JP2002243936A - Optical filter and method for manufacturing optical filter - Google Patents

Optical filter and method for manufacturing optical filter

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JP2002243936A
JP2002243936A JP2001042615A JP2001042615A JP2002243936A JP 2002243936 A JP2002243936 A JP 2002243936A JP 2001042615 A JP2001042615 A JP 2001042615A JP 2001042615 A JP2001042615 A JP 2001042615A JP 2002243936 A JP2002243936 A JP 2002243936A
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JP
Japan
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film
interference filter
forming
substrate
layer
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Application number
JP2001042615A
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Japanese (ja)
Inventor
Mitsuru Hirose
満 広瀬
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Nidec Copal Electronics Corp
Original Assignee
Nidec Copal Electronics Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical filter optimum for fast rotation in which the deposition time of films can be decreased and the weight balance is easily obtained. SOLUTION: The optical filter is manufactured by dividing one sheet of planar transparent substrate which transmits light into a plurality of regions, fixing an interference filter layer consisting of a dielectric multilayered film formed on another substrate for film deposition to the respective regions, and then removing the substrate for film deposition.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばプロジェク
ションTV、撮像装置等において、色分解のために使用
される光学フィルタ及びその光学フィルタの製造方法に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical filter used for color separation in, for example, a projection TV, an image pickup apparatus, and the like, and a method for manufacturing the optical filter.

【0002】[0002]

【従来の技術】プロジェクションTV等の構成として、
時分割カラー方式が知られているが、この時分割カラー
方式は、透明基板の所定角度毎に異なる干渉フィルタ膜
が形成された略円盤状の光学フィルタを回転させ、光源
が各干渉フィルタ膜を通過する際に、RGBの各色に分
解されることを利用するものである。この光学フィルタ
の製造方法としては、例えば、1枚の透明基板に各色に
対応した干渉フィルタ膜を、所定角度毎に順次成膜する
方法や、各色に対応した干渉フィルタ膜を、透明基板と
ほぼ同じ形状のガラス基板全面に成膜し、このガラス基
板を所定の角度毎に切断し、透明基板にこのガラス基板
ごと貼り付ける方法が用いられている。
2. Description of the Related Art As a configuration of a projection TV or the like,
A time-division color method is known. In this time-division color method, a substantially disc-shaped optical filter on which a different interference filter film is formed at a predetermined angle of a transparent substrate is rotated, and a light source controls each interference filter film. It utilizes the fact that it is separated into RGB colors when passing. As a method of manufacturing the optical filter, for example, a method of sequentially forming an interference filter film corresponding to each color on a single transparent substrate at a predetermined angle, or a method of forming an interference filter film corresponding to each color substantially on a transparent substrate A method is used in which a film is formed on the entire surface of a glass substrate having the same shape, the glass substrate is cut at predetermined angles, and the glass substrate is attached to a transparent substrate.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、順次成膜する
方法では、1つの光学フィルタを得るために、3種類の
成膜工程が必要であることから、ガラス基板全面に同種
の干渉フィルタ膜を成膜する場合に比べて、およそ3倍
の成膜時間が必要になるという問題があった。また、別
のガラス基板全面に同種の干渉フィルタ膜を成膜する方
法では、成膜時間は短縮できるものの、切断したガラス
基板の重量バランスが取り難いため、光学フィルタを高
速回転させた際に騒音が発生したり、モータ寿命が短く
なるという問題があった。
However, in the method of sequentially forming a film, three types of film forming steps are required to obtain one optical filter. Therefore, the same type of interference filter film is formed on the entire surface of the glass substrate. There is a problem that the film formation time is about three times as long as the case of forming a film. Further, in the method of forming the same type of interference filter film on the entire surface of another glass substrate, although the film formation time can be reduced, it is difficult to balance the weight of the cut glass substrate. And the life of the motor is shortened.

【0004】本発明は以上のような従来の欠点に鑑み、
これらの欠点を除去するためになされたものであり、成
膜時間の短縮が可能で、重量バランスが取り易い、高速
回転に最適な光学フィルタを得ることを目的としてい
る。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional drawbacks,
The purpose of the present invention is to eliminate these drawbacks, and it is an object of the present invention to obtain an optical filter that can shorten the film forming time, easily balance the weight, and is optimal for high-speed rotation.

【0005】本発明の目的と新規な特徴は、次の説明を
添付図面と照らし合わせて読むことにより、より完全に
明らかになるであろう。ただし、図面はもっぱら解説の
ためのものであって、本発明の技術的範囲を限定するも
のではない。
The objects and novel features of the invention will become more fully apparent from the following description read in conjunction with the accompanying drawings. However, the drawings are merely for explanation and do not limit the technical scope of the present invention.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は光を透過する1枚の板状の透明基板を複数
の領域に分割し、別途成膜用基板上に形成した誘電体多
層膜からなる干渉フィルタ層をそれぞれの領域に固着し
た後、前記成膜用基板を除去することにより光学フィル
タを構成している。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention divides a single plate-shaped transparent substrate which transmits light into a plurality of regions, and separately forms the transparent substrate on a film-forming substrate. An optical filter is formed by fixing an interference filter layer composed of a body multilayer film to each region and then removing the film-forming substrate.

【0007】また、前記干渉フィルタ層を光路に応じた
形状に形成することにより光学フィルタを構成してい
る。
In addition, an optical filter is formed by forming the interference filter layer into a shape corresponding to an optical path.

【0008】さらに、前記干渉フィルタ層を覆う保護部
材を設けることにより光学フィルタを構成している。
Further, an optical filter is constructed by providing a protective member for covering the interference filter layer.

【0009】また、(a)成膜用基板に成膜ベース層を
形成する工程と、(b)前記成膜ベース層上に干渉フィ
ルタ層を形成する工程と、(c)前記干渉フィルタ層を
成膜用基板ごと切断し、干渉フィルタ部を形成する工程
と、(d)前記干渉フィルタ部の干渉フィルタ層が前記
透明基板に相対する向きで、前記透明基板の所定の箇所
に該干渉フィルタ部を固着する工程と、(e)前記干渉
フィルタ部が前記透明基板に固着された後、前記成膜ベ
ース層と前記成膜用基板とを剥離する工程と、を有する
ことにより光学フィルタの製造方法を構成している。
(A) forming a film-forming base layer on a film-forming substrate; (b) forming an interference filter layer on the film-forming base layer; and (c) forming the interference filter layer on the film-forming base layer. Cutting the entire film forming substrate to form an interference filter portion; and (d) forming the interference filter portion at a predetermined position on the transparent substrate in a direction in which the interference filter layer of the interference filter portion faces the transparent substrate. And (e) peeling off the film-forming base layer and the film-forming substrate after the interference filter portion is fixed to the transparent substrate, thereby producing an optical filter. Is composed.

