JP2002105176A - Anionic latent catalyst and thermosetting resin composition using the same - Google Patents

Anionic latent catalyst and thermosetting resin composition using the same

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JP2002105176A
JP2002105176A JP2000295246A JP2000295246A JP2002105176A JP 2002105176 A JP2002105176 A JP 2002105176A JP 2000295246 A JP2000295246 A JP 2000295246A JP 2000295246 A JP2000295246 A JP 2000295246A JP 2002105176 A JP2002105176 A JP 2002105176A
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group
substituted
unsubstituted
anionic
latent catalyst
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Minoru Kobayashi
稔 小林
Takeshi Endo
剛 遠藤
Fumio Mita
文雄 三田
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anionic latent catalyst that realizes excellent resin- curing properties and storability of a thermosetting resin composition and a resin composition that includes the latent catalyst and is useful in the fields of the electric and electronic materials. SOLUTION: As a latent catalyst, is used an anionic compound bearing the structure represented by the following general formula (1). In addition, a compound bearing two or more epoxy groups in one molecule (A) and a compound bearing two or more phenolic hydroxy groups in one molecule (B) and the anionic latent catalyst (C) are used as the essential components to prepare the objective resin composition.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、熱硬化性樹脂組成
物の優れた硬化性と保存性を実現するアニオン潜伏性触
媒、およびそれを用いた電気・電子材料分野に有用な樹
脂組成物に関するものである。
The present invention relates to an anionic latent catalyst for realizing excellent curability and storage stability of a thermosetting resin composition, and a resin composition using the same which is useful in the field of electric and electronic materials. Things.

【0002】[0002]

【従来の技術】電気・電子材料、特にエポキシ樹脂IC
封止材料に、これまで用いられてきたアニオン硬化触
媒、すなわちイミダゾール類、DBU(ジアザビシクロ
ウンデセン)などの双環式アミジン類、トリ置換ホスフ
ィンなどでは保存性が悪く、エポキシ樹脂封止材料にこ
れらの触媒を用いた場合、常温では反応が進み、流動性
の低下により成形不良を起こす可能性があるため、低温
で保管、輸送することが必須となっている。また近年、
エポキシ樹脂としてビフェニル型エポキシ樹脂などの低
分子結晶性エポキシ樹脂が用いられるようになり、さら
に自動成形の普及で、より速硬化性が求められるように
なって、触媒を多く添加する事例が増加し、ますますそ
の保存性の問題が重要になってきている。
2. Description of the Related Art Electric and electronic materials, especially epoxy resin ICs
The anionic curing catalysts used so far, such as imidazoles, bicyclic amidines such as DBU (diazabicycloundecene), and tri-substituted phosphines, have poor storage stability and epoxy resin sealing materials. When these catalysts are used, the reaction proceeds at room temperature, and there is a possibility of causing molding failure due to a decrease in fluidity. Therefore, it is essential to store and transport the catalyst at a low temperature. In recent years,
Low molecular weight crystalline epoxy resins such as biphenyl type epoxy resins have been used as epoxy resins, and with the spread of automatic molding, faster curing properties have been required. Increasingly, the problem of its preservation is becoming more important.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】このような状況に鑑
み、本発明者らは新規の構造と機能を有する、熱硬化性
樹脂用のアニオン潜伏性触媒を提案するべく鋭意検討し
た結果、これまでにない新しいアニオン潜伏性触媒を見
い出し、本発明の完成に至った。本発明は、優れた硬化
性と保存性を実現するアニオン潜伏性触媒、およびそれ
を用いた電気・電子材料分野に有用な樹脂組成物を提供
することを目的とするものである。
In view of such circumstances, the present inventors have conducted intensive studies to propose an anionic latent catalyst for thermosetting resins having a novel structure and function. A novel anion-latent catalyst was found, and the present invention was completed. An object of the present invention is to provide an anionic latent catalyst which realizes excellent curability and storage stability, and a resin composition which is useful in the field of electric and electronic materials using the same.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】即ち本発明は、一般式
(1)で表される構造を有することを特徴とする熱硬化
性樹脂のアニオン潜伏性触媒、さらには、1分子内にエ
ポキシ基を2個以上有する化合物(A)、1分子内にフ
ェノール性水酸基を2個以上有する化合物(B)、およ
び前記アニオン潜伏性触媒(C)を必須成分とすること
を特徴とする熱硬化性樹脂組成物である。
That is, the present invention provides an anionic latent catalyst for a thermosetting resin having a structure represented by the general formula (1), and further comprises an epoxy group in one molecule. (A), a compound (B) having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, and a thermosetting resin comprising the anionic latent catalyst (C) as essential components. A composition.

