JP2002150730A - 磁気ヘッド装置 - Google Patents

磁気ヘッド装置

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JP2002150730A
JP2002150730A JP2000344039A JP2000344039A JP2002150730A JP 2002150730 A JP2002150730 A JP 2002150730A JP 2000344039 A JP2000344039 A JP 2000344039A JP 2000344039 A JP2000344039 A JP 2000344039A JP 2002150730 A JP2002150730 A JP 2002150730A
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秀治 佐藤
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  • Moving Of The Head To Find And Align With The Track (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 微動アクチュエータである圧電素子の駆動効
率を低下させることなく、圧電体からの発塵や脱粒を防
止できる磁気ヘッド装置の提供。 【解決手段】 記録媒体に記録された磁気信号を磁気抵
抗効果により検出する再生素子及び上記録媒体に磁気信
号を記録する記録素子が設けられたスライダ121と、
スライダ121を支持するロードビーム(弾性支持部
材)111と、ロードビーム111上に搭載され、ロー
ドビーム111に歪みを与えてスライダ121の位置を
変化させる圧電素子112,113とが備えられ、圧電
素子112,113はチタン酸ジルコン酸鉛を主体とす
る圧電層を有する磁気ヘッド装置において、圧電素子1
12,113は少なくとも圧電層の露出面がエラストマ
ーからなる被膜115により被覆された磁気ヘッド装置
110。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、MRヘッド(再生
用ヘッド)を有する再生素子を搭載し、前記MRヘッド
を支持する支持部材にチタン酸ジルコン酸鉛等を主体と
する圧電体を有する圧電素子が搭載された磁気ヘッド装
置に係り、特に前記圧電体からの発塵や脱粒を防止でき
るようにした磁気ヘッド装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図5は、ハードディスク装置の例を示す
平面図である。このハードディスク装置は、円盤状の磁
気ディスク1と、スピンドルモータ2と、キャリッジ3
と、ロードビーム4と、スライダ5と、ボイスコイルモ
ータ6が備えられている。磁気ヘッド装置は、ロードビ
ーム4とスライダ5から概略構成されている。円盤状の
磁気ディスク1は、スピンドルモータ2によって回転駆
動されるようになっている。また、剛性を有するキャリ
ッジ3の先端部3aに支持部材であるロードビーム4が
連結されており、ロードビーム4の先端4aにて、フレ
キシャ(図示せず)を介して取付けられたスライダ5を
有している。ロードビーム4は、板ばね材料により形成
されている。ロードビーム4は、その基端部4bがキャ
リッジ3上に固定される固定部であり、ロードビーム4
の先端部4aが、スライダ5を支持している。
【0003】スライダ5には、磁気ディスク1に記録さ
れた磁気信号を磁気抵抗効果により検出する再生素子及
び磁気ディスク1に磁気信号を記録する記録素子が設け
られている。磁気ディスク1が回転したときに生じる空
気流を受けて、スライダ5が磁気ディスク1上で浮上
し、浮上状態で記録及び再生を行う。キャリッジ3の基
端部3bにはボイスコイルモータ6が取りつけられてい
る。ボイスコイルモータ6によって、キャリッジ3及び
ロードビーム4が、磁気ディスク1の半径方向に駆動さ
れ、スライダ5に搭載された再生素子及び記録素子を任
意の記録トラック上に移動させるシーク動作、並びに前
記再生素子及び記録素子を記録トラックの中心線上に保
