JP2002181879A - Estimation test apparatus for semiconductor device - Google Patents

Estimation test apparatus for semiconductor device

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JP2002181879A
JP2002181879A JP2000384367A JP2000384367A JP2002181879A JP 2002181879 A JP2002181879 A JP 2002181879A JP 2000384367 A JP2000384367 A JP 2000384367A JP 2000384367 A JP2000384367 A JP 2000384367A JP 2002181879 A JP2002181879 A JP 2002181879A
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JP
Japan
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semiconductor device
section
weight
constant
humidity
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Application number
JP2000384367A
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Japanese (ja)
Inventor
Hirobumi Yamazaki
博文 山▲崎▼
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an estimation test apparatus for a semiconductor device capable of executing an accurate estimation test in a short time by automating a series of processes from a baking process for the device to weight measurement. SOLUTION: This test apparatus has a constant temperature/constant humidity processing part 1 executing a hygroscopic process for the semiconductor device; a weight measurement part 2 measuring weight of the semiconductor device; a carrying and processing part 3 disposed between them, carrying the moisture-absorbed semiconductor device in the constant temperature/constant humidity processing part 1 to the weight measurement part 2, and carrying the weight-measured semiconductor device in the weight measurement part 2 to the constant temperature/constant humidity processing part 1; and a control unit 4 executing the control and finding hygroscopic data from the weight- measured semiconductor device.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体デバイスの
耐久性試験を行う評価試験装置に関する。特に、はんだ
耐熱性試験の前処理時に実施するベーキングおよび恒温
恒湿処理を行う評価試験装置に関する。
The present invention relates to an evaluation test apparatus for performing a durability test of a semiconductor device. In particular, the present invention relates to an evaluation test apparatus for performing baking and constant temperature / humidity treatment performed during pretreatment of a solder heat resistance test.

【0002】[0002]

【従来の技術】面実装型のプラスチックデバイスにおい
て最も問題となるのは、リフロー時の急激な熱ストレス
によるクラックおよび剥離である。このクラックおよび
剥離はデバイスそのものの水分の吸湿量がかなり影響す
る。すなわち、デバイス内に入り込んだ水分が実装(リ
フロー)時の熱ストレスにより気化、膨張することによ
ってクラックおよび剥離が発生する。これらの発生率は
吸湿量によって異なり、吸湿量はデバイスの形状、吸湿
条件(温度、湿度、時間)に影響され、飽和吸湿量は相
対湿度に、また、水分の拡散速度は温度に依存する。そ
こで、市場でのトラブルを防ぐために事前に耐熱性試験
を行うのが通常である。耐熱性試験では、あらかじめ決
められた吸湿条件下でデバイスを吸湿させ、且つリフロ
ーして評価を行っている。
2. Description of the Related Art The most problematic in a surface mount type plastic device is cracking and peeling due to rapid thermal stress during reflow. The cracking and peeling are considerably affected by the amount of moisture absorbed by the device itself. That is, the moisture that has entered the device evaporates and expands due to thermal stress during mounting (reflow), thereby causing cracks and peeling. The rate of occurrence varies depending on the amount of moisture absorption. The amount of moisture absorption is affected by the shape of the device and the conditions of moisture absorption (temperature, humidity, time), the amount of saturated moisture absorption depends on relative humidity, and the diffusion rate of moisture depends on temperature. Therefore, a heat resistance test is usually performed in advance in order to prevent troubles in the market. In the heat resistance test, the device is subjected to moisture absorption under predetermined moisture absorption conditions, and is evaluated by reflow.

【0003】上記評価をおこなう上では、吸湿率が重要
な評価パラメータとなる。そこで、従来、この吸湿率を
測定するのに、以下の方法を採用していた。
In performing the above evaluation, the moisture absorption rate is an important evaluation parameter. Therefore, conventionally, the following method has been employed to measure the moisture absorption rate.

【0004】(a)オーブンでデバイス中の水分を排出
し、次に、別の装置である恒温恒湿装置で一定時間吸湿
させてから取り出す。
[0004] (a) The moisture in the device is discharged by an oven, and then the moisture is absorbed for a certain period of time by another constant temperature and humidity device, which is then taken out.

【0005】(b)その後、別に設けられている重量測
定器(電子天秤)にてデバイスの重量測定を行い、再
度、恒温恒湿装置に投入する。
(B) Thereafter, the weight of the device is measured by a separately provided weight measuring device (electronic balance), and the device is again put into a constant temperature and humidity apparatus.

【0006】(c)上記の処理を10〜20回繰り返し
て行い、その対象となるデバイスの吸湿プロファイルを
導出する。
(C) The above process is repeated 10 to 20 times to derive the moisture absorption profile of the target device.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
装置は、全て手作業により行われていたために、評価を
行うのに長時間を要し、また、正確な評価結果を得るこ
とができない不都合がある。
However, since the above-described devices are all manually operated, it takes a long time to perform an evaluation, and it is not possible to obtain an accurate evaluation result. is there.

