JP2002212183A - Method for producing carbapenem antimicrobial agent - Google Patents

Method for producing carbapenem antimicrobial agent

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JP2002212183A
JP2002212183A JP2001350870A JP2001350870A JP2002212183A JP 2002212183 A JP2002212183 A JP 2002212183A JP 2001350870 A JP2001350870 A JP 2001350870A JP 2001350870 A JP2001350870 A JP 2001350870A JP 2002212183 A JP2002212183 A JP 2002212183A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a carbapenem antimicrobial agent having a 1-alkylpyrrolidine structure, to obtain a 5-alkyl-2-thia-5- azabicyclo[2.2.1]heptan-3-one which is a useful synthetic intermediate therefor and its salt and to provide a method for producing the same. SOLUTION: This method for producing a carbapenem antimicrobial agent (4) represented by the formula [wherein, R1 denotes a 1-3C alkyl group; and R2 and R3 denote each independently hydrogen atom or the like] or its salt comprises using a compound (1) represented by the formula or its salt as one of starting materials.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、優れた抗菌活性を
有する1−アルキルピロリジン構造を有するカルバペネ
ム系抗菌剤の製造方法、その有用な合成中間体である5
−アルキル−2−チア−5−アザビシクロ[2.2.
1]ヘプタン−3−オン及びその塩、並びに、その製造
方法に関する。
The present invention relates to a method for producing a carbapenem antibacterial agent having a 1-alkylpyrrolidine structure having excellent antibacterial activity, and a useful synthetic intermediate thereof.
-Alkyl-2-thia-5-azabicyclo [2.2.
1] Heptan-3-one and a salt thereof, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、優れた抗菌活性を有する1−アル
キルピロリジン構造を有するカルバペネム系抗菌剤が種
々知られている。例えば、特開平11-71277号公報には、
1−アルキルピロリジン構造を有するカルバペネム系抗
菌剤及びその製造方法が記載されている。しかし、当該
公報に記載されている製造方法は、製造目的化合物であ
るカルバペネム系抗菌剤中の3つの部分構造を段階的に
結合させているのに対して、本発明に係る1−アルキル
ピロリジン構造を有するカルバペネム系抗菌剤の製造方
法は、いわゆるワンポット合成により3つの部分構造を
一段階で連続的に結合させている点において異なる。
2. Description of the Related Art Hitherto, various carbapenem antibacterial agents having a 1-alkylpyrrolidine structure having excellent antibacterial activity have been known. For example, JP-A-11-71277 discloses that
A carbapenem antibacterial having a 1-alkylpyrrolidine structure and a method for producing the same are described. However, the production method described in the publication discloses that the three partial structures in the carbapenem-based antibacterial agent, which is the production target compound, are bonded stepwise, whereas the 1-alkylpyrrolidine structure according to the present invention is used. The method for producing a carbapenem-based antibacterial agent having the following structure is different in that three partial structures are continuously bonded in one step by so-called one-pot synthesis.

【0003】また、Heterocycles, 41巻, 147頁(1995
年)には、窒素原子上に置換分を有しないピロリジン構
造を有するカルバペネム系抗菌剤(メロペネム)及びその
製造方法が記載されている。当該文献に記載されている
製造方法と本発明に係る1−アルキルピロリジン構造を
有するカルバペネム系抗菌剤を製造する方法の出発原料
は、共に2−チア−5−アザビシクロ[2.2.1]ヘ
プタン−3−オン誘導体である点で共通する。しかし、
当該文献に記載されている製造方法の出発原料は、その
構造中窒素原子上にカルボニル系の保護基であるp-ニト
ロベンジルオキシカルボニル基を有しており、当該窒素
原子の求核性が弱められ、副反応が起こるのを防止して
いるのに対し、本発明に係る製造方法の出発原料は、そ
の構造中窒素原子が求核性を有しており、その化学的性
質が異なるものであるため、副反応やそれに伴う収率の
低下が懸念された。更に、当該文献に記載されている合
成例は非常に小スケールのもの(出発原料から69%の収
率で、生成物315mgを製造した例。)であるので、当該
文献に記載されているカルバペネム系抗菌剤の製法が本
発明に係る1−アルキルピロリジン構造を有するカルバ
ペネム系抗菌剤の大量合成に応用できるか否かは明らか
ではなかった。
Heterocycles, 41, 147 (1995)
) Describes a carbapenem antibacterial agent (meropenem) having a pyrrolidine structure having no substitution on the nitrogen atom and a method for producing the same. Starting materials for the production method described in the literature and the method for producing the carbapenem antibacterial agent having a 1-alkylpyrrolidine structure according to the present invention are both 2-thia-5-azabicyclo [2.2.1] heptane. They are common in that they are -3-one derivatives. But,
The starting material of the production method described in the literature has a p-nitrobenzyloxycarbonyl group which is a carbonyl protecting group on a nitrogen atom in its structure, and the nucleophilicity of the nitrogen atom is weakened. While a side reaction is prevented from occurring, the starting material of the production method according to the present invention has a structure in which a nitrogen atom has nucleophilicity in its structure and its chemical property is different. For this reason, there was a concern that side reactions and accompanying reduction in yield would occur. Furthermore, the synthesis example described in the literature is of a very small scale (an example in which 315 mg of the product was produced in a 69% yield from the starting material), and thus the carbapenem described in the literature is described. It was not clear whether the method for producing antibacterial agents can be applied to mass synthesis of carbapenem antibacterial agents having a 1-alkylpyrrolidine structure according to the present invention.

【0004】また、2−チア−5−アザビシクロ[2.
2.1]ヘプタン−3−オン誘導体の製造方法も、種々
知られている。例えば、2−チア−5−アザビシクロ
[2.2.1]ヘプタン−3−オンの窒素原子がアセチ
ル基で保護された化合物及びその製法が、J.Org.Chem.,
46巻, 4182頁(1981年)、及びChem.Pharm.Bull., 20巻,
543頁(1972年)に記載されている。しかし、当該文献に
記載されている方法は、分子内環化工程においてN,N'-
ジシクロヘキシルカルボジイミドという非常に後処理に
困難を伴う縮合剤を用いているため、大量合成に適した
ものではない。
Further, 2-thia-5-azabicyclo [2.
2.1] Various methods for producing heptane-3-one derivatives are also known. For example, a compound in which the nitrogen atom of 2-thia-5-azabicyclo [2.2.1] heptan-3-one is protected with an acetyl group and a method for producing the same are described in J. Org. Chem.,
46, 4182 (1981), and Chem. Pharm. Bull., 20,
543 (1972). However, the method described in the literature is such that N, N'-
The use of dicyclohexylcarbodiimide, a condensing agent that is extremely difficult to perform post-treatment, is not suitable for mass synthesis.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】カルバペネム系抗菌剤
は、優れた抗菌活性を有する一方で、一般にその化学構
造が複雑である。従って、本発明に係る1−アルキルピ
ロリジン構造を有するカルバペネム系抗菌剤について
も、より安価、容易、かつ安全性が高く大量合成にも適
している合成経路の構築が求められていた。
While carbapenem antibacterial agents have excellent antibacterial activity, their chemical structures are generally complicated. Therefore, with respect to the carbapenem-based antibacterial agent having a 1-alkylpyrrolidine structure according to the present invention, construction of a synthetic route which is more inexpensive, easy, safe and suitable for mass synthesis has been required.

【0006】また、本発明に係る5−アルキル−2−チ
ア−5−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン−3−オ
ンは、上記目的を達成する1−アルキルピロリジン構造
を有するカルバペネム系抗菌剤の合成経路において非常
に重要な中間体化合物であるが、当該化合物についても
安価、容易、安全、かつ大量に製造できる方法が求めら
れていた。
The 5-alkyl-2-thia-5-azabicyclo [2.2.1] heptane-3-one according to the present invention is a carbapenem antibacterial having a 1-alkylpyrrolidine structure for achieving the above object. Although it is a very important intermediate compound in the synthetic route of the above, there has been a demand for a method that can produce the compound inexpensively, easily, safely, and in large quantities.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明者等は、1−アルキルピロリジン構造を有す
るカルバペネム系抗菌剤の合成経路について種々検討し
たところ、5−アルキル−2−チア−5−アザビシクロ
[2.2.1]ヘプタン−3−オン及びその塩を合成中
間体として用いる本発明に係る合成経路が、上記課題を
解決するのに優れた合成経路であることを見出した。
Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have conducted various studies on the synthesis routes of carbapenem antibacterial agents having a 1-alkylpyrrolidine structure, and found that 5-alkyl-2-thiathiols. It has been found that the synthetic route according to the present invention using -5-azabicyclo [2.2.1] heptan-3-one and a salt thereof as a synthetic intermediate is an excellent synthetic route for solving the above problems. .

【0008】また、本発明者等は、5−アルキル−2−
チア−5−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン−3−
オン及びその塩の製造方法についても種々検討したとこ
ろ、シス−2−カルボキシル−4−メルカプト−1−ア
ルキルピロリジン又はその塩を酸無水物存在下に分子内
脱水縮合させる方法が、上記課題を解決するのに優れた
合成経路であることを見出して、本発明を完成した。
Further, the present inventors have proposed that 5-alkyl-2-
Thia-5-azabicyclo [2.2.1] heptane-3-
Various investigations have also been made on the production methods of ON and its salts. The method of intramolecular dehydration condensation of cis-2-carboxyl-4-mercapto-1-alkylpyrrolidine or a salt thereof in the presence of an acid anhydride solves the above problem. The present invention has been found to be an excellent synthetic route to carry out the present invention.

【0009】本発明は、式According to the present invention, the formula

【0010】[0010]

【化9】 Embedded image

【0011】[式中、R1は、C1−C3アルキル基を示
す。]で表される化合物(1)又はその塩、式
Wherein R 1 represents a C 1 -C 3 alkyl group. Or a salt thereof represented by the formula:

【0012】[0012]

【化10】 Embedded image

【0013】[式中、R2及びR3は、それぞれ独立に、
水素原子又は有機残基を示し、又は、R2及びR3は、そ
れらが結合する窒素原子と一緒になって環を形成しても
よい。]で表される化合物(2)又はその塩、及び、式
Wherein R 2 and R 3 are each independently
It represents a hydrogen atom or an organic residue, or R 2 and R 3 may form a ring together with the nitrogen atom to which they are attached. And a salt thereof, and a compound represented by the formula:

【0014】[0014]

【化11】 Embedded image

【0015】[式中、Lは、脱離基を示し、水酸基及び
カルボキシル基は、それぞれ独立に、保護されていても
よい。]で表される化合物(3)又はその塩を反応させ
ることにより、式
[In the formula, L represents a leaving group, and the hydroxyl group and the carboxyl group may be each independently protected. By reacting the compound (3) or a salt thereof represented by the formula

【0016】[0016]

【化12】 Embedded image

【0017】[式中、R1、R2及びR3は、前述と同意
義を示し、水酸基及びカルボキシル基は、それぞれ独立
に、保護されていてもよい。]で表されるカルバペネム
系抗菌剤(4)又はその塩を製造する方法、である。
[Wherein, R 1 , R 2 and R 3 have the same meanings as described above, and the hydroxyl group and the carboxyl group may be each independently protected. A method for producing the carbapenem antibacterial agent (4) or a salt thereof represented by the formula:

【0018】ここで、R1における「アルキル基」は、
直鎖状又は分枝鎖状の飽和炭化水素基であり、R1にお
けるC1−C3アルキル基は、メチル、エチル、プロピル
又はイソプロピル基であり、好適には、C1−C2アルキ
ル基であり、より好適には、メチル基である。
Here, the "alkyl group" for R 1 is
A linear or branched saturated hydrocarbon group, wherein the C 1 -C 3 alkyl group for R 1 is a methyl, ethyl, propyl or isopropyl group, preferably a C 1 -C 2 alkyl group; And more preferably a methyl group.

【0019】R2及びR3における「有機残基」は、式-
N(R2)(R3)で表される基中の窒素原子が求核性を有
し、かつ、式-N(R2)(R3)で表される構造を有するカ
ルバペネム系抗菌剤(4)又はその塩が優れた抗菌作用
を有するようなものであれば特に限定はなく、例えば、
水素原子;置換された又は無置換の、低級アルキル基、
低級アルケニル基又は低級アルキニル基;置換された又
は無置換の、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキ
ル基、シクロアルキルアルケニル基又はシクロアルキル
アルキニル基;置換された又は無置換の、アラルキル
基、アラルケニル基又はアラルキニル基;及び、置換さ
れた又は無置換の、ヘテロアラルキル基、ヘテロアラル
ケニル基、ヘテロアラルキニル基、ヘテロシクリル基、
ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロシクリルアルケニル
基又はヘテロシクリルアルキニル基であり得る。R2
びR3における「置換された又は無置換の、低級アルキ
ル基、低級アルケニル基又は低級アルキニル基」は、1
〜6個の炭素原子を有し、例えば、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、2−プロペニル、2−
ブテニル、エチニル、2−ブチニル、2−ヒドロキシエ
チル、2−クロロエチル、2−メトキシエチル、3−ペ
ンテニル及び4−ヘキシニル基が挙げられる。R2及び
3における「置換された又は無置換の、シクロアルキ
ル基、シクロアルキルアルキル基、シクロアルキルアル
ケニル基又はシクロアルキルアルキニル基」は、シクロ
アルキル環中に3〜6個の炭素原子を有し、かつアルキ
ル、アルケニル又はアルキニル部分に1〜6個の炭素原
子を有し、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル、
2−シクロブチルエチル、6−シクロヘキシルヘキシ
ル、2−(4−メトキシシクロヘキシル)エチル、5−
(3−ブロモシクロペンチル)ペンチル、5−シクロペ
ンチル−4−ペンテニル及び6−シクロヘキシル−3−
ヘキシニル基が挙げられる。R2及びR3における「置換
された又は無置換の、アラルキル基、アラルケニル基又
はアラルキニル基」は、アリール部分が置換された又は
無置換のフェニル基であり、かつアルキル、アルケニル
又はアルキニル部分に1〜3個の炭素原子を有し、例え
ば、ベンジル、p−ニトロベンジル、p−クロロベンジ
ル、2−フェニルエチル、シンナミル及び3−シクロペ
ンチル−2−プロピニル基が挙げられる。R2及びR3
おける「置換された又は無置換の、ヘテロアラルキル
基、ヘテロアラルケニル基、ヘテロアラルキニル基、ヘ
テロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロシ
クリルアルケニル基又はヘテロシクリルアルキニル基」
は、酸素、窒素及び硫黄原子からなる群から選ばれる1
〜4個のヘテロ原子を有し、かつその複素環部分に連結
するアルキル、アルケニル又はアルキニル部分に1〜6
個の炭素原子を有し、例えば、2−、3−若しくは4−
ピリジル低級アルキル、2−、4−若しくは5−ピリミ
ジル低級アルキル、3−(2−ピリジル)−2−プロペ
ニル、4−(3−ピリジル)−2−ブチニル、N−メチ
ル−2−、3−若しくは4−ピペリジノ、N−プロピル
−2−若しくは3−モルホリノ、N−メチル−2−若し
くは3−チオモルホリノ、N−エチル−2−、3−若し
くは4−ピペリジノ低級アルキル、N−プロピル−2−
若しくは3−モルホリノ低級アルキル、N−メチル−2
−若しくは3−チオモルホリノ低級アルキル、6−(N
−メチル−2−ピペリジノ)−3−ヘキセニル及び6−
(N−メチル−2−ピペリジノ)−3−ヘキシニル基が
挙げられる。
The “organic residue” in R 2 and R 3 is represented by the formula
A carbapenem antibacterial agent in which the nitrogen atom in the group represented by N (R 2 ) (R 3 ) has nucleophilicity and has a structure represented by the formula —N (R 2 ) (R 3 ) There is no particular limitation as long as (4) or a salt thereof has an excellent antibacterial action.
A hydrogen atom; a substituted or unsubstituted lower alkyl group,
A substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a cycloalkylalkyl group, a cycloalkylalkenyl group or a cycloalkylalkynyl group; a substituted or unsubstituted aralkyl group, an aralkenyl group or an aralkynyl group; A substituted or unsubstituted heteroaralkyl group, a heteroaralkenyl group, a heteroaralkynyl group, a heterocyclyl group,
It may be a heterocyclylalkyl group, a heterocyclylalkenyl group or a heterocyclylalkynyl group. "Substituted or unsubstituted lower alkyl group, lower alkenyl group or lower alkynyl group" in R 2 and R 3, 1
Has up to 6 carbon atoms, e.g., methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, 2-propenyl, 2-
Butenyl, ethynyl, 2-butynyl, 2-hydroxyethyl, 2-chloroethyl, 2-methoxyethyl, 3-pentenyl and 4-hexynyl groups. The “substituted or unsubstituted cycloalkyl group, cycloalkylalkyl group, cycloalkylalkenyl group or cycloalkylalkynyl group” in R 2 and R 3 has 3 to 6 carbon atoms in the cycloalkyl ring. And having 1 to 6 carbon atoms in the alkyl, alkenyl or alkynyl moiety, for example, cyclopentyl, cyclohexyl,
2-cyclobutylethyl, 6-cyclohexylhexyl, 2- (4-methoxycyclohexyl) ethyl, 5-
(3-bromocyclopentyl) pentyl, 5-cyclopentyl-4-pentenyl and 6-cyclohexyl-3-
A hexynyl group. The “substituted or unsubstituted aralkyl group, aralkenyl group or aralkynyl group” in R 2 and R 3 is a phenyl group substituted or unsubstituted with an aryl moiety, and has one or more alkenyl or alkynyl moieties. It has from 3 carbon atoms and includes, for example, benzyl, p-nitrobenzyl, p-chlorobenzyl, 2-phenylethyl, cinnamyl and 3-cyclopentyl-2-propynyl groups. “Substituted or unsubstituted heteroaralkyl group, heteroaralkenyl group, heteroaralkynyl group, heterocyclyl group, heterocyclylalkyl group, heterocyclylalkenyl group or heterocyclylalkynyl group” for R 2 and R 3
Is 1 selected from the group consisting of oxygen, nitrogen and sulfur atoms
Having from 1 to 4 heteroatoms and 1 to 6 on the alkyl, alkenyl or alkynyl moiety linked to the heterocyclic moiety.
Carbon atoms, for example, 2-, 3- or 4-
Pyridyl lower alkyl, 2-, 4- or 5-pyrimidyl lower alkyl, 3- (2-pyridyl) -2-propenyl, 4- (3-pyridyl) -2-butynyl, N-methyl-2-, 3- or 4-piperidino, N-propyl-2- or 3-morpholino, N-methyl-2- or 3-thiomorpholino, N-ethyl-2-, 3- or 4-piperidino lower alkyl, N-propyl-2-
Or 3-morpholino lower alkyl, N-methyl-2
-Or 3-thiomorpholino lower alkyl, 6- (N
-Methyl-2-piperidino) -3-hexenyl and 6-
(N-methyl-2-piperidino) -3-hexynyl group.

