JP2002148793A - Method for forming image - Google Patents

Method for forming image

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JP2002148793A
JP2002148793A JP2000342533A JP2000342533A JP2002148793A JP 2002148793 A JP2002148793 A JP 2002148793A JP 2000342533 A JP2000342533 A JP 2000342533A JP 2000342533 A JP2000342533 A JP 2000342533A JP 2002148793 A JP2002148793 A JP 2002148793A
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JP
Japan
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group
general formula
image
resin layer
compound represented
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Pending
Application number
JP2000342533A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tamotsu Suzuki
保 鈴木
Mikio Totsuka
三樹雄 戸塚
Shinji Fujimoto
進二 藤本
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for forming images of high sensitivity and to provide a method for forming images which does not cause coloring into yellow in a non-image part of a transferred image. SOLUTION: In the method for forming images by using a photosensitive transfer sheet having a peeling layer and a photopolymerization photosensitive resin layer in this order on a supporting body and by exposing and developing the sheet to form an image, the photopolymerization photosensitive resin layer of the sheet contains compounds expressed by general formula (1) and organic boron compounds expressed by general formula (A) as the photopolymerization initiator. During exposure, at least the photopolymerization photosensitive resin layer of the sheet is controlled to >=30 deg.C.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、色校正用のプレプ
レスプルーフ、及びディスプレイなどに用いられる感光
性転写シートを用いた画像形成方法に関するものであ
る。
The present invention relates to a prepress proof for color proofing, and an image forming method using a photosensitive transfer sheet used for a display or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来よりフォトポリマーを使用する色校
正法(プレプレスプルーフ)の製版方法として、通常
は、リスフィルムを介してマスク露光(面露光)後、非
画像部を溶解除去することにより所望のプレプレスプル
ーフを得ていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a plate making method of a color proofing method (prepress proof) using a photopolymer, usually, after exposing a mask (surface exposure) through a lith film, a non-image portion is dissolved and removed. The desired prepress proof was obtained.

【0003】近年、画像情報にコンピュータを用いて電
子的に処理、蓄積、出力する、ディジタル化技術が広く
普及してきている。そして、その様なディジタル化技術
に対応した新しい画像出力方式が種々実用化される様に
なってきた。その結果レーザ光のような指向性の高い光
をディジタル化された画像情報に従って走査し、リスフ
ィルムを介す事無く、直接プレプレスプルーフを製造す
るダイレクト・ディジタル・カラープルーフ(DDC
P)技術が切望されており、これに適応したプレプレス
プルーフ用原版を得ることが重要な技術課題となってい
る。近年のレーザ技術の進歩は目覚しく、例えば、In
GaN系の材料を用い、350nm〜450nm域で連
続発振可能な半導体レーザが実用されるに至った。これ
らの短波光源を用いたDDCPシステムを構築できれ
ば、より明るいセーフライト下での作業が可能な、感光
域が短波である感材が使用できるようになる。さらに、
半導体レーザは構造上、安価な製造が可能であり、DD
CPシステム用光源として非常に好ましいものである。
これらのことから、350nm〜450nmの比較的短
波な半導体レーザを用いたDDCPシステムに適したプ
レプレスプルーフを得ることが、強く望まれるようにな
っているが、従来のものでは感度が十分でなかった。
In recent years, digitization techniques for electronically processing, storing, and outputting image information using a computer have become widespread. Then, various new image output systems corresponding to such digitizing technology have come to be put into practical use. As a result, a direct digital color proof (DDC) that scans a highly directional light such as a laser beam in accordance with digitized image information and directly manufactures a prepress proof without passing through a lith film.
There is a long-felt need for P) technology, and it is an important technical problem to obtain a prepress proof master suitable for this technology. Recent advances in laser technology have been remarkable, for example, in In
Semiconductor lasers that can continuously oscillate in the range of 350 nm to 450 nm using GaN-based materials have been put to practical use. If a DDCP system using these short-wave light sources can be constructed, it is possible to use a photosensitive material having a short-wavelength photosensitive area that can be operated under a brighter safelight. further,
Semiconductor lasers can be manufactured at low cost due to their structure.
It is very preferable as a light source for a CP system.
For these reasons, it has been strongly desired to obtain a prepress proof suitable for a DDCP system using a semiconductor laser having a relatively short wavelength of 350 nm to 450 nm, but the sensitivity is not sufficient with the conventional one. Was.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、DD
CPシステムに適合した走査露光用感光性転写シート等
の感光層に用いられる感光性転写シートを用い、高感度
化を図った画像形成方法を提供することにある。また、
本発明の目的は、露光及び現像することにより感光性転
写シート上に画像を形成し、一旦、光重合性画像受容層
を設けたシート上に各色の画像を剥離層を伴って転写
し、その後永久支持体上に再転写し、更に全面露光によ
り光重合性画像受容層を固める操作を行なったとき、画
像転写した非画像部に黄着色が発生することの無い感光
性転写シートを用いて、高感度化を図った画像形成方法
を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a DD
It is an object of the present invention to provide an image forming method which achieves high sensitivity by using a photosensitive transfer sheet used for a photosensitive layer such as a photosensitive transfer sheet for scanning exposure which is compatible with a CP system. Also,
An object of the present invention is to form an image on a photosensitive transfer sheet by exposing and developing, and once transferring an image of each color with a release layer onto a sheet provided with a photopolymerizable image receiving layer, and thereafter When re-transferred to a permanent support, and further performed an operation of solidifying the photopolymerizable image-receiving layer by overall exposure, using a photosensitive transfer sheet that does not cause yellow coloring in the non-image area where the image has been transferred, An object of the present invention is to provide an image forming method with high sensitivity.

【0005】[0005]

【課題を解決する手段】上記課題は、以下の手段により
解決される。即ち、本発明は、 <1>支持体上に、有機重合体よりなる剥離層、及び光
重合開始剤を含有する光重合系感光性樹脂層をこの順に
有する感光性転写シートを用いて、露光、現像して画像
を形成する画像形成方法において、前記感光性転写シー
トにおける光重合系感光性樹脂層に、光重合開始剤とし
て下記一般式(1)で表わされる化合物と下記一般式
(A)で表わされる有機ホウ素化合物とを含有してな
り、露光時、前記感光性転写シートの少なくとも光重合
系感光性樹脂層の温度を、30℃以上にすることを特徴
とする画像形成方法。
The above object is achieved by the following means. That is, the present invention provides: <1> Exposure using a photosensitive transfer sheet having, in this order, a release layer made of an organic polymer, and a photopolymerizable photosensitive resin layer containing a photopolymerization initiator on a support. In an image forming method of forming an image by developing, a compound represented by the following general formula (1) and a compound represented by the following general formula (A) are added to a photopolymerizable photosensitive resin layer in the photosensitive transfer sheet as a photopolymerization initiator. Wherein the temperature of at least the photopolymerizable photosensitive resin layer of the photosensitive transfer sheet is set to 30 ° C. or higher at the time of exposure.

【0006】[0006]

【化7】 Embedded image

【0007】前記一般式(1)において、Q1〜Q3は、
各々独立して、酸素原子又は硫黄原子を表す。R1及び
2は、各々独立して、水素原子、脂肪族基、芳香族
基、又は複素環基を表す。Z1及びZ2は、各々独立し
て、前記一般式(1)で表される化合物が色素になるた
めに必要な置換基を表す。
In the general formula (1), Q 1 to Q 3 are:
Each independently represents an oxygen atom or a sulfur atom. R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group. Z 1 and Z 2 each independently represent a substituent required for the compound represented by the general formula (1) to become a dye.

【0008】[0008]

【化8】 Embedded image

【0009】前記一般式(A)において、Ra1、R
2、及びRa3は、各々独立して、脂肪族基、芳香族
基、複素環基、又は−SiRa5Ra6Ra7を表す。R
5、Ra 6及びRa7は、各々独立して、脂肪族基又は
芳香族基を表す。Ra4は、脂肪族基を表す。Y+は陽イ
オンを形成し得る基を表す。
In the general formula (A), Ra1, R
aTwo, And RaThreeIs independently an aliphatic group, an aromatic group
Group, heterocyclic group, or -SiRaFiveRa6Ra7Represents R
aFive, Ra 6And Ra7Is each independently an aliphatic group or
Represents an aromatic group. RaFourRepresents an aliphatic group. Y+Is positive
Represents a group capable of forming an on.

【0010】<2>支持体上に、有機重合体よりなる剥
離層、及び光重合開始剤を含有する光重合系感光性樹脂
層をこの順に有する感光性転写シートを用いて、露光、
現像して画像を形成する画像形成方法において、前記感
光性転写シートにおける光重合系感光性樹脂層に、光重
合開始剤として下記一般式(2)で表される化合物、及
び下記一般式(2)で表される化合物と相互作用してラ
ジカルを発生し得る化合物を含有してなり、前記感光性
転写シート露光時の温度を30℃以上にすることを特徴
とする画像形成方法。
<2> Using a photosensitive transfer sheet having, in this order, a release layer made of an organic polymer and a photopolymerizable photosensitive resin layer containing a photopolymerization initiator on a support,
In the image forming method of forming an image by developing, a compound represented by the following general formula (2) as a photopolymerization initiator is added to the photopolymerizable photosensitive resin layer of the photosensitive transfer sheet; An image forming method, comprising a compound capable of generating a radical by interacting with the compound represented by the formula (1), wherein the temperature at the time of exposing the photosensitive transfer sheet is 30 ° C. or higher.

【0011】[0011]

【化9】 Embedded image

【0012】前記一般式(2)において、R3及びR
4は、各々独立して、水素原子又は一価の置換基を表
す。Z3及びZ4は、各々独立して、前記一般式(2)で
表される化合物が色素になるために必要な置換基を表
す。
In the general formula (2), R 3 and R
4 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. Z 3 and Z 4 each independently represent a substituent required for the compound represented by the general formula (2) to become a dye.

【0013】<3>支持体上に、有機重合体よりなる剥
離層、及び光重合開始剤を含有する光重合系感光性樹脂
層をこの順に有する感光性転写シートを用いて、露光、
現像して画像を形成する画像形成方法において、前記感
光性転写シートにおける光重合系感光性樹脂層に、光重
合開始剤として下記一般式(3)で表される化合物、及
び下記一般式(3)で表される化合物と相互作用してラ
ジカルを発生し得る化合物を含有してなり、前記感光性
転写シート露光時の温度を30℃以上にすることを特徴
とする画像形成方法。
<3> Using a photosensitive transfer sheet having, in this order, a release layer made of an organic polymer and a photopolymerizable photosensitive resin layer containing a photopolymerization initiator on a support,
In the image forming method of forming an image by developing, a compound represented by the following general formula (3) as a photopolymerization initiator is added to the photopolymerizable photosensitive resin layer in the photosensitive transfer sheet; An image forming method, comprising a compound capable of generating a radical by interacting with the compound represented by the formula (1), wherein the temperature at the time of exposing the photosensitive transfer sheet is 30 ° C. or higher.

【0014】[0014]

【化10】 Embedded image

【0015】前記一般式(3)において、L1及びL
2は、各々独立して、置換されていてもよいメチン基を
表す。mは0〜3の整数を表す。G1及びG2は、各々独
立して、電子吸引性基を表すか、あるいはG1とG2とで
結合して芳香環又は複素環を形成する。Q3は、酸素原
子又は硫黄原子を表す。R1及びR2は、各々独立して、
水素原子、脂肪族基、芳香族基、又は複素環基を表す。
In the general formula (3), L 1 and L
2 each independently represents a methine group which may be substituted; m represents an integer of 0 to 3. G 1 and G 2 each independently represent an electron-withdrawing group or combine with G 1 and G 2 to form an aromatic ring or a heterocyclic ring. Q 3 represents an oxygen atom or a sulfur atom. R 1 and R 2 are each independently
Represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group.

【0016】<4>前記一般式(2)で表される化合物
が、下記一般式(4)で表される化合物であることを特
徴とする前記<2>に記載の画像形成方法。
<4> The image forming method according to <2>, wherein the compound represented by the general formula (2) is a compound represented by the following general formula (4).

【0017】[0017]

【化11】 Embedded image

【0018】前記一般式(4)において、L1及びL
2は、各々独立して、置換されていてもよいメチン基を
表す。mは0〜3の整数を表し、G1及びG2は、各々独
立して、電子吸引性基を表すか、あるいはG1とG2とで
結合して芳香環又は複素環を形成する。R3及びR4は、
各々独立して、水素原子又は一価の置換基を表す。
In the general formula (4), L 1 and L
2 each independently represents a methine group which may be substituted; m represents an integer of 0 to 3, and G 1 and G 2 each independently represent an electron-withdrawing group, or form an aromatic ring or a heterocyclic ring by combining G 1 and G 2 . R 3 and R 4 are
Each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent.

【0019】<5>前記ラジカルを発生し得る化合物
が、下記一般式(A)で表される有機ホウ素化合物であ
ることを特徴とする前記<2>から<4>のいずれかに
記載の画像形成方法。
<5> The image according to any one of <2> to <4>, wherein the compound capable of generating a radical is an organic boron compound represented by the following general formula (A). Forming method.

【0020】[0020]

【化12】 Embedded image

【0021】前記一般式(A)において、Ra1、R
2、及びRa3は、各々独立して、脂肪族基、芳香族
基、複素環基、又は−SiRa5Ra6Ra7を表す。R
5、Ra 6及びRa7は、各々独立して、脂肪族基又は
芳香族基を表す。Ra4は、脂肪族基を表す。Y+は陽イ
オンを形成し得る基を表す。
In the general formula (A), Ra1, R
aTwo, And RaThreeIs independently an aliphatic group, an aromatic group
Group, heterocyclic group, or -SiRaFiveRa6Ra7Represents R
aFive, Ra 6And Ra7Is each independently an aliphatic group or
Represents an aromatic group. RaFourRepresents an aliphatic group. Y+Is positive
Represents a group capable of forming an on.

【0022】<6>前記剥離層と前記光重合系感光性樹
脂層との間に、色材を含有する有機高分子重合体層を設
けてなることを特徴とする前記<1>から<5>のいず
れかに記載の画像形成方法。 <7>前記光重合系感光性樹脂層に、色材を含有するこ
とを特徴とする前記<1>から<5>のいずれかに記載
の画像形成方法。 <8>350nm〜450nmの発振波長で露光を行う
ことを特徴とする前記<1>から<7>のいずれかに記
載の画像形成方法。
<6> An organic polymer layer containing a coloring material is provided between the release layer and the photopolymerizable photosensitive resin layer. > The image forming method according to any one of the above. <7> The image forming method according to any one of <1> to <5>, wherein the photopolymerizable photosensitive resin layer contains a coloring material. <8> The image forming method according to any one of <1> to <7>, wherein the exposure is performed at an oscillation wavelength of 350 nm to 450 nm.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】本発明の画像形成方法は、後述す
る特定の感光性転写シート(以下、単に「感光性転写シ
ート」ということもある)を用い、露光時、感光転写シ
ートの少なくとも光重合系感光性樹脂層の温度を30℃
以上にすることを特徴とする。本発明の画像形成方法
は、後述する特定の感光性転写シートの少なくとも光重
合系感光性樹脂層を、30℃以上にしながら露光するこ
とで、高感度化を図ることができる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The image forming method of the present invention uses a specific photosensitive transfer sheet (to be simply referred to as a "photosensitive transfer sheet" hereinafter) to be described below. The temperature of the polymerizable photosensitive resin layer is 30 ° C.
It is characterized by the above. In the image forming method of the present invention, high sensitivity can be achieved by exposing at least a photopolymerizable photosensitive resin layer of a specific photosensitive transfer sheet described below at 30 ° C. or higher.

【0024】本発明の画像形成方法は、少なくとも光重
合系感光性樹脂層が30℃以上である感光性転写シート
に露光するが、好ましくは40℃以上で露光するのがよ
い。一方、140℃以上で露光すると寸度安定性の悪
化、シート表面の平滑性不良、着色の発生等の問題を生
じる場合があるので好ましくない。この露光時の感光性
転写シートの光重合系感光性樹脂層が30℃以上未満で
あると、高感度を得ることができなくなる。感光性転写
シートは、露光時、その少なくとも光重合系感光性樹脂
層の温度が30℃以上であればよいが、露光面が30℃
以上であれば、少なくとも光重合系感光性樹脂層の温度
は30℃以上であるのが一般的である。
In the image forming method of the present invention, a photosensitive transfer sheet having at least a photopolymerizable photosensitive resin layer at 30 ° C. or higher is exposed, but preferably at 40 ° C. or higher. On the other hand, exposure at 140 ° C. or higher is not preferable because problems such as deterioration of dimensional stability, poor smoothness of the sheet surface, and occurrence of coloring may occur. If the photopolymerizable photosensitive resin layer of the photosensitive transfer sheet at the time of this exposure is lower than 30 ° C. or higher, high sensitivity cannot be obtained. At the time of exposure, the photosensitive transfer sheet may have a temperature of at least 30 ° C. or more of the photopolymerizable photosensitive resin layer.
If it is above, at least the temperature of the photopolymerizable photosensitive resin layer is generally 30 ° C. or higher.

【0025】本発明の画像形成方法において、感光性転
写シートを加熱(或いは保温)する手段としては、特に
制限はないが、例えば、温水、ヒータ、熱風等により行
うことができる。これらの中でも、温水により行うこと
が安全面、作業性の観点から好ましい。
In the image forming method of the present invention, the means for heating (or keeping the temperature) the photosensitive transfer sheet is not particularly limited, but may be, for example, hot water, a heater, hot air or the like. Among these, it is preferable to carry out with hot water from the viewpoint of safety and workability.

【0026】[画像形成]本発明の画像形成方法は、例
えば、以下に述べるサープリント法に従う操作により、
色校正に利用することができる。
[Image Formation] The image formation method of the present invention can be performed, for example, by an operation according to the surprint method described below.
It can be used for color proofing.

【0027】1)感光性転写シートに色分解マスクを重
ね合わせた状態で、活性光線を照射することにより露光
を行う(露光工程)。 2)この転写シートを現像液で処理することにより、剥
離層上に分解画像を形成する(現像工程)。 3)別の感光性転写シートを用いて、上記露光工程及び
現像工程を繰り返すことにより、二色〜四色のカラープ
ルーフィングシートを得る。
1) Exposure is performed by irradiating an actinic ray with the color separation mask superimposed on the photosensitive transfer sheet (exposure step). 2) By treating this transfer sheet with a developer, a decomposed image is formed on the release layer (development step). 3) By repeating the above exposure step and development step using another photosensitive transfer sheet, a color proofing sheet of two to four colors is obtained.

【0028】なお、前記露光工程は、上述したように3
0℃以上の感光性転写シートを用いて行う。また、前記
露光工程における露光方法としては、公知の露光方法を
用いることができ、一般的には近紫外〜赤外領域に発振
波長、特に好ましくは350nm〜450nmの発振波
長で露光が行われることがよい。露光する際に使用可能
な光源としては、近紫外〜赤外領域に光源波長を有する
公知の光源の中から適宜選択することができる。その中
でも、光源の最大吸収波長が、300〜1000nmで
あるのが好ましく、350〜450nmであるのがより
好ましい。また、光源としては、例えば、超高圧、高
圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボン
アーク灯、キセノン灯、可視及び紫外の各種レーザーラ
ンプ、蛍光灯、タングステ灯、太陽光等が好適に挙げら
れるが、装置の簡易小型化が可能な点、及び低コストが
達成し得る点から、InGaN系レーザ等の半導体レー
ザがより好ましい。
Note that the above-mentioned exposure step is performed as described above.
This is performed using a photosensitive transfer sheet at 0 ° C. or higher. In addition, as the exposure method in the exposure step, a known exposure method can be used. Generally, the exposure is performed at an oscillation wavelength in the near ultraviolet to infrared region, particularly preferably at an oscillation wavelength of 350 nm to 450 nm. Is good. The light source that can be used for exposure can be appropriately selected from known light sources having a light source wavelength in the near ultraviolet to infrared region. Among them, the maximum absorption wavelength of the light source is preferably from 300 to 1000 nm, more preferably from 350 to 450 nm. Further, as the light source, for example, ultrahigh-pressure, high-pressure, medium-pressure, low-pressure mercury lamps, chemical lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, various visible and ultraviolet laser lamps, fluorescent lamps, tungsten lamps, sunlight and the like are suitable. However, a semiconductor laser such as an InGaN-based laser is more preferable because the device can be simplified and miniaturized and a low cost can be achieved.

【0029】4)第一色目の分解画像を有するカラープ
ルーフィングシートについて、該分解画像側を、支持体
と光重合性画像受容層からなる受像シートの画像受容層
に接するように重ね合わせた後、加熱加圧して接着を行
う。該分解画像は未硬化の画像受容層中に埋め込まれた
状態で熱圧着される。次いで、転写シートの支持体(仮
支持体)を剥離して、剥離層と共に該分解画像の転写を
行う(転写工程)。
4) With respect to the color proofing sheet having the first color separation image, after the separation image side is overlapped so as to be in contact with the image receiving layer of the image receiving sheet comprising the support and the photopolymerizable image receiving layer. Then, heat and pressure are applied for bonding. The decomposed image is thermocompression bonded while being embedded in the uncured image receiving layer. Next, the support (temporary support) of the transfer sheet is peeled, and the decomposed image is transferred together with the release layer (transfer step).

