JP2002094882A - Mos solid-state image pickup device and method for driving the same - Google Patents
Mos solid-state image pickup device and method for driving the sameInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は固体撮像装置及び
その駆動方法に関するものであり、更に詳しくはマトリ
ックス状に配列された光電変換セルの回路構成と読み出
し方法の部分に特徴を持たせたMOS型固体撮像装置で
あり、特に被写体の移動情報を容易に取得するのに適し
たMOS型固体撮像装置と、その駆動方法に関するもの
である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a solid-state image pickup device and a method of driving the same, and more particularly, to a MOS type device having a circuit configuration of photoelectric conversion cells arranged in a matrix and a readout method. The present invention relates to a solid-state imaging device, particularly a MOS-type solid-state imaging device suitable for easily acquiring movement information of a subject, and a driving method thereof.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、被写体の移動情報を得る方法
としてMOS型固体撮像装置が一般的に使用されて来て
いる。2. Description of the Related Art Conventionally, a MOS type solid-state imaging device has been generally used as a method for obtaining movement information of a subject.
【0003】図4は従来のMOS型固体撮像装置の回路
図である。また図5は図4に示すMOS型固体撮像装置
の、マトリックス状に配列された光電変換セルの構成を
示す図で、図6は、図4のMOS型固体撮像装置に照射
された画像データを読み出すための信号タイミング図
で、さらに図7は図4のMOS型固体撮像装置に照射さ
れた画像データを読み出して被写体の移動情報を得るた
めのシステムブロック図ある。FIG. 4 is a circuit diagram of a conventional MOS type solid-state imaging device. FIG. 5 is a diagram showing a configuration of photoelectric conversion cells arranged in a matrix of the MOS solid-state imaging device shown in FIG. 4. FIG. 6 is a diagram showing image data irradiated to the MOS solid-state imaging device shown in FIG. FIG. 7 is a system block diagram for reading out image data applied to the MOS solid-state imaging device in FIG. 4 and obtaining movement information of a subject.
【0004】先ず図4を用いて、従来のMOS型固体撮
像装置の構成について説明する。First, the configuration of a conventional MOS type solid-state imaging device will be described with reference to FIG.
【0005】MOS型固体撮像装置111は、マトリッ
クス状に配列された光電変換セルアレイ113と、この
マトリックス状に配列された光電変換セルアレイ113
の行方向を選択するために光電変換セルアレイ113に
接続された垂直選択回路119と、光電変換セルアレイ
113からの出力データを選択するために光電変換セル
アレイ113に接続された水平選択回路115と、光電
変換セルアレイ113からのデータを読み出すために光
電変換セルアレイ113に接続された負荷回路200
と、さらにこのMOS型固体撮像装置111を制御する
ためにコントロール回路121と出力アンプ123にて
構成され、コントロール回路121は水平選択回路11
5と垂直選択回路119と光電変換セルアレイ113に
接続している。そして水平選択回路115は出力アンプ
123に接続し、光電変換セルアレイ113からの出力
データは順じ出力端子125より出力される。[0005] The MOS type solid-state imaging device 111 has a photoelectric conversion cell array 113 arranged in a matrix and a photoelectric conversion cell array 113 arranged in a matrix.
A vertical selection circuit 119 connected to the photoelectric conversion cell array 113 to select the row direction of the pixel, a horizontal selection circuit 115 connected to the photoelectric conversion cell array 113 to select output data from the photoelectric conversion cell array 113, Load circuit 200 connected to photoelectric conversion cell array 113 to read data from conversion cell array 113
And a control circuit 121 and an output amplifier 123 for controlling the MOS-type solid-state imaging device 111.
5 and the vertical selection circuit 119 and the photoelectric conversion cell array 113. The horizontal selection circuit 115 is connected to the output amplifier 123, and the output data from the photoelectric conversion cell array 113 is sequentially output from the output terminal 125.
【0006】尚、本発明に於ける当該負荷回路200
は、当該光電変換セルアレイに於ける列毎の信号線の端
部に接続されている抵抗アレイを含むものである。Incidentally, the load circuit 200 according to the present invention.
Includes a resistor array connected to an end of a signal line for each column in the photoelectric conversion cell array.
【0007】次に図5を用いてこの光電変換セルアレイ
113を構成する光電変換セル131の構成について説
明する。Next, the configuration of the photoelectric conversion cell 131 constituting the photoelectric conversion cell array 113 will be described with reference to FIG.
【0008】リセット用MOSトランジスタ133のド
レイン端子はリセット電圧端子135として全ての光電
変換セル131で共通に接続され、リセット用MOSト
ランジスタ133のゲート端子はリセット信号端子13
7として全ての光電変換セル131で共通に接続してい
る。そしてリセット用MOSトランジスタ133のソー
ス端子は光電変換素子であるフォトダイオード139の
カソード端子と、第1の寄生容量141の一端と、シャ
ッター用MOSトランジスタ143のソースに接続して
いる。The drain terminal of the reset MOS transistor 133 is commonly connected to all the photoelectric conversion cells 131 as a reset voltage terminal 135, and the gate terminal of the reset MOS transistor 133 is a reset signal terminal 13.
7 is commonly connected to all the photoelectric conversion cells 131. The source terminal of the reset MOS transistor 133 is connected to the cathode terminal of the photodiode 139 serving as a photoelectric conversion element, one end of the first parasitic capacitance 141, and the source of the shutter MOS transistor 143.
【0009】シャッター用MOSトランジスタ143の
ゲート端子はシャッター信号端子145として全ての光
電変換セル131で共通に接続され、シャッター用MO
Sトランジスタ143のドレインは第2の寄生容量14
7の一端とアンプ用MOSトランジスタ149のゲート
端子に接続する。The gate terminal of the shutter MOS transistor 143 is commonly connected to all the photoelectric conversion cells 131 as a shutter signal terminal 145, and the shutter MO
The drain of the S transistor 143 is connected to the second parasitic capacitance 14.
7 is connected to the gate terminal of the amplifier MOS transistor 149.
【0010】アンプ用MOSトランジスタ149のドレ
インは選択用MOSトランジスタ151のソースに接続
し、選択用MOSトランジスタ151のドレインはデー
タ出力端子157としてマトリックス状に配置された光
電変換セル131の列ごとに共通に接続されて、負荷回
路200と水平選択回路115に接続している。The drain of the amplifier MOS transistor 149 is connected to the source of the selection MOS transistor 151, and the drain of the selection MOS transistor 151 is common to the columns of the photoelectric conversion cells 131 arranged in a matrix as the data output terminal 157. And to the load circuit 200 and the horizontal selection circuit 115.
【0011】選択用MOSトランジスタ151のゲート
は垂直選択端子153としてマトリックス状に配置され
た光電変換セル131の行ごとに共通に接続されて垂直
選択回路119に接続している。またリセット用MOS
トランジスタ133のバルクと、シャッター用MOSト
ランジスタ143のバルクと、アンプ用MOSトランジ
スタ149のバルクと、選択用MOSトランジスタ15
1のバルクと、第1の寄生容量141のもう一方の端子
と、第2の寄生容量147のもう一方の端子とフォトダ
イオード139のアノード端子は、全て共通にグランド
端子155に接続している。The gate of the selection MOS transistor 151 is commonly connected as a vertical selection terminal 153 for each row of the photoelectric conversion cells 131 arranged in a matrix, and is connected to the vertical selection circuit 119. Also reset MOS
The bulk of the transistor 133, the bulk of the MOS transistor for shutter 143, the bulk of the MOS transistor for amplifier 149, and the bulk of the selection MOS transistor
1, the other terminal of the first parasitic capacitance 141, the other terminal of the second parasitic capacitance 147, and the anode terminal of the photodiode 139 are all commonly connected to the ground terminal 155.
【0012】次に、図4と図5と図6を用いてこのMO
S型固体撮像装置に照射された被写体の画像データを読
み出す動作について説明する。Next, referring to FIG. 4, FIG. 5, and FIG.
An operation of reading image data of a subject irradiated on the S-type solid-state imaging device will be described.
【0013】図6は、Nフレーム171での画像データ
を取り込むタイミングである。まず全ての光電変換セル
131のリセット信号端子137にリセット時間173
のリセット信号161を入力すると共に、全ての光電変
換セル131のシャッター信号端子145にシャッター
時間175のシャッター信号163を入力する。FIG. 6 shows the timing at which the image data of the N frame 171 is fetched. First, reset time 173 is applied to reset signal terminals 137 of all photoelectric conversion cells 131.
, And the shutter signal 163 of the shutter time 175 is input to the shutter signal terminals 145 of all the photoelectric conversion cells 131.