【0010】さらに、(a)成膜用基板に成膜ベース層
を形成する工程と、(b)前記成膜ベース層上に干渉フ
ィルタ層を形成する工程と、(c)前記干渉フィルタ層
を成膜用基板ごと切断し、干渉フィルタ部を形成する工
程と、(d)前記干渉フィルタ部の干渉フィルタ層が前
記透明基板に相対する向きで、前記透明基板の所定の箇
所に該干渉フィルタ部を固着する工程と、(e)前記干
渉フィルタ部が前記透明基板に固着された後、前記干渉
フィルタ層と前記成膜ベース層とを剥離する工程とを有
することにより光学フィルタの製造方法を構成してい
る。
Further, (a) a step of forming a film-forming base layer on a film-forming substrate; (b) a step of forming an interference filter layer on the film-forming base layer; Cutting the entire film forming substrate to form an interference filter portion; and (d) forming the interference filter portion at a predetermined position on the transparent substrate in a direction in which the interference filter layer of the interference filter portion faces the transparent substrate. And (e) peeling off the interference filter layer and the film-forming base layer after the interference filter portion is fixed to the transparent substrate, thereby forming an optical filter manufacturing method. are doing.

【0011】加えて、(a)成膜用基板に成膜ベース層
を形成する工程と、(b)前記成膜ベース層上に干渉フ
ィルタ層を形成する工程と、(c)前記干渉フィルタ層
を成膜用基板ごと切断し、干渉フィルタ部を形成する工
程と、(d)前記干渉フィルタ部の干渉フィルタ層が前
記透明基板に相対する向きで、前記透明基板の所定の箇
所に該干渉フィルタ部を固着する工程と、(e)前記干
渉フィルタ部が前記透明基板に固着された後、前記成膜
ベース層を除去する工程とを有することにより光学フィ
ルタの製造方法を構成している。
In addition, (a) a step of forming a film-forming base layer on a film-forming substrate, (b) a step of forming an interference filter layer on the film-forming base layer, and (c) a step of forming the interference filter layer Forming an interference filter portion by cutting the substrate together with the film-forming substrate; and (d) forming the interference filter portion at a predetermined position on the transparent substrate so that the interference filter layer of the interference filter portion faces the transparent substrate. And (e) removing the film-forming base layer after the interference filter section is fixed to the transparent substrate, thereby forming the optical filter manufacturing method.

【0012】また、前記成膜用基板毎に、同種の干渉フ
ィルタ層を形成することにより光学フィルタの製造方法
を構成している。
Further, a method of manufacturing an optical filter is constituted by forming the same type of interference filter layer for each of the film forming substrates.

【0013】さらに、前記成膜用基板が親水性材料から
なり、前記成膜ベース層が疎水性プラスチック材料から
なることにより光学フィルタの製造方法を構成してい
る。
Further, the method for manufacturing an optical filter is constituted such that the film-forming substrate is made of a hydrophilic material and the film-forming base layer is made of a hydrophobic plastic material.

【0014】加えて、前記成膜用基板と前記成膜ベース
層との接合強度を高め、前記成膜ベース層と前記干渉フ
ィルタ層との接合強度を弱めることにより光学フィルタ
の製造方法を構成している。
In addition, a method for manufacturing an optical filter is constituted by increasing the bonding strength between the film forming substrate and the film forming base layer and weakening the bonding strength between the film forming base layer and the interference filter layer. ing.

【0015】また、前記成膜ベース層が感光レジストで
あることにより光学フィルタの製造方法を構成してい
る。
Further, the method for manufacturing an optical filter is constituted by the fact that the film-forming base layer is a photosensitive resist.

【0016】さらに、前記成膜ベース層を所定の形状に
パターニングした後、前記干渉フィルタ層を形成するこ
とにより光学フィルタの製造方法を構成している。
Further, a method for manufacturing an optical filter is constituted by forming the interference filter layer after patterning the film-forming base layer into a predetermined shape.

【0017】[0017]

【実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明の実施
の形態を詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

【0018】図1乃至図3の本発明の第1の実施の形態
の光学フィルタの製造方法及び光学フィルタを示す図に
おいて、1aはガラス等の板状の親水性材料からなる成
膜用基板で、3はフッ素化ポリイミド、アクリル系プラ
スチック等の疎水性プラスチックからなる成膜ベース
層、5a,5b,5cは誘電体多層膜からなる干渉フィ
ルタ層、7は光学接着剤、31はガラス等の光を透過す
る略円板状の透明基板である。
FIGS. 1 to 3 show a method of manufacturing an optical filter and an optical filter according to a first embodiment of the present invention. In FIG. 1, reference numeral 1a denotes a film-forming substrate made of a plate-like hydrophilic material such as glass. Numeral 3 is a film-forming base layer made of a hydrophobic plastic such as fluorinated polyimide or acrylic plastic, 5a, 5b, 5c is an interference filter layer made of a dielectric multilayer film, 7 is an optical adhesive, and 31 is light such as glass. Is a substantially disc-shaped transparent substrate that transmits light.

