JP2002093675A - Method for producing semiconductor device comprising a plurality of chips - Google Patents

Method for producing semiconductor device comprising a plurality of chips

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JP2002093675A
JP2002093675A JP2000278464A JP2000278464A JP2002093675A JP 2002093675 A JP2002093675 A JP 2002093675A JP 2000278464 A JP2000278464 A JP 2000278464A JP 2000278464 A JP2000278464 A JP 2000278464A JP 2002093675 A JP2002093675 A JP 2002093675A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To satisfy the characteristics required for a semiconductor device without lowering the yield of each of a plurality of chips constituting the semiconductor device. SOLUTION: A decision is made, in units of wafer lot, whether the characteristic value of a chip obtained through wafer test falls within a reference level or not. When the characteristic value of chip does not fall within the reference level, an assembly is pended and when the number of pending lots reaches a preset value, characteristic data of the pending lot is transmitted to the semiconductor chip manufacturing process of other chip constituting a device in order to alter the manufacturing conditions and the pending lot is assembled in combination with a lot subjected to alteration of manufacturing conditions Furthermore, the semiconductor chip manufacturing process, a wafer test process and a device manufacturing process for assembling are connected on a computer network and information related to production, e.g. wafer test information and manufacturing conditions is transmitted/received between respective processes.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は複数チップからなる
半導体装置の生産方法に関する。
The present invention relates to a method for producing a semiconductor device comprising a plurality of chips.

【0002】[0002]

【従来の技術】複数のチップを1つの半導体デバイスに
アセンブリする場合、それぞれのチップに製造上のばら
つきがあるため、以下に述べるようなことが起こる。
2. Description of the Related Art When assembling a plurality of chips into one semiconductor device, the following will occur because each chip has manufacturing variations.

【0003】まず、複数チップからなる半導体装置の1
つとして、直流安定化電源装置(低損失レギュレータ)
がある。直流安定化電源装置は、図1に示すように、制
御用ICチップ2と、負荷電流を流すことのできる出力
用トランジスタチップ(PNPトランジスタチップ)3
の組み合わせで構成されており、安定化された電圧を出
力端子6に出力するデバイスである。
[0003] First, one of semiconductor devices composed of a plurality of chips is described.
First, DC stabilized power supply (low-loss regulator)
There is. As shown in FIG. 1, the DC stabilized power supply includes a control IC chip 2 and an output transistor chip (PNP transistor chip) 3 through which a load current can flow.
And outputs a stabilized voltage to the output terminal 6.

【0004】直流安定化電源装置1の付加的な回路とし
て、過電流保護回路4というものが一般的に組み込まれ
ている。この過電流保護回路4により得られる過電流特
性とは、低損失レギュレータの出力電流として異常に高
い電流、つまり過電流が流れた場合、その出力電流を減
少させる特性であり、安全性の高いデバイスとして極め
て重要な特性である。
As an additional circuit of the stabilized DC power supply 1, an overcurrent protection circuit 4 is generally incorporated. The overcurrent characteristic obtained by the overcurrent protection circuit 4 is a characteristic that, when an abnormally high current as an output current of the low-loss regulator, that is, an overcurrent flows, the output current is reduced, and a device with high safety is provided. This is a very important characteristic.

【0005】この過電流保護回路4の動作原理は、制御
用ICチップ2内のNPNトランジスタ5のエミッタか
らの電流を過電流保護回路4内の検出抵抗でモニター
し、その値が設定された値以上になれば、NPNトラン
ジスタ5のベース電流を減少させ、図2に示すように出
力電流Icを減少させるというものである。
The principle of operation of the overcurrent protection circuit 4 is that a current from the emitter of the NPN transistor 5 in the control IC chip 2 is monitored by a detection resistor in the overcurrent protection circuit 4 and the value is set to a set value. As described above, the base current of the NPN transistor 5 is reduced, and the output current Ic is reduced as shown in FIG.

【0006】言い換えれば、出力用トランジスタチップ
3のベース電流をモニターしているため、過電流保護回
路48内の検出抵抗値の製造上のばらつきや出力用トラ
ンジスタチップ3の電流増幅率(hFE)の製造上のば
ららつきが積算されて、実際に過電流がかかる出力電流
値がばらつくことになる。
In other words, since the base current of the output transistor chip 3 is monitored, manufacturing variations in the detection resistance value in the overcurrent protection circuit 48 and the current amplification factor (hFE) of the output transistor chip 3 are reduced. The variation in manufacturing is integrated, and the output current value to which an overcurrent is actually applied varies.

【0007】例えば、過電流保護回路4内の検出抵抗値
が小さい方にばらつき、出力用トランジスタチップ3の
hFEが大きい方にばらついた場合、出力電流Icの過
電流検出ポイントは大きくなる方(図2の)になり、
その逆であれば、小さくなる方(図2の)になる。
For example, when the detection resistance value in the overcurrent protection circuit 4 varies to a smaller value and the hFE of the output transistor chip 3 varies to a larger value, the overcurrent detection point of the output current Ic increases (see FIG. 2)
If the opposite is true, the smaller one will be (FIG. 2).

【0008】もう少し、具体的に説明すると、過電流保
護回路4では、その回路内部の過電流検出抵抗の両端の
電圧が予め設定された電圧値以上になれば、過電流保護
が動作し、ポイントP(図1)のベース電流を絞ること
になる。
More specifically, in the overcurrent protection circuit 4, when the voltage across the overcurrent detection resistor in the circuit becomes equal to or higher than a preset voltage value, the overcurrent protection is activated, The base current of P (FIG. 1) will be reduced.

【0009】具体的な数値で説明すると、過電流検出抵
抗値の中心値を30Ω、出力用トランジスタチップ3の
hFEの中心値を140、過電流検出抵抗の両端の予め
設定された電圧を0.9Vとすると、製造上のばらつき
として、通常、過電流検出抵抗値は±20%程度ばらつ
き(24Ω〜36Ω)、出力用トランジスタチップ3の
hFEは80〜200程度ばらつく。
[0009] Explaining in concrete numerical values, the center value of the overcurrent detection resistance value is 30Ω, the center value of the hFE of the output transistor chip 3 is 140, and the preset voltage at both ends of the overcurrent detection resistor is. When the voltage is set to 9 V, as a manufacturing variation, usually, the overcurrent detection resistance value varies by about ± 20% (24Ω to 36Ω), and the hFE of the output transistor chip 3 varies by about 80 to 200.

【0010】従って、過電流検出抵抗値がMAX.36
Ωになったときには、過電流保護回路4は、NPNトラ
ンジスタ5のベース電流が25mAの時に動作する。こ
の制御用ICチップ2と、hFE=80の出力用トラン
ジスタチップ3が組み合わされると、出力電流として2
Aで過電流保護がかかることになる。また、逆の場合、
過電流検出抵抗値がMIN.24Ωの制御用ICチップ
2と、hFE=200の出力用トランジスタ3とが組合
わさった場合は、出力電流が7.5Aにならないと過電
流保護がかからない。
Accordingly, when the overcurrent detection resistance value is MAX. 36
When it becomes Ω, the overcurrent protection circuit 4 operates when the base current of the NPN transistor 5 is 25 mA. When this control IC chip 2 and the output transistor chip 3 with hFE = 80 are combined, the output current becomes 2
At A, overcurrent protection is applied. In the opposite case,
When the overcurrent detection resistance value is MIN. When the control IC chip 2 of 24Ω and the output transistor 3 of hFE = 200 are combined, the overcurrent protection is not activated unless the output current becomes 7.5A.

【0011】このように、通常のばらつきでランダムに
2つのチップを組み合わせると特性的にかなり大きなば
らつきになる場合が多い。
As described above, when two chips are randomly combined with normal variations, the characteristics often become considerably large.

【0012】従来は、この過電流検出ポイントのばらつ
きを抑えるため、それぞれのチップ2,3の該当項目の
検査基準(制御用ICであれば過電流保護回路内の検出
値の検査基準、出力用トランジスタであればhFEの基
準値)を厳しく設定するか、あるいは、ばらつきを見込
んで直流安定化電源装置1の放熱特性を、チップ組み合
わせ特性がワーストの場合(図2の)であっても満足
できるように設計している。
Conventionally, in order to suppress the variation of the overcurrent detection point, the inspection standard of the corresponding item of each chip 2 and 3 (the inspection standard of the detection value in the overcurrent protection circuit for the control IC, and the output standard) In the case of a transistor, the reference value of the hFE is strictly set, or the heat radiation characteristics of the DC stabilized power supply 1 can be satisfied even if the chip combination characteristics are the worst (FIG. 2) in anticipation of variation. It is designed to be.

