JP2002173700A - Flux cleaner composition and method for cleaning flux - Google Patents

Flux cleaner composition and method for cleaning flux

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JP2002173700A
JP2002173700A JP2000371597A JP2000371597A JP2002173700A JP 2002173700 A JP2002173700 A JP 2002173700A JP 2000371597 A JP2000371597 A JP 2000371597A JP 2000371597 A JP2000371597 A JP 2000371597A JP 2002173700 A JP2002173700 A JP 2002173700A
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flux
detergent composition
hydroxyisobutyrate
cleaning
hydroxyisobutyric acid
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JP2000371597A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Kurokawa
正弘 黒川
Hajime Yamada
元 山田
Akihiro Honma
昭弘 本間
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Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Original Assignee
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a flux cleaner composition excellent in performances as the flux cleaner and environment-friendly. SOLUTION: This flux cleaner composition contains α-hydroxyisobutyric acid and an α-hydroxyisobutyric acid ester, but does not contain any chlorine- based component, nor any fluorine-based component.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明ははんだ付け後のフラ
ックスを洗浄する洗浄剤組成物に関するものである。ま
たフラックスを洗浄する方法にも関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning composition for cleaning flux after soldering. It also relates to a method for cleaning flux.

【0002】[0002]

【従来の技術】はんだ付け後のフラックス除去は、従来
トリクロロエタンによって行われてきたが、トリクロロ
エタンはフラックスの主成分であるロジン(松脂)を良
く溶かすばかりだけでなく、毒性が少なく、引火点も低
いため安全性に優れたフラックス洗浄剤として不可欠で
あった。しかしながら、塩素系溶剤であるトリクロロエ
タンは環境問題からその使用が制限されることとなり、
それ以降はんだ付け後のフラックス洗浄が困難となっ
た。そのためトリクロロエタン代替洗浄剤の開発が急務
となっている。また、ロジン系フラックスがはんだ付け
時に長時間加熱されることにより、ロジンの酸性成分
(通常ロジン系フラックスの主成分はアビエチン酸であ
る)がはんだ金属と反応して塩を生成するなどの化学反
応を起こし、トリクロロエタン系洗浄剤にも溶けずに洗
浄残査が観察されている。そのため、トリクロロエタン
代替洗浄溶剤は単に加熱前のロジンを溶解するだけでな
く、加熱変質したフラックス成分をも溶解する必要があ
る。
2. Description of the Related Art Flux removal after soldering has conventionally been carried out with trichloroethane. Trichloroethane not only dissolves rosin (rosin), which is the main component of the flux, but also has low toxicity and low flash point. Therefore, it was indispensable as a flux detergent excellent in safety. However, the use of trichlorethane, which is a chlorinated solvent, is restricted due to environmental problems.
After that, flux cleaning after soldering became difficult. Therefore, there is an urgent need to develop a trichloroethane alternative detergent. In addition, the rosin-based flux is heated for a long time during soldering, so that acidic components of rosin (usually the main component of rosin-based flux is abietic acid) react with the solder metal to form a chemical reaction such as salt. The residue was observed without dissolving in the trichloroethane-based detergent. Therefore, it is necessary that the trichloroethane-substitute cleaning solvent not only dissolves rosin before heating, but also dissolves flux components that have been heat-altered.

