JP2002201438A - Adhesive composition, and connection method and connection structure of circuit terminal using the same - Google Patents

Adhesive composition, and connection method and connection structure of circuit terminal using the same

Info

Publication number
JP2002201438A
JP2002201438A JP2000401497A JP2000401497A JP2002201438A JP 2002201438 A JP2002201438 A JP 2002201438A JP 2000401497 A JP2000401497 A JP 2000401497A JP 2000401497 A JP2000401497 A JP 2000401497A JP 2002201438 A JP2002201438 A JP 2002201438A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive particles
circuit
connection terminal
adhesive composition
connection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000401497A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4696360B2 (en
Inventor
Jun Taketazu
潤 竹田津
Itsuo Watanabe
伊津夫 渡辺
Yasushi Goto
泰史 後藤
Yukihisa Hirozawa
幸寿 廣澤
Masanori Fujii
正規 藤井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2000401497A priority Critical patent/JP4696360B2/en
Publication of JP2002201438A publication Critical patent/JP2002201438A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4696360B2 publication Critical patent/JP4696360B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide adhesive compositions for electric/electronic uses which give low-resistance electric connection in COG mounting or COF mounting without causing a short circuit; and a connection method and connection structure of circuit terminals using the same. SOLUTION: A bonding material is caused to intervene between circuit electrodes facing each other and, when the circuit electrodes facing each other are pressed, electrically connects the electrodes to each other in the pressing direction. The bonding material at least comprises an insulating adhesive layer and an adhesive layer containing conductive particles. Each layer of the bonding material is an adhesive composition containing, as essential ingredients, at least three ingredients selected from among (1) a curing agent which generates free radicals under heating, (2) a free-radical-polymerizable substance, (3) a film-forming material, and (4) conductive particles. The fluidity (B)/(A) represented by the area (A) of the bonding material comprising the adhesive layers before heating and pressing and the area (B) of the bonding material after heating and pressing is 1.3-2.0.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、接着剤組成物、そ
れを用いたCHIP-ON-GLASS実装(以下COG実装と呼
ぶ)またはCHIP-ON-FLEX(以下COF実装と呼ぶ)にお
ける回路端子の接続方法及び回路端子の接続構造に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an adhesive composition, and a circuit terminal in a CHIP-ON-GLASS mounting (hereinafter referred to as COG mounting) or a CHIP-ON-FLEX (hereinafter referred to as COF mounting) using the same. The present invention relates to a connection method and a connection structure of circuit terminals.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示用ガラスパネルへの液晶駆動用
ICの実装は、液晶駆動用ICを直接ガラスパネル上に
回路接続部材で接合するCOG実装方法や、液晶駆動用
ICを金属配線を有するフレキシブルテープに接合しガ
ラスパネルと回路接続部材で接合するCOF実装方法が
用いられる。液晶表示の高精細化に伴い、液晶駆動用I
Cの電極である金バンプは狭ピッチ化、狭面積化してい
る。このため、接合材料中の導電粒子が隣接電極間に流
出し、ショートを発生させるといった問題や、バンプ上
に捕捉される接合材料中の導電粒子数が減少し、接続不
良を起こすといった問題がある。そこで、これらの問題
を解決するため、接合材料の少なくとも片面に絶縁性の
接着層を形成することで、COG実装及びCOF実装に
おける接合品質の低下を防ぐ方法が開発されている(例
えば特開平8−279371号公報)。
2. Description of the Related Art A liquid crystal driving IC is mounted on a liquid crystal display glass panel by a COG mounting method in which the liquid crystal driving IC is directly joined to the glass panel by a circuit connecting member, or the liquid crystal driving IC has metal wiring. A COF mounting method of bonding to a flexible tape and bonding to a glass panel and a circuit connecting member is used. As the definition of liquid crystal displays has become higher,
The gold bump, which is the electrode of C, has a narrow pitch and a narrow area. For this reason, there is a problem that the conductive particles in the bonding material flow out between the adjacent electrodes, causing a short circuit, and a problem that the number of conductive particles in the bonding material captured on the bumps is reduced, resulting in poor connection. . In order to solve these problems, a method has been developed in which an insulating adhesive layer is formed on at least one surface of a bonding material to prevent a decrease in bonding quality in COG mounting and COF mounting (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. H08-208,1992). -279371).

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記接
続部材はバンプ面積が3000μm2未満となった場
合、バンプ上に捕捉される接合材料中の導電粒子数が減
少し、安定した接続抵抗値を得るのに十分ではなく、ま
た接続抵抗値を低下させるため、粒子の充填量を増やす
とショート発生率が上昇し、絶縁不良が発生するという
問題があった。本発明は、COG実装やCOF実装に対
して低抵抗の電気接続が得られ、かつショート発生のな
い電気・電子用の接着剤組成物、それを用いた回路端子
の接続方法及び回路端子の接続構造を提供するものであ
る。
However, when the bump area of the connection member is less than 3000 μm 2 , the number of conductive particles in the bonding material captured on the bump is reduced, and a stable connection resistance value is obtained. However, there is a problem that when the filling amount of the particles is increased to increase the short-circuiting rate and the insulation failure occurs, the connection resistance value is lowered. The present invention provides an electric / electronic adhesive composition that provides low-resistance electrical connection to COG mounting and COF mounting and does not cause short circuit, a method for connecting circuit terminals using the same, and a method for connecting circuit terminals. Provides structure.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、〔1〕相対向
する回路電極間に介在され、相対向する回路電極を加圧
し、加圧方向の電極間を電気的に接続する接合材料にお
いて、少なくとも絶縁性の接着層と導電粒子を含有する
接着層からなる接合材料で各接着層は、(1)加熱によ
り遊離ラジカルを発生する硬化剤、(2)ラジカル重合
性物質、(3)フィルム形成材、(4)導電粒子のいず
れか3以上を必須成分として含有する接着剤組成物であ
り、各接着層から構成される接合材料の加熱加圧前の面
積(A)と加熱加圧後の面積(B)を用いて表される流
動性(B)/(A)の値が1.3〜2.0である接着剤
組成物である。接着剤組成物の流動性が1.3未満では
流動性が悪く、良好な接続が得られない場合があり、
2.0を超えると、バンプ上に捕捉される導電粒子の数
が少ないため、接続部分の電気抵抗値が上昇してしまう
ので好ましくない。 〔2〕接合材料が、(1)加熱により遊離ラジカルを発
生する硬化剤、(2)ラジカル重合性物質、(3)フィ
ルム形成材を必須成分として含有する絶縁性の接着層
と、(1)加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤、
(2)ラジカル重合性物質、(3)フィルム形成材、
(4)導電粒子を必須成分として含有する導電粒子を含
有する接着層の2層からなる上記〔1〕に記載の接着剤
組成物である。 〔3〕導電粒子の表面が、有機高分子化合物で覆われて
いる上記〔1〕または上記〔2〕に記載の接着剤組成物
である。本発明に用いる導電粒子は、表面が、金、銀、
白金属の金属から選ばれる少なくとも一種で構成される
ものを使用することが好ましく、さらに金属表面を有機
高分子化合物で被覆するとより好ましい。 〔4〕導電粒子を含有する接着層の厚みが、導電粒子の
粒径の3倍未満である上記〔1〕ないし上記〔3〕のい
ずれかに記載の接着剤組成物である。本発明の接着剤組
成物は、導電粒子を含有する層とその他の層とに分解し
た多層横成とすることができる。この時、導電粒子を含
有する接着層の厚みは、導電粒子の粒径の3倍未満であ
るのが好ましく、2倍未満がより好ましい。導電粒子を
含有する接着層の厚みが3倍以上の場合、導電粒子が隣
接電極間に流出する量が多くなり、絶縁性が低下するの
で好ましくない。また、本発明は、〔5〕第一の接続端
子を有する第一の回路部材と、第二の接続端子を有する
第二の回路部材とを、第一の接続端子と第二の接続端子
を対向して配置し、前記対向配置した第一の接続端子と
第二の接続端子の間に上記〔1〕ないし上記〔4〕のい
ずれかに記載の接着剤組成物を介在させ、加熱加圧して
前記対向配置した第一の接続端子と第二の接続端子を電
気的に接続させる回路端子の接続方法である。 〔6〕少なくとも一方の接続端子を有する回路部材がI
Cチップである上記〔5〕に記載の回路端子の接続方法
である。 〔7〕少なくとも一方の接続端子の表面が金、銀、錫、
白金族の金属、インジュウム−錫酸化物(ITO)から
選ばれる少なくとも一種で構成される上記〔5〕または
上記〔6〕に記載の回路端子の接続方法である。 〔8〕少なくとも一方の回路部材表面が窒化シリコン、
シリコーン化合物、ポリイミド樹脂から選ばれる少なく
とも一種でコーティングもしくは付着している上記
〔5〕ないし上記〔7〕のいずれかに記載の回路端子の
接続方法である。さらに、本発明は、
According to the present invention, there is provided a bonding material which is interposed between opposing circuit electrodes, presses the opposing circuit electrodes, and electrically connects the electrodes in the pressing direction. A bonding material comprising at least an insulating bonding layer and a bonding layer containing conductive particles, each bonding layer comprising: (1) a curing agent that generates free radicals by heating; (2) a radical polymerizable substance; and (3) a film. An adhesive composition containing, as an essential component, at least three of the forming material and (4) conductive particles. The area (A) of the bonding material composed of each adhesive layer before heating and pressing and the area after heating and pressing are Is an adhesive composition having a flowability (B) / (A) value of 1.3 to 2.0 expressed using the area (B) of the adhesive composition. If the fluidity of the adhesive composition is less than 1.3, the fluidity is poor and a good connection may not be obtained,
If it exceeds 2.0, the number of conductive particles captured on the bumps is small, so that the electrical resistance of the connection portion increases, which is not preferable. [2] An insulating adhesive layer containing (1) a curing agent that generates free radicals upon heating, (2) a radical polymerizable substance, and (3) a film-forming material as essential components; A curing agent that generates free radicals when heated,
(2) radical polymerizable substance, (3) film forming material,
(4) The adhesive composition according to the above [1], comprising two layers of an adhesive layer containing conductive particles containing conductive particles as an essential component. [3] The adhesive composition according to the above [1] or [2], wherein the surface of the conductive particles is covered with an organic polymer compound. The surface of the conductive particles used in the present invention is gold, silver,
It is preferable to use one composed of at least one selected from white metal, and it is more preferable to coat the metal surface with an organic polymer compound. [4] The adhesive composition according to any one of [1] to [3], wherein the thickness of the adhesive layer containing the conductive particles is less than three times the particle size of the conductive particles. The adhesive composition of the present invention can be formed into a multilayer structure composed of a layer containing conductive particles and another layer. At this time, the thickness of the adhesive layer containing the conductive particles is preferably less than three times the particle size of the conductive particles, and more preferably less than two times. When the thickness of the adhesive layer containing the conductive particles is three times or more, the amount of the conductive particles flowing out between the adjacent electrodes increases, and the insulating property decreases, which is not preferable. In addition, the present invention relates to [5] a first circuit member having a first connection terminal, and a second circuit member having a second connection terminal, the first connection member and the second connection terminal. The adhesive composition according to any one of the above [1] to [4] is interposed between the first connection terminal and the second connection terminal which are arranged to face each other, and heated and pressed. And a circuit terminal for electrically connecting the first connection terminal and the second connection terminal arranged opposite to each other. [6] The circuit member having at least one connection terminal is I
The method for connecting circuit terminals according to the above [5], which is a C chip. [7] The surface of at least one of the connection terminals is gold, silver, tin,
The circuit terminal connection method according to the above [5] or [6], comprising at least one selected from a platinum group metal and indium-tin oxide (ITO). [8] at least one circuit member surface is silicon nitride,
The method of connecting a circuit terminal according to any one of the above [5] to [7], wherein the circuit terminal is coated or adhered with at least one selected from a silicone compound and a polyimide resin. Further, the present invention provides

