JP2002100227A - Surface light source apparatus - Google Patents

Surface light source apparatus

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JP2002100227A
JP2002100227A JP2001022699A JP2001022699A JP2002100227A JP 2002100227 A JP2002100227 A JP 2002100227A JP 2001022699 A JP2001022699 A JP 2001022699A JP 2001022699 A JP2001022699 A JP 2001022699A JP 2002100227 A JP2002100227 A JP 2002100227A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a backlight with excellent reflectance and durability using a reflection sheet having a metal layer, which can prevent partial decrease in brightness due to deflection of the reflection sheet without changing the existing structure of the backlight. SOLUTION: The reflection sheet 70 is positioned on the bottom face of a light guide plate 60. A backlight is manufactured by using the reflection sheet obtained by applying particles having particle sizes of 1 μm or more and 15 μm or less together with a binder onto a base material to form an irregular face and forming a metal layer on the irregular face.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、反射率に優れる反
射板、及びそれを利用した面光源装置に関する。さらに
は面光源装置を使用した液晶表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflector having excellent reflectance and a surface light source device using the same. Further, the present invention relates to a liquid crystal display device using a surface light source device.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置はこれまでのCRTディス
プレイに比べ、薄型であり省スペース化できること、ま
た、低電圧で作動すること、消費電力が少なく省エネル
ギー化できるなどの特徴から、中小型機器のディスプレ
イを中心に広く用いられている。
2. Description of the Related Art Compared to conventional CRT displays, liquid crystal display devices are thinner and can save space, operate at low voltage, consume less power, and can save energy. Widely used mainly for displays.

【0003】中でも現在広く使用されている液晶表示装
置は、光源にバックライトを用いる透過型液晶表示装置
である。この液晶表示装置における表示の見やすさは、
液晶自身の性能もさることながら、バックライトの性能
によるところも大きくなっている。近年の液晶表示装置
ではさらなる軽量、薄型化が必須事項となっているこ
と、また、輝度の均一性や、光源からの熱が液晶パネル
に伝達しにくい等の理由より、バックライトの方式は光
源の後方に反射板を置く直下型ではなく、導光板を用
い、その一端に配置された光源を多重反射させることで
面光源化するエッジライト式バックライトが多く用いら
れている。バックライトにおける導光板では、その下面
に、拡散ドットが印刷されており、その大きさは(面
積)は位置に応じて変化し、ドットの大きさが大きくな
るにつれ、そのドットに光が当たる確率が高くなる。そ
の結果、そのドットがある位置からはより多くの光が出
射されることになるため、この拡散ドットの大きさと分
布を最適化することにより、発光面における輝度のムラ
を減少させ、同時に、より高い輝度を得ることができる
様になっている。導光板の下面には反射板が設置される
が、ここでの反射板は、白色板が一般的である。一方、
最近では偏光板による吸収ロスを低減させ、液晶表示装
置における輝度をさらに向上させるため、下面に拡散ド
ット印刷された導光板ではなく、下面に凹凸形状をもた
せたものや、導光板中に拡散粒子を配合したものがあ
る。これらの導光板では、下面に配置される反射板は白
色板ではなく、金属の反射体の方がより高い輝度を得ら
れると言われている。この反射体は、エッジライトのパ
ネル面方向以外の光をパネル側に反射して光の利用効率
を上げる目的で使用されるが、液晶表示装置の軽量、薄
型化に伴い、軽量、薄型化する必要があり、金属板を使
うというわけにはいかず、樹脂の表面に金属層を形成し
た物が一般的に使われている。バックライトにおいて、
この反射板は導光板の下面に付設されているが、導光板
に接着はされていない。これは光源の熱により、その材
質上、導光板は膨張しやすく、反射板は収縮しやすいた
めである。このため、反射シートは導光板の下面で僅か
ではあるが動いてしまうことがあり、動くことによりシ
ートがたわむと、その部分での十分な反射光が得られな
くなり、液晶表示装置上で輝度の得られない黒い部分と
して出てしまうという問題があった。
[0003] Among them, a liquid crystal display device widely used at present is a transmission type liquid crystal display device using a backlight as a light source. The visibility of the display on this liquid crystal display device is
In addition to the performance of the liquid crystal itself, the performance of the backlight is also increasing. In recent years, liquid crystal display devices are required to be even lighter and thinner, and because of the uniformity of brightness and the difficulty in transferring heat from the light source to the liquid crystal panel, the backlight system is not suitable for the light source. Edge light type backlights that use a light guide plate instead of a direct type with a reflection plate behind the light source and make a light source disposed at one end of the light guide plate into a surface light source by multiple reflection are often used. In the light guide plate of the backlight, diffusion dots are printed on the lower surface, and the size (area) changes according to the position. As the size of the dot increases, the probability that light will strike the dot Will be higher. As a result, more light is emitted from the position where the dot is located.Thus, by optimizing the size and distribution of the diffusion dot, the unevenness in luminance on the light emitting surface is reduced, and High brightness can be obtained. A reflection plate is provided on the lower surface of the light guide plate, and the reflection plate here is generally a white plate. on the other hand,
Recently, in order to further reduce the absorption loss due to the polarizing plate and further improve the brightness in the liquid crystal display device, instead of the light guide plate with the diffusion dot printed on the lower surface, the lower surface has an uneven shape, or the diffusion particles in the light guide plate There is what blended. In these light guide plates, it is said that the reflector disposed on the lower surface is not a white plate but a metal reflector can obtain higher luminance. This reflector is used for the purpose of reflecting the light other than the panel surface direction of the edge light toward the panel side to increase the light use efficiency. However, as the liquid crystal display device becomes lighter and thinner, it becomes lighter and thinner. It is necessary to use a metal plate, and a material having a metal layer formed on a resin surface is generally used. In the backlight,
This reflector is provided on the lower surface of the light guide plate, but is not bonded to the light guide plate. This is because, due to the material of the light source, the light guide plate easily expands and the reflector plate easily contracts due to the heat of the light source. For this reason, the reflection sheet may move slightly on the lower surface of the light guide plate, and if the sheet bends due to the movement, sufficient reflected light at that portion cannot be obtained, and the brightness of the liquid crystal display device becomes lower. There was a problem that it appeared as an unobtainable black part.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、金属層を有
する反射シートを用いたバックライトにおいて、現状の
バックライトの構造を変えることなく、反射シートのた
わみによる輝度の低下部分が発生しないような、反射
率、耐久性に優れた反射シートを用いたバックライトを
提供することを目的とする。
An object of the present invention is to provide a backlight using a reflection sheet having a metal layer without causing a reduction in luminance due to the deflection of the reflection sheet without changing the current backlight structure. It is an object of the present invention to provide a backlight using a reflective sheet having excellent reflectance and durability.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するため鋭意検討した結果、驚くべきことに、
バックライトにおける導光板の下面に用いる反射シート
に、基材上に平均粒径が1μm以上15μm以下である
ような粒子をバインダーともに塗布することにより得ら
れる凹凸層面に、金属層を形成することにより得られる
反射シートを用いることで、上記の課題を解決出来るこ
とを見いだした。
The present inventors have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, surprisingly,
By forming a metal layer on an uneven layer surface obtained by applying a binder having a mean particle size of 1 μm or more and 15 μm or less together with a binder on a base material to a reflection sheet used on the lower surface of a light guide plate in a backlight. It has been found that the above problem can be solved by using the obtained reflection sheet.