【0003】以下の刊行物には各種溶剤を組み合わせた
洗浄剤組成物が開示されている。例えば、1,2−ジメ
チル2,4−ジフェニルペンタンを含有して成るフラッ
クス洗浄剤(特開平8−109397号報)、グリコー
ルエーテル系化合物、プロピレングリコールアルキルエ
ーテルアセテート及び水を含む洗浄剤組成物(特開平1
0−204497号報)、炭化水素系溶剤、ポリオキシ
アルキレンジアルキルエーテルとアミン系化合物を含有
する洗浄剤組成物(特開平10−168488号報、特
開平10−81893号報、特開平10−114899
号報)、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテ
ル、オクタン酸及びジエタノールアミンから成る洗浄剤
組成物(特開平11−286698号報)、炭化水素系
溶媒と金属イオンを配位しうる有機化合物、具体的には
n−ヘキサンと1−n−オクチルー2−ピロリジノンか
ら成る洗浄剤組成物(特開平8−231989号報)、
水溶性アミド化合物または水溶性ラクトン化合物、アル
カノールアミンまたは4級低級アルキルアンモニウムヒ
ドロキシド及び水から成るフラックス除去用洗浄剤(特
開平9−59683号報)、第4級アンモニウム塩とヒ
ドラジン水溶液からなるフラックス洗浄剤(特開平7−
166196号報)、モノテルペンフェノールを主成分
とする洗浄剤組成物(特開平7−197095号報)、
イソプロピルブロマイドをフラックス洗浄剤とするもの
(特開平7−292393号報)などである。この様に
多くの有機系溶剤、鉱酸及び有機酸、界面活性剤、水な
どとを組み合わせてフラックス洗浄剤としてきたが、こ
れらはフラックスに対する洗浄性が十分でなく、一長一
短を有している。
The following publications disclose cleaning compositions in which various solvents are combined. For example, a flux detergent comprising 1,2-dimethyl 2,4-diphenylpentane (Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-109397), a detergent composition comprising a glycol ether compound, propylene glycol alkyl ether acetate and water ( JP 1
No. 0-204497), a detergent composition containing a hydrocarbon solvent, a polyoxyalkylene dialkyl ether and an amine compound (JP-A-10-168488, JP-A-10-81893, JP-A-10-114899).
), A detergent composition comprising dipropylene glycol monopropyl ether, octanoic acid and diethanolamine (JP-A-11-286698), an organic compound capable of coordinating a hydrocarbon solvent with a metal ion, a detergent composition comprising n-hexane and 1-n-octyl-2-pyrrolidinone (JP-A-8-231989);
Flux removing detergent comprising water-soluble amide compound or water-soluble lactone compound, alkanolamine or quaternary lower alkylammonium hydroxide and water (JP-A-9-59683), flux comprising quaternary ammonium salt and hydrazine aqueous solution Detergent (JP-A-7-
No. 166196), a detergent composition containing a monoterpene phenol as a main component (Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-97095),
And isopropyl bromide as a flux detergent (Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-292393). As described above, flux cleaning agents have been used in combination with many organic solvents, mineral acids and organic acids, surfactants, water, and the like, but these have insufficient cleaning properties against flux and have advantages and disadvantages.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】このように当業技術分
野では非ハロゲン系溶剤を主成分とし、人体に対する毒
性や安全性に問題がなく、地球温暖化と環境破壊性物質
の大気及び水系への蓄積がなく、しかもはんだ作業後の
フラックス類に対して高い溶解力を有する洗浄剤の開発
が重要な課題になっている。
As described above, in the technical field of the art, non-halogen solvents are the main components, and there are no problems in toxicity and safety to the human body. Development of a cleaning agent which has no accumulation of flux and has a high dissolving power for fluxes after soldering has become an important issue.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の好
ましい性能を有するフラックス洗浄剤組成物を開発すべ
く鋭意研究を重ねた結果、α−ヒドロキシイソ酪酸及び
α−ヒドロキシイソ酪酸エステルを必須成分として含む
フラックス溶剤組成物が優れた洗浄能力を持つことを見
いだし、本発明に到達した。即ち、本発明は、α−ヒド
ロキシイソ酪酸及びα−ヒドロキシイソ酪酸エステを含
み塩素及びフッ素系成分を含まないことを特徴とするフ
ラックス洗浄剤組成物に関する。
The present inventors have conducted intensive studies to develop a flux detergent composition having the above-mentioned preferable performance, and as a result, have found that α-hydroxyisobutyric acid and α-hydroxyisobutyrate ester have been obtained. The inventors have found that a flux solvent composition containing as an essential component has excellent cleaning ability, and arrived at the present invention. That is, the present invention relates to a flux detergent composition comprising α-hydroxyisobutyric acid and α-hydroxyisobutyric acid ester and containing no chlorine and fluorine-based components.

【0006】本発明のフラックス洗浄剤組成物は、α−
ヒドロキシイソ酪酸を0.1〜30重量%、好ましくは
0.5〜20重量%含み、α−ヒドロキシイソ酪酸エス
テルを10〜99.9重量%含む。該α−ヒドロキシイ
ソ酪酸エステルとしてα−ヒドロキシイソ酪酸メチル、
α−ヒドロキシイソ酪酸エチル、及びα−ヒドロキシイ
ソ酪酸イソプロピルが例示できる。
The flux detergent composition of the present invention comprises α-
It contains 0.1 to 30% by weight, preferably 0.5 to 20% by weight of hydroxyisobutyric acid and 10 to 99.9% by weight of α-hydroxyisobutyrate. Methyl α-hydroxyisobutyrate as the α-hydroxyisobutyrate,
Examples thereof include ethyl α-hydroxyisobutyrate and isopropyl α-hydroxyisobutyrate.