〔9〕上記〔5〕な
いし上記〔8〕のいずれかに記載の回路端子の接続方法
で得られる回路端子の接続構造である。
[9] A circuit terminal connection structure obtained by the circuit terminal connection method according to any one of [5] to [8].

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明は、相対向する回路電極間
に介在され、相対向する回路電極を加熱加圧し、加圧方
向の電極間を電気的に接続する接合材料において、少な
くとも絶縁性の接着層と導電粒子を含有する接着層から
なる接合材料である。各接着層は、(1)加熱により遊
離ラジカルを発生する硬化剤、(2)ラジカル重合性物
質、(3)フィルム形成材、(4)導電粒子のいずれか
3以上を必須成分として含有する接着剤組成物である。
接合材料は、絶縁性の接着層(Z)と導電粒子を含有す
る接着層(D)から構成され、その構成は、2層では、Z
−Dが、3層では、Z−D−Z、D−Z−Dが挙げられ、
同様に4層以上の構成とすることもできる。そして、各
接着層から構成される接合材料の加熱加圧前の面積
(A)と加熱加圧後の面積(B)を用いて表される流動
性(B)/(A)の値が1.3〜2.0である必要があ
る。流動性が1.3未満では流動性が悪く、良好な接続
が得られない場合があり、2.0を超えると、接続端
子、例えばバンプ上に捕捉される導電粒子の数が少ない
ため、接続部分の電気抵抗値が上昇してしまう。流動性
の測定は、厚み0.7mm、15mm×15mmのガラ
スを用いて、厚み35μm、5mm×5mmの接着剤組
成物をこの2枚のガラス間に挟み、200℃、2MP
a、10秒で加熱加圧を行い、初期の面積(A)と加熱
加圧後の面積(B)から(B)/(A)の値を求めた。
この面積は、画像処理装置などを用いても測定すること
ができる。各接着層の厚みが異なる場合、その厚みに比
例させ接合材料の厚みが35μmとなるようにした。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a bonding material interposed between opposed circuit electrodes for heating and pressing the opposed circuit electrodes and electrically connecting the electrodes in the pressing direction. And a bonding material containing conductive particles. Each adhesive layer contains, as essential components, at least three of (1) a curing agent that generates free radicals upon heating, (2) a radical polymerizable substance, (3) a film forming material, and (4) conductive particles. Agent composition.
The bonding material is composed of an insulating adhesive layer (Z) and an adhesive layer (D) containing conductive particles.
-D, in three layers, ZDZ, DZD, and the like,
Similarly, a configuration having four or more layers can be employed. Then, the value of the fluidity (B) / (A) expressed by using the area (A) before the heating and pressurizing and the area (B) after the heating and pressurizing of the bonding material composed of each adhesive layer is 1 .3 to 2.0. If the fluidity is less than 1.3, the fluidity is poor and good connection may not be obtained. If the fluidity is more than 2.0, the connection terminals, for example, the number of conductive particles captured on the bumps is small. The electric resistance value of the part increases. The fluidity was measured by using a glass having a thickness of 0.7 mm and a size of 15 mm × 15 mm, sandwiching an adhesive composition having a thickness of 35 μm and a size of 5 mm × 5 mm between the two glasses, and setting the temperature to 200 ° C. and 2 MPa.
a) Heating and pressing were performed for 10 seconds, and the value of (B) / (A) was determined from the initial area (A) and the area (B) after heating and pressing.
This area can also be measured using an image processing device or the like. When the thickness of each adhesive layer was different, the thickness of the bonding material was 35 μm in proportion to the thickness.

【0006】接合材料を構成する絶縁性の接着層は、
(1)加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤、
(2)ラジカル重合性物質、(3)フィルム形成材を必
須成分として含有することが好ましく、また、導電粒子
を含有する接着層は、(1)加熱により遊離ラジカルを
発生する硬化剤、(2)ラジカル重合性物質、(3)フ
ィルム形成材、(4)導電粒子を必須成分として含有す
ることが好ましい。導電粒子は、その導電粒子の表面
が、有機高分子化合物で覆われていることが好ましく、
有機高分子化合物の被覆はマイクロカプセルの手法に通
常用いられている方法を採用することができる。例え
ば、導電粒子に高分子化合物のスプレー、浸漬乾燥など
である。被覆厚みは、絶縁性を有すればよく、極めて薄
い厚みでもよい。導電粒子を含有する接着層は、その厚
みが、導電粒子の粒径の3倍未満であると好ましい。導
電粒子を含有する接着層の厚みが3倍以上の場合、導電
粒子が隣接電極間に流出する量が多くなり、絶縁性が低
下する傾向にあり、また、接続端子に保持される導電粒
子の数が少なくなるので、接続抵抗が高くなったり、接続
信頼性に劣るようになる。
[0006] The insulating adhesive layer constituting the bonding material is
(1) a curing agent that generates free radicals when heated,
It is preferable that (2) a radical polymerizable substance and (3) a film-forming material be contained as an essential component, and the adhesive layer containing conductive particles comprises (1) a curing agent that generates free radicals upon heating; ) A radical polymerizable substance, (3) a film forming material, and (4) conductive particles are preferably contained as essential components. It is preferable that the conductive particles have the surface of the conductive particles covered with an organic polymer compound,
For coating with the organic polymer compound, a method usually used for a microcapsule technique can be adopted. For example, spraying, immersion drying, and the like of a polymer compound on conductive particles are used. The coating thickness may be an insulating property, and may be an extremely thin thickness. The thickness of the adhesive layer containing conductive particles is preferably less than three times the particle size of the conductive particles. When the thickness of the adhesive layer containing the conductive particles is three times or more, the amount of the conductive particles flowing out between the adjacent electrodes increases, and the insulating property tends to decrease. Since the number is reduced, connection resistance is increased and connection reliability is deteriorated.

