JP2002162370A - Method and device for x-ray inspection of substrate - Google Patents

Method and device for x-ray inspection of substrate

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JP2002162370A
JP2002162370A JP2000356161A JP2000356161A JP2002162370A JP 2002162370 A JP2002162370 A JP 2002162370A JP 2000356161 A JP2000356161 A JP 2000356161A JP 2000356161 A JP2000356161 A JP 2000356161A JP 2002162370 A JP2002162370 A JP 2002162370A
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JP
Japan
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substrate
ray
linear
rays
ray source
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Application number
JP2000356161A
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Japanese (ja)
Inventor
Hirotaka Saito
広能 齊藤
Hitoshi Nakahira
仁 中平
Nobuyuki Kakishima
伸幸 柿島
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for X-ray inspection of substrate and its usable device preventing any inspected area from overlapping as well as rapidly acquiring transfer imaging. SOLUTION: An X-ray source 23 obliquely radiating X-ray toward a horizontally-placed substrate 3 is furnished on the top of this substrate 3, and a linear X-ray sensor 25 detecting X-ray radiated from the X-ray source 23 to be transmitted through the substrate 3 is furnished on the bottom of the substrate 3, allowing relative displacement of the substrate 3 in horizontal direction opposed to both the X-ray source 23 and the linear X-ray sensor 25. Thus relatively shift the substrate 3 located between the X-ray source 23 and the linear X-ray sensor 25 in horizontal direction to image a transfer imaging of X-ray throughout the substrate 3 and then rotate the substrate 3 on a level surface by a certain angle, relatively shift the rotated substrate in horizontal direction again between the X-ray source 23 and the linear X-ray sensor 25 to image a transfer imaging of X-ray throughout the entire substrate 3.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば外観検査が
困難となる実装済み電子部品の半田接続状態の検査を、
X線による透過画像を用いて観察可能にする基板のX線
検査方法及びそれの用いるX線検査装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to an inspection of a solder connection state of a mounted electronic component, for example, which makes an appearance inspection difficult.
The present invention relates to an X-ray inspection method for a substrate which enables observation using an X-ray transmission image and an X-ray inspection apparatus used therefor.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、プリント基板への電子部品の実装
は益々高密度化が要求され、それを実現させるために、
例えば配線パターンが多層に構成された多層プリント基
板を用いたり、プリント基板の両面に電子部品を高密度
に実装する両面実装基板を用いることがなされている。
また、電子部品に対しても、LSIの部品裏面全面又は
その一部に半田等からなるボール状のバンプを縦横格子
状に複数設けたBGA(Ball Grid Array)、CSP(Chip
size package)が使用されている。ところが、このよう
な多層プリント基板や両面実装基板は、電子部品の実装
後に半田接続の良否を検査することが高密度実装のため
に外観からは検査できないことがある。また、部品裏面
を利用する接続構造の場合、部品裏面内方の半田ボール
部は、基板実装後は直接的に外観から確認できなくな
る。この半田ボール内に微小なボイドが発生すれば、熱
変形により接続信頼性に影響を与えるため、これらを発
見する検査が重要となる。
2. Description of the Related Art In recent years, mounting of electronic components on a printed circuit board has been required to have higher and higher densities.
For example, a multilayer printed circuit board having a multilayer wiring pattern is used, or a double-sided mounting board on which electronic components are mounted at high density on both sides of the printed circuit board is used.
Also, for electronic components, a BGA (Ball Grid Array) or a CSP (Chip) in which a plurality of ball-shaped bumps made of solder or the like are provided in a vertical or horizontal lattice on the entire back surface of the LSI or a part thereof.
size package) is used. However, in such a multilayer printed board or a double-sided mounting board, it may not be possible to inspect the appearance of solder connection after mounting electronic components due to high-density mounting. Further, in the case of the connection structure using the back surface of the component, the solder ball portion inside the back surface of the component cannot be directly confirmed from the external appearance after mounting on the board. If small voids are generated in the solder balls, the reliability of the connection is affected by thermal deformation, so that inspection for finding these is important.

【0003】そこで、従来より、X線を基板に照射して
検査対象部分の透過画像を得ることにより、外観視認検
査不能な半田接続部を観察可能にする基板のX線検査方
法が提案されている。このような基板のX線検査方法に
は、例えば、基板面の一方の側から、基板面に対して垂
直にX線を照射し、この基板を透過したX線を、他方の
側に設けたX線センサによって検出することで、外観か
らは視認検査不能な内方接続部の透過画像を得る垂直入
射式のX線検査方法がある。
[0003] Therefore, conventionally, there has been proposed an X-ray inspection method for a substrate which irradiates the substrate with X-rays and obtains a transmission image of a portion to be inspected, thereby observing a solder connection portion which cannot be visually inspected. I have. In such an X-ray inspection method for a substrate, for example, X-rays are irradiated from one side of the substrate surface perpendicularly to the substrate surface, and X-rays transmitted through the substrate are provided on the other side. There is a vertical incidence type X-ray inspection method that obtains a transmission image of an inner connection portion that cannot be visually inspected from the outside by detecting with an X-ray sensor.

【0004】また、従来の他のX線検査方法としては、
図15に示す回転式X線検査装置61を用いて行われる
ものがある。この回転式X線検査装置70は、基板3を
保持するステージ71と、基板3上方の斜め方向からX
線73を照射するX線源75と、X線源75から出射さ
れ基板3を透過したX線73を検出するX線センサ77
と、X線センサ77からの検出信号を画像処理すること
によって透過画像を得る画像処理手段79とにより構成
されている。
Further, other conventional X-ray inspection methods include:
Some are performed using a rotary X-ray inspection apparatus 61 shown in FIG. The rotary X-ray inspection apparatus 70 includes a stage 71 for holding the substrate 3 and an X-ray
An X-ray source 75 that irradiates the X-ray 73 and an X-ray sensor 77 that detects the X-ray 73 emitted from the X-ray source 75 and transmitted through the substrate 3
And an image processing unit 79 that obtains a transmission image by performing image processing on a detection signal from the X-ray sensor 77.

【0005】この回転式X線検査装置70の場合、X線
源75から照射されるX線73は、基板3面の法線周り
の異なる方向から所定の角度を有して出射可能に構成さ
れている。また、X線源75とX線センサ77とは、基
板法線を中心に円軌跡を描くように旋回可能となってお
り、互いに同期して動作する。従来、このX線源75と
しては基板3の局所的な検査対象部分にX線73を照射
し、また、X線センサ77としては検査対象部分のX線
73を検出する狭小領域専用のものが使用されていた。
In the case of the rotary X-ray inspection apparatus 70, the X-rays 73 emitted from the X-ray source 75 can be emitted at a predetermined angle from different directions around the normal to the surface of the substrate 3. ing. Further, the X-ray source 75 and the X-ray sensor 77 can turn so as to draw a circular locus about the substrate normal, and operate in synchronization with each other. Conventionally, this X-ray source 75 irradiates an X-ray 73 to a local inspection target portion of the substrate 3, and an X-ray sensor 77 dedicated to a small area for detecting the X-ray 73 in the inspection target portion is provided. Had been used.

【0006】これによれば、X線源75から照射された
X線73は、検査対象部分となる半田接続部に照射され
た後、X線センサ77によって検出される。図15
(a)に示すように、基板3の表面の半田接続部81、
及び裏面の半田接続部82は、X線の吸収係数が基板3
より大きいことから、画像処理手段79により得られる
透過画像に、他の部分より暗い画像として映出される。
この透過画像により、外観から視認困難な半田の接続状
態が検査可能になる。
According to this, the X-ray 73 irradiated from the X-ray source 75 is detected by the X-ray sensor 77 after irradiating the solder connection portion to be inspected. FIG.
As shown in (a), the solder connection portion 81 on the surface of the substrate 3,
The solder connection portion 82 on the back surface has an X-ray absorption coefficient
Because it is larger, the transmitted image obtained by the image processing means 79 is displayed as an image darker than other portions.
The transmitted image makes it possible to inspect the connection state of the solder, which is difficult to visually recognize from the appearance.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た垂直入射方式のX線検査方法においては、例えば両面
実装基板又は多層基板の場合、図15(b)に示すよう
に、検査対象部分である半田接続部81,82が、X線
源とX線センサとを結ぶ直線上に存在する場合に各半田
接続部81,82が重なり合い、検査対象部分の透過画
像による視認判断が困難になる場合があった。また、図
14に示す回転式X線検査装置70を用いる検査方法に
おいては、基板3上の狭小領域に対してX線を照射する
X線源75、及び、基板3上の狭小領域の透過X線を検
出するX線センサ77が使用されていたため、検査対象
部分の数が多い場合は基板3やX線源75及びX線セン
サ77の移動に多大な時間が必要となり、また、基板3
全体を検査するには、基板3の全面に亘って移動とX線
検出とを繰り返し行う必要があり、高速な検査が行えな
い問題があった。
However, in the above-described X-ray inspection method using the vertical incidence method, for example, in the case of a double-sided mounting substrate or a multilayer substrate, as shown in FIG. When the connecting portions 81 and 82 are present on a straight line connecting the X-ray source and the X-ray sensor, the solder connecting portions 81 and 82 may overlap with each other, and it may be difficult to visually determine the inspection target portion based on the transmission image. Was. Further, in the inspection method using the rotary X-ray inspection apparatus 70 shown in FIG. 14, an X-ray source 75 for irradiating a small area on the substrate 3 with X-rays, Since the X-ray sensor 77 for detecting a line is used, when the number of inspection portions is large, the substrate 3, the X-ray source 75, and the X-ray sensor 77 need much time to move.
In order to inspect the entire substrate, it is necessary to repeatedly perform movement and X-ray detection over the entire surface of the substrate 3, and there is a problem that high-speed inspection cannot be performed.