【0019】図1の製造工程を示す図において、(a)
で、成膜用基板1aに成膜ベース層3を形成し、(b)
で、イオンアシスト蒸着等の方法により、RGB各色に
応じた干渉フィルタ層5aを成膜する。(c)で、成膜
用基板1a上に形成された成膜ベース層3及び干渉フィ
ルタ層5aを、成膜用基板1aごと必要な大きさ・形状
に切断し、干渉フィルタ部11aを形成する。(d)
で、干渉フィルタ部11aを裏表逆にして、干渉フィル
タ層5aが透明基板31に相対するようにするととも
に、光学接着剤7を介して、透明基板31の所定の箇所
に、前記干渉フィルタ部11aを固着させる。(e)
で、成膜ベース層3と成膜用基板1aとを剥離させ、不
要となった成膜用基板1aを取り除く。上記(a)乃至
(e)の工程を3回繰り返すことにより、RGBすべて
の干渉フィルタ層5a,5b,5cを透明基板31上に
固着することができ、本発明の第1の実施の形態の光学
フィルタが完成する。
In the drawings showing the manufacturing process of FIG. 1, (a)
To form a film-forming base layer 3 on the film-forming substrate 1a, and (b)
Then, the interference filter layer 5a corresponding to each color of RGB is formed by a method such as ion-assisted vapor deposition. In (c), the film-forming base layer 3 and the interference filter layer 5a formed on the film-forming substrate 1a are cut into a required size and shape together with the film-forming substrate 1a to form the interference filter portion 11a. . (D)
Then, the interference filter portion 11a is turned upside down so that the interference filter layer 5a faces the transparent substrate 31, and the interference filter portion 11a is placed on a predetermined portion of the transparent substrate 31 via the optical adhesive 7. Is fixed. (E)
Then, the film forming base layer 3 and the film forming substrate 1a are separated from each other, and the unnecessary film forming substrate 1a is removed. By repeating the above steps (a) to (e) three times, all the interference filter layers 5a, 5b, 5c of RGB can be fixed on the transparent substrate 31, and the first embodiment of the present invention can be fixed. The optical filter is completed.

【0020】ここで、成膜用基板1a(あるいは1b,
1c)と成膜ベース層3とは、各々親水性材料と疎水性
材料とからなっているため、お互いの接合強度が弱く、
逆に成膜ベース層3と干渉フィルタ層5a(あるいは5
b,5c)は、イオンアシスト効果により、お互いの表
面が物理的に強固に固着するために接合強度が高く、干
渉フィルタ層5a(あるいは5b,5c)と透明基板3
1とはお互いに親水性材料からなっているため密着性が
良好で、光学接着剤により簡単に高い接合強度を得るこ
とができる。この接合強度の差を利用して、簡単に干渉
フィルタ層5a(あるいは5b,5c)を透明基板31
の所定の箇所に転写することができる。特に転写時に
は、成膜された干渉フィルタ層5a(あるいは5b,5
c)は、干渉フィルタ部11a(あるいは11b,11
c)を構成する成膜用基板1a(あるいは1b,1c)
により、その形状が確実に維持されるため、成膜用基板
1a(あるいは1b,1c)に、干渉フィルタ層5a
(あるいは5b,5c)を成膜した状態のまま、透明基
板31上に固着することができる。
Here, the film forming substrate 1a (or 1b,
1c) and the film-forming base layer 3 are made of a hydrophilic material and a hydrophobic material, respectively, so that their mutual bonding strength is weak,
Conversely, the deposition base layer 3 and the interference filter layer 5a (or 5
b, 5c) have a high bonding strength because their surfaces are physically and firmly fixed by the ion assist effect, and the interference filter layer 5a (or 5b, 5c) and the transparent substrate 3
1 is made of a hydrophilic material, and therefore has good adhesion, and can easily obtain high bonding strength by using an optical adhesive. The interference filter layer 5a (or 5b, 5c) can be easily formed on the transparent substrate 31 by utilizing this difference in bonding strength.
At a predetermined location. In particular, at the time of transfer, the formed interference filter layer 5a (or 5b,
c) is the interference filter unit 11a (or 11b, 11b).
film forming substrate 1a (or 1b, 1c) constituting c)
As a result, the shape is reliably maintained, so that the interference filter layer 5a is formed on the deposition substrate 1a (or 1b, 1c).
(Or 5b, 5c) can be fixed on the transparent substrate 31 in a state where the film is formed.

【0021】このように本発明の第1の実施の形態にお
いては、RGBの各色に対応した干渉フィルタ層(干渉
フィルタ部11a,11b,11c)を、一時に複数個
作成することができるため、1つの透明基板に順次成膜
する場合に比べて、成膜時間を実質的に短縮することが
できるとともに、重量の重い成膜用基板を透明基板に固
着する必要がないため、重量バランスが取り易く、高速
回転に適した光学フィルタを得ることができる。
As described above, in the first embodiment of the present invention, a plurality of interference filter layers (interference filter portions 11a, 11b, 11c) corresponding to each color of RGB can be formed at one time. Compared to the case of sequentially forming a film on one transparent substrate, the film forming time can be substantially reduced, and it is not necessary to fix a heavy film-forming substrate to the transparent substrate. An optical filter which is easy and suitable for high-speed rotation can be obtained.

【0022】次に、本発明の他の実施の形態について図
4乃至図10を参照して説明する。
Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0023】なお、本発明の第1の実施の形態の光学フ
ィルタと同一の構成については同一の符号を付与するこ
とにより、その説明を省略する。
The same components as those of the optical filter according to the first embodiment of the present invention are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0024】図4乃至図7の本発明の第2の実施の形態
の光学フィルタが、本発明の第1の実施の形態の光学フ
ィルタと主に異なる点は、成膜ベース層を所定の形状に
パターニングしたことにある。
The optical filter according to the second embodiment of the present invention shown in FIGS. 4 to 7 is mainly different from the optical filter according to the first embodiment of the present invention in that the film-forming base layer has a predetermined shape. Patterning.

【0025】図4は、第2の実施の形態の光学フィルタ
の製造工程を示したもので、第1の実施の形態の光学フ
ィルタの製造工程に比べて、(ア)の成膜ベース層をパ
ターニングする工程が追加されている。(ア)の成膜ベ
ース層のパターニングにより、成膜ベース層3は、断面
形状で段差を生じるため、(b)工程が終了した時点
で、成膜ベース層3がある部分とない部分に形成された
干渉フィルタ層5aにも断面形状で段差を生じ、(e)
工程が終了した時点の干渉フィルタ層5aは、パターニ
ングされた成膜ベース層3とほぼ同じ形状になる。
FIG. 4 shows a manufacturing process of the optical filter according to the second embodiment. Compared with the manufacturing process of the optical filter according to the first embodiment, (a) the film-forming base layer is used. A patterning step has been added. (A) The patterning of the film-forming base layer causes the film-forming base layer 3 to have a step in its cross-sectional shape. A step is generated in the cross-sectional shape of the interference filter layer 5a thus formed, and (e)
The interference filter layer 5a at the time when the process is completed has almost the same shape as the patterned film-forming base layer 3.

