JP2002172781A - Ink jet head - Google Patents

Ink jet head

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JP2002172781A
JP2002172781A JP2000374854A JP2000374854A JP2002172781A JP 2002172781 A JP2002172781 A JP 2002172781A JP 2000374854 A JP2000374854 A JP 2000374854A JP 2000374854 A JP2000374854 A JP 2000374854A JP 2002172781 A JP2002172781 A JP 2002172781A
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JP
Japan
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ink
jet head
heating element
heat
ink jet
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Application number
JP2000374854A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideki Kamata
英樹 鎌田
Hideaki Inoue
秀昭 井上
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Casio Computer Co Ltd
Original Assignee
Casio Computer Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ink jet head having a heat dissipation layer which can be formed at a high rate and having no possibility of short-circuiting to an electrode, or the like. SOLUTION: A long ink jet head for line printer comprises a plurality of stripe heat sinks 31 provided at the upper part of an insulating substrate 30 of glass or the like, an insulation layer 32 provided on the upper layer of the heat sinks 31, heaters 33 provided on the upper layer of the insulation layer 32, and electrodes 34 (discrete wiring electrodes 34-1, common electrode 34-2) provided on the upper layer of the heaters 33. Ink channels are formed thereon by barrier walls and an orifice plate is placed thereon, and then a large number of ejection nozzles corresponding to the widthwise direction of the sheet are formed at positions corresponding to the heaters 33 on the orifice plate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、放熱性と絶縁性に
優れた構造を備えたインクジェットヘッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ink jet head having a structure excellent in heat dissipation and insulation.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、インクジェットヘッドからイ
ンクを用紙面に吐出して印字を行うプリンタがある。こ
のプリンタによる印字方法は、インクジェットヘッドの
インク吐出面に多数配列されている微細な孔(吐出ノズ
ル)からインク滴を吐出させ、このインク滴(印字ドッ
ト)を紙、布などの印字媒体上に着弾させて吸収させ、
これにより文字や画像等の印字を行なうものであり、騒
音の発生が少なく、特別な定着処理を要することもなく
且つフルカラー記録も比較的容易な記録方法である。
2. Description of the Related Art Conventionally, there is a printer which performs printing by discharging ink from an ink jet head onto a paper surface. In a printing method using this printer, ink droplets (print dots) are ejected from fine holes (ejection nozzles) arranged in large numbers on the ink ejection surface of an ink jet head, and the ink droplets (print dots) are printed on a print medium such as paper or cloth. Let it land and absorb it,
Thus, printing of characters, images, and the like is performed, the generation of noise is small, no special fixing process is required, and full-color recording is a relatively easy recording method.

【0003】インク滴を吐出させる方法としては、微細
なインク加圧室に発熱体を配して、この発熱体に電気パ
ルスを与えて発熱させ高速でインクと発熱体の界面に膜
気泡を発生させ、その膜気泡の瞬間的な膨張力を利用し
て吐出ノズルからインク滴を吐出させるサーマル式のイ
ンクジェットヘッドがある。
As a method of discharging ink droplets, a heating element is arranged in a fine ink pressurizing chamber, and an electric pulse is applied to the heating element to generate heat, thereby generating film bubbles at an interface between the ink and the heating element at high speed. There is a thermal ink jet head that discharges ink droplets from discharge nozzles by using the instantaneous expansion force of the film bubbles.

【0004】上記のサーマル式のインクジェットヘッド
には、インク滴の吐出方向により、二通りの構成があ
り、一つは発熱体の表面に平行な方向へインク滴を吐出
する構成のものであり、他の一つは発熱体の表面に垂直
な方向にインク滴を吐出する構成のものである。中でも
発熱体の表面に垂直な方向にインク滴を吐出する構成の
ものは、ルーフシュータ型又はトップシュータ型のイン
クジェットヘッドと呼称されており、発熱体の表面に平
行な方向へインク滴を吐出する構成のものに比較して、
消費電力が極めて小さくて済むことが知られている。
[0004] The above-mentioned thermal type ink jet head has two configurations depending on the direction of ink droplet ejection. One is a configuration in which ink droplets are ejected in a direction parallel to the surface of the heating element. The other is configured to discharge ink droplets in a direction perpendicular to the surface of the heating element. Above all, those that eject ink droplets in the direction perpendicular to the surface of the heating element are called roof shooter type or top shooter type inkjet heads, and eject ink droplets in a direction parallel to the surface of the heating element. Compared to the configuration,
It is known that power consumption is extremely small.

【0005】このルーフシュータ型のインクジェットヘ
ッドの製法としては、例えば6×25.4mm以上の直
径の一枚のシリコンウエハ上に例えば90個以上に区画
された10mm×15mm程度の大きさの多数のチップ
基板の上に、LSI形成技術と薄膜形成技術を利用し
て、多数の発熱体と、これらを個々に発熱駆動する駆動
回路と、これにインクを供給するインク流路と、インク
滴を吐出する吐出ノズルとを、一括してモノリシックに
形成する方法がある。
[0005] As a method of manufacturing this roof shooter type ink jet head, for example, a large number of pieces of about 10 mm x 15 mm divided into, for example, 90 pieces or more on one silicon wafer having a diameter of 6 x 25.4 mm or more. A large number of heating elements, a driving circuit for individually driving these elements, an ink flow path for supplying ink thereto, and ejection of ink droplets on the chip substrate by utilizing LSI forming technology and thin film forming technology. And the discharge nozzles to be formed are collectively formed monolithically.

