JP2002128927A - Method for forming metallic film on resin molded article - Google Patents

Method for forming metallic film on resin molded article

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for forming a metallic film on a resin molded article, which permits to efficiently incorporate a polar group in a high density into a resin molecule on the surface of a resin molded article and to form a metallic film having excellent adhesion properties on the resin molded article. SOLUTION: A plasma treatment is effected to split a bond of a molecule of a resin on the surface of a resin molded article 1. Then, plasma is introduced onto the surface of the resin molded article 1 by a downstream method thereby to allow free radicals in the plasma to reach mainly the surface of the resin molded article 1 and a polar group is incorporated into the molecule of the resin on the surface of the resin molded article 1 by the action of the free radicals. Subsequently, a metallic film is formed on the surface of the resin molded article 1. Thus, a polar group can be efficiently incorporated in a state where the molecule of the resin of the resin molded article 1 is cleaved. The treatment for incorporating the polar group is effected by means of free radicals to avoid etching of the surface of the resin molded article by ions having high energy thereby permitting highly dense formation of the polar groups.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、樹脂成形体の表面
に金属膜を形成する技術に関するものである。
The present invention relates to a technique for forming a metal film on the surface of a resin molded product.

【0002】[0002]

【従来の技術】立体回路基板やセンサー部品、反射板な
どは、樹脂組成物を射出成形等して樹脂成形体を作製
し、この樹脂成形体の表面に回路や反射膜となる金属膜
を形成することによって製造されている。そして液晶ポ
リマー(LCP)やシンジオタクチックポリスチレン
(SPS)は、高周波特性に優れると共に耐熱性に優れ
るので、立体回路基板やセンサー部品、反射板などを形
成する樹脂成形体の材料として特に適している。しか
し、LCPやSPSはその分子に極性基がないために、
LCPやSPSで作製した樹脂成形体の表面に金属膜を
形成しても、樹脂成形体に対する金属膜の密着力は極め
て小さい。
2. Description of the Related Art For a three-dimensional circuit board, a sensor component, a reflector, and the like, a resin composition is formed by injection molding of a resin composition, and a metal film serving as a circuit and a reflection film is formed on the surface of the resin molded body. It is manufactured by: Liquid crystal polymer (LCP) and syndiotactic polystyrene (SPS) have excellent high-frequency characteristics and excellent heat resistance, and are therefore particularly suitable as a material for a resin molded body forming a three-dimensional circuit board, a sensor component, a reflector, and the like. . However, LCP and SPS have no polar groups in their molecules,
Even if a metal film is formed on the surface of a resin molded product manufactured by LCP or SPS, the adhesion of the metal film to the resin molded product is extremely small.

【0003】そこで、樹脂成形体に対する金属膜の密着
性を高めるために、樹脂成形体の表面をプラズマ処理す
ることが行なわれている。
Therefore, in order to enhance the adhesion of the metal film to the resin molded body, the surface of the resin molded body is subjected to a plasma treatment.

【0004】すなわち、図12はプラズマ処理装置の一
例を示すものであって、チャンバー15内に保持電極3
及び対向電極4を配設し、保持電極3をRFの高周波電
源8に接続すると共に対向電極4をチャンバー15に接
続することによって接地するようにしてあり、ガス導入
口16からチャンバー15内にプラズマ生成用の雰囲気
ガスを導入できるようにしてある。そして、保持電極3
に樹脂成形体1を接触させた状態で保持してチャンバー
15内にセットし、チャンバー15内に窒素ガスなどの
雰囲気ガスを導入して、保持電極3に高周波電圧を印加
することによって、保持電極3と対向電極4の間での気
体放電現象により窒素プラズマなどのプラズマPを生成
させる。このようにプラズマPを生成させると、プラズ
マP中のN+などのイオンが樹脂成形体1の表面に作用
し、樹脂成形体1の表面の汚染物を除去するクリーニン
グを行なうと共に、窒素極性基などの極性基を樹脂成形
体1の表面の分子に付与する処理がなされる。このよう
に樹脂成形体1の表面に極性基を付与した後に、蒸着や
スパッタリングなどPVD法で樹脂成形体1の表面に銅
などの金属膜を形成することによって、樹脂成形体1に
対する金属膜の密着性を高めることができるものであ
る。
FIG. 12 shows an example of a plasma processing apparatus, in which a holding electrode 3 is provided in a chamber 15.
A counter electrode 4 is provided, the holding electrode 3 is connected to an RF high-frequency power source 8 and the counter electrode 4 is connected to a chamber 15 to be grounded. Atmosphere gas for generation can be introduced. And the holding electrode 3
By holding the resin molded body 1 in a state where the resin molded body 1 is brought into contact with the holding electrode 3 and setting it in the chamber 15, introducing an atmosphere gas such as a nitrogen gas into the chamber 15 and applying a high-frequency voltage to the holding electrode 3, A plasma P such as a nitrogen plasma is generated by a gas discharge phenomenon between the electrode 3 and the counter electrode 4. When the plasma P is generated in this manner, ions such as N + in the plasma P act on the surface of the resin molded body 1, perform cleaning to remove contaminants on the surface of the resin molded body 1, and perform nitrogen polar grouping. For example, a process of imparting a polar group such as to a molecule on the surface of the resin molded body 1 is performed. After the polar group is provided on the surface of the resin molded body 1 as described above, a metal film such as copper is formed on the surface of the resin molded body 1 by a PVD method such as vapor deposition or sputtering. It can improve the adhesion.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしこのような窒素
プラズマなどのプラズマによる処理だけでは、LCPや
SPSで作製した樹脂成形体と金属膜との密着性を向上
させる効果を高く得ることはできない。
However, it is not possible to obtain a high effect of improving the adhesion between a resin molded body made of LCP or SPS and a metal film only by such a treatment using plasma such as nitrogen plasma.

【0006】図13はポリフタルアミド(PPA)とL
CPを上記のような窒素プラズマで処理した場合の、未
処理に対する窒素プラズマ処理による金属膜のピール強
度の向上の効果を示すものであり、PPAは窒素プラズ
マ処理によってピール強度が大きく向上しているが、L
CPは窒素プラズマ処理によるピール強度の向上が小さ
く、必要とされる0.6N/mmのピール強度に達して
いない。これは、「化1」に示すように、PPAには化
学構造式中に極性基が多く存在するが、LCPには化学
構造式中に極性基が存在しないため、プラズマ処理によ
ってLCPに高密度に極性基を付与することができない
からであると考えられる。
FIG. 13 shows polyphthalamide (PPA) and L
This shows the effect of improving the peel strength of the metal film by the nitrogen plasma treatment with respect to the non-treatment when the CP is treated with the nitrogen plasma as described above, and the peel strength of PPA is greatly improved by the nitrogen plasma treatment. Is L
CP has a small improvement in peel strength by the nitrogen plasma treatment, and does not reach the required 0.6 N / mm peel strength. This is because, as shown in Chemical Formula 1, PPA has many polar groups in the chemical structural formula, but LCP does not have a polar group in the chemical structural formula. It is considered that a polar group cannot be provided to the polymer.

【0007】[0007]

【化1】 Embedded image

【0008】また、プラズマ中のN+などのイオンを樹
脂成形体の表面に作用させて窒素極性基などの極性基を
付与する場合、このとき同時に、高いエネルギーを持つ
イオンによって樹脂成形体の表面がエッチングされ、樹
脂成形体の表面に形成された極性基がこのエッチングに
よって取り除かれる現象が生じ、このことも、樹脂成形
体と金属膜との密着性を向上させる効果が高く得られな
いことの原因であると考えられる。
When ions such as N.sup. + In the plasma act on the surface of the resin molded body to impart a polar group such as a nitrogen polar group, simultaneously, ions having high energy cause the surface of the resin molded body to be exposed. Is etched, and a phenomenon occurs in which the polar group formed on the surface of the resin molded body is removed by this etching, which also prevents the effect of improving the adhesion between the resin molded body and the metal film from being high. Probable cause.

【0009】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、樹脂成形体の表面の樹脂分子に効率良く高密度に
極性基を付与することができ、樹脂成形体に金属膜を密
着性高く形成することができる樹脂成形体への金属膜形
成方法を提供することを目的とするものである。
The present invention has been made in view of the above points, and it is possible to efficiently and efficiently provide a polar group to resin molecules on the surface of a resin molded product, and to adhere a metal film to the resin molded product. It is an object of the present invention to provide a method for forming a metal film on a resin molded body that can be formed at a high height.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
樹脂成形体への金属膜形成方法は、樹脂成形体1の表面
の樹脂の分子の結合を開裂するプラズマ処理を行なった
後、プラズマをダウンストリーム法で樹脂成形体1の表
面に導くことによって、プラズマ中のラジカルを主とし
て樹脂成形体1の表面に到達させると共にこのラジカル
の作用で樹脂成形体1の表面の樹脂の分子に極性基を付
与する処理をし、この後、樹脂成形体1の表面に金属膜
2を形成することを特徴とするものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for forming a metal film on a resin molded body, comprising the steps of: performing a plasma treatment for cleaving a bond of a resin molecule on a surface of the resin molded body; The plasma is led to the surface of the resin molded body 1 by the downstream method, so that radicals in the plasma mainly reach the surface of the resin molded body 1 and the action of the radicals causes polarities of the resin molecules on the surface of the resin molded body 1 to change. It is characterized by performing a treatment for providing a group, and thereafter, forming a metal film 2 on the surface of the resin molded body 1.

【0011】本発明の請求項2に係る樹脂成形体への金
属膜形成方法は、樹脂成形体1の表面の樹脂の分子の結
合を開裂するプラズマ処理を行なった後、プラズマ中の
イオンを電極に電気的に吸引して樹脂成形体1の表面に
到達させないようにすることによって、プラズマ中のラ
ジカルを主として樹脂成形体1の表面に到達させると共
にこのラジカルの作用で樹脂成形体1の表面の樹脂の分
子に極性基を付与する処理をし、この後、樹脂成形体1
の表面に金属膜2を形成することを特徴とするものであ
る。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a method for forming a metal film on a resin molded body, comprising: performing a plasma treatment for cleaving a bond of a resin molecule on the surface of the resin molded body; The radicals in the plasma mainly reach the surface of the resin molded body 1 by the action of the radicals, so that the radicals in the plasma do not reach the surface of the resin molded body 1 by the electric suction. A process for imparting a polar group to a resin molecule is performed, and thereafter, a resin molded body 1 is formed.
A metal film 2 is formed on the surface of the substrate.

【0012】また請求項3の発明は、上記請求項2にお
いて、プラズマ中のラジカルの作用で樹脂成形体1の表
面の樹脂の分子に極性基を付与する処理をするにあたっ
て、樹脂成形体1を保持する保持電極3と樹脂成形体1
と対向する対向電極4の間でプラズマを発生させ、プラ
ズマ中のイオンを電気的に吸引する中間電極5で樹脂成
形体1を囲うことによって、プラズマ中のイオンを樹脂
成形体1の表面に到達させないようにすることを特徴と
するものである。
According to a third aspect of the present invention, in the above-described second aspect, the resin molded body 1 is subjected to a process of imparting a polar group to a resin molecule on the surface of the resin molded body 1 by the action of radicals in plasma. Holding electrode 3 to be held and resin molded body 1
Plasma is generated between the opposing electrodes 4 facing each other and the resin molded body 1 is surrounded by the intermediate electrode 5 that electrically attracts ions in the plasma, so that the ions in the plasma reach the surface of the resin molded body 1. It is characterized in that it is not performed.

【0013】また請求項4の発明は、上記請求項2にお
いて、プラズマ中のラジカルの作用で樹脂成形体1の表
面の樹脂の分子に極性基を付与する処理をするにあたっ
て、樹脂成形体1を保持する保持電極3と樹脂成形体1
と対向する対向電極4の間でプラズマを発生させ、対向
電極4に負のバイアスがかかった高周波電圧を印加する
ことによって、プラズマ中のイオンを対向電極4に電気
的に吸引させて、プラズマ中のイオンを樹脂成形体1の
表面に到達させないようにすることを特徴とするもので
ある。
According to a fourth aspect of the present invention, in the above-mentioned second aspect, the resin molded body 1 is subjected to a process of imparting a polar group to the molecules of the resin on the surface of the resin molded body 1 by the action of radicals in the plasma. Holding electrode 3 to be held and resin molded body 1
A plasma is generated between the opposing electrodes 4 facing each other, and a high-frequency voltage with a negative bias is applied to the opposing electrodes 4 so that ions in the plasma are electrically attracted to the opposing electrodes 4 so that the plasma is generated. Are prevented from reaching the surface of the resin molded body 1.

【0014】また請求項5の発明は、上記請求項1乃至
4のいずれかにおいて、樹脂成形体1を保持する保持電
極3と樹脂成形体1と対向する対向電極4の間でプラズ
マを発生させて、樹脂成形体1の表面の樹脂の分子の結
合を開裂するプラズマ処理を行なうにあたって、保持電
極3に負のバイアスがかかった高周波電圧を印加すると
共に、負のバイアス電圧を−100V〜−700Vの範
囲に制御することを特徴とするものである。
According to a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects, plasma is generated between the holding electrode 3 holding the resin molded body 1 and the counter electrode 4 facing the resin molded body 1. In performing the plasma treatment for breaking the bond of the resin molecules on the surface of the resin molded body 1, a high frequency voltage with a negative bias is applied to the holding electrode 3, and the negative bias voltage is changed from −100 V to −700 V. Is controlled within the range.

【0015】本発明の請求項6に係る樹脂成形体への金
属膜形成方法は、樹脂成形体1の表面にレーザーを照射
して樹脂成形体1の表面の樹脂の分子の結合を開裂する
処理を行なった後、プラズマをダウンストリーム法で樹
脂成形体1の表面に導くことによって、プラズマ中のラ
ジカルを主として樹脂成形体1の表面に到達させると共
にこのラジカルの作用で樹脂成形体1の表面の樹脂の分
子に極性基を付与する処理をし、この後、樹脂成形体1
の表面に金属膜2を形成することを特徴とするものであ
る。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a method for forming a metal film on a resin molded body, wherein the surface of the resin molded body 1 is irradiated with a laser to cleave the bond of the resin molecules on the surface of the resin molded body 1. Is performed, the plasma is led to the surface of the resin molded body 1 by the downstream method so that radicals in the plasma mainly reach the surface of the resin molded body 1 and the action of the radicals causes the surface of the resin molded body 1 A process for imparting a polar group to a resin molecule is performed, and thereafter, a resin molded body 1 is formed.
A metal film 2 is formed on the surface of the substrate.

【0016】本発明の請求項7に係る樹脂成形体への金
属膜形成方法は、樹脂成形体1の表面にレーザーを照射
して樹脂成形体1の表面の樹脂の分子の結合を開裂する
処理を行なった後、プラズマ中のイオンを電極に電気的
に吸引して樹脂成形体1の表面に到達させないようにす
ることによって、プラズマ中のラジカルを主として樹脂
成形体1の表面に到達させると共にこのラジカルの作用
で樹脂成形体1の表面の樹脂の分子に極性基を付与する
処理をし、この後、樹脂成形体1の表面に金属膜2を形
成することを特徴とするものである。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a method of forming a metal film on a resin molded product, comprising: irradiating a laser on the surface of the resin molded product 1 to cleave the bonds of the resin molecules on the surface of the resin molded product 1. After performing the above, radicals in the plasma mainly reach the surface of the resin molded body 1 by electrically attracting ions in the plasma to the electrodes so as not to reach the surface of the resin molded body 1. It is characterized in that a process for imparting a polar group to the molecules of the resin on the surface of the resin molded body 1 by the action of radicals is performed, and thereafter, the metal film 2 is formed on the surface of the resin molded body 1.

【0017】また請求項8の発明は、上記請求項1乃至
7のいずれかにおいて、プラズマ中のラジカルで樹脂成
形体1の表面の樹脂の分子に極性基を付与する処理をし
た後、プラズマ処理して樹脂成形体1の表面の樹脂の分
子を架橋させることを特徴とするものである。
The invention according to claim 8 is the method according to any one of claims 1 to 7, wherein after the treatment in which a polar group in the surface of the resin molded body 1 is given a polar group to the resin molecules by the radicals in the plasma, the plasma treatment is performed. To crosslink the resin molecules on the surface of the resin molded body 1.

【0018】また請求項9の発明は、上記請求項8にお
いて、プラズマから発せられる紫外線は通過させるがプ
ラズマ中のイオンは通過させないバリア9で樹脂成形体
を囲った状態で、樹脂成形体1の表面の樹脂の分子を架
橋させるプラズマ処理をすることを特徴とするものであ
る。
According to a ninth aspect of the present invention, in the eighth aspect, the resin molded body 1 is surrounded by a barrier 9 that allows ultraviolet rays emitted from the plasma to pass but does not allow ions in the plasma to pass. It is characterized by performing a plasma treatment for crosslinking the molecules of the resin on the surface.

【0019】また請求項10の発明は、上記請求項1乃
至7のいずれかにおいて、プラズマ中のラジカルで樹脂
成形体1の表面の樹脂の分子に極性基を付与する処理を
した後、紫外線照射処理をして樹脂成形体1の表面の樹
脂の分子を架橋させることを特徴とするものである。
According to a tenth aspect of the present invention, in any one of the first to seventh aspects, after performing a treatment for imparting a polar group to the molecules of the resin on the surface of the resin molded body 1 with radicals in the plasma, the ultraviolet irradiation is performed. It is characterized in that a treatment is performed to crosslink the resin molecules on the surface of the resin molded body 1.