【0030】さらに、残りのカラープルーフィングシー
トを用いて同様の操作により、第二色目以降の分解画像
を第一色目の分解画像に整合させながら同一の受像シー
ト上に順次転写する。受像シート上には、二色〜四色の
分解画像が画像受容層に埋め込まれた状態で転写形成さ
れる。
Further, by the same operation using the remaining color proofing sheets, the separation images of the second and subsequent colors are sequentially transferred onto the same image receiving sheet while matching the separation images of the first color. On the image receiving sheet, two-color to four-color separated images are transferred and formed while being embedded in the image receiving layer.

【0031】5)多色画像が転写された受像シートの支
持体を、該多色画像が白色紙と接するように白色紙に重
ね合わせたのちに加熱加圧して接着する。 6)受像シートの支持体を通して全面に活性光線を照射
して、光重合性画像受容層を光硬化させる。 7)受像シートの支持体(仮支持体)を剥離することに
より、所望により、画像受容層上にマットフイルムなど
を重ねて加熱加圧し、画像受容層表面に微細な凹凸を設
けることもできる。
5) The support of the image receiving sheet to which the multicolor image has been transferred is superimposed on the white paper so that the multicolor image is in contact with the white paper, and then heated and pressed to adhere. 6) Irradiate the entire surface with actinic light through the support of the image receiving sheet to photo-cur the photopolymerizable image-receiving layer. 7) By peeling off the support (temporary support) of the image receiving sheet, a mat film or the like may be superimposed on the image receiving layer and heated and pressurized to form fine irregularities on the surface of the image receiving layer, if desired.

【0032】なお、上記においては分解画像が最終的に
転写される支持体として白色紙の例を挙げたが、それ以
外に各種の紙、金属、フイルム、ガラス等も支持体とし
て用いることができる。また、受像シートを介さずに、
直接に最終支持体に転写することも可能である。
In the above description, white paper is given as an example of the support on which the decomposed image is finally transferred. However, various types of paper, metal, film, glass and the like can be used as the support. . Also, without going through the image receiving sheet,
It is also possible to transfer directly to the final support.

【0033】さらに、上記第三工程で得られた二色〜四
色のカラープルーフィングシートは、そのまま直接に正
確に重ね合わせることによりオーバーレイ法に従う色校
正に利用することができる。
Further, the color proofing sheets of two to four colors obtained in the third step can be used for color proofing according to the overlay method by directly and accurately superimposing them.

【0034】[感光性転写シート]本発明の画像形成方
法において、特定の感光性転写シートは、支持体上に、
有機重合体からなる剥離層と、光重合開始剤を含有する
光重合系感光性樹脂層と、をこの順に有してなる。ここ
ではまず、前記支持体について説明する。
[Photosensitive Transfer Sheet] In the image forming method of the present invention, a specific photosensitive transfer sheet is provided on a support.
A release layer made of an organic polymer and a photopolymerizable photosensitive resin layer containing a photopolymerization initiator are provided in this order. Here, the support will be described first.

【0035】<支持体>感光性転写シートにおいて、支
持体の材料としては、化学的及び熱的に安定であって、
かつ可撓性を有する物質が好適に用いられる。また、必
要に応じて、化学光線透過性を有している物質でもよ
い。具体的には、例えば、セルロースアセテート、ポリ
塩化ビニル、ポリスチレン、ポリプロピレン等のよう
な、特開昭47−41830号、特開昭48−9337
号及び特開昭51−5101号の各公報に記載されてい
る種々の物質が好ましく、その中でも、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリカーボネート及びこれらの熱処理物
等が、より好ましい。
<Support> In the photosensitive transfer sheet, the material of the support is chemically and thermally stable.
In addition, a substance having flexibility is preferably used. Further, if necessary, a substance having actinic ray transmittance may be used. Specifically, for example, JP-A-47-41830, JP-A-48-9337, such as cellulose acetate, polyvinyl chloride, polystyrene, and polypropylene.
And various substances described in JP-A-51-5101 are preferable, and among them, polyethylene terephthalate, polycarbonate and heat-treated products thereof are more preferable.

【0036】前記支持体において、有機重合体からなる
剥離層が設けられる面と反対側の面には、加工性の向上
等の目的で、ポリビニルブチラール、塩化ビニル・酢酸
ビニル共重合体、セルロースアセテート等の高分子物質
からなるバック層が設けられていてもよい。また、バッ
ク層にはマット剤などの各種の添加剤が含有されていて
もよい。
On the surface of the support opposite to the surface on which the release layer made of an organic polymer is provided, polyvinyl butyral, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, cellulose acetate is used for the purpose of improving workability. A back layer made of a polymer material such as the above may be provided. The back layer may contain various additives such as a matting agent.

【0037】<剥離層>次に、前記有機重合体からなる
剥離層について説明する。前記支持体上(前記バック層
が設けられる面と反対側の面)には、有機重合体からな
る剥離層が設けられる。剥離層を構成する有機重合体の
材料としては、既に感光性転写シートの剥離層の材料と
して使用される公知の材料を適宣選択して用いることが
できる。そのような材料としては、例えば、アルコール
可溶性ポリアミド、ヒドロキシスチレン系重合体、ポリ
酢酸ビニル、ポリ(メタ)アクリレート、ポリ塩化ビニ
ル、ボリビニルブチレート、メチルメタアクリレート・
アクリレート共重合体、ポリエチレン・(メタ)アクリ
ル酸共重合体、ポリエチレン・(メタ)アクリル酸共重
合体の金属架橋物、セルロースアセテートブチレート、
塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、二酢酸セルロース、
三酢酸セルロース、ポリビニルアルコール、スチレン・
無水マレイン酸共重合体の部分エステル化樹脂とメトキ
シメチル化ナイロンとのブレンド物、等が好ましい。そ
の中でも、アルコール可溶性ポリアミドとヒドロキシス
チレン系重合体との混合物がより好ましい。この場合、
アルコール可溶性ポリアミドとヒドロキシスチレン系重
合体との比率は、高湿下における剥離層の支持体との剥
離性、及び転写時における受像側の支持体等との接着性
の観点から、4:6〜9:1(重量混合比)であること
が好ましい。
<Release Layer> Next, the release layer made of the organic polymer will be described. A release layer made of an organic polymer is provided on the support (the surface opposite to the surface on which the back layer is provided). As a material of the organic polymer constituting the release layer, a known material which is already used as a material of the release layer of the photosensitive transfer sheet can be appropriately selected and used. Examples of such materials include alcohol-soluble polyamides, hydroxystyrene-based polymers, polyvinyl acetate, poly (meth) acrylate, polyvinyl chloride, polyvinyl butyrate, and methyl methacrylate.
Acrylate copolymer, polyethylene / (meth) acrylic acid copolymer, polyethylene / (meth) acrylic acid copolymer metal crosslinked product, cellulose acetate butyrate,
Vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, cellulose diacetate,
Cellulose triacetate, polyvinyl alcohol, styrene
A blend of a partially esterified resin of a maleic anhydride copolymer and methoxymethylated nylon is preferred. Among them, a mixture of an alcohol-soluble polyamide and a hydroxystyrene-based polymer is more preferable. in this case,
The ratio of the alcohol-soluble polyamide to the hydroxystyrene-based polymer is from 4: 6 to 4 from the viewpoint of the releasability of the release layer from the support under high humidity and the adhesion to the image-receiving side support during transfer. It is preferably 9: 1 (weight mixing ratio).

【0038】前記剥離層は、前記有機重合体を適当な溶
剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を支持体
上に塗布、乾燥することにより形成することができる。
塗布液中には、表面状態の改良剤として各種の界面活性
剤を添加することができ、特に、フッ素系界面活性剤が
有効である。剥離層の層厚としては、0.1〜20μm
が好ましく、0.2〜5μmがより好ましく、0.3〜
3μmが特に好ましい。
The release layer can be formed by dissolving the organic polymer in a suitable solvent to prepare a coating solution, coating the coating solution on a support, and drying.
Various surfactants can be added to the coating solution as a surface condition improving agent, and fluorine surfactants are particularly effective. The thickness of the release layer is 0.1 to 20 μm
Is preferred, more preferably 0.2 to 5 μm, and 0.3 to
3 μm is particularly preferred.

【0039】<光重合系感光性樹脂層>ここでは、前記
光重合開始剤を含有する光重合系感光性樹脂層について
説明する。感光性転写シートは、前記支持体上に、前記
有機重合体からなる剥離層と、光重合開始剤を含有する
光重合系感光性樹脂層と、をこの順に有し、該光重合開
始剤の種類によって、以下に挙げる第1から第3の態様
を有する。感光性転写シートにおける第1の態様は、前
記光重合開始剤が、前記一般式(1)で表される化合物
及び、前記一般式(A)で表される有機ホウ素化合物か
らなる感光性転写シートである。また、第2の態様は、
前記光重合開始剤が、前記一般式(2)で表される化合
物及び、前記一般式(2)で表される化合物と相互作用
してラジカルを発生し得る化合物(以下、「ラジカル発
生剤」と、称する場合がある。)からなる感光性転写シ
ートである。さらに、第3の態様は、前記光重合開始剤
が、前記一般式(3)で表される化合物及び、前記一般
式(3)で表される化合物と相互作用してラジカルを発
生し得る化合物(以下、「ラジカル発生剤」と、称する
場合がある。)からなる感光性転写シートである。そし
て、第2の態様の中には、前記光重合開始剤が、前記一
般式(2)で表される化合物の中でも好ましい化合物で
ある、前記一般式(4)で表される化合物、及びラジカ
ル発生剤からなる感光性転写シートの態様がある。
<Photopolymerizable photosensitive resin layer> Here, the photopolymerizable photosensitive resin layer containing the photopolymerization initiator will be described. The photosensitive transfer sheet has, on the support, a release layer made of the organic polymer, and a photopolymerizable photosensitive resin layer containing a photopolymerization initiator, in this order. Depending on the type, it has the following first to third aspects. A first aspect of the photosensitive transfer sheet is that the photopolymerization initiator comprises a compound represented by the general formula (1) and an organic boron compound represented by the general formula (A). It is. Further, the second aspect is as follows.
The photopolymerization initiator is a compound represented by the general formula (2) and a compound capable of generating a radical by interacting with the compound represented by the general formula (2) (hereinafter, referred to as “radical generator”). In some cases.). Further, a third aspect is a compound in which the photopolymerization initiator interacts with the compound represented by the general formula (3) and the compound represented by the general formula (3) to generate a radical. (Hereinafter, may be referred to as “radical generator”). In the second embodiment, the photopolymerization initiator is a compound represented by the general formula (4), which is a preferable compound among the compounds represented by the general formula (2), and a radical There is an embodiment of a photosensitive transfer sheet comprising a generator.

【0040】前記第1〜第3の態様の感光性転写シート
に光が照射されると、前記一般式(1)〜(3)で表さ
れる化合物の各々が光を吸収して、第1の態様では、前
記一般式(A)で表される有機ホウ素化合物が、前記一
般式(1)で表される化合物と相互作用し、第2及び第
3の態様では、ラジカル発生剤が、前記一般式(2)で
表される化合物及び前記一般式(3)で表される化合物
の各々と相互作用し、ラジカルを発生して、該ラジカル
によって光重合系感光性樹脂層を形成するモノマー化合
物がラジカル重合する。
When the photosensitive transfer sheets of the first to third embodiments are irradiated with light, each of the compounds represented by the general formulas (1) to (3) absorbs light, and In the aspect, the organic boron compound represented by the general formula (A) interacts with the compound represented by the general formula (1), and in the second and third aspects, the radical generator A monomer compound that interacts with each of the compound represented by the general formula (2) and the compound represented by the general formula (3) to generate a radical, and the radical forms a photopolymerizable photosensitive resin layer; Undergoes radical polymerization.

【0041】前記光重合系感光性樹脂層の材料として
は、公知の感光性転写シートに用いられる各種の材料を
使用することができるが、水あるいはアルカリ現像タイ
プの光重合系感光性樹脂が好ましい。前記光重合系感光
性樹脂層の材料、及びその形成方法の詳細については、
例えば特公昭46−15326号、同46−35682
号、特開昭47−41830号、同48−93337
号、同49−441号、同51−5101号、同59−
97140号等の公報に記載されている。
As a material for the photopolymerizable photosensitive resin layer, various materials used for known photosensitive transfer sheets can be used, and water or an alkali developing type photopolymerizable photosensitive resin is preferable. . For details of the material of the photopolymerizable photosensitive resin layer, and a method of forming the same,
For example, JP-B-46-15326 and JP-B-46-35682.
JP-A-47-41830 and JP-A-48-93337.
Nos. 49-441, 51-5101, 59-
No. 97140 and the like.

【0042】前記光重合系感光性樹脂層は、通常は、常
圧で150℃以上の沸点を有し、少なくとも一個の付加
重合によって光重合体を形成し得る基を有するモノマー
化合物、有機重合体結合剤、及び活性光線によって活性
化される光重合開始剤からなり、必要に応じて、熱重合
禁止剤等その他の成分を含有するものであり、光重合系
感光性樹脂層は、それに含有される光重合開始剤に特徴
がある。また、前記光重合系感光性樹脂層の膜厚として
は、一般に0.5〜150μmが好ましく、2〜100
μmがより好ましい。以下、前記光重合系感光性樹脂層
に含有される各成分について説明する。
The photopolymerizable photosensitive resin layer usually has a boiling point of 150 ° C. or higher at normal pressure and has at least one monomer compound having a group capable of forming a photopolymer by addition polymerization; It comprises a binder, and a photopolymerization initiator activated by actinic rays, and, if necessary, contains other components such as a thermal polymerization inhibitor, and the photopolymerizable photosensitive resin layer is contained therein. Is characterized by a photopolymerization initiator. The thickness of the photopolymerizable photosensitive resin layer is generally preferably 0.5 to 150 μm,
μm is more preferred. Hereinafter, each component contained in the photopolymerizable photosensitive resin layer will be described.

【0043】−モノマー化合物− 光重合系感光性樹脂層の形成に使用できるモノマー化合
物としては、ビニルモノマー及びビニリデンモノマーが
好ましく、その中でも、ポリオールの不飽和エステルが
より好ましく、アクリル酸及びメタクリル酸のエステル
がさらに好ましい。その中でも特に好ましい具体例とし
ては、エチレングリコールジアクリレート、グリセリン
トリアクリレート、ポリアクリレート、エチレングリコ
ールジメタクリレート、1,3−プロパンジオールジメ
タクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト、1,2,4−ブタントリオールトリメタクリレー
ト、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエ
リトリットジメタクリレート、ペンタエリトリットトリ
メタクリレート、ペンタエリトリットテトラメタクリレ
ート、ペンタエリトリットジアクリレート、ペンタエリ
トリットトリアクリレート、ペンタエリトリットテトラ
アクリレート、ジペンタエリトリット−ポリアクリレー
ト、1,3−プロパンジオール−ジアクリレート、1,
5−ペンタンジオール−ジメタクリレート、200〜4
00の分子量を有するポリエチレングリコールのビスア
クリレート、ビスメタクリレート及び類似の化合物が挙
げられる。
-Monomer Compound- As the monomer compound that can be used for forming the photopolymerizable photosensitive resin layer, a vinyl monomer and a vinylidene monomer are preferable, and among them, unsaturated esters of polyol are more preferable, and acrylic acid and methacrylic acid are preferable. Esters are more preferred. Among them, particularly preferred specific examples include ethylene glycol diacrylate, glycerin triacrylate, polyacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-propanediol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, and 1,2,4-butanetriol trimethacrylate. , Trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol-polyacrylate , 1,3-propanediol-diacrylate, 1,
5-pentanediol-dimethacrylate, 200-4
Bisacrylates, bismethacrylates and similar compounds of polyethylene glycol having a molecular weight of 00.

【0044】また、前記モノマー化合物として、不飽和
アミドを用いることもでき、その例としては、α,ω−
ジアミンを有するアクリル酸、メタクリル酸の不飽和ア
ミド及びエチレンビスメタクリルアミドを挙げることが
できる。不飽和アミドのアルキレン鎖は炭素原子によっ
て開かれていてもよい。
As the monomer compound, an unsaturated amide can also be used.
Acrylic acid with diamine, unsaturated amide of methacrylic acid and ethylenebismethacrylamide can be mentioned. The alkylene chain of the unsaturated amide may be opened by a carbon atom.

【0045】前記モノマー化合物は単独であってもよ
く、また二種以上の混合物であってもよい。ただし、光
重合性モノマーはこれらの化合物に限定されるものでは
ない。
The monomer compounds may be used alone or as a mixture of two or more. However, the photopolymerizable monomer is not limited to these compounds.

【0046】−有機重合体結合剤− 前記有機重合体結合剤としては、以下のものが好適に挙
げられるが、本発明においては、これらのものに何ら限
定されるわけではない。前記有機重合体結合剤として
は、側鎖にカルボン酸を有する付加重合体、側鎖にカル
ボン酸を有する酸性セルロース誘導体等が好ましく、前
記側鎖にカルボン酸を有する付加重合体の中でも、メタ
クリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共
重合体、クロトン酸共重合体、部分エステル化マレイン
酸共重合体等がより好ましい。前記メタクリル酸共重合
体の中でも、メタクリル酸メチルとメタクリル酸との共
重合体、メタクリル酸エチルとメタクリル酸との共重合
体、メタクリル酸ブチルとメタクリル酸との共重合体、
メタクリル酸アリルとメタクリル酸との共重合体、アク
リル酸エチルとメタクリル酸との共重合体、メタクリル
酸エチルとスチレンとメタクリル酸との共重合体、ベン
ジルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体等が、
さらに好ましい。前記アクリル酸共重合体の中でも、ア
クリル酸エチルとアクリル酸との共重合体、アクル酸ブ
チルとアクリル酸との共重合体、アクリル酸エチルとス
チレンとアクリル酸との共重合体等が、さらに好まし
い。
-Organic Polymer Binder- The following organic polymer binders are preferably exemplified, but are not limited to these in the present invention. As the organic polymer binder, an addition polymer having a carboxylic acid in the side chain, an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid in the side chain, and the like are preferable. Among the addition polymers having a carboxylic acid in the side chain, methacrylic acid Copolymers, acrylic acid copolymers, itaconic acid copolymers, crotonic acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers and the like are more preferred. Among the methacrylic acid copolymers, a copolymer of methyl methacrylate and methacrylic acid, a copolymer of ethyl methacrylate and methacrylic acid, a copolymer of butyl methacrylate and methacrylic acid,
Copolymers of allyl methacrylate and methacrylic acid, copolymers of ethyl acrylate and methacrylic acid, copolymers of ethyl methacrylate and styrene and methacrylic acid, and copolymers of benzyl methacrylate and methacrylic acid ,
More preferred. Among the acrylic acid copolymers, a copolymer of ethyl acrylate and acrylic acid, a copolymer of butyl acrylate and acrylic acid, a copolymer of ethyl acrylate and styrene and acrylic acid, and the like, preferable.

【0047】前記有機重合体結合剤は、単独で用いても
よく、また、塗布液の調製から塗布・乾燥に至る製造工
程中に脱混合を起こさない程度に、互いの相溶性がよい
二種以上の有機重合体結合剤を適当な比率で混合して用
いてもよい。前記有機重合体結合剤の分子量は、重合体
の種類により広範な値をとり得るが、一般には5000
〜200万が好ましく、1万〜100万がより好まし
い。
The organic polymer binder may be used alone, or two kinds thereof having good compatibility with each other to the extent that demixing does not occur during the manufacturing process from preparation of the coating solution to coating and drying. The above organic polymer binders may be mixed and used at an appropriate ratio. The molecular weight of the organic polymer binder can take a wide range of values depending on the type of polymer, but is generally 5,000.
2002,000,000 is preferable, and 10,000-1,000,000 is more preferable.

【0048】ここで、前記モノマー化合物と、前記有機
重合体結合剤の混合比としては、使用されるモノマー化
合物と有機重合体結合剤との組合せによって、その適正
比は異なるが、一般には1:10〜2:1(重量比)が
好ましい。
Here, the mixing ratio of the monomer compound and the organic polymer binder varies depending on the combination of the monomer compound and the organic polymer binder used. It is preferably 10 to 2: 1 (weight ratio).

【0049】−光重合開始剤− 光重合系感光性樹脂層に含有される光重合開始剤として
は、第1の態様に用いられる、前記一般式(1)で表さ
れる化合物及び前記一般式(A)で表される有機ホウ素
化合物からなるもの、第2の態様に用いられる、前記一
般式(2)で表される化合物及びラジカル発生剤からな
るもの、並びに、第3の態様で用いられる、前記一般式
(3)で表される化合物及びラジカル発生剤からなるも
のが挙げられる。さらに、第2の態様では、前記一般式
(2)で表される化合物の中でも好ましい化合物であ
る、前記一般式(4)で表される化合物及びラジカル発
生剤からなるものが挙げられる。以下、前記一般式
(1)〜(4)で表される化合物、前記一般式(A)で
表される有機ホウ素化合物及び前記ラジカル発生剤につ
いて説明する。
-Photopolymerization Initiator- As the photopolymerization initiator contained in the photopolymerization type photosensitive resin layer, the compound represented by formula (1) and the compound represented by formula (1) used in the first embodiment are used. (A) an organic boron compound represented by the formula (2), a compound comprising the compound represented by the general formula (2) and a radical generator used in the second embodiment, and a third embodiment. And a compound comprising the compound represented by the general formula (3) and a radical generator. Further, in the second embodiment, a compound comprising a compound represented by the general formula (4) and a radical generator, which is a preferable compound among the compounds represented by the general formula (2), may be mentioned. Hereinafter, the compounds represented by the general formulas (1) to (4), the organic boron compound represented by the general formula (A), and the radical generator will be described.

