JP2002114757A - Method for producing 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone - Google Patents

Method for producing 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone

Info

Publication number
JP2002114757A
JP2002114757A JP2000311500A JP2000311500A JP2002114757A JP 2002114757 A JP2002114757 A JP 2002114757A JP 2000311500 A JP2000311500 A JP 2000311500A JP 2000311500 A JP2000311500 A JP 2000311500A JP 2002114757 A JP2002114757 A JP 2002114757A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
diallyl
dihydroxydiphenylsulfone
sulfone
acid
purified
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000311500A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4520612B2 (en
Inventor
Ikuo Kameoka
郁雄 亀岡
Yoshiki Tsuge
好揮 柘植
Makoto Nishikawa
誠 西川
Toshiaki Takahashi
俊章 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nicca Chemical Co Ltd
Original Assignee
Nicca Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nicca Chemical Co Ltd filed Critical Nicca Chemical Co Ltd
Priority to JP2000311500A priority Critical patent/JP4520612B2/en
Publication of JP2002114757A publication Critical patent/JP2002114757A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4520612B2 publication Critical patent/JP4520612B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone useful as a developer for heat-sensitive recording materials in high yield in a slight production amount of a component causing halation. SOLUTION: This method for producing 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydi-phenyl sulfone is characterized by adding 0.5-20 equivalent amount of acid to an alkali contained in 4,4'-diallyloxy-diphenyl sulfone and subjecting the above compound to thermal rearrangement reaction in the method for producing 3,3'-diallyl-4,4'- dihydroxydiphenyl sulfone by carrying out thermal rearrangement of 4,4'- diallyloxydiphenyl sulfone.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、3,3'−ジアリル
−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法
に関する。さらに詳しくは、本発明は、感熱記録材料の
顕色剤として有用な3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒド
ロキシジフェニルスルホンを、地肌カブリ成分が少な
く、高収率で得ることができる3,3'−ジアリル−4,
4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法に関
する。
The present invention relates to a method for producing 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone. More specifically, the present invention provides 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenyl sulfone, which is useful as a developer for a thermosensitive recording material, with a low background fog component and a high yield. , 3'-diallyl-4,
The present invention relates to a method for producing 4′-dihydroxydiphenyl sulfone.

【0002】[0002]

【従来の技術】3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキ
シジフェニルスルホンは、感熱記録材料の顕色剤として
有用な物質であり、さまざまな製造方法が試みられてい
る。例えば、特開昭60−169456号公報には、感
熱記録における顕色剤として有用な新規なフェノール性
化合物として、4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ン又はそのアルカリ金属塩とアリルハライドを反応さ
せ、次いで転位させる3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンの製造方法が提案されてい
る。また、特開昭61−89090号公報、特開昭62
−53957号公報には、地肌カブリの少ない3,3'−
ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンの
製造方法として、3−アリル−4'−アリルオキシ−4
−ヒドロキシジフェニルスルホンを4,4'−ジアリルオ
キシジフェニルスルホンの5〜20重量%とし、3,3'
−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン
の生成率を90重量%以下に抑制して加熱転位反応を終
了させる方法が提案されている。反応混合物をアルカリ
液で抽出し、酸析したのち、ジクロロアルカン系溶剤と
芳香族系溶剤とアルコール系又はグライコール系溶剤の
混合溶剤を用いて再結晶により精製し、3,3'−ジアリ
ル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンを得てい
る。さらに、特開平11−29549号公報には、高感
度で湿熱時の地肌カブリ成分が少なく、画像安定性に優
れた感熱記録材料の顕色化合物として、DSC(Te)
が149℃以上であり、Cu−Kα線による粉末X線回
折法において、少なくとも回折角(2θ)[゜]7.2
及び22.0にピークをもつX線回折図により特徴づけ
られる結晶型であり、3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンの含量が96重量%以上の
結晶を含有する感熱記録材料が提案されている。4,4'
−ジアリルオキシジフェニルスルホンを高沸点の不活性
非水溶性有機溶剤中で加熱転位させ、3,3'−ジアリル
−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンの生成量を
89〜93重量%にして反応を終了し、アルカリ水溶液
で抽出したのち、塩酸にて部分中和し、活性炭を用いて
精製し、次いで酸水溶液中に導いて結晶を析出させる
か、あるいは、アルカリ水溶液で抽出後、水及び非水溶
性有機溶媒を加え、さらに塩酸にて部分中和して、水層
と油層を分離し、水層に酸水溶液を添加することによ
り、3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンを得ている。感熱記録材料の顕色剤として用
いる3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンの中に、加熱転位反応で生成する5−(3−
アリル−4−ヒドロキシ)フェニルスルホニル−1−オ
キサ−2−メチルインダン、3−アリル−4−ヒドロキ
シ−4'−アリルオキシジフェニルスルホン、3−アリ
ル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンなどの副
生成物が多く含まれると、地肌カブリが激しくなる。上
記の製造方法では、転位反応時に副生する地肌カブリ成
分が多いために、その除去が不十分となって地肌カブリ
が発生したり、あるいは、地肌カブリ成分の除去が十分
にできても、収率が低くなり、安価で工業的に製造する
には難点がある。このために、純度が高く地肌カブリ成
分の少ない3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンを、経済的に製造する方法が求められ
ていた。
2. Description of the Related Art 3,3'-Diallyl-4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone is a useful substance as a developer for heat-sensitive recording materials, and various production methods have been tried. For example, JP-A-60-169456 discloses that as a novel phenolic compound useful as a color developer in thermal recording, 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone or an alkali metal salt thereof is reacted with allyl halide, A method for producing 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone to be rearranged has been proposed. Also, JP-A-61-89090 and JP-A-62
No. 53957 describes 3,3′- with less background fog.
As a method for producing diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone, 3-allyl-4'-allyloxy-4
-Hydroxydiphenyl sulfone is 5 to 20% by weight of 4,4'-diallyloxydiphenyl sulfone, and 3,3 '
A method has been proposed in which the rate of formation of -diallyl-4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone is suppressed to 90% by weight or less to terminate the heat rearrangement reaction. The reaction mixture was extracted with an alkaline solution and subjected to acid precipitation, and then purified by recrystallization using a mixed solvent of a dichloroalkane-based solvent, an aromatic-based solvent and an alcohol-based or glycol-based solvent, and purified by 3,3'-diallyl- 4,4'-Dihydroxydiphenyl sulfone is obtained. Further, JP-A-11-29549 discloses DSC (Te) as a developing compound of a heat-sensitive recording material having high sensitivity, little background fogging component when wet and having excellent image stability.
Is 149 ° C. or higher, and at least a diffraction angle (2θ) [゜] 7.2 in a powder X-ray diffraction method using Cu-Kα radiation.
And a crystal form characterized by an X-ray diffraction pattern having peaks at 22.0 and a crystal having a content of 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone of 96% by weight or more. Materials have been proposed. 4,4 '
-Diallyloxydiphenyl sulfone is heated and rearranged in an inert high-boiling water-insoluble organic solvent so that the amount of 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenyl sulfone is 89 to 93% by weight, and the reaction is carried out. After completion, extraction with an alkaline aqueous solution, partial neutralization with hydrochloric acid, purification using activated carbon, and then precipitation in an aqueous acid solution to precipitate crystals, or extraction with an aqueous alkaline solution, followed by extraction with water and water-insoluble An aqueous organic solvent is added, and the mixture is further neutralized with hydrochloric acid to separate an aqueous layer and an oil layer. An aqueous acid solution is added to the aqueous layer to give 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone. Have gained. In the 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenyl sulfone used as a developer of the thermosensitive recording material, 5- (3-
By-products such as allyl-4-hydroxy) phenylsulfonyl-1-oxa-2-methylindane, 3-allyl-4-hydroxy-4′-allyloxydiphenylsulfone, and 3-allyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone When a lot of things are included, the background fog becomes severe. In the above-described production method, since there are many background fog components by-produced at the time of the rearrangement reaction, the removal of the background fog is insufficient and the background fog is generated. The rate is low, and there are difficulties in inexpensive and industrial production. Therefore, there has been a demand for a method for economically producing 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenyl sulfone having a high purity and a low background fog component.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、感熱記録材
料の顕色剤として有用な3,3'−ジアリル−4,4'−ジ
ヒドロキシジフェニルスルホンを、地肌カブリ成分が少
なく、高収率で得ることができる3,3'−ジアリル−
4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法を
提供することを目的としてなされたものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone, which is useful as a developer for heat-sensitive recording materials, with a low background fog component and high yield. 3,3′-diallyl- which can be obtained
The object of the present invention is to provide a method for producing 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、原料である4,
4'−ジアリルオキシジフェニルスルホンに含有される
アルカリの総量と、地肌カブリ成分である5−(3−ア
リル−4−ヒドロキシ)フェニルスルホニル−1−オキ
サ−2−メチルインダンの生成量との因果関係をつきと
め、原料の4,4'−ジアリルオキシジフェニルスルホン
に含有されるアルカリ総量を低減することにより、3,
3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスル
ホンを、地肌カブリ成分が少なく、高収率で得ることが
できることを見いだし、この知見に基づいて本発明を完
成するに至った。すなわち、本発明は、(1)4,4'−
ジアリルオキシジフェニルスルホンを加熱転位させて
3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンを製造する方法において、4,4'−ジアリルオキ
シジフェニルスルホンに含有されるアルカリに対して
0.5〜20当量倍の酸を添加したのち加熱転位反応さ
せることを特徴とする3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンの製造方法、及び、(2)
4,4'−ジアリルオキシジフェニルスルホンに対して、
0.01〜1重量%のアミン化合物及び/又は0.01〜
1重量%の酸化防止剤を添加する第1項記載の3,3'−
ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンの
製造方法、を提供するものである。さらに、本発明の好
ましい態様として、(3)酸が、硫酸又はリン酸である
第1項記載の3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンの製造方法、及び、(4)酸化防止
剤が、フェノール系酸化防止剤である第2項記載の3,
3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスル
ホンの製造方法、を挙げることができる。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, the raw material 4,4
Causal relationship between the total amount of alkali contained in 4'-diallyloxydiphenyl sulfone and the amount of 5- (3-allyl-4-hydroxy) phenylsulfonyl-1-oxa-2-methylindane which is a background fog component And reducing the total amount of alkali contained in the raw material 4,4′-diallyloxydiphenylsulfone,
The inventors have found that 3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone can be obtained with a low background fog component and a high yield, and based on this finding, the present invention has been completed. That is, the present invention provides (1) 4,4′-
In a method for producing 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone by heat rearrangement of diallyloxydiphenylsulfone, 0.5 to alkali contained in 4,4'-diallyloxydiphenylsulfone is used. A method of producing 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenyl sulfone, which is characterized in that a heat rearrangement reaction is carried out after adding an acid in an amount of up to 20 equivalents, and (2)
For 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone,
0.01 to 1% by weight of an amine compound and / or 0.01 to 1% by weight
3. The 3,3'- according to claim 1, wherein 1% by weight of an antioxidant is added.
A method for producing diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone. Furthermore, as a preferred embodiment of the present invention, (3) the method for producing 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenyl sulfone according to item 1, wherein the acid is sulfuric acid or phosphoric acid, and (4) 3. The method according to claim 2, wherein the antioxidant is a phenolic antioxidant.
A method for producing 3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenyl sulfone can be mentioned.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明方法においては、4,4'−
ジアリルオキシジフェニルスルホンを加熱転位させて
3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンを製造する方法において、原料とする4,4'−ジ
アリルオキシジフェニルスルホンに含有されるアルカリ
に対して0.5〜20当量倍の酸を添加したのち加熱転
位反応させる。4,4'−ジアリルオキシジフェニルスル
ホンの加熱転位反応は、無溶媒、又は、高沸点を有する
脂肪族炭化水素溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの不活性
非水溶性有機溶剤中で、190〜220℃に加熱するこ
とにより行うことができる。4,4'−ジアリルオキシジ
フェニルスルホン中に含有されるアルカリの量は、4,
4'−ジアリルオキシジフェニルスルホンをジメチルス
ルホキシド、ジメチルホルムアミドなどの有機溶剤に溶
解し、酸を用いて滴定することにより測定することがで
きる。原料とする4,4'−ジアリルオキシジフェニルス
ルホンに含有されるアルカリは微量なので、4,4'−ジ
アリルオキシジフェニルスルホンを有機溶媒に溶解し、
所定量の水酸化ナトリウム水溶液などのアルカリを添加
したのち、塩酸などを用いて滴定し、ブランクテストと
比較して、含有されるアルカリ総量を水酸化ナトリウム
の量に換算することによって求めることが好ましい。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the method of the present invention, 4,4'-
In the method for producing 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone by heat rearrangement of diallyloxydiphenylsulfone, an alkali contained in 4,4′-diallyloxydiphenylsulfone as a raw material is used. After adding 0.5 to 20 equivalents of the acid, a heat rearrangement reaction is performed. The heat rearrangement reaction of 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone is carried out in a solvent-free state or in an inert water-insoluble organic solvent such as an aliphatic hydrocarbon solvent having a high boiling point or an aromatic hydrocarbon solvent; It can be carried out by heating to ° C. The amount of alkali contained in 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone is 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone.
It can be measured by dissolving 4'-diallyloxydiphenyl sulfone in an organic solvent such as dimethylsulfoxide and dimethylformamide and titrating with an acid. Since the amount of alkali contained in 4,4′-diallyloxydiphenylsulfone as a raw material is very small, 4,4′-diallyloxydiphenylsulfone is dissolved in an organic solvent,
After adding a predetermined amount of alkali such as an aqueous solution of sodium hydroxide, titration with hydrochloric acid or the like, comparing with a blank test, it is preferable to obtain by converting the total amount of alkali contained to the amount of sodium hydroxide. .