【0006】また、上記のように10mm×15mm程
度の大きさのチップ基板上に個々に作成されるインクジ
ェットヘッドは、主としてインクジェットヘッドが用紙
の幅方向に移動して印字を行うシリアルプリンタ用のイ
ンクジェットヘッドとして用いられるが、近年では、用
紙の幅一杯の吐出ノズル列を有してプリンタ本体に固定
され、用紙のみが移動して印字が行われるラインプリン
タ用の大型長尺のインクジェットヘッドを作成するため
の基板として、大きさに限界のあるシリコンウエハでは
なくガラス基板を用いる方法も提案されている。
As described above, an ink jet head individually formed on a chip substrate having a size of about 10 mm × 15 mm is mainly an ink jet head for a serial printer which performs printing by moving the ink jet head in the width direction of paper. Although used as a head, in recent years, a large and long inkjet head for a line printer, which has a discharge nozzle array that is full width of the paper and is fixed to the printer main body, and only the paper moves to perform printing, is created. A method using a glass substrate instead of a silicon wafer having a limited size has also been proposed.

【0007】図3(a),(b),(c) は、そのような従来のイ
ンクジェットヘッドの基本的な製造方法を工程順に示す
図であり、同図(a),(b),(c) の上段は、それぞれ一連の
工程において基板上に形成されていく状態の概略の平面
図、中段は、上段のA−A′断面矢視図、下段は、上段
のB−B′断面矢視図を示している。
FIGS. 3 (a), 3 (b) and 3 (c) are views showing a basic manufacturing method of such a conventional ink jet head in the order of steps. c) The upper part is a schematic plan view of the state formed on the substrate in a series of steps, the middle part is an AA 'sectional view of the upper part, and the lower part is an BB' sectional arrow of the upper part. FIG.

【0008】尚、同図(a),(b),(c) には、図示する上で
の便宜上、本来はシリアルプリンタ用であれば64個、
128個あるいは256個など、また、ラインプリンタ
用であれば数千個というように多数形成される吐出ノズ
ルを、5個の吐出ノズルで代表させて示している。ま
た、これらの図には、説明の便宜上、1列のみの吐出ノ
ズルを備えたモノクロ用インクジェットヘッドを示して
いる。先ず、シリコンウエハ上に作成される小型のイン
クジェットヘッドについて説明する。
In FIGS. 1 (a), 1 (b) and 1 (c), for convenience of illustration, 64 pieces are originally used for a serial printer.
A large number of ejection nozzles, such as 128 or 256, or thousands for a line printer, are represented by five ejection nozzles. In these figures, for convenience of description, a monochrome inkjet head having only one row of ejection nozzles is shown. First, a small-sized inkjet head formed on a silicon wafer will be described.

【0009】この印字ヘッドの製造方法は、先ず、工程
1として、4×25.4mm以上のシリコン基板上に多
数細分化されたチップ基板の区画にそれぞれLSI形成
処理により駆動回路とその端子を形成すると共に、絶縁
層として厚さ1〜2μmの酸化膜(Si O2 )を形成
し、次に、工程2として、薄膜形成技術を用いて、タン
タル(Ta)−シリコン(Si)−酸素(O)又はTa
−Si−O−N(窒素)からなる発熱抵抗体膜と、Ti
−W等の密着層を介在させてAuなどによる電極膜を順
次積層形成する。そして、電極膜と発熱抵抗体膜をフォ
トリソグラフィー技術によって夫々パターニングし、ス
トライプ状となった発熱抵抗体膜の発熱体とする領域を
露出させ、その両側の発熱抵抗体膜に重ねて配線電極を
形成して、発熱体と両側の配線電極とからなる発熱素子
を形成する。この工程で発熱体の位置が決められる。
In this method of manufacturing a print head, first, as a step 1, a drive circuit and its terminals are formed by LSI forming processing on a plurality of subdivided chip substrate sections on a silicon substrate of 4 × 25.4 mm or more. At the same time, an oxide film (SiO 2 ) having a thickness of 1 to 2 μm is formed as an insulating layer, and then, in step 2, using a thin film forming technique, tantalum (Ta) -silicon (Si) -oxygen (O 2) ) Or Ta
A heat-generating resistor film made of -Si-ON (nitrogen);
An electrode film made of Au or the like is sequentially laminated with an adhesive layer such as -W interposed therebetween. Then, the electrode film and the heating resistor film are each patterned by photolithography technology to expose a region of the heating resistor film in the form of a stripe, which serves as a heating element, and a wiring electrode is superimposed on the heating resistor films on both sides thereof. Then, a heating element including a heating element and wiring electrodes on both sides is formed. In this step, the position of the heating element is determined.

【0010】図3(a) は、上記の工程1及び工程2が終
了した直後の状態を示している。すなわち、チップ基板
1の幅方向の一方(図では右方)の端部近傍に沿って駆
動回路2が形成されている。また、図示を省略している
が、チップ基板1の縦方向(横方向の場合もある)の端
部には、外部電源端子と接続するための駆動回路端子が
形成されている。そして、その上からチップ基板1の全
面に絶縁層3が形成され、その絶縁層3の上に、発熱体
4が形成されている。発熱体4の一方の端部に共通電極
5が接続され、他方の端部と駆動回路2との間に個別配
線電極6が接続されている。
FIG. 3A shows a state immediately after the steps 1 and 2 have been completed. That is, the driving circuit 2 is formed along the vicinity of one end (right side in the drawing) of the chip substrate 1 in the width direction. Although not shown, a drive circuit terminal for connecting to an external power supply terminal is formed at an end of the chip substrate 1 in a vertical direction (or in a horizontal direction). An insulating layer 3 is formed on the entire surface of the chip substrate 1 from above, and a heating element 4 is formed on the insulating layer 3. A common electrode 5 is connected to one end of the heating element 4, and an individual wiring electrode 6 is connected between the other end and the drive circuit 2.