【0013】一方、従来の半導体装置の生産システム
は、半導体チップ製造工程、半導体チップテスト工程
(ウエハテスト工程)、半導体デバイス製造工程などが
それぞれ独立したコンピュータにより制御され、各々の
進行状況、テスト歩留り状況及び仕掛在庫状況などが管
理されていた。
On the other hand, in a conventional semiconductor device production system, a semiconductor chip manufacturing process, a semiconductor chip test process (wafer test process), a semiconductor device manufacturing process, and the like are controlled by independent computers, respectively. The status and the work-in-progress stock status were managed.

【0014】また、チップ製造工場とチップテスト工
場、チップのアセンブリ工場が違っており、近年では、
海外でのアセンブリ工場への展開と、各工場間の物理的
距離が離れる傾向がある。
Further, a chip manufacturing factory, a chip test factory, and a chip assembly factory are different.
There is a tendency that the physical distance between each factory and the assembly factories overseas is increasing.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】前記したように、複数
の半導体チップを1デバイスにアセンブリし、1つの半
導体装置として製造する場合、それぞれのチップの製造
上の特性ばらつきが積算されて、半導体装置として大き
なばらつきとなってしまう。このばらつきを抑えるた
め、それぞれのチップのテスト基準を厳しいものにする
と、チップの良品率(歩留り)が下がるという問題が起
こる。
As described above, when a plurality of semiconductor chips are assembled into one device and manufactured as one semiconductor device, the characteristic variations in the manufacturing of each chip are integrated, and the semiconductor device is manufactured. Will result in a large variation. If the test standard of each chip is strict in order to suppress this variation, there arises a problem that the non-defective product rate (yield) of the chip decreases.

【0016】また、半導体装置に要求される特性につい
ても、従来以上に厳しい特性が要求されてきており、こ
れに対応するには、チップのテスト基準をより一層厳し
くする必要があり、チップの良品率がさらに低下すると
いう問題が発生する。
In addition, as for the characteristics required for the semiconductor device, stricter characteristics than before are required, and in order to cope with this, it is necessary to further strictly set the chip test standard. The problem that a rate falls further arises.

【0017】一方、1デバイスにアセンブリする複数チ
ップの各々のテスト基準を比較的広く設定して、1つの
半導体装置を製造すると、その積算されたばらつきをも
ってもいいような半導体装置となるため商品価値がなく
なってしまう。
On the other hand, if one semiconductor device is manufactured by setting a relatively wide test standard for each of a plurality of chips to be assembled into one device, the resulting semiconductor device can have the integrated variation. Is gone.

【0018】例えば、図1に示す直流安定化電源装置1
の場合、組み合わせ特性がワーストの場合を想定した設
計(放熱特性を考慮した設計)により、装置自体の寸法
(フレーム寸法等)が大きくなってしまう。
For example, the stabilized DC power supply 1 shown in FIG.
In the case of (1), the dimensions (frame dimensions, etc.) of the apparatus itself are increased by the design that assumes the worst combination characteristic (design considering heat radiation characteristics).

【0019】本発明はそのような実情に鑑みてなされた
もので、半導体装置を構成する複数チップの各々の歩留
りを低下させることなく、半導体装置に要求される特性
を満足することのできる半導体装置の生産方法の提供を
目的とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, and a semiconductor device capable of satisfying characteristics required for a semiconductor device without lowering the yield of each of a plurality of chips constituting the semiconductor device. The purpose is to provide a production method.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】本発明は、複数チップを
1デバイスにアセンブリし、1つの半導体装置として生
産する方法において、アセンブリを行う複数チップのう
ちの特定チップのウエハテスト情報を用いてそのチップ
特性値が基準値内に入っているか否かをウエハ単位もし
くはウエハロット単位で判定し、チップ特性値が基準値
内に入っている場合はウェハ単位もしくはウエハロット
単位でアセンブリを実行しする。また、チップ特性値が
基準値内に入っていない場合にはアセンブリを保留し、
その保留ウエハ数もしくは保留ロット数が予め設定した
数量以上となったときに、保留ウエハもしくは保留ロッ
トの特性データを、特定チップの以外の半導体チップ製
造工程に送信し、その半導体チップ製造工程での製造条
件を送信特性データに基づいて変更することによって特
徴づけられる。
According to the present invention, there is provided a method of assembling a plurality of chips into one device and producing the same as a single semiconductor device, using a wafer test information of a specific chip among the plurality of chips to be assembled. It is determined whether or not the chip characteristic value is within the reference value on a wafer or wafer lot basis. If the chip characteristic value is within the reference value, assembly is performed on a wafer or wafer lot basis. Also, if the chip characteristic value is not within the reference value, suspend the assembly,
When the number of the reserved wafers or the number of the reserved lots becomes equal to or larger than a preset number, the characteristic data of the reserved wafer or the reserved lot is transmitted to a semiconductor chip manufacturing process other than the specific chip, and It is characterized by changing the manufacturing conditions based on the transmission characteristic data.

【0021】この発明によれば、1デバイスを構成する
チップ、例えば出力用トランジスタチップのhFE値の
広い範囲まで使用することができ、チップを無駄なく使
用することができる。また、ダイボンド投入保留ロット
があるロット数以上になれば定期的にチップ製造工程に
その情報がフィードバックされるので、マッチングの取
れないチップを多量に製造することなく、的確なチップ
の在庫管理が可能になる。
According to the present invention, the chip constituting one device, for example, the hFE value of the output transistor chip can be used over a wide range, and the chip can be used without waste. In addition, if the number of die-bonding pending lots exceeds a certain number of lots, the information is periodically fed back to the chip manufacturing process, so accurate chip inventory management is possible without producing a large number of unmatched chips. become.

【0022】本発明は、複数チップを1デバイスにアセ
ンブリし、1つの半導体装置として生産する方法におい
て、アセンブリを行う複数チップの各々のウエハテスト
情報を用いて、各チップについて特性値が基準値内に入
っているか否かをウエハ単位もしくはウエハロット単位
で判定し、各チップの特性値が基準値内に入っている場
合は、それらチップのアセンブリをウエハ単位もしくは
ウエハロット単位で実行する。また、特性値が基準値内
に入っていないチップについてはアセンブリを保留し、
その保留中の複数種のチップについて特性値をウエハ単
位もしくはウエハロット単位で比較し、デバイスとして
の特性を満足する組み合わせがあれば、その組み合わせ
でアセンブリを行うことによって特徴づけられる。
According to the present invention, in a method of assembling a plurality of chips into one device and producing as one semiconductor device, the characteristic value of each chip is within a reference value by using wafer test information of each of the plurality of chips to be assembled. It is determined whether or not each chip is included in each wafer or each wafer lot. If the characteristic value of each chip is within the reference value, the assembly of the chips is performed in each wafer or each wafer lot. In addition, for chips whose characteristic values are not within the reference values, the assembly is suspended,
The characteristic values of the plurality of pending chips are compared in units of wafers or wafer lots, and if there is a combination that satisfies the characteristics as a device, it is characterized by performing assembly with the combination.

【0023】この発明によれば、1デバイスを構成する
チップ、例えば制御用ICチップと出力用トランジスタ
チップの各チップの特性値が基準値に入っていない場合
でも、デバイスとしての特性を満足するチップの組み合
わせを選択してチップアセンブリを行うので、制御用I
Cチップの過電流検出抵抗値及び出力用トランジスタチ
ップのhFE値の各特性値を広い範囲まで使用すること
ができる。従ってチップを無駄なく使用することができ
る。
According to the present invention, a chip that satisfies the characteristics as a device even when the characteristic values of the chips constituting one device, for example, the control IC chip and the output transistor chip do not fall within the reference values. The chip assembly is performed by selecting the combination of
Each characteristic value of the overcurrent detection resistance value of the C chip and the hFE value of the output transistor chip can be used in a wide range. Therefore, the chips can be used without waste.

【0024】この発明において、保留中の複数種のチッ
プのうち、デバイスとしての特性を満足する組み合わせ
がないチップのウエハもしくはウエハロットについては
アセンブリを再保留し、その保留ウエハ数もしくはロッ
ト数が予め設定した数量以上となったときに、保留ウエ
ハもしくは保留ロットの特性データを、この再保留対象
となったチップ以外の半導体チップ製造工程に送信し、
その半導体チップ製造工程での製造条件を送信特性デー
タに基づいて変更するようにしてもよい。
In the present invention, of a plurality of types of pending chips, a wafer or a wafer lot of a chip having no combination satisfying the characteristics as a device is resuspended, and the number of reserved wafers or lots is set in advance. When the quantity becomes equal to or greater than the quantity, the characteristic data of the reserved wafer or the reserved lot is transmitted to the semiconductor chip manufacturing process other than the chip that has been re-reserved,
The manufacturing conditions in the semiconductor chip manufacturing process may be changed based on the transmission characteristic data.