【0014】この動作により全ての光電変換セル131
に配置される第1の寄生容量141と第2の寄生容量1
47はリセット状態となる。そしてリセット時間173
が終了してからシャッター時間175が終了するまでの
期間にて各光電変換セル131の受光部である各フォト
ダイオード139に照射された画像データは、その入射
光量により第1の寄生容量141と第2の寄生容量14
7に蓄積される。By this operation, all the photoelectric conversion cells 131
The first parasitic capacitance 141 and the second parasitic capacitance 1
47 is in a reset state. And reset time 173
The image data illuminated on each photodiode 139, which is the light receiving section of each photoelectric conversion cell 131, during the period from the end of the shutter period 175 to the end of the shutter time 175, depends on the amount of incident light. 2 parasitic capacitance 14
7 is stored.
【0015】そしてシヤッター信号163のシャッター
時間175が終了すると、シャッター用MOSトランジ
スタ143がオフして被写体の画像データが第2の寄生
容量147に保存される。この第2の寄生容量147の
上部はアルミ等で遮光が施されており画像データとして
の電荷がリークすることは無い。When the shutter time 175 of the shutter signal 163 ends, the shutter MOS transistor 143 turns off, and the image data of the subject is stored in the second parasitic capacitance 147. The upper part of the second parasitic capacitance 147 is shielded from light by aluminum or the like, so that charge as image data does not leak.
【0016】そしてこの第2の寄生容量147に蓄積さ
れた画像データは各光電変換セル131に配置されるア
ンプ用MOSトランジスタ149により増幅され、選択
用MOSトランジスタ151をオンすることにより負荷
回路200に電圧変換され画像データとして読み出すこ
とができる。The image data stored in the second parasitic capacitance 147 is amplified by the amplifier MOS transistor 149 arranged in each photoelectric conversion cell 131, and is turned on by the selection MOS transistor 151 so as to be applied to the load circuit 200. The voltage can be converted and read as image data.
【0017】つまり全ての光電変換セル131に配置さ
れた各々の第2の寄生容量147に蓄積された画像デー
タを読み出すには、シャッター時間175が終了した
後、垂直選択回路119からの垂直アドレス信号167
が光電変換セルアレイ113のある一行の垂直選択端子
153を選択し、これにより選択用MOSトランジスタ
151がオンして負荷回路200に電圧変換された画像
データがデータ出力端子157より出力信号169とし
て出力される。That is, in order to read the image data stored in each of the second parasitic capacitances 147 arranged in all the photoelectric conversion cells 131, the vertical address signal from the vertical selection circuit 119 after the shutter time 175 ends. 167
Selects the vertical selection terminal 153 in one row of the photoelectric conversion cell array 113, thereby turning on the selection MOS transistor 151 and outputting the voltage-converted image data to the load circuit 200 as the output signal 169 from the data output terminal 157. You.
【0018】さらに、ある一行の垂直アドレス信号16
7が選択されている期間に水平選択回路115からの水
平アドレス信号165によりこの行の画像データが順次
出力回路123に送られ、増幅されて出力端子125よ
り出力される。Further, a certain row of vertical address signals 16
7 is selected, the image data of this row is sequentially sent to the output circuit 123 by the horizontal address signal 165 from the horizontal selection circuit 115, amplified, and output from the output terminal 125.
【0019】この様に垂直アドレス信号と水平アドレス
信号を順次光電変換セルアレイ113に入力することに
より、全ての光電変換セル131に配置された各々の第
2の寄生容量147に蓄積された画像データを順次デー
タ出力端子157より出力信号169として得ることが
できる。As described above, by sequentially inputting the vertical address signal and the horizontal address signal to the photoelectric conversion cell array 113, the image data stored in each of the second parasitic capacitances 147 arranged in all the photoelectric conversion cells 131 is converted. It can be obtained as an output signal 169 from the data output terminal 157 sequentially.
【0020】上述の駆動方法にて、全ての光電変換セル
131に蓄積された画像データは1フレーム期間171
にてMOS型固体撮像装置111より出力される。According to the above-described driving method, the image data stored in all the photoelectric conversion cells 131 is stored in one frame period 171.
Are output from the MOS-type solid-state imaging device 111.
【0021】尚、上記した従来のMOSトランジスタ型
固体撮像装置の光電変換セルの回路構成中に寄生容量が
図示されているが、係る寄生容量は、図示した様な構造
が実際に存在するものではなく、図示されている当該寄
生容量が設けられている拡散層間に自然に形成されるも
のと考えられるものである。Although the parasitic capacitance is shown in the circuit configuration of the photoelectric conversion cell of the conventional MOS transistor type solid-state imaging device, the parasitic capacitance does not have a structure as shown in the drawing. Instead, it is considered to be naturally formed between the diffusion layers provided with the parasitic capacitance shown in the figure.
【0022】次にこの従来のMOS型固体撮像装置11
1を用いて被写体の移動情報を得る手段について図7を
用いて説明する。Next, the conventional MOS type solid-state imaging device 11 will be described.
Means for obtaining the movement information of the subject by using 1 will be described with reference to FIG.
【0023】図7においてMOS型固体撮像装置111
の出力端子125をA/D変換回路181に接続し、A
/D変換回路181の出力には第1のメモリ183の入
力と第2のメモリ185の入力を接続する。第1のメモ
リ183の出力と第2のメモリ185の出力には、デー
タ比較回路187を接続する。In FIG. 7, a MOS type solid-state imaging device 111 is shown.
Is connected to the A / D conversion circuit 181,
The input of the first memory 183 and the input of the second memory 185 are connected to the output of the / D conversion circuit 181. A data comparison circuit 187 is connected to the output of the first memory 183 and the output of the second memory 185.
【0024】次にこの回路の動作について説明する。ま
ずMOS型固体撮像装置111より得られたNフレーム
の画像データはA/D変換回路181によりデジタル化
され、第1のメモリ回路183に入力され保管される。Next, the operation of this circuit will be described. First, N-frame image data obtained from the MOS solid-state imaging device 111 is digitized by the A / D conversion circuit 181 and is input to the first memory circuit 183 and stored.
【0025】そして次にMOS型固体撮像装置111よ
り得られたN+1フレームの画像データはA/D変換回
路181によりデジタル化され、第2のメモリ回路18
5に入力され保管される。Next, the image data of the (N + 1) th frame obtained from the MOS type solid-state image pickup device 111 is digitized by the A / D conversion circuit 181 and the second memory circuit 18
5 is entered and stored.
【0026】そしてデータ比較回路187によりNフレ
ームの画像データとN+1フレームの画像データが比較
され、比較データ出力端子189から出力される。この
比較データ出力端子189からの出力信号により被写体
の移動情報を知り得ることができる。Then, the N-frame image data and the (N + 1) -frame image data are compared by the data comparison circuit 187 and output from the comparison data output terminal 189. The movement information of the subject can be obtained from the output signal from the comparison data output terminal 189.
【0027】[0027]
【発明が解決しようとする課題】従来のMOS型固体撮
像装置は上述したように構成されて、上述したように駆
動して照射された画像データを読み出しており、画像デ
ータはA/D変換回路によりデジタル変換してフレーム
毎にメモリ回路に一時保管していた。The conventional MOS-type solid-state imaging device is constructed as described above, reads out the irradiated image data by driving as described above, and outputs the image data to an A / D conversion circuit. And temporarily stored in a memory circuit for each frame.
【0028】そして被写体の移動情報を得るためには、
Nフレームの画像データとN+1フレームの画像データ
をそれぞれ別のメモリ回路に一時保管してから比較を行
い、被写体の移動情報を得ていた。In order to obtain the movement information of the subject,
The image data of the N frame and the image data of the N + 1 frame are temporarily stored in separate memory circuits, respectively, and then compared to obtain the movement information of the subject.
【0029】つまり、被写体の移動情報を得るには固体
撮像装置以外にA/D変換回路やメモリ回路が必要とな
っていた。また固体撮像装置とA/D変換回路、メモリ
回路をワンチップ化してもチップ面積が非常に増加する
ことや、各回路の駆動方法が複雑になり、また処理時間
もかかるという問題があった。That is, an A / D conversion circuit and a memory circuit are required in addition to the solid-state imaging device to obtain the movement information of the subject. Further, even if the solid-state imaging device, the A / D conversion circuit, and the memory circuit are integrated into one chip, there is a problem that the chip area is significantly increased, the driving method of each circuit is complicated, and the processing time is long.
【0030】従って、本発明の目的は、上記した従来技
術の欠点を改良し、微細化に適した、精度の高い被写体
の移動情報容易に取得しえる固体撮像装置であって、且
つ製造コストが安い固体撮像装置を提供するものであ
る。Accordingly, an object of the present invention is to provide a solid-state imaging device which can improve the above-mentioned drawbacks of the prior art, is suitable for miniaturization, can easily acquire high-precision object movement information, and has a low manufacturing cost. It is intended to provide a cheap solid-state imaging device.
【0031】[0031]
【課題を解決する手段】本発明は上記した目的を達成す
るため、以下に記載されたような技術構成を採用するも
のである。SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above-mentioned object, the present invention employs the following technical configuration.