【0011】続いて、工程3として、個々の発熱体4に
対応するインク加圧室及びこれらのインク加圧室にイン
クを供給するインク流路を形成すべく感光性ポリイミド
などの有機材料からなる隔壁部材をコーティングにより
高さ20μm程度に形成し、これをフォトリソ技術によ
りパターン化した後に、300℃〜400℃の熱を30
分〜60分加えるキュア(乾燥硬化、焼成)を行い、高
さ10μm程度の上記感光性ポリイミドによる隔壁をチ
ップ基板上に形成・固着させる。更に、工程4として、
ウェットエッチングまたはサンドブラスト法などにより
上記チップ基板の面に細長のインク供給溝を形成し、更
にこのインク供給溝に連通し基板下面に開口するインク
給送孔を形成する。
Subsequently, in step 3, an ink pressurizing chamber corresponding to each heating element 4 and an ink flow path for supplying ink to these ink pressurizing chambers are formed of an organic material such as photosensitive polyimide. A partition member is formed to a height of about 20 μm by coating, and after patterning this by photolithography, heat of 300 ° C. to 400 ° C. is applied for 30 minutes.
Then, curing (dry curing, baking) is performed for about 60 minutes, and a partition made of the photosensitive polyimide having a height of about 10 μm is formed and fixed on the chip substrate. Further, as step 4,
An elongated ink supply groove is formed on the surface of the chip substrate by wet etching or sand blasting, and an ink supply hole communicating with the ink supply groove and opening on the lower surface of the substrate is formed.

【0012】この工程4では、発熱体、配線電極、隔壁
などが形成されている表面側のインク供給溝と、裏面側
のインク給送孔では、形状が異なるため、表裏から別々
に加工を行う。例えば表面側にインク供給溝をチップ基
板の厚さ半分程度まで穿設し、裏面側からインク給送孔
を穿設して表裏に貫通させる。
In step 4, since the shape of the ink supply groove on the front side where the heating elements, wiring electrodes, partition walls, etc. are formed and the shape of the ink supply hole on the back side are different, processing is performed separately from the front and back. . For example, an ink supply groove is formed on the front side to about half the thickness of the chip substrate, and an ink supply hole is formed from the back side to penetrate the front and back.

【0013】図3(b) は、上述の工程3及び工程4が終
了した直後の状態を示している。すなわち、細長いイン
ク供給溝7及び丸又は角形のインク給送孔8が形成さ
れ、インク供給溝7の左側に位置する共通電極5部分
と、右方の個別配線電極6が配設されている部分、及び
各発熱体4と発熱体4の間に、隔壁9(シール隔壁9−
1、9−2、区画隔壁9−3)が形成されている。
FIG. 3B shows a state immediately after Steps 3 and 4 are completed. That is, an elongated ink supply groove 7 and a round or square ink supply hole 8 are formed, and a portion where the common electrode 5 located on the left side of the ink supply groove 7 and a right individual wiring electrode 6 are disposed. , And a partition 9 (seal partition 9-)
1, 9-2 and a partition wall 9-3) are formed.

【0014】上記の隔壁9は、個別配線電極6上のシー
ル隔壁9−2を櫛の胴とすれば、各発熱体4と発熱体4
との間に伸び出す区画隔壁9−3は櫛の歯に相当する形
状をなしている。これにより、この櫛の歯状の区画隔壁
9−3を仕切り壁として、その歯と歯の間の付け根部分
に発熱体4が位置する微細な区画部が、発熱体4の数だ
け形成される。
Each of the heat generating elements 4 and the heat generating elements 4 can be formed by forming the above-mentioned partition wall 9 by using a sealing wall 9-2 on the individual wiring electrode 6 as a comb body.
The partition wall 9-3 extending between them has a shape corresponding to the teeth of a comb. As a result, the fine partition sections in which the heating elements 4 are located at the roots between the teeth are formed by the number of the heating elements 4 with the comb-shaped partition walls 9-3 of the comb as partition walls. .

【0015】この後、工程5として、ポリイミドからな
る厚さ10〜30μmのフィルムのオリフィス板で、そ
の両面又は片面に接着剤としての熱可塑性ポリイミドを
極薄に例えば厚さ2〜5μmにコーテングした状態のも
のを、上記積層構造の最上層つまり隔壁の上に載置し、
真空中で200〜50℃で加熱しながら、9.8×10
-4Paの数倍の圧力で加圧し、これを数10分続けて、
そのオリフィス板を固着させる。続いて真空装置又はス
パッタ装置でTi、Ni、Cu又はAlなどの厚さ0.
5〜1μm程度の金属膜をオリフィス板表面に蒸着す
る。
Thereafter, in step 5, an orifice plate of a film made of polyimide having a thickness of 10 to 30 μm was used, and thermoplastic polyimide as an adhesive was coated on both sides or one side of the orifice to an extremely thin thickness of, for example, 2 to 5 μm. In the state, placed on the uppermost layer of the laminated structure, that is, the partition,
While heating at 200 to 50 ° C. in a vacuum, 9.8 × 10
-4 Pa at a pressure several times as high as this, and this is continued for several tens of minutes.
The orifice plate is fixed. Subsequently, the thickness of Ti, Ni, Cu or Al is reduced to 0.
A metal film of about 5 to 1 μm is deposited on the surface of the orifice plate.

【0016】更に、工程6として、オリフィス板表面の
上記金属膜をパターン化して、ポリイミドを選択的にエ
ッチングするマスクを形成し、続いて、例えばヘリコン
波によるドライエッチング等により上記の金属膜マスク
に従って吐出ノズルとして20μmφ〜40μmφの多
数の孔をオリフィス板に一括形成する。
In step 6, the metal film on the surface of the orifice plate is patterned to form a mask for selectively etching polyimide, and then, for example, dry etching using a helicon wave is performed in accordance with the metal film mask. A large number of holes of 20 μmφ to 40 μmφ are formed in the orifice plate as discharge nozzles.