【0007】本発明ではα−ヒドロキシイソ酪酸及びα
−ヒドロキシイソ酪酸エステルの他に、更に他の有機溶
剤を添加してもよい。他の有機溶剤としては塩素及びフ
ッ素を含まない有機溶剤が用いられる。具体的にはヘキ
サン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ドデカ
ン、ウンデカン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、キシレン、エチルベンゼン、クメン、メシチレ
ン、ナフタレン、テトラリン、ナフタリン等の芳香族炭
化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール
等のアルコール類、フェノール、クレゾール、キシレノ
ール等のフェノール類、アセトン、メチルエチルケト
ン、ペンタノン、ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチ
ルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、アセトフェ
ノン等のケトン類、ジプロピルエーテル、ジブチルエー
テル、ジヘキシルエーテル、アニソール、フェネトー
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、
蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ベンジル、
安息香酸エステル、クエン酸エステル、琥珀酸エステ
ル、ケイ皮酸エステル、アビエチン酸エステル、ステア
リン酸エステル、シュウ酸エステル、マロン酸エステ
ル、マレイン酸エステル、酒石酸エステル、セバシン酸
エステル、フタル酸エステル、乳酸エステル、グリコー
ル酸エステル等のエステル類、アセトニトリル、アミン
類等の窒素化合物、ジメチルスルホキシド等の硫黄化合
物、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノー
ル、ジエチレングリコール、エチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレング
リコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル等の化合物を例示する
ことができるが、これらだけに限定されるものではな
い。これら溶剤の添加量は0〜70重量%の範囲であ
る。
In the present invention, α-hydroxyisobutyric acid and α
In addition to the hydroxyisobutyrate, another organic solvent may be further added. As the other organic solvent, an organic solvent containing no chlorine and fluorine is used. Specifically, hexane, heptane, octane, nonane, decane, dodecane, aliphatic hydrocarbons such as undecane, benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, cumene, mesitylene, naphthalene, aromatic hydrocarbons such as tetralin, naphthalene, Alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, pentanol, hexanol and heptanol; phenols such as phenol, cresol and xylenol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, pentanone, hexanone, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone and acetophenone , Ethers such as dipropyl ether, dibutyl ether, dihexyl ether, anisole, phenetole, dioxane, tetrahydrofuran,
Ethyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, benzyl acetate,
Benzoate, citrate, succinate, cinnamate, abietate, stearate, oxalate, malonate, maleate, tartrate, sebacate, phthalate, lactate , Esters such as glycolic acid esters, nitrogen compounds such as acetonitrile and amines, sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, diethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol Dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol Dimethyl ether, it can be exemplified compound and diethylene glycol diethyl ether, but is not limited thereto. The addition amount of these solvents is in the range of 0 to 70% by weight.

【0008】本発明のフラックス洗浄剤組成物には0〜
20重量%の範囲内であれば水が含まれていてもよい。
これらフラックス洗浄剤組成物に洗浄力向上のため、界
面活性剤や酸化防止剤を添加しても良い。また、フラッ
クス洗浄剤組成物の種類を明確にするため着色剤を添加
することもできる。あるいはその他の目的のために種々
の添加剤を併用することもできる。
[0008] The flux detergent composition of the present invention contains 0 to
Water may be contained within the range of 20% by weight.
A surfactant or an antioxidant may be added to these flux detergent compositions to improve the detergency. Further, a coloring agent may be added to clarify the type of the flux detergent composition. Alternatively, various additives can be used in combination for other purposes.

【0009】本発明のフラックス洗浄剤組成物の溶液粘
度は0.3〜5.0mPa ・ s が好ましい。5.0mPa ・
s より高いと基板と洗浄剤との溶剤離れが悪く、0.3
mPa・ s より低いと洗浄効果が上がらない。本発明のフ
ラックス洗浄剤組成物の表面張力は35dyn/cm以下が好
ましい。更に好ましくは30dyn/cm以下であり、35dy
n/cmより大きいと洗浄効果が劣る。
The solution viscosity of the flux detergent composition of the present invention is preferably 0.3 to 5.0 mPa · s. 5.0mPa ・
s, the solvent separation between the substrate and the cleaning agent is poor, and 0.3
If it is lower than mPa · s, the cleaning effect will not be improved. The surface tension of the flux detergent composition of the present invention is preferably 35 dyn / cm or less. More preferably, it is 30 dyn / cm or less, and 35 dy
If it is larger than n / cm, the cleaning effect is inferior.