【0025】このような処理を採用すれば、ダイボンド
投入保留ロットがあるロット数以上になれば定期的にチ
ップ製造工程にその情報がフィードバックされるので、
マッチングの取れないチップを多量に製造することな
く、的確なチップの在庫管理が可能になる。
If such processing is adopted, the information is periodically fed back to the chip manufacturing process when the number of die-bonding-pending lots exceeds a certain number of lots.
Accurate chip inventory management becomes possible without producing a large number of unmatched chips.

【0026】以上の各発明において、アセンブリする複
数チップをそれぞれ個別に製造する複数の半導体チップ
製造工程と、各チップのウエハテストを行う複数のウエ
ハテスト工程と、アセンブリを行うデバイス製造工程と
を、インターネット等のコンピュータネットワーク上で
接続し、前記ウエハテスト情報及びアセンブリ保留に関
する情報等の生産関連情報を、各工程間において送受信
するように構成してもよい。
In each of the above inventions, a plurality of semiconductor chip manufacturing steps for individually manufacturing a plurality of chips to be assembled, a plurality of wafer test steps for performing a wafer test on each chip, and a device manufacturing step for performing an assembly are described. A connection may be made on a computer network such as the Internet so that the production-related information such as the wafer test information and the information on suspension of assembly may be transmitted and received between the respective steps.

【0027】このようなネットワークシステムを構築し
ておけば、半導体チップ製造工程、ウエハテスト工程、
デバイス製造工程がそれぞれ独立したコンピュータによ
り制御され、さらに、半導体チップ製造工場、ウエハテ
スト工場、デバイス製造工場が遠く離れていたとして
も、ウエハテスト情報、アセンブリ保留情報及び保留ロ
ットの特性データ等の生産関連情報を各工場間において
相互に活用することが可能となり、工程間の距離をつめ
ることができる。
If such a network system is constructed, a semiconductor chip manufacturing process, a wafer test process,
The device manufacturing process is controlled by independent computers, and even if the semiconductor chip manufacturing factory, wafer test factory, and device manufacturing factory are far apart, production of wafer test information, assembly pending information, and reserved lot characteristic data, etc. The related information can be mutually utilized between the factories, and the distance between the processes can be reduced.

【0028】また、半導体チップ製造工程と、ウエハテ
スト工程と、デバイス製造工程とを、インターネット等
のコンピュータネットワークを経由してホストコンピュ
ータに接続しておけば、ウエハテスト情報、アセンブリ
保留情報及び保留ロットの特性データ等の生産関連情報
のやりとり、各工程の制御などを一括して管理すること
が可能なる。また、顧客の注文をインターネットを経由
してホストコンピュータで受け、注文通りの特性を有す
る半導体装置(例えば直流安定化電源装置)を生産でき
るというシステムを構築することが可能となり、顧客の
ニーズにあった製品をタイムリに生産することが可能に
なる。
If the semiconductor chip manufacturing process, the wafer test process, and the device manufacturing process are connected to a host computer via a computer network such as the Internet, wafer test information, assembly suspension information and suspension lots can be obtained. It is possible to collectively manage the exchange of production-related information such as characteristic data and control of each process. In addition, it is possible to build a system capable of receiving a customer's order through a host computer via the Internet and producing a semiconductor device (for example, a DC stabilized power supply) having the characteristics as ordered, meeting customer needs. Products can be produced in a timely manner.

【0029】本発明は、複数チップを1デバイスにアセ
ンブリし、1つの半導体装置として生産する方法におい
て、アセンブリを行う複数チップの各々のウエハテスト
情報を用い、それらテスト情報をウエハ上に互いに対応
する位置関係でマッピングし、そのマッピングテストデ
ータに基づいて、デバイスとしての特性を満足する最適
な組み合わせのチップを選び、その組み合わせでアセン
ブリを行うことによって特徴づけられる。
According to the present invention, in a method of assembling a plurality of chips into one device and producing it as one semiconductor device, wafer test information of each of a plurality of chips to be assembled is used, and the test information corresponds to each other on a wafer. Characterization is performed by mapping in a positional relationship, selecting an optimal combination of chips that satisfies device characteristics based on the mapping test data, and assembling with the combination.

【0030】この発明によれば、各チップの製造上の特
性のばらつきが大きくても、複数チップを組み合わせた
場合のトータルの特性が良くなるようなチップ組み合わ
せを選んでアセンブリを行うので、各チップの特性ばら
つきが積算されて、アセンブリとしての特性が悪くなる
という問題を解消することができる。
According to the present invention, even if there is a large variation in the manufacturing characteristics of each chip, the assembly is performed by selecting a chip combination that improves the total characteristics when a plurality of chips are combined. Can be solved by accumulating the characteristic variations of the above, and deteriorating the characteristics as an assembly.

【0031】この発明において、アセンブリを行う複数
チップの各々のウエハテスト情報を用い、各チップの特
性値をウエハ単位もしくはウエハロット単位で比較し、
所定の基準に基づいてウエハもしくはウエハロットの組
み合わせを選んだ後に、前記マッピング処理を実行する
ようにしてもよい。
In the present invention, the characteristic value of each chip is compared for each wafer or wafer lot using wafer test information of each of a plurality of chips to be assembled.
The mapping process may be executed after selecting a combination of wafers or wafer lots based on a predetermined criterion.

【0032】この発明において、アセンブリする複数チ
ップをそれぞれ個別に製造する複数の半導体チップ製造
工程と、各チップのウエハテストを行う複数のウエハテ
スト工程と、アセンブリを行うデバイス製造工程とを、
コンピュータネットワーク上で接続し、前記ウエハテス
ト情報及びマッピングテストデータ等の生産関連情報
を、各工程間において送受信するように構成してもよ
い。
In the present invention, a plurality of semiconductor chip manufacturing processes for individually manufacturing a plurality of chips to be assembled, a plurality of wafer test processes for performing a wafer test for each chip, and a device manufacturing process for performing an assembly are
A connection may be made on a computer network so that production-related information such as the wafer test information and the mapping test data is transmitted and received between the respective steps.

【0033】このようなネットワークシステムを構築し
ておけば、半導体チップ製造工程、ウエハテスト工程、
デバイス製造工程がそれぞれ独立したコンピュータによ
り制御され、さらに、半導体チップ製造工場、ウエハテ
スト工場、デバイス製造工場が遠く離れていたとして
も、ウエハテスト情報、マッピングテストデータ及びウ
エハロットの比較情報等の生産関連情報を各工場間にお
いて相互に活用することが可能となり、工程間の距離を
つめることができる。
If such a network system is constructed, a semiconductor chip manufacturing process, a wafer test process,
The device manufacturing process is controlled by independent computers, and even if the semiconductor chip manufacturing factory, wafer test factory, and device manufacturing factory are far apart, production related information such as wafer test information, mapping test data, and wafer lot comparison information. Information can be mutually used between the factories, and the distance between processes can be reduced.

【0034】また、半導体チップ製造工程と、ウエハテ
スト工程と、デバイス製造工程とを、インターネット等
のコンピュータネットワークを経由してホストコンピュ
ータに接続しておけば、ウエハテスト情報、マッピング
テストデータ及びウエハロットの比較情報等の生産関連
情報のやりとり、各工程の制御などを一括して管理する
ことが可能なる。また、顧客の注文をインターネットを
経由してホストコンピュータで受け、注文通りの特性を
有する半導体装置(例えば直流安定化電源装置)を生産
できるというシステムを構築することが可能となり、顧
客のニーズにあった製品をタイムリに生産することが可
能になる。
If the semiconductor chip manufacturing process, the wafer test process, and the device manufacturing process are connected to a host computer via a computer network such as the Internet, the wafer test information, mapping test data, and wafer lot number can be obtained. It is possible to collectively manage exchange of production-related information such as comparison information and control of each process. In addition, it is possible to build a system capable of receiving a customer's order through a host computer via the Internet and producing a semiconductor device (for example, a DC stabilized power supply) having the characteristics as ordered, meeting customer needs. Products can be produced in a timely manner.

【0035】[0035]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0036】本実施形態では、出力用トランジスタチッ
プ(PNPトランジスタチップ)と制御用ICチップの
2つのチップを組み合わせて直流安定化電源装置(図1
参照)を生産する方法に本発明を適用した例を示してい
る。
In this embodiment, a DC stabilized power supply (FIG. 1) is constructed by combining two chips of an output transistor chip (PNP transistor chip) and a control IC chip.
2) shows an example in which the present invention is applied to a method for producing the same.