【0006】すなわち本発明は、[1]側面に光源を有
し、導光板及びその下面に配置された反射シートからな
る面光源装置において、該反射シートが、基材上に平均
粒径が1μm以上15μm以下であるような粒子をバイ
ンダーとともに塗布することにより得られる凹凸層面
に、金属層を形成することにより得られる反射シートを
用いることを特徴とする面光源装置、[2]該反射シー
トの凹凸面を形成する際、粒子とバインダーの割合が、
形成される凹凸層の体積に対し、粒子の体積が5〜52
体積%の割合になるように配合され、かつ、該凹凸層の
乾燥重量(g/cm2)が下記式(1)の条件を満足す
る反射シートであることを特徴とする記載の面光源装
置、 式(1):0.6×2r×102/(p/a+(100
−p)/b)≦重量(g/cm2)≦2.5×2r×1
2/(p/a+(100−p)/b) 〔但し、p=100/(1+(100/v―1)×b/
a)〕であり、 r:使用した微細粒子の半径の平均値(cm) p:凹凸層中の微細粒子の割合(重量%) v:凹凸層中の微細粒子の割合(体積%) a:用いた微細粒子の密度(g/cm3) b:用いたバインダーの密度(g/cm3) [3]該反射シートの金属層側から測定した550nm
における反射率が、85〜99%であることを特徴とす
る[1]及び[2]記載の面光源装置、[4]該反射シ
ートの反射輝度の半価角度が、10°〜40°であるこ
とを特徴とする前記[1]〜[3]のいずれかに記載の
面光源装置、[5]該反射シートの反射層の構成が、下
地層(A)、銀層(B)、銀を主体とする合金の金属層
(C)、珪素酸化物層(D)をABCDの順に有するこ
とを特徴とする前記[1]〜[4]のいずれかに記載の
面光源装置、[6]該反射シートの凹凸層を形成する粒
子が、アクリル系粒子であることを特徴とする前記
[1]〜[5]のいずれかに記載の面光源装置、[7]
該反射シートの凹凸層を形成するバインダーが、アクリ
ル系樹脂であることを特徴とする前記[1]〜[6]の
いずれかに記載の面光源装置、[8]該反射シートの反
射層における下地層(A)が、金、銅、ニッケル、鉄、
コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロ
ム、インジウム、マンガン、チタン、もしくは、パラジ
ウムからなる厚さ5〜50nmの金属層、または、酸化
アルミニウムが0〜5重量%ドープされた酸化亜鉛、ま
たは、インジウムとスズの酸化物(ITO)からなる厚
さ1〜20nmの透明酸化物層であることを特徴とする
前記[1]〜[7]のいずれかに記載の面光源装置、
[9]該反射シートの反射層における銀層(B)の厚み
が、70〜400nmであることを特徴とする前記
[1]〜[8]のいずれかに記載の面光源装置。[1
0]該反射シートの反射層における銀を主体とする合金
の金属層(C)が、銀に対し銅とパラジウムをあわせて
0.001〜2重量%含有している合金からなる層であ
り、該金属層の膜厚が、5〜40nmであることを特徴
とする前記[1]〜[9]のいずれかに記載の面光源装
置、[11]該反射シートの反射層における珪素酸化物
層(F)の厚みが、1〜50nmであることを特徴とす
る請求項1〜10のいずれかに記載の面光源装置[1
2]該反射シートの波長550nmにおける全反射率に
対する拡散反射率の割合(反射のヘイズ値)が5〜50
%であることを特徴とする請求項1〜11の何れかに記
載の面光源装置であることを特徴とする前記[1]〜
[11]のいずれかに記載の面光源装置に関するもので
ある。
That is, the present invention provides [1] a surface light source device comprising a light guide plate and a reflection sheet disposed on the lower surface thereof, wherein the reflection sheet has an average particle diameter of 1 μm on a substrate. A surface light source device, characterized in that a reflection sheet obtained by forming a metal layer on the uneven layer surface obtained by applying particles having a size of 15 μm or less together with a binder is used; When forming the uneven surface, the ratio of particles and binder,
The volume of the particles is 5 to 52 with respect to the volume of the uneven layer to be formed.
The surface light source device according to claim 1, wherein the surface light source device is a reflection sheet that is blended so as to have a volume% ratio and the dry weight (g / cm 2 ) of the uneven layer satisfies the condition of the following formula (1). Formula (1): 0.6 × 2r × 10 2 / (p / a + (100
-P) / b) ≦ weight (g / cm 2 ) ≦ 2.5 × 2r × 1
0 2 / (p / a + (100−p) / b) [However, p = 100 / (1+ (100 / v−1) × b /
a)], r: average value of the radius of the fine particles used (cm) p: ratio of fine particles in the uneven layer (% by weight) v: ratio of fine particles in the uneven layer (% by volume) a: Density of used fine particles (g / cm 3 ) b: Density of used binder (g / cm 3 ) [3] 550 nm measured from the metal layer side of the reflection sheet
The surface light source device according to [1] or [2], wherein the reflection sheet has a reflectance of 85 to 99%. [5] The surface light source device according to any one of [1] to [3], [5] wherein the configuration of the reflective layer of the reflective sheet includes a base layer (A), a silver layer (B), and silver. The surface light source device according to any one of [1] to [4], wherein the surface light source device has a metal layer (C) and a silicon oxide layer (D) of an alloy mainly composed of The surface light source device according to any one of [1] to [5], wherein the particles forming the uneven layer of the reflection sheet are acrylic particles.
The surface light source device according to any one of [1] to [6], wherein the binder forming the uneven layer of the reflection sheet is an acrylic resin. The underlayer (A) is made of gold, copper, nickel, iron,
A metal layer of cobalt, tungsten, molybdenum, tantalum, chromium, indium, manganese, titanium, or palladium having a thickness of 5 to 50 nm, or zinc oxide or indium doped with aluminum oxide of 0 to 5% by weight; The surface light source device according to any one of [1] to [7], wherein the surface light source device is a transparent oxide layer having a thickness of 1 to 20 nm made of tin oxide (ITO).
[9] The surface light source device according to any one of [1] to [8], wherein the thickness of the silver layer (B) in the reflection layer of the reflection sheet is 70 to 400 nm. [1
0] The metal layer (C) of an alloy mainly composed of silver in the reflection layer of the reflection sheet is a layer made of an alloy containing 0.001 to 2% by weight of silver and copper and palladium in total, The surface light source device according to any one of [1] to [9], wherein the metal layer has a thickness of 5 to 40 nm, [11] a silicon oxide layer in the reflection layer of the reflection sheet. The thickness of (F) is 1-50 nm, The surface light source device [1] in any one of Claims 1-10 characterized by the above-mentioned.
2] The ratio of the diffuse reflectance to the total reflectance at a wavelength of 550 nm (haze value of reflection) of the reflection sheet is 5 to 50.
%, Wherein the surface light source device according to any one of claims 1 to 11, wherein
The present invention relates to the surface light source device according to any one of [11].

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の面光源装置は、導光板の下面に用いる反射体
に、凹凸のある金属反射シートを配置した、エッジライ
ト型の面光源装置である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The surface light source device of the present invention is an edge light type surface light source device in which an uneven metal reflection sheet is disposed on a reflector used on a lower surface of a light guide plate.

【0008】本発明における導光板としては、例えば、
ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリ
カーボネイトやポリカーボネイト・ポリスチレン重合体
などのポリカーボネイト系樹脂、エポキシ系樹脂などの
透明樹脂やガラスなどの約400〜700nmの波長域
において透明性を示すものが好ましく用いられるが、光
源の波長領域に応じてそれに透明性を示す材料であれば
これに限定されない。
As the light guide plate in the present invention, for example,
Acrylic resins such as polymethyl methacrylate, polycarbonate resins such as polycarbonate and polycarbonate / polystyrene polymers, transparent resins such as epoxy resins and glass, etc., which exhibit transparency in a wavelength range of about 400 to 700 nm are preferably used. However, the material is not limited to this as long as it is a material showing transparency according to the wavelength region of the light source.

【0009】導光板の製造方法としては、例えば、熱や
紫外線、放射線等で重合処理した液状樹脂を、所定の下
面形状を得られる型に充填、或いは流延して重合処理す
る方法、熱可塑性樹脂を所定の下面形状の得られる金型
に加熱下で押し当てて成型する方法、加熱溶融させた熱
可塑性樹脂或いは熱や溶媒を介して流動化させた樹脂を
所定の形状の得られる金型に充填する方法などが挙げら
れるが、ある程度量産性のよい方法であればこれに限定
されるものではない。
As a method of manufacturing the light guide plate, for example, a method of filling or casting a liquid resin polymerized by heat, ultraviolet rays, radiation or the like into a mold capable of obtaining a predetermined lower surface shape, and performing a polymerizing process, A method in which a resin is pressed against a mold having a predetermined lower surface shape under heating and molded, and a thermoplastic resin melted by heating or a resin fluidized through heat or a solvent is formed into a mold having a predetermined shape. And the like. However, the method is not limited to this as long as the method has a good mass productivity to some extent.

【0010】導光板の厚さは、使用目的の導光板のサイ
ズや、光源の大きさなどにより適宜に決定することがで
きる。液晶表示装置等に用いる場合の導光板の一般的な
厚さは、0.1〜20mm以下が好ましく、より好まし
くは、0.3〜12mm、さらに好ましくは、0.6〜
8mmである。また、入射面と上面の一般的な面積比
は、入射面:上面が、1:5〜100が好ましく、より
好ましくは1:10〜80、さらに好ましくは1:15
〜50である。
[0010] The thickness of the light guide plate can be appropriately determined depending on the size of the light guide plate to be used, the size of the light source, and the like. The general thickness of the light guide plate when used in a liquid crystal display device or the like is preferably 0.1 to 20 mm or less, more preferably 0.3 to 12 mm, and still more preferably 0.6 to 12 mm.
8 mm. The general area ratio between the incident surface and the upper surface is preferably from 1: 5 to 100, more preferably from 1:10 to 80, and still more preferably 1:15.
~ 50.

【0011】本発明の面光源装置に使用する光源として
は、例えば、白熱電球、発光ダイオード(LED)、エ
レクトロルミネセンス(EL)、蛍光ランプ、メタルハ
イドライドランプなどが挙げられ、中でも蛍光ランプが
好ましく用いられる。蛍光ランプにはその電極構造、点
灯方式により熱陰極型と、冷陰極型に大別され、電極、
インバーターとも熱陰極型の方が大きくなる傾向にあ
る。熱陰極型は、発光に寄与しない電極近傍の電飾損失
が小さく効率がよく、冷陰極型に比べ数倍優れた発光効
率を示し、発光も強いが、寿命は冷陰極型の方が優れて
おり、低消費電力性、耐久性などの点から冷陰極型がよ
り好ましく用いられる。また光源からの発散光を導光板
の側面に導くために、通常光源を反射板で包囲する。反
射板としては高反射率金属薄膜を付設した樹脂シートや
金属箔などが一般的に用いられる。
The light source used in the surface light source device of the present invention includes, for example, an incandescent light bulb, a light emitting diode (LED), an electroluminescence (EL), a fluorescent lamp, a metal hydride lamp, and the like. Used. Fluorescent lamps are roughly classified into hot cathode type and cold cathode type according to their electrode structure and lighting method.
Hot cathode type inverters also tend to be larger. The hot-cathode type has a small illumination loss near the electrode that does not contribute to light emission, has good efficiency, exhibits luminous efficiency several times better than the cold-cathode type, emits light more strongly, but has a longer life than the cold-cathode type. Therefore, the cold cathode type is more preferably used from the viewpoint of low power consumption and durability. In order to guide the divergent light from the light source to the side surface of the light guide plate, the light source is usually surrounded by a reflector. As the reflector, a resin sheet or a metal foil provided with a high-reflectance metal thin film is generally used.

【0012】本発明の面光源装置における導光板の下面
に用いる反射シートは、特定の平均粒径により構成され
る微細粒子(以下、フィラーとも言う)を、特定の重量
割合でバインダーに配合し、乾燥重量がある特定の重量
になるように塗布して、高分子フィルム上に凹凸構造を
有する層を形成した後、該凹凸層上に酸化物或いは金属
単体層、銀層、銀を主体とする金属層、珪素酸化物層を
順に形成した反射シートである。
The reflecting sheet used on the lower surface of the light guide plate in the surface light source device of the present invention is obtained by mixing fine particles (hereinafter, also referred to as filler) having a specific average particle size with a binder in a specific weight ratio, After applying so that the dry weight becomes a specific weight, and forming a layer having a concavo-convex structure on the polymer film, an oxide or a single metal layer, a silver layer, and silver are mainly formed on the concavo-convex layer. This is a reflection sheet in which a metal layer and a silicon oxide layer are sequentially formed.