【0020】R2及びR3における「R2及びR3が結合す
る窒素原子と一緒になって形成する環」は、式-N(R2)
(R3)で表される基中の窒素原子が求核性を有し、か
つ、式-N(R2)(R3)で表される構造を有するカルバペ
ネム系抗菌剤(4)又はその塩が優れた抗菌作用を有す
るようなものであれば特に限定はなく、例えば、式
[0020] "ring formed together with the nitrogen atom bonding R 2 and R 3" in R 2 and R 3 has the formula -N (R 2)
A carbapenem-based antibacterial agent (4) having a nitrogen atom in the group represented by (R 3 ) having a nucleophilicity and having a structure represented by the formula —N (R 2 ) (R 3 ); There is no particular limitation as long as the salt has an excellent antibacterial action.

【0021】[0021]

【化13】 Embedded image

【0022】[式中、nは、0、1又は2を示し、p
は、0、1又は2を示し、Raは、水素原子又はC1−C
4アルキル基を示し、Bは、フェニレン、フェニレンア
ルキル(該アルキル部分はC1−C3アルキルであ
る。)、シクロヘキシレン、シクロヘキシレンアルキル
(該アルキル部分はC 1−C3アルキルである。)又は1
乃至3個の置換基を有してもよいC1−C5アルキレン基
{該置換基は、アミノ、水酸基、シクロヘキシルアルキ
ル(該アルキル部分はC1−C3アルキルである。)、C
1−C4アルキル、フェニル又はベンジル基である。}を
示し、Rbは、水素原子又はC1−C4アルキル基を示
し、Rcは、式−C(=NH)Rdで表される基{式中、
dは、水素原子、C1−C4アルキル基又は式−NRe
fで表される基(式中、Re及びRfは、互いに独立に、
水素原子又はC1−C4アルキル基を示す。)を示す。}
を示し、好適には、nが、0又は1であり、pが、0又
は1であり、Raが、水素原子、メチル又はエチル基で
あり、Bが、1,4−フェニレン、1,4−シクロヘキ
シレンメチル、メチレン、メチルメチレン(−CH(C
3)−)、エチレン、トリメチレン又は2−ヒドロキ
シプロピレン基であり、Rbが、水素原子、メチル又は
エチル基であり、Rcが、ホルムイミドイル、アセトイ
ミドイル又はアミジノ基であり、より好適には、nが、
0又は1であり、pが、0であり、Raが、水素原子又
はメチル基であり、Bが、メチレン、メチルメチレン
(−CH(CH3)−)、エチレン、トリメチレン又は
2−ヒドロキシプロピレン基であり、Rbが、水素原子
又はメチル基であり、Rcが、アミジノ基であり、更に
より好適には、nが、0又は1であり、pが、0であ
り、Raが、水素原子であり、Bが、メチレン、メチル
メチレン(−CH(CH3)−)又はエチレン基であ
り、Rbが、水素原子であり、Rcが、アミジノ基であ
る。]のような、R2及びR3が窒素原子と共に置換分を
有していてもよい複素飽和環を形成するものであり、好
適には、R2及びR3が窒素原子と共に置換分を有してい
てもよいピロリジノ基を形成するものである。
[Wherein, n represents 0, 1 or 2;
Represents 0, 1 or 2;aIs a hydrogen atom or C1-C
FourRepresents an alkyl group, and B represents phenylene or phenylene
Alkyl (the alkyl moiety is C1-CThreeAlkyl
You. ), Cyclohexylene, cyclohexylenealkyl
(The alkyl moiety is C 1-CThreeAlkyl. ) Or 1
C which may have from 3 to 3 substituents1-CFiveAlkylene group
{The substituent is amino, hydroxyl, cyclohexylalkyl.
(The alkyl moiety is C1-CThreeAlkyl. ), C
1-CFourIt is an alkyl, phenyl or benzyl group. }
And RbIs a hydrogen atom or C1-CFourRepresents an alkyl group
Then RcIs of the formula -C (= NH) RdIn the basic formula represented by
RdIs a hydrogen atom, C1-CFourAlkyl group or formula -NReR
fA group represented by the formula:eAnd RfAre independent of each other,
Hydrogen atom or C1-CFourShows an alkyl group. ). }
Preferably, n is 0 or 1, and p is 0 or
Is 1 and RaIs a hydrogen atom, a methyl or ethyl group
B is 1,4-phenylene, 1,4-cyclohexyl
Silenemethyl, methylene, methylmethylene (-CH (C
HThree)-), Ethylene, trimethylene or 2-hydroxy
A cyclic group, RbIs a hydrogen atom, methyl or
An ethyl group,cBut formimidyl, acetoi
A midyl or amidino group, more preferably n is
0 or 1, p is 0, RaIs a hydrogen atom or
Is a methyl group, B is methylene, methylmethylene
(-CH (CHThree)-), Ethylene, trimethylene or
A 2-hydroxypropylene group, RbIs a hydrogen atom
Or a methyl group;cIs an amidino group, and
More preferably, n is 0 or 1 and p is 0
RaIs a hydrogen atom, and B is methylene, methyl
Methylene (-CH (CHThree)-) Or an ethylene group
RbIs a hydrogen atom, and RcIs an amidino group
You. RTwoAnd RThreeReplaces with the nitrogen atom
It forms a heterocyclic ring which may be
Suitably, RTwoAnd RThreeHas a substitution with a nitrogen atom
It forms a pyrrolidino group which may be substituted.

【0023】Lにおける「脱離基」は、例えば、特開平
11-71277号公報に記載されているように、通常の求核残
基として脱離する基であれば特に限定はなく、例えば、
塩素、臭素、ヨウ素のようなハロゲン原子;トリクロロ
メチルオキシのようなトリハロゲノメチルオキシ基;メ
タンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシのよう
な低級アルカンスルホニルオキシ基;トリフルオロメタ
ンスルホニルオキシ、ペンタフルオロエタンスルホニル
オキシのようなハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ
基;ベンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニ
ルオキシ、p−ニトロベンゼンスルホニルオキシのよう
なアリールスルホニルオキシ基;又は、ジフェニルホス
ホリルオキシのようなジアリールホスホリルオキシ基で
あり得、好適には、ジアリールホスホリルオキシ基であ
り、より好適には、ジフェニルホスホリルオキシ基(O
−P(=O)(OPh)2)である。
The "leaving group" in L is described, for example, in
As described in JP-A-11-71277, there is no particular limitation as long as the group is eliminated as a normal nucleophilic residue, for example,
Halogen atoms such as chlorine, bromine and iodine; trihalogenomethyloxy groups such as trichloromethyloxy; lower alkanesulfonyloxy groups such as methanesulfonyloxy and ethanesulfonyloxy; trifluoromethanesulfonyloxy and pentafluoroethanesulfonyloxy A halogeno lower alkane sulfonyloxy group; an arylsulfonyloxy group such as benzenesulfonyloxy, p-toluenesulfonyloxy, p-nitrobenzenesulfonyloxy; or a diarylphosphoryloxy group such as diphenylphosphoryloxy. Is a diarylphosphoryloxy group, more preferably a diphenylphosphoryloxy group (O
-P (= O) (OPh) 2 ).

【0024】化合物(1)は、第三級アミンを有してお
り、酸性化合物との塩を形成することができる。当該酸
性化合物は、例えば、フッ化水素酸、塩酸、臭化水素
酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、りん酸、炭酸のような
無機酸類;ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、
フタル酸のような有機カルボン酸類;又は、メタンスル
ホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスル
ホン酸、p-トルエンスルホン酸のような有機スルホン酸
類であり得、好適には、無機酸類であり、より好適に
は、塩酸又は硫酸である。
The compound (1) has a tertiary amine and can form a salt with an acidic compound. The acidic compound includes, for example, inorganic acids such as hydrofluoric acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, and carbonic acid; formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, oxalic acid,
Organic carboxylic acids such as phthalic acid; or organic sulfonic acids such as methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, and p-toluenesulfonic acid, preferably inorganic acids, and more preferably Is hydrochloric acid or sulfuric acid.

【0025】化合物(2)は、アミン化合物であるの
で、酸性化合物との塩を形成することができる。当該酸
性化合物は、例えば、フッ化水素酸、塩酸、臭化水素
酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、りん酸のような無機酸
類;ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、フタル
酸のような有機カルボン酸類;又は、メタンスルホン
酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、p-トルエンスルホン酸のような有機スルホン酸類で
あり得、好適には、無機酸類である。
Since compound (2) is an amine compound, it can form a salt with an acidic compound. Examples of the acidic compound include inorganic acids such as hydrofluoric acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid, sulfuric acid, nitric acid, and phosphoric acid; formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, oxalic acid, and phthalic acid. Such organic carboxylic acids; or organic sulfonic acids such as methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, and p-toluenesulfonic acid, and are preferably inorganic acids.

【0026】化合物(3)は、カルボキシル基を有して
おり、塩基性物質との塩を形成することができる。その
ような塩は、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、リチ
ウム塩のようなアルカリ金属塩;カルシウム塩、マグネ
シウム塩のようなアルカリ土類金属塩;又は、アンモニ
ウム塩のような無機塩であり得、好適には、リチウム
塩、ナトリウム塩、カリウム塩又はマグネシウム塩であ
る。
The compound (3) has a carboxyl group and can form a salt with a basic substance. Such salts can be, for example, alkali metal salts such as sodium, potassium, lithium salts; alkaline earth metal salts such as calcium salts, magnesium salts; or inorganic salts such as ammonium salts; Preferably, it is a lithium salt, a sodium salt, a potassium salt or a magnesium salt.

【0027】カルバペネム系抗菌剤(4)が、酸性化合
物と塩を形成することができる場合、そのような酸性化
合物は、例えば、フッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、ヨ
ウ化水素酸、硫酸、硝酸、りん酸、炭酸のような無機酸
類;ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、フタル
酸のような有機カルボン酸類;又は、メタンスルホン
酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、p-トルエンスルホン酸のような有機スルホン酸類で
あり得、好適には、無機酸類であり、より好適には、塩
酸、硫酸又は炭酸である。
When the carbapenem antibacterial agent (4) can form a salt with an acidic compound, such an acidic compound includes, for example, hydrofluoric acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid, Inorganic acids such as sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid and carbonic acid; organic carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, oxalic acid and phthalic acid; or methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p -It can be an organic sulfonic acid such as toluenesulfonic acid, preferably an inorganic acid, more preferably hydrochloric acid, sulfuric acid or carbonic acid.

【0028】また、カルバペネム系抗菌剤(4)は、カ
ルボキシル基を有しており、塩基性物質との塩を形成す
ることができる。そのような塩は、例えば、ナトリウム
塩、カリウム塩、リチウム塩のようなアルカリ金属塩;
カルシウム塩、マグネシウム塩のようなアルカリ土類金
属塩;又は、アンモニウム塩であり得、好適には、リチ
ウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩又はマグネシウム塩
である。
Further, the carbapenem antibacterial agent (4) has a carboxyl group and can form a salt with a basic substance. Such salts include, for example, alkali metal salts such as sodium, potassium, lithium salts;
Alkaline earth metal salts such as calcium and magnesium salts; or ammonium salts, preferably lithium, sodium, potassium or magnesium salts.

【0029】尚、化合物(3)のカルボキシル基が保護
されている場合には、化合物(1)又はその塩に化合物
(2)又はその塩及び化合物(3)を順次作用させた後
に、当該保護基を除去することにより、化合物(4)又
はその塩を得ることができる。
When the carboxyl group of the compound (3) is protected, the compound (2) or a salt thereof and the compound (3) are successively acted on the compound (1) or a salt thereof, and then the protected compound is reacted. The compound (4) or a salt thereof can be obtained by removing the group.

【0030】また、本発明は、式Further, the present invention provides a compound represented by the formula

【0031】[0031]

【化14】 Embedded image

【0032】[式中、R1は、C1−C3アルキル基を示
す。]で表される化合物(1)又はその塩、及び式
[Wherein R 1 represents a C 1 -C 3 alkyl group. Or a salt thereof represented by the formula:

【0033】[0033]

【化15】 Embedded image

【0034】[式中、R1は、C1−C3アルキル基を示
す。]で表される化合物(5)又はその塩に酸無水物を
作用させ、式
Wherein R 1 represents a C 1 -C 3 alkyl group. An acid anhydride is allowed to act on the compound (5) or a salt thereof represented by the formula

【0035】[0035]

【化16】 Embedded image

【0036】[式中、R1は、前述と同意義を示す。]
で表される化合物(1)又はその塩を製造する方法、で
ある。
[Wherein, R 1 has the same meaning as described above. ]
And a method for producing the compound (1) or a salt thereof.

【0037】化合物(5)が塩を形成する場合、そのよ
うな塩は、第三級アミン部と酸性化合物との塩、カルボ
キシル基と塩基性化合物との塩、又は、カルボキシル基
の金属塩のいずれでもよい。
When the compound (5) forms a salt, such a salt may be a salt of a tertiary amine moiety and an acidic compound, a salt of a carboxyl group and a basic compound, or a metal salt of a carboxyl group. Either may be used.

【0038】化合物(5)が酸性化合物との塩を形成す
る場合、当該酸性化合物は、例えば、フッ化水素酸、塩
酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、りん酸の
ような無機酸類;ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、シュ
ウ酸、フタル酸のような有機カルボン酸類;又は、メタ
ンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼ
ンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸のような有機スル
ホン酸類であり得、好適には、無機酸類であり、より好
適には、塩酸又は硫酸である。
When the compound (5) forms a salt with an acidic compound, the acidic compound includes, for example, hydrofluoric acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid. Organic acids such as formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, oxalic acid and phthalic acid; or organic sulfonic acids such as methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid And preferably inorganic acids, more preferably hydrochloric acid or sulfuric acid.

【0039】化合物(5)が塩基性化合物との塩を形成
する場合、当該塩基性化合物は、例えば、アンモニア;
又は、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、
ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、トリエチル
アミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ピコ
リン、ルチジン、4−ジメチルアミノピリジン、N,N
−ジメチルアニリン、1−メチルピロリジン、1−メチ
ルピペリジン、4−メチルモルホリン、イミダゾール、
1−メチルイミダゾール、1,5−ジアザビシクロ
[4.3.0]−5−ノネン(DBN)、1,8−ジア
ザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DB
U)、エチレンジアミン、ピペラジン、1,4−ジアザ
ビシクロ[2.2.2]オクタン(Dabco)のような有機
アミン類であり得、好適には、有機アミン類であり、よ
り好適には、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチル
アミン又はN−メチルモルホリンである。
When the compound (5) forms a salt with a basic compound, the basic compound is, for example, ammonia;
Or, methylamine, ethylamine, propylamine,
Dimethylamine, diethylamine, diisopropylamine, pyrrolidine, piperidine, morpholine, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, picoline, lutidine, 4-dimethylaminopyridine, N, N
-Dimethylaniline, 1-methylpyrrolidine, 1-methylpiperidine, 4-methylmorpholine, imidazole,
1-methylimidazole, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] -5-nonene (DBN), 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (DB
U), organic amines such as ethylenediamine, piperazine, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (Dabco), preferably organic amines, more preferably triethylamine, Diisopropylethylamine or N-methylmorpholine.

【0040】化合物(5)がカルボキシル基で金属塩を
形成する場合、そのような金属は、例えば、リチウム、
ナトリウム、カリウム、セシウムのようなアルカリ金
属;又は、マグネシウム、カルシウム、バリウムのよう
なアルカリ土類金属であり得、好適には、リチウム、ナ
トリウム、カリウム又はマグネシウムである。
When the compound (5) forms a metal salt at a carboxyl group, such a metal is, for example, lithium,
It can be an alkali metal such as sodium, potassium, cesium; or an alkaline earth metal such as magnesium, calcium, barium, preferably lithium, sodium, potassium or magnesium.