【0026】図5は、成膜ベース層3のパターニングの
一例を示したもので、図6は、個々の干渉フィルタ部1
1apの一例を、図7は、これにより製造される光学フ
ィルタの一例を示したものである。
FIG. 5 shows an example of patterning of the film-forming base layer 3, and FIG.
FIG. 7 shows an example of an optical filter manufactured by the above method.

【0027】このように、本発明の第2の実施の形態の
光学フィルタにあっては、本発明の第1の実施の形態の
光学フィルタと同様の効果を得ることができるととも
に、光源の光路に応じた形状の干渉フィルタ層を形成す
ることができるため、材料の無駄を省き、1回の成膜に
おける干渉フィルタ部の製造個数を増加することができ
るとともに、光学フィルタの小型化や軽量化を図ること
ができる。
As described above, in the optical filter according to the second embodiment of the present invention, the same effect as that of the optical filter according to the first embodiment of the present invention can be obtained, and the optical path of the light source can be obtained. Since the interference filter layer having a shape corresponding to the shape of the optical filter can be formed, waste of material can be reduced, the number of interference filter portions manufactured in one film formation can be increased, and the size and weight of the optical filter can be reduced. Can be achieved.

【0028】図8の本発明の第3の実施の形態の光学フ
ィルタが、本発明の第1、第2の実施の形態の光学フィ
ルタと主に異なる点は、干渉フィルタ部が透明基板に固
着された後、干渉フィルタ層と成膜ベース層とを剥離し
たことにある。
The optical filter of the third embodiment of the present invention shown in FIG. 8 is mainly different from the optical filters of the first and second embodiments of the present invention in that an interference filter portion is fixed to a transparent substrate. After that, the interference filter layer and the film-forming base layer are separated.

【0029】(a)〜(d)までの工程は、図1あるい
は図4の(a)〜(d)までの工程とほぼ同じである
が、(e)の干渉フィルタ部11dの成膜用基板1aを
剥離する工程で、成膜用基板1aと成膜ベース層3との
間で剥離するのではなく、干渉フィルタ層5aと成膜ベ
ース層3との間で剥離することにより、透明基板31上
には干渉フィルタ層5aのみが固着される構造となる。
このため、より軽量化され、凹凸の少ない光学フィルタ
を得ることができる。
The steps (a) to (d) are almost the same as the steps (a) to (d) of FIG. 1 or FIG. In the step of peeling the substrate 1a, the transparent substrate is not peeled between the film forming substrate 1a and the film forming base layer 3 but is peeled between the interference filter layer 5a and the film forming base layer 3. On the base 31, only the interference filter layer 5a is fixed.
Therefore, it is possible to obtain an optical filter that is lighter and has less unevenness.

【0030】ここで、干渉フィルタ層と成膜ベース層と
の剥離を良好に行うための方法について詳細に説明す
る。(a)ガラス等の親水性材料からなる成膜用基板1
aに、HMDS(ヘキサメチルジシラザン)等を用い
て、成膜用基板1aと成膜ベース層3との接合強度を高
める処理を行った後、(a)工程により、疎水性プラス
チックを塗布あるいは疎水性プラスチックフィルムを貼
り付けることにより成膜ベース層3を形成する。ここ
で、図示はしていないが、成膜ベース層3をパターニン
グした場合には、成膜ベース層3のパターニングが終了
した時点で、成膜用基板1aが露出した部分について
は、接合強度を高めるために形成された層は成膜ベース
層3とともに除去される。(b)の干渉フィルタ層5a
を成膜する工程において、最初の数層はイオンアシスト
を行わず、干渉フィルタ層5aと成膜ベース層3との接
合強度を低くしておく。イオンアシストを行わない場合
には、干渉フィルタ層5a(誘電体多層膜)の構成要素
であるSiO2やTiO2は親水性であるため、疎水性
である成膜ベース層3との接合強度は極めて低くなる。
このように、成膜用基板1a(あるいは1b,1c)と
成膜ベース層3との接合強度を高くし、成膜ベース層3
と干渉フィルタ層5a(あるいは5b,5c)との接合
強度を低くすることにより、(e)の成膜用基板1a
(あるいは1b,1c)を剥離する工程では、成膜用基
板1aとともに成膜ベース層3を剥離することができ
る。なお、(d)の干渉フィルタ部11d(あるいは1
1e,11f)を透明基板31に固着する工程におい
て、固着前に透明基板31の固着面を薄いHF液等に軽
く浸し、表面をH基で覆うことにより、干渉フィルタ層
5a(あるいは5b,5c)と透明基板31との接合強
度を得られやすい状態にすることができる。
Here, a method for favorably separating the interference filter layer and the film-forming base layer will be described in detail. (A) Film-forming substrate 1 made of a hydrophilic material such as glass
a) is subjected to a process of increasing the bonding strength between the film-forming substrate 1a and the film-forming base layer 3 by using HMDS (hexamethyldisilazane) or the like. The film forming base layer 3 is formed by attaching a hydrophobic plastic film. Here, although not shown, when the film-forming base layer 3 is patterned, when the patterning of the film-forming base layer 3 is completed, the bonding strength of the exposed portion of the film-forming substrate 1a is reduced. The layer formed for heightening is removed together with the deposition base layer 3. (B) Interference filter layer 5a
In the step of forming a film, the first few layers are not subjected to ion assist, and the bonding strength between the interference filter layer 5a and the film forming base layer 3 is reduced. When ion assist is not performed, since the SiO2 and TiO2 constituents of the interference filter layer 5a (dielectric multilayer film) are hydrophilic, the bonding strength with the hydrophobic film-forming base layer 3 is extremely low. Become.
As described above, the bonding strength between the film formation substrate 1a (or 1b, 1c) and the film formation base layer 3 is increased, and the film formation base layer 3
By lowering the bonding strength between the substrate and the interference filter layer 5a (or 5b, 5c), the film formation substrate 1a of FIG.
In the step of peeling (or 1b, 1c), the film-forming base layer 3 can be peeled together with the film-forming substrate 1a. It should be noted that the interference filter unit 11d of (d) (or 1
1e, 11f) in the step of fixing to the transparent substrate 31, before fixing, the fixing surface of the transparent substrate 31 is lightly immersed in a thin HF solution or the like, and the surface is covered with an H group to thereby form the interference filter layer 5a (or 5b, 5c). ) And the transparent substrate 31 can be made in a state where the bonding strength can be easily obtained.