たせるトラッキング動作を行う。
【0004】磁気ディスク1の記録密度が向上していく
につれて、トラッキング動作の精度も向上させる必要が
ある。従来は、ボイスコイルモータ6によってキャリッ
ジ3を駆動させることのみで、前記シーク動作及びトラ
ッキング動作を行っていた。
【0005】トラッキング動作の精度を向上させるため
には、ボイスコイルモータ6を含むサーボ系のサーボ帯
域を高くする必要がある。しかし、前記サーボ帯域は、
キャリッジ3とキャリッジ3を回転自在に支持するベア
リング(図示せず)の機械的共振点によって制限され
る。キャリッジ3の機械的共振点は、キャリッジ3のサ
イズによって決まるが、キャリッジ3のサイズは、規格
によって決められた磁気ディスク1の直径によって決め
られる。例えば、磁気ディスク1の直径が3.5インチ
のときキャリッジ3と前記ベアリングの共振点は、約
3.5kHzとなる。キャリッジ3と前記ベアリングの
共振点が約3.5kHzであるとき、ボイスコイルモー
タ6によってキャリッジ3を駆動させることのみでトラ
ッキング動作を行わせるサーボ系のサーボ帯域は、70
0Hz程度がほぼ上限である。
【0006】そこで、近年ロードビーム上に微動アクチ
ュエータを搭載して、ロードビームの先端部のみを動か
して、トラッキング動作を行わせる方法が提案されてい
る。
【0007】図6は微動アクチュエータである圧電素子
を搭載したロードビームの斜視図である。このロードビ
ーム11は、ステンレスの板ばね材によって形成されて
おり、キャリッジによって保持される固定基端部11a
と固定基端部11aに対して水平方向に揺動可能な揺動
部11bとを有している。固定基端部11aの前端部両
脇には、固定基端部11aの長手方向に延びる腕部11
c,11cが形成されている。また、揺動部11bは弾
性支持部11d,11dを介して、腕部11c,11c
に連結されている。さらに、揺動部11bと固定基端部
11a上に、圧電素子12及び13が空隙部11e上に
架け渡されて設置されている。圧電素子12及び13
は、圧電材料からなるチタン酸ジルコン酸鉛(PZT)
からなる圧電層(圧電体)12b及び13bと、これら
圧電層12bと13bの上下層にそれぞれ成膜された電
極層12a1及び12a2並びに13a1及び13a2
とからなるものである。圧電素子12及び13は、電極
層12a1及び12a2並びに13a1及び13a2に
電圧が加えられると、歪みを発生させる素子である。ま
た、逆に圧電素子12及び13に応力が加えられて、圧
電素子12及び13が歪むと電極層12a1及び12a
2間、並びに13a1及び13a2間に電圧が発生す
る。なお、図6中、符号21は、揺動部11bの先端
に、フレキシャ(図示せず)を介して取付けられたスラ
イダ21である。
【0008】図6のロードビーム11はアースに接続さ
れている。圧電素子12及び13の電極層12a1及び
13a1は、ロードビーム11に電気的に接続されるこ
とによりアースと接続される。圧電素子12及び13の
圧電層12b及び13bは、謨厚方向に分極するが、そ
の分極方向は圧電素子12及び13とで逆方向となって
いる。従って、電極層12a2及び13a2に同じ電位
をかけたときに、一方の圧電素子は長手方向に伸長し、
他方の圧電素子は長手方向に収縮するという性能があ
る。
【0009】その結果、弾性支持部11d,11dが歪
み、揺動部11bの先端部に取りつけられたスライダ2
1の位置が変化する。すなわち、揺動部11bの先端部
に取りつけられるスライダをトラック幅方向に動かし
て、トラッキング動作を行わせることが可能となる。従
って圧電素子を搭載したロードビームを用いてサーボ系
を構成すると、サーボ帯域を2kHz以上にすることが
できる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】ところで上記のような
従来の磁気ヘッド装置においては、圧電素子12及び1
3に備えられた圧電層12b及び13bがPZTから構
成されているために、圧電素子12及び13が伸縮を繰
り返すと、圧電層12b及び13bから構成材料のPZ
Tの脱粒や発塵が生じることがあり、磁気ヘッド(スラ
イダ)と磁気ディスクとの間隔は数十から数百nmであ