【0020】また請求項11の発明は、上記請求項10
において、紫外線照射処理を紫外線レーザを用いて行な
うことを特徴とするものである。
[0020] The invention of claim 11 provides the above-mentioned claim 10.
, Wherein the ultraviolet irradiation treatment is performed using an ultraviolet laser.

【0021】また請求項12の発明は、上記請求項10
において、紫外線照射処理をエキシマランプを用いて行
なうことを特徴とするものである。
According to the twelfth aspect of the present invention,
Wherein the ultraviolet irradiation treatment is performed using an excimer lamp.

【0022】また請求項13の発明は、上記請求項1乃
至12のいずれかにおいて、樹脂成形体1の表面の樹脂
の分子の結合を開裂する処理を行なうに先だって、樹脂
成形体1の表面を粗化するプラズマ処理をすることを特
徴とするものである。
According to a thirteenth aspect of the present invention, in any one of the first to twelfth aspects, the surface of the resin molded body 1 is subjected to a process of cleaving the bonding of the molecules of the resin on the surface of the resin molded body 1. The plasma treatment for roughening is performed.

【0023】また請求項14の発明は、上記請求項13
において、酸素あるいはオゾンを雰囲気ガスとするプラ
ズマで、樹脂成形体1の表面を粗化するプラズマ処理を
することを特徴とするものである。
The invention of claim 14 is the invention of claim 13
Wherein plasma treatment for roughening the surface of the resin molded body 1 with plasma using oxygen or ozone as an atmospheric gas is performed.

【0024】また請求項15の発明は、上記請求項1乃
至14のいずれかにおいて、プラズマ中のラジカルの作
用で樹脂成形体1の表面の樹脂の分子に極性基を付与す
る処理を、樹脂成形体1を加熱しながら行なうことを特
徴とするものである。
According to a fifteenth aspect of the present invention, in any one of the first to fourteenth aspects, the treatment for imparting a polar group to the molecules of the resin on the surface of the resin molded body 1 by the action of radicals in the plasma is performed by resin molding. It is performed while heating the body 1.

【0025】また請求項16の発明は、上記請求項15
において、樹脂成形体1を、樹脂成形体1の樹脂のガラ
ス転移温度±30℃の温度で加熱することを特徴とする
ものである。
The invention of claim 16 provides the above-mentioned claim 15.
Wherein the resin molded body 1 is heated at a temperature of the glass transition temperature of the resin of the resin molded body 1 ± 30 ° C.

【0026】また請求項17の発明は、請求項15又は
16において、樹脂成形体1の表層部のみを加熱するこ
とを特徴とするものである。
The invention of claim 17 is characterized in that, in claim 15 or 16, only the surface layer of the resin molded article 1 is heated.

【0027】また請求項18の発明は、請求項17にお
いて、熱線を樹脂成形体1の表面に照射して、樹脂成形
体1の表層部のみを加熱することを特徴とするものであ
る。
The invention of claim 18 is characterized in that, in claim 17, a surface of the resin molded body 1 is heated by irradiating the surface of the resin molded body 1 with a heat ray.

【0028】また請求項19の発明は、請求項1乃至1
8のいずれかにおいて、プラズマ中のラジカルの作用で
樹脂成形体1の表面の樹脂の分子に極性基を付与する処
理を、雰囲気ガスとしてNH3,SO2,NO2,COか
ら選ばれるガスを用いたプラズマで行なうことを特徴と
するものである。
Further, the invention of claim 19 provides the invention according to claims 1 to 1
In any one of the above 8, the treatment for imparting a polar group to the molecules of the resin on the surface of the resin molded article 1 by the action of radicals in the plasma may be performed by using a gas selected from NH 3 , SO 2 , NO 2 , and CO as an atmosphere gas. It is characterized in that it is performed with the used plasma.

【0029】また請求項20の発明は、請求項1乃至1
9のいずれかにおいて、樹脂成形体1の表面に金属膜2
を形成するに先だって、樹脂成形体1に対する密着性が
金属膜2よりも高い金属を樹脂成形体1の表面にプレコ
ートし、このプレコート金属膜6の上に上記の金属膜2
を形成することを特徴とするものである。
Further, the invention of claim 20 provides the invention as set forth in claims 1 to 1
9, the metal film 2 is formed on the surface of the resin molding 1.
Prior to forming the metal film 2, a metal having higher adhesiveness to the resin molded body 1 than the metal film 2 is pre-coated on the surface of the resin molded body 1.
Is formed.

【0030】また請求項21の発明は、上記請求項20
において、樹脂成形体1を、樹脂成形体1の樹脂のガラ
ス転移温度±30℃の温度で加熱して金属のプレコート
を行なうことを特徴とするものである。
[0030] The invention of claim 21 is the invention of claim 20.
, Wherein the resin molded body 1 is heated at a temperature of the glass transition temperature of the resin of the resin molded body ± 30 ° C. to perform the pre-coating of the metal.

【0031】また請求項22の発明は、上記請求項20
又は21において、金属酸化物でプレコート金属膜6を
形成することを特徴とするものである。
Further, the invention of claim 22 provides the above-mentioned claim 20.
Or 21, wherein the precoat metal film 6 is formed of a metal oxide.

【0032】また請求項23の発明は、上記請求項1乃
至19のいずれかにおいて、樹脂成形体1の表面に金属
膜2を形成するに先だって、金属膜2との密着性が樹脂
成形体1の樹脂よりも高い樹脂を樹脂成形体1の表面に
プレコートし、このプレコート樹脂膜7の上に上記の金
属膜2を形成することを特徴とするものである。
According to the twenty-third aspect of the present invention, in any one of the first to nineteenth aspects, prior to the formation of the metal film 2 on the surface of the resin molded body 1, the adhesion to the metal film 2 is reduced. A resin higher than the above resin is pre-coated on the surface of the resin molded body 1, and the metal film 2 is formed on the pre-coated resin film 7.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below.

【0034】本発明おいて樹脂成形体1としては、LC
PやSPSを主成分とする樹脂組成物を成形したものが
用いられるものであり、まずこの樹脂成形体1の表面の
樹脂の分子の結合を開裂する第1段の処理を行ない、次
に樹脂成形体1の表面の樹脂の分子に極性基を付与する
第2段の処理を行ない、この後に、樹脂成形体1の表面
に金属膜2を形成するものである。
In the present invention, the resin molded body 1 is LC
A resin composition containing P or SPS as a main component is used. First, a first-stage treatment for cleaving the bonding of the resin molecules on the surface of the resin molded product 1 is performed. The second step of imparting a polar group to the resin molecules on the surface of the molded body 1 is performed, and thereafter, the metal film 2 is formed on the surface of the molded resin body 1.

【0035】図1(a)は樹脂成形体1の表面の樹脂の
分子の結合を開裂する第1段の処理を行なうために、請
求項1〜2の発明において用いるプラズマ処理装置の一
例を示すものであり、チャンバー15内に保持電極3及
び対向電極4を相互に対向させて配置して設けてある。
保持電極3はトレーとして形成してあって、ブロッキン
グコンデンサ18を介してRFの高周波電源8に接続し
てあり、対向電極4はチャンバー15に接続することに
よって接地するようにしてある。またチャンバー15に
はガス導入口16が設けてあり、ガス導入口16からチ
ャンバー15内にプラズマ生成用の雰囲気ガスを導入で
きるようにしてある。
FIG. 1 (a) shows an example of a plasma processing apparatus used in the first and second aspects of the present invention for performing the first stage of processing for cleaving the bonding of the resin molecules on the surface of the resin molded article 1. The holding electrode 3 and the counter electrode 4 are provided in the chamber 15 so as to face each other.
The holding electrode 3 is formed as a tray and is connected to an RF high-frequency power source 8 via a blocking capacitor 18. The counter electrode 4 is connected to a chamber 15 to be grounded. Further, a gas inlet 16 is provided in the chamber 15 so that an atmospheric gas for plasma generation can be introduced into the chamber 15 from the gas inlet 16.

【0036】そして、保持電極3の上に樹脂成形体1を
保持してチャンバー15内にセットし、ガス導入口16
からチャンバー15内にアルゴンなどの雰囲気ガスを導
入して、保持電極3に高周波電源8から高周波電圧(R
F:13.56MHz)を印加することによって、保持
電極3と対向電極4の間での高周波グロー放電による気
体放電現象によってプラズマPを生成させる。このとき
の雰囲気ガスとしてはアルゴンガスなどの不活性ガスを
用いるものであり、ガス圧は1〜15Pa程度に設定す
るのが好ましい。このようにArプラズマPを生成させ
ることによって、プラズマP中のAr+などのイオンが
樹脂成形体1の表面に作用し、表面の樹脂の分子結合が
開裂されるものである。この樹脂成形体1の表面の樹脂
の分子結合を開裂させる処理の時間は、20〜50秒程
度が好ましい。
Then, the resin molded body 1 is held on the holding electrode 3 and set in the chamber 15.
Atmosphere gas such as argon is introduced into the chamber 15 from the high-frequency power source 8 and the high-frequency voltage (R
F: 13.56 MHz), plasma P is generated by a gas discharge phenomenon caused by a high-frequency glow discharge between the holding electrode 3 and the counter electrode 4. At this time, an inert gas such as an argon gas is used as the atmosphere gas, and the gas pressure is preferably set to about 1 to 15 Pa. By generating the Ar plasma P in this manner, ions such as Ar + in the plasma P act on the surface of the resin molded body 1 and the molecular bonds of the resin on the surface are cleaved. The time of the treatment for cleaving the molecular bond of the resin on the surface of the resin molded body 1 is preferably about 20 to 50 seconds.

【0037】図1(b)は樹脂成形体1の表面の樹脂の
分子に極性基を付与する第2段の処理を行なうために、
請求項1の発明において用いるプラズマ処理装置の一例
を示すものであり、プラズマ発生チャンバー20と処理
チャンバー21とから形成してある。プラズマ発生チャ
ンバー20は、磁界とマイクロ波によって電子サイクロ
トロン共鳴を起こさせてプラズマを発生させるECRプ
ラズマ発生器で形成されるものであり、プラズマ発生チ
ャンバー20には雰囲気ガスを導入するガス導入路22
と、生成されたプラズマPのプラズマ流を処理チャンバ
ー21に導くプラズマ導入路23とが接続してある。こ
のプラズマ導入路23は処理チャンバー21の上部に接
続してある。
FIG. 1 (b) shows a second stage treatment for imparting a polar group to the resin molecules on the surface of the resin molding 1.
1 shows an example of a plasma processing apparatus used in the first embodiment of the present invention, which is formed by a plasma generation chamber 20 and a processing chamber 21. The plasma generation chamber 20 is formed of an ECR plasma generator that generates plasma by causing electron cyclotron resonance by a magnetic field and a microwave. The plasma generation chamber 20 has a gas introduction passage 22 for introducing an atmospheric gas.
And a plasma introduction path 23 that guides the plasma flow of the generated plasma P to the processing chamber 21. This plasma introduction path 23 is connected to the upper part of the processing chamber 21.

【0038】そして、上記のように表面の樹脂の分子の
結合を開裂させる第1段の処理をした樹脂成形体1を、
プラズマ導入路23の先端部の下方位置において処理チ
ャンバー21内にセットし、ガス導入路22から雰囲気
ガスとして酸素又は窒素をプラズマ発生チャンバー20
に導入し、プラズマ発生チャンバー20内に酸素プラズ
マあるいは窒素プラズマを生成させる。このようにプラ
ズマ発生チャンバー20内で生成されるプラズマPには
電離されたO+あるいはN+のようなイオンと電子が存在
するが、プラズマP中にはさらに酸素ラジカルあるいは
窒素ラジカルのようなラジカルが活性分子(原子)とし
て存在している。プラズマ発生チャンバー20で上記の
ように生成されたプラズマPは、雰囲気ガスがキャリア
ガスとなってこのガス流によりガス導入路22を通し
て、ダウンストリームとして処理チャンバー21に導入
され、処理チャンバー21内の樹脂成形体1がこのダウ
ンストリームによって処理される。
Then, as described above, the resin molded body 1 that has been subjected to the first-stage treatment for cleaving the bonds of the resin molecules on the surface is
It is set in the processing chamber 21 at a position below the tip of the plasma introduction path 23, and oxygen or nitrogen is supplied from the gas introduction path 22 as atmospheric gas to the plasma generation chamber 20.
To generate oxygen plasma or nitrogen plasma in the plasma generation chamber 20. In the plasma P generated in the plasma generation chamber 20 as described above, ions and electrons such as ionized O + or N + are present, and the plasma P further includes radicals such as oxygen radicals or nitrogen radicals. Exist as active molecules (atoms). The plasma P generated as described above in the plasma generation chamber 20 is introduced into the processing chamber 21 as a downstream through the gas introduction path 22 by the gas flow with the atmospheric gas serving as a carrier gas, and the resin P in the processing chamber 21 The compact 1 is processed by this downstream.

【0039】ここで、プラズマP中のイオンとラジカル
は寿命の長さが異なり、イオンは寿命が短く、ラジカル
は寿命が長い。従って、樹脂成形体1をセットした処理
チャンバー21から離れたプラズマ発生チャンバー20
でプラズマPを生成させ、このプラズマPをダウンスト
リームとして処理チャンバー21内の樹脂成形体1に導
く間に、プラズマP中のイオンは電子と結合して中性化
し、通常の原子や分子の状態になるが、ラジカルはその
ままダウンストリームで運ばれて樹脂成形体1の表面に
到達する。このようにプラズマPをダウンストリーム法
で樹脂成形体1の表面に導くことによって、プラズマP
中のラジカルを主として樹脂成形体1の表面に到達さ
せ、イオンは到達させないようにすることができるもの
であり、樹脂成形体1の表面を主としてラジカルの作用
で処理し、樹脂成形体1の表面の樹脂の分子に酸素極性
基や窒素極性基のような極性基を付与することができ
る。樹脂成形体1の表面の樹脂の分子は、上記のように
第1段の処理で開裂されているので、極性基を付与する
処理を効率高く行なうことができるものである。また、
この極性基を付与する処理は主としてプラズマP中のラ
ジカルで行なわれ、イオンは樹脂成形体1の表面に殆ど
作用しないので、高いエネルギーを持つイオンによって
樹脂成形体1の表面がエッチングされることがなくな
り、樹脂成形体1の表面に形成された極性基がこのエッ
チングによって取り除かれるようなことがなくなるもの
であって、樹脂成形体1の表面に極性基を高密度で形成
することができるものである。この樹脂成形体1の表面
の樹脂の分子に極性基を付与する処理の時間は、5〜4
0秒程度が好ましい。尚、このラジカルによって極性基
を付与する第2段の処理は、ラジカルの発生量が多いE
CRプラズマで行なうのが好ましいが、図1(a)の場
合のような高周波グロー放電によるプラズマであっても
よい。
Here, the ion and the radical in the plasma P have different lifetimes, the ion has a short lifetime, and the radical has a long lifetime. Therefore, the plasma generation chamber 20 separated from the processing chamber 21 in which the resin molded body 1 is set
While the plasma P is generated and the plasma P is guided downstream to the resin molded body 1 in the processing chamber 21, the ions in the plasma P are combined with the electrons and neutralized, and the normal state of atoms and molecules is obtained. However, the radicals are carried downstream as they are and reach the surface of the resin molding 1. By introducing the plasma P to the surface of the resin molded body 1 by the downstream method in this manner, the plasma P
It is possible to make the radicals therein mainly reach the surface of the resin molded body 1 and prevent the ions from reaching them. The surface of the resin molded body 1 is mainly treated by the action of the radical, and the surface of the resin molded body 1 is treated. A polar group such as an oxygen polar group or a nitrogen polar group can be provided to the molecule of the resin. Since the molecules of the resin on the surface of the resin molded body 1 have been cleaved by the first-stage treatment as described above, the treatment for imparting a polar group can be performed efficiently. Also,
The treatment for imparting the polar group is mainly performed by radicals in the plasma P, and the ions hardly act on the surface of the resin molded body 1. Therefore, the surface of the resin molded body 1 is etched by ions having high energy. The polar group formed on the surface of the resin molded body 1 is not removed by this etching, and the polar group can be formed on the surface of the resin molded body 1 at a high density. is there. The processing time for imparting a polar group to the resin molecules on the surface of the resin molded body 1 is 5 to 4 times.
About 0 seconds is preferable. Incidentally, in the second-stage treatment for imparting a polar group by this radical, the radical generation amount E is large.
Although it is preferable to use CR plasma, plasma using high-frequency glow discharge as shown in FIG. 1A may be used.

【0040】上記のようにプラズマで樹脂成形体1の表
面に第1段及び第2段の処理を行なった後、樹脂成形体
1の表面に金属膜2を形成する。図2は樹脂成形体1に
金属膜2を形成するまでの各工程を示すものであり、樹
脂成形体1の表面に第1段及び第2段の処理を行なっ
て、図2(b)のように極性基10を形成した後に、図
2(c)のように樹脂成形体1の表面に金属膜2を形成
するものである。金属膜2の形成はスパッタリングや蒸
着など任意のPVD法を用いて行なうことができるもの
であり、銅やアルミニウムなどの任意の種類の金属膜2
を形成することができる。樹脂成形体1の表面には上記
のように効率高くまた密度高く極性基10が形成されて
いるので、樹脂成形体1がLCPやSPSのような極性
基を分子中に有しない樹脂で形成されていても、樹脂成
形体1の表面に金属膜2を密着性高く形成することがで
きるものである。
After the first-stage and second-stage treatments are performed on the surface of the resin molded body 1 by the plasma as described above, the metal film 2 is formed on the surface of the resin molded body 1. FIG. 2 shows each step until the metal film 2 is formed on the resin molded body 1. The first and second steps of the process are performed on the surface of the resin molded body 1, and FIG. After the polar groups 10 are formed as described above, the metal film 2 is formed on the surface of the resin molded body 1 as shown in FIG. The formation of the metal film 2 can be performed by using any PVD method such as sputtering or vapor deposition.
Can be formed. Since the polar group 10 is formed on the surface of the resin molded body 1 with high efficiency and high density as described above, the resin molded body 1 is formed of a resin having no polar group in the molecule, such as LCP or SPS. However, the metal film 2 can be formed on the surface of the resin molded body 1 with high adhesion.

【0041】ここで、上記の請求項1の発明について、
具体例を挙げて効果を実証する。
Here, regarding the invention of claim 1 described above,
The effect will be demonstrated with specific examples.

【0042】樹脂成形体1としてLCPを射出成形して
作製したものを用いた。そして図1(a)の装置におい
て、雰囲気ガスとしてアルゴンガスを用い、ガス圧10
Pa、RFパワー500Wの条件でプラズマPを発生さ
せ、このプラズマP中で30秒間、樹脂成形体1の表面
の分子を開裂させる処理を行なった。次に、図1(b)
の装置において、雰囲気ガスとして窒素ガスを用い、ガ
ス流量50ml/min、ECRパワー500Wの条件
でプラズマ発生チャンバー20にプラズマPを発生さ
せ、このプラズマPのダウンストリームを処理チャンバ
ー21に導いて30秒間、樹脂成形体1の表面の分子に
極性基を付与する処理を行なった。この後、DCマグネ
トロンスパッタリングを行い、樹脂成形体1の表面に厚
み0.3μmの銅の金属膜2を形成した。この金属膜2
のピール強度を測定したところ、0.70N/mmであ
った。
As the resin molded product 1, a product produced by injection molding LCP was used. Then, in the apparatus shown in FIG. 1A, argon gas was used as an atmosphere gas, and a gas pressure of 10 was used.
Plasma P was generated under the conditions of Pa and RF power of 500 W, and a treatment for cleaving molecules on the surface of the resin molded body 1 in the plasma P was performed for 30 seconds. Next, FIG.
In the apparatus described above, a nitrogen gas is used as an atmosphere gas, a plasma P is generated in the plasma generation chamber 20 under the conditions of a gas flow rate of 50 ml / min and an ECR power of 500 W, and the downstream of the plasma P is led to the processing chamber 21 for 30 seconds. Then, a treatment for giving a polar group to molecules on the surface of the resin molded body 1 was performed. Thereafter, DC magnetron sputtering was performed to form a 0.3 μm thick copper metal film 2 on the surface of the resin molded body 1. This metal film 2
Was measured to be 0.70 N / mm.

【0043】比較のために、図1(a)の装置におい
て、雰囲気ガスとして窒素ガスを用い、ガス圧10P
a、RFパワー500Wの条件でプラズマPを発生さ
せ、このプラズマP中で30秒間、樹脂成形体1の表面
の分子に極性基を付与する処理を行なった。そしてこの
後に、上記と同様にして樹脂成形体1の表面にスパッタ
リングを行ない、厚み0.3μmの銅の金属膜2を形成
した。この金属膜2のピール強度を測定したところ、
0.18N/mmであった。
For comparison, in the apparatus shown in FIG. 1A, nitrogen gas was used
a, Plasma P was generated under the condition of RF power of 500 W, and a process of giving a polar group to molecules on the surface of the resin molded body 1 was performed in the plasma P for 30 seconds. Thereafter, sputtering was performed on the surface of the resin molded body 1 in the same manner as described above to form a copper metal film 2 having a thickness of 0.3 μm. When the peel strength of the metal film 2 was measured,
0.18 N / mm.

【0044】図3は請求項2及び3の発明において、樹
脂成形体1の表面の樹脂の分子に極性基を付与する第2
段の処理を行なうためのプラズマ処理装置の一例を示す
ものであり、チャンバー25内に保持電極3及び対向電
極4を相互に対向させて配置して設けてある。保持電極
3はトレーとして形成してあって、マッチングボックス
26を介してRFの高周波電源8に接続してあり、対向
電極4はチャンバー25に接続することによって接地す
るようにしてある。またチャンバー25にはガス導入口
27が設けてあり、ガス導入口27からチャンバー25
内にプラズマ生成用の雰囲気ガスを導入できるようにし
てある。さらに、保持電極3に接触させた状態で保持さ
れる樹脂成形体1を囲むように、保持電極3と対向電極
4の間に第三の中間電極5が配置してあり、中間電極5
は保持電極3に電気的に接続してある。この中間電極5
としては金属メッシュなどで形成したものを用いるのが
好ましく、孔が5mm以下のピッチ(好ましくは1mm
以下のピッチ)で形成されているものがよい。またこの
実施の形態では、高周波電源8から保持電極3に負のバ
イアスがかかった高周波電圧を印加するようにしてあ
る。
FIG. 3 shows the second and third embodiments of the present invention in which a polar group is added to a resin molecule on the surface of the resin molded article 1.
This shows an example of a plasma processing apparatus for performing a step process, in which a holding electrode 3 and a counter electrode 4 are provided in a chamber 25 so as to face each other. The holding electrode 3 is formed as a tray, and is connected to an RF high-frequency power source 8 via a matching box 26, and the counter electrode 4 is connected to a chamber 25 to be grounded. Further, a gas inlet 27 is provided in the chamber 25.
An atmosphere gas for plasma generation can be introduced into the inside. Further, a third intermediate electrode 5 is disposed between the holding electrode 3 and the counter electrode 4 so as to surround the resin molded body 1 held in contact with the holding electrode 3.
Are electrically connected to the holding electrode 3. This intermediate electrode 5
It is preferable to use one formed with a metal mesh or the like, and the holes have a pitch of 5 mm or less (preferably 1 mm
The following pitch is preferable. In this embodiment, a high-frequency voltage with a negative bias is applied to the holding electrode 3 from the high-frequency power supply 8.

【0045】そして、既述の図1(a)のようにして樹
脂成形体1の表面の樹脂の分子を開裂させる第1段の処
理した後、樹脂成形体1をチャンバー25内の保持電極
3の上にセットすると共に中間電極5で囲み、ガス導入
口27からチャンバー25内に雰囲気ガスとして酸素ガ
スあるいは窒素ガスを導入して、保持電極3に高周波電
源8から負のバイアスがかかった高周波電圧(RF:1
3.56MHz)を印加することによって、保持電極3
と対向電極4の間での高周波グロー放電による気体放電
現象によってプラズマPを生成させる。このように生成
されるプラズマP中には、既述のように、電離されたO
+あるいはN+のようなイオンと電子が存在すると共に酸
素あるいは窒素のラジカルが存在するが、樹脂成形体1
を囲む中間電極5は負のバイアスがかかった高周波電圧
が印加されているので、中間電極5は電気的に負の状態
になっている。従って、プラズマP中のO+あるいはN+
のようなイオンは中間電極5に引き寄せられて吸引され
るので、プラズマP中のイオンは中間電極5を通過する
ことができない。これに対して、プラズマP中の電気的
に中性のラジカルは中間電極5に吸引されることがない
ので、中間電極5を通過することができる。
After the first-stage treatment for cleaving the resin molecules on the surface of the resin molded body 1 as shown in FIG. 1A, the resin molded body 1 is moved to the holding electrode 3 in the chamber 25. , And surrounded by the intermediate electrode 5, an oxygen gas or a nitrogen gas is introduced as an atmospheric gas into the chamber 25 from the gas inlet 27, and a high-frequency voltage with a negative bias applied from the high-frequency power source 8 to the holding electrode 3. (RF: 1
3.56 MHz), the holding electrode 3
The plasma P is generated by a gas discharge phenomenon caused by a high-frequency glow discharge between the electrode P and the counter electrode 4. In the plasma P thus generated, as described above, the ionized O
+ Or N + ions and electrons are present and oxygen or nitrogen radicals are present.
Is applied with a negatively biased high-frequency voltage, so that the intermediate electrode 5 is in an electrically negative state. Therefore, O + or N + in the plasma P
Such ions are attracted to and sucked by the intermediate electrode 5, so that the ions in the plasma P cannot pass through the intermediate electrode 5. On the other hand, electrically neutral radicals in the plasma P are not attracted to the intermediate electrode 5 and can pass through the intermediate electrode 5.

【0046】このようにプラズマP中のイオンは中間電
極5に吸引されるので、ラジカルを主として樹脂成形体
1の表面に到達させ、イオンは到達させないようにする
ことができるものであり、樹脂成形体1の表面を主とし
てラジカルの作用で処理し、樹脂成形体1の表面の樹脂
の分子に酸素極性基や窒素極性基のような極性基を付与
することができるものである。樹脂成形体1の表面の樹
脂の分子は、上記のように第1段の処理で開裂されてい
るので、極性基を付与する処理を効率高く行なうことが
できるものであり、またこの極性基を付与する処理は主
としてプラズマP中のラジカルで行なわれ、イオンは樹
脂成形体1の表面に殆ど作用しないので、高いエネルギ
ーを持つイオンによって樹脂成形体1の表面がエッチン
グされることがなくなり、樹脂成形体1の表面に形成さ
れた極性基がこのエッチングによって取り除かれるよう
なことがなくなるものであって、樹脂成形体1の表面に
極性基を高密度で形成することができるものである。
尚、図3の実施の形態では、中間電極5を負にバイアス
することによって、プラズマP中のイオンを中間電極5
に吸引させるようにしたが、中間電極5をアースするこ
とによっても、プラズマP中のイオンを中間電極5に吸
引させるようにすることが可能である。
As described above, the ions in the plasma P are attracted to the intermediate electrode 5, so that the radicals can mainly reach the surface of the resin molded body 1 and the ions can be prevented from reaching. The surface of the body 1 is treated mainly by the action of radicals, and polar groups such as an oxygen polar group and a nitrogen polar group can be provided to the resin molecules on the surface of the resin molded body 1. Since the resin molecules on the surface of the resin molded body 1 are cleaved by the first-stage treatment as described above, the treatment for imparting a polar group can be performed with high efficiency. The treatment to be applied is mainly performed by radicals in the plasma P, and the ions hardly act on the surface of the resin molded body 1, so that the surface of the resin molded body 1 is not etched by ions having high energy, and The polar group formed on the surface of the body 1 is not removed by this etching, and the polar group can be formed on the surface of the resin molded body 1 at a high density.
In the embodiment shown in FIG. 3, the ions in the plasma P can be removed by biasing the intermediate electrode 5 negatively.
However, it is also possible to cause the ions in the plasma P to be attracted to the intermediate electrode 5 by grounding the intermediate electrode 5.

【0047】上記のようにプラズマで樹脂成形体1の表
面に第1段及び第2段の処理を行なった後、既述のよう
に樹脂成形体1の表面に金属膜2を形成するものであ
る。樹脂成形体1の表面には上記のように効率高くまた
密度高く極性基が形成されているので、樹脂成形体1が
LCPやSPSのような極性基を分子中に有しない樹脂
で形成されていても、樹脂成形体1の表面に金属膜2を
密着性高く形成することができるものである。またこの
ものでは、第2段の処理を行なうにあたって、請求項1
の発明の図1(b)のように二つのチャンバーを必要と
せず、設備を小型化することができるものである。
After the first and second steps are performed on the surface of the resin molding 1 by the plasma as described above, the metal film 2 is formed on the surface of the resin molding 1 as described above. is there. Since the polar group is formed on the surface of the resin molded body 1 with high efficiency and high density as described above, the resin molded body 1 is formed of a resin having no polar group in the molecule, such as LCP or SPS. Even so, the metal film 2 can be formed on the surface of the resin molded body 1 with high adhesion. Further, according to the present invention, in performing the second stage processing,
As shown in FIG. 1 (b) of the invention, two chambers are not required, and the equipment can be miniaturized.

【0048】ここで、上記の請求項2及び3の発明につ
いて、具体例を挙げて効果を実証する。
Here, the effects of the second and third aspects of the present invention will be demonstrated with specific examples.

【0049】樹脂成形体1としてLCPを射出成形して
作製したものを用いた。そして図1(a)の装置におい
て、既述と同じ条件で樹脂成形体1の表面の分子を開裂
させる処理を行なった。次に、1mmピッチで孔を設け
たメッシュ状の中間電極5を設けた図3の装置におい
て、雰囲気ガスとして窒素ガスを用い、ガス圧10P
a、バイアス電圧−200V、RFパワー500Wの条
件でプラズマPを発生させ、このプラズマPで30秒
間、樹脂成形体1の表面の分子に極性基を付与する処理
を行なった。この後、DCマグネトロンスパッタリング
を行い、樹脂成形体1の表面に厚み0.3μmの銅の金
属膜2を形成した。この金属膜2のピール強度を測定し
たところ、0.70N/mmであった。
The resin molded article 1 was prepared by injection molding LCP. Then, in the apparatus shown in FIG. 1A, a treatment for cleaving molecules on the surface of the resin molded body 1 was performed under the same conditions as described above. Next, in the apparatus of FIG. 3 provided with the mesh-shaped intermediate electrode 5 provided with holes at a pitch of 1 mm, a nitrogen gas was used as an atmosphere gas, and a gas pressure of 10 P
a, a plasma P was generated under the conditions of a bias voltage of -200 V and an RF power of 500 W, and a process of giving a polar group to molecules on the surface of the resin molding 1 was performed with the plasma P for 30 seconds. Thereafter, DC magnetron sputtering was performed to form a 0.3 μm thick copper metal film 2 on the surface of the resin molded body 1. When the peel strength of this metal film 2 was measured, it was 0.70 N / mm.

【0050】図4は請求項2及び4の発明において、樹
脂成形体1の表面の樹脂の分子に極性基を付与する第2
段の処理を行なうためのプラズマ処理装置の一例を示す
ものであり、チャンバー29内に保持電極3及び対向電
極4を相互に対向させて配置して設けてある。保持電極
3はトレーとして形成してあって、接地するようにして
あり、対向電極4はマッチングボックス26を介してR
Fの高周波電源8に接続してある。またチャンバー29
にはガス導入口30が設けてあり、ガス導入口30から
チャンバー29内にプラズマ生成用の雰囲気ガスを導入
できるようにしてある。
FIG. 4 is a cross-sectional view of the second and fourth embodiments of the present invention, in which a polar group is added to the molecules of the resin on the surface of the resin molded article 1
This shows an example of a plasma processing apparatus for performing a step process, in which a holding electrode 3 and a counter electrode 4 are provided in a chamber 29 so as to face each other. The holding electrode 3 is formed as a tray and is grounded, and the counter electrode 4 is connected to the R through a matching box 26.
F is connected to the high frequency power supply 8. Chamber 29
Is provided with a gas inlet 30 so that an atmospheric gas for plasma generation can be introduced into the chamber 29 from the gas inlet 30.

【0051】そして、既述の図1(a)のようにして樹
脂成形体1の表面の樹脂の分子を開裂させる第1段の処
理した後、樹脂成形体1をチャンバー29内の保持電極
3の上にセットし、ガス導入口30からチャンバー29
内に雰囲気ガスとして酸素ガスあるいは窒素ガスを導入
して、対向電極4に高周波電源8から負のバイアスがか
かった高周波電圧(RF:13.56MHz)を印加す
ることによって、保持電極3と対向電極4の間での高周
波グロー放電による気体放電現象によってプラズマPを
生成させる。このように生成されるプラズマP中には、
既述のように、電離されたO+あるいはN+のようなイオ
ンと電子が存在すると共に酸素あるいは窒素のラジカル
が存在するが、対向電極4には負のバイアスがかかった
高周波電圧が印加されているので、プラズマP中のO+
あるいはN+のようなイオンは対向電極4に引き寄せら
れて吸引され、プラズマP中のイオンは保持電極3上の
樹脂成形体1の側へ向かい難くなっている。これに対し
て、プラズマP中の電気的に中性のラジカルは対向電極
4に吸引されることがないので、保持電極3上の樹脂成
形体1の側へ支障なく向かうことができる。
Then, after the first-stage treatment for cleaving the resin molecules on the surface of the resin molded body 1 as shown in FIG. 1 (a), the resin molded body 1 is moved to the holding electrode 3 in the chamber 29. And the gas inlet 30 and the chamber 29
An oxygen gas or a nitrogen gas is introduced as an atmospheric gas into the inside, and a high-frequency voltage (RF: 13.56 MHz) with a negative bias applied from a high-frequency power supply 8 is applied to the counter electrode 4 so that the holding electrode 3 and the counter electrode are The plasma P is generated by the gas discharge phenomenon caused by the high-frequency glow discharge during the period 4. In the plasma P thus generated,
As described above, ions and electrons such as ionized O + or N + are present and oxygen or nitrogen radicals are present, but a high frequency voltage with a negative bias is applied to the counter electrode 4. O + in plasma P
Alternatively, ions such as N + are attracted to and attracted by the counter electrode 4, and ions in the plasma P are less likely to move toward the resin molded body 1 on the holding electrode 3. On the other hand, the electrically neutral radicals in the plasma P are not attracted to the counter electrode 4, so that the radicals can travel toward the resin molded body 1 on the holding electrode 3 without any trouble.

【0052】このようにプラズマP中のイオンは対向電
極4に吸引されるので、電気的に中性なラジカルが主と
して樹脂成形体1の表面に到達し、イオンは樹脂成形体
1に到達し難くなっているものであり、樹脂成形体1の
表面を主としてラジカルの作用で処理し、樹脂成形体1
の表面の樹脂の分子に酸素極性基や窒素極性基のような
極性基を付与することができるものである。樹脂成形体
1の表面の樹脂の分子は、上記のように第1段の処理で
開裂されているので、極性基を付与する処理を効率高く
行なうことができるものであり、またこの極性基を付与
する処理は主としてプラズマP中のラジカルで行なわ
れ、イオンは樹脂成形体1の表面に殆ど作用せず、また
イオンが樹脂成形体1に作用しても衝突エネルギーは非
常に小さいので、高いエネルギーを持つイオンによって
樹脂成形体1の表面がエッチングされることがなくな
り、樹脂成形体1の表面に形成された極性基がこのエッ
チングによって取り除かれるようなことがなくなるもの
であって、樹脂成形体1の表面に極性基を高密度で形成
することができるものである。尚、保持電極3と対向電
極4の間に金属メッシュなどで形成される第三の中間電
極5を配置し、中間電極5を負にバイアスするようにし
てもよく、この場合は、中間電極5にイオンが吸引され
ることによって、イオンが樹脂成形体1に作用すること
をさらに防ぐことができるものである。
As described above, the ions in the plasma P are attracted to the counter electrode 4, so that electrically neutral radicals mainly reach the surface of the resin molding 1, and the ions hardly reach the resin molding 1. The surface of the resin molded article 1 is treated mainly by the action of radicals,
A polar group such as an oxygen polar group or a nitrogen polar group can be imparted to the molecules of the resin on the surface of the resin. Since the resin molecules on the surface of the resin molded body 1 are cleaved by the first-stage treatment as described above, the treatment for imparting a polar group can be performed with high efficiency. The treatment to be applied is mainly performed by radicals in the plasma P, and the ions hardly act on the surface of the resin molded body 1. Even if the ions act on the resin molded body 1, the collision energy is very small, so that the high energy is applied. The surface of the resin molded body 1 is not etched by the ions having the above, and the polar groups formed on the surface of the resin molded body 1 are not removed by this etching. It is possible to form a polar group at a high density on the surface. Note that a third intermediate electrode 5 formed of a metal mesh or the like may be disposed between the holding electrode 3 and the counter electrode 4 so that the intermediate electrode 5 may be negatively biased. The ions can be further prevented from acting on the resin molded article 1 by the ions being attracted.

【0053】上記のようにプラズマで樹脂成形体1の表
面に第1段及び第2段の処理を行なった後、既述のよう
に樹脂成形体1の表面に金属膜2を形成するものであ
る。樹脂成形体1の表面には上記のように効率高くまた
密度高く極性基が形成されているので、樹脂成形体1が
LCPやSPSのような極性基を分子中に有しない樹脂
で形成されていても、樹脂成形体1の表面に金属膜2を
密着性高く形成することができるものである。またこの
ものでは、第2段の処理を行なうにあたって、請求項1
の発明の図1(b)のように二つのチャンバーを必要と
せず、設備を小型化することができるものである。
After the first and second steps are performed on the surface of the resin molded body 1 by the plasma as described above, the metal film 2 is formed on the surface of the resin molded body 1 as described above. is there. Since the polar group is formed on the surface of the resin molded body 1 with high efficiency and high density as described above, the resin molded body 1 is formed of a resin having no polar group in the molecule, such as LCP or SPS. Even so, the metal film 2 can be formed on the surface of the resin molded body 1 with high adhesion. Further, according to the present invention, in performing the second stage processing,
As shown in FIG. 1 (b) of the invention, two chambers are not required, and the equipment can be miniaturized.

【0054】ここで、上記の請求項2及び4の発明につ
いて、具体例を挙げて効果を実証する。
Here, the effects of the second and fourth aspects of the present invention will be demonstrated with specific examples.

【0055】樹脂成形体1としてLCPを射出成形して
作製したものを用いた。そして図1(a)の装置におい
て、既述と同じ条件で樹脂成形体1の表面の分子を開裂
させる処理を行なった。次に、図4の装置において、雰
囲気ガスとして窒素ガスを用い、ガス圧10Pa、バイ
アス電圧−200V、RFパワー500Wの条件でプラ
ズマPを発生させ、このプラズマPで30秒間、樹脂成
形体1の表面の分子に極性基を付与する処理を行なっ
た。この後、DCマグネトロンスパッタリングを行い、
樹脂成形体1の表面に厚み0.3μmの銅の金属膜2を
形成した。この金属膜2のピール強度を測定したとこ
ろ、0.72N/mmであった。
As the resin molded product 1, a product produced by injection molding of LCP was used. Then, in the apparatus shown in FIG. 1A, a treatment for cleaving molecules on the surface of the resin molded body 1 was performed under the same conditions as described above. Next, in the apparatus shown in FIG. 4, a plasma P is generated under the conditions of a gas pressure of 10 Pa, a bias voltage of -200 V, and an RF power of 500 W using nitrogen gas as an atmosphere gas. A treatment for giving a polar group to molecules on the surface was performed. After that, DC magnetron sputtering is performed,
A 0.3 μm thick copper metal film 2 was formed on the surface of the resin molded body 1. When the peel strength of the metal film 2 was measured, it was 0.72 N / mm.

【0056】次に請求項5の発明について説明する。Next, the invention of claim 5 will be described.

【0057】既述の図1(a)の実施の形態では、保持
電極3に高周波電源8から高周波電圧(RF:13.5
6MHz)を印加することによって、樹脂成形体1を保
持する保持電極3と対向電極4の間でArプラズマなど
のプラズマPを発生させ、樹脂成形体1の表面の樹脂の
分子の結合を開裂するプラズマ処理を行なうにしている
が、このとき、樹脂成形体1を保持する保持電極3に高
周波電源8から負のバイアスがかかった高周波電圧を印
加してプラズマPを発生させることによって、樹脂成形
体1を保持する保持電極3を電気的に負の状態にし、プ
ラズマP中のAr+などのイオンが電気的に吸引されて
樹脂成形体1の表面に衝突し易くなるようにして、樹脂
成形体1の表面の樹脂の分子結合を開裂する処理が促進
されるようにしてある。しかし、Ar+などのイオンが
樹脂成形体1の表面に衝突するエネルギーが過大である
と、樹脂成形体1の樹脂の表面層がダメージ劣化を起こ
して、樹脂の表面層に脆弱層が形成されるおそれがあ
る。脆弱層は特開平8−3338号公報等に紹介されて
いるようにWBL(Weak Boundary Layer)と呼ばれる
ものであり、脆弱層の上に極性基を形成しても、脆弱層
の強度が弱いので金属膜2のピール強度を向上させるこ
とはできない。
In the embodiment shown in FIG. 1A, the high-frequency voltage (RF: 13.5) is applied to the holding electrode 3 from the high-frequency power source 8.
By applying 6 MHz), a plasma P such as Ar plasma is generated between the holding electrode 3 holding the resin molded body 1 and the counter electrode 4 to cleave the bonds of the resin molecules on the surface of the resin molded body 1. At this time, the plasma processing is performed. At this time, a high-frequency voltage with a negative bias is applied from the high-frequency power supply 8 to the holding electrode 3 holding the resin molded body 1 to generate plasma P, thereby forming the resin molded body 1. The holding electrode 3 for holding the electrode 1 is electrically negative, and ions such as Ar + in the plasma P are electrically attracted to easily collide with the surface of the resin molding 1 so that the resin molding 1 The treatment for cleaving the molecular bond of the resin on the surface of No. 1 is promoted. However, if the energy of ions such as Ar + colliding with the surface of the resin molding 1 is excessive, the resin surface layer of the resin molding 1 is damaged and deteriorated, and a fragile layer is formed on the resin surface layer. May be affected. The fragile layer is called a WBL (Weak Boundary Layer) as introduced in JP-A-8-3338 and the like. Even if a polar group is formed on the fragile layer, the strength of the fragile layer is weak. The peel strength of the metal film 2 cannot be improved.

【0058】そこで請求項5の発明では、図5に示すよ
うに、高周波電源8にバイアス電圧制御装置32が接続
してあり、高周波電源8から保持電極3に印加される負
の直流バイアス電圧値(VDC)をこのバイアス電圧制御
装置32で制御するようにしてある。そして保持電極3
に印加されるVDCを−100V〜−700Vの範囲に制
御することによって、Ar+などプラズマP中のイオン
が樹脂成形体1の表面に衝突する際の衝突エネルギーを
最適なものにすることができるものである。V DCが−7
00Vよりも負の電圧であると、Ar+などイオンの衝
突エネルギーが過大になって、樹脂成形体1の樹脂の表
面に脆弱層が形成されるおそれがあり、逆にVDCが−1
00Vよりも正の側の電圧であると、樹脂成形体1の表
面に対するAr+などイオンの衝突エネルギーが過小に
なって、樹脂の分子を開裂させる作用が不十分になるお
それがある。
Therefore, in the invention of claim 5, as shown in FIG.
As described above, the bias voltage control device 32 is connected to the high frequency power supply 8.
And a negative voltage applied to the holding electrode 3 from the high-frequency power source 8.
DC bias voltage value (VDC) This bias voltage control
It is controlled by the device 32. And the holding electrode 3
V applied toDCWithin the range of -100V to -700V
By controlling, Ar+Ions in plasma P
The collision energy when collides with the surface of the resin molding 1
It is something that can be optimized. V DCIs -7
If the voltage is more negative than 00V, Ar+Ion opposition
The impact energy becomes excessive, and the resin
A fragile layer may be formed on the surface.DCIs -1
If the voltage is more positive than 00V, the surface of the resin molding 1
Ar to surface+Ion collision energy is too small
And the action of cleaving the resin molecules becomes insufficient.
There is it.

【0059】上記の各発明では、樹脂成形体1の表面の
樹脂の分子の結合を開裂する第1段の処理をプラズマに
よって行なうようにしたが、請求項6や請求項7の発明
では、この第1段の処理をレーザーの照射によって行な
うようにしてある。すなわち、図6に示すように、レー
ザー発振器34から出力されたエキシマレーザー、アル
ゴンレーザー、He−Cdレーザー等のレーザーLを、
X,Y,Z方向に姿勢を変化させることができる姿勢制
御テーブル35の上にセットされた樹脂成形体1の表面
に照射することによって、樹脂成形体1の表面の樹脂の
分子の結合を開裂させることができるものである。
In each of the above-mentioned inventions, the first-stage treatment for cleaving the bond of the resin molecules on the surface of the resin molded body 1 is performed by plasma, but in the inventions of claim 6 and claim 7, The first-stage processing is performed by laser irradiation. That is, as shown in FIG. 6, a laser L such as an excimer laser, an argon laser, and a He-Cd laser output from the laser oscillator 34 is used.
By irradiating the surface of the resin molding 1 set on the posture control table 35 capable of changing the posture in the X, Y, and Z directions, the bond of the resin molecules on the surface of the resin molding 1 is cleaved. That can be done.

【0060】ここで、樹脂成形体1の表面が三次元立体
形状である場合、立ち面や斜面等が存在するが、プラズ
マ処理をする際には平面と立ち面や斜面等との間に処理
効果に差ができ易い。これに対して、レーザーによる処
理の場合には、大気中での処理が可能であるため、姿勢
制御テーブル35を用いてレーザー照射処理をすること
ができ、樹脂成形体1の平面や、立ち面等をそれぞれレ
ーザーに対して同じ角度にした状態で処理をすることが
容易になり、三次元立体形状の樹脂成形体1の表面に均
等な処理をすることが容易になるものである。
Here, when the surface of the resin molded body 1 has a three-dimensional three-dimensional shape, there are standing surfaces and slopes, but when performing the plasma treatment, the processing is performed between the flat surface and the standing surfaces or slopes. It is easy to make a difference in the effect. On the other hand, in the case of the processing by the laser, since the processing in the atmosphere is possible, the laser irradiation processing can be performed by using the attitude control table 35, and the flat surface or the rising surface of the resin molded body 1 can be obtained. It is easy to carry out the treatment in the state where each of them is at the same angle with respect to the laser, and it becomes easy to carry out a uniform treatment on the surface of the three-dimensionally shaped resin molded body 1.

【0061】上記の請求項6の発明について、具体例を
挙げて効果を実証する。
The effect of the sixth aspect of the present invention will be demonstrated with reference to specific examples.

【0062】樹脂成形体1としてLCPを射出成形して
作製したものを用いた。そして図6の装置において、エ
キシマレーザーLをエネルギー密度0.5J/cm2
ショット数100ショットの条件で照射することによっ
て、樹脂成形体1の表面の分子を開裂させる処理を行な
った。次に、図1(b)の装置において、既述した条件
で樹脂成形体1の表面の分子に極性基を付与する処理を
行なった。この後、DCマグネトロンスパッタリングを
行い、樹脂成形体1の表面に厚み0.3μmの銅の金属
膜2を形成した。この金属膜2のピール強度を測定した
ところ、0.73N/mmであった。
As the resin molded product 1, a product produced by injection molding LCP was used. In the apparatus shown in FIG. 6, the excimer laser L is irradiated with an energy density of 0.5 J / cm 2 ,
Irradiation was performed under the condition of a number of shots of 100 shots, so that molecules on the surface of the resin molded body 1 were cleaved. Next, in the apparatus shown in FIG. 1 (b), a treatment for imparting a polar group to molecules on the surface of the resin molded body 1 was performed under the conditions described above. Thereafter, DC magnetron sputtering was performed to form a 0.3 μm thick copper metal film 2 on the surface of the resin molded body 1. When the peel strength of the metal film 2 was measured, it was 0.73 N / mm.

【0063】請求項8の発明は、上記の各発明のよう
に、プラズマ中のラジカルで樹脂成形体1の表面の樹脂
の分子に極性基を付与する第2段の処理をした後、樹脂
成形体1の表面をさらにプラズマ処理し、樹脂成形体1
の表面の樹脂の分子、特に脆弱層の分子を架橋させるよ
うにしたものである。このプラズマ処理は、例えば、雰
囲気ガスとしてアルゴンなどの不活性ガスを用い、例え
ばガス圧15Pa、RFパワー100W、処理時間60
〜120秒の条件で行なうことができる。そしてこのよ
うにプラズマ処理をすることによって、図7のようにプ
ラズマPから発生する紫外線UVが樹脂成形体1の表面
に照射され、表面の樹脂の分子が紫外線の作用で架橋反
応し、樹脂の表面に上記の第1段や第2段の処理で脆弱
層が形成されていても、この樹脂表面の分子の架橋によ
って脆弱層を強化することができるものである。従っ
て、脆弱層の強度が弱いことによる金属膜2のピール強
度の向上効果を得ることができないようなことがなくな
り、金属膜2のピール強度の向上効果を有効に得ること
ができるものである。
According to an eighth aspect of the present invention, as in each of the above-mentioned inventions, after performing the second step of providing a polar group to the resin molecules on the surface of the resin molded body 1 with radicals in the plasma, the resin molding is performed. The surface of the body 1 is further subjected to plasma treatment to obtain a resin molded body 1
The resin molecules on the surface, particularly the molecules of the fragile layer, are crosslinked. In this plasma processing, for example, an inert gas such as argon is used as an atmosphere gas, for example, a gas pressure of 15 Pa, an RF power of 100 W, and a processing time of 60 Pa.
It can be carried out under conditions of up to 120 seconds. By performing the plasma treatment in this manner, as shown in FIG. 7, ultraviolet rays UV generated from the plasma P are radiated to the surface of the resin molded body 1, and the molecules of the resin on the surface undergo a crosslinking reaction by the action of the ultraviolet rays, and Even if a fragile layer is formed on the surface by the first and second steps, the fragile layer can be reinforced by crosslinking the molecules on the resin surface. Therefore, the effect of improving the peel strength of the metal film 2 due to the weak strength of the fragile layer does not occur, and the effect of improving the peel strength of the metal film 2 can be effectively obtained.

【0064】請求項9の発明は、上記のようにプラズマ
処理して樹脂成形体1の表面の樹脂の分子を架橋させる
にあたって、図8に示すように、樹脂成形体1をプラズ
マPから発光する紫外線UVは通過させるがプラズマP
中のイオンは通過させないバリア9で囲うようにしてあ
る。すなわち、チャンバー37内に保持電極3及び対向
電極4を相互に対向させて配置して設けてあり、保持電
極3の上にセットされる樹脂成形体1と対向電極4の間
に第三の電極としてバリア9が配置してある。このバリ
ア9は金属メッシュなどで形成したものが用いられるも
のであり、負の電圧にバイアスしてある。そしてチャン
バー37内に雰囲気ガスとしてアルゴンガスを導入する
と共に保持電極3に高周波電圧を印加し、保持電極3と
対向電極4の間での高周波グロー放電による気体放電現
象によってプラズマPを生成させ、プラズマPから発光
する紫外線を樹脂成形体1の表面に照射して、樹脂成形
体1の表面の樹脂の分子を架橋させるものである。この
とき、樹脂成形体1を囲むバリア9には負のバイアスが
かかっているので、プラズマP中のAr+のようなイオ
ンはバリア9に引き寄せられて吸引され、プラズマP中
のイオンはバリア9を通過することができない。従っ
て、プラズマP中のイオンが樹脂成形体1の表面に衝突
して表面をエッチングしたりするようなことなく、プラ
ズマPから発光される紫外線UVを樹脂成形体1の表面
に照射することができるものである。尚、上記の実施の
形態では、バリア9として負の電圧にバイアスした電極
を用いるようにしたが、紫外線は通過させるがプラズマ
P中のイオンは通過させないものであれば何でも良く、
例えば石英ガラスの板をバリア9として用いることもで
きる。
According to the ninth aspect of the present invention, when the plasma treatment is performed to crosslink the resin molecules on the surface of the resin molded body 1, the resin molded body 1 emits light from the plasma P as shown in FIG. Ultraviolet UV is passed, but plasma P
The inside ions are surrounded by a barrier 9 that does not allow passage of ions. That is, the holding electrode 3 and the counter electrode 4 are provided so as to face each other in the chamber 37, and the third electrode is provided between the resin molded body 1 set on the holding electrode 3 and the counter electrode 4. The barrier 9 is arranged as a. The barrier 9 is formed of a metal mesh or the like, and is biased to a negative voltage. Then, an argon gas is introduced as an atmosphere gas into the chamber 37 and a high-frequency voltage is applied to the holding electrode 3 to generate a plasma P by a gas discharge phenomenon caused by a high-frequency glow discharge between the holding electrode 3 and the counter electrode 4. The surface of the resin molded body 1 is irradiated with ultraviolet rays emitted from P to crosslink the resin molecules on the surface of the resin molded body 1. At this time, since a negative bias is applied to the barrier 9 surrounding the resin molded body 1, ions such as Ar + in the plasma P are attracted to and sucked by the barrier 9, and the ions in the plasma P are absorbed by the barrier 9. Can not pass through. Therefore, the ultraviolet rays UV emitted from the plasma P can be applied to the surface of the resin molded body 1 without the ions in the plasma P colliding with the surface of the resin molded body 1 and etching the surface. Things. In the above-described embodiment, an electrode biased to a negative voltage is used as the barrier 9, but any electrode may be used as long as it allows ultraviolet rays to pass but does not allow ions in the plasma P to pass.
For example, a quartz glass plate can be used as the barrier 9.

【0065】請求項10の発明は、上記の樹脂成形体1
の表面の樹脂の分子を架橋させる処理を、紫外線照射に
よって行なうようにしたものである。プラズマ処理で樹
脂成形体1の表面の樹脂の分子を架橋させる場合には、
プラズマ中のイオンのエッチング作用で分子が開裂され
るおそれがあり、架橋による表面強化の効果が低減され
ることがあるが、紫外線照射をして分子を架橋させるよ
うにすれば、イオンエッチングのような問題なく、樹脂
成形体1の表面を強化することができるものである。
The tenth aspect of the present invention is the resin molded article 1 described above.
The process of cross-linking the resin molecules on the surface is performed by ultraviolet irradiation. When the resin molecules on the surface of the resin molded body 1 are crosslinked by the plasma treatment,
Molecules may be cleaved by the etching action of ions in the plasma, and the effect of surface strengthening by cross-linking may be reduced. The surface of the resin molded article 1 can be reinforced without any problem.

【0066】請求項11の発明は、上記の紫外線照射
を、紫外線レーザーを用いて行なうようにしたものであ
る。紫外線レーザーとしてはエキシマレーザーを用いる
ことができる。例えば、波長248nmのKrFエキシ
マレーザーを用い、エネルギー密度10mj/cm2
ショット数10ショットの条件で照射することによっ
て、樹脂成形体1の表面の樹脂の分子を紫外線架橋させ
て表面強化をすることができる。
According to an eleventh aspect of the present invention, the ultraviolet irradiation is performed by using an ultraviolet laser. An excimer laser can be used as the ultraviolet laser. For example, using a KrF excimer laser having a wavelength of 248 nm, an energy density of 10 mj / cm 2 ,
By irradiating under the condition of 10 shots, the resin molecules on the surface of the resin molded body 1 can be cross-linked by ultraviolet rays to enhance the surface.

【0067】請求項12の発明は、上記の紫外線照射
を、エキシマランプを用いて行なうようにしたものであ
る。エキシマランプは誘電体バリア放電を利用して希ガ
スあるいは希ガスハライドのエキシマを形成させ、この
エキシマからの自然放出光を取り出すようにしたもので
あり、紫外線領域の波長の光を発光させることができ
る。エキシマランプは紫外線レーザーを照射する装置よ
りも装置を簡単・小型化して廉価にすることができるも
のである。
According to a twelfth aspect of the present invention, the ultraviolet irradiation is performed using an excimer lamp. Excimer lamps use a dielectric barrier discharge to form a rare gas or rare gas halide excimer and extract spontaneous emission light from the excimer, and emit light having a wavelength in the ultraviolet region. it can. Excimer lamps can be made simpler, smaller, and cheaper than devices that irradiate ultraviolet laser.

【0068】また、請求項13の発明は、上記の各発明
において、樹脂成形体1の表面の樹脂の分子の結合を開
裂する第1段の処理を行なうに先だって、予備段階の処
理として、樹脂成形体1の表面をエッチングして粗化す
るプラズマ処理をするようにしたものである。このプラ
ズマ処理は、例えば、雰囲気ガスとして酸素ガスを用
い、ガス圧10Pa、RFパワー500W、処理時間2
〜5分の条件で行なうことができる。このようにプラズ
マ処理をすることによって、樹脂成形体1の樹脂を構成
している元素の炭素や水素が酸素の活性種と反応して一
酸化炭素や二酸化炭素、水などとして樹脂成形体1の表
面から離脱し、樹脂成形体1の表面に微細な凹凸を形成
して表面粗化することができるものである。そしてこの
ように樹脂成形体1の表面を粗化しておくことによっ
て、樹脂成形体1の表面に形成した金属膜2の密着性
を、粗化の凹凸によるアンカー効果で向上させることが
できるものである。
Further, in the invention of claim 13, in the above-mentioned inventions, prior to performing the first step of cleaving the bonding of the molecules of the resin on the surface of the resin molded article 1, the pre-processing may be performed as a preliminary step. The plasma treatment for etching and roughening the surface of the molded body 1 is performed. This plasma treatment uses, for example, oxygen gas as an atmosphere gas, a gas pressure of 10 Pa, an RF power of 500 W, and a treatment time of 2 hours.
It can be performed under conditions of up to 5 minutes. By performing the plasma treatment in this manner, carbon and hydrogen as elements constituting the resin of the resin molded product 1 react with active species of oxygen to form carbon monoxide, carbon dioxide, water, and the like. It can be separated from the surface to form fine irregularities on the surface of the resin molded body 1 and roughen the surface. By roughening the surface of the resin molded body 1 in this manner, the adhesion of the metal film 2 formed on the surface of the resin molded body 1 can be improved by the anchor effect due to the roughening irregularities. is there.

【0069】請求項14の発明は、上記のようにして樹
脂成形体1の表面を粗化する予備段階のプラズマ処理
を、雰囲気ガスとして酸素ガスあるいはオゾンガスを用
いて行なうようにしたものである。このように酸素プラ
ズマあるいはオゾンプラズマで処理すると、酸素あるい
はオゾンは樹脂表面の分子の炭素と結合し易いので、エ
ッチング速度が速くなり、表面粗化の処理時間を短縮す
ることができるものである。
According to a fourteenth aspect of the present invention, the preliminary plasma treatment for roughening the surface of the resin molded body 1 as described above is performed using an oxygen gas or an ozone gas as an atmosphere gas. When the treatment is performed with oxygen plasma or ozone plasma in this manner, oxygen or ozone is easily bonded to carbon of the molecules on the resin surface, so that the etching rate is increased and the processing time for surface roughening can be shortened.

【0070】次に請求項15の発明は、上記の各発明の
ように、プラズマ中のラジカルで樹脂成形体1の表面の
樹脂の分子に極性基を付与する第2段の処理をするにあ
たって、この処理を樹脂成形体1を加熱しながら行なう
ようにしたものである。樹脂成形体1を加熱することに
よって、樹脂成形体1の樹脂の分子の活性が高くなり、
樹脂の分子への極性基の付与が促進され、極性基の形成
を効率高くまた密度高く行なうことができるものであ
る。
[0070] Next, in the invention of claim 15, as in the above-mentioned inventions, in performing the second step of imparting a polar group to the molecules of the resin on the surface of the resin molded article 1 with radicals in the plasma, This process is performed while heating the resin molded body 1. By heating the resin molded body 1, the activity of the resin molecules of the resin molded body 1 increases,
The application of the polar group to the resin molecule is promoted, and the formation of the polar group can be performed with high efficiency and high density.

【0071】請求項16の発明は、上記のように樹脂成
形体1を加熱するにあたって、樹脂成形体1の加熱温度
を、樹脂成形体1を構成する樹脂のガラス転移温度(T
g)±30℃の範囲に設定するようにしたものである。
樹脂成形体1をTg±30℃の範囲、特に好ましくはT
g±10℃の範囲で加熱しながら、プラズマ中のラジカ
ルで樹脂成形体1の表面の樹脂の分子に極性基を付与す
る第2段の処理をすることによって、樹脂の分子への極
性基の付与を促進することができ、極性基の形成を効率
高くまた密度高く行なうことができるものである。加熱
温度がTg−30℃よりも低いと、極性基の付与を促進
する効果が不十分になり、また逆に加熱温度がTg+3
0℃よりも高いと、樹脂成形体1が熱変形したり、熱劣
化したりするおそれがある。
According to a sixteenth aspect of the present invention, when the resin molded body 1 is heated as described above, the heating temperature of the resin molded body 1 is set to the glass transition temperature (T
g) The temperature is set within a range of ± 30 ° C.
The resin molded body 1 is set to a temperature range of Tg ± 30 ° C.,
By performing a second-stage treatment of imparting a polar group to the resin molecules on the surface of the resin molded body 1 with radicals in the plasma while heating in the range of g ± 10 ° C., the polar groups are converted into the resin molecules. The application can be promoted, and the formation of the polar group can be performed with high efficiency and high density. When the heating temperature is lower than Tg-30 ° C., the effect of promoting the provision of the polar group becomes insufficient, and conversely, the heating temperature becomes Tg + 3.
When the temperature is higher than 0 ° C., the resin molded body 1 may be thermally deformed or thermally degraded.

【0072】請求項17の発明は、上記のように樹脂成
形体1を加熱するにあたって、樹脂成形体1の表層部の
みを加熱するようにしたものである。樹脂成形体1をT
g±30℃の温度で加熱するようにしても、樹脂成形体
1の全体がこの温度にまで加熱されると、樹脂成形体1
が変形するおそれがある。そこで請求項17の発明は樹
脂成形体1の表層部のみを加熱して、樹脂成形体1の表
層部のみがTg±30℃の温度に上昇させるようにして
ある。このとき、樹脂成形体1の表面から10〜50μ
mまでの範囲がTg±30℃の温度になるように加熱を
行なうのが好ましい。
According to a seventeenth aspect of the present invention, when heating the resin molded body 1 as described above, only the surface layer of the resin molded body 1 is heated. Resin molding 1 is T
g ± 30 ° C., when the entire resin molding 1 is heated to this temperature, the resin molding 1
May be deformed. Therefore, in the invention of claim 17, only the surface layer of the resin molded body 1 is heated so that only the surface layer of the resin molded body 1 is heated to a temperature of Tg ± 30 ° C. At this time, 10 to 50 μm from the surface of the resin molded body 1
The heating is preferably performed so that the range up to m is Tg ± 30 ° C.

【0073】請求項18の発明は、上記のように樹脂成
形体1の表層部のみを加熱するにあたって、樹脂成形体
1の表面に熱線を照射することによって、加熱を行なう
ようにしたものである。熱線は樹脂成形体1の内部にま
で浸透しないので、熱線を樹脂成形体1の表面に沿って
走査させることによって、樹脂成形体1の表層部のみを
均一に加熱することができるものである。熱線として
は、CO2レーザ、赤外線ビームなどを用いることがで
き、また熱線の熱源としてハロゲンランプなどを用いる
こともできる。例えば、熱線としてCO2レーザを用い
る場合、エネルギー密度1J/cm2で照射して加熱を
行なうことができる。
According to the eighteenth aspect of the invention, when only the surface layer of the resin molded body 1 is heated as described above, heating is performed by irradiating the surface of the resin molded body 1 with heat rays. . Since the heat rays do not penetrate into the resin molded body 1, only the surface layer portion of the resin molded body 1 can be uniformly heated by scanning the heat rays along the surface of the resin molded body 1. As a heat ray, a CO 2 laser, an infrared beam, or the like can be used, and a halogen lamp or the like can be used as a heat source of the heat ray. For example, when a CO 2 laser is used as a heat ray, heating can be performed by irradiation with an energy density of 1 J / cm 2 .

【0074】請求項19の発明は、上記の各発明のよう
に、プラズマ中のラジカルで樹脂成形体1の表面の樹脂
の分子に極性基を付与する第2段の処理をするにあたっ
て、ラジカルを生成させる雰囲気ガスとして、NH3
SO2,NO2,COなどから選ばれるガスを用いるよう
にしたものである。これらのガスを雰囲気ガスとして生
成したプラズマを用いることによって、窒素ガスを雰囲
気ガスとして生成したプラズマを用いる場合よりも、電
子親和力の大きい極性基を樹脂の分子に付与することが
できるのである。例えば、SO2の電子親和力は1.1
eV、NO2の電子親和力は2.4eVであり、上記の
NH3,SO2,NO2,COなどのガスを雰囲気ガスと
して用いることによって、例えばアミノ基(−N
2)、スルホニル基(−SO2)、カルボニル基(−C
O−)などの電子親和力の大きい極性基を樹脂の分子に
付与することができる。ここで、樹脂と金属の結合にお
いて、配位結合することが両者の密着力の観点から望ま
しいが、樹脂の電子親和力が大きく、一方金属の電気陰
性度が小さい程、配位結合し易くなる。そして金属は電
気陰性度が小さいので、上記のようにNH3,SO2,N
2,COなどから選ばれるガスのプラズマを用いて電
子親和力の大きい極性基を付与することによって、金属
と極性基の結合力が大きくなる。従って、樹脂成形体1
とその表面に極性基を付与した後に形成される金属膜2
との密着力が高くなり、樹脂成形体1と金属膜2との密
着性を高く得ることができるものである。
According to a nineteenth aspect of the present invention, as in each of the above-mentioned inventions, the radical in the plasma is subjected to the second step of imparting a polar group to the molecules of the resin on the surface of the resin molded body 1, and the radical is converted to the radical. NH 3 ,
A gas selected from SO 2 , NO 2 , CO and the like is used. By using a plasma generated by using these gases as an atmosphere gas, a polar group having a higher electron affinity can be imparted to the molecules of the resin than by using plasma generated by using a nitrogen gas as an atmosphere gas. For example, the electron affinity of SO 2 is 1.1
The electron affinity of eV and NO 2 is 2.4 eV, and by using the above-mentioned gas such as NH 3 , SO 2 , NO 2 , CO as an atmosphere gas, for example, an amino group (−N
H 2 ), a sulfonyl group (—SO 2 ), a carbonyl group (—C
A polar group having a high electron affinity such as O-) can be provided to a resin molecule. Here, in the bond between the resin and the metal, it is desirable to coordinate the bond from the viewpoint of the adhesion between the two. However, the higher the electron affinity of the resin and the lower the electronegativity of the metal, the easier the coordinate bond. Since the metal has a small electronegativity, NH 3 , SO 2 , N
By providing a polar group having a high electron affinity using plasma of a gas selected from O 2 , CO, etc., the bonding force between the metal and the polar group is increased. Therefore, the resin molding 1
And a metal film 2 formed after providing a polar group on its surface
Thus, the adhesion between the resin molded body 1 and the metal film 2 can be increased.

【0075】請求項20の発明は、上記の各発明のよう
に、プラズマ中のラジカルで樹脂成形体1の表面の樹脂
の分子に極性基を付与する第2段の処理をした後、さら
に必要に応じて樹脂成形体1の表面の樹脂の分子を架橋
させる処理をした後、樹脂成形体1の表面に金属膜2を
形成するに先だって、樹脂成形体1に対する密着性が金
属膜2よりも高い金属を樹脂成形体1の表面にプレコー
トするようにしたものである。
According to a twentieth aspect of the present invention, as in each of the above-mentioned inventions, after the second stage treatment for imparting a polar group to the molecules of the resin on the surface of the resin molded body 1 with radicals in the plasma, it is necessary After performing a process of crosslinking the resin molecules on the surface of the resin molded body 1 according to the above, prior to forming the metal film 2 on the surface of the resin molded body 1, the adhesion to the resin molded body 1 is higher than that of the metal film 2. A high metal is pre-coated on the surface of the resin molding 1.

【0076】すなわち、図9(b)のように樹脂成形体
1の表面に極性基10を付与し、この樹脂成形体1の表
面に金属をスパッタリング等のPVD法でコートして図
9(c)のようにプレコート金属膜6を形成する。この
プレコート金属膜6は上記のように樹脂成形体1に対す
る密着性が金属膜2よりも高い金属で形成されるもので
あり、例えばLCPやSPSで作製される樹脂成形体1
の表面にCuの金属膜2を形成する場合には、Ti,C
r,Ni等から選ばれる金属を用いてプレコート金属膜
6を形成するものである。そしてプレコート金属膜6を
形成した後に、図9(d)のようにこのプレコート金属
膜6の上にCu等の金属膜2を形成するものである。金
属同士の密着性は金属と樹脂との密着性よりもはるかに
高いので、このように樹脂成形体1と金属膜2の間に、
樹脂成形体1に対する密着性が金属膜2よりも高いプレ
コート金属膜6が存在することによって、樹脂成形体1
に対する金属膜2の密着性を高く得ることができるもの
である。このプレコート金属膜6は0.01〜0.1μ
mの厚みで形成するのが好ましい。
That is, as shown in FIG. 9 (b), a polar group 10 is provided on the surface of the resin molded body 1, and the surface of the resin molded body 1 is coated with a metal by a PVD method such as sputtering to form a substrate. The pre-coated metal film 6 is formed as shown in FIG. The pre-coated metal film 6 is formed of a metal having higher adhesiveness to the resin molded body 1 than the metal film 2 as described above. For example, the resin molded body 1 made of LCP or SPS is used.
When a Cu metal film 2 is formed on the surface of Ti, Ti, C
The precoat metal film 6 is formed using a metal selected from r, Ni, and the like. After forming the pre-coated metal film 6, the metal film 2 such as Cu is formed on the pre-coated metal film 6 as shown in FIG. 9D. Since the adhesion between the metals is much higher than the adhesion between the metal and the resin, as described above, between the resin molded body 1 and the metal film 2,
The presence of the pre-coated metal film 6 having higher adhesion to the resin molded body 1 than the metal film 2 allows the resin molded body 1
High adhesion to the metal film 2 can be obtained. This pre-coated metal film 6 has a thickness of 0.01 to 0.1 μm.
It is preferable to form it with a thickness of m.

【0077】請求項21の発明は、上記のように樹脂成
形体1の表面にプレコート金属膜6を形成するにあたっ
て、樹脂成形体1を、樹脂成形体1を構成する樹脂のガ
ラス転移温度(Tg)±30℃の範囲で加熱しながら金
属のコーティングを行なうようにしたものである。樹脂
成形体1をTg±30℃の範囲、特に好ましくはTg±
10℃の範囲で加熱しながら、金属をコーティングして
成膜することによって、樹脂成形体1とプレコート金属
膜6の密着性を高く得ることができるものである。加熱
温度がTg−30℃よりも低いと、樹脂成形体1に対す
るプレコート金属膜6の密着性を向上する効果が不十分
になり、また逆に加熱温度がTg+30℃よりも高い
と、樹脂成形体1が熱変形したり、熱劣化したりするお
それがある。樹脂成形体1の加熱は、既述したと同様
に、表層部のみに行なうのが好ましい。
According to a twenty-first aspect of the present invention, in forming the pre-coated metal film 6 on the surface of the resin molded body 1 as described above, the resin molded body 1 is made to have a glass transition temperature (Tg) of the resin constituting the resin molded body 1. ) The metal coating is performed while heating in the range of ± 30 ° C. The resin molded body 1 is placed in a temperature range of Tg ± 30 ° C., particularly preferably Tg ± 30 ° C.
By coating a metal and forming a film while heating in the range of 10 ° C., high adhesion between the resin molded body 1 and the pre-coated metal film 6 can be obtained. If the heating temperature is lower than Tg−30 ° C., the effect of improving the adhesion of the pre-coated metal film 6 to the resin molded body 1 becomes insufficient, and if the heating temperature is higher than Tg + 30 ° C., 1 may be thermally deformed or thermally degraded. The heating of the resin molded body 1 is preferably performed only on the surface layer portion, as described above.

【0078】請求項22の発明は、上記のように樹脂成
形体1の表面にプレコート金属膜6を形成するにあたっ
て、金属酸化物でプレコート金属膜6を形成するように
したものである。この金属酸化物としては、樹脂成形体
1に対する密着性が金属膜2よりも高い金属の酸化物が
用いられるものであり、例えばLCPやSPSで作製さ
れる樹脂成形体1の表面にCuの金属膜2を形成する場
合には、Ti,Cr,Ni等から選ばれる金属の酸化物
が用いられるものである。またこの場合、金属酸化物と
して酸化銅を用いることもできる。このように金属酸化
物でプレコート金属膜6を形成することによって、樹脂
成形体1に対する金属膜2の密着性を一層高く得ること
ができるものである。
According to a twenty-second aspect of the present invention, in forming the pre-coated metal film 6 on the surface of the resin molded body 1 as described above, the pre-coated metal film 6 is formed of a metal oxide. As the metal oxide, an oxide of a metal having higher adhesion to the resin molded body 1 than the metal film 2 is used. For example, the surface of the resin molded body 1 made of LCP or SPS is made of Cu metal. When the film 2 is formed, an oxide of a metal selected from Ti, Cr, Ni and the like is used. In this case, copper oxide can be used as the metal oxide. By forming the pre-coated metal film 6 with the metal oxide in this manner, the adhesion of the metal film 2 to the resin molded body 1 can be further improved.

【0079】ここで、樹脂成形体1の表面に金属酸化物
のプレコート金属膜6を形成するにあたっては、反応性
スパッタリングによる方法で行なうことができる。図1
0はスパッタリング装置の一例を示すものであり、チャ
ンバー37内に樹脂成形体1を保持するホルダー38
と、上記のTi,Cr,Ni等から選ばれる金属のター
ゲット39を配置し、酸素ガスのプラズマPあるいはア
ルゴンなどの不活性ガスと酸素との混合ガスのプラズマ
Pを起こしてスパッタリングを行なうことによって、タ
ーゲット39の金属を酸素と反応させて金属酸化物にし
た状態で樹脂成形体1の表面に堆積させ、樹脂成形体1
の表面に金属酸化物のプレコート金属膜6を形成するこ
とができるものである。
Here, the formation of the pre-coated metal film 6 of a metal oxide on the surface of the resin molded body 1 can be performed by a reactive sputtering method. FIG.
Reference numeral 0 denotes an example of a sputtering apparatus, and a holder 38 for holding the resin molded body 1 in a chamber 37.
And a metal target 39 selected from the above-mentioned Ti, Cr, Ni and the like are arranged, and sputtering is performed by generating plasma P of oxygen gas or plasma P of a mixed gas of an inert gas such as argon and oxygen. The metal of the target 39 is reacted with oxygen to form a metal oxide, and is deposited on the surface of the resin molded body 1.
Can form a pre-coated metal film 6 of a metal oxide on the surface thereof.

【0080】また請求項23の発明は、上記の各発明の
ように、プラズマ中のラジカルで樹脂成形体1の表面の
樹脂の分子に極性基を付与する第2段の処理をした後、
さらに必要に応じて樹脂成形体1の表面の樹脂の分子を
架橋させる処理をした後、樹脂成形体1の表面に金属膜
2を形成するに先だって、金属膜2との密着性が樹脂成
形体1の樹脂よりも高い樹脂を樹脂成形体1の表面にプ
レコートするようにしたものである。
According to a twenty-third aspect of the present invention, after performing the second stage treatment of imparting a polar group to the molecules of the resin on the surface of the resin molded body 1 with radicals in the plasma,
Further, if necessary, after performing a process of crosslinking the resin molecules on the surface of the resin molded body 1, before forming the metal film 2 on the surface of the resin molded body 1, the adhesion to the metal film 2 is reduced. A resin higher than the resin No. 1 is pre-coated on the surface of the resin molded body 1.

【0081】すなわち、図11(b)のように樹脂成形
体1の表面に極性基10を付与し、この樹脂成形体1の
表面に樹脂を蒸着重合やプラズマ重合など気相重合して
図11(c)のようにプレコート樹脂膜7を形成する。
このプレコート樹脂膜7は上記のように金属膜2との密
着性が樹脂成形体1の樹脂よりも高い樹脂で形成される
ものであり、例えばLCPやSPSで作製される樹脂成
形体1の表面にCuの金属膜2を形成する場合には、ポ
リイミドやポリアミド等を用いてプレコート樹脂膜7を
形成するものである。そしてプレコート樹脂膜7を形成
した後に、図11(d)のようにこのプレコート樹脂膜
7の上にCu等の金属膜2を形成するものである。樹脂
同士の密着性は樹脂と金属との密着性よりもはるかに高
いので、このように樹脂成形体1と金属膜2の間に、金
属膜2との密着性が樹脂成形体1の樹脂よりも高いプレ
コート樹脂膜7が存在することによって、樹脂成形体1
に対する金属膜2の密着性を高く得ることができるもの
である。このプレコート樹脂膜7は0.05〜0.1μ
mの厚みで形成するのが好ましい。例えば、ポリイミド
のプレコート樹脂膜7を形成する場合、無水ピロメリッ
ト酸(PMDA)とジフェニルアミン(ODA)の温度
約200℃、チャンバー温度300℃、樹脂成形体1の
温度200℃の条件で蒸着重合することによって、膜厚
0.1μm以下のプレコート樹脂膜7を形成することが
できる。
That is, as shown in FIG. 11B, a polar group 10 is provided on the surface of the resin molded body 1, and the resin is vapor-phase polymerized on the surface of the resin molded body 1 by vapor deposition polymerization or plasma polymerization. A pre-coated resin film 7 is formed as shown in FIG.
The pre-coated resin film 7 is formed of a resin having higher adhesion to the metal film 2 than the resin of the resin molded body 1 as described above. For example, the surface of the resin molded body 1 made of LCP or SPS When the Cu metal film 2 is formed, the pre-coat resin film 7 is formed using polyimide, polyamide, or the like. After forming the pre-coat resin film 7, the metal film 2 of Cu or the like is formed on the pre-coat resin film 7 as shown in FIG. Since the adhesiveness between the resins is much higher than the adhesiveness between the resin and the metal, the adhesiveness between the resin molding 1 and the metal film 2 with the metal film 2 is higher than that of the resin of the resin molding 1. Of the resin molded product 1 due to the presence of the precoated resin film 7
High adhesion to the metal film 2 can be obtained. This pre-coated resin film 7 has a thickness of 0.05 to 0.1 μm.
It is preferable to form it with a thickness of m. For example, when forming a polyimide pre-coated resin film 7, vapor deposition polymerization is performed under the conditions of pyromellitic anhydride (PMDA) and diphenylamine (ODA) at a temperature of about 200 ° C., a chamber temperature of 300 ° C., and a temperature of the resin molded body 1 of 200 ° C. Thereby, the pre-coated resin film 7 having a thickness of 0.1 μm or less can be formed.

【0082】[0082]

【発明の効果】上記のように本発明の請求項1に係る樹
脂成形体への金属膜形成方法は、樹脂成形体の表面の樹
脂の分子の結合を開裂するプラズマ処理を行なった後、
プラズマをダウンストリーム法で樹脂成形体の表面に導
くことによって、プラズマ中のラジカルを主として樹脂
成形体の表面に到達させると共にこのラジカルの作用で
樹脂成形体の表面の樹脂の分子に極性基を付与する処理
をし、この後、樹脂成形体の表面に金属膜を形成するよ
うにしたので、樹脂成形体の表面の樹脂の分子を開裂し
た状態で極性基を付与することができ、極性基の付与を
効率高く行なうことができると共に、この極性基を付与
する処理は主としてプラズマ中のラジカルで行なわれ、
高いエネルギーを持つイオンによって樹脂成形体の表面
がエッチングされることがなくなって、極性基を高密度
で形成することができるものであり、樹脂成形体に金属
膜を密着性高く形成することができるものである。
As described above, in the method for forming a metal film on a resin molded product according to the first aspect of the present invention, after performing a plasma treatment for cleaving the bonding of the resin molecules on the surface of the resin molded product,
By directing the plasma to the surface of the resin molded article by the downstream method, radicals in the plasma mainly reach the surface of the resin molded article, and the action of these radicals imparts a polar group to the resin molecules on the surface of the resin molded article. After that, a metal film is formed on the surface of the resin molded body, so that a polar group can be provided in a state where the resin molecules on the surface of the resin molded body are cleaved, The treatment for imparting the polar group can be performed efficiently with radicals in the plasma,
The surface of the resin molded body is not etched by the ions having high energy, and the polar group can be formed at a high density, and the metal film can be formed on the resin molded body with high adhesion. Things.

【0083】本発明の請求項2に係る樹脂成形体への金
属膜形成方法は、樹脂成形体の表面の樹脂の分子の結合
を開裂するプラズマ処理を行なった後、プラズマ中のイ
オンを電極に電気的に吸引して樹脂成形体の表面に到達
させないようにすることによって、プラズマ中のラジカ
ルを主として樹脂成形体の表面に到達させると共にこの
ラジカルの作用で樹脂成形体の表面の樹脂の分子に極性
基を付与する処理をし、この後、樹脂成形体の表面に金
属膜を形成するようにしたので、樹脂成形体の表面の樹
脂の分子を開裂した状態で極性基を付与することがで
き、極性基の付与を効率高く行なうことができると共
に、この極性基を付与する処理は主としてプラズマ中の
ラジカルで行なわれ、高いエネルギーを持つイオンによ
って樹脂成形体の表面がエッチングされることがなくな
って、極性基を高密度で形成することができるものであ
り、樹脂成形体に金属膜を密着性高く形成することがで
きるものである。
According to the method for forming a metal film on a resin molded product according to the second aspect of the present invention, after performing a plasma treatment for cleaving the bonding of resin molecules on the surface of the resin molded product, ions in the plasma are applied to the electrode. By preventing it from reaching the surface of the resin molded body by being electrically sucked, the radicals in the plasma mainly reach the surface of the resin molded body, and the radicals act on the resin molecules on the surface of the resin molded body by the action of the radicals. Since a process for providing a polar group is performed, and thereafter, a metal film is formed on the surface of the resin molded body, the polar group can be provided in a state where the resin molecules on the surface of the resin molded body are cleaved. The polar group can be efficiently imparted, and the process of imparting the polar group is mainly performed by radicals in the plasma, and ions having high energy are applied to the surface of the resin molded body. Gone to be etched, which the polar group can be formed at a high density, it is capable of adhesion increases forming a metal film on the resin molding.

【0084】また請求項3の発明は、上記請求項2にお
いて、プラズマ中のラジカルの作用で樹脂成形体の表面
の樹脂の分子に極性基を付与する処理をするにあたっ
て、樹脂成形体を保持する保持電極と樹脂成形体と対向
する対向電極の間でプラズマを発生させ、プラズマ中の
イオンを電気的に吸引する中間電極で樹脂成形体を囲う
ことによって、プラズマ中のイオンを樹脂成形体の表面
に到達させないようにしたので、プラズマ中のイオンを
中間電極に電気的に吸引させて樹脂成形体の表面に確実
に到達させないようにすることができるものである。
According to a third aspect of the present invention, in the above-mentioned second aspect, the resin molded body is held in the process of imparting a polar group to the resin molecules on the surface of the resin molded body by the action of radicals in the plasma. Plasma is generated between the holding electrode and a counter electrode facing the resin molded body, and the ions in the plasma are surrounded by an intermediate electrode that electrically attracts the ions in the plasma. Therefore, the ions in the plasma can be electrically attracted to the intermediate electrode so as not to reach the surface of the resin molded body.

【0085】また請求項4の発明は、上記請求項2にお
いて、プラズマ中のラジカルの作用で樹脂成形体の表面
の樹脂の分子に極性基を付与する処理をするにあたっ
て、樹脂成形体を保持する保持電極と樹脂成形体と対向
する対向電極の間でプラズマを発生させ、対向電極に負
のバイアスがかかった高周波電圧を印加することによっ
て、プラズマ中のイオンを対向電極に電気的に吸引させ
て、プラズマ中のイオンを樹脂成形体の表面に到達させ
ないようにしたので、プラズマ中のイオンを対向電極の
側に電気的に吸引させて樹脂成形体の表面に確実に到達
させないようにすることができるものである。
According to a fourth aspect of the present invention, in the above-described second aspect, the resin molded body is held in the process of imparting a polar group to the resin molecules on the surface of the resin molded body by the action of radicals in the plasma. Plasma is generated between the holding electrode and the counter electrode facing the resin molded body, and a high frequency voltage with a negative bias is applied to the counter electrode, thereby electrically attracting ions in the plasma to the counter electrode. Since the ions in the plasma are prevented from reaching the surface of the resin molded body, the ions in the plasma are electrically attracted to the counter electrode side so as not to reliably reach the surface of the resin molded body. You can do it.

【0086】また請求項5の発明は、上記請求項1乃至
4のいずれかにおいて、樹脂成形体を保持する保持電極
と樹脂成形体と対向する対向電極の間でプラズマを発生
させて、樹脂成形体の表面の樹脂の分子の結合を開裂す
るプラズマ処理を行なうにあたって、保持電極に負のバ
イアスがかかった高周波電圧を印加すると共に、負のバ
イアス電圧を−100V〜−700Vの範囲に制御する
ようにしたので、プラズマ中のイオンの樹脂成形体の表
面への衝突エネルギーを最適なものにすることができ、
樹脂成形体の樹脂の表面に脆弱層が形成されるようなこ
となく、樹脂の分子を開裂させる処理を行なうことがで
きるものである。
According to a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects, a plasma is generated between a holding electrode for holding the resin molded body and a counter electrode opposed to the resin molded body, and the resin molding is performed. In performing the plasma treatment for breaking the bonds of the resin molecules on the body surface, a high frequency voltage having a negative bias applied to the holding electrode is applied, and the negative bias voltage is controlled in a range of -100V to -700V. , It is possible to optimize the collision energy of the ions in the plasma to the surface of the resin molded body,
The process for cleaving the resin molecules can be performed without forming a fragile layer on the surface of the resin of the resin molded body.

【0087】本発明の請求項6に係る樹脂成形体への金
属膜形成方法は、樹脂成形体の表面にレーザーを照射し
て樹脂成形体の表面の樹脂の分子の結合を開裂する処理
を行なった後、プラズマをダウンストリーム法で樹脂成
形体の表面に導くことによって、プラズマ中のラジカル
を主として樹脂成形体の表面に到達させると共にこのラ
ジカルの作用で樹脂成形体の表面の樹脂の分子に極性基
を付与する処理をし、この後、樹脂成形体の表面に金属
膜を形成するようにしたので、樹脂成形体の表面の樹脂
の分子を開裂した状態で極性基を付与することができ、
極性基の付与を効率高く行なうことができると共に、こ
の極性基を付与する処理は主としてプラズマ中のラジカ
ルで行なわれ、高いエネルギーを持つイオンによって樹
脂成形体の表面がエッチングされることがなくなって、
極性基を高密度で形成することができるものであり、樹
脂成形体に金属膜を密着性高く形成することができるも
のである。
In the method for forming a metal film on a resin molded product according to a sixth aspect of the present invention, a treatment is performed to irradiate a laser to the surface of the resin molded product to cleave the bonds of the resin molecules on the surface of the resin molded product. After that, the plasma is led to the surface of the resin molded article by the downstream method, so that radicals in the plasma mainly reach the surface of the resin molded article, and the action of the radicals polarizes the resin molecules on the surface of the resin molded article. Since the treatment to add a group, after that, a metal film is formed on the surface of the resin molded body, it is possible to impart a polar group in a state where the resin molecules on the surface of the resin molded body are cleaved,
The addition of the polar group can be performed with high efficiency, and the process of providing the polar group is mainly performed by radicals in plasma, so that the surface of the resin molded body is not etched by ions having high energy,
A polar group can be formed at a high density, and a metal film can be formed on a resin molded body with high adhesion.

【0088】本発明の請求項7に係る樹脂成形体への金
属膜形成方法は、樹脂成形体の表面にレーザーを照射し
て樹脂成形体の表面の樹脂の分子の結合を開裂する処理
を行なった後、プラズマ中のイオンを電極に電気的に吸
引して樹脂成形体の表面に到達させないようにすること
によって、プラズマ中のラジカルを主として樹脂成形体
の表面に到達させると共にこのラジカルの作用で樹脂成
形体の表面の樹脂の分子に極性基を付与する処理をし、
この後、樹脂成形体の表面に金属膜を形成するようにし
たので、樹脂成形体の表面の樹脂の分子を開裂した状態
で極性基を付与することができ、極性基の付与を効率高
く行なうことができると共に、この極性基を付与する処
理は主としてプラズマ中のラジカルで行なわれ、高いエ
ネルギーを持つイオンによって樹脂成形体の表面がエッ
チングされることがなくなって、極性基を高密度で形成
することができるものであり、樹脂成形体に金属膜を密
着性高く形成することができるものである。
In the method for forming a metal film on a resin molded product according to the present invention, the surface of the resin molded product is irradiated with a laser to cleave the bonds of the resin molecules on the surface of the resin molded product. After that, the ions in the plasma are electrically attracted to the electrodes to prevent the ions from reaching the surface of the resin molded body, so that the radicals in the plasma mainly reach the surface of the resin molded body and the action of the radicals A process of adding a polar group to the resin molecules on the surface of the resin molded body,
After that, since the metal film is formed on the surface of the resin molded body, the polar group can be provided in a state where the resin molecules on the surface of the resin molded body are cleaved, and the polar group is efficiently provided. At the same time, the treatment for providing the polar group is performed mainly by radicals in the plasma, so that the surface of the resin molded body is not etched by ions having high energy, and the polar group is formed at a high density. The metal film can be formed on the resin molded body with high adhesion.

【0089】また請求項8の発明は、上記請求項1乃至
7のいずれかにおいて、プラズマ中のラジカルで樹脂成
形体の表面の樹脂の分子に極性基を付与する処理をした
後、プラズマ処理して樹脂成形体の表面の樹脂の分子を
架橋させるようにしたので、分子の架橋で樹脂成形体の
表面を強化することができ、樹脂成形体の表面に対する
金属膜の密着性を一層高くすることができるものであ
る。
The invention according to claim 8 is the method according to any one of claims 1 to 7, wherein a treatment is carried out for imparting a polar group to the molecules of the resin on the surface of the resin molded body with radicals in the plasma, and then performing the plasma treatment. The resin molecules on the surface of the resin molded body are cross-linked to strengthen the surface of the resin molded body by the cross-linking of the molecules, thereby further improving the adhesion of the metal film to the surface of the resin molded body. Can be done.

【0090】また請求項9の発明は、上記請求項8にお
いて、プラズマから発せられる紫外線は通過させるがプ
ラズマ中のイオンは通過させないバリアで樹脂成形体を
囲った状態で、樹脂成形体の表面の樹脂の分子を架橋さ
せるプラズマ処理をするようにしたので、プラズマから
の紫外線で樹脂の分子を架橋させる際に、プラズマ中の
イオンが樹脂成形体の表面に衝突することを防止するこ
とができ、架橋がイオンの作用で開裂されたりすること
を防ぐことができるものである。
Further, according to the invention of claim 9, the surface of the resin molded body is surrounded by a barrier which allows ultraviolet rays emitted from the plasma to pass but does not allow ions in the plasma to pass therethrough. Since the plasma treatment for cross-linking the resin molecules is performed, it is possible to prevent ions in the plasma from colliding with the surface of the resin molded body when cross-linking the resin molecules with ultraviolet light from the plasma, The crosslinking can be prevented from being cleaved by the action of ions.

【0091】また請求項10の発明は、上記請求項1乃
至7のいずれかにおいて、プラズマ中のラジカルで樹脂
成形体の表面の樹脂の分子に極性基を付与する処理をし
た後、紫外線照射処理をして樹脂成形体の表面の樹脂の
分子を架橋させるようにしたので、分子の架橋で樹脂成
形体の表面を強化することができ、樹脂成形体の表面に
対する金属膜の密着性を一層高めることができるもので
ある。
The invention according to claim 10 is the method according to any one of claims 1 to 7, wherein the treatment in the plasma is carried out to give a polar group to the molecules of the resin on the surface of the resin molded article by radicals in the plasma, and then the ultraviolet irradiation treatment is performed. To crosslink the resin molecules on the surface of the resin molded body, so that the surface of the resin molded body can be strengthened by the crosslinking of the molecules, and the adhesion of the metal film to the surface of the resin molded body is further enhanced. Is what you can do.

【0092】また請求項11の発明は、上記請求項10
において、紫外線照射処理を紫外線レーザを用いて行な
うようにしたので、紫外線レーザを照射することによっ
て樹脂成形体の表面の樹脂の分子を架橋させ、分子の架
橋で樹脂成形体の表面を強化することができるものであ
る。
The invention of claim 11 provides the above-mentioned claim 10.
In the above, the ultraviolet irradiation treatment is performed using an ultraviolet laser, so that the ultraviolet light is irradiated to crosslink the resin molecules on the surface of the resin molded body, and the surface of the resin molded body is reinforced by the crosslinking of the molecules. Can be done.

【0093】また請求項12の発明は、上記請求項10
において、紫外線照射処理をエキシマランプを用いて行
なうようにしたので、エキシマランプから放射される紫
外線を照射することによって樹脂成形体の表面の樹脂の
分子を架橋させ、分子の架橋で樹脂成形体の表面を強化
することができるものである。
Further, the invention of claim 12 provides the above-mentioned claim 10
In, the ultraviolet irradiation treatment is performed using an excimer lamp, so that the resin molecules on the surface of the resin molded article are cross-linked by irradiating ultraviolet rays emitted from the excimer lamp, and the cross-linking of the molecules causes the resin molded article to be crosslinked. The surface can be strengthened.

【0094】また請求項13の発明は、上記請求項1乃
至12のいずれかにおいて、樹脂成形体の表面の樹脂の
分子の結合を開裂する処理を行なうに先だって、樹脂成
形体の表面を粗化するプラズマ処理を行なうようにした
ので、樹脂成形体に対する金属膜の密着性を、粗化の凹
凸によるアンカー効果で高めることができるものであ
る。
According to a thirteenth aspect of the present invention, in any one of the first to twelfth aspects, the surface of the resin molded body is roughened prior to the step of cleaving the bonding of the molecules of the resin on the surface of the resin molded body. Since the plasma treatment is performed, the adhesion of the metal film to the resin molded body can be increased by the anchor effect due to the roughening irregularities.

【0095】また請求項14の発明は、上記請求項13
において、酸素あるいはオゾンを雰囲気ガスとするプラ
ズマで、樹脂成形体の表面を粗化するプラズマ処理をす
るようにしたので、酸素あるいはオゾンのプラズマはエ
ッチング速度が速く、表面粗化の処理時間を短縮するこ
とができるものである。
The invention of claim 14 is the invention of claim 13
In the above, the plasma treatment for roughening the surface of the resin molded body with plasma using oxygen or ozone as an atmospheric gas is performed, so that the oxygen or ozone plasma has a high etching rate and shortens the processing time for surface roughening. Is what you can do.

【0096】また請求項15の発明は、上記請求項1乃
至14のいずれかにおいて、プラズマ中のラジカルの作
用で樹脂成形体の表面の樹脂の分子に極性基を付与する
処理を、樹脂成形体を加熱しながら行なうようにしたの
で、樹脂成形体の樹脂の分子の活性が高くなって、樹脂
の分子への極性基の付与が促進され、極性基の形成を効
率高く高密度で行なうことができるものである。
According to a fifteenth aspect of the present invention, in any one of the first to fourteenth aspects, the treatment for imparting a polar group to the molecules of the resin on the surface of the resin molded product by the action of radicals in the plasma is performed by the resin molded product. Is performed while heating, the activity of the resin molecules of the resin molded body is increased, the provision of polar groups to the resin molecules is promoted, and the formation of the polar groups can be performed with high efficiency and high density. You can do it.

【0097】また請求項16の発明は、上記請求項15
において、樹脂成形体を、樹脂成形体の樹脂のガラス転
移温度±30℃の温度で加熱するようにしたので、樹脂
成形体に熱変形や熱劣化が生じるようなことなく、樹脂
の分子への極性基の付与を促進することができるもので
ある。
The invention of claim 16 is the invention of claim 15
In the method, the resin molded body is heated at a temperature of ± 30 ° C., which is the glass transition temperature of the resin of the resin molded body. It can promote the provision of a polar group.

【0098】また請求項17の発明は、上記請求項15
又は16において、樹脂成形体の表層部のみを加熱する
ようにしたので、樹脂成形体の全体が加熱される場合の
ような樹脂成形体の変形のおそれがなくなるものであ
る。
The invention of claim 17 provides the above-mentioned claim 15.
Alternatively, in step 16, since only the surface layer of the resin molded body is heated, there is no risk of deformation of the resin molded body as in the case where the entire resin molded body is heated.

【0099】また請求項18の発明は、上記請求項17
において、熱線を樹脂成形体の表面に照射して、樹脂成
形体の表層部のみを加熱するようにしたので、熱線は樹
脂成形体の内部に浸透し難く、表層部のみの加熱を容易
に行なうことができるものである。
The invention according to claim 18 is based on claim 17.
In the method, since the surface of the resin molded body is irradiated with a heat ray to heat only the surface layer portion of the resin molded body, the heat ray hardly penetrates into the inside of the resin molded body, and only the surface layer portion is easily heated. Is what you can do.

【0100】また請求項19の発明は、上記請求項1乃
至18のいずれかにおいて、プラズマ中のラジカルの作
用で樹脂成形体の表面の樹脂の分子に極性基を付与する
処理を、雰囲気ガスとしてNH3,SO2,NO2,CO
から選ばれるガスを用いたプラズマで行なうようにした
ので、樹脂成形体の樹脂の分子に電子親和力が大きい極
性基を付与することができ、樹脂成形体の表面に対する
金属膜の密着性を一層高めることができるものである。
The invention according to claim 19 is the invention according to any one of claims 1 to 18, wherein the treatment for imparting a polar group to the molecules of the resin on the surface of the resin molded article by the action of radicals in the plasma is performed as an atmosphere gas. NH 3 , SO 2 , NO 2 , CO
Is performed by using a plasma selected from the group consisting of: a polar group having a high electron affinity can be imparted to the resin molecules of the resin molded body, and the adhesion of the metal film to the surface of the resin molded body is further enhanced. Is what you can do.

【0101】また請求項20の発明は、上記請求項1乃
至19のいずれかにおいて、樹脂成形体の表面に金属膜
を形成するに先だって、樹脂成形体に対する密着性が金
属膜よりも高い金属を樹脂成形体の表面にプレコート
し、このプレコート金属膜の上に上記の金属膜を形成す
るようにしたので、樹脂成形体と金属膜の間に、樹脂成
形体に対する密着性が金属膜よりも高いプレコート金属
膜が存在し、樹脂成形体に対する金属膜の密着性を一層
高めることができるものである。
The invention according to claim 20 is the method according to any one of claims 1 to 19, wherein the metal having higher adhesion to the resin molded body than the metal film is formed before forming the metal film on the surface of the resin molded body. Since the surface of the resin molded body is pre-coated and the above-mentioned metal film is formed on the pre-coated metal film, the adhesion between the resin molded body and the metal film is higher than that of the metal film. The presence of the pre-coated metal film can further enhance the adhesion of the metal film to the resin molded product.

【0102】また請求項21の発明は、上記請求項20
において、樹脂成形体を、樹脂成形体の樹脂のガラス転
移温度±30℃の温度で加熱して金属のプレコートを行
なうようにしたので、樹脂成形体に熱変形や熱劣化が生
じるようなことなく、樹脂成形体に対する密着性を高め
てプレコート金属膜の形成ができるものである。
The invention according to claim 21 is based on the above-mentioned claim 20.
In the above, the resin molded body is heated at a temperature of ± 30 ° C. of the glass transition temperature of the resin of the resin molded body so that the metal is pre-coated, so that the resin molded body does not undergo thermal deformation or thermal deterioration. In addition, a pre-coated metal film can be formed by increasing the adhesion to a resin molded body.

【0103】また請求項22の発明は、請求項20又は
21において、金属酸化物でプレコート金属膜を形成す
るようにしたので、樹脂成形体に対する金属膜の密着性
を一層高く得ることができるものである。
According to a twenty-second aspect of the present invention, since the pre-coated metal film is formed of a metal oxide in the twentieth or twenty-first aspect, the adhesion of the metal film to the resin molding can be further improved. It is.

【0104】また請求項23の発明は、樹脂成形体の表
面に金属膜を形成するに先だって、金属膜との密着性が
樹脂成形体の樹脂よりも高い樹脂を樹脂成形体の表面に
プレコートし、このプレコート樹脂膜の上に上記の金属
膜を形成するようにしたので、樹脂成形体と金属膜の間
に、金属膜との密着性が樹脂成形体の樹脂よりも高いプ
レコート金属膜が存在し、樹脂成形体に対する金属膜の
密着性を一層高めることができるものである。
According to a twenty-third aspect of the present invention, prior to forming a metal film on the surface of the resin molded product, a resin having higher adhesion to the metal film than the resin of the resin molded product is precoated on the surface of the resin molded product. Since the above-mentioned metal film is formed on the pre-coated resin film, there is a pre-coated metal film between the resin molded product and the metal film, which has higher adhesion to the metal film than the resin of the resin molded product. Then, the adhesion of the metal film to the resin molded body can be further enhanced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態の一例を示すものであり、
(a)は樹脂成形体の樹脂の分子の結合を開裂するプラ
ズマ処理を示す概略図、(b)は樹脂成形体の樹脂の分
子に極性基を付与するプラズマ処理を示す概略図であ
る。
FIG. 1 shows an example of an embodiment of the present invention,
(A) is a schematic diagram showing a plasma treatment for cleaving a bond of a resin molecule of a resin molded product, and (b) is a schematic diagram showing a plasma treatment for giving a polar group to a resin molecule of the resin molded product.

【図2】同上の樹脂成形体の処理の状態を示すものであ
り、(a),(b),(c)はそれぞれ断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state of processing of the resin molded body according to the first embodiment, wherein (a), (b), and (c) are cross-sectional views.

【図3】本発明の実施の形態の他の一例を示すものであ
り、樹脂成形体の樹脂の分子に極性基を付与するプラズ
マ処理を示す概略図である。
FIG. 3, showing another example of the embodiment of the present invention, is a schematic view showing a plasma treatment for giving a polar group to a resin molecule of a resin molded product.

【図4】本発明の実施の形態の他の一例を示すものであ
り、樹脂成形体の樹脂の分子に極性基を付与するプラズ
マ処理を示す概略図である。
FIG. 4 shows another example of the embodiment of the present invention, and is a schematic view showing a plasma treatment for giving a polar group to a resin molecule of a resin molded product.

【図5】本発明の実施の形態の他の一例を示すものであ
り、樹脂成形体の樹脂の分子の結合を開裂するプラズマ
処理を示す概略図である。
FIG. 5 shows another example of the embodiment of the present invention, and is a schematic view showing a plasma treatment for cleaving a bond between molecules of a resin of a resin molded product.

【図6】本発明の実施の形態の他の一例を示すものであ
り、樹脂成形体の樹脂の分子の結合を開裂するレーザー
処理を示す概略図である。
FIG. 6, showing another example of the embodiment of the present invention, is a schematic view showing a laser treatment for cleaving a bond of a resin molecule of a resin molded product.

【図7】本発明の実施の形態の他の一例を示すものであ
り、樹脂成形体の樹脂の分子を架橋させるプラズマ処理
を示す概略図である。
FIG. 7 shows another example of the embodiment of the present invention, and is a schematic view showing a plasma treatment for cross-linking resin molecules of a resin molded product.

【図8】本発明の実施の形態の他の一例を示すものであ
り、樹脂成形体の樹脂の分子を架橋させるプラズマ処理
を示す概略図である。
FIG. 8 shows another example of the embodiment of the present invention, and is a schematic view showing a plasma treatment for cross-linking resin molecules of a resin molded product.

【図9】本発明の実施の形態の他の一例における樹脂成
形体の処理の状態を示すものであり、(a),(b),
(c),(d)はそれぞれ断面図である。
FIG. 9 shows a state of processing of a resin molded body according to another example of the embodiment of the present invention, wherein (a), (b),
(C) and (d) are sectional views, respectively.

【図10】本発明の実施の形態の他の一例を示すもので
あり、樹脂成形体の表面にプレコート樹脂膜を形成する
処理を示す概略図である。
FIG. 10 illustrates another example of the embodiment of the present invention, and is a schematic view illustrating a process of forming a precoat resin film on a surface of a resin molded product.

【図11】本発明の実施の形態の他の一例における樹脂
成形体の処理の状態を示すものであり、(a),
(b),(c),(d)はそれぞれ断面図である。
FIG. 11 shows a state of processing of a resin molded body according to another example of the embodiment of the present invention, wherein (a),
(B), (c), and (d) are sectional views, respectively.

【図12】従来のプラズマ処理を示す概略図である。FIG. 12 is a schematic view showing a conventional plasma processing.

【図13】従来のプラズマ処理による処理前と処理後の
金属膜のピール強度を示すグラフである。
FIG. 13 is a graph showing the peel strength of a metal film before and after a conventional plasma process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 樹脂成形体 2 金属膜 3 保持電極 4 対向電極 5 中間電極 6 プレコート金属膜 7 プレコート樹脂膜 8 高周波電源 9 バリア 10 極性基 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Resin molded object 2 Metal film 3 Holding electrode 4 Counter electrode 5 Intermediate electrode 6 Precoat metal film 7 Precoat resin film 8 High frequency power supply 9 Barrier 10 Polar group

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 池川 直人 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 (72)発明者 進藤 崇 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 Fターム(参考) 4F006 AA38 AB73 CA05 CA08 DA01 EA03 4F073 AA01 BA29 BB01 CA01  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Naoto Ikegawa 1048 Kazumasa Kadoma, Osaka Prefecture Inside Matsushita Electric Works, Ltd. Term (reference) 4F006 AA38 AB73 CA05 CA08 DA01 EA03 4F073 AA01 BA29 BB01 CA01

Claims (23)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 樹脂成形体の表面の樹脂の分子の結合を
開裂するプラズマ処理を行なった後、プラズマをダウン
ストリーム法で樹脂成形体の表面に導くことによって、
プラズマ中のラジカルを主として樹脂成形体の表面に到
達させると共にこのラジカルの作用で樹脂成形体の表面
の樹脂の分子に極性基を付与する処理をし、この後、樹
脂成形体の表面に金属膜を形成することを特徴とする樹
脂成形体への金属膜形成方法。
After performing a plasma treatment for cleaving the bond of the resin molecules on the surface of the resin molded product, the plasma is guided to the surface of the resin molded product by a downstream method.
The radicals in the plasma mainly reach the surface of the resin molded body, and a process of imparting a polar group to the molecules of the resin on the surface of the resin molded body by the action of the radical is performed. Forming a metal film on a resin molding.
【請求項2】 樹脂成形体の表面の樹脂の分子の結合を
開裂するプラズマ処理を行なった後、プラズマ中のイオ
ンを電極に電気的に吸引して樹脂成形体の表面に到達さ
せないようにすることによって、プラズマ中のラジカル
を主として樹脂成形体の表面に到達させると共にこのラ
ジカルの作用で樹脂成形体の表面の樹脂の分子に極性基
を付与する処理をし、この後、樹脂成形体の表面に金属
膜を形成することを特徴とする樹脂成形体への金属膜形
成方法。
2. After performing a plasma treatment for cleaving the bond of the resin molecules on the surface of the resin molded body, ions in the plasma are electrically attracted to the electrodes so as not to reach the surface of the resin molded body. By doing so, the radicals in the plasma mainly reach the surface of the resin molded body, and a process of imparting a polar group to the molecules of the resin on the surface of the resin molded body by the action of the radical is performed. A method for forming a metal film on a resin molded product, comprising forming a metal film on a substrate.
【請求項3】 プラズマ中のラジカルの作用で樹脂成形
体の表面の樹脂の分子に極性基を付与する処理をするに
あたって、樹脂成形体を保持する保持電極と樹脂成形体
と対向する対向電極の間でプラズマを発生させ、プラズ
マ中のイオンを電気的に吸引する中間電極で樹脂成形体
を囲うことによって、プラズマ中のイオンを樹脂成形体
の表面に到達させないようにすることを特徴とする請求
項2に記載の樹脂成形体への金属膜形成方法。
3. A process for imparting a polar group to a resin molecule on the surface of a resin molded body by the action of radicals in plasma, wherein a holding electrode for holding the resin molded body and a counter electrode facing the resin molded body are provided. A plasma is generated between the electrodes, and by surrounding the resin molded body with an intermediate electrode that electrically attracts ions in the plasma, ions in the plasma are prevented from reaching the surface of the resin molded body. Item 3. A method for forming a metal film on a resin molded product according to Item 2.
【請求項4】 プラズマ中のラジカルの作用で樹脂成形
体の表面の樹脂の分子に極性基を付与する処理をするに
あたって、樹脂成形体を保持する保持電極と樹脂成形体
と対向する対向電極の間でプラズマを発生させ、対向電
極に負のバイアスがかかった高周波電圧を印加すること
によって、プラズマ中のイオンを対向電極に電気的に吸
引させて、プラズマ中のイオンを樹脂成形体の表面に到
達させないようにすることを特徴とする請求項2に記載
の樹脂成形体への金属膜形成方法。
4. A process for imparting a polar group to a resin molecule on the surface of a resin molded body by the action of radicals in plasma, wherein a holding electrode for holding the resin molded body and a counter electrode facing the resin molded body are provided. By generating a plasma between the electrodes and applying a negatively biased high-frequency voltage to the counter electrode, ions in the plasma are electrically attracted to the counter electrode, and the ions in the plasma are applied to the surface of the resin molding. The method for forming a metal film on a resin molded product according to claim 2, wherein the metal film is not allowed to reach.
【請求項5】 樹脂成形体を保持する保持電極と樹脂成
形体と対向する対向電極の間でプラズマを発生させて、
樹脂成形体の表面の樹脂の分子の結合を開裂するプラズ
マ処理を行なうにあたって、保持電極に負のバイアスが
かかった高周波電圧を印加すると共に、負のバイアス電
圧を−100V〜−700Vの範囲に制御することを特
徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の樹脂成形体
への金属膜形成方法。
5. A plasma is generated between a holding electrode holding the resin molded body and a counter electrode facing the resin molded body,
In performing the plasma treatment for cleaving the bonding of the resin molecules on the surface of the resin molded body, a high frequency voltage with a negative bias is applied to the holding electrode, and the negative bias voltage is controlled in a range of -100V to -700V. The method for forming a metal film on a resin molded product according to any one of claims 1 to 4, wherein:
【請求項6】 樹脂成形体の表面にレーザーを照射して
樹脂成形体の表面の樹脂の分子の結合を開裂する処理を
行なった後、プラズマをダウンストリーム法で樹脂成形
体の表面に導くことによって、プラズマ中のラジカルを
主として樹脂成形体の表面に到達させると共にこのラジ
カルの作用で樹脂成形体の表面の樹脂の分子に極性基を
付与する処理をし、この後、樹脂成形体の表面に金属膜
を形成することを特徴とする樹脂成形体への金属膜形成
方法。
6. A process for irradiating a laser to the surface of the resin molded body to cleave the bonds of the molecules of the resin on the surface of the resin molded body, and then guiding the plasma to the surface of the resin molded body by a downstream method. In this way, the radicals in the plasma mainly reach the surface of the resin molded body, and at the same time, a process of imparting a polar group to the molecules of the resin on the surface of the resin molded body by the action of the radicals is performed. A method for forming a metal film on a resin molding, comprising forming a metal film.
【請求項7】 樹脂成形体の表面にレーザーを照射して
樹脂成形体の表面の樹脂の分子の結合を開裂する処理を
行なった後、プラズマ中のイオンを電極に電気的に吸引
して樹脂成形体の表面に到達させないようにすることに
よって、プラズマ中のラジカルを主として樹脂成形体の
表面に到達させると共にこのラジカルの作用で樹脂成形
体の表面の樹脂の分子に極性基を付与する処理をし、こ
の後、樹脂成形体の表面に金属膜を形成することを特徴
とする樹脂成形体への金属膜形成方法。
7. A process for irradiating a laser to the surface of the resin molded body to cleave the bonds of the molecules of the resin on the surface of the resin molded body, and then electrically attracting ions in the plasma to the electrode to cause a resin By preventing the radicals in the plasma from reaching the surface of the molded body, the process of causing the radicals in the plasma to mainly reach the surface of the molded resin body and imparting a polar group to the molecules of the resin on the surface of the molded resin body by the action of the radicals. Thereafter, a metal film is formed on the surface of the resin molded body, and a method of forming a metal film on the resin molded body.
【請求項8】 プラズマ中のラジカルで樹脂成形体の表
面の樹脂の分子に極性基を付与する処理をした後、プラ
ズマ処理して樹脂成形体の表面の樹脂の分子を架橋させ
ることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の
樹脂成形体への金属膜形成方法。
8. A process for imparting a polar group to the resin molecules on the surface of the resin molded body by radicals in the plasma, followed by plasma treatment to crosslink the resin molecules on the surface of the resin molded body. A method for forming a metal film on a resin molded product according to any one of claims 1 to 7.
【請求項9】 プラズマから発せられる紫外線は通過さ
せるがプラズマ中のイオンは通過させないバリアで樹脂
成形体を囲った状態で、樹脂成形体の表面の樹脂の分子
を架橋させるプラズマ処理をすることを特徴とする請求
項8に記載の樹脂成形体への金属膜形成方法。
9. A plasma treatment for cross-linking resin molecules on the surface of the resin molded body in a state where the resin molded body is surrounded by a barrier that allows ultraviolet rays emitted from the plasma to pass but does not allow ions in the plasma to pass therethrough. The method for forming a metal film on a resin molded product according to claim 8.
【請求項10】 プラズマ中のラジカルで樹脂成形体の
表面の樹脂の分子に極性基を付与する処理をした後、紫
外線照射処理をして樹脂成形体の表面の樹脂の分子を架
橋させることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに
記載の樹脂成形体への金属膜形成方法。
10. A process for imparting a polar group to a resin molecule on the surface of a resin molded product by radicals in plasma, followed by an ultraviolet irradiation treatment to crosslink the resin molecule on the surface of the resin molded product. A method for forming a metal film on a resin molding according to any one of claims 1 to 7.
【請求項11】 紫外線照射処理を紫外線レーザを用い
て行なうことを特徴とする請求項10に記載の樹脂成形
体への金属膜形成方法。
11. The method for forming a metal film on a resin molding according to claim 10, wherein the ultraviolet irradiation treatment is performed using an ultraviolet laser.
【請求項12】 紫外線照射処理をエキシマランプを用
いて行なうことを特徴とする請求項10に記載の樹脂成
形体への金属膜形成方法。
12. The method for forming a metal film on a resin molding according to claim 10, wherein the ultraviolet irradiation treatment is performed using an excimer lamp.
【請求項13】 樹脂成形体の表面の樹脂の分子の結合
を開裂する処理を行なうに先だって、樹脂成形体の表面
を粗化するプラズマ処理を行なうことを特徴とする請求
項1乃至12のいずれかに記載の樹脂成形体への金属膜
形成方法。
13. A plasma treatment for roughening the surface of the resin molded body prior to performing the treatment for cleaving the bond of the resin molecules on the surface of the resin molded body. A method for forming a metal film on a resin molded product according to any of the above items.
【請求項14】 酸素あるいはオゾンを雰囲気ガスとす
るプラズマで、樹脂成形体の表面を粗化するプラズマ処
理をすることを特徴とする請求項13に記載の樹脂成形
体への金属膜形成方法。
14. The method for forming a metal film on a resin molded product according to claim 13, wherein a plasma treatment for roughening the surface of the resin molded product is performed with plasma using oxygen or ozone as an atmospheric gas.
【請求項15】 プラズマ中のラジカルの作用で樹脂成
形体の表面の樹脂の分子に極性基を付与する処理を、樹
脂成形体を加熱しながら行なうことを特徴とする請求項
1乃至14のいずれかに記載の樹脂成形体への金属膜形
成方法。
15. The resin molding according to claim 1, wherein the process of imparting a polar group to the resin molecules on the surface of the resin molding by the action of radicals in the plasma is performed while heating the resin molding. A method for forming a metal film on a resin molded product according to any of the above items.
【請求項16】 樹脂成形体を、樹脂成形体の樹脂のガ
ラス転移温度±30℃の温度で加熱することを特徴とす
る請求項15に記載の樹脂成形体への金属膜形成方法。
16. The method for forming a metal film on a resin molded body according to claim 15, wherein the resin molded body is heated at a temperature of a glass transition temperature of the resin of the resin molded body ± 30 ° C.
【請求項17】 樹脂成形体の表層部のみを加熱するこ
とを特徴とする請求項15又は16に記載の樹脂成形体
への金属膜形成方法。
17. The method for forming a metal film on a resin molded product according to claim 15, wherein only the surface layer portion of the resin molded product is heated.
【請求項18】 熱線を樹脂成形体の表面に照射して、
樹脂成形体の表層部のみを加熱することを特徴とする請
求項17に記載の樹脂成形体への金属膜形成方法。
18. Irradiating a surface of the resin molded body with a heat ray,
The method for forming a metal film on a resin molded product according to claim 17, wherein only the surface layer portion of the resin molded product is heated.
【請求項19】 プラズマ中のラジカルの作用で樹脂成
形体の表面の樹脂の分子に極性基を付与する処理を、雰
囲気ガスとしてNH3,SO2,NO2,COから選ばれ
るガスを用いたプラズマで行なうことを特徴とする請求
項1乃至18のいずれかに記載の樹脂成形体への金属膜
形成方法。
19. A process for imparting a polar group to a resin molecule on the surface of a resin molded body by the action of radicals in plasma using a gas selected from NH 3 , SO 2 , NO 2 , and CO as an atmosphere gas. 19. The method for forming a metal film on a resin molded product according to claim 1, wherein the method is performed by plasma.
【請求項20】 樹脂成形体の表面に金属膜を形成する
に先だって、樹脂成形体に対する密着性が金属膜よりも
高い金属を樹脂成形体の表面にプレコートし、このプレ
コート金属膜の上に上記の金属膜を形成することを特徴
とする請求項1乃至19のいずれかに記載の樹脂成形体
への金属膜形成方法。
20. Prior to forming a metal film on the surface of the resin molded product, a metal having higher adhesiveness to the resin molded product than the metal film is pre-coated on the surface of the resin molded product, and The method for forming a metal film on a resin molded product according to any one of claims 1 to 19, wherein the metal film is formed.
【請求項21】 樹脂成形体を、樹脂成形体の樹脂のガ
ラス転移温度±30℃の温度で加熱して金属のプレコー
トを行なうことを特徴とする請求項20に記載の樹脂成
形体への金属膜形成方法。
21. The method according to claim 20, wherein the resin molded body is pre-coated with a metal by heating the resin molded body at a temperature of ± 30 ° C. of the glass transition temperature of the resin of the resin molded body. Film formation method.
【請求項22】 金属酸化物でプレコート金属膜を形成
することを特徴とする請求項20又は21に記載の樹脂
成形体への金属膜形成方法。
22. The method for forming a metal film on a resin molding according to claim 20, wherein the pre-coated metal film is formed of a metal oxide.
【請求項23】 樹脂成形体の表面に金属膜を形成する
に先だって、金属膜との密着性が樹脂成形体の樹脂より
も高い樹脂を樹脂成形体の表面にプレコートし、このプ
レコート樹脂膜の上に上記の金属膜を形成することを特
徴とする請求項1乃至19のいずれかに記載の樹脂成形
体への金属膜形成方法。
23. Prior to forming a metal film on the surface of the resin molded body, a resin having higher adhesion to the metal film than the resin of the resin molded body is pre-coated on the surface of the resin molded body. The method for forming a metal film on a resin molding according to any one of claims 1 to 19, wherein the metal film is formed thereon.
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JP2012102205A (en) * 2010-11-09 2012-05-31 Ihi Corp Method for hydrophilicizing plastic surface

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