【0008】本発明は上記状況に鑑みてなされたもの
で、検査対象部分の重なりを防止して、且つ透過画像の
取得を高速にできる基板のX線検査方法及びそれに用い
るX線検査装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides an X-ray inspection method for a substrate and an X-ray inspection apparatus used for the same, which can prevent the inspection target portions from overlapping each other and can obtain a transmission image at a high speed. The purpose is to do.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明に係る請求項1記載の基板のX線検査方法は、
水平配置された基板の上方に、この基板に対して斜めに
X線を出射するX線源を設け、前記基板の下方に前記X
線源から出射され基板を透過したX線を検出するライン
状X線センサを設け、前記X線源及び前記ライン状X線
センサに対して前記基板を水平方向に相対移動させるこ
とで、基板に対するX線の透過画像を撮像する基板のX
線検査方法において、前記X線源と前記ライン状X線セ
ンサとの間に配置された前記基板を水平方向に相対移動
させて前記基板の全面に亘ってX線の透過画像を撮像し
た後、前記基板を水平面上で所定角度回転させ、該回転
させた基板を、再び前記X線源と前記ライン状X線セン
サとの間で水平方向に相対移動させ、前記基板の全面に
亘ってX線の透過画像を撮像することを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of inspecting an X-ray of a substrate, comprising the steps of:
An X-ray source for emitting X-rays obliquely to the substrate is provided above the horizontally arranged substrate, and the X-ray source is provided below the substrate.
A linear X-ray sensor for detecting X-rays emitted from the source and transmitted through the substrate is provided, and the substrate is moved relative to the X-ray source and the linear X-ray sensor in the horizontal direction, so that the X of the substrate that captures X-ray transmission images
In the X-ray inspection method, after relatively moving the substrate disposed between the X-ray source and the linear X-ray sensor in the horizontal direction and capturing an X-ray transmission image over the entire surface of the substrate, The substrate is rotated at a predetermined angle on a horizontal plane, and the rotated substrate is relatively moved again in the horizontal direction between the X-ray source and the linear X-ray sensor, and X-rays are emitted over the entire surface of the substrate. Is characterized in that a transmission image is captured.

【0010】この基板のX線検査方法では、基板が、水
平方向に相対移動されて全面にX線が透過された後、水
平面上で所定角度回転され、再びX線源とライン状X線
センサとの間で水平方向に相対移動される。従って、基
板に対して一方向のみからX線を透過させる場合に比べ
て、検査対象部分同士、又は検査対象部分と非検査対象
部分の重なる確率が低減する。これにより、重なりのな
い検査対象部分の透過画像が容易に得られるようにな
り、高精度な検査が可能になる。また、基板全体の透過
画像が一度に得られ、狭小領域の透過画像を検査対象部
分の数だけ得る従来方法に比べ、全ての検査対象部分の
透過画像が高速に得られることになる。
In this method of inspecting a substrate for X-rays, the substrate is relatively moved in the horizontal direction, X-rays are transmitted through the entire surface, and then rotated by a predetermined angle on a horizontal plane. Are relatively moved in the horizontal direction. Accordingly, the probability that the inspection target portions overlap or the inspection target portion and the non-inspection target portion overlap with each other is reduced as compared with the case where X-rays are transmitted through the substrate from only one direction. This makes it possible to easily obtain a transmission image of the portion to be inspected without any overlap, thereby enabling highly accurate inspection. Further, a transmission image of the entire inspection target portion can be obtained at a higher speed than a conventional method in which a transmission image of the entire substrate is obtained at one time, and transmission images of a small area are obtained by the number of inspection target portions.

【0011】請求項2記載の基板のX線検査方法は、前
記基板の法線周りの異なる方向に設けられた複数のX線
源から、順次X線を基板へ照射することを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, the substrate is irradiated with X-rays sequentially from a plurality of X-ray sources provided in different directions around the normal of the substrate.

【0012】この基板のX線検査方法では、複数のX線
源から順次X線を基板へ照射することにより、基板の法
線周りの異なる方向から順次X線が照射され、一度に多
方向からの入射X線による透過画像を得ることができ
る。
In this method of inspecting a substrate for X-rays, the substrate is irradiated with X-rays sequentially from a plurality of X-ray sources, so that the X-rays are sequentially irradiated from different directions around the normal of the substrate, and from multiple directions at once. A transmission image by the incident X-ray can be obtained.

【0013】請求項3記載の基板のX線検査方法は、前
記基板の法線周りの異なる方向からX線を斜めに照射し
て、前記基板に対する複数の透過画像を撮像し、前記複
数の透過画像を合成して前記基板の任意の厚み位置にお
ける平面画像を得ることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the X-ray inspection method for a substrate, a plurality of transmission images for the substrate are captured by irradiating the substrate with X-rays obliquely from different directions around a normal line of the substrate. An image is synthesized to obtain a planar image at an arbitrary thickness position of the substrate.

【0014】この基板のX線検査方法では、異なる方向
からX線を斜めに照射することで基板に対する複数の透
過画像を撮像し、これら複数の透過画像を合成すること
により、基板の任意の厚み位置における平面画像を抽出
することができる。これにより、例えば実装された電子
部品の半田接続部に対する半田付着度合い等を容易に検
査できる。
In this X-ray inspection method for a substrate, a plurality of transmission images of the substrate are captured by obliquely irradiating X-rays from different directions, and these transmission images are combined to obtain an arbitrary thickness of the substrate. A planar image at a position can be extracted. Thereby, for example, the degree of solder attachment to the solder connection portion of the mounted electronic component can be easily inspected.

【0015】請求項4記載の基板のX線検査方法は、前
記複数の平面画像を前記基板の厚み順に階層配置するよ
うに画像処理し、前記厚み順に階層配置した複数の平面
画像から前記基板の立体画像を合成して得ることを特徴
とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the X-ray inspection method for a substrate, the plurality of planar images are image-processed so as to be arranged hierarchically in the order of the thickness of the substrate. It is characterized by being obtained by synthesizing a stereoscopic image.

【0016】この基板のX線検査方法では、異なる角度
からX線を照射して得た複数の透過画像を基板の厚み順
に階層配置するように画像処理し、この厚み順に階層配
置した複数の平面画像から基板の立体画像を合成して得
ることができ、これにより、検査対象部分が立体的に視
認可能となり、検査対象部分の詳細な形状確認が容易に
行えるようになる。
In this X-ray inspection method for a substrate, a plurality of transmission images obtained by irradiating X-rays from different angles are image-processed so as to be arranged hierarchically in the order of the thickness of the substrate, and a plurality of planes arranged hierarchically in the order of the thickness. A three-dimensional image of the substrate can be obtained by synthesizing from the image, whereby the part to be inspected can be visually recognized in three dimensions, and the detailed shape of the part to be inspected can be easily confirmed.

【0017】請求項5記載のX線検査方法は、水平配置
された基板の上方からこの基板に対して斜めにX線を出
射するX線源を設け、該X線源から出射され基板を透過
したX線を検出するライン状X線センサを基板の下方に
設け、前記X線源及び前記ライン状X線センサに対して
前記基板を水平方向に相対移動させることで、基板に対
するX線の斜め照射透過画像を撮像する基板のX線検査
方法において、前記X線源から出射されるX線を、前記
水平配置された基板の外接円の中心に一致するように基
板へ向けて線状に照射すると共に、前記X線源を前記外
接円の中心を通る鉛直軸を中心とした円周上で移動さ
せ、且つ、前記ライン状X線センサを、X線の線状照射
領域に沿うように前記X線源の移動に同期させて回転移
動させ、前記円周上の複数の箇所で前記基板を透過する
透過X線を検出して、前記基板全面に亘って透過画像を
撮像することを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an X-ray inspection method comprising: providing an X-ray source for emitting X-rays obliquely from above a horizontally arranged substrate to the substrate; A linear X-ray sensor for detecting the generated X-rays is provided below the substrate, and the substrate is horizontally moved relative to the X-ray source and the linear X-ray sensor, so that the X-rays are oblique to the substrate. In the X-ray inspection method for a substrate that captures an irradiation transmission image, the X-ray emitted from the X-ray source is linearly irradiated onto the substrate so as to coincide with the center of a circumcircle of the horizontally arranged substrate. And moving the X-ray source on a circumference centered on a vertical axis passing through the center of the circumcircle, and moving the linear X-ray sensor along the X-ray linear irradiation area. Rotate and move in synchronization with the movement of the X-ray source And detecting transmitted X-rays transmitted through the substrate at a plurality of points, characterized in that a transmitted image over the entire surface of the substrate.

