JP2002231448A - Conductive element, organic electroluminescence element and method of manufacture - Google Patents

Conductive element, organic electroluminescence element and method of manufacture

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JP2002231448A
JP2002231448A JP2001361054A JP2001361054A JP2002231448A JP 2002231448 A JP2002231448 A JP 2002231448A JP 2001361054 A JP2001361054 A JP 2001361054A JP 2001361054 A JP2001361054 A JP 2001361054A JP 2002231448 A JP2002231448 A JP 2002231448A
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JP
Japan
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organic compound
layer
substrate
electrode
electrolyte
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JP2001361054A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinjiro Okada
伸二郎 岡田
Takashi Moriyama
孝志 森山
Atsushi Kamatani
淳 鎌谷
Takao Takiguchi
隆雄 滝口
Koji Noguchi
幸治 野口
Akira Tsuboyama
明 坪山
Manabu Kogori
学 古郡
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Original Assignee
Canon Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture an organic EL element of a high definition multicolor display having a light emitting layer of different light emitting colors on the same substrate by a simple method. SOLUTION: An electrode 2 is formed on the substrate 1. A positively electrifying electrification layer 3 is formed by selectively imparting a liquid electrifying material to a desired position by an ink jet method. The substrate is soaked in an electrolyte 4, and an organic compound becoming an anion in the electrolyte 4 is sucked in the electrification layer 3 to form an organic compound layer 5. Next, the substrate is soaked in an electrolyte 6, an organic compount becoming a cation in the electrolyte 6 is sucked in the organic compound layer 5, an organic compound layer 8 is formed by strictly controlling the film thickness by repeating the operation, and an electrode 9 is formed on this organic compound layer 8.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、フラットパネルデ
ィスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プリンタ
等に用いられる有機エレクトロルミネッセンス素子、及
び該素子の構成部材である導電素子、さらにはこれらの
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic electroluminescent device used for a flat panel display, a projection display, a printer, and the like, a conductive element which is a constituent member of the device, and a method of manufacturing these devices.

【0002】[0002]

【従来の技術】有機エレクトロルミネッセンス素子(以
下、「有機EL素子」と記す)としては、1960年代
にアントラセン単結晶などの有機固体でのキャリア注入
型EL素子が詳しく研究されていた。これらの素子は単
層型のものであったが、その後、タン(Tang)等は
正孔注入電極と電子注入電極の間に発光層と正孔輸送層
を有する積層型有機EL素子を提案した。これらの注入
型EL素子の発光メカニズムは、陰極からの電子注入
と陽極からの正孔注入、電子と正孔の固体中の移動、
電子と正孔の再結合、生成された一重項励起子から
の発光、という段階を経る点で共通する。
2. Description of the Related Art As an organic electroluminescence device (hereinafter referred to as "organic EL device"), a carrier injection type EL device using an organic solid such as anthracene single crystal was studied in detail in the 1960s. These devices were of a single-layer type, and thereafter, Tang et al. Proposed a stacked organic EL device having a light emitting layer and a hole transport layer between a hole injection electrode and an electron injection electrode. . The light emission mechanism of these injection type EL devices includes electron injection from the cathode and hole injection from the anode, movement of electrons and holes in a solid,
They are common in that they undergo recombination of electrons and holes and light emission from the generated singlet excitons.

【0003】積層型有機EL素子の代表例としては、陽
極としてガラス基板上にITO(インジウム・チン・オ
キサイド)膜を形成し、その上に下記構造式で示される
TPD(N,N'−ジフェニル−N,N'−ジ(3−メチ
ルフェニル)−1,1'−ビフェニル−4,4'−ジアミ
ン)を約50nmの厚さで形成し、その上部に下記構造
式で示されるAlq3(トリス(8−キノリラリト)ア
ルミニウム)を約50nmの厚さで形成し、さらに陰極
としてAl・Li合金を蒸着することで素子を構成す
る。
As a typical example of a laminated organic EL device, an ITO (indium tin oxide) film is formed on a glass substrate as an anode, and a TPD (N, N'-diphenyl) represented by the following structural formula is formed thereon. -N, N'-di (3-methylphenyl) -1,1'-biphenyl-4,4'-diamine) is formed at a thickness of about 50 nm, and Alq3 (tris-tris) represented by the following structural formula is formed thereon. (8-Quinollarit) aluminum) is formed with a thickness of about 50 nm, and an element is formed by vapor-depositing an Al.Li alloy as a cathode.

【0004】[0004]

【外1】 [Outside 1]

【0005】陽極に用いるITOの仕事関数を4.4〜
5.0eVとすることで、TPDに対して正孔を注入し
やすくし、陰極には仕事関数のできるだけ小さな金属で
安定なものを選ぶ。例えば、AlとLiの合金やMgと
Agの合金などである。この構成によると、5〜10V
の直流電圧により緑色の発光が得られる。
The work function of ITO used for the anode is 4.4 to
By setting it to 5.0 eV, holes are easily injected into the TPD, and a metal having a work function as small as possible and stable is selected as the cathode. For example, an alloy of Al and Li or an alloy of Mg and Ag is used. According to this configuration, 5 to 10 V
Green light is obtained by the DC voltage of

【0006】通常のEL素子に用いられる有機化合物
(例えば、TPD、α−NPD(ビス〔N−(1−ナフ
チル)−N−フェニル〕ベンジジン)、TAZ−01
(3−(4−ビフェニルイル)−4−フェニル−5−
(4−tert−ブチルフェニル)−1,2,4−トリ
アゾール)、Alq3など)は、電流量をとるためには
有機化合物層−電極接合界面に10V/100nm程度
の高電界を印加する必要があった。
Organic compounds used in ordinary EL devices (eg, TPD, α-NPD (bis [N- (1-naphthyl) -N-phenyl] benzidine), TAZ-01
(3- (4-biphenylyl) -4-phenyl-5-
(4-tert-butylphenyl) -1,2,4-triazole), Alq3, etc.), it is necessary to apply a high electric field of about 10 V / 100 nm to the organic compound layer-electrode junction interface in order to obtain a current amount. there were.

【0007】さらに、有機EL素子は、高分子材料を用
いて構成することができるが、有機EL素子に用いるこ
とができる高分子材料は一般に導電性を有し、分子構造
内に不飽和結合を有する化合物が良好な特性を示すこと
が知られている。このような高分子材料としては、次の
化合物が挙げられる。
Further, the organic EL device can be constituted by using a polymer material. The polymer material which can be used for the organic EL device generally has conductivity and has unsaturated bonds in the molecular structure. It is known that a compound having such a compound exhibits good characteristics. Examples of such a polymer material include the following compounds.

【0008】(1)PPV(ポリフェニレンビニレン) (2)PPP(ポリパラフェニレン) (3)PVK(ポリビニルカルバゾール) (4)PDAF(ポリジアルキルフルオレン)(米国特
許明細書第5900327号に記載) 上記PPPの構造を下記に示す。
(1) PPV (polyphenylenevinylene) (2) PPP (polyparaphenylene) (3) PVK (polyvinylcarbazole) (4) PDAF (polydialkylfluorene) (described in US Pat. No. 5,900,327) The above PPP The structure of is shown below.

【0009】[0009]

【外2】 [Outside 2]

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】有機EL素子におい
て、複数色の発光色を組み合わせてフルカラー表示素子
を構成する場合には、異なる種類の発光材料からなる発
光層を選択的に同一基板上に形成する必要がある。
When a full-color display element is formed by combining a plurality of luminescent colors in an organic EL element, luminescent layers made of different types of luminescent materials are selectively formed on the same substrate. There is a need to.

【0011】従来の低分子材料を用いた発光層の形成工
程においては、異なる種類の低分子材料をマスク遮蔽方
式により選択的に真空蒸着していたが、当該方法では2
00dpi程度の高精細の解像度を出すことが困難であ
った。また、従来の高分子材料を用いて発光層を形成す
る場合には、真空蒸着法を用いることができず、高分子
材料の前駆体を基板上で合成して成膜する方法がとられ
ており、高解像度の発光層の形成は低分子材料よりもよ
り困難であった。そのため、有機EL素子におけるフル
カラー化においては、高精細化に限界が有った。
In a conventional process of forming a light emitting layer using a low molecular material, different types of low molecular materials are selectively vacuum-deposited by a mask shielding method.
It was difficult to obtain a high-resolution resolution of about 00 dpi. In addition, when a light emitting layer is formed using a conventional polymer material, a method of forming a film by synthesizing a precursor of a polymer material on a substrate cannot be used because a vacuum evaporation method cannot be used. Thus, forming a high-resolution light-emitting layer was more difficult than a low-molecular material. For this reason, there has been a limit in achieving higher definition in the full color organic EL device.

【0012】このような問題を解決する一手段として、
インクジェット方式によるパターニング方法が提案され
ている(特開平10−12377号公報)。
As one means for solving such a problem,
A patterning method using an ink jet method has been proposed (JP-A-10-12377).

