JP2002122855A - Transmissive liquid crystal display device - Google Patents

Transmissive liquid crystal display device

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JP2002122855A
JP2002122855A JP2000319165A JP2000319165A JP2002122855A JP 2002122855 A JP2002122855 A JP 2002122855A JP 2000319165 A JP2000319165 A JP 2000319165A JP 2000319165 A JP2000319165 A JP 2000319165A JP 2002122855 A JP2002122855 A JP 2002122855A
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JP
Japan
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liquid crystal
layer
substrate
display device
crystal display
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JP2000319165A
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Japanese (ja)
Inventor
Masayuki Iida
正幸 飯田
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the deterioration of the quality of transmitted image due to re-reflection in the case where returned light is made incident on a liquid crystal panel in a transmissive liquid crystal display device. SOLUTION: In the transmissive liquid crystal display device consisting of a pair of mutually confronted substrates 10, 14 and a liquid crystal 15 held between the pair of the substrates, on at least one substrate 10, a low reflectance layer 21 such as a polysilicon layer is formed at least just below a metal wiring 12 arranged on the substrate 10.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶プロジェクタ
等に使用される透過型液晶表示装置において、液晶パネ
ル外の光学系からの反射光が液晶パネルで再反射するこ
とによる画像品位の低下を防止した透過型液晶表示装置
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transmission type liquid crystal display device used for a liquid crystal projector or the like, which prevents deterioration of image quality due to re-reflection of light reflected from an optical system outside the liquid crystal panel on the liquid crystal panel. And a transmission type liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】図3に示すように、液晶プロジェクタ1
としては、光源2から射出された光をダイクロックミラ
ー3で赤(R)、緑(G)、青(B)の3色に色分離
し、それをRGBの各色ごとに透過型液晶パネル4に入
射させ、ダイクロックプリズム6で色合成し、投射レン
ズ7を通して拡大投射像を形成するものが主流となって
いる。図中、符号8は全反射ミラーであり、符号9はコ
ンデンサーレンズである。
2. Description of the Related Art As shown in FIG.
The light emitted from the light source 2 is separated into three colors of red (R), green (G), and blue (B) by the dichroic mirror 3, and the light is separated into the transmission type liquid crystal panel 4 for each of the RGB colors. The mainstream is to form a magnified projected image through a projection lens 7 by combining the light with a dichroic prism 6 and color-combining it. In the figure, reference numeral 8 denotes a total reflection mirror, and reference numeral 9 denotes a condenser lens.

【0003】図4は、透過型液晶パネル4の概略平面図
である。図示したように、透過型液晶パネル4は、中央
部の有効画素領域5Aと有効画素領域外の周辺領域5B
とに区分される。このうち、有効領域5Aには画素が縦
横に配置され、周辺領域5Bは遮光され、駆動回路が配
置されている。
FIG. 4 is a schematic plan view of the transmissive liquid crystal panel 4. As shown, the transmissive liquid crystal panel 4 has a central effective pixel area 5A and a peripheral area 5B outside the effective pixel area.
It is divided into and. The pixels are arranged vertically and horizontally in the effective area 5A, the peripheral area 5B is shielded from light, and a drive circuit is arranged.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】近年、光源の進歩がめ
ざましく、液晶プロジェクタ1は、大光量の光源にて表
示が行われている。しかしながら、ダイクロックプリズ
ム6や投射レンズ7の表面での反射防止技術の改善は十
分でない。このため、光源2からの光量の増大に伴い、
図5示すように、ダイクロックプリズム6や投射レンズ
7での表面反射光(以下、「戻り光」と称する)が増大
し、戻り光が液晶パネル4に再入射し、いくつかの弊害
が引き起こされている。
In recent years, light sources have made remarkable progress, and the liquid crystal projector 1 performs display with a large amount of light source. However, the improvement of the anti-reflection technique on the surface of the dichroic prism 6 or the projection lens 7 is not sufficient. Therefore, with an increase in the amount of light from the light source 2,
As shown in FIG. 5, the surface reflection light (hereinafter, referred to as “return light”) at the dichroic prism 6 and the projection lens 7 increases, and the return light re-enters the liquid crystal panel 4, causing some adverse effects. Have been.

【0005】例えば、戻り光が液晶パネル4のTFT等
の画素トランジスタに入射すると、光リーク電流により
コントラスト低下やフリッカ等の画質低下が問題とな
る。
[0005] For example, when return light is incident on a pixel transistor such as a TFT of the liquid crystal panel 4, there is a problem that a light leakage current causes a decrease in contrast and a decrease in image quality such as flicker.