【0013】該反射シートにおいて、基材として使用さ
れる高分子フィルムは、例えばポリエチレンテレフタラ
ート(PET)、ポリエチレンナフタレートなどのポリ
エステル類、ビスフェノールA系ポリカーボネートなど
のポリカーボネート類、ポリエチレン、ポリプロピレン
などのポリオレフィン類、セルローストリアセテートな
どのセルロース誘導体類、ポリ塩化ビニリデンなどのビ
ニル系樹脂、ポリイミド類、ポリアミド類、ポリエーテ
ルスルホン、ポリスルホン系樹脂、ポリアリレート系樹
脂、フッ素系樹脂などの各種プラスチックからなるフィ
ルムが挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるもの
ではなく、ある程度ガラス転移点が高く、平滑な表面を
もつものであれば使用できる。なかでもポリエチレンテ
レフタラートが好ましい。
In the reflection sheet, the polymer film used as a base material includes, for example, polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate, polycarbonates such as bisphenol A-based polycarbonate, and polyolefins such as polyethylene and polypropylene. , Cellulose derivatives such as cellulose triacetate, vinyl resins such as polyvinylidene chloride, polyimides, polyamides, polyethersulfone, polysulfone resins, polyarylate resins, and films made of various plastics such as fluororesins. However, the material is not limited to these, and any material having a high glass transition point and a smooth surface can be used. Among them, polyethylene terephthalate is preferred.

【0014】使用される高分子フィルムの厚みは、ある
程度シートにコシが得られれば、特に限定されるもので
はないが、通常は10〜400μm程度、好ましくは1
0〜200μm程度が、さらに好ましくは25〜100
μm程度である。
The thickness of the polymer film to be used is not particularly limited as long as a certain degree of stiffness can be obtained in the sheet, but it is usually about 10 to 400 μm, preferably 1 to 400 μm.
About 0 to 200 μm, more preferably 25 to 100 μm.
It is about μm.

【0015】高分子フィルム上に形成される凹凸層は、
フィラーとなる微細粒子及びバインダーにより形成され
る。フィラーとなる微細粒子としては、例えば、アクリ
ル、ポリスチレン、ビニルベンゼン、ポリメタクリル酸
メチル、スチレンメタクリレート、スチレンアクリレー
ト、スチレンブタジエン等の高分子(有機)粒子をはじ
め、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化鉛
(鉛白)、酸化亜鉛(亜鉛華)、炭酸カルシウム、炭酸
バリウム、硫酸バリウム、チタン酸カリウム、ケイ酸ソ
ーダなどからなる無機微粒子や、酸化錫、酸化インジウ
ム、酸化カドミウム、酸化アンチモンなどの導電性透明
微粒子なども用いることができるが、必ずしもこれらに
限定されるものではない。なかでもアクリル樹脂が好ま
しい。
The uneven layer formed on the polymer film is
It is formed by fine particles serving as a filler and a binder. Examples of the fine particles serving as fillers include polymer (organic) particles such as acryl, polystyrene, vinylbenzene, polymethyl methacrylate, styrene methacrylate, styrene acrylate, styrene butadiene, silica, alumina, titania, zirconia, and oxidized particles. Inorganic fine particles composed of lead (lead white), zinc oxide (zinc white), calcium carbonate, barium carbonate, barium sulfate, potassium titanate, sodium silicate, and conductive materials such as tin oxide, indium oxide, cadmium oxide, and antimony oxide Transparent fine particles can also be used, but are not necessarily limited thereto. Among them, acrylic resin is preferable.

【0016】高分子からなる微細粒子の調整方法として
は、乳化重合法、懸濁重合法、分散重合法などが挙げら
れる。なかでも乳化重合法が最も一般的であるが、近
年、分散重合も盛んに行われている。どの重合法におい
ても、生成する高分子は分散媒に難溶であり、分散媒と
高分子間の表面張力により粒子化する。高分子粒子は、
粒子表面に結合又は吸着している保護コロイドによって
安定化され、さらに粒子内架橋によっても安定化され
る。これらの方法の中でも特に、分散重合法を用いた場
合、サブミクロンから数十ミクロンまでの広い範囲の粒
子が得られる特徴がある。
The method for preparing fine particles composed of a polymer includes an emulsion polymerization method, a suspension polymerization method and a dispersion polymerization method. Among them, the emulsion polymerization method is the most common, but in recent years, dispersion polymerization has been actively performed. In any polymerization method, the produced polymer is hardly soluble in the dispersion medium, and is formed into particles by the surface tension between the dispersion medium and the polymer. Polymer particles are
It is stabilized by a protective colloid bonded or adsorbed to the particle surface, and further stabilized by intra-particle crosslinking. Among these methods, in particular, when a dispersion polymerization method is used, there is a feature that particles in a wide range from submicron to several tens of microns can be obtained.

【0017】高分子フィルムの表面に所望の粗さを得る
ためのフィラーとなる微細粒子の平均粒子径は、1〜1
5μmであり、好ましくは2〜10μmであり、さらに
好ましくは3〜8μmである。平均粒子径が1μm未満
では、粒子の埋没で凹凸構造の表面が形成しにくくな
り、また、15μmを越えると凹凸構造の起伏が大きく
なり、きめの粗い反射シートとなる。なお、微細粒子の
粒径分布は小さい方が好ましい。粒径の標準偏差の平均
粒径に対する割合は50%以下が好ましく、より好まし
くは30%以下で、さらに好ましくは20%以下であ
る。粒径分布が上記の割合を大きく超えると、制御され
た凹凸構造を得ることが難しくなる。
The average particle size of the fine particles serving as a filler for obtaining a desired roughness on the surface of the polymer film is 1 to 1
It is 5 μm, preferably 2 to 10 μm, and more preferably 3 to 8 μm. If the average particle diameter is less than 1 μm, it becomes difficult to form the surface of the concavo-convex structure due to the burial of the particles, and if it exceeds 15 μm, the unevenness of the concavo-convex structure becomes large, resulting in a rough textured reflection sheet. It is preferable that the particle size distribution of the fine particles is small. The ratio of the standard deviation of the particle size to the average particle size is preferably 50% or less, more preferably 30% or less, and even more preferably 20% or less. If the particle size distribution greatly exceeds the above ratio, it is difficult to obtain a controlled uneven structure.

【0018】微細粒子分散させるバインダーとして用い
るものは、例えばポリメタクリル酸メチルなどのアクリ
ル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリメタアクリル
ニトリル樹脂、エチルシリケートより得られる重合体な
どの珪素樹脂、フッ素系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポ
リスチレン樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルサル
ホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹
脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリウ
レタン系樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂
や、これらの混合物などが挙げられるが、必ずしもこれ
らに限定される物ではない。これらは高分子フィルム及
び粒子との密着性を考慮して選択され、なかでもアクリ
ル系樹脂が好ましい。
The binder used to disperse the fine particles may be, for example, an acrylic resin such as polymethyl methacrylate, a polyacrylonitrile resin, a polymethacrylonitrile resin, a silicon resin such as a polymer obtained from ethyl silicate, a fluorine resin, or a polyester. Resin, polystyrene resin, acetate resin, polyethersulfone resin, polycarbonate resin, polyamide resin, polyimide resin, polyolefin resin, polyurethane resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, and mixtures thereof And the like, but are not necessarily limited to these. These are selected in consideration of the adhesion to the polymer film and the particles, and among them, acrylic resins are preferable.

【0019】凹凸層の形成方法としては、フィラーであ
る微細粒子及びバインダーを、高分子フィルム上に塗布
することで形成する。塗布する際、フィラーである微細
粒子をバインダー中に分散させるための溶媒としては、
トルエン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、イソプロ
ピルアルコールなどが好ましく用いられる。これらは塗
布作業時に一般的に用いられる溶媒であり、これら以外
でも基材高分子フィルムやフィラー微細粒子に影響を与
えない溶媒であれば、問題なく使用できる。また、塗布
溶液には、必要に応じてぬれ剤や増粘剤、分散剤、消泡
剤などの添加剤も加えられることもある。
As the method for forming the uneven layer, the fine particles and the binder as the filler are formed by coating on a polymer film. When applying, as a solvent for dispersing the fine particles as a filler in the binder,
Toluene, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, isopropyl alcohol and the like are preferably used. These are solvents generally used at the time of the coating operation, and any other solvent that does not affect the base polymer film or the filler fine particles can be used without any problem. Further, additives such as a wetting agent, a thickener, a dispersant, and an antifoaming agent may be added to the coating solution as needed.

【0020】フィラーとなる微細粒子の配合割合として
は、塗布溶液における固形分(フィラー+バインダー)
中のフィラーの体積%で表され、通常固形分100体積
%に対し、5体積%以上、52体積%以下が好ましく、
より好ましくは10体積%以上45体積%以下、さらに
好ましくは、20体積%以上、40体積%以下である。
フィラーの使用量が5体積%以下の場合、所望の光拡散
性を得ることが出来ず、52体積%を越えると複屈折に
より十分な反射光が得られなくなる。
The mixing ratio of the fine particles serving as the filler is determined by the solid content (filler + binder) in the coating solution.
It is expressed by the volume% of the filler in the medium, and is preferably 5% by volume or more and 52% by volume or less based on 100% by volume of the solid content.
More preferably, the content is 10% by volume or more and 45% by volume or less, and still more preferably 20% by volume or more and 40% by volume or less.
When the used amount of the filler is 5% by volume or less, desired light diffusibility cannot be obtained. When the used amount exceeds 52% by volume, sufficient reflected light cannot be obtained due to birefringence.

