by the AOM, moved in the direction perpendicular to the scanning direction by the polygon mirror, and allowed to be sequentially scanned and exposed on color photographic paper. Fluctuations in light intensity due to the temperature of the semiconductor laser are suppressed by using a Peltier element to keep the temperature constant. This scanning exposure is 600dpi
In the light beam diameter measurement using the light beam diameter measuring device [1180GP / manufactured by Beam Scan (USA)], B, G, and R
It was 65 μm (a circular beam having a difference of 1% in the main scanning direction diameter / sub-scanning direction diameter).

【0241】(処理工程の時間; 180秒)以上のよ
うにして露光した試料を富士写真フイルム社CP−45
X処理を行った。
(Processing process time: 180 seconds) The sample exposed as described above was subjected to CP-45 of Fuji Photo Film Co., Ltd.
X processing was performed.

【0242】処理の終了した発色試料を富士写真フイル
ム社製TCD型濃度測定装置を用いて反射濃度を測定し
た。感度はカブリ濃度よりも1.0高い発色濃度を与える
のに必要な露光量の対数で表した。青感性層の感度を表
1に示した。表1では塗布試料1から5に関しては塗布
試料1の感度を0とした相対値で表されており、塗布試
料6〜15の場合には塗布試料6の感度を0とした相対
値で表されている。正の値は感度が高いことを表す。
The color density of the processed color sample was measured using a TCD type densitometer manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. The sensitivity was expressed as the logarithm of the exposure required to give a color density 1.0 higher than the fog density. The sensitivity of the blue-sensitive layer is shown in Table 1. In Table 1, the coating samples 1 to 5 are represented by relative values with the sensitivity of the coating sample 1 being 0, and the coating samples 6 to 15 are represented by relative values with the sensitivity of the coating sample 6 being 0. ing. Positive values indicate high sensitivity.

【0243】(保存安定性試験)さらに、試料の保存安
定性を調べるために、試料を60℃−30%RHの雰囲
気下で2日間保存した後、上記の露光処理を与え、保存
しなかった試料と感度を比較した。感度はかぶり濃度よ
りも0.3高い濃度を与えるのに必要な露光量の対数値
の差で示した。正の値は保存中に増感することを表す。
(Storage Stability Test) Further, in order to examine the storage stability of the sample, the sample was stored in an atmosphere of 60 ° C. and 30% RH for 2 days, and then subjected to the above exposure treatment, and was not stored. The sensitivity was compared with the sample. The sensitivity was indicated by a difference in logarithmic value of the exposure amount required to give a density 0.3 higher than the fog density. Positive values indicate sensitization during storage.

【0244】表1の結果より、本発明に係る乳剤は高感
度であり、さらに保存時の増感が抑制されて安定性が向
上した。さらに、保存時の増感を抑制する効果は立方体
よりも平板粒子でおおきかった。
From the results shown in Table 1, it was found that the emulsion according to the present invention had high sensitivity, and furthermore sensitization during storage was suppressed and stability was improved. Furthermore, the effect of suppressing sensitization during storage was greater for tabular grains than for cubes.

【0245】(実施例2) 処理工程の時間 60秒処理した場合 実施例1の塗布試料1から15に対して、下記に示す処
理時間60秒の処理を行った以外は実施例1と同様の評
価を行った。
(Example 2) In the case where the processing time was 60 seconds, the coating samples 1 to 15 of Example 1 were processed in the same manner as in Example 1 except that the processing time of 60 seconds shown below was applied. An evaluation was performed.