【0017】図3(c) は、上述した工程5と工程6が終
了した直後の状態を示している。すなわち、オリフィス
板11が全領域を覆っており、シール隔壁9−2及び区
画隔壁9−3によって形成されている区画部も上を覆わ
れて隔壁9の厚さ10μmに対応する高さの微細なイン
ク加圧室12を形成して、その開口をインク供給溝7方
向に向けている。そして、これらインク加圧室12の開
口とインク供給溝7とを連通させる高さ10μmのイン
ク流路13が形成されている。
FIG. 3C shows a state immediately after the steps 5 and 6 have been completed. That is, the orifice plate 11 covers the entire area, and the partition formed by the seal partition 9-2 and the partition 9-3 is also covered on the top, and the height of the partition 9 corresponds to a thickness of 10 μm. The ink pressurizing chamber 12 is formed, and its opening is directed toward the ink supply groove 7. In addition, an ink flow path 13 having a height of 10 μm is formed to connect the opening of the ink pressurizing chamber 12 and the ink supply groove 7.

【0018】そして、オリフィス板11には、インク加
圧室12の発熱体4に対向する位置に吐出ノズル14が
ドライエッチングによって形成されている。これによ
り、64個、128個、256個等の吐出ノズル14を
1列に備えたモノカラー用のインクジェットヘッド15
がシリコンウェハ上に多数完成する。
A discharge nozzle 14 is formed in the orifice plate 11 at a position facing the heating element 4 of the ink pressurizing chamber 12 by dry etching. Thus, a mono-color inkjet head 15 having 64, 128, 256, etc. ejection nozzles 14 in one row.
Are completed on a silicon wafer.

【0019】ここまでが、シリコンウェハの状態で処理
される。そして、最後に、工程7として、ダイシングソ
ーなどを用いてシリコンウェハをスクライブラインに沿
ってカッテングして、チップ基板単位毎に個別に分割
し、実装基板にダイボンデングし、端子接続して、実用
単位のインクジェットヘッドが完成する。
The processing up to this point is performed in the state of a silicon wafer. Finally, in step 7, the silicon wafer is cut along a scribe line using a dicing saw or the like, divided into individual chip substrate units, die-bonded to a mounting substrate, and connected to terminals to form a practical unit. Is completed.

【0020】上記のように1列の吐出ノズル14を備え
たインクジェットヘッド15はモノクロ用インクジェッ
トヘッドの構成であるが、通常フルカラー印字において
は、減法混色の三原色であるイエロー(Y)、マゼンタ
(M)、シアン(C)の3色に、文字や画像の黒部分に
専用されるブラック(Bk)を加えて合計4色のインク
を必要とする。したがって最低でも4列のノズル列が必
要である。そして上述した製造方法によればモノカラー
用のインクジェットヘッド15の構成をモノリシックに
4列構成とすることは可能であり、4列に構成された各
ノズル列の位置関係も今日の半導体の製造技術により正
確に配置することが可能である。
As described above, the ink-jet head 15 having one row of discharge nozzles 14 is a monochrome ink-jet head. However, in full-color printing, the three primary colors of subtractive color mixing are yellow (Y) and magenta (M). ), Cyan (C) and black (Bk) dedicated to the black part of characters and images, and a total of four colors of ink are required. Therefore, at least four nozzle rows are required. According to the above-described manufacturing method, it is possible to monolithically configure the monochromatic inkjet head 15 to have a four-row configuration, and the positional relationship between the four-row nozzle rows is also determined by today's semiconductor manufacturing technology. Can be arranged more accurately.

【0021】また、前述したように、ラインプリンタ用
の大型で長尺のインクジェットヘッドを作成するため
に、ガラス基板を用いる方法がある。図4(a) は、その
ようにガラス基板を用いて形成される大型で長尺のイン
クジェットヘッドの外観を模式的に示す平面図であり、
同図(b) は、ガラス基板上に完成した複数のインクジェ
ットヘッドを示す平面図、同図(c) は、そのC−C′断
面矢視図、同図(d) は、そのD−D′断面矢視図であ
る。
As described above, there is a method in which a glass substrate is used to produce a large and long ink jet head for a line printer. FIG. 4A is a plan view schematically showing the appearance of a large and long inkjet head formed using such a glass substrate.
FIG. 1B is a plan view showing a plurality of inkjet heads completed on a glass substrate, FIG. 1C is a cross-sectional view taken along the line CC ′, and FIG. ′ FIG.

【0022】このインクジェットヘッド16は、同図
(a),(b),(c),(d) に示すように、大きなガラス基板17
(同図(b) 参照)の上に形成された駆動回路、発熱体、
配線電極、隔壁等からなる内部構成21(同図(c),(d)
参照)の上に、接着剤22を介してオリフィス板18が
積層され、これらのオリフィス板18に、それぞれのイ
ンクジェットヘッド16毎に4列の吐出ノズル列19
(同図(a) 参照)が形成された後、スクライブライン2
3(同図(b),(c) 参照)に沿って個々のチップ基板1
7′毎に同図(a) のように切り出される。
This ink jet head 16 is
As shown in (a), (b), (c) and (d), the large glass substrate 17
The drive circuit, heating element,
Internal structure 21 composed of wiring electrodes, partition walls, etc. ((c), (d)
Orifice plates 18 are laminated on top of each other through an adhesive 22, and the orifice plates 18 are provided with four ejection nozzle rows 19 for each ink jet head 16.
After the formation of the scribe line 2 (see FIG.
3 (see FIGS. (B) and (c) in the same figure).
Each 7 'is cut out as shown in FIG.

【0023】尚、上記の駆動回路、発熱体、配線電極、
隔壁の形成方法や、オリフィス板の積層、吐出ノズルの
穿設方法等は、図3で説明した方法とやや異なるが、以
下に述べる放熱板の構成を除いては、図3で説明した方
法と全体として大同小異であるので、ここでは説明を省
略する。
The above-described drive circuit, heating element, wiring electrode,
The method for forming the partition walls, the method for laminating the orifice plates, the method for perforating the discharge nozzles, and the like are slightly different from the methods described with reference to FIG. 3, but are the same as the methods described with reference to FIG. The difference is generally the same, so the description is omitted here.