【0006】4,4'−ジアリルオキシジフェニルスルホ
ンは、通常は4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン
とアリルハライドを、有機溶媒中において、アルカリ金
属又はアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩などのアル
カリの存在下に、脱ハロゲン化水素反応を行うことによ
って製造される。したがって、4,4'−ジアリルオキシ
ジフェニルスルホンに含有されるアルカリには、アルカ
リ金属又はアルカリ土顆金属の水酸化物、炭酸塩、4,
4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンのアルカリ金属
塩、アルカリ土類金属塩、4−アリルオキシ−4'−ヒ
ドロキシジフェニルスルホンのアルカリ金属塩、アルカ
リ土類金属塩などがある。これらのアルカリの量は、酸
を用いて滴定し、例えば、水酸化ナトリウムの量に換算
したアルカリ総量として表すことができる。3,3'−ジ
アリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンの原
料とする4,4'−ジアリルオキシジフェニルスルホンに
含有されるアルカリは、4,4'−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンとアリルハライドの反応によって得られた反
応混合物から4,4'−ジアリルオキシジフェニルスルホ
ンの結晶を分離する前に、酸の添加による中和を行った
り、あるいは、4,4'−ジアリルオキシジフェニルスル
ホンの結晶を純水を用いて洗浄することにより、低減す
ることができる。しかし、4,4'−ジアリルオキシジフ
ェニルスルホンに含有されるアルカリを、完全に除去す
ることは難しく、微量のアルカリの存在が避けられな
い。
[0006] 4,4'-diallyloxydiphenylsulfone is usually prepared by combining 4,4'-dihydroxydiphenylsulfone and allyl halide in an organic solvent such as an alkali metal or alkaline earth metal hydroxide, carbonate or the like. It is produced by performing a dehydrohalogenation reaction in the presence of an alkali. Therefore, alkalis contained in 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone include hydroxides and carbonates of alkali metals or alkaline earth metals.
There are alkali metal salts and alkaline earth metal salts of 4'-dihydroxydiphenyl sulfone, and alkali metal salts and alkaline earth metal salts of 4-allyloxy-4'-hydroxydiphenyl sulfone. The amounts of these alkalis can be titrated with an acid and expressed, for example, as the total amount of alkali converted to the amount of sodium hydroxide. The alkali contained in 4,4'-diallyloxydiphenylsulfone as a raw material of 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone is obtained by the reaction of 4,4'-dihydroxydiphenylsulfone with allyl halide. Before separating the 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone crystals from the reaction mixture obtained, neutralization by adding an acid is performed, or the 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone crystals are purified using pure water. It is possible to reduce the amount by cleaning. However, it is difficult to completely remove the alkali contained in 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone, and the presence of a trace amount of alkali is inevitable.

【0007】4,4'−ジアリルオキシジフェニルスルホ
ンに含有されるアルカリを水による洗浄などにより除去
し、アルカリ総量を低減して加熱転位反応すると、地肌
カブリ成分である5−(3−アリル−4−ヒドロキシ)フ
ェニルスルホニル−1−オキサ−2−メチルインダンを
はじめ、3−アリル−4−ヒドロキシ−4'−アリルオ
キシジフェニルスルホン、3−アリル−4,4'−ジヒド
ロキシジフェニルスルホンなどの副生成物の生成をある
程度抑制することができるが、さらに酸を添加して反応
することにより、地肌カブリ成分などの副生成物の生成
をいっそう抑制することができる。アルカリ総量が多い
状態で、酸を添加することなく4,4'−ジアリルオキシ
ジフェニルスルホンを原料に用いて加熱転位反応する
と、地肌カブリ成分などの生成が促進され、また、3,
3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスル
ホンからも副生成物が発生して、精製が困難となり、
3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンの純度が低下し、地肌カブリ成分除去のために収
率が低下し、あるいは、顕色剤として使用したときに地
肌カブリの発生の原因となる。しかし、4,4'−ジアリ
ルオキシジフェニルスルホンに酸を添加して加熱転位反
応することにより、アルカリ総量が多い原料を用いて
も、地肌カブリ成分などの副生成物の生成を抑制するこ
とができる。
The alkali contained in 4,4'-diallyloxydiphenylsulfone is removed by washing with water or the like, and the total amount of alkali is reduced to carry out a heat rearrangement reaction. As a result, 5- (3-allyl-4) which is a background fog component is obtained. -Hydroxy) phenylsulfonyl-1-oxa-2-methylindane, as well as by-products such as 3-allyl-4-hydroxy-4'-allyloxydiphenylsulfone and 3-allyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone Can be suppressed to some extent, but by further adding an acid and reacting, the generation of by-products such as background fog components can be further suppressed. In a state where the total amount of alkalis is large, when a heat rearrangement reaction is performed using 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone as a raw material without adding an acid, formation of a background fog component and the like is promoted, and
By-products are also generated from 3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenyl sulfone, making purification difficult,
The purity of 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone decreases, the yield decreases due to the removal of background fog components, or causes of background fog when used as a color developer Becomes However, by adding an acid to 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone and performing a heat rearrangement reaction, even when a raw material having a large total amount of alkalis is used, generation of by-products such as background fog components can be suppressed. .