【0010】洗浄温度は室温でも良く、また、必要に応
じて加温して洗浄しても良い。洗浄方法は特に限定され
ないが、浸漬法、シャワー法、スプレー法、パドル法、
バブル法、超音波洗浄法などが好適に使用される。
The washing temperature may be room temperature, or may be increased by heating if necessary. Washing method is not particularly limited, dipping method, shower method, spray method, paddle method,
A bubble method, an ultrasonic cleaning method, or the like is preferably used.

【0011】本発明の洗浄液はα−ヒドロキシイソ酪酸
及びα−ヒドロキシイソ酪酸エステルを含み、熱変性し
たロジンをも洗浄できる。しかしながら、洗浄後、回路
基板上に酸性成分であるα−ヒドロキシイソ酪酸が残る
事は好ましくない。本願発明のフラックス洗浄剤組成物
で洗浄後、その洗浄液と容易に混合することができ且つ
酸性成分を含まない液でリンスすることにより、α−ヒ
ドロキシイソ酪酸を容易に除去でき、金属腐食を抑える
ことができることも見いだした。即ち回路基板上にフラ
ックスを用いて部品をはんだ付けし、基板上に残留して
いるフラックスを、α−ヒドロキシイソ酪酸及びα−ヒ
ドロキシイソ酪酸エステルを含み塩素及びフッ素成分を
含まないフラックス洗浄剤組成物で洗浄したのち、該フ
ラックス洗浄剤組成物と容易に混合することができ且つ
酸性成分を含まない液でリンスする。ここで使用される
リンス液としては、α−ヒドロキシイソ酪酸エステルや
前記したその他の有機溶剤及びそれらの混合溶剤などが
用いられる。また、洗浄液と混合することができれば水
でも良い。必要に応じてリンス液に界面活性剤等を添加
しても良い。リンスする方法は、浸漬法、シャワー法、
スプレー法、パドル法、バブル法、超音波洗浄法などが
好適に使用される。次に、本発明のフラックス洗浄剤組
成物に関する洗浄作用について代表的な実施例及び参考
例を示すが、本発明はこれらだけに限定されるものでは
い。なお、%は特に断らない限り重量%を示す。
The washing liquid of the present invention contains α-hydroxyisobutyric acid and α-hydroxyisobutyric acid ester, and can also wash thermally modified rosin. However, it is not preferable that α-hydroxyisobutyric acid, which is an acidic component, remains on the circuit board after washing. After washing with the flux detergent composition of the present invention, α-hydroxyisobutyric acid can be easily removed by rinsing with a solution that can be easily mixed with the washing solution and does not contain an acidic component, thereby suppressing metal corrosion. I also found that I can do it. That is, the components are soldered on a circuit board using a flux, and the flux remaining on the board is replaced with a flux detergent composition containing α-hydroxyisobutyric acid and α-hydroxyisobutyrate and containing no chlorine and fluorine components. After washing with an object, rinse with a liquid that can be easily mixed with the flux detergent composition and does not contain acidic components. As the rinsing liquid used here, α-hydroxyisobutyric acid ester, the above-mentioned other organic solvents, a mixed solvent thereof and the like are used. Water may be used as long as it can be mixed with the cleaning liquid. If necessary, a surfactant or the like may be added to the rinsing liquid. The rinsing method is the dipping method, the shower method,
A spray method, a paddle method, a bubble method, an ultrasonic cleaning method and the like are suitably used. Next, typical examples and reference examples of the cleaning action of the flux detergent composition of the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto. In addition,% shows weight% unless there is particular notice.