【0050】ア)一般式(1)〜(4)で表される化合
物 第1〜第3の態様に用いられる光重合開始剤を構成す
る、前記一般式(1)〜前記一般式(4)で表される化
合物は、構造中に対アニオンを有しない中性の有機色素
である。第1の態様の光重合開始剤において、前記一般
式(1)で表される化合物は、前記一般式(A)で表さ
れる有機ホウ素化合物からのラジカル発生を分光増感す
る機能を有する。第2及び第3の態様の光重合開始剤に
おいて、前記一般式(2)、前記一般式(4)及び前記
一般式(3)で表される化合物は、ラジカル発生剤を分
光増感する機能を有する。即ち、前記一般式(1)〜
(4)で表される化合物の吸収に対応した近紫外〜赤外
光を照射すると、この領域に吸収を有しない有機ホウ素
化合物あるいはラジカル発生剤であっても、有機ホウ素
化合物あるいはラジカル発生剤からのラジカル発生を促
進することができる。また、前記一般式(1)〜(4)
で表される化合物は、特に波長が350〜450nmの
光を照射することによって、高い消色性を示すので、感
光性転写シートは、非画像部のカブリが抑制され、画像
部の色再現性にも優れることにより、コントラストの高
い鮮明な画像を形成し得る。
A) Compounds represented by the general formulas (1) to (4) The general formulas (1) to (4) constituting the photopolymerization initiator used in the first to third embodiments. The compound represented by is a neutral organic dye having no counter anion in the structure. In the photopolymerization initiator according to the first aspect, the compound represented by the general formula (1) has a function of spectrally sensitizing radical generation from the organic boron compound represented by the general formula (A). In the photopolymerization initiators of the second and third aspects, the compounds represented by the general formulas (2), (4) and (3) have a function of spectrally sensitizing a radical generator. Having. That is, the above general formulas (1) to
When irradiated with near-ultraviolet to infrared light corresponding to the absorption of the compound represented by (4), even if the organic boron compound or the radical generator does not have absorption in this region, Radical generation can be promoted. Further, the general formulas (1) to (4)
The compound represented by the formula (1) exhibits a high decoloring property particularly when irradiated with light having a wavelength of 350 to 450 nm. Therefore, the photosensitive transfer sheet suppresses fogging in the non-image area and color reproducibility in the image area. , A clear image with high contrast can be formed.

【0051】ア)−1 一般式(1)及び一般式(3)
で表される化合物
A) -1 General formula (1) and general formula (3)
Compound represented by

【0052】[0052]

【化13】 Embedded image

【0053】前記一般式(1)において、Q1〜Q3は、
各々独立して、酸素原子又は硫黄原子を表す。R1及び
2は、各々独立して、水素原子、脂肪族基、芳香族
基、又は複素環基を表す。Z1及びZ2は、各々独立し
て、前記一般式(1)で表される化合物が色素になるた
めに必要な置換基を表す。
In the general formula (1), Q 1 to Q 3 are:
Each independently represents an oxygen atom or a sulfur atom. R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group. Z 1 and Z 2 each independently represent a substituent required for the compound represented by the general formula (1) to become a dye.

【0054】前記一般式(1)において、R1及びR
2は、各々独立して、水素原子、脂肪族基、芳香族基、
又は複素環基を表す。前記R1及びR2が脂肪族基を表す
場合、該脂肪族基としては、例えば、アルキル基、置換
アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキ
ニル基、置換アルキニル基、アラルキル基、又は置換ア
ラルキル基等が挙げられ、中でも、アルキル基、置換ア
ルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アラルキ
ル基、又は置換アラルキル基が好ましく、アルキル基、
置換アルキル基が特に好ましい。また、前記脂肪族基
は、環状脂肪族基でも鎖状脂肪族基でもよい。鎖状脂肪
族基は分岐を有していてもよい。
In the general formula (1), R 1 and R
2 is each independently a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group,
Or a heterocyclic group. When R 1 and R 2 represent an aliphatic group, examples of the aliphatic group include an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an alkynyl group, a substituted alkynyl group, an aralkyl group, and a substituted aralkyl group. And the like, among which an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an aralkyl group, or a substituted aralkyl group is preferable, and an alkyl group,
Substituted alkyl groups are particularly preferred. Further, the aliphatic group may be a cyclic aliphatic group or a chain aliphatic group. The chain aliphatic group may have a branch.

【0055】前記アルキル基としては、直鎖状、分岐
状、環状のアルキル基が挙げられ、該アルキル基の炭素
原子数としては、1〜30が好ましく、1〜20がより
好ましい。置換アルキル基のアルキル部分における炭素
原子数の好ましい範囲については、アルキル基の場合と
同様である。また、前記アルキル基は、置換基を有する
アルキル基、無置換のアルキル基のいずれであってもよ
い。前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、2−エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基、
オクタデシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル
基、ネオペンチル基、イソプロピル基、イソブチル基等
が挙げられる。
Examples of the alkyl group include linear, branched and cyclic alkyl groups. The alkyl group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms. The preferred range of the number of carbon atoms in the alkyl portion of the substituted alkyl group is the same as in the case of the alkyl group. The alkyl group may be a substituted alkyl group or an unsubstituted alkyl group. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, a 2-ethylhexyl group, a decyl group, a dodecyl group,
Examples include an octadecyl group, a cyclohexyl group, a cyclopentyl group, a neopentyl group, an isopropyl group and an isobutyl group.

【0056】前記置換アルキル基の置換基としては、カ
ルボキシル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子(例
えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子)、ヒドロキシ
基、炭素数30以下のアルコキシカルボニル基(例え
ば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベ
ンジルオキシカルボニル基)、炭素数30以下のアルキ
ルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニル
アミノカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、炭素数30以下のアシルアミノスルホニ
ル基、炭素数30以下のアルコキシ基(例えば、メトキ
シ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシエト
キシ基、フェネチルオキシ基等)、炭素数30以下のア
ルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、
メチルチオエチルチオエチル基等)、炭素数30以下の
アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、p−トリル
オキシ基、1−ナフトキシ基、2−ナフトキシ基等)、
ニトロ基、炭素数30以下のアルキル基、アルコキシカ
ルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ
基、
Examples of the substituent of the substituted alkyl group include a carboxyl group, a sulfo group, a cyano group, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom), a hydroxy group, and an alkoxycarbonyl group having 30 or less carbon atoms (for example, , A methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a benzyloxycarbonyl group), an alkylsulfonylaminocarbonyl group having 30 or less carbon atoms, an arylsulfonylaminocarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an acylaminosulfonyl group having 30 or less carbon atoms, An alkoxy group having 30 or less carbon atoms (for example, a methoxy group, an ethoxy group, a benzyloxy group, a phenoxyethoxy group, a phenethyloxy group, etc.), an alkylthio group having 30 or less carbon atoms (for example, a methylthio group, an ethylthio group,
A methylthioethylthioethyl group or the like), an aryloxy group having 30 or less carbon atoms (for example, a phenoxy group, a p-tolyloxy group, a 1-naphthoxy group, a 2-naphthoxy group or the like);
Nitro group, alkyl group having 30 or less carbon atoms, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group,

【0057】炭素数30以下のアシルオキシ基(例え
ば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等)、炭
素数30以下のアシル基(例えば、アセチル基、プロピ
オニル基、ベンゾイル基等)、カルバモイル基(例え
ば、カルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル
基、モルホリノカルボニル基、ピペリジノカルボニル基
等)、スルファモイル基(例えば、スルファモイル基、
N,N−ジメチルスルファモイル基、モルホリノスルホ
ニル基、ピペリジノスルホニル基等)、炭素数30以下
のアリール基(例えば、フェニル基、4−クロロフェニ
ル基、4−メチルフェニル基、α−ナフチル基等)、置
換アミノ基(例えば、アミノ基、アルキルアミノ基、ジ
アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミ
ノ基、アシルアミノ基等)、置換ウレイド基、置換ホス
ホノ基、複素環基等が挙げられる。ここで、カルボキシ
ル基、スルホ基、ヒドロキシ基、ホスホノ基は、塩の状
態であってもよい。その際、塩を形成するカチオンとし
ては、後述のY+等が挙げられる。
An acyloxy group having 30 or less carbon atoms (eg, acetyloxy group, propionyloxy group, etc.), an acyl group having 30 carbon atoms or less (eg, acetyl group, propionyl group, benzoyl group, etc.), a carbamoyl group (eg, carbamoyl group) Group, N, N-dimethylcarbamoyl group, morpholinocarbonyl group, piperidinocarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (for example, sulfamoyl group,
An N, N-dimethylsulfamoyl group, a morpholinosulfonyl group, a piperidinosulfonyl group, etc., an aryl group having 30 or less carbon atoms (for example, phenyl, 4-chlorophenyl, 4-methylphenyl, α-naphthyl) And the like, a substituted amino group (for example, an amino group, an alkylamino group, a dialkylamino group, an arylamino group, a diarylamino group, an acylamino group, etc.), a substituted ureido group, a substituted phosphono group, a heterocyclic group and the like. Here, the carboxyl group, sulfo group, hydroxy group, and phosphono group may be in a salt state. At that time, examples of the cation forming a salt include Y + described below.

【0058】前記アルケニル基としては、直鎖状、分岐
状、環状のアルケニル基が挙げられ、該アルケニル基の
炭素原子数としては、2〜30が好ましく、2〜20が
より好ましい。置換アルケニル基のアルケニル部分の、
炭素原子数の好ましい範囲については、アルケニル基の
場合と同様である。また、前記アルケニル基は、置換基
を有するアルケニル基、無置換のアルケニル基のいずれ
であってもよい。前記置換アルケニル基の置換基として
は、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げら
れる。
Examples of the alkenyl group include linear, branched and cyclic alkenyl groups. The alkenyl group preferably has 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms. For the alkenyl portion of the substituted alkenyl group,
The preferred range of the number of carbon atoms is the same as in the case of the alkenyl group. The alkenyl group may be a substituted alkenyl group or an unsubstituted alkenyl group. Examples of the substituent of the substituted alkenyl group include the same substituents as in the case of the substituted alkyl group.

【0059】前記アルキニル基としては、直鎖状、分岐
状、環状のアルキニル基が挙げられ、該アルキニル基の
炭素原子数としては、2〜30が好ましく、2〜20が
より好ましい。置換アルキニル基のアルキニル部分にお
ける炭素原子数の好ましい範囲については、アルキニル
基の場合と同様である。また、前記アルキニル基は、置
換基を有するアルキニル基、無置換のアルキニル基のい
ずれであってもよい。置換アルキニル基の置換基として
は、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げら
れる。
Examples of the alkynyl group include linear, branched and cyclic alkynyl groups. The alkynyl group preferably has 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms. The preferred range of the number of carbon atoms in the alkynyl portion of the substituted alkynyl group is the same as in the case of the alkynyl group. Further, the alkynyl group may be either an alkynyl group having a substituent or an unsubstituted alkynyl group. Examples of the substituent of the substituted alkynyl group include the same substituents as in the case of the above-mentioned substituted alkyl group.

【0060】前記アラルキル基としては、直鎖状、分岐
状、環状のアラルキル基が挙げられ、該アラルキル基の
炭素原子数としては、7〜35が好ましく、7〜25が
より好ましい。置換アラルキル基のアラルキル部分にお
ける炭素原子数の好ましい範囲については、アラルキル
基の場合と同様である。また、前記アラルキル基は、置
換基を有するアラルキル基、無置換のアラルキル基のい
ずれであってもよい。置換アラルキル基の置換基として
は、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げら
れる。
Examples of the aralkyl group include linear, branched and cyclic aralkyl groups. The aralkyl group preferably has 7 to 35 carbon atoms, more preferably 7 to 25 carbon atoms. The preferred range of the number of carbon atoms in the aralkyl portion of the substituted aralkyl group is the same as in the case of the aralkyl group. Further, the aralkyl group may be either an aralkyl group having a substituent or an unsubstituted aralkyl group. Examples of the substituent of the substituted aralkyl group include the same substituents as in the case of the above-mentioned substituted alkyl group.

【0061】前記R1及びR2が芳香族基を表す場合、該
芳香族基としては、例えば、アリール基、置換アリール
基が挙げられる。アリール基の炭素原子数としては、6
〜30が好ましく、6〜20がより好ましい。置換アリ
ール基のアリール部分の好ましい炭素原子数の範囲とし
ては、アリール基と同様である。前記アリール基として
は、例えば、フェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチ
ル基等が挙げられる。置換アリール基の置換基として
は、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げら
れる。
When R 1 and R 2 represent an aromatic group, examples of the aromatic group include an aryl group and a substituted aryl group. The number of carbon atoms in the aryl group is 6
To 30 are preferable, and 6 to 20 are more preferable. The preferred range of the number of carbon atoms in the aryl portion of the substituted aryl group is the same as that of the aryl group. Examples of the aryl group include a phenyl group, an α-naphthyl group, and a β-naphthyl group. Examples of the substituent of the substituted aryl group include the same substituents as in the case of the above-mentioned substituted alkyl group.

【0062】前記R1及びR2が複素環基を表す場合、複
素環基には、置換基を有する複素環基及び無置換の複素
環基が含まれる。R1及びR2が表す複素環基としては、
炭素数4〜13の複素環基が好ましい。このような複素
環基としては、含窒素原子、含酸素原子、及び含硫黄原
子の複素環が挙げられ、より具体的には、ピリジン環、
ピリダジン環、ピリミジン環、ピリダゾン環、キノリン
環、イソキノリン環、キノキサリン環、アクリジン環、
フラン環、オキサゾール環、チアゾール環、オキサジア
ゾール環、チアゾリン環、チオフェン環、インドール環
等が挙げられる。R1及びR2が置換基を有する複素環基
を表す場合、その置換基としては、前述のR1及びR2
置換基を有する場合の置換基と同様の置換基が挙げられ
る。
When R 1 and R 2 represent a heterocyclic group, the heterocyclic group includes a substituted heterocyclic group and an unsubstituted heterocyclic group. As the heterocyclic group represented by R 1 and R 2 ,
A heterocyclic group having 4 to 13 carbon atoms is preferred. Examples of such a heterocyclic group include a nitrogen-containing atom, an oxygen-containing atom, and a sulfur-containing heterocyclic ring. More specifically, a pyridine ring,
Pyridazine ring, pyrimidine ring, pyridazone ring, quinoline ring, isoquinoline ring, quinoxaline ring, acridine ring,
Examples thereof include a furan ring, an oxazole ring, a thiazole ring, an oxadiazole ring, a thiazoline ring, a thiophene ring, and an indole ring. When R 1 and R 2 represent a heterocyclic group having a substituent, examples of the substituent include the same substituents as described above when R 1 and R 2 have a substituent.

【0063】特に、R1及びR2は、無置換のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−
ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、オクチル
基、オクタデシル基等)、又は置換アルキル基であるの
が好ましい。好ましい置換アルキル基の例としては、ア
ルコキシアルキル基(例えば、メトキシエチル基、フェ
ノキシエチル基等)、アルコキシカルボニルアルキル基
(例えば、ブトキシカルボニルメチル基、フェノキシエ
トキシカルボニルメチル基等)が好ましい。また、R1
及びR2は、各々、隣接する他の置換基と互いに結合し
て環を形成していてもよく、該環としては、例えば、5
員又は6員のヘテロ環が挙げられる。
In particular, R 1 and R 2 represent an unsubstituted alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group,
Butyl, n-pentyl, n-hexyl, octyl, octadecyl, etc.) or substituted alkyl groups. Preferred examples of the substituted alkyl group include an alkoxyalkyl group (eg, methoxyethyl group, phenoxyethyl group, etc.) and an alkoxycarbonylalkyl group (eg, butoxycarbonylmethyl group, phenoxyethoxycarbonylmethyl group, etc.). Also, R 1
And R 2 may be mutually bonded to other adjacent substituents to form a ring, for example, 5
And 6-membered heterocycles.

【0064】前記一般式(1)において、Z1及びZ
2は、各々独立して、前記一般式(1)で表される化合
物が色素になるために必要な置換基を表す。該置換基と
しては、共役鎖を形成し得る基が挙げられる。
In the general formula (1), Z 1 and Z
2 independently represents a substituent required for the compound represented by the general formula (1) to become a dye. Examples of the substituent include a group capable of forming a conjugated chain.

【0065】前記一般式(1)で表される化合物の中で
も、下記一般式(3)で表される化合物が好ましい。
Among the compounds represented by the general formula (1), a compound represented by the following general formula (3) is preferable.

【0066】[0066]

【化14】 Embedded image

【0067】前記一般式(3)において、L1及びL2
各々独立して置換されていてもよいメチン基を表す。L
1及びL2がメチン基を表す場合、メチン基には置換基を
有するメチン基、及び無置換のメチン基が含まれる。L
1及びL2が置換基を有するメチン基を表す場合、その置
換基としては、前述のR1及びR2が置換基を有する場合
の置換基と同様の置換基が挙げられ、これらは、他のメ
チン基と環(例えば、5員又は6員の炭素環)を形成し
ていてもよく、あるいは助色団と環を形成していてもよ
い。
In the general formula (3), L 1 and L 2 each independently represent a methine group which may be substituted. L
When 1 and L 2 represent a methine group, the methine group includes a methine group having a substituent and an unsubstituted methine group. L
When 1 and L 2 represent a methine group having a substituent, examples of the substituent include the same substituents as described above when R 1 and R 2 have a substituent. May form a ring (for example, a 5- or 6-membered carbon ring), or may form a ring with an auxochrome.

【0068】前記一般式(3)において、G1及びG2
各々独立して、電子吸引性基を表すか、あるいはG1
2で結合して芳香環又は複素環を形成する。G1及びG
2が表す電子吸引性基としては、アセチル基、プロピオ
ニル基、ピバロイル基、クロロアセチル基、トリフルオ
ロアセチル基、1−メチルシクロプロピルカルボニル
基、1−エチルシクロプロピルカルボニル基、1−ベン
ジルシクロプロピルカルボニル基、ベンゾイル基、4−
メトキシベンゾイル基、テノイル基等のアシル基、メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2−メトキ
シエトキシカルボニル基、4−メトキシフェノキシカル
ボニル基等のオキシカルボニル基、カルバモイル基、
N,N−ジメチルカルバモイル基、N,N−ジエチルカ
ルバモイル基、N−フェニルカルバモイル基、N−2,
4−ビス(ペンチルオキシ)フェニルカルバモイル基、
N−2,4−ビス(オクチルオキシ)フェニルカルバモ
イル基、モルホリノカルボニル基等のカルバモイル基、
シアノ基、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル
基、トルエンスルホニル基等のスルホニル基、ジエチル
ホスホノ基等のホスホノ基、ベンゾオキサゾール−2−
イル、ベンゾチアゾール−2−イル基、3,4−ジヒド
ロキナゾリン−4−オン−2−イル基、3,4−ジヒド
ロキナゾリン−4−スルホン−2−イル基等の複素環基
が好ましい。
In the general formula (3), G 1 and G 2 each independently represent an electron-withdrawing group, or form an aromatic ring or a heterocyclic ring by combining G 1 and G 2 . G 1 and G
Examples of the electron-withdrawing group represented by 2 include an acetyl group, a propionyl group, a pivaloyl group, a chloroacetyl group, a trifluoroacetyl group, a 1-methylcyclopropylcarbonyl group, a 1-ethylcyclopropylcarbonyl group, and a 1-benzylcyclopropylcarbonyl Group, benzoyl group, 4-
Methoxybenzoyl group, acyl group such as thenoyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2-methoxyethoxycarbonyl group, oxycarbonyl group such as 4-methoxyphenoxycarbonyl group, carbamoyl group,
N, N-dimethylcarbamoyl group, N, N-diethylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group, N-2,
4-bis (pentyloxy) phenylcarbamoyl group,
Carbamoyl groups such as N-2,4-bis (octyloxy) phenylcarbamoyl group and morpholinocarbonyl group;
Cyano group, methanesulfonyl group, benzenesulfonyl group, sulfonyl group such as toluenesulfonyl group, phosphono group such as diethylphosphono group, benzoxazole-2-
Heterocyclic groups such as yl, benzothiazol-2-yl, 3,4-dihydroquinazolin-4-one-2-yl, and 3,4-dihydroquinazolin-4-sulfon-2-yl are preferred.