【0037】まず、直流安定化電源装置を製造する場合
の工程を大別すると、図3に示すように、制御用ICチ
ップ製造工程11及び出力用トランジスタチップ製造工
程12と、これら製造工程11,12で製造されたウエ
ハの特性テストをそれぞれ個別に行うウエハテスト工程
21,22と、デバイス製造工程(直流安定化電源装置
製造工程)30に分けられる。これらの工程は1つの工
場内に配置されている場合もあるが、遠隔地の工場に分
散している場合もある。
First, the steps in the case of manufacturing a stabilized DC power supply device are roughly classified, as shown in FIG. 3, as shown in FIG. 3, a control IC chip manufacturing step 11 and an output transistor chip manufacturing step 12. The wafer test processes 21 and 22 for individually performing the characteristic tests of the wafers manufactured in Step 12 and the device manufacturing process (DC stabilized power supply device manufacturing process) 30 are performed. These steps may be located in a single factory or may be distributed to remote factories.

【0038】制御用ICチップ製造工程11と出力用ト
ランジスタチップ製造工程12は、それぞれ、各工程を
制御する制御部11a,12aと、エピタキシャル工程
11b,12b及びその制御部と、アイソレーション工
程11c,12c及びその制御部と、拡散工程及11
d,12d及びその制御部と、インターフェース11
e,12e等によって構成されている。
The control IC chip manufacturing step 11 and the output transistor chip manufacturing step 12 include control sections 11a and 12a for controlling the respective steps, epitaxial steps 11b and 12b and their control sections, and isolation steps 11c and 11c. 12c and its control unit, the diffusion process and 11
d, 12d and their control units and interface 11
e, 12e and the like.

【0039】ウエハテスト工程21,22は、それぞれ
テスト工程21a,22a及びその制御部と、記憶部2
1b,22bと、インターフェース21c,22c等に
よって構成されている。
The wafer test processes 21 and 22 are respectively composed of test processes 21 a and 22 a and their control units,
1b and 22b, and interfaces 21c and 22c.

【0040】デバイス製造工程30は、テストされた2
つのチップを1つの半導体デバイスにする工程で、チッ
プダイボンド組み合せ制御部30a、トランジスタチッ
プダイボンド工程30b、Icチップダイボンド工程3
0c、ワイヤーボンド工程30d、モールド工程30
e、及びインターフェース部30fなどによって構成さ
れている。
The device manufacturing process 30 includes the tested 2
In the step of converting one chip into one semiconductor device, a chip die bond combination control unit 30a, a transistor chip die bond step 30b, an Ic chip die bond step 3
0c, wire bonding step 30d, molding step 30
e, an interface unit 30f, and the like.

【0041】以上の各製造工程11,12、各ウエハテ
スト工程21,22、デバイス製造工程30の各インタ
ーフェース11e,12e,21c,22c,30f
は、インターネット等のコンピュータネットワーク上で
接続されており、各工程間において情報の送受信を行う
ことができる。
The interfaces 11e, 12e, 21c, 22c, and 30f of the above-described manufacturing steps 11 and 12, the wafer testing steps 21 and 22, and the device manufacturing step 30.
Is connected on a computer network such as the Internet, and can transmit and receive information between each process.

【0042】以下に、本実施形態の詳細を説明する。The details of the present embodiment will be described below.

【0043】まず、直流安定化電源装置の過電流検出電
流がばらつく要因は、主に出力用トランジスタチップの
hFEである。その理由は、制御用ICチップの過電流
保護回路内の検出抵抗(過電流検出抵抗値)の製造上の
ばらつきは比較的小さくて、例えば26〜34Ωの範囲
であるのに対し、出力用トランジスタチップのhFE特
性の製造上のばらつきは、例えば80〜200程度と大
きくて、hFE特性のばらつきがデバイス特性に大きく
影響することによる。
First, the cause of variation in the overcurrent detection current of the stabilized DC power supply device is mainly the hFE of the output transistor chip. The reason for this is that the manufacturing variation of the detection resistor (overcurrent detection resistance value) in the overcurrent protection circuit of the control IC chip is relatively small, for example, in the range of 26 to 34Ω, while the output transistor The variation in the hFE characteristics of the chip in manufacturing is as large as, for example, about 80 to 200, and the variation in the hFE characteristics greatly affects the device characteristics.

【0044】そこで、この実施形態では、出力用トラン
ジスタチップのばらつきを考慮して、図4に示す処理に
てチップアセンブリを行う。この図4の処理はデバイス
製造工程30のチップダイボンド組み合せ制御部30a
にて実行する。
Therefore, in this embodiment, the chip assembly is performed by the processing shown in FIG. 4 in consideration of the variation of the output transistor chip. 4 is performed by the chip die bond combination control unit 30a in the device manufacturing process 30.
Execute at

【0045】まず、ウエハテスト工程22(Bテスト工
程)から、コンピュータネットワークを介して送信され
てきた出力用トランジスタチップ(チップB)のウエハ
テスト情報(チップBテスト情報)を受信し(ST
1)、ある特性値が予め設定された基準値内にある否か
を判定する(ST2)。
First, wafer test information (chip B test information) of an output transistor chip (chip B) transmitted via a computer network is received from wafer test step 22 (B test step) (ST).
1) It is determined whether or not a certain characteristic value is within a preset reference value (ST2).

【0046】具体的には、ウエハテスト情報のhFE値
が120〜160の範囲にあるか否か判定する。hFE
値が基準値内にあれば、出力用トランジスタチップ(チ
ップB)のウエハロットをデバイス製造工程30内のト
ランジスタチップダイボンド工程30bに投入する(S
T3)。その際、比較的ばらつきの小さい制御用ICチ
ップのウエハロットもIcチップダイボンド工程30c
に投入し(ST4)、この組合せでダイボンドを実施す
る(ST5)。
Specifically, it is determined whether the hFE value of the wafer test information is in the range of 120 to 160. hFE
If the value is within the reference value, the wafer lot of the output transistor chip (chip B) is put into the transistor chip die bonding step 30b in the device manufacturing step 30 (S
T3). At this time, the wafer lot of the control IC chip having relatively small variation is also reduced to the Ic chip die bonding step
(ST4), and die bonding is performed with this combination (ST5).

【0047】hFE値が基準値内に入っていない場合、
そのウエハロットついては、ダイボンド工程への投入を
保留する(ST6)。その保留ロット数が予め設定され
たロット数以上になった時点で、保留ロットの特性デー
タ(hFE値)を制御用ICチップ製造工程11(A製
造工程)に送信する(ST7)。
When the hFE value is not within the reference value,
The wafer lot is put on hold in the die bonding step (ST6). When the number of reserved lots becomes equal to or greater than the preset number of lots, the characteristic data (hFE value) of the reserved lot is transmitted to the control IC chip manufacturing process 11 (A manufacturing process) (ST7).

【0048】特性データを制御用ICチップ製造工程1
1が受信すると、この製造工程11の制御部11aが、
各工程11b,11c,11dの制御部に、受信送信デ
ータ(hFE値)にマッチングするような製造条件の変
更を指示する(ST8)。
Process 1 for manufacturing IC chip for controlling characteristic data
When 1 is received, the control unit 11a of the manufacturing process 11
The control unit in each of the steps 11b, 11c, and 11d is instructed to change the manufacturing conditions so as to match the received transmission data (hFE value) (ST8).

【0049】具体的には、保留ロットにhFE値が高い
もの、例えば160以上のものがある場合、制御用IC
チップ製造工程11の制御部11aは、制御用ICチッ
プの過電流保護回路4(図1)内の検出抵抗の値を大き
くする方向の製造条件の変更を必要な工程に対して指示
する。
More specifically, if there are lots of reserved lots having a high hFE value, for example, 160 lots or more, the control IC
The control unit 11a in the chip manufacturing process 11 instructs a necessary process to change the manufacturing condition in a direction to increase the value of the detection resistor in the overcurrent protection circuit 4 (FIG. 1) of the control IC chip.

【0050】このようにして製造条件を変更した制御用
ICチップのウエハロット(Aウエハロット)とダイボ
ンド工程投入を保留していた出力用トランジスタチップ
のウエハロットを組み合わせてダイボンドを行う(ST
9)。
Die bonding is performed by combining the control IC chip wafer lot (A wafer lot) whose manufacturing conditions have been changed in this way with the output transistor chip wafer lot for which the die-bonding process input has been suspended (ST).
9).

【0051】この実施形態によれば、出力用トランジス
タチップのhFE値の広い範囲まで使用することがで
き、チップを無駄なく使用することができる。また、ダ
イボンド投入保留ロットがあるロット数以上になれば定
期的にチップ製造工程にその情報がフィードバックされ
るので、マッチングの取れないチップを多量に製造する
ことなく、的確なチップの在庫管理が可能になる。
According to this embodiment, the hFE value of the output transistor chip can be used over a wide range, and the chip can be used without waste. In addition, if the number of die-bonding pending lots exceeds a certain number of lots, the information is periodically fed back to the chip manufacturing process, so accurate chip inventory management is possible without producing a large number of unmatched chips. become.