【0006】また、戻り光が周辺領域5Bの駆動回路を
形成する金属配線で再反射すると、投射された正規の像
の周辺が白くなったり、さらには駆動回路の金属配線パ
ターンが投射される現象が見られ、画像品位が低下す
る。
Further, when the return light is re-reflected by the metal wiring forming the driving circuit in the peripheral area 5B, the periphery of the projected normal image becomes white or the metal wiring pattern of the driving circuit is projected. And image quality is degraded.

【0007】従来、戻り光による光リーク電流の発生防
止方法としては、画素トランジスタへの戻り光の入射が
遮蔽されるように、図6に示すように、液晶パネル4の
TFT基板(駆動基板)10において画素トランジスタ
(TFT)11及び金属配線12の上方に遮光金属層1
3を設けたり、図7に示すように、対向基板14に遮光
金属層13を設けたり、さらには、画素トランジスタ1
1の上方と下方の双方に遮光金属層を設け、画素開口領
域以外の全てを遮光することが行われている(特開20
00−131716号公報)。なお、図6、図7はそれ
ぞれトップゲート構造のTFTを形成したTFT基板1
0と対向基板14との間に液晶15を挟持させた透過型
液晶パネル4A、4Bであって、符号G、S、Dはそれ
ぞれゲート、ソース、ドレインを表しており、符号16
は、ポリシリコンからなる活性層、符号17、18、1
9はそれぞれ絶縁層、符号20は透明基板である。
Conventionally, as a method for preventing the occurrence of light leakage current due to return light, as shown in FIG. 6, a TFT substrate (drive substrate) of a liquid crystal panel 4 is provided so as to block the incidence of return light on a pixel transistor. In FIG. 10, a light-shielding metal layer 1 is formed above a pixel transistor (TFT) 11 and a metal wiring 12.
3, the light-shielding metal layer 13 is provided on the opposite substrate 14 as shown in FIG.
A light-shielding metal layer is provided on both the upper side and the lower side of the pixel 1 so as to shield light except for the pixel opening region (see Japanese Patent Application Laid-Open No.
00-131716). 6 and 7 show a TFT substrate 1 on which a TFT having a top gate structure is formed.
The liquid crystal panel 4A, 4B has a liquid crystal 15 sandwiched between the liquid crystal panel 0 and the counter substrate 14, and symbols G, S, and D represent a gate, a source, and a drain, respectively, and a symbol 16
Denotes an active layer made of polysilicon;
Reference numeral 9 denotes an insulating layer, and reference numeral 20 denotes a transparent substrate.

【0008】しかしながら、遮光金属層13を設けるこ
とにより光リーク電流の発生は防止できても、液晶パネ
ル4の周辺領域5Bの駆動回路で戻り光が再反射するこ
とによる画像品位の低下を防止することはできない。特
に、周辺領域5Bに遮光金属層13を設けた場合、金属
配線12と遮光金属層13の反射率の差により、金属配
線12のパターンが投射されたり、有効表示外が白くな
るという問題が生じる。
However, even if the light-shielding metal layer 13 is provided, the occurrence of light leakage current can be prevented, but the deterioration of image quality due to the return light being reflected back by the drive circuit in the peripheral area 5B of the liquid crystal panel 4 is prevented. It is not possible. In particular, when the light-shielding metal layer 13 is provided in the peripheral region 5B, there is a problem that the pattern of the metal wiring 12 is projected or the outside of the effective display becomes white due to a difference in reflectance between the metal wiring 12 and the light-shielding metal layer 13. .

【0009】このような問題に対し、本発明は、戻り光
が液晶パネルに入射しても、金属配線からの再反射によ
って画像品位が低下しないようにすることを目的とす
る。
[0009] In order to solve such a problem, an object of the present invention is to prevent image quality from being deteriorated due to re-reflection from metal wiring even if return light is incident on a liquid crystal panel.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は、対向する一対の基板と、一対の基板間に
挟持された液晶からなる透過型液晶表示装置であって、
少なくとも一方の基板において、該基板に設けられてい
る金属配線の少なくとも直下に低反射率層が設けられて
いることを特徴とする透過型液晶表示装置を提供する。
According to the present invention, there is provided a transmissive liquid crystal display comprising a pair of opposed substrates and a liquid crystal sandwiched between the pair of substrates.
Provided is a transmission type liquid crystal display device characterized in that at least one substrate has a low-reflectance layer provided at least immediately below metal wiring provided on the substrate.