【0069】なお、前記「電子吸引性基」とは、ハメッ
トのσ値が正である置換基を意味する。ここで、σ値
は、構造活性相関懇話会編「化学の領域」増感122号
の「薬物の活性相関−ドラッグデザインと作用機作研究
への指針」96〜103頁、南江堂社刊やコルビン・ハ
ッシュ(Corwin・Hansch)、アルバート・
レオ(Albert Leo)著、「サブティチューア
ント・コンスタンツ・フォー・コーリレーション・アナ
リシス・イン・ケミストリー・アンド・バイオロジー」
(Substituent Constants fo
r Correlation Analysis in
Chemistry and Biology)69
〜161頁、ジョン・ワイリー・アンド・サンズ(Jh
on Wiley and Sons)社刊、コルビン
・ハッシュ(Corwin Hansch)、エー・レ
オ(A. Leo)、アール・ダブリュー・タフト
(R.W. Taft)、ケミカル・レビュー(Che
mical Reviews)第91巻第165〜19
5頁などに記載されている。また、σp が未知の置換基
については、ケミカル・レビュー(Chemical
Reviews)第17巻125〜136頁(193
5)に記載の方法で測定し求めることができる。
The “electron-withdrawing group” means a substituent having a positive Hammett σ value. Here, the σ value is determined by the “Activity Correlation of Drugs—Guideline for Drug Design and Mechanism of Action”, pages 96 to 103 of “Sensitization of Chemistry”, Sensitization No. 122, edited by Structure-Activity Relationship Society, edited by Nankodo and Corbin.・ Hash (Corwin Hansch), Albert ・
Albert Leo, "Subtitant Constants for Correlation Analysis in Chemistry and Biology"
(Substitute Constants fo
r Correlation Analysis in
Chemistry and Biology) 69
~ 161 pages, John Wiley & Sons (Jh
on Wiley and Sons, Corwin Hansch, A. Leo, RW Taft, Chemical Review (Che)
medical Reviews) Vol. 91, No. 165-19
It is described on page 5 and the like. Further, for a substituent whose σ p is unknown, Chemical Review (Chemical Review)
Reviews, Vol. 17, pp. 125-136 (193)
It can be measured and determined by the method described in 5).

【0070】G1とG2で結合して芳香環を形成する場
合、該芳香環としては、ベンゼン、ナフタレン、アント
ラセン等が挙げられる。
When G 1 and G 2 are bonded to form an aromatic ring, examples of the aromatic ring include benzene, naphthalene, and anthracene.

【0071】G1とG2で結合して複素環を形成する場
合、該複素環としては、5員又は6員の複素環が挙げら
れる。G1とG2によって形成される5員又は6員の複素
環核としては、チアゾール核{チアゾール核(例えば、
チアゾール、4−メチルチアゾール、4−フェニルチア
ゾール、4,5−ジクロロチアゾール)、ベンゾチアゾ
ール核(例えば、ベンゾチアゾール、4−クロロベンゾ
チアゾール、5−クロロベンゾチアゾール、6−クロロ
ベンゾチアゾール、5−ニトロベンゾチアゾール、5−
メチルベンゾチアゾール、5−フェニルベンゾチアゾー
ル、5−エトキシベンゾチアゾール、5−エトキシカル
ボニルベンゾチアゾール、5−フェノキシベンゾチアゾ
ール、5−フルオロベンゾチアゾール、5−トリフルオ
ロメチルベンゾチアゾール、5−クロロ−6−メチルベ
ンゾチアゾール、テトラヒドロベンゾチアゾール、4−
フェニルベンゾチアゾール、5,6−ビスメチルチオベ
ンゾチアゾール)、
When G 1 and G 2 are combined to form a heterocyclic ring, the heterocyclic ring includes a 5- or 6-membered heterocyclic ring. The 5- or 6-membered heterocyclic nucleus formed by G 1 and G 2 includes a thiazole nucleus {a thiazole nucleus (for example,
Thiazole, 4-methylthiazole, 4-phenylthiazole, 4,5-dichlorothiazole), benzothiazole nucleus (for example, benzothiazole, 4-chlorobenzothiazole, 5-chlorobenzothiazole, 6-chlorobenzothiazole, 5-nitro Benzothiazole, 5-
Methylbenzothiazole, 5-phenylbenzothiazole, 5-ethoxybenzothiazole, 5-ethoxycarbonylbenzothiazole, 5-phenoxybenzothiazole, 5-fluorobenzothiazole, 5-trifluoromethylbenzothiazole, 5-chloro-6-methyl Benzothiazole, tetrahydrobenzothiazole, 4-
Phenylbenzothiazole, 5,6-bismethylthiobenzothiazole),

【0072】ナフトチアゾール核(例えば、ナフト
〔2,1−d〕チアゾール、ナフト〔1,2−d〕チア
ゾール、ナフト〔2,3−d〕チアゾール、5−メトキ
シナフト〔1,2−d〕チアゾール、7−エトキシナフ
ト〔2,1−d〕チアゾール、8−メトキシナフト
〔2,1−d〕チアゾール、5−メトキシナフト〔2,
3−d〕チアゾール)、8−メチルチオナフト〔2,1
−d〕チアゾール}、チアゾリン核(例えば、チアゾリ
ン、4−メチルチアゾリン、4−ニトロチアゾリン)、
オキサゾール核{オキサゾール核(例えば、オキサゾー
ル、4−メチルオキサゾール、4−ニトロオキサゾー
ル、4−フェニルオキサゾール、4,5−ジフェニルオ
キサゾール、4−エチルオキサゾール)、ベンゾオキサ
ゾール核(例えば、ベンゾオキサゾール、5−クロロベ
ンゾオキサゾール、5−メチルベンゾオキサゾール、5
−フルオロベンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾオ
キサゾール、5−ニトロベンゾオキサゾール、5−トリ
フルオロメチルベンゾオキサゾール、5−アセチルベン
ゾオキサゾール)、ナフトオキサゾール核(例えば、ナ
フト〔2,1−d〕オキサゾール、ナフト〔1,2−
d〕オキサゾール、ナフト〔2,3−d〕オキサゾー
ル、5−ニトロナフト〔2,1−d〕オキサゾー
ル)}、
Naphthothiazole nucleus (for example, naphtho [2,1-d] thiazole, naphtho [1,2-d] thiazole, naphtho [2,3-d] thiazole, 5-methoxynaphtho [1,2-d] Thiazole, 7-ethoxynaphtho [2,1-d] thiazole, 8-methoxynaphtho [2,1-d] thiazole, 5-methoxynaphtho [2
3-d] thiazole), 8-methylthionaphtho [2,1
-D] thiazole}, a thiazoline nucleus (for example, thiazoline, 4-methylthiazoline, 4-nitrothiazoline),
Oxazole nucleus {Oxazole nucleus (eg, oxazole, 4-methyloxazole, 4-nitrooxazole, 4-phenyloxazole, 4,5-diphenyloxazole, 4-ethyloxazole), benzoxazole nucleus (eg, benzoxazole, 5-chloro) Benzoxazole, 5-methylbenzoxazole, 5
-Fluorobenzoxazole, 5-phenylbenzoxazole, 5-nitrobenzoxazole, 5-trifluoromethylbenzoxazole, 5-acetylbenzoxazole), naphthooxazole nucleus (for example, naphtho [2,1-d] oxazole, naphtho [ 1,2-
d] oxazole, naphtho [2,3-d] oxazole, 5-nitronaphtho [2,1-d] oxazole)},

【0073】オキサゾリン核(例えば、4,4−ジメチ
ルオキサゾリン)、セレナゾール核{セレナゾール核
(例えば、4−メチルセレナゾール、4−ニトロセレナ
ゾール、4−フェニルセレナゾール)、ベンゾセレナゾ
ール核(例えば、ベンゾセレナゾール、5−クロロベン
ゾセレナゾール、5−ニトロベンゾセレナゾール、6−
ニトロベンゾセレナゾール、5−クロロ−6−ニトロベ
ンゾセレナゾール、5,6−ジメチルベンゾセレナゾー
ル)、ナフトセレナゾール核(例えば、ナフト〔2,1
−d〕セレナゾール、ナフト〔1,2−d〕セレナゾー
ル)}、セレナゾリン核(例えば、セレナゾリン、4−
メチルセレナゾリン)、テルラゾール核{テルラゾール
核(例えば、テルラゾール、4−メチルテルラゾール、
4−フェニルテルラゾール)、ベンゾテルラゾール核
(例えば、ベンゾテルラゾール、5−クロロベンゾテル
ラゾール、5−メチルベンゾテルラゾール、5,6−ジ
メチルベンゾテルラゾール、6−メトキシベンゾテルラ
ゾール)、ナフトテルラゾール核(例えば、ナフト
〔2,1−d〕テルラゾール、ナフト〔1,2−d〕テ
ルラゾール)}、
Oxazoline nucleus (for example, 4,4-dimethyloxazoline), selenazole nucleus selenazole nucleus (for example, 4-methyl selenazole, 4-nitro selenazole, 4-phenyl selenazole), benzo selenazole nucleus (for example, Benzoselenazole, 5-chlorobenzoselenazole, 5-nitrobenzoselenazole, 6-
Nitrobenzoselenazole, 5-chloro-6-nitrobenzoselenazole, 5,6-dimethylbenzoselenazole), naphthoselenazole nucleus (for example, naphtho [2,1
-D] selenazole, naphtho [1,2-d] selenazole)}, selenazoline nucleus (for example, selenazoline, 4-
Methyl selenazoline), a tellurazole nucleus and a tellurazole nucleus (for example, tellurazole, 4-methyltellurazole,
4-phenyltellurazole), benzotellurazole nucleus (for example, benzotellurazole, 5-chlorobenzotellurazole, 5-methylbenzotellurazole, 5,6-dimethylbenzotellurazole, 6-methoxybenzotellurazole), naphtho Tellurazole nucleus (for example, naphtho [2,1-d] tellurazole, naphtho [1,2-d] tellurazole)},

【0074】テルラゾリン核(例えば、テルラゾリン、
4−メチルテルラゾリン)、3,3−ジアルキルインド
レニン核(例えば、3,3−ジメチルインドレニン、
3,3−ジエチルインドレニン、3,3−ジメチル−5
−シアノインドレニン、3,3−ジメチル−6−ニトロ
インドレニン、3,3−ジメチル−5−ニトロインドレ
ニン、3,3−ジメチル−5−メトキシインドレニン、
3,3,5−トリメチルインドレニン、3,3−ジメチ
ル−5−クロロインドレニン)、
A tellurazoline nucleus (for example, tellurazoline,
4-methyltellrazoline), 3,3-dialkylindolenine nucleus (for example, 3,3-dimethylindolenine,
3,3-diethylindolenine, 3,3-dimethyl-5
-Cyanoindolenine, 3,3-dimethyl-6-nitroindolenine, 3,3-dimethyl-5-nitroindolenine, 3,3-dimethyl-5-methoxyindolenine,
3,3,5-trimethylindolenine, 3,3-dimethyl-5-chloroindolenine),

【0075】イミダゾール核{イミダゾール核(例え
ば、1−アルキルイミダゾール、1−アルキル−4−フ
ェニルイミダゾール、1−アリールイミダゾール)、ベ
ンゾイミダゾール核(例えば、1−アルキルベンゾイミ
ダゾール、1−アルキル−5−クロロベンゾイミダゾー
ル、1−アルキル−5,6−ジクロロベンゾイミダゾー
ル、1−アルキル−5−シアノベンゾイミダゾール、1
−アルキル−5−フルオロベンゾイミダゾール、1−ア
ルキル−5−トリフルオロメチルベンゾイミダゾール、
1−アルキル−6−クロロ−5−シアノベンゾイミダゾ
ール、1−アルキル−6−クロロ−5−トリフルオロメ
チルベンゾイミダゾール、1−アリル−5,6−ジクロ
ロベンゾイミダゾール、1−アリールベンゾイミダゾー
ル)、ナフトイミダゾール核(例えば、1−アルキルナ
フト〔1,2−d〕イミダゾール)}が挙げられる。イ
ミダゾール核の例示中、アルキル基としては、炭素数が
1〜8のアルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル等の無置換アルキル基やヒド
ロキシアルキル基(例えば、2−ヒドロキシエチル、3
−ヒドロキシプロピル)が好ましく、メチル基、エチル
基が特に好ましい。イミダゾール核の例示中、アリール
基としては、例えば、フェニル、ハロゲン(例えばクロ
ロ)置換フェニル、アルキル(例えばメチル)置換フェ
ニル、アルコキシ(例えばメトキシ)置換フェニルが挙
げられる。
Imidazole nucleus: imidazole nucleus (eg, 1-alkylimidazole, 1-alkyl-4-phenylimidazole, 1-arylimidazole), benzimidazole nucleus (eg, 1-alkylbenzimidazole, 1-alkyl-5-chloro) Benzimidazole, 1-alkyl-5,6-dichlorobenzimidazole, 1-alkyl-5-cyanobenzimidazole, 1
-Alkyl-5-fluorobenzimidazole, 1-alkyl-5-trifluoromethylbenzimidazole,
1-alkyl-6-chloro-5-cyanobenzimidazole, 1-alkyl-6-chloro-5-trifluoromethylbenzimidazole, 1-allyl-5,6-dichlorobenzimidazole, 1-arylbenzimidazole), naphtho Imidazole nucleus (for example, 1-alkylnaphtho [1,2-d] imidazole)}. In the examples of the imidazole nucleus, examples of the alkyl group include an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, for example, an unsubstituted alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, and butyl, and a hydroxyalkyl group (for example, 2-hydroxyethyl, 3
-Hydroxypropyl) is preferred, and a methyl group and an ethyl group are particularly preferred. In the examples of the imidazole nucleus, examples of the aryl group include phenyl, halogen (eg, chloro) substituted phenyl, alkyl (eg, methyl) substituted phenyl, and alkoxy (eg, methoxy) substituted phenyl.

【0076】また、G1及びG2によって形成される5員
又は6員の複素環核としては、ジチオール核{ジチオー
ル核(例えば、1,3−ジチオール、4−クロロ−1,
3−ジチオール、4,5−ジアルコキシカルボニル−
1,3−ジチオール)、4,5−ベンゾ−1,3−ジチ
オール核、4,5−ナフト−1,3−ジチオール核}、
ジチオラン核(例えば、1,3−ジチオラン、4−フル
オロ−1,3−ジチオラン)、ジオキシソール核{ジオ
キソール核(例えば、1,3−ジオキソール、4−メチ
ル−1,3−ジオキソール)、4,5−ベンゾ−1,3
−ジオキソール核、4,5−ナフト−1,3−ジオキソ
ール核}、ジオキソラン核(例えば、1、3−ジオキソ
ラン、4−トリフルオロメチル−1,3−ジオキソラ
ン)が挙げられる。ジチオール核の例示中、アルコキシ
カルボニル基としては、炭素数が2〜9のアルコキシカ
ルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、ブトキシカルボニル等のアルコキシカルボニ
ル基が好ましい。
The 5- or 6-membered heterocyclic nucleus formed by G 1 and G 2 includes a dithiol nucleus and a dithiol nucleus (for example, 1,3-dithiol, 4-chloro-1,
3-dithiol, 4,5-dialkoxycarbonyl-
1,3-dithiol), 4,5-benzo-1,3-dithiol nucleus, 4,5-naphth-1,3-dithiol nucleus},
Dithiolane nucleus (eg, 1,3-dithiolane, 4-fluoro-1,3-dithiolane), dioxysole nucleus {dioxole nucleus (eg, 1,3-dioxole, 4-methyl-1,3-dioxole), 4,5 -Benzo-1,3
-Dioxol nucleus, 4,5-naphth-1,3-dioxol nucleus}, dioxolane nucleus (for example, 1,3-dioxolane, 4-trifluoromethyl-1,3-dioxolane). In the examples of the dithiol nucleus, the alkoxycarbonyl group is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 9 carbon atoms, for example, an alkoxycarbonyl group such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, butoxycarbonyl and the like.

【0077】さらに、G1及びG2によって形成される5
員又は6員の複素環核としては、ピリジン核(例えば、
2−ピリジン、4−ピリジン、5−メチル−2−ピリジ
ン、3−メチル−4−ピリジン)、キノリン核{キノリ
ン核(例えば、2−キノリン、3−メチル−2−キノリ
ン、5−エチル−2−キノリン、6−メチル−2−キノ
リン、6−ニトロ−2−キノリン、8−フルオロ−2−
キノリン、6−メトキシ−2−キノリン、6−ヒドロキ
シ−2−キノリン、8−クロロ−2−キノリン、4−キ
ノリン、6−エトキシ−4−キノリン、6−ニトロ−4
−キノリン、8−クロロ−4−キノリン、8−フルオロ
−4−キノリン、8−メチル−4−キノリン、8−メト
キシ−4−キノリン、6−メチル−4−キノリン、6−
メトキシ−4−キノリン、6−クロロ−4−キノリン、
5,6−ジメチル−4−キノリン)、イソキノリン核
(例えば、6−ニトロ−1−イソキノリン、3,4−ジ
ヒドロ−1−イソキノリン、6−ニトロ−3−イソキノ
リン)}、イミダゾ〔4,5−b〕キノキザリン核(例
えば、1,3−ジエチルイミダゾ〔4,5−b〕キノキ
ザリン、6−クロロ−1,3−ジアリルイミダゾ〔4,
5−b〕キノキザリン、6−クロロ−1,3−ジベンジ
ルイミダゾ〔4,5−b〕キノキザリン、6−クロロ−
1,3−ジフェニルイミダゾ〔4,5−b〕キノキザリ
ン、6−ニトロ−1,3−ジアリルイミダゾ〔4,5−
b〕キノキザリン)、
Further, 5 formed by G 1 and G 2
As the 6-membered or 6-membered heterocyclic nucleus, a pyridine nucleus (for example,
2-pyridine, 4-pyridine, 5-methyl-2-pyridine, 3-methyl-4-pyridine), quinoline nucleus {quinoline nucleus (for example, 2-quinoline, 3-methyl-2-quinoline, 5-ethyl-2) -Quinoline, 6-methyl-2-quinoline, 6-nitro-2-quinoline, 8-fluoro-2-
Quinoline, 6-methoxy-2-quinoline, 6-hydroxy-2-quinoline, 8-chloro-2-quinoline, 4-quinoline, 6-ethoxy-4-quinoline, 6-nitro-4
-Quinoline, 8-chloro-4-quinoline, 8-fluoro-4-quinoline, 8-methyl-4-quinoline, 8-methoxy-4-quinoline, 6-methyl-4-quinoline, 6-
Methoxy-4-quinoline, 6-chloro-4-quinoline,
5,6-dimethyl-4-quinoline), isoquinoline nucleus (for example, 6-nitro-1-isoquinoline, 3,4-dihydro-1-isoquinoline, 6-nitro-3-isoquinoline)}, imidazo [4,5- b] quinoxaline nucleus (for example, 1,3-diethylimidazo [4,5-b] quinoxaline, 6-chloro-1,3-diallylimidazo [4,
5-b] quinoxaline, 6-chloro-1,3-dibenzylimidazo [4,5-b] quinoxaline, 6-chloro-
1,3-diphenylimidazo [4,5-b] quinoxalin, 6-nitro-1,3-diallylimidazo [4,5-
b) quinoxalin),

【0078】オキサジアゾール核、チアジアゾール核、
ピリミジン核、イミダゾ〔4,5−b〕ピラジン核(例
えば1,3−ジエチル〔4,5−b〕ピラジン、1,3
−ジアリル〔4,5−b〕ピラジン)、イミダゾ〔4,
5−b〕1,4−キノン核、ピロロピリジン核、ピラゾ
ロピリジン核、1,3,3a,7−テトラアザインデン
核、インドリジン核、1,8−ナフチリジン核、ピラン
核(例えば、α−ピラン、γ−ピラン、ベンゾ−α−ピ
ラン、ベンゾ−γ−ピラン)、チアピラン核(例えば、
α−チアピラン、γ−チアピラン、ベンゾ−α−チアピ
ラン、ベンゾ−γ−チアピラン)、インドレニン核、
Oxadiazole nucleus, thiadiazole nucleus,
Pyrimidine nucleus, imidazo [4,5-b] pyrazine nucleus (for example, 1,3-diethyl [4,5-b] pyrazine, 1,3
-Diallyl [4,5-b] pyrazine), imidazo [4,
5-b] 1,4-quinone nucleus, pyrrolopyridine nucleus, pyrazolopyridine nucleus, 1,3,3a, 7-tetraazaindene nucleus, indolizine nucleus, 1,8-naphthyridine nucleus, pyran nucleus (for example, α -Pyran, γ-pyran, benzo-α-pyran, benzo-γ-pyran), a thiapiran nucleus (for example,
α-thiapiran, γ-thiapiran, benzo-α-thiapiran, benzo-γ-thiapiran), indolenine nucleus,

【0079】[0079]

【化15】 Embedded image

【0080】等が挙げられる。And the like.

【0081】前記一般式(3)において、mは0〜3の
整数を表す。また、R1、R2、及びQ3は、前記一般式
(1)におけるR1、R2、及びQ3と同義である。
In the general formula (3), m represents an integer of 0 to 3. Further, R 1, R 2, and Q 3 have the same meaning as R 1, R 2, and Q 3 in the general formula (1).