【0032】即ち、本発明に係る第1の態様としては、
光電変換セルが複数個マトリックス状に配列された光電
変換セルアレイと、当該光電変換セルアレイに接続され
た、水平選択回路、垂直選択回路、コントロール回路及
び水平選択回路接続された出力アンプとから構成されて
いる固体撮像装置に於いて、当該個々の光電変換セル
は、何れも第1のフレームに於ける画像データと第2の
フレームに於ける画像データとを一時的に記憶し、所定
の制御信号に従って、双方の画像データを出力出来る様
に構成されている固体撮像装置であり、又、本発明に係
る第2の態様としては、上記した固体撮像装置に於い
て、個々の光電変換セルに於ける第2のシャッター用M
OSトランジスタのゲートをオフにし、第1のシャッタ
ー用トランジスタをオンにして得たフレームの画素デー
タと、次のフレームにて第1のシャッター用MOSトラ
ンジスタのゲートをオフにし、第2のシャッター用トラ
ンジスタをオンにして得た画素データをデータ比較回路
にて比較読み出しすることにより、常に前フレームの画
像データとの比較画像データがえられる様に構成された
MOS型固体撮像装置の駆動方法である。That is, as a first aspect according to the present invention,
A photoelectric conversion cell array in which a plurality of photoelectric conversion cells are arranged in a matrix, and a horizontal selection circuit, a vertical selection circuit, a control circuit, and an output amplifier connected to the horizontal selection circuit connected to the photoelectric conversion cell array. In each solid-state imaging device, each of the photoelectric conversion cells temporarily stores the image data in the first frame and the image data in the second frame, and in accordance with a predetermined control signal. And a solid-state imaging device configured to output both image data. As a second aspect of the present invention, in the above-described solid-state imaging device, in each of the photoelectric conversion cells, M for second shutter
The gate of the OS transistor is turned off, the pixel data of the frame obtained by turning on the first shutter transistor, and the gate of the first shutter MOS transistor are turned off in the next frame, and the second shutter transistor is turned on. Is a driving method of a MOS-type solid-state imaging device configured to always obtain comparison image data with the image data of the previous frame by comparing and reading out pixel data obtained by turning on the data comparison circuit.
【0033】[0033]
【発明の実施の態様】本発明に係る当該固体撮像装置及
び固体撮像装置の駆動方法は、上記した技術構成を採用
しいることから、個々の光電変換セルそのものに、現在
のフレームに於ける画素データと直前のフレームに於け
る画素データと保持する機能が設けられており、且つ当
該個々の光電変換セルのそれぞれの出力を直接アナログ
式の比較回路に入力して、現在のフレームに於ける画素
データと直前のフレームに於け画素データとを比較し
て、特に被写体の移動情報を正確に且つ確実に得られる
様にしたものであり、その結果、従来の固体撮像装置に
比べて、使用するメモリの量が大幅に削減されると共
に、アナログ/デジタル変換装置を使用しないので、回
路設計も簡易化される他、アナログ/デジタル変換処理
を経ないだけ、データの解析精度が向上すると言う効果
がある。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The solid-state image pickup device and the method for driving the solid-state image pickup device according to the present invention employ the above-mentioned technical configuration. Therefore, each photoelectric conversion cell itself has a pixel in the current frame. A function of holding data and pixel data in the immediately preceding frame is provided, and the respective outputs of the individual photoelectric conversion cells are directly input to an analog comparison circuit, and the pixel in the current frame is input. By comparing the data with the pixel data in the immediately preceding frame, it is possible to obtain the movement information of the subject accurately and reliably, and as a result, it is used in comparison with the conventional solid-state imaging device. Since the amount of memory is greatly reduced and the use of an analog / digital converter is not required, the circuit design is simplified, and the data is simply converted without analog / digital conversion. There is an effect that the analysis accuracy is improved.
【0034】更に、本発明に於いては、回路設計が簡易
化されると共に縮小が可能であるので、製造工程が短縮
化されると同時に略同一の処理構成で製造出来ると言う
効果もあり、全体的な製造コストも大幅に低減させる。Further, according to the present invention, since the circuit design can be simplified and reduced, the manufacturing process can be shortened, and at the same time, it can be manufactured with substantially the same processing configuration. Overall manufacturing costs are also significantly reduced.
【0035】[0035]
【実施例】以下に、本発明に係る固体撮像装置及びその
駆動方法に関する具体例を図面を参照しながら詳細に説
明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A specific example of a solid-state imaging device according to the present invention and a driving method thereof will be described in detail with reference to the drawings.
【0036】即ち、図1及び図2は、本発明に係る当該
固体撮像装置11の一具体例の構成を示すブロックダイ
アグラムであって、図中、光電変換セルが複数個マトリ
ックス状に配列された光電変換セルアレイ13、当該光
電変換セルアレイ13に接続された、水平選択回路1
5、垂直選択回路19、コントロール回路21及び水平
選択回路15に接続された出力アンプ23とから構成さ
れている固体撮像装置11に於いて、当該個々の光電変
換セル31は、図2に示す様に、何れも第1のフレーム
に於ける画像データと第2のフレームに於ける画像デー
タとを一時的に記憶し、所定の制御信号に従って、双方
の画像データを出力出来る様に構成されている固体撮像
装置11が示されている。1 and 2 are block diagrams showing the configuration of a specific example of the solid-state imaging device 11 according to the present invention, in which a plurality of photoelectric conversion cells are arranged in a matrix. Photoelectric conversion cell array 13, horizontal selection circuit 1 connected to photoelectric conversion cell array 13
5, in the solid-state imaging device 11 including the vertical selection circuit 19, the control circuit 21, and the output amplifier 23 connected to the horizontal selection circuit 15, the individual photoelectric conversion cells 31 are arranged as shown in FIG. Each is configured to temporarily store the image data in the first frame and the image data in the second frame, and to output both image data in accordance with a predetermined control signal. The solid-state imaging device 11 is shown.
【0037】本具体例に於ける当該個々の光電変換セル
31は、図2に示す様に、少なくとも2本の画像データ
出力線91、93を有している事が望ましい。It is desirable that each of the photoelectric conversion cells 31 in this specific example has at least two image data output lines 91 and 93 as shown in FIG.
【0038】そして、本具体例に於いては、当該個々の
光電変換セル31に於ける当該2本の画像データ出力線
91、93は、共に当該水平選択回路15に接続された
複数個のデータ比較回路73の一つに接続されている事
が好ましい。In this embodiment, the two image data output lines 91 and 93 in each of the photoelectric conversion cells 31 are connected to a plurality of data lines connected to the horizontal selection circuit 15. Preferably, it is connected to one of the comparison circuits 73.
【0039】又、本発明に於ける当該光電変換セル31
は、一つの光電変換素子39と当該光電変換素子39に
対して一つのリセット手段33と、互いに交互に駆動す
る一対のシャッタ手段43、53と一対の増幅手段4
9、59と、一対の選択手段51、61とを含んでいる
ものである。The photoelectric conversion cell 31 of the present invention
Are one photoelectric conversion element 39, one reset means 33 for the photoelectric conversion element 39, a pair of shutter means 43 and 53, which are alternately driven, and a pair of amplification means 4
9 and 59, and a pair of selecting means 51 and 61.
【0040】一方、本発明に於ける当該光電変換セル3
1に於ける当該リセット手段33、シャッタ手段43、
53、増幅手段49、59及び選択手段51、61は、
何れもMOSトランジスタで構成されている事が望まし
い。On the other hand, the photoelectric conversion cell 3 of the present invention
1, reset means 33, shutter means 43,
53, amplification means 49, 59 and selection means 51, 61
It is desirable that each of them is constituted by a MOS transistor.
【0041】次に、本発明に係る当該固体撮像装置11
に使用されている当該光電変換セル31のより詳細な回
路構成の具体例に付いて図2を参照しながら詳細に説明
するならば、複数の光電変換セル31がマトリックス状
に配列れた光電変換セルアレイ13と、当該光電変換セ
ルアレイ13にはデータ比較回路17と垂直選択回路1
9とコントロール回路21が接続され、そしてデータ比
較回路17には水平選択回路15が接続され、さらに水
平選択回路15に出力アンプ23が接続され、またコン
トロール回路21は垂直選択回路19とデータ比較回路
17と水平選択回路15に接続された固体撮像装置11
に於いて、当該個々の光電変換セル31は、何れも第1
のフレームに於ける画像データと第2のフレームに於け
る画像データとを一時的に記憶し、所定の制御信号に従
って、双方の画像データを出力出来る様に構成されてい
る固体撮像装置11である。Next, the solid-state imaging device 11 according to the present invention.
A detailed example of a more detailed circuit configuration of the photoelectric conversion cell 31 used in the first embodiment will be described in detail with reference to FIG. 2. If a plurality of photoelectric conversion cells 31 are arranged in a matrix, The cell array 13 and the data comparison circuit 17 and the vertical selection circuit 1
9 is connected to the control circuit 21, the data comparison circuit 17 is connected to the horizontal selection circuit 15, the horizontal selection circuit 15 is connected to the output amplifier 23, and the control circuit 21 is connected to the vertical selection circuit 19 and the data comparison circuit. Solid-state imaging device 11 connected to horizontal selection circuit 15
In the above, each of the individual photoelectric conversion cells 31
The solid-state imaging device 11 is configured to temporarily store the image data in the first frame and the image data in the second frame, and output both image data in accordance with a predetermined control signal. .