【0041】化合物(5)が塩を形成する場合、そのよ
うな塩は、好適には、第三級アミン部と酸性化合物との
塩であり、より好適には、化合物(5)の塩酸塩、又
は、化合物(5)の硫酸塩である。
When the compound (5) forms a salt, such a salt is preferably a salt of a tertiary amine moiety and an acidic compound, and more preferably a hydrochloride of the compound (5). Or a sulfate of compound (5).

【0042】本発明に係る化合物(1)は、分子内に2
個の不斉炭素を有しており、(2S、4S)配置又は
(2R、4R)配置である立体異性体が存在するが、本
発明はその各々及びそれら任意の割合の混合物のいずれ
をも包含される。化合物(1)において、好適には、
(2S、4S)配置である。
The compound (1) according to the present invention contains 2
Stereoisomers having two asymmetric carbons and having the (2S, 4S) configuration or the (2R, 4R) configuration, and the present invention relates to each of them and any mixture thereof in any ratio. Included. In the compound (1), preferably,
(2S, 4S) arrangement.

【0043】[0043]

【化17】 Embedded image

【0044】また、本発明に係る化合物(5)も、分子
内に2個の不斉炭素を有しており、4個の立体異性体が
存在するが、好適には、(2S、4S)配置又は(2
R、4R)配置の光学活性体であり、より好適には、
(2S、4S)配置である。
The compound (5) according to the present invention also has two asymmetric carbons in the molecule and has four stereoisomers, but preferably (2S, 4S) Arrangement or (2
(R, 4R) configuration, more preferably
(2S, 4S) arrangement.

【0045】[0045]

【化18】 Embedded image

【0046】本発明に係る化合物は、大気中に放置して
おいたり、再結晶することにより、水分を吸収し、吸着
水が付いたり、水和物となる場合がある。本発明に係る
化合物(1)乃至(5)並びにそれらの塩は、それぞれ
そのような水和物を含むものとする。
When the compound of the present invention is left in the air or recrystallized, it absorbs water and sometimes adsorbs water or becomes a hydrate. The compounds (1) to (5) and salts thereof according to the present invention each include such a hydrate.

【0047】また、本発明に係る化合物は、他のある種
の溶媒を吸収し、溶媒和物となる場合がある。本発明に
係る化合物(1)乃至(5)並びにそれらの塩は、それ
ぞれそのような溶媒和物を含むものとする。
Further, the compound according to the present invention may absorb some other solvent and form a solvate. The compounds (1) to (5) and salts thereof according to the present invention each include such a solvate.

【0048】[0048]

【発明の実施の形態】本発明に係る1−アルキルピロリ
ジン構造を有するカルバペネム系抗菌剤の製造方法は、
次に示す通りに達成される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The method for producing a carbapenem antibacterial having a 1-alkylpyrrolidine structure according to the present invention comprises:
This is achieved as follows.

【0049】[A法][Method A]

【0050】[0050]

【化19】 Embedded image

【0051】上記式中、R1、R2及びR3は、前述と同
意義を示す。
In the above formula, R 1 , R 2 and R 3 have the same meaning as described above.

【0052】A法は、化合物(1)又はその塩に、不活
性溶媒中、塩基存在下に同一反応容器で化合物(2)又
はその塩及び化合物(3)又はその塩を作用させること
によって達成され、好適には化合物(2)又はその塩及
び化合物(3)又はその塩を順次作用させることにより
達成される。
Method A is achieved by reacting compound (1) or a salt thereof with compound (2) or a salt thereof and compound (3) or a salt thereof in an inert solvent in the presence of a base in the same reaction vessel. Preferably, the compound (2) or a salt thereof and the compound (3) or a salt thereof are successively actuated.

【0053】尚、必要である場合には、化合物(2)の
2及びR3中の官能基並びに化合物(3)の水酸基及び
カルボキシル基は保護されていてもよい。
If necessary, the functional groups in R 2 and R 3 of compound (2) and the hydroxyl group and carboxyl group of compound (3) may be protected.

【0054】化合物(3)の水酸基の保護基は、例え
ば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イ
ソバレリル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、
3−メチルノナノイル、8−メチルノナノイル、3−エ
チルオクタノイル、3,7−ジメチルオクタノイル、ウ
ンデカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラ
デカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイル、1
−メチルペンタデカノイル、14−メチルペンタデカノ
イル、13,13−ジメチルテトラデカノイル、ヘプタ
デカノイル、15−メチルヘキサデカノイル、オクタデ
カノイル、1−メチルヘプタデカノイル、ノナデカノイ
ル、アイコサノイル及びヘナイコサノイルのようなアル
キルカルボニル基、スクシノイル、グルタロイル、アジ
ポイルのようなカルボキシ化アルキルカルボニル基、ク
ロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチ
ル、トリフルオロアセチルのようなハロゲノ低級アルキ
ルカルボニル基、メトキシアセチルのような低級アルコ
キシ低級アルキルカルボニル基、(E)−2−メチル-2
−ブテノイルのような不飽和アルキルカルボニル基等の
「脂肪族アシル基」;ベンゾイル、α−ナフトイル、β
−ナフトイルのようなアリ−ルカルボニル基、2−ブロ
モベンゾイル、4−クロロベンゾイルのようなハロゲノ
アリ−ルカルボニル基、2,4,6-トリメチルベンゾイル、
4−トルオイルのような低級アルキル化アリ−ルカルボ
ニル基、4−アニソイルのような低級アルコキシ化アリ
−ルカルボニル基、2−カルボキシベンゾイル、3−カ
ルボキシベンゾイル、4−カルボキシベンゾイルのよう
なカルボキシ化アリ−ルカルボニル基、4−ニトロベン
ゾイル、2−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリ−
ルカルボニル基、2−(メトキシカルボニル) ベンゾイ
ルのような低級アルコキシカルボニル化アリ−ルカルボ
ニル基、4−フェニルベンゾイルのようなアリ−ル化ア
リ−ルカルボニル基等の「芳香族アシル基」;テトラヒ
ドロピラン-2−イル、3−ブロモテトラヒドロピラン-2
−イル、4−メトキシテトラヒドロピラン-4−イル、テ
トラヒドロチオピラン-2−イル、4−メトキシテトラヒ
ドロチオピラン-4−イルのような「テトラヒドロピラニ
ル又はテトラヒドロチオピラニル基」;テトラヒドロフ
ラン-2−イル、テトラヒドロチオフラン-2−イルのよう
な「テトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオフラニ
ル基」;トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプ
ロピルジメチルシリル、t-ブチルジメチルシリル、メチ
ルジイソプロピルシリル、メチルジ-t−ブチルシリル、
トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アルキルシリ
ル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシリ
ル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニルジイソプ
ロピルシリルのような1又は2個のアリール基で置換さ
れたトリ低級アルキルシリル基等の「シリル基」;メト
キシメチル、1,1−ジメチル-1−メトキシメチル、エト
キシメチル、プロポキシメチル、イソプロポキシメチ
ル、ブトキシメチル、t-ブトキシメチルのような低級ア
ルコキシメチル基、2−メトキシエトキシメチルのよう
な低級アルコキシ化低級アルコキシメチル基、2,2,
2−トリクロロエトキシメチル、ビス(2−クロロエトキ
シ) メチルのようなハロゲノ低級アルコキシメチル等の
「アルコキシメチル基」;1−エトキシエチル、1−
(イソプロポキシ) エチルのような低級アルコキシ化エ
チル基、2,2,2−トリクロロエチルのようなハロゲ
ン化エチル基等の「置換エチル基」;ベンジル、α−ナ
フチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチ
ル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチ
ル、9-アンスリルメチルのような1乃至3個のアリ−ル
基で置換された低級アルキル基、4−メチルベンジル、
2,4,6-トリメチルベンジル、3,4,5-トリメチルベンジ
ル、4−メトキシベンジル、4−メトキシフェニルジフ
ェニルメチル、2−ニトロベンジル、4−ニトロベンジ
ル、4−クロロベンジル、4−ブロモベンジル、4−シ
アノベンジル、メチル、ピペロニルのような低級アルキ
ル、低級アルコキシ、ハロゲン、シアノ基でアリ−ル環
が置換された1乃至3個のアリール基で置換された低級
アルキル基等の「アラルキル基」;メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、t-ブトキシカルボニル、イソ
ブトキシカルボニルのような低級アルコキシカルボニル
基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル、2−
トリメチルシリルエトキシカルボニルのようなハロゲン
又はトリ低級アルキルシリル基で置換された低級アルコ
キシカルボニル基等の「アルコキシカルボニル基」;ビ
ニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニルのよう
な「アルケニルオキシカルボニル基」;ベンジルオキシ
カルボニル、4−メトキシベンジルオキシカルボニル、
3,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、2−ニ
トロベンジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオ
キシカルボニルのような、1又は2個の低級アルコキシ
又はニトロ基でアリ−ル環が置換されていてもよい「ア
ラルキルオキシカルボニル基」であり、好適には、脂肪
族アシル基である。
The protecting group for the hydroxyl group of the compound (3) includes, for example, formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, pentanoyl, pivaloyl, valeryl, isovaleryl, octanoyl, nonanoyl, decanoyl,
3-methylnonanoyl, 8-methylnonanoyl, 3-ethyloctanoyl, 3,7-dimethyloctanoyl, undecanoyl, dodecanoyl, tridecanoyl, tetradecanoyl, pentadecanoyl, hexadecanoyl,
Such as -methylpentadecanoyl, 14-methylpentadecanoyl, 13,13-dimethyltetradecanoyl, heptadecanoyl, 15-methylhexadecanoyl, octadecanoyl, 1-methylheptadecanoyl, nonadecanoyl, eicosanoyl and henicosanoyl Carboxylated alkylcarbonyl groups such as alkylcarbonyl group, succinoyl, glutaroyl and adipoyl; halogeno lower alkylcarbonyl groups such as chloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl and trifluoroacetyl; lower alkoxy lower alkylcarbonyl groups such as methoxyacetyl. , (E) -2-methyl-2
"Aliphatic acyl groups" such as unsaturated alkylcarbonyl groups such as butenoyl; benzoyl, α-naphthoyl, β
Arylcarbonyl groups such as naphthoyl, halogenoarylcarbonyl groups such as 2-bromobenzoyl and 4-chlorobenzoyl, 2,4,6-trimethylbenzoyl,
A lower alkylated arylcarbonyl group such as 4-toluoyl, a lower alkoxylated arylcarbonyl group such as 4-anisoyl, a carboxylated aryl such as 2-carboxybenzoyl, 3-carboxybenzoyl and 4-carboxybenzoyl; -Nitrated ants such as carbonyl group, 4-nitrobenzoyl and 2-nitrobenzoyl-
"Aromatic acyl groups" such as lower alkoxycarbonyl-substituted arylcarbonyl groups such as carbonyl group, 2- (methoxycarbonyl) benzoyl and arylated arylcarbonyl groups such as 4-phenylbenzoyl; Pyran-2-yl, 3-bromotetrahydropyran-2
"Tetrahydropyranyl or tetrahydrothiopyranyl group" such as -yl, 4-methoxytetrahydropyran-4-yl, tetrahydrothiopyran-2-yl, 4-methoxytetrahydrothiopyran-4-yl; tetrahydrofuran-2- “Tetrahydrofuranyl or tetrahydrothiofuranyl group” such as yl, tetrahydrothiofuran-2-yl; trimethylsilyl, triethylsilyl, isopropyldimethylsilyl, t-butyldimethylsilyl, methyldiisopropylsilyl, methyldi-t-butylsilyl,
“Silyl” such as tri-lower alkylsilyl group such as triisopropylsilyl, tri-lower alkylsilyl group substituted with one or two aryl groups such as diphenylmethylsilyl, diphenylbutylsilyl, diphenylisopropylsilyl, and phenyldiisopropylsilyl; A lower alkoxymethyl group such as methoxymethyl, 1,1-dimethyl-1-methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, isopropoxymethyl, butoxymethyl, t-butoxymethyl, and 2-methoxyethoxymethyl Lower alkoxylated lower alkoxymethyl group, 2,2,
"Alkoxymethyl group" such as halogeno lower alkoxymethyl such as 2-trichloroethoxymethyl and bis (2-chloroethoxy) methyl; 1-ethoxyethyl, 1-ethoxy
(Substituted ethyl group) such as lower alkoxylated ethyl group such as (isopropoxy) ethyl and halogenated ethyl group such as 2,2,2-trichloroethyl; benzyl, α-naphthylmethyl, β-naphthylmethyl, diphenyl Lower alkyl group substituted with 1 to 3 aryl groups such as methyl, triphenylmethyl, α-naphthyldiphenylmethyl, 9-anthrylmethyl, 4-methylbenzyl,
2,4,6-trimethylbenzyl, 3,4,5-trimethylbenzyl, 4-methoxybenzyl, 4-methoxyphenyldiphenylmethyl, 2-nitrobenzyl, 4-nitrobenzyl, 4-chlorobenzyl, 4-bromobenzyl, "Aralkyl groups" such as lower alkyl groups such as 4-cyanobenzyl, methyl, and piperonyl, lower alkoxy, halogen, lower alkyl groups substituted with one to three aryl groups each having an aryl ring substituted with a cyano group; A lower alkoxycarbonyl group such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, isobutoxycarbonyl, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl, 2-
An “alkoxycarbonyl group” such as a lower alkoxycarbonyl group substituted with a halogen or a tri-lower alkylsilyl group such as trimethylsilylethoxycarbonyl; vinyloxycarbonyl, an “alkenyloxycarbonyl group” such as allyloxycarbonyl; benzyloxycarbonyl; 4-methoxybenzyloxycarbonyl,
"Aralkyl" in which the aryl ring may be substituted with one or two lower alkoxy or nitro groups such as 3,4-dimethoxybenzyloxycarbonyl, 2-nitrobenzyloxycarbonyl, 4-nitrobenzyloxycarbonyl Oxycarbonyl group ", preferably an aliphatic acyl group.

【0055】化合物(3)のカルボキシル基の保護基
は、例えば、ベンジル、p-ニトロベンジル、トリメチル
ベンジル基のような置換分を有していてもよいベンジル
基;又は、アリル基、2−クロロアリル、2−メチルア
リルのような2位に置換基を有してもよいアリル基であ
り得、好適には、置換分を有していてもよいベンジル基
であり、より好適には、p-ニトロベンジル基である。
The protecting group for the carboxyl group of the compound (3) is, for example, a benzyl group which may have a substituent such as benzyl, p-nitrobenzyl or trimethylbenzyl group; or an allyl group or 2-chloroallyl group Or an allyl group which may have a substituent at the 2-position such as 2-methylallyl, preferably a benzyl group which may have a substituent, more preferably p-nitro. It is a benzyl group.

【0056】本法で使用される塩基は、例えば、トリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、4−メチル
モルホリン、4−エチルモルホリン、ピリジン、ピコリ
ン、ルチジン、4−ジメチルアミノピリジン、1−メチ
ルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾールのよう
な有機塩基類;又は、水酸化リチウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウムのような無機塩基類
であり得、好適には、ジイソプロピルエチルアミン、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム又は炭酸水
素ナトリウムである。
The base used in this method is, for example, triethylamine, diisopropylethylamine, 4-methylmorpholine, 4-ethylmorpholine, pyridine, picoline, lutidine, 4-dimethylaminopyridine, 1-methylimidazole, 1,2- Organic bases such as dimethylimidazole; or lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate,
It can be an inorganic base such as cesium carbonate, sodium bicarbonate, preferably diisopropylethylamine, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate or sodium bicarbonate.

【0057】本法で使用される溶媒は、反応を阻害せ
ず、原料をある程度溶解するものであれば特に制限はな
く、例えば、アセトニトリルのようなニトリル類;メタ
ノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール
のようなアルコール類;酢酸メチル、酢酸エチルのよう
なエステル類;ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロ
ロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;エーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;ベ
ンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのよ
うなアミド類;ジメチルスルホキシドのようなスルホキ
シド類;水;又は、前述した溶媒の任意の割合の組み合
わせであり得、好適には、ニトリル類、アミド類、スル
ホキシド類、含水アミド類、又は含水スルホキシド類で
あり、より好適には、アミド類、スルホキシド類又は含
水スルホキシド類であり、更により好適には、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホ
キシド又は含水ジメチルスルホキシドである。
The solvent used in the present method is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting materials to some extent. For example, nitriles such as acetonitrile; methanol, ethanol, propanol and isopropanol. Alcohols; esters such as methyl acetate and ethyl acetate; halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane and chloroform; ethers such as ether, tetrahydrofuran and dioxane; aromatics such as benzene, toluene and xylene Hydrocarbons; amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide; water; or a combination of any of the aforementioned solvents, preferably nitriles, amides, Sulfoxides, hydrous amide S, or a water-containing sulfoxides, more preferably a amides, sulfoxides or water sulfoxides, even more preferably more, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide or hydrous dimethyl sulfoxide.

【0058】反応温度は、主に反応溶媒によって異なる
が、通常、−50℃乃至100℃であり、好適には、1
0℃乃至50℃である。
The reaction temperature depends mainly on the reaction solvent, but is usually from -50 ° C to 100 ° C, preferably from 1 ° C to 100 ° C.
0 ° C. to 50 ° C.

【0059】反応時間は、反応溶媒、反応温度によって
異なるが、通常、1時間乃至60時間であり、好適に
は、4時間乃至30時間である。
The reaction time varies depending on the reaction solvent and the reaction temperature, but is usually 1 hour to 60 hours, preferably 4 hours to 30 hours.