【0024】ところで、図3に示した小型のインクジェ
ットヘッド15の場合は、基板がシリコンウエハであ
り、シリコンウェハは熱伝導率が大きいので、ヘッド全
体の発熱量は、自然放熱に任せても容易に外部に放散さ
せることができる。ところが、図4に示すインクジェッ
トヘッド16においては、実際にこのインクジェットヘ
ッド16を発熱駆動したときの発熱量が大きいのと、ベ
ースになっているガラス基板の熱伝導率が小さいため
に、小型のインクジェットヘッド15の場合ように自然
放熱に任せておくことができない。したがって、図4に
示すインクジェットヘッド16では、その内部構成21
の最下層つまり絶縁層の下に放熱層が必要になる。
In the case of the small ink jet head 15 shown in FIG. 3, the substrate is a silicon wafer, and the silicon wafer has a high thermal conductivity. Can be dissipated to the outside. However, in the ink-jet head 16 shown in FIG. 4, the heat generation amount when the ink-jet head 16 is actually driven to generate heat is large, and the heat conductivity of the base glass substrate is small. As in the case of the head 15, natural heat radiation cannot be left. Therefore, in the ink jet head 16 shown in FIG.
A heat radiation layer is required under the lowermost layer, that is, below the insulating layer.

【0025】図5(a) は、上記インクジェットヘッド1
6の内部構成21の発熱体を中心とした部分の拡大平面
図であり、同図(b) は、そのE−E′断面矢視図であ
る。同図(a),(b) に示すように、ガラス基板17の上一
面に放熱板24が着設されている、その放熱板24の上
層に、絶縁層25が被着され、その絶縁層25の上層
に、発熱体26を形成する発熱抵抗体膜がパターン化さ
れて被着されている、この発熱抵抗体膜の上層に、発熱
体26を形成している部分を除いて、その発熱体26の
両端に接続する形で、個別配線電極27と共通電極28
が覆設されている。発熱体26の発熱後の余剰の熱は、
上記の放熱板24を介してインクジェットヘッド16が
実装されるプリンタ本体の放熱部に伝達されて、放熱が
行われ、インクジェットヘッド16の冷却されるように
なっている。
FIG. 5A shows the ink jet head 1 described above.
6 is an enlarged plan view of a portion around the heating element of the internal structure 21 of FIG. 6, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the line EE ′ of FIG. As shown in FIGS. 7A and 7B, a radiator plate 24 is provided on the entire surface of the glass substrate 17. An insulating layer 25 is provided on the radiator plate 24. A heating resistor film forming the heating element 26 is patterned and attached on the upper layer 25. Except for the portion where the heating element 26 is formed on the heating resistor film, the heating resistor film is formed. The individual wiring electrodes 27 and the common electrodes 28 are connected to both ends of the body 26.
Is covered. Excess heat after the heating element 26 generates heat
The heat is transmitted to the heat radiating portion of the printer main body on which the ink jet head 16 is mounted via the heat radiating plate 24 to radiate heat and cool the ink jet head 16.

【0026】上記の放熱板24の形成方法としては、ア
モルフアスシリコンもしくはポリクリスタルシリコンを
20μm程度の厚さに成膜する方式が提案されている。
そして、これらの成膜方法としては、CVD法、マイク
ロ波プラズマCVD法、電子ビーム蒸着法、スパッタ法
等が知られている。
As a method of forming the heat radiating plate 24, a method of forming a film of amorphous silicon or polycrystalline silicon to a thickness of about 20 μm has been proposed.
As these film forming methods, a CVD method, a microwave plasma CVD method, an electron beam evaporation method, a sputtering method and the like are known.

【0027】[0027]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のアモ
ルフアスシリコンもしくはポリクリスタルシリコン等の
放熱板材料は、確かに熱伝導率は高いが導電性を有する
材料でもある。従って、これらで構成される放熱板の上
に被着される絶縁層は、個別配線電極、共通電極、発熱
体等との短絡防止のために、ピンホ−ルの無い高い信頼
性を持った絶縁膜でなければならない。もし、ピンホ−
ルなどがあって上層の配線部分と下層の放熱板との間に
短絡が生じると、発熱体26の発熱機能が損なわれ、イ
ンクジェットヘッド16全体が不良となってしまう。
Incidentally, the above-mentioned heat-dissipating plate material such as amorphous silicon or polycrystalline silicon is certainly a material having high thermal conductivity but having conductivity. Therefore, the insulating layer formed on the heat sink composed of the above is provided with a highly reliable insulating material without pinholes to prevent short circuits with the individual wiring electrodes, common electrodes, heating elements, and the like. Must be a membrane. If Pinho
If a short circuit occurs between the upper wiring portion and the lower heat radiating plate due to the presence of a heat sink or the like, the heat generating function of the heating element 26 is impaired, and the entire inkjet head 16 becomes defective.

【0028】しかしながら、どのような成膜方法によっ
ても、絶縁層をピンホールの無い高品質な膜として高速
度で成膜することは極めて困難である。絶縁層をピンホ
ールの無い高品質な膜として成膜するには、成膜速度を
低く押さえて緻密な膜を成膜する必要があり、そのため
には生産性の低い成膜プロセスとなり、そのような生産
性の低い成膜プロセスを高価な成膜装置を使って実施し
なければならないため、インクジェットヘッドの製造コ
ストが上昇するばかりでなく歩留りも低下するという問
題があった。
However, it is extremely difficult to form the insulating layer at a high speed as a high quality film without pinholes by any film forming method. In order to form an insulating layer as a high-quality film without pinholes, it is necessary to form a dense film with a low film formation rate, which results in a film formation process with low productivity. Since a film forming process with low productivity must be performed using an expensive film forming apparatus, there is a problem that not only the manufacturing cost of the inkjet head increases but also the yield decreases.

【0029】本発明の課題は、上記従来の実情に鑑み、
高速に成膜が可能であり電極等と短絡の虞がない放熱板
を備えたインクジェットヘッドを提供することである。
The object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional situation,
It is an object of the present invention to provide an ink jet head having a heat radiating plate capable of forming a film at a high speed and not causing a short circuit with an electrode or the like.