【0011】また、本発明は、TFT基板と対向基板と
の間に液晶を挟持させた透過型液晶表示装置の製造方法
であって、TFT基板の形成工程において、透明基板上
の少なくとも金属配線の直下となる領域に低反射率層及
び絶縁層を順次積層することを特徴とする製造方法を提
供する。
The present invention also relates to a method of manufacturing a transmissive liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between a TFT substrate and a counter substrate, wherein in the step of forming the TFT substrate, at least metal wiring on the transparent substrate is formed. There is provided a manufacturing method characterized by sequentially laminating a low-reflectance layer and an insulating layer in a region directly below.

【0012】また、本発明は、TFT基板と対向基板と
の間に液晶を挟持させた透過型液晶表示装置の製造方法
であって、TFT基板の形成工程において、ポリシリコ
ン層のパターニングによってゲート線と同時に、少なく
とも金属配線の直下となる領域に低反射率層を形成する
ことを特徴とする製造方法を提供する。
The present invention also relates to a method of manufacturing a transmissive liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between a TFT substrate and a counter substrate. In the method of forming a TFT substrate, a gate line is formed by patterning a polysilicon layer. At the same time, there is provided a manufacturing method characterized by forming a low-reflectance layer at least in a region directly below the metal wiring.

【0013】本発明によれば、液晶パネル内の金属配線
の少なくとも直下にポリシリコン層等の低反射率層が設
けられているので、戻り光が液晶パネルで再反射する光
量を大幅に低減させることができる。また、戻り光がポ
リシリコン層を透過し、金属配線層で再反射する場合で
も、その再反射光はポリシリコン層を2度透過するの
で、著しく減衰して液晶パネルを出射する。したがっ
て、液晶パネルで形成される像に配線パターンが認識さ
れることを防止できる。
According to the present invention, since a low-reflectance layer such as a polysilicon layer is provided at least immediately below the metal wiring in the liquid crystal panel, the amount of return light that is re-reflected by the liquid crystal panel is greatly reduced. be able to. Further, even when the return light passes through the polysilicon layer and is reflected again by the metal wiring layer, the re-reflected light passes through the polysilicon layer twice, so that the return light is significantly attenuated and exits the liquid crystal panel. Therefore, it is possible to prevent the wiring pattern from being recognized in the image formed by the liquid crystal panel.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、図を参照しつつ本発明を詳
細に説明する。なお、各図中、同一符号は同一又は同等
の構成要素を表している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or equivalent components.

【0015】図1は、本発明の透過型液晶表示装置で使
用する液晶パネルの一例の断面図である。この液晶パネ
ル4Xは、TFT基板10と対向基板14との間に液晶
15を挟持したものであり、TFT基板10において、
TFT11及び金属配線12の上方に遮光金属層13が
設けられている点では図6の従来の液晶パネルと同様で
あるが、透明基板20上に低反射率層21及び絶縁層2
2が順次積層され、その上にTFT11の活性層16が
順次積層されている点が特徴となっている。
FIG. 1 is a sectional view of an example of a liquid crystal panel used in a transmission type liquid crystal display device of the present invention. The liquid crystal panel 4X has a liquid crystal 15 sandwiched between a TFT substrate 10 and a counter substrate 14, and the TFT substrate 10
6 is similar to the conventional liquid crystal panel shown in FIG. 6 in that a light shielding metal layer 13 is provided above the TFT 11 and the metal wiring 12, but a low reflectance layer 21 and an insulating layer 2 are provided on a transparent substrate 20.
2 are sequentially stacked, and the active layer 16 of the TFT 11 is sequentially stacked thereon.

【0016】ここで低反射率層21としては、反射率が
0〜50%と低く、かつ可視光に対する吸収性が20〜
100%程度に高いものを使用することが好ましく、例
えば、反射率が金属の約1/3で、吸収率が50%のポ
リシリコン層を形成することが好ましい。この他、低反
射率層21としては、反射率が低い金属、例えば、WS
i等層等を形成してもよい。
The low-reflectivity layer 21 has a low reflectance of 0 to 50% and an absorptivity to visible light of 20 to 50%.
It is preferable to use a material having a reflectance as high as about 100%. For example, it is preferable to form a polysilicon layer having a reflectance of about 3 of a metal and an absorptivity of 50%. In addition, as the low reflectance layer 21, a metal having a low reflectance, for example, WS
An i-layer or the like may be formed.