【0005】[0005]

【化2】 Embedded image

【0006】式中、R1〜R3は、アルキル基、置換また
は無置換(以下、置換・無置換と記す)アリール基、お
よび置換・無置換アラルキル基からなる群から選ばれた
少なくとも1種を表し、それらは互いに同一であっても
異なっていても良い。R4は、水素、ハロゲン、置換・
無置換アルキル基、置換・無置換アリール基、置換・無
置換アラルキル基、置換・無置換アシル基、置換・無置
換アリーロイル基、およびシアノ基からなる群から選ば
れた少なくとも1種を表し、それらは互いに同一であっ
ても異なっていても良い。また、Xは3族のルイス酸性
を有する元素であり、Lは水素、置換・無置換アルキル
基、置換・無置換アリール基、置換・無置換アラルキル
基、置換・無置換アルコキシ基、置換・無置換アリーロ
キシ基、置換・無置換アシロキシ基、および置換・無置
換アリーロイロキシ基からなる群から選ばれた少なくと
も1種を表し、それらは互いに同一であっても異なって
いても良い。
In the formula, R 1 to R 3 are at least one selected from the group consisting of an alkyl group, a substituted or unsubstituted (hereinafter, referred to as substituted / unsubstituted) aryl group, and a substituted / unsubstituted aralkyl group. Which may be the same or different from each other. R 4 is hydrogen, halogen, substituted
Represents at least one selected from the group consisting of an unsubstituted alkyl group, a substituted / unsubstituted aryl group, a substituted / unsubstituted aralkyl group, a substituted / unsubstituted acyl group, a substituted / unsubstituted aryloyl group, and a cyano group; May be the same or different from each other. X is a Group 3 element having Lewis acidity; L is hydrogen, a substituted / unsubstituted alkyl group, a substituted / unsubstituted aryl group, a substituted / unsubstituted aralkyl group, a substituted / unsubstituted alkoxy group, a substituted / unsubstituted alkoxy group; It represents at least one selected from the group consisting of a substituted aryloxy group, a substituted / unsubstituted acyloxy group, and a substituted / unsubstituted arylyloxy group, which may be the same or different.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本発明におけるアニオン潜伏性触
媒の置換基R1〜R3は、アルキル、置換・無置換アリー
ル、および置換・無置換アラルキルからなる群から選ば
れた少なくとも1種であり、具体的には、メチル、エチ
ル、ブチルなどのアルキル基、フェニル、ナフチル、ト
リル、アニシルなどのアリール基、ベンジルなどのアラ
ルキル基が例示される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The substituents R 1 to R 3 of the anionic latent catalyst in the present invention are at least one selected from the group consisting of alkyl, substituted / unsubstituted aryl, and substituted / unsubstituted aralkyl. Specific examples include an alkyl group such as methyl, ethyl and butyl, an aryl group such as phenyl, naphthyl, tolyl and anisyl, and an aralkyl group such as benzyl.