【0008】そこで本発明は、デバイスのベーキング処
理から重量測定までの一連の処理を自動化し、短時間で
且つ正確な評価試験を行うことのできる半導体デバイス
の評価試験装置を提供することを目的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a semiconductor device evaluation test apparatus which can automate a series of processes from a baking process to a weight measurement of a device and can perform an accurate evaluation test in a short time. I do.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決するために次のように構成したものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is configured as follows to solve the above-mentioned problems.

【0010】(1)半導体デバイスの吸湿処理を行う恒
温恒湿処理部と、半導体デバイスの重量を測定する重量
測定部と、恒温恒湿処理部で吸湿した半導体デバイスを
重量測定部へ搬送し、重量測定部で重量測定した半導体
デバイスを恒温恒湿処理部へ搬送する搬送処理部と、重
量測定した半導体デバイスの重量から吸湿データを求め
るとともに、これらの恒温恒湿吸湿処理部、重量測定
部、搬送処理部の制御を行う制御部と、を備えてなる。
(1) A constant-temperature and constant-humidity processing unit for performing a moisture absorption process on a semiconductor device, a weight measuring unit for measuring the weight of the semiconductor device, and a semiconductor device absorbed by the constant-temperature and constant-humidity processing unit are transported to the weight measurement unit. A transport processing unit that transports the semiconductor device weighed by the weight measurement unit to the constant temperature and humidity processing unit, and obtains moisture absorption data from the weight of the weighed semiconductor device, and also obtains the constant temperature and constant moisture absorption processing unit, the weight measurement unit, And a control unit for controlling the transport processing unit.

【0011】本発明の評価試験装置では、恒温恒湿処理
部と重量測定部との間を搬送処理部によって半導体デバ
イスを自動的に搬送する。また、これらの制御を制御部
によってあらかじめ決められたスケジュールに従って自
動的に行う。
In the evaluation test apparatus of the present invention, the semiconductor device is automatically transported between the constant temperature and humidity processing section and the weight measuring section by the transport processing section. These controls are automatically performed according to a schedule predetermined by the control unit.

【0012】このような自動化により、評価試験に係る
作業者の負担を大幅に軽減できるとともに、データの読
み違いや記入漏れ、記入ミス等が発生しないため評価試
験の結果を正確なものにすることができる。
[0012] By such automation, the burden on the operator involved in the evaluation test can be greatly reduced, and the result of the evaluation test can be made accurate because no misreading of data, omission of entry, or entry error does not occur. Can be.

【0013】(2)前記恒温恒湿処理部は、密閉されて
おり前記搬送処理部との間に前記制御部によって自動開
閉制御される第1の自動開閉ドアが設けられている。
(2) The constant temperature / humidity processing section is hermetically sealed and provided with a first automatic opening / closing door which is automatically opened / closed by the control section with the transport processing section.

【0014】本発明の評価試験装置では、恒温恒湿処理
部が通常は密閉されていて、半導体デバイスを取り出す
時だけ第1の自動開閉ドアが開閉されるようになるため
に、処理部内の環境を所望の状態にでき、外気の影響を
受けることがなくなる。これにより、評価試験の精度を
高めることができる。
In the evaluation test apparatus of the present invention, the constant temperature / humidity processing section is usually closed, and the first automatic opening / closing door is opened and closed only when the semiconductor device is taken out. Can be brought into a desired state, and is not affected by the outside air. Thereby, the accuracy of the evaluation test can be improved.

【0015】(3)前記重量測定部は、密閉されており
前記搬送処理部との間に前記制御部によって自動開閉制
御される第2の自動開閉ドアが設けられている。
(3) The weight measuring section is hermetically sealed, and a second automatic opening / closing door which is automatically opened / closed by the control section is provided between the weight measuring section and the transport processing section.

【0016】本発明でも、上記(2)と同様の理由によ
って、評価試験の精度を高めることができる。
According to the present invention, the accuracy of the evaluation test can be improved for the same reason as the above (2).

【0017】(4)前記搬送処理部は、前記第1および
第2の自動開閉ドアを介して前記恒温恒湿処理部および
前記重量測定部に出入りする半導体デバイス保持用のア
ームを備え、このアームをX方向とY方向に移動させる
X−Yステージと、θ方向に回転させるθステージとを
備える。
(4) The transfer processing unit includes an arm for holding a semiconductor device which enters and exits the constant temperature / humidity processing unit and the weight measuring unit via the first and second automatic opening / closing doors. An XY stage that moves the X and Y axes in the X and Y directions, and a θ stage that rotates the X direction in the θ direction.

【0018】半導体デバイス保持用のアームは、X−Y
方向への直進移動と、θ方向への回転によって第1およ
び第2の自動開閉ドアの位置にかかわらず、半導体デバ
イスを、恒温恒湿処理部と重量測定部間で移動させるこ
とができる。
The arm for holding the semiconductor device is XY
The semiconductor device can be moved between the constant temperature / humidity processing unit and the weight measuring unit regardless of the positions of the first and second automatic opening / closing doors by the straight movement in the direction and the rotation in the θ direction.

【0019】(5)前記制御部は、前記吸湿データに基
づいて半導体デバイスの完全飽和状態を検出するまで、
半導体デバイスを恒温恒湿処理部と重量測定部間を繰り
返し搬送させる制御を行う。
(5) The control unit is configured to detect a completely saturated state of the semiconductor device based on the moisture absorption data.
The semiconductor device is controlled so as to be repeatedly transported between the constant temperature / humidity processing unit and the weight measuring unit.