【0030】[0030]

【課題を解決するための手段】本発明のインクジェット
ヘッドは、通電により発熱する発熱体の表面のインクに
膜気泡を発生させて該膜気泡の瞬間的な膨張により上記
発熱体上のインクを吐出ノズルからインク滴として吐出
させることにより印字媒体上に印字を行うインクジェッ
トヘッドであつて、絶縁性基板上に設けられた複数のス
トライプ状の放熱体と、該放熱体の上層に設けられた絶
縁層と、該絶縁層の上層に設けられた発熱体と、該発熱
体の上層に設けられた電極と、を有して構成される。
According to the ink jet head of the present invention, a film bubble is generated in the ink on the surface of the heating element which generates heat by energization, and the ink on the heating element is discharged by instantaneous expansion of the film bubble. An ink jet head for performing printing on a print medium by discharging ink droplets from nozzles, comprising a plurality of striped radiators provided on an insulating substrate, and an insulating layer provided on an upper layer of the radiator. And a heating element provided on the insulating layer, and an electrode provided on the heating element.

【0031】上記放熱体は、例えば請求項2記載のよう
に、上記絶縁性基板上に形成された溝の中に設けられ
る。また、上記放熱体は、例えば請求項3記載のよう
に、上記絶縁性基板の表面に着設されるようにしても良
い。この場合、例えば請求項4記載のように、各々の上
記放熱体の間には絶縁物が設けられるように構成するこ
とが好ましい。
The heat radiator is provided in a groove formed on the insulating substrate, for example. Further, the radiator may be mounted on a surface of the insulating substrate, for example. In this case, it is preferable that an insulator is provided between the heat radiators, for example.

【0032】[0032]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しながら説明する。図1(a) は、一実施の形態に
おけるインクジェットヘッドの内部構成の発熱体を中心
とした部分の拡大平面図、(b) はそのF−F′断面矢視
図である。尚、同図(a),(b) に示す内部構成には、隔壁
やインク溝等の構成は図示を省略しており、また、完成
図として最上層にあるべきオリフィス板及びそのオリフ
ィス板に形成される吐出ノズルの図示も省略している。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1A is an enlarged plan view of a portion around an exothermic body of an internal configuration of an ink jet head according to an embodiment, and FIG. 1B is a sectional view taken along the line FF 'of FIG. In the internal configuration shown in FIGS. 3A and 3B, the configuration of the partition walls and the ink grooves are not shown, and the orifice plate and the orifice plate that should be the uppermost layer as a completed drawing are not shown. The illustration of the formed discharge nozzle is also omitted.

【0033】同図(a),(b) に示すように、このインクジ
ェットヘッドは、その内部構成として、ガラス等の絶縁
性基板30の上部に設けられた複数のストライプ状の放
熱体31と、この放熱体31の上層に設けられた絶縁層
32と、この絶縁層32の上層に設けられた発熱体33
と、この発熱体33の上層に設けられた電極34(個別
配線電極34−1、共通電極34−2)と、を備えてい
る。
As shown in FIGS. 3A and 3B, this ink jet head has, as its internal configuration, a plurality of striped radiators 31 provided on an insulating substrate 30 made of glass or the like. An insulating layer 32 provided on the heat radiator 31 and a heating element 33 provided on the insulating layer 32;
And an electrode 34 (individual wiring electrode 34-1 and common electrode 34-2) provided in an upper layer of the heating element 33.

【0034】同図(a),(b) に示すように、放熱体31
は、高さ10〜30μm、幅30〜40μm、隣接する
間隔が5〜15μmである。尚、長さは、個別配線電極
34−1と平行して、このインクジェットヘッドの端部
まであって、外部の放熱体に連絡可能に露出されてい
る。
As shown in FIGS. 3A and 3B, the radiator 31
Has a height of 10 to 30 μm, a width of 30 to 40 μm, and an adjacent interval of 5 to 15 μm. In addition, the length is parallel to the individual wiring electrode 34-1 and up to the end of the ink jet head, and is exposed to be communicable with an external radiator.

【0035】このように、放熱体31を、基板全面の層
とせずにストライプ状に形成した場合は、基板全面に形
成した場合よりも平面積的には小さくなるが、上記のよ
うに幅30〜40μmの設計条件で放熱体31を形成す
れば、放熱体31の平面積は基板面積に対して半分以上
占めることができる。
As described above, when the heat radiator 31 is formed in a stripe shape without forming a layer on the entire surface of the substrate, the heat radiator 31 becomes smaller in plan area than when formed on the entire surface of the substrate. If the heat radiator 31 is formed under the design conditions of 4040 μm, the plane area of the heat radiator 31 can occupy more than half of the substrate area.

【0036】また、上記の幅30〜40μmに、高さ1
0〜30μmの設計条件で放熱体31を形成すれば、そ
の横方向に熱伝導する断面積には、図5に示した従来の
基板全面に厚さ10〜20μmで形成されている放熱板
24の断面積の場合と広さにおいて遜色は無く、充分な
熱伝導性を得ることができる。
In addition, a height of 1 to 30 to 40 μm and a height of 1
If the heat radiator 31 is formed under the design conditions of 0 to 30 μm, the cross-sectional area for conducting heat in the lateral direction has a heat radiating plate 24 having a thickness of 10 to 20 μm formed on the entire surface of the conventional substrate shown in FIG. There is no inferiority in the cross-sectional area and the size, and sufficient thermal conductivity can be obtained.