り、この隙間に上記のような脱粒等の塵が入り込むと、
磁気ヘッド装置の特性が低下したり、磁気ヘッドのクラ
ッシュ等の問題を引き起こしてしまう。
【0011】そこで、このような問題を解決する手段と
して、圧電素子12及び13の表面のほぼ全面にエポキ
シ樹脂塗料のような一般的に用いられるコーティング剤
をコーティングする方法が考えられるが、従来の一般的
なコーティング剤は弾力性が乏しいために、圧電素子1
2及び13の表面全面に塗布すると、電極層12a1及
び12a2並びに13a1及び13a2に印加した電圧
量に応じた歪みが圧電素子12及び13に生じなくなっ
たり、あるいは圧電素子12及び13に加えられた応力
に応じた歪が圧電素子12及び13に生じなくなり、電
極層12a1及び12a2間、並びに13a1及び13
a2間に上記応力に応じた電圧が生じなくなり、圧電素
子の動きが制約されてしまい、圧電素子の駆動効率が低
下してしまう。また、圧電素子の駆動効率を低下させな
いようにするためには、1μm以下の薄膜になるように
エポキシ樹脂塗料をコーティングしなければならず、こ
のように薄膜にすると圧電層12b及び13bから構成
材料の脱粒や発塵の防止効果が不十分になってしまう。
【0012】本発明は、上記従来の課題を解決するため
のものであり、再生素子及び記録素子が備えられたスラ
イダを支持する支持部材に圧電体を有する圧電素子が搭
載された磁気ヘッド装置において、微動アクチュエータ
である圧電素子の駆動効率を低下させることなく、上記
圧電体からの発塵や脱粒を防止できる磁気ヘッド装置を
提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は、記録媒体に記
録された磁気信号を検出する再生素子及び上記記録媒体
に磁気信号を記録する記録素子が設けられたスライダ
と、上記スライダを支持する弾性支持部材と、上記弾性
支持部材上に搭載され、該弾性支持部材に歪みを与えて
上記スライダの位置を変化させて上記再生素子あるいは
記録素子の位置を変化させる圧電素子とが備えられ、上
記圧電素子は圧電体を有する磁気ヘッド装置において、
上記圧電素子は少なくとも圧電体の露出面がエラストマ
ーからなる被膜により被覆されたことを特徴とするもの
である。
【0014】かかる構成の磁気ヘッド装置によれば、圧
電体を有する圧電素子の少なくとも圧電体の露出面がエ
ラストマーからなる被膜により被覆されているので、上
記圧電素子が伸縮を繰り返しても、上記圧電体の構成材
料のPZTの脱粒や発塵を防止できる。また、上記被膜
はエポキシ樹脂塗料のような従来の一般的なコーティン
グ剤を用いた塗膜に比べて弾力性が大きいために、圧電
素子の表面の略全面(電極取り出し用リードとの接続部
は除く)に形成されていても、圧電素子の動きが制約さ
れることがなく、圧電素子の駆動効率を良好に保つこと
ができる。また、上記エラストマーからなる被膜は、上
記圧電素子の厚みと同じ程度の厚みであっても弾力性を
有しているので、圧電素子の動きが制約されることがな
く、圧電素子の駆動効率が低下することがない。上記の
ような本発明の効果は、上記圧電体がチタン酸ジルコン
酸鉛(ジルコン酸チタン酸鉛)等のセラミック系材料を
主体とするものであるときに特に効果的である。
【0015】上記構成の本発明の磁気ヘッド装置におい
ては、上記再生素子には、記録媒体に記録された磁気信
号を磁気抵抗効果により検出する磁気抵抗効果素子が備
えられていることが好ましい。磁気記録媒体(磁気ディ
スク)においては、磁気記録密度の向上が望まれてお
り、磁気記録密度をあげるために、磁気記録トラクック
幅を小さくしており、このようにすると記録媒体の半径
方向にかけるトラックの数が単位面積あたり増加するの
で、磁気記録密度を増大できる。磁気記録密度が増大す
ると、磁気ヘッド装置の感度を向上させる必要があるた
め、上記再生素子に上記磁気抵抗効果素子が備えられて
いる磁気ヘッド装置の感度を向上できる。また、上記の
いずれかの構成の本発明の磁気ヘッド装置においては、
上記圧電体は、チタン酸ジルコン酸鉛(ジルコン酸チタ
ン酸鉛)等のセラミック系材料を主体とするものであっ
てもよい。上記のように磁気記録密度の増大に伴ってト