【0031】図9の本発明の第4の実施の形態の光学フ
ィルタが、本発明の第1乃至第3の実施の形態の光学フ
ィルタと主に異なる点は、干渉フィルタ部が透明基板に
固着された後、成膜ベース層をエッチング等の方法によ
り除去したことにある。
The optical filter of the fourth embodiment of the present invention shown in FIG. 9 is mainly different from the optical filters of the first to third embodiments of the present invention in that an interference filter portion is fixed to a transparent substrate. After that, the film-forming base layer is removed by a method such as etching.

【0032】(a)〜(d)までの工程は、図1あるい
は図4の(a)〜(d)までの工程とほぼ同じである
が、(e)の干渉フィルタ部11gの成膜用基板1aを
剥離する工程で、成膜用基板1aと成膜ベース層3gあ
るいは成膜ベース層3gと干渉フィルタ層5aとの間で
剥離するのではなく、成膜ベース層3gそのものをエッ
チング等の方法で除去することにより、透明基板31上
には干渉フィルタ層5aのみが固着される構造となる。
このため、本発明の第3の実施の形態と同様の効果を得
ることができる。
The steps (a) to (d) are almost the same as the steps (a) to (d) of FIG. 1 or FIG. In the step of peeling the substrate 1a, the film-forming base layer 3g itself is subjected to etching or the like instead of peeling between the film-forming substrate 1a and the film-forming base layer 3g or between the film-forming base layer 3g and the interference filter layer 5a. By removing by the method, only the interference filter layer 5a is fixed on the transparent substrate 31.
Therefore, the same effect as in the third embodiment of the present invention can be obtained.

【0033】ここで、成膜ベース層を除去する方法につ
いて詳細に説明する。(a)ガラス等の親水性材料から
なる成膜用基板1aに、アルカリ可溶のポジレジストを
塗布するあるいはポジ形の感光フィルムを貼り付けるこ
とにより成膜ベース層3を形成する。ここで、図4
(ア)に示すように、成膜ベース層3をパターニングす
ることも可能である。(b)の干渉フィルタ層5aを蒸
着により成膜する。このとき、レジストが溶解不可能に
ならない範囲内であれば、イオンアシストを行っても構
わない。(d)の干渉フィルタ部11g(あるいは11
h,11i)を透明基板31に固着する工程において、
固着前に透明基板31の固着面を薄いHF液等に軽く浸
し、表面をH基で覆うことにより、干渉フィルタ層5a
(あるいは5b,5c)と透明基板31との接合強度が
得られやすい状態にすることができる。(e’)の透明
基板31を剥離する工程では、透明基板31と干渉フィ
ルタ部11gとがより密着するように軽く加圧した状態
で、成膜用基板1a(あるいは1b,1c)の側から露
光を行い、ポジレジストに浸すことにより、成膜ベース
層3gを除去することにより、成膜用基板1aを透明基
板31から剥離する。その後、真空中で加熱処理を行う
ことにより、透明基板31と干渉フィルタ層5aとがO
H結合され、接合強度を高めることができる。
Here, a method for removing the film-forming base layer will be described in detail. (A) A film-forming base layer 3 is formed by applying an alkali-soluble positive resist or attaching a positive photosensitive film to a film-forming substrate 1a made of a hydrophilic material such as glass. Here, FIG.
As shown in (a), the film formation base layer 3 can be patterned. The (b) interference filter layer 5a is formed by vapor deposition. At this time, ion assist may be performed as long as the resist does not become insoluble. The interference filter unit 11g of (d) (or 11
h, 11i) in the step of fixing to the transparent substrate 31,
Before the fixing, the fixing surface of the transparent substrate 31 is lightly immersed in a thin HF solution or the like, and the surface is covered with an H group.
(Or 5b, 5c) and the transparent substrate 31 can be easily brought to a bonding strength. In the step (e ′) of peeling off the transparent substrate 31, the transparent substrate 31 and the interference filter portion 11 g are lightly pressed so as to be more intimately contacted with each other from the film forming substrate 1 a (or 1 b, 1 c) side. Exposure is performed, and the substrate 1a for film formation is peeled from the transparent substrate 31 by removing the film formation base layer 3g by immersing in the positive resist. Thereafter, by performing a heat treatment in a vacuum, the transparent substrate 31 and the interference filter layer 5a are
It is H-bonded and can increase the bonding strength.

【0034】図10の本発明の第5の実施の形態の光学
フィルタが、本発明の第1乃至第4の実施の形態の光学
フィルタと主に異なる点は、干渉フィルタ層を覆う保護
部材を設けたことにある。
The optical filter of the fifth embodiment of the present invention shown in FIG. 10 is different from the optical filters of the first to fourth embodiments of the present invention mainly in that a protective member for covering the interference filter layer is provided. It has been provided.

【0035】図10の(A)乃至(C)は、透明基板3
1にすべての干渉フィルタ層(5a,5b,5c等)を
固着した後に、熱軟化フィルムからなる保護部材15a
を、真空加熱することにより、成膜ベース層3あるいは
干渉フィルタ層5a,5b,5cと密着させ、干渉フィ
ルタ層5a等を覆っている。図10の(D)は、透明基
板31にすべての干渉フィルタ層(5a,5b,5c
等)を固着した後に、液状のシリコンゴム17を干渉フ
ィルタ層5a等の周辺に塗布した後、ガラス等の板材か
らなる保護部材15bを被せて固着することにより、干
渉フィルタ層5等aを覆っている。
FIGS. 10A to 10C show the transparent substrate 3.
1, after fixing all the interference filter layers (5a, 5b, 5c, etc.) to the protective member 15a made of a heat-softening film.
Is vacuum-heated to adhere to the film-forming base layer 3 or the interference filter layers 5a, 5b, 5c to cover the interference filter layer 5a and the like. FIG. 10D shows that all the interference filter layers (5a, 5b, 5c) are formed on the transparent substrate 31.
After the liquid silicone rubber 17 is applied around the interference filter layer 5a and the like, the protective member 15b made of a plate material such as glass is covered and fixed, thereby covering the interference filter layer 5 and the like. ing.