【0020】半導体デバイスの完全飽和状態を検出する
と、通常は、それ以降評価試験を行う必要がないため
に、本発明では、この完全飽和状態を検出すると自動的
に評価試験装置の動作を停止させることが可能になる。
したがって、作業者が装置の稼働状態を確認したり、デ
バイスの吸湿状況の確認をする必要がなくなる。
When a full saturation state of a semiconductor device is detected, it is not usually necessary to perform an evaluation test thereafter. Therefore, according to the present invention, when the full saturation state is detected, the operation of the evaluation test apparatus is automatically stopped. It becomes possible.
Therefore, there is no need for the operator to check the operation state of the device or to check the moisture absorption state of the device.

【0021】(6)前記制御部は、前記吸湿データに基
づいて所定の吸湿率を検出するまで、半導体デバイスを
恒温恒湿処理部と重量測定部間を繰り返し搬送させる制
御を行う。
(6) The control section controls the semiconductor device to be repeatedly transported between the constant temperature and constant humidity processing section and the weight measurement section until a predetermined moisture absorption rate is detected based on the moisture absorption data.

【0022】本発明も、上記(5)と同様に、装置の自
動停止を可能にし、作業者による装置稼働状況の確認や
デバイスの吸湿状況の確認等を不要にする。
According to the present invention, similarly to the above (5), the apparatus can be automatically stopped, and it is not necessary for the operator to check the operation state of the apparatus or the state of moisture absorption of the device.

【0023】(7)前記制御部は、前記繰り返し搬送制
御により得られる連続的な吸湿データを出力する。
(7) The control section outputs continuous moisture absorption data obtained by the repeated transport control.

【0024】本発明では、連続的な吸湿データを得るこ
とができるために、デバイスの吸湿状況を詳細に確認で
きるようになる。
In the present invention, since it is possible to obtain continuous moisture absorption data, it becomes possible to confirm the moisture absorption state of the device in detail.

【0025】(8)前記恒温恒湿処理部は、複数の半導
体デバイス置き台を備える。
(8) The constant temperature / humidity processing unit includes a plurality of semiconductor device mounting tables.

【0026】複数の半導体デバイス置き台を備えること
によって、それらのデバイスの温度を、湿度の吸湿条件
が同一であれば、複数処理のデバイスを同時に測定でき
るようになる。
By providing a plurality of semiconductor device holders, it is possible to simultaneously measure the temperatures of these devices for a plurality of devices under the same moisture absorption conditions.

【0027】(9)前記重量測定部および前記搬送処理
部は、内部の温度、湿度の調整が可能である。
(9) The internal temperature and humidity of the weight measuring section and the transport processing section can be adjusted.

【0028】本発明では、内部の温度や湿度の調整を可
能にすることによって、外気の影響のない状態で評価試
験を行うことができるために、その結果が正確なものと
なる。また、上記(2)および(3)のように自動開閉
ドアを設けることによって、さらに正確なものにするこ
とができる。
According to the present invention, since the internal temperature and humidity can be adjusted, the evaluation test can be performed without being affected by the outside air, and the result is accurate. Further, by providing the automatic opening / closing door as described in (2) and (3) above, it is possible to further improve the accuracy.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の実施形態である
半導体デバイスの評価試験装置の構造図である。
FIG. 1 is a structural view of a semiconductor device evaluation test apparatus according to an embodiment of the present invention.

【0030】本装置は、恒温恒湿処理部1、重量測定部
2、搬送処理部3、制御ユニット4、操作パネル部5と
で構成される。
This apparatus comprises a constant temperature and humidity processing section 1, a weight measuring section 2, a transport processing section 3, a control unit 4, and an operation panel section 5.

【0031】上記恒温恒湿処理部1と重量測定部2は、
それぞれ搬送処理部3の左側部と右側部に連結されてい
る。
The constant temperature / humidity processing unit 1 and the weight measuring unit 2
Each is connected to the left and right sides of the transport processing unit 3.

【0032】恒温恒湿処理部1は、半導体デバイスが入
れられている網籠11をセットする置き台12を備えて
いる。この恒温恒湿処理部1において、半導体デバイス
のベーキング処理および加熱、加湿処理を行う。また、
この恒温恒湿処理部1には、搬送処理部3との結合部に
第1の自動開閉ドア13が設けられている。この第1の
自動開閉ドア13は、上下方向に移動可能であって、下
側に移動することによって、恒温恒湿処理部1の密閉状
態を解き、その窓部を経て後述のアームが搬送処理部3
から恒温恒湿処理部内に移動できるようになっている。
The constant-temperature and constant-humidity processing unit 1 includes a table 12 on which a net basket 11 in which semiconductor devices are placed is set. In the constant temperature / humidity processing section 1, baking processing, heating and humidification processing of the semiconductor device are performed. Also,
In the constant temperature / humidity processing unit 1, a first automatic opening / closing door 13 is provided at a connection portion with the transport processing unit 3. The first automatic opening / closing door 13 can be moved up and down, and by moving downward, the closed state of the constant temperature / humidity processing section 1 is released, and an arm described later passes through the window to carry the transfer processing. Part 3
Can be moved into the constant temperature / humidity processing section.