ラック幅が小さくなっても、磁気ヘッド(再生素子と記
録素子が備えられたスライダ)の動き(トラッキング動
作)の制御が精度良くできないと、狭くしたトラック幅
に対応できなくなり、磁気ヘッドがサイドリーディング
を起こす場合があるため、チタン酸ジルコン酸鉛(ジル
コン酸チタン酸鉛)を主体とする圧電体を有する圧電素
子を用いることにより、この圧電素子によりスライダを
支持する弾性支持部材に歪みを与えてスライダの位置を
微調整でき、従って磁気ヘッドの動作の精度を向上でき
る。
【0016】本発明で用いられるエラストマーとして
は、ポリエステル系、ポリフルオロカーボン系(フッ素
系)、ポリアミド系等の熱可塑性エラストマーや、アク
リル系、ニトリル系等のゴムなどが挙げられる。
【0017】本発明で用いられるエラストマーからなる
被膜は、ヤング率が100MPa以下が好ましく、より
好ましくは50MPaである。上記エラストマーからな
る被膜のヤング率が100MPaを越えると、弾力性が
低下し、圧電素子の動きを制約してしまう。
【0018】本発明で用いられるエラストマーからなる
被膜の厚みは、上記圧電素子の厚みと同じ厚み以下であ
ることが好ましく、より好ましくは1μm以上で圧電素
子と同じ厚み以下とされる。上記エラストマーからなる
被膜の厚みが上記圧電素子の厚みより厚いと、圧電素子
の動きを制約してしまう。本発明での圧電素子の厚みと
は、エラストマーからなる被膜の厚みを含まない厚みで
ある。例えば、PZTからなる圧電体とこの圧電体の両
面に形成した電極からなる積層体の表面に(電極取り出
し用リードとの接続部を除いて)エラストマーからなる
被膜を形成した場合、エラストマーからなる被膜の厚み
は上記圧電体とこの圧電体の両面に形成した電極からな
る積層体の厚みと同じ厚み以下が好ましい。また、PZ
Tからなる圧電体とこの圧電体の両面に形成した電極か
らなる積層体の圧電体の側面にエラストマーからなる被
膜を形成した場合、エラストマーからなる被膜の厚みは
上記圧電体とこの圧電体の両面に形成した電極からなる
積層体の厚みと同じ厚み以下が好ましい。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気ヘッド装置の
一実施形態を図面に基づき詳しく説明する。図1は、本
発明の実施形態の磁気ヘッド装置が備えられたハードデ
ィスク装置の例を示す平面図である。図2は、本実施の
形態の磁気ヘッド装置を記録媒体との対向面側と反対側
から見た示す平面図である。図3(a)は、図2の圧電
素子の平面図、(b)は図2の圧電素子のIII−III線断
面図である。図4は、本実施形態の磁気ヘッド装置を記
録媒体との対向面側から見た平面図である。
【0020】図1のハードディスク装置は、円盤状の磁
気ディスク101と、スピンドルモータ102と、キャ
リッジ103と、ロードビーム111と、スライダ12
1と、ボイスコイルモータ106が備えられている。円
盤状の磁気ディスク101は、スピンドルモータ102
によって回転駆動されるようになっている。本実施形態
の磁気ヘッド装置110は、ロードビーム111とスラ
イダ121と後述の配線部材131から概略構成されて
いる。なお、図2では、配線部材131の図示を省略し
ている。
【0021】この磁気ヘッド装置110は、図4に示す
ように、ロードビーム111の記録媒体との対向面側
に、再生用導電パターンR1,R2及び記録用導電パタ
ーンW1,W2を有する配線部材131が設けられたも
のである。配線部材131は、ステンレスなどの薄い板
ばね上にポリイミドなどの絶縁性材料からなる絶縁層を
介して、Cu等の導電性材料からなる再生用導電パター
ンR1,R2及び記録用導電パターンW1,W2が形成
されたものである。配線部材131の先端部131Aに
は、記録媒体に記録された磁気信号を磁気抵抗効果によ
り検出する再生素子及び上記記録媒体に磁気信号を記録
する記録素子が設けられたスライダ121が設けられて
いる。また、配線部材131の先端部131Aは、フレ
キシャとしての機能も有している。
【0022】スライダ121及び配線部材131を支持
する弾性支持部材であるロードビーム111は、図2に
示すように圧電素子112、113を搭載したものであ