【0021】該反射シートの製造に際して、高分子から
なる微細粒子を、バインダー中に溶剤を用いて分散させ
た溶液を塗布する際は、分散溶液を調合後、4時間、好
ましくは12時間、さらに好ましくは24時間おいた後
に塗布することが好ましい。高分子からなる微細粒子は
溶剤の影響を受け、数時間の間、経時で膨潤するため、
分散溶液調合後、すぐに塗布を行うと、微細粒子の粒径
が経時で変化するため、凹凸構造が不均一になると共
に、分散溶液の粘度も経時で変化するため、塗布条件の
調整が困難になることがある。
In the production of the reflection sheet, when applying a solution in which fine particles made of a polymer are dispersed in a binder using a solvent, 4 hours, preferably 12 hours, after preparing the dispersion solution, It is preferable to apply the coating after 24 hours. Since the fine particles made of polymer are affected by the solvent and swell over time for several hours,
Immediately after the preparation of the dispersion solution, if the coating is performed, the particle size of the fine particles changes with time, the uneven structure becomes uneven, and the viscosity of the dispersion solution also changes with time, making it difficult to adjust the coating conditions. It may be.

【0022】高分子上に形成される凹凸層の重量は、式
(1)で表すように、 式(1):0.6×2r×102/(p/a+(100
−p)/b)≦重量(g/cm2)≦2.5×2r×1
2/(p/a+(100−p)/b) であることが好ましい。より好ましくは、 式(3):0.6×2r×102/(p/a+(100
−p)/b)≦重量(g/cm2)≦2.0×2r×1
2/(p/a+(100−p)/b)さらに好ましく
は、 式(4):0.6×2r×102/(p/a+(100
−p)/b)≦重量(g/cm2)≦1.5×2r×1
2/(p/a+(100−p)/b) である。凹凸層の重量が、式(1)の左辺の値より少な
くなると、凹凸層を形成するための粒子の数が少なす
ぎ、高分子フィルム上に所望の凹凸構造を得ることが出
来ない。また、凹凸層の重量が(1)式の右辺の値より
少なくなると、粒子の数が多くなりすぎて、制御された
凹凸構造を作ることが難しくなる。ここでいう重量と
は、乾燥後(ドライ)重量を表す。乾燥前(ウェット)
での重量(塗布量)は、コーティングに用いるグラビヤ
版やメイヤーバーの番手を選ぶの上で有用であるが、実
測が困難であることが多い。そこで、実際には乾燥後の
膜厚や、乾燥後の塗布重量を測定し評価することが多
い。しかしながら、粒子層は凹凸層になっているため、
必ずしも塗布量と膜厚が一致しない。よって、乾燥後
(ドライ)の重量で評価を行うことが好ましいと考えら
れる。
The weight of the concavo-convex layer formed on the polymer is expressed by the following equation (1): 0.6 × 2r × 10 2 / (p / a + (100
-P) / b) ≦ weight (g / cm 2 ) ≦ 2.5 × 2r × 1
It is preferably 0 2 / (p / a + (100−p) / b). More preferably, the formula (3): 0.6 × 2r × 10 2 / (p / a + (100
-P) / b) ≦ weight (g / cm 2 ) ≦ 2.0 × 2r × 1
O 2 / (p / a + (100−p) / b) More preferably, the formula (4): 0.6 × 2r × 10 2 / (p / a + (100
-P) / b) ≦ weight (g / cm 2 ) ≦ 1.5 × 2r × 1
0 2 / (p / a + (100−p) / b). When the weight of the uneven layer is smaller than the value on the left side of the formula (1), the number of particles for forming the uneven layer is too small, and a desired uneven structure cannot be obtained on the polymer film. If the weight of the uneven layer is smaller than the value on the right side of the expression (1), the number of particles becomes too large, and it becomes difficult to form a controlled uneven structure. Here, the weight refers to the weight after drying (dry). Before drying (wet)
Although the weight (application amount) is useful for selecting the number of the gravure plate or the Meyer bar used for coating, the actual measurement is often difficult. Therefore, in practice, the film thickness after drying and the coating weight after drying are often measured and evaluated. However, because the particle layer is an uneven layer,
The coating amount and the film thickness do not always match. Therefore, it is considered preferable to carry out the evaluation based on the weight after drying (dry).

【0023】ドライ重量の測定方法としては例えば、凹
凸層表面の微細粒子及びバインダーを可溶する溶剤によ
り丁寧にふき取り、剥がれた凹凸層及び溶剤を乾燥さ
せ、溶剤を蒸発させることにより容易に計量する事がで
きる。基材高分子フィルム上に微細粒子による凹凸層を
形成する方法としては、種々の溶液塗工法が思考される
が、その際の塗布量はウェット重量で制御される。塗布
液中の固形分の重量%をNで示した場合、ウェット重量
とドライ重量の間には実質的に、 ウェット重量(g/cm2)=ドライ重量(g/cm2
/N×100 N:ウェット塗布溶液中の、固形分の割合(重量%) の関係がある。よって、式(1)は式(5)と表すこと
ができる。 式(5):0.6×2r/N×104/(p/a+(1
00−p)/b)≦塗布量(g/cm2)≦2.5×2
r/N×104/(p/a+(100−p)/b) 但し、ウェット重量は、前述したとおり塗布方法や、乾
燥条件により、最終的な乾燥重量と整合性がとれない場
合が多々あるため、あくまでも塗工中の目安の値とし、
評価はドライ重量で行う。
As a method of measuring the dry weight, for example, the fine particles on the surface of the uneven layer and the solvent that dissolves the binder are carefully wiped off, the peeled uneven layer and the solvent are dried, and the solvent is easily measured by evaporating the solvent. Can do things. As a method for forming a concavo-convex layer with fine particles on a base polymer film, various solution coating methods are considered, and the amount of coating at that time is controlled by wet weight. If the weight percent of solids in the coating solution shown in N, substantially between the wet weight and dry weight and wet weight (g / cm 2) = Dry Weight (g / cm 2)
/ N × 100 N: There is a relationship of the solid content ratio (% by weight) in the wet coating solution. Therefore, equation (1) can be expressed as equation (5). Formula (5): 0.6 × 2r / N × 10 4 / (p / a + (1
00-p) / b) ≦ coating amount (g / cm 2 ) ≦ 2.5 × 2
r / N × 10 4 / (p / a + (100−p) / b) However, as described above, the wet weight often cannot be consistent with the final dry weight depending on the application method and drying conditions. Because of this, it is only a guideline value during coating,
The evaluation is performed by dry weight.

【0024】以下には該反射シートの凹凸層を形成する
方法について説明する。はじめに、ロールコータについ
て説明する。ロールコータとは、メタリングロールとア
プリケータロールとバックアップロールの3本で構成さ
れ、メタリングロールの配置される位置により、正回転
ロールコータとリバースロールコータに分けられる。メ
タリングロールの役目はアプリケータロール上に、塗工
剤を正確な一定量保持させることであり、アプリケータ
ロール上に存在する塗工剤の量は、アプリケータロール
とメタリングロールとのニップ幅及び、相対的表面速度
で調整される。実際の操作では、アプリケータロールと
メタリングロールはそれぞれ独立に速度をコントロール
する。このことは広範囲の塗工剤を取り扱う場合に特に
重要であり、大部分の塗工剤では、メタリングニップに
おける相対速度の関係を正しく調整することによって、
きわめて平滑な外観の塗膜を得ることが出来る。正回転
ロールコータにおいては、メタリングロールとアプリケ
ータロールの周速を等速にするとロール間ニップの出口
で塗液が分裂する際に、液が上下に引っ張られ、分裂模
様を生じるため、アプリケータロールの方をより速く回
転させる。一般的には、メタリングロールとアプリケー
タロールの間隔は少し離して計量の一部を受け持たせて
いる。この間隙が離れすぎるとリング状のパターンを生
じるという欠点がある。
Hereinafter, a method for forming the uneven layer of the reflection sheet will be described. First, the roll coater will be described. The roll coater is composed of three, a metering roll, an applicator roll, and a backup roll, and is divided into a forward rotation roll coater and a reverse roll coater according to the position where the metalling roll is arranged. The role of the metering roll is to maintain a precise and constant amount of coating agent on the applicator roll, and the amount of coating agent present on the applicator roll depends on the nip between the applicator roll and the metering roll. The width and the relative surface speed are adjusted. In actual operation, the applicator roll and the metering roll each control the speed independently. This is especially important when dealing with a wide range of coatings, and for most coatings, by properly adjusting the relative velocity relationship at the metalling nip,
A coating film having a very smooth appearance can be obtained. In the case of a forward rotation roll coater, if the peripheral speed of the metering roll and the applicator roll is made equal, when the coating liquid splits at the exit of the nip between the rolls, the liquid is pulled up and down, causing a split pattern. Rotate the tallon faster. In general, the spacing between the metering roll and the applicator roll is slightly spaced to take part of the metering. If this gap is too far, there is a disadvantage that a ring-shaped pattern is generated.