【0052】次に、本発明の他の実施形態を説明する。Next, another embodiment of the present invention will be described.

【0053】この実施形態は、制御用ICチップ及び出
力用トランジスタチップの双方のチップにおいて製造上
の特性ばらつきが比較的大きな場合の処理の一例であ
る。
This embodiment is an example of processing in a case where the variation in manufacturing characteristics is relatively large in both the control IC chip and the output transistor chip.

【0054】この実施形態では、デバイス製造工程30
のチップダイボンド組合せ制御部30aにて図5の処理
を実施する。その具体的な処理内容を説明する。
In this embodiment, the device manufacturing process 30
The process of FIG. 5 is performed by the chip die bond combination control unit 30a. The specific processing content will be described.

【0055】<制御用ICチップ(チップA)の処理>
ウエハテスト工程21(Aテスト工程)から、コンピュ
ータネットワークを介して送信されてきた制御用ICチ
ップのウエハテスト情報(チップAテスト情報)を受信
し(STa1)、ある特性値が予め設定された基準値内
にあるか否かを判定する(STa2)。
<Processing of Control IC Chip (Chip A)>
From the wafer test process 21 (A test process), wafer test information (chip A test information) of the control IC chip transmitted via the computer network is received (STa1), and a certain characteristic value is set to a predetermined reference. It is determined whether the value is within the value (STa2).

【0056】具体的には、ウエハテスト情報の過電流検
出抵抗値が28〜32Ωの範囲にあるか否かを判定す
る。過電流検出抵抗値が基準値内にあれば、制御用IC
チップのウエハロットを、デバイス製造工程30内のI
cチップダイボンド工程30bに投入する(STa
3)。制御用ICチップの過電流検出抵抗値が基準値内
に入っていない場合には、そのウエハロットついては、
ダイボンド工程への投入を保留(保留A1 )する(ST
a4)。
Specifically, it is determined whether or not the overcurrent detection resistance value in the wafer test information is in the range of 28 to 32Ω. If the overcurrent detection resistance value is within the reference value, the control IC
The wafer lot of the chip is determined by the I in the device manufacturing process 30.
c chip die bonding step 30b (STa
3). If the overcurrent detection resistance value of the control IC chip is not within the reference value, the wafer lot is
Suspend the input to the die bonding process (reservation A1) (ST
a4).

【0057】<出力用トランジスタチップ(チップB)
の処理>ウエハテスト工程22(Bテスト工程)から、
コンピュータネットワークを介して送信されてきた出力
用トランジスタチップ(チップB)のウエハテスト情報
(チップBテスト情報)を受信し(STb1)、ある特
性値が予め設定された基準値内にある否かを判定する
(STb2)。
<Output Transistor Chip (Chip B)
Processing> From wafer test step 22 (B test step),
It receives wafer test information (chip B test information) of the output transistor chip (chip B) transmitted via the computer network (STb1) and determines whether or not a certain characteristic value is within a preset reference value. A determination is made (STb2).

【0058】具体的には、ウエハテスト情報のhFE値
が120〜160の範囲にあるか否か判定する。hFE
値が基準値内にあれば、出力用トランジスタチップのウ
エハロットをデバイス製造工程30内のトランジスタチ
ップダイボンド工程30bに投入する(STb3)。出
力用トランジスタチップのhFE値が基準値内に入って
いない場合、そのウエハロットついては、ダイボンド工
程への投入を保留(保留B1 )する(STb4)。
Specifically, it is determined whether the hFE value of the wafer test information is in the range of 120 to 160. hFE
If the value is within the reference value, the wafer lot of the output transistor chip is put into the transistor chip die bonding step 30b in the device manufacturing step 30 (STb3). If the hFE value of the output transistor chip does not fall within the reference value, the wafer lot is put on hold in the die bonding step (hold B1) (STb4).

【0059】<ダイボンド処理>ステップSTa3の処
理にてIcチップダイボンド工程30bに投入されたウ
エハロットと、ステップSTb3の処理にてトランジス
タチップダイボンド工程30bに投入されたウエハロッ
トとの組み合わせでダイボンドを実施する(STc
1)。
<Die Bonding Process> Die bonding is performed by combining the wafer lot input to the Ic chip die bonding process 30b in the process of step STa3 with the wafer lot input to the transistor chip die bonding process 30b in the process of step STb3 ( STc
1).

【0060】<組み合わせ処理>ダイボンド工程投入を
保留した制御用ICチップのウエハロット(保留A1 )
の特性値と、ダイボンド工程投入を保留した出力用トラ
ンジスタチップのウエハロット(保留B1 )の特性値と
を相互に比較して(STa5,STb5)、デバイスと
しての特性を満足する組み合わせがあれば、それらウエ
ハロットをダイボンド工程に投入し(STa6,STb
6)、その組み合わせでダイボンドを実施する(STc
2)。
<Combination processing> Wafer lot of control IC chips for which the die bonding process input has been suspended (reservation A1)
Is compared with the characteristic values of the wafer lot (reservation B1) of the output transistor chips for which the input of the die bonding process is suspended (STa5, STb5), and if there is a combination that satisfies the characteristics as a device, The wafer lot is put into the die bonding process (STa6, STb
6), die bonding is performed with the combination (STc)
2).

【0061】<製造条件の変更処理>ステップSTa
5,STb5の処理において、デバイスとしての特性を
満足する組み合わせがない場合、これら組み合わせ不可
のチップのウエハロットについては、ダイボンド工程へ
の投入を再保留(保留A2 ,保留B2 )する(STa
7,STb7)。
<Process for Changing Manufacturing Conditions> Step STa
If there is no combination that satisfies the characteristics as a device in the processing of STb5 and STb5, the wafer lots of these uncombinable chips are re-reserved (reservation A2, reservation B2) for the die bonding process (STa).
7, STb7).

【0062】次に、制御用ICチップの保留ロット数
(保留A2 )が予め設定されたロット数以上になったと
きには、保留ロットの特性データ(過電流検出抵抗値)
を出力用トランジスタチップ製造工程12(B製造工
程)に送信する(STa8)。特性データを出力用トラ
ンジスタチップ製造工程12が受信すると、この製造工
程12の制御部12aが、各工程12b,12c,12
dの制御部に、受信特性データ(過電流検出抵抗値)に
マッチングするような製造条件の指示する(STa
9)。具体的には、保留ロットに過電流検出抵抗値が小
さいもの、例えば28Ω以下のものがある場合、出力用
トランジスタチップ製造工程12の制御部12aは、出
力用トランジスタチップのhFE値を小さくする方向の
製造条件の変更を必要な工程に対して指示する。
Next, when the number of reserved lots of the control IC chip (reserved A2) is equal to or larger than the preset number of lots, the characteristic data of the reserved lot (overcurrent detection resistance value)
To the output transistor chip manufacturing process 12 (B manufacturing process) (STa8). When the output transistor chip manufacturing process 12 receives the characteristic data, the control unit 12a of the manufacturing process 12 controls the processes 12b, 12c, 12
The controller d instructs the manufacturing conditions to match the reception characteristic data (overcurrent detection resistance value) (STa
9). Specifically, when there is a reserved lot having a small overcurrent detection resistance value, for example, a resistance value of 28Ω or less, the control unit 12a of the output transistor chip manufacturing process 12 may reduce the hFE value of the output transistor chip. Of necessary manufacturing steps is instructed.

【0063】このようにして、製造条件を変更した出力
用トランジスタチップのウエハロットと、ダイボンド工
程投入を再保留していた制御用ICチップのウエハロッ
ト(保留A2 )とを組み合わせてダイボンドを行う(S
Ta10)。
In this way, die bonding is performed by combining the wafer lot of the output transistor chip whose manufacturing conditions have been changed and the wafer lot of the control IC chip (reservation A 2) for which the input of the die bonding process has been re-reserved (S 2).
Ta10).