【0246】 処理工程 温度 時間 補充液* タンク容量 カラー現像 45℃ 13秒 35mL 2L 漂白定着 40℃ 13秒 38mL 1L リンス 40℃ 8秒 −−− 1L リンス 40℃ 8秒 −−− 1L リンス 40℃ 8秒 90mL 1L 乾燥 80℃ 10秒 −−− −−− (リンス→へのタンク向流方式とした) *感光材料1m2あたりの補充量。Processing Step Temperature Time Replenisher * Tank capacity Color development 45 ° C 13 seconds 35mL 2L Bleach-fix 40 ° C 13 seconds 38mL 1L Rinse 40 ° C 8 seconds --- 1L rinse 40 ° C 8 seconds --- 1L rinse 40 ° C 8 sec 90 mL 1L drying 80 ° C. 10 seconds --- --- (as a tank countercurrent system to rinse →) * replenishment rate per photosensitive material 1 m 2.

【0247】上記の処理では、リンスの水は逆浸透膜
に圧送し、透過水はリンスに供給し、逆浸透膜を通過
しなかった濃縮水はリンスに戻して使用した。なお、
各リンス間はクロスオーバー時間を短縮するため、槽間
にブレードを設置し、その間に感材を通過させた。ま
た、各工程には特開平8-314088記載の吹き付け装置を用
い吹き付け量を1タンクあたり4〜6L/minに設定して循
環処理液を吹き付けた。
In the above treatment, the rinse water was pumped to the reverse osmosis membrane, the permeated water was supplied to the rinse, and the concentrated water that did not pass through the reverse osmosis membrane was returned to the rinse for use. In addition,
In order to reduce the crossover time between the rinses, a blade was installed between the tanks, and the photosensitive material was passed between them. In each step, a circulating treatment liquid was sprayed by using a spraying device described in JP-A-8-314088 with the spraying amount set to 4 to 6 L / min per tank.

【0248】各処理液の組成は以下の通りである。 カラー現像液 タンク液 補充液 水 700mL 700mL トリイソプロピルナフタレン(β)スルホン酸ナトリウム 0.1g 0.1g エチレンジアミン四酢酸 3.0g 3.0g 1,2-ジヒドロキシベンゼン-4,6-ジスルホン酸二ナトリウム塩 0.5g 0.5g トリエタノールアミン 12.0g 12.0g 塩化カリウム 15.8g −− 臭化カリウム 0.04g −− 炭酸カリウム 27.0g 27.0g 亜硫酸ナトリウム 0.1g 0.1g ジナトリウム-N,N-ビス(スルホナートエチル)ヒドロキシルアミン 18.0g 18.0g N-エチル-N-(β-メタンスルホンアミドエチル) -3-メチル-4-アミノアニリン硫酸塩 8.0g 23.0g ナトリウム-ビス-(2,4-ジスルホナートエチル,1,3,5-トリアジル-6) -ジアミノスチルベン-2,2’-ジスルホナート 5.0g 6.0g 水を加えて 1000mL 1000mL pH(25℃) 10.35 12.80。The composition of each processing solution is as follows. Color developer Tank solution Replenisher Water 700 mL 700 mL Sodium triisopropylnaphthalene (β) sulfonate 0.1 g 0.1 g Ethylenediaminetetraacetic acid 3.0 g 3.0 g 1,2-Dihydroxybenzene-4,6-disulfonate disodium salt 0.5 g 0.5 g Triethanolamine 12.0 g 12.0 g Potassium chloride 15.8 g --- Potassium bromide 0.04 g --- Potassium carbonate 27.0 g 27.0 g Sodium sulfite 0.1 g 0.1 g Disodium-N, N-bis (sulfonatoethyl) hydroxylamine 18.0 g 18.0 g N-ethyl-N- (β-methanesulfonamidoethyl) -3-methyl-4-aminoaniline sulfate 8.0 g 23.0 g sodium-bis- (2,4-disulfonatoethyl, 1,3,5- Triazyl-6) -diaminostilbene-2,2'-disulfonate 5.0 g 6.0 g Water was added to 1000 mL 1000 mL pH (25 ° C) 10.35 12.80.