【0008】また、置換基R4は、水素、ハロゲン、置
換・無置換アルキル基、置換・無置換アリール基、置換
・無置換アラルキル基、置換・無置換アシル基、置換・
無置換アリーロイル基、およびシアノ基からなる群から
選ばれた少なくとも1種であり、具体的には、水素、シ
アノ基の他、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲ
ン、メチル、エチル、ブチル、などのアルキル基、ある
いは対応するパーフルオロアルキル基、フェニル、ナフ
チル、トリル、アニシル、ニトロフェニル、シアノフェ
ニルなどの置換・無置換アリール基、ペンタフルオロフ
ェニルなどの対応するパーフルオロアリール基、ベンジ
ルなどのアラルキル基、ホルミル、アセチル、プロピオ
ニル、ベンゾイル、ナフトイル、トルオイル、アニソイ
ル、シアノベンゾイル、ニトロベンゾイルなどのアシル
基、アリーロイル基などが例示される。
Further, the substituent R 4 is hydrogen, halogen, substituted / unsubstituted alkyl group, substituted / unsubstituted aryl group, substituted / unsubstituted aralkyl group, substituted / unsubstituted acyl group, substituted / unsubstituted acyl group,
Unsubstituted aryloyl group, and at least one selected from the group consisting of cyano group, specifically, hydrogen, cyano group, fluorine, chlorine, bromine, halogen such as iodine, methyl, ethyl, butyl, Such as an alkyl group, or a corresponding perfluoroalkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group such as phenyl, naphthyl, tolyl, anisyl, nitrophenyl, and cyanophenyl; a corresponding perfluoroaryl group such as pentafluorophenyl; and benzyl. Examples thereof include an aralkyl group, an acyl group such as formyl, acetyl, propionyl, benzoyl, naphthoyl, toluoyl, anisoyl, cyanobenzoyl, and nitrobenzoyl, and an aryloyl group.

【0009】Xは13族のルイス酸性を示す元素であ
り、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タ
リウムであるが、特にホウ素、アルミニウム原子が望ま
しい。しかし、有機ボラン類や有機アルミニウム類は、
会合しやすい性質を持つことが知られている。たとえ
ば、ボラン類は二量体のジボランに、アルミニウム類は
複核クラスター状に会合する。このことは、本発明にお
ける触媒の安定性を低下させる原因となっていた。そこ
で本発明では、会合度を減らすために、Lに嵩高い置換
基または二座配位子を導入し、触媒の安定性を向上し
た。具体的にはLとして、フェニル基、トリル基、メシ
チル基、ペンタフルオロフェニル基、ベンゾイル基、ナ
フチル基、ナフトイル基、フェノキシ基、2,6-ジメチル
フェノキシ基、2,6-ジ-t-ブチルフェノキシ基、ノルマ
ルプロピル基、イソプロピル基、または相互に結合し環
状構造となっている、カテコール基、アセチルアセトネ
ート基、2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオネー
ト基、3-ヒドロキシ-2-メチル-4H-ピラノ-4-エート基、
9-ビシクロ[3, 3, 1]ノニル基などが例示される。
X is an element exhibiting Group 13 Lewis acidity, and is boron, aluminum, gallium, indium, or thallium, with boron and aluminum atoms being particularly desirable. However, organoboranes and organoaluminums are
It is known that it has the property of easily meeting. For example, borane associates with dimer of dimer, and aluminum associates with dinuclear cluster. This has caused a decrease in the stability of the catalyst in the present invention. Therefore, in the present invention, in order to reduce the degree of association, a bulky substituent or a bidentate ligand is introduced into L to improve the stability of the catalyst. Specifically, as L, phenyl group, tolyl group, mesityl group, pentafluorophenyl group, benzoyl group, naphthyl group, naphthoyl group, phenoxy group, 2,6-dimethylphenoxy group, 2,6-di-t-butyl A phenoxy group, a normal propyl group, an isopropyl group, or a catechol group, an acetylacetonate group, a 2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate group having a cyclic structure bonded to each other, 3-hydroxy-2-methyl-4H-pyrano-4-ate group,
Examples thereof include a 9-bicyclo [3,3,1] nonyl group.