【0082】ア)−2 一般式(2)及び一般式(4)
で表される化合物
A) -2 General formulas (2) and (4)
Compound represented by

【0083】[0083]

【化16】 Embedded image

【0084】前記一般式(2)において、R3及びR
4は、各々独立して、水素原子又は1価の置換基を表
す。1価の置換基としては、置換又は無置換のアルキル
基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヒドロキシエチル基、トリフルオロメチル基、ベン
ジル基、スルホプロピル基、ジエチルアミノエチル基、
シアノプロピル基、アダマンチル基、p−クロロフェネ
チル基、エトキシエチル基、エチルチオエチル基、フェ
ノキシエチル基、カルバモイルエチル基、カルボキシエ
チル基、エトキシカルボニルメチル基、アセチルアミノ
エチル基等)、置換又は無置換のアリール基(例えば、
フェニル基、ナフチル基、p−カルボキシフェニル基、
3,5−ジカルボキシフェニル基、m−スルホフェニル
基、p−アセトアミドフェニル基、3−カプリルアミド
フェニル基、p−スルファモイルフェチル基、m−ヒド
ロキシフェニル基、p−ニトロフェニル基、3,5−ジ
クロロフェニル基、p−アニシル基、o−アニシル基、
p−シアノフェニル基、p−N−メチルウレイドフェニ
ル基、m−フルオロフェニル基、p−トリル基、m−ト
リル基等)、
In the general formula (2), R 3 and R
4 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. As the monovalent substituent, a substituted or unsubstituted alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hydroxyethyl group, trifluoromethyl group, benzyl group, sulfopropyl group, diethylaminoethyl group,
Cyanopropyl group, adamantyl group, p-chlorophenethyl group, ethoxyethyl group, ethylthioethyl group, phenoxyethyl group, carbamoylethyl group, carboxyethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, acetylaminoethyl group, etc.), substituted or unsubstituted Aryl group (for example,
Phenyl group, naphthyl group, p-carboxyphenyl group,
3,5-dicarboxyphenyl group, m-sulfophenyl group, p-acetamidophenyl group, 3-caprylamidophenyl group, p-sulfamoylfetyl group, m-hydroxyphenyl group, p-nitrophenyl group, 3 , 5-dichlorophenyl group, p-anisyl group, o-anisyl group,
p-cyanophenyl group, p-N-methylureidophenyl group, m-fluorophenyl group, p-tolyl group, m-tolyl group, etc.),

【0085】置換又は無置換のアルキルチオ基あるいは
置換又は無置換のアリールチオ基(例えば、メチルチオ
基、エチルチオ基、スルホブチルチオ基、フェニルチオ
基等)、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、
フッ素原子等)、カルバモイル基、スルファモイル基、
置換又は無置換のアシル基(例えば、アセチル基、ベン
ゾイル基等)、置換又は無置換のアルコキシカルボニル
基(例えば、メトキシカルボニル基)、置換又は無置換
のアリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカ
ルボニル基等)、カルボキシル基、ホルミル基、置換ア
ミノ基、ニトリル基等が挙げられる。また、前記一般式
(2)において、R3及びR4は互いに結合して、芳香環
又は複素環を形成していてもよい。
A substituted or unsubstituted alkylthio group or a substituted or unsubstituted arylthio group (eg, a methylthio group, an ethylthio group, a sulfobutylthio group, a phenylthio group, etc.), a halogen atom (eg, a chlorine atom, a bromine atom,
Fluorine atom), carbamoyl group, sulfamoyl group,
A substituted or unsubstituted acyl group (eg, acetyl group, benzoyl group, etc.), a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group), a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group (eg, phenoxycarbonyl group, etc.) ), Carboxyl group, formyl group, substituted amino group, nitrile group and the like. In the general formula (2), R 3 and R 4 may be bonded to each other to form an aromatic ring or a heterocyclic ring.

【0086】前記一般式(2)において、Z3及びZ
4は、各々独立して、一般式(2)で表される化合物が
色素になるために必要な置換基を表す。Z3及びZ4で表
される置換基としては、共役鎖を形成し得る基が挙げら
れる。
In the general formula (2), Z 3 and Z
4 independently represents a substituent necessary for the compound represented by the general formula (2) to become a dye. Examples of the substituent represented by Z 3 and Z 4 include a group capable of forming a conjugated chain.

【0087】前記一般式(2)で表される化合物の中で
も、下記一般式(4)で表される化合物が好ましい。
Among the compounds represented by the general formula (2), a compound represented by the following general formula (4) is preferable.

【0088】[0088]

【化17】 Embedded image

【0089】前記一般式(4)において、L1及びL
2は、各々独立して、置換されていてもよいメチン基を
表す。L1及びL2が表すメチン基としては、前記一般式
(3)におけるL1及びL2が表すメチン基と同義であ
り、好ましい例も同様である。前記一般式(4)におい
て、G1及びG2は、各々独立して、電子吸引性基を表す
か、あるいはG1とG2とで結合して芳香環又は複素環を
形成する。G1及びG2が表す電子吸引性基としては、前
記一般式(3)のG1及びG2が表す電子吸引性基と同義
であり、好ましい例も同様である。G1とG2で結合して
芳香環又は複素環を形成する場合、該芳香環及び複素環
としては、前記一般式(3)のG1とG2で結合して芳香
環又は複素環を形成する場合に例示した芳香環及び複素
環(複素環核)と同様のものが挙げられる。前記一般式
(4)において、mは0〜3の整数を表す。また、R3
及びR4は、前記一般式(2)におけるR3及びR4と同
義である。
In the general formula (4), L 1 and L
2 each independently represents a methine group which may be substituted; The methine group L 1 and L 2 represents the general formula (3) has the same meaning as methine group represented by L 1 and L 2 in preferred examples are also the same. In the general formula (4), G 1 and G 2 each independently represent an electron-withdrawing group or form an aromatic ring or a heterocyclic ring by bonding G 1 and G 2 . Examples of the electron withdrawing group represented by G 1 and G 2, have the same meanings as electron-withdrawing group represented by G 1 and G 2 in the general formula (3), and preferred examples are also the same. When forming an aromatic ring or a heterocyclic ring bonded with G 1 and G 2, Examples of the aromatic ring and heterocyclic, aromatic ring or heterocyclic ring bonded to at G 1 and G 2 in the general formula (3) The same aromatic rings and heterocyclic rings (heterocyclic nuclei) as those exemplified in the case of formation are exemplified. In the general formula (4), m represents an integer of 0 to 3. Also, R 3
And R 4 have the same meanings as R 3 and R 4 in formula (2).

【0090】以下に、前記一般式(1)〜一般式(4)
で表される化合物の例示化合物1〜97を挙げるが、本
発明に用いられる化合物は以下の例示化合物に限定され
るものではない。
The following formulas (1) to (4)
Exemplary compounds 1 to 97 of the compound represented by are shown below, but the compounds used in the present invention are not limited to the following exemplary compounds.

【0091】[0091]

【化18】 Embedded image

【0092】[0092]

【化19】 Embedded image

【0093】[0093]

【化20】 Embedded image

【0094】[0094]

【化21】 Embedded image

【0095】[0095]

【化22】 Embedded image

【0096】[0096]

【化23】 Embedded image

【0097】[0097]

【化24】 Embedded image

【0098】[0098]

【化25】 Embedded image

【0099】[0099]

【化26】 Embedded image

【0100】[0100]

【化27】 Embedded image

【0101】[0101]

【化28】 Embedded image

【0102】[0102]

【化29】 Embedded image

【0103】[0103]

【化30】 Embedded image

【0104】[0104]

【化31】 Embedded image

【0105】前記第1〜第3の態様に用いられる光重合
開始剤において、前記一般式(1)〜前記一般式(4)
で表される化合物は、各々、後述するラジカル発生剤1
重量部に対して0.01〜5重量%含有されるのが好ま
しく、0.05〜2重量%含有されるのがより好まし
い。
In the photopolymerization initiator used in the first to third embodiments, the photopolymerization initiators represented by the general formulas (1) to (4)
Are each a radical generator 1 described below.
It is preferably contained in an amount of 0.01 to 5% by weight, more preferably 0.05 to 2% by weight, based on parts by weight.

【0106】イ) 一般式(A)で表される有機ホウ素
化合物又はラジカル発生剤 第1の態様に用いられる光重合開始剤において、一般式
(A)で表される有機ホウ素化合物は、近傍に存在する
前記一般式(1)で表される化合物が光を吸収した場合
に、該化合物と相互作用し、高効率でラジカル等を発生
し、近傍に存在する前記モノマー化合物の重合を開始さ
せる機能を有する。
A) Organic Boron Compound or Radical Generator Represented by Formula (A) In the photopolymerization initiator used in the first embodiment, the organic boron compound represented by Formula (A) When the existing compound represented by the general formula (1) absorbs light, the compound interacts with the compound to generate radicals and the like with high efficiency, and initiates polymerization of the monomer compound present in the vicinity. Having.

【0107】[0107]

【化32】 Embedded image

【0108】前記一般式(A)において、Ra1、R
2、及びRa3は、各々独立して、脂肪族基、芳香族
基、複素環基、又は−SiRa5Ra6Ra7を表す。ま
た、Ra4は、脂肪族基を表す。Ra1〜Ra3及びRa4
が、脂肪族基を表す場合、該脂肪族基としては、例え
ば、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換
アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アラ
ルキル基、又は置換アラルキル基等が挙げられ、中で
も、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換
アルケニル基、アラルキル基、又は置換アラルキル基が
好ましく、アルキル基、置換アルキル基が特に好まし
い。また、前記脂肪族基は、環状脂肪族基でも鎖状脂肪
族基でもよい。鎖状脂肪族基は分岐を有していてもよ
い。
In the general formula (A), Ra 1 , R
a 2, and Ra 3 are each independently an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, or an -SiRa 5 Ra 6 Ra 7. Ra 4 represents an aliphatic group. Ra 1 to Ra 3 and Ra 4
Represents an aliphatic group, examples of the aliphatic group include an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an alkynyl group, a substituted alkynyl group, an aralkyl group, and a substituted aralkyl group. Among them, an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an aralkyl group or a substituted aralkyl group is preferable, and an alkyl group and a substituted alkyl group are particularly preferable. Further, the aliphatic group may be a cyclic aliphatic group or a chain aliphatic group. The chain aliphatic group may have a branch.

【0109】前記アルキル基としては、直鎖状、分岐
状、環状のアルキル基が挙げられ、該アルキル基の炭素
原子数としては、1〜30が好ましく、1〜20がより
好ましい。置換アルキル基のアルキル部分の,炭素原子
数の好ましい範囲については、アルキル基の場合と同様
である。また、前記アルキル基は、置換基を有するアル
キル基、無置換のアルキル基のいずれであってもよい。
前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロペン
チル基、ネオペンチル基、イソプロピル基、イソブチル
基、シクロヘキシル基、オクチル基、2−エチルヘキシ
ル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基等が挙げ
られる。
Examples of the alkyl group include linear, branched and cyclic alkyl groups. The alkyl group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms. The preferred range of the number of carbon atoms in the alkyl portion of the substituted alkyl group is the same as in the case of the alkyl group. The alkyl group may be a substituted alkyl group or an unsubstituted alkyl group.
Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, cyclopentyl, neopentyl, isopropyl, isobutyl, cyclohexyl, octyl, 2-ethylhexyl, decyl, A dodecyl group, an octadecyl group and the like.

【0110】前記置換アルキル基の置換基としては、カ
ルボキシル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子(例
えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子)、ヒドロキシ
基、炭素数30以下のアルコキシカルボニル基(例え
ば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベ
ンジルオキシカルボニル基)、炭素数30以下のアルキ
ルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニル
アミノカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、炭素数30以下のアシルアミノスルホニ
ル基、炭素数30以下のアルコキシ基(例えば、メトキ
シ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキ
シ基等)、炭素数30以下のアルキルチオ基(例えば、
メチルチオ基、エチルチオ基、メチルチオエチルチオエ
チル基等)、炭素数30以下のアリールオキシ基(例え
ば、フェノキシ基、p−トリルオキシ基、1−ナフトキ
シ基、2−ナフトキシ基等)、ニトロ基、炭素数30以
下のアルキル基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリ
ールオキシカルボニルオキシ基、炭素数30以下のアシ
ルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、プロピオニル
オキシ基等)、炭素数30以下のアシル基(例えば、ア
セチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等)、カルバ
モイル基(例えば、カルバモイル基、N,N−ジメチル
カルバモイル基、モルホリノカルボニル基、ピペリジノ
カルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、スルフ
ァモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基、モル
ホリノスルホニル基、ピペリジノスルホニル基等)、炭
素数30以下のアリール基(例えば、フェニル基、4−
クロロフェニル基、4−メチルフェニル基、α−ナフチ
ル基等)、置換アミノ基(例えば、アミノ基、アルキル
アミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジ
アリールアミノ基、アシルアミノ基等)、置換ウレイド
基、置換ホスホノ基、複素環基等が挙げられる。ここ
で、カルボキシル基、スルホ基、ヒドロキシ基、ホスホ
ノ基は、塩の状態であってもよい。その際、塩を形成す
るカチオンとしては、後述のY+等が挙げられる。
Examples of the substituent of the substituted alkyl group include a carboxyl group, a sulfo group, a cyano group, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom), a hydroxy group, and an alkoxycarbonyl group having 30 or less carbon atoms (for example, , A methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a benzyloxycarbonyl group), an alkylsulfonylaminocarbonyl group having 30 or less carbon atoms, an arylsulfonylaminocarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an acylaminosulfonyl group having 30 or less carbon atoms, An alkoxy group having 30 or less carbon atoms (eg, a methoxy group, an ethoxy group, a benzyloxy group, a phenethyloxy group, etc.) and an alkylthio group having 30 or less carbon atoms (eg,
A methylthio group, an ethylthio group, a methylthioethylthioethyl group, etc., an aryloxy group having 30 or less carbon atoms (eg, a phenoxy group, a p-tolyloxy group, a 1-naphthoxy group, a 2-naphthoxy group, etc.), a nitro group, a carbon number An alkyl group having 30 or less, an alkoxycarbonyloxy group, an aryloxycarbonyloxy group, an acyloxy group having 30 or less carbon atoms (eg, acetyloxy group, propionyloxy group, etc.), an acyl group having 30 or less carbon atoms (eg, acetyl group, Propionyl group, benzoyl group, etc.), carbamoyl group (eg, carbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, morpholinocarbonyl group, piperidinocarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (eg, sulfamoyl group, N, N-dimethylsulfur) Famoyl group, morpholinosulfonyl , Or a piperidinosulfonyl group), aryl group having 30 or less carbon atoms (e.g., phenyl group, 4-
A chlorophenyl group, a 4-methylphenyl group, an α-naphthyl group, etc.), a substituted amino group (eg, an amino group, an alkylamino group, a dialkylamino group, an arylamino group, a diarylamino group, an acylamino group, etc.), a substituted ureido group, Examples include a substituted phosphono group and a heterocyclic group. Here, the carboxyl group, sulfo group, hydroxy group, and phosphono group may be in a salt state. At that time, examples of the cation forming a salt include Y + described below.

【0111】前記アルケニル基としては、直鎖状、分岐
状、環状のアルケニル基が挙げられ、該アルケニル基の
炭素原子数としては、2〜30が好ましく、2〜20が
より好ましい。置換アルケニル基のアルケニル部分の、
炭素原子数の好ましい範囲については、アルケニル基の
場合と同様である。また、前記アルケニル基は、置換基
を有するアルケニル基、無置換のアルケニル基のいずれ
であってもよい。前記置換アルケニル基の置換基として
は、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げら
れる。
Examples of the alkenyl group include linear, branched and cyclic alkenyl groups. The alkenyl group preferably has 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms. For the alkenyl portion of the substituted alkenyl group,
The preferred range of the number of carbon atoms is the same as in the case of the alkenyl group. The alkenyl group may be a substituted alkenyl group or an unsubstituted alkenyl group. Examples of the substituent of the substituted alkenyl group include the same substituents as in the case of the substituted alkyl group.

【0112】前記アルキニル基としては、直鎖状、分岐
状、環状のアルキニル基が挙げられ、該アルキニル基の
炭素原子数としては、2〜30が好ましく、2〜20が
より好ましい。置換アルキニル基のアルキニル部分の炭
素原子数の好ましい範囲については、アルキニル基の場
合と同様である。また、前記アルキニル基は、置換基を
有するアルキニル基、無置換のアルキニル基のいずれで
あってもよい。置換アルキニル基の置換基としては、前
記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
Examples of the alkynyl group include linear, branched and cyclic alkynyl groups. The alkynyl group preferably has 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms. The preferred range of the number of carbon atoms in the alkynyl portion of the substituted alkynyl group is the same as in the case of the alkynyl group. Further, the alkynyl group may be either an alkynyl group having a substituent or an unsubstituted alkynyl group. Examples of the substituent of the substituted alkynyl group include the same substituents as in the case of the above-mentioned substituted alkyl group.

【0113】前記アラルキル基としては、直鎖状、分岐
状、環状のアラルキル基が挙げられ、該アラルキル基の
炭素原子数としては、7〜35が好ましく、7〜25が
より好ましい。置換アラルキル基のアラルキル部分の、
炭素原子数の好ましい範囲については、アラルキル基の
場合と同様である。また、前記アラルキル基は、置換基
を有するアラルキル基、無置換のアラルキル基のいずれ
であってもよい。置換アラルキル基の置換基としては、
前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられ
る。
Examples of the aralkyl group include linear, branched and cyclic aralkyl groups. The aralkyl group preferably has 7 to 35 carbon atoms, more preferably 7 to 25 carbon atoms. Of the aralkyl moiety of the substituted aralkyl group,
The preferred range of the number of carbon atoms is the same as in the case of the aralkyl group. Further, the aralkyl group may be either an aralkyl group having a substituent or an unsubstituted aralkyl group. As the substituent of the substituted aralkyl group,
The same substituents as in the case of the above-mentioned substituted alkyl group can be mentioned.

【0114】前記Ra1〜Ra3が芳香族基アルキル基を
表す場合、該芳香族基としては、例えば、アリール基、
置換アリール基が挙げられる。アリール基の炭素原子数
としては、6〜30が好ましく、6〜20がより好まし
い。置換アリール基のアリール部分の好ましい炭素原子
数の範囲としては、アリール基と同様である。前記アリ
ール基としては、例えば、フェニル基、α−ナフチル
基、β−ナフチル基等が挙げられる。置換アリール基の
置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置
換基が挙げられる。
When Ra 1 to Ra 3 represent an alkyl group of an aromatic group, the aromatic group includes, for example, an aryl group,
And substituted aryl groups. The number of carbon atoms in the aryl group is preferably from 6 to 30, and more preferably from 6 to 20. The preferred range of the number of carbon atoms in the aryl portion of the substituted aryl group is the same as that of the aryl group. Examples of the aryl group include a phenyl group, an α-naphthyl group, and a β-naphthyl group. Examples of the substituent of the substituted aryl group include the same substituents as in the case of the above-mentioned substituted alkyl group.

【0115】Ra1〜Ra3が複素環基を表す場合、該複
素環基としては、置換基を有する複素環基、無置換の複
素環基が挙げられる。置換基を有する複素環基の置換基
としては、Ra1〜Ra3が置換基を有するアリール基を
表す場合に例示した置換基と同様の置換基が挙げられ
る。中でも、Ra1〜Ra3が表す複素環基としては、フ
ラン環、ピロール環、イミダゾール環、オキサゾール
環、チアゾール環、ピリジン環等の窒素原子、硫黄原
子、又は酸素原子を含む複素環基が好ましい。
When Ra 1 to Ra 3 represent a heterocyclic group, examples of the heterocyclic group include a heterocyclic group having a substituent and an unsubstituted heterocyclic group. Examples of the substituent of the heterocyclic group having a substituent include the same substituents as those exemplified when Ra 1 to Ra 3 represent an aryl group having a substituent. Among them, the heterocyclic group represented by Ra 1 to Ra 3 is preferably a heterocyclic group containing a nitrogen atom, a sulfur atom, or an oxygen atom such as a furan ring, a pyrrole ring, an imidazole ring, an oxazole ring, a thiazole ring, and a pyridine ring. .

【0116】Ra1〜Ra3が−SiRa5Ra6Ra7
表す場合、Ra5、Ra6及びRa7は、各々独立して、
脂肪族基又は芳香族基を表す。Ra5、Ra6及びRa7
は、それぞれ独立に脂肪族基、芳香族基を表す。該脂肪
族基、芳香族基は、Ra1〜Ra3及びRa4が表す脂肪
族基、Ra1〜Ra3が表す芳香族基と各々同義であり、
好ましい例も同様である。
When Ra 1 to Ra 3 represent —SiRa 5 Ra 6 Ra 7 , Ra 5 , Ra 6 and Ra 7 each independently represent
Represents an aliphatic group or an aromatic group. Ra 5, Ra 6 and Ra 7
Each independently represents an aliphatic group or an aromatic group. The aliphatic group and the aromatic group have the same meanings as the aliphatic group represented by Ra 1 to Ra 3 and Ra 4 , and the aromatic group represented by Ra 1 to Ra 3 ,
Preferred examples are also the same.