る。このロードビーム111は、ステンレスの板ばね材
によって形成されており、キャリッジ103によって保
持される固定基端部111aと該固定基端部111aに
対して水平方向に揺動可能な揺動部111bとを有して
いる。固定基端部111aの前端部両脇には、固定基端
部111aの長手方向に延びる腕部111c,111c
が形成されている。また、揺動部111bは弾性支持部
111d,111dを介して、腕部111c,111c
に連結されている。
【0023】さらに、揺動部111bと固定基端部11
1a上に、圧電素子112及び113が空隙部111e
上に架け渡されて設置されている。圧電素子112及び
113は、図2及び図3に示すように、チタン酸ジルコ
ン酸鉛(ジルコン酸チタン酸鉛)等の圧電材料を主体と
する圧電層(圧電体)112b及び113bの上下層に
それぞれ成膜された電極層112a1及び112a2並
びに113a1及び113a2とからなるものである。
このような圧電素子112及び113は、後述の導電性
ペーストあるいは金属ワイヤ(電極取り出し用リード)
との接続部を除く表面が、エラストマーからなる被膜1
15により被覆されている。
【0024】被膜115を構成するエラストマーとして
は、ポリエステル系、ポリフルオロカーボン系(フッ素
系)、ポリアミド系等の熱可塑性エラストマーや、アク
リル系、ニトリル系等のゴムなどが挙げられる。
【0025】上記エラストマーからなる被膜115は、
ヤング率が100MPa以下が好ましく、より好ましく
は50MPaである。上記被膜115のヤング率が10
0MPaを越えると、弾力性が低下し、圧電素子の動き
を制約してしまう。
【0026】上記被膜115の厚みt2は、圧電素子1
12あるいは113の厚みt1と同じ厚み以下であるこ
とが好ましく、より好ましくは1μm以上で圧電素子と
同じ厚み以下とされる。上記エラストマーからなる被膜
115の厚みt2が上記圧電素子112あるいは113
の厚みより厚いと、圧電素子の動きを制約してしまう。
本実施形態での圧電素子の厚みt1とは、エラストマー
からなる被膜115の厚みt2を含まない厚みであり、
本実施形態のように圧電層112b(113b)とこの
圧電層112b(113b)の両面に形成した電極層1
12a1,112a2(113a1,113a2)から
なる積層体の表面にエラストマーからなる被膜115を
形成したものである場合、被膜115の厚みは上記圧電
層112b(113b)とこの圧電層112b(113
b)の両面に形成した電極層112a1,112a2
(113a1,113a2)からなる積層体の厚みと同
じ厚み以下が好ましい。
【0027】図2のロードビーム111はアースに接続
されている。圧電素子112及び113の電極層112
a1及び113a1は、ロードビーム111に電気的に
接続されることによりアースと接続される。また、電極
層112a2及び113a2には、金線ワイヤ114が
接続されており、金線ワイヤ(電極取り出し用リード)
114は端子114aにおいて図4に示される配線部材
131に設けられている制御用導電パターンPに接続さ
れている。また、電極層112a1及び113a1に
は、図示しないAg等の導電性ペーストあるいは金属ワ
イヤ(電極取り出し用リード)が接続されている。
【0028】上記のようなエラストマーからなる被膜1
15が略全面に被覆された圧電素子112,113の作
製方法としては、例えば、PZTからなる圧電層の両面
に電極層を成膜した積層体を作製し、ついでこの積層体
を所望幅にダイシングした後、電極取り出し用リードと
の接続部をマスクしたのち、圧電素子の表面にディップ
式、スプレー式、スピンコート式等の湿式法、あるいは
CVD等による乾式法により上記被膜115を成膜する
ことにより得られる。
【0029】圧電素子112及び113は、電極層11
2a1及び112a2並びに113a1及び113a2
に電圧が加えられると、歪みを発生させる素子である。
また、逆に圧電素子112及び113に応力が加えられ
て、圧電素子112及び113が歪むと電極層112a
1及び112a2間、並びに113a1及び113a2
間に電圧が発生する。圧電素子112及び113の圧電
層112b及び113bは、膜厚方向に分極するが、そ