【0010】本発明のアニオン潜伏性触媒は、通常のア
ニオン硬化可能な樹脂系で、その優れた触媒活性を示
す。具体的には、エポキシ樹脂を初め、マレイミド樹
脂、シアネート樹脂、イソシアネート樹脂、アクリレー
ト樹脂などであるが、3級アミン、3級ホスフィン及び
その4級塩などで硬化反応するものはすべて含まれる。
The anion-latent catalyst of the present invention is an ordinary anion-curable resin system and exhibits excellent catalytic activity. More specifically, examples include epoxy resins, maleimide resins, cyanate resins, isocyanate resins, acrylate resins, and the like, but include all those that undergo a curing reaction with a tertiary amine, tertiary phosphine, or a quaternary salt thereof.

【0011】次に、第2の発明である樹脂組成物に用い
られる、1分子内にエポキシ基を2個以上有する化合物
(A)は、1分子内にエポキシ基を2個以上有するもの
であれば何ら制限はなく、例えば、ビフェニル型エポキ
シ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポ
キシ樹脂など、ビフェノールなどのフェノール類や、フ
ェノール樹脂、ナフトール類などの水酸基に、エピクロ
ロヒドリンを反応させて製造するエポキシ樹脂の他、脂
環式エポキシ樹脂のようにオレフィンを過酸によって酸
化させエポキシ化したエポキシ樹脂、ハイドロキノン等
のジヒドロキシベンゼン類をエピクロロヒドリンでエポ
キシ化したものも含まれる。
Next, the compound (A) having two or more epoxy groups in one molecule, which is used in the resin composition of the second invention, is a compound having two or more epoxy groups in one molecule. There is no limitation, for example, it is manufactured by reacting epichlorohydrin with phenols such as biphenol, such as biphenyl type epoxy resin, novolak type epoxy resin, and naphthalene type epoxy resin, and phenolic resin and hydroxyl groups such as naphthols. In addition to the epoxy resin described above, epoxy resins such as an alicyclic epoxy resin obtained by oxidizing an olefin with a peracid and epoxidized, and epoxy resins obtained by epoxidizing dihydroxybenzenes such as hydroquinone with epichlorohydrin are also included.

【0012】1分子内にフェノール性水酸基を2個以上
有する化合物(B)は、フェノールノボラック樹脂、ク
レゾールノボラック樹脂、アルキル変性ノボラック樹
脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトール類とフェノ
ール類をカルボニル基含有化合物と共縮合した樹脂など
が例示されるが、1分子内で芳香族性の環に結合する水
素原子が水酸基で2個以上置換された化合物であれば良
い。
The compound (B) having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule includes phenol novolak resin, cresol novolak resin, alkyl-modified novolak resin, phenol aralkyl resin, naphthols and phenols together with carbonyl group-containing compounds. Examples thereof include a condensed resin, and any compound may be used as long as two or more hydrogen atoms bonded to an aromatic ring in one molecule are substituted with a hydroxyl group.

【0013】本発明の、エポキシ基を2個以上有する化
合物(A)と、フェノール性水酸基を2個以上有する化
合物(B)、および一般式(1)で表されるアニオン潜
伏性触媒(C)を必須成分とする樹脂組成物は、硬化性
と保存性が極めて良好であり、電気・電子用途の封止材
料として優れた性能を実現できる。また、この樹脂組成
物には、必要に応じて、無機充填材や離型剤、カップリ
ング剤等、当業者にて公知の添加剤、副資材を組み合わ
せることは何らさしつかえない。
The compound (A) having two or more epoxy groups, the compound (B) having two or more phenolic hydroxyl groups, and the anionic latent catalyst (C) represented by the general formula (1) of the present invention. The resin composition containing as an essential component has extremely good curability and storage stability, and can realize excellent performance as a sealing material for electric / electronic use. In addition, if necessary, additives and secondary materials known to those skilled in the art such as an inorganic filler, a release agent, and a coupling agent may be combined with the resin composition.