【0007】本発明で使用する(3)フィルム形成材と
しては、フェノキシ樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、
ポリスチレン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ポリアミド樹脂、キシレン樹脂、ポリウレ
タン樹脂等が挙げられる。フィルム形成材とは、液状物
を固形化し、構成組成物をフィルム形状とした場合に、
そのフィルムの取扱いが容易で、容易に裂けたり、割れ
たり、べたついたりしない機械特性等を付与するもので
あり、通常の状態でフィルムとしての取扱いができるも
のである。フィルム形成材の中でも接着性、相溶性、耐
熱性、機械強度に優れることからフェノキシ樹脂が好ま
しい。フェノキシ樹脂は2官能フェノール類とエピハロ
ヒドリンを高分子量まで反応させるか、又は2官能エポ
キシ樹脂と2官能フェノール類を重付加させることによ
り得られる樹脂である。具体的には、2官能フェノール
類1モルとエピハロヒドリン0.985〜1.015と
をアルカリ金属水酸化物の存在下において非反応性溶媒
中で40〜120℃の温度で反応させることにより得る
ことができる。また、樹脂の機械的特性や熱的特性の点
からは、特に2官能性エポキシ樹脂と2官能性フェノー
ル類の配合当量比をエポキシ基/フェノール水酸基=1
/0.9〜1/1.1としアルカリ金属化合物、有機リ
ン系化合物、環状アミン系化合物等の触媒の存在下で沸
点が120℃以上のアミド系、エーテル系、ケトン系、
ラクトン系、アルコール系等の有機溶剤中で反応固形分
が50重量部以下で50〜200℃に加熱して重付加反
応させて得たものが好ましい。2官能エポキシ樹脂とし
ては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノー
ルF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹
脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂などがある。2官
能フェノール類は2個のフェノール性水酸基を持つもの
で、例えば、ハイドロキノン類、ビスフェノールA、ビ
スフェノールF、ビスフェノールAD、ビスフェノール
S等のビスフェノール類などが挙げられる。フェノキシ
樹脂はラジカル重合性の官能基により変性されていても
よい。フェノキシ樹脂は、単独で用いても、2種類以上
を混合して用いてもよい。
The (3) film-forming material used in the present invention includes phenoxy resin, polyvinyl formal resin,
Polystyrene resin, polyvinyl butyral resin, polyester resin, polyamide resin, xylene resin, polyurethane resin and the like can be mentioned. Film forming material, when the liquid material is solidified and the constituent composition is in the form of a film,
The film is easy to handle and imparts mechanical properties and the like that are not easily torn, cracked or sticky, and can be handled as a film in a normal state. Phenoxy resins are preferred among the film-forming materials because of their excellent adhesiveness, compatibility, heat resistance, and mechanical strength. The phenoxy resin is a resin obtained by reacting a bifunctional phenol and epihalohydrin to a high molecular weight or by polyaddition of a bifunctional epoxy resin and a bifunctional phenol. Specifically, it is obtained by reacting 1 mol of bifunctional phenols with epihalohydrin 0.985 to 1.015 in a non-reactive solvent at a temperature of 40 to 120 ° C. in the presence of an alkali metal hydroxide. Can be. In addition, from the viewpoint of the mechanical and thermal properties of the resin, in particular, the blending equivalent ratio of the bifunctional epoxy resin and the bifunctional phenol is set such that epoxy group / phenol hydroxyl group = 1.
/0.9 to 1 / 1.1, amides, ethers, ketones having a boiling point of 120 ° C. or more in the presence of a catalyst such as an alkali metal compound, an organic phosphorus compound, or a cyclic amine compound;
Those obtained by heating at 50 to 200 ° C. in a lactone-based or alcohol-based organic solvent at a reaction solid content of 50 parts by weight or less and performing a polyaddition reaction are preferred. Examples of the bifunctional epoxy resin include a bisphenol A epoxy resin, a bisphenol F epoxy resin, a bisphenol AD epoxy resin, and a bisphenol S epoxy resin. Bifunctional phenols have two phenolic hydroxyl groups and include, for example, hydroquinones, bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, and bisphenol S. The phenoxy resin may be modified with a radically polymerizable functional group. The phenoxy resins may be used alone or as a mixture of two or more.

【0008】本発明で使用する(1)加熱により遊離ラ
ジカルを発生する硬化剤としては、過酸化化合物、アゾ
系化合物などの加熱により分解して遊離ラジカルを発生
するものであり、目的とする接続温度、接続時間、ポッ
トライフ等により適宜選定されるが、高反応性とポット
ライフの点から、半減期10時間の温度が40℃以上、
かつ、半減期1分の温度が180℃以下の有機過酸化物
が好ましく、半減期10時間の温度が60℃以上、か
つ、半減期1分の温度が170℃以下の有機過酸化物が
より好ましい。接続時間を10秒以下とした場合、硬化
剤の配合量は十分な反応率を得るためにラジカル重合性
物質とフィルム形成材の合計100重量部に対して、
0.1〜30重量部とするのが好ましく1〜20重量部
がより好ましい。硬化剤の配合量が0.1重量部未満で
は、十分な反応率を得ることができず良好な接着強度や
小さな接続抵抗が得られにくくなる傾向にある。配合量
が30重量部を超えると、接着剤組成物の流動性が低下
したり、接続抵抗が上昇したり、接着剤組成物のポット
ライフが短くなる傾向にある。
The curing agent used in the present invention which generates free radicals upon heating is a compound which decomposes upon heating a peroxide compound or an azo compound to generate free radicals. The temperature, the connection time, the pot life and the like are appropriately selected. From the viewpoint of high reactivity and pot life, the temperature at the half-life of 10 hours is 40 ° C. or more,
In addition, an organic peroxide having a half-life of 1 minute at a temperature of 180 ° C. or less is preferable, and an organic peroxide having a half-life of 10 hours at a temperature of 60 ° C. or more and a half-life of 1 minute at a temperature of 170 ° C. or less is more preferable. preferable. When the connection time is set to 10 seconds or less, the amount of the curing agent is based on the total of 100 parts by weight of the radical polymerizable substance and the film forming material in order to obtain a sufficient reaction rate.
It is preferably 0.1 to 30 parts by weight, more preferably 1 to 20 parts by weight. If the amount of the curing agent is less than 0.1 part by weight, a sufficient reaction rate cannot be obtained, and good adhesive strength and small connection resistance tend to be hardly obtained. If the amount exceeds 30 parts by weight, the fluidity of the adhesive composition tends to decrease, the connection resistance increases, and the pot life of the adhesive composition tends to be short.

【0009】硬化剤は、ジアシルパーオキサイド、パー
オキシジカーボネート、パーオキシエステル、パーオキ
シケタール、ジアルキルパーオキサイド、ハイドロパー
オキサイド、シリルパーオキサイドなどから選定でき
る。また、回路部材の接続端子の腐食を押さえるため
に、硬化剤中に含有される塩素イオンや有機酸は500
0ppm以下であることが好ましく、さらに、加熱分解
後に発生する有機酸が少ないものがより好ましい。具体
的には、パーオキシエステル、ジアルキルパーオキサイ
ド、ハイドロパーオキサイド、シリルパーオキサイドか
ら選定され、高反応性が得られるパーオキシエステルか
ら選定されることがより好ましい。上記硬化剤は、適宜
混合して用いることができる。
The curing agent can be selected from diacyl peroxide, peroxydicarbonate, peroxyester, peroxyketal, dialkyl peroxide, hydroperoxide, silyl peroxide and the like. Further, in order to suppress the corrosion of the connection terminal of the circuit member, chlorine ions and organic acids contained in the curing agent are 500%.
The content is preferably 0 ppm or less, and more preferably, an organic acid generated after thermal decomposition is small. Specifically, it is selected from peroxyesters, dialkyl peroxides, hydroperoxides, and silyl peroxides, and is more preferably selected from peroxyesters having high reactivity. The above-mentioned curing agents can be appropriately mixed and used.

【0010】ジアシルパーオキサイドとしては、イソブ
チルパーオキサイド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオ
キサイド、3,5,5−トリメチルへキサノイルパーオキ
サイド、オクタノイルパーオキサイド、ラウロイルパー
オキサイド、ステアロイルパーオキサイド、スクシニツ
クパーオキサイド、ベンゾイルパーオキシトルエン、ベ
ンゾイルパーオキサイド等が挙げられる。
Examples of the diacyl peroxide include isobutyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, stearoyl peroxide, succinyl peroxide, and succinyl peroxide. Nickel peroxide, benzoylperoxytoluene, benzoyl peroxide and the like can be mentioned.

【0011】パーオキシジカーボネートとしては、ジ−
n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピ
ルパーオキシジカーボネート、ビス(4−t−ブチルシク
ロへキシル)パーオキシジカーボネート、ジ−2−エト
キシメトキシパーオキシジカーボネート、ジ(2−エチ
ルへキシルパーオキシ)ジカーボネート、ジメトキシブ
チルパーオキシジカーボネート、ジ(3−メチル−3メト
キシブチルパーオキシ)ジカーボネート等が挙げられ
る。
As peroxydicarbonate, di-
n-propylperoxydicarbonate, diisopropylperoxydicarbonate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-2-ethoxymethoxyperoxydicarbonate, di (2-ethylhexylperoxy) Dicarbonate, dimethoxybutylperoxydicarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutylperoxy) dicarbonate and the like can be mentioned.