【0033】重量測定部2は、0,1mg単位で重量測
定可能な電子天秤21を備えている。この重量測定部2
は、恒温恒湿処理部1で加熱および加湿された半導体デ
バイス (実際には同デバイスを収納した網籠11)の重
量を測定する。また、この重量測定部2と搬送処理部3
との結合部には、第2の自動開閉ドア22が設けられて
いる。この第2の自動開閉ドア22は、上下方向に移動
可能であって、下側に移動することによって重量測定部
2の密閉状態を解き、その窓部を経て上記アームが重量
測定部2内に移動できるようになっている。
The weight measuring section 2 has an electronic balance 21 capable of measuring the weight in units of 0.1 mg. This weight measurement unit 2
Measures the weight of the semiconductor device (actually, the net basket 11 containing the device) heated and humidified by the constant temperature and humidity processing unit 1. The weight measuring unit 2 and the transport processing unit 3
A second automatic opening / closing door 22 is provided at the connecting portion with the second automatic opening / closing door 22. The second automatic opening / closing door 22 is movable in the vertical direction, and moves downward to release the sealed state of the weight measuring unit 2, and the arm is moved into the weight measuring unit 2 through the window. It can be moved.

【0034】また、上記恒温恒湿処理部1、重量測定部
2、搬送処理部3は、図外の装置によって内部の温度お
よび湿度の調整が可能になっている。
The temperature and humidity of the constant temperature / humidity processing unit 1, the weight measuring unit 2, and the transport processing unit 3 can be adjusted by a device (not shown).

【0035】搬送処理部3は、Xステージ31、Yステ
ージ32、θステージ33、エア駆動のZステージ34
および網籠11を保持するためのアーム35を備えてい
る。Xステージ31、Yステージ32は、アーム35の
X、Y方向への直線移動を可能にし、θステージ33
は、アーム35のθ方向(180°回転方向)への回転
移動を可能にする。また、Zステージ34は、エアシリ
ンダによってアーム35の上下移動を可能にする。これ
らの制御は、制御ユニット4によって行われる。
The transport processing unit 3 includes an X stage 31, a Y stage 32, a θ stage 33, and an air-driven Z stage 34.
And an arm 35 for holding the net basket 11. The X stage 31 and the Y stage 32 enable linear movement of the arm 35 in the X and Y directions.
Enables the arm 35 to rotate in the θ direction (180 ° rotation direction). The Z stage 34 allows the arm 35 to move up and down by an air cylinder. These controls are performed by the control unit 4.

【0036】上記の構成によって、恒温恒湿処理部1で
吸湿処理された半導体デバイスを収納した網籠11をア
ーム35によって取り出し、これを、重量測定部2に移
動することが可能になる。アーム35によって、恒温恒
湿処理部1内の網籠11を保持するには、第1の自動開
閉ドア13を下方に移動する。また、取り出した網籠1
1を重量測定部2に移動するには、第2の自動開閉ドア
22を下方に移動する。第2の自動開閉ドア22を下方
に移動した時には、第1の自動開閉ドア13を上方に移
動して、恒温恒湿処理部1を再び密閉状態にする。
With the above configuration, it becomes possible to take out the net basket 11 containing the semiconductor device subjected to the moisture absorption processing in the constant temperature and humidity processing section 1 by the arm 35 and move it to the weight measuring section 2. In order to hold the net basket 11 in the thermo-hygrostat processing unit 1 by the arm 35, the first automatic opening / closing door 13 is moved downward. In addition, net basket 1 which we took out
To move 1 to the weight measuring section 2, the second automatic opening / closing door 22 is moved downward. When the second automatic opening / closing door 22 is moved downward, the first automatic opening / closing door 13 is moved upward, and the constant temperature / humidity processing section 1 is again closed.

【0037】制御ユニット4は、操作パネル部5で設定
された試験情報および重量測定部2からの重量情報に基
づいて、恒温恒湿処理部1、重量測定部2、搬送処理部
3を制御する。恒温恒湿処理部1に対しては、あらかじ
め操作パネル部5で設定した温度、湿度、時間の情報に
基づいて制御を行う。設定内容によっては、2段階以上
の温度、湿度制御を可能にする。たとえば、120°C
の温度設定のみでベーキング処理を行い、その後の30
°C、70%の温度、湿度制御で恒温恒湿処理を可能と
する。なお、図示はしていないが、搬送処理部3および
重量測定部2においても、温度、湿度制御が可能になっ
ている。
The control unit 4 controls the constant temperature / humidity processing section 1, the weight measurement section 2, and the transport processing section 3 based on the test information set on the operation panel section 5 and the weight information from the weight measurement section 2. . The constant temperature / humidity processing unit 1 is controlled based on temperature, humidity, and time information set in the operation panel unit 5 in advance. Depending on the settings, two or more stages of temperature and humidity control are possible. For example, 120 ° C
The baking process is performed only at the temperature setting of
Temperature and humidity control at 70 ° C and 70% enables constant temperature and humidity processing. Although not shown, temperature and humidity can be controlled also in the transport processing unit 3 and the weight measurement unit 2.