【0018】この基板のX線検査方法では、X線源が基
板外接円の中心を通る鉛直軸を中心とした円周上で旋回
移動され、且つライン状X線センサがX線源の移動に同
期させて回転移動され、円周上の複数の箇所でX線源か
ら基板にX線が透過される。従って、X線源及びライン
状X線センサを回転移動させることで、基板を搬送せず
に固定状態のままで、基板全面に亘る透過画像が高速且
つ高精度に得られる。
In this X-ray inspection method for a substrate, the X-ray source is turned on a circle around a vertical axis passing through the center of the circumcircle of the substrate, and the linear X-ray sensor is used to move the X-ray source. The substrate is rotated in synchronization with the substrate, and X-rays are transmitted from the X-ray source to the substrate at a plurality of locations on the circumference. Therefore, by rotating the X-ray source and the linear X-ray sensor, a transmission image over the entire surface of the substrate can be obtained at high speed and with high accuracy while the substrate is not transported and remains fixed.

【0019】請求項6記載のX線検査装置は、基板に対
して斜めにX線を出射するX線源と、前記X線源から出
射されたX線を検出するライン状X線センサと、前記X
線源と前記ライン状X線センサとの間に水平に載置され
た基板を、前記X線線源及び前記ライン状X線センサに
対して水平方向に相対移動させる移動手段と、前記移動
手段に載置した前記基板を、水平面上で所定角度回転さ
せる回転手段と、前記ライン状X線センサによって得ら
れたX線検出信号を画像信号に変換して前記基板の全面
に亘る透過画像を得る画像処理手段とを具備したことを
特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided an X-ray inspection apparatus comprising: an X-ray source for emitting X-rays obliquely to a substrate; a linear X-ray sensor for detecting X-rays emitted from the X-ray source; The X
Moving means for horizontally moving a substrate horizontally mounted between a source and the linear X-ray sensor with respect to the X-ray source and the linear X-ray sensor; A rotation unit configured to rotate the substrate mounted on the substrate by a predetermined angle on a horizontal plane; and converting an X-ray detection signal obtained by the linear X-ray sensor into an image signal to obtain a transmission image over the entire surface of the substrate. Image processing means.

【0020】この基板のX線検査装置では、基板が、移
動手段により水平方向に相対移動されて全面にX線が透
過された後、回転手段により水平面上で所定角度回転さ
れ、再びX線源とライン状X線センサとの間で移動手段
によって水平方向に相対移動される。従って、基板に対
して一方向のみからX線を透過させる場合に比べて、検
査対象部分同士、又は検査対象部分と非検査対象部分の
重なる確率が低減する。これにより、重なりのない検査
対象部分の透過画像が容易に得られるようになり、高精
度な検査が可能になる。また、基板全体の透過画像が一
度に得られ、狭小領域の透過画像を検査対象部分の数だ
け得る従来方法に比べ、全ての検査対象部分の透過画像
が高速に得られることになる。
In this X-ray inspection apparatus for a substrate, the substrate is relatively moved in the horizontal direction by the moving means, X-rays are transmitted through the entire surface, and then rotated by a predetermined angle on a horizontal plane by the rotating means. And the linear X-ray sensor are relatively moved in the horizontal direction by the moving means. Accordingly, the probability that the inspection target portions overlap or the inspection target portion and the non-inspection target portion overlap with each other is reduced as compared with the case where X-rays are transmitted through the substrate from only one direction. This makes it possible to easily obtain a transmission image of the portion to be inspected without any overlap, thereby enabling highly accurate inspection. Further, a transmission image of the entire inspection target portion can be obtained at a higher speed than a conventional method in which a transmission image of the entire substrate is obtained at one time, and transmission images of a small area are obtained by the number of inspection target portions.

【0021】請求項7記載のX線検査装置は、前記基板
の法線周りの異なる方向に複数のX線源を備えると共
に、各X線源から順次X線を照射させるためのシャッタ
ー制御手段を前記各X線源それぞれに設けたことを特徴
とする。
According to a seventh aspect of the present invention, the X-ray inspection apparatus includes a plurality of X-ray sources in different directions around a normal line of the substrate, and a shutter control means for sequentially irradiating X-rays from each X-ray source. The X-ray source is provided for each of the X-ray sources.

【0022】このX線検査装置では、シャッターを用い
て、いずれか1つのX線源からのX線が基板に照射され
るようにオンオフ制御することにより、ライン状X線セ
ンサからの検出信号をX線源毎に切り分けて画像形成
し、各方向からの入射X線による透過画像をそれぞれ作
成できる。これにより、移動手段による1回の基板搬送
動作で異なる方向からX線を入射した透過画像が一度に
得られ、迅速なX線検査が可能となる。
In this X-ray inspection apparatus, the detection signal from the linear X-ray sensor is controlled by performing on / off control using a shutter so that X-rays from any one of the X-ray sources irradiate the substrate. An image can be formed by cutting each X-ray source, and transmission images can be created by incident X-rays from each direction. As a result, transmitted images in which X-rays are incident from different directions can be obtained at one time by one transfer operation of the substrate by the moving means, and quick X-ray inspection can be performed.

【0023】請求項8記載のX線検査装置は、基板に対
して斜めにX線を出射するX線源と、前記X線源から出
射されたX線を検出するライン状X線センサと、前記X
線源と前記ライン状X線センサとの間に水平に載置され
た基板に対し、該基板の外接円の中心を通る鉛直軸を中
心とした円周上で前記X線源を回転移動させると共に、
前記ライン状X線センサをX線の線状照射領域に沿うよ
うに前記X線源の移動に同期させて回転移動させる回転
移動手段と、前記ライン状X線センサによって得られた
X線検出信号を前記回転移動手段による回転角度に応じ
て画像信号に変換して前記基板の全面に亘る透過画像を
得る画像処理手段とを具備したことを特徴とする。
An X-ray inspection apparatus according to claim 8, wherein an X-ray source that emits X-rays obliquely to the substrate, a linear X-ray sensor that detects X-rays emitted from the X-ray source, The X
The X-ray source is rotationally moved on a circumference centered on a vertical axis passing through the center of a circumcircle of the substrate with respect to a substrate horizontally placed between the X-ray source and the linear X-ray sensor. Along with
Rotating means for rotating the linear X-ray sensor in synchronization with the movement of the X-ray source along the linear irradiation area of X-rays, and an X-ray detection signal obtained by the linear X-ray sensor And an image processing means for converting the image into an image signal in accordance with a rotation angle of the rotation moving means to obtain a transmission image over the entire surface of the substrate.

【0024】このX線検査装置では、X線源が、回転移
動手段によって基板外接円の中心を通る鉛直軸を中心と
した円周上で旋回移動され、且つライン状X線センサ
が、X線源の移動に同期させて回転移動され、円周上の
複数の箇所でX線源から基板にX線が透過される。従っ
て、X線源及びライン状X線センサを回転移動させるこ
とで、基板を搬送せずに固定状態のままで、基板全面に
亘る透過画像が高速且つ高精度に得られる。
[0024] In this X-ray inspection apparatus, the X-ray source is swiveled on a circumference around a vertical axis passing through the center of the circumscribed circle of the substrate by the rotary movement means, and the linear X-ray sensor is provided with an X-ray sensor. The substrate is rotated in synchronization with the movement of the source, and X-rays are transmitted from the X-ray source to the substrate at a plurality of locations on the circumference. Therefore, by rotating the X-ray source and the linear X-ray sensor, a transmission image over the entire surface of the substrate can be obtained at high speed and with high accuracy while the substrate is not transported and remains fixed.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る基板のX線検
査方法及びそれに用いるX線検査装置の好適な実施の形
態について図面を参照して詳細に説明する。図1は本発
明に係るX線検査装置の第1実施形態の構成を表す概略
構成図、図2は図1のX線検査装置によって得られる透
過画像の一部を示す平面図、図3は複数の透過画像から
所望高さの平面の合成透過画像を得る説明図、図4は基
板面の法線周りのX線照射方向示す平面図(a)と、基
板面に対するX線照射角度を示す断面図(b)である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of a substrate X-ray inspection method and an X-ray inspection apparatus used in the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a configuration of a first embodiment of an X-ray inspection apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a plan view showing a part of a transmission image obtained by the X-ray inspection apparatus of FIG. 1, and FIG. FIG. 4 is an explanatory diagram for obtaining a combined transmission image of a plane having a desired height from a plurality of transmission images. FIG. 4A is a plan view showing an X-ray irradiation direction around a normal to the substrate surface, and FIG. It is sectional drawing (b).