【0008】本発明方法においては、4,4'−ジアリル
オキシジフェニルスルホンに含有されるアルカリに対し
て0.5〜20当量倍、好ましくは0.9〜10当量倍、
より好ましくは1〜3当量倍の酸を添加する。4,4'−
ジアリルオキシジフェニルスルホンに酸を添加したのち
に加熱転位反応させることにより、地肌カブリ成分の生
成を抑制することができ、高純度の3,3'−ジアリル−
4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンを高収率で得
ることができる。酸の添加量がアルカリに対して0.5
当量倍未満であると、4,4'−ジアリルオキシジフェニ
ルスルホンの加熱転位反応に際して、5−(3−アリル
−4−ヒドロキシ)フェニルスルホニル−1−オキサ−
2−メチルインダンなどの地肌カブリ成分を抑制するこ
とができず生成量が増加するおそれがある。酸の添加量
がアルカリに対して20当量倍を超えると、反応の副生
成物の量が増加するとともに、反応生成物の着色が強く
なるおそれがある。本発明方法に用いる酸に特に制限は
なく、例えば、塩酸、硫酸、リン酸、亜リン酸、硝酸な
どの無機酸、蟻酸、酢酸、酪酸、シュウ酸、クエン酸、
リンゴ酸、酒石酸、安息香酸、ベンゼンスルホン酸、p
−トルエンスルホン酸などの有機酸などを挙げることが
できる。これらの酸は、1種を単独で用いることがで
き、あるいは、2種以上を組み合わせて用いることもで
きる。これらの中で、硫酸及びリン酸を特に好適に使用
することができる。
In the method of the present invention, the alkali contained in 4,4'-diallyloxydiphenyl sulfone is 0.5 to 20 equivalent times, preferably 0.9 to 10 equivalent times.
More preferably, 1 to 3 equivalents of the acid is added. 4,4'-
By adding an acid to diallyloxydiphenyl sulfone and then subjecting it to a heat rearrangement reaction, generation of a background fog component can be suppressed, and high-purity 3,3′-diallyl-
4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone can be obtained in high yield. The amount of acid added is 0.5
If it is less than the equivalent, 5- (3-allyl-4-hydroxy) phenylsulfonyl-1-oxa- is required during the thermal rearrangement reaction of 4,4′-diallyloxydiphenylsulfone.
Background fog components such as 2-methylindane cannot be suppressed, and the amount of generation may increase. If the amount of the acid exceeds 20 equivalents of the alkali, the amount of by-products of the reaction may increase, and the coloring of the reaction product may be increased. There is no particular limitation on the acid used in the method of the present invention, for example, inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, phosphorous acid, nitric acid, formic acid, acetic acid, butyric acid, oxalic acid, citric acid,
Malic acid, tartaric acid, benzoic acid, benzenesulfonic acid, p
-Organic acids such as toluenesulfonic acid. One of these acids can be used alone, or two or more can be used in combination. Among these, sulfuric acid and phosphoric acid can be particularly preferably used.

【0009】本発明方法においては、アミン化合物及び
/又は酸化防止剤を添加して4,4'−ジアリルオキシジ
フェニルスルホンの加熱転位反応を行うことが好まし
い。使用するアミン化合物に特に制限はなく、例えば、
N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、
N,N−ジメチルアミノピリジン、ベンゾトリアゾー
ル、ジエチレントリアミン、N,N−ジメチルベンジル
アミンなどを挙げることができる。これらのアミン化合
物は、1種を単独で用いることができ、あるいは、2種
以上を組み合わせて用いることもできる。4,4'−ジア
リルオキシジフェニルスルホンの加熱転位反応をアミン
化合物の存在下に行うことにより、アミン化合物が主反
応の進行を促進して、副生成物の生成を抑制することが
できる。アミン化合物の添加量は、4,4'−ジアリルオ
キシジフェニルスルホンに対して0.01〜1重量%で
あることが好ましく、0.05〜0.7重量%であること
がより好ましい。アミン化合物の添加量が、4,4'−ジ
アリルオキシジフェニルスルホンに対して0.01重量
%未満であると、副生成物の生成を抑制する効果が十分
に発揮されないおそれがある。アミン化合物の添加量
が、4,4'−ジアリルオキシジフェニルスルホンに対し
て1重量%を超えると、過剰なアミン化合物が転位反応
により生成したフェノール性水酸基に配位したり、錯体
や塩を形成して、逆に副反応を助長して地肌カブリ成分
が増加するおそれがある。
In the method of the present invention, it is preferable to carry out a thermal rearrangement reaction of 4,4'-diallyloxydiphenyl sulfone by adding an amine compound and / or an antioxidant. There is no particular limitation on the amine compound used, for example,
N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline,
Examples thereof include N, N-dimethylaminopyridine, benzotriazole, diethylenetriamine, and N, N-dimethylbenzylamine. One of these amine compounds can be used alone, or two or more thereof can be used in combination. By performing the thermal rearrangement reaction of 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone in the presence of an amine compound, the progress of the main reaction of the amine compound can be promoted, and the generation of by-products can be suppressed. The amount of the amine compound to be added is preferably 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.7% by weight, based on 4,4'-diallyloxydiphenyl sulfone. If the amount of the amine compound is less than 0.01% by weight based on 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone, the effect of suppressing the generation of by-products may not be sufficiently exhibited. If the amount of the amine compound exceeds 1% by weight based on 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone, an excess of the amine compound coordinates to the phenolic hydroxyl group generated by the rearrangement reaction, or forms a complex or a salt. On the contrary, there is a possibility that the side reaction is promoted and the background fog component is increased.

【0010】本発明方法に用いる酸化防止剤に特に制限
はなく、例えば、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ヒ
ドロキノンモノエチルエーテル、3,5−ジ−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシトルエン、2,2'−メチレンビス
(6−t−ブチル−3−メチルフェノール)、1,1,3−
トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチル
フェニル)ブタンなどのフェノール系酸化防止剤、3,
3'−チオジプロピオン酸ジドデシル、3,3'−チオジ
プロピオン酸ジテトラデシル、3,3'−チオジプロピオ
ン酸ジオクタデシルなどの硫黄系酸化防止剤、亜リン酸
トリフェニル、亜リン酸ジフェニルイソデシル、亜リン
酸トリス(ノニルフェニル)などのリン系酸化防止剤など
を挙げることができる。これらの酸化防止剤は、1種を
単独で用いることができ、あるいは、2種以上を組み合
わせて用いることもできる。これらの酸化防止剤の中
で、フェノール系酸化防止剤を特に好適に用いることが
できる。4,4'−ジアリルオキシジフェニルスルホンの
加熱転位反応を酸化防止剤の存在下で行うことにより、
反応の進行に伴う着色を抑制することができる。酸化防
止剤の添加量は、4,4'−ジアリルオキシジフェニルス
ルホンに対して0.01〜1重量%であることが好まし
く、0.05〜0.7重量%であることがより好ましい。
酸化防止剤の添加量が、4,4'−ジアリルオキシジフェ
ニルスルホンに対して0.01重量%未満であると、着
色を抑制する効果が十分に発揮されないおそれがある。
酸化防止剤の添加量が、4,4'−ジアリルオキシジフェ
ニルスルホンに対して1重量%を超えると、反応の副生
成物が増加するおそれがある。本発明方法により4,4'
−ジアリルオキシジフェニルスルホンの加熱転位反応を
行ったのち、反応混合物をアルカリで抽出し、さらに溶
剤抽出や、洗浄、酸析、再結晶、活性炭精製などの操作
により精製を行い、感熱記録材料の顕色剤として優れた
性能を有する高純度の3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンを得ることができる。
The antioxidant used in the method of the present invention is not particularly limited. For example, hydroquinone monomethyl ether, hydroquinone monoethyl ether, 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxytoluene, 2,2'-methylenebis
(6-t-butyl-3-methylphenol), 1,1,3-
Phenolic antioxidants such as tris (2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl) butane;
Sulfur-based antioxidants such as didodecyl 3'-thiodipropionate, ditetradecyl 3,3'-thiodipropionate, dioctadecyl 3,3'-thiodipropionate, triphenyl phosphite, diphenyl phosphite Examples thereof include phosphorus-based antioxidants such as decyl and tris (nonylphenyl) phosphite. One of these antioxidants can be used alone, or two or more thereof can be used in combination. Among these antioxidants, phenolic antioxidants can be particularly preferably used. By performing the thermal rearrangement reaction of 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone in the presence of an antioxidant,
Coloring accompanying the progress of the reaction can be suppressed. The addition amount of the antioxidant is preferably 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.7% by weight, based on 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone.
If the amount of the antioxidant is less than 0.01% by weight based on 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone, the effect of suppressing coloring may not be sufficiently exhibited.
When the amount of the antioxidant exceeds 1% by weight based on 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone, there is a possibility that by-products of the reaction may increase. According to the method of the present invention, 4,4 ′
After the heat rearrangement reaction of diallyloxydiphenyl sulfone, the reaction mixture is extracted with alkali, and further purified by solvent extraction, washing, acid precipitation, recrystallization, activated carbon purification, etc. High-purity 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone having excellent performance as a coloring agent can be obtained.