【0012】パーオキシエステルとしては、クミルパー
オキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブ
チルパーオキシネオデカノエート、1−シクロへキシル
−1−メチルエチルパーオキシノエデカノエート、t−へ
キシルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオ
キシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパー
オキシ−2−エチルへキサノネート、2,5−ジメチル−
2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサ
ン、1−シクロへキシル−1−メチルエチルパーオキシ−
2−エチルヘキサノネート、t−へキシルパーオキシ−2
−エチルへキサノネート、t−ブチルパーオキシ−2−エ
チルへキサノネート、t−ブチルパーオキシイソブチレ
ート、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロへキ
サン、t−へキシルパーオキシイソプロピルモノカーボ
ネート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルへ
キサノネート、t−ブチルパーオキシラウレート、2,5
−ジメチル−2,5−ジ(m−トルオイルパーオキシ)へ
キサン、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボ
ネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルへキシルモノ
カーボネート、t−へキシルパーオキシベンゾエート、t
−ブチルパーオキシアセテート等が挙げられる。
Examples of peroxy esters include cumyl peroxy neodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxy neodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethyl peroxynodecanoate. Ethate, t-hexylperoxy neodecanoate, t-butylperoxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanonate, 2,5-dimethyl-
2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy-
2-ethylhexanonate, t-hexylperoxy-2
-Ethylhexanonate, t-butylperoxy-2-ethylhexanonate, t-butylperoxyisobutyrate, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, t-hexylperoxyisopropylmono Carbonate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanonate, t-butylperoxylaurate, 2,5
-Dimethyl-2,5-di (m-toluoylperoxy) hexane, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexylperoxybenzoate, t
-Butyl peroxyacetate and the like.

【0013】パーオキシケタールとしては、1,1−ビス
(t−へキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシク
ロへキサン、1,1−ビス(t−へキシルパーオキシ)シ
クロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−
3,3,5−トリメチルシクロへキサン、1,1−(t−ブチ
ルパーオキシ)シクロドデカン、2,2−ビス(t−ブチ
ルパーオキシ)デカン等が挙げられる。
The peroxyketal includes 1,1-bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane, , 1-bis (t-butylperoxy)-
Examples include 3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1- (t-butylperoxy) cyclododecane, 2,2-bis (t-butylperoxy) decane, and the like.

【0014】ジアルキルパーオキサイドとしては、α,
α’−ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベ
ンゼン、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−
2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)へキサン、t−ブチル
クミルパーオキサイド等が挙げられる。
As the dialkyl peroxide, α,
α'-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-
Examples thereof include 2,5-di (t-butylperoxy) hexane and t-butylcumyl peroxide.

【0015】ハイドロパーオキサイドとしては、ジイソ
プロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、クメンハイ
ドロパーオキサイド等が挙げられる。
Examples of the hydroperoxide include diisopropylbenzene hydroperoxide and cumene hydroperoxide.

【0016】シリルパーオキサイドとしては、t−ブチ
ルトリメチルシリルパーオキサイド、ビス(t−ブチ
ル)ジメチルシリルパーオキサイド、t−ブチルトリビ
ニルシリルパーオキサイド、ビス(t−ブチル)ジビニ
ルシリルパーオキサイド、トリス(t−ブチル)ビニル
シリルパーオキサイド、t−ブチルトリアリルシリルパ
ーオキサイド、ビス(t−ブチル)ジアリルシリルパー
オキサイド、トリス(t−ブチル)アリルシリルパーオ
キサイド等が挙げられる。
Examples of the silyl peroxide include t-butyltrimethylsilyl peroxide, bis (t-butyl) dimethylsilyl peroxide, t-butyltrivinylsilyl peroxide, bis (t-butyl) divinylsilyl peroxide, tris (t -Butyl) vinylsilyl peroxide, t-butyltriallylsilyl peroxide, bis (t-butyl) diallylsilyl peroxide, tris (t-butyl) allylsilyl peroxide and the like.

【0017】これらの加熱により遊離ラジカルを発生す
る硬化剤は、単独又は混合して使用することができ、分
解促進剤、抑制剤等を混合して用いてもよい。また、こ
れらの硬化剤をポリウレタン系、ポリエステル系の高分
子物質等で被覆してマイクロカプセル化したものは、可
使時間が延長されるために好ましい。
These curing agents which generate free radicals by heating can be used alone or in combination, and may be used in combination with a decomposition accelerator, an inhibitor and the like. A microcapsule obtained by coating these curing agents with a polyurethane-based or polyester-based polymer substance or the like is preferable because the pot life is extended.

【0018】本発明で使用する(2)ラジカル重合性物
質としては、ラジカルにより重合する官能基を有する物
質であり、アクリレート、メタクリレート、マレイミド
化合物等が挙げられる。ラジカル重合性物質はモノマ
ー、オリゴマーいずれの状態で用いることが可能であ
り、モノマーとオリゴマーを併用することも可能であ
る。アクリレート(メタクリレート)の具体例として
は、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプ
ロピルアクリレート、イソブチルアクリレート、エチレ
ングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジ
アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、2−
ヒドロキシ−1,3−ジアクリロキシプロパン、2,2−ビ
ス[4−(アクリロキシメトキシ)フェニル]プロパ
ン、2,2−ビス[4−(アクリロキシポリエトキシ)フ
ェニル]プロパン、ジシクロペンチニルアクリレート、
トリシクロデカニルアクリレート、トリス(アクリロイ
ロキシエチル)イソシアヌレート、ウレタンアクリレー
ト、これらのアクリレートに対応するメタクリレート等
が挙げられる。これらは単独又は併用して用いることが
でき、必要によってはハドロキノン、メチルエーテルハ
イドロキノン類などの重合禁止剤を適宜用いてもよい。
また、ジシクロペンチニル基及び/又はトリシクロデカ
ニル基および/またはトリアジン環を有する場合は、耐
熱性が向上するので好ましい。
The radically polymerizable substance (2) used in the present invention is a substance having a functional group capable of polymerizing by radicals, such as acrylate, methacrylate, and maleimide compounds. The radical polymerizable substance can be used in any state of a monomer and an oligomer, and the monomer and the oligomer can be used in combination. Specific examples of acrylates (methacrylates) include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, isobutyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylol methane tetraacrylate, and 2-
Hydroxy-1,3-diacryloxypropane, 2,2-bis [4- (acryloxymethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloxypolyethoxy) phenyl] propane, dicyclopentynyl Acrylate,
Examples include tricyclodecanyl acrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, urethane acrylate, and methacrylate corresponding to these acrylates. These can be used alone or in combination. If necessary, a polymerization inhibitor such as hadroquinone or methyl ether hydroquinone may be used as appropriate.
Further, it is preferable to have a dicyclopentynyl group and / or a tricyclodecanyl group and / or a triazine ring because heat resistance is improved.

【0019】マレイミド化合物としては、分子中にマレ
イミド基を少なくとも2個以上含有するもので、例え
ば、1−メチル−2,4−ビスマレイミドベンゼン、N,
N’−m−フェニレンビスマレイミド、N,N’−p−フェ
ニレンビスマレイミド、N,N’−m−トルイレンビスマ
レイミド、N,N’−4,4−ビフェニレンビスマレイミ
ド、N,N’−4,4−(3,3’−ジメチル−ビフェニレ
ン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3’−ジメチ
ルジフェニルメタン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−
(3,3’−ジエチルジフェニルメタン)ビスマレイミ
ド、N,N’−4,4−ジフェニルメタンビスマレイミド、
N,N’−4,4−ジフェニルプロパンビスマレイミド、
N,N’−3,3’−ジフェニルスルホンビスマレイミド、
N,N’−4,4−ジフェニルエーテルビスマレイミド、
2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(3−s−ブチル−4,8−(4
−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン、1,1−
ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)デカ
ン、4,4’−シクロへキシリデン−ビス(1−(4−マレ
イミドフェノキシ)−2−シクロへキシルベンゼン、2,
2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)
へキサフルオロプロパン等が挙げられる。これらは単独
でもまた組み合わせても使用できる。
The maleimide compound is a compound containing at least two maleimide groups in the molecule, for example, 1-methyl-2,4-bismaleimidebenzene, N,
N'-m-phenylenebismaleimide, N, N'-p-phenylenebismaleimide, N, N'-m-toluylenebismaleimide, N, N'-4,4-biphenylenebismaleimide, N, N'- 4,4- (3,3'-dimethyl-biphenylene) bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3'-dimethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N'-4,4-
(3,3′-diethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N′-4,4-diphenylmethanebismaleimide,
N, N'-4,4-diphenylpropanebismaleimide,
N, N′-3,3′-diphenylsulfonebismaleimide,
N, N'-4,4-diphenylether bismaleimide,
2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (3-s-butyl-4,8- (4
-Maleimidophenoxy) phenyl) propane, 1,1-
Bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) decane, 4,4′-cyclohexylidene-bis (1- (4-maleimidophenoxy) -2-cyclohexylbenzene, 2,
2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl)
Hexafluoropropane and the like. These can be used alone or in combination.