【0026】本実施形態における基板のX線検査方法に
用いられるX線検査装置20は、X線源23と、ライン
状X線センサ25と、移動手段27と、回転手段29
と、画像処理手段31とをその構成の主要部として有し
ている。
The X-ray inspection apparatus 20 used in the X-ray inspection method for a substrate according to the present embodiment includes an X-ray source 23, a linear X-ray sensor 25, a moving unit 27, and a rotating unit 29.
And an image processing means 31 as main components of the configuration.

【0027】X線源23は、基板3の上方に配置され、
X線出射口35からX線を出射してライン状X線センサ
25に基板3からの透過X線が検出されるように、出射
するX線33が、基板3面の法線に対して所定の角度傾
斜させて下方へ出射されるように構成されている。
The X-ray source 23 is arranged above the substrate 3,
The emitted X-rays 33 are defined with respect to the normal to the surface of the substrate 3 so that the X-rays are emitted from the X-ray emission port 35 and the transmitted X-rays from the substrate 3 are detected by the linear X-ray sensor 25. And is emitted downward at an angle of.

【0028】ライン状X線センサ25は、例えばシンチ
レータ方式のラインセンサであって、X線源23から出
射され基板3を透過したX線33を、移動手段27によ
る移動方向に対して直角方向に配列されたX線検出素子
により検出するようになっている。
The linear X-ray sensor 25 is, for example, a scintillator type line sensor, and converts the X-rays 33 emitted from the X-ray source 23 and transmitted through the substrate 3 in a direction perpendicular to the moving direction of the moving means 27. The detection is performed by the arranged X-ray detection elements.

【0029】移動手段27は、X線源23とライン状X
線センサ25との間に設けられ、基板3を水平に載置し
て図1のA,B方向に移動可能としている。なお、移動
手段27は、X線源23及びライン状X線センサ25
と、基板3とを相対移動させるものであればよく、本実
施形態の構成とは逆に、基板3が固定され、この固定さ
れた基板3に対してX線源23及びライン状X線センサ
25が図1の横方向に移動されるものであってもよい。
The moving means 27 is connected to the X-ray source 23
It is provided between the line sensor 25 and the substrate 3 is placed horizontally so as to be movable in the directions A and B in FIG. The moving means 27 includes an X-ray source 23 and a linear X-ray sensor 25.
And the substrate 3 may be relatively moved. Contrary to the configuration of the present embodiment, the substrate 3 is fixed, and the X-ray source 23 and the linear X-ray sensor are fixed to the fixed substrate 3. 25 may be moved in the horizontal direction of FIG.

【0030】さらに、移動手段27には回転手段29が
付設され、回転手段29は移動手段27の載置台等を回
転させることで、載置した基板3を水平面上で所定角度
回転させることができるようになっている。なお、回転
手段29は、X線源23及びライン状X線センサ25
と、基板3とを相対回転させるものであればよく、本実
施形態の構成とは逆に、基板3が固定され、この固定さ
れた基板3に対してX線源23及びライン状X線センサ
25が、基板3法線周りに回転するものであってもよ
い。
Further, a rotating means 29 is attached to the moving means 27, and the rotating means 29 can rotate the mounting table or the like of the moving means 27 to rotate the mounted substrate 3 by a predetermined angle on a horizontal plane. It has become. The rotating means 29 includes the X-ray source 23 and the linear X-ray sensor 25.
And the substrate 3 may be relatively rotated. Contrary to the configuration of the present embodiment, the substrate 3 is fixed, and the X-ray source 23 and the linear X-ray sensor are fixed to the fixed substrate 3. 25 may rotate around the normal of the substrate 3.

【0031】画像処理手段31は、ライン状X線センサ
25によって得られたX線検出信号を画像信号に変換し
て、基板3の透過画像を表示させるようになっている。
従って、このX線検査装置20は、基板3にX線を斜め
方向から照射して、その透過X線の画像を画像処理手段
31によって表示し得るようになっている。
The image processing means 31 converts an X-ray detection signal obtained by the linear X-ray sensor 25 into an image signal, and displays a transmission image of the substrate 3.
Therefore, the X-ray inspection apparatus 20 can irradiate the substrate 3 with X-rays in an oblique direction and display an image of the transmitted X-rays by the image processing means 31.

【0032】次に、このように構成されたX線検査装置
20を用いた基板3のX線検査方法を説明する。X線検
査装置20は、基板3上方に設けたX線源23から斜め
下方に向けて扇状に広がるX線33を出射させ、基板3
の下方でX線の広がり方向の沿って配設したライン状X
線センサ25で基板3を透過した透過X線を検出する。
Next, an X-ray inspection method for the substrate 3 using the X-ray inspection apparatus 20 configured as described above will be described. The X-ray inspection apparatus 20 emits an X-ray 33 that spreads in a fan shape obliquely downward from the X-ray source 23 provided above the substrate 3,
Line X arranged along the direction of spread of X-rays below
The transmitted X-ray transmitted through the substrate 3 is detected by the line sensor 25.

【0033】このようなX線の照射状態で、X線源23
とライン状X線センサ25との間で、基板3が移動手段
27によって例えば図1の矢印A方向に移動されること
で、基板3の全面にX線が照射されて基板3からの透過
X線が検出される。その後、基板3を回転手段29によ
って水平面上で所定角度回転させる。この回転は、任意
の角度で行うことができるが、本実施形態では、例えば
基板3の縦横が反転(図1の二点鎖線)されるように9
0°の角度で回転される。次いで、回転させた基板3
を、再びX線源23とライン状X線センサ25との間で
水平方向に相対移動させて、基板3の全面に異なる方向
からX線33を照射して透過X線を検出させる。
In such an X-ray irradiation state, the X-ray source 23
When the substrate 3 is moved in the direction of arrow A in FIG. 1 by the moving means 27 between the X-ray sensor 25 and the linear X-ray sensor 25, the entire surface of the substrate 3 is irradiated with X-rays and the transmission X from the substrate 3 is transmitted. A line is detected. Thereafter, the substrate 3 is rotated by a predetermined angle on a horizontal plane by the rotating means 29. This rotation can be performed at an arbitrary angle. In the present embodiment, for example, the rotation of the substrate 3 is reversed so that the vertical and horizontal directions are reversed (two-dot chain line in FIG. 1).
Rotated at an angle of 0 °. Next, the rotated substrate 3
Is again moved in the horizontal direction between the X-ray source 23 and the linear X-ray sensor 25 again, and the entire surface of the substrate 3 is irradiated with X-rays 33 from different directions to detect transmitted X-rays.

【0034】ここで、基板3の移動と回転との工程は、
例えば図1の右方から基板3を導入し、B方向へ基板3
を移動させて最初に透過画像を得た後、図1の左方で基
板3を回転させ、A方向へ基板3を移動させながら再び
次の透過画像を得る手順が効率的となる。このようにし
て、基板3の往路と復路で基板3に対して異なる方向か
らX線を斜めに照射した透過画像が、図2の(a)、
(b)のように得られ、検査対象部が他の検査対象部と
重なり合ったり、検査対象部と被検査対象部とが重なり
合う確率が低減される。なお、図2は基板2の一部分を
拡大して示したものである。
Here, the steps of moving and rotating the substrate 3 are as follows.
For example, the substrate 3 is introduced from the right side of FIG.
Is moved to obtain a transmission image first, and then the procedure of rotating the substrate 3 to the left in FIG. 1 and moving the substrate 3 in the A direction to obtain the next transmission image again becomes efficient. In this way, the transmitted image obtained by obliquely irradiating the substrate 3 with X-rays from different directions on the outward path and the return path of the substrate 3 is shown in FIG.
(B), the probability that the inspection target part overlaps with another inspection target part or the inspection target part overlaps with the inspection target part is reduced. FIG. 2 is an enlarged view of a part of the substrate 2.

【0035】次に、このようにして異なる方向から合計
n回X線を照射することで得た透過画像を用いて、基板
3の所定の高さの平面画像(断面画像)を求める方法を
説明する。まず、異なる方向からX線を照射して得たn
個の透過画像は、図3(a)に示すように、n個の同一
の検査対象部分(半田接続部)15と、非検査対象部分
(金属部分)17を有する画像となる。これらn個の画
像は、同一の画像にはならず、検査対象部分15と被検
査対象部分17との位置関係がずれた画像となる。即
ち、基板3の高さ方向に距離haだけ離れた位置に存在
する検査対象部分と非検査対象部分とは、図4(a)に
示す基板3面の法線周りのX線照射方向をφ、図4
(b)に示す基板3面に対するX線照射角度をθとする
と、ha×cosθ/sinθだけφ方向に基板厚み位
置(高さ)分のずれた画像として得られる。
Next, a method of obtaining a plane image (cross-sectional image) of a predetermined height of the substrate 3 using the transmission images obtained by irradiating X-rays from different directions in total n times in this way will be described. I do. First, n obtained by irradiating X-rays from different directions
As shown in FIG. 3A, the transmitted images have n identical inspection target portions (solder connection portions) 15 and non-inspection target portions (metal portions) 17. These n images are not the same image, but are images in which the positional relationship between the inspection target portion 15 and the inspection target portion 17 is shifted. That is, the inspection target portion and the non-inspected portion present at a position away in the height direction of the substrate 3 by a distance h a, the X-ray irradiation direction around the normal line of the substrate 3 side shown in FIG. 4 (a) φ, Fig. 4
When the X-ray irradiation angle with respect to the substrate 3 side as shown in (b) and theta, obtained as h a × cosθ / sinθ only φ direction to the substrate thickness position (height) fraction of the shifted image.