【0025】ロールコータにおいてアプリケータロール
が逆回転しながら塗工するのがリバースロールコータで
ある。リバースロールコータにおいて、塗膜厚さは互い
に接するロール間の間隙の大きさ、各ロールの周速比、
塗工液の粘度、固形分濃度などにより決定される。この
コータの長所は、(1)広い粘度範囲にわたって塗布が
可能である、(2)走行中に塗膜厚さを調整できる、
(3)塗膜厚さを大幅に変えることが出来る、(4)支
持体の表面に沿った塗膜表面が形成され、ミクロにみて
塗膜厚さが均一である、(5)ピックアップロールを共
有するため溶剤の損失が少ないこと、などが挙げられ
る。しかしながら一方で、(1)メタリングロールの速
度が速すぎると、アプリケータロール上に計量された塗
工剤に粗い波状模様ができ、この模様はフィルム表面に
移動したとき同じ模様として現れてしまう、(2)メタ
リングロールを理想的速度より遅くすると、アプリケー
タロール上に計量された塗工剤に同心円の隆起が生じ
る、(3)塗工剤槽内でのかき混ぜ効果が強く泡が発生
しやすい、(4)アプリケーションロールによるホンピ
ング作用が強くなり、オーバーフローを防ぐため塗工剤
溜めを深くする必要がある、(5)エッジドクタの取り
付けが困難であり、バックアップロールに段を付ける必
要がある、(6)ポンピング作用による塗工剤の飛散問
題から、塗工速度に制限がある、などの欠点もある。
In a roll coater, a reverse roll coater performs coating while the applicator roll rotates in the reverse direction. In a reverse roll coater, the coating thickness is determined by the size of the gap between the rolls in contact with each other, the peripheral speed ratio of each roll,
It is determined by the viscosity of the coating solution, the solid content concentration, and the like. The advantages of this coater are (1) coating is possible over a wide viscosity range, (2) coating thickness can be adjusted during running,
(3) The thickness of the coating film can be greatly changed. (4) The coating film surface is formed along the surface of the support, and the coating film thickness is uniform microscopically. A small loss of solvent due to sharing. However, on the other hand, (1) if the speed of the metering roll is too high, a rough wavy pattern is formed on the coating material measured on the applicator roll, and this pattern appears as the same pattern when moved to the film surface. (2) When the metering roll is made slower than the ideal speed, concentric bulges occur in the coating agent weighed on the applicator roll. (3) Strong stirring effect in the coating agent tank generates bubbles (4) The homing effect of the application roll is increased, and the coating agent reservoir needs to be deepened to prevent overflow. (5) It is difficult to attach the edge doctor, and it is necessary to step the backup roll. (6) There is also a drawback that the coating speed is limited due to the problem of scattering of the coating agent due to the pumping action.

【0026】グラビアコータ法では、グラビアロール、
バックアップロール、アジャストロールで構成され、液
槽の中に浸かっているグラビアロールは、表面に凹凸の
彫刻加工が施されており、その凸部に付着した塗工液を
ドクタブレードでかき落とし、凹部で塗工液を計量して
支持体に転移させる方法であり、塗工量の調整はグラビ
アセルの形状、深さ、メッシュ、塗工液の固形分濃度な
どにより行う。グラビアセルから被塗物への塗工剤の転
移に影響を与える因子は、粘度と表面張力である。セル
の形状には、ピラミット型、格子型、斜線型であり、ピ
ラミット型<格子型<斜線型の順に塗工量が大きくな
る。この方法の長所は、運転技術を要さずに、幅広でも
塗工厚さが均一で、薄膜コーティング出来ることにあ
る。一方で(1)塗工剤の転移率は浅いセルでは極めて
少なく約50%が最大である。(2)塗工剤の転移機構
より深いセルでは塗工剤のメスニカスはセルの中心が凹
み、セルの壁に沿って塗工剤が付着した形をしているた
め、被塗物に塗工した後の塗膜には中心が抜けてドーナ
ツ状の環として現れる、などの短所も挙げられる。
In the gravure coater method, a gravure roll,
The gravure roll, which is composed of a backup roll and an adjustment roll, and is immersed in the liquid tank, has its surface engraved with irregularities.The coating liquid adhering to the projections is scraped off with a doctor blade, This is a method in which a coating solution is measured and transferred to a support, and the amount of coating is adjusted according to the shape, depth, mesh, and solid content concentration of the gravure cell. Factors affecting the transfer of the coating agent from the gravure cell to the substrate are viscosity and surface tension. The cell shape is a pyramid type, a lattice type, or a diagonal line type, and the coating amount increases in the order of pyramid type <lattice type <diagonal line type. The advantage of this method is that the coating thickness is uniform even when it is wide, and a thin film coating can be performed without any operation technique. On the other hand, (1) the transfer rate of the coating agent is extremely small in a shallow cell, and is about 50% at the maximum. (2) Transfer mechanism of the coating agent In cells deeper than the cell, the coating of Mesnicus has a shape in which the center of the cell is recessed and the coating agent adheres along the cell wall. There are also disadvantages such as that the coated film after removal has a center and appears as a donut-shaped ring.

【0027】ロッドコータ法では、正回転のアプリケー
タロールで支持体に塗工液を転移してから、外径6〜1
0mmくらいのロッドの周りに0.1〜0.8mmぐら
いの太さのピアノ線またはステンレス線を密に巻いたも
ので、過剰の塗液を削り落として計量する方式であり、
この方式では、ロッド上の支持体の張力を一定に保つこ
とが安定した塗工量を得るために重要である。したがっ
て、支持体の幅方向に張力の差があると左右の塗工量に
差ができる。ロッド前後の押さえローラー間は距離的に
出来るだけ近づけ、この部分での支持体のシワやたるみ
を発生させないようにしないと、走行方向に筋が生じる
という欠点がある。
In the rod coater method, the coating liquid is transferred to the support with a forward rotating applicator roll, and then the outer diameter is 6 to 1 mm.
It is a system in which a piano wire or stainless steel wire of about 0.1 to 0.8 mm thickness is densely wound around a rod of about 0 mm, and the excess coating liquid is shaved off and weighed.
In this method, it is important to keep the tension of the support on the rod constant to obtain a stable coating amount. Therefore, if there is a difference in tension in the width direction of the support, there is a difference between the left and right coating amounts. If the distance between the pressing rollers before and after the rod is as short as possible in order to prevent wrinkles and sagging of the support at this portion, there is a drawback that a streak occurs in the running direction.

【0028】ブレードコータ法では、パンにバターを塗
るときの様に、ブレードによって塗工剤を計量し、平坦
化する方法である。塗工量に影響を与える因子として
は、ブレードの厚さ、ブレードの圧力、ブレードの切線
との角度、ブレードの圧着部の長さ、ブレードの斜角、
塗工剤の粘弾性、塗工速度などである。
In the blade coater method, a coating agent is measured by a blade and flattened, as when butter is applied to bread. Factors that affect the coating amount include blade thickness, blade pressure, angle with blade cutting line, length of blade crimping section, blade bevel,
The viscoelasticity of the coating agent, the coating speed, and the like.

【0029】また、バックアップロールの上部に垂直に
ナイフを設置し、ロールによって搬送される支持体とナ
イフエッジとの間隙により塗工厚さを計量するナイフコ
ータでは、塗工量の決定要因としては、支持体とナイフ
エッジの間隙、塗工速度、塗工剤粘度、塗工液溜めの支
持体への圧力、ナイフエッジの形状などが挙げられる。
In a knife coater in which a knife is installed vertically above a backup roll and the coating thickness is measured by the gap between the knife edge and the support conveyed by the roll, the factors determining the coating amount are as follows. Examples include the gap between the support and the knife edge, the coating speed, the viscosity of the coating agent, the pressure of the coating liquid reservoir on the support, the shape of the knife edge, and the like.

【0030】ダイコート(押し出し)法とは、ホッパー
などに溜められた溶液を、ポンプ圧力によりダイから押
し出しフィルム表面に塗布する方法である。ダイコート
法では通常供給された塗布液のすべてが再循環すること
なくフィルム上に塗布される。よって塗布量はポンプ送
出量とラインスピードによって決定される。また、非常
に低い粘度の塗布液を用いる場合は、幅方向で十分なダ
イ内部圧が得られず、塗工量が不均一になる場合がある
が、その際にはフィード部分のオリフィスギャップを狭
くすることによりダイ内部圧を均一とすることで対応す
る。また、ダイの先端部分は計量ブレードとして用いら
れ、幅方法の塗布量の均一性を高めている。例えば先端
部分を唇状に丸めたダイコート法は、リップコート法と
も呼ばれているが、塗布量の均一性のみならず良好な塗
布面を得るにはこのようにダイの先端部分に工夫を凝ら
したものが好ましく用いられる。ダイコート(押し出
し)法の長所としては、高速塗工、高生産性、塗工厚さ
の均一性、広範囲に塗装が出来る、などが挙げられ、短
所としては、生産量が少ないときには、スタート時や幅
変更時のロスがやや多くなることなどがある。
The die coating (extrusion) method is a method in which a solution stored in a hopper or the like is extruded from a die by a pump pressure and applied to a film surface. In the die coating method, all of the supplied coating liquid is usually coated on the film without recirculation. Therefore, the application amount is determined by the pump delivery amount and the line speed. In addition, when a coating liquid having a very low viscosity is used, a sufficient die internal pressure cannot be obtained in the width direction, and the coating amount may be non-uniform. This is addressed by making the internal pressure of the die uniform by making it narrower. The tip of the die is used as a measuring blade to increase the uniformity of the coating amount in the width method. For example, the die coating method in which the tip is rounded in the shape of a lip is also called the lip coating method, but in order to obtain a good coating surface as well as uniformity of the coating amount, devising the tip of the die in this way Are preferably used. The advantages of the die coating (extrusion) method include high-speed coating, high productivity, uniform coating thickness, and the ability to apply a wide range of coatings. Loss when changing the width may be slightly increased.

【0031】上記の他にも種々の塗布方法が考えられる
が、本発明の要求を満たす塗工法としては、塗工時のゲ
ル化によるブツの発生も考慮すると、ダイコート法が、
中でもリップコート法の使用が好ましい。
Various coating methods other than those described above are conceivable. As a coating method that satisfies the requirements of the present invention, the die coating method is considered in consideration of occurrence of bumps due to gelation during coating.
Among them, the use of the lip coating method is preferred.