【0017】本発明において低反射率層21の形成領域
は、少なくとも金属配線12の直下とするが、金属配線
12よりも遮光金属層13の反射率が高い場合があるの
で、図示した液晶パネル4Xのように遮光金属層13の
直下にも形成することが好ましい。また、液晶パネルの
周辺領域5B(図4参照)においては、透明基板20上
の全面に形成してもよい。
In the present invention, the area where the low-reflectance layer 21 is formed is at least immediately below the metal wiring 12. However, since the reflectance of the light-shielding metal layer 13 may be higher than that of the metal wiring 12, the liquid crystal panel 4X shown in FIG. It is also preferable to form it directly below the light-shielding metal layer 13 as described above. Further, in the peripheral region 5B (see FIG. 4) of the liquid crystal panel, it may be formed on the entire surface of the transparent substrate 20.

【0018】低反射率層21の層厚は、10nm〜10
μmとすることが好ましい。
The low reflectance layer 21 has a thickness of 10 nm to 10 nm.
It is preferably set to μm.

【0019】この液晶パネル4Xを、図3のような液晶
プロジェクターの液晶パネルとして、TFT基板10を
投射レンズ7側に向けて設置すると、ダイクロックプリ
ズム6や投射レンズ7から戻り光が液晶パネル4Xに入
射し、低反射率層21で再反射してもその光量は低減し
ている。また、戻り光が金属配線12あるいは遮光金属
層13まで到達し、そこで再反射した場合、その再反射
光は液晶パネルを出射するまでに低反射率層21を2度
透過するので、再反射光の出射光量は十分に低減したも
のとなる。したがって、この液晶パネル4Xによれば、
戻り光の再反射による画像品位の低下を著しく抑制する
ことができる。
When this liquid crystal panel 4X is used as a liquid crystal panel of a liquid crystal projector as shown in FIG. 3 and the TFT substrate 10 is set so as to face the projection lens 7, return light from the dichroic prism 6 and the projection lens 7 causes And the amount of light is reduced even if the light is re-reflected by the low reflectance layer 21. Further, when the return light reaches the metal wiring 12 or the light-shielding metal layer 13 and is re-reflected there, the re-reflected light passes through the low-reflectance layer 21 twice before exiting the liquid crystal panel. Is sufficiently reduced. Therefore, according to the liquid crystal panel 4X,
The degradation of image quality due to re-reflection of return light can be significantly suppressed.

【0020】この液晶パネル4Xの製造方法としては、
TFT基板10の形成工程において、透明基板20上に
TFT11を形成する前に、予め、透明基板20上の少
なくとも金属配線12の直下となる領域に低反射率層2
1及び絶縁層22を順次積層し、その後TFT11を形
成する以外、公知の方法に従うことができる。例えば、
ガラス基板上にアモルファスシリコンをCVDにより成
膜し、そのアモルファスシリコンを脱水素アニールして
結晶化することにより、低反射率層21としてポリシリ
コン層を形成する。この他、LP−CVD法によりポリ
シリコン層を形成してもよい。
The manufacturing method of the liquid crystal panel 4X is as follows.
In the step of forming the TFT substrate 10, before forming the TFT 11 on the transparent substrate 20, the low reflectance layer 2 is formed on at least a region directly below the metal wiring 12 on the transparent substrate 20.
A known method can be followed except that the TFT 1 and the insulating layer 22 are sequentially laminated and then the TFT 11 is formed. For example,
An amorphous silicon film is formed on a glass substrate by CVD, and the amorphous silicon is crystallized by dehydrogenation annealing to form a polysilicon layer as the low reflectance layer 21. In addition, a polysilicon layer may be formed by an LP-CVD method.

【0021】また、ポリシリコン層上には、絶縁層22
として、SiO2、SiNx等をCVD法等で形成するこ
とが好ましい。
An insulating layer 22 is formed on the polysilicon layer.
It is preferable to form SiO 2 , SiN x or the like by a CVD method or the like.

【0022】なお、遮光金属層13は、直接入射する強
い光を遮光する目的から、W、Mo、Pt、Pd、T
i、Cr、Al、WSi等の薄膜を、層厚10nm〜1
0μmに形成することが好ましい。
The light-shielding metal layer 13 is formed of W, Mo, Pt, Pd, T
a thin film of i, Cr, Al, WSi, etc.
Preferably, it is formed to have a thickness of 0 μm.