【0036】このように、干渉フィルタ層を覆う保護部
材を設けたことにより、光学フィルタを高速で回転した
場合にあっても、回転による乱流を低減することがで
き、騒音の発生を抑制することができるとともに、干渉
フィルタ層の剥離を未然に防止することができる。ま
た、干渉フィルタ層を汚れや埃、傷等から保護すること
ができ、寿命の長い光学フィルタを得ることができる。
As described above, by providing the protective member for covering the interference filter layer, even when the optical filter is rotated at a high speed, the turbulence due to the rotation can be reduced, and the generation of noise can be suppressed. In addition, the separation of the interference filter layer can be prevented. Further, the interference filter layer can be protected from dirt, dust, scratches, etc., and an optical filter having a long life can be obtained.

【0037】[0037]

【発明の効果】以上、詳細に説明したように本発明にあ
っては次に列挙する効果を得ることができる。
As described in detail above, the present invention has the following effects.

【0038】(1)光を透過する1枚の板状の透明基板
を複数の領域に分割し、別途成膜用基板上に形成した誘
電体多層膜からなる干渉フィルタ層をそれぞれの領域に
固着した後、前記成膜用基板を除去することにより光学
フィルタを構成しているため、RGBの各色に対応した
干渉フィルタ層を一時に複数個作成し、後からこの干渉
フィルタ層を透明基板に固着すれば済むため、1つの透
明基板に順次成膜したものに比べて成膜時間を実質的に
短縮することができるとともに、重量の軽い干渉フィル
タ層を固着するため、重量バランスが取り易く、高速回
転に適した光学フィルタを得ることができる。
(1) One plate-shaped transparent substrate that transmits light is divided into a plurality of regions, and an interference filter layer composed of a dielectric multilayer film separately formed on a film-forming substrate is fixed to each region. Then, since the optical filter is formed by removing the film forming substrate, a plurality of interference filter layers corresponding to each color of RGB are formed at a time, and the interference filter layer is fixed to the transparent substrate later. In this case, the time required for film formation can be substantially reduced as compared with the case where films are sequentially formed on one transparent substrate, and the interference filter layer having a small weight is fixed, so that weight balance can be easily obtained and high speed can be achieved. An optical filter suitable for rotation can be obtained.

【0039】(2)干渉フィルタ層を光路に応じた形状
に形成することにより光学フィルタを構成しているた
め、(1)と同様の効果が得られるとともに、干渉フィ
ルタ層を形成するスペースの無駄を省き、光学フィルタ
の小型化や軽量化を図ることができる。
(2) Since the optical filter is formed by forming the interference filter layer into a shape corresponding to the optical path, the same effect as (1) is obtained, and the space for forming the interference filter layer is wasted. And the size and weight of the optical filter can be reduced.

【0040】(3)干渉フィルタ層を覆う保護部材を設
けることにより光学フィルタを構成しているため、光学
フィルタを高速で回転した場合にあっても、回転による
乱流を低減することができ、騒音の発生を抑制すること
ができるとともに、干渉フィルタ層の剥離を未然に防止
することができる。また、干渉フィルタ層を汚れや埃、
傷等から保護することができ、寿命の長い光学フィルタ
を得ることができる。
(3) Since the optical filter is configured by providing a protective member for covering the interference filter layer, even when the optical filter is rotated at high speed, turbulence due to rotation can be reduced. Generation of noise can be suppressed, and peeling of the interference filter layer can be prevented. In addition, dirt and dust,
An optical filter that can be protected from scratches and the like and has a long life can be obtained.

【0041】(4)成膜用基板に成膜ベース層を形成す
る工程と、前記成膜ベース層上に干渉フィルタ層を形成
する工程と、前記干渉フィルタ層を成膜用基板ごと切断
し、干渉フィルタ部を形成する工程と、前記干渉フィル
タ部の干渉フィルタ層が前記透明基板に相対する向き
で、前記透明基板の所定の箇所に該干渉フィルタ部を固
着する工程と、前記干渉フィルタ部が前記透明基板に固
着された後、前記成膜ベース層と前記成膜用基板とを剥
離する工程とを有することにより光学フィルタを製造し
ているため、(1)と同様の効果を得ることができると
ともに、干渉フィルタ層を透明基板に固着する際に、干
渉フィルタ層は成膜用基板によりその形状が確実に維持
されるため、干渉フィルタ層を成膜した状態のまま透明
基板上に固着することができ、たわみのない高精度な光
学フィルタを得ることができる。
(4) forming a film-forming base layer on the film-forming substrate, forming an interference filter layer on the film-forming base layer, cutting the interference filter layer together with the film-forming substrate, Forming an interference filter portion, fixing the interference filter portion to a predetermined portion of the transparent substrate, with the interference filter layer of the interference filter portion facing the transparent substrate, and Since the optical filter is manufactured by having a step of separating the film-forming base layer and the film-forming substrate after being fixed to the transparent substrate, the same effect as (1) can be obtained. In addition, when the interference filter layer is fixed to the transparent substrate, the shape of the interference filter layer is reliably maintained by the film-forming substrate. This Can be can be, obtain a high-precision optical filter with no deflection.

【0042】(5)成膜用基板に成膜ベース層を形成す
る工程と、前記成膜ベース層上に干渉フィルタ層を形成
する工程と、前記干渉フィルタ層を成膜用基板ごと切断
し、干渉フィルタ部を形成する工程と、前記干渉フィル
タ部の干渉フィルタ層が前記透明基板に相対する向き
で、前記透明基板の所定の箇所に該干渉フィルタ部を固
着する工程と、前記干渉フィルタ部が前記透明基板に固
着された後、前記干渉フィルタ層と前記成膜ベース層と
を剥離する工程とを有することにより光学フィルタを製
造しているため、(1)と同様の効果を得ることができ
るとともに、より軽量化が可能であり、凹凸の少ない光
学フィルタを得ることができる。
(5) forming a film-forming base layer on the film-forming substrate, forming an interference filter layer on the film-forming base layer, cutting the interference filter layer together with the film-forming substrate, Forming an interference filter portion, fixing the interference filter portion to a predetermined portion of the transparent substrate, with the interference filter layer of the interference filter portion facing the transparent substrate, and Since the optical filter is manufactured by having a step of separating the interference filter layer and the film-forming base layer after being fixed to the transparent substrate, the same effect as (1) can be obtained. At the same time, it is possible to further reduce the weight and obtain an optical filter with less unevenness.