【0032】該反射シートの反射層は、凹凸層上に形成
される4層からなるものである。凹凸層側からの第1層
は下地層(A)、第2層は銀層(B)、第3層は銀を主
体とする合金の金属層(C)、第4層は珪素酸化物層
(D)である。
The reflection layer of the reflection sheet is composed of four layers formed on the uneven layer. The first layer from the uneven layer side is a base layer (A), the second layer is a silver layer (B), the third layer is a metal layer (C) of an alloy mainly composed of silver, and the fourth layer is a silicon oxide layer. (D).

【0033】第1層の下地層(A)には、金、銅、ニッ
ケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タン
タル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジ
ウムなどの金属単体、または、酸化アルミニウムが0〜
5重量%ドープされた酸化亜鉛もしくはインジウムとス
ズの酸化物(ITO)などの透明酸化物が好ましく用い
られる。
The first underlayer (A) is made of a single metal such as gold, copper, nickel, iron, cobalt, tungsten, molybdenum, tantalum, chromium, indium, manganese, titanium, palladium, or aluminum oxide. 0 to
A transparent oxide such as zinc oxide or an oxide of indium and tin (ITO) doped with 5% by weight is preferably used.

【0034】第2層の銀層(B)には、基本的には銀単
体であることが望ましいが、その性能に害を及ぼさない
程度の金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステ
ン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マン
ガン、チタン、パラジウムなどの金属不純物が含まれて
も良い。
It is desirable that the second silver layer (B) is basically silver alone, but gold, copper, nickel, iron, cobalt, tungsten, molybdenum which does not impair the performance of the silver layer (B). And metal impurities such as tantalum, chromium, indium, manganese, titanium, and palladium.

【0035】第3層(C)の銀を主体とする合金の金属
層には、銀に対し銅及びパラジウムが合わせて2重量%
以下の範囲で含有している合金が好ましく用いられる。
In the third layer (C), the metal layer of an alloy mainly composed of silver contains 2% by weight of copper and palladium in total with respect to silver.
An alloy containing the following range is preferably used.

【0036】第4層の珪素酸化物層(D)には、通常、
一般的な珪素酸化物である二酸化珪素を用いることが好
ましいが、酸素の数が必ずしも2で有る必要はなく、例
えば1.8であるという場合でもなんら問題ない。
The fourth silicon oxide layer (D) usually has
Although it is preferable to use silicon dioxide which is a general silicon oxide, the number of oxygen does not necessarily have to be 2, and there is no problem even when the number is, for example, 1.8.

【0037】金属薄膜層の形成法は、湿式法及び乾式法
がある。湿式法とはメッキ法の総称であり、溶液から金
属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげる
とすれば、銀鏡反応などがある。一方、乾式法とは、真
空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵
抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イ
オンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着
法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続
的に成膜するロール・ツー・ロール方式が可能な真空成
膜法が好ましく用いられる。
The metal thin film layer can be formed by a wet method or a dry method. The wet method is a general term for the plating method, and is a method of depositing a metal from a solution to form a film. A specific example is a silver mirror reaction. On the other hand, the dry method is a general term for a vacuum film forming method, and specific examples thereof include a resistance heating type vacuum deposition method, an electron beam heating type vacuum deposition method, an ion plating method, and an ion beam assisted vacuum deposition method. And a sputtering method. In particular, in the present invention, a vacuum film forming method capable of a roll-to-roll method for continuously forming a film is preferably used.

【0038】真空蒸着法では、金属の原材料を電子ビー
ム、抵抗加熱、誘導加熱などで溶融させ、蒸気圧を上昇
させ、好ましくは13.3mPa(0.1mTorr)
以下で基材表面に蒸発させる。この際に、アルゴンなど
のガスを13.3mPa以上導入させ、高周波もしくは
直流のグロー放電を起こしても良い。
In the vacuum deposition method, a raw material of a metal is melted by electron beam, resistance heating, induction heating, or the like, and the vapor pressure is increased, preferably 13.3 mPa (0.1 mTorr).
It is evaporated on the substrate surface below. At this time, a gas such as argon may be introduced at 13.3 mPa or more to cause high frequency or direct current glow discharge.

【0039】スパッタ法には、DCマグネトロンスパッ
タ法、RFマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパ
ッタ法、ECRスパッタ法、コンベンショナルRFスパ
ッタ法、コンベンショナルDCスパッタ法などを使用し
うる。スパッタ法においては、原材料は金属の板状のタ
ーゲットを用いればよく、スパッタガスにはヘリウム、
ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなどを使用し
うるが、好ましくはアルゴンが用いられる。ガスの純度
は99%以上が好ましいが、より好ましくは99.5%
以上である。また、透明酸化膜の形成には、真空成膜法
が好ましく用いられる。主に、スパッタ法が使用され、
スパッタガスには、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリ
プトン、キセノンなどを使用し、場合においては酸素ガ
スを用いて行うこともある。
As the sputtering method, a DC magnetron sputtering method, an RF magnetron sputtering method, an ion beam sputtering method, an ECR sputtering method, a conventional RF sputtering method, a conventional DC sputtering method, or the like can be used. In the sputtering method, a metal plate-shaped target may be used as a raw material, and helium,
Neon, argon, krypton, xenon and the like may be used, but preferably argon is used. The purity of the gas is preferably 99% or more, more preferably 99.5%.
That is all. In addition, a vacuum film formation method is preferably used for forming the transparent oxide film. Mainly, the sputtering method is used,
Helium, neon, argon, krypton, xenon, or the like is used as a sputtering gas, and in some cases, oxygen gas may be used.

【0040】基材高分子フィルム上に成形する薄膜の厚
さは、反射シートとした際に光線透過率が1%未満にな
るように考慮して決められる。
The thickness of the thin film formed on the base polymer film is determined in consideration of a light transmittance of less than 1% when the reflection sheet is used.

【0041】第1層である下地層において、金属層を用
いた場合、その厚みは、5〜50nmが好ましく、より
好ましくは5〜30nmである。該層の厚みが5nmよ
り薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、第2層
の銀層に凝集を発生させる。また、50nmより厚くし
てもその効果に変化が無いばかりか、資源を有効に利用
するという観点からも好ましくない。また、透明酸化物
を用いた場合、該層の厚みは、1〜20nmが好まし
く、さらに好ましくは、5〜10nmである。かかる層
の厚みが1nmより薄い場合は、所望のバリヤー効果が
得られず、第2層の銀層に凝集を発生させる。
In the case where a metal layer is used as the first underlayer, the thickness is preferably 5 to 50 nm, more preferably 5 to 30 nm. When the thickness of the layer is smaller than 5 nm, the desired barrier effect cannot be obtained, and the silver layer of the second layer causes aggregation. Further, even if the thickness is more than 50 nm, not only the effect is not changed but also it is not preferable from the viewpoint of effective use of resources. When a transparent oxide is used, the thickness of the layer is preferably 1 to 20 nm, more preferably 5 to 10 nm. When the thickness of such a layer is smaller than 1 nm, a desired barrier effect cannot be obtained, and aggregation occurs in the silver layer of the second layer.

【0042】第2層である銀層の厚みは、70〜400
nmが好ましく、より好ましくは100〜300nm、
さらに好ましくは150〜250nmである。かかる層
の厚みが70nmより薄い場合は、十分な金属層の形成
が出来ていないため、所望の反射率を得ることが出来な
い。また、400nmよりも厚くしてもその効果に変化
が無いばかりか、資源を有効に利用するという観点から
も好ましくない。
The silver layer as the second layer has a thickness of 70 to 400.
nm, more preferably 100 to 300 nm,
More preferably, it is 150 to 250 nm. When the thickness of such a layer is smaller than 70 nm, a sufficient reflectance cannot be obtained because a sufficient metal layer cannot be formed. Further, even if the thickness is more than 400 nm, not only the effect does not change but also it is not preferable from the viewpoint of effective use of resources.

【0043】第3層である銀を主体とする合金の金属層
の厚みは、5〜40nmが好ましい。かかる層の厚みが
5nmよりも薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られ
ず、また、40nmより厚い場合は第2層である銀層の
特性がでなくなってしまい好ましくない。
The thickness of the third layer of the metal layer mainly composed of silver is preferably 5 to 40 nm. If the thickness of such a layer is smaller than 5 nm, the desired barrier effect cannot be obtained, and if it is larger than 40 nm, the characteristics of the silver layer as the second layer are undesirably lost.

【0044】第4層である珪素酸化物層の厚みは、1〜
10nmが好ましく、より好ましくは1〜7nm、さら
に好ましくは1〜5nmである。かかる層の厚みが1n
mより薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、第
2層の銀層に凝集を発生させる。また、10nmより厚
くしてもその効果に変化が無いばかりか、資源を有効に
利用するという観点からも好ましくない。
The thickness of the fourth silicon oxide layer is 1 to
It is preferably 10 nm, more preferably 1 to 7 nm, and still more preferably 1 to 5 nm. The thickness of such a layer is 1n
When the thickness is smaller than m, a desired barrier effect cannot be obtained, and aggregation occurs in the second silver layer. Further, even if the thickness is more than 10 nm, the effect is not changed, and it is not preferable from the viewpoint of effective use of resources.

【0045】前記各層の膜厚の測定方法としては、触針
粗さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、水晶
振動子法などを用いる方法があり、特に水晶振動子法で
は成膜中に膜厚が測定可能であるため所望の膜厚を得る
のに適している。また、前もって成膜の条件を定めてお
き、試料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜厚の関係を
調べた上で、成膜時間により膜厚を制御する方法もあ
る。
As a method of measuring the film thickness of each layer, there are a method using a stylus roughness meter, a repetitive reflection interferometer, a microbalance, a quartz oscillator method, and the like. Since the thickness can be measured, it is suitable for obtaining a desired film thickness. There is also a method in which the conditions for film formation are determined in advance, a film is formed on a sample substrate, the relationship between the film formation time and the film thickness is examined, and the film thickness is controlled by the film formation time.