【0064】一方、出力用トランジスタチップの保留ロ
ット数(保留B2 )が予め設定されたロット数以上にな
ったときに、保留ロットの特性データ(hFE値)を制
御用ICチップ製造工程11(A製造工程)に送信する
(STb8)。特性データを制御用ICチップ製造工程
11が受信すると、この製造工程11の制御部11a
が、各工程11b,11c,11dの制御部に、受信送
信データ(hFE値)にマッチングするような製造条件
の変更を指示する(STb9)。具体的には、保留ロッ
トにhFE値が高いもの。例えば160以上のものがあ
る場合、制御用ICチップ製造工程11の制御部11a
は、過電流保護回路4内(図1)の検出抵抗の値を大き
くする方向の製造条件の変更を必要な工程に対して指示
する。
On the other hand, when the number of reserved lots of output transistor chips (reserved B 2) is equal to or larger than the preset number of lots, the characteristic data (hFE value) of the reserved lot is converted to the control IC chip manufacturing process 11 (A). (STb8). When the control IC chip manufacturing process 11 receives the characteristic data, the control unit 11a of the manufacturing IC 11
Instructs the control unit of each step 11b, 11c, 11d to change the manufacturing conditions so as to match the received transmission data (hFE value) (STb9). Specifically, those with a high hFE value in the reserved lot. For example, when there are 160 or more, the control unit 11a of the control IC chip manufacturing process 11
Instructs the necessary process to change the manufacturing conditions in the direction of increasing the value of the detection resistor in the overcurrent protection circuit 4 (FIG. 1).

【0065】このようにして、製造条件を変更した制御
用ICチップのウエハロットと、ダイボンド工程投入を
再保留していた出力用トランジスタチップのウエハロッ
ト(保留B2 )とを組み合わせてダイボンドを行う(S
Tb10)。
In this manner, die bonding is performed by combining the control IC chip wafer lot whose manufacturing conditions have been changed and the output transistor chip wafer lot (reservation B2) for which the die bonding process has been re-pended (S2).
Tb10).

【0066】この実施形態によれば、制御用ICチップ
と出力用トランジスタチップの各チップの特性値が基準
値に入っていない場合でも、デバイスとしての特性を満
足するチップの組み合わせを選んでチップアセンブリを
行うので、制御用ICチップの過電流検出抵抗値及び出
力用トランジスタチップのhFE値の各特性値を広い範
囲まで使用することができる。従って、チップを無駄な
く使用することができる。また、ダイボンド投入保留ロ
ットがあるロット数以上になれば定期的にチップ製造工
程にその情報がフィードバックされるので、マッチング
の取れないチップを多量に製造することなく、的確なチ
ップの在庫管理が可能になる。
According to this embodiment, even when the characteristic values of the control IC chip and the output transistor chip do not fall within the reference values, a combination of chips that satisfies the characteristics as a device is selected. Therefore, the characteristic values of the overcurrent detection resistance value of the control IC chip and the hFE value of the output transistor chip can be used in a wide range. Therefore, the chips can be used without waste. In addition, if the number of die-bonding pending lots exceeds a certain number of lots, the information is periodically fed back to the chip manufacturing process, so accurate chip inventory management is possible without producing a large number of unmatched chips. become.

【0067】なお、以上の2つの実施形態では、2つの
チップを1デバイスに組み合わせる場合について説明し
たが、3つ以上のチップを組み合わせる場合でも同様の
処理を行うことができる。
In the above two embodiments, the case where two chips are combined into one device has been described. However, the same processing can be performed when three or more chips are combined.

【0068】例えば、3つのチップを組み合わせる場
合、2つのチップA及びチップBを、図4に示すチップ
Aとして処理し、もう1つのチップCを図4に示すチッ
プBとして処理するようにすればい。この場合、チップ
Cの保留ロットの特性データをチップA及びBの製造工
程の制御部に送信してもよいし、そのいずれか一方のチ
ップ製造工程の制御部に送信してもよい。その選択は、
チップAまたはBの製造工程のどちらの工程の製造条件
を変更した方がチップCの保留ロットとうまくマッチン
グするかということを判断して決定すればよい。
For example, when three chips are combined, two chips A and B may be processed as chip A shown in FIG. 4, and another chip C may be processed as chip B shown in FIG. . In this case, the characteristic data of the reserved lot of the chip C may be transmitted to the control unit of the manufacturing process of the chips A and B, or may be transmitted to the control unit of one of the chip manufacturing processes. The choice is
What is necessary is just to judge which of the manufacturing processes of the chips A or B should be changed in order to better match the reserved lot of the chip C.

【0069】次に、本発明の別の実施形態を説明する。Next, another embodiment of the present invention will be described.

【0070】この実施形態においても、出力用トランジ
スタチップと制御用ICチップの2つのチップを組み合
わせて直流安定化電源装置を生産する方法に本発明を適
用した例を示している。なお、直流安定化電源装置を生
産する工程は、先に示した図3と同じであるので、ここ
ではその説明を省略する。
This embodiment also shows an example in which the present invention is applied to a method of producing a stabilized DC power supply device by combining two chips, an output transistor chip and a control IC chip. The process of producing the stabilized DC power supply device is the same as that shown in FIG. 3 described above, and the description thereof is omitted here.

【0071】この実施形態では、制御用ICチップ及び
出力用トランジスタチップの製造上の特性が1枚のウエ
ハ内で比較的大きくばらつく場合の処理に特徴がある。
This embodiment is characterized by processing in the case where the manufacturing characteristics of the control IC chip and the output transistor chip are relatively large within one wafer.

【0072】具体的には図6に示す処理を、図3のデバ
イス製造工程30のチップダイボンド組合制御部30a
にて実行してアセンブリ処理を行う。その処理内容を以
下に説明する。
Specifically, the processing shown in FIG. 6 is performed by the chip die bond combination control unit 30a of the device manufacturing process 30 shown in FIG.
To perform assembly processing. The processing content will be described below.

【0073】まず、ウエハテスト工程21(Aテスト工
程)から、コンピュータネットワークを介して送信され
てきた制御用ICチップ(チップA)のウエハテスト情
報(チップAテスト情報)を受信し(STa21)、そ
のウエハテスト情報を用いて、ウエハ上の各位置と各チ
ップの特性値(過電流検出抵抗値)とを1:1でマッピ
ングして、図7に示すようなマッピングテストデータD
A を作成する(STa22)。
First, from the wafer test step 21 (A test step), wafer test information (chip A test information) of the control IC chip (chip A) transmitted via the computer network is received (STa 21). Using the wafer test information, each position on the wafer is mapped 1: 1 with the characteristic value (overcurrent detection resistance value) of each chip, and the mapping test data D shown in FIG.
A is created (STa22).

【0074】また、ウエハテスト工程22(Bテスト工
程)から、コンピュータネットワークを介して送信され
てきた出力用トランジスタチップ(チップB)のウエハ
テスト情報(チップBテスト情報)を受信し(STb2
1)、そのウエハテスト情報を用いて、ウエハ上の各位
置と各チップの特性値(hFE値)とを1:1でマッピ
ングして、図7に示すようなマッピングテストデータD
B を作成する(STb22)。
Further, from the wafer test step 22 (B test step), wafer test information (chip B test information) of the output transistor chip (chip B) transmitted via the computer network is received (STb2).
1) Using the wafer test information, each position on the wafer is mapped 1: 1 with the characteristic value (hFE value) of each chip, and the mapping test data D shown in FIG.
B is created (STb22).

【0075】次に、マッピングテストデータDA とマッ
ピングテストデータDB とを相互に比較して、デバイス
としての特性を満足する最適な組み合わせのチップを選
び(STc21)、その組み合わせでダイボンドする
(STc22)。
Next, the mapping test data DA and the mapping test data DB are compared with each other to select an optimum combination of chips that satisfies the characteristics as a device (STc21), and die bonding is performed with the combination (STc22).

【0076】最適な組み合わせでダイボンドする方法と
しては、[制御用ICチップの過電流動作ベース電流]
×[出力用トランジスタチップのhFE値]が、3〜5
Aの組み合わせなるペアーを選んで2つのチップをダイ
ボンドする等の方法が挙げられる。具体的には、図7の
例において、制御用ICチップ:No.1と出力用トラ
ンジスタチップ:No.21との組み合わせ、制御用I
Cチップ:No.1と出力用トランジスタチップ:N
o.21との組み合わせ等を選んで、その各ペアーをダ
イボンドするという方法を採用する。
The method of die bonding in the optimum combination is as follows: [Base current for overcurrent operation of control IC chip]
X [hFE value of output transistor chip] 3 to 5
For example, there is a method of selecting a pair which is a combination of A and die-bonding two chips. Specifically, in the example of FIG. 1 and output transistor chip: No. 21 and control I
C chip: No. 1 and output transistor chip: N
o. A method of selecting a combination with 21 and die-bonding each pair is adopted.