【0020】本発明の接着剤組成物には、アクリル酸、
アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルまたはアク
リロニトリルのうち少なくとも一つをモノマー成分とし
た重合体又は共重合体を使用することができ、グリシジ
ルエーテル基を含有するグリシジルアクリレートやグリ
シジルメタクリレートを含む共重合体系アクリルゴムを
併用した場合、応力緩和に優れるので好ましい。これら
アクリルゴムの分子量(重量平均)は接着剤の凝集力を
高める点から20万以上が好ましい。
The adhesive composition of the present invention contains acrylic acid,
A copolymer or a copolymer containing at least one of acrylic acid ester, methacrylic acid ester and acrylonitrile as a monomer component can be used, and a copolymer acrylic rubber containing glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate containing a glycidyl ether group can be used. The use of a combination of these is preferred because of excellent stress relaxation. The molecular weight (weight average) of these acrylic rubbers is preferably 200,000 or more from the viewpoint of increasing the cohesive strength of the adhesive.

【0021】本発明の接着剤組成物には、さらに、充填
剤、軟化剤、促進剤、老化防止剤、難燃化剤、色素、チ
キソトロピック剤、カップリング剤及びフェノール樹脂
やメラミン樹脂、イソシアネート類等を含有することも
できる。充填剤を含有した場合、接続信頼性等の向上が
得られるので好ましい。充填剤の最大径が導電粒子の粒
径未満であれば使用でき、5〜60体積部(接着剤樹脂
成分100体積部に対して)の範囲が好ましい。60体
積部を超えると信頼性向上の効果が飽和することがあ
り、5体積部未満では添加の効果が少ない。
The adhesive composition of the present invention further comprises a filler, a softener, an accelerator, an antioxidant, a flame retardant, a pigment, a thixotropic agent, a coupling agent, a phenol resin, a melamine resin, and an isocyanate. And the like. When a filler is contained, it is preferable because an improvement in connection reliability and the like can be obtained. It can be used as long as the maximum diameter of the filler is smaller than the particle diameter of the conductive particles, and a range of 5 to 60 parts by volume (based on 100 parts by volume of the adhesive resin component) is preferable. If it exceeds 60 parts by volume, the effect of improving reliability may be saturated, and if it is less than 5 parts by volume, the effect of addition is small.

【0022】カップリング剤としてはケチミン、ビニル
基、アクリル基、アミノ基、エポキシ基及びイソシアネ
ート基含有物が、接着性の向上の点から好ましい。具体
的には、アミノ基を有するシランカップリング剤とし
て、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
エトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン等が挙げられる。ケチミンを有するシ
ランカップリング剤として、上記のアミノ基を有するシ
ランカップリング剤に、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン化合物を反応さ
せて得られたものが挙げられる。
As the coupling agent, ketimine, a vinyl group, an acryl group, an amino group, an epoxy group and an isocyanate group-containing material are preferred from the viewpoint of improving the adhesiveness. Specifically, as a silane coupling agent having an amino group, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane Ethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane and the like can be mentioned. Examples of the silane coupling agent having a ketimine include those obtained by reacting a silane coupling agent having an amino group with a ketone compound such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone.

【0023】本発明の接着剤組成物は導電粒子が無くて
も、接続時に相対向する回路電極の直接接触により接続
が得られるが、導電粒子を含有した場合、より安定した
接続が得られる。導電粒子としては、Au、Ag、N
i、Cu、はんだ等の金属粒子やカーボン等があり、十
分なポットライフを得るためには、表層はNi、Cu等
の遷移金属類ではなくAu、Ag、白金属の貴金属類が
好ましくAuがより好ましい。また、Ni等の遷移金属
類の表面をAu等の貴金属類で被覆したものでもよい。
また、非導電性のガラス、セラミック、プラスチック等
に前記した導通層を被覆等により形成し最外層を貴金属
類としたものでもよい。プラスチックに導通層を被覆等
により形成した場合や熱溶融金属粒子の揚合、加熱加圧
により変形性を有するので接続時に電極との接触面積が
増加し、回路部材の回路端子の厚みばらつきを吸収し信
頼性が向上するので好ましい。貴金属類の被覆層の厚み
は良好な抵抗を得るためには、100オングストローム
以上が好ましい。しかし、Ni等の遷移金属の上に貴金
属類の層をもうける場合では、貴金属類層の欠損や導電
粒子の混合分散時に生じる貴金属類層の欠損等により生
じる酸化還元作用で遊離ラジカルが発生し保存性低下を
引き起こすため、300オングストローム以上が好まし
い。そして、厚くなるとそれらの効果が飽和してくるの
で最大1μmにするのが望ましいが制限するものではな
い。導電粒子は、接着剤樹脂成分100体積部に対して
0.1〜30体積部の範囲で用途により使い分ける。過
剰な導電粒子による隣接回路の短絡等を防止するために
は0.1〜10体積部とするのがより好ましい。
The adhesive composition of the present invention can be connected by direct contact of opposing circuit electrodes at the time of connection even without conductive particles. When the adhesive composition contains conductive particles, a more stable connection can be obtained. Au, Ag, N as conductive particles
There are metal particles such as i, Cu, solder, and carbon, and the like. In order to obtain a sufficient pot life, the surface layer is preferably made of noble metals such as Au, Ag, and white metal instead of transition metals such as Ni and Cu. More preferred. Further, the surface of a transition metal such as Ni may be coated with a noble metal such as Au.
Further, the conductive layer described above may be formed on a nonconductive glass, ceramic, plastic, or the like by coating or the like, and the outermost layer may be made of a noble metal. When a conductive layer is formed on a plastic by coating, etc., or when it is deformed by fusing and heating and pressing of hot-melt metal particles, the contact area with the electrode increases during connection, and the thickness variation of the circuit terminal of the circuit member is absorbed. This is preferable because the reliability is improved. The thickness of the noble metal coating layer is preferably 100 Å or more in order to obtain good resistance. However, when a layer of a noble metal is formed on a transition metal such as Ni, free radicals are generated due to oxidation-reduction action caused by a defect of the noble metal layer or a defect of the noble metal layer generated during mixing and dispersion of conductive particles, and the storage is performed. The thickness is preferably 300 Å or more in order to cause deterioration in the property. When the thickness increases, their effects become saturated. Therefore, it is preferable to set the thickness to 1 μm at the maximum, but there is no limitation. The conductive particles are properly used in a range of 0.1 to 30 parts by volume based on 100 parts by volume of the adhesive resin component. In order to prevent a short circuit or the like in an adjacent circuit due to excessive conductive particles, the content is more preferably 0.1 to 10 parts by volume.

【0024】本発明の接着剤組成物は、COG実装やC
OF実装における、フレキシブルテープやガラス基板と
ICチップとの接着用のフィルム状接着剤として使用す
ることもできる。すなわち、第一の接続端子を有する第
一の回路部材と、第二の接続端子を有する第二の回路部
材とを第一の接続端子と第二の接続端子を対向して配置
し、前記対向配置した第一の接続端子と第二の接続端子
の間に本発明の接着剤組成物(フィルム状接着剤)を介
在させ、加熱加圧して前記対向配置した第一の接続端子
と第二の接続端子を電気的に接続させることができる。
これらの回路部材には接続端子が通常は多数(場合によ
っては単数でもよい)設けられており、前記回路部材の
少なくとも1組をそれらの回路部材に設けられた接続端
子の少なくとも一部を対向配置し、対向配置した接続端
子間に本発明の接着剤を介在させ、加熱加圧することで
対向配置した接続端子同士を電気的に接続して回路板と
する。回路部材の少なくとも1組を加熱加圧することに
より、対向配置した接続端子同士は、直接接触により又
は接着剤組成物中の導電粒子を介して電気的に接続する
ことができる。
The adhesive composition of the present invention can be used for COG mounting or C
It can also be used as a film adhesive for bonding a flexible tape or a glass substrate to an IC chip in OF mounting. That is, a first circuit member having a first connection terminal and a second circuit member having a second connection terminal are arranged such that the first connection terminal and the second connection terminal are opposed to each other. The adhesive composition (film-like adhesive) of the present invention is interposed between the arranged first connection terminal and the second connection terminal, and heated and pressurized, and the first connection terminal and the second connection terminal arranged opposite to each other are heated and pressed. The connection terminals can be electrically connected.
These circuit members are usually provided with a large number of connection terminals (in some cases, a single terminal may be provided), and at least one set of the circuit members may be provided with at least a part of the connection terminals provided on the circuit members facing each other. Then, the adhesive of the present invention is interposed between the opposed connection terminals, and the connection terminals opposed to each other are electrically connected to each other by heating and pressing to form a circuit board. By heating and pressurizing at least one set of circuit members, the connection terminals arranged opposite to each other can be electrically connected to each other by direct contact or via conductive particles in the adhesive composition.