【0043】(6)成膜用基板に成膜ベース層を形成す
る工程と、前記成膜ベース層上に干渉フィルタ層を形成
する工程と、前記干渉フィルタ層を成膜用基板ごと切断
し、干渉フィルタ部を形成する工程と、前記干渉フィル
タ部の干渉フィルタ層が前記透明基板に相対する向き
で、前記透明基板の所定の箇所に該干渉フィルタ部を固
着する工程と、前記干渉フィルタ部が前記透明基板に固
着された後、前記成膜ベース層を除去する工程とを有す
ることにより光学フィルタを製造しているため、(5)
と同様の効果を得ることができる。
(6) forming a film-forming base layer on the film-forming substrate, forming an interference filter layer on the film-forming base layer, cutting the interference filter layer together with the film-forming substrate, Forming an interference filter portion, fixing the interference filter portion to a predetermined portion of the transparent substrate, with the interference filter layer of the interference filter portion facing the transparent substrate, and Removing the film-forming base layer after being fixed to the transparent substrate to manufacture the optical filter.
The same effect as described above can be obtained.

【0044】(7)成膜用基板毎に、同種の干渉フィル
タ層を形成することにより光学フィルタを製造している
ため、一時に複数個の干渉フィルタ層を形成することが
でき、生産効率を向上することができる。
(7) Since an optical filter is manufactured by forming the same type of interference filter layer for each film-forming substrate, a plurality of interference filter layers can be formed at one time, and the production efficiency can be improved. Can be improved.

【0045】(8)成膜用基板を親水性材料とし、成膜
ベース層を疎水性プラスチック材料として光学フィルタ
を製造しているため、成膜用基板と成膜ベース層との接
合強度が低下し、剥離が容易となることから、製造工程
が安定し、製品歩留まりを向上することができる。
(8) Since the optical filter is manufactured using a film-forming substrate as a hydrophilic material and a film-forming base layer as a hydrophobic plastic material, the bonding strength between the film-forming substrate and the film-forming base layer is reduced. Further, since the peeling becomes easy, the manufacturing process is stabilized, and the product yield can be improved.

【0046】(9)成膜用基板と成膜ベース層との接合
強度を高め、成膜ベース層と干渉フィルタ層との接合強
度を弱めることにより光学フィルタを製造しているた
め、成膜ベース層と干渉フィルタ層との剥離が容易とな
ることから、(8)と同様の効果を得ることができる。
(9) The optical filter is manufactured by increasing the bonding strength between the film forming substrate and the film forming base layer and weakening the bonding strength between the film forming base layer and the interference filter layer. Since the separation between the layer and the interference filter layer is facilitated, the same effect as (8) can be obtained.

【0047】(10)成膜ベース層を感光レジストとす
ることにより光学フィルタを製造しているため、容易に
成膜ベース層3を除去することができるとともに、
(8)と同様の効果を得ることができる。
(10) Since the optical filter is manufactured by using a photosensitive resist as the film-forming base layer, the film-forming base layer 3 can be easily removed.
The same effect as (8) can be obtained.

【0048】(11)成膜ベース層を所定の形状にパタ
ーニングした後、干渉フィルタ層を形成することにより
光学フィルタを製造しているため、(2)と同様の効果
を得ることができるとともに、どのような形状にでも干
渉フィルタ層を加工できるとともに、1回の成膜におけ
る干渉フィルタ部の製造個数を増加することができる。
(11) Since the optical filter is manufactured by patterning the film-forming base layer into a predetermined shape and then forming an interference filter layer, the same effect as (2) can be obtained. The interference filter layer can be processed into any shape, and the number of manufactured interference filter portions in one film formation can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1の実施の形態の光学フィルタの
製造工程を示す図。
FIG. 1 is a diagram showing a manufacturing process of an optical filter according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の第1の実施の形態の光学フィルタの
平面図。
FIG. 2 is a plan view of the optical filter according to the first embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の第1の実施の形態の光学フィルタの
正面図。
FIG. 3 is a front view of the optical filter according to the first embodiment of the invention.

【図4】 本発明の第2の実施の形態の光学フィルタの
製造工程を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing a manufacturing process of the optical filter according to the second embodiment of the present invention.

【図5】 本発明の第2の実施の形態の成膜ベース層パ
ターンの平面図。
FIG. 5 is a plan view of a film-forming base layer pattern according to a second embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の第2の実施の形態の干渉フィルタ部
の平面図。
FIG. 6 is a plan view of an interference filter unit according to a second embodiment of the present invention.

【図7】 本発明の第2の実施の形態の光学フィルタの
平面図。
FIG. 7 is a plan view of an optical filter according to a second embodiment of the present invention.

【図8】 本発明の第3の実施の形態の光学フィルタの
製造工程を示す図。
FIG. 8 is a diagram showing a manufacturing process of the optical filter according to the third embodiment of the present invention.

【図9】 本発明の第4の実施の形態の光学フィルタの
製造工程を示す図。
FIG. 9 is a diagram showing a manufacturing process of the optical filter according to the fourth embodiment of the present invention.

【図10】 本発明の第5の実施の形態の光学フィルタ
の部分断面図。
FIG. 10 is a partial sectional view of an optical filter according to a fifth embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a,1b,1c:成膜用基板、 3,3g:成
膜ベース層、5a,5b,5c:干渉フィルタ層、
7:光学接着剤、11a,11a’,11b’,11
c’,11ap,11ap’,11bp’,11c
p’,11g,11g’,11h’,11i’:干渉フ
ィルタ部、15a,15b:保護部材、 1
7:シリコンゴム、31:透明基板。
1a, 1b, 1c: film-forming substrate, 3, 3g: film-forming base layer, 5a, 5b, 5c: interference filter layer,
7: Optical adhesive, 11a, 11a ', 11b', 11
c ', 11ap, 11ap', 11bp ', 11c
p ', 11g, 11g', 11h ', 11i': interference filter portion, 15a, 15b: protective member, 1
7: silicon rubber, 31: transparent substrate.