【0013】この方式では、液状の発光材料をインクジ
ェットプリンタを用いて基板上の所望の領域に付与する
ことで、R(赤)、G(緑)、B(青)の発光層を選択
的に二次元配置して形成することができる。
In this method, a liquid light emitting material is applied to a desired region on a substrate using an ink jet printer, so that R (red), G (green), and B (blue) light emitting layers are selectively formed. It can be formed by two-dimensional arrangement.

【0014】しかしながら、インクジェット方式では液
状の発光材料を基板上に配置するため、得られた発光層
が中央部を最大膜厚とする凸状を形成し、0から最大膜
厚までガウス上の膜厚分布を生じてしまう。このような
膜厚分布を解消する手段としては、基板上に隔壁を形成
して該隔壁で囲まれた凹部に発光材料を付与する方法が
あるが、このような隔壁を用いた場合でも得られる発光
層の膜厚は10%以上の分布を生じてしまう。膜厚分布
を有する発光層は、印加される電界強度の分布を生じ、
発光が始まる電圧しきい値が場所によって変動するとい
う問題を発生してしまい、一画素内及び表示素子全体で
の輝度ムラを引き起こす要因にもなることがわかった。
However, in the ink-jet method, since the liquid light-emitting material is disposed on the substrate, the obtained light-emitting layer forms a convex shape having a central portion having a maximum thickness, and a film having a Gaussian thickness from 0 to the maximum thickness. This results in a thickness distribution. As a means for eliminating such a film thickness distribution, there is a method in which a partition is formed on a substrate and a light emitting material is applied to a concave portion surrounded by the partition. However, even when such a partition is used, it can be obtained. The thickness of the light emitting layer has a distribution of 10% or more. The light emitting layer having a film thickness distribution produces a distribution of the applied electric field strength,
It has been found that a voltage threshold at which light emission starts varies from place to place, which is a factor that causes luminance unevenness in one pixel and in the entire display element.

【0015】一方でM.F.Rubnerらによる文献
(Adv.Mater.1998,10,No.17,p.145
2)によると、有機ELとしての青色発光材料であるP
PP(Poly(p-phenylen)について、ポリアニオンとポリ
カチオンの水溶性の誘導体を作り、積層膜を作ることが
開示されている。それによると、用意した基板をアニオ
ン性PPPの溶液とカチオン性PPP溶液中に順次入
れ、最初に吸着したイオン性の膜に対して、次のステッ
プで反対電荷をもった膜を積層して発光層を形成してゆ
くものである。これによって一回のステップで成膜する
膜厚がほぼ一定となるために、この積層するステップ数
によって所望の膜厚が容易にかつ精度良く得られること
を示している。
On the other hand, M. F. Rubner et al. (Adv. Mater. 1998, 10, No. 17, p. 145).
According to 2), P which is a blue light emitting material as an organic EL is used.
For PP (Poly (p-phenylen)), it is disclosed that a water-soluble derivative of a polyanion and a polycation is made to form a laminated film, according to which a prepared substrate is treated with an anionic PPP solution and a cationic PPP. The light-emitting layer is formed by sequentially placing the ionic film into a solution and laminating a film having an opposite charge on the ionic film adsorbed first in the next step. This shows that the desired film thickness can be easily and accurately obtained by the number of lamination steps because the film thickness to be formed is substantially constant.

【0016】しかしこの方法では、多数画素を持った表
示素子の特定の位置に、選択的に精度良く発光層を形成
することが困難で、この成膜位置を確定することが実際
の画像表示素子を作成する上で欠かせない技術となる。
However, in this method, it is difficult to form a light-emitting layer selectively and accurately at a specific position of a display element having a large number of pixels. It will be an indispensable technology in creating.

【0017】本発明の課題は、上記の問題を解決し、異
なる種類の有機化合物層を選択的に且つ均一な膜厚で同
一基板上に形成した導電素子を提供し、該導電素子を利
用して有機EL素子を提供することにあり、特に、異な
る発光色の発光層を均一な膜厚で備えた高解像度のフル
カラー表示の有機EL素子を簡易な製造方法により低価
格にて提供することにある。
An object of the present invention is to solve the above problems and to provide a conductive element in which different kinds of organic compound layers are selectively and uniformly formed on the same substrate with a uniform film thickness. In particular, it is an object of the present invention to provide a high-resolution, full-color display organic EL device having light-emitting layers of different emission colors with a uniform film thickness at a low price by a simple manufacturing method. is there.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、基板上
の所定に位置に正または負の電荷を有する帯電領域を形
成しておき、これに有機化合物がイオン解離した電解液
中に浸漬することによって、特定の領域にのみ有機化合
物を堆積することにある。
A feature of the present invention is that a charged region having a positive or negative charge is formed at a predetermined position on a substrate, and an organic compound is immersed in an electrolytic solution in which an organic compound is ion-dissociated. In this case, the organic compound is deposited only in a specific region.

【0019】さらに特定の領域に帯電領域を形成する工
程が、インクジェット法を利用して帯電材料の溶液を特
定の位置に塗付することを特徴としている。
Further, the step of forming a charged region in a specific region is characterized in that a solution of a charged material is applied to a specific position by using an ink jet method.

【0020】より具体的に言うと、まず基板上の特定位
置に前記帯電材料を塗付しておき、その後有機化合物が
イオン解離している電解液中に前記基板を浸漬し、先に
塗付した帯電材料上に前記有機化合物イオンを吸着して
堆積させ、有機化合物層を形成することである。
More specifically, the charging material is first applied to a specific position on the substrate, and then the substrate is immersed in an electrolytic solution in which the organic compound is ion-dissociated, and the coating is applied first. And adsorbing and depositing the organic compound ions on the charged charging material to form an organic compound layer.

【0021】上記本発明の導電素子においては、上記帯
電材料が電解質からなること、上記電解質が、シラノー
ル基及びイオン解離性の官能基を有すること、を好まし
い態様として含むものである。
In a preferred embodiment of the conductive element of the present invention, the charging material comprises an electrolyte, and the electrolyte has a silanol group and an ion-dissociative functional group.

【0022】また本発明の第二は、上記本発明の導電素
子を用い、該素子の有機化合物層を発光材料で形成した
ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子で
ある。
A second aspect of the present invention is an organic electroluminescent device using the conductive element of the present invention, wherein the organic compound layer of the element is formed of a light emitting material.

【0023】さらに本発明の第三は、基板上に配置され
た第一の電極上に帯電材料を塗付する工程と、前記基板
を有機化合物イオンを含む電解液中に浸漬し前記帯電材
料上に有機化合物イオンを吸着して有機化合物層を形成
する工程と、前記有機化合物層上に第二の電極を形成す
る工程と、を少なくとも有することを特徴とする導電素
子の製造方法である。
Further, a third aspect of the present invention is a step of applying a charging material on a first electrode disposed on a substrate, and immersing the substrate in an electrolytic solution containing organic compound ions to form a coating on the charging material. And a step of forming an organic compound layer by adsorbing organic compound ions on the organic compound layer, and a step of forming a second electrode on the organic compound layer.

【0024】上記本発明の導電素子の製造方法において
は、上記有機化合物層を形成する工程が、前記基板を有
機化合物のカチオンを含む電解液と有機化合物のアニオ
ンを含む電解液に交互に浸漬して各有機化合物層を交互
に積層することを特徴とすること、あるいは上記帯電層
を形成する工程と有機化合物層を形成する工程を、用い
る有機化合物の種類を変えて繰り返し、同一基板内に複
数種の有機化合物層を形成すること、を好ましい態様と
して含むものである。
In the method of manufacturing a conductive element according to the present invention, the step of forming the organic compound layer includes immersing the substrate alternately in an electrolyte containing an organic compound cation and an electrolyte containing an organic compound anion. Or alternately laminating each organic compound layer, or repeating the step of forming the charged layer and the step of forming the organic compound layer by changing the type of the organic compound used, to form a plurality of layers on the same substrate. The formation of a kind of organic compound layer is included as a preferred embodiment.

【0025】さらにまた、本発明の第四は、前記製造方
法を用いて、有機化合物層の膜厚を精度良く形成し、特
に有機EL素子に関しては膜厚のばらつきや不均一によ
る発光を始める閾値電圧のばらつきを解消し、均一な発
光特性を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製
造方法を提供することにある。
Further, a fourth aspect of the present invention is to form a film thickness of an organic compound layer with high accuracy by using the above-mentioned manufacturing method. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an organic electroluminescence device having uniform light emission characteristics by eliminating voltage variations.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】本発明は、基板上の任意の位置
に、表面が正または負に帯電している膜(以下帯電層と
呼ぶ)を形成し、そこに反対極性を持つイオン解離して
いる有機化合物を吸着させて、基板上の特定の位置に選
択的に有機化合物層を形成するものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention forms a film whose surface is positively or negatively charged (hereinafter referred to as a charged layer) at an arbitrary position on a substrate, and dissociates ions having the opposite polarity thereat. The organic compound is adsorbed to selectively form an organic compound layer at a specific position on the substrate.