【0023】図2は、本発明の透過型液晶表示装置で使
用する異なる態様の液晶パネル4Yの断面図である。こ
の液晶パネル4Yでは、低反射率層21としてポリシリ
コン層が、TFT基板10において、金属配線12及び
遮光金属層13の少なくとも直下になる位置に形成され
ている点では、図1の液晶パネル4Xと共通するが、こ
の低反射率層21は、TFT基板10の形成工程におい
て、ポリシリコン層のパターニングによってゲート線G
を形成する際に同時に形成されたものである点が異なっ
ている。このように、低反射率層21をTFT基板10
のゲート線Gと同時にポリシリコン層のパターニングに
より形成すると、液晶パネルの製造工程を増やすことが
不要であるため好ましい。
FIG. 2 is a sectional view of a liquid crystal panel 4Y of a different mode used in the transmission type liquid crystal display device of the present invention. The liquid crystal panel 4X of FIG. 1 is different from the liquid crystal panel 4X of FIG. However, this low-reflectance layer 21 is formed by forming a gate line G by patterning a polysilicon layer in the step of forming the TFT substrate 10.
In that they are formed simultaneously with the formation of As described above, the low reflectance layer 21 is formed on the TFT substrate 10.
Is preferably formed by patterning the polysilicon layer at the same time as the gate line G because it is not necessary to increase the number of manufacturing steps of the liquid crystal panel.

【0024】図示した他に、本発明は種々の態様をとる
ことができる。例えば、低反射率層21は液晶パネルを
構成する一対の基板のうち、戻り光が入射する側の基板
に設けることが好ましく、したがって、液晶パネルの使
用態様に応じて、駆動基板あるいは対向基板側のいずれ
に設けてもよい。
In addition to the illustrations, the invention may take various forms. For example, the low-reflectance layer 21 is preferably provided on the substrate on which the return light is incident, of the pair of substrates constituting the liquid crystal panel. May be provided in any of the above.

【0025】また、本発明の構成は、アクティブマトリ
クス型あるいはパッシブマトリクス型のいずれの態様に
も適用することができる。
Further, the configuration of the present invention can be applied to either an active matrix type or a passive matrix type.

【0026】[0026]

【発明の効果】本発明の透過型液晶表示装置によれば、
液晶パネルに入射した戻り光の再反射による透過像の品
位の低下を防止することができる。したがって、例え
ば、本発明の透過型液晶表示装置を液晶プロジェクタに
使用すると、光源の光量を大きく高めても、液晶パネル
の周辺回路の配線パターンが投射されることはなく、良
好な投射像を得ることが可能となる。
According to the transmission type liquid crystal display device of the present invention,
It is possible to prevent the deterioration of the quality of the transmitted image due to the re-reflection of the return light incident on the liquid crystal panel. Therefore, for example, when the transmission type liquid crystal display device of the present invention is used in a liquid crystal projector, even if the light amount of the light source is greatly increased, the wiring pattern of the peripheral circuit of the liquid crystal panel is not projected, and a good projected image is obtained. It becomes possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の透過型液晶表示装置で使用する液晶
パネルの断面図である。
FIG. 1 is a sectional view of a liquid crystal panel used in a transmission type liquid crystal display device of the present invention.

【図2】 本発明の透過型液晶表示装置で使用する液晶
パネルの断面図である。
FIG. 2 is a sectional view of a liquid crystal panel used in the transmission type liquid crystal display device of the present invention.

【図3】 液晶プロジェクタのブロック構成図である。FIG. 3 is a block diagram of a liquid crystal projector.

【図4】 透過型液晶パネルの概略平面図である。FIG. 4 is a schematic plan view of a transmission type liquid crystal panel.

【図5】 従来の液晶プロジェクタの問題点の説明図で
ある。
FIG. 5 is an explanatory diagram of a problem of a conventional liquid crystal projector.

【図6】 従来の液晶パネルの断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of a conventional liquid crystal panel.