【0042】更に、本発明に於いては、前記マトリック
ス状に配列された個々の光電変換セル31が、1つの光
電変換素子39と1つのリセット用MOSトランジスタ
を含み、1組のシャッター用MOSトランジスタと、1
組のアンプ用MOSトランジスタと、1組の選択用のM
OSトランジスタから構成される事も望ましい。Further, in the present invention, each of the photoelectric conversion cells 31 arranged in a matrix includes one photoelectric conversion element 39 and one reset MOS transistor, and one set of shutter MOS transistors. And 1
Set of MOS transistors for amplifier and one set of M for selection
It is also desirable to comprise an OS transistor.
【0043】当該MOSトランジスタを使用した本発明
に係る当該固体撮像装置11の構成を説明すると、一端
部が接地された当該光電変換素子39の他端部にリセッ
ト信号37により制御される当該リセット用MOSトラ
ンジスタ33の一端部とシャッター信号45により制御
される第1のシャッター用MOSトランジスタ43の一
端部とが接続されており、当該第1のシャッター用MO
Sトランジスタ43の他端部には、適宜のアンプ用のM
OSトランジスタ49を介して、一端部が第1の画像デ
ータ出力線91と接続され当該ゲート部が垂直選択線6
3に接続させた第1の選択用MOSトランジスタ51の
他端部が接続されており、且つ当該リセット用MOSト
ランジスタ33の一端部と接続している当該光電変換素
子39の他端部に、シャッター信号55により制御され
る第2のシャッター用MOSトランジスタ53の一端部
とが接続されており、当該第2のシャッター用MOSト
ランジスタ53の他端部には、適宜のアンプ用のMOS
トランジスタ59を介して、一端部が第2の画像データ
出力線93と接続され当該ゲート部が垂直選択線63に
接続させた第2の選択用MOSトランジスタ61の他端
部が接続されている固体撮像装置11の光電変換セル3
1が示されている。The configuration of the solid-state imaging device 11 according to the present invention using the MOS transistor will be described. The reset signal controlled by a reset signal 37 is connected to the other end of the photoelectric conversion element 39 whose one end is grounded. One end of the MOS transistor 33 and one end of the first MOS transistor for shutter 43 controlled by the shutter signal 45 are connected to each other,
The other end of the S transistor 43 has an appropriate amplifier M
One end is connected to the first image data output line 91 via the OS transistor 49 and the gate is connected to the vertical selection line 6.
3 is connected to the other end of the first selection MOS transistor 51 and the other end of the photoelectric conversion element 39 connected to one end of the reset MOS transistor 33. One end of a second shutter MOS transistor 53 controlled by a signal 55 is connected to the other end of the second shutter MOS transistor 53, and an appropriate amplifier MOS transistor is connected to the other end of the second shutter MOS transistor 53.
A solid state in which one end is connected to the second image data output line 93 via the transistor 59 and the other end of the second selection MOS transistor 61 whose gate is connected to the vertical selection line 63 is connected. Photoelectric conversion cell 3 of imaging device 11
1 is shown.
【0044】本発明においては、当該光電変換素子39
は、フォトダイオードで構成されている事が望ましい。In the present invention, the photoelectric conversion element 39
Is preferably formed of a photodiode.
【0045】又、本発明に於ける当該増幅用のMOSト
ランジスタ49、59は、そのゲートが当該第1又は第
2のシャッター用MOSトランジスタの一端部に接続さ
れ、そのソース若しくはドレインが当該第1と第2の選
択用MOSトランジスタの一端部に接続される様に構成
されているものである。The gates of the amplifying MOS transistors 49 and 59 according to the present invention are connected to one end of the first or second shutter MOS transistor, and the source or drain thereof is connected to the first MOS transistor 49 or 59. And one end of the second selection MOS transistor.
【0046】尚、本発明に於いても、当該光電変換素子
39の両端子部間、当該第1のシャッター用MOSトラ
ンジスタ43と当該第1の増幅用MOSトランジスタ4
9との接続部と接地部間又は当該第2のシャッター用M
OSトランジスタ53と当該第2の増幅用MOSトラン
ジスタ59との接続部と接地部間には、当該光電変換素
子により発生した電荷の少なくとも一部が蓄積される部
分が存在しているものであって、通常は当該光電変換素
子により発生した電荷の少なくとも一部が蓄積される寄
生容量部として認識される部分である。It should be noted that, also in the present invention, the first shutter MOS transistor 43 and the first amplification MOS transistor 4 are provided between both terminals of the photoelectric conversion element 39.
9 between the connecting portion with the grounding portion and the second shutter M
Between the ground and the connection between the OS transistor 53 and the second amplifying MOS transistor 59, there is a portion where at least a part of the charge generated by the photoelectric conversion element is accumulated. This is a part which is usually recognized as a parasitic capacitance part in which at least a part of the charge generated by the photoelectric conversion element is stored.
【0047】従って、上記した本発明に係る当該光電変
換セル31の図2に示す具体例に於いて、上記の様な寄
生容量を含めた回路構成の具体例を示すと以下の様にな
る。即ち、当該光電変換セルは、リセット用MOSトラ
ンジスタ33のドレインはリセット電圧端子35として
全ての光電変換セル31で共通に接続され、リセット用
MOSトランジスタ33のゲートはリセット信号端子3
7として全ての光電変換セル31で共通に接続してい
る。Accordingly, in the specific example shown in FIG. 2 of the photoelectric conversion cell 31 according to the present invention, a specific example of the circuit configuration including the above-mentioned parasitic capacitance is as follows. That is, in the photoelectric conversion cell, the drain of the reset MOS transistor 33 is connected in common to all the photoelectric conversion cells 31 as the reset voltage terminal 35, and the gate of the reset MOS transistor 33 is connected to the reset signal terminal 3
7 is commonly connected to all the photoelectric conversion cells 31.
【0048】そしてリセット用MOSトランジスタ33
のソースは光電変換素子であるフォトダイオード39の
カソード端子と、第一の寄生容量41の一端と、第一の
シャッター用MOSトランジスタ43のソースと、第二
のシャッター用MOSトランジスタ53のソースに接続
している。The reset MOS transistor 33
Are connected to the cathode terminal of the photodiode 39, which is a photoelectric conversion element, one end of the first parasitic capacitance 41, the source of the first MOS transistor for shutter 43, and the source of the second MOS transistor 53 for shutter. are doing.
【0049】また第一のシャッター用MOSトランジス
タ43のゲートは第一のシャッター端子45として全て
の光電変換セル31で共通に接続され、第一のシャッタ
ー用MOSトランジスタ43のドレインは第二の寄生容
量47の一端と第一のアンプ用MOSトランジスタ49
のゲートに接続する。The gate of the first shutter MOS transistor 43 is commonly connected as a first shutter terminal 45 to all the photoelectric conversion cells 31, and the drain of the first shutter MOS transistor 43 is a second parasitic capacitance. 47 and a first amplifier MOS transistor 49
Connect to the gate of
【0050】そして第一のアンプ用MOSトランジスタ
49のドレインは第一の選択用MOSトランジスタ51
のソースに接続し、第一の選択用MOSトランジスタ5
1のゲートは第二の選択用MOSトランジスタ61のゲ
ートと接続し垂直選択端子63として行毎に共通に接続
し、第一の選択用MOSトランジスタ51のドレインは
第一のデータ出力線91として列毎に共通に接続してい
る。The drain of the first amplifier MOS transistor 49 is connected to the first selection MOS transistor 51.
Of the first selection MOS transistor 5
The first gate is connected to the gate of the second selection MOS transistor 61 and commonly connected as a vertical selection terminal 63 for each row, and the drain of the first selection MOS transistor 51 is connected to the first data output line 91 as a column. They are commonly connected every time.
【0051】さらに第二のシャッター用MOSトランジ
スタ53のゲートは第二のシャッター端子55として全
ての光電変換セル31で共通に接続され、第二のシャッ
ター用MOSトランジスタ53のドレインは第三の寄生
容量57の一端と第二のアンプ用MOSトランジスタ5
9のゲートに接続する。Further, the gate of the second shutter MOS transistor 53 is commonly connected to all the photoelectric conversion cells 31 as the second shutter terminal 55, and the drain of the second shutter MOS transistor 53 is the third parasitic capacitance. 57 and second MOS transistor 5 for amplifier
9 gate.
【0052】そして第二のアンプ用MOSトランジスタ
59のドレインは第二の選択用MOSトランジスタ61
のソースに接続し、第二の選択用MOSトランジスタ6
1のドレインは第二のデータ出力線93として列毎に共
通に接続している。The drain of the second amplifier MOS transistor 59 is connected to the second selection MOS transistor 61.