【0027】つまり基板上に予め帯電層を形成し、該基
板を上記帯電層とは逆極性にイオン化した上記有機化合
物の電解液中に浸漬することで、該有機化合物イオンを
基板上の帯電層に吸着させ、有機化合物を形成すること
に特徴を有する。
That is, a charged layer is previously formed on a substrate, and the substrate is immersed in an electrolyte solution of the organic compound ionized to the opposite polarity to that of the charged layer, whereby the organic compound ions are transferred to the charged layer on the substrate. Is characterized in that it is adsorbed on to form an organic compound.

【0028】またイオンの極性を変えた有機化合物イオ
ンを交互に順次吸着させ、この回数を重ねることで膜厚
を厚くすることも可能である。
It is also possible to increase the film thickness by adsorbing organic compound ions of which polarity is changed alternately and sequentially and repeating the number of times.

【0029】特に、本発明においては、上記帯電層をイ
ンクジェット方式により所望の位置に塗付することが最
大の特徴である。本発明にかかる帯電層は有機化合物イ
オンの吸着にのみ利用される部材であるため、絶縁性基
板の所望の位置に帯電性を付与できれば良く、よって、
インクジェット方式によって液状の帯電材料を少量付与
して、実質的に帯電性を付与できれば良い。また導電素
子としてみたとき、電流を流すことが必要なために、こ
の帯電層の膜厚は薄いことが必要であり、実質的には単
分子層であることが望ましい。
Particularly, in the present invention, the most characteristic feature is that the charged layer is applied to a desired position by an ink jet method. Since the charging layer according to the present invention is a member used only for the adsorption of organic compound ions, it is sufficient that the charging property can be imparted to a desired position on the insulating substrate.
It suffices if a small amount of a liquid charging material can be applied by an ink jet method so that the charging property can be substantially provided. When viewed as a conductive element, it is necessary to flow an electric current, so that the thickness of the charging layer needs to be thin, and it is desirable that the charging layer is substantially a monolayer.

【0030】さらに、アニオン化した有機化合物の電解
液とカチオン化した有機化合物の電解液を併用し、交互
に絶縁性基板を浸漬することでそれぞれの有機化合物層
を1層ずつ交互に積層することができるため、有機化合
物層の膜厚を分子レベルで制御することが可能である。
また同時に広い面積に渡って、均一な膜厚を得ることも
可能である。
Furthermore, an electrolyte solution of an anionized organic compound and an electrolyte solution of a cationized organic compound are used in combination, and the insulating substrates are alternately immersed to alternately laminate the respective organic compound layers one by one. Therefore, the thickness of the organic compound layer can be controlled at the molecular level.
At the same time, a uniform film thickness can be obtained over a wide area.

【0031】本発明においては、また帯電層の形成と該
帯電層上の有機化合物層の形成工程を有機化合物の種類
を変えて繰り返すことで、異なる種類の有機化合物層の
積層膜を形成することができる。
In the present invention, the formation of the charged layer and the step of forming the organic compound layer on the charged layer are repeated by changing the kind of the organic compound to form a laminated film of different kinds of organic compound layers. Can be.

【0032】以下に本発明を図面を用いて詳細に説明す
る。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0033】図1は本発明の単純マトリックス型の導電
素子の製造方法の工程を示す模式図である。図中、1は
基板、2、9は電極、3は帯電層、4、6は有機化合物
イオンを含む電解液、5、7、8は有機化合物層であ
る。また、紙面右側の(a−2)〜(d−2)は紙面左
側の(a−1)〜(d−1)のそれぞれの基板のA−B
断面図である。以下に各工程について説明する。
FIG. 1 is a schematic view showing the steps of a method for manufacturing a simple matrix type conductive element according to the present invention. In the figure, 1 is a substrate, 2 and 9 are electrodes, 3 is a charged layer, 4 and 6 are electrolytes containing organic compound ions, and 5, 7, and 8 are organic compound layers. Also, (a-2) to (d-2) on the right side of the paper are AB of the respective substrates (a-1) to (d-1) on the left side of the paper.
It is sectional drawing. Hereinafter, each step will be described.

【0034】工程(a) 基板1上に、ストライプ状の電極2を形成する。基板1
としては、特に素材は限されないが、後述する電解液
4、6に浸漬した際に影響を受けない素材が好ましい。
また、有機EL素子を構成し、当該基板側から発光を観
察する場合には、ガラスやプラスチックなどの透明基板
が用いられるが、反対側から発光を観察する場合は不透
明な基板であっても良い。
Step (a) A stripe-shaped electrode 2 is formed on a substrate 1. Substrate 1
The material is not particularly limited, but is preferably a material that is not affected when immersed in the electrolytes 4 and 6 described below.
When an organic EL element is formed and light emission is observed from the substrate side, a transparent substrate such as glass or plastic is used. However, when light emission is observed from the opposite side, an opaque substrate may be used. .

【0035】電極2としては、一般にデバイスの電極構
成に用いられている導電性材料が好ましく、陽極にはI
TO、酸化インジウム、酸化スズ、Cd2SnO4、酸化
亜鉛、ヨウ化銅、金、白金などが挙げられ、陰極にはア
ルカリ金属、アルカリ土類金属及びその合金であるナト
リウム、カリウム、マグネシウム、リチウム、ナトリウ
ム・カリウム合金、マグネシウム・インジウム合金、マ
グネシウム・銀合金、アルミニウム、アルミニウム・リ
チウム合金、アルミニウム・銅合金、アルミニウム・銅
・シリコン合金などが挙げられる。尚、有機EL素子を
構成し、当該基板側から発光を観察する場合には、電極
2にはITO等透明導電材が用いられる。
The electrode 2 is preferably made of a conductive material generally used for an electrode configuration of a device.
TO, indium oxide, tin oxide, Cd 2 SnO 4 , zinc oxide, copper iodide, gold, platinum, and the like. The cathode is an alkali metal, an alkaline earth metal, or an alloy thereof such as sodium, potassium, magnesium, and lithium. , Sodium-potassium alloy, magnesium-indium alloy, magnesium-silver alloy, aluminum, aluminum-lithium alloy, aluminum-copper alloy, aluminum-copper-silicon alloy. When an organic EL element is formed and light emission is observed from the substrate side, a transparent conductive material such as ITO is used for the electrode 2.

【0036】さらに、基板1上の上記電極2上の所望の
領域に帯電層3を形成する(a−1、a−2)。本発明
では好ましくはインクジェット方式により液状の帯電材
料を電極2上に付与して乾燥させ、帯電層3を形成す
る。
Further, a charging layer 3 is formed in a desired region on the electrode 2 on the substrate 1 (a-1, a-2). In the present invention, preferably, a liquid charging material is applied onto the electrode 2 by an ink jet method and dried to form the charging layer 3.

【0037】本例では正帯電性の帯電層3を形成する例
を示す。
In this embodiment, an example in which the positively charged layer 3 is formed will be described.

【0038】本発明において好ましく用いられる導電材
料としては、電解液4中において正或いは負の帯電性を
示すものであれば特に限定されないが、インクジェット
方式で帯電層3を形成する場合には、帯電材料は液状で
基板1上に付与されるため、液体に溶解或いは分散しう
る材料である必要がある。また、後工程の電解液4に浸
漬した際に電解液4中に溶け出さないように、帯電材料
が電極2に固着している必要がある。よって、好ましく
は電解質であり、特に、電極2との接合のため、シラノ
ール基及びイオン解離性の官能基を有する化合物が好ま
し。またその長さは、素子の導電性を阻害しないよう
に、なるべく薄い方が望ましく、炭素数で1から10程
度、好ましくは1から5程度の短い分子が望ましい。帯
電層3を形成する化合物の分子長は電極2から有機化合
物層への電子、正孔等のキャリアの供給に影響するた
め、該化合物の分子長はトンネル電流が流れる程度の膜
厚を得るために、2nm以下、好ましくは0.15から
1nm以下が特に望ましい。この帯電材料には、具体的
には下記の構造を有するものが挙げられる。
The conductive material preferably used in the present invention is not particularly limited as long as it shows a positive or negative chargeability in the electrolytic solution 4. However, when the charge layer 3 is formed by an ink jet method, Since the material is provided on the substrate 1 in a liquid state, the material needs to be a material that can be dissolved or dispersed in the liquid. Further, the charged material needs to be fixed to the electrode 2 so as not to be dissolved in the electrolytic solution 4 when immersed in the electrolytic solution 4 in a later step. Therefore, it is preferably an electrolyte, and particularly, a compound having a silanol group and an ion-dissociating functional group for bonding to the electrode 2 is preferable. Further, the length is desirably as thin as possible so as not to impair the conductivity of the element, and is desirably as short as about 1 to 10 carbon atoms, preferably about 1 to 5 carbon atoms. Since the molecular length of the compound forming the charged layer 3 affects the supply of carriers such as electrons and holes from the electrode 2 to the organic compound layer, the molecular length of the compound is to obtain a film thickness enough to allow tunnel current to flow. It is particularly desirable that the thickness be 2 nm or less, preferably 0.15 to 1 nm. Specific examples of the charging material include those having the following structures.