【0014】[0014]

【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれによって何ら限定されるもので
はない。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

【0015】(アニオン潜伏性触媒の合成)本発明にお
けるアニオン潜伏性触媒の合成は、通常先ず、有機ホス
フィンイミンを合成し、その後、ルイス酸と接触させ
て、アニオン性を帯びたリンの隣接炭素をルイス酸に配
位させる方法をとる。以下に、典型的な合成例を示す。
(Synthesis of an anion-latent catalyst) In the synthesis of an anion-latent catalyst according to the present invention, usually, first, an organic phosphinimine is synthesized, and then contacted with a Lewis acid to form an adjacent carbon of anionic phosphorus. To a Lewis acid. A typical synthesis example is shown below.

【0016】(合成例)塩化カルシウム管つき冷却管を
付設した100mlのナス型フラスコに、メチルアミノト
リフェニルホスホニウムブロマイド5.2gと、ジエチ
ルエーテル50mlを入れ、マグネットスターラで攪拌し
ながら0℃に冷却し、メチルトリフェニルホスホニウム
ブロマイドに対して1.1倍モルになるように、フェニ
ルリチウム溶液を滴下する。その後、室温に戻して生成
した沈殿を濾過し、得られた濾液を塩化カルシウム管つ
き冷却管を付設した100mlのナス型フラスコに入れ、
さらにジエチルエーテル50mlを加え、0℃に冷却攪拌
し、生成したホスフィンイミンに対して等モルとなるよ
うに、トリフルオロボランジエチルエーテル溶液をゆっ
くりと滴下した。その後、室温に戻して1時間攪拌を継
続した後、生成した沈殿を濾過し乾燥した。得られた化
合物をDとする。
(Synthesis Example) In a 100 ml eggplant-shaped flask equipped with a cooling tube equipped with a calcium chloride tube, 5.2 g of methylaminotriphenylphosphonium bromide and 50 ml of diethyl ether were placed, and cooled to 0 ° C. while stirring with a magnetic stirrer. Then, a phenyllithium solution is added dropwise so as to be 1.1 times the molar amount of methyltriphenylphosphonium bromide. Thereafter, the precipitate was returned to room temperature, and the formed precipitate was filtered, and the obtained filtrate was put into a 100 ml eggplant-shaped flask equipped with a cooling tube equipped with a calcium chloride tube.
Further, 50 ml of diethyl ether was added, the mixture was cooled and stirred at 0 ° C., and a trifluoroborane diethyl ether solution was slowly added dropwise so as to be equimolar to the formed phosphinimine. Then, after returning to room temperature and continuing stirring for 1 hour, the produced | generated precipitate was filtered and dried. The obtained compound is designated as D.

【0017】さらに、上記合成方法に準じて、化合物E
〜Hを合成した。化合物D〜Hの化学構造は次に示した
通りである。
Further, according to the above synthesis method, compound E
~ H was synthesized. The chemical structures of Compounds D to H are as shown below.

【0018】[0018]

【化3】 Embedded image

【0019】[0019]

【化4】 Embedded image

【0020】[0020]

【化5】 Embedded image

【0021】[0021]

【化6】 Embedded image

【0022】[0022]

【化7】 Embedded image

【0023】(実施例1〜5、および比較例1〜2)表
1に示した配合により、エポキシ基を2個以上有する化
合物(A)、フェノール性水酸基を2個以上有する化合
物(B)、および前記合成例で作製したアニオン潜伏性
触媒(C)(化合物D〜H)を粉砕混合し、100℃の
熱板上で5分間溶融混練した後、冷却粉砕して樹脂組成
物のサンプルを調製した。各サンプルについて特性評価
のため、硬化トルク(硬化性)、および硬化発熱量残存
率(保存性)の測定を行なった。それぞれの評価方法
は、下記の通りとした。
(Examples 1 to 5, and Comparative Examples 1 and 2) Compounds having two or more epoxy groups (A), compounds having two or more phenolic hydroxyl groups (B), And, the anionic latent catalyst (C) (compounds D to H) prepared in the above synthesis example is pulverized and mixed, melt-kneaded on a hot plate at 100 ° C. for 5 minutes, and then cooled and pulverized to prepare a resin composition sample. did. For each sample, a curing torque (curability) and a residual rate of heat generation after curing (preservability) were measured for characteristic evaluation. Each evaluation method was as follows.