【0011】[0011]

【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限
定されるものではない。なお、実施例及び比較例におい
て、4,4'−ジアリルオキシジフェニルスルホンに含有
されるアルカリ総量(ppm、重量比)は、4,4'−ジア
リルオキシジフェニルスルホン30.0gをジメチルス
ルホキシド450gに溶解し、1/50モル/L水酸化
ナトリウム水溶液10mLを添加したのち、1/100モ
ル/L塩酸を用いて滴定し、ブランクテストと比較し
て、含有アルカリ総量を水酸化ナトリウムに換算するこ
とにより求めた。 実施例1 四ツ口フラスコに、水酸化ナトリウムに換算した含有ア
ルカリ総量が50ppm(重量比)の4,4'−ジアリルオ
キシジフェニルスルホン413g、パラフィン系溶剤
[出光興産(株)、ダイアナフレシアW−8]275g、
灯油[大協石油(株)]275g及び濃硫酸0.025g
を仕込んだ。硫酸の添加量は、アルカリ総量の1.0当
量倍である。窒素気流下、205〜210℃で7時間加
熱転位反応させた。加熱転位反応後の反応混合物のHP
LC組成比(面積百分率)は、3,3'−ジアリル−4,
4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン(以下、ジ転位
体と略す。)92.4%、5−(3−アリル−4−ヒドロ
キシ)フェニルスルホニル−1−オキサ−2−メチルイ
ンダン(以下、インダン体と略す。)1.5%、3−ア
リル−4−ヒドロキシ−4'−アリルオキシジフェニル
スルホン(以下、モノ転位体と略す。)1.9%、3−
アリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン(以
下、モノアリル体と略す。)0.7%であった。この反
応混合物を冷却して、13重量%水酸化ナトリウム水溶
液715gを添加して撹拌し、静置分離したのち、下層
のアルカリ水溶液を四ツ口フラスコに仕込み、さらに水
を添加して、固形分濃度30重量%に調整した。この抽
出液に、活性炭[二村化学工業(株)、太閤S]82.6
gを添加し、40℃で1時間、活性炭処理をして、40
℃で活性炭をろ別し、水100gで洗浄した。活性炭処
理された処理液を4ツ口フラスコに仕込み、水を添加し
て、固形分濃度20重量%に調整し、25重量%硫酸4
10gを3時間で滴下して酸析したのち、pHを4.5に
調整して1時間撹拌した。析出した結晶をろ別し、水3
50gを用いて洗浄したのち、乾燥して、3,3'−ジア
リル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン精製品
343gを得た。得られた3,3'−ジアリル−4,4'−
ジヒドロキシジフェニルスルホン精製品のHPLC組成
比(面積百分率)は、ジ転位体97.3%、インダン体
0.2%であった。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which should not be construed as limiting the present invention. In Examples and Comparative Examples, the total amount of alkali contained in 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone (ppm, weight ratio) was determined by dissolving 30.0 g of 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone in 450 g of dimethyl sulfoxide. Then, after adding 10 mL of a 1/50 mol / L sodium hydroxide aqueous solution, titration was performed using 1/100 mol / L hydrochloric acid, and the total alkali content was converted to sodium hydroxide by comparing with a blank test. I asked. Example 1 In a four-necked flask, 413 g of 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone having a total alkali content of 50 ppm (weight ratio) calculated as sodium hydroxide, a paraffin-based solvent [Idemitsu Kosan Co., Ltd., Diana Fresia W- 8] 275 g,
Kerosene (Daiko Sekiyu KK) 275 g and concentrated sulfuric acid 0.025 g
Was charged. The amount of sulfuric acid added is 1.0 equivalent times the total amount of alkali. A heat rearrangement reaction was carried out at 205 to 210 ° C. for 7 hours under a nitrogen stream. HP of reaction mixture after heat rearrangement reaction
LC composition ratio (area percentage) was 3,3′-diallyl-4,
92.4% of 4'-dihydroxydiphenylsulfone (hereinafter abbreviated as ditransferred), 5- (3-allyl-4-hydroxy) phenylsulfonyl-1-oxa-2-methylindane (hereinafter abbreviated as indane) ) 1.5%, 3-allyl-4-hydroxy-4'-allyloxydiphenylsulfone (hereinafter abbreviated as monotransferred form) 1.9%, 3-
Allyl-4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone (hereinafter abbreviated as monoallyl form) was 0.7%. The reaction mixture was cooled, 715 g of a 13% by weight aqueous sodium hydroxide solution was added thereto, and the mixture was stirred and allowed to stand. After separation, the lower layer aqueous alkali solution was charged into a four-necked flask, and water was further added thereto. The concentration was adjusted to 30% by weight. Activated carbon [Nimura Chemical Industry Co., Ltd., Taiko S] 82.6
g at 40 ° C. for 1 hour and activated carbon treatment.
The activated carbon was filtered off at ℃ and washed with 100 g of water. The treated solution treated with activated carbon was charged into a four-necked flask, and water was added to adjust the solid content to 20% by weight.
After adding 10 g dropwise over 3 hours for acid precipitation, the pH was adjusted to 4.5 and stirred for 1 hour. The precipitated crystals are filtered off, and water 3
After washing with 50 g, it was dried to obtain 343 g of purified 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone. The obtained 3,3'-diallyl-4,4'-
The HPLC composition ratio (area percentage) of the purified dihydroxydiphenylsulfone product was 97.3% of the di-transposition form and 0.2% of the indane form.

【0012】実施例2 四ツ口フラスコに、水酸化ナトリウムに換算した含有ア
ルカリ総量が50ppm(重量比)の4,4'−ジアリルオ
キシジフェニルスルホン413g、パラフィン系溶剤
[出光興産(株)、ダイアナフレシアW−8]275g、
灯油[大協石油(株)]275g、N,N−ジメチルアニ
リン0.4g、ヒドロキノンモノメチルエーテル0.4g
及び濃硫酸0.025gを仕込んだ。硫酸の添加量は、
アルカリ総量の1.0当量倍である。窒素気流下、20
5〜210℃で7時間加熱転位反応した。加熱転位反応
後の反応混合物のHPLC組成比(面積百分率)は、ジ
転位体92.5%、インダン体1.6%、モノ転位体1.
9%、モノアリル体0.5%であった。この反応混合物
を冷却して、13重量%水酸化ナトリウム水溶液715
gを添加して撹拌し、静置分離したのち、下層のアルカ
リ水溶液を四ツ口フラスコに仕込み、さらに水を添加し
て、固形分濃度30重量%に調整した。この抽出液に、
活性炭[二村化学工業(株)、太閤S]82.6gを添加
し、40℃で1時間、活性炭処理をして、40℃で活性
炭をろ別し、水100gで洗浄した。活性炭処理された
処理液を4ツ口フラスコに仕込み、水を添加して、固形
分濃度20重量%に調整し、25重量%硫酸410gを
3時間で滴下して酸析したのち、pHを4.5に調整して
1時間撹拌した。析出した結晶をろ別し、水350gを
用いて洗浄したのち、乾燥して、3,3'−ジアリル−
4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン精製品351
gを得た。得られた3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒド
ロキシジフェニルスルホン精製品のHPLC組成比(面
積百分率)は、ジ転位体97.8%、インダン体0.1%
であった。
Example 2 In a four-necked flask, 413 g of 4,4'-diallyloxydiphenylsulfone having a total alkali content of 50 ppm (weight ratio) in terms of sodium hydroxide, a paraffin-based solvent [Idemitsu Kosan Co., Ltd., Diana Fresia W-8] 275 g,
Kerosene (Daiko Sekiyu KK) 275 g, N, N-dimethylaniline 0.4 g, hydroquinone monomethyl ether 0.4 g
And 0.025 g of concentrated sulfuric acid. The amount of sulfuric acid added
It is 1.0 equivalent times the total amount of alkali. Under nitrogen stream, 20
A heat rearrangement reaction was performed at 5 to 210 ° C. for 7 hours. The HPLC composition ratio (area percentage) of the reaction mixture after the heat rearrangement reaction was 92.5% for di-isomer, 1.6% for indane, and 1.
9% and the monoallyl derivative were 0.5%. The reaction mixture was cooled and a 13 wt.
g, and the mixture was stirred and separated by standing. The lower layer aqueous alkali solution was charged into a four-necked flask, and water was further added to adjust the solid content concentration to 30% by weight. In this extract,
82.6 g of activated carbon [Nimura Chemical Industry Co., Ltd., Taiko S] was added, activated carbon treatment was performed at 40 ° C. for 1 hour, the activated carbon was filtered off at 40 ° C., and washed with 100 g of water. The treated solution treated with activated carbon was charged into a four-necked flask, water was added to adjust the solid content to 20% by weight, 410 g of 25% by weight sulfuric acid was added dropwise over 3 hours, and acid precipitation was carried out. Was adjusted to 0.5 and stirred for 1 hour. The precipitated crystals were collected by filtration, washed with 350 g of water, dried, and 3,3′-diallyl-
4,4'-Dihydroxydiphenyl sulfone purified product 351
g was obtained. The HPLC composition ratio (area percentage) of the obtained purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone was 97.8% for the di-transposition form and 0.1% for the indane form.
Met.