【0039】[0039]

【外3】 [Outside 3]

【0040】さらに下記に示す一般のシランカップリン
グ剤も利用可能である。
Further, the following general silane coupling agents can also be used.

【0041】この帯電材料が正に帯電するか、または負
に帯電するかはSiに結合している基の極性で決まり、
環状アミン系では正に、スルフォン酸基などでは負に帯
電することになる。
Whether the charged material is positively charged or negatively charged is determined by the polarity of the group bonded to Si.
In the case of cyclic amines, the charge is positive, and in the case of sulfonic acid groups, the charge is negative.

【0042】[0042]

【外4】 [Outside 4]

【0043】ここではシラノール基を持つ化合物を例示
したが、この他にチタン系のカップリング剤を用いるこ
とも可能である。いずれの材料も水酸基の水素が外れ
て、基板を形成している珪素原子やイリジウム原子など
と化学結合をして、強固に密着することができる。
Although a compound having a silanol group has been exemplified here, it is also possible to use a titanium-based coupling agent. In any of the materials, the hydrogen of the hydroxyl group is released, and the material is chemically bonded to silicon atoms, iridium atoms, and the like forming the substrate, and can be firmly adhered.

【0044】上記帯電材料をインクジェット方式で電極
2上に付与する場合には、用いる溶液としては、好まし
くは0.01〜10重量%、より好ましくは0.1〜5
重量%の水溶液として用いることが好ましい。また、付
与後の乾燥性制御のために、メタノール等を適宜添加し
ても良い。さらに簡易乾燥の後、基板と未反応の帯電材
料を洗い流すために純水洗浄を行い、さらに必要に応じ
て、基板加熱や真空中での加熱処理等を施し、乾燥させ
る。こうすることで基板上に必要な量の帯電材料を配置
することができる。本例では上記方法によって、正電荷
を持つカチオン性の帯電層を形成した例を示した。
When the charging material is applied on the electrode 2 by an ink-jet method, the solution used is preferably 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.
It is preferably used as a weight percent aqueous solution. Further, methanol or the like may be appropriately added for controlling the drying property after the application. After simple drying, the substrate is washed with pure water in order to wash away the unreacted charged material. Further, if necessary, the substrate is heated, heated in a vacuum, or the like, and dried. In this way, a required amount of charged material can be arranged on the substrate. In this example, an example is shown in which a cationic charging layer having a positive charge is formed by the above method.

【0045】工程(b) 上記帯電層3を所定の位置に形成した基板1を、前記帯
電層の持つ極性と反対の極性を持つイオン性の有機化合
物の電解液4中に浸漬する(b−1)。本発明で用いら
れる有機化合物はイオン性の基を付加した電解質であ
り、電解液4中でイオン解離し、付加されたイオン性の
基により、カチオン或いはアニオンになる。尚、有機化
合物イオンの極性は帯電層3とは逆極性(本例ではアニ
オン)であるため、電解液4中の有機化合物イオンは帯
電層2表面に吸着されて、有機化合物層5が形成される
(b−2)。
Step (b) The substrate 1 having the charged layer 3 formed at a predetermined position is immersed in an electrolytic solution 4 of an ionic organic compound having a polarity opposite to the polarity of the charged layer (b- 1). The organic compound used in the present invention is an electrolyte to which an ionic group is added. The organic compound is ion-dissociated in the electrolytic solution 4 and becomes a cation or an anion depending on the added ionic group. Since the polarity of the organic compound ions is opposite to the polarity of the charged layer 3 (anion in this example), the organic compound ions in the electrolytic solution 4 are adsorbed on the surface of the charged layer 2 to form the organic compound layer 5. (B-2).

【0046】本発明で用いられる有機化合物としては、
低分子材料でも高分子材料であってもイオン性の基を付
加できるものであれば好ましく用いることができる。例
えば、有機EL素子を構成し、有機化合物として発光材
料を用いて発光層を形成する場合には、発光材料として
前記従来の技術で挙げた、PPV、PPP、PVK、P
DAFにイオン解離性の側鎖を導入した高分子材料が好
ましく用いられる。下記にPPPに当該側鎖を導入した
構造を示す。当該化合物はルブナー(Rubner)等
による前述の文献に開示されている。
The organic compound used in the present invention includes:
A low-molecular material or a high-molecular material can be preferably used as long as it can add an ionic group. For example, when forming an organic EL element and forming a light emitting layer using a light emitting material as an organic compound, PPV, PPP, PVK, P
A polymer material in which an ion dissociable side chain is introduced into DAF is preferably used. The structure in which the side chain is introduced into PPP is shown below. Such compounds are disclosed in the aforementioned references by Rubner et al.

【0047】[0047]

【外5】 [Outside 5]

【0048】また他のイオン性の有機化合物の例として
以下に示す化合物を用いることもできる。ここではPP
V(ポリフェニレンビニレン)とPT(ポリチエニル)
の例を示した。イオン化する時の極性を付与するため
に、正帯電性の基と負帯電性の基を用意し、モノマーに
結合させてから高分子重合させることで、先の例と同様
にイオン性の基を有するポリカチオンあるいはポリアニ
オン性の高分子有機化合物が得られる。
The following compounds can also be used as examples of other ionic organic compounds. Here PP
V (polyphenylene vinylene) and PT (polythienyl)
An example was shown. A positively chargeable group and a negatively chargeable group are prepared to impart polarity when ionized, and are bonded to a monomer and then polymerized to form an ionic group in the same manner as in the previous example. The resulting polycation or polyanionic high molecular organic compound is obtained.

【0049】あるいは予め高分子化合物を用意してお
き、上記正帯電性の基と負帯電性の基を後から付加する
ことも可能である。
Alternatively, a polymer compound may be prepared in advance, and the above-mentioned positively chargeable group and negatively chargeable group may be added later.

【0050】[0050]

【外6】 [Outside 6]

【0051】 (PPVの構造) (PTの構造) また、電解液4、6の溶媒としては一般的な水が用いら
れるが、イオン解離可能な溶媒であれば利用可能で、例
えば若干のアルコールを含んでいても良い。
(Structure of PPV) (Structure of PT) As the solvent for the electrolytes 4 and 6, general water is used, but any solvent that can dissociate ions can be used. May be included.

【0052】本例では、先に着けた帯電層がカチオンで
あるために、アニオン性の有機化合物層を吸着した例を
示した。
In this example, an example was shown in which the anionic organic compound layer was adsorbed because the previously applied charging layer was cationic.

【0053】工程(c) 有機化合物層5が形成された基板1を、カチオン化した
有機化合物の電解液6中に浸漬する(c−1)。有機化
合物層5表面はアニオン化しているため、電解液6中カ
チオン化した有機化合物はアニオン性の有機化合物層5
表面に吸着され、新たな有機化合物層7が形成される
(c−2)。
Step (c) The substrate 1 on which the organic compound layer 5 is formed is immersed in the cationized organic compound electrolyte 6 (c-1). Since the surface of the organic compound layer 5 is anionized, the cationized organic compound in the electrolytic solution 6 is not anionic.
The organic compound layer 7 is adsorbed on the surface to form a new organic compound layer 7 (c-2).

【0054】本工程をここで終了することも可能であ
り、また工程(b)、(c)を繰り返すことにより、ア
ニオン化した有機化合物層5とカチオン化した有機化合
物層7とを1層ずつ交互に積層することもできる。当該
工程数によって最終的に得られる有機化合物層8の膜厚
を分子レベルで制御することもできる。
This step can be ended here. By repeating the steps (b) and (c), the anionized organic compound layer 5 and the cationized organic compound layer 7 are separated one by one. They can be alternately stacked. The thickness of the organic compound layer 8 finally obtained can be controlled on a molecular level by the number of steps.

【0055】尚、ここで用いた有機化合物は同じ材料
に、極性の異なるアニオンとカチオンを付与したが、全
く異なる種類の化合物に極性を持つ基を付与して、異な
る化合物の積層膜を作ることも可能である。
The organic compound used here is obtained by giving anions and cations of different polarities to the same material, but by giving polar groups to completely different types of compounds to form a laminated film of different compounds. Is also possible.

【0056】工程(d) この後、表面に残ったカチオン基を消すために、中性化
処理として1%酢酸溶液に浸漬する。
Step (d) Thereafter, in order to eliminate the cationic groups remaining on the surface, the surface is immersed in a 1% acetic acid solution as a neutralizing treatment.

【0057】さらに基板を乾燥後、有機化合物層8上に
対向するストライプ電極9を形成して(d−1、d−
2)、本発明の導電素子を得る。電極材料としては、先
の電極2と同様であり、陰極、陽極の設定により適宜選
択される。
Further, after the substrate was dried, opposing stripe electrodes 9 were formed on the organic compound layer 8 to form d-1 and d- electrodes.
2) Obtain the conductive element of the present invention. The electrode material is the same as the electrode 2 described above, and is appropriately selected depending on the settings of the cathode and the anode.

【0058】尚、電極2、9の形状としては、有機化合
物層8を挟持して電圧を印加できれば特に限定されず、
本発明の導電素子を用いて構成されるデバイスに応じ
て、ストライプ形状など適宜選択される。
The shape of the electrodes 2 and 9 is not particularly limited as long as a voltage can be applied while sandwiching the organic compound layer 8.
A stripe shape or the like is appropriately selected according to a device configured using the conductive element of the present invention.

【0059】単純マトリクス駆動の有機EL素子を構成
する場合では、互いに直交するストライプ形状とし、そ
の交差部に有機化合物層8(発光層)を形成すればよ
く、また、アクティブマトリクス駆動の有機EL素子を
構成する場合であれば、電極2を画素電極として各画素
電極にTFT(薄膜トランジスタ)等のスイッチング素
子を配置し、該画素電極上に有機化合物層8(発光層)
を形成し、電極9は共通電極とすればよい。
In the case of forming a simple matrix driven organic EL element, the organic EL element may be formed in a stripe shape orthogonal to each other and an organic compound layer 8 (light emitting layer) is formed at the intersection thereof. In the case of the above, a switching element such as a TFT (thin film transistor) is disposed on each pixel electrode using the electrode 2 as a pixel electrode, and an organic compound layer 8 (light emitting layer) is formed on the pixel electrode.
And the electrode 9 may be a common electrode.

【0060】また、異なる種類の有機化合物層8を形成
する場合、例えば、フルカラー表示の有機EL素子の発
光層を形成する場合には、赤 緑 青の3色の発光素子
を形成する必要がある。この場合、工程(a)〜工程
(c)を1サイクルとして、用いる有機化合物の種類を
変えて複数サイクル実施することで、異なる種類の有機
化合物層8を所望の位置に選択的に形成することができ
る。尚、この場合、最表層の有機化合物層には中性化処
理等(カチオンであれば酸化処理、アニオンであれば還
元処理)を施し、次サイクルにおいてその上に新たな有
機化合物イオンが吸着しないようにする必要がある。
When forming different types of organic compound layers 8, for example, when forming a light emitting layer of an organic EL element for full color display, it is necessary to form light emitting elements of three colors of red, green and blue. . In this case, the steps (a) to (c) are defined as one cycle, and a plurality of cycles are performed while changing the type of the organic compound to be used, thereby selectively forming different types of organic compound layers 8 at desired positions. Can be. In this case, the outermost organic compound layer is subjected to a neutralization treatment or the like (oxidation treatment for cations, reduction treatment for anions), and no new organic compound ions are adsorbed thereon in the next cycle. You need to do that.

【0061】さらに、有機EL素子を構成する場合に
は、電極2と電極9との間に、有機化合物層8と共に作
用する正孔輸送層、或いは、電子輸送層を真空蒸着法な
どにより形成しても良い。この場合は例えば電極2上に
正孔輸送層をまず形成し、その後にインクジェット法で
帯電層3を形成することになる。また有機化合物層8上
に電子輸送層を形成する場合、上記中性化処理を行った
後に、電子輸送層材料を蒸着などで形成することが必要
である。
Further, when an organic EL device is formed, a hole transport layer or an electron transport layer which works together with the organic compound layer 8 is formed between the electrode 2 and the electrode 9 by a vacuum deposition method or the like. May be. In this case, for example, a hole transport layer is first formed on the electrode 2, and then the charging layer 3 is formed by an inkjet method. When an electron transport layer is formed on the organic compound layer 8, it is necessary to form the electron transport layer material by vapor deposition or the like after performing the above-described neutralization treatment.

【0062】本発明の有機EL素子に用いられる、正孔
輸送層材料としては、具体的には、下記の化合物が好ま
しく用いられる。α−NPD(下記構造式で示される)
As the material for the hole transport layer used in the organic EL device of the present invention, specifically, the following compounds are preferably used. α-NPD (shown by the following structural formula)

【外7】 [Outside 7]

【0063】1−TANTA:4,4',4”−トリス
(1−ナフチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン 2−TANTA:4,4',4”−トリス(2−ナフチ
ルフェニルアミノ)トリフェニルアミン TCTA:4,4',4”−トリス(N−カルバゾイ
ル)トリフェニルアミン p−DPA−TDAB:1,3,5−トリス[N−(4
−ジフェニルアミノフェニル)フェニルアミノ]ベンゼ
ン TDAB:1,3,5−トリス(ジフェニルアミノ)ベ
ンゼン TDTA:4,4',4”−トリス(ジフェニルアミ
ノ)トリフェニルアミン TDAPB:1,3,5−トリス[(ジフェニルアミ
ノ)フェニル]ベンゼン また、本発明の有機EL素子に用いられる、電子輸送材
料としては、前記したAlq3の他に、以下の化合物が
挙げられる。 BeBq:ビス(ベンゾキノリノラト)ベリリウム錯体 DTVBi:4、4'−ビス−(2,2−ジ−p−トリ
ル−ビニル)−ビフェニル Eu(DBM)3(Phen):トリス(1,3−ジフ
ェニル−1,3−プロパンジオノ)(モノフェナントロ
リン)Eu(III) さらに他の正孔輸送材料や電子輸送材料として、ジフェ
ニルエチレン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、ジア
ミノカルバゾール誘導体、ビススチリル誘導体、ベンゾ
チアゾール誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、芳香性
ジアミン誘導体、キナクリドン系化合物、ペリレン系化
合物、オキサジアゾール誘導体、クマリン系化合物、ア
ントラキノン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体(D
PVBi)、オリゴチオフェン誘導体(BMA−3T)
などが挙げられる。これらの材料は、真空蒸着法によっ
てアモルファス状態で好ましく積層される。
1-TANTA: 4,4 ', 4 "-tris (1-naphthylphenylamino) triphenylamine 2-TANTA: 4,4', 4" -Tris (2-naphthylphenylamino) triphenylamine TCTA : 4,4 ', 4 "-tris (N-carbazoyl) triphenylamine p-DPA-TDAB: 1,3,5-tris [N- (4
-Diphenylaminophenyl) phenylamino] benzene TDAB: 1,3,5-tris (diphenylamino) benzene TDTA: 4,4 ', 4 "-tris (diphenylamino) triphenylamine TDAPB: 1,3,5-tris [(Diphenylamino) phenyl] benzene Examples of the electron transporting material used in the organic EL device of the present invention include the following compounds in addition to Alq3 described above: BeBq: bis (benzoquinolinolato) beryllium Complex DTVBi: 4,4'-bis- (2,2-di-p-tolyl-vinyl) -biphenyl Eu (DBM) 3 (Phen): tris (1,3-diphenyl-1,3-propanediono) ( Monophenanthroline) Eu (III) Diphenylethylene is also used as another hole transporting material or electron transporting material. Derivatives, triphenylamine derivatives, diaminocarbazole derivatives, bisstyryl derivatives, benzothiazole derivatives, benzoxazole derivatives, aromatic diamine derivatives, quinacridone compounds, perylene compounds, oxadiazole derivatives, coumarin compounds, anthraquinone derivatives, distyryl Arylene derivative (D
PVBi), oligothiophene derivative (BMA-3T)
And the like. These materials are preferably laminated in an amorphous state by a vacuum deposition method.

【0064】次に、本発明に好ましく用いられるインク
ジェットプリンタの主要部であるヘッド構成について説
明する。図2はインクジェットヘッドの一例の構成を模
式的に示す図であり、(a)はインク吐出方向の断面
図、(b)は(a)のA−B断面図、(c)はヘッドの
斜視図である。本例は、エネルギー発生素子として電気
熱変換体を用いたバブルジェット(登録商標)タイプの
インクジェットヘッドであり、本発明ではこれ以外にも
圧電素子を用いたピエゾジェットタイプのインクジェッ
トヘッドなども好ましく用いられる。
Next, a description will be given of the configuration of a head which is a main part of an ink jet printer preferably used in the present invention. 2A and 2B are diagrams schematically illustrating an example of the configuration of an ink jet head. FIG. 2A is a cross-sectional view in the ink ejection direction, FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line AB of FIG. FIG. This example is a bubble jet (registered trademark) type ink jet head using an electrothermal converter as an energy generating element. In the present invention, a piezo jet type ink jet head using a piezoelectric element is also preferably used. Can be

【0065】図2において、10は基材、14はインク
流路である溝、15は発熱ヘッド、16は保護膜、17
a,17bはアルミニウム電極、18は発熱抵抗体層、
19は蓄熱層、20は基板、21はインク、22はオリ
フィス、23はメニスカス、24はインク滴、25は電
極である。
In FIG. 2, 10 is a substrate, 14 is a groove as an ink flow path, 15 is a heating head, 16 is a protective film, 17
a and 17b are aluminum electrodes, 18 is a heating resistor layer,
19 is a heat storage layer, 20 is a substrate, 21 is ink, 22 is an orifice, 23 is a meniscus, 24 is an ink droplet, and 25 is an electrode.