【0117】前記一般式(A)において、Ra1、R
2、Ra3、及びRa4のうちの2以上が直接又は置換
基を介して連結し、環を形成していてもよい。環を形成
している場合、該環としては、下記の(C1)〜(C
3)の環より選ばれるいずれかの環が好ましく、中で
も、(C2)の環が好ましい。
In the formula (A), Ra 1 , R
Two or more of a 2 , Ra 3 , and Ra 4 may be linked directly or via a substituent to form a ring. When a ring is formed, the ring includes the following (C1) to (C
Any ring selected from the rings of 3) is preferable, and among them, the ring of (C2) is preferable.

【0118】[0118]

【化33】 Embedded image

【0119】前記(C1)の環において、Rbは、以下
の2価基をあらわす。
In the ring (C1), Rb represents the following divalent group.

【0120】[0120]

【化34】 Embedded image

【0121】前記一般式(A)において、高感度と保存
性向上の観点から、Ra1〜Ra3がアリール基で、Ra
4がアルキル基であるのが好ましい。特に、アリール基
に電子吸引性基が置換したトリアリールアルキル型の有
機ホウ素化合物が好ましく、その中でも、3つのアリー
ル基上にある置換基(電子吸引性基)の、Hammet
(σ)値の合計が+0.36〜+2.58のものがより
好ましい。前記電子吸引性基としては、ハロゲン原子、
トリフルオロメチル基が好ましく、特にフッ素原子、塩
素原子がより好ましい。
In the general formula (A), Ra 1 to Ra 3 are an aryl group and Ra
Preferably, 4 is an alkyl group. In particular, a triarylalkyl-type organoboron compound in which an aryl group is substituted with an electron-withdrawing group is preferable. Among them, Hammet of substituents (electron-withdrawing groups) on three aryl groups is preferable.
It is more preferable that the sum of (σ) values is +0.36 to +2.58. As the electron withdrawing group, a halogen atom,
A trifluoromethyl group is preferable, and a fluorine atom and a chlorine atom are more preferable.

【0122】電子吸引性基が置換したアリール基として
は、3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル
基、2−フルオロフェニル基、3−クロロフェニル基、
4−クロロフェニル基、3−トリフルオロメチルフェニ
ル基、4−トリフルオロメチルフェニル基、3,5−ジ
フルオロフェニル基、4―ブロモフェニル基、3,4−
ジフルオロフェニル基、5−フルオロ−2−メチルフェ
ニル基、5−フルオロ−4−メチルフェニル基、5−ク
ロロ−2−メチルフェニル基、5−クロロ−4−メチル
フェニル基等が挙げられる。
The aryl group substituted by the electron-withdrawing group includes a 3-fluorophenyl group, a 4-fluorophenyl group, a 2-fluorophenyl group, a 3-chlorophenyl group,
4-chlorophenyl group, 3-trifluoromethylphenyl group, 4-trifluoromethylphenyl group, 3,5-difluorophenyl group, 4-bromophenyl group, 3,4-
Examples include a difluorophenyl group, a 5-fluoro-2-methylphenyl group, a 5-fluoro-4-methylphenyl group, a 5-chloro-2-methylphenyl group, and a 5-chloro-4-methylphenyl group.

【0123】前記一般式(A)のアニオン部の具体例と
しては、例えば、テトラメチルボレート、テトラエチル
ボレート、テトラブチルボレート、トリイソブチルメチ
ルボレート、ジ−n−ブチル−ジ−t−ブチルボレー
ト、テトラ−n−ブチルボレート、トリ−m−クロロフ
ェニル−n−ヘキシルボレート、トリフェニルメチルボ
レート、トリフェニルエチルボレート、トリフェニルプ
ロピルボレート、トリフェニル−n−ブチルボレート、
トリメシチルブチルボレート、トリトリルイソプロピル
ボレート、トリフェニルベンジルボレート、m−フルオ
ロ−テトラベンジルボレート、トリフェニルフェネチル
ボレート、トリフェニル−p−クロロベンジルボレー
ト、トリフェニルエテニルブチルボレート、ジ(α−ナ
フチル)−ジプロピルボレート、トリ−n−ブチル(ジ
メチルフェニルシリル)ボレート、ジフェニルジヘキシ
ルボレート、トリ−m−フルオロフェニルヘキシルボレ
ート、トリ−(5−クロロ−4−メチルフェニル)ヘキ
シルボレート、トリ−m−フルオロフェニルシクロヘキ
シルボレート、トリ−m−フルオロフェニルベンジルボ
レート、トリ−(5−フルオロ−2−メチルフェニル)
ヘキシルボレート等が挙げられる。
Specific examples of the anion moiety of the general formula (A) include, for example, tetramethyl borate, tetraethyl borate, tetrabutyl borate, triisobutyl methyl borate, di-n-butyl-di-t-butyl borate, -N-butyl borate, tri-m-chlorophenyl-n-hexyl borate, triphenylmethyl borate, triphenylethyl borate, triphenylpropyl borate, triphenyl-n-butyl borate,
Trimesityl butyl borate, tolyl isopropyl borate, triphenylbenzyl borate, m-fluoro-tetrabenzyl borate, triphenylphenethyl borate, triphenyl-p-chlorobenzyl borate, triphenylethenyl butyl borate, di (α-naphthyl) -Dipropyl borate, tri-n-butyl (dimethylphenylsilyl) borate, diphenyl dihexyl borate, tri-m-fluorophenylhexyl borate, tri- (5-chloro-4-methylphenyl) hexyl borate, tri-m-fluoro Phenylcyclohexyl borate, tri-m-fluorophenylbenzyl borate, tri- (5-fluoro-2-methylphenyl)
Hexyl borate and the like can be mentioned.

【0124】前記一般式(A)において、Y+は陽イオ
ンを形成し得る基を表す。中でも、有機カチオン性化合
物、遷移金属配位錯体カチオン(特許2791143号
公報に記載の化合物等)又は金属カチオン(例えば、N
+、K+、Li+、Ag+、Fe2+、Fe3+、Cu+、C
2+、Zn2+、Al3+、1/2Ca2+等)が好ましい。
前記有機カチオン性化合物としては、例えば、4級アン
モニウムカチオン、4級ピリジニウムカチオン、4級キ
ノリニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、ヨードニ
ウムカチオン、スルホニウムカチオン、色素カチオン等
が挙げられる。
In the general formula (A), Y + represents a group capable of forming a cation. Among them, an organic cationic compound, a transition metal coordination complex cation (such as the compound described in Japanese Patent No. 2791143), or a metal cation (for example, N 2
a + , K + , Li + , Ag + , Fe 2+ , Fe 3+ , Cu + , C
u 2+ , Zn 2+ , Al 3+ , 1 / 2Ca 2+, etc.).
Examples of the organic cationic compound include a quaternary ammonium cation, a quaternary pyridinium cation, a quaternary quinolinium cation, a phosphonium cation, an iodonium cation, a sulfonium cation, and a dye cation.

【0125】前記4級アンモニウムカチオンとしては、
テトラアルキルアンモニウムカチオン(例えば、テトラ
メチルアンモニウムカチオン、テトラブチルアンモニウ
ムカチオン)、テトラアリールアンモニウムカチオン
(例えば、テトラフェニルアンモニウムカチオン)等が
挙げられる。前記4級ピリジニウムカチオンとしては、
N−アルキルピリジニウムカチオン(例えば、N−メチ
ルピリジニウムカチオン)、N−アリールピリジニウム
カチオン(例えば、N−フェニルピリジニウムカチオ
ン)、N−アルコキシピリジニウムカチオン(例えば、
4−フェニル−N−メトキシ−ピリジニウムカチオ
ン)、N−ベンゾイルピリジニウムカチオン等が挙げら
れる。前記4級キノリニウムカチオンとしては、N−ア
ルキルキノリニウムカチオン(例えば、N−メチルキノ
リニウムカチオン)、N−アリールキノリニウムカチオ
ン(例えば、N−フェニルキノリニウムカチオン)等が
挙げられる。前記ホスホニウムカチオンとしては、テト
ラアリールホスホニウムカチオン(例えば、テトラフェ
ニルホスホニウムカチオン)等が挙げられる。前記ヨー
ドニウムカチオンとしては、ジアリールヨードニウムカ
チオン(例えば、ジフェニルヨードニウムカチオン)等
が挙げられる。前記スルホニウムカチオンとしては、ト
リアリールスルホニウムカチオン(例えば、トリフェニ
ルスルホニウムカチオン)等が挙げられる。
As the quaternary ammonium cation,
Examples include tetraalkylammonium cations (eg, tetramethylammonium cation, tetrabutylammonium cation), tetraarylammonium cations (eg, tetraphenylammonium cation), and the like. As the quaternary pyridinium cation,
N-alkylpyridinium cations (eg, N-methylpyridinium cations), N-arylpyridinium cations (eg, N-phenylpyridinium cations), N-alkoxypyridinium cations (eg,
4-phenyl-N-methoxy-pyridinium cation), N-benzoylpyridinium cation and the like. Examples of the quaternary quinolinium cation include an N-alkyl quinolinium cation (for example, N-methyl quinolinium cation) and an N-aryl quinolinium cation (for example, N-phenyl quinolinium cation). Can be Examples of the phosphonium cation include a tetraarylphosphonium cation (eg, a tetraphenylphosphonium cation). Examples of the iodonium cation include a diaryliodonium cation (for example, a diphenyliodonium cation). Examples of the sulfonium cation include a triarylsulfonium cation (for example, a triphenylsulfonium cation).

【0126】さらに、前記Y+の具体的な例として、特
開平9−188686号公報の段落[0020]〜[0
038]に記載の化合物等も挙げることができる。
Further, as specific examples of the above Y + , paragraphs [0020] to [0] of JP-A-9-188686.
[038].

【0127】上記に例示した各カチオン性化合物(例示
化合物)において、そのアルキル基としては、炭素数が
1〜30のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基等の無置換アルキル基や、Ra1〜Ra4が表す
前記置換アルキル基が好ましい。中でも特に、炭素数1
〜12のアルキル基が好ましい。また、上記に例示した
各カチオン性化合物において、そのアリール基として
は、例えば、フェニル基、ハロゲン原子(例えば、塩素
原子)置換フェニル基、アルキル(例えば、メチル基)
置換フェニル基、アルコキシ(例えば、メトキシ基)置
換フェニル基が好ましい。
In each of the cationic compounds (exemplary compounds) exemplified above, the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, for example, a methyl group,
Unsubstituted alkyl groups such as an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and a hexyl group, and the above-mentioned substituted alkyl groups represented by Ra 1 to Ra 4 are preferable. Among them, in particular, carbon number 1
~ 12 alkyl groups are preferred. In each of the cationic compounds exemplified above, examples of the aryl group include a phenyl group, a halogen atom (eg, a chlorine atom) -substituted phenyl group, and an alkyl (eg, a methyl group)
A substituted phenyl group and an alkoxy (for example, methoxy group) substituted phenyl group are preferred.

【0128】前記一般式(A)で表される有機ホウ素化
合物の具体例としては、米国特許第3,567,453
号明細書、同4,343,891号明細書、特開昭62
−143044号公報、特開昭62−150242号公
報、特開平9−188684号公報、特開平9−188
685号公報、特開平9−188686号公報、特開平
9−188710号公報、特公平8−9643号公報、
特開平11−269210号公報に記載されている化合
物、及び以下に例示する化合物(b−1〜33)が挙げ
られる。有機ホウ素化合物は、後述のラジカル発生剤と
併用してもよい。但し、本発明に用いられる前記有機ホ
ウ素化合物は、これに限定されるものではない。
Specific examples of the organic boron compound represented by the general formula (A) include US Pat. No. 3,567,453.
No. 4,343,891, JP-A-62
JP-A-143044, JP-A-62-150242, JP-A-9-188684, JP-A-9-188
No. 685, JP-A-9-188686, JP-A-9-188710, JP-B8-9643,
The compounds described in JP-A-11-269210 and the compounds (b-1 to 33) exemplified below are exemplified. The organic boron compound may be used in combination with a radical generator described below. However, the organic boron compound used in the present invention is not limited to this.

【0129】[0129]

【化35】 Embedded image

【0130】[0130]

【化36】 Embedded image

【0131】[0131]

【化37】 Embedded image

【0132】[0132]

【化38】 Embedded image

【0133】[0133]

【化39】 Embedded image

【0134】第1の態様で用いられる光重合開始剤にお
いて、前記一般式(A)で表される有機ホウ素化合物
は、光重合系感光性樹脂層を形成するモノマー化合物の
含有量に対して、0.01〜20重量%が好ましく、
0.1〜10重量%がより好ましい。ただし、好ましい
範囲は、併用する「光重合系感光性樹脂層を形成するモ
ノマー化合物」の種類に応じて変動するので、これに限
定されるものではない。
In the photopolymerization initiator used in the first embodiment, the organic boron compound represented by the general formula (A) is based on the content of the monomer compound forming the photopolymerizable photosensitive resin layer. 0.01-20% by weight is preferred,
0.1 to 10% by weight is more preferred. However, the preferable range varies depending on the type of the “monomer compound forming the photopolymerizable photosensitive resin layer” to be used in combination, and is not limited thereto.

【0135】第2の態様で用いられる光重合開始剤は、
前記一般式(2)で表される化合物及び、前記一般式
(2)で表される化合物と相互作用してラジカルを発生
し得る化合物(ラジカル発生剤)からなり、第3の態様
で用いられる光重合開始剤は、前記一般式(3)で表さ
れる化合物及び、前記一般式(3)で表される化合物と
相互作用してラジカルを発生し得る化合物(ラジカル発
生剤)からなる。前記ラジカル発生剤は、近傍に存在す
る前記一般式(2)又は前記一般式(3)で表される化
合物が光を吸収した場合に、該化合物と相互作用しラジ
カルを発生して、近傍に存在している光重合系感光性樹
脂層を形成するモノマー化合物の重合反応を開始させる
機能を有する。第2及び第3の態様の光重合開始剤にお
いて、前記ラジカル発生剤としては、高効率にラジカル
を発生でき、感度がより向上するという観点から、前記
一般式(A)で表される有機ホウ素化合物が好ましい。
なお、第2及び第3の態様の光重合開始剤において、ラ
ジカル発生剤として、前記一般式(A)で表される有機
ホウ素化合物を使用する場合、その含有量の好ましい範
囲は、第1の態様と同様である。
The photopolymerization initiator used in the second embodiment is
It comprises a compound represented by the general formula (2) and a compound (radical generator) capable of generating a radical by interacting with the compound represented by the general formula (2), and is used in the third embodiment. The photopolymerization initiator comprises a compound represented by the general formula (3) and a compound capable of generating a radical by interacting with the compound represented by the general formula (3) (radical generator). When the compound represented by the general formula (2) or the general formula (3) present in the vicinity absorbs light, the radical generator interacts with the compound to generate a radical, and generates a radical in the vicinity. It has a function of initiating a polymerization reaction of a monomer compound that forms an existing photopolymerizable photosensitive resin layer. In the photopolymerization initiators according to the second and third aspects, the radical generator may be an organic boron represented by the general formula (A) from the viewpoint that radicals can be generated with high efficiency and sensitivity is further improved. Compounds are preferred.
In the photopolymerization initiators of the second and third embodiments, when the organic boron compound represented by the general formula (A) is used as the radical generator, the preferred range of the content is as follows. Same as the embodiment.

【0136】前記ラジカル発生剤としては、ベンゾフェ
ノン、カンファーキノン、4,4−ビス(ジメチルアミ
ノ)ベンゾフェノン、4−メトキシ−4’−ジメチルア
ミノベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェ
ノン、4−ジメチルアミノベンゾフェノン、4−ジメチ
ルアミノアセトフェノン、ベンジルアントラキノン、2
−tert−ブチルアントラキノン、2−メチルアント
ラキノン、キサントン、チオキサントン、2−クロルチ
オキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、フル
オレノン、アクリドン、ビス(2,4,6−トリメチル
ベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド等のビス
アシルホスフィンオキサイド類、Lucirin TP
O等のアシルホスフィンオキサイド類、α−ヒドロキシ
又はα−アミノアセトフェノン類、α−ヒドロキシシク
ロアルキルフェニルケトン類、ジアルコキシアセトフェ
ノン類等の芳香族ケトン類;
Examples of the radical generator include benzophenone, camphorquinone, 4,4-bis (dimethylamino) benzophenone, 4-methoxy-4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-dimethoxybenzophenone, and 4-dimethylaminobenzophenone. , 4-dimethylaminoacetophenone, benzylanthraquinone, 2
Bisacyl such as -tert-butylanthraquinone, 2-methylanthraquinone, xanthone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, fluorenone, acridone, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide Phosphine oxides, Lucirin TP
Aromatic ketones such as acylphosphine oxides such as O, α-hydroxy or α-aminoacetophenones, α-hydroxycycloalkylphenyl ketones, and dialkoxyacetophenones;

【0137】ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベン
ゾインフェニルエーテル等のベンゾイン及びベンゾイン
エーテル類;2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ
フェニルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニ
ル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾー
ル二量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジ
フェニルイミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェ
ニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−
(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダ
ゾール二量体等の2,4,6−トリアリールイミダゾー
ル二量体、その他米国特許第3784557号、同42
52887号、同4311783号、同4459349
号、同4410621号、同4622286号等に記載
の化合物;
Benzoin and benzoin ethers such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether and benzoin phenyl ether; 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o-chlorophenyl) ) -4,5-di (m-methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (o-fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o-methoxyphenyl) -4,5- Diphenylimidazole dimer, 2-
2,4,6-triarylimidazole dimers such as (p-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, and other U.S. Patent Nos. 3,784,557 and 42.
Nos. 52887, 4311783, 4459349
Nos. 4,410,621 and 4,622,286;

【0138】四臭化炭素、フェニルトリブロモメチルス
ルホン、フェニルトリクロロメチルケトン等のポリハロ
ゲン化合物;特開昭59−133428号、特公昭57
−1819号、特公昭57−6096号、米国特許第3
615455号に記載の化合物;
Polyhalogen compounds such as carbon tetrabromide, phenyltribromomethylsulfone and phenyltrichloromethylketone; JP-A-59-133428, JP-B-57
No.-1819, JP-B-57-6096, U.S. Pat.
A compound described in 615455;

【0139】2,4,6−トリス(トリクロロメチル)
−S−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビス(トリ
クロロメチル)−S−トリアジン、2−アミノ−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2−
(P−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−S−トリアジン等の特開昭58−29803
号記載のトリハロゲン置換メチル基を有するS−トリア
ジン誘導体;
2,4,6-tris (trichloromethyl)
-S-triazine, 2-methoxy-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2-amino-4,6
-Bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2-
JP-A-58-29803 such as (P-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine
S-triazine derivatives having a trihalogen-substituted methyl group described in (1);

【0140】メチルエチルケトンパーオキサイド、シク
ロヘキサノンパーオキサイド、3,3,5−トリメチル
シクロヘキサノンパーオキサイド、ベンゾイルパーオキ
サイド、ジターシャリ−ブチルジパーオキシイソフタレ
ート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパー
オキシ)ヘキサン、ターシャリ−ブチルパーオキシベン
ゾエート、a,a’−ビス(ターシャリ−ブチルパーオ
キシイソプロピル)ベンゼン、ジクミルパーオキサイ
ド、3,3’,4,4’−テトラ−(ターシャリイブチ
ルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン等の特開昭5
9−189340号記載の有機過酸化物;
Methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, 3,3,5-trimethylcyclohexanone peroxide, benzoyl peroxide, di-tert-butyldiperoxyisophthalate, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) ) Hexane, tertiary-butylperoxybenzoate, a, a'-bis (tertiary-butylperoxyisopropyl) benzene, dicumyl peroxide, 3,3 ', 4,4'-tetra- (tertiary-butylperoxycarbonyl) ) Japanese Patent Application Laid-Open No.
Organic peroxides described in No. 9-189340;

【0141】米国特許第4743530号に記載のアジ
ニウム塩;既述の有機ホウ素化合物;フェニルグリオキ
サル酸メチルエステル等のフェニルグリオキサル酸エス
テル類;ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1
−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピ
ロール−1−イル)−フェニル)チタニウム等のチタノ
セン類;η5−シクロペンタジエニル−η6−クメニル−
アイアン(1+)−ヘキサフルオロホスフェイト(1
−)等の鉄アレン錯体;ジフェニルヨードニウム塩等の
ジアリールヨードニウム塩類;トリフェニルスルホニウ
ム塩等のトリアリールスルホニウム塩類等が好適に挙げ
られる。
Azinium salts described in US Pat. No. 4,743,530; organic boron compounds described above; phenylglyoxalic esters such as phenylglyoxalic acid methyl ester; bis (η 5 -2,4-cyclopentadiene- 1
- yl) - bis (2,6-difluoro-3-(1H-pyrrol-1-yl) - phenyl) titanocene such as titanium; eta 5 - cyclopentadienyl eta 6 - cumenyl -
Iron (1 +)-hexafluorophosphate (1
-) And the like; diaryliodonium salts such as a diphenyliodonium salt; and triarylsulfonium salts such as a triphenylsulfonium salt.

【0142】前記ラジカル発生剤のより詳細な化合物
例、及びその他別種のラジカル発生剤の例としては、特
開平10−45816号公報の段落[0067]〜[0
132]に記載のものを挙げることができる。
For more detailed examples of the radical generator and other examples of the radical generator, refer to paragraphs [0067] to [0] of JP-A-10-45816.
132].

【0143】また、前記ラジカル発生剤としては、二種
以上の化合物の組合わせからなる材料を使用することも
できる。例えば、2,4,5−トリアリールイミダゾー
ル二量体とメルカプトベンズオキサゾール等との組合
せ、米国特許第3427161号明細書に記載の4,
4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノンとベンゾ
フェノンとベンゾインメチルエーテルとの組合せ、米国
特許第4239850号明細書に記載のベンゾイル−N
−メチルナフトチアゾリンと2,4−ビス(トリクロロ
メチル)−6−(4’−メトキシフェニル)−トリアゾ
ールとの組合せ、特開昭57−23602号公報に記載
のジアルキルアミノ安息香酸エステルとジメチルチオキ
サントンとの組合せ、特開昭59−78339号公報に
記載の4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノ
ンとベンゾフェノンとポリハロゲン化メチル化合物との
三種組合わせ、等が挙げられる。
Further, as the radical generator, a material comprising a combination of two or more compounds can be used. For example, a combination of 2,4,5-triarylimidazole dimer with mercaptobenzoxazole and the like, 4,4 described in U.S. Pat. No. 3,427,161.
Combination of 4'-bis (dimethylamino) benzophenone, benzophenone and benzoin methyl ether, benzoyl-N described in U.S. Pat. No. 4,239,850.
Combination of -methylnaphthothiazoline and 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4'-methoxyphenyl) -triazole, dialkylaminobenzoate and dimethylthioxanthone described in JP-A-57-23602. And three combinations of 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, benzophenone and a polymethyl halide compound described in JP-A-59-78339.

【0144】二種以上を組合せてなるラジカル発生剤の
場合、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノ
ンとベンゾフェノンとの組合せ、2,4−ジエチルチオ
キサントンと4−ジメチルアミノ安息香酸エチルとの組
合せ、又は4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフ
ェノンと2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体
との組合せを用いるのが好ましい。
In the case of a radical generator comprising a combination of two or more kinds, a combination of 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone and benzophenone, a combination of 2,4-diethylthioxanthone and ethyl 4-dimethylaminobenzoate, Alternatively, it is preferable to use a combination of 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone and 2,4,5-triarylimidazole dimer.

【0145】前記ラジカル発生剤のうち、露光領域に、
色素と相互作用し効果的にラジカルを発生させることが
でき、より高感度化し得る点で、有機ホウ素化合物、ジ
アリールヨードニウム塩、鉄アレン錯体、トリハロゲン
置換メチル基を有するS−トリアジン誘導体、有機過酸
化物、チタノセン、2,4,5−トリアリールイミダゾ
ール二量体、又はアジニウム塩化合物が好ましく、有機
ホウ素化合物は特に好ましい。該有機ホウ素化合物は、
分光増感化合物として分光増感色素を使用した場合で
も、光照射して画像定着する際に共存する分光増感色素
を良好に消色できる点で好ましい。また、該有機ホウ素
化合物は、前述のラジカル発生剤と併用してもよい。
Of the above radical generators,
Organic boron compounds, diaryliodonium salts, iron arene complexes, S-triazine derivatives having a trihalogen-substituted methyl group, organic peroxides, Oxides, titanocene, 2,4,5-triarylimidazole dimer, or azinium salt compounds are preferred, and organoboron compounds are particularly preferred. The organoboron compound is
Even when a spectral sensitizing dye is used as the spectral sensitizing compound, it is preferable in that the coexisting spectral sensitizing dye can be satisfactorily decolored when the image is fixed by light irradiation. The organic boron compound may be used in combination with the above-mentioned radical generator.

【0146】有機ホウ素化合物としては、前記一般式
(A)で表される化合物、及び「機能性色素の化学」
(1981年、CMC出版社、p.393〜p.41
6)や「色材」(60〔4〕212−224(198
7))等に記載のカチオン性色素を、カチオン部として
構造内に有する分光増感色素系有機ホウ素化合物も挙げ
られる。前記分光増感色素系有機ホウ素化合物として
は、特開昭62−143044号、特開平1−1382
04号、特表平6−505287号、特開平4−261
406号等に記載の化合物が挙げられる。
Examples of the organic boron compound include a compound represented by the above general formula (A) and “Functional dye chemistry”.
(1981, CMC Publishing Co., pp. 393-41
6) and “color materials” (60 [4] 212-224 (198
The spectral sensitizing dye-based organic boron compound having the cationic dye described in 7)) or the like as a cation part in the structure is also included. Examples of the spectral sensitizing dye-based organic boron compounds include JP-A-62-143044 and JP-A-1-1382.
No. 04, JP-A-6-505287, JP-A-4-261
No. 406 and the like.

【0147】前記分光増感色素系有機ホウ素化合物のカ
チオン部を構成している色素としては、300nm以上
の波長領域、好ましくは400〜1100nmの波長領
域に最大吸収波長を有するカチオン性色素を用いること
ができる。中でも、カチオン性のメチン色素、ポリメチ
ン色素、トリアリールメタン色素、インドリン色素、ア
ジン色素、キサンテン色素、シアニン色素、ヘミシアニ
ン色素、ローダミン色素、アゾメチン色素、オキサジン
色素又はアクリジン色素等が好ましく、カチオン性のシ
アニン色素、ヘミシアニン色素、ローダミン色素又はア
ゾメチン色素がより好ましい。
As the dye constituting the cation portion of the spectral sensitizing dye-based organic boron compound, a cationic dye having a maximum absorption wavelength in a wavelength region of 300 nm or more, preferably 400 to 1100 nm is used. Can be. Among them, cationic methine dye, polymethine dye, triarylmethane dye, indoline dye, azine dye, xanthene dye, cyanine dye, hemicyanine dye, rhodamine dye, azomethine dye, oxazine dye or acridine dye are preferable, and cationic cyanine dye is preferable. Dyes, hemicyanine dyes, rhodamine dyes or azomethine dyes are more preferred.

【0148】第2及び第3の態様に用いられる光重合開
始剤において、前記ラジカル発生剤の含有量としては、
前記第1の態様の光重合開始剤における前記一般式
(A)で表される有機ホウ素化合物の場合と同様であ
り、また、その好ましい範囲は、光重合系感光性樹脂層
を形成するモノマー化合物の種類に応じて変動するの
で、これに限定されるものではない。
In the photopolymerization initiator used in the second and third embodiments, the content of the radical generator is as follows.
The same as the case of the organoboron compound represented by the general formula (A) in the photopolymerization initiator of the first embodiment, and a preferable range thereof is a monomer compound which forms a photopolymerization photosensitive resin layer. However, the present invention is not limited to this, because it varies depending on the type of the data.

【0149】前記光重合系感光性樹脂層における光重合
開始剤の含有量は、光重合系感光性樹脂層のモノマ−化
合物の含有量に対して、0.01〜20重量%が好まし
く、0.1〜15重量%がより好ましく、0.5〜10
重量%が特に好ましい。光重合開始剤の含有量が、0.
01重量%未満では感度が不足し、20重量%を越える
と非画像部の白色度が低下する。また、使用する全光重
合開始剤のうち、光重合反応に必要な分光増感色素/ボ
レート化合物の比(モル比で1/1)に加え、さらに層
内に残存する分光増感色素を十分に消色するのに必要な
量のボレート化合物を添加することが、十分な高感度化
と消色性能を得る点から、特に好ましい。即ち、分光増
感色素/ボレート化合物の比は、1/1〜1/50の範
囲で使用することが好ましく、1/1.2〜1/30の
範囲で使用することがより好ましく、1/1.2〜1/
20の範囲で使用することが、最も好ましい。一方、分
光増感色素/ボレート化合物の比が、1/1未満では、
十分な重合反応性と消色性を得ることができず、1/5
0を越えると、塗布適性が劣化するため好ましくない。
The content of the photopolymerization initiator in the photopolymerizable photosensitive resin layer is preferably 0.01 to 20% by weight based on the content of the monomer compound in the photopolymerizable photosensitive resin layer. 0.1 to 15% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight.
% By weight is particularly preferred. When the content of the photopolymerization initiator is 0.
If it is less than 01% by weight, the sensitivity is insufficient, and if it exceeds 20% by weight, the whiteness of the non-image area is reduced. In addition, of all the photopolymerization initiators used, in addition to the spectral sensitizing dye / borate compound ratio (1/1 in molar ratio) necessary for the photopolymerization reaction, the spectral sensitizing dye remaining in the layer was sufficiently removed. It is particularly preferable to add a borate compound in an amount necessary for decoloring from the viewpoint of obtaining sufficiently high sensitivity and decoloring performance. That is, the ratio of spectral sensitizing dye / borate compound is preferably used in the range of 1/1 to 1/50, more preferably in the range of 1/1. 1.2-1 /
Most preferably, it is used in the range of 20. On the other hand, if the ratio of spectral sensitizing dye / borate compound is less than 1/1,
Sufficient polymerization reactivity and decolorability could not be obtained.
If it exceeds 0, the coating suitability is undesirably deteriorated.

【0150】−その他の成分− 前記光重合系感光性樹脂層には、前記モノマー化合物及
び前記光重合開始剤以外に、その他の成分が含有されて
いてもよい。その他の成分としては、重合を促進するた
めの助剤として還元剤、例えば酸素除去剤(oxyge
n scavenger)及び活性水素ドナーの連鎖移
動剤、さらに、連鎖移動的に重合を促進するその他の化
合物(重合促進剤)を挙げることができる。前記酸素除
去剤としては、ホスフィン、ホスホネート、ホスファイ
ト、第一錫塩、及び酸素により容易に酸化されるその他
の化合物が好ましく、その中でも、N−フェニルグリシ
ン、トリメチルバルビツール酸、N,N−ジメチル−
2,6−ジイソプロピルアニリン、N,N,N,−2,
4,6−ペンタメチルアニリン等がより好ましい。ま
た、前記重合促進剤としては、チオール類、チオケトン
類、トリハロメチル化合物、ロフインダイマー化合物、
ヨードニウム塩類、スルホニウム塩類、アジニウム塩
類、有機過酸化物等が好ましい。
-Other Components- The photopolymerizable photosensitive resin layer may contain other components in addition to the monomer compound and the photopolymerization initiator. Other components include a reducing agent such as an oxygen scavenger (oxyge) as an auxiliary for accelerating the polymerization.
n scavenger) and a chain transfer agent of an active hydrogen donor, and other compounds that promote polymerization by chain transfer (polymerization accelerator). As the oxygen scavenger, phosphine, phosphonate, phosphite, stannous salt, and other compounds easily oxidized by oxygen are preferable. Among them, N-phenylglycine, trimethylbarbituric acid, N, N- Dimethyl-
2,6-diisopropylaniline, N, N, N, -2,
4,6-pentamethylaniline and the like are more preferred. Further, as the polymerization accelerator, thiols, thioketones, trihalomethyl compounds, lofin dimer compounds,
Preferred are iodonium salts, sulfonium salts, azinium salts, organic peroxides and the like.

【0151】さらに、その他の成分としては、熱重合禁
止剤が挙げられる。熱重合禁止剤としては、例えば、p
−メトキシフェノール、ハイドロキノン、アルキル又は
アリール置換ハイドロキノン、t−ブチルカテコール、
ピロガロール、ナフチルアミン、β−ナフトール、フェ
ナチアジン、ピリジン、ニトロベンゼン、o−トルキノ
ン、アリールホスファイト等が好適に挙げられるが、こ
れらに何ら限定されるものではない。
Further, other components include a thermal polymerization inhibitor. Examples of the thermal polymerization inhibitor include, for example, p
-Methoxyphenol, hydroquinone, alkyl or aryl substituted hydroquinone, t-butyl catechol,
Suitable examples include pyrogallol, naphthylamine, β-naphthol, phenathiazine, pyridine, nitrobenzene, o-toluquinone, aryl phosphite, and the like, but are not limited thereto.

【0152】<有機高分子重合体層(色材層)>感光性
転写シートにおいて、色材(着色物質)を使用する場合
には、色材を前記光重合系感光性樹脂層に含有させる態
様、又は有機高分子重合体層(色材層)を別に設けて、
該色材層中に色材を含有させる態様が好ましい。前記有
機高分子重合体層(色材層)としては、前記光重合系感
光性樹脂層の上部及び下部のどちらにでも設けることが
できるが、画像露光工程における光重合系感光性樹脂層
の感度の観点から、光重合系感光性樹脂層の下部、即
ち、前記剥離層と前記光重合系感光性樹脂層との間に、
有機高分子重合体層(色材層)を設けるのがより好まし
い。また、前記色材としては、公知の顔料及び染料を用
いるのが好ましいが、印刷用の色校正としては、カラー
インキと同等の色相をもつ有機顔料(イエロー、マゼン
タ、シアン、ブラック)を用いるのがより好ましい。従
って、前記剥離層と前記光重合系感光性樹脂層との間
に、有機顔料を含有する有機高分子重合体層(色材層)
を設ける態様、及び、光重合系感光性樹脂層に有機顔料
を含有させる態様が、特に好ましい。なお、有機顔料及
び有機高分子重合体層(色材層)の詳細については、例
えば、特開昭59−97140号公報等に開示されてい
る。
<Organic High Polymer Layer (Coloring Material Layer)> In the case where a coloring material (coloring substance) is used in the photosensitive transfer sheet, the coloring material is contained in the photopolymerizable photosensitive resin layer. Or an organic polymer layer (color material layer) is provided separately,
An embodiment in which a coloring material is contained in the coloring material layer is preferable. The organic high-molecular polymer layer (color material layer) can be provided on either the upper part or the lower part of the photopolymerizable photosensitive resin layer. From the viewpoint of the lower part of the photopolymerizable photosensitive resin layer, that is, between the release layer and the photopolymerizable photosensitive resin layer,
It is more preferable to provide an organic polymer layer (color material layer). As the color material, it is preferable to use known pigments and dyes. However, as a color proof for printing, an organic pigment (yellow, magenta, cyan, black) having a hue equivalent to that of the color ink is used. Is more preferred. Therefore, an organic high-molecular polymer layer containing an organic pigment (color material layer) is provided between the release layer and the photopolymerizable photosensitive resin layer.
And an embodiment in which an organic pigment is contained in the photopolymerizable photosensitive resin layer. The details of the organic pigment and the organic polymer layer (color material layer) are disclosed in, for example, JP-A-59-97140.

【0153】<保護層>さらに、前記光重合系感光性樹
脂層の上には、保護層を設けるのが好ましい。前記保護
層は、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニ
ル、メチルビニルエーテル・無水マレイン酸共重合体、
ポリビニルピロリドン、ゼラチン、アラビアゴム等の高
分子物質の溶液を、塗布・乾燥することにより形成する
ことができる。
<Protective Layer> It is preferable to provide a protective layer on the photopolymerizable photosensitive resin layer. The protective layer is, for example, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, methyl vinyl ether / maleic anhydride copolymer,
It can be formed by applying and drying a solution of a polymer substance such as polyvinylpyrrolidone, gelatin, and gum arabic.

【0154】[0154]

【実施例】次に本発明の実施例及び比較例を記載する。
ただし、以下の各例は本発明を制限するものでない。 [実施例1]ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚
さ:100μm)を支持体として、この上に下記組成の
剥離層用塗布液を塗布して、乾燥膜厚が0.5μmの剥
離層を設けた。
Next, examples and comparative examples of the present invention will be described.
However, the following examples do not limit the present invention. Example 1 A polyethylene terephthalate film (thickness: 100 μm) was used as a support, and a coating liquid for a release layer having the following composition was applied thereon to form a release layer having a dry film thickness of 0.5 μm.

【0155】 [剥離層用塗布液] アルコール可溶性ポリアミド 5.4g (CM−8000、粘度:23cps、東レ株式会社製) ポリヒドロキシスチレン 3.6g (マルカリンカーM、平均分子量:5000、丸善石油株式会社製) メタノール 400g プロピレングリコールモノメチルエーテル 100g[Coating Solution for Release Layer] Alcohol-soluble polyamide 5.4 g (CM-8000, viscosity: 23 cps, manufactured by Toray Industries, Inc.) Polyhydroxystyrene 3.6 g (Marcalinker M, average molecular weight: 5000, Maruzen Oil Co., Ltd.) 400 g of methanol 100 g of propylene glycol monomethyl ether

【0156】次に、光重合系感光性樹脂層形成用塗布液
として、下記組成を有するイエロー(Y)、マゼンタ
(M),シアン(C),ブラック(K)の四色の感光性
塗布液をそれぞれ調製した。
Next, four-color photosensitive coating liquids of yellow (Y), magenta (M), cyan (C), and black (K) having the following compositions were used as coating liquids for forming a photopolymerizable photosensitive resin layer. Was prepared respectively.

【0157】 [光重合系感光性樹脂層用塗布液] <イエロー感光性塗布液> ベンジルメタクリレート・メタクリル酸共重合体 60g (モル比:73/27、粘度η:0.12) ペンタエリスリトールテトラアクリレート 43.2g 一般式(1)〜(4)で表される化合物の例示化合物30 0.432g 有機ホウ素化合物(例示化合物b−10) 2.592g セイカファーストイエローH−7055 9.4g (大日精化工業株式会社製) プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 560g メチルエチルケトン 280g フッ素系界面活性剤 1g (フロラードFC−430、住友スリーエム株式会社製)[Coating solution for photopolymerizable photosensitive resin layer] <Yellow photosensitive coating solution> Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer 60 g (molar ratio: 73/27, viscosity η: 0.12) pentaerythritol tetraacrylate 43.2 g Exemplified compound 30 of compounds represented by general formulas (1) to (4) 30 0.432 g Organoboron compound (Exemplified compound b-10) 2.592 g Seika First Yellow H-7055 9.4 g (Dainichi Seika Industrial Co., Ltd.) Propylene glycol monomethyl ether acetate 560 g Methyl ethyl ketone 280 g Fluorinated surfactant 1 g

【0158】 <マゼンタ感光塗布液> ベンジルメタクリレート・メタクリル酸共重合体 60g (モル比:73/27、粘度η:0.12) ペンタエリスリトールテトラアクリレート 43.2g 一般式(1)〜(4)で表される化合物の例示化合物30 0.432g 有機ホウ素化合物(例示化合物b−10) 2.592g セイカファーストカーミン1483 5.2g (大日精化工業株式会社製) プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 560g メチルエチルケトン 280g フッ素系界面活性剤 1g (フロラードFC−430、住友スリーエム株式会社製)<Magenta Photosensitive Coating Solution> Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer 60 g (molar ratio: 73/27, viscosity η: 0.12) pentaerythritol tetraacrylate 43.2 g Formulas (1) to (4) Exemplified compound 30 represented by the compound 30 0.432 g Organoboron compound (Exemplified compound b-10) 2.592 g Seika Fast Carmine 1483 5.2 g (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) Propylene glycol monomethyl ether acetate 560 g Methyl ethyl ketone 280 g Fluorine-based Surfactant 1g (Florade FC-430, manufactured by Sumitomo 3M Limited)

【0159】 <シアン感光塗布液> ベンジルメタクリレート・メタクリル酸共重合体 60g (モル比:73/27、粘度η:0.12) ペンタエリスリトールテトラアクリレート 43.2g 一般式(1)〜(4)で表される化合物の例示化合物30 0.432g 有機ホウ素化合物(例示化合物b−10) 2.592g シアニンブルー4920 5.6g (大日精化工業株式会社製) プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 560g メチルエチルケトン 280g フッ素系界面活性剤 1g (フロラードFC−430、住友スリーエム株式会社製)<Cyan photosensitive coating solution> Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer 60 g (molar ratio: 73/27, viscosity η: 0.12) pentaerythritol tetraacrylate 43.2 g Formulas (1) to (4) Exemplified compound 30 of the represented compound 30 0.432 g Organic boron compound (Exemplified compound b-10) 2.592 g Cyanine blue 4920 5.6 g (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) Propylene glycol monomethyl ether acetate 560 g Methyl ethyl ketone 280 g Fluorine-based interface Activator 1g (Florade FC-430, manufactured by Sumitomo 3M Limited)

【0160】 <ブラック感光塗布液> ベンジルメタクリレート・メタクリル酸共重合体 60g (モル比:73/27、粘度η:0.12) ペンタエリスリトールテトラアクリレート 43.2g 一般式(1)〜(4)で表される化合物の例示化合物30 0.432g 有機ホウ素化合物(例示化合物b−10) 2.592g 三菱カーボンブラックMA−100 6.6g プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 560g メチルエチルケトン 280g フッ素系界面活性剤 1g (フロラードFC−430、住友スリーエム株式会社製)<Black photosensitive coating solution> Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer 60 g (molar ratio: 73/27, viscosity η: 0.12) pentaerythritol tetraacrylate 43.2 g Formulas (1) to (4) Exemplified compound 30 of the represented compound 30 0.432 g Organic boron compound (Exemplified compound b-10) 2.592 g Mitsubishi carbon black MA-100 6.6 g Propylene glycol monomethyl ether acetate 560 g Methyl ethyl ketone 280 g Fluorosurfactant 1 g (Fluorard FC -430, manufactured by Sumitomo 3M Limited)

【0161】剥離層の付設された四枚の支持体上に、こ
れら四色の感光塗布液をそれぞれ塗布、乾燥して、乾燥
膜厚が2.4μmの光重合系感光性樹脂層を設けた。別
に、下記組成の保護層形成用の塗布液を調製し、この塗
布液を各色の光重合系感光性樹脂層の上にそれぞれ塗
布、乾燥して、乾燥膜厚が1.5μmの保護層を設け
た。
Each of the four color photosensitive coating solutions was coated on four substrates provided with a release layer and dried to form a photopolymerizable photosensitive resin layer having a dry film thickness of 2.4 μm. . Separately, a coating solution for forming a protective layer having the following composition was prepared, and this coating solution was applied onto the photopolymerizable photosensitive resin layers of each color and dried to form a protective layer having a dry film thickness of 1.5 μm. Provided.