【0012】[0012]

【実施例】フラックス洗浄試験方法 鋼板(パルテックス社製、PB−3118)にはんだと
フラックス(重合ロジン、荒川化学工業製)の溶液(イ
ソプロパノール30%溶液)を塗布し、ホットブラスタ
ーで220℃、20分間加熱した。加熱処理した鋼板を
室温(23℃)下で、所定量混合した各種の洗浄溶剤に
浸漬し、1分毎に取り出し、洗浄状態を目視で観察し
た。結果を表1(実施例)と表2(比較例)にまとめ
た。なお、下記表中、洗浄性の判定(28℃)は以下の
基準に従った。 (○)残さが全く見られない (△)僅かに残さが見られる (×)残さが見られる
EXAMPLES Flux washing test method A solution (30% solution of isopropanol) of solder and flux (polymerized rosin, Arakawa Chemical Industries) was applied to a steel plate (PB-3118, manufactured by Paltex), and the solution was heated at 220 ° C. with a hot blaster. Heat for 20 minutes. The heat-treated steel sheet was immersed in various kinds of cleaning solvents mixed at a predetermined amount at room temperature (23 ° C.), taken out every minute, and the cleaning state was visually observed. The results are summarized in Table 1 (Example) and Table 2 (Comparative Example). In addition, in the following tables, the determination of detergency (28 ° C.) was based on the following criteria. (○) No residue is seen (△) Slight residue is seen (×) Residue is seen

【0013】 表1 実施例 1 2 3 4 5 6 洗浄剤組成(%) HBM 90 80 70 60 60 70 HBA 10 5 5 10 10 10 水 0 5 10 0 0 0 イソプロパノール 0 10 15 10 10 0 キシレン 0 0 0 20 0 0 酢酸イソアミル 0 0 0 0 20 0アニソール 0 0 0 0 0 20 液粘度(mPa・s) 2.7 2.4 2.4 2.2 2.2 2.3 表面張力(dyne/cm) 29.2 27.6 27.6 27.5 26.8 29.4 洗浄時間(min) 5 5 10 3 5 5洗浄性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ HBM:α−ヒドロキシイソ酪酸メチル HBA:α−ヒドロキシイソ酪酸 Table 1 Example 1 2 3 4 5 6 Detergent composition (%) HBM 90 80 70 60 60 70 HBA 10 5 5 10 10 10 Water 0 5 10 0 0 0 Isopropanol 0 10 15 10 10 0 Xylene 0 0 0 200 000 Isoamyl acetate 00 000 200 Anisole 0 000 020 Liquid viscosity (mPas) 2.7 2.4 2.4 2.2 2.2 2.3 Surface tension (dyne / cm) 29.2 27.6 27.6 27.5 26.8 29.4 Washing time (min) 5 5 10 3 5 5 Detergency ○ ○ ○ ○ ○ ○ HBM: methyl α-hydroxyisobutyrate HBA: α-hydroxyisobutyric acid

【0014】 表2 比較例 1 2 3 4 5 6 洗浄剤組成(%) HBM 0 0 0 0 0 0 水 0 0 0 20 0 0 イソプロパノール 30 0 0 0 0 0 キシレン 70 30 0 0 0 0 ヘキサン 0 70 0 0 0 0 クメン 0 0 100 0 0 0 エチセロ 0 0 0 80 0 0 1−ドデカン 0 0 0 0 90 0 ベンジルアルコール 0 0 0 0 10 0トリクレン 0 0 0 0 0 100 液粘度(mPa・s) 1.1 0.4 0.7 1.8 2.0 0.6 表面張力(dyne/cm) 26.2 21.0 28.2 37.1 26.9 29.5 洗浄時間(min) 20 20 20 10 10 5洗浄性 × × △ × × × HBM:α−ヒドロキシイソ酪酸メチル エチセロ:エチレングリコールモノエチルエーテル トリクレン:1,1,1−トリクロロエタン Table 2 Comparative Example 1 2 3 4 5 6 Detergent Composition (%) HBM 0 0 0 0 0 Water 0 0 0 0 0 0 0 Isopropanol 3 0 0 0 0 0 Xylene 70 3 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 70 0 0 0 0 0 Cumene 0 0 100 0 0 0 Ethicello 0 0 0 0 0 0 0 1-Dodecane 0 0 0 0 0 0 0 Benzyl alcohol 0 0 0 0 1 0 Tricrene 0 0 0 0 0 0 100 Liquid viscosity (mPa · s) 1.1 0.4 0.7 1.8 2.0 0.6 Surface tension (dyne / cm) 26.2 21.0 28.2 37.1 26.9 29.5 Cleaning time (min) 20 20 20 10 10 5 Detergency × × △ × × × HBM: α-Hydroxyisobutyrate Ethicello: Ethylene glycol mono Ethyl ether trichlene: 1,1,1-trichloroethane

【0015】[0015]