【0024】1.硬化トルク(硬化性評価) 前記の方法により調製した樹脂組成物を用いて、キュラ
ストメーター(オリエンテック社製、JSRキュラスト
メーターPS型)にて、175℃、45秒加熱後のトル
クを求める。キュラストメーターにおけるトルクは硬化
性のパラメータであり、値の大きい方が硬化性が高いこ
とを示す。
1. Curing Torque (Evaluation of Curability) Using the resin composition prepared by the above method, determine the torque after heating at 175 ° C. for 45 seconds with a curastometer (JSR Curastometer PS, manufactured by Orientec). . Torque in a curast meter is a parameter of curability, and a larger value indicates higher curability.

【0025】2.硬化発熱量残存率(保存性評価) 前記の方法により調製した樹脂組成物について、初期硬
化発熱量(mj/mg)、および40℃3日間保存処理
後の硬化発熱量(mj/mg)を、昇温速度10℃/m
inにて示差熱分析により測定し、初期硬化発熱量に対
する保存処理後の硬化発熱量の100分率(硬化発熱量
残存率)を求めた。この値が大きいほど保存性が良好で
あることを示す。
2. Residual Curing Calorific Value (Evaluation of Storage Stability) For the resin composition prepared by the above method, the initial curing calorific value (mj / mg) and the curing calorific value (mj / mg) after storage treatment at 40 ° C. for 3 days are as follows: Heating rate 10 ° C / m
The measurement was performed by differential thermal analysis in “in”, and the 100% ratio of the curing heat generation value after the preservation treatment to the initial curing heat generation value (residual rate of curing heat generation) was determined. A larger value indicates better storage stability.

【0026】評価結果は表1に示した通りで、実施例で
は硬化性、保存性とも良好で、特に、硬化発熱量残存率
はいずれも90%以上を保っているのに対して、比較例
では硬化トルクが0で硬化性が低く、硬化発熱量残存率
は60%あまりと低い値であった。
The evaluation results are shown in Table 1. In Examples, both the curability and the preservability were good. In particular, while the residual ratio of the heat generated by curing maintained 90% or more, the comparative example In this case, the curing torque was 0, the curability was low, and the residual rate of heat generation after curing was as low as about 60%.

【0027】[0027]

【表1】 [Table 1]

【0028】[0028]