【0077】このように、制御用ICチップの過電流検
出抵抗値が大の特性と、出力用トランジスタチップのh
FEが大の特性の組み合わせを選ぶか、あるいは制御用
ICチップの過電流検出抵抗値が小の特性と、出力用ト
ランジスタチップのhFEが小の特性の組み合わせを選
択することにより、2チップを組み合わせた場合のトー
タルの過電流保護ポイントは互いに打ち消し合い、それ
ぞれのばらつきを抑えることができる。
As described above, the characteristics of the control IC chip having a large overcurrent detection resistance value and the h
The two chips are combined by selecting a combination of characteristics with a large FE or a combination of a characteristic with a small overcurrent detection resistance value of the control IC chip and a characteristic with a small hFE of the output transistor chip. In this case, the total overcurrent protection points cancel each other, and the variation of each point can be suppressed.

【0078】ここで、チップの特性は、ウエハロット単
位で偏ることが多いため、まずウエハロット単位で組み
合わせを設定してから、上記のマッピング方法でダイボ
ンドした方がより効率的である。
Here, since the characteristics of the chips tend to be biased in units of wafer lots, it is more efficient to first set the combinations in units of wafer lots and then to perform die bonding by the above mapping method.

【0079】ウエハロット単位で組み合わせを設定する
方法としては、次のような組み合わせ方がある。 (1)制御用ICのウエハロット単位で過電流検出抵抗
値の平均値が大きいロットと、出力用トランジスタのウ
エハロット単位でhFE値の平均値が大きいロットとを
組み合わせる。 (2)制御用ICのウエハロット単位で過電流検出抵抗
値の平均値が小さいロットと、出力用トランジスタのウ
エハロット単位でhFE値の平均値が小さいロットを組
み合わせる。 (3)制御用ICのウエハロット単位で過電流検出抵抗
値の平均値が中間値のロットと、出力用トランジスタの
ウエハロット単位でhFE値の平均値が中間値のロット
とを組み合わせる。
As a method of setting a combination for each wafer lot, there is the following combination method. (1) A lot in which the average value of the overcurrent detection resistance value is large for each wafer lot of the control IC and a lot in which the average value of the hFE value is large for each wafer lot of the output transistors are combined. (2) A lot in which the average value of the overcurrent detection resistance value is small in a wafer lot unit of the control IC and a lot in which the average value of the hFE value is small in a wafer lot unit of the output transistor are combined. (3) A lot in which the average value of the overcurrent detection resistance value is an intermediate value for each wafer lot of the control IC and a lot in which the average value of the hFE values is an intermediate value for each wafer lot of the output transistors.

【0080】なお、ウエハロット単位ではなく、ウェハ
単位での組み合わせを設定し、それぞれの持つデータ量
を少なくするような組み合わせ方法を用いてもよい。
It is also possible to use a combination method in which a combination is set not for each wafer lot but for each wafer, and the data amount of each is reduced.

【0081】また、図6の実施形態では、2つのチップ
を1デバイスに組み合わせる場合について説明したが、
3つ以上のチップを組み合わせる場合でも同様の処理を
行うことができる。
In the embodiment shown in FIG. 6, a case where two chips are combined into one device has been described.
Similar processing can be performed even when three or more chips are combined.

【0082】ここで、以上の各実施形態では、制御用I
Cチップと出力用トランジスタチップとを組み合わせた
直流安定化電源装置について説明したが、複数チップの
組み合わせで半導体装置の特性が決まる他の装置とし
て、例えば発光ダイオードと受光素子を組み合わせて1
デバイス化させたホトカプラ、発光ダイオードと受光素
子を組み合わせて1デバイス化させたホトインタラプタ
等がある。
In each of the above embodiments, the control I
The DC stabilized power supply device in which the C chip and the output transistor chip are combined has been described. However, as another device in which the characteristics of the semiconductor device are determined by the combination of a plurality of chips, for example, a light emitting diode and a light receiving element are combined.
There are a photocoupler made into a device, a photointerrupter made into a device by combining a light emitting diode and a light receiving element, and the like.

【0083】ホトカプラにおいては、発光ダイオードと
受光素子の組み合わせにより、CTRの特性が決まるた
め、最適なCTRが取れるように組み合わせが選択で
き、歩留り等の向上などに大きな効果がある。
In the photocoupler, since the characteristics of the CTR are determined by the combination of the light emitting diode and the light receiving element, the combination can be selected so that the optimum CTR can be obtained, and there is a great effect in improving the yield and the like.

【0084】また、ホトインタラプタにおいては、発光
ダイオードと受光素子の組み合わせを最適にすることに
より、検出感度、外乱ノイズの影響に対して大きな効果
がある。
In the photointerrupter, by optimizing the combination of the light emitting diode and the light receiving element, there is a great effect on the detection sensitivity and the influence of disturbance noise.

【0085】[0085]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ウエハテストによるチップ特性値が基準値内に入ってい
るか否かをウエハロット単位等で判定し、チップ特性値
が基準値内に入っていない場合にはアセンブリを保留
し、その保留ロット数が予め設定した数量以上となった
ときに、保留ロットの特性データを、デバイスを構成す
る他のチップの製造工程に送信して製造条件を変更する
か、あるいは特性値が基準値内に入っていないチップに
ついてはアセンブリを保留し、その保留中の複数種のチ
ップについて特性値をウエハ単位もしくはウエハロット
単位で比較し、デバイスとしての特性を満足する組み合
わせがあれば、その組み合わせでアセンブリを行うよう
にしているので、1デバイスを構成する各チップの特性
値の広い範囲まで使用することができ、チップを無駄な
く使用することができる。
As described above, according to the present invention,
Judge whether chip characteristic value by wafer test is within the reference value in wafer lot units, etc., and if the chip characteristic value is not within the reference value, suspend assembly and set the number of reserved lots in advance If the quantity exceeds the specified quantity, the characteristic data of the reserved lot is sent to the manufacturing process of other chips that make up the device to change the manufacturing conditions, or for the chip whose characteristic value is not within the reference value. Suspends assembly, compares the characteristic values of multiple types of pending chips on a wafer or wafer lot basis, and if there is a combination that satisfies the characteristics as a device, performs assembly with that combination. It can be used over a wide range of characteristic values of each chip constituting one device, and chips can be used without waste. That.

【0086】また、本発明によれば、アセンブリを行う
複数チップの各々のウエハテスト情報を用い、それらテ
スト情報をウエハ上に互いに対応する位置関係でマッピ
ングし、そのマッピングテストデータに基づいて、デバ
イスとしての特性を満足する最適な組み合わせのチップ
を選び、その組み合わせでアセンブリを行うので、各チ
ップの製造上の特性のばらつきが大きくても、複数チッ
プを組み合わせた場合のトータルの特性が良くなるよう
な組み合わせが可能となり、チップを無駄なく使用する
ことができる。
Further, according to the present invention, wafer test information of each of a plurality of chips to be assembled is used, and the test information is mapped on a wafer in a positional relationship corresponding to each other. The optimal combination of chips that satisfies the characteristics as described above is selected, and assembly is performed with that combination, so that even if there is large variation in the manufacturing characteristics of each chip, the total characteristics when multiple chips are combined are improved. And the chip can be used without waste.

【0087】従って、本発明によれば、半導体装置を構
成する複数チップの各々の歩留りを低下させることな
く、半導体装置に要求される厳しい特性を満足すること
が可能になる。
Therefore, according to the present invention, it is possible to satisfy strict characteristics required for a semiconductor device without lowering the yield of each of a plurality of chips constituting the semiconductor device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】直流安定化電源装置の一例を示す回路構成図で
ある。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of a stabilized DC power supply device.

【図2】直流安定化電源装置の出力特性を示すグラフで
ある。
FIG. 2 is a graph showing output characteristics of the stabilized DC power supply device.

【図3】直流安定化電源装置の生産工程を示すブロック
図である。
FIG. 3 is a block diagram illustrating a production process of the stabilized DC power supply device.

【図4】本発明の実施形態で実行する処理の内容を示す
フローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart showing the contents of processing executed in the embodiment of the present invention.

【図5】本発明の他の実施形態で実行する処理の内容を
示すフローチャートである。
FIG. 5 is a flowchart showing the contents of processing executed in another embodiment of the present invention.

【図6】本発明の別の実施形態で実行する処理の内容を
示すフローチャートである。
FIG. 6 is a flowchart showing the contents of processing executed in another embodiment of the present invention.