【0013】実施例3 実施例2と同様な加熱転位反応後の反応混合物を用い、
13重量%水酸化ナトリウム水溶液715gを添加し、
静置分離したのち、四ツ口フラスコに下層のアルカリ水
溶液と活性炭[武田薬品工業(株)、カルボラフィン6]
39.0gを仕込み、80℃にて1時間、活性炭処理を
して、80℃で活性炭をろ別した。活性炭処理された処
理液を四ツ口フラスコに仕込み、60℃で50重量%硫
酸184gを滴下して酸析し、析出した結晶をろ別し
た。四ツ口フラスコにろ別した結晶と二塩化エタン78
0gを仕込み、イソプロパノール9.4gを添加して1
時間加熱還流したのち、25℃まで冷却した。析出した
結晶をろ別し、二塩化エタン300gを用いて洗浄し、
乾燥して、3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジ
フェニルスルホン精製品330gを得た。得られた3,
3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスル
ホン精製品のHPLC組成比(面積百分率)は、ジ転位
体97.2%、インダン体0.2%であった。 実施例4 濃硫酸0.025gの代わりに、濃硫酸0.05gを仕込
んだ以外は、実施例2と同様にして、加熱転位反応を行
った。硫酸の添加量は、アルカリ総量の2.0当量倍で
ある。加熱転位反応後の反応混合物のHPLC組成比
(面積百分率)は、ジ転位体93.2%、インダン体1.
2%、モノ転位体2.1%、モノアリル体0.5%であっ
た。さらに、実施例2と同様に処理することにより、
3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルス
ルホン精製品351gを得た。得られた3,3'−ジアリ
ル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン精製品の
HPLC組成比(面積百分率)は、ジ転位体97.5
%、インダン体0.1%であった。
Example 3 Using the same reaction mixture after the heat rearrangement reaction as in Example 2,
715 g of a 13% by weight aqueous sodium hydroxide solution was added,
After standing and separating, a lower layer aqueous alkali solution and activated carbon are placed in a four-necked flask [Takeda Pharmaceutical Co., Ltd., Carbofin 6].
39.0 g was charged, treated with activated carbon at 80 ° C. for 1 hour, and the activated carbon was filtered off at 80 ° C. The treated solution treated with activated carbon was charged into a four-necked flask, and 184 g of 50% by weight sulfuric acid was added dropwise at 60 ° C. to carry out acid precipitation, and the precipitated crystals were separated by filtration. Crystals separated by filtration in a four-necked flask and ethane dichloride 78
0 g, add 9.4 g of isopropanol, and add 1 g.
After heating under reflux for an hour, the mixture was cooled to 25 ° C. The precipitated crystals are filtered off and washed with 300 g of ethane dichloride,
After drying, 330 g of purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone was obtained. Three obtained
The HPLC composition ratio (area percentage) of the purified 3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone was 97.2% of the di-transposition compound and 0.2% of the indane compound. Example 4 A heat rearrangement reaction was carried out in the same manner as in Example 2 except that 0.05 g of concentrated sulfuric acid was charged instead of 0.025 g of concentrated sulfuric acid. The amount of sulfuric acid added is 2.0 equivalent times of the total amount of alkali. The HPLC composition ratio (area percentage) of the reaction mixture after the heat rearrangement reaction was 93.2% for the di-isomer and 1. for the indane.
The content was 2%, the mono-isomer was 2.1%, and the mono-allyl form was 0.5%. Further, by performing the same processing as in the second embodiment,
351 g of purified 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone was obtained. The HPLC composition ratio (area percentage) of the resulting purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone product was 97.5 in the di-translocation form.
% And the indane body was 0.1%.

【0014】実施例5 水酸化ナトリウムに換算した含有アルカリ総量が50pp
m(重量比)の4,4'−ジアリルオキシジフェニルスル
ホン413gの代わりに、水酸化ナトリウムに換算した
含有アルカリ総量が100ppm(重量比)の4,4'−ジ
アリルオキシジフェニルスルホン413gを使用し、濃
硫酸0.025gの代わりに、濃硫酸0.10gを仕込ん
だ以外は、実施例2と同様にして、加熱転位反応を行っ
た。硫酸の添加量は、アルカリ総量の2.0当量倍であ
る。加熱転位反応後の反応混合物のHPLC組成比(面
積百分率)は、ジ転位体93.0%、インダン体1.4
%、モノ転位体2.0%、モノアリル体0.7%であっ
た。さらに、実施例2と同様に処理することにより、
3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルス
ルホン精製品351gを得た。得られた3,3'−ジアリ
ル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン精製品の
HPLC組成比(面積百分率)は、ジ転位体97.4
%、インダン体0.2%であった。 実施例6 水酸化ナトリウムに換算した含有アルカリ総量が50pp
m(重量比)の4,4'−ジアリルオキシジフェニルスル
ホン413gの代わりに、水酸化ナトリウムに換算した
含有アルカリ総量が20ppm(重量比)の4,4'−ジア
リルオキシジフェニルスルホン413gを使用し、濃硫
酸0.025gの代わりに、濃硫酸0.01gを仕込んだ
以外は、実施例2と同様にして、加熱転位反応を行っ
た。硫酸の添加量は、アルカリ総量の1.0当量倍であ
る。加熱転位反応後の反応混合物のHPLC組成比(面
積百分率)は、ジ転位体93.2%、インダン体1.0
%、モノ転位体1.9%、モノアリル体0.6%であっ
た。さらに、実施例2と同様に処理することにより、
3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルス
ルホン精製品359gを得た。得られた3,3'−ジアリ
ル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン精製品の
HPLC組成比(面積百分率)は、ジ転位体97.7
%、インダン体0.1%であった。
Example 5 The total amount of alkali contained in terms of sodium hydroxide was 50 pp
Instead of 413 g of 4,4′-diallyloxydiphenylsulfone m (weight ratio), 413 g of 4,4′-diallyloxydiphenylsulfone having a total alkali content of 100 ppm (weight ratio) in terms of sodium hydroxide was used, A heat rearrangement reaction was carried out in the same manner as in Example 2 except that 0.10 g of concentrated sulfuric acid was charged instead of 0.025 g of concentrated sulfuric acid. The amount of sulfuric acid added is 2.0 equivalent times of the total amount of alkali. The HPLC composition ratio (area percentage) of the reaction mixture after the heat rearrangement reaction was 93.0% for the di-isomer and 1.4 for the indane.
%, 2.0% of the mono rearranged product, and 0.7% of the monoallyl compound. Further, by performing the same processing as in the second embodiment,
351 g of purified 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone was obtained. The HPLC composition ratio (area percentage) of the obtained purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone product was 97.4 of the di-transposition product.
%, Indane body was 0.2%. Example 6 Total amount of alkali contained in terms of sodium hydroxide was 50 pp
m (weight ratio) of 413 g of 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone instead of 413 g of 4,4′-diallyloxydiphenyl sulfone having a total alkali content of 20 ppm (weight ratio) in terms of sodium hydroxide, A heat rearrangement reaction was carried out in the same manner as in Example 2, except that 0.01 g of concentrated sulfuric acid was charged instead of 0.025 g of concentrated sulfuric acid. The amount of sulfuric acid added is 1.0 equivalent times the total amount of alkali. The HPLC composition ratio (area percentage) of the reaction mixture after the heat rearrangement reaction was 93.2% for the di-isomer and 1.0 for the indane.
%, The mono-dislocation form was 1.9%, and the mono-allyl form was 0.6%. Further, by performing the same processing as in the second embodiment,
359 g of purified 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone was obtained. The HPLC composition ratio (area percentage) of the obtained purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone product was 97.7 in the di-transposition form.
% And the indane body was 0.1%.

【0015】実施例7 N,N−ジメチルアニリン0.4gとヒドロキノンモノメ
チルエーテル0.4gの代わりに、N,N−ジメチルアニ
リン0.2gとヒドロキノンモノメチルエーテル0.2g
を仕込んだ以外は、実施例2と同様にして、加熱転位反
応を行った。加熱転位反応後の反応混合物のHPLC組
成比(面積百分率)は、ジ転位体92.5%、インダン
体1.6%、モノ転位体2.0%、モノアリル体0.7%
であった。さらに、実施例2と同様に処理することによ
り、3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホン精製品347gを得た。得られた3,3'−ジ
アリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン精製
品のHPLC組成比(面積百分率)は、ジ転位体97.
3%、インダン体0.2%であった。 実施例8 N,N−ジメチルアニリン0.4gとヒドロキノンモノメ
チルエーテル0.4gの代わりに、N,N−ジメチルアニ
リン2.8gとヒドロキノンモノメチルエーテル2.8g
を仕込んだ以外は、実施例2と同様にして、加熱転位反
応を行った。加熱転位反応後の反応混合物のHPLC組
成比(面積百分率)は、ジ転位体92.3%、インダン
体1.7%、モノ転位体1.9%、モノアリル体0.5%
であった。さらに、実施例2と同様に処理することによ
り、3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホン精製品343gを得た。得られた3,3'−ジ
アリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン精製
品のHPLC組成比(面積百分率)は、ジ転位体97.
2%、インダン体0.3%であった。
Example 7 Instead of 0.4 g of N, N-dimethylaniline and 0.4 g of hydroquinone monomethyl ether, 0.2 g of N, N-dimethylaniline and 0.2 g of hydroquinone monomethyl ether
, And a heat rearrangement reaction was carried out in the same manner as in Example 2. The HPLC composition ratio (area percentage) of the reaction mixture after the heat rearrangement reaction was 92.5% for the di-isomer, 1.6% for the indane, 2.0% for the mono-isomer, and 0.7% for the monoallyl-isomer.
Met. Further, by treating in the same manner as in Example 2, 347 g of purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone was obtained. The HPLC composition ratio (area percentage) of the purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone was 97.
3% and indan form 0.2%. Example 8 Instead of 0.4 g of N, N-dimethylaniline and 0.4 g of hydroquinone monomethyl ether, 2.8 g of N, N-dimethylaniline and 2.8 g of hydroquinone monomethyl ether
, And a heat rearrangement reaction was carried out in the same manner as in Example 2. The HPLC composition ratio (area percentage) of the reaction mixture after the heat rearrangement reaction was 92.3% for the di-isomer, 1.7% for the indane, 1.9% for the mono-isomer, and 0.5% for the monoallyl-form.
Met. Further, by treating in the same manner as in Example 2, 343 g of purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone was obtained. The HPLC composition ratio (area percentage) of the purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone was 97.
2% and indan form 0.3%.