【0066】図2のインクジェットヘッドはインクを通
す溝14を有するガラス、セラミック、プラスチック等
基材10と、感熱記録に用いられる発熱ヘッド15とを
接着して構成される。発熱ヘッド15は酸化シリコン等
で形成される保護層16、アルミニウム電極17a、1
7b、ニクロム等で形成される発熱抵抗体層18、蓄熱
層19、アルミナ等の放熱性の良い基板20より構成さ
れている。インク21は吐出オリフィス(微細孔)22
まで来ており、圧力によりメニスカス23を形成してい
る。ここで、電極17a、17bに電気信号が加わる
と、発熱ヘッド15のnで示される領域が急激に発熱
し、ここに接しているインク21に気泡が発生し、その
圧力でメニスカス23が突出し、オリフィス22よりイ
ンク滴24が形成されて飛び出し、本発明における被記
録材である電極25に向かって飛翔する。
The ink jet head shown in FIG. 2 is constituted by bonding a substrate 10 made of glass, ceramic, plastic or the like having a groove 14 through which ink passes, and a heating head 15 used for thermal recording. The heating head 15 has a protective layer 16 made of silicon oxide or the like, aluminum electrodes 17a, 1
7b, a heating resistor layer 18 made of nichrome or the like, a heat storage layer 19, and a substrate 20 having good heat dissipation such as alumina. The ink 21 has a discharge orifice (micro hole) 22
And a meniscus 23 is formed by pressure. Here, when an electric signal is applied to the electrodes 17a and 17b, the area indicated by n of the heating head 15 generates heat rapidly, bubbles are generated in the ink 21 in contact with the area, and the meniscus 23 protrudes by the pressure, An ink droplet 24 is formed from the orifice 22 and pops out, and flies toward an electrode 25 which is a recording material in the present invention.

【0067】通常、インクジェットヘッドは(c)に示
すように、上記ヘッド構成を複数配置したマルチヘッド
として用いられている。
Usually, an ink jet head is used as a multi-head in which a plurality of the above-mentioned head configurations are arranged as shown in FIG.

【0068】本発明の導電素子は種々のデバイスにおい
て好ましく応用され、特に、有機化合物層を発光材料で
形成して発光層とした有機EL素子が好ましい。また、
有機EL素子以外にも、光センサ、光導電体(複写機ド
ラム)、有機半導体素子(有機TFT)、温度センサ、
空間変調素子などの電子デバイスに応用することができ
る。
The conductive element of the present invention is preferably applied to various devices, and in particular, an organic EL element in which an organic compound layer is formed of a light emitting material to form a light emitting layer is preferable. Also,
In addition to organic EL elements, optical sensors, photoconductors (copier drums), organic semiconductor elements (organic TFTs), temperature sensors,
It can be applied to electronic devices such as spatial modulation elements.

【0069】[0069]

【実施例】(実施例1)厚さ1.1mmのガラス基板上
にスパッタ−法にて70nmのITO膜を成膜し、定法
にてパターニングし透明電極を形成した。成膜時の基板
温度は200℃、ターゲット成分はInが90%でSn
が10%のターゲットを用い、Arガスを200scc
m、O2ガスを3sccm導入してスパッタ成膜した。
スパッタ成膜後の仕事関数は約4.35eVであった
が、このITO膜に低圧水銀ランプを用いてUV光を照
射し、仕事関数を4.6eVに高め、陽極とした。厚さ
は70nmであった。
(Example 1) An ITO film having a thickness of 70 nm was formed on a glass substrate having a thickness of 1.1 mm by a sputtering method, and was patterned by a conventional method to form a transparent electrode. The substrate temperature at the time of film formation was 200 ° C., the target component was 90% In and Sn
Using a 10% target and 200 scc Ar gas
m, O 2 gas was introduced at 3 sccm to form a film by sputtering.
The work function after sputter deposition was about 4.35 eV, but this ITO film was irradiated with UV light using a low-pressure mercury lamp to increase the work function to 4.6 eV and used as an anode. The thickness was 70 nm.

【0070】先に構造を示した正帯電性の帯電材料1を
0.1重量%と5重量%のメタノールを添加した水溶液
を調整し、インクジェットプリンタを用いて、上記透明
電極上に複数滴付与し、画素部1画素当たりの付与量は
約30ピコリットルであった。付与後、基板を80℃に
加熱し、更に純水洗浄を行って、基板と化学反応してい
ない未反応の帯電材料1を除去した。その後基板温度を
80℃にして2×10 -2Pa以下に減圧した真空槽内で
乾燥させた。この結果透明電極上に直径約0.15mm
の円形の帯電層が形成できた。
The positively charged material 1 having the structure described above is
An aqueous solution containing 0.1% by weight and 5% by weight of methanol
Adjust the above transparent using an inkjet printer
Multiple drops are applied on the electrode, and the applied amount per pixel in the pixel portion is
It was about 30 picoliters. After application, bring the substrate to 80 ° C
Heat and further clean with pure water to make
The remaining unreacted charged material 1 was removed. Then the substrate temperature
2 x 10 at 80 ° C -2In a vacuum chamber depressurized to below Pa
Let dry. As a result, the diameter of the transparent electrode was about 0.15 mm.
Was formed.

【0071】先に構造を示したPPP誘導体1、及びP
PP誘導体2(それぞれn=10)の電解液は「Lan
gmuir 16,No.11,2000,p.501
7−5023」及び「Adv.Mater.1998,
10,No.17,p.1452」に準拠して調製した。
The PPP derivative 1 having the structure shown above, and P
The electrolytic solution of PP derivative 2 (n = 10 each) is “Lan
gmuir 16, No. 11, 2000, p. 501
7-5023 "and" Adv. Mater. 1998,
10, No. 17, p. 1452 ".

【0072】溶液条件はPPP誘導体1は、0.01M/リ
ットルの水溶液でpHは約4であった。PPP誘導体2
の濃度も同じ0.01M/リットルであって、NaClを0.
1M/リットルになるように添加してpHを4に調整し
た。
The solution conditions were such that the PPP derivative 1 was an aqueous solution of 0.01 M / liter and the pH was about 4. PPP derivative 2
Has the same concentration of 0.01 M / liter,
The pH was adjusted to 4 by adding 1 M / liter.

【0073】先ず、PPP誘導体2がアニオン化した電
解液に上記帯電層を形成した基板を15分間浸漬し、水
による2分間のリンスの後、PPP誘導体1がカチオン
化した電解液に15分間浸漬した。この操作を20回繰
り返すことで膜厚が約100nmのPPP層を形成し
た。
First, the substrate on which the above-mentioned charged layer was formed was immersed in an electrolyte in which the PPP derivative 2 was anionized for 15 minutes, rinsed with water for 2 minutes, and then immersed in the electrolyte in which the PPP derivative 1 was cationized for 15 minutes. did. By repeating this operation 20 times, a PPP layer having a thickness of about 100 nm was formed.

【0074】この後、中性化処理として、1%の酢酸溶
液に5分間浸漬し、その後80℃の真空オーブンの中で
乾燥した。
Thereafter, as a neutralization treatment, the film was immersed in a 1% acetic acid solution for 5 minutes, and then dried in a vacuum oven at 80 ° C.

【0075】上記基板を2×10-3Pa以下に減圧した
真空槽内に移送し、抵抗加熱蒸着法により厚さ約30n
mのAlq3を成膜し、電子輸送層とした。蒸着圧力は
1×10-3Paで約0.1nm/secの蒸着レートで
蒸着した。
The above substrate was transferred into a vacuum chamber having a reduced pressure of 2 × 10 −3 Pa or less, and a thickness of about 30 n was obtained by resistance heating evaporation.
m of Alq3 was formed into an electron transport layer. The deposition pressure was 1 × 10 −3 Pa at a deposition rate of about 0.1 nm / sec.

【0076】次いで、上記Alq3層の上に、陰極とし
てAl・Li合金を蒸着圧力1×10-4Paで10nm
蒸着し、更にAlを150nm蒸着して有機EL素子を
得た。
Next, on the Alq3 layer, an Al.Li alloy was deposited as a cathode at a deposition pressure of 1 × 10 −4 Pa for 10 nm.
Evaporation was performed, and Al was further evaporated to a thickness of 150 nm to obtain an organic EL device.

【0077】得られた有機EL素子は、陽極と陰極間に
12Vの電圧を印加することで発光が得られた。また発
光領域内においてしきい値分布はほとんどなく、良好な
発光しきい値特性を示した。
The obtained organic EL device emitted light by applying a voltage of 12 V between the anode and the cathode. Also, there was almost no threshold distribution in the light emitting region, and good light emitting threshold characteristics were exhibited.