の分極方向は圧電素子112及び113とで逆方向とな
っている。従って、電極層112a2及び113a2
に、金線ワイヤ114を介して同じ電位をかけたとき
に、一方の圧電素子は長手方向に伸長し、他方の圧電素
子は長手方向に収縮する。
【0030】その結果、弾性支持部111d,111d
が歪み、揺動部111bの先端部に取りつけられたスラ
イダ121の位置が変化する。すなわち、揺動部111
bの先端部に取りつけられたスライダ121をトラック
幅方向に動かして、トラッキング動作を行わせることが
可能となる。上記のような圧電素子112,113を搭
載したロードビーム111を用いてサーボ系を構成する
と、サーボ帯域を2kHz以上にすることができる。
【0031】なお、このロードビーム111は、例えば
図1に示されるようなハードディスク装置において、剛
性支持部材であるキャリッジ103の先端部103aに
連結されて、支持されている。キャリッジ103の基端
部103bにはボイスコイルモータ106が取りつけら
れている。
【0032】スライダ121は、セラミック材料により
形成されており、スライダ121のトレーリング側T端
面には、図2に示されるごとく薄膜素子121aが設け
られている。また、スライダ121の記録媒体との対向
面側には、ABS面(浮上面)が形成されている。
【0033】また、薄膜素子121aは、記録媒体に記
録された磁気記録信号を再生する再生素子(MRヘッ
ド)と、記録媒体に磁気信号を記録する記録素子(イン
ダクティブヘッド)との双方を含む、いわゆる複合型薄
膜素子である。上記再生素子は、例えばスピンバルブ膜
に代表される磁気抵抗効果を利用した磁気抵抗効果素子
と、磁性材料のシールド層とを有して構成され、また記
録素子は、磁性材料のコアと、コイルとがパターン形成
された構成となっている。
【0034】また、配線部材131に設けられている再
生用導電パターンR1,R2及び記録用導電パターンW
1,W2は、先端部131A側でそれぞれ上記再生素子
及び上記記録素子に接続され、基端部131B側でパッ
ドTR1,TR2及びTW1,TW2に接続されている。また、
圧電素子112,113に制御用信号を供給する制御用
導電パターンPは、端子114aにおいて圧電素子11
2,113に接続され、基端部131B側でパッドTP
に接続されている。
【0035】本実施の形態では、圧電素子112,11
3に接続されて制御用信号を供給する制御用導電パター
ンPと再生用導電パダーンR1,R2とが、記録用導電
パターンW1,W2を間に挟んで、配線部材131上で
反対側に位置するように配線されている。また、配線部
材131の基端部131B側では、制御用導電パターン
Pと再生用導電パターンR1,R2とが、パッドTR1、T
R2、TW1,TW2、及びTPを間に挟んで、配線部材13
1上で反対側に位置するように配線されている。
【0036】このように制御用導電パターンPと再生用
導電パターンR1,R2との間に、記録用導電パターン
W1,W2が形成されていると、制御用導電パターンP
と再生用導電がターンR1,R2間の結合容量を低下さ
せることができる。従って、サージ電流が流れた制御用
導電パターンPと再生用導電パターンR1,R2との容
量性の結合度が低下し、再生用導電パターンR1,R2
に電流が流れることを抑えることができ、電流耐性の低
い再生素子の損傷を低減することができる。
【0037】本実施形態の磁気ヘッド装置によれば、チ
タン酸ジルコン酸鉛(ジルコン酸チタン酸鉛)等のセラ
ミック系圧電材料を主体とする圧電体を有する圧電素子
112,113の電極取り出し用リードとの接続部を除
く表面が、エラストマーからなる被膜115により被覆
されているので、チタン酸ジルコン酸鉛(ジルコン酸チ
タン酸鉛)等を主体とする圧電体が露出しておらず、圧
電素子112,113が伸縮を繰り返しても、上記圧電
体の構成材料の脱粒や発塵を防止できる。また、上記被
膜115はエポキシ樹脂塗料のような従来の一般的なコ
ーティング剤を用いた塗膜に比べて弾力性が大きいため
に、圧電素子112,113の表面の略全面(電極取り
出し用リードとの接続部は除く)に形成されていても、
圧電素子112,113の動きが制約されることがな