【0037】また、平面積については、シュミレーショ
ンを行ってみると、ガラス基板上に10〜20μmの厚
さのアルミニューム(Al)を全面に放熱層として被着
したものと、シリコン基板とは、ほぼ同等の放熱効果が
あることが判明する。従って、放熱体の占有面積に応じ
て、Al以外の熱伝導率の更に良い金属、例えば銅(C
u、銅の熱伝導率はAlの約1.6倍)等の金属材料を
10〜30μm程度に成膜することにより、ストライプ
状の優良な放熱体として利用することができる。
As for the plane area, a simulation was carried out. As a result, a glass substrate was coated with aluminum (Al) having a thickness of 10 to 20 μm over the entire surface as a heat dissipation layer. It turns out that there is almost the same heat radiation effect. Therefore, depending on the occupied area of the radiator, a metal having a higher thermal conductivity other than Al, for example, copper (C
By forming a metal material such as u or copper having a thermal conductivity of about 1.6 times that of Al to a thickness of about 10 to 30 μm, it can be used as an excellent radiator having a stripe shape.

【0038】そして、このようにストライプ状の放熱体
31を発熱体33及び個別配線電極34−1と平行に設
けることにより、たとえ絶縁層32にピンホール等の欠
陥があっても、個別配線電極34−1間での短絡は起り
得ないので、発熱体33が吐出不良となる不具合を低減
させることができ、加工歩留まりの向上に貢献すること
ができる。
By disposing the radiator 31 in a stripe shape in parallel with the heating element 33 and the individual wiring electrode 34-1 as described above, even if the insulating layer 32 has a defect such as a pinhole, the individual wiring electrode is formed. Since a short circuit cannot occur between the heating elements 34-1 and 34-1, it is possible to reduce the problem of the ejection failure of the heating element 33, thereby contributing to an improvement in the processing yield.

【0039】尚、個別配線電極34−1及び共通電極3
4−2の下部には発熱体33に連続する発熱抵抗体層が
一面に敷設されているので、発熱抵抗体層と絶縁層32
との接触面積は極めて広いが、電極と絶縁層32との接
触面積は極めて小さい。すなわち、発熱体33から個別
配線電極側に延設されるストライプ状の発熱抵抗体層の
周囲を囲む個別配線電極側面部34−1−1の底面積は
極めて小さく、この部分の絶縁層32にピンホールが出
来る確率は極めて小さいといえる。しかし、それでもな
おこの部分と共通電極との短絡を解消しようという場合
は、放熱体31の幅を狭めて発熱体33と同一の幅以内
に形成するようにすると良い。そのようにすれば、発生
したピンホールを介して短絡するのは元来が導電性の低
い発熱抵抗層と元来が共通である共通電極のみとなり、
短絡による不具合が大幅に軽減される。
The individual wiring electrode 34-1 and the common electrode 3
Since a heating resistor layer continuous with the heating element 33 is laid on the entire surface below 4-2, the heating resistor layer and the insulating layer 32 are provided.
Is very large, but the contact area between the electrode and the insulating layer 32 is extremely small. That is, the bottom area of the individual wiring electrode side surface portion 34-1-1 surrounding the periphery of the striped heating resistor layer extending from the heating element 33 to the individual wiring electrode side is extremely small. It can be said that the probability of pinhole formation is extremely small. However, in order to eliminate the short circuit between this portion and the common electrode, it is preferable to reduce the width of the heat radiator 31 so that it is formed within the same width as the heat generator 33. In this case, only the common electrode that is originally common to the heat generation resistance layer having low conductivity is short-circuited through the generated pinhole.
Problems due to short circuits are greatly reduced.

【0040】図2(a),(b) は、上記の放熱体31を形成
する方法を二例示す図である。先ず、同図(a) に示す放
熱体31の形成方法は、絶縁性基板30上に溝35をイ
ンク供給溝の形成と同様にウエットエッチング又はドラ
イエッチング等で形成し、この絶縁性基板30上に形成
された溝35の中に放熱体31を設ける。そして、こら
れの上全面に絶縁層32を被着させる。なお、これらの
上に形成される図1(a),(b) に示した発熱体33、個別
配線電極34−1、共通電極34−2等の構成は図示を
省略する。
FIGS. 2A and 2B are diagrams showing two examples of a method of forming the heat radiator 31. FIG. First, in the method of forming the radiator 31 shown in FIG. 3A, the groove 35 is formed on the insulating substrate 30 by wet etching or dry etching in the same manner as the formation of the ink supply groove. The heat dissipating body 31 is provided in the groove 35 formed in the above. Then, the insulating layer 32 is deposited on the entire surface of the resultant structure. The components such as the heating element 33, the individual wiring electrode 34-1 and the common electrode 34-2 shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b) which are formed thereon are not shown.

【0041】次に、同図(b) に示す放熱体31の形成方
法は、絶縁性基板30の表面に配線電極を形成すると同
様の薄膜形成技術により放熱体31をストライプ状に着
設する。これら形成された各々の放熱体31の間に、適
宜の絶縁性材料、例えば、ポリイミド等からなる絶縁物
36を設ける。このようにしても、これらの上全面に絶
縁層32を被着させることにより同図(a) と同様の構成
が得られる。
Next, in the method of forming the heat radiator 31 shown in FIG. 4B, the heat radiator 31 is attached in a stripe shape by the same thin film forming technique as when the wiring electrodes are formed on the surface of the insulating substrate 30. An insulator 36 made of a suitable insulating material, for example, polyimide or the like is provided between the formed heat radiators 31. Even in this case, the same structure as that shown in FIG. 1A can be obtained by applying the insulating layer 32 over the entire surface.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、放熱体をその占有面積に応じて熱伝導率の良い金
属で構成すると共にその形状を発熱体及び個別配線電極
と平行するストライプ状にして設けるので、絶縁層にピ
ンホール等の欠陥があった場合でも個別配線電極間での
短絡の発生が解消され、これにより、インクジェットヘ
ッドの発熱体の吐出不良の不具合を低減させて加工歩留
まりの向上したインクジェットヘッドを提供することが
可能となる。
As described above in detail, according to the present invention, the radiator is made of a metal having a good thermal conductivity according to its occupied area, and its shape is parallel to the heat generator and the individual wiring electrodes. Since it is provided in the form of a stripe, even if there is a defect such as a pinhole in the insulating layer, occurrence of a short circuit between the individual wiring electrodes is eliminated, thereby reducing the problem of ejection failure of the heating element of the inkjet head. An inkjet head with improved processing yield can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a) は一実施の形態におけるインクジェットヘ
ッドの内部構成の発熱体を中心とした部分の拡大平面
図、(b) はそのE−E′断面矢視図である。
FIG. 1A is an enlarged plan view of a portion centering on a heating element of an internal configuration of an inkjet head according to an embodiment, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along the line EE ′ of FIG.