【0025】本発明の回路端子の接続方法は、本発明の
接着剤組成物を、接続端子の表面が、金、銀、錫、白金
族の金属、インジュウム−錫酸化物(ITO)から選ば
れる少なくとも一種から構成される接続端子(電極回
路)に形成した後、もう一方の接続端子(回路電極)を
位置合わせし加熱加圧して接続することができる。この
とき、一方の回路部材側から光を照射してもよい。本発
明においては、フレキシブルテープがポリイミド樹脂等
の有機絶縁物質、ガラス基板の表面が窒化シリコン、シ
リコーン化合物、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂から
選ばれる少なくとも一種でコーティングもしくは付着し
た回路部材に対して特に良好な接着強度が得られる電気
・電子用の接着剤組成物、それを用いた回路端子の接続
方法及び回路端子の接続構造の提供が可能となる。
In the method for connecting circuit terminals of the present invention, the adhesive composition of the present invention is used, and the surfaces of the connection terminals are selected from gold, silver, tin, platinum group metals, and indium-tin oxide (ITO). After forming at least one type of connection terminal (electrode circuit), the other connection terminal (circuit electrode) can be positioned, heated and pressed, and connected. At this time, light may be emitted from one of the circuit members. In the present invention, the flexible tape is an organic insulating material such as a polyimide resin, the surface of a glass substrate is particularly good for a circuit member coated or adhered with at least one selected from silicon nitride, a silicone compound, a polyimide resin, and a silicone resin. It is possible to provide an electric / electronic adhesive composition capable of obtaining an adhesive strength, a circuit terminal connection method using the same, and a circuit terminal connection structure.

【0026】[0026]

【実施例】(実施例1)ビスフェノールA型エポキシ樹
脂とビスフェノールAからガラス転移温度が80℃のフ
ェノキシ樹脂を合成した。この樹脂50gを、重量比で
トルエン(沸点110.6℃)/酢酸エチル(沸点77.
1℃)=50/50の混合溶剤に溶解して、固形分40
重量%の溶液とした。フィルム形成材としてフェノキシ
樹脂(固形重量比)で 60g、ラジカル重合性物質と
してジシクロペンテニルジアルコールジアクリレート
39g、リン酸エステル型アクリレート(P2M;共栄
社油脂株式会社製商品名) 1g、加熱により遊離ラジ
カルを発生する硬化剤としてt−へキシルパーオキシ−2
−エチルへキサノネート 5gとなるように配合し、導
電粒子(ポリスチレンを核とする粒子の表面に厚み0.
2μmのニッケル層、その外側に厚み0.04μmの金
層を設けた平均粒径5μm粒子にPVA溶液により数〜
数百Åの厚さに被覆)を5体積%配合分散させ、厚み8
0μmの片面を表面処理したPET(ポリエチレンテレ
フタレート)フィルムに塗工装置を用いて塗布し、70
℃、10分の熱風乾燥により、接着剤層の厚みが10μ
mのフィルム状接着剤組成物を得た。また、固形重量比
でフェノキシ樹脂 60g、ジシクロペンテニルジアル
コールジアクリレート 39g、リン酸エステル型アク
リレート 1g、t−へキシルパーオキシ−2−エチルヘ
キサノネート 5gとなるように配合し、厚み80μm
の片面を表面処理したPET(ポリエチレンテレフタレ
ート)フィルムに塗工装置を用いて塗布し、70℃、1
0分の熱風乾燥により、接着剤層の厚みが10μmのフ
ィルム状接着剤組成物を得た。これらの接着剤組成物を
ラミネーターを用い貼り合わせ、二層構成のフィルム状
接着剤組成物を得た。
EXAMPLES (Example 1) A phenoxy resin having a glass transition temperature of 80 ° C was synthesized from bisphenol A type epoxy resin and bisphenol A. 50 g of this resin was mixed with toluene (boiling point 110.6 ° C.) / Ethyl acetate (boiling point 77.
1 ° C.) = 50/50 mixed solvent to give a solid content of 40
% Solution. 60 g of phenoxy resin (solid weight ratio) as a film-forming material and dicyclopentenyl dialcohol diacrylate as a radical polymerizable substance
39 g, phosphoric acid ester type acrylate (P2M; trade name, manufactured by Kyoeisha Yushi Co., Ltd.) 1 g, t-hexylperoxy-2 as a curing agent that generates free radicals when heated
-Ethylhexanonate was added in an amount of 5 g.
A 2 μm nickel layer and a 0.04 μm thick gold layer provided on the outside of the nickel layer have an average particle size of 5 μm,
5% by volume) and dispersed to a thickness of
A 0 μm single-sided surface-treated PET (polyethylene terephthalate) film was applied using a coating device,
The thickness of the adhesive layer is 10μ
m was obtained. A phenoxy resin 60 g, a dicyclopentenyl dialcohol diacrylate 39 g, a phosphoric acid ester type acrylate 1 g, and a t-hexylperoxy-2-ethylhexanonate 5 g were blended in a solid weight ratio, and the thickness was 80 μm.
Is coated on a PET (polyethylene terephthalate) film having one surface treated with
By hot-air drying for 0 minutes, a film-like adhesive composition having an adhesive layer thickness of 10 μm was obtained. These adhesive compositions were bonded together using a laminator to obtain a two-layered film adhesive composition.

【0027】(実施例2)固形重量比でフェノキシ樹脂
50g、ジシクロペンチニルジアルコールジアクリレ
ート 49gとなるように配合したほかは実施例1と同
様にして二層構成のフィルム状接着剤組成物を得た。
Example 2 A two-layered film adhesive composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the phenoxy resin and the dicyclopentynyl dialcohol diacrylate were mixed in a solid weight ratio of 50 g and 49 g, respectively. I got

【0028】(比較例1)固形重量比でフェノキシ樹脂
40g、ジシクロペンテニルジアルコールジアクリレ
ート 59gとしたほかは実施例1と同様にして二層構
成のフィルム状接着剤組成物を得た。
Comparative Example 1 A two-layer film adhesive composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that the phenoxy resin was 40 g and the dicyclopentenyl dialcohol diacrylate was 59 g in terms of solid weight ratio.

【0029】(回路の接続)バンプ面積50μm×50
μm、ピッチ100μm、高さ20μmの金バンプを配
置したICチップと厚み1.1mmのガラス上にインジ
ュウム−錫酸化物(ITO)を蒸着により形成したIT
O基板(表面抵抗、<20Ω/□)とを、上記接着剤組
成物を用い、石英ガラスと加圧ヘッドで挟み、200
℃、100MPa(バンプ面積換算)で10秒間加熱加圧
して接続した。このとき、フィルム状接着剤組成物はあ
らかじめITO基板上に、接着剤組成物の接着面を70
℃、0.5MPa(バンプ面積換算)で5秒間加熱加圧し
て貼り付け、その後、PETフィルムを剥離してICチ
ップと接続した。 (流動性の測定)厚み0.7mm、15mm×15mm
のガラスを用いて、厚み35μm、5mm×5mmの回
路接続用樹脂組成物からなる回路用接続材料をこのガラ
スに挟み、200℃、2MPa、10秒で加熱加圧を行
い、初期の面積(A)と加熱加圧後の面積(B)から
(B)/(A)の値を求めた。 (バンプ上捕捉粒子数の測定)回路の接続後、ガラス側
からバンプを金属顕微鏡(倍率200倍)で観察し、バ
ンプ上の導電粒子数をカウントし平均値を求めた。 (接続抵抗の測定)回路の接続後接続部の電気抵抗値
を、初期と、−40℃/30分と100℃/30分の温
度サイクル槽中に500サイクル保持した後に2端子測
定法を用いマルチメータで測定した。それらの測定結果
を表1に示した。
(Circuit connection) Bump area 50 μm × 50
An IC chip on which gold bumps having a pitch of 100 μm and a height of 20 μm are arranged, and an indium tin oxide (ITO) formed on a 1.1 mm thick glass by vapor deposition.
An O substrate (surface resistance, <20Ω / □) was sandwiched between quartz glass and a pressure head using the above-mentioned adhesive composition.
The connection was performed by heating and pressing at 100 ° C. and 100 MPa (bump area conversion) for 10 seconds. At this time, the film-shaped adhesive composition was previously coated on the ITO substrate with an adhesive surface of 70%.
The film was bonded by heating and pressing at 0.5 ° C. and a pressure of 0.5 MPa (in terms of bump area) for 5 seconds, and then the PET film was peeled off and connected to an IC chip. (Measurement of fluidity) Thickness 0.7 mm, 15 mm x 15 mm
A circuit connecting material made of a resin composition for circuit connecting having a thickness of 35 μm and 5 mm × 5 mm was sandwiched between the glasses, and heated and pressed at 200 ° C., 2 MPa, and 10 seconds to obtain an initial area (A ) And the area (B) after heating and pressing, the value of (B) / (A) was determined. (Measurement of Number of Trapped Particles on Bump) After connection of the circuit, the bumps were observed from the glass side with a metallographic microscope (magnification: 200 times), and the number of conductive particles on the bumps was counted to obtain an average value. (Measurement of connection resistance) After the circuit was connected, the electric resistance value of the connection portion was initially kept at 500 cycles in a temperature cycle bath of −40 ° C./30 minutes and 100 ° C./30 minutes, and then a two-terminal measurement method was used. It was measured with a multimeter. Table 1 shows the measurement results.