Of the second selection MOS transistor 6
One drain is commonly connected as a second data output line 93 for each column.
【0053】またリセット用MOSトランジスタ33の
バルクと、第一のシャッター用MOSトランジスタ43
のバルクと、第二のシャッター用MOSトランジスタ5
3のバルクと、第一のアンプ用トランジスタ49のバル
クと、第二のアンプ用トランジスタ59のバルクと、第
一の選択用トランジスタ51のバルクと、第二の選択用
トランジスタ61のバルクと、第一の寄生容量41のも
う一方の端子と、第二の寄生容量47のもう一方の端子
と、第三の寄生容量57のもう一方の端子と、フォトダ
イオード39のアノード端子は全てグランド端子65へ
共通に接続している。The bulk of the reset MOS transistor 33 and the first shutter MOS transistor 43
And the second MOS transistor 5 for shutter
3, the bulk of the first amplifier transistor 49, the bulk of the second amplifier transistor 59, the bulk of the first selection transistor 51, the bulk of the second selection transistor 61, The other terminal of one parasitic capacitance 41, the other terminal of the second parasitic capacitance 47, the other terminal of the third parasitic capacitance 57, and the anode terminal of the photodiode 39 are all connected to the ground terminal 65. Connected in common.
【0054】更に、本発明に於ける当該光電変換セル3
1の出力信号の接続関係を説明するならば、前記構成の
光電変換セル31において第1の選択用MOSトランジ
スタのドレインを列毎に第1の出力線として共通に接続
し、第2の選択用MOSトランジスタのドレインを列毎
に第2の出力線として共通に接続し、第1のシャッター
用MOSトランジスタのゲートを第1のシャッター線と
して全ての光電変換セル共通に接続し、第2のシャッタ
ー用MOSトランジスタのゲートを第2のシャッター線
として全ての光電変換セル共通に接続し、第1の選択用
MOSトランジスタのゲートと接続された第2の選択用
MOSトランジスタのゲートは行毎にアドレス選択線と
して共通に接続し、またリセット用MOSトランジスタ
のドレインとリセット用MOSトランジスタのゲートは
それぞれ全ての光電変換セルで共通に接続してマトリッ
クス状に配列されているものである。Further, the photoelectric conversion cell 3 according to the present invention
In the photoelectric conversion cell 31 having the above-described configuration, the drain of the first selection MOS transistor is commonly connected as a first output line for each column, and the second selection signal is connected to the second output signal. The drain of the MOS transistor is commonly connected as a second output line for each column, the gate of the first MOS transistor for a shutter is commonly connected as a first shutter line to all photoelectric conversion cells, The gate of the MOS transistor is commonly connected to all photoelectric conversion cells as a second shutter line, and the gate of the second selection MOS transistor connected to the gate of the first selection MOS transistor is connected to the address selection line for each row. And the drain of the reset MOS transistor and the gate of the reset MOS transistor In which are arranged in a matrix are connected in common conversion cells.
【0055】次に、本発明に於て使用される当該データ
比較回路71に付いてその構成の一例を説明する。Next, an example of the configuration of the data comparison circuit 71 used in the present invention will be described.
【0056】即ち、当該データ比較回路71は、光電変
換セルアレイ13を構成する光電変換セル31の列数と
同数の差動増幅型回路73にて構成され、それぞれの差
動増幅型回路73の2つの入力には前記記載の第1の出
力線91と第2の出力線93がそれぞれ接続されている
構成を有するものである。That is, the data comparison circuit 71 is composed of the same number of differential amplification circuits 73 as the number of columns of the photoelectric conversion cells 31 constituting the photoelectric conversion cell array 13. The first input line 91 and the second output line 93 described above are connected to the two inputs, respectively.
【0057】即ち、本発明に於ける当該各データ比較回
路セル71は、複数の、例えば光電変換セル31の列数
と同数のデータ比較回路73で構成されている。That is, each data comparison circuit cell 71 according to the present invention is constituted by a plurality of data comparison circuits 73, for example, the same number as the number of columns of the photoelectric conversion cells 31.
【0058】又、データ比較回路73の出力は比較結果
出力端子95より出力される。The output of the data comparison circuit 73 is output from a comparison result output terminal 95.
【0059】次に図1乃至図3を参照してこのMOS型
固体撮像装置の駆動方法について詳細に説明する。Next, a method of driving the MOS solid-state imaging device will be described in detail with reference to FIGS.
【0060】まず、Nフレーム97の画像データ取得期
間において、全ての光電変換セル31のリセット信号端
子37にリセット時間103のリセット信号81に入力
すると共に、全ての光電変換セル31の第一のシャッタ
ー信号端子45にシャッター時間105の第一のシャッ
ター信号83を入力する。この時、全ての光電変換セル
31の第二のシャッター信号端子55にはLレベルの第
二のシャッター信号85を入力するこの動作により全て
の光電変換セル31に配置される第一の寄生容量41と
第二の寄生容量47はリセット状態となる。そしてリセ
ット時間103が終了してから第一のシャッター信号8
3のシャッター時間105が終了するまでの期間にて各
光電変換セル31の受光部である各フォトダイオード3
9に照射された被写体の画像データは、その入射光量に
より第一の寄生容量41と第二の寄生容量47に蓄積さ
れる。そして第一のシヤッター信号83のシャッター時
間105が終了し第一のシャッター用MOSトランジス
タ43がオフすると、被写体の画像データが第二の寄生
容量47に保存される。この第二の寄生容量47の上部
はアルミ等で遮光が施されており保存された画像データ
がリークすることは無い。First, during the image data acquisition period of the N frame 97, the reset signal 81 of the reset time 103 is input to the reset signal terminals 37 of all the photoelectric conversion cells 31 and the first shutters of all the photoelectric conversion cells 31 The first shutter signal 83 of the shutter time 105 is input to the signal terminal 45. At this time, the L-level second shutter signal 85 is input to the second shutter signal terminals 55 of all the photoelectric conversion cells 31. By this operation, the first parasitic capacitances 41 arranged in all the photoelectric conversion cells 31 are obtained. And the second parasitic capacitance 47 is reset. Then, after the reset time 103 ends, the first shutter signal 8
3 is a light receiving section of each photoelectric conversion cell 31 in a period until the shutter time 105 of the photodiode 3 ends.
The image data of the subject irradiated on 9 is stored in the first parasitic capacitance 41 and the second parasitic capacitance 47 according to the amount of incident light. When the shutter time 105 of the first shutter signal 83 ends and the first MOS transistor for shutter 43 is turned off, the image data of the subject is stored in the second parasitic capacitance 47. The upper part of the second parasitic capacitance 47 is shielded from light with aluminum or the like, so that the stored image data does not leak.
【0061】そしてこの第二の寄生容量47に蓄積され
たNフレーム97の画像データは各光電変換セル31に
配置される第一のアンプ用MOSトランジスタ49によ
り増幅され、第一の選択用MOSトランジスタ51によ
り選択し読み出すことができる。The image data of the N frame 97 stored in the second parasitic capacitance 47 is amplified by the first amplifying MOS transistor 49 disposed in each photoelectric conversion cell 31, and is amplified by the first selecting MOS transistor. 51 can be selected and read.
【0062】次に、N+1フレーム99の画像データ取
得期間において、全ての光電変換セル31のリセット信
号端子37にリセット時間103のリセット信号81に
を入力すると共に、全ての光電変換セル31の第二のシ
ャッター信号端子55にシャッター時間107の第二の
シャッター信号85を入力する。この時全ての光電変換
セル31の第一のシャッター信号端子45にはLレベル
の第一のシャッター信号83を入力するシャッター時間
105と107は同じ時間である。Next, during the image data acquisition period of the (N + 1) th frame 99, the reset signal 81 of the reset time 103 is input to the reset signal terminals 37 of all the photoelectric conversion cells 31 and the second signal of all the photoelectric conversion cells 31 The second shutter signal 85 having a shutter time 107 is input to the shutter signal terminal 55 of the second embodiment. At this time, the shutter times 105 and 107 for inputting the L-level first shutter signal 83 to the first shutter signal terminals 45 of all the photoelectric conversion cells 31 are the same.
【0063】この動作により全ての光電変換セル31に
配置される第一の寄生容量41と第三の寄生容量57は
リセット状態となる。そしてリセット時間103が終了
してから第二のシャッター信号85のシャッター時間1
07が終了するまでの期間にて各光電変換セル31の受
光部である各フォトダイオード39に照射された被写体
の画像データは、その入射光量により第一の寄生容量4
1と第三の寄生容量57に蓄積される。By this operation, the first parasitic capacitance 41 and the third parasitic capacitance 57 arranged in all the photoelectric conversion cells 31 are reset. Then, after the reset time 103 ends, the shutter time 1 of the second shutter signal 85
The image data of the subject illuminated on each photodiode 39 which is the light receiving unit of each photoelectric conversion cell 31 during the period until 07 ends is converted into the first parasitic capacitance 4 by the amount of incident light.
