JP2002092928A - Light source unit and optical pickup - Google Patents

Light source unit and optical pickup

Info

Publication number
JP2002092928A
JP2002092928A JP2000285206A JP2000285206A JP2002092928A JP 2002092928 A JP2002092928 A JP 2002092928A JP 2000285206 A JP2000285206 A JP 2000285206A JP 2000285206 A JP2000285206 A JP 2000285206A JP 2002092928 A JP2002092928 A JP 2002092928A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light source
shaping element
beam shaping
source unit
medium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000285206A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuichiro Otoshi
祐一郎 大利
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Minolta Co Ltd
Original Assignee
Minolta Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Minolta Co Ltd filed Critical Minolta Co Ltd
Priority to JP2000285206A priority Critical patent/JP2002092928A/en
Publication of JP2002092928A publication Critical patent/JP2002092928A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light source unit in which accuracy to be required for relative positioning a laser beam source and a beam shaping element is relieved than before, and to provide an optical pickup using the same. SOLUTION: The light source unit consists of a light source, and a beam shaping element which converts luminous flux emitted from the light source and diffusing at different flare angles based on axes orthogonal to each other and vertical to an optical axis into the luminous flux having nearly the same flare angle. A medium whose refractive index exceeds 1 is filled between the light source and the beam shaping element.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザー光源から
のレーザービームを断面が楕円形の発散ビームから断面
が略円形の発散ビームに変換するビーム整形素子を有す
る、光源ユニット、及びそれを用いた光ピックアップに
関するものである。
The present invention relates to a light source unit having a beam shaping element for converting a laser beam from a laser light source from a divergent beam having an elliptical cross section to a divergent beam having a substantially circular cross section, and uses the light source unit. It relates to an optical pickup.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、例えばいわゆるCD(Compac
t Disc)やDVD(Digital Versatile Disc)等の光デ
ィスクに代表される光記録媒体を使用した、光記録再生
装置においては、高い光利用効率が要求されている。こ
のため、光源であるレーザーダイオードからの、光軸に
垂直な断面が楕円形であるレーザービームを、断面が略
円形であるレーザービームに変換する必要がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, for example, a so-called CD (Compac
An optical recording / reproducing apparatus using an optical recording medium typified by an optical disc such as an optical disc such as a disc (t. Disc) or a DVD (Digital Versatile Disc) is required to have high light use efficiency. Therefore, it is necessary to convert a laser beam from a laser diode, which is a light source, having an elliptical cross section perpendicular to the optical axis into a laser beam having a substantially circular cross section.

【0003】これにより、レーザービームのエネルギー
利用効率が高められ、CN比が向上するとともに、光ピ
ックアップの設計,製造上の余裕が生じる。また、レー
ザービームを小さく集光する事が可能となるので、光記
録媒体上のスポットサイズを小さくする事ができ、光記
録媒体のデータ容量の増大と、再生時のクロストークの
減少を図る事ができる。
As a result, the energy utilization efficiency of the laser beam is increased, the CN ratio is improved, and there is a margin in designing and manufacturing the optical pickup. In addition, since the laser beam can be focused small, the spot size on the optical recording medium can be reduced, thereby increasing the data capacity of the optical recording medium and reducing crosstalk during reproduction. Can be.

【0004】このように、断面が楕円形のレーザービー
ムを断面が略円形のレーザービームに変換するために、
従来よりいわゆるアナモフィックプリズムが実用化され
ている。これは、このプリズムを透過した、断面が楕円
形のレーザービームを、光軸に垂直な断面上で一方向に
圧縮する事により、断面が略円形のレーザービームへと
変換するものである。ところが、このようなプリズム
は、諸収差の発生を防止するために、平行光束の中で使
用される必要があり、そのためにはレーザービームをコ
リメートしなければならず、光ピックアップの光学系の
調整が困難になるとともに、小型化にも限界が生じる。
As described above, in order to convert a laser beam having an elliptical cross section into a laser beam having a substantially circular cross section,
Conventionally, a so-called anamorphic prism has been put to practical use. This is to convert a laser beam having an elliptical cross section, which has passed through the prism, into a laser beam having a substantially circular cross section by compressing the laser beam in one direction on a cross section perpendicular to the optical axis. However, such a prism needs to be used in a parallel light beam in order to prevent the occurrence of various aberrations. For this purpose, the laser beam must be collimated, and the optical system of the optical pickup is adjusted. And the miniaturization is limited.