【0016】実施例9 N,N−ジメチルアニリン0.4gの代わりに、N,N−
ジメチルベンジルアミン0.4gを仕込んだ以外は、実
施例2と同様にして、加熱転位反応を行った。加熱転位
反応後の反応混合物のHPLC組成比(面積百分率)
は、ジ転位体92.5%、インダン体1.6%、モノ転位
体1.9%、モノアリル体0.6%であった。さらに、実
施例2と同様に処理することにより、3,3'−ジアリル
−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン精製品34
7gを得た。得られた3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホン精製品のHPLC組成比
(面積百分率)は、ジ転位体97.3%、インダン体0.
2%であった。 実施例10 実施例2で使用したN,N−ジメチルアニリン0.4gの
代わりに、N,N−ジメチル−4−アミノピリジン0.4
gを仕込んだ以外は、実施例2と同様にして、加熱転位
反応を行った。加熱転位反応後の反応混合物のHPLC
組成比(面積百分率)は、ジ転位体92.4%、インダ
ン体1.7%、モノ転位体2.1%、モノアリル体0.7
%であった。さらに、実施例2と同様に処理することに
より、3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン精製品343gを得た。得られた3,3'−
ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン精
製品のHPLC組成比(面積百分率)は、ジ転位体9
7.3%、インダン体0.2%であった。
EXAMPLE 9 Instead of 0.4 g of N, N-dimethylaniline, N, N-dimethylaniline was used.
A heat rearrangement reaction was carried out in the same manner as in Example 2 except that 0.4 g of dimethylbenzylamine was charged. HPLC composition ratio (area percentage) of reaction mixture after heat rearrangement reaction
Was 92.5% of di-dislocation, 1.6% of indane, 1.9% of mono-dislocation, and 0.6% of mono-allyl. Furthermore, by treating in the same manner as in Example 2, 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone purified product 34
7 g were obtained. The obtained 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone purified product had an HPLC composition ratio (area percentage) of 97.3% for the di-transferred form and 0.1% for the indane form.
2%. Example 10 Instead of 0.4 g of N, N-dimethylaniline used in Example 2, 0.4 of N, N-dimethyl-4-aminopyridine was used.
A heat rearrangement reaction was carried out in the same manner as in Example 2 except that g was charged. HPLC of reaction mixture after heat rearrangement reaction
The composition ratio (area percentage) was 92.4% for di-dislocation, 1.7% for indane, 2.1% for mono-dislocation, and 0.7 for monoallyl.
%Met. Further, by treating in the same manner as in Example 2, 343 g of purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone was obtained. The obtained 3,3'-
The HPLC composition ratio (area percentage) of the diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone purified product was determined to be 9
It was 7.3% and the indane body was 0.2%.

【0017】実施例11 ヒドロキノンモノメチルエーテル0.4gの代わりに、
ジ−t−ブチルヒドロキシトルエン0.4gを仕込んだ
以外は、実施例2と同様にして、加熱転位反応を行っ
た。加熱転位反応後の反応混合物のHPLC組成比(面
積百分率)は、ジ転位体92.5%、インダン体1.6
%、モノ転位体2.0%、モノアリル体0.6%であっ
た。さらに、実施例2と同様に処理することにより、
3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルス
ルホン精製品351gを得た。得られた3,3'−ジアリ
ル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン精製品の
HPLC組成比(面積百分率)は、ジ転位体97.4
%、インダン体0.2%であった。 実施例12 ヒドロキノンモノメチルエーテル0.4gの代わりに、
2,2'−メチレンビス−(6−t−ブチル−3−メチル
フェノ−ル)0.4gを仕込んだ以外は、実施例2と同
様にして、加熱転位反応を行った。加熱転位反応後の反
応混合物のHPLC組成比(面積百分率)は、ジ転位体
92.5%、インダン体1.6%、モノ転位体2.1%、
モノアリル体0.6%であった。さらに、実施例2と同
様に処理することにより、3,3'−ジアリル−4,4'−
ジヒドロキシジフェニルスルホン精製品347gを得
た。得られた3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホン精製品のHPLC組成比(面積百分
率)は、ジ転位体97.4%、インダン体0.2%であっ
た。
Example 11 Instead of 0.4 g of hydroquinone monomethyl ether,
A heat rearrangement reaction was carried out in the same manner as in Example 2 except that 0.4 g of di-t-butylhydroxytoluene was charged. The HPLC composition ratio (area percentage) of the reaction mixture after the heat rearrangement reaction was 92.5% for the di-isomer and 1.6 for the indane.
%, 2.0% of the mono rearrangement and 0.6% of the monoallyl compound. Further, by performing the same processing as in the second embodiment,
351 g of purified 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone was obtained. The HPLC composition ratio (area percentage) of the obtained purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone product was 97.4 of the di-transposition product.
%, Indane body was 0.2%. Example 12 Instead of 0.4 g of hydroquinone monomethyl ether,
A heat rearrangement reaction was carried out in the same manner as in Example 2 except that 0.4 g of 2,2'-methylenebis- (6-t-butyl-3-methylphenol) was charged. The HPLC composition ratio (area percentage) of the reaction mixture after the heat rearrangement reaction was 92.5% for the di-isomer, 1.6% for the indane, 2.1% for the mono-isomer,
The monoallyl form was 0.6%. Furthermore, by treating in the same manner as in Example 2, 3,3′-diallyl-4,4′-
347 g of purified dihydroxydiphenylsulfone was obtained. The HPLC composition ratio (area percentage) of the obtained purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone was 97.4% of the di-transposition form and 0.2% of the indane form.

【0018】実施例13 濃硫酸0.025gの代わりに、85重量%リン酸0.0
5gを仕込んだ以外は、実施例2と同様にして、加熱転
位反応を行った。リン酸の添加量は、アルカリ総量の
2.5当量倍である。加熱転位反応後の反応混合物のH
PLC組成比(面積百分率)は、ジ転位体92.5%、
インダン体1.7%、モノ転位体1.4%、モノアリル体
0.7%であった。さらに、実施例2と同様に処理する
ことにより、3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホン精製品343gを得た。得られた
3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルス
ルホン精製品のHPLC組成比(面積百分率)は、ジ転
位体97.3%、インダン体0.3%であった。 実施例14 濃硫酸0.025gの代わりに、85重量%リン酸0.2
5gを仕込んだ以外は、実施例2と同様にして加熱転位
反応を行った。リン酸の添加量は、アルカリ総量の1
2.6当量倍である。加熱転位反応後の反応混合物のH
PLC組成比(面積百分率)は、ジ転位体92.8%、
インダン体1.5%、モノ転位体2.4%、モノアリル体
0.4%であった。さらに、実施例2と同様に処理する
ことにより、3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホン精製品351gを得た。得られた
3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルス
ルホン精製品のHPLC組成比(面積百分率)は、ジ転
位体97.4%、インダン体0.3%であった。
EXAMPLE 13 Instead of 0.025 g of concentrated sulfuric acid, 85% by weight of phosphoric acid 0.0
A heating rearrangement reaction was carried out in the same manner as in Example 2 except that 5 g was charged. The amount of phosphoric acid added is 2.5 equivalent times of the total amount of alkali. H of the reaction mixture after the heat rearrangement reaction
PLC composition ratio (area percentage) is 92.5% of di-dislocation body,
1.7% of the indane form, 1.4% of the mono rearranged form and 0.7% of the monoallyl form. Further, by treating in the same manner as in Example 2, 343 g of purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone was obtained. The HPLC composition ratio (area percentage) of the purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone product was 97.3% of the di-transposition form and 0.3% of the indane form. Example 14 Instead of 0.025 g of concentrated sulfuric acid, 85% by weight of phosphoric acid 0.2
A heat rearrangement reaction was carried out in the same manner as in Example 2 except that 5 g was charged. The amount of phosphoric acid added is 1
2.6 equivalent times. H of the reaction mixture after the heat rearrangement reaction
The PLC composition ratio (area percentage) was 92.8% of di-dislocation body,
1.5% of the indane form, 2.4% of the mono rearranged form and 0.4% of the monoallyl form. Further, the same treatment as in Example 2 was performed to obtain 351 g of a purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone product. The HPLC composition ratio (area percentage) of the obtained purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone product was 97.4% of the di-transposition form and 0.3% of the indane form.

【0019】実施例15 濃硫酸0.025gの代わりに、亜リン酸0.05gを仕
込んだ以外は、実施例2と同様にして、加熱転位反応を
行った。亜リン酸の添加量は、アルカリ総量の2.4当
量倍である。加熱転位反応後の反応混合物のHPLC組
成比(面積百分率)は、ジ転位体92.4%、インダン
体1.7%、モノ転位体2.1%、モノアリル体0.6%
であった。さらに、実施例2と同様に処理することによ
り、3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホン精製品343gを得た。得られた3,3'−ジ
アリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン精製
品のHPLC組成比(面積百分率)は、ジ転位体97.
3%、インダン体0.3%であった。 実施例16 濃硫酸0.025gの代わりに、亜リン酸0.25gを仕
込んだ以外は、実施例2と同様にして、加熱転位反応を
行った。亜リン酸の添加量は、アルカリ総量の11.8
当量倍である。加熱転位反応後の反応混合物のHPLC
組成比(面積百分率)は、ジ転位体92.6%、インダ
ン体1.6%、モノ転位体1.8%、モノアリル体0.4
%であった。さらに、実施例2と同様に処理することに
より、3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン精製品347gを得た。得られた3,3'−
ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン精
製品のHPLC組成比(面積百分率)は、ジ転位体9
7.4%、インダン体0.2%であった。
Example 15 A heat rearrangement reaction was carried out in the same manner as in Example 2 except that 0.05 g of phosphorous acid was charged instead of 0.025 g of concentrated sulfuric acid. The amount of phosphorous acid added is 2.4 equivalent times of the total amount of alkali. The HPLC composition ratio (area percentage) of the reaction mixture after the heat rearrangement reaction was 92.4% for the di-isomer, 1.7% for the indane, 2.1% for the mono-isomer, and 0.6% for the monoallyl-isomer.
Met. Further, by treating in the same manner as in Example 2, 343 g of purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone was obtained. The HPLC composition ratio (area percentage) of the purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone was 97.
3% and 0.3% of indane. Example 16 A heat rearrangement reaction was carried out in the same manner as in Example 2 except that 0.25 g of phosphorous acid was charged instead of 0.025 g of concentrated sulfuric acid. The amount of phosphorous acid added was 11.8 of the total amount of alkali.
Equivalent times. HPLC of reaction mixture after heat rearrangement reaction
The composition ratio (area percentage) was 92.6% for di-dislocation, 1.6% for indane, 1.8% for mono-dislocation, and 0.4 for monoallyl.
%Met. Further, by treating in the same manner as in Example 2, 347 g of purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone was obtained. The obtained 3,3'-
The HPLC composition ratio (area percentage) of the diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone purified product was determined to be 9
7.4% and 0.2% indane.