【0038】搬送処理部3に対しては、恒温恒湿処理部
1からの処理終了信号に基づいて恒温恒湿処理部1の第
1の自動開閉ドア13の開閉動作を制御し、また、Xス
テージ31等の駆動部の移動制御と重量測定部2の第2
の自動開閉ドア22の開閉動作の制御を行う。さらに、
恒温恒湿処理部1にセットされている網籠11をアーム
35によって重量測定部2に移動するための制御も行
う。
For the transport processing unit 3, the opening and closing operation of the first automatic opening and closing door 13 of the constant temperature and humidity processing unit 1 is controlled based on the processing end signal from the constant temperature and humidity processing unit 1. Movement control of the drive unit such as the stage 31 and the second
Of the automatic opening / closing door 22 is controlled. further,
The control for moving the net basket 11 set in the constant temperature and humidity processing section 1 to the weight measuring section 2 by the arm 35 is also performed.

【0039】制御ユニット4は、上記の動作を繰り返し
て行い、半導体デバイスが飽和し吸湿量に変動が無くな
った場合、あるいはあらかじめ設定された吸湿量に到達
した場合、または、操作パネル部5で設定した吸湿期間
が過ぎた場合に装置の一連の動作を停止する。
The control unit 4 repeats the above operation, and when the semiconductor device is saturated and there is no change in the amount of absorbed moisture, when the amount of absorbed moisture reaches a preset amount of moisture absorption, or when the operation panel unit 5 When the specified moisture absorption period has elapsed, a series of operations of the apparatus is stopped.

【0040】操作パネル部5は、制御ユニット4からの
重量測定情報に基づいて半導体デバイスの重量測定結果
を監視できる表示部を備えている。また、この表示部
は、目的とする吸湿量に到達した時に装置の動作を停止
するため、その吸湿量を入力する画面としても使用され
る。また、評価試験装置を制御するための動作開始信号
および動作停止信号を制御ユニット4に送信する機能を
持っている。
The operation panel unit 5 has a display unit capable of monitoring the weight measurement result of the semiconductor device based on the weight measurement information from the control unit 4. The display unit is also used as a screen for inputting the amount of moisture absorption, since the operation of the apparatus is stopped when the target amount of moisture absorption is reached. Further, it has a function of transmitting an operation start signal and an operation stop signal for controlling the evaluation test device to the control unit 4.

【0041】次に、上記の構成からなる半導体デバイス
の評価試験装置の動作について、図2〜図11を参照し
て説明する。図2〜図9は同評価試験装置の状態図、図
10は同評価試験装置の上面図、図11は吸湿プロファ
イルを示している。また、図13は、制御動作を示すフ
ローチャートである。
Next, the operation of the semiconductor device evaluation test apparatus having the above configuration will be described with reference to FIGS. 2 to 9 are state diagrams of the evaluation test apparatus, FIG. 10 is a top view of the evaluation test apparatus, and FIG. 11 shows a moisture absorption profile. FIG. 13 is a flowchart showing the control operation.

【0042】(a)リフローはんだ耐熱性試験を行う半
導体デバイスを網籠11内に入れ、恒温恒湿処理部1の
置き台12にセットする。なお、図10に示すように、
置き台12は、3つの切り欠き12aを一定間隔で備え
ている。各切り欠き12aの位置に、それぞれ網籠11
を配置することができる。アーム35は、移動したい切
り欠き12aの位置に移動して、上方に持ち上げること
によって、その切り欠き12aの位置にある網籠11を
保持して移動することができる。このように、1つの置
き台12に、複数の網籠11を配置する場合には、各網
籠11に入れられる半導体デバイスは、温度、湿度の吸
湿条件が同一であるものとして測定される。なお、操作
パネル部5には、ベーキング処理温度、時間および吸湿
温度、湿度、期間を入力しておく。さらに、重量測定条
件(測定回数、回数、吸湿後の放電時間等)も入力して
おく。
(A) The semiconductor device to be subjected to the reflow soldering heat resistance test is placed in the net basket 11 and set on the table 12 of the constant temperature / humidity processing unit 1. As shown in FIG.
The table 12 has three notches 12a at regular intervals. At the position of each notch 12a, the mesh basket 11
Can be arranged. The arm 35 moves to the position of the notch 12a to be moved, and lifts it upward, thereby holding and moving the net basket 11 at the position of the notch 12a. As described above, when a plurality of net baskets 11 are arranged on one placing table 12, the semiconductor devices put in each net basket 11 are measured on the assumption that the moisture absorption conditions of temperature and humidity are the same. In the operation panel section 5, the baking process temperature, time, moisture absorption temperature, humidity, and period are input. Further, the weight measurement conditions (number of measurements, number of times, discharge time after moisture absorption, etc.) are also input.