【0046】上記のように形成した反射シートを、第4
層側から反射率を測定すると、波長550nmにおい
て、通常85〜99%である。より好ましくは90〜9
9%である。反射率が85%より低いと、バックライト
ユニットに組み込んだ際に、得られる輝度が低くなり好
ましくない。一方ここでは、反射率の上限を99%とし
たが、反射率は高いほど好ましく、さらに高屈折率と低
屈折率の薄膜を交互に積層して増反射膜を形成するなど
して99%を超える反射率を実現することはコストとの
兼ね合いもあるが性能的には非常に好ましいといえる。
The reflecting sheet formed as described above is
When the reflectance is measured from the layer side, it is usually 85 to 99% at a wavelength of 550 nm. More preferably 90 to 9
9%. If the reflectivity is lower than 85%, the resulting luminance is undesirably low when incorporated in a backlight unit. On the other hand, here, the upper limit of the reflectivity is set to 99%, but the higher the reflectivity is, the more preferable it is. Achieving a reflectance higher than that has a trade-off with cost, but can be said to be very preferable in terms of performance.

【0047】上記のように成形した反射シートの輝度の
半価角度は10〜40°になる。半価角度が10°より
小さくなると、反射シートの鏡面性が強くなり、拡散成
分が不足し、通常の銀反射シートと同様に光の指向性が
強くなり、たわみ時に暗転部を発生する。また、40°
を超える場合は、光が分散しすぎて、全体としての輝度
が低下するため好ましくない。また、該反射シートを分
光光度計を用いて、反射層から反射層側からの全反射率
及び拡散反射率の測定を行なうと、全反射率に対する拡
散反射率の割合(反射ヘイズ値)は、通常5〜50%に
なる。この値が、5%より小さくなると、入射光に対す
る正反射分が強すぎ、本発明における課題の解決に至ら
ない。また、50%より大きくなると、全体としての明
るさが十分得られないので好ましくない。
The half-value angle of luminance of the reflection sheet formed as described above is 10 to 40 °. When the half-value angle is smaller than 10 °, the specularity of the reflection sheet becomes strong, the diffusion component becomes insufficient, the directivity of light becomes strong similarly to a normal silver reflection sheet, and a dark portion occurs at the time of bending. Also, 40 °
When the value is more than 1, the light is excessively dispersed and the luminance as a whole decreases, which is not preferable. When the reflection sheet is measured for the total reflectance and the diffuse reflectance from the reflective layer side to the reflective layer side using a spectrophotometer, the ratio of the diffuse reflectance to the total reflectance (reflection haze value) is: Usually, it becomes 5 to 50%. If this value is less than 5%, the amount of specular reflection with respect to incident light is too strong, and the problem in the present invention cannot be solved. On the other hand, if it is larger than 50%, it is not preferable because sufficient brightness cannot be obtained as a whole.

【0048】[0048]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。
The present invention will be described below in detail with reference to examples.

【実施例1】平均粒子が5μmであるアクリル系樹脂
(根上工業(株)製、品名:アートパール)と、バイン
ダーとしてアクリル系樹脂(三井化学(株)製、品名:
アルマテックスE269)(共に密度1.2g/c
3)を、トルエンとエチルメチルケトンからなる溶剤
を用いて、固形分比35%、固形分中の粒子の割合を3
7.0体積%とした溶液を調合した。粘度は38cps
であった。これらの物性値を式(1)に代入することに
より、塗布重量範囲を計算したところ3.6(g/
2)≦塗布量(g/m2)≦10.8(g/m2)とな
ったため、ドライ塗布量が8.5g/m2となるように
ポンプ圧力とラインスピードを調整し、厚さ50μmの
ポリエチレンテレフタラート(PET)フィルムの上
に、リップコート法にて塗布を行った。この際、ブツに
よる筋は観察されず、良好な塗布面が得られた。できた
シートに、DCマグネトロンスパッタ法で、2%のAl
23がドープされた酸化亜鉛(純度99.9%)をター
ゲットとし、純度99.5%のアルゴンをスパッタガス
として、酸化亜鉛を膜厚5nmになるように形成した。
続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことな
く、同様にDCマグネトロンスパッタ法で、純度99.
9%の銀をターゲットととし、純度99.5%のアルゴ
ンをスパッタガスとして銀を膜厚200nmになるよう
に成形した。続いて、このシートをスパッタ装置から取
り出すことなく、DCマグネトロンスパッタ法にて純度
99.9%のAPC2%(Agに対し、PdとCuが合
計で2重量%配合された合金)をターゲットとし、純度
99.5%のアルゴンをスパッタガスとして、APC2
%が膜厚8nmになるように成形した。続いて、このシ
ートをスパッタ装置からと取り出すことなく、RFマグ
ネトロンスパッタ法にて純度99.9%のSiO2をタ
ーゲットとし、純度99.5%のアルゴンをスパッタガ
スとして、SiO2を膜厚5nmになるように成形し、
図1に示すような所望の反射シートを得た。次にアクリ
ル系樹脂を離型処理した金属金型に注入し、100℃で
2時間加熱後、さらに150℃で3時間加熱して硬化処
理後、徐々に冷却し、195mm×150mmで入射面
の厚さが5mm、出射面は平坦で、底面には平均表面粗
さ200μmの、凹部の深さが20μmの凹凸面を持つ導
光板を得た。次に、金属製のカバーの上に得られた反射
シートを導光板に見合うサイズにカットしたものを配置
し、その上に導光板をセットした。さらに、導光板の入
射面に直径3mmの冷陰極管を配置し、それを銀を蒸着
したポリエステルフィルムからなるランプリフレクター
により包囲し、図2の様な面光源装置を得た。この状態
で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度
を測定するとともに、面の輝度ムラについて観察した。
次に、反射シートの上部を故意にたわませた状態で、面
光源装置にセットし同様の観測を行った。結果を表1に
示す。
Example 1 Acrylic resin having an average particle size of 5 μm
(Made by Negami Industry Co., Ltd., product name: Art Pearl) and Vine
Acrylic resin (made by Mitsui Chemicals, Inc., product name:
Armatex E269) (both density 1.2g / c
mThree) Is a solvent consisting of toluene and ethyl methyl ketone
, The solid content ratio was 35%, and the ratio of particles in the solid content was 3%.
A solution with a volume of 7.0% by volume was prepared. Viscosity is 38 cps
Met. Substituting these physical property values into equation (1)
As a result, the application weight range was calculated to be 3.6 (g /
m Two) ≦ coating amount (g / mTwo) ≦ 10.8 (g / mTwo) And
The dry coating amount was 8.5 g / mTwoSo that
Adjust the pump pressure and line speed,
On polyethylene terephthalate (PET) film
Was applied by a lip coating method. At this time,
No streaks were observed, and a good coated surface was obtained. did it
2% Al on the sheet by DC magnetron sputtering
TwoOThreeZinc oxide (purity 99.9%) doped with
Get 99.5% pure argon as sputtering gas
Was formed so as to have a thickness of 5 nm.
Next, do not remove this sheet from the sputtering device.
Similarly, a purity of 99.99% was obtained by DC magnetron sputtering.
99.5% pure algo targeting 9% silver
Silver to a film thickness of 200 nm using
Molded. Then, remove this sheet from the sputtering device.
Purity by DC magnetron sputtering method
99.9% APC 2% (Pd and Cu combined with Ag
2% by weight in total)
APC2 using 99.5% argon as a sputtering gas
% Was formed to a film thickness of 8 nm. Next, this
RF magnet without removing the sheet from the sputtering equipment
99.9% pure SiO by netron sputteringTwoThe
And a sputter gas of 99.5% purity argon.
SiO2TwoIs formed to a film thickness of 5 nm,
A desired reflection sheet as shown in FIG. 1 was obtained. Next
Mold into a metal mold that has been released
After heating for 2 hours, it is further heated at 150 ° C. for 3 hours to cure.
After processing, gradually cool and enter the 195 mm x 150 mm entrance surface
5 mm thick, the exit surface is flat, and the bottom surface has an average surface roughness
Conductor with a concave and convex surface with a depth of 200 μm and a concave depth of 20 μm
A light plate was obtained. Next, the reflection obtained on the metal cover
Arranged sheets cut to size suitable for light guide plate
Then, a light guide plate was set thereon. In addition, the light guide plate
Place a 3mm diameter cold cathode tube on the firing surface and deposit silver on it
Lamp reflector made of polished polyester film
To obtain a surface light source device as shown in FIG. This state
The light source is turned on, and the brightness obtained in the front direction at the center of the surface
Was measured, and the luminance unevenness of the surface was observed.
Next, with the top of the reflective sheet flexed intentionally,
The same observation was performed by setting the light source device. Table 1 shows the results
Show.

【比較例1】反射シートに、厚さ50μmのPETフィ
ルムに銀を、DCマグネトロンスパッタ法で、純度9
9.9%の銀をターゲットととし、純度99.5%のア
ルゴンをスパッタガスとして銀を膜厚200nmになる
ように成形したものを使用したこと以外は、実施例1に
準じて液晶表示装置を作成した。続いて、実施例1と同
様の観測を行った。結果を表1に示す。
[Comparative Example 1] A reflective sheet was made of a PET film having a thickness of 50 µm, and silver was purified by DC magnetron sputtering to a purity of 9%.
A liquid crystal display device according to Example 1, except that 9.9% silver was used as a target, and silver was molded to a thickness of 200 nm using argon having a purity of 99.5% as a sputtering gas. It was created. Subsequently, the same observation as in Example 1 was performed. Table 1 shows the results.