く、圧電素子112,113の駆動効率を良好に保つこ
とができる。また、上記エラストマーからなる被膜11
5の厚みt2は、上記圧電素子112,113の厚みt
1と同じ程度の厚みであっても弾力性を有しているの
で、圧電素子112,113の動きが制約されることが
なく、圧電素子112,113の駆動効率が低下するこ
とがない。
【0038】なお、上記実施形態においては、圧電素子
112,113の略全面がエラストマーからなる被膜1
15で覆われている場合について説明したが、圧電素子
は少なくとも圧電体の露出面が上記エラストマーからな
る被膜により被覆されていればよく(圧電素子の圧電体
が露出していなければよく)、例えば、圧電層112
b,113bの側面あるいは圧電素子112,113の
側面が上記エラストマーからなる被膜115により被覆
されていればよい。このように圧電素子112,113
の側面が上記エラストマーからなる被膜115により被
覆された圧電素子の作製方法としては、例えば、PZT
からなる圧電層の両面に電極層を成膜した積層体を作製
し、ついでこの積層体の両面にシート状のマスクを接
着、積層した後、この積層物を所望幅にダイシングした
後、マスクされていない積層物の側面や溝内にディップ
式、スプレー式、スピンコート式等の湿式法、あるいは
CVD等による乾式法により上記エラストマーからなる
被膜を成膜することにより得ることができる。
【0039】
【実施例】以下、本発明を実施例、比較例を挙げて具体
的に説明する。 (実験例)圧電素子を被覆する被膜の材料およびヤング
率を下記表1に示す範囲で変更したときの圧電素子(圧
電素子単体)の駆動効率について調べた。その結果を表
1にあわせて示す。ここでの駆動効率は、厚さ0.15
mmのPZT圧電層の両面にそれぞれ厚さ1μmのAu
電極層を形成した圧電素子単体(サンプルNo.1)の
変位量(UY)を基準とし、この圧電素子の表面に電気
取り出し用リードとの接続部を除いて種々の被膜を形成
した被膜付圧電素子(サンプルNo.2〜11)の変位
量(UY)の劣化率を測定した。ここでの変位量(U
Y)は、−30V〜+30Vの電圧を印加えたときの圧
電素子の長さL’から電圧をかける前の圧電素子の長さ
Lを引いた長さである(UY=L’−L)。圧電素子の
変位量(UY)の劣化率の絶対値が小さいものほど圧電
素子の動きが制約されにくく、圧電素子の駆動効率がよ
い。磁気ヘッドとして、ハードディスク装置に備えた場
合は、圧電素子単体の変位量の劣化がそのまま磁気ヘッ
ドの変位量としてあらわれてしまう。なお、上記圧電素
子単体の幅Wは1.0mm、長さLは2.8mm、厚み
t1は0.15mmとした。また、圧電素子単体に被覆
する被膜のコーティング厚t2は、0.1mmとした。
【0040】
【表1】
【0041】表1中、被膜の材質の欄のEPOXYはエ
ポキシ樹脂塗料であり、ゴムはポリエステル系あるいは
フッ素系エラストマーである。
【0042】表1に示した結果から圧電素子の表面に形
成する被膜の材質として、弾力性が小さいエポキシ樹脂
塗料を用い、かつ、被膜のヤング率が1000MPa以
上のサンプルNo.2〜6の被膜付圧電素子が備えられ
た磁気ヘッド装置(比較例1〜5)のものは、圧電素子
の変位量(UY)の劣化率が2.4%以上であり圧電素
子の動きが制約され易く、圧電素子の駆動効率が悪いこ
とがわかる。これに対して圧電素子の表面に形成する被
膜の材質として、弾力性を有するポリエステル系あるい
はフッ素系エラストマーを用い、かつ、被膜のヤング率
が20MPa以下のサンプルNo.7〜11の被膜付圧
電素子が備えられた磁気ヘッド装置(実施例1〜5)の
ものは、圧電素子の変位量(UY)の劣化率が0%であ
り圧電素子の動きが制約されにくく、圧電素子の駆動効
率がよいことがわかる。
【0043】
【発明の効果】以上詳細に説明した本発明の磁気ヘッド
装置によれば、圧電体を有する圧電素子の少なくとも圧
電体の露出面がエラストマーからなる被膜により被覆さ
れているので、上記圧電素子が伸縮を繰り返しても、上
記圧電体の構成材料の脱粒や発塵を防止できる。従っ
て、本発明の磁気ヘッド装置では、磁気ヘッド(スライ
ダ)と記録媒体との隙間に圧電体の構成材料が塵となっ