【図7】 従来の液晶パネルの断面図である。FIG. 7 is a sectional view of a conventional liquid crystal panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…液晶プロジェクタ、 2…光源、 3…ダイクロッ
クミラー、 4…透過型液晶パネル、 4X、4Y…本
発明の透過型液晶表示装置で使用する透過型液晶パネ
ル、 5A…有効画素領域、 5B…周辺領域、 6…
ダイクロックプリズム、 7…投射レンズ、 10…T
FT基板、 11…画素トランジスタ(又はTFT)、
12…金属配線、 13…遮光金属層、 14…対向
基板、 15…液晶、
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid crystal projector, 2 ... Light source, 3 ... Dichroic mirror, 4 ... Transmissive liquid crystal panel, 4X, 4Y ... Transmissive liquid crystal panel used in the transmissive liquid crystal display of this invention, 5A ... Effective pixel area, 5B ... Surrounding area, 6 ...
Diclock prism, 7: Projection lens, 10: T
FT substrate, 11 ... pixel transistor (or TFT),
12: metal wiring, 13: light shielding metal layer, 14: counter substrate, 15: liquid crystal,

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H091 FA34Y FA37Y FB09 FD06 GA02 LA03 2H092 GA05 JA24 KA05 MA07 MA12 MA28 NA02 NA22 PA09 RA05 5C094 AA02 BA03 BA16 BA43 CA19 CA24 DA14 DA15 EA04 EA07 EB02 ED11 HA10  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H091 FA34Y FA37Y FB09 FD06 GA02 LA03 2H092 GA05 JA24 KA05 MA07 MA12 MA28 NA02 NA22 PA09 RA05 5C094 AA02 BA03 BA16 BA43 CA19 CA24 DA14 DA15 EA04 EA07 EB02 ED11 HA10

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 対向する一対の基板と、一対の基板間に
挟持された液晶からなる透過型液晶表示装置であって、
少なくとも一方の基板において、該基板に設けられてい
る金属配線の少なくとも直下に低反射率層が設けられて
いることを特徴とする透過型液晶表示装置。
1. A transmissive liquid crystal display device comprising a pair of opposed substrates and a liquid crystal sandwiched between the pair of substrates,
A transmissive liquid crystal display device, wherein a low-reflectance layer is provided on at least one of the substrates at least immediately below a metal wiring provided on the substrate.
【請求項2】 低反射率層がポリシリコンからなる請求
項1記載の透過型液晶表示装置。
2. The transmission type liquid crystal display device according to claim 1, wherein the low reflectance layer is made of polysilicon.
【請求項3】 低反射率層が設けられている基板がTF
T基板であり、該TFT基板において、透明基板上に低
反射率層、絶縁層及びTFTの活性層が順次積層されて
いる請求項1又は2記載の透過型液晶表示装置。
3. The substrate provided with the low-reflectance layer is TF
3. The transmissive liquid crystal display device according to claim 1, which is a T substrate, wherein a low reflectance layer, an insulating layer, and an active layer of the TFT are sequentially laminated on a transparent substrate in the TFT substrate.
【請求項4】 低反射率層が設けられている基板がTF
T基板であり、該TFT基板において、低反射率層とT
FTのゲート線がポリシリコン層のパターニングにより
同時に形成されたものである請求項1記載の透過型液晶
表示装置。
4. A substrate provided with a low-reflectance layer is made of TF
A TFT substrate, wherein the TFT substrate has a low-reflectance layer
2. The transmission type liquid crystal display device according to claim 1, wherein the gate lines of the FT are formed simultaneously by patterning the polysilicon layer.
【請求項5】 TFT基板と対向基板との間に液晶を挟
持させた透過型液晶表示装置の製造方法であって、TF
T基板の形成工程において、透明基板上の少なくとも金
属配線の直下となる領域に低反射率層及び絶縁層を順次
積層することを特徴とする製造方法。
5. A method for manufacturing a transmission type liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between a TFT substrate and a counter substrate, comprising:
In a process for forming a T substrate, a low reflectivity layer and an insulating layer are sequentially laminated at least in a region directly below a metal wiring on a transparent substrate.
【請求項6】 低反射率層として、ポリシリコン層を形
成する請求項5記載の製造方法。
6. The method according to claim 5, wherein a polysilicon layer is formed as the low reflectance layer.
【請求項7】 TFT基板と対向基板との間に液晶を挟
持させた透過型液晶表示装置の製造方法であって、TF
T基板の形成工程において、ポリシリコン層のパターニ
ングによってゲート線と同時に、少なくとも金属配線の
直下となる領域に低反射率層を形成することを特徴とす
る製造方法。
7. A method of manufacturing a transmissive liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between a TFT substrate and a counter substrate, comprising:
In the step of forming a T substrate, a low reflectivity layer is formed at least in a region immediately below a metal wiring simultaneously with a gate line by patterning a polysilicon layer.
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