【実施例2】固形分中の粒子の割合を10%としたこと
以外は、実施例1に準じて溶液を調合した。式(1)に
より塗布量範囲を計算したところ、3.6(g/m2)
≦塗布量(g/m2)≦10.8(g/m2)となった
が、ドライ塗布量を5.0g/m2とし、以下実施例1
に準じて粒子層の塗布、及び反射層の形成を行なった。
得られた反射体を、日立自記分光光度計(型式U−34
00)に150φの積分球を設置し、波長550nmに
おける全反射率、拡散反射率測定を行なったところ、反
射率93.5%、拡散反射率15.6%を得た。この値
から計算される反射ヘイズは16.7%であった。得ら
れた反射シートを、実施例1と同様に面光源装置に組み
込み反射輝度の測定を行なった。結果を表1に示す。
Example 2 A solution was prepared according to Example 1, except that the ratio of the particles in the solid content was 10%. When the coating amount range was calculated by the equation (1), 3.6 (g / m2)
≦ coating amount (g / m2) ≦ 10.8 (g / m2), but the dry coating amount was set to 5.0 g / m2.
The coating of the particle layer and the formation of the reflection layer were performed according to the method described in Example 1.
The obtained reflector was used as a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-34).
At 00), an integrating sphere of 150φ was installed, and the total reflectance and diffuse reflectance at a wavelength of 550 nm were measured. As a result, a reflectance of 93.5% and a diffuse reflectance of 15.6% were obtained. The reflection haze calculated from this value was 16.7%. The obtained reflection sheet was incorporated in a surface light source device in the same manner as in Example 1, and the reflection luminance was measured. Table 1 shows the results.

【0049】[0049]

【表1】 [Table 1]

【0050】[0050]

【発明の効果】本発明の面光源装置は、液晶表示装置に
組み込んだ場合、該反射シートの優れた反射率により、
液晶画面において非常に高い輝度を得られると共に、該
反射シートのたわみにより発生する輝度の低下した黒い
部分の発生も起きないことから、液晶の表示能力を向上
させることができ、本発明の工業的意義は大きい。
According to the surface light source device of the present invention, when incorporated in a liquid crystal display device, the excellent reflectivity of the reflection sheet enables
Since a very high luminance can be obtained in the liquid crystal screen and the occurrence of a black portion with reduced luminance caused by the bending of the reflection sheet does not occur, the display capability of the liquid crystal can be improved, and the industrial The significance is great.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に於ける反射シートの一例を示す断面
FIG. 1 is a sectional view showing an example of a reflection sheet according to the present invention.

【図2】 本発明の面光源装置の一例FIG. 2 shows an example of the surface light source device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 反射層 20 凹凸層 30 高分子フィルム 40 冷陰極管 50 ランプリフレクター 60 導光板 70 反射シート DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Reflective layer 20 Concavo-convex layer 30 Polymer film 40 Cold cathode tube 50 Lamp reflector 60 Light guide plate 70 Reflection sheet

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/13357 G02F 1/13357 // F21Y 103:00 F21Y 103:00 Fターム(参考) 2H042 BA02 BA04 BA20 DA03 DA05 DA06 DA07 DA08 DA11 DC02 DC03 DC08 DE00 2H091 FA14Z FA23Z FA41Z FA42Z FB02 FB08 FC22 FC25 KA10 LA16 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G02F 1/13357 G02F 1/13357 // F21Y 103: 00 F21Y 103: 00 F-term (Reference) 2H042 BA02 BA04 BA20 DA03 DA05 DA06 DA07 DA08 DA11 DC02 DC03 DC08 DE00 2H091 FA14Z FA23Z FA41Z FA42Z FB02 FB08 FC22 FC25 KA10 LA16

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 側面に光源を有し、導光板及びその下面
に配置された反射シートからなる面光源装置において、
該反射シートが、基材上に平均粒径が1μm以上15μ
m以下であるような粒子をバインダーとともに塗布する
ことにより得られる凹凸層面に、金属層を形成すること
により得られる反射シートを用いることを特徴とする面
光源装置。
1. A surface light source device having a light source on a side surface and comprising a light guide plate and a reflection sheet disposed on a lower surface thereof.
The reflective sheet has an average particle size of 1 μm or more and 15 μm on a substrate.
m. A surface light source device characterized by using a reflective sheet obtained by forming a metal layer on the uneven layer surface obtained by applying particles having a particle size of m or less together with a binder.
【請求項2】 該反射シートの凹凸面を形成する際、粒
子とバインダーの割合が、形成される凹凸層の体積に対
し、粒子の体積が5〜52体積%の割合になるように配
合され、かつ、該凹凸層の乾燥重量(g/cm2)が下
記式(1)の条件を満足する反射シートであることを特
徴とする請求項1記載の面光源装置。 式(1):0.6×2r×102/(p/a+(100
−p)/b)≦重量(g/cm2)≦2.5×2r×1
2/(p/a+(100−p)/b) 〔但し、p=100/(1+(100/v―1)×b/
a)〕であり、 r:使用した微細粒子の半径の平均値(cm) p:凹凸層中の微細粒子の割合(重量%) v:凹凸層中の微細粒子の割合(体積%) a:用いた微細粒子の密度(g/cm3) b:用いたバインダーの密度(g/cm3
2. When forming the uneven surface of the reflection sheet, the ratio of the particles and the binder is blended so that the volume of the particles is 5 to 52% by volume with respect to the volume of the formed uneven layer. 2. The surface light source device according to claim 1, wherein the reflection sheet satisfies the condition of the following expression (1), and the dry weight (g / cm 2 ) of the uneven layer is: Formula (1): 0.6 × 2r × 10 2 / (p / a + (100
-P) / b) ≦ weight (g / cm 2 ) ≦ 2.5 × 2r × 1
0 2 / (p / a + (100−p) / b) [However, p = 100 / (1+ (100 / v−1) × b /
a)], r: average value of the radius of the fine particles used (cm) p: ratio of fine particles in the uneven layer (% by weight) v: ratio of fine particles in the uneven layer (% by volume) a: Density of used fine particles (g / cm 3 ) b: Density of used binder (g / cm 3 )
【請求項3】 該反射シートの金属層側から測定した5
50nmにおける反射率が、85〜99%であることを
特徴とする請求項1及び2記載の面光源装置。
3. The reflection sheet measured from the metal layer side of the reflection sheet.
3. The surface light source device according to claim 1, wherein the reflectance at 50 nm is 85 to 99%.
【請求項4】 該反射シートの反射輝度の半価角度が、
10°〜40°であることを特徴とする請求項1〜3の
いずれかに記載の面光源装置。
4. A half-value angle of reflection luminance of the reflection sheet is:
The surface light source device according to any one of claims 1 to 3, wherein the angle is 10 ° to 40 °.
【請求項5】 該反射シートの反射層の構成が、下地層
(A)、銀層(B)、銀を主体とする合金の金属層
(C)、珪素酸化物層(D)をABCDの順に有するこ
とを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の面光源
装置。
5. The reflection layer of the reflection sheet is composed of an underlayer (A), a silver layer (B), a metal layer (C) of an alloy mainly composed of silver and a silicon oxide layer (D) of ABCD. The surface light source device according to claim 1, wherein the surface light source device is provided in order.
【請求項6】 該反射シートの凹凸層を形成する粒子
が、アクリル系粒子であることを特徴とする請求項1〜
5のいずれかに記載の面光源装置。
6. The particles forming the uneven layer of the reflection sheet are acrylic particles.
5. The surface light source device according to any one of 5.
【請求項7】 該反射シートの凹凸層を形成するバイン
ダーが、アクリル系樹脂であることを特徴とする請求項
1〜6のいずれかに記載の面光源装置。
7. The surface light source device according to claim 1, wherein the binder forming the uneven layer of the reflection sheet is an acrylic resin.
【請求項8】 該反射シートの反射層における下地層
(A)が、金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングス
テン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マ
ンガン、チタン、もしくは、パラジウムからなる厚さ5
〜50nmの金属層、または、酸化アルミニウムが0〜
5重量%ドープされた酸化亜鉛、または、インジウムと
スズの酸化物(ITO)からなる厚さ1〜20nmの透
明酸化物層であることを特徴とする請求項1〜7のいず
れかに記載の面光源装置。
8. A thickness in which a base layer (A) in the reflection layer of the reflection sheet is made of gold, copper, nickel, iron, cobalt, tungsten, molybdenum, tantalum, chromium, indium, manganese, titanium, or palladium. 5
0 to 50 nm metal layer or aluminum oxide
8. A transparent oxide layer having a thickness of 1 to 20 nm made of zinc oxide doped with 5% by weight or an oxide of indium and tin (ITO). Surface light source device.
【請求項9】 該反射シートの反射層における銀層
(B)の厚みが、70〜400nmであることを特徴と
する請求項1〜8のいずれかに記載の面光源装置。
9. The surface light source device according to claim 1, wherein the thickness of the silver layer (B) in the reflection layer of the reflection sheet is 70 to 400 nm.
【請求項10】 該反射シートの反射層における銀を主
体とする合金の金属層(C)が、銀に対し銅とパラジウ
ムをあわせて0.001〜2重量%含有している合金か
らなる層であり、該金属層の膜厚が、5〜40nmであ
ることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の面
光源装置。
10. The reflective layer of the reflective sheet, wherein the metal layer (C) of an alloy mainly composed of silver is a layer made of an alloy containing 0.001 to 2% by weight of silver and copper and palladium in total. 10. The surface light source device according to claim 1, wherein the metal layer has a thickness of 5 to 40 nm.
【請求項11】 該反射シートの反射層における珪素酸
化物層(F)の厚みが、1〜50nmであることを特徴
とする請求項1〜10のいずれかに記載の面光源装置。
11. The surface light source device according to claim 1, wherein the thickness of the silicon oxide layer (F) in the reflection layer of the reflection sheet is 1 to 50 nm.
【請求項12】 該反射シートの波長550nmにおけ
る全反射率に対する拡散反射率の割合(反射のヘイズ
値)が5〜50%であることを特徴とする請求項1〜1
1の何れかに記載の面光源装置。
12. The reflection sheet according to claim 1, wherein the ratio of the diffuse reflectance to the total reflectance at a wavelength of 550 nm (haze value of reflection) is 5 to 50%.
2. The surface light source device according to claim 1.
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