【0043】(b)操作パネル部5において動作開始指
示が行われると(ステップ1 (図12参照:以下同
じ))、これに基づいて、制御ユニット4は、最初に、
操作パネル部5で設定された条件下でベーキング処理を
行う(ステップ2)。ベーキング処理において設定され
た条件が完了すると、ベーキング処理後の初期重量を測
定する(ステップ3)。この初期重量測定するには、後
述する重量測定方法と同じように、搬送処理部3によっ
て、網籠11を重量測定部2に搬送して行う。詳細につ
いては後述する。
(B) When an operation start instruction is given on the operation panel section 5 (step 1 (see FIG. 12: the same applies hereinafter)), the control unit 4 first
A baking process is performed under the conditions set by the operation panel unit 5 (step 2). When the conditions set in the baking process are completed, the initial weight after the baking process is measured (step 3). The initial weight is measured by transporting the net basket 11 to the weight measuring unit 2 by the transport processing unit 3 in the same manner as the weight measuring method described later. Details will be described later.

【0044】(c)初期重量の測定された網籠11は再
び恒温恒湿処理部1に戻され、操作パネル5で設定され
た条件下で加熱および加湿処理を行う。この処理によっ
て吸湿が行われる(ステップ4)。設定された条件(吸
湿温度と吸湿時間等)が完了すると、恒温恒湿処理部1
内の温度を常温に設定する。常温に戻れば、恒温恒湿処
理部1は処理終了信号を制御ユニット4に出力する。図
2はこの状態を示す。その処理終了信号を受けた制御ユ
ニット4は、恒温恒湿処理部1の自動開閉ドア13を下
方に移動して窓部を形成する。その後、搬送処理部3内
の駆動ユニットが駆動を開始し、アーム35によって、
網籠11が重量測定部2に搬送されるように制御する。
具体的には、Yステージ32を移動させアーム35を網
籠11の真下に移動させる(図3参照)。さらに、図外
のエアシリンダーによる上昇動作で網籠11を持ち上げ
(図4参照)、恒温恒湿処理部1からこの網籠11を取
り出して移動し、自動開閉ドア13を閉じる(図5参
照)。その後、θステージ33によって網籠11を18
0°回転させ(図6参照)、さらに、重量測定部2の自
動開閉ドア22を開けて、網籠11を重量測定部2に移
動させるためにYステージ32を移動する。電子天秤2
1真上にアーム35が到達すると(図7参照)、アーム
35を下げて電子天秤21に網籠11を置く(図8参
照)。続いて、アーム35を重量測定部2から引き出し
て、自動開閉ドア22を閉じる(図9参照。ステップ
5)。
(C) The net basket 11 whose initial weight has been measured is returned to the constant temperature / humidity processing section 1 again, and performs heating and humidification processing under the conditions set on the operation panel 5. Moisture absorption is performed by this process (step 4). When the set conditions (moisture absorption temperature and moisture absorption time, etc.) are completed, the constant temperature and constant humidity processing section 1
Set the temperature inside to room temperature. When the temperature returns to the normal temperature, the constant temperature / humidity processing section 1 outputs a processing end signal to the control unit 4. FIG. 2 shows this state. The control unit 4 having received the processing end signal moves the automatic opening / closing door 13 of the constant temperature / humidity processing unit 1 downward to form a window. Thereafter, the drive unit in the transport processing unit 3 starts driving, and the arm 35
Control is performed so that the net basket 11 is transported to the weight measurement unit 2.
Specifically, the Y stage 32 is moved to move the arm 35 directly below the net basket 11 (see FIG. 3). Further, the net basket 11 is lifted by an ascending operation by an air cylinder (not shown) (see FIG. 4), the net basket 11 is taken out of the constant temperature / humidity processing section 1, moved, and the automatic opening / closing door 13 is closed (see FIG. 5). . After that, the mesh basket 11 is
The Y-stage 32 is rotated by 0 ° (see FIG. 6), and the Y-stage 32 is moved to open the automatic opening / closing door 22 of the weight measuring unit 2 and move the net basket 11 to the weight measuring unit 2. Electronic balance 2
When the arm 35 reaches just above (see FIG. 7), the arm 35 is lowered and the net basket 11 is placed on the electronic balance 21 (see FIG. 8). Subsequently, the arm 35 is pulled out of the weight measuring section 2 and the automatic opening / closing door 22 is closed (see FIG. 9; step 5).

【0045】(d)一定時間経過後、重量測定部2にお
いて、網籠11の重量測定を行い、測定した値を制御ユ
ニット4に出力する(ステップ6)。なお、網籠11の
重量は既知であるため、重量測定部2においては、半導
体デバイスの重量を実質的に測定している。
(D) After a lapse of a predetermined time, the weight of the net basket 11 is measured by the weight measuring section 2, and the measured value is output to the control unit 4 (step 6). Since the weight of the net basket 11 is known, the weight measuring unit 2 substantially measures the weight of the semiconductor device.

【0046】(e)ステップ7において、制御ユニット
4が得た吸湿データに基づいて半導体デバイスの完全飽
和状態を検出した時、あるいは、吸湿データに基づいて
所定の吸湿量を検出した時、または、所定の期間が経過
した時に、ステップ8に移るが、そうでない時には、ス
テップ11の搬送処理を行って再びステップ4に戻る。
ステップ11の搬送処理では、重量測定部11の網籠1
1を、再度恒温恒湿処理部1に搬送する処理を行う。こ
の繰り返し処理の途中、操作パネル部5の表示器には、
連続測定された結果が表示される。なお、この結果はプ
リンターまたはレコーダ等に印刷または記憶するように
してもよい。図11は、吸湿プロファイルを示してい
る。操作パネル部5は、ステップ7において処理が終了
した場合、網籠11を所定の位置まで搬送し(ステップ
8)、処理が終了したことを示すための表示灯(図示せ
ず)を消灯し、その後の恒温恒湿処理動作を停止する
(ステップ9およびステップ10)。
(E) In step 7, when the control unit 4 detects a completely saturated state of the semiconductor device based on the moisture absorption data obtained, or when a predetermined amount of moisture absorption is detected based on the moisture absorption data, or When the predetermined period has elapsed, the process proceeds to step 8; otherwise, the transport process of step 11 is performed and the process returns to step 4 again.
In the transport process of step 11, the net basket 1 of the weight measurement unit 11 is
1 is transported to the constant temperature / humidity processing unit 1 again. During this repetitive processing, the display of the operation panel unit 5 displays
The result of continuous measurement is displayed. The result may be printed or stored in a printer or a recorder. FIG. 11 shows a moisture absorption profile. When the processing is completed in step 7, the operation panel unit 5 conveys the net basket 11 to a predetermined position (step 8), turns off an indicator light (not shown) for indicating that the processing is completed, Thereafter, the constant temperature / humidity processing operation is stopped (Steps 9 and 10).

【0047】以上の動作によって、半導体デバイスの評
価試験を全自動で行うことができる。なお、図10に示
すように、置き台12上に複数の網籠11をセットする
ことができる。これにより、複数の半導体デバイスの試
験および測定が同一条件下で可能となる。本実施形態で
は、図10に示すように、置き台12に切り欠き12a
を設けることによって、アーム35を持ち上げて網籠1
1を保持できるようにしたが、アーム35の先端部に把
持部を設けることにより、網籠11を挟んで移動させる
ことも可能である。
With the above operation, the evaluation test of the semiconductor device can be performed fully automatically. As shown in FIG. 10, a plurality of net baskets 11 can be set on the table 12. Thus, a plurality of semiconductor devices can be tested and measured under the same conditions. In this embodiment, as shown in FIG.
Is provided, the arm 35 is lifted and the net basket 1 is lifted.
1, the arm 35 can be moved by sandwiching the net basket 11 by providing a gripping portion at the tip of the arm 35.

【0048】[0048]

【発明の効果】本発明によれば、リフロー耐熱性評価時
の前処理を容易に且つ迅速に実施することができ、作業
者の負担を軽減できるとともに、データの読み違い、デ
ータの読み違い、記入漏れ、記入ミス等を無くすことが
できるため、評価試験の信頼性を高めることができる。
また、自動開閉ドアの制御により、恒温恒湿処理部およ
び重量測定部を外気から遮断できるために、正確な条件
設定と重量測定を行うことができる。さらに、重量測定
部や搬送処理部の温度や湿度の調整を可能にすることに
より、外気の影響をさらに無くすことができ、高信頼性
測定に繋がる
According to the present invention, the pre-processing at the time of the reflow heat resistance evaluation can be carried out easily and quickly, and the burden on the operator can be reduced. Since omission of entry, entry error and the like can be eliminated, the reliability of the evaluation test can be improved.
In addition, by controlling the automatic opening / closing door, the constant temperature / humidity processing unit and the weight measuring unit can be shut off from the outside air, so that accurate condition setting and weight measurement can be performed. Furthermore, by enabling adjustment of the temperature and humidity of the weight measurement unit and the transport processing unit, the influence of the outside air can be further eliminated, leading to high reliability measurement.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態である半導体デバイスの評価
試験装置の構成図
FIG. 1 is a configuration diagram of a semiconductor device evaluation test apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】上記評価試験装置の状態図FIG. 2 is a state diagram of the evaluation test apparatus.

【図3】上記評価試験装置の状態図FIG. 3 is a state diagram of the evaluation test apparatus.

【図4】上記評価試験装置の状態図FIG. 4 is a state diagram of the evaluation test apparatus.

【図5】上記評価試験装置の状態図FIG. 5 is a state diagram of the evaluation test apparatus.

【図6】上記評価試験装置の状態図FIG. 6 is a state diagram of the evaluation test apparatus.

【図7】上記評価試験装置の状態図FIG. 7 is a state diagram of the evaluation test apparatus.

【図8】上記評価試験装置の状態図FIG. 8 is a state diagram of the evaluation test apparatus.

【図9】上記評価試験装置の状態図FIG. 9 is a state diagram of the evaluation test apparatus.

【図10】搬送処理部の上面図FIG. 10 is a top view of a transport processing unit.

【図11】吸湿プロファイルを示す図FIG. 11 shows a moisture absorption profile.