【0078】(実施例2)厚さ1.1mmのガラス基板
上に、陽極として厚さ約100nmのITO膜をスパッ
タにより成膜し、幅100μm、間隙40μmで10ラ
インのストライプ状にパターニングした。
(Example 2) An ITO film having a thickness of about 100 nm was formed as an anode on a glass substrate having a thickness of 1.1 mm by sputtering, and was patterned into a stripe pattern of 10 lines with a width of 100 µm and a gap of 40 µm.

【0079】次に、実施例1と同様にして、インクジェ
ット方式により上記陽極上の、該陽極と下記陰極との交
差部に相当する位置に、前記帯電材料を1画素当たり2
0ピコリットル付与して帯電材料を塗付した。その後実
施例1と同様に乾燥し、直径約0.1mmの帯電層を形
成した。その上に実施例1と同様な条件でPPP層から
なる発光層を形成した。
Next, in the same manner as in Example 1, the charged material was applied to the anode at a position corresponding to the intersection between the anode and the following cathode by the ink jet method at a rate of 2 pixels per pixel.
The charged material was applied by applying 0 picoliter. Thereafter, drying was performed in the same manner as in Example 1 to form a charged layer having a diameter of about 0.1 mm. A light emitting layer composed of a PPP layer was formed thereon under the same conditions as in Example 1.

【0080】次いで、幅10μm、間隙40μmで10
ラインのストライプ状の陰極を上記陽極に直交するよう
に形成した。陰極は、膜厚10nmのAl・Li合金
(Li:1.3重量%)と膜厚150nmのAlとを真
空度2.66×10-3Paの条件下で積層した。
Next, when the width is 10 μm and the gap is 40 μm,
A striped cathode of lines was formed so as to be orthogonal to the anode. The cathode was formed by laminating a 10 nm-thick Al.Li alloy (Li: 1.3% by weight) and a 150 nm-thick Al under a vacuum degree of 2.66 × 10 −3 Pa.

【0081】得られた有機EL素子を、窒素雰囲気で満
たしたグローブボックスの中で、前記電極2に走査信号
を+10Vのパルス電圧を印加し、情報信号には±3V
の交流波形を用い、7〜13Vの間で単純マトリクス駆
動を行った。その結果、フレーム周波数30Hzの線順
次駆動で滑らかな動画像が確認された。また同様な条件
で連続駆動した際の輝度半減時間は60時間であった。
A scanning signal of +10 V pulse voltage was applied to the electrode 2 in a glove box filled with the obtained organic EL element in a nitrogen atmosphere, and the information signal was ± 3 V
, Simple matrix drive was performed between 7 and 13V. As a result, a smooth moving image was confirmed by line-sequential driving at a frame frequency of 30 Hz. The luminance half-life when continuously driven under the same conditions was 60 hours.

【0082】(実施例3)図3に、本実施例のマルチカ
ラーの発光部を備えた有機EL素子の作製工程を模式的
に示す。図中、31はガラス基板、32は陽極、33a
〜33cは帯電層、34a〜34cは有機化合物層、3
5a〜35cは発光層である。
Embodiment 3 FIG. 3 schematically shows a process of manufacturing an organic EL device having a multicolor light emitting portion of this embodiment. In the figure, 31 is a glass substrate, 32 is an anode, 33a
33c to 33c are charged layers; 34a to 34c are organic compound layers;
5a to 35c are light emitting layers.

【0083】実施例1と同様にして、ガラス基板上にI
TO膜を70nmの膜厚でスパッタ成膜し、幅100μ
m、間隙40μmで10ラインのストライプ状にパター
ニングし、陽極とする。
In the same manner as in Example 1, I
A TO film is formed by sputtering to a thickness of 70 nm and has a width of 100 μm.
m and a gap of 40 μm are patterned into a stripe of 10 lines to form an anode.

【0084】次いで、上記陽極32上の青画素部に対応
する位置に、先に示した帯電材料1の0.1重量%及び
メタノール5重量%の水溶液を、インクジェットプリン
タを用いて1画素当たり20pl付与し、実施例1と同
様に水洗後、真空乾燥して帯電層33を形成する。これ
により青画素部に対応する位置に正に帯電した帯電層を
形成することができる(a−1)。
Next, at a position corresponding to the blue pixel portion on the anode 32, an aqueous solution containing 0.1% by weight of the above-described charged material 1 and 5% by weight of methanol was applied at 20 pl / pixel using an ink jet printer. It is applied, washed with water in the same manner as in Example 1, and then dried under vacuum to form a charged layer 33. Thereby, a positively charged layer can be formed at a position corresponding to the blue pixel portion (a-1).

【0085】上記ガラス基板を、先に示したPPP誘導
体2(n=10)がアニオン化した電解液中に15分間
浸漬し、水でリンスした後に乾燥し、有機化合物層34
aを形成する(a−2)。この後、PPP誘導体1(n
=10)がカチオン化した電解液中に15分間浸漬し、
水でリンスした後に乾燥し、有機化合物層を形成する。
このサイクルを20回繰り返して厚さ約100nmのP
PP誘導体層を形成する。最表層のカチオン化PPP誘
電体層に対して、1%の酢酸水溶液をインクジェット法
にて約20ピコリットル滴下し、酸化処理を行って電気
的に中性化する。よって第1の発光層35aを得ること
ができる(a−3)。このとき中性化処理しないと、次
の工程で使う別色の材料が吸着される弊害が起こるの
で、ここの酸化処理は必須である。
The glass substrate was immersed in the above-described electrolyte solution in which the PPP derivative 2 (n = 10) was anionized for 15 minutes, rinsed with water, dried, and dried.
a is formed (a-2). Thereafter, the PPP derivative 1 (n
= 10) immersed in a cationized electrolyte for 15 minutes,
After rinsing with water and drying, an organic compound layer is formed.
This cycle is repeated 20 times to obtain a P having a thickness of about 100 nm.
A PP derivative layer is formed. About 20 picoliters of a 1% acetic acid aqueous solution is dropped on the outermost cationized PPP dielectric layer by an ink jet method, and oxidation treatment is performed to neutralize it electrically. Therefore, the first light emitting layer 35a can be obtained (a-3). If the neutralization treatment is not performed at this time, there is a problem that a material of another color used in the next step is adsorbed, and thus the oxidation treatment is essential.

【0086】上記(a−1)〜(a−3)の工程と同様
にして、位置を140μmずらせて赤画素に相当する位
置に、帯電層33bを先に示した負帯電性の帯電材料2
を用いて形成する。この帯電層の表面は負に帯電してい
る(b−1)。
In the same manner as in the above steps (a-1) to (a-3), the charge layer 33b is shifted to a position corresponding to a red pixel by shifting the position by 140 μm, and the charge layer 33b having the negative charge property of the negative charge
It is formed using. The surface of the charged layer is negatively charged (b-1).

【0087】次にn=30のカチオン性のPPP誘導体
1の電解液中に浸漬し、次にアニオン性のPPP誘導体
2の電解液中に浸漬する。を用いて第1の発光層35a
よりも発光色をレッドシフトさせた第2の発光層35b
を得ることができる。この後中性化処理として、表面に
残ったアニオン化PPPに対して、エタノールアミン
(β-アミノエチルアルコール)1%水溶液をインクジ
ェット法にて約20ピコリットル滴下し、第二の帯電層
を得ることができる(b−3)。
Next, it is immersed in the electrolyte of the cationic PPP derivative 1 with n = 30, and then immersed in the electrolyte of the anionic PPP derivative 2. Using the first light emitting layer 35a
Light-emitting layer 35b in which the emission color is red-shifted
Can be obtained. Thereafter, as a neutralization treatment, about 20 picoliters of a 1% aqueous solution of ethanolamine (β-aminoethyl alcohol) is dropped on the anionized PPP remaining on the surface by an inkjet method to obtain a second charged layer. (B-3).

【0088】さらに、同様に、帯電層33cを帯電材料
1を用いて形成し(c−1)、n=5のPPP誘導体
1、2を用いて第1の発光層35aよりも発光色をブル
ーシフトさせた第3の発光層35cを得ることができ
る。中性化処理の条件は前と同じく1%酢酸溶液をイン
クジェット法で滴下した(c−3)。
Further, similarly, the charging layer 33c is formed using the charging material 1 (c-1), and the light emitting color is more blue than the first light emitting layer 35a using the PPP derivatives 1 and 2 in which n = 5. The shifted third light emitting layer 35c can be obtained. The conditions of the neutralization treatment were the same as before, and a 1% acetic acid solution was dropped by an inkjet method (c-3).