【0020】実施例17 濃硫酸0.025gの代わりに、濃塩酸0.082gを仕
込んだ以外は、実施例2と同様にして、加熱転位反応を
行った。塩酸の添加量は、アルカリ総量の1.6当量倍
である。加熱転位反応後の反応混合物のHPLC組成比
(面積百分率)は、ジ転位体92.2%、インダン体1.
8%、モノ転位体2.1%、モノアリル体0.5%であっ
た。さらに、実施例2と同様に処理することにより、
3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルス
ルホン精製品339gを得た。得られた3,3'−ジアリ
ル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン精製品の
HPLC組成比(面積百分率)は、ジ転位体97.2
%、インダン体0.3%であった。 実施例18 濃硫酸0.025gの代わりに、酢酸0.05gを仕込ん
だ以外は、実施例2と同様にして、加熱転位反応を行っ
た。酢酸の添加量は、アルカリ総量の1.6当量倍であ
る。加熱転位反応後の反応混合物のHPLC組成比(面
積百分率)は、ジ転位体92.2%、インダン体1.8
%、モノ転位体2.2%、モノアリル体0.7%であっ
た。さらに、実施例2と同様に処理することにより、
3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルス
ルホン精製品339gを得た。得られた3,3'−ジアリ
ル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン精製品の
HPLC組成比(面積百分率)は、ジ転位体97.2
%、インダン体0.3%であった。
Example 17 A heat rearrangement reaction was carried out in the same manner as in Example 2 except that 0.082 g of concentrated hydrochloric acid was used instead of 0.025 g of concentrated sulfuric acid. The amount of hydrochloric acid added is 1.6 equivalent times of the total amount of alkali. The HPLC composition ratio (area percentage) of the reaction mixture after the heat rearrangement reaction was 92.2% for the di-isomer and 1. for the indane.
The content was 8%, the mono-isomer was 2.1%, and the mono-allyl form was 0.5%. Further, by performing the same processing as in the second embodiment,
339 g of purified 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone was obtained. The HPLC composition ratio (area percentage) of the obtained purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone product was determined to be 97.2 of the di-transposition product.
% And the indane body was 0.3%. Example 18 A heating rearrangement reaction was carried out in the same manner as in Example 2 except that 0.05 g of acetic acid was charged instead of 0.025 g of concentrated sulfuric acid. The amount of acetic acid added is 1.6 equivalent times the total amount of alkali. The HPLC composition ratio (area percentage) of the reaction mixture after the heat rearrangement reaction was 92.2% for the di rearrangement and 1.8 for the indane.
%, 2.2% of mono-translocation compound and 0.7% of mono-allyl compound. Further, by performing the same processing as in the second embodiment,
339 g of purified 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone was obtained. The HPLC composition ratio (area percentage) of the obtained purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone product was determined to be 97.2 of the di-transposition product.
% And the indane body was 0.3%.

【0021】比較例1 濃硫酸0.025gを仕込まなかった以外は、実施例2
と同様にして、加熱転位反応を行った。加熱転位反応後
の反応混合物のHPLC組成比(面積百分率)は、ジ転
位体90.1%、インダン体3.6%、モノ転位体2.2
%、モノアリル体1.0%であった。さらに、実施例2
と同様に処理することにより、3,3'−ジアリル−4,
4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン精製品322g
を得た。得られた3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロ
キシジフェニルスルホン精製品のHPLC組成比(面積
百分率)は、ジ転位体95.8%、インダン体0.5%で
あった。 比較例2 比較例1と同様な加熱転位反応後の反応混合物を用い、
実施例3と同様に処理することにより、3,3'−ジアリ
ル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン精製品2
81gを得た。得られた3,3'−ジアリル−4,4'−ジ
ヒドロキシジフェニルスルホン精製品のHPLC組成比
(面積百分率)は、ジ転位体95.1%、インダン体0.
5%であった。
Comparative Example 1 Example 2 was repeated except that 0.025 g of concentrated sulfuric acid was not charged.
A heat rearrangement reaction was performed in the same manner as described above. The HPLC composition ratio (area percentage) of the reaction mixture after the heat rearrangement reaction was 90.1% for di-isomer, 3.6% for indane, and 2.2 for mono-rearrangement.
% And the monoallyl compound were 1.0%. Example 2
3,3′-diallyl-4,
322 g of 4'-dihydroxydiphenyl sulfone purified product
I got The HPLC composition ratio (area percentage) of the obtained purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone product was 95.8% of the di-transposition form and 0.5% of the indane form. Comparative Example 2 Using the same reaction mixture after the heat rearrangement reaction as in Comparative Example 1,
By treating in the same manner as in Example 3, 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone purified product 2
81 g were obtained. The HPLC composition ratio (area percentage) of the purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone product was 95.1% for the di-transposition form and 0.1 for the indane form.
5%.

【0022】比較例3 水酸化ナトリウムに換算した含有アルカリ総量が50pp
m(重量比)の4,4'−ジアリルオキシジフェニルスル
ホン413gの代わりに、水酸化ナトリウムに換算した
含有アルカリ総量が100ppm(重量比)の4,4'−ジ
アリルオキシジフェニルスルホン413gを使用し、濃
硫酸0.025gを仕込まなかった以外は、実施例2と
同様にして、加熱転位反応を行った。加熱転位反応後の
反応混合物のHPLC組成比(面積百分率)は、ジ転位
体86.9%、インダン体7.5%、モノ転位体2.2
%、モノアリル体1.4%であった。さらに、実施例2
と同様に処理することにより、3,3'−ジアリル−4,
4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン精製品318g
を得た。得られた3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロ
キシジフェニルスルホン精製品のHPLC組成比(面積
百分率)は、ジ転位体92.9%、インダン体2.0%で
あった。 比較例4 水酸化ナトリウムに換算した含有アルカリ総量が50pp
m(重量比)の4,4'−ジアリルオキシジフェニルスル
ホン413gの代わりに、水で結晶を洗浄して水酸化ナ
トリウムに換算した含有アルカリ総量を5ppm(重量
比)にした4,4'−ジアリルオキシジフェニルスルホン
413gを使用し、濃硫酸0.025gを仕込まなかっ
た以外は、実施例2と同様にして、加熱転位反応を行っ
た。加熱転位反応後の反応混合物のHPLC組成比(面
積百分率)は、ジ転位体92.3%、インダン体1.8
%、モノ転位体1.8%、モノアリル体0.8%であっ
た。さらに、実施例2と同様に処理することにより、
3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルス
ルホン精製品330gを得た。得られた3,3'−ジアリ
ル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン精製品の
HPLC組成比(面積百分率)は、ジ転位体97.1
%、インダン体0.3%であった。実施例1〜18及び
比較例1〜4の酸、アミン及び酸化防止剤の種類と添加
量を第1表に、加熱転位反応物組成、精製品収率及び精
製品組成を第2表に示す。ただし、組成は、HPLC組
成比(面積百分率)である。
Comparative Example 3 The total amount of alkali contained in terms of sodium hydroxide was 50 pp
Instead of 413 g of 4,4′-diallyloxydiphenylsulfone m (weight ratio), 413 g of 4,4′-diallyloxydiphenylsulfone having a total alkali content of 100 ppm (weight ratio) in terms of sodium hydroxide was used, A heat rearrangement reaction was carried out in the same manner as in Example 2 except that 0.025 g of concentrated sulfuric acid was not charged. The HPLC composition ratio (area percentage) of the reaction mixture after the heat rearrangement reaction was 86.9% for the di-isomer, 7.5% for the indane-isomer, and 2.2 for the mono-isomer.
% And the monoallyl compound was 1.4%. Example 2
3,3′-diallyl-4,
318 g of 4'-dihydroxydiphenyl sulfone purified product
I got The HPLC composition ratio (area percentage) of the obtained purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone product was 92.9% of the di-transposition form and 2.0% of the indane form. Comparative Example 4 Total alkali content in terms of sodium hydroxide was 50 pp
Instead of 413 g of 4,4′-diallyloxydiphenylsulfone in m (weight ratio), the crystals were washed with water to make the total alkali content in terms of sodium hydroxide 5 ppm (weight ratio). A heat rearrangement reaction was carried out in the same manner as in Example 2 except that 413 g of oxydiphenylsulfone was used and 0.025 g of concentrated sulfuric acid was not charged. The HPLC composition ratio (area percentage) of the reaction mixture after the heat rearrangement reaction was 92.3% for the di rearrangement and 1.8 for the indane.
%, 1.8% of mono rearrangement and 0.8% of mono allyl. Further, by performing the same processing as in the second embodiment,
330 g of purified 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone was obtained. The HPLC composition ratio (area percentage) of the obtained purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone product was determined to be 97.1 of the di-transposition product.
% And the indane body was 0.3%. The types and amounts of the acids, amines and antioxidants of Examples 1 to 18 and Comparative Examples 1 to 4 are shown in Table 1, and the composition of the heat rearrangement reactant, the yield of the purified product and the composition of the purified product are shown in Table 2. . However, the composition is an HPLC composition ratio (area percentage).

