JP2002168429A - ダイオキシン連続分析装置を用いた排気ガス制御システム - Google Patents
ダイオキシン連続分析装置を用いた排気ガス制御システムInfo
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- JP2002168429A JP2002168429A JP2000403720A JP2000403720A JP2002168429A JP 2002168429 A JP2002168429 A JP 2002168429A JP 2000403720 A JP2000403720 A JP 2000403720A JP 2000403720 A JP2000403720 A JP 2000403720A JP 2002168429 A JP2002168429 A JP 2002168429A
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- JP
- Japan
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- furnace
- dioxin
- melting
- exhaust gas
- furnaces
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- Incineration Of Waste (AREA)
- Gasification And Melting Of Waste (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ダイオキシンの測定には、1ヶ月前後の期間が
必要であり、その分析結果を利用したストーカー炉、ロ
ータリーキルン、流動床炉、キューポラ、アーク炉、電
気炉、プラズマ炉、ガス化溶融炉、直接溶融炉などのご
み処理施設におけるダイオキシンの削減のための制御
は、時間差があり、効果的ではないという問題点があっ
た。 【解決手段】一般ごみ、産業廃棄物等の焼却炉や溶融施
設において、その工程の途中や中間あるいは、排ガス出
口などに、ダイオキシン連続分析装置を、一箇所もしく
は複数箇所設置し、その分析結果を利用して、ガス燃焼
炉の出口温度の制御やごみ処理施設の炉内温度制御ある
いは投入物の量及び質や吸着剤の投入量を制御し、ダイ
オキシンの排出量を削減する。
必要であり、その分析結果を利用したストーカー炉、ロ
ータリーキルン、流動床炉、キューポラ、アーク炉、電
気炉、プラズマ炉、ガス化溶融炉、直接溶融炉などのご
み処理施設におけるダイオキシンの削減のための制御
は、時間差があり、効果的ではないという問題点があっ
た。 【解決手段】一般ごみ、産業廃棄物等の焼却炉や溶融施
設において、その工程の途中や中間あるいは、排ガス出
口などに、ダイオキシン連続分析装置を、一箇所もしく
は複数箇所設置し、その分析結果を利用して、ガス燃焼
炉の出口温度の制御やごみ処理施設の炉内温度制御ある
いは投入物の量及び質や吸着剤の投入量を制御し、ダイ
オキシンの排出量を削減する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ストーカー炉、ロ
ータリーキルン、流動床炉、キューポラ、アーク炉、電
気炉、プラズマ炉、ガス化溶融炉、直接溶融炉などのご
み処理施設において、排出されるガス中のダイオキシン
の削減に関するものである。
ータリーキルン、流動床炉、キューポラ、アーク炉、電
気炉、プラズマ炉、ガス化溶融炉、直接溶融炉などのご
み処理施設において、排出されるガス中のダイオキシン
の削減に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、ダイオキシンの測定には、1ヶ月
前後の期間が必要であった。
前後の期間が必要であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ダイオキシンの測定に
は、1ヶ月前後の期間が必要であり、その分析結果を利
用したダイオキシンの削減のための制御は、時間差があ
り、効果的ではないという問題点があった。
は、1ヶ月前後の期間が必要であり、その分析結果を利
用したダイオキシンの削減のための制御は、時間差があ
り、効果的ではないという問題点があった。
【0004】
【課題を解決するための手段】一般ごみ、産業廃棄物等
の焼却炉や溶融施設において、その工程の途中や中間あ
るいは、排ガス出口などに、ダイオキシン連続分析装置
を、一箇所もしくは複数箇所設置し、その分析結果を利
用して、ガス燃焼炉の出口温度の制御やごみ処理施設の
炉内温度制御あるいは投入物の量及び質や吸着剤の投入
量を制御し、ダイオキシンの排出量を削減する。
の焼却炉や溶融施設において、その工程の途中や中間あ
るいは、排ガス出口などに、ダイオキシン連続分析装置
を、一箇所もしくは複数箇所設置し、その分析結果を利
用して、ガス燃焼炉の出口温度の制御やごみ処理施設の