【図7】本発明の別の実施形態で実行する組み合わせ処
理の説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram of a combination process executed in another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 直流安定化電源装置(低損失レギュレータ) 2 制御用ICチップ 3 出力用トランジスタチップ 4 過電流保護回路 5 NPNトランジスタ 11 制御用ICチップ製造工程(A工程) 12 出力用トランジスタチップ製造工程(B工程) 21 ウエハテスト工程(Aテスト工程) 22 ウエハテスト工程(Bテスト工程) 30 デバイス製造工程 REFERENCE SIGNS LIST 1 DC stabilized power supply (low-loss regulator) 2 control IC chip 3 output transistor chip 4 overcurrent protection circuit 5 NPN transistor 11 control IC chip manufacturing process (process A) 12 output transistor chip manufacturing process (process B) 21) Wafer test process (A test process) 22 Wafer test process (B test process) 30 Device manufacturing process

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数チップを1デバイスにアセンブリ
し、1つの半導体装置として生産する方法において、 アセンブリを行う複数チップのうちの特定チップのウエ
ハテスト情報を用いてそのチップ特性値が基準値内に入
っているか否かをウエハ単位もしくはウエハロット単位
で判定し、 チップ特性値が基準値内に入っている場合はウェハ単位
もしくはウエハロット単位でアセンブリを実行し、 チップ特性値が基準値内に入っていない場合にはアセン
ブリを保留し、その保留ウエハ数もしくは保留ロット数
が予め設定した数量以上となったときに、保留ウエハも
しくは保留ロットの特性データを、特定チップの以外の
半導体チップ製造工程に送信し、その半導体チップ製造
工程での製造条件を送信特性データに基づいて変更する
ことを特徴とする複数チップからなる半導体装置の生産
方法。
1. A method of assembling a plurality of chips into one device and producing as one semiconductor device, wherein a chip characteristic value is within a reference value by using wafer test information of a specific chip among the plurality of chips to be assembled. Judgment is made on a wafer or wafer lot basis, and if the chip characteristic value is within the reference value, assembly is performed on a wafer or wafer lot basis, and the chip characteristic value is not within the reference value In this case, the assembly is suspended, and when the number of the reserved wafers or the number of the reserved lots becomes equal to or greater than a preset amount, the characteristic data of the reserved wafer or the reserved lot is transmitted to a semiconductor chip manufacturing process other than the specific chip. Changing the manufacturing conditions in the semiconductor chip manufacturing process based on the transmission characteristic data. A method for producing a semiconductor device comprising a plurality of chips.
【請求項2】 複数チップを1デバイスにアセンブリ
し、1つの半導体装置として生産する方法において、 アセンブリを行う複数チップの各々のウエハテスト情報
を用いて、各チップについて特性値が基準値内に入って
いるか否かをウエハ単位もしくはウエハロット単位で判
定し、 各チップの特性値が基準値内に入っている場合は、それ
らチップのアセンブリをウエハ単位もしくはウエハロッ
ト単位で実行し、 特性値が基準値内に入っていないチップについてはアセ
ンブリを保留し、その保留中の複数種のチップについて
特性値をウエハ単位もしくはウエハロット単位で比較
し、デバイスとしての特性を満足する組み合わせがあれ
ば、その組み合わせでアセンブリを行うことを特徴とす
る複数チップからなる半導体装置の生産方法。
2. A method of assembling a plurality of chips into one device and producing as one semiconductor device, wherein a characteristic value of each chip falls within a reference value using wafer test information of each of the plurality of chips to be assembled. Is determined for each wafer or wafer lot.If the characteristic value of each chip is within the reference value, the assembly of those chips is performed for each wafer or wafer lot, and the characteristic value is within the reference value. The assembly is suspended for chips that are not included, and the characteristic values of multiple types of pending chips are compared for each wafer or wafer lot, and if there is a combination that satisfies the characteristics as a device, the assembly is combined with that combination. A method for producing a semiconductor device comprising a plurality of chips.
【請求項3】 保留中の複数種のチップのうち、デバイ
スとしての特性を満足する組み合わせがないチップのウ
エハもしくはウエハロットについてはアセンブリを再保
留し、その保留ウエハ数もしくはロット数が予め設定し
た数量以上となったときに、保留ウエハもしくは保留ロ
ットの特性データを、この再保留対象となったチップ以
外の半導体チップ製造工程に送信し、その半導体チップ
製造工程での製造条件を送信特性データに基づいて変更
することを特徴とする請求項2記載の複数チップからな
る半導体装置の生産方法。
3. Among a plurality of types of pending chips, for a wafer or a wafer lot of a chip having no combination that satisfies the characteristics as a device, the assembly is re-reserved, and the number of retained wafers or lots is a preset number. When the above is reached, the characteristic data of the reserved wafer or the reserved lot is transmitted to the semiconductor chip manufacturing process other than the re-reserved chip, and the manufacturing conditions in the semiconductor chip manufacturing process are determined based on the transmission characteristic data. 3. The method according to claim 2, wherein the semiconductor device comprises a plurality of chips.
【請求項4】 アセンブリする複数チップをそれぞれ個
別に製造する複数の半導体チップ製造工程と、各チップ
のウエハテストを行う複数のウエハテスト工程と、アセ
ンブリを行うデバイス製造工程とを、コンピュータネッ
トワーク上で接続し、前記ウエハテスト情報及びアセン
ブリ保留に関する情報等の生産関連情報を、各工程間に
おいて送受信することを特徴とする請求項1、2または
3記載の複数チップからなる半導体装置の生産方法。
4. A plurality of semiconductor chip manufacturing processes for individually manufacturing a plurality of chips to be assembled, a plurality of wafer test processes for performing a wafer test for each chip, and a device manufacturing process for performing an assembly on a computer network. 4. The method for producing a semiconductor device comprising a plurality of chips according to claim 1, wherein said semiconductor device is connected to each other, and said production-related information such as said wafer test information and information on assembly suspension is transmitted and received between respective steps.
【請求項5】 複数チップを1デバイスにアセンブリ
し、1つの半導体装置として生産する方法において、 アセンブリを行う複数チップの各々のウエハテスト情報
を用い、それらテスト情報をウエハ上に互いに対応する
位置関係でマッピングし、そのマッピングテストデータ
に基づいて、デバイスとしての特性を満足する最適な組
み合わせのチップを選び、その組み合わせでアセンブリ
を行うことを特徴とする複数チップからなる半導体装置
の生産方法。
5. A method for assembling a plurality of chips into one device and producing as one semiconductor device, wherein wafer test information of each of a plurality of chips to be assembled is used, and the test information is placed on a wafer in a positional relationship corresponding to each other. A method for producing a semiconductor device comprising a plurality of chips, wherein a chip of an optimal combination that satisfies the characteristics as a device is selected based on the mapping test data, and an assembly is performed by the combination.
【請求項6】 アセンブリを行う複数チップの各々のウ
エハテスト情報を用い、各チップの特性値をウエハ単位
もしくはウエハロット単位で比較し、所定の基準に基づ
いてウエハもしくはウエハロットの組み合わせを選んだ
後に、前記マッピング処理を実行することを特徴とする
請求項5記載の複数チップからなる半導体装置の生産方
法。
6. Using the wafer test information of each of a plurality of chips to be assembled, comparing the characteristic values of each chip in a unit of a wafer or a unit of a wafer lot, and selecting a combination of a wafer or a wafer lot based on a predetermined criterion. 6. The method according to claim 5, wherein the mapping process is performed.
【請求項7】 アセンブリする複数チップをそれぞれ個
別に製造する複数の半導体チップ製造工程と、各チップ
のウエハテストを行う複数のウエハテスト工程と、アセ
ンブリを行うデバイス製造工程とを、コンピュータネッ
トワーク上で接続し、前記ウエハテスト情報及びマッピ
ングテストデータ等の生産関連情報を、各工程間におい
て送受信することを特徴とする請求項5または6記載の
複数チップからなる半導体装置の生産方法。
7. A plurality of semiconductor chip manufacturing processes for individually manufacturing a plurality of chips to be assembled, a plurality of wafer test processes for performing a wafer test for each chip, and a device manufacturing process for performing an assembly on a computer network. 7. The method for producing a semiconductor device comprising a plurality of chips according to claim 5, wherein said semiconductor device comprises a plurality of chips connected to each other to transmit and receive production-related information such as said wafer test information and mapping test data.
【請求項8】 アセンブリする複数チップをそれぞれ個
別に製造する複数の半導体チップ製造工程と、各チップ
のウエハテストを行う複数のウエハテスト工程と、アセ
ンブリを行うデバイス製造工程とを、コンピュータネッ
トワークを経由してホストコンピュータに接続し、その
ホストコンピュータによって各工程を一括して管理する
ことを特徴とする請求項1、2、3、5または6記載の
複数チップからなる半導体装置の生産方法。
8. A plurality of semiconductor chip manufacturing processes for individually manufacturing a plurality of chips to be assembled, a plurality of wafer test processes for performing a wafer test of each chip, and a device manufacturing process for performing an assembly via a computer network. 7. The method for producing a semiconductor device comprising a plurality of chips according to claim 1, wherein the method is connected to a host computer, and the respective steps are collectively managed by the host computer.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7325180B2 (en) * 2003-11-26 2008-01-29 Carnegie Mellon University System and method to test integrated circuits on a wafer

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