【発明の効果】本発明のアニオン潜伏性触媒およびそれ
を用いた熱硬化性樹脂組成物を、電気・電子材料に用い
れば、硬化性、保存性の良好な製品が得られ、常温で保
管、輸送することができ、また、成形時には硬化不良を
起こすことがないなど、電気・電子産業分野へのメリッ
トは大きく有用である。
When the anionic latent catalyst of the present invention and the thermosetting resin composition using the same are used for electric and electronic materials, a product having good curability and storage stability can be obtained. The advantages in the electric and electronic industries, such as being transportable and not causing curing failure during molding, are greatly useful.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(1)で表される構造を有するこ
とを特徴とする、熱硬化性樹脂のアニオン潜伏性触媒。 【化1】 式中、R1〜R3は、アルキル基、置換または無置換(以
下、置換・無置換と記す)アリール基、および置換・無
置換アラルキル基からなる群から選ばれた少なくとも1
種を表し、それらは互いに同一であっても異なっていて
も良い。R4は、水素、ハロゲン、置換・無置換アルキ
ル基、置換・無置換アリール基、置換・無置換アラルキ
ル基、置換・無置換アシル基、置換・無置換アリーロイ
ル基、およびシアノ基からなる群から選ばれた少なくと
も1種を表し、それらは互いに同一であっても異なって
いても良い。また、Xは13族のルイス酸性を有する元
素であり、Lは水素原子、置換・無置換アルキル基、置
換・無置換アリール基、置換・無置換アラルキル基、置
換・無置換アルコキシ基、置換・無置換アリーロキシ
基、置換・無置換アシロキシ基、および置換・無置換ア
リーロイロキシ基からなる群から選ばれた少なくとも1
種を表し、それらは互いに同一であっても異なっていて
も良い。
1. An anion latent catalyst for a thermosetting resin, having a structure represented by the general formula (1). Embedded image In the formula, R 1 to R 3 are at least one selected from the group consisting of an alkyl group, a substituted or unsubstituted (hereinafter, referred to as substituted / unsubstituted) aryl group, and a substituted / unsubstituted aralkyl group.
Represent species, which may be the same or different from each other. R 4 is selected from the group consisting of hydrogen, halogen, substituted / unsubstituted alkyl group, substituted / unsubstituted aryl group, substituted / unsubstituted aralkyl group, substituted / unsubstituted acyl group, substituted / unsubstituted aryloyl group, and cyano group Represents at least one selected kind, which may be the same or different from each other. X is a Group 13 element having Lewis acidity, and L is a hydrogen atom, a substituted / unsubstituted alkyl group, a substituted / unsubstituted aryl group, a substituted / unsubstituted aralkyl group, a substituted / unsubstituted alkoxy group, a substituted / unsubstituted alkoxy group, At least one selected from the group consisting of an unsubstituted aryloxy group, a substituted / unsubstituted acyloxy group, and a substituted / unsubstituted arylyloxy group
Represent species, which may be the same or different from each other.
【請求項2】 13族のルイス酸性を有する元素Xの置
換基Lが、フェニル基、トリル基、メシチル基、ペンタ
フルオロフェニル基、ベンゾイル基、ナフチル基、ナフ
トイル基、フェノキシ基、2,6-ジメチルフェノキシ
基、2,6-ジ-t-ブチルフェノキシ基、ノルマルプロピ
ル基、およびイソプロピル基からなる群から選ばれた少
なくとも1種であることを特徴とする、請求項1記載の
アニオン潜伏性触媒。
2. The substituent L of the element X having a group 13 Lewis acidity having a Lewis acidity is a phenyl group, a tolyl group, a mesityl group, a pentafluorophenyl group, a benzoyl group, a naphthyl group, a naphthoyl group, a phenoxy group, a 2,6- 2. The anionic latent catalyst according to claim 1, wherein the catalyst is at least one selected from the group consisting of a dimethylphenoxy group, a 2,6-di-t-butylphenoxy group, a normal propyl group, and an isopropyl group. .
【請求項3】 13族のルイス酸性を有する元素Xの置
換基Lが、分子内二座配位性置換基である、カテコール
基、アセチルアセトネート基、2,2,6,6-テトラメチ
ル-3,5-ヘプタンジオネート基、3-ヒドロキシ-2-メ
チル-4H-ピラノ-4-エート基、および9-ビシクロ
[3,3,1]ノニル基からなる群から選ばれた少なくと
も1種であることを特徴とする、請求項1記載のアニオ
ン潜伏性触媒。
3. A catechol group, an acetylacetonate group, and a 2,2,6,6-tetramethyl group in which the substituent L of the element X having a group 13 Lewis acidity is an intramolecular bidentate substituent. At least one selected from the group consisting of a -3,5-heptanedionate group, a 3-hydroxy-2-methyl-4H-pyrano-4-ate group, and a 9-bicyclo [3,3,1] nonyl group The anionic latent catalyst according to claim 1, wherein
【請求項4】 1分子内にエポキシ基を2個以上有する
化合物(A)、1分子内にフェノール性水酸基を2個以
上有する化合物(B)、および、請求項1に記載された
アニオン潜伏性触媒(C)を必須成分とすることを特徴
とする熱硬化性樹脂組成物。
4. A compound having two or more epoxy groups in one molecule (A), a compound having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule (B), and the anion latency according to claim 1. A thermosetting resin composition comprising a catalyst (C) as an essential component.
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