1 and the third parasitic capacitance 57.
【0064】そして第二のシヤッター信号85のシャッ
ター時間107が終了し第二のシャッター用MOSトラ
ンジスタ53がオフすると、被写体の画像データが第三
の寄生容量57に保存される。この第三の寄生容量57
の上部はアルミ等で遮光が施されており保存された画像
データがリークすることは無い。When the shutter time 107 of the second shutter signal 85 ends and the second shutter MOS transistor 53 turns off, the image data of the subject is stored in the third parasitic capacitance 57. This third parasitic capacitance 57
The upper part is light-shielded with aluminum or the like so that the stored image data does not leak.
【0065】そしてこの第三の寄生容量57に蓄積され
たN+1フレーム99の画像データは各光電変換セル3
1に配置される第二のアンプ用MOSトランジスタ59
により増幅され、第二の選択用MOSトランジスタ61
により選択し読み出すことができる。The image data of the (N + 1) th frame 99 stored in the third parasitic capacitance 57 is stored in each photoelectric conversion cell 3.
1st MOS transistor 59 for amplifier arranged in
And the second selection MOS transistor 61
Can be selected and read.
【0066】次に画像データの読み出し方について説明
する。N+1フレーム99において第二のシャッター信
号85のシャッター時間105が終了し、第二のシャッ
ター信号85がLレベルになった後、垂直選択回路15
より垂直アドレス信号87が光電変換セルアレイ13の
ある一行の垂直選択端子63を選択する。Next, a method of reading image data will be described. After the shutter time 105 of the second shutter signal 85 ends in the (N + 1) th frame 99 and the second shutter signal 85 becomes L level, the vertical selection circuit 15
The vertical address signal 87 selects the vertical selection terminal 63 in one row of the photoelectric conversion cell array 13.
【0067】そしてこの選択された光電変換セルアレイ
13の一行に接続する全ての光電変換セル31の第一の
選択用MOS トランジスタ51と第二の選択用MOS
トランジスタ61とがオンし、第一のデータ出力線91
には第二の寄生容量47に蓄積されたN フレーム97
の画像データが出力される。一方、第二のデータ出力線
93には第三の寄生容量57に蓄積されたN+1フレー
ム99の画像データが出力される。The first selection MOS transistor 51 and the second selection MOS transistor 51 of all the photoelectric conversion cells 31 connected to one row of the selected photoelectric conversion cell array 13
The transistor 61 is turned on, and the first data output line 91
The N frame 97 stored in the second parasitic capacitance 47
Is output. On the other hand, the image data of the (N + 1) th frame 99 stored in the third parasitic capacitance 57 is output to the second data output line 93.
【0068】そして第一のデータ線信号91として出力
されたNフレーム97の画像データと、第二のデータ線
信号93として出力されたN+1フレーム99の画像デ
ータはそれぞれの列に接続されたデータ比較回路73に
入力され、このデータ比較回路73によりNフレーム9
7の画像データと、N+1フレーム99の画像データの
差が増幅された差動回路出力信号95として比較結果出
力端子75より出力される。The image data of the N frame 97 output as the first data line signal 91 and the image data of the N + 1 frame 99 output as the second data line signal 93 are compared with the data connected to the respective columns. The data is input to the circuit 73, and the data comparison circuit 73
7 and the image data of the (N + 1) th frame 99 are output from the comparison result output terminal 75 as an amplified differential circuit output signal 95.
【0069】この比較結果出力端子75からの出力は、
水平選択回路19からの水平アドレス信号89にて、順
次、出力アンプ回路23へシリアルに送られる。光電変
換セル31の一行分のデータが読み出された後、垂直ア
ドレス信号が変化し次の行を選択し同様に画像データを
読み出す。この様にして全ての光電変換セル31の画像
データを読み出す。The output from the comparison result output terminal 75 is
In response to a horizontal address signal 89 from the horizontal selection circuit 19, the signals are sequentially transmitted to the output amplifier circuit 23 in serial. After the data of one row of the photoelectric conversion cells 31 is read, the vertical address signal changes, and the next row is selected, and the image data is read out similarly. Thus, the image data of all the photoelectric conversion cells 31 are read.
【0070】上述の様にして光電変換セルアレイ13の
画像データを読み出すことによりN+1フレーム99読
み出しサイクルにおいてMOS型固体撮像装置11の出
力信号端子25からは、Nフレーム97の画像データと
N+1フレーム99の画像データ差のみが出力される。By reading out the image data of the photoelectric conversion cell array 13 as described above, the image signal of the N frame 97 and the N + 1 frame 99 are output from the output signal terminal 25 of the MOS solid-state imaging device 11 in the N + 1 frame 99 read cycle. Only the image data difference is output.
【0071】つまり常に一つ前のフレーム画像データ
と、現フレーム画像データの差が出力される。That is, the difference between the immediately preceding frame image data and the current frame image data is always output.
【0072】従って、図7に示すような、A/D回路や
メモリ回路などを必要とせず、また複雑な制御や時間の
かかる処理時間を必要とせずに容易に処理時間なく、各
フレームの画像データを読み出すときに、常に前回のフ
レームの画像データとの差を読み出すことができる。Therefore, the A / D circuit and the memory circuit as shown in FIG. 7 are not required, and complicated control and time-consuming processing time are not required. When reading data, the difference from the image data of the previous frame can always be read.
【0073】本発明に係る他の態様であるMOS型固体
撮像装置の駆動方法は、上記した説明から理解される様
に、上記した固体撮像装置に於いて、個々の光電変換セ
ルに於ける第2のシャッター用MOSトランジスタのゲ
ートをオフにし、第1のシャッター用トランジスタをオ
ンにして得たフレームの画素データと、次のフレームに
て第1のシャッター用MOSトランジスタのゲートをオ
フにし、第2のシャッター用トランジスタをオンにして
得た画素データをデータ比較回路にて比較読み出しする
ことにより、常に前フレームの画像データとの比較画像
データがえられることを特徴するものである。As will be understood from the above description, the driving method of the MOS type solid-state imaging device according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The pixel data of the frame obtained by turning off the gate of the second MOS transistor for shutter and turning on the first transistor for shutter and the gate of the first MOS transistor for shutter in the next frame are turned off. By comparing and reading out pixel data obtained by turning on the shutter transistor in the data comparison circuit, comparison image data with the image data of the previous frame is always obtained.
【0074】[0074]
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る当該
固体撮像装置に於いては、マトリックス状に配列された
光電変換セルアレイと、この光電変換セルアレイにはデ
ータ比較回路と負荷回路と垂直選択回路とコントロール
回路が接続され、そしてデータ比較回路には水平選択回
路が接続され、さらに水平選択回路に出力アンプが接続
され、またコントロール回路は垂直選択回路とデータ比
較回路と水平選択回路に接続される構成にて、直前のフ
レームデータと比較した画像データ処理機能を有する構
成のものであります。As described above, in the solid-state imaging device according to the present invention, the photoelectric conversion cell array arranged in a matrix, and the photoelectric conversion cell array includes a data comparison circuit, a load circuit, and a vertical selection circuit. The circuit and the control circuit are connected, and the data comparison circuit is connected to the horizontal selection circuit, and the horizontal selection circuit is connected to the output amplifier, and the control circuit is connected to the vertical selection circuit, the data comparison circuit, and the horizontal selection circuit. This configuration has an image data processing function compared with the immediately preceding frame data.
【0075】従って、図7の従来の技術に示す様な、A
/D回路やメモリ回路などを必要とせず、また複雑な制
御や時間のかかる処理時間を必要とせずに容易に処理時
間なく、各フレームの画像データを読み出すときに、常
に前回のフレームの画像データとの差を読み出すことが
できる。Therefore, as shown in the prior art of FIG.
When reading image data of each frame without the need for complicated control and time-consuming processing time without requiring a / D circuit or a memory circuit, the image data of the previous frame is always read. Can be read.
【0076】また、本発明に於いては、従来の技術の様
に、1フレーム毎に独立したメモリを使用する必要がな
いので、回路構成は簡単になり、然も微細化が可能とな
る。然も、本発明に於ては、当該固体撮像装置を構成す
る素子をMOS型トランジスタで構成する事が可能であ
るので、製造工程が簡易化され、コストの低減に寄与す
る事が出来る。Further, in the present invention, it is not necessary to use an independent memory for each frame as in the prior art, so that the circuit configuration is simplified, and miniaturization is possible. Needless to say, in the present invention, since the elements constituting the solid-state imaging device can be constituted by MOS transistors, the manufacturing process can be simplified and the cost can be reduced.
【0077】一方、本発明に於ては、第1のフレームと
第2のフレームとの間の差分値を得るに際し、直接アナ
ログ情報を使用して判断する様に構成されているので、
従来の技術に於ける様に、アナログ入力情報を一旦デジ
タルデータに変化した後に比較処理を行う事はしないの
で、速度の向上と精度の向上が期待できる。On the other hand, according to the present invention, when a difference value between the first frame and the second frame is obtained, a determination is made directly using analog information.