【0089】上記基板を2×10-3Pa以下に減圧した
真空槽内に移送し、抵抗加熱蒸着法により陰極として上
記発光層35a〜35c上にマスクを配置し、下部電極
と直行するように、Al・Li合金とAlを総厚で約1
50nm、幅100μm、間隙40μmで10ラインの
ストライプ状に積層することによって有機EL素子を完
成する。
The substrate is transferred into a vacuum chamber having a reduced pressure of 2 × 10 −3 Pa or less, and a mask is arranged as a cathode on the light emitting layers 35 a to 35 c by a resistance heating vapor deposition method so that the substrate is perpendicular to the lower electrode. , Al·Li alloy and Al in a total thickness of about 1
The organic EL element is completed by laminating 10 lines in a stripe shape with 50 nm, width of 100 μm, and gap of 40 μm.

【0090】この素子に対して陽極側には+10ボルト
のパルス電圧を、陰極側には±3Vの交流電圧を印加
し、マトリックス駆動を行うことで全面に発光させるこ
とができる。陽極と陰極とでマトリクス駆動することに
より、それぞれの発光色を発光し、各発光層内、及び同
色発光層間で輝度ムラのない均一な発光が得られる。
By applying a pulse voltage of +10 volts to the anode side and an AC voltage of ± 3 V to the cathode side of the device and performing matrix driving, light can be emitted from the entire surface. By performing matrix driving between the anode and the cathode, light of each emission color is emitted, and uniform light emission without luminance unevenness is obtained in each light emitting layer and between light emitting layers of the same color.

【0091】尚本実施例では、有機化合物の成膜には、
電解液中に浸漬する方法を用いたが、帯電層の上に直接
インクジェット方式でイオン性の有機化合物溶液を塗付
しても、電気的作用で濡れ性がよくなり、膜厚分布が小
さくなることが期待でき、本願と同様な効果が得られる
と考えられる。
In this embodiment, the organic compound film is formed by
Although the method of immersion in the electrolytic solution was used, even if an ionic organic compound solution was applied directly on the charged layer by an inkjet method, the wettability was improved by the electric action, and the film thickness distribution was reduced. It is expected that the same effect as the present application can be obtained.

【0092】[0092]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
有機化合物層を所望の領域に選択的に且つ均一な膜厚で
形成することができ、複数種類の有機化合物層を同一基
板上に容易に形成することができる。しかも、有機化合
物層の膜厚を厳しく制御することが可能である。よっ
て、本発明の導電素子を用いて種々のデバイスが構成可
能であり、特に、有機化合物材料の選択により、フルカ
ラー表示の有機EL素子を簡易な製造方法により歩留ま
り良く、安価に提供することが可能となる。
As described above, according to the present invention,
An organic compound layer can be selectively formed in a desired region with a uniform thickness, and a plurality of types of organic compound layers can be easily formed on the same substrate. In addition, the thickness of the organic compound layer can be strictly controlled. Therefore, various devices can be configured using the conductive element of the present invention. In particular, by selecting an organic compound material, an organic EL element for full-color display can be provided at a high yield with a simple manufacturing method at a low cost. Becomes

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の導電素子の製造方法の工程を示す模式
図である。
FIG. 1 is a schematic view showing steps of a method for manufacturing a conductive element of the present invention.

【図2】本発明の導電素子の製造方法に用いられるイン
クジェットヘッドの一例の構成を示す図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration of an example of an ink jet head used in a method for manufacturing a conductive element of the present invention.

【図3】本発明の実施例の有機EL素子の製造工程を示
す図である。
FIG. 3 is a view showing a manufacturing process of the organic EL device according to the example of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 絶縁性基板 2、9 電極 3 帯電層 4、6 電解液 5、7、8 有機化合物層 10 基材 14 溝 15 発熱ヘッド 16 保護層 17a、17b アルミニウム電極 18 発熱抵抗体層 19 蓄熱層 20 基板 21 インク 22 オリフィス 23 メニスカス 24 インク滴 25 電極 31 ガラス基板 32 陽極 33a〜33c 帯電層 34a〜34c 有機化合物層 35a〜35c 発光層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Insulating substrate 2, 9 Electrode 3 Charge layer 4, 6 Electrolyte 5, 7, 8 Organic compound layer 10 Base material 14 Groove 15 Heating head 16 Protective layer 17a, 17b Aluminum electrode 18 Heating resistor layer 19 Heat storage layer 20 Substrate DESCRIPTION OF SYMBOLS 21 Ink 22 Orifice 23 Meniscus 24 Ink drop 25 Electrode 31 Glass substrate 32 Anode 33a-33c Charge layer 34a-34c Organic compound layer 35a-35c Light emitting layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鎌谷 淳 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤノ ン株式会社内 (72)発明者 滝口 隆雄 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤノ ン株式会社内 (72)発明者 野口 幸治 神奈川県相模原市南台5丁目10番19号 (72)発明者 坪山 明 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤノ ン株式会社内 (72)発明者 古郡 学 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤノ ン株式会社内 Fターム(参考) 3K007 AB04 AB17 AB18 BA06 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01 5C094 AA05 AA08 AA42 AA43 AA44 BA12 BA27 CA19 CA24 DA13 EA05 EB02 FA01 FA02 FB01 FB20 GB10 5G435 AA04 AA17 BB05 CC09 CC12 HH01 HH20 KK05 KK10  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Atsushi Kamagaya 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside Canon Inc. (72) Inventor Takao Takiguchi 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Co., Ltd. Study F-term (reference) 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo 3K007 AB04 AB17 AB18 BA06 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01 5C094 AA05 AA08 AA42 AA43 AA44 BA12 BA27 CA19 CA24 DA13 EA05 EB02 FA01 FA02 FB01 GB10 5G435 AA04 AA17 BB05 CC09 CC12 HH01 HH20 KK05 KK10

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に形成された第一の電極と、前記
第一の電極上の複数の領域に配置された帯電材料と、前
記帯電材料上に配置された有機化合物層と、前記有機化
合物層上に配置された第二の電極を有することを特徴と
する導電素子。
A first electrode formed on a substrate; a charging material disposed on a plurality of regions on the first electrode; an organic compound layer disposed on the charging material; A conductive element comprising a second electrode disposed on a compound layer.
【請求項2】 絶縁性基板上に、前記帯電材料と複数の
異なる有機化合物層を有する請求項1に記載の導電素
子。
2. The conductive element according to claim 1, further comprising a plurality of different organic compound layers from the charged material on an insulating substrate.
【請求項3】 前記帯電材料が電解質からなる請求項1
に記載の導電素子。
3. The charging material according to claim 1, wherein said charging material comprises an electrolyte.
The conductive element according to claim 1.
【請求項4】 前記電解質が、シラノール基及びイオン
解離性の官能基を有する請求項3に記載の導電素子。
4. The conductive element according to claim 3, wherein the electrolyte has a silanol group and an ion-dissociable functional group.
【請求項5】 前記第一の電極と第二の電極に電圧を印
加することにより前記有機化合物層が発光することを特
徴とする請求項1に記載の導電素子。
5. The conductive element according to claim 1, wherein the organic compound layer emits light by applying a voltage to the first electrode and the second electrode.
【請求項6】 基板上に配置された第一の電極上に帯電
材料を塗付する工程と、 前記基板を有機化合物イオンを含む電解液中に浸漬し前
記帯電材料上に有機化合物イオンを吸着して有機化合物
層を形成する工程と、 前記有機化合物層上に第二の電極を形成する工程と、を
少なくとも有することを特徴とする導電素子の製造方
法。
6. A step of applying a charging material on a first electrode disposed on a substrate, and immersing the substrate in an electrolyte containing organic compound ions to adsorb the organic compound ions on the charging material. And forming a second electrode on the organic compound layer.
【請求項7】 上記帯電材料を塗付する工程が、インク
ジェット方式によりなされることを特徴とする請求項6
に記載の導電素子の製造方法。
7. The method according to claim 6, wherein the step of applying the charging material is performed by an ink jet method.
3. The method for producing a conductive element according to claim 1.
【請求項8】 上記有機化合物層の形成工程が、前記基
板を有機化合物のカチオンを含む電解液と有機化合物の
アニオンを含む電解液に交互に浸漬して、各有機化合物
層を交互に積層することを特徴とする請求項6に記載の
導電素子の製造方法。
8. The method for forming an organic compound layer, wherein the substrate is alternately immersed in an electrolytic solution containing a cation of an organic compound and an electrolytic solution containing an anion of an organic compound to alternately laminate the organic compound layers. The method for manufacturing a conductive element according to claim 6, wherein:
【請求項9】 上記帯電材料が電解質からなる請求項6
に記載の導電素子の製造方法。
9. The charging material according to claim 6, wherein the charging material comprises an electrolyte.
3. The method for producing a conductive element according to claim 1.
【請求項10】 上記電解質が、シラノール基及びイオ
ン解離性の官能基を有する請求項9に記載の導電素子の
製造方法。
10. The method according to claim 9, wherein the electrolyte has a silanol group and an ion-dissociable functional group.
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