【0030】[0030]

【表1】 [Table 1]

【0031】フィルム形成材として用いたフェノキシ樹
脂の配合量が少なく、ラジカル重合性物質の配合量が多
くなると流動性が増加してくる。流動性が増加するとバ
ンプ上の導電粒子数が減少してくる。粒子数が減少する
と温度サイクル試験後の接続信頼性を評価する接続抵抗
の大幅な増加が見られ、20Ω以上にもなる。本発明の
接合材料の流動性が1.3〜2.0の範囲では、初期と
信頼性試験後の接続抵抗が両者で低く良好な結果を示
す。一方、比較例1の流動性が2.7では、初期値の接
続抵抗は低く良好であるが、信頼性試験後の接続抵抗は
著しく大きくなり回路部材の接合材料には適しない。ま
た、種々実験した結果、導電粒子を含有する接着層の厚
みが、導電粒子の粒径の3倍未満であると、バンプ上に
捕捉される導電粒子の数が多くなり接続抵抗が低い状態
を維持することができた。さらに、流動性が1.3未満
では、流動性が悪く気泡の巻き込みを生じ良好な接続が
得られなかった。導電粒子が有機高分子で覆われている
場合、流動性に大きな影響はないが、隣接接続端子間のシ
ョートの発生がなく絶縁不良が解消される。また、導電
粒子の充填量を増やし、確実な接続を確保することがで
きた。
When the amount of the phenoxy resin used as the film forming material is small and the amount of the radical polymerizable substance is large, the fluidity increases. As the fluidity increases, the number of conductive particles on the bump decreases. When the number of particles decreases, the connection resistance for evaluating the connection reliability after the temperature cycle test greatly increases, and reaches as high as 20Ω or more. When the fluidity of the bonding material of the present invention is in the range of 1.3 to 2.0, both the initial and the connection resistance after the reliability test are low, and good results are shown. On the other hand, when the fluidity of Comparative Example 1 is 2.7, the initial value of the connection resistance is low and good, but the connection resistance after the reliability test is extremely large, which is not suitable as a bonding material for circuit members. In addition, as a result of various experiments, if the thickness of the adhesive layer containing the conductive particles is less than three times the particle size of the conductive particles, the number of the conductive particles captured on the bumps increases and the connection resistance decreases. Could be maintained. Further, when the fluidity is less than 1.3, the fluidity is poor and bubbles are involved, so that a good connection cannot be obtained. When the conductive particles are covered with the organic polymer, there is no significant effect on the fluidity, but there is no short circuit between adjacent connection terminals and the insulation failure is eliminated. In addition, the filling amount of the conductive particles was increased, and a reliable connection could be secured.

【0032】[0032]

【発明の効果】本発明によれば、COG実装やCOF実
装において、バンプ面積の小さい駆動用ICであっても
低抵抗の電気接続が得られる、電気・電子用の接着剤組
成物、それを用いた回路端子の接続方法及び回路端子の
接続構造の提供が可能となる。
According to the present invention, there is provided an adhesive composition for electric / electronic use which can provide a low-resistance electric connection even in a driving IC having a small bump area in COG mounting or COF mounting. It is possible to provide the connection method of the used circuit terminals and the connection structure of the circuit terminals.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 23/29 H01R 4/04 5F044 23/31 H05K 3/32 B H01R 4/04 H01L 23/30 R H05K 3/32 (72)発明者 廣澤 幸寿 茨城県下館市大字五所宮1150番地 日立化 成工業株式会社五所宮事業所内 (72)発明者 藤井 正規 茨城県下館市大字五所宮1150番地 日立化 成工業株式会社五所宮事業所内 Fターム(参考) 4J004 AA01 AA06 AA08 AA11 AA12 AA13 AA14 AA15 AA16 AA17 AA18 AB05 BA02 CE01 FA05 4J040 DB031 DB032 DD071 DD072 EB081 EB082 ED001 ED002 EE061 EE062 EF001 EF002 EG001 EG002 FA131 FA191 FA291 HA026 HA066 HA346 HA366 HB41 HC14 JA09 JB10 KA02 KA03 KA07 KA16 KA32 LA09 LA11 MA01 MA02 MA10 NA20 PA32 PA33 4M109 AA02 BA05 BA07 CA22 EA20 EB02 EB18 EC07 5E085 CC01 DD05 EE34 JJ50 5E319 AA03 AA08 AB05 AC04 AC17 BB16 CC12 CD25 5F044 KK03 KK06 LL07 LL11 RR17 RR18 RR19 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 23/29 H01R 4/04 5F0423 23/31 H05K 3/32 B H01R 4/04 H01L 23/30 R H05K 3/32 (72) Inventor Yukihisa Hirosawa 1150 Goshomiya, Shimodate, Ibaraki Pref.Hitachi Kasei Kogyo Co., Ltd. (72) Inventor Tadashi Fujii 1150 Goshomiya, Shimodate, Ibaraki Pref. F-term in the Goshonomiya Office of the Company (reference) JA09 JB10 KA02 KA03 KA07 KA16 KA32 LA09 LA11 MA01 MA02 MA10 NA20 PA32 PA33 4M109 AA02 BA05 BA07 CA22 EA20 EB 02 EB18 EC07 5E085 CC01 DD05 EE34 JJ50 5E319 AA03 AA08 AB05 AC04 AC17 BB16 CC12 CD25 5F044 KK03 KK06 LL07 LL11 RR17 RR18 RR19

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 相対向する回路電極間に介在され、相対
向する回路電極を加圧し、加圧方向の電極間を電気的に
接続する接合材料において、少なくとも絶縁性の接着層
と導電粒子を含有する接着層からなる接合材料で各接着
層は、(1)加熱により遊離ラジカルを発生する硬化
剤、(2)ラジカル重合性物質、(3)フィルム形成
材、(4)導電粒子のいずれか3以上を必須成分として
含有する接着剤組成物であり、各接着層から構成される
接合材料の加熱加圧前の面積(A)と加熱加圧後の面積
(B)を用いて表される流動性(B)/(A)の値が
1.3〜2.0である接着剤組成物。
1. A bonding material interposed between opposing circuit electrodes, pressurizing the opposing circuit electrodes, and electrically connecting the electrodes in the pressing direction with at least an insulating adhesive layer and conductive particles. Each bonding layer is a bonding material comprising a bonding layer, and each bonding layer is any one of (1) a curing agent that generates free radicals upon heating, (2) a radical polymerizable substance, (3) a film forming material, and (4) a conductive particle. An adhesive composition containing at least 3 as an essential component, and is expressed using an area (A) before heating and pressing and an area (B) after heating and pressing of a bonding material formed of each adhesive layer. An adhesive composition having a fluidity (B) / (A) value of 1.3 to 2.0.
【請求項2】 接合材料が、(1)加熱により遊離ラジ
カルを発生する硬化剤、(2)ラジカル重合性物質、
(3)フィルム形成材を必須成分として含有する絶縁性
の接着層と、(1)加熱により遊離ラジカルを発生する
硬化剤、(2)ラジカル重合性物質、(3)フィルム形
成材、(4)導電粒子を必須成分として含有する導電粒
子を含有する接着層の2層からなる請求項1に記載の接
着剤組成物。
2. A bonding material comprising: (1) a curing agent that generates free radicals upon heating; (2) a radical polymerizable substance;
(3) an insulating adhesive layer containing a film forming material as an essential component, (1) a curing agent that generates free radicals by heating, (2) a radical polymerizable substance, (3) a film forming material, (4) The adhesive composition according to claim 1, comprising two layers of an adhesive layer containing conductive particles containing conductive particles as an essential component.
【請求項3】 導電粒子の表面が、有機高分子化合物で
覆われている請求項1または請求項2に記載の接着剤組
成物。
3. The adhesive composition according to claim 1, wherein the surface of the conductive particles is covered with an organic polymer compound.
【請求項4】 導電粒子を含有する接着層の厚みが、導
電粒子の粒径の3倍未満である請求項1ないし請求項3
のいずれかに記載の接着剤組成物。
4. The method according to claim 1, wherein the thickness of the adhesive layer containing the conductive particles is less than three times the particle diameter of the conductive particles.
The adhesive composition according to any one of the above.
【請求項5】 第一の接続端子を有する第一の回路部材
と、第二の接続端子を有する第二の回路部材とを、第一
の接続端子と第二の接続端子を対向して配置し、前記対
向配置した第一の接続端子と第二の接続端子の間に請求
項1ないし請求項4のいずれかに記載の接着剤組成物を
介在させ、加熱加圧して前記対向配置した第一の接続端
子と第二の接続端子を電気的に接続させる回路端子の接
続方法。
5. A first circuit member having a first connection terminal and a second circuit member having a second connection terminal are arranged with the first connection terminal and the second connection terminal facing each other. The adhesive composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the adhesive composition according to any one of claims 1 to 4 is interposed between the first connection terminal and the second connection terminal disposed opposite to each other, and heated and pressurized to form the second connection terminal. A connection method of a circuit terminal for electrically connecting one connection terminal and a second connection terminal.
【請求項6】 少なくとも一方の接続端子を有する回路
部材がICチップである請求項5に記載の回路端子の接
続方法。
6. The method according to claim 5, wherein the circuit member having at least one connection terminal is an IC chip.
【請求項7】 少なくとも一方の接続端子の表面が金、
銀、錫、白金族の金属、インジュウム−錫酸化物(IT
O)から選ばれる少なくとも一種で構成される請求項5
または請求項6に記載の回路端子の接続方法。
7. The surface of at least one connection terminal is gold,
Silver, tin, platinum group metals, indium-tin oxide (IT
6. A structure comprising at least one selected from O).
Alternatively, the method for connecting circuit terminals according to claim 6.
【請求項8】 少なくとも一方の回路部材表面が窒化シ
リコン、シリコーン化合物、ポリイミド樹脂から選ばれ
る少なくとも一種でコーティングもしくは付着している
請求項5ないし請求項7のいずれかに記載の回路端子の
接続方法。
8. The method according to claim 5, wherein at least one surface of the circuit member is coated or adhered with at least one selected from silicon nitride, a silicone compound, and a polyimide resin. .
【請求項9】 請求項5ないし請求項8のいずれかに記
載の回路端子の接続方法で得られる回路端子の接続構
造。
9. A connection structure for circuit terminals obtained by the method for connecting circuit terminals according to claim 5. Description:
JP2000401497A 2000-12-28 2000-12-28 Adhesive composition, circuit terminal connection method using the same, and circuit terminal connection structure Expired - Fee Related JP4696360B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000401497A JP4696360B2 (en) 2000-12-28 2000-12-28 Adhesive composition, circuit terminal connection method using the same, and circuit terminal connection structure