【0060】化合物(2)のR2及びR3中の官能基並び
に化合物(3)の水酸基及びカルボキシル基が保護され
ている場合には、反応終了後当業者自明の方法により当
該保護基を除去することによりカルバペネム系抗菌剤で
ある化合物(4)を得ることができる。例えば、化合物
(3)の水酸基の保護基がシリル基である場合、フッ化
テトラブチルアンモニウム、フッ化水素酸、フッ化水素
酸−ピリジン、フッ化カリウムのようなフッ素アニオン
を生成する化合物で処理するか、又は、酢酸、メタンス
ルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢
酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸又は
塩酸のような無機酸で処理することにより保護基を除去
することができる。化合物(3)の水酸基の保護基がア
ラルキル基又はアラルキルオキシカルボニル基である場
合、溶媒中、還元剤と接触させることにより(好適に
は、触媒下に常温にて接触還元)又は酸化剤を用いて保
護基を除去することができる。化合物(3)の水酸基の
保護基が脂肪族アシル基、芳香族アシル基又はアルコキ
シカルボニル基である場合、溶媒中、塩基で処理するこ
とにより保護基を除去することができる。化合物(3)
の水酸基の保護基がアルコキシメチル基、テトラヒドロ
ピラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、テトラヒド
ロフラニル基、テトラヒドロチオフラニル基又は置換さ
れたエチル基である場合、溶媒中、酸で処理することに
より保護基を除去することができる。化合物(3)の水
酸基の保護基がアルケニルオキシカルボニル基である場
合、水酸基の保護基が前記の脂肪族アシル基、芳香族ア
シル基又はアルコキシカルボニル基である場合の除去反
応の条件と同様にして、塩基と処理することにより保護
基を除去することができる。化合物(3)のカルボキシ
ル基の保護基が置換分を有していてもよいベンジル基で
ある場合、水、メタノール、エタノール、テトラヒドロ
フラン又はこれらの混合溶媒中、パラジウム炭素や白金
触媒下に水素を作用させることにより保護基を除去する
ことができる。また、化合物(3)のカルボキシル基の
保護基が2位に置換基を有してもよいアリル基である場
合、水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラ
ン、アセトン又はこれらの混合溶媒中、ビス(トリフェ
ニルホスフィン)パラジウムクロリドやテトラキス(ト
リフェニルホスフィン)パラジウム等のパラジウム触媒
存在下にトリブチル錫ハイドライド等のトリアルキル錫
ハイドライド類又は2−エチルヘキサン酸ナトリウム等
の有機カルボン酸アルカリ金属塩類を作用させることに
より保護基を除去することができる。
When the functional groups in R 2 and R 3 of the compound (2) and the hydroxyl group and the carboxyl group of the compound (3) are protected, the protecting groups are removed by a method obvious to those skilled in the art after completion of the reaction. By doing so, compound (4), which is a carbapenem antibacterial agent, can be obtained. For example, when the protecting group of the hydroxyl group of the compound (3) is a silyl group, the compound is treated with a compound that generates a fluorine anion such as tetrabutylammonium fluoride, hydrofluoric acid, hydrofluoric acid-pyridine, and potassium fluoride. Alternatively, the protecting group can be removed by treatment with an organic acid such as acetic acid, methanesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, trifluoroacetic acid, trifluoromethanesulfonic acid or an inorganic acid such as hydrochloric acid. When the hydroxyl-protecting group of the compound (3) is an aralkyl group or an aralkyloxycarbonyl group, it is contacted with a reducing agent in a solvent (preferably catalytic reduction at room temperature under a catalyst) or an oxidizing agent is used. To remove the protecting group. When the hydroxyl-protecting group of the compound (3) is an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group or an alkoxycarbonyl group, the protecting group can be removed by treating with a base in a solvent. Compound (3)
When the protecting group of the hydroxyl group is an alkoxymethyl group, a tetrahydropyranyl group, a tetrahydrothiopyranyl group, a tetrahydrofuranyl group, a tetrahydrothiofuranyl group or a substituted ethyl group, protection by treatment with an acid in a solvent. The group can be removed. When the protecting group for the hydroxyl group of the compound (3) is an alkenyloxycarbonyl group, the removal reaction is performed in the same manner as in the case of the above-described case where the protecting group for the hydroxyl group is an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group, or an alkoxycarbonyl group. , A protecting group can be removed by treating with a base. When the carboxyl-protecting group of compound (3) is a benzyl group which may have a substituent, hydrogen acts on palladium carbon or a platinum catalyst in water, methanol, ethanol, tetrahydrofuran or a mixed solvent thereof. By doing so, the protecting group can be removed. When the carboxyl-protecting group of the compound (3) is an allyl group which may have a substituent at the 2-position, bis (triphenyl) may be used in water, methanol, ethanol, tetrahydrofuran, acetone or a mixed solvent thereof. Protection by the action of trialkyltin hydrides such as tributyltin hydride or alkali metal salts of organic carboxylic acids such as sodium 2-ethylhexanoate in the presence of a palladium catalyst such as phosphine) palladium chloride or tetrakis (triphenylphosphine) palladium. The group can be removed.

【0061】反応終了後、本法の目的化合物は常法に従
って反応混合液から採取することができる。例えば、反
応混合液に生成物が溶解されない溶媒を加えて生成物を
析出させたり、或いは反応溶媒を減圧留去した後、更に
再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィーなどによって更
に精製することにより得られる。
After completion of the reaction, the target compound of the present method can be collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by adding a solvent in which the product is not dissolved to the reaction mixture to precipitate the product, or by distilling the reaction solvent under reduced pressure, and further purifying by recrystallization, reprecipitation or chromatography. .

【0062】本発明に係る1−アルキルピロリジン構造
を有するカルバペネム系抗菌剤の製造方法の合成中間体
化合物(1)及びその塩は、次に示す通り、化合物
(5)又はその塩に酸無水物類を作用させることにより
製造することができる。
The synthetic intermediate compound (1) and the salt thereof in the method for producing a carbapenem-based antibacterial agent having a 1-alkylpyrrolidine structure according to the present invention include the compound (5) or a salt thereof as an acid anhydride as shown below. Can be produced by reacting the same.

【0063】[B法][Method B]

【0064】[0064]

【化20】 Embedded image

【0065】上記式中、R1は、前述と同意義を示す。In the above formula, R 1 has the same meaning as described above.

【0066】B法は、化合物(5)又はその塩に酸無水
物を作用させることにより分子内環化反応を行うことに
より、化合物(1)及びその塩を製造する方法である。
Method B is a method for producing compound (1) and a salt thereof by subjecting compound (5) or a salt thereof to an acid anhydride to carry out an intramolecular cyclization reaction.

【0067】本反応は、溶媒の存在下又は非存在下に行
なうことができる。
This reaction can be carried out in the presence or absence of a solvent.

【0068】本法で使用される溶媒は、反応を阻害せ
ず、出発原料である化合物(5)をある程度溶解するも
のであれば特に制限はなく、例えば、アセトニトリルの
ようなニトリル類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸t−
ブチルのようなエステル類;メタノール、エタノール、
プロパノール、イソプロパノール、ブタノールのような
アルコール類;アセトン、メチルエチルケトンのような
ケトン類;ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル類のよう
な脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類;塩化メチレン、ジクロロエタ
ンのようなハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキ
シドのようなスルホキシド類;ギ酸、酢酸、トリフルオ
ロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホ
ン酸のような有機酸類;又は、上記の溶媒の任意な割合
の組み合わせであり得、好適には、有機酸類であり、よ
り好適には、酢酸である。
The solvent used in this method is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting compound (5) to some extent. For example, nitriles such as acetonitrile; methyl acetate , Ethyl acetate, acetic acid t-
Esters such as butyl; methanol, ethanol,
Alcohols such as propanol, isopropanol and butanol; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and petroleum ethers; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and dichloroethane; diethyl ether;
Ethers such as diisopropyl ether, tetrahydrofuran and dioxane; amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide; such as formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid and trifluoromethanesulfonic acid Organic acids; or any combination of the above solvents in any proportion, preferably organic acids, and more preferably acetic acid.

【0069】本法において使用される酸無水物は、例え
ば、りん酸類の無水物;無水酢酸、無水プロピオン酸、
無水トリフルオロ酢酸、無水フタル酸のような有機カル
ボン酸類の無水物;及び、無水メタンスルホン酸、無水
トリフルオロメタンスルホン酸、無水ベンゼンスルホン
酸、無水p-トルエンスルホン酸のような有機スルホン酸
類の無水物であり得、好適には、有機カルボン酸類の無
水物であり、より好適には、無水酢酸である。
The acid anhydride used in this method includes, for example, anhydrides of phosphoric acids; acetic anhydride, propionic anhydride,
Anhydrides of organic carboxylic acids such as trifluoroacetic anhydride and phthalic anhydride; and anhydrides of organic sulfonic acids such as methanesulfonic anhydride, trifluoromethanesulfonic anhydride, benzenesulfonic anhydride and p-toluenesulfonic anhydride. It is preferably an anhydride of an organic carboxylic acid, more preferably acetic anhydride.

【0070】用いる酸無水物の量は、化合物(5)又は
その塩に対して、通常、1.0乃至100.0モル当量
であり、好適には、1.0乃至10.0モル当量であ
る。
The amount of the acid anhydride to be used is generally 1.0 to 100.0 molar equivalents, preferably 1.0 to 10.0 molar equivalents, relative to compound (5) or a salt thereof. is there.

【0071】本法の反応温度は、主に用いる試薬によっ
て異なるが、通常、0℃乃至120℃であり、好適に
は、30℃乃至80℃である。
The reaction temperature of this method varies depending mainly on the reagent used, but is usually from 0 ° C. to 120 ° C., preferably from 30 ° C. to 80 ° C.

【0072】本法の反応時間は、主に反応温度や溶媒に
より異なるが、通常、0.5時間乃至20時間であり、
好適には、1.5時間乃至5.0時間である。
The reaction time of this method mainly depends on the reaction temperature and the solvent, but is usually 0.5 to 20 hours.
Preferably, it is 1.5 hours to 5.0 hours.

【0073】反応終了後、目的化合物は常法に従って反
応混合物から採取される。例えば反応混合物を中和後、
水と混合しない有機溶剤を加え、水洗後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば常法、例えば再結晶、再沈殿またはクロマトグラフ
ィーなどによって更に精製することができる。
After completion of the reaction, the target compound is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, after neutralizing the reaction mixture,
It is obtained by adding an organic solvent that does not mix with water, washing with water, and distilling off the solvent. If necessary, the obtained target compound can be further purified by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation or chromatography.

【0074】本発明で使用する化合物(5)及びその塩
は、次に示すC法によって製造することができる。
The compound (5) and a salt thereof used in the present invention can be produced by the following Method C.

【0075】[C法][Method C]

【0076】[0076]

【化21】 Embedded image

【0077】上記式中、R1は、前述と同意義を示し、
4は、C1−C6アルキル基を示し、R5及びR6は、C1
−C6アルキル基又は置換基を有してもよいC6−C10
リール基を示す。
In the above formula, R 1 has the same meaning as described above;
R 4 represents a C 1 -C 6 alkyl group, R 5 and R 6 are C 1
Have a -C 6 alkyl group or a substituted group represents an C 6 -C 10 aryl group.

【0078】ここで、R4、R5及びR6における「アル
キル基」は、直鎖状又は分枝鎖状の飽和炭化水素基であ
り、R4、R5及びR6におけるC1−C6アルキル基は、
例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、s-ブチル、t-ブチル、ペンチル、s-
ペンチル、イソペンチル、2-メチルブチル、ネオペンチ
ル、1-エチルプロピル、ヘキシル、4-メチルペンチル
(イソヘキシル)、3-メチルペンチル、2-メチルペンチ
ル、1-メチルペンチル(s-ヘキシル)、3,3-ジメチルブ
チル、2,2-ジメチルブチル、1,1-ジメチルブチル、1,2-
ジメチルブチル、1,3-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブ
チル又は2-エチルブチルであり得、好適には、C1−C4
アルキル基であり、より好適には、C1−C2アルキル基
であり、更により好適には、メチル基である。
Here, the “alkyl group” for R 4 , R 5 and R 6 is a linear or branched saturated hydrocarbon group, and is a C 1 -C 4 group for R 4 , R 5 and R 6 . 6 alkyl groups are
For example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, pentyl, s-
Pentyl, isopentyl, 2-methylbutyl, neopentyl, 1-ethylpropyl, hexyl, 4-methylpentyl (isohexyl), 3-methylpentyl, 2-methylpentyl, 1-methylpentyl (s-hexyl), 3,3-dimethyl Butyl, 2,2-dimethylbutyl, 1,1-dimethylbutyl, 1,2-
Dimethylbutyl, 1,3-dimethylbutyl, be a 2,3-dimethylbutyl or 2-ethylbutyl, preferably, C 1 -C 4
An alkyl group, more preferably a C 1 -C 2 alkyl group, even more preferably more, a methyl group.

【0079】また、R5及びR6における「アリール基」
は、芳香族炭化水素環基であり、R 5及びR6におけるC
6−C10アリール基は、例えば、フェニル、1-ナフチル
又は2-ナフチルであり得、好適には、フェニルである。
当該アリール基が置換分を有する場合、置換分の数は、
好適には、1乃至3個であり、より好適には、1個であ
り、置換分は、メチル、エチル、プロピル基のようなア
ルキル基;ホルミル、アセチル、プロピオニル基のよう
な脂肪族アシル基;アセトキシ、プロピオニルオキシ基
のような脂肪族アシルオキシ基;メトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル基のような
アルコキシカルボニル基;モノフルオロメチル、ジフル
オロメチル、トリフルオロメチル基のようなハロゲン化
アルキル基;メトキシ、エトキシ、プロポキシ基のよう
なアルコキシ基;フッ素、塩素、臭素、ヨウ素のような
ハロゲン原子;メチルスルホニル、エチルスルホニル基
のようなアルキルスルホニル基;ニトロ基;又は、シア
ノ基であり得、好適には、アルキル基、ハロゲン化アル
キル基、ハロゲン原子、ニトロ基又はシアノ基であり、
より好適には、メチル基、トリフルオロメチル基、フッ
素、塩素、ニトロ基又はシアノ基である。
Further, RFiveAnd R6"Aryl group" in
Is an aromatic hydrocarbon ring group; FiveAnd R6C in
6-CTenAryl groups include, for example, phenyl, 1-naphthyl
Or 2-naphthyl, preferably phenyl.
When the aryl group has a substituent, the number of substituents is
Preferably one to three, and more preferably one.
Substituents are those such as methyl, ethyl and propyl groups.
Alkyl group; like formyl, acetyl, propionyl
Aliphatic acyl group; acetoxy, propionyloxy group
Aliphatic acyloxy groups such as methoxycarbonyl;
Such as ethoxycarbonyl and propoxycarbonyl groups
Alkoxycarbonyl group; monofluoromethyl, difur
Halogenation such as olomethyl and trifluoromethyl groups
Alkyl group; like methoxy, ethoxy, propoxy group
Alkoxy groups such as fluorine, chlorine, bromine and iodine
Halogen atom; methylsulfonyl, ethylsulfonyl group
An alkylsulfonyl group such as a nitro group;
And preferably an alkyl group, a halogenated alkyl group.
A kill group, a halogen atom, a nitro group or a cyano group,
More preferably, a methyl group, a trifluoromethyl group,
A chlorine, nitro or cyano group.

【0080】上記式中、化合物(6)乃至(10)は、
アミン部位で酸性化合物と塩を形成していてもよい。当
該酸性化合物は、例えば、フッ化水素酸、塩酸、臭化水
素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、りん酸のような無機
酸類;又は、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ
酸、フタル酸のような有機カルボン酸類;メタンスルホ
ン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、p-トルエンスルホン酸のような有機スルホン酸類
であり得、好適には、無機酸類であり、より好適には、
塩酸又は硫酸である。
In the above formula, the compounds (6) to (10) are
A salt may be formed with the acidic compound at the amine site. Examples of the acidic compound include inorganic acids such as hydrofluoric acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid, sulfuric acid, nitric acid, and phosphoric acid; or formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, oxalic acid, and phthalic acid Organic carboxylic acids such as acids; organic sulfonic acids such as methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, and p-toluenesulfonic acid, and are preferably inorganic acids, more preferably
Hydrochloric acid or sulfuric acid.

【0081】第C1工程は、化合物(6)のエステル化
反応であり、当業者自明の方法を参考にして実施でき
る。例えば、酸存在下、対応するアルコール中で化合物
(6)のエステル化反応を行なうことで化合物(7)が
製造できる。
Step C1 is an esterification reaction of compound (6) and can be carried out with reference to a method obvious to those skilled in the art. For example, the compound (7) can be produced by subjecting the compound (6) to an esterification reaction in a corresponding alcohol in the presence of an acid.

【0082】本工程で使用する酸は、例えば、塩酸、臭
酸、硫酸、塩化水素、臭化水素などの無機酸類;又は、
メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンス
ルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などの有機酸
類であり得、好適には、無機酸類である。
The acids used in this step include, for example, inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, hydrogen chloride, hydrogen bromide;
Organic acids such as methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, and trifluoromethanesulfonic acid can be used, and inorganic acids are preferable.