Unlike the prior art, the comparison process is not performed after the analog input information is once changed to digital data, so that an improvement in speed and accuracy can be expected.
【図1】図1は、本発明に於ける当該固体撮像装置の一
具体例の構成を示すブロックダイアグラムである。FIG. 1 is a block diagram illustrating a configuration of a specific example of the solid-state imaging device according to the present invention.
【図2】図2は、本発明に於て使用されるMOS型固体
撮像装置で使用される光電変換セル構成を説明する図で
ある。FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration of a photoelectric conversion cell used in a MOS type solid-state imaging device used in the present invention.
【図3】図3は、本発明のMOS型固体撮像装置の駆動
方法を説明するタイミングチャートである。FIG. 3 is a timing chart illustrating a method for driving a MOS solid-state imaging device according to the present invention.
【図4】図4は、従来のMOS型固体撮像装置の構成の
一例を示すブロック回路図である。FIG. 4 is a block circuit diagram illustrating an example of a configuration of a conventional MOS solid-state imaging device.
【図5】図5は、従来のMOS型固体撮像装置の光電変
換セル構成を説明する図FIG. 5 is a diagram illustrating a configuration of a photoelectric conversion cell of a conventional MOS-type solid-state imaging device.
【図6】図6は、従来のMOS型固体撮像装置の駆動方
法を説明するタイミング図FIG. 6 is a timing chart illustrating a driving method of a conventional MOS solid-state imaging device.
【図7】図7は、従来のMOS型固体撮像装置を使用し
た画像データの比較を行う装置例FIG. 7 is an example of an apparatus for comparing image data using a conventional MOS solid-state imaging device;
11…MOS型固体撮像装置 13…光電変換セルアレイ 15…水平選択回路 17…データ比較回路アレイ 19…垂直選択回路 20…負荷回路 21…コントロール回路 23…出力アンプ回路 25…出力信号端子 31…光電変換セル 33…リセット手段 39…光電変換素子 43、53…シャッタ手段 51、61…選択手段 73…データ比較回路 91、93…画像データ出力線 95…比較回路出力線 111…従来のMOS型固体撮像装置 113…従来のマトリックス状に配列された光電変換セ
ルアレイ 119…垂直選択回路 121…コントロール回路 123…出力アンプ 115…水平選択回路 125…出力端子 131…光電変換セル 133…リセット用MOSトランジスタ 135…リセット電圧端子 137…リセット信号端子 139…フォトダイオード 141…第1の寄生容量 143…シャッター用MOSトランジスタ 145…シャッター信号端子 147…第2の寄生容量 149…アンプ用MOSトランジスタ 151…選択用MOSトランジスタ 157…データ出力端子 153…垂直選択端子 155…グランド端子 183…第一のメモリ回路 185…第二のメモリ回路 187…比較回路 200…負荷回路DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... MOS type solid-state imaging device 13 ... photoelectric conversion cell array 15 ... horizontal selection circuit 17 ... data comparison circuit array 19 ... vertical selection circuit 20 ... load circuit 21 ... control circuit 23 ... output amplifier circuit 25 ... output signal terminal 31 ... photoelectric conversion Cell 33 reset means 39 photoelectric conversion elements 43 and 53 shutter means 51 and 61 selecting means 73 data comparison circuits 91 and 93 image data output lines 95 comparison circuit output lines 111 conventional MOS solid-state imaging device 113: Conventional photoelectric conversion cell array arranged in a matrix 119: Vertical selection circuit 121: Control circuit 123: Output amplifier 115: Horizontal selection circuit 125: Output terminal 131: Photoelectric conversion cell 133: Reset MOS transistor 135: Reset voltage Terminal 137: Reset signal terminal 1 39 ... photodiode 141 ... first parasitic capacitance 143 ... shutter MOS transistor 145 ... shutter signal terminal 147 ... second parasitic capacitance 149 ... amplifier MOS transistor 151 ... selection MOS transistor 157 ... data output terminal 153 ... vertical selection Terminal 155 Ground terminal 183 First memory circuit 185 Second memory circuit 187 Comparison circuit 200 Load circuit
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 笛木 信宏 埼玉県狭山市新狭山1丁目10番1 ホンダ エンジニアリング株式会社内 Fターム(参考) 5B047 AA07 AB02 BA03 BB04 BC01 CA04 CB18 5C024 AX19 CX54 GY31 HX17 HX29 HX40 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Nobuhiro Fueki 1-10-1 Shinsayama, Sayama-shi, Saitama Honda Engineering Co., Ltd. F-term (reference) 5B047 AA07 AB02 BA03 BB04 BC01 CA04 CB18 5C024 AX19 CX54 GY31 HX17 HX29 HX40
Claims (16)
配列された光電変換セルアレイと、当該光電変換セルア
レイに接続された、水平選択回路、垂直選択回路、コン
トロール回路及び水平選択回路接続された出力アンプと
から構成されている固体撮像装置に於いて、当該個々の
光電変換セルは、何れも第1のフレームに於ける画像デ
ータと第2のフレームに於ける画像データとを一時的に
記憶し、所定の制御信号に従って、双方の画像データを
出力出来る様に構成されている事を特徴とする固体撮像
装置。1. A photoelectric conversion cell array in which a plurality of photoelectric conversion cells are arranged in a matrix, and an output amplifier connected to a horizontal selection circuit, a vertical selection circuit, a control circuit, and a horizontal selection circuit connected to the photoelectric conversion cell array. In each of the solid-state imaging devices, the individual photoelectric conversion cells temporarily store the image data in the first frame and the image data in the second frame. A solid-state imaging device configured to output both image data according to a predetermined control signal.
2本の画像データ出力線を有している事を特徴とする請
求項1記載の固体撮像装置。2. The solid-state imaging device according to claim 1, wherein each of the photoelectric conversion cells has at least two image data output lines.
本の画像データ出力線は、共に当該水平選択回路に接続
された複数個のデータ比較回路の一つに接続されている
事を特徴とする請求項1又は2に記載の固体撮像装置。3. The method according to claim 2, wherein
3. The solid-state imaging device according to claim 1, wherein each of the image data output lines is connected to one of a plurality of data comparison circuits connected to the horizontal selection circuit.
子と当該光電変換素子に対して一つのリセット手段と、
互いに交互に駆動する一対のシャッタ手段と一対の選択
手段とを含んでいる事を特徴とする請求項1乃至3の何
れかに記載の固体撮像装置。4. The photoelectric conversion cell includes one photoelectric conversion element and one reset unit for the photoelectric conversion element.
4. The solid-state imaging device according to claim 1, further comprising a pair of shutter units and a pair of selection units that are alternately driven.
択手段は、何れもMOSトランジスタで構成されている
事を特徴とする請求項4記載の固体撮像装置。5. The solid-state imaging device according to claim 4, wherein said reset means, shutter means, and selection means are all constituted by MOS transistors.
配列された光電変換セルアレイと、当該光電変換セルア
レイにはデータ比較回路と垂直選択回路とコントロール
回路が接続され、そしてデータ比較回路には水平選択回
路が接続され、さらに水平選択回路に出力アンプが接続
され、またコントロール回路は垂直選択回路とデータ比
較回路と水平選択回路に接続された固体撮像装置に於い
て、当該個々の光電変換セルは、何れも第1のフレーム
に於ける画像データと第2のフレームに於ける画像デー
タとを一時的に記憶し、所定の制御信号に従って、双方
の画像データを出力出来る様に構成されている事を特徴
とする固体撮像装置。6. A photoelectric conversion cell array in which a plurality of photoelectric conversion cells are arranged in a matrix, a data comparison circuit, a vertical selection circuit, and a control circuit are connected to the photoelectric conversion cell array. In the solid-state imaging device connected to the horizontal selection circuit, the output amplifier is connected to the horizontal selection circuit, and the control circuit is connected to the vertical selection circuit, the data comparison circuit, and the horizontal selection circuit. Each of them is configured to temporarily store the image data in the first frame and the image data in the second frame, and output both image data in accordance with a predetermined control signal. Characteristic solid-state imaging device.
光電変換セルが、1つの光電変換素子と1つのリセット
用MOSトランジスタを含み、1組のシャッター用MO
Sトランジスタと、1組のアンプ用MOSトランジスタ
と、1組の選択用のMOSトランジスタから構成される
事を特徴とする請求項1乃至6の何れかに記載のMOS
型固体撮像装置。7. The one photoelectric conversion cell arranged in a matrix includes one photoelectric conversion element and one reset MOS transistor, and includes a set of shutter MOs.
7. The MOS according to claim 1, comprising an S transistor, a set of amplifying MOS transistors, and a set of selecting MOS transistors.
Type solid-state imaging device.