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000401497A JP4696360B2 (en) 2000-12-28 2000-12-28 Adhesive composition, circuit terminal connection method using the same, and circuit terminal connection structure

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002201438A true JP2002201438A (en) 2002-07-19
JP4696360B2 JP4696360B2 (en) 2011-06-08

Family

ID=18865922

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000401497A Expired - Fee Related JP4696360B2 (en) 2000-12-28 2000-12-28 Adhesive composition, circuit terminal connection method using the same, and circuit terminal connection structure

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4696360B2 (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005200521A (en) * 2004-01-15 2005-07-28 Sony Chem Corp Adhesive film and method of manufacturing adhesive film
JP2005226049A (en) * 2004-02-16 2005-08-25 Hitachi Chem Co Ltd Circuit-joining material, film-formed circuit-joining material by using the same, joining structure of circuit member and method for producing the same
JP2008111091A (en) * 2006-10-06 2008-05-15 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive film and circuit connection material
JP2010016388A (en) * 2009-07-13 2010-01-21 Hitachi Chem Co Ltd Circuit connecting method
JP2010528153A (en) * 2007-05-23 2010-08-19 ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェン Anticorrosive adhesive composition
CN103370388A (en) * 2011-09-21 2013-10-23 迪睿合电子材料有限公司 Circuit connection material, connection method using same, and connection structure
CN103497693A (en) * 2013-09-18 2014-01-08 中国西电集团公司 Adhesive resin composite for preparing F-level multi-gelatine powder mica and preparation method thereof

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63310581A (en) * 1987-06-12 1988-12-19 Canon Inc Film body for electric connection
WO1998044067A1 (en) * 1997-03-31 1998-10-08 Hitachi Chemical Company, Ltd. Circuit connecting material, and structure and method of connecting circuit terminal
JPH11134934A (en) * 1997-10-30 1999-05-21 Shin Etsu Polymer Co Ltd Anisotropic conductive adhesive
JP2000124249A (en) * 1998-10-16 2000-04-28 Seiko Epson Corp Semiconductor device, semiconductor mounting substrate, liq. crystal display and electronic equipment using the device
JP2000178511A (en) * 1997-07-24 2000-06-27 Sony Chem Corp Multi-layer anisotropic conductive adhesive and its preparation

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63310581A (en) * 1987-06-12 1988-12-19 Canon Inc Film body for electric connection
WO1998044067A1 (en) * 1997-03-31 1998-10-08 Hitachi Chemical Company, Ltd. Circuit connecting material, and structure and method of connecting circuit terminal
JP2000178511A (en) * 1997-07-24 2000-06-27 Sony Chem Corp Multi-layer anisotropic conductive adhesive and its preparation
JPH11134934A (en) * 1997-10-30 1999-05-21 Shin Etsu Polymer Co Ltd Anisotropic conductive adhesive
JP2000124249A (en) * 1998-10-16 2000-04-28 Seiko Epson Corp Semiconductor device, semiconductor mounting substrate, liq. crystal display and electronic equipment using the device

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005200521A (en) * 2004-01-15 2005-07-28 Sony Chem Corp Adhesive film and method of manufacturing adhesive film
JP2005226049A (en) * 2004-02-16 2005-08-25 Hitachi Chem Co Ltd Circuit-joining material, film-formed circuit-joining material by using the same, joining structure of circuit member and method for producing the same
JP4655488B2 (en) * 2004-02-16 2011-03-23 日立化成工業株式会社 Circuit connection material, film-like circuit connection material using the same, circuit member connection structure, and manufacturing method thereof
JP2008111091A (en) * 2006-10-06 2008-05-15 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive film and circuit connection material
JP2010528153A (en) * 2007-05-23 2010-08-19 ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェン Anticorrosive adhesive composition
JP2010016388A (en) * 2009-07-13 2010-01-21 Hitachi Chem Co Ltd Circuit connecting method
CN103370388A (en) * 2011-09-21 2013-10-23 迪睿合电子材料有限公司 Circuit connection material, connection method using same, and connection structure
CN103497693A (en) * 2013-09-18 2014-01-08 中国西电集团公司 Adhesive resin composite for preparing F-level multi-gelatine powder mica and preparation method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP4696360B2 (en) 2011-06-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5247968B2 (en) Circuit connection material and circuit member connection structure using the same
JP5067355B2 (en) Circuit connection material and circuit member connection structure
JP5176139B2 (en) Circuit connection material and circuit member connection structure using the same
JP4747396B2 (en) Adhesive composition, circuit terminal connection method using the same, and circuit terminal connection structure
JP4935907B2 (en) Circuit connection material, circuit terminal connection structure
JP4165065B2 (en) Adhesive, method for producing adhesive, and method for producing circuit connection structure using the same
JP4380327B2 (en) Circuit connection material, film-like circuit connection material using the same, circuit member connection structure, and manufacturing method thereof
JP4380328B2 (en) Circuit connection material, film-like circuit connection material using the same, circuit member connection structure, and manufacturing method thereof
JP2003045515A (en) Adhesive for connecting circuits, and circuit connecting method and connection structure using the same
JP4794702B2 (en) Circuit connection material, circuit terminal connection structure, and circuit terminal connection method
JP4696360B2 (en) Adhesive composition, circuit terminal connection method using the same, and circuit terminal connection structure
JP2019065062A (en) Conductive adhesive film
JP4794703B2 (en) Circuit connection material, circuit terminal connection structure, and circuit terminal connection method
JP2003257247A (en) Anisotropy conductive adhesive composite for circuit connection, connection method using the same, and connection structure
JP4794704B2 (en) Circuit connection material, circuit terminal connection structure, and circuit terminal connection method
JP4604577B2 (en) Adhesive composition, film-like adhesive and circuit connecting material using the same, circuit member connecting structure, and manufacturing method thereof
JP2002201456A (en) Adhesive composition, connecting method of circuit terminal using the same, and connected structure of circuit terminal
JP4386145B2 (en) Circuit connection material, film-like circuit connection material using the same, circuit member connection structure, and manufacturing method thereof
JP2002201440A (en) Anisotropic conductive resin-film-forming composition, connection method of circuit boards using the same, and connection structure
JP4386148B2 (en) Circuit connection material, film-like circuit connection material using the same, circuit member connection structure, and manufacturing method thereof
JP4386146B2 (en) Film-like circuit connection material, circuit member connection structure and manufacturing method thereof
JP2004217781A (en) Anisotropically conductive adhesive composition for circuit connection, method for connecting circuit terminals by using the same, and connected structure of circuit terminals
JP2002226808A (en) Adhesive for connecting circuit
JP2009289729A (en) Anisotropic conductive film
JP5387592B2 (en) Circuit connection material and method of manufacturing circuit member connection structure

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071128

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20071213

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100413

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100420

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100617

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110201

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110214

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140311

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees