JP2002124092A - Non-volatile semiconductor memory - Google Patents

Non-volatile semiconductor memory

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JP2002124092A
JP2002124092A JP2000316547A JP2000316547A JP2002124092A JP 2002124092 A JP2002124092 A JP 2002124092A JP 2000316547 A JP2000316547 A JP 2000316547A JP 2000316547 A JP2000316547 A JP 2000316547A JP 2002124092 A JP2002124092 A JP 2002124092A
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JP
Japan
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data
memory cells
memory
sector
phase
Prior art date
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JP2000316547A
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Japanese (ja)
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Toshinori Harada
敏典 原田
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Hitachi Ltd
Hitachi Solutions Technology Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi ULSI Systems Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To shorten a processing time for writing and reading only control data, consequently, to shorten a time required for writing and erasing data, in a flash memory in which memory cells of two or more are correspondent to one data line in one sector. SOLUTION: In a non-volatile semiconductor memory in which memory cells of '0' and '1' are connected respectively to each data line through a selecting means in one sector, any one memory cell out of memory cells of phase '0' and '1' is constituted so as to be able to conduct for each data line selectively and simultaneously by the selecting means, the sector comprises memory cells corresponding to normal bit addresses (Y=0-2047) in which arbitrary data is stored and memory cells corresponding to control bit addresses (Y=2048-2111) in which control data about the sector is stored, memory cells corresponding to the control bit addresses are allotted to only memory cells of phase '0'.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、不揮発性半導体
メモリのデータ消去やデータ書込みの高速化技術に関
し、例えばデータを一括消去可能なフラッシュメモリに
適用して有用な技術に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a technique for speeding up data erasing and data writing in a nonvolatile semiconductor memory, and more particularly to a technique useful when applied to a flash memory capable of collectively erasing data.

【0002】[0002]

【従来の技術】不揮発性半導体メモリとしてのフラッシ
ュメモリには、例えば図2に示すように、制御ゲートと
浮遊ゲートとを有するMOSFETからなる複数のメモ
リセルMC…がマトリックス状に配列され、ローカルデ
ータ線とローカルソース線との間に、各々ソースとドレ
インを共通にして接続されたメモリセル列MCCが構成
され、さらに、このようなメモリセル列MCCがワード
線方向に複数設けられてメモリアレイが構成されてい
る。
2. Description of the Related Art In a flash memory as a nonvolatile semiconductor memory, for example, as shown in FIG. 2, a plurality of memory cells MC composed of MOSFETs having a control gate and a floating gate are arranged in a matrix, A memory cell column MCC connected in common with a source and a drain is formed between the line and the local source line. Further, a plurality of such memory cell columns MCC are provided in the word line direction to form a memory array. It is configured.

【0003】このように構成されたメモリアレイにおい
ては、同一のメモリセル列MCCを構成する各メモリセ
ルMCの制御ゲートにはそれぞれ異なるワード線が結合
されるとともに、共通にされたドレインが選択MOSF
ET Qs10,Qs11…を介してデータ線(ビット
線とも云う)に接続される一方、共通にされたソースが
選択MOSFET Qs2,Qs2を介して例えばグラ
ンドなどに接続されて構成される。
In the memory array configured as described above, different word lines are respectively connected to control gates of the memory cells MC forming the same memory cell column MCC, and a common drain is connected to the selection MOSF.
Are connected to data lines (also referred to as bit lines) via ETs Qs10, Qs11,..., While connected to a common source via selection MOSFETs Qs2, Qs2 to, for example, ground.

【0004】近年の半導体技術においては、メモリセル
など素子のスケールを縮小させる技術が進む一方、配線
幅を縮小させる技術はそれほど進歩していない。そのた
め、1つのメモリセル列MCCに対して1本のデータ線
を設けていたのでは、データ線の間隔がネックになって
メモリセル列MCCを隙間が小さくなるよう効率的に形
成することが難しくなる。そこで、図2のように1本の
データ線DLに対して第1系統と第2系統の2つのメモ
リセル列MCC,MCCを対応させ、2つのメモリセル
列MCC,MCCの各ドレイン側を選択MOSFET
Qs10,Qs11を介してデータ線に接続するように
したフラッシュメモリが近年開発され、それによりデー
タ線DL0…の密集の緩和が図られている。
In recent semiconductor technology, while the technology for reducing the scale of elements such as memory cells has been advanced, the technology for reducing the width of wiring has not advanced much. Therefore, if one data line is provided for one memory cell column MCC, it is difficult to efficiently form the memory cell column MCC so as to reduce the gap due to the interval between the data lines as a bottleneck. Become. Then, as shown in FIG. 2, two memory cell columns MCC, MCC of the first system and the second system are made to correspond to one data line DL, and each drain side of the two memory cell columns MCC, MCC is selected. MOSFET
In recent years, a flash memory that is connected to data lines via Qs10 and Qs11 has been developed, thereby reducing the density of data lines DL0.

【0005】以下、このような構成のフラッシュメモリ
をツーフェイズ型のフラッシュメモリと呼び、さらに第
1系統のメモリセル列をフェイズ“0”のメモリセル、
第2系統のメモリセル列をフェイズ“1”のメモリセル
と呼ぶ。なお、データ線とメモリセルMC…のドレイン
を導通させる選択MOSFET Qs10…,Qs11
…は、メモリアレイ中の全てのフェイズ“0”のメモリ
セルMC…、或いは、全てのフェイズ“1”のメモリセ
ルMC…をそれぞれ選択的に且つそれぞれ同時にデータ
線に導通させるように構成される。
Hereinafter, a flash memory having such a configuration is called a two-phase flash memory, and a first-system memory cell column is a memory cell having a phase “0”.
The memory cell row of the second system is referred to as a memory cell of phase “1”. The selection MOSFETs Qs10..., Qs11 that make the data lines and the drains of the memory cells MC.
Are configured to selectively and simultaneously simultaneously conduct all phase “0” memory cells MC or all phase “1” memory cells MC in the memory array to the data lines. .

【0006】このようなツーフェイズ型のフラッシュメ
モリによれば、データを読み書きする際にはドレイン側
に接続されたフェイズ“0”系とフェイズ“1”系との
2系統の選択MOSFETを順番にオン状態にすること
で、同一のワード線と同一のデータ線とに接続される2
つのメモリセルに対するデータの読み書きが時間差をお
いて行われる。
According to such a two-phase flash memory, when data is read or written, two-system selection MOSFETs of a phase "0" system and a phase "1" system connected to the drain side are sequentially arranged. By being turned on, 2 connected to the same word line and the same data line
Reading and writing of data from and to one memory cell are performed with a time lag.

【0007】一方、上記ツーフェイズ型のフラッシュメ
モリにおけるデータの消去は、ワード線を共通にする全
てのメモリセルで同時に行われる。すなわち、データの
消去はワード線を共通にしているフェイズ“0”のメモ
リセルとフェイズ“1”のメモリセルとで両方同時に行
われる。そして、データの消去と書込みの単位を同一に
したいという要望から、データ書込みの単位もワード線
を共通にし第1系統と第2系統の両方のメモリセルを含
むセクタを1単位とするように設定されることが一般に
多い。
On the other hand, data erasure in the two-phase flash memory is performed simultaneously in all memory cells sharing a word line. That is, data erasure is performed simultaneously for the phase "0" memory cells and the phase "1" memory cells that share a word line. In response to a desire to make the unit of data erasing and writing the same, the unit of data writing is set so that the word line is common and the sector including both the first and second system memory cells is one unit. It is often the case.

【0008】ところで、フラッシュメモリにおいては、
メモリセルの状態の良否等の管理データをセクタ毎に設
けられた管理ビットに格納して、セクタ毎に管理処理を
行うのが一般的である。例えば、或るセクタのデータを
消去した後、該セクタのメモリセルが正常であれば正常
を示す管理データを管理ビットに書き込むといった処理
を行う。また、或るセクタにデータを書き込む際には、
先ず、該セクタの管理データを読み出して該セクタのメ
モリセルが正常であることを確かめた上でデータの書込
みを行うと云った管理処理が行われる。
By the way, in a flash memory,
Generally, management data such as the state of the memory cell is stored in management bits provided for each sector, and management processing is performed for each sector. For example, after erasing data in a certain sector, if the memory cell in the sector is normal, a process of writing normal management data to the management bits is performed. When writing data to a certain sector,
First, a management process of reading the management data of the sector and confirming that the memory cells of the sector are normal and then writing the data is performed.

【0009】従来のツーフェイズ型のフラッシュメモリ
においては、上記管理ビットはフェイズ“0”とフェイ
ズ“1”の両方のメモリセルにまたがって割り当てられ
ていた。例えば、メモリセルのY方向のアドレス配置
は、回路上におけるメモリセルの配列順に沿って、任意
のデータが格納される一般ビットアドレス(Y=0〜2
047)が連続的に割り当てられた後に、管理ビットア
ドレス(Y=2048〜2111)が続いて割り当てら
れ、その後、不良セルの代替用の冗長ビットアドレス
(Y=2112〜2127)が割り当てられると云った
構成であり、その管理ビットアドレスが割り当てられた
メモリセルにはフェイズ“0”とフェイズ“1”の両方
のメモリセルが含まれるように構成されていた。
In a conventional two-phase flash memory, the management bits are allocated to both memory cells of phase "0" and phase "1". For example, the address arrangement of memory cells in the Y direction is based on general bit addresses (Y = 0 to 2) in which arbitrary data is stored along the arrangement order of the memory cells on the circuit.
047) are successively assigned, a management bit address (Y = 2048 to 2111) is successively assigned, and thereafter, a redundant bit address for replacement of a defective cell (Y = 2112 to 2127) is assigned. The configuration is such that the memory cells to which the management bit address is assigned include both the phase “0” and the phase “1” memory cells.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ように管理データをフェイズ“0”とフェイズ“1”と
のメモリセルにまたがるように格納していたのでは、消
去処理後や書込み処理前に行われる管理データのみの書
込み時や読出し時においても、2回の書込み動作や読出
し動作が必要であり、その分、データ消去時間やデータ
書込み時間が余分に延びたり、管理データを読み出す際
にリードコマンドからデータが読み出されるまでのファ
ーストアクセス時間が余分に延びるなどの課題があっ
た。
However, if the management data is stored so as to span the memory cells of the phase "0" and the phase "1" as described above, the management data must be stored after the erasing process or before the writing process. Even when writing or reading only the management data to be performed, two writing operations and reading operations are required, and the data erasing time and the data writing time are lengthened by an extra amount. There has been a problem that the first access time from the command to the reading of data is lengthened.

【0011】この発明の目的は、いわゆるツーフェイズ
型のフラッシュメモリにおいて、管理データの読み書き
時間の短縮を図り、結果としてデータ消去やデータ書込
みにかかる時間の短縮を図ることの出来る不揮発性半導
体メモリを提供することにある。
An object of the present invention is to provide a non-volatile semiconductor memory in a so-called two-phase flash memory, which can reduce the time required to read and write management data and, as a result, the time required to erase and write data. To provide.

【0012】この発明の前記ならびにそのほかの目的と
新規な特徴については、本明細書の記述および添附図面
から明らかになるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、下記のと
おりである。
The outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application is as follows.

【0014】すなわち、しきい値の高低でデータを記憶
するMOSFETからなる複数のメモリセルを備え、こ
れらのメモリセルのうち同一のワード線に接続された複
数のメモリセルが1つのセクタを構成するメモリセルと
されるとともに、前記1つのセクタには、各データ線に
選択手段を介して複数系統(例えば第1系統と第2系
統)のメモリセルがそれぞれ接続され、該選択手段によ
り上記複数系統のメモリセルのうち何れか1系統のメモ
リセルが選択的に対応する各データ線に導通可能に構成
されている不揮発性半導体メモリにおいて、上記セクタ
には、通常ビットアドレスが割り当てられて任意のデー
タが格納されるメモリセルと、管理ビットアドレスが割
り当てられて当該セクタに関する管理データ(例えばセ
クタの良否を示す良品セクタコード)が格納されるメモ
リセルとが含まれ、上記管理ビットアドレスの割り当て
られたメモリセルは上記複数系統(全系統より少なけれ
ば1系統に限られず2系統でも3系統でも良い)のメモ
リセルのうち何れかの系統のメモリセルのみから構成す
る。
That is, there are provided a plurality of memory cells composed of MOSFETs for storing data at high and low threshold values, and among these memory cells, a plurality of memory cells connected to the same word line constitute one sector. The one sector is connected to a plurality of systems (for example, a first system and a second system) of memory cells via a selection means for each data line. In the nonvolatile semiconductor memory in which any one of the memory cells is selectively made conductive to a corresponding data line, the sector is usually assigned a bit address, Is stored in a memory cell, and a management bit address is assigned to the memory cell to manage the sector (e.g. And the memory cells to which the management bit address is assigned are included in the memory cells of the plurality of systems (the number is not limited to one if less than all the systems, and may be two or three). Out of any one of the memory cells.

【0015】このような構成によれば、管理ビットのみ
へ管理データを読み書きする場合に、従来は例えば第1
系統のメモリセルの読み書きと第2系統のメモリセルの
読み書きと2セット以上行う必要があったのに対して、
例えば第1系統または第2系統の何れか一方の書込み動
作や読出し動作だけで完了することが出来る。従って、
例えばデータ消去後の管理データの書込みや、データ書
込み前の管理データの読出しなど、管理ビットのみへ管
理データを読み書きする際にそのアクセス時間の短縮を
図ることが出来る。
According to such a configuration, when the management data is read / written only to the management bit, conventionally, for example, the first
While it was necessary to perform two or more sets of reading and writing of the memory cell of the system and reading and writing of the memory cell of the second system,
For example, it can be completed only by a write operation or a read operation of either the first system or the second system. Therefore,
For example, when reading and writing management data only to management bits, such as writing management data after data erasure or reading management data before data writing, the access time can be reduced.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施例を図
面に基づいて説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0017】図1は、本発明を適用して好適な実施例で
あるフラッシュメモリの全体構成を示すブロック図であ
る。
FIG. 1 is a block diagram showing the overall configuration of a flash memory according to a preferred embodiment of the present invention.

【0018】この実施例のフラッシュメモリ1は、電気
的にデータの書込み、消去が行える不揮発性半導体メモ
リであり、その外部接続端子には入出力バッファ2およ
び制御信号入出力バッファ3が接続されている。
The flash memory 1 of this embodiment is a nonvolatile semiconductor memory capable of electrically writing and erasing data, and has an external connection terminal to which an input / output buffer 2 and a control signal input / output buffer 3 are connected. I have.

【0019】入出力バッファ2には、アドレスとデータ
の入力に兼用される8本のI/O(Input/Output)端子
が接続され、入力されたI/Oデータとアドレスデータ
とを振り分けるロジックインターフェースを行ってい
る。さらに、入出力バッファ2に入力されるアドレスは
2回(A0〜A7,A8〜A13)に分けて入力され
る。制御信号入出力バッファ3は、外部から入力される
制御信号の入力バッファである。入出力バッファ2は、
コントローラ4、メインアンプ5ならびにXアドレスバ
ッファ6と接続されている。
The input / output buffer 2 is connected to eight I / O (Input / Output) terminals that are also used for inputting addresses and data, and is a logic interface for distributing input I / O data and address data. It is carried out. Further, the address input to the input / output buffer 2 is input twice (A0 to A7, A8 to A13). The control signal input / output buffer 3 is an input buffer for a control signal input from the outside. The input / output buffer 2
The controller 4 is connected to the main amplifier 5 and the X address buffer 6.

【0020】コントローラ4は、制御信号入力バッファ
3に入力された制御信号に基づいて、書込み、読出し、
消去などのモードを判定し、指定されたモードに応じて
該フラッシュメモリ1全体の制御を司る。
The controller 4 performs write, read, and write based on the control signal input to the control signal input buffer 3.
A mode such as erasing is determined, and control of the entire flash memory 1 is performed in accordance with the designated mode.

【0021】メインアンプ5は、Yゲート7と接続さ
れ、そのYゲート7は、データレジスタ8と接続されて
いる。このメインアンプ5は、データレジスタ8からY
ゲート7を介して入出力されるデータの増幅を行い、X
アドレスバッファ6は、入出力バッファ2から入力され
たXアドレスを格納する。
The main amplifier 5 is connected to a Y gate 7, and the Y gate 7 is connected to a data register 8. The main amplifier 5 has a data register 8
The data input / output via the gate 7 is amplified, and X
The address buffer 6 stores the X address input from the input / output buffer 2.

【0022】Xアドレスバッファ6には、Xデコーダ9
が接続されており、Yゲート7には、Yデコーダが接続
され、該Yデコーダ10にはYアドレスカウンタ11が
接続されている。そして、Xデコーダ9およびデータレ
ジスタ8には、メモリマット12が接続されており、こ
のメモリマット12は、記憶の最小単位であるメモリセ
ルが規則正しくマトリクス状に並べられている。
The X address buffer 6 has an X decoder 9
The Y gate 7 is connected to a Y decoder, and the Y decoder 10 is connected to a Y address counter 11. The X decoder 9 and the data register 8 are connected to a memory mat 12, in which memory cells, which are the minimum units of storage, are regularly arranged in a matrix.

【0023】Xデコーダ9は、Xアドレスバッファ6か
ら出力されたXアドレスに対応したメモリマット12内
のワード線に所定の電圧を印加する。ここで、Xデコー
ダ9が印加する電圧は、例えば、消去時が16V程度、
書込み時が−13V程度、読出し時が2V〜3.3V程
度である。
X decoder 9 applies a predetermined voltage to a word line in memory mat 12 corresponding to the X address output from X address buffer 6. Here, the voltage applied by the X decoder 9 is, for example, about 16 V during erasing,
The voltage is about -13 V at the time of writing, and about 2 V to 3.3 V at the time of reading.

【0024】Yデコーダ10は、Yアドレスカウンタ7
内のYアドレスに対応したYゲート7を動作させる。Y
ゲート7は、Yデコーダ10によって選択されたYアド
レスに対応したデータレジスタ8とメインアンプ5との
間の接続を行う。
The Y decoder 10 has a Y address counter 7
The Y gate 7 corresponding to the Y address in the operation is operated. Y
The gate 7 connects between the data register 8 corresponding to the Y address selected by the Y decoder 10 and the main amplifier 5.

【0025】データレジスタ8は、Yゲート7を介して
入出力が行われるデータの格納を行い、Yアドレスカウ
ンタ11は、入力されるデータをデータレジスタ8に入
力する場合や出力されるデータをデータレジスタ8から
出力する場合に、Y系アドレス(Y=0〜511)に沿
ってYゲート7をシリアルアクセスするためにYアドレ
スをインクリメントする。
The data register 8 stores data to be input / output via the Y gate 7, and the Y address counter 11 stores data to be input to the data register 8 or data to be output. When outputting from the register 8, the Y address is incremented in order to serially access the Y gate 7 along the Y-system address (Y = 0 to 511).

【0026】Xデコーダ9には、内部電源回路13が接
続されており、この内部電源回路13には、ワード線
に、例えば、3.3V程度の電源電圧Vcc以外の電圧
を印加するための電圧を生成する。内部電源回路13
は、たとえば、2.0V程度の電圧を生成する降圧電源
回路と−13.0V程度の負電圧を生成する昇圧電源回
路とから構成されている。
The X decoder 9 is connected to an internal power supply circuit 13. The internal power supply circuit 13 has a voltage for applying a voltage other than the power supply voltage Vcc of, for example, about 3.3 V to the word line. Generate Internal power supply circuit 13
Is composed of, for example, a step-down power supply circuit that generates a voltage of about 2.0 V and a step-up power supply circuit that generates a negative voltage of about -13.0 V.

【0027】コントローラ4には、クロック発生回路
(クロック発生手段)14が接続されており、該クロッ
ク発生回路14は、たとえば、データのリード/ライト
時などにコントローラ4から出力される起動信号に基づ
いて、たとえば、10MHz程度と20MHz程度の一
定周期のクロック信号CLKを発生する。
A clock generation circuit (clock generation means) 14 is connected to the controller 4. The clock generation circuit 14 is based on a start signal output from the controller 4 when data is read / written, for example. Thus, for example, a clock signal CLK having a constant period of about 10 MHz and about 20 MHz is generated.

【0028】図2には、実施例のフラッシュメモリに設
けられたメモリアレイの一部分の構成図を示す。
FIG. 2 shows a configuration diagram of a part of a memory array provided in the flash memory of the embodiment.

【0029】この実施例のメモリアレイは、制御ゲート
と浮遊ゲートとを有し制御ゲートとドレイン間に正又は
負の高電圧を印加することで浮遊ゲートに電荷を注入又
は放出してデータ記憶を行う不揮発性MOSFETから
なるメモリセルMCをマトリックス状に配置して構成さ
れる。そして、データ線DL0…に沿った方向に1列に
配列された複数(例えば128個)のメモリセルMC…
の各ドレインと各ソースとがそれぞれ共通にされて1ブ
ロックのメモリセル列MCCが形成され、このメモリセ
ル列MCCがワード線に沿った方向に複数(例えば85
12個)配列されてAND型のメモリアレイを構成して
いる。
The memory array of this embodiment has a control gate and a floating gate. By applying a positive or negative high voltage between the control gate and the drain, a charge is injected or released into the floating gate to store data. The memory cells MC made of nonvolatile MOSFETs are arranged in a matrix. Then, a plurality of (for example, 128) memory cells MC arranged in one row in a direction along the data lines DL0.
Are commonly used to form one block of memory cell column MCC, and a plurality of (for example, 85) memory cell columns MCC are arranged in the direction along the word line.
12) to form an AND-type memory array.

【0030】各メモリセルMC…の制御ゲートはそれぞ
れ対応したワード線WL0〜WL127に結合されてい
る。そして、ワード線を共通にする複数のメモリセルM
C…によりデータ消去やデータ書込みの単位となるセク
タSECが構成されている。また、メモリセル列MCC
のソース側は選択MOSFET Qs2…を介して接地
電位に接続され、メモリセル列MCCのドレイン側は選
択MOSFET Qs10…,Qs11を介して対応す
るデータ線DL0…に接続されている。
The control gates of the memory cells MC are connected to corresponding word lines WL0 to WL127, respectively. A plurality of memory cells M sharing a word line
A sector SEC, which is a unit of data erasure or data writing, is constituted by C. In addition, the memory cell column MCC
Are connected to the ground potential via selection MOSFETs Qs2, and the drain side of the memory cell column MCC is connected to corresponding data lines DL0,... Via selection MOSFETs Qs10, Qs11.

【0031】メモリセル列MCCには、ワード線WL0
〜WL127と同数のメモリセルMCが設けられ、各メ
モリセルMC…はそれぞれ異なるワード線WL0…に対
応付けられている。一方、データ線DL0…については
隣合う2個のメモリセル列MCCに対して1本のデータ
線が対応付けられる。メモリセル列MCC…をデータ線
DL0…に接続する選択MOSFET Qs10…,Q
s11…は、フェイズ“0”系のセレクト信号SiD0
がゲートに入力されるフェイズ“0”系の選択MOSF
ET Qs10…と、フェイズ“1”系のセレクト信号
SiD1がゲートに入力されるフェイズ“1”系の選択
MOSFET Qs11…と、2系統設けられている。
The word line WL0 is connected to the memory cell column MCC.
WL127 are provided, and each memory cell MC is associated with a different word line WL0. On the other hand, one data line is associated with two adjacent memory cell columns MCC for data lines DL0. Selection MOSFETs Qs10 ..., Q connecting the memory cell columns MCC ... to the data lines DL0 ...
s11 ... are select signals SiD0 of the phase "0".
"0" selection MOSF in which is input to the gate
ET Qs10... And a phase "1" selection MOSFET Qs11... For inputting a phase "1" selection signal SiD1 to the gate.

【0032】そして、1本のデータ線に対応付けられた
2つのメモリセル列MCC,MCCのうち、一方はフェ
イズ“0”系の選択MOSFET Qs10を介してデ
ータ線に接続され、他方はフェイズ“1”系の選択MO
SFET Qs11を介してデータ線に接続されてい
る。これによって、選択MOSFET Qs10を介し
てデータ線に接続されたメモリセル列MCCがフェイズ
“0”系のメモリセル列MCCとなり、選択MOSFE
T Qs11を介してデータ線に接続されたメモリセル
列MCCがフェイズ“1”系のメモリセル列MCCとな
る。
One of the two memory cell columns MCC and MCC associated with one data line is connected to the data line via a phase “0” -system selection MOSFET Qs10, and the other is connected to the phase “0”. MO for 1 "system
It is connected to the data line via SFET Qs11. As a result, the memory cell column MCC connected to the data line via the selection MOSFET Qs10 becomes the memory cell column MCC of the phase “0”, and the selection MOSFET
The memory cell column MCC connected to the data line via T Qs11 becomes the phase “1” system memory cell column MCC.

【0033】このようなメモリアレイ構成によれば、デ
ータ消去の処理は、ワード線を共通にしたメモリセル
(セクタ)を単位として行われる。すなわち、全てのメ
モリセル列のソース側を0V、ドレイン側をオープン状
態にして、1本のワード線に消去電圧(例えば16V)
を印加することで、該ワード線に対応する1セクタの各
メモリセルの浮遊ゲートから負電荷が放出されて、該セ
クタの全メモリセルのしきい値が高い値になって例えば
論理値“1”のデータが格納される。
According to such a memory array configuration, data erasing processing is performed in units of memory cells (sectors) having a common word line. That is, the source side of all the memory cell columns is set to 0 V and the drain side is set to the open state, and the erase voltage (for example, 16 V) is applied to one word line.
, Negative charges are released from the floating gate of each memory cell of one sector corresponding to the word line, and the threshold value of all memory cells of the sector becomes a high value, for example, the logical value “1”. Is stored.

【0034】この実施例では、データの書込みは、デー
タ消去と同じ単位で、すなわちワード線を共通にしたセ
クタ単位で行われる。しかし、この実施例では、選択M
OSFET Qs10,Qs11を介して1本のデータ
線に2つのメモリセル列が接続されているため、セクタ
中の全てのメモリセルに対して同時に書込み動作を行う
ことは出来ない。そこで、データ書込み処理は、先ず、
フェイズ“0”系の選択MOSFET Qs10をオン
状態に、フェイズ“1”系の選択MOSFETQs11
をオフ状態にして、セクタ中のフェイズ“0”のメモリ
セルにデータ書込みを行い、次いで、今度は逆に、フェ
イズ“0”系の選択MOSFET Qs10をオフ状態
に、フェイズ“1”系の選択MOSFET Qs11を
オン状態にして、セクタ中のフェイズ“1”のメモリセ
ルMCにデータ書込みを行うようにしている。
In this embodiment, data writing is performed in the same unit as data erasing, that is, in a unit of a sector having a common word line. However, in this embodiment, the selection M
Since two memory cell columns are connected to one data line via the OSFETs Qs10 and Qs11, it is not possible to simultaneously perform a write operation on all memory cells in a sector. Therefore, the data writing process firstly
The phase “0” -system selection MOSFET Qs10 is turned on, and the phase “1” -system selection MOSFET Qs11 is turned on.
Is turned off, and data is written into the memory cells of phase "0" in the sector. Then, conversely, the selection MOSFET Qs10 of phase "0" is turned off, and the phase "1" is selected. The MOSFET Qs11 is turned on, and data is written to the memory cell MC in phase "1" in the sector.

【0035】データの読出しについても、通常はワード
線を共通にしたセクタ単位で行われる。すなわち、上記
書込み動作と同様に、フェイズ“0”のメモリセルとフ
ェイズ“1”のメモリセルの2セット読出し動作を行っ
て1セクタ分のデータをデータレジスタ8に格納した
後、Yアドレスの指定でYデコーダ10により選択され
る所定数ビット(例えば8ビット)のデータがメインア
ンプ5と入出力バッファ2を介して出力される。但し、
読出しデータがフェイズ“0”のメモリセル又はフェイ
ズ“1”のメモリセルのみにあると分っているような場
合には、コントローラ4の制御等により該当フェイズの
メモリセルのデータ読出し動作のみを1セット行い、デ
ータレジスタ8には該当フェイズのデータしか読み出さ
ないように制御される。
Data reading is also usually performed in sector units using a common word line. That is, in the same manner as the above-described write operation, two sets of read operations of a memory cell of phase “0” and a memory cell of phase “1” are performed to store one sector of data in the data register 8, and then the Y address is designated. The data of a predetermined number of bits (for example, 8 bits) selected by the Y decoder 10 is output via the main amplifier 5 and the input / output buffer 2. However,
If it is known that the read data is present only in the memory cell of the phase “0” or the memory cell of the phase “1”, only the data read operation of the memory cell in the corresponding phase is performed by the control of the controller 4 or the like. The setting is performed, and the data register 8 is controlled so that only the data of the corresponding phase is read out.

【0036】この実施例のフラッシュメモリにおいて各
セクタ中に設けられる各ビットの内容は、従来と同様、
次のようになる。すなわち、各セクタには、任意のデー
タが格納可能な通常ビットと、当該セクタの良否に関す
る管理データが格納される管理ビットと、通常データビ
ットや管理ビットでセル単位の不良が生じた場合に不良
のメモリセルの代替えとなる冗長ビットとがそれぞれ設
けられる。これらの内、外部からユーザーが自由にアク
セスできるのは通常ビットである。そして、従来と同様
に、通常ビットのメモリセルには通常ビットアドレス
(Y=0〜2047)が、管理ビットのメモリセルには
管理ビットアドレス(Y=2048〜2111)が、冗
長ビットのメモリセルには冗長ビットアドレス(Y=2
112〜2127)が、それぞれ割り当てられる。Yア
ドレスと各メモリセルとの割り当ては、Yデコーダ10
の論理設計により所望の割り当てが可能である。
In the flash memory of this embodiment, the contents of each bit provided in each sector are the same as in the prior art.
It looks like this: That is, in each sector, a normal bit that can store arbitrary data, a management bit that stores management data related to the quality of the sector, and a normal data bit or a management bit that is defective when a cell unit failure occurs. And a redundant bit as a substitute for the memory cell. Of these, the bits that can be freely accessed by the user from outside are usually bits. As in the prior art, the normal bit memory cell has the normal bit address (Y = 0 to 2047), the management bit memory cell has the management bit address (Y = 2048 to 2111), and the redundant bit memory cell. Has a redundant bit address (Y = 2
112 to 2127) are respectively assigned. The assignment between the Y address and each memory cell is determined by the Y decoder 10.
A desired assignment is possible by the logical design of.

【0037】図3には、実施例のフラッシュメモリにお
けるYアドレスの配置を表した図を示す。同図中、「配
列」の列には1セクタ中の各メモリセルの物理的な配列
順序を、「Phase」の列には各メモリセルのフェイ
ズ(“0”又は“1”)を、「Yアドレス」の列には各
メモリセルに割り当てられたYアドレスの値を、「I/
O」の列には対応するI/O端子の番号をそれぞれ示し
ている。
FIG. 3 is a diagram showing the arrangement of Y addresses in the flash memory of the embodiment. In the figure, the column of “array” indicates the physical arrangement order of each memory cell in one sector, the column of “Phase” indicates the phase (“0” or “1”) of each memory cell, In the column of “Y address”, the value of the Y address assigned to each memory cell is set to “I /
The column of "O" indicates the number of the corresponding I / O terminal.

【0038】図3において、Yアドレスの値が同一でI
/Oの値が異なるメモリセルが4つあるのは、Xアドレ
スとYアドレスを指定することで、I/O端子の数と同
数ビットのメモリセルが選択されるように構成されてい
るからである。ここではI/O端子の数を例えば8ビッ
トとして扱っている。
In FIG. 3, if the value of the Y address is the same and I
The reason why there are four memory cells having different values of / O is that the configuration is such that by specifying an X address and a Y address, memory cells having the same number of bits as the number of I / O terminals are selected. is there. Here, the number of I / O terminals is treated as, for example, 8 bits.

【0039】なお、この実施例のフラッシュメモリで
は、メモリセルのしきい値を4つの離間された範囲にそ
れぞれ分布させることで、1つのメモリセルに2ビット
のデータを記憶可能とするものである。それゆえ、1つ
のメモリセルに2つのI/Oが対応するようになってい
る。
In the flash memory of this embodiment, two-bit data can be stored in one memory cell by distributing the threshold values of the memory cells in four separated ranges. . Therefore, two I / Os correspond to one memory cell.

【0040】この実施例のフラッシュメモリにおいては
管理ビットアドレス(Y=2048〜2111)は、図
3に示すように、メモリセルの配列の途中、一部の範囲
においてフェイズ“0”のメモリセルのみに割り当てら
れる。そして、この範囲のフェイズ“1”のメモリセル
には通常ビットアドレスが割り当てられている。
In the flash memory of this embodiment, as shown in FIG. 3, the management bit address (Y = 2048 to 2111) is limited to only the memory cells in phase "0" in a part of the memory cell array. Assigned to. Then, a normal bit address is assigned to the memory cells in phase "1" in this range.

【0041】なお、管理ビットアドレスは、一方のフェ
イズのメモリセルのみに割り当てればどのような配置で
割り当てても良く、例えば、図3に示すように、1個と
ばしに連続的に配列されたフェイズ“0”のメモリセル
に全ての管理ビットアドレスを割り当てる必要はなく、
例えば、セクタ中の分散した複数の範囲に管理ビットア
ドレスを分割して割り当てても良いし、また、図3に示
すように、管理ビットアドレスの値が順番になるように
割り当てる必要もなく、ランダムな順序で割り当てても
良い。
The management bit addresses may be assigned in any arrangement as long as they are assigned only to the memory cells in one phase. For example, as shown in FIG. It is not necessary to assign all management bit addresses to memory cells in phase “0”,
For example, a management bit address may be divided and assigned to a plurality of dispersed ranges in a sector, and as shown in FIG. 3, it is not necessary to assign management bit addresses in order, and May be assigned in any order.

【0042】このように管理ビットアドレスを設定する
ことで、管理ビットのみを書き込む場合や管理ビットの
みを読み出す場合に、フェイズ“0”の書込み動作や読
出し動作のみで足りることとなり、従来、フェイズ
“0”とフェイズ“1”とで書込み動作や読出し動作を
2セット行う必要があったのに較べて、管理データの書
込み時間や読出し時間を半分にすることが出来る。
By setting the management bit address in this way, when only the management bit is written or when only the management bit is read, only the writing operation and the reading operation of the phase “0” are sufficient. Compared with the case where two sets of write operation and read operation are required between "0" and phase "1", the write time and read time of the management data can be halved.

【0043】次に、上記のように構成されたフラッシュ
メモリにおけるデータ消去処理とデータ書込み処理の手
順について説明する。
Next, the procedure of the data erasing process and the data writing process in the flash memory configured as described above will be described.

【0044】図4は、データ消去処理の処理手順を示す
フローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart showing the procedure of the data erasing process.

【0045】データ消去処理のモードに移行すると、先
ず、各データ線を所定電圧にプリチャージした後ワード
線に消去判定電圧Vevを印加してデータ線の電位を検
出することで行われる消去判定を、フェイズ“0”のメ
モリセルとフェイズ“1”のメモリセルとで2セット行
う(ステップS1,S2)。そして、しきい値が所定値
に達していない未消去(Fail)のメモリセルの有無
を判別し(ステップS3)、未消去のメモリセルがあれ
ばステップS4,S5に移行する。
When the mode shifts to the data erasing mode, first, each data line is precharged to a predetermined voltage, and then an erasing determination voltage Vev is applied to the word line to detect an erasure determination by detecting the potential of the data line. Then, two sets of memory cells of phase "0" and memory cells of phase "1" are performed (steps S1 and S2). Then, it is determined whether there is an unerased (Fail) memory cell whose threshold value has not reached the predetermined value (step S3). If there is an unerased memory cell, the process proceeds to steps S4 and S5.

【0046】ステップS4,S5では、ワード線に消去
電圧を印加してメモリセルのしきい値を上昇させる消去
動作を、フェイズ“0”のメモリセルととフェイズ
“1”のメモリセルとで2セット行う。そして、再びス
テップS1〜S3の消去判定を行い、未消去のメモリセ
ルが無くなるまでステップS1〜S5の消去動作と消去
判定の処理を繰り返す。
In steps S4 and S5, the erasing operation for increasing the threshold value of the memory cell by applying the erasing voltage to the word line is performed two times for the memory cell of phase "0" and the memory cell of phase "1". Do the set. Then, the erase determination in steps S1 to S3 is performed again, and the erase operation and the erase determination processing in steps S1 to S5 are repeated until there is no unerased memory cell.

【0047】その結果、未消去のメモリセルがないと判
別されるとステップS6に移行され、該ステップにおい
て、該セクタの管理ビットに「良品セクタコード」の書
込み処理が行われる。そして、このデータ書込みでは、
フェイズ“0”の書込み動作のみが実行され、フェイズ
“1”の書込み動作は実行されない。そして、この1セ
クタのデータ消去処理を終了する。
As a result, when it is determined that there is no unerased memory cell, the flow shifts to step S6, and in this step, a process of writing a "non-defective sector code" to the management bit of the sector is performed. And in this data writing,
Only the phase "0" write operation is performed, and the phase "1" write operation is not performed. Then, the data erasing process for one sector is completed.

【0048】図5は、データ書込み処理の処理手順を示
すフローチャートである。
FIG. 5 is a flowchart showing a processing procedure of the data writing processing.

【0049】データ書込み処理のモードに移行すると、
先ず、書込み先セクタの管理データの読出し処理を行う
(ステップS11)。この管理データの読出し処理で
は、フェイズ“0”の読出し動作のみが実行され、フェ
イズ“1”の読出し動作は実行されない。次に、該管理
データがセクタの状態が良好であることを示す「良品セ
クタコード」か否かを判定し(ステップS12)、「良
品セクタコード」であれば次のステップS14,S15
に移行し、「良品セクタコード」でなければエラー処理
(ステップS13)に移行する。
When the mode is shifted to the data write mode,
First, the management data of the write destination sector is read (step S11). In this management data read processing, only the read operation of phase “0” is executed, and the read operation of phase “1” is not executed. Next, it is determined whether or not the management data is a "non-defective sector code" indicating that the state of the sector is good (step S12). If the management data is "non-defective sector code", the next steps S14 and S15 are performed.
Then, if it is not "non-defective sector code", the process proceeds to error processing (step S13).

【0050】ステップS14,S15に移行したら、各
データ線を所定電圧にプリチャージした後ワード線に書
込み判定電圧Vwvを印加してデータ線の電位を検出す
ることで行われる書込み判定を、フェイズ“0”のメモ
リセルとフェイズ“1”のメモリセルとで2セット行う
(ステップS14,S15)。そして、未書込み(Fa
il)のメモリセルの有無を判定して(ステップS1
6)、未書込みのメモリセルがあればステップS17,
S18に移行する。
After proceeding to steps S14 and S15, the write judgment performed by precharging each data line to a predetermined voltage and then applying the write judgment voltage Vwv to the word line to detect the potential of the data line is determined in a phase " Two sets of memory cells of "0" and memory cells of phase "1" are performed (steps S14 and S15). Then, unwritten (Fa
il) is determined (step S1).
6) If there is an unwritten memory cell, step S17,
Move to S18.

【0051】ステップS17,S18では、ワード線と
データ線に書込み電圧を印加してメモリセルのしきい値
を下げる書込み動作を、フェイズ“0”のメモリセルと
フェイズ“1”のメモリセルとで2セット行う。そし
て、再びステップS14〜S16の書込み判定を行い、
未書込みのメモリセルが無くなるまでステップS14〜
S18の書込み動作と書込み判定の処理を繰り返す。
In steps S17 and S18, a write operation for lowering the threshold value of the memory cell by applying a write voltage to the word line and the data line is performed between the memory cell of phase "0" and the memory cell of phase "1". Perform two sets. Then, the write determination in steps S14 to S16 is performed again,
Steps S14 to S14 until there are no unwritten memory cells
The write operation of S18 and the write determination process are repeated.

【0052】その結果、未書き込みのメモリセルがなく
なって、セクタ中の全ビットにデータが書き込まれた
ら、このデータ書込み処理を終了する。
As a result, when there are no unwritten memory cells and data has been written to all the bits in the sector, the data writing process ends.

【0053】以上のように、この実施例のフラッシュメ
モリによれば、ツーフェイズ型のフラッシュメモリにお
いて管理ビットアドレスをフェイズ“0”のメモリセル
のみに割り当てているので、データ消去処理における
「良品セクタコード」の書込みや、データ書込み処理に
おける管理データの読出しなど、管理データのみの読み
書きを、フェイズ“0”とフェイズ“1”とで2セット
行う必要がなくなり、フェイズ“0”の読み書き動作の
みで行うことが出来る。従って、管理データの書込み時
間が1/2になり、また、管理データのみ読み出す場合
に、読み出しのコマンドを入力してから管理データが出
力されるまでのファーストアクセス時間が1/2にな
る。
As described above, according to the flash memory of this embodiment, in the two-phase flash memory, the management bit address is assigned only to the memory cells in the phase "0". There is no need to perform two sets of reading and writing of management data, such as writing of a code and reading of management data in a data writing process, in phase “0” and phase “1”. You can do it. Therefore, the write time of the management data is halved, and when only the management data is read, the first access time from the input of the read command to the output of the management data is halved.

【0054】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention. Needless to say.

【0055】例えば、1セクタ中、1本のデータ線に2
つのメモリセルが対応付けられた構成を示したが、1本
のデータ線に対応する3以上の系統のメモリセルが設け
られた構成に対しても同様に適用可能である。また、そ
のような構成の場合、管理データアドレスは、1つの系
統のメモリセルのみに割り当てる構成に限られず、2つ
の系統のメモリセルなど全系統より少ない系統のメモリ
セルに割り当てられれば、管理データのみの読み書きに
かかる時間を短縮できるという同様の効果が得られる。
For example, in one sector, one data line
Although a configuration in which three memory cells are associated is shown, the present invention can be similarly applied to a configuration in which three or more systems of memory cells corresponding to one data line are provided. In the case of such a configuration, the management data address is not limited to the configuration in which the memory cell is allocated to only one system of memory cells. The same effect that the time required for reading and writing only data can be reduced is obtained.

【0056】また、管理データとしてセクタの状態の良
否を表す良品セクタコードを示したが、それに限られる
ものでなく、セクタ中に格納され該セクタの管理に使用
されるデータであれば種々の管理データが含まれる。
The non-defective sector code indicating the good or bad of the state of the sector is shown as the management data. However, the present invention is not limited to this. Various data stored in the sector and used for the management of the sector can be used. Contains data.

【0057】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるAND
型のフラッシュメモリについて説明したがこの発明はそ
れに限定されるものでなく、ワード線が共通にされた複
数のメモリセルからなる1つのセクタ中、1本のデータ
線に2つのメモリセルが対応されている不揮発性半導体
メモリに広く利用することができる。
In the above description, the invention made mainly by the present inventor is based on the field of application AND
The present invention is not limited to this type of flash memory, but the present invention is not limited thereto. In one sector composed of a plurality of memory cells having a common word line, two memory cells correspond to one data line. Widely used for non-volatile semiconductor memories.

【0058】[0058]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
のとおりである。
The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0059】すなわち、本発明に従うと、管理データの
みの読出しや書込みにかかる処理時間が短縮され、延い
ては、通常のデータ消去処理やデータ書込み処理の時間
の短縮を図ることが出来るという効果がある。
That is, according to the present invention, the processing time required for reading and writing only the management data is reduced, and the time required for normal data erasing processing and data writing processing can be reduced. is there.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を適用して好適な実施例であるフラッシ
ュメモリの全体構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing the overall configuration of a flash memory according to a preferred embodiment of the present invention.

【図2】メモリアレイ構成の一部を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing a part of a memory array configuration.

【図3】Y系アドレスの配列を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing an array of Y-system addresses.

【図4】データ消去処理の処理手順を示すフローチャー
トである。
FIG. 4 is a flowchart illustrating a processing procedure of a data erasing process.

【図5】データ書込み処理の処理手順を示すフローチャ
ートである。
FIG. 5 is a flowchart illustrating a processing procedure of a data writing process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 フラッシュメモリ 2 メモリマット 4 コントローラ 8 データレジスタ 9 Xデコーダ 10 Yデコーダ MC メモリセル MCC メモリセル列 DL0,DL1… データ線 WL1〜WL127 ワード線 Qs10 第1系統の選択MOSFET(選択手段) Qs11 第2系統の選択MOSFET(選択手段) SiD0 第1系統側のセレクト信号 SiD1 第2系統側のセレクト信号 Qs2 ソース側の選択MOSFET Reference Signs List 1 flash memory 2 memory mat 4 controller 8 data register 9 X decoder 10 Y decoder MC memory cell MCC memory cell column DL0, DL1. Selection MOSFET (selection means) SiD0 Select signal on first system side SiD1 Select signal on second system side Qs2 Selection MOSFET on source side

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5B025 AA03 AB01 AC01 AD04 AD05 AD08 AE05  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 5B025 AA03 AB01 AC01 AD04 AD05 AD08 AE05

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 しきい値の高低でデータを記憶するMO
SFETからなる複数のメモリセルを備え、これらのメ
モリセルのうち同一のワード線に接続された複数のメモ
リセルが1つのセクタを構成するメモリセルとされると
ともに、前記1つのセクタには、各データ線に選択手段
を介して複数系統のメモリセルがそれぞれ接続され、該
選択手段により上記複数系統のメモリセルのうち何れか
1系統のメモリセルが選択的に対応する各データ線に導
通可能に構成されている不揮発性半導体メモリにおい
て、 上記セクタには、通常ビットアドレスが割り当てられて
任意のデータが格納されるメモリセルと、管理ビットア
ドレスが割り当てられて当該セクタに関する管理データ
が格納されるメモリセルとが含まれ、上記管理ビットア
ドレスの割り当てられたメモリセルは上記複数系統のメ
モリセルのうち何れかの系統のメモリセルのみから構成
されていることを特徴とする不揮発性半導体メモリ。
1. An MO for storing data according to a threshold value
A plurality of memory cells made up of SFETs are provided, and among these memory cells, a plurality of memory cells connected to the same word line constitute memory cells constituting one sector. A plurality of memory cells are respectively connected to the data lines via selection means, and the selection means enables any one of the plurality of memory cells to selectively conduct to the corresponding data line. In the nonvolatile semiconductor memory configured, a memory cell in which a normal bit address is assigned to store any data and a management bit address is allocated to the sector and management data related to the sector is stored in the sector. And the memory cell to which the management bit address is assigned is one of the memory cells of the plurality of systems. A non-volatile semiconductor memory comprising only memory cells of any system.
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