炉内温度制御あるいは投入物の量及び質や吸着剤の投入
量を制御し、ダイオキシンの排出量を削減する。
【0005】
【発明の実施の形態】ダイオキシン連続分析装置の分析
結果よりダイオキシンの排出量が増加した場合、ストー
カー炉、ロータリーキルン、流動床炉、キューポラ、ア
ーク炉、電気炉、プラズマ炉、ガス化溶融炉、直接溶融
炉などのごみ処理施設におけるガス燃焼炉の出口温度を
上昇させる。
結果よりダイオキシンの排出量が増加した場合、ストー
カー炉、ロータリーキルン、流動床炉、キューポラ、ア
ーク炉、電気炉、プラズマ炉、ガス化溶融炉、直接溶融
炉などのごみ処理施設におけるガス燃焼炉の出口温度を
上昇させる。
【0006】または、ストーカー炉、ロータリーキル
ン、流動床炉、キューポラ、アーク炉、電気炉、プラズ
マ炉、ガス化溶融炉、直接溶融炉などのごみ処理施設の
炉内温度を上昇させる。
ン、流動床炉、キューポラ、アーク炉、電気炉、プラズ
マ炉、ガス化溶融炉、直接溶融炉などのごみ処理施設の
炉内温度を上昇させる。
【0007】または、投入物の量及び質を調整する。
【0008】または、活性炭などの吸着剤の投入量を調
整する。
整する。
【0009】または、ガス燃焼炉の出口温度の上昇や炉
内温度の上昇や投入物の量及び質の調整や吸着剤の投入
量の調整を組み合わせることによってダイオキシン濃度
を減少させる。
内温度の上昇や投入物の量及び質の調整や吸着剤の投入
量の調整を組み合わせることによってダイオキシン濃度
を減少させる。
【0010】
【発明の効果】本発明により、ストーカー炉、ロータリ
ーキルン、流動床炉、キューポラ、アーク炉、電気炉、
プラズマ炉、ガス化溶融炉、直接溶融炉などのごみ処理
施設においてダイオキシンの排出量を瞬時かつ連続的な
制御が可能となった。
ーキルン、流動床炉、キューポラ、アーク炉、電気炉、
プラズマ炉、ガス化溶融炉、直接溶融炉などのごみ処理
施設においてダイオキシンの排出量を瞬時かつ連続的な
制御が可能となった。
Claims (4)
- 【請求項1】一般ごみ、産業廃棄物等の焼却炉や溶融施
設において、その工程の途中や中間あるいは排ガス出口
などに、ダイオキシン連続分析装置を、一箇所もしくは
複数箇所設置し、ダイオキシンその他排ガス成分を前工
程にフィードバックして、ダイオキシンの削減を行うシ
ステム。 - 【請求項2】一般ごみ、産業廃棄物等の焼却炉や溶融施
設において、その工程の途中や中間あるいは排ガス出口
などに、ダイオキシン連続分析装置を、一箇所もしくは
複数箇所設置し、ダイオキシンその他排ガス成分をフィ
ードフォワードして、ダイオキシン排出を防ぐシステ
ム。 - 【請求項3】ストーカー炉、ロータリーキルン、流動床
炉、キューポラ、アーク炉、電気炉、プラズマ炉、ガス
化溶融炉、直接溶融炉などのごみ処理施設において、ダ
イオキシン連続分析装置を用いて、ダイオキシンの挙
動、濃度を測定し、ダイオキシン濃度の制御を行うシス
テム。 - 【請求項4】ダイオキシン連続分析装置を用いて、スト
ーカー炉、ロータリーキルン、流動床炉、キューポラ、
アーク炉、電気炉、プラズマ炉、ガス化溶融炉、直接溶
融炉などのごみ処理施設の炉内温度やガス燃焼炉の温度
や投入物の量や質の調整や活性炭などの吸着剤の投入量
を調整しダイオキシン濃度を制御するシステム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000403720A JP2002168429A (ja) | 2000-11-29 | 2000-11-29 | ダイオキシン連続分析装置を用いた排気ガス制御システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000403720A JP2002168429A (ja) | 2000-11-29 | 2000-11-29 | ダイオキシン連続分析装置を用いた排気ガス制御システム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002168429A true JP2002168429A (ja) | 2002-06-14 |
Family
ID=18867788
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000403720A Pending JP2002168429A (ja) | 2000-11-29 | 2000-11-29 | ダイオキシン連続分析装置を用いた排気ガス制御システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002168429A (ja) |
-
2000
- 2000-11-29 JP JP2000403720A patent/JP2002168429A/ja active Pending
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