【0083】本工程で使用するアルコールは、前述した
1−C6アルキル基に水酸基が置換した化合物であり、
例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソ
プロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコー
ル、s-ブチルアルコール、t-ブチルアルコール、ペンタ
ノール、s-ペンチルアルコール、イソペンチルアルコー
ル、2-メチルブタノール、ネオペンチルアルコール、1-
エチルプロパノール、ヘキサノール、4-メチルペンタノ
ール、3-メチルペンタノール、2-メチルペンタノール、
1-メチルペンタノール、3,3-ジメチルブタノール、2,2-
ジメチルブタノール、1,1-ジメチルブタノール、1,2-ジ
メチルブタノール、1,3-ジメチルブタノール、2,3-ジメ
チルブタノール又は2-エチルブタノールであり得、好適
には、メタノールである。
[0083] alcohols used in this step is a compound in which a hydroxyl group has been substituted with C 1 -C 6 alkyl group described above,
For example, methanol, ethanol, propanol, isopropyl alcohol, butanol, isobutyl alcohol, s-butyl alcohol, t-butyl alcohol, pentanol, s-pentyl alcohol, isopentyl alcohol, 2-methylbutanol, neopentyl alcohol, 1-
Ethylpropanol, hexanol, 4-methylpentanol, 3-methylpentanol, 2-methylpentanol,
1-methylpentanol, 3,3-dimethylbutanol, 2,2-
It can be dimethylbutanol, 1,1-dimethylbutanol, 1,2-dimethylbutanol, 1,3-dimethylbutanol, 2,3-dimethylbutanol or 2-ethylbutanol, preferably methanol.

【0084】本工程の反応温度は、主に用いる溶媒によ
って異なるが、通常、0℃乃至150℃であり、好適に
は、20℃乃至100℃である。
The reaction temperature in this step mainly depends on the solvent used, but is usually 0 ° C. to 150 ° C., preferably 20 ° C. to 100 ° C.

【0085】本工程の反応時間は、主に反応温度や溶媒
により異なるが、通常、1時間乃至40時間であり、好
適には、1時間乃至7時間である。
The reaction time in this step mainly depends on the reaction temperature and the solvent, but is usually 1 hour to 40 hours, preferably 1 hour to 7 hours.

【0086】反応終了後、目的化合物は常法に従って反
応混合物から採取される。例えば反応混合液の溶剤を留
去することにより得られる。必要な場合には常法、例え
ば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィーなどによって
更に精製することができるが、精製することなくそのま
ま次の反応工程に進むこともできる。
After completion of the reaction, the target compound is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it is obtained by distilling off the solvent of the reaction mixture. If necessary, the compound can be further purified by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation, chromatography, or the like. However, it is also possible to proceed to the next reaction step without purification.

【0087】第C2工程は、化合物(7)のアルキル化
反応であり、当業者自明の方法を参考にして実施でき
る。例えば、対応するC1−C3アルデヒド若しくはその
誘導体(例えばホルムアミド)又はその水溶液と還元剤
の組み合わせ、或いは水、メタノール、エタノール、テ
トラヒドロフラン、又はこれらの混合溶媒中、対応する
1−C3アルキルハライドと塩基との組み合わせによ
り、化合物(7)のアルキル化反応を行なうことで化合
物(8)が製造できる。
The step C2 is an alkylation reaction of the compound (7) and can be carried out with reference to a method obvious to those skilled in the art. For example, a corresponding C 1 -C 3 aldehyde or a derivative thereof (eg, formamide) or a combination of an aqueous solution thereof and a reducing agent, or a corresponding C 1 -C 3 alkyl in water, methanol, ethanol, tetrahydrofuran, or a mixed solvent thereof Compound (8) can be produced by performing an alkylation reaction of compound (7) with a combination of a halide and a base.

【0088】本工程で使用される還元剤は、例えば、ぎ
酸又はパラジウム存在下の水素であり得、好適には、パ
ラジウム存在下の水素である。
The reducing agent used in this step may be, for example, hydrogen in the presence of formic acid or palladium, preferably hydrogen in the presence of palladium.

【0089】本工程で使用される塩基は、例えば、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナ
トリウム等のアルカリ金属炭酸塩;又は、トリエチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシル
アミン、ピリジン、ルチジン、4-(ジメチルアミノ)ピリ
ジン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノ
ネン(DBN)、1,8−ジアザビシクロ[5.4.
0]−7−ウンデセン(DBU)等の有機アミン類であ
り得、好適には、アルカリ金属炭酸塩であり、より好適
には、炭酸ナトリウムである。
The base used in this step is, for example, an alkali metal carbonate such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, sodium hydrogencarbonate; or triethylamine, diisopropylethylamine, dicyclohexylamine, pyridine, lutidine, 4- ( Dimethylamino) pyridine, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] -5-nonene (DBN), 1,8-diazabicyclo [5.4.
0] -7-undecene (DBU) and the like, preferably an alkali metal carbonate, and more preferably sodium carbonate.

【0090】本工程の反応温度は、主に用いる試薬によ
って異なるが、通常、−20℃乃至120℃であり、好
適には、10℃乃至80℃である。
The reaction temperature in this step mainly depends on the reagent used, but is usually from -20 ° C to 120 ° C, preferably from 10 ° C to 80 ° C.

【0091】本工程の反応時間は、主に反応温度や溶媒
により異なるが、通常、0.5時間乃至15時間であ
り、好適には、1時間乃至5時間である。
The reaction time of this step depends mainly on the reaction temperature and the solvent, but is usually 0.5 to 15 hours, preferably 1 to 5 hours.

【0092】反応終了後、目的化合物は常法に従って反
応混合物から採取される。例えば反応混合液の溶剤を留
去するか、或いは反応混合物に目的化合物が溶解しない
溶媒(例えば、プロパノールやイソプロピルエーテル
等。)を加えて目的化合物を析出させ、ろ別することに
より得られる。得られた目的化合物は必要ならば常法、
例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィーなどによ
って更に精製することができるが、精製することなくそ
のまま次の反応工程に進むこともできる。
After completion of the reaction, the target compound is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it is obtained by distilling off the solvent of the reaction mixture or adding a solvent in which the target compound is not dissolved in the reaction mixture (for example, propanol or isopropyl ether) to precipitate the target compound, followed by filtration. The obtained target compound can be obtained by a conventional method, if necessary.
For example, the compound can be further purified by recrystallization, reprecipitation, chromatography, or the like, but can also proceed to the next reaction step without purification.

【0093】尚、第C1工程と第C2工程は、いずれを
先に行ってもよい。即ち、前記反応経路の通りではな
く、第C2工程(窒素原子のアルキル化反応)を先に行
い、次いで第C1工程(エステル化反応)を行うことも
できる。
Note that any of the C1 step and the C2 step may be performed first. That is, instead of following the above reaction path, the C2 step (alkylation reaction of nitrogen atom) may be performed first, and then the C1 step (esterification reaction) may be performed.

【0094】第C3工程は、化合物(8)における水酸
基のスルホニル化反応であり、当業者自明の方法を参考
にして実施できる。例えば、不活性溶媒中、塩基存在
下、スルホニル化剤を用いて化合物(8)のスルホニル
化反応を行なうことで化合物(9)が製造できる。
Step C3 is a sulfonylation reaction of a hydroxyl group in compound (8), and can be carried out with reference to a method obvious to those skilled in the art. For example, compound (9) can be produced by performing a sulfonylation reaction of compound (8) using a sulfonylating agent in an inert solvent in the presence of a base.

【0095】本工程で使用される溶媒は、反応を阻害し
ないものであれば特に制限はなく、例えば、ヘキサン、
ヘプタンのような炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類;ジクロロメタン、ジ
クロロエタン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水
素類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ア
セトニトリルのようなニトリル類:アセトン、メチルエ
チルケトンのようなケトン類;エーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフランのようなエーテル類;ジメチルスル
ホキシドのようなスルホキシド類;又は、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類であ
り得、好適には、エステル類である。
The solvent used in this step is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction.
Hydrocarbons such as heptane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane and chloroform; esters such as methyl acetate and ethyl acetate; Nitriles: ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; ethers, dioxane,
Ethers such as tetrahydrofuran; sulfoxides such as dimethylsulfoxide; or amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, preferably esters.

【0096】本工程で使用される塩基は、例えば、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウムのような無機塩基類;又は、トリエチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミン、4−メチルモルホ
リン、1−メチルイミダゾール、ピリジン、ルチジン、
4−ジメチルアミノピリジンのような有機塩基類であり
得、好適には、有機塩基類である。
The base used in this step is, for example, an inorganic base such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogencarbonate, potassium hydrogencarbonate; or triethylamine, diisopropylethylamine, 4-methylmorpholine, 1-methylimidazole , Pyridine, lutidine,
It can be an organic base such as 4-dimethylaminopyridine, preferably an organic base.

【0097】本工程で使用されるスルホニル化剤は、例
えば、メタンスルホニルクロリド、クロロメチルスルホ
ニルクロリド、ベンゼンスルホニルクロリド、p-トルエ
ンスルホニルクロリド、p-クロロベンゼンスルホニルク
ロリド、p-ニトロベンゼンスルホニルクロリドのような
ハロゲン化スルホニル類;又は、メタンスルホン酸無水
物、p-トルエンスルホン酸無水物、トリフルオロメタン
スルホン酸無水物のようなスルホン酸無水物類であり
得、好適には、ハロゲン化スルホニル類である。
Examples of the sulfonylating agent used in this step include halogens such as methanesulfonyl chloride, chloromethylsulfonyl chloride, benzenesulfonyl chloride, p-toluenesulfonyl chloride, p-chlorobenzenesulfonyl chloride, and p-nitrobenzenesulfonyl chloride. Sulfonyl halides; or sulfonic anhydrides such as methanesulfonic anhydride, p-toluenesulfonic anhydride, and trifluoromethanesulfonic anhydride, and are preferably sulfonyl halides.

【0098】用いるスルホニル化剤の量は、化合物
(8)に対して、通常、1乃至10モル当量であり、好
適には、1乃至2モル当量である。
The amount of the sulfonylating agent to be used is generally 1 to 10 molar equivalents, preferably 1 to 2 molar equivalents, relative to compound (8).

【0099】本工程の反応温度は、主に用いる試薬によ
って異なるが、通常、−50℃乃至100℃であり、好
適には、−10℃乃至50℃である。
[0099] The reaction temperature in this step mainly depends on the reagent used, but is usually -50 ° C to 100 ° C, preferably -10 ° C to 50 ° C.

【0100】本工程の反応時間は、主に反応温度や溶媒
により異なるが、通常、0.1時間乃至10時間であ
り、好適には、0.1時間乃至4時間である。
The reaction time of this step mainly depends on the reaction temperature and the solvent, but is usually 0.1 to 10 hours, preferably 0.1 to 4 hours.

【0101】反応終了後、目的化合物は常法に従って反
応混合物から採取される。例えば反応混合液に水と混合
しない有機溶剤を加え、水洗後、溶剤を留去することに
よって得られる。得られた目的化合物は必要ならば常
法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィーなど
によって更に精製することができる。
After completion of the reaction, the target compound is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by adding an organic solvent immiscible with water to a reaction mixture, washing with water and distilling off the solvent. The obtained target compound can be further purified, if necessary, by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation or chromatography.

【0102】第C4工程は、化合物(9)におけるスル
ホニルオキシ基をチオカルボン酸カルボキシレートアニ
オンにより置換する反応であり、当業者自明の方法を参
考にして実施できる。例えば、不活性溶媒中、チオカル
ボン酸の金属塩又はチオカルボン酸と塩基の組み合わせ
を用いて、化合物(9)の置換反応を行なうことで化合
物(10)が製造できる。
Step C4 is a reaction for substituting the sulfonyloxy group in compound (9) with a thiocarboxylate carboxylate anion, and can be carried out with reference to a method obvious to those skilled in the art. For example, compound (10) can be produced by performing a substitution reaction of compound (9) using a metal salt of thiocarboxylic acid or a combination of thiocarboxylic acid and a base in an inert solvent.

【0103】本工程で使用される溶媒は、反応を阻害し
ないものであれば特に制限はなく、例えば、ベンゼン、
トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;ジクロ
ロメタン、ジクロロエタン、クロロホルムのようなハロ
ゲン化炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエ
ステル類;メタノール、エタノール、プロパノールのよ
うなアルコール類;アセトニトリルのようなニトリル
類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類;
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエ
ーテル類;ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド
類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのよ
うなアミド類;水;又は、上記の溶媒の任意な割合の組
み合わせであり得、好適には、アルコール類、アミド
類、水又はそれらの組み合わせである。
The solvent used in this step is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction.
Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane and chloroform; esters such as methyl acetate and ethyl acetate; alcohols such as methanol, ethanol and propanol; Nitriles; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone;
Ethers such as ether, dioxane, and tetrahydrofuran; sulfoxides such as dimethylsulfoxide; amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide; water; or a combination of any of the above solvents, and preferably , Alcohols, amides, water or a combination thereof.

【0104】本工程で使用されるチオカルボン酸の金属
塩は、例えば、チオ酢酸ナトリウム、チオ酢酸カリウ
ム、チオ酢酸セシウム、チオ安息香酸ナトリウム、チオ
安息香酸カリウム又はチオ安息香酸セシウムであり得、
好適には、チオ酢酸カリウムである。
The metal salt of thiocarboxylic acid used in this step may be, for example, sodium thioacetate, potassium thioacetate, cesium thioacetate, sodium thiobenzoate, potassium thiobenzoate or cesium thiobenzoate,
Preferably, it is potassium thioacetate.

【0105】本工程は、チオカルボン酸と塩基の組み合
わせを用いても反応を行なうことができる。本工程で使
用されるチオカルボン酸は、例えば、チオ酢酸又はチオ
安息香酸であり得、好適には、チオ酢酸である。組み合
わせて使用される塩基は、例えば、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
セシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのよ
うな無機塩基類;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、
カリウムt-ブトキシドのようなアルコキシド類;水素
化ナトリウム、水素化カリウムのような金属水素化物
類;又は、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルア
ミン、4−メチルモルホリン、1−メチルイミダゾー
ル、ピリジン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]
−5−ノネン(DBN)、1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)の有機塩基
類であり得、好適には、無機塩基類である。
In this step, the reaction can also be carried out using a combination of a thiocarboxylic acid and a base. The thiocarboxylic acid used in this step can be, for example, thioacetic acid or thiobenzoic acid, and is preferably thioacetic acid. Bases used in combination include, for example, sodium hydroxide,
Inorganic bases such as potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate; sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium methoxide, potassium ethoxide;
Alkoxides such as potassium t-butoxide; metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride; or triethylamine, diisopropylethylamine, 4-methylmorpholine, 1-methylimidazole, pyridine, 1,5-diazabicyclo [ 4.3.0]
Organic bases such as -5-nonene (DBN) and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU) can be used, and preferably inorganic bases.

【0106】用いるチオカルボン酸の金属塩又はチオカ
ルボン酸の量は、化合物(9)に対して、通常、1乃至
5モル当量であり、好適には、1乃至2モル当量であ
る。
The amount of the metal salt of thiocarboxylic acid or thiocarboxylic acid to be used is generally 1 to 5 molar equivalents, preferably 1 to 2 molar equivalents, relative to compound (9).

【0107】本工程の反応温度は、主に用いる試薬によ
って異なるが、通常、0℃乃至150℃であり、好適に
は、40℃乃至100℃である。
The reaction temperature in this step mainly depends on the reagent used, but is usually 0 ° C. to 150 ° C., preferably 40 ° C. to 100 ° C.

【0108】本工程の反応時間は、主に反応温度や溶媒
により異なるが、通常、1時間乃至20時間であり、好
適には、1時間乃至10時間である。
The reaction time of this step depends mainly on the reaction temperature and the solvent, but is usually 1 hour to 20 hours, preferably 1 hour to 10 hours.

【0109】反応終了後、目的化合物は常法に従って反
応混合物から採取される。例えば、反応混合液に水と混
合しない有機溶剤を加え、水洗後、溶剤を留去すること
によって得られる。得られた目的化合物は必要ならば常
法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィーなど
によって更に精製することができる。
After completion of the reaction, the target compound is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by adding an organic solvent that does not mix with water to the reaction mixture, washing with water, and distilling off the solvent. The obtained target compound can be further purified, if necessary, by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation or chromatography.

【0110】第C5工程は、化合物(10)の加水分解
反応であり、当業者自明の方法を参考にして実施され
る。例えば、酸性あるいは塩基性のいずれの条件でも化
合物(10)の加水分解反応を行なうことで化合物
(5)が製造できる。
Step C5 is a hydrolysis reaction of compound (10) and is carried out with reference to a method obvious to those skilled in the art. For example, the compound (5) can be produced by performing a hydrolysis reaction of the compound (10) under either acidic or basic conditions.

【0111】酸性条件下で加水分解が行なわれる場合、
本工程で使用される酸は、例えば、塩酸、硫酸等の無機
酸であり得、好適には、塩酸又は硫酸である。
When the hydrolysis is carried out under acidic conditions,
The acid used in this step can be, for example, an inorganic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid, and is preferably hydrochloric acid or sulfuric acid.

【0112】塩基性条件下で加水分解が行なわれる場
合、本工程で使用される塩基は、例えば、水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシ
ウム又は水酸化バリウムであり得、好適には、水酸化ナ
トリウム又は水酸化カリウムである。
When the hydrolysis is carried out under basic conditions, the base used in this step may be, for example, lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide or barium hydroxide. Is sodium hydroxide or potassium hydroxide.