【0249】漂白定着液は2成分の補充液を下記のよう
に混合して調製した。 漂白定着液 タンク液 補充量(下記量で1m2あたり合計38mL) 第1補充液 260mL 18mL 第2補充液 290mL 20mL 水を加えて 1000mL pH(25℃) 5.0。
The bleach-fix solution was prepared by mixing two replenishers as follows. Bleach-fixer tank solution replenishing amount (total per 1 m 2 in the following weight 38mL) 1000mL pH (25 ℃) by adding first replenisher 260 mL 18 mL second replenisher 290 mL 20 mL water 5.0.

【0250】第1および第2補充液の組成は下記の通りで
ある。 第1補充液 水 150mL エチレンビスグアニジン硝酸塩 30g 亜硫酸アンモニウム・1水塩 226g エチレンジアミン四酢酸 7.5g トリアジニルアミノスチルベン系蛍光増白剤 1.0g (昭和化学(株)製ハッコールFWA-SF) 臭化アンモニウム 30g チオ硫酸アンモニウム(700g/L) 340mL 水を加えて 1000mL pH(25℃) 5.82。
The composition of the first and second replenishers is as follows. First replenisher Water 150 mL Ethylene bisguanidine nitrate 30 g Ammonium sulfite / monohydrate 226 g Ethylenediaminetetraacetic acid 7.5 g Triazinylaminostilbene-based fluorescent whitening agent 1.0 g (Hakor FWA-SF manufactured by Showa Chemical Co., Ltd.) 30 g Ammonium thiosulfate (700 g / L) 340 mL Add water to 1000 mL pH (25 ° C) 5.82.

【0251】第2補充液 水 140mL エチレンジアミン四酢酸 11.0g エチレンジアミン四酢酸鉄(III)アンモニウム 384g 酢酸(50%) 230mL 水を加えて 1000mL pH(25℃) 3.35。 リンス液 イオン交換水(Ca、Mg各々3ppm以下)。Second replenisher Water 140 mL Ethylenediaminetetraacetic acid 11.0 g Ammonium iron (III) ethylenediaminetetraacetate 384 g Acetic acid (50%) 230 mL Water was added to the solution to make 1000 mL pH (25 ° C.) 3.35. Rinse liquid Ion-exchanged water (Ca and Mg each less than 3 ppm).

【0252】結果を表2に示した。迅速処理の系でも本
発明の効果である高感度化および保存安定性の向上は観
測された。前記効果は迅速処理の場合はより少ない添加
量から有効であった。
The results are shown in Table 2. Even in a rapid processing system, the effects of the present invention such as higher sensitivity and improved storage stability were observed. The effect was effective from a smaller amount in the case of rapid processing.

【0253】[0253]

【表2】 [Table 2]

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03C 1/035 G03C 1/035 K L M 1/09 1/09 5/26 5/26 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G03C 1/035 G03C 1/035 KL M 1/09 1/09 5/26 5/26