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光を透過する1枚の板状の透明基板を複
数の領域に分割し、別途成膜用基板上に形成した誘電体
多層膜からなる干渉フィルタ層をそれぞれの領域に固着
した後、前記成膜用基板を除去したことを特徴とする光
学フィルタ。
1. A plate-shaped transparent substrate that transmits light is divided into a plurality of regions, and an interference filter layer composed of a dielectric multilayer film separately formed on a film forming substrate is fixed to each region. An optical filter, wherein the substrate for film formation is removed.
【請求項2】 前記干渉フィルタ層を光路に応じた形状
に形成したことを特徴とする請求項1記載の光学フィル
タ。
2. The optical filter according to claim 1, wherein said interference filter layer is formed in a shape corresponding to an optical path.
【請求項3】 前記干渉フィルタ層を覆う保護部材を設
けたことを特徴とする請求項1または2記載の光学フィ
ルタ。
3. The optical filter according to claim 1, further comprising a protection member that covers the interference filter layer.
【請求項4】 請求項1記載の光学フィルタの製造方法
であって、(a)成膜用基板に成膜ベース層を形成する
工程と、(b)前記成膜ベース層上に干渉フィルタ層を
形成する工程と、(c)前記干渉フィルタ層を成膜用基
板ごと切断し、干渉フィルタ部を形成する工程と、
(d)前記干渉フィルタ部の干渉フィルタ層が前記透明
基板に相対する向きで、前記透明基板の所定の箇所に該
干渉フィルタ部を固着する工程と、(e)前記干渉フィ
ルタ部が前記透明基板に固着された後、前記成膜ベース
層と前記成膜用基板とを剥離する工程と、を有すること
を特徴とする光学フィルタの製造方法。
4. The method for manufacturing an optical filter according to claim 1, wherein: (a) forming a film-forming base layer on a film-forming substrate; and (b) forming an interference filter layer on the film-forming base layer. (C) cutting the interference filter layer together with the film formation substrate to form an interference filter portion;
(D) fixing the interference filter portion to a predetermined portion of the transparent substrate with the interference filter layer of the interference filter portion facing the transparent substrate; and (e) fixing the interference filter portion to the transparent substrate. Separating the film-forming base layer and the film-forming substrate after being fixed to the substrate.
【請求項5】 請求項1記載の光学フィルタの製造方法
であって、(a)成膜用基板に成膜ベース層を形成する
工程と、(b)前記成膜ベース層上に干渉フィルタ層を
形成する工程と、(c)前記干渉フィルタ層を成膜用基
板ごと切断し、干渉フィルタ部を形成する工程と、
(d)前記干渉フィルタ部の干渉フィルタ層が前記透明
基板に相対する向きで、前記透明基板の所定の箇所に該
干渉フィルタ部を固着する工程と、(e)前記干渉フィ
ルタ部が前記透明基板に固着された後、前記干渉フィル
タ層と前記成膜ベース層とを剥離する工程と、を有する
ことを特徴とする光学フィルタの製造方法。
5. The method for manufacturing an optical filter according to claim 1, wherein: (a) forming a film-forming base layer on a film-forming substrate; and (b) forming an interference filter layer on the film-forming base layer. (C) cutting the interference filter layer together with the film formation substrate to form an interference filter portion;
(D) fixing the interference filter portion to a predetermined portion of the transparent substrate with the interference filter layer of the interference filter portion facing the transparent substrate; and (e) fixing the interference filter portion to the transparent substrate. Peeling the interference filter layer and the film-forming base layer after being fixed to the optical filter.
【請求項6】 請求項1記載の光学フィルタの製造方法
であって、(a)成膜用基板に成膜ベース層を形成する
工程と、(b)前記成膜ベース層上に干渉フィルタ層を
形成する工程と、(c)前記干渉フィルタ層を成膜用基
板ごと切断し、干渉フィルタ部を形成する工程と、
(d)前記干渉フィルタ部の干渉フィルタ層が前記透明
基板に相対する向きで、前記透明基板の所定の箇所に該
干渉フィルタ部を固着する工程と、(e)前記干渉フィ
ルタ部が前記透明基板に固着された後、前記成膜ベース
層を除去する工程と、を有することを特徴とする光学フ
ィルタの製造方法。
6. The method of manufacturing an optical filter according to claim 1, wherein: (a) forming a film-forming base layer on a film-forming substrate; and (b) forming an interference filter layer on the film-forming base layer. (C) cutting the interference filter layer together with the film formation substrate to form an interference filter portion;
(D) fixing the interference filter portion to a predetermined portion of the transparent substrate with the interference filter layer of the interference filter portion facing the transparent substrate; and (e) fixing the interference filter portion to the transparent substrate. Removing the film-forming base layer after being fixed to the optical filter.
【請求項7】 前記成膜用基板毎に、同種の干渉フィル
タ層を形成したことを特徴とする請求項4、5または6
記載の光学フィルタの製造方法。
7. The same type of interference filter layer is formed for each of the film forming substrates.
A method for producing the optical filter according to the above.
【請求項8】 前記成膜用基板が親水性材料からなり、
前記成膜ベース層が疎水性プラスチック材料からなるこ
とを特徴とする請求項4記載の光学フィルタの製造方
法。
8. The substrate for film formation is made of a hydrophilic material,
The method for manufacturing an optical filter according to claim 4, wherein the film-forming base layer is made of a hydrophobic plastic material.
【請求項9】 前記成膜用基板と前記成膜ベース層との
接合強度を高め、前記成膜ベース層と前記干渉フィルタ
層との接合強度を弱めたことを特徴とする請求項5記載
の光学フィルタの製造方法。
9. The method according to claim 5, wherein the bonding strength between the film forming substrate and the film forming base layer is increased, and the bonding strength between the film forming base layer and the interference filter layer is weakened. Manufacturing method of optical filter.
【請求項10】 前記成膜ベース層が感光レジストであ
ることを特徴とする請求項6記載の光学フィルタの製造
方法。
10. The method for manufacturing an optical filter according to claim 6, wherein said film-forming base layer is a photosensitive resist.
【請求項11】 前記成膜ベース層を所定の形状にパタ
ーニングした後、前記干渉フィルタ層を形成したことを
特徴とする請求項4、5、6、7、8、9または10記
載の光学フィルタの製造方法。
11. The optical filter according to claim 4, wherein the interference filter layer is formed after patterning the film-forming base layer into a predetermined shape. Manufacturing method.
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WO2006073069A1 (en) * 2005-01-06 2006-07-13 Central Glass Company, Limited Process for producing optical multilayer film filter and optical multilayer film filter

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WO2006073069A1 (en) * 2005-01-06 2006-07-13 Central Glass Company, Limited Process for producing optical multilayer film filter and optical multilayer film filter

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