【0113】本工程の反応温度は、主に用いる試薬によ
って異なるが、通常、−20℃乃至150℃であり、好
適には、0℃乃至110℃である。
The reaction temperature in this step mainly depends on the reagent used, but is usually from -20 ° C to 150 ° C, preferably from 0 ° C to 110 ° C.

【0114】本工程の反応時間は、主に反応温度や溶媒
により異なるが、通常、0.1乃至20時間であり、好
適には、0.1時間乃至10時間である。
The reaction time of this step depends mainly on the reaction temperature and the solvent, but is usually 0.1 to 20 hours, preferably 0.1 to 10 hours.

【0115】反応終了後、目的化合物は常法に従って反
応混合物から採取される。例えば反応混合液の溶剤を留
去して得られる。得られた目的化合物は必要ならば常
法、例えば再結晶、再沈殿またはクロマトグラフィーな
どによって更に精製することができる。
After completion of the reaction, the target compound is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it is obtained by distilling off the solvent of the reaction mixture. If necessary, the obtained target compound can be further purified by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation or chromatography.

【0116】以下、本発明を実施例及び参考例を挙げて
更に詳細に説明するが、本発明はこれらに制限されるも
のではない。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Reference Examples, but the present invention is not limited thereto.

【0117】[0117]

【実施例】【Example】

【0118】[0118]

【実施例1】Embodiment 1

【0119】[0119]

【化22】 Embedded image

【0120】上記式中、PNBはカルボキシル基の保護
基であるp-ニトロベンジル基を示し、PNZはグアニジ
ノ基の保護基である4−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル基を示す。以下、PNB及びPNZについては同義で
ある。
In the above formula, PNB represents a p-nitrobenzyl group which is a protecting group for a carboxyl group, and PNZ represents a 4-nitrobenzyloxycarbonyl group which is a protecting group for a guanidino group. Hereinafter, PNB and PNZ have the same meaning.

【0121】(1R,5S,6S)−6−[(1R)−
1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−2−[(2S,
4S)−2−[(3S)−3−[2−[3−(4−ニト
ロベンジルオキシカルボニル)グアニジノ]アセチルア
ミノ]ピロリジン−1−イルカルボニル]−1−メチル
ピロリジン−4−イルチオ]−1−カルバペン−2−エ
ム−3−カルボン酸 4−ニトロベンジルエステル(A
法) (2S,4S)−5−メチル−2−チア−5−アザビシ
クロ[2.2.1]ヘプタン−3−オン(250mg)
と(S)−3−[2−[3−(4−ニトロベンジルオキ
シカルボニル)グアニジノ]アセチルアミノ]ピロリジ
ン・二硫酸塩(979mg)のメタノール/塩化メチレ
ン(1:2)懸濁液(7.5mL)にジイソプロピルエ
チルアミン(1.49mL)を加え50℃で7時間攪拌
した。反応液の溶媒を減圧下で留去した後、氷冷下でジ
メチルホルムアミド(7mL)、(1R,5R,6S)
−6−[(1R)−1−ヒドロキシエチル]−2−
[(ジフェニルホスフィノ)オキシ]−1−メチル−カ
ルバペン−2−エム−3−カルボン酸 4−ニトロベン
ジルエステル(934mg)及びジイソプロピルエチル
アミン(0.6mL)を順次加え、同温で一夜放置し
た。反応液を1%重曹水(70mL)中へ注加し、析出
した固形物をろ取して、標記化合物(1.4g、純度7
9%、収率:83%)を得た。 赤外線吸収スペクトル (KBr) νmax cm-1:3384, 311
3, 3080, 2970, 2875, 2789, 1770, 1643, 1609, 1522,
1450, 1379, 1346, 1322, 1287, 1209, 1181, 1136, 1
109。 核磁気共鳴スペクトル (400MHz, CDCl3)δ ppm: 1.08-
2.22 (m, 6H), 1.75-2.26(m, 6H), 2.44-2.76 (m, 2H),
2.89-3.00 (m, 1H), 3.03-3.15 (m, 1H), 3.18-3.65
(m, 6H), 3.68-3.90 (m, 3H), 3.93-4.06 (m, 1H), 4.1
3-4.35 (m, 2H), 5.05-5.15 (m, 2H), 5.30 (d, J=14.1
Hz, 1H), 5.45 (d, J=14.1Hz, 1H), 7.58 (dd, J=8.8 a
nd 2.7Hz, 2H), 7.74 (d, J=8.7Hz, 2H), 8.18-8.33
(m, 4H)。
(1R, 5S, 6S) -6-[(1R)-
1-hydroxyethyl] -1-methyl-2-[(2S,
4S) -2-[(3S) -3- [2- [3- (4-nitrobenzyloxycarbonyl) guanidino] acetylamino] pyrrolidin-1-ylcarbonyl] -1-methylpyrrolidin-4-ylthio] -1 -Carbapene-2-em-3-carboxylic acid 4-nitrobenzyl ester (A
Method) (2S, 4S) -5-Methyl-2-thia-5-azabicyclo [2.2.1] heptan-3-one (250 mg)
And a suspension of (S) -3- [2- [3- (4-nitrobenzyloxycarbonyl) guanidino] acetylamino] pyrrolidine disulfate (979 mg) in methanol / methylene chloride (1: 2) (7. 5 mL) was added with diisopropylethylamine (1.49 mL), and the mixture was stirred at 50 ° C for 7 hours. After evaporating the solvent of the reaction solution under reduced pressure, dimethylformamide (7 mL) and (1R, 5R, 6S) were added under ice cooling.
-6-[(1R) -1-hydroxyethyl] -2-
[(Diphenylphosphino) oxy] -1-methyl-carbapen-2-em-3-carboxylic acid 4-nitrobenzyl ester (934 mg) and diisopropylethylamine (0.6 mL) were sequentially added, and the mixture was left overnight at the same temperature. The reaction solution was poured into 1% aqueous sodium bicarbonate (70 mL), and the precipitated solid was collected by filtration to give the title compound (1.4 g, purity 7%).
9%, yield: 83%). Infrared absorption spectrum (KBr) νmax cm -1 : 3384, 311
3, 3080, 2970, 2875, 2789, 1770, 1643, 1609, 1522,
1450, 1379, 1346, 1322, 1287, 1209, 1181, 1136, 1
109. Nuclear magnetic resonance spectrum (400MHz, CDCl 3 ) δ ppm: 1.08-
2.22 (m, 6H), 1.75-2.26 (m, 6H), 2.44-2.76 (m, 2H),
2.89-3.00 (m, 1H), 3.03-3.15 (m, 1H), 3.18-3.65
(m, 6H), 3.68-3.90 (m, 3H), 3.93-4.06 (m, 1H), 4.1
3-4.35 (m, 2H), 5.05-5.15 (m, 2H), 5.30 (d, J = 14.1
Hz, 1H), 5.45 (d, J = 14.1Hz, 1H), 7.58 (dd, J = 8.8 a
nd 2.7Hz, 2H), 7.74 (d, J = 8.7Hz, 2H), 8.18-8.33
(m, 4H).

【0122】[0122]

【実施例2】Embodiment 2

【0123】[0123]

【化23】 Embedded image

【0124】(1R,5S,6S)−6−[(1R)−
1−ヒドロキシエチル]−1−メチルー2−[(2S,
4S)−2−[(3S)−3−[2−[3−(4−ニト
ロベンジルオキシカルボニル)グアニジノ]アセチルア
ミノ]ピロリジン−1−イルカルボニル]−1−メチル
ピロリジン−4−イルチオ]−1−カルバペン−2−エ
ム−3−カルボン酸 4−ニトロベンジルエステル(A
法) (2S,4S)−5−メチル−2−チア−5−アザビシ
クロ[2.2.1]ヘプタン−3−オン・塩酸塩(8
9.8g)と(S)−3−[2−[3−(4−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル)グアニジノ]アセチルアミ
ノ]ピロリジン・二硫酸塩(265.0g、純度95.
8%)のジメチルスルホキシド(2.65L)溶液に炭
酸水素ナトリウム(209.2g)を加え、45〜50
℃で3時間攪拌した。反応液に室温下で(1R,5R,
6S)−6−[(1R)−1−ヒドロキシエチル]−2
−[(ジフェニルホスフィノ)オキシ]−1−メチル−
カルバペン−2−エム−3−カルボン酸 4−ニトロベ
ンジルエステル(269.2g)及び炭酸水素ナトリウ
ム(42.0g)を順次加え、一夜放置した。反応液を
水中(7.95L)へ注加し20〜35℃で1時間攪拌
後、析出した固形物をろ取して、標記化合物(400.
3g、純度85.6%、収率:85%)を得た。スペク
トルデータは、実施例1の化合物に一致した。
(1R, 5S, 6S) -6-[(1R)-
1-hydroxyethyl] -1-methyl-2-[(2S,
4S) -2-[(3S) -3- [2- [3- (4-nitrobenzyloxycarbonyl) guanidino] acetylamino] pyrrolidin-1-ylcarbonyl] -1-methylpyrrolidin-4-ylthio] -1 -Carbapene-2-em-3-carboxylic acid 4-nitrobenzyl ester (A
Method) (2S, 4S) -5-Methyl-2-thia-5-azabicyclo [2.2.1] heptan-3-one hydrochloride (8
9.8 g) and (S) -3- [2- [3- (4-nitrobenzyloxycarbonyl) guanidino] acetylamino] pyrrolidine disulfate (265.0 g, purity 95.0 g).
8%) in dimethyl sulfoxide (2.65 L), and sodium hydrogen carbonate (209.2 g) was added thereto.
Stirred at C for 3 hours. The reaction solution was added at room temperature (1R, 5R,
6S) -6-[(1R) -1-hydroxyethyl] -2
-[(Diphenylphosphino) oxy] -1-methyl-
Carbapen-2-em-3-carboxylic acid 4-nitrobenzyl ester (269.2 g) and sodium hydrogen carbonate (42.0 g) were sequentially added and left overnight. The reaction solution was poured into water (7.95 L), stirred at 20 to 35 ° C. for 1 hour, and the precipitated solid was collected by filtration to give the title compound (400.
3 g, purity 85.6%, yield: 85%). Spectral data was consistent with the compound of Example 1.

【0125】[0125]

【実施例3】Embodiment 3

【0126】[0126]

【化24】 Embedded image

【0127】(2S,4S)−5−メチル−2−チア−
5−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン−3−オン
(B法) (2S,4S)−4−アセチルチオ−1−メチル−2−
ピロリジンカルボン酸メチルエステル(200mg)に
2mol/L塩酸水(2mL)を加え、70℃で12時間加
熱攪拌することによりメルカプト基の保護基であるアセ
チル基とカルボン酸の保護基であるメチル基を除去し
た。反応液の水を減圧下で留去した後、得られた残査に
無水酢酸(1mL)を加え、60℃で1時間加熱攪拌し
た。反応液に酢酸エチル(20mL)及び飽和重曹水
(20mL)を加え、抽出した。水層を分離した後、有
機層の溶媒を減圧下で留去して、標記化合物(73.4
mg、収率:52%)を得た。 核磁気共鳴スペクトル (400MHz, CDCl3)δ ppm: 2.10
(s, 2H), 2.47 (s, 3H),2.55 (d, J=10.0Hz, 1H), 3.59
(s, 1H), 3.74 (dd, J=10.0 and 2.9Hz, 1H), 3.86-3.
89 (m, 1H)。 MSスペクトル m/z:144(M+1)+
(2S, 4S) -5-methyl-2-thia-
5-Azabicyclo [2.2.1] heptan-3-one (Method B) (2S, 4S) -4-acetylthio-1-methyl-2-
2 mol / L aqueous hydrochloric acid (2 mL) was added to pyrrolidine carboxylic acid methyl ester (200 mg), and the mixture was heated and stirred at 70 ° C. for 12 hours to form an acetyl group which is a mercapto-protecting group and a methyl group which is a carboxylic acid-protecting group. Removed. After water of the reaction solution was distilled off under reduced pressure, acetic anhydride (1 mL) was added to the obtained residue, and the mixture was heated and stirred at 60 ° C. for 1 hour. Ethyl acetate (20 mL) and saturated aqueous sodium hydrogen carbonate (20 mL) were added to the reaction solution, and the mixture was extracted. After separating the aqueous layer, the solvent of the organic layer was distilled off under reduced pressure to give the title compound (73.4).
mg, yield: 52%). Nuclear magnetic resonance spectrum (400MHz, CDCl 3 ) δ ppm: 2.10
(s, 2H), 2.47 (s, 3H), 2.55 (d, J = 10.0Hz, 1H), 3.59
(s, 1H), 3.74 (dd, J = 10.0 and 2.9Hz, 1H), 3.86-3.
89 (m, 1H). MS spectrum m / z: 144 (M + l) <+> .

【0128】[0128]

【実施例4】Embodiment 4

【0129】[0129]

【化25】 Embedded image

【0130】(2S,4S)−5−メチル−2−チア−
5−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン−3−オン
(B法) (2S,4S)−4−アセチルチオ−1−メチル−2−
ピロリジンカルボン酸メチルエステル(204mg)に
2mol/L塩酸水(2mL)を加え、80℃で7時間加熱
攪拌することによりメルカプト基の保護基であるアセチ
ル基とカルボン酸の保護基であるメチル基を除去した。
反応液の水を減圧下で留去した後、得られた残査に酢酸
(1mL)及び無水酢酸(0.6mL)を加え、60℃
で1時間加熱攪拌した。反応液に酢酸エチル(20m
L)及び飽和重曹水(20mL)を加え、抽出した。水
層を分離した後、有機層の溶媒を減圧下で留去して、標
記化合物(77.8mg、収率:54%)を得た。スペ
クトルデータは、実施例3の化合物に一致した。
(2S, 4S) -5-methyl-2-thia-
5-Azabicyclo [2.2.1] heptan-3-one (Method B) (2S, 4S) -4-acetylthio-1-methyl-2-
2 mol / L hydrochloric acid aqueous solution (2 mL) was added to pyrrolidine carboxylic acid methyl ester (204 mg), and the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 7 hours to form a mercapto-protecting group acetyl group and a carboxylic acid-protecting group methyl group. Removed.
After water of the reaction solution was distilled off under reduced pressure, acetic acid (1 mL) and acetic anhydride (0.6 mL) were added to the obtained residue,
For 1 hour. Ethyl acetate (20m
L) and saturated aqueous sodium bicarbonate (20 mL) were added and extracted. After separating the aqueous layer, the solvent of the organic layer was distilled off under reduced pressure to obtain the title compound (77.8 mg, yield: 54%). Spectral data was consistent with the compound of Example 3.

【0131】[0131]

【実施例5】Embodiment 5

【0132】[0132]

【化26】 Embedded image

【0133】(2S,4S)−5−メチル−2−チア−
5−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン−3−オン・
塩酸塩(B法) (2S,4S)−4−メルカプト−1−メチル−2−ピ
ロリジンカルボン酸・塩酸塩(6g)の酢酸(24m
L)の混合液に無水酢酸(8.6mL)を15℃以下で
滴下後、55〜60℃で2時間加熱攪拌した。反応液の
酢酸を減圧下で留去した後、酢酸エチル(72mL)及
び水(36mL)を加え、水酸化ナトリウム水溶液で水
層をpH=8〜9に調整後、抽出した。有機層を分離し
た後、更に水層を酢酸エチル(36mL)で抽出し、酢
酸エチル層を合致して、溶媒を減圧下で留去した。得ら
れた残査の酢酸エチル(35mL)溶液に4mol/L HC
l/酢酸エチル(7.6mL)溶液を25℃以下で滴下
し、同温で1時間攪拌した。析出した固形物をろ取し、
標記化合物(4.4g、収率:80%)を得た。 融点 191-192℃。 核磁気共鳴スペクトル (400MHz, CDCl3)δ ppm: 2.54
(d, J=12.5Hz, 1H), 2.90(d, J=12.5Hz, 1H), 2.95 (s,
3H), 3.14 (d, J=11.2Hz, 1H), 4.32 (s, 1H),4.35
(s, 1H), 4.40 (d, J=11.2Hz, 1H)。 元素分析 計算値:C, 40.11%;H, 5.61%;N, 7.80%;S, 17.85%;Cl, 19.73% 実測値:C, 39.93%;H, 5.52%;N, 7.75%;S, 17.93%;Cl, 19.76%。
(2S, 4S) -5-methyl-2-thia-
5-Azabicyclo [2.2.1] heptan-3-one.
Hydrochloride (Method B) Acetic acid of (2S, 4S) -4-mercapto-1-methyl-2-pyrrolidinecarboxylic acid hydrochloride (6 g) (24 m
Acetic anhydride (8.6 mL) was added dropwise to the mixture of L) at 15 ° C or lower, and the mixture was heated and stirred at 55 to 60 ° C for 2 hours. After the acetic acid in the reaction solution was distilled off under reduced pressure, ethyl acetate (72 mL) and water (36 mL) were added, and the aqueous layer was adjusted to pH = 8 to 9 with an aqueous sodium hydroxide solution and extracted. After separating the organic layer, the aqueous layer was further extracted with ethyl acetate (36 mL). The ethyl acetate layer was combined, and the solvent was distilled off under reduced pressure. 4 mol / L HC was added to a solution of the obtained residue in ethyl acetate (35 mL).
A 1 / ethyl acetate (7.6 mL) solution was added dropwise at 25 ° C. or lower, and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour. The precipitated solid is collected by filtration,
The title compound (4.4 g, yield: 80%) was obtained. 191-192 ° C. Nuclear magnetic resonance spectrum (400MHz, CDCl 3) δ ppm : 2.54
(d, J = 12.5Hz, 1H), 2.90 (d, J = 12.5Hz, 1H), 2.95 (s,
3H), 3.14 (d, J = 11.2Hz, 1H), 4.32 (s, 1H), 4.35
(s, 1H), 4.40 (d, J = 11.2Hz, 1H). Elemental analysis Calculated: C, 40.11%; H, 5.61%; N, 7.80%; S, 17.85%; Cl, 19.73% Found: C, 39.93%; H, 5.52%; N, 7.75%; S, 17.93 %; Cl, 19.76%.