【0036】そこで、基板の高さ方向に不変となる基板
表面の位置補正用マーク等を基準とし、この基準とする
マークの位置からn個の透過画像の位置を合わせ、半田
付け状態を確認したい高さに対する平面画像を得るため
に画像の合成を行う。即ち、例えばランド上の確認した
い高さをhbとした場合、n個の画像それぞれを基準と
するマークにより位置合わせを行った後、照射角度θに
よってφ方向にずれた分を戻すように、図3(b)に示
すようにφ方向のずれ側とは反対側へhb×cosθ/
sinθだけ画素をシフトさせた状態で画像を合成す
る。このようにしてn個の画像の画素をシフトして合成
することにより、確認したい高さhbの断面の画像が同
一の位置に現れる一方、その他の画像は異なる位置に分
散された合成平面画像Gが得られる。この合成平面画像
Gの画素濃度差によって、図3(c)に示すように高さ
bの断面の画像、即ち、検査対象部分15とその他の
画像との切り分けが可能となる。
Therefore, it is desired to confirm the soldering state by aligning the positions of n transmission images from the position of the reference mark which is invariable in the height direction of the substrate with reference to the position correction mark or the like on the substrate surface. The images are combined to obtain a planar image for the height. That is, for example, assuming that the height to be checked on the land is h b , after positioning is performed using the mark based on each of the n images, the amount shifted in the φ direction by the irradiation angle θ is returned. As shown in FIG. 3B, h b × cos θ /
The image is synthesized with the pixels shifted by sin θ. By shifting and combining the pixels of the n images in this way, the image of the cross section having the height h b to be confirmed appears at the same position, while the other images are synthesized plane images dispersed at different positions. G is obtained. The pixel density difference of this composite plane image G, the height h b of the cross-section of the image as shown in FIG. 3 (c), i.e., it is possible to isolate the other image and the inspection target portion 15.

【0037】この合成平面画像Gを用いて、検査対象部
分の面積、形状等を判定する検査を行うことにより、基
板3の任意の位置における検査対象部分を、他の非検査
対象部分に影響されることなく行うことが可能になる。
By performing an inspection for determining the area, shape, and the like of the inspection target portion using the composite plane image G, the inspection target portion at an arbitrary position on the substrate 3 is affected by other non-inspection target portions. Without having to do it.

【0038】このように、本実施形態のX線検査方法に
よれば、基板3が、水平方向に移動され、基板3の全面
に亘って照射角度θでX線が透過された後、水平面上で
所定方向φに回転され、再びX線源23とライン状X線
センサ25との間で水平方向に移動される。従って、基
板3に対し、一方向のみからX線を透過させる場合に比
べて、検査対象部分15同士、又は検査対象部分15と
非検査対象部分17の重なり合う確率が低減する。これ
により、重なりのない検査対象部分15の透過画像が容
易に得られるようになり、高精度な検査が可能になる。
また、基板3全体の透過画像が一度に得られ、狭小領域
の透過画像を検査対象部分15の数だけ得る従来方法に
比べ、全ての検査対象部分15の透過画像が高速に得ら
れることになる。
As described above, according to the X-ray inspection method of the present embodiment, after the substrate 3 is moved in the horizontal direction and X-rays are transmitted at the irradiation angle θ over the entire surface of the substrate 3, , And is again moved in the horizontal direction between the X-ray source 23 and the linear X-ray sensor 25. Therefore, as compared with the case where X-rays are transmitted through the substrate 3 from only one direction, the probability that the inspection target portions 15 or the inspection target portion 15 and the non-inspection target portion 17 overlap with each other is reduced. This makes it possible to easily obtain a transmission image of the inspection target portion 15 having no overlap, thereby enabling highly accurate inspection.
Further, a transmission image of the entire substrate 3 can be obtained at a higher speed than a conventional method in which a transmission image of the entire substrate 3 is obtained at one time, and transmission images of a small area are obtained by the number of the inspection portions 15. .

【0039】また、上記のX線検査装置20によれば、
X線を任意の照射角度θで任意の方向φから基板3へ照
射できるため、検査対象部分15と非検査対象部分17
とが重なり合うことのない照射条件を広い角度範囲から
自由に設定でき、検査可能となる基板の種類を広げるこ
とができる。
According to the above X-ray inspection apparatus 20,
Since the substrate 3 can be irradiated with X-rays at an arbitrary irradiation angle θ from an arbitrary direction φ, the inspection target portion 15 and the non-inspection target portion 17 can be irradiated.
Irradiation conditions that do not overlap with each other can be set freely from a wide angle range, and the types of substrates that can be inspected can be expanded.

【0040】次に、上記の第1実施形態の変形例を説明
する。図5は複数の平面画像から合成立体画像を得る説
明図である。
Next, a modification of the first embodiment will be described. FIG. 5 is an explanatory diagram for obtaining a composite stereoscopic image from a plurality of planar images.

【0041】本変形例においては、上記のようにして得
られた複数の透過画像から基板3の異なる厚み位置(高
さ)における複数の合成平面画像を求め、この複数の合
成平面画像を基板3の厚み順に階層配置されるように画
像処理することで、高さ順に階層配置された複数の平面
画像から立体画像が合成される。
In this modification, a plurality of composite plane images at different thickness positions (heights) of the substrate 3 are obtained from the plurality of transmission images obtained as described above, and the plurality of composite plane images are By performing image processing so as to be hierarchically arranged in the order of thickness, a stereoscopic image is synthesized from a plurality of planar images hierarchically arranged in the order of height.

【0042】即ち、図5に示すように、基板3の任意の
高さhbにおける合成平面画像を、1検査対象部分に対
して1つのみの画像でなく、任意の高さ間隔Ps毎にそ
れぞれX線照射を実行することで、任意の高さ間隔Ps
毎に合計m個の合成平面画像G1〜Gmが得られる。そし
て、これらm個の合成平面画像G1〜Gmに対して、間隔
Ps毎に配置する画像処理を施すことにより、検査対象
部分がボクセル(体積画素)として示される立体形状1
6が得られる。
That is, as shown in FIG. 5, a composite plane image at an arbitrary height h b of the substrate 3 is not limited to one image for one inspection target portion, but is at every arbitrary height interval Ps. By executing the X-ray irradiation respectively, an arbitrary height interval Ps
In each case, a total of m synthesized plane images G 1 to G m are obtained. Then, by performing image processing for arranging the m synthesized plane images G 1 to G m at intervals Ps, the three-dimensional shape 1 in which the inspection target portion is shown as a voxel (volume pixel).
6 is obtained.

【0043】このX線検査方法によれば、基板3の異な
る高さ位置における複数の合成平面画像が求められ、高
さ順に階層配置されたこれら複数の合成平面画像から基
板3の立体画像が合成される。これにより、検査対象部
分15が立体的に視認可能となり、検査対象部分の詳細
な形状確認が容易に行えるようになる。
According to this X-ray inspection method, a plurality of combined plane images at different height positions on the board 3 are obtained, and a stereoscopic image of the board 3 is combined from the plurality of combined plane images arranged hierarchically in height order. Is done. As a result, the inspection target portion 15 can be visually recognized in three dimensions, and the detailed shape of the inspection target portion can be easily confirmed.

【0044】次に、本発明に係る基板のX線検査方法及
びそれに用いられるX線検査装置の第2実施形態を説明
する。図6はX線源が旋回位置aに位置する本実施形態
のX線検査装置の構成を表す概念的な斜視図、図7は図
6に示した基板表裏の状態を表す要部拡大図、図8〜図
11はX線源が旋回位置b〜eに位置するX線検査装置
の概念的な斜視図、図12は表裏面で対応する複数の部
品が実装された基板例を表す斜視図、図13は第2実施
形態で得られた図12の基板の透過画像を表す平面図で
ある。
Next, a second embodiment of an X-ray inspection method for a substrate and an X-ray inspection apparatus used in the method according to the present invention will be described. 6 is a conceptual perspective view showing the configuration of the X-ray inspection apparatus of the present embodiment in which the X-ray source is located at the turning position a, FIG. 7 is an enlarged view of a main part showing the state of the front and back of the substrate shown in FIG. 8 to 11 are conceptual perspective views of an X-ray inspection apparatus in which the X-ray source is located at swiveling positions be to e. FIG. 12 is a perspective view showing an example of a board on which a plurality of corresponding components are mounted on the front and back surfaces. FIG. 13 is a plan view showing a transmission image of the substrate of FIG. 12 obtained in the second embodiment.

【0045】この実施形態における基板のX線検査方法
に用いられるX線検査装置40は、図6に概念的に示す
ように、X線源23と、ライン状X線センサ25と、基
板3の載置台43と、回転移動手段45と、画像処理手
段31とをその構成の主要部として有している。
As schematically shown in FIG. 6, an X-ray inspection apparatus 40 used in the X-ray inspection method for a substrate in this embodiment includes an X-ray source 23, a linear X-ray sensor 25, It has a mounting table 43, a rotary moving unit 45, and an image processing unit 31 as main components of the configuration.

【0046】上記構成において、X線源23、ライン状
X線センサ25、画像処理手段31は、第1の実施形態
で用いたものと同様のものを用いることができ、載置台
43は、基板3を水平面上で保持するものであればよ
い。
In the above configuration, the X-ray source 23, the linear X-ray sensor 25, and the image processing means 31 can be the same as those used in the first embodiment. What is necessary is just to hold 3 on a horizontal surface.

【0047】回転移動手段45は、X線源23から扇状
に出射されたX線33の基板3上における線状照射領域
37の中点37aが基板3の外接円の中心に一致するよ
うに、X線源23を、外接円の中心を通る鉛直軸49を
中心とした円周51上を移動させる。また、これに伴っ
てライン状X線センサ25を、X線33の線状照射領域
37に沿うようにX線源23の移動に同期させて回転移
動させる構成となっている。
The rotation moving means 45 adjusts the center point 37a of the linear irradiation area 37 on the substrate 3 of the X-ray 33 emitted in a fan shape from the X-ray source 23 to coincide with the center of the circumcircle of the substrate 3. The X-ray source 23 is moved on a circumference 51 around a vertical axis 49 passing through the center of a circumscribed circle. Along with this, the linear X-ray sensor 25 is configured to rotate and move along the linear irradiation area 37 of the X-ray 33 in synchronization with the movement of the X-ray source 23.

【0048】次に、このように構成されたX線検査装置
40を用いた基板3の検査方法を説明する。基板3上方
に設けたX線源23からは、基板3に向けて扇状に広が
るX線33が、基板3法線に対して所定の角度θ傾斜さ
れて下方へ出射される。このX線33は、基板3上の線
状照射領域37に沿って配設したライン状X線センサ2
5により検出される。この状態で、線状照射領域37の
中点37aが基板3の外接円の中心に一致するように、
X線源23を外接円の中心を通る鉛直軸49を中心とし
た円周51上で移動(旋回)させる。同時に、ライン状
X線センサ25を線状照射領域37に沿うように、X線
源23の移動に同期させて回転移動させる。
Next, a method of inspecting the substrate 3 using the X-ray inspection apparatus 40 configured as described above will be described. From the X-ray source 23 provided above the substrate 3, X-rays 33 diverging in a fan shape toward the substrate 3 are emitted downward at a predetermined angle θ with respect to the normal to the substrate 3. This X-ray 33 is applied to the linear X-ray sensor 2 disposed along the linear irradiation area 37 on the substrate 3.
5 is detected. In this state, the midpoint 37a of the linear irradiation region 37 coincides with the center of the circumscribed circle of the substrate 3,
The X-ray source 23 is moved (turned) on a circumference 51 about a vertical axis 49 passing through the center of a circumscribed circle. At the same time, the linear X-ray sensor 25 is rotated along the linear irradiation area 37 in synchronization with the movement of the X-ray source 23.

【0049】この実施形態では、図6に示した円周51
上のa点の位置から、図8〜図11に示すように、45
°の回転角度ごとにb点、c点、d点、e点の複数の箇
所で基板3にX線33を透過させる。このような傾斜し
たX線33を、円周51上で旋回させながら出射するこ
とにより、例えば、図7に示すように、上面の検査対象
部分(ランド等)15に、下面の非検査対象部分(金属
部等)17が重なる場合、まず、a点からのX線出射に
よる透過画像では、上部の検査対象部分15と下部の非
検査対象部分17とが、図6(b)に示す配置関係で得
られることになる。
In this embodiment, the circumference 51 shown in FIG.
From the position of the point a above, as shown in FIGS.
The X-ray 33 is transmitted through the substrate 3 at a plurality of points b, c, d, and e for each rotation angle of °. By emitting such an inclined X-ray 33 while rotating it on the circumference 51, for example, as shown in FIG. When the (metal part) 17 overlaps, first, in the transmission image by X-ray emission from the point a, the upper inspection target portion 15 and the lower non-inspection target portion 17 are arranged as shown in FIG. Will be obtained.

【0050】同様にして、各旋回位置b点、c点、d
点、e点からのX線出射による透過画像では、上部の検
査対象部分15と下部の非検査対象部分17とが、各図
8〜図11の(b)に示す配置関係で得られることにな
る。従って、図12に示す上面に上面部品P1〜P8を実
装し、下面の相当位置に下面部品が実装される基板3の
場合では、その透過画像における上面部品と下面部品と
が、図13に示す配置関係で一度に得られることにな
る。
Similarly, the turning positions b, c, d
In the transmission image by the X-ray emission from the points e and e, the upper inspection target portion 15 and the lower non-inspection target portion 17 are obtained in the arrangement relationship shown in FIGS. 8 to 11B. Become. Therefore, in the case of the substrate 3 in which the upper surface components P 1 to P 8 are mounted on the upper surface shown in FIG. 12 and the lower surface component is mounted at a corresponding position on the lower surface, the upper surface component and the lower surface component in the transmission image are the same as those in FIG. Are obtained at once with the arrangement shown in FIG.

【0051】この実施形態によるX線検査方法によれ
ば、X線源23が、基板外接円の中心を通る鉛直軸49
を中心とした円周51上で旋回移動され、且つライン状
X線センサ25が、X線源23の移動に同期させて回転
移動され、円周51上の複数の箇所a点、b点、c点、
d点、e点でX線源23から基板3にX線33が透過さ
れる。従って、X線源23及びライン状X線センサ25
が180°回転されることで、基板3を搬送せずに固定
状態のままで、基板全面に亘る透過画像が高速且つ高精
度に得られることになる。
According to the X-ray inspection method of this embodiment, the X-ray source 23 is connected to the vertical axis 49 passing through the center of the circumcircle of the substrate.
, And the linear X-ray sensor 25 is rotationally moved in synchronization with the movement of the X-ray source 23, and a plurality of points a and b on the circumference 51. point c,
At points d and e, the X-ray 33 is transmitted from the X-ray source 23 to the substrate 3. Therefore, the X-ray source 23 and the linear X-ray sensor 25
Is rotated by 180 °, a transmission image over the entire surface of the substrate can be obtained at high speed and with high accuracy while the substrate 3 is not transported and is kept in a fixed state.

【0052】次に、本発明に係る基板のX線検査方法及
びそれに用いられるX線検査装置の第3実施形態を説明
する。図14は本実施形態のX線検査装置の概念的な斜
視図である。この実施形態のX線検査装置60は、複数
のX線源24a,24b,24c,…が基板3上方の異
なる位置に備えられる一方、基板3の回転手段が省略可
能となる。他の構成は前述の第1実施形態と同様であ
る。
Next, a third embodiment of an X-ray inspection method for a substrate and an X-ray inspection apparatus used therein according to the present invention will be described. FIG. 14 is a conceptual perspective view of the X-ray inspection apparatus of the present embodiment. In the X-ray inspection apparatus 60 of this embodiment, while the plurality of X-ray sources 24a, 24b, 24c,... Are provided at different positions above the substrate 3, the rotating means of the substrate 3 can be omitted. Other configurations are the same as those of the first embodiment.

【0053】このX線検査装置60によれば、基板3を
移動手段27により搬送させながら、X線源から出射さ
れ基板3を透過した透過X線をライン状X線センサ25
により検出し、異なる方向から入射される透過画像をX
線源24a,24b,24c,…の数だけ1回の搬送動
作で得ることができる。具体的な検査方法の一例として
は、X線源24a,24b,24cのX線出射口35に
それぞれ設けられるシャッターを、シャッター制御手段
によっていずれか1つのX線源からのX線だけが基板3
に照射されるようにオンオフ制御する。このシャッター
のオンオフ制御に同期して、各X線源24a,24b,
24cから出射され基板3を透過した透過X線をライン
状X線センサ25により検出する、そして、画像処理手
段31によって各X線源毎に検出信号を切り分けて画像
形成し、各方向からの入射されたX線透過画像をそれぞ
れ作成する。
According to the X-ray inspection apparatus 60, the transmitted X-rays emitted from the X-ray source and transmitted through the substrate 3 are transferred to the linear X-ray sensor 25 while the substrate 3 is transported by the moving means 27.
And the transmitted images incident from different directions
.. Can be obtained by one transfer operation by the number of the radiation sources 24a, 24b, 24c,. As an example of a specific inspection method, a shutter provided at each of the X-ray emission ports 35 of the X-ray sources 24a, 24b, and 24c may be configured such that only X-rays from any one of the X-ray sources are controlled by the shutter control means.
On / off control is performed so as to irradiate the light. In synchronization with the on / off control of the shutter, each of the X-ray sources 24a, 24b,
The transmitted X-rays emitted from the substrate 24c and transmitted through the substrate 3 are detected by the linear X-ray sensor 25. Then, the detection signal is divided for each X-ray source by the image processing means 31 to form an image, and the light is incident from each direction. The generated X-ray transmission images are respectively created.

【0054】これにより、移動手段27による1回の基
板搬送動作で異なる方向からX線を入射した透過画像が
一度に得られ、迅速なX線検査が可能となる。なお、本
実施形態の構成では、1つのライン状X線センサ25を
用いているが、各X線源24a,24b,24c,…に
対応して複数のライン状X線センサを設けた構成として
もよい。この場合、検出信号の切り分け処理が不要とな
り、一層の高速化が達成できる。
As a result, transmitted images in which X-rays are incident from different directions can be obtained at one time by one transfer operation of the substrate by the moving means 27, and quick X-ray inspection can be performed. Although one linear X-ray sensor 25 is used in the configuration of the present embodiment, a configuration in which a plurality of linear X-ray sensors are provided corresponding to each of the X-ray sources 24a, 24b, 24c,. Is also good. In this case, there is no need to perform the process of separating the detection signals, and a higher speed can be achieved.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
る基板のX線検査方法によれば、X線源とライン状X線
センサとの間で、水平方向の基板を水平方向に相対移動
させて基板の全面にX線を透過させた後、この基板を、
水平面上で所定角度回転させ、再びX線源とライン状X
線センサとの間で、水平方向に相対移動させて、基板に
X線を透過させ、ライン状X線センサによって透過画像
を得るので、基板に対し、一方向のみからX線を透過さ
せる場合に比べて、検査対象部分同士、又は検査対象部
分と非検査対象部分とが重なる確率を低減することがで
き、重なりのない検査対象部分の透過画像が得られて高
精度な検査を行うことができる。また、狭小領域の透過
画像を、検査対象部分の数だけ得る従来方法に比べ、異
なる角度ごとに、基板全体の透過画像を一度に得るの
で、検査対象部分の数に関係なく、全ての検査対象部分
の透過画像を高速に得ることができる。
As described above in detail, according to the method of inspecting a substrate for X-rays according to the present invention, the substrate in the horizontal direction is horizontally moved between the X-ray source and the linear X-ray sensor. After being moved to transmit X-rays over the entire surface of the substrate, this substrate is
Rotate a predetermined angle on the horizontal plane, and again
X-rays are transmitted relative to the substrate in the horizontal direction to transmit X-rays to the substrate, and a transmission image is obtained by the linear X-ray sensor. In comparison, the probability that the inspection target portions or the inspection target portion and the non-inspection target portion overlap with each other can be reduced, and a transmission image of the inspection target portion having no overlap can be obtained, and high-precision inspection can be performed. . Also, compared to the conventional method of obtaining the transmission images of the narrow area by the number of the inspection target portions, the transmission images of the entire substrate are obtained at once for each different angle, so that all the inspection targets regardless of the number of the inspection target portions are obtained. A transmission image of a part can be obtained at high speed.

【0056】本発明に係るX線検査装置によれば、基板
に対して斜めにX線を照射して透過画像を得るX線検査
装置であって、X線を出射するX線源と、このX線源か
ら出射されたX線を検出するライン状X線センサと、X
線源とライン状X線センサとの間に載置された基板を相
対移動させる移動手段と、この基板を水平面上で所定角
度回転させる回転手段と、ライン状X線センサからのX
線検出信号を画像信号に変換して透過画像を得る画像処
理手段とを設けたので、X線を基板面に対して斜め方向
で且つ、基板法線周りの任意の方向から基板に照射させ
ることができ、検査対象部分同士が重なったり、検査対
象部分と非検査対象部分とが重なる確率を低減させて、
検査対象部分の透過画像を容易に得ることができる。ま
た、X線を基板の全面に亘って透過させ、その透過した
X線をライン状X線センサで検出するので、基板全体の
透過画像を高速に得ることができる。
According to the X-ray inspection apparatus according to the present invention, there is provided an X-ray inspection apparatus for obliquely irradiating a substrate with X-rays to obtain a transmission image, comprising: an X-ray source for emitting X-rays; A linear X-ray sensor for detecting X-rays emitted from the X-ray source;
Moving means for relatively moving a substrate placed between the source and the linear X-ray sensor; rotating means for rotating the substrate by a predetermined angle on a horizontal plane;
An image processing means for converting a line detection signal into an image signal to obtain a transmission image is provided, so that the substrate can be irradiated with X-rays in an oblique direction to the substrate surface and in any direction around the substrate normal. To reduce the probability that the portions to be inspected overlap or that the portions to be inspected and the non-inspected portions overlap,
A transmission image of the inspection target portion can be easily obtained. In addition, since the X-rays are transmitted over the entire surface of the substrate and the transmitted X-rays are detected by the linear X-ray sensor, a transmission image of the entire substrate can be obtained at high speed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係るX線検査装置の第1実施形態の構
成を表す概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram illustrating a configuration of an X-ray inspection apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1のX線検査装置によって得られる透過画像
の一部を示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing a part of a transmission image obtained by the X-ray inspection apparatus in FIG.

【図3】複数の透過画像から所望の平面の合成透過画像
を得る説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram for obtaining a composite transmission image of a desired plane from a plurality of transmission images.

【図4】基板面の法線周りのX線照射方向示す平面図
(a)と、基板面に対するX線照射角度を示す断面図
(b)である。
4A is a plan view showing an X-ray irradiation direction around a normal to a substrate surface, and FIG. 4B is a cross-sectional view showing an X-ray irradiation angle with respect to the substrate surface.

【図5】複数の平面画像から合成立体画像を得る説明図
である。
FIG. 5 is an explanatory diagram for obtaining a composite stereoscopic image from a plurality of planar images.

【図6】X線源が旋回位置aに位置する第2実施形態の
X線検査装置の構成を表す概念的な斜視図である。
FIG. 6 is a conceptual perspective view illustrating a configuration of an X-ray inspection apparatus according to a second embodiment in which an X-ray source is located at a turning position a.

【図7】図6に示した基板表裏の状態を表す要部拡大図
である。
FIG. 7 is an enlarged view of a main part showing a state of the front and back of the substrate shown in FIG. 6;

【図8】X線源が旋回位置bとなったX線検査装置の斜
視図である。
FIG. 8 is a perspective view of the X-ray inspection apparatus in which the X-ray source is at the turning position b.

【図9】X線源が旋回位置cとなったX線検査装置の斜
視図である。
FIG. 9 is a perspective view of the X-ray inspection apparatus in which the X-ray source is at a turning position c.

【図10】X線源が旋回位置dとなったX線検査装置の
斜視図である。
FIG. 10 is a perspective view of the X-ray inspection apparatus in which the X-ray source is at a turning position d.

【図11】X線源が旋回位置eとなったX線検査装置の
斜視図である。
FIG. 11 is a perspective view of the X-ray inspection apparatus in which the X-ray source is at a turning position e.

【図12】表裏面で対応する複数の部品が実装された基
板例を表す斜視図である。
FIG. 12 is a perspective view illustrating an example of a board on which a plurality of corresponding components are mounted on the front and back surfaces.

【図13】第2実施形態で得られた図12の基板の透過
画像を表す平面図である。
FIG. 13 is a plan view illustrating a transmission image of the substrate of FIG. 12 obtained in the second embodiment.

【図14】本発明に係る第3実施形態のX線検査装置の
構成を示す概念的な斜視図である。
FIG. 14 is a conceptual perspective view illustrating a configuration of an X-ray inspection apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【図15】従来の基板のX線検査方法に用いられるX線
検査装置の概略構成図である。
FIG. 15 is a schematic configuration diagram of an X-ray inspection apparatus used in a conventional substrate X-ray inspection method.

【図16】図15の従来装置によって得られる透過画像
の平面図である。
FIG. 16 is a plan view of a transmission image obtained by the conventional device of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3 基板 16 立体形状 20,40,60 X線検査装置 23 X線源 25 ライン状X線センサ 27 移動手段 29 回転手段 31 画像処理手段 33 X線 37 線状照射領域 37a 中点 45 回転移動手段 49 鉛直軸 51 円周 G 合成平面画像 Ps 間隔 θ X線照射角度 φ X線照射方向 3 substrate 16 three-dimensional shape 20, 40, 60 X-ray inspection device 23 X-ray source 25 linear X-ray sensor 27 moving means 29 rotating means 31 image processing means 33 X-ray 37 linear irradiation area 37a midpoint 45 rotating moving means 49 Vertical axis 51 Circumference G Composite plane image Ps interval θ X-ray irradiation angle φ X-ray irradiation direction

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柿島 伸幸 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 2G001 AA01 AA10 BA11 CA01 DA02 DA08 FA21 GA06 GA13 HA13 JA06 JA08 JA09 JA11 KA03 LA11 MA05 PA11 PA12  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Nobuyuki Kakishima 1006 Kazuma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. F-term (reference) 2G001 AA01 AA10 BA11 CA01 DA02 DA08 FA21 GA06 GA13 HA13 JA06 JA08 JA09 JA11 KA03 LA11 MA05 PA11 PA12

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 水平配置された基板の上方に、この基板
に対して斜めにX線を出射するX線源を設け、前記基板
の下方に前記X線源から出射され基板を透過したX線を
検出するライン状X線センサを設け、前記X線源及び前
記ライン状X線センサに対して前記基板を水平方向に相
対移動させることで、基板に対するX線の透過画像を撮
像する基板のX線検査方法において、 前記X線源と前記ライン状X線センサとの間に配置され
た前記基板を水平方向に相対移動させて前記基板の全面
に亘ってX線の透過画像を撮像した後、 前記基板を水平面上で所定角度回転させ、 該回転させた基板を、再び前記X線源と前記ライン状X
線センサとの間で水平方向に相対移動させ、前記基板の
全面に亘ってX線の透過画像を撮像することを特徴とす
る基板のX線検査方法。
An X-ray source that emits X-rays obliquely to the substrate is provided above a horizontally arranged substrate, and an X-ray emitted from the X-ray source and transmitted through the substrate is provided below the substrate. A linear X-ray sensor for detecting X-rays, and by moving the substrate relative to the X-ray source and the linear X-ray sensor in the horizontal direction, X In the X-ray inspection method, after relatively moving the substrate disposed between the X-ray source and the linear X-ray sensor in the horizontal direction and capturing a transmission image of X-rays over the entire surface of the substrate, The substrate is rotated at a predetermined angle on a horizontal plane, and the rotated substrate is again rotated with the X-ray source and the linear X
An X-ray inspection method for a substrate, characterized in that the substrate is relatively moved in a horizontal direction between the X-ray sensor and an X-ray transmission image is taken over the entire surface of the substrate.
【請求項2】 前記基板の法線周りの異なる方向に設け
られた複数のX線源から、順次X線を基板へ照射するこ
とを特徴とする請求項1記載の基板のX線検査方法。
2. The X-ray inspection method for a substrate according to claim 1, wherein the substrate is irradiated with X-rays sequentially from a plurality of X-ray sources provided in different directions around the normal line of the substrate.
【請求項3】 前記基板の法線周りの異なる方向からX
線を斜めに照射して、前記基板に対する複数の透過画像
を撮像し、 前記複数の透過画像を合成して前記基板の任意の厚み位
置における平面画像を得ることを特徴とする請求項1又
は請求項2記載の基板のX線検査方法。
3. X from different directions around the normal to the substrate.
The line is irradiated obliquely, a plurality of transmission images for the substrate are captured, and the plurality of transmission images are combined to obtain a plane image at an arbitrary thickness position of the substrate. Item 3. An X-ray inspection method for a substrate according to Item 2.
【請求項4】 前記複数の平面画像を前記基板の厚み順
に階層配置するように画像処理し、 前記厚み順に階層配置した複数の平面画像から前記基板
の立体画像を合成して得ることを特徴とする請求項3記
載の基板のX線検査方法。
4. The image processing wherein the plurality of planar images are hierarchically arranged in the order of the thickness of the substrate, and a stereoscopic image of the substrate is obtained from the plurality of planar images hierarchically arranged in the order of the thickness. The X-ray inspection method for a substrate according to claim 3.
【請求項5】 水平配置された基板の上方からこの基板
に対して斜めにX線を出射するX線源を設け、該X線源
から出射され基板を透過したX線を検出するライン状X
線センサを基板の下方に設け、前記X線源及び前記ライ
ン状X線センサに対して前記基板を水平方向に相対移動
させることで、基板に対するX線の斜め照射透過画像を
撮像する基板のX線検査方法において、 前記X線源から出射されるX線を、前記水平配置された
基板の外接円の中心に一致するように基板へ向けて線状
に照射すると共に、前記X線源を前記外接円の中心を通
る鉛直軸を中心とした円周上で移動させ、 且つ、前記ライン状X線センサを、X線の線状照射領域
に沿うように前記X線源の移動に同期させて回転移動さ
せ、 前記円周上の複数の箇所で前記基板を透過する透過X線
を検出して、前記基板全面に亘って透過画像を撮像する
ことを特徴とする基板のX線検査方法。
5. An X-ray source for emitting X-rays obliquely from above a horizontally arranged substrate to the substrate is provided, and a linear X-ray for detecting X-rays emitted from the X-ray source and transmitted through the substrate is provided.
A line sensor is provided below the substrate, and the substrate is moved in the horizontal direction relative to the X-ray source and the linear X-ray sensor, thereby obtaining an X-ray oblique irradiation transmission image of the substrate. In the X-ray inspection method, X-rays emitted from the X-ray source are linearly irradiated toward the substrate so as to coincide with the center of a circumcircle of the horizontally arranged substrate, and the X-ray source is The linear X-ray sensor is moved on a circumference around a vertical axis passing through the center of a circumscribed circle, and the linear X-ray sensor is synchronized with the movement of the X-ray source so as to be along a linear irradiation area of X-rays. A method of inspecting an X-ray of a substrate, comprising rotating the substrate, detecting transmitted X-rays transmitted through the substrate at a plurality of locations on the circumference, and capturing a transmitted image over the entire surface of the substrate.
【請求項6】 基板に対して斜めにX線を出射するX線
源と、 前記X線源から出射されたX線を検出するライン状X線
センサと、 前記X線源と前記ライン状X線センサとの間に水平に載
置された基板を、前記X線線源及び前記ライン状X線セ
ンサに対して水平方向に相対移動させる移動手段と、 前記移動手段に載置した前記基板を、水平面上で所定角
度回転させる回転手段と、 前記ライン状X線センサによって得られたX線検出信号
を画像信号に変換して前記基板の全面に亘る透過画像を
得る画像処理手段とを具備したことを特徴とするX線検
査装置。
6. An X-ray source that emits X-rays obliquely to a substrate, a linear X-ray sensor that detects X-rays emitted from the X-ray source, the X-ray source and the linear X-ray sensor. Moving means for horizontally moving a substrate mounted between the X-ray sensor and the linear X-ray sensor with respect to the X-ray source and the linear X-ray sensor; Rotating means for rotating a predetermined angle on a horizontal plane, and image processing means for converting an X-ray detection signal obtained by the linear X-ray sensor into an image signal to obtain a transmission image over the entire surface of the substrate. An X-ray inspection apparatus, characterized in that:
【請求項7】 前記基板の法線周りの異なる方向に複数
のX線源を備えると共に、各X線源から順次X線を照射
させるためのシャッター制御手段を前記各X線源それぞ
れに設けたことを特徴とする請求項6記載のX線検査装
置。
7. A plurality of X-ray sources are provided in different directions around a normal line of the substrate, and shutter control means for sequentially irradiating X-rays from each X-ray source is provided in each of the X-ray sources. The X-ray inspection apparatus according to claim 6, wherein:
【請求項8】 基板に対して斜めにX線を出射するX線
源と、 前記X線源から出射されたX線を検出するライン状X線
センサと、 前記X線源と前記ライン状X線センサとの間に水平に載
置された基板に対し、該基板の外接円の中心を通る鉛直
軸を中心とした円周上で前記X線源を回転移動させると
共に、前記ライン状X線センサをX線の線状照射領域に
沿うように前記X線源の移動に同期させて回転移動させ
る回転移動手段と、 前記ライン状X線センサによって得られたX線検出信号
を前記回転移動手段による回転角度に応じて画像信号に
変換して前記基板の全面に亘る透過画像を得る画像処理
手段とを具備したことを特徴とするX線検査装置。
8. An X-ray source that emits X-rays obliquely to a substrate, a linear X-ray sensor that detects X-rays emitted from the X-ray source, the X-ray source and the linear X-rays. The X-ray source is rotated on a circumference centered on a vertical axis passing through the center of a circumcircle of the substrate with respect to a substrate horizontally placed between the X-ray source and the linear X-ray. A rotating means for rotating a sensor in synchronization with the movement of the X-ray source so as to be along a linear irradiation area of X-rays; and a rotating means for transmitting an X-ray detection signal obtained by the linear X-ray sensor. An X-ray inspection apparatus comprising: an image processing unit that converts the image signal into an image signal according to a rotation angle of the substrate to obtain a transmission image over the entire surface of the substrate.
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