【図2】(a),(b) は一実施の形態における放熱体を形成
する方法を二例示す図である。
FIGS. 2A and 2B are diagrams illustrating two examples of a method of forming a heat radiator according to an embodiment.

【図3】(a),(b),(c) は従来のインクジェットヘッドの
製造方法を工程順に示す図であり上段はそれぞれ一連の
工程においてチップ基板上に形成されていく状態の概略
の平面図、中段は上段のA−A′断面矢視図、下段は上
段のB−B′断面矢視図である。
3 (a), (b), and (c) are views showing a conventional method of manufacturing an ink jet head in the order of steps, and the upper part is a schematic plan view showing a state of being formed on a chip substrate in a series of steps. In the figure, the middle part is an AA 'cross-sectional view of the upper part, and the lower part is a BB' cross-sectional view of the upper part.

【図4】(a) はガラス基板を用いて形成される大型で長
尺のインクジェットヘッドの外観を模式的に示す平面
図、(b) はガラス基板上に完成した複数のインクジェッ
トヘッドを示す平面図、(c) はそのC−C′断面矢視
図、(d) はそのD−D′断面矢視図である。
FIG. 4A is a plan view schematically showing the appearance of a large and long inkjet head formed using a glass substrate, and FIG. 4B is a plan view showing a plurality of inkjet heads completed on a glass substrate. FIG. 3 (c) is a sectional view taken along the line CC ′, and FIG. 3 (d) is a sectional view taken along the line DD ′.

【図5】(a) はガラス基板に形成される従来のインクジ
ェットヘッドの内部構成の発熱体を中心とした部分の拡
大平面図、(b) はそのE−E′断面矢視図である。
FIG. 5A is an enlarged plan view of a portion centering on a heating element of an internal configuration of a conventional inkjet head formed on a glass substrate, and FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line EE 'of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 チップ基板 2 駆動回路 3 絶縁層 4 発熱体 5 共通電極 6 個別配線電極 7 インク供給溝 8 インク給送孔 9 隔壁 9−1、9−2 シール隔壁 9−3 区画隔壁 11 オリフィス板 12 インク加圧室 13 インク流路 14 吐出ノズル 15、16 インクジェットヘッド 17 ガラス基板 18 オリフィス板 19 吐出ノズル列 21 内部構成 22 接着剤 23 スクライブライン 24 放熱板 25 絶縁層 26 発熱体 27 個別配線電極 28 共通電極 30 絶縁性基板 31 放熱体 32 絶縁層 33 発熱体 34 電極 34−1 個別配線電極 34−1−1 個別配線電極側面部 34−2 共通電極 35 溝 36 絶縁物 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Chip board 2 Drive circuit 3 Insulating layer 4 Heating element 5 Common electrode 6 Individual wiring electrode 7 Ink supply groove 8 Ink supply hole 9 Partition 9-1, 9-2 Seal partition 9-3 Partition partition 11 Orifice plate 12 Ink application Pressure chamber 13 Ink flow path 14 Discharge nozzle 15, 16 Ink jet head 17 Glass substrate 18 Orifice plate 19 Discharge nozzle row 21 Internal structure 22 Adhesive 23 Scribe line 24 Heat sink 25 Insulating layer 26 Heating element 27 Individual wiring electrode 28 Common electrode 30 Insulating substrate 31 Heat radiator 32 Insulating layer 33 Heating element 34 Electrode 34-1 Individual wiring electrode 34-1-1 Individual wiring electrode side surface 34-2 Common electrode 35 Groove 36 Insulator

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 通電により発熱する発熱体の表面のイン
クに膜気泡を発生させて該膜気泡の瞬間的な膨張により
前記発熱体上のインクを吐出ノズルからインク滴として
吐出させることにより印字媒体上に印字を行うインクジ
ェットヘッドであつて、 絶縁性基板上に設けられた複数のストライプ状の放熱体
と、 該放熱体の上層に設けられた絶縁層と、 該絶縁層の上層に設けられた発熱体と、 該発熱体の上層に設けられた電極と、 を有することを特徴とするインクジェットヘッド。
1. A printing medium, wherein a film bubble is generated in ink on a surface of a heating element which generates heat by energization, and ink on the heating element is ejected from an ejection nozzle as an ink droplet by instantaneous expansion of the film bubble. An inkjet head for performing printing on the insulating substrate, comprising: a plurality of striped radiators provided on an insulating substrate; an insulating layer provided on the radiator; and an upper layer provided on the insulating layer. An ink-jet head comprising: a heating element; and an electrode provided on an upper layer of the heating element.
【請求項2】 前記放熱体は、前記絶縁性基板上に形成
された溝の中に設けられることを特徴とする請求項1記
載のインクジェットヘッド。
2. The ink jet head according to claim 1, wherein the heat radiator is provided in a groove formed on the insulating substrate.
【請求項3】 前記放熱体は、前記絶縁性基板の表面に
着設されることを特徴とする請求項1記載のインクジェ
ットヘッド。
3. The ink jet head according to claim 1, wherein the heat radiator is attached to a surface of the insulating substrate.
【請求項4】 各々の前記放熱体の間には絶縁物が設け
られることを特徴とする請求項3記載のインクジェット
ヘッド。
4. The ink jet head according to claim 3, wherein an insulator is provided between each of said heat radiators.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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