他端部にリセット信号により制御される当該リセット用
MOSトランジスタの一端部とシャッター信号により制
御される第1のシャッター用MOSトランジスタの一端
部とが接続されており、当該第1のシャッター用MOS
トランジスタの他端部には、適宜のアンプ用のMOSト
ランジスタを介して、一端部が第1の画像データ出力線
と接続され当該ゲート部が垂直選択線に接続させた第1
の選択用MOSトランジスタの他端部が接続されてお
り、且つ当該リセット用MOSトランジスタの一端部と
接続している当該光電変換素子の他端部に、シャッター
信号により制御される第2のシャッター用MOSトラン
ジスタの一端部とが接続されており、当該第2のシャッ
ター用MOSトランジスタの他端部には、適宜のアンプ
用のMOSトランジスタを介して、一端部が第2の画像
データ出力線と接続され当該ゲート部が垂直選択線に接
続させた第2の選択用MOSトランジスタの他端部が接
続されている事を特徴とする請求項1乃至7の何れかに
記載の固体撮像装置。8. One end of the reset MOS transistor controlled by a reset signal at the other end of the photoelectric conversion element whose one end is grounded, and one end of a first shutter MOS transistor controlled by a shutter signal. And the first MOS for the shutter
The other end of the transistor has a first end connected to the first image data output line and a gate connected to the vertical selection line via a suitable amplifier MOS transistor.
The other end of the selection MOS transistor is connected to the other end of the photoelectric conversion element connected to one end of the reset MOS transistor. One end of the MOS transistor is connected, and one end of the second shutter MOS transistor is connected to a second image data output line via an appropriate MOS transistor for an amplifier. 8. The solid-state imaging device according to claim 1, wherein the other end of the second selection MOS transistor whose gate is connected to a vertical selection line is connected.
で構成されている事を特徴とする請求項1乃至8の何れ
かに記載の固体撮像装置。9. The solid-state imaging device according to claim 1, wherein said photoelectric conversion element is constituted by a photodiode.
第1のシャッター用MOSトランジスタと当該第1の選
択用MOSトランジスタとの接続部と接地部間又は当該
第2のシャッター用MOSトランジスタと当該第2の選
択用MOSトランジスタとの接続部と接地部間には、当
該光電変換素子により発生した電荷の少なくとも一部が
蓄積される部分が存在している事を特徴とする請求項1
乃至9の何れかに記載の固体撮像装置。10. A terminal between the two terminals of the photoelectric conversion element, a connection between the first shutter MOS transistor and the first selection MOS transistor and a ground, or the second shutter MOS transistor. 2. A portion where at least a part of the charge generated by the photoelectric conversion element is stored between a connection portion with the second selection MOS transistor and a ground portion.
10. The solid-state imaging device according to any one of claims 9 to 9.
の少なくとも一部が蓄積される部分は、寄生容量部とし
て認識される部分である事を特徴とする請求項10記載
の固体撮像装置。11. The solid-state imaging device according to claim 10, wherein a portion in which at least a part of the charge generated by the photoelectric conversion element is stored is a portion recognized as a parasitic capacitance portion.
Sトランジスタのソースに光電変換素子の一端と第1の
寄生容量の一端と第1のシャッター用MOSトランジス
タのソースと第2のシャッター用MOSトランジスタの
ソースが接続され、第1のシャッター用MOSトランジ
スタのドレインには第1のアンプ用MOSトランジスタ
のゲートと第2の寄生容量の一端とが接続され、第2の
シャッター用MOSトランジスタのドレインには第2の
アンプ用MOSトランジスタのゲートと第3の寄生容量
の一端が接続され、さらに第1のアンプ用MOSトラン
ジスタのドレインには第1の選択用トランジスタのソー
スが接続し、第2のアンプ用MOSトランジスタのドレ
インには第2の選択用トランジスタのソースが接続し、
第1の選択用MOSトランジスタのゲートと第2の選択
用MOSトランジスタのゲートが共通に接続され、リッ
セト用MOSトランジスタのバルクと第1のアンプ用M
OSトランジスタのソースと第2のアンプ用MOSトラ
ンジスタのソースと光電変換素子のもう一方の端子と第
1の寄生容量のもう一方の端子と第2の寄生容量のもう
一方の端子と第3の寄生容量のもう一方の端子とが共通
に接続される光電変換セルにて構成されることを特徴と
するMOS型固体撮像素子撮像装置。12. The photoelectric conversion cell according to claim 1, further comprising a MO for resetting.
One end of the photoelectric conversion element, one end of the first parasitic capacitance, the source of the first shutter MOS transistor, and the source of the second shutter MOS transistor are connected to the source of the S transistor. The gate of the first amplifier MOS transistor and one end of the second parasitic capacitance are connected to the drain, and the gate of the second amplifier MOS transistor and the third parasitic capacitor are connected to the drain of the second shutter MOS transistor. One end of the capacitor is connected, the source of the first selecting transistor is connected to the drain of the first amplifier MOS transistor, and the source of the second selecting transistor is connected to the drain of the second amplifier MOS transistor. Are connected,
The gate of the first selection MOS transistor and the gate of the second selection MOS transistor are commonly connected, and the bulk of the reset MOS transistor and the first amplifier M
The source of the OS transistor, the source of the second amplifier MOS transistor, the other terminal of the photoelectric conversion element, the other terminal of the first parasitic capacitance, the other terminal of the second parasitic capacitance, and the third parasitic A MOS-type solid-state imaging device imaging device, comprising a photoelectric conversion cell in which the other terminal of the capacitor is connected in common.
の選択用MOSトランジスタのドレインを列毎に第1の
出力線として共通に接続し、第2の選択用MOSトラン
ジスタのドレインを列毎に第2の出力線として共通に接
続し、第1のシャッター用MOSトランジスタのゲート
を第1のシャッター線として全ての光電変換セル共通に
接続し、第2のシャッター用MOSトランジスタのゲー
トを第2のシャッター線として全ての光電変換セル共通
に接続し、第1の選択用MOSトランジスタのゲートと
接続された第2の選択用MOSトランジスタのゲートは
行毎にアドレス選択線として共通に接続し、またリセッ
ト用MOSトランジスタのドレインとリセット用MOS
トランジスタのゲートはそれぞれ全ての光電変換セルで
共通に接続してマトリックス状に配列されたこと特徴と
するMOS型個体撮像装置。13. The photoelectric conversion cell according to claim 1, wherein
, The drains of the selection MOS transistors are commonly connected as a first output line for each column, the drains of the second selection MOS transistors are commonly connected as a second output line for each column, and the first shutter The gate of the MOS transistor for use as a first shutter line is commonly connected to all photoelectric conversion cells, and the gate of the MOS transistor for second shutter is commonly used as a second shutter line for all photoelectric conversion cells. The gate of the second selection MOS transistor connected to the gate of the selection MOS transistor is commonly connected as an address selection line for each row, and the drain of the reset MOS transistor and the reset MOS transistor are connected.
A MOS type solid-state imaging device, wherein the gates of the transistors are connected in common in all photoelectric conversion cells and arranged in a matrix.
アレイの列数と同数の差動増幅型回路にて構成され、そ
れぞれの差動増幅型回路の2つの入力には前記記載の第
1の出力線と第2の出力線がそれぞれ接続されている事
を特徴とする請求項1乃至13の何れかに記載のMOS
型個体撮像装置。14. The data comparison circuit is composed of the same number of differential amplification circuits as the number of columns of the photoelectric conversion cell array, and two inputs of each differential amplification circuit have the first output described above. 14. The MOS according to claim 1, wherein the first output line and the second output line are connected to each other.
Type individual imaging device.
変換セルから出力される当該第1フレームと第2フレー
ムとに於ける個々の画素データをアナログデータとして
比較する様に構成されている事を特徴とする請求項1乃
至14の何れかに記載の固体撮像装置。15. The comparison circuit according to claim 1, wherein each of the pixel data in the first frame and the second frame output from each of the photoelectric conversion cells is compared as analog data. The solid-state imaging device according to claim 1, wherein:
記載された当該固体撮像装置に於いて、個々の光電変換
セルに於ける第2のシャッター用MOSトランジスタの
ゲートをオフにし、第1のシャッター用トランジスタを
オンにして得たフレームの画素データと、次のフレーム
にて第1のシャッター用MOSトランジスタのゲートを
オフにし、第2のシャッター用トランジスタをオンにし
て得た画素データをデータ比較回路にて比較読み出しす
ることにより、常に前フレームの画像データとの比較画
像データがえられることを特徴するMOS型固体撮像装
置の駆動方法。16. The solid-state imaging device according to claim 1, wherein the gate of the second MOS transistor for shutter in each photoelectric conversion cell is turned off, The pixel data of the frame obtained by turning on the shutter transistor of the first and the pixel data obtained by turning off the gate of the first MOS transistor for the next frame and turning on the second transistor for the next frame are the data A method for driving a MOS solid-state imaging device, characterized in that comparison readout by a comparison circuit always obtains comparison image data with image data of a previous frame.
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JP2000276142A JP2002094882A (en) | 2000-09-12 | 2000-09-12 | Mos solid-state image pickup device and method for driving the same |
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