【発明の効果】本発明のフラックス洗浄剤組成物によれ
ば、フラックスが熱変性を受けて出来た腐食性物質をは
んだ接合部に残存することなく、良好にフラックス洗浄
できる。しかも、従来の塩素系溶剤による地球環境破壊
も生じることはなく、且つ安全に作業ができる。
According to the flux detergent composition of the present invention, the flux can be satisfactorily washed without leaving the corrosive substance formed by the heat denaturation at the solder joint. Moreover, the earth environment is not destroyed by the conventional chlorine-based solvent, and the operation can be performed safely.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3B201 AA01 AB01 BB01 BB92 CC01 CC21 4H003 DA15 ED02 ED03 ED28 ED29 ED30 ED32 FA01 FA03 FA21 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 3B201 AA01 AB01 BB01 BB92 CC01 CC21 4H003 DA15 ED02 ED03 ED28 ED29 ED30 ED32 FA01 FA03 FA21

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 α−ヒドロキシイソ酪酸及びα−ヒドロ
キシイソ酪酸エステルを含み塩素及びフッ素系成分を含
まないことを特徴とするフラックス洗浄剤組成物。
1. A flux detergent composition comprising α-hydroxyisobutyric acid and α-hydroxyisobutyric acid ester, and free of chlorine and fluorine-based components.
【請求項2】 α−ヒドロキシイソ酪酸を0.1〜30
重量%を含む請求項1記載のフラックス洗浄剤組成物。
2. The method according to claim 1, wherein α-hydroxyisobutyric acid is contained in an amount of 0.1 to 30.
The flux detergent composition according to claim 1, comprising% by weight.
【請求項3】 α−ヒドロキシイソ酪酸エステルがα−
ヒドロキシイソ酪酸メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸エ
チル、α−ヒドロキシイソ酪酸イソプロピル又はα−ヒ
ドロキシイソ酪酸ブチルであり、該α−ヒドロキシイソ
酪酸エステルを10〜99.9重量%を含む請求項1に
記載のフラックス洗浄剤組成物。
3. The method according to claim 1, wherein the α-hydroxyisobutyrate is α-hydroxyisobutyrate.
The methyl hydroxyisobutyrate, ethyl α-hydroxyisobutyrate, isopropyl α-hydroxyisobutyrate or butyl α-hydroxyisobutyrate, wherein the α-hydroxyisobutyrate contains 10 to 99.9% by weight. Flux cleaning composition.
【請求項4】 脂肪族及び芳香族炭化水素化合物、水酸
基化合物、ケトン類、エーテル類、エステル類からなる
群より選ばれる少なくとも1種の有機溶剤を0〜70重
量%含有する請求項1に記載のフラックス洗浄剤組成
物。
4. The composition according to claim 1, which contains 0 to 70% by weight of at least one organic solvent selected from the group consisting of aliphatic and aromatic hydrocarbon compounds, hydroxyl compounds, ketones, ethers and esters. Flux cleaning composition.
【請求項5】 洗浄剤組成物粘度が0.3〜5.0mP
a・sである請求項1に記載のフラックス洗浄剤組成
物。
5. A detergent composition having a viscosity of 0.3 to 5.0 mP.
The flux detergent composition according to claim 1, which is a · s.
【請求項6】 フラックス洗浄剤組成物の表面張力が3
5dyn/cm以下である請求項1に記載のフラックス洗浄剤
組成物。
6. A flux detergent composition having a surface tension of 3
The flux detergent composition according to claim 1, wherein the flux detergent composition is 5 dyn / cm or less.
【請求項7】 基板上にフラックスを用いて部品をはん
だ付けし、基板上に残留しているフラックスを、α−ヒ
ドロキシイソ酪酸及びα−ヒドロキシイソ酪酸エステル
を含み塩素及びフッ素系成分を含まないフラックス洗浄
剤組成物で洗浄したのち、該フラックス洗浄剤組成物と
容易に混合することができ且つ酸性成分を含まない液で
リンスすることを特徴とするフラックスの洗浄方法。
7. A component is soldered on a substrate using a flux, and the flux remaining on the substrate is reduced to a flux containing α-hydroxyisobutyric acid and α-hydroxyisobutyrate and not containing chlorine and fluorine-based components. A method for cleaning a flux, comprising washing with a flux detergent composition, and then rinsing with a liquid that can be easily mixed with the flux detergent composition and does not contain an acidic component.
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