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に少なくとも一層の感光性層を
有するハロゲン化銀写真感光材料において、該感光性層
に、下記一般式(I)の化合物および少なくとも90モ
ル%の塩化銀を含むハロゲン化銀粒子を含有し、該粒子
の全投影面積の90%以上が、平均アスペクト比5以
上、平均厚さ0.20μm以下の平板粒子であるハロゲ
ン化銀乳剤を含むことを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料。 一般式(I) (X)k−(L)m−(A−B)n 式中、XはN、S、P、SeおよびTeから成る群から
選択される少なくとも一つの原子を有するハロゲン化銀
吸着基または光吸収基を表す。LはC、N、SおよびO
から成る群から選択される少なくとも一つの原子を有す
る2価の連結基を表す。Aは電子供与基を表し、Bは脱
離基または水素原子を表し、酸化後、離脱または脱プロ
トンされてラジカルAを生成する。kおよびmは各々
独立に0〜3の整数を表し、nは1または2を表す。
1. A silver halide photographic material having at least one light-sensitive layer on a support, wherein the light-sensitive layer contains a compound represented by the following general formula (I) and a halogen containing at least 90 mol% of silver chloride. A halide comprising silver halide grains, wherein at least 90% of the total projected area of the grains is a tabular grain having an average aspect ratio of 5 or more and an average thickness of 0.20 μm or less. Silver photographic photosensitive material. Formula (I) (X) k- (L) m- (AB) n wherein X is a halogenated atom having at least one atom selected from the group consisting of N, S, P, Se and Te. Represents a silver adsorption group or a light absorption group. L is C, N, S and O
Represents a divalent linking group having at least one atom selected from the group consisting of A represents an electron donating group, B represents a leaving group or a hydrogen atom, after oxidation, is disengaged or deprotonated to generate a radical A · in. k and m each independently represent an integer of 0 to 3, and n represents 1 or 2.
【請求項2】 前記平板粒子の厚さの変動係数が20%
以下であることを特徴とする請求項1に記載のハロゲン
化銀写真感光材料。
2. The coefficient of variation of the thickness of the tabular grains is 20%.
2. The silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記平板粒子の円相当直径の変動係数が
22%以下であることを特徴とする請求項1または2に
記載のハロゲン化銀写真感光材料。
3. The silver halide photographic material according to claim 1, wherein the coefficient of variation of the equivalent circle diameter of the tabular grains is 22% or less.
【請求項4】 前記平板粒子が{111}主平面を有す
ることを特徴とする請求項1、2または3に記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料。
4. The silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1, wherein the tabular grains have a {111} major plane.
【請求項5】 前記ハロゲン化銀粒子が銀に対して0.
1モル%〜0.8モル%の沃化銀を含むことを特徴とす
る請求項1〜4のいずれか1項に記載のハロゲン化銀写
真感光材料。
5. The method according to claim 1, wherein the silver halide grains have a silver content of 0.
5. The silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1, comprising 1 mol% to 0.8 mol% of silver iodide.
【請求項6】 前記ハロゲン化銀粒子が銀に対して0.
1モル%〜4モル%の臭化銀を含むことを特徴とする請
求項1〜5のいずれか1項に記載のハロゲン化銀写真感
光材料。
6. A method according to claim 1, wherein said silver halide grains have a silver content of 0.
The silver halide photographic material according to any one of claims 1 to 5, comprising 1 mol% to 4 mol% of silver bromide.
【請求項7】 前記ハロゲン化銀粒子がコアとシェルか
らなっており、シェル部の沃化銀含有率が1〜13モル
%であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項
に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
7. The silver halide grain according to claim 1, wherein the silver halide grains comprise a core and a shell, and the silver iodide content of the shell portion is 1 to 13 mol%. 2. The silver halide photographic light-sensitive material described in 1. above.
【請求項8】 前記ハロゲン化銀粒子中に臭化銀濃度が
6モル%以上異なる臭化銀局在相を含むことを特徴とす
る請求項1〜7のいずれか1項に記載のハロゲン化銀写
真感光材料。
8. The halide according to claim 1, wherein the silver halide grains contain a silver bromide localized phase having a silver bromide concentration of 6 mol% or more. Silver photographic photosensitive material.
【請求項9】 前記臭化銀局在相中に、粒子の全銀量に
対して1×10-8モル%〜1×10-5モル%のIr化合
物を含有することを特徴とする請求項8に記載のハロゲ
ン化銀写真感光材料。
9. The silver bromide localized phase contains 1 × 10 −8 mol% to 1 × 10 −5 mol% of an Ir compound based on the total silver content of the grains. Item 8. The silver halide photographic material according to Item 8.
【請求項10】 60秒以下の処理工程時間で処理され
ることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか1項に記
載のハロゲン化銀写真感光材料。
10. The silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1, which is processed in a processing time of 60 seconds or less.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004095133A1 (en) * 2003-04-23 2004-11-04 Konica Minolta Photo Imaging, Inc. Method of forming image with silver halide color photographic lightsensitive material and silver halide color photographic lightsensitive material

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