【0023】[0023]

【表1】 [Table 1]

【0024】[0024]

【表2】 [Table 2]

【0025】[0025]

【表3】 [Table 3]

【0026】[0026]

【表4】 [Table 4]

【0027】原料の4,4'−ジアリルオキシジフェニル
スルホンに硫酸を添加した実施例1〜12では、原料に
酸を添加しない比較例1〜3と比べて、5−(3−アリ
ル−4−ヒドロキシ)フェニルスルホニル−1−オキサ
−2−メチルインダンの生成量が減少し、3,3'−ジア
リル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン精製品
の純度及び収率が向上している。原料の4,4'−ジアリ
ルオキシジフェニルスルホンを水で洗浄してアルカリ総
量を減らした比較例4と比べても、硫酸を添加するとい
う簡単な操作により、同等以上の効果が発現している。
原料にリン酸を添加した実施例13〜14、亜リン酸を
添加した実施例15〜16、塩酸を添加した実施例17
及び酢酸を添加した実施例18においても、比較例1〜
3と比べて、5−(3−アリル−4−ヒドロキシ)フェニ
ルスルホニル−1−オキサ−2−メチルインダンの生成
量が減少し、3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホン精製品の純度及び収率が向上してい
る。
In Examples 1 to 12 in which sulfuric acid was added to 4,4'-diallyloxydiphenylsulfone as the starting material, 5- (3-allyl-4-) was compared with Comparative Examples 1 to 3 in which no acid was added to the starting material. The amount of (hydroxy) phenylsulfonyl-1-oxa-2-methylindane produced is reduced, and the purity and yield of the purified 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone are improved. Compared to Comparative Example 4 in which the raw material 4,4'-diallyloxydiphenyl sulfone was washed with water to reduce the total amount of alkali, the same or more effect was exhibited by a simple operation of adding sulfuric acid.
Examples 13 to 14 in which phosphoric acid was added to the raw materials, Examples 15 to 16 in which phosphorous acid was added, and Example 17 in which hydrochloric acid was added.
And Comparative Example 1 also in Example 18 in which acetic acid was added.
As compared with 3, the production amount of 5- (3-allyl-4-hydroxy) phenylsulfonyl-1-oxa-2-methylindane was decreased, and 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone was purified. Product purity and yield are improved.

【0028】[0028]

【発明の効果】本発明方法によれば、原料の3,3'−ジ
アリル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンに酸
を添加するという簡単な操作により、感熱記録材料の顕
色剤として好適に用いることができる地肌カブリの少な
い高純度の3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンを高収率で製造することができる。
According to the method of the present invention, a simple operation of adding an acid to the raw material 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone makes it suitable as a developer for a thermosensitive recording material. A high-purity 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxydiphenyl sulfone which can be used and has little background fog can be produced in high yield.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西川 誠 福井県福井市文京4丁目23番1号 日華化 学株式会社内 (72)発明者 高橋 俊章 福井県福井市文京4丁目23番1号 日華化 学株式会社内 Fターム(参考) 2H026 AA07 BB30 4H006 AA02 AC27 BA50 BA51 BA66 BD10 BE03 BE04 4H039 CA60 CJ10  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Makoto Nishikawa 4-231-1, Bunkyo, Fukui City, Fukui Prefecture Inside Nikka Kagaku Co., Ltd. (72) Toshiaki Takahashi 4-231-1, Bunkyo, Fukui City, Fukui Prefecture F-term in Nichika Chemical Co., Ltd. (reference) 2H026 AA07 BB30 4H006 AA02 AC27 BA50 BA51 BA66 BD10 BE03 BE04 4H039 CA60 CJ10

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】4,4'−ジアリルオキシジフェニルスルホ
ンを加熱転位させて3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒド
ロキシジフェニルスルホンを製造する方法において、
4,4'−ジアリルオキシジフェニルスルホンに含有され
るアルカリに対して0.5〜20当量倍の酸を添加した
のち加熱転位反応させることを特徴とする3,3'−ジア
リル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造
方法。
1. A process for producing 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone by heat rearranging 4,4'-diallyloxydiphenyl sulfone.
3,3'-diallyl-4,4 'characterized by adding 0.5 to 20 equivalents of acid to the alkali contained in 4,4'-diallyloxydiphenylsulfone and then subjecting it to heat rearrangement reaction. -A method for producing dihydroxydiphenyl sulfone.
【請求項2】4,4'−ジアリルオキシジフェニルスルホ
ンに対して、0.01〜1重量%のアミン化合物及び/
又は0.01〜1重量%の酸化防止剤を添加する請求項
1記載の3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシジフ
ェニルスルホンの製造方法。
2. An amount of 0.01 to 1% by weight of an amine compound and / or 4,4'-diallyloxydiphenyl sulfone.
The method for producing 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone according to claim 1, wherein 0.01 to 1% by weight of an antioxidant is added.
JP2000311500A 2000-10-12 2000-10-12 Method for producing 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone Expired - Lifetime JP4520612B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000311500A JP4520612B2 (en) 2000-10-12 2000-10-12 Method for producing 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000311500A JP4520612B2 (en) 2000-10-12 2000-10-12 Method for producing 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002114757A true JP2002114757A (en) 2002-04-16
JP4520612B2 JP4520612B2 (en) 2010-08-11

Family

ID=18791247

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000311500A Expired - Lifetime JP4520612B2 (en) 2000-10-12 2000-10-12 Method for producing 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4520612B2 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004089883A1 (en) * 2003-04-03 2004-10-21 Sanko Chemical Industry Co., Ltd. Method for producing 3,3’-diallyl-4,4’-dihydroxydiphenylsulfone
WO2013114987A1 (en) * 2012-01-30 2013-08-08 小西化学工業株式会社 Method of consistently producing diallylbisphenols
CN103880717A (en) * 2014-03-21 2014-06-25 江苏傲伦达科技实业股份有限公司 Preparation method of bis(3-allyl-4-hydroxy phenyl) sulfone and derivative thereof
JP2015124208A (en) * 2013-12-27 2015-07-06 日本化薬株式会社 Method for producing 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60169456A (en) * 1984-02-14 1985-09-02 Nippon Kayaku Co Ltd Phenolic compound and its preparation
JPS6253957A (en) * 1985-09-02 1987-03-09 Nikka Chem Ind Co Ltd Production of bisphenol s derivative
JPH08244354A (en) * 1995-03-08 1996-09-24 New Oji Paper Co Ltd Manufacture of thermal recording material
JPH11208122A (en) * 1998-01-21 1999-08-03 Oji Paper Co Ltd Thermal recording body

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60169456A (en) * 1984-02-14 1985-09-02 Nippon Kayaku Co Ltd Phenolic compound and its preparation
JPS6253957A (en) * 1985-09-02 1987-03-09 Nikka Chem Ind Co Ltd Production of bisphenol s derivative
JPH08244354A (en) * 1995-03-08 1996-09-24 New Oji Paper Co Ltd Manufacture of thermal recording material
JPH11208122A (en) * 1998-01-21 1999-08-03 Oji Paper Co Ltd Thermal recording body

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004089883A1 (en) * 2003-04-03 2004-10-21 Sanko Chemical Industry Co., Ltd. Method for producing 3,3’-diallyl-4,4’-dihydroxydiphenylsulfone
WO2013114987A1 (en) * 2012-01-30 2013-08-08 小西化学工業株式会社 Method of consistently producing diallylbisphenols
JPWO2013114987A1 (en) * 2012-01-30 2015-05-11 小西化学工業株式会社 Integrated production method of diallyl bisphenols
JP2015124208A (en) * 2013-12-27 2015-07-06 日本化薬株式会社 Method for producing 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone
CN103880717A (en) * 2014-03-21 2014-06-25 江苏傲伦达科技实业股份有限公司 Preparation method of bis(3-allyl-4-hydroxy phenyl) sulfone and derivative thereof
CN103880717B (en) * 2014-03-21 2015-11-04 江苏傲伦达科技实业股份有限公司 The preparation method of two (3-allyl group-4-hydroxy phenyl) sulfones and derivative thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP4520612B2 (en) 2010-08-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9598360B2 (en) Cyclic process for production of taurine from alkali vinyl sulfonate
JP4841129B2 (en) Production method of penum crystals
CZ303984B6 (en) Purification process of 2-nitro-4-methylsulfonylbenzoic acid
JP2002114757A (en) Method for producing 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone
KR101196690B1 (en) Method for preparing metallic dixhydroxybenzenedisulfonates
JP4257574B2 (en) Synthesis of R (+) α-lipoic acid
JP4471466B2 (en) Method for producing 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone
JP2005532406A (en) Nitrophenol production method
JP3011493B2 (en) Method for producing 4-alkyl-3-thiosemicarbazide
JP3042122B2 (en) Method for producing N-cyanoacetamidine derivative
JP4520591B2 (en) Method for producing 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone
US1882335A (en) Method of separating halo-benzoic acids
JPH0597782A (en) Production of bevantolol hydrochloride
JP5869664B2 (en) Process for producing 5-oxo-4-oxa-5-homoadamantan-2-ol
USRE48392E1 (en) Cyclic process for the production of taurine from alkali isethionate
JP3924027B2 (en) Sodium orthohydroxymandelate / phenol / water complex, process for its preparation and use for the separation of sodium orthohydroxymandelate
JP4840750B2 (en) Method for producing high purity 4,4'-dihydroxydiphenylsulfone
JPH02172969A (en) Production of dithiol di(meth)acrylate
WO1989001469A1 (en) Process for purifying 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone
JP2001058968A (en) Production of 1,3-di(2-parahydroxyphenyl-2-propyl)benzene
JPH01190661A (en) Purification of 4,4'-dihydroxydiphenylsulfone
JPH0588700B2 (en)
JPS59225147A (en) Preparation of o-substituted-hydroxylamine
JP2011207872A (en) Pyridinecarboxylic acid anhydride excellent in storage stability, and production method therefor
JPH1112265A (en) Production of 7-isopropoxyisoflavone

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070214

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100212

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100412

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100506

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100521

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130528

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4520612

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140528

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250