【0162】 [保護層用塗布液] ポリビニルアルコール 60g (GL−05,日本合成化学工業株式会社製) 水 970g メタノール 30g[Coating Liquid for Protective Layer] Polyvinyl alcohol 60 g (GL-05, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) Water 970 g Methanol 30 g

【0163】このようにして、順に支持体、剥離層、色
素含有有機高分子樹脂層、光重合系感光性樹脂層及び保
護層からなる四色の感光性転写シート(ネガ型着色感光
シート)を製造した。
In this manner, a four-color photosensitive transfer sheet (negative-type colored photosensitive sheet) comprising a support, a release layer, a dye-containing organic polymer resin layer, a photopolymerizable photosensitive resin layer, and a protective layer in this order. Manufactured.

【0164】得られた感光性転写シートを用いて、次に
示すように画像形成を行った。四色各々の感光性転写シ
ートを、日亜化学工業NLHV500A半導体レーザー
を使用し標準発進波長405nm、最小波長395n
m、最大波長415nm光出力10mWを組み込んだ露
光装置にてフィルム面(感光性転写シートの露光面)が
30℃になるように保温し、露光後、カラーアート用現
像液CA−1(商品名:富士写真フィルム株式会社製)
の5倍希釈液により、31℃で22秒間自動現像(カラ
ーアートプロセッサーCA−600PIII(商品名:
富士写真フィルム株式会社製を使用)を行なった。この
ようにして原画情報を忠実に再現した各四色の感光性転
写シートが得られた。別に、厚みが100μmの二軸延
伸ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、下記処方
の塗布液を調整し、乾燥膜厚20μmとなるように塗布
形成し、受像シートを作製した。
Using the resulting photosensitive transfer sheet, an image was formed as follows. The photosensitive transfer sheet of each of the four colors was subjected to a standard launch wavelength of 405 nm and a minimum wavelength of 395 n using a Nichia NLHV500A semiconductor laser.
m, a maximum wavelength of 415 nm, and an exposure device incorporating a light output of 10 mW, the temperature of the film surface (exposed surface of the photosensitive transfer sheet) is maintained at 30 ° C., and after exposure, a color art developer CA-1 (trade name) : Fuji Photo Film Co., Ltd.)
Automatic development at 31 ° C. for 22 seconds using a 5-fold dilution of (Color Art Processor CA-600PIII (trade name:
Fuji Photo Film Co., Ltd.). In this way, photosensitive transfer sheets of four colors for each of which faithfully reproduced the original image information were obtained. Separately, a coating solution having the following formulation was prepared on a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm, and applied to form a dry film thickness of 20 μm to prepare an image receiving sheet.

【0165】 [受像層用塗布液] メタクリル酸メチルポリマー 90g (平均分子量:100,000、和光純薬株式会社製) ペンタエリスリトールテトラアクリレート 90g 2,2、−ジメトキシー2−フェニルアセトフェノン 3.18g P−メトキシフェノール 0.09g メチルエチルケトン 220g[Coating Solution for Image-Receiving Layer] Methyl methacrylate polymer 90 g (average molecular weight: 100,000, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) Pentaerythritol tetraacrylate 90 g 2,2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone 3.18 g P- Methoxyphenol 0.09 g Methyl ethyl ketone 220 g

【0166】次に、一色目としてブラックの感光性転写
シートの画像側を、受像シート材料の膜面と接するよう
に重ね、カラーアート転写機CA−600TIII(富
士写真フィルム株式会社製)を用いてラミネートを行
い、しかるのち感光性転写シートの支持体を剥離し、受
像シート上にブラックの画像を転写した。次いで残りの
三色の感光性転写シートについて、位置を合わせながら
順次転写を行い、四色の網点画像が転写形成された受像
シートを得た。
Next, the image side of the black photosensitive transfer sheet as the first color was overlaid so as to be in contact with the film surface of the image receiving sheet material, and the color art transfer machine CA-600TIII (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used. Lamination was performed, and then the support of the photosensitive transfer sheet was peeled off, and a black image was transferred onto the image receiving sheet. Next, the remaining three-color photosensitive transfer sheets were sequentially transferred while adjusting the positions, to obtain an image receiving sheet on which four-color halftone images were transferred and formed.

【0167】次に、四色画像が転写された受像シートと
アート紙(最終支持体)を重ねて、上記転写機でラミネ
ートを行い、その後P−607FW明室プリンター(大
日本スクリーン製造株式会社製、1kW超高圧水銀灯使
用)で受像シート側から120秒間前面露光し、次いで
受像シートの支持体を取り除き、アート紙上に最終画像
(カラープルーフ)を得た。
Next, the image receiving sheet to which the four-color image has been transferred and the art paper (final support) are overlaid and laminated by the above-described transfer machine, and then a P-607FW light room printer (manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.) (Using a 1 kW ultra-high pressure mercury lamp) from the image receiving sheet side for 120 seconds, and then the support of the image receiving sheet was removed to obtain a final image (color proof) on art paper.

【0168】<評価>得られた画像は、目視にて評価し
たところ色再現性・カブリ・印刷物近似性・網点再現性
に優れていた。また、感度ついて評価したところ、後述
する露光時の温度が低い場合(比較例1〜2)と比較
し、2倍の感度を得ることができた。なお、感度の評価
は、以下に示すようにして行った。
<Evaluation> The obtained image was evaluated by visual observation, and was found to be excellent in color reproducibility, fog, printed matter approximation, and halftone dot reproducibility. Further, when the sensitivity was evaluated, it was possible to obtain twice the sensitivity as compared with the case where the temperature at the time of exposure described later is low (Comparative Examples 1 and 2). The evaluation of the sensitivity was performed as described below.

【0169】−感度試験− 前記露光後、現像して画像を得た後の感光性転写シート
は、ステップウェッジの高い段数に相当する領域ほど露
光量が少なくなるため、該領域の光重合系感光性樹脂層
は現像液中に溶出し、剥離層面が現れることになる。そ
こで、感光性転写シートについて、光重合系感光性樹脂
層が完全に溶出した領域を調べ、最も露光量の少なかっ
た領域に相当するステップウェッジの段数(ベタ段数)
により評価した。なお、段数が高いほど感光性転写シー
トの感度が高いことを意味する。
-Sensitivity test- The photosensitive transfer sheet after the exposure and development to obtain an image has a smaller exposure amount in an area corresponding to a higher step number of step wedges. The conductive resin layer is eluted in the developing solution, and the release layer surface appears. Therefore, in the photosensitive transfer sheet, an area where the photopolymerizable photosensitive resin layer is completely eluted is examined, and the number of steps of the step wedge (the number of solid steps) corresponding to the area where the amount of exposure is the least.
Was evaluated. The higher the number of steps, the higher the sensitivity of the photosensitive transfer sheet.

【0170】[比較例1]画像形成において、感光性転
写シートの露光時の温度を20℃とした以外は、実施例
1と同様にして画像を得て、評価したところ、前述した
露光時の温度が高い場合(実施例1)と比較し、1/2
倍の感度しか得ることができかなかった。
[Comparative Example 1] In forming an image, an image was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the temperature at the time of exposure of the photosensitive transfer sheet was set at 20 ° C. 1/2 of the case where the temperature is high (Example 1)
Only twice the sensitivity could be obtained.

【0171】[比較例2]画像形成において、感光性転
写シートの露光時の温度を25℃とした以外は、実施例
1と同様にして画像を得て、評価したところ、前述した
露光時の温度が高い場合(実施例1)と比較し、1/2
倍の感度しか得ることができかなかった。
[Comparative Example 2] In image formation, an image was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the temperature at the time of exposure of the photosensitive transfer sheet was set at 25 ° C. 1/2 of the case where the temperature is high (Example 1)
Only twice the sensitivity could be obtained.

【0172】実施例及び比較例から、本発明の画像形成
方法は、特定の重合開始剤を含む光重合系感光性樹脂層
を有する感光性転写シートを用い、且つ露光時の温度を
30以上とすることで、高感度化を図れることがわか
る。また、特定の重合開始剤を含む光重合系感光性樹脂
層を有する感光性転写シートを用いることで、350n
m〜450nmの波長に対し高い感度を有し、500n
m付近の波長の光に対しては影響を受けない画像形成方
法であることもわかる。さらに、本発明の画像形成方法
は、InGaNの様な短波長の半導体レーザによる走査
露光に適した、より高い感度を有し、かつ色再現性・カ
ブリ・印刷物近似性・網点再現性に優れた画像形成方法
であることがわかる。また、本発明の画像形成方法にお
ける感光性転写シートは、特定の重合開始剤を含む光重
合系感光性樹脂層を有するので、黄色灯下でのカブリ、
取り扱い作業性、保存安定性等が大幅に改善された走査
露光用感光性転写シートであった。
From the examples and comparative examples, the image forming method of the present invention uses a photosensitive transfer sheet having a photopolymerizable photosensitive resin layer containing a specific polymerization initiator, and sets the temperature at the time of exposure to 30 or more. It can be seen that the sensitivity can be increased by performing the above. Further, by using a photosensitive transfer sheet having a photopolymerizable photosensitive resin layer containing a specific polymerization initiator, 350 n
High sensitivity to wavelengths from m to 450 nm, 500 n
It can also be seen that the image forming method is not affected by light having a wavelength near m. Further, the image forming method of the present invention has higher sensitivity suitable for scanning exposure with a short-wavelength semiconductor laser such as InGaN, and has excellent color reproducibility, fogging, printed matter approximation, and halftone dot reproducibility. It can be seen that this is an image forming method. Further, since the photosensitive transfer sheet in the image forming method of the present invention has a photopolymerizable photosensitive resin layer containing a specific polymerization initiator, fog under a yellow light,
This was a photosensitive transfer sheet for scanning exposure, in which handling workability, storage stability and the like were significantly improved.

【0173】[0173]

【発明の効果】以上、本発明によれば、DDCPシステ
ムに適合した走査露光用感光性転写シート等の感光層に
用いられる感光性転写シートを用い、高感度化を図った
画像形成方法を提供することができる。また、本発明に
よれば、露光及び現像することにより感光性転写シート
上に画像を形成し、一旦、光重合性画像受容層を設けた
シート上に各色の画像を剥離層を伴って転写し、その後
永久支持体上に再転写し、更に全面露光により光重合性
画像受容層を固める操作を行なったとき、画像転写した
非画像部に黄着色が発生することの無い感光性転写シー
トを用いて、高感度化を図った画像形成方法を提供する
ことができる。
As described above, according to the present invention, there is provided an image forming method which achieves high sensitivity by using a photosensitive transfer sheet used for a photosensitive layer such as a photosensitive transfer sheet for scanning exposure adapted to a DDCP system. can do. Further, according to the present invention, an image is formed on a photosensitive transfer sheet by exposing and developing, and once an image of each color is transferred with a release layer onto a sheet provided with a photopolymerizable image receiving layer. Then, when re-transferred to a permanent support, and further performed an operation of solidifying the photopolymerizable image-receiving layer by overall exposure, a photosensitive transfer sheet that does not cause yellowing in the non-image area where the image has been transferred is used. Thus, an image forming method with high sensitivity can be provided.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤本 進二 静岡県富士宮市大中里200番地 富士写真 フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA01 AA04 AB09 AC08 AD01 AD03 BC13 BC42 BH02 CA39 CA41 CC11 CC13 DA31 DA33 FA03 FA10 FA24 FA30 2H097 BA02 CA17 LA20  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Shinji Fujimoto 200 Onakazato, Fujinomiya City, Shizuoka Prefecture F-Film Co., Ltd. F-term (reference) 2H025 AA01 AA04 AB09 AC08 AD01 AD03 BC13 BC42 BH02 CA39 CA41 CC11 CC13 DA31 DA33 FA03 FA10 FA24 FA30 2H097 BA02 CA17 LA20

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に、有機重合体よりなる剥離
層、及び光重合開始剤を含有する光重合系感光性樹脂層
をこの順に有する感光性転写シートを用いて、露光、現
像して画像を形成する画像形成方法において、 前記感光性転写シートにおける光重合系感光性樹脂層
に、光重合開始剤として下記一般式(1)で表わされる
化合物と下記一般式(A)で表わされる有機ホウ素化合
物とを含有してなり、 露光時、前記感光性転写シートの少なくとも光重合系感
光性樹脂層の温度を、30℃以上にすることを特徴とす
る画像形成方法。 【化1】 前記一般式(1)において、Q1〜Q3は、各々独立し
て、酸素原子又は硫黄原子を表す。R1及びR2は、各々
独立して、水素原子、脂肪族基、芳香族基、又は複素環
基を表す。Z1及びZ2は、各々独立して、前記一般式
(1)で表される化合物が色素になるために必要な置換
基を表す。 【化2】 前記一般式(A)において、Ra1、Ra2、及びRa3
は、各々独立して、脂肪族基、芳香族基、複素環基、又
は−SiRa5Ra6Ra7を表す。Ra5、Ra 6及びR
7は、各々独立して、脂肪族基又は芳香族基を表す。
Ra4は、脂肪族基を表す。Y+は陽イオンを形成し得る
基を表す。
1. Exfoliation of an organic polymer on a support
Layer and photopolymerizable photosensitive resin layer containing photopolymerization initiator
Using a photosensitive transfer sheet having in this order
In an image forming method for forming an image by forming an image, a photopolymerizable photosensitive resin layer in the photosensitive transfer sheet
And represented by the following general formula (1) as a photopolymerization initiator.
Compound and organic boron compound represented by the following general formula (A)
When exposed, at least a photopolymerizable
The temperature of the optical resin layer is set to 30 ° C. or more.
Image forming method. Embedded imageIn the general formula (1), Q1~ QThreeAre independent
Represents an oxygen atom or a sulfur atom. R1And RTwoAre each
Independently, a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic ring
Represents a group. Z1And ZTwoIs each independently the general formula
Substitution necessary for the compound represented by (1) to become a dye
Represents a group. Embedded imageIn the general formula (A), Ra1, RaTwo, And RaThree
Is each independently an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, or
Is -SiRaFiveRa6Ra7Represents RaFive, Ra 6And R
a7Each independently represents an aliphatic group or an aromatic group.
RaFourRepresents an aliphatic group. Y+Can form cations
Represents a group.
【請求項2】 支持体上に、有機重合体よりなる剥離
層、及び光重合開始剤を含有する光重合系感光性樹脂層
をこの順に有する感光性転写シートを用いて、露光、現
像して画像を形成する画像形成方法において、 前記感光性転写シートにおける光重合系感光性樹脂層
に、光重合開始剤として下記一般式(2)で表される化
合物、及び下記一般式(2)で表される化合物と相互作
用してラジカルを発生し得る化合物を含有してなり、 前記感光性転写シート露光時の温度を30℃以上にする
ことを特徴とする画像形成方法。 【化3】 前記一般式(2)において、R3及びR4は、各々独立し
て、水素原子又は一価の置換基を表す。Z3及びZ4は、
各々独立して、前記一般式(2)で表される化合物が色
素になるために必要な置換基を表す。
2. Exposure and development using a photosensitive transfer sheet having, in this order, a release layer made of an organic polymer and a photopolymerizable photosensitive resin layer containing a photopolymerization initiator on a support. In an image forming method for forming an image, a compound represented by the following general formula (2) as a photopolymerization initiator and a compound represented by the following general formula (2) are added to a photopolymerizable photosensitive resin layer in the photosensitive transfer sheet. An image forming method, comprising a compound capable of generating a radical by interacting with a compound to be prepared, wherein the temperature during exposure of the photosensitive transfer sheet is set to 30 ° C. or higher. Embedded image In the general formula (2), R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent. Z 3 and Z 4 are
Each independently represents a substituent necessary for the compound represented by the general formula (2) to become a dye.
【請求項3】 支持体上に、有機重合体よりなる剥離
層、及び光重合開始剤を含有する光重合系感光性樹脂層
をこの順に有する感光性転写シートを用いて、露光、現
像して画像を形成する画像形成方法において、 前記感光性転写シートにおける光重合系感光性樹脂層
に、光重合開始剤として下記一般式(3)で表される化
合物、及び下記一般式(3)で表される化合物と相互作
用してラジカルを発生し得る化合物を含有してなり、 前記感光性転写シート露光時の温度を30℃以上にする
ことを特徴とする画像形成方法。 【化4】 前記一般式(3)において、L1及びL2は、各々独立し
て、置換されていてもよいメチン基を表す。mは0〜3
の整数を表す。G1及びG2は、各々独立して、電子吸引
性基を表すか、あるいはG1とG2とで結合して芳香環又
は複素環を形成する。Q3は、酸素原子又は硫黄原子を
表す。R1及びR2は、各々独立して、水素原子、脂肪族
基、芳香族基、又は複素環基を表す。
3. Exposure and development using a photosensitive transfer sheet having, in this order, a release layer made of an organic polymer and a photopolymerizable photosensitive resin layer containing a photopolymerization initiator on a support. In the image forming method for forming an image, a compound represented by the following general formula (3) as a photopolymerization initiator and a compound represented by the following general formula (3) are added to the photopolymerizable photosensitive resin layer in the photosensitive transfer sheet. An image forming method, comprising a compound capable of generating a radical by interacting with a compound to be prepared, wherein the temperature during exposure of the photosensitive transfer sheet is set to 30 ° C. or higher. Embedded image In the general formula (3), L 1 and L 2 each independently represent a methine group which may be substituted. m is 0-3
Represents an integer. G 1 and G 2 each independently represent an electron-withdrawing group or combine with G 1 and G 2 to form an aromatic ring or a heterocyclic ring. Q 3 represents an oxygen atom or a sulfur atom. R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group.
【請求項4】 前記一般式(2)で表される化合物が、
下記一般式(4)で表される化合物であることを特徴と
する請求項2に記載の画像形成方法。 【化5】 前記一般式(4)において、L1及びL2は、各々独立し
て、置換されていてもよいメチン基を表す。mは0〜3
の整数を表し、G1及びG2は、各々独立して、電子吸引
性基を表すか、あるいはG1とG2とで結合して芳香環又
は複素環を形成する。R3及びR4は、各々独立して、水
素原子又は一価の置換基を表す。
4. A compound represented by the general formula (2):
The image forming method according to claim 2, wherein the compound is a compound represented by the following general formula (4). Embedded image In the formula (4), L 1 and L 2 each independently represent a methine group which may be substituted. m is 0-3
G 1 and G 2 each independently represent an electron-withdrawing group, or form an aromatic ring or a heterocyclic ring by bonding with G 1 and G 2 . R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent.
【請求項5】 前記ラジカルを発生し得る化合物が、下
記一般式(A)で表される有機ホウ素化合物であること
を特徴とする請求項2から4のいずれかに記載の画像形
成方法。 【化6】 前記一般式(A)において、Ra1、Ra2、及びRa3
は、各々独立して、脂肪族基、芳香族基、複素環基、又
は−SiRa5Ra6Ra7を表す。Ra5、Ra 6及びR
7は、各々独立して、脂肪族基又は芳香族基を表す。
Ra4は、脂肪族基を表す。Y+は陽イオンを形成し得る
基を表す。
5. The compound capable of generating a radical is as follows:
An organic boron compound represented by the general formula (A)
The image form according to any one of claims 2 to 4, characterized in that:
Method. Embedded imageIn the general formula (A), Ra1, RaTwo, And RaThree
Is each independently an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, or
Is -SiRaFiveRa6Ra7Represents RaFive, Ra 6And R
a7Each independently represents an aliphatic group or an aromatic group.
RaFourRepresents an aliphatic group. Y+Can form cations
Represents a group.
【請求項6】 前記剥離層と前記光重合系感光性樹脂層
との間に、色材を含有する有機高分子重合体層を設けて
なることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載
の画像形成方法。
6. The method according to claim 1, wherein an organic high molecular polymer layer containing a coloring material is provided between the release layer and the photopolymerizable photosensitive resin layer. 2. The image forming method according to 1.,
【請求項7】 前記光重合系感光性樹脂層に、色材を含
有することを特徴とする請求項1から5のいずれかに記
載の画像形成方法。
7. The image forming method according to claim 1, wherein the photopolymerizable photosensitive resin layer contains a coloring material.
【請求項8】 350nm〜450nmの発振波長で露
光を行うことを特徴とする請求項1から7のいずれかに
記載の画像形成方法。
8. The image forming method according to claim 1, wherein the exposure is performed at an oscillation wavelength of 350 nm to 450 nm.
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