て入ることがなく、上記隙間に上記塵が入ることに起因
する磁気ヘッド装置の特性の低下や磁気ヘッドのクラッ
シュが起こることを改善できる。また、上記被膜はエポ
キシ樹脂塗料のような従来の一般的なコーティング剤を
用いた塗膜に比べて弾力性が大きいために、圧電素子の
表面の略全面(電極取り出し用リードとの接続部は除
く)に形成されていても、圧電素子の動きが制約される
ことがなく、圧電素子の駆動効率を良好に保つことがで
きる。また、上記エラストマーからなる被膜は、上記圧
電素子の厚みと同じ程度の厚みであっても弾力性を有し
ているので、圧電素子の動きが制約されることがなく、
圧電素子の駆動効率が低下することがない。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施形態の磁気ヘッド装置が備えら
れたハードディスク装置の例を示す平面図。
【図2】 本実施の形態の磁気ヘッド装置を記録媒体と
の対向面側と反対側から見た示す平面図。
【図3】 図2の磁気ヘッド装置に備えられた圧電素子
の説明図であり、(a)は、この圧電素子の平面図、
(b)は図2の圧電素子のIII−III線断面図。
【図4】 本実施形態の磁気ヘッド装置を記録媒体との
対向面側から見た平面図。
【図5】 従来の磁気ヘッド装置が備えられたハードデ
ィスク装置を示す平面図。
【図6】 従来の磁気ヘッド装置を示す斜視図。
【符号の説明】
111 ロードビーム(弾性支持部材) 111a 固定基端部 111b 揺動部 111c 腕部 111d 弾性支持部 111e 空隙部 112,113 圧電素子 112a1,112a2,113a1,113a2 電
極層 112b,113b 圧電層(圧電体) 115 エラストマーからなる被膜 121 スライダ t1 圧電素子の厚み t2 被膜の厚み L 圧電素子長さ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5D042 LA01 MA15 5D059 AA01 BA01 CA25 CA26 DA19 DA26 DA33 EA08 5D096 NN03 NN07

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 記録媒体に記録された磁気信号を検出す
    る再生素子及び前記記録媒体に磁気信号を記録する記録
    素子が設けられたスライダと、前記スライダを支持する
    弾性支持部材と、前記弾性支持部材上に搭載され、該弾
    性支持部材に歪みを与えて前記スライダの位置を変化さ
    せて前記再生素子あるいは記録素子の位置を変化させる
    圧電素子とが備えられ、前記圧電素子は圧電体を有する
    磁気ヘッド装置において、 前記圧電素子は少なくとも圧電体の露出面がエラストマ
    ーからなる被膜により被覆されたことを特徴とする磁気
    ヘッド装置。
  2. 【請求項2】 前記再生素子には、記録媒体に記録され
    た磁気信号を磁気抵抗効果により検出する磁気抵抗効果
    素子が備えられたことを特徴とする請求項1記載の磁気
    ヘッド装置。
  3. 【請求項3】 前記圧電体は、チタン酸ジルコン酸鉛を
    主体とするものであることを特徴とする請求項1又は2
    記載の磁気ヘッド装置。
  4. 【請求項4】 前記エラストマーからなる被膜のヤング
    率が100MPa以下であることを特徴とする請求項1
    乃至3のいずれか一項に記載の磁気ヘッド装置。
  5. 【請求項5】 前記エラストマーからなる被膜の厚み
    は、前記圧電素子の厚みと同じ厚み以下であることを特
    徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の磁気ヘ
    ッド装置。
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WO2008114345A1 (ja) * 2007-03-16 2008-09-25 Fujitsu Limited 磁気ヘッド支持体および磁気ディスク装置
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