【図12】評価試験装置の動作を示すフローチャートFIG. 12 is a flowchart showing the operation of the evaluation test apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1−恒温恒湿処理部 2−重量測定部 3−搬送処理部 11−半導体デバイスが入れられる網籠 1—Constant temperature / humidity processing unit 2—Weight measuring unit 3—Transportation processing unit 11—Network basket in which semiconductor devices are put

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体デバイスの吸湿処理を行う恒温恒
湿処理部と、半導体デバイスの重量を測定する重量測定
部と、恒温恒湿処理部で吸湿した半導体デバイスを重量
測定部へ搬送し、重量測定部で重量測定した半導体デバ
イスを恒温恒湿処理部へ搬送する搬送処理部と、重量測
定した半導体デバイスの重量から吸湿データを求めると
ともに、これらの恒温恒湿吸湿処理部、重量測定部、搬
送処理部の制御を行う制御部と、を備えてなる、半導体
デバイスの評価試験装置。
1. A constant-temperature and constant-humidity processing unit for performing moisture absorption processing on a semiconductor device, a weight measuring unit for measuring the weight of the semiconductor device, and a semiconductor device that has absorbed moisture in the constant-temperature and constant-humidity processing unit is transferred to a weight measurement unit. A transport processing unit that transports the semiconductor device weighed by the measurement unit to the constant temperature and humidity processing unit, and obtains moisture absorption data from the weight of the semiconductor device whose weight has been measured. An evaluation test apparatus for a semiconductor device, comprising: a control unit configured to control a processing unit.
【請求項2】前記恒温恒湿処理部は、密閉されており前
記搬送処理部との間に前記制御部によって自動開閉制御
される第1の自動開閉ドアが設けられている、請求項1
記載の半導体デバイスの評価試験装置。
2. The constant temperature and humidity processing section is hermetically sealed, and a first automatic opening / closing door which is automatically opened and closed by the control section is provided between the processing section and the transport processing section.
An evaluation test apparatus for a semiconductor device as described in the above.
【請求項3】前記重量測定部は、密閉されており前記搬
送処理部との間に前記制御部によって自動開閉制御され
る第2の自動開閉ドアが設けられている、請求項1記載
の半導体デバイスの評価試験装置。
3. The semiconductor according to claim 1, wherein said weight measuring section is hermetically sealed, and a second automatic opening / closing door which is automatically opened / closed by said control section is provided between said weight measuring section and said transport processing section. Device evaluation test equipment.
【請求項4】 前記搬送処理部は、前記第1および第2
の自動開閉ドアを介して前記恒温恒湿処理部および前記
重量測定部に出入りする半導体デバイス保持用のアーム
を備え、このアームをX方向とY方向に移動させるX−
Yステージと、θ方向に回転させるθステージとを備え
る、請求項3記載の半導体デバイスの評価試験装置。
4. The transport processing unit according to claim 1, wherein
An arm for holding a semiconductor device which enters and exits the constant temperature and humidity processing section and the weight measuring section via an automatic opening / closing door, and moves the arm in the X and Y directions.
4. The semiconductor device evaluation test apparatus according to claim 3, further comprising a Y stage and a θ stage that rotates in the θ direction.
【請求項5】 前記制御部は、前記吸湿データに基づい
て半導体デバイスの完全飽和状態を検出するまで、半導
体デバイスを恒温恒湿処理部と重量測定部間を繰り返し
搬送させる制御を行う、請求項1〜4のいずれかに記載
の半導体デバイスの評価試験装置。
5. The control section controls the semiconductor device to be repeatedly transported between a constant temperature and humidity processing section and a weight measurement section until a complete saturation state of the semiconductor device is detected based on the moisture absorption data. The semiconductor device evaluation test apparatus according to any one of claims 1 to 4.
【請求項6】 前記制御部は、前記吸湿データに基づい
て所定の吸湿率を検出するまで、半導体デバイスを恒温
恒湿処理部と重量測定部間を繰り返し搬送させる制御を
行う、請求項1〜4のいずれかに記載の半導体デバイス
の評価試験装置。
6. The control section controls the semiconductor device to be repeatedly transported between a constant temperature and humidity processing section and a weight measurement section until a predetermined moisture absorption rate is detected based on the moisture absorption data. 5. The apparatus for evaluating and testing a semiconductor device according to claim 4.
【請求項7】 前記制御部は、前記繰り返し搬送制御に
より得られる連続的な吸湿データを出力する、請求項5
または6に記載の半導体デバイスの評価試験装置。
7. The controller according to claim 5, wherein the controller outputs continuous moisture absorption data obtained by the repeated transport control.
Or the evaluation test apparatus for a semiconductor device according to 6.
【請求項8】 前記恒温恒湿処理部は、複数の半導体デ
バイス置き台を備える、請求項1〜7のいずれかに記載
の半導体デバイスの評価試験装置。
8. The apparatus for evaluating and testing a semiconductor device according to claim 1, wherein said constant-temperature and constant-humidity processing unit includes a plurality of semiconductor device holders.
【請求項9】 前記重量測定部および前記搬送処理部
は、内部の温度、湿度の調整が可能である、 請求項1
〜8のいずれかに記載の半導体デバイスの評価試験装
置。恒常的
9. The weight measuring section and the transport processing section are capable of adjusting internal temperature and humidity.
An evaluation test apparatus for a semiconductor device according to any one of claims 1 to 8, Constant
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