【0134】[0134]

【実施例6】Embodiment 6

【0135】[0135]

【化27】 Embedded image

【0136】(2S,4S)−5−メチル−2−チア−
5−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン−3−オン・
塩酸塩(第C3〜C5工程及びB法) (2S,4R)−4−ヒドロキシ−1−メチルピロリジ
ンカルボン酸 メチルエステル・塩酸塩(5g、純度9
2%)の酢酸エチル(50mL)懸濁液にトリエチルア
ミン(8.2mL)を加え、3時間還流した後、氷冷下
でメタンスルホニルクロリド(2mL)の酢酸エチル
(10mL)溶液を滴下し、同温で1時間した。反応液
に飽和食塩水(25mL)を加え、抽出した。有機層を
分離した後、更に水層を酢酸エチル(50mL)で抽出
し、酢酸エチル層を合致して、溶媒を減圧下で留去し
た。残査にジメチルホルムアミド(50mL)及びチオ
酢酸カリウム(4.0g)を順次加え、70〜75℃で
2時間加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、ト
ルエン(50mL)及び飽和食塩水(25mL)を加え
抽出した。有機層を分離した後、更に水層をトルエン
(50mL)で抽出し、トルエン層を合致して、溶媒を
減圧下で留去した。残査に水(15mL)及び濃塩酸
(4.2mL)を順次加え、80〜85℃で6時間加熱
攪拌した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、水を
減圧下で留去した。更に、得られた残査に酢酸(15m
L)及び無水酢酸(6.65mL)を順次加え、55〜
60℃で2時間加熱攪拌した。反応液の酢酸を減圧下で
留去した後、残査に酢酸エチル(50mL)及び飽和食
塩水(25mL)を加え、水酸化ナトリウム水溶液で水
層のpHを8〜9に調整し、抽出した。有機層を分離し
た後、水層を更に酢酸エチル(50mL)で抽出し、酢
酸エチル層を合致して、溶媒を減圧下で留去した。得ら
れた残査の酢酸エチル(25mL)溶液に4mol/L HC
l/酢酸エチル(4.7mL)溶液を25℃以下で滴下
し、同温で1時間攪拌した。析出した固形物をろ取し、
標記化合物(3.1g、純度94%、通算収率:69
%)を得た。スペクトルデータは、実施例5の化合物に
一致した。
(2S, 4S) -5-methyl-2-thia-
5-Azabicyclo [2.2.1] heptan-3-one.
Hydrochloride (Steps C3-C5 and Method B) (2S, 4R) -4-Hydroxy-1-methylpyrrolidinecarboxylic acid methyl ester hydrochloride (5 g, purity 9)
Triethylamine (8.2 mL) was added to a suspension of 2%) in ethyl acetate (50 mL), and the mixture was refluxed for 3 hours. Under ice cooling, a solution of methanesulfonyl chloride (2 mL) in ethyl acetate (10 mL) was added dropwise. Warm for 1 hour. A saturated saline solution (25 mL) was added to the reaction solution, followed by extraction. After separating the organic layer, the aqueous layer was further extracted with ethyl acetate (50 mL). The ethyl acetate layer was combined, and the solvent was distilled off under reduced pressure. Dimethylformamide (50 mL) and potassium thioacetate (4.0 g) were sequentially added to the residue, and the mixture was heated and stirred at 70 to 75 ° C for 2 hours. After the reaction solution was cooled to room temperature, toluene (50 mL) and saturated saline (25 mL) were added for extraction. After separating the organic layer, the aqueous layer was further extracted with toluene (50 mL), the toluene layer was matched, and the solvent was distilled off under reduced pressure. Water (15 mL) and concentrated hydrochloric acid (4.2 mL) were sequentially added to the residue, and the mixture was heated and stirred at 80 to 85 ° C. for 6 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature, and water was distilled off under reduced pressure. Furthermore, acetic acid (15 m
L) and acetic anhydride (6.65 mL) were sequentially added.
The mixture was heated and stirred at 60 ° C. for 2 hours. After the acetic acid in the reaction solution was distilled off under reduced pressure, ethyl acetate (50 mL) and saturated saline (25 mL) were added to the residue, and the pH of the aqueous layer was adjusted to 8 to 9 with an aqueous sodium hydroxide solution, followed by extraction. . After separating the organic layer, the aqueous layer was further extracted with ethyl acetate (50 mL). The ethyl acetate layer was combined, and the solvent was distilled off under reduced pressure. 4 mol / L HC was added to a solution of the obtained residue in ethyl acetate (25 mL).
A 1 / ethyl acetate (4.7 mL) solution was added dropwise at 25 ° C. or lower, and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour. The precipitated solid is collected by filtration,
Title compound (3.1 g, purity 94%, total yield: 69)
%). Spectral data was consistent with the compound of Example 5.

【0137】[0137]

【参考例1】[Reference Example 1]

【0138】[0138]

【化28】 Embedded image

【0139】(2S,4R)−4−ヒドロキシ−1−メ
チル−2−ピロリジンカルボン酸メチルエステル・塩酸
塩(第C1及びC2工程) 塩化水素ガス(127g)を吹き込んだメタノール(1
L)溶液に(2S,4R)−トランス−4−ヒドロキシ
プロリン(100g)を添加後、2時間還流攪拌した。
反応終了後、28%ナトリウムメトキシド/メタノール
溶液を用いて、反応液のpHを3〜4に調整し、溶媒を
減圧下で留去した。得られた残査にメタノール(200
mL)、37%ホルムアミド水溶液(93g)及び7.
5%Pd/C(1.1g)を加え、水素加圧条件下で、
室温で5時間攪拌した。ろ過によりPd/Cを除去後、
ろ洗液の溶媒を減圧下で留去して得た残査にプロパノー
ル(200mL)とイソプロピルエーテル(1L)を加
え、20〜25℃で2時間攪拌した。析出した結晶をろ
取して、標記化合物(156g、純度92%、収率:9
6%)を得た。 核磁気共鳴スペクトル (400MHz, CD3OD)δ ppm: 2.26-
2.34 (m, 1H), 2.44-2.51(m, 1H), 3.11 (s, 3H), 3.21
(d, J=12.4Hz, 1H), 3.87 (s, 3H), 3.87-3.92(m, 1
H), 4.53-4.64 (m, 2H)。
(2S, 4R) -4-Hydroxy-1-methyl-2-pyrrolidinecarboxylic acid methyl ester hydrochloride (Steps C1 and C2) Methanol (1 g) blown with hydrogen chloride gas (127 g)
L) The solution was added with (2S, 4R) -trans-4-hydroxyproline (100 g) and then stirred under reflux for 2 hours.
After the completion of the reaction, the pH of the reaction solution was adjusted to 3 to 4 using a 28% sodium methoxide / methanol solution, and the solvent was distilled off under reduced pressure. Methanol (200
mL), 37% aqueous formamide solution (93 g) and 7.
5% Pd / C (1.1 g) was added, and under hydrogen pressure conditions,
Stirred at room temperature for 5 hours. After removing Pd / C by filtration,
Propanol (200 mL) and isopropyl ether (1 L) were added to the residue obtained by evaporating the solvent of the filtrate under reduced pressure, and the mixture was stirred at 20 to 25 ° C. for 2 hours. The precipitated crystals were collected by filtration to give the title compound (156 g, purity 92%, yield: 9).
6%). Nuclear magnetic resonance spectrum (400MHz, CD 3 OD) δ ppm: 2.26-
2.34 (m, 1H), 2.44-2.51 (m, 1H), 3.11 (s, 3H), 3.21
(d, J = 12.4Hz, 1H), 3.87 (s, 3H), 3.87-3.92 (m, 1
H), 4.53-4.64 (m, 2H).

【0140】[0140]

【参考例2】[Reference Example 2]

【0141】[0141]

【化29】 Embedded image

【0142】(2S,4R)−4−ヒドロキシ−1−メ
チル−2−ピロリジンカルボン酸(第C2工程) (2S,4R)−トランス−4−ヒドロキシプロリン
(5g)、37%ホルムアミド水溶液(4.6g)及び
7.5%Pd/C(53%水湿品:3.2g)の水(1
5mL)懸濁液を水素加圧条件下で室温、10時間攪拌
した。Pd/Cをろ過で除去した後、ろ洗液の水を減圧
下で留去した。得られた固形分残査をエタノール(25
mL)で懸濁攪拌後、ろ取して、標記化合物(5.1
g、収率:92%)を得た。 核磁気共鳴スペクトル (400MHz, CD3OD)δ ppm: 2.12-
2.21 (m, 1H), 2.40-2.47(m, 1H), 3.01 (s, 3H), 3.09
(d, J=12.4Hz, 1H), 3.85 (dd, J=12.4 and 4.6Hz, 1
H), 4.06 (dd, J=10.8 and 7.6Hz, 1H), 4.48-4.52 (m,
1H)。
(2S, 4R) -4-Hydroxy-1-methyl-2-pyrrolidinecarboxylic acid (Step C2) (2S, 4R) -trans-4-hydroxyproline (5 g), 37% aqueous formamide solution (4. 6g) and 7.5% Pd / C (53% water wet: 3.2 g) in water (1
5 mL) suspension was stirred at room temperature under hydrogen pressure for 10 hours. After removing Pd / C by filtration, water of the filtrate was distilled off under reduced pressure. The obtained solid residue is ethanol (25
The suspension was stirred and filtered, and filtered to give the title compound (5.1
g, yield: 92%). Nuclear magnetic resonance spectrum (400MHz, CD 3 OD) δ ppm: 2.12-
2.21 (m, 1H), 2.40-2.47 (m, 1H), 3.01 (s, 3H), 3.09
(d, J = 12.4Hz, 1H), 3.85 (dd, J = 12.4 and 4.6Hz, 1
H), 4.06 (dd, J = 10.8 and 7.6Hz, 1H), 4.48-4.52 (m,
1H).

【0143】[0143]

【参考例3】[Reference Example 3]

【0144】[0144]

【化30】 Embedded image

【0145】(2S,4R)−4−ヒドロキシ−1−メ
チル−2−ピロリジンカルボン酸メチルエステル・塩酸
塩(第C1及びC2工程) (2S,4R)−4−ヒドロキシ−1−メチル−2−ピ
ロリジンカルボン酸(3g)のメタノール(15mL)
懸濁液に濃塩酸(3mL)を加え、4時間還流した。反
応液の溶媒を減圧下で留去して、標記化合物(4.0
g、収率:100%)を得た。スペクトルデータは、参
考例1の化合物に一致した。
(2S, 4R) -4-Hydroxy-1-methyl-2-pyrrolidinecarboxylic acid methyl ester hydrochloride (Steps C1 and C2) (2S, 4R) -4-Hydroxy-1-methyl-2- Methanol (15 mL) of pyrrolidine carboxylic acid (3 g)
Concentrated hydrochloric acid (3 mL) was added to the suspension, and the mixture was refluxed for 4 hours. The solvent of the reaction solution was distilled off under reduced pressure to give the title compound (4.0.
g, yield: 100%). The spectrum data corresponded to the compound of Reference Example 1.

【0146】[0146]

【参考例4】[Reference Example 4]

【0147】[0147]

【化31】 Embedded image

【0148】(2S,4R)−4−メチルスルホニルオ
キシ−1−メチル−2−ピロリジンカルボン酸 メチル
エステル(第C3工程) 参考例1又は3で得られた(2S,4R)−4−ヒドロ
キシ−1−メチル−2−ピロリジンカルボン酸 メチル
エステル・塩酸塩(1g)のテトラヒドロフラン(10
mL)懸濁液にトリエチルアミン(1.53mL)を添
加、40℃で3時間攪拌した後、氷冷下でメシルクロリ
ドを加え更に2時間攪拌した。反応液に酢酸エチル(2
0mL)及び5%重曹水(10mL)を加え、抽出し
た。水層を分離した後、有機層の溶媒を減圧下で留去し
て、標記化合物(1.0g、収率:83%)を得た。 核磁気共鳴スペクトル (400MHz, CDCl3)δ ppm: 2.41
(d, J=7.8Hz, 1H), 2.43(dd, J=7.8 and 1.7Hz, 1H),
2.47 (s, 3H), 2.74 (dd, J=11.2 and 3.9 Hz, 1H), 3.
04 (s, 3H), 3.42 (dd, J=7.8 and 7.8Hz, 1H), 3.59
(dd, J=11.2 and 6.1 Hz, 1H), 3.76 (s, 3H), 5.20-5.
5.26 (m, 1H)。
(2S, 4R) -4-methylsulfonyloxy-1-methyl-2-pyrrolidinecarboxylic acid methyl ester (Step C3) (2S, 4R) -4-hydroxy- obtained in Reference Example 1 or 3 1-methyl-2-pyrrolidinecarboxylic acid methyl ester hydrochloride (1 g) in tetrahydrofuran (10 g)
Triethylamine (1.53 mL) was added to the suspension, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 3 hours. Then, mesyl chloride was added under ice cooling, and the mixture was further stirred for 2 hours. Ethyl acetate (2
0 mL) and 5% aqueous sodium bicarbonate (10 mL) were added for extraction. After separating the aqueous layer, the solvent of the organic layer was distilled off under reduced pressure to obtain the title compound (1.0 g, yield: 83%). Nuclear magnetic resonance spectrum (400MHz, CDCl 3 ) δ ppm: 2.41
(d, J = 7.8Hz, 1H), 2.43 (dd, J = 7.8 and 1.7Hz, 1H),
2.47 (s, 3H), 2.74 (dd, J = 11.2 and 3.9 Hz, 1H), 3.
04 (s, 3H), 3.42 (dd, J = 7.8 and 7.8Hz, 1H), 3.59
(dd, J = 11.2 and 6.1 Hz, 1H), 3.76 (s, 3H), 5.20-5.
5.26 (m, 1H).

【0149】[0149]

【参考例5】[Reference Example 5]

【0150】[0150]

【化32】 Embedded image

【0151】(2S,4S)−4−アセチルチオ−1−
メチル−2−ピロリジンカルボン酸メチルエステル(第
C4工程法) 参考例4で得られた(2S,4R)−4−メチルスルホ
ニルオキシ−1−メチル−2−ピロリジンカルボン酸
メチルエステル(609mg)のエタノール/水(9:
1)混合液(6mL)にチオ酢酸カリウム(677m
g)を添加後、80℃で3時間加熱攪拌し、室温で一夜
放置した。反応液に酢酸エチル(20mL)及び10%
食塩水(10mL)を加え、抽出した。有機層を分離し
て、水(10mL)で洗浄後、溶媒を減圧下で留去し、
標記化合物(543mg、収率:97%)を得た。 核磁気共鳴スペクトル (400MHz, CDCl3)δ ppm: 1.96-
2.03 (m, 1H), 2.30 (s,3H), 2.43 (s, 3H), 2.65-2.74
(m, 1H), 2.82-2.87 (m, 1H), 3.05-3.10 (m, 2H), 3.
76 (s, 3H), 3.93-4.00 (m, 1H)。
(2S, 4S) -4-acetylthio-1-
Methyl-2-pyrrolidinecarboxylic acid methyl ester (Step C4) (2S, 4R) -4-methylsulfonyloxy-1-methyl-2-pyrrolidinecarboxylic acid obtained in Reference Example 4
Methyl ester (609 mg) in ethanol / water (9:
1) Potassium thioacetate (677m) was added to the mixture (6mL).
After the addition of g), the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 3 hours and left at room temperature overnight. Ethyl acetate (20 mL) and 10%
Brine (10 mL) was added and extracted. After separating the organic layer and washing with water (10 mL), the solvent was distilled off under reduced pressure.
The title compound (543 mg, yield: 97%) was obtained. Nuclear magnetic resonance spectrum (400MHz, CDCl 3 ) δ ppm: 1.96-
2.03 (m, 1H), 2.30 (s, 3H), 2.43 (s, 3H), 2.65-2.74
(m, 1H), 2.82-2.87 (m, 1H), 3.05-3.10 (m, 2H), 3.
76 (s, 3H), 3.93-4.00 (m, 1H).

【0152】[0152]

【参考例6】[Reference Example 6]

【0153】[0153]

【化33】 Embedded image

【0154】(2S,4S)−4−メルカプト−1−メ
チル−2−ピロリジンカルボン酸・塩酸塩(第C5工
程) (2S,4S)−4−アセチルチオ−1−メチル−2−
ピロリジンカルボン酸メチルエステル(10.7g)、
濃塩酸(14.9g)及び水(16mL)の混合液を7
5〜85℃で5時間加熱攪拌した。反応終了後、反応液
の水を減圧下で留去し、残査に酢酸(10mL)、酢酸
エチル(20mL)を加え、0〜5℃で1時間攪拌し
た。析出した結晶をろ取して、標記化合物(9.2g、
収率:95%)を得た。 核磁気共鳴スペクトル (400MHz, CDCl3)δ ppm: 2.11-
2.20 (m, 1H), 2.97-3.05(m, 1H), 3.02 (s, 3H), 3.56
-3.68 (m, 2H), 3.80-3.88 (m, 1H), 4.35-4.41(m, 1
H)。
(2S, 4S) -4-Mercapto-1-methyl-2-pyrrolidinecarboxylic acid hydrochloride (Step C5) (2S, 4S) -4-acetylthio-1-methyl-2-
Pyrrolidinecarboxylic acid methyl ester (10.7 g),
A mixture of concentrated hydrochloric acid (14.9 g) and water (16 mL) was added to 7
The mixture was heated and stirred at 5-85 ° C for 5 hours. After completion of the reaction, water of the reaction solution was distilled off under reduced pressure, acetic acid (10 mL) and ethyl acetate (20 mL) were added to the residue, and the mixture was stirred at 0 to 5 ° C for 1 hour. The precipitated crystals were collected by filtration, and the title compound (9.2 g,
(Yield: 95%). Nuclear magnetic resonance spectrum (400MHz, CDCl 3 ) δ ppm: 2.11-
2.20 (m, 1H), 2.97-3.05 (m, 1H), 3.02 (s, 3H), 3.56
-3.68 (m, 2H), 3.80-3.88 (m, 1H), 4.35-4.41 (m, 1
H).

【0155】[0155]

【参考例7】[Reference Example 7]

【0156】[0156]

【化34】 Embedded image

【0157】(S)−3−[2−[3−(4−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル)グアニジノ]アセチルアミ
ノ]ピロリジン・2硫酸塩 濃硫酸(234g)のメタノール(2.45L)溶液に
(S)−1−(t−ブチルオキシカルボニル)−3−
[2−[3−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)
グアニジノ]アセチルアミノ]ピロリジン・1/2硫酸
塩(350g、純度86%)を添加し、40〜45℃で
2.5時間攪拌した。反応液を20〜30℃まで冷却
し、同温で0.5時間攪拌後、ジイソプロピルエーテル
(3.5L)を加え、更に同温で1時間攪拌した。析出
した結晶をろ取して、標記化合物(328g、純度9
5.8%、収率:95.4%)を得た。 核磁気共鳴スペクトル(400 MHz, D2O)δ ppm: 1.85-
1.96 (m, 1H), 2.10-2.25(m, 1H), 3.13-3.44 (m, 4H),
4.01 (s, 2H), 4.31-4.39 (m, 1H), 5.25 (s, 2H), 7.
48 (d, J=8.6Hz, 2H), 8.10 (d, J=8.6Hz, 2H)。
(S) -3- [2- [3- (4-Nitrobenzyloxycarbonyl) guanidino] acetylamino] pyrrolidine disulfate (S) was added to a solution of concentrated sulfuric acid (234 g) in methanol (2.45 L). -1- (t-butyloxycarbonyl) -3-
[2- [3- (4-nitrobenzyloxycarbonyl)]
Guanidino] acetylamino] pyrrolidine 1/2 sulfate (350 g, purity 86%) was added, and the mixture was stirred at 40 to 45 ° C for 2.5 hours. The reaction solution was cooled to 20 to 30 ° C., stirred at the same temperature for 0.5 hour, added with diisopropyl ether (3.5 L), and further stirred at the same temperature for 1 hour. The precipitated crystals were collected by filtration to give the title compound (328 g, purity 9).
(5.8%, yield: 95.4%). Nuclear magnetic resonance spectrum (400 MHz, D 2 O) δ ppm: 1.85-
1.96 (m, 1H), 2.10-2.25 (m, 1H), 3.13-3.44 (m, 4H),
4.01 (s, 2H), 4.31-4.39 (m, 1H), 5.25 (s, 2H), 7.
48 (d, J = 8.6Hz, 2H), 8.10 (d, J = 8.6Hz, 2H).

【0158】[0158]

【発明の効果】本発明に係る1−アルキルピロリジン構
造を有するカルバペネム系抗菌剤の製造方法は、安価、
容易、かつ安全性が高く大量合成にも適しているもので
あり、5−アルキル−2−チア−5−アザビシクロ
[2.2.1]ヘプタン−3−オンは、当該製造方法に
おいて非常に重要な中間体化合物として有用である。
The method for producing a carbapenem-based antibacterial agent having a 1-alkylpyrrolidine structure according to the present invention is inexpensive,
It is easy, safe and suitable for mass synthesis, and 5-alkyl-2-thia-5-azabicyclo [2.2.1] heptan-3-one is very important in the production method. Useful as an intermediate compound.

【0159】また、本発明に係る5−アルキル−2−チ
ア−5−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン−3−オ
ンの製造方法も、5−アルキル−2−チア−5−アザビ
シクロ[2.2.1]ヘプタン−3−オンを安価、容
易、安全に、かつ大量に製造できるという効果を有す
る。
Further, the method for producing 5-alkyl-2-thia-5-azabicyclo [2.2.1] heptan-3-one according to the present invention is also described in 5-Alkyl-2-thia-5-azabicyclo [2. 2.2.1] Heptan-3-one can be produced inexpensively, easily, safely, and in large quantities.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4C050 KA18 KB05 KB13 KB16 KC04 4C071 AA03 BB01 CC01 CC21 EE13 FF03 GG01 HH08 KK01 LL01 4C086 AA01 AA04 CC08 MA01 MA04 NA20 ZB35  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 4C050 KA18 KB05 KB13 KB16 KC04 4C071 AA03 BB01 CC01 CC21 EE13 FF03 GG01 HH08 KK01 LL01 4C086 AA01 AA04 CC08 MA01 MA04 NA20 ZB35

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】式 【化1】 [式中、R1は、C1−C3アルキル基を示す。]で表さ
れる化合物(1)又はその塩、式 【化2】 [式中、R2及びR3は、それぞれ独立に、水素原子又は
有機残基を示し、又は、R2及びR3は、それらが結合す
る窒素原子と一緒になって環を形成してもよい。]で表
される化合物(2)又はその塩、及び、式 【化3】 [式中、Lは、脱離基を示し、水酸基及びカルボキシル
基は、それぞれ独立に、保護されていてもよい。]で表
される化合物(3)又はその塩を反応させることによ
り、式 【化4】 [式中、R1、R2及びR3は、前述と同意義を示し、水
酸基及びカルボキシル基は、それぞれ独立に、保護され
ていてもよい。]で表されるカルバペネム系抗菌剤
(4)又はその塩を製造する方法。
(1) Formula (1) [Wherein, R 1 represents a C 1 -C 3 alkyl group. Or a salt thereof represented by the formula: [Wherein, R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an organic residue, or R 2 and R 3 may form a ring together with the nitrogen atom to which they are attached. Good. And a salt thereof, and a compound represented by the formula: [In the formula, L represents a leaving group, and the hydroxyl group and the carboxyl group may be each independently protected. By reacting the compound (3) or a salt thereof represented by the formula: [Wherein, R 1 , R 2 and R 3 have the same meanings as described above, and the hydroxyl group and the carboxyl group may be each independently protected. ] The method of manufacturing the carbapenem antibacterial agent (4) or its salt represented by these.
【請求項2】化合物(1)又はその塩に、不活性溶媒
中、塩基存在下に同一反応容器で化合物(2)又はその
塩及び化合物(3)又はその塩を作用させることを特徴
とする、請求項1に記載のカルバペネム系抗菌剤(4)
又はその塩を製造する方法。
2. The compound (1) or a salt thereof is reacted with the compound (2) or a salt thereof and the compound (3) or a salt thereof in an inert solvent in the presence of a base in the same reaction vessel. The carbapenem antibacterial agent according to claim 1, (4).
Or a method for producing a salt thereof.
【請求項3】化合物(2)又はその塩及び化合物(3)
又はその塩を順次作用させることを特徴とする、請求項
1又は2に記載のカルバペネム系抗菌剤(4)又はその
塩を製造する方法。
3. Compound (2) or a salt thereof and compound (3)
The method for producing a carbapenem antibacterial agent (4) or a salt thereof according to claim 1 or 2, wherein the salt is allowed to act sequentially.
【請求項4】R1が、メチル基である、請求項1乃至3
のいずれか1つに記載のカルバペネム系抗菌剤(4)又
はその塩を製造する方法。
4. The method according to claim 1, wherein R 1 is a methyl group.
The method for producing the carbapenem antibacterial agent (4) or a salt thereof according to any one of the above.
【請求項5】R2及びR3が、それらが結合する窒素原子
と一緒になって環を形成する、請求項1乃至4のいずれ
か1つに記載のカルバペネム系抗菌剤(4)又はその塩
を製造する方法。
5. The carbapenem antibacterial agent (4) according to any one of claims 1 to 4, wherein R 2 and R 3 form a ring together with the nitrogen atom to which they are bonded. A method for producing a salt.
【請求項6】R2及びR3が、それらが結合する窒素原子
と一緒になって式 【化5】 [式中、nは、0、1又は2を示し、pは、0、1又は
2を示し、Raは、水素原子又はC1−C4アルキル基を
示し、Bは、フェニレン、フェニレンアルキル(該アル
キル部分はC1−C3アルキルである。)、シクロヘキシ
レン、シクロヘキシレンアルキル(該アルキル部分はC
1−C3アルキルである。)又は1乃至3個の置換基を有
してもよいC1−C5アルキレン基{該置換基は、アミ
ノ、水酸基、シクロヘキシルアルキル(該アルキル部分
はC1−C3アルキルである。)、C1−C4アルキル、フ
ェニル又はベンジル基である。}を示し、Rbは、水素
原子又はC1−C4アルキル基を示し、Rcは、式−C
(=NH)Rdで表される基{式中、Rdは、水素原子、
1−C4アルキル基又は式−NRefで表される基(式
中、Re及びRfは、互いに独立に、水素原子又はC1
4アルキル基を示す。)を示す。}を示す。]で表さ
れる環を形成する、請求項1乃至4のいずれか1つに記
載のカルバペネム系抗菌剤(4)又はその塩を製造する
方法。
6. RTwoAnd RThreeIs the nitrogen atom to which they are attached
Along with the formula[In the formula, n represents 0, 1, or 2, and p represents 0, 1, or
2 and RaIs a hydrogen atom or C1-CFourAn alkyl group
B is phenylene, phenylene alkyl (the
Kill part is C1-CThreeAlkyl. ), Cyclohexyl
, Cyclohexylenealkyl (where the alkyl moiety is C
1-CThreeAlkyl. ) Or having 1 to 3 substituents
C1-CFiveAn alkylene group;
, Hydroxyl, cyclohexylalkyl (the alkyl moiety
Is C1-CThreeAlkyl. ), C1-CFourAlkyl,
Phenyl or benzyl. } And RbIs hydrogen
Atom or C1-CFourRepresents an alkyl group;cIs the formula -C
(= NH) RdIn the formula, R representsdIs a hydrogen atom,
C1-CFourAlkyl group or formula -NReRfGroup represented by the formula (formula
Medium, ReAnd RfAre, independently of one another, a hydrogen atom or C1
CFourShows an alkyl group. ). Indicates}. ]
5. The ring according to claim 1, wherein the ring forms
Carbapenem antibacterial agent (4) or a salt thereof
Method.
【請求項7】R2及びR3において、nが、0又は1であ
り、pが、0又は1であり、Raが、水素原子、メチル
又はエチル基であり、Bが、1,4−フェニレン、1,
4−シクロヘキシレンメチル、メチレン、メチルメチレ
ン(−CH(CH3)−)、エチレン、トリメチレン又
は2−ヒドロキシプロピレン基であり、Rbが、水素原
子、メチル又はエチル基であり、Rcが、ホルムイミド
イル、アセトイミドイル又はアミジノ基である、請求項
6に記載のカルバペネム系抗菌剤(4)又はその塩を製
造する方法。
7. In R 2 and R 3 , n is 0 or 1, p is 0 or 1, Ra is a hydrogen atom, a methyl or ethyl group, and B is 1,4. -Phenylene, 1,
4- cyclohexylene methyl, methylene, methylmethylene (-CH (CH 3) -) , ethylene, trimethylene or 2-hydroxypropylene group, R b is a hydrogen atom, a methyl or ethyl group, R c is, The method for producing a carbapenem antibacterial agent (4) or a salt thereof according to claim 6, which is a formimidyl, acetimidoyl or amidino group.
【請求項8】R2及びR3において、nが、0又は1であ
り、pが、0であり、Raが、水素原子又はメチル基で
あり、Bが、メチレン、メチルメチレン(−CH(CH
3)−)、エチレン、トリメチレン又は2−ヒドロキシ
プロピレン基であり、Rbが、水素原子又はメチル基で
あり、Rcが、アミジノ基である、請求項6に記載のカ
ルバペネム系抗菌剤(4)又はその塩を製造する方法。
8. In R 2 and R 3 , n is 0 or 1, p is 0, Ra is a hydrogen atom or a methyl group, and B is methylene, methylmethylene (—CH (CH
3) -), ethylene, trimethylene or 2-hydroxypropylene group, R b is hydrogen atom or a methyl group, R c is an amidino group, carbapenem antibacterial agent according to claim 6 (4 ) Or a method for producing the salt thereof.
【請求項9】R2及びR3において、nが、0又は1であ
り、pが、0であり、Raが、水素原子であり、Bが、
メチレン、メチルメチレン(−CH(CH3)−)又は
エチレン基であり、Rbが、水素原子であり、Rcが、ア
ミジノ基である、請求項6に記載のカルバペネム系抗菌
剤(4)又はその塩を製造する方法。
9. In R 2 and R 3 , n is 0 or 1, p is 0, Ra is a hydrogen atom, and B is
The carbapenem antibacterial agent (4) according to claim 6, wherein methylene, methylmethylene (—CH (CH 3 ) —) or an ethylene group, R b is a hydrogen atom, and R c is an amidino group. Or a method for producing a salt thereof.
【請求項10】Lが、ジアリールホスホリルオキシ基で
ある、請求項1乃至9のいずれか1つに記載のカルバペ
ネム系抗菌剤(4)又はその塩を製造する方法。
10. The method for producing a carbapenem antibacterial agent (4) or a salt thereof according to any one of claims 1 to 9, wherein L is a diarylphosphoryloxy group.
【請求項11】Lが、ジフェニルホスホリルオキシ基で
ある、請求項1乃至9のいずれか1つに記載のカルバペ
ネム系抗菌剤(4)又はその塩を製造する方法。
11. The method for producing a carbapenem antibacterial agent (4) or a salt thereof according to any one of claims 1 to 9, wherein L is a diphenylphosphoryloxy group.
【請求項12】化合物(1)が、(2S、4S)配置で
ある、請求項1乃至11のいずれか1つに記載のカルバ
ペネム系抗菌剤(4)又はその塩を製造する方法。
12. The method for producing a carbapenem antibacterial agent (4) or a salt thereof according to any one of claims 1 to 11, wherein the compound (1) has a (2S, 4S) configuration.
【請求項13】式 【化6】 [式中、R1は、C1−C3アルキル基を示す。]で表さ
れる化合物(1)又はその塩。
13. A compound of the formula [Wherein, R 1 represents a C 1 -C 3 alkyl group. Or a salt thereof.
【請求項14】R1が、メチル基である、請求項13に
記載の化合物(1)又はその塩。
14. The compound (1) or a salt thereof according to claim 13, wherein R 1 is a methyl group.
【請求項15】化合物(1)が、(2S、4S)配置で
ある、請求項13又は14に記載の化合物(1)又はそ
の塩。
15. The compound (1) or a salt thereof according to claim 13, wherein the compound (1) has a (2S, 4S) configuration.
【請求項16】式 【化7】 [式中、R1は、C1−C3アルキル基を示す。]で表さ
れる化合物(5)又はその塩に酸無水物を作用させ、式 【化8】 [式中、R1は、前述と同意義を示す。]で表される化
合物(1)又はその塩を製造する方法。
16. A compound of the formula [Wherein, R 1 represents a C 1 -C 3 alkyl group. An acid anhydride is allowed to act on the compound (5) or a salt thereof represented by the formula: [Wherein, R 1 has the same meaning as described above. Or a salt thereof.
【請求項17】R1が、メチル基である、請求項16に
記載の化合物(1)又はその塩を製造する方法。
17. The method for producing a compound (1) or a salt thereof according to claim 16, wherein R 1 is a methyl group.
【請求項18】化合物(5)が、(2S、4S)配置又
は(2R、4R)配置である、請求項16又は17に記
載の化合物(1)又はその塩を製造する方法。
18. The method for producing a compound (1) or a salt thereof according to claim 16 or 17, wherein the compound (5) has a (2S, 4S) configuration or a (2R, 4R) configuration.
【請求項19】化合物(5)が、(2S、4S)配置で
ある、請求項16又は17に記載の化合物(1)又はそ
の塩を製造する方法。
19. The method for producing a compound (1) or a salt thereof according to claim 16, wherein the compound (5) has a (2S, 4S) configuration.
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JP2006523689A (en) * 2003-04-14 2006-10-19 ダナ ファーバー キャンサー インスティテュート Pharmaceutically active ornithine derivative, ammonium salt thereof and process for producing the same
JP2007501227A (en) * 2003-08-06 2007-01-25 ハナ バイオサイエンシズ,インコーポレーテッド Ammonium salts of ornithine derivatives for the treatment of inflammatory diseases
WO2008026556A1 (en) 2006-08-29 2008-03-06 Daiichi Sankyo Company, Limited Freeze-dried preparation of 1-methylcarbapenem

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