【0005】一方、レーザー光源からのレーザービーム
を、断面が楕円形の発散ビームから断面が略円形の発散
ビームに変換するビーム整形素子が実用化されている。
これは、光源であるレーザーダイオードの近傍に配置可
能であるため、光ピックアップの集積化,小型化に対し
て効果がある。このようなビーム整形素子は、従来よ
り、アナモフィックレンズや回折素子を用いたものが提
案されている。また、例えば特開平6−294940号
公報に記載されている如く、円柱状入力面とトロイダル
状出力面とを有するビーム整形素子が開示されている。
On the other hand, a beam shaping element for converting a laser beam from a laser light source from a divergent beam having an elliptical cross section to a divergent beam having a substantially circular cross section has been put to practical use.
Since this can be arranged near the laser diode as the light source, it is effective for integration and miniaturization of the optical pickup. As such a beam shaping element, an element using an anamorphic lens or a diffraction element has been conventionally proposed. Further, as described in, for example, JP-A-6-294940, a beam shaping element having a cylindrical input surface and a toroidal output surface is disclosed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のビーム整形素子は、許容される波面収差量が厳
しいので、通常、光源であるレーザーダイオードとその
ビーム整形素子との、光軸方向の相対的な位置決め要求
精度が高くなるという問題を有する。また、上記特開平
6−294940号公報に記載されているような構成で
は、照射源との相対位置が厳格でなくても良い構成とし
ているが、使用するレーザービームの波長が800nm
程度に限定されている。
However, the conventional beam shaping element described above has a severe allowable wavefront aberration, and therefore, usually, the relative position of the laser diode as a light source and the beam shaping element in the optical axis direction is relatively low. However, there is a problem that the accuracy of the required positioning is increased. Further, in the configuration described in JP-A-6-294940, the relative position with respect to the irradiation source does not have to be strict, but the wavelength of the laser beam used is 800 nm.
Limited to a degree.

【0007】特に、次世代の青色レーザーダイオードを
用いた高密度光記録再生装置においては、使用するレー
ザービームの波長が400nm程度と短くなるため、許
容される波面収差量がより厳しくなり、これまで以上に
ビーム整形素子の光軸方向の位置決め精度が要求され
る。
In particular, in a high-density optical recording / reproducing apparatus using a next-generation blue laser diode, the wavelength of a laser beam to be used is as short as about 400 nm, so that the allowable amount of wavefront aberration becomes more severe. As described above, the positioning accuracy of the beam shaping element in the optical axis direction is required.

【0008】本発明は、このような問題点に鑑み、レー
ザー光源とビーム整形素子との相対的な位置決め要求精
度を、従来よりも緩和した光源ユニット、及びそれを用
いた光ピックアップを提供する事を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, the present invention provides a light source unit in which the required accuracy of relative positioning between a laser light source and a beam shaping element is alleviated as compared with the related art, and an optical pickup using the same. With the goal.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、光源と、その光源から射出して光軸に
垂直で互いに直交する軸に対して異なる拡がり角度で発
散する光束を、ほぼ同じ拡がり角度の光束に変換するビ
ーム整形素子と、から成り、前記光源と前記ビーム整形
素子との間に、屈折率が1を超える媒体を充填した事を
特徴とする光源ユニットとする。
In order to achieve the above object, the present invention provides a light source and a light beam emitted from the light source and diverging at different diverging angles with respect to axes perpendicular to the optical axis and orthogonal to each other. And a beam shaping element for converting the beam into a light beam having substantially the same divergence angle. A light source unit characterized in that a medium having a refractive index of more than 1 is filled between the light source and the beam shaping element.

【0010】また、前記ビーム整形素子は、少なくとも
2つのアナモフィック回折面を有する事を特徴とする。
或いは、前記ビーム整形素子は、少なくとも2つのアナ
モフィック屈折面を有する事を特徴とする。
[0010] The beam shaping element has at least two anamorphic diffraction surfaces.
Alternatively, the beam shaping element has at least two anamorphic refractive surfaces.

【0011】また、以下の条件式を満足する事を特徴と
する。 nD−n≧0.2 但し、 nD :ビーム整形素子の屈折率 n :媒体の屈折率 である。
Further, the present invention is characterized in that the following conditional expression is satisfied. n D −n ≧ 0.2, where n D is the refractive index of the beam shaping element and n is the refractive index of the medium.

【0012】また、前記媒体は光硬化性樹脂或いは熱硬
化性樹脂である事を特徴とする。
Further, the medium is a photo-setting resin or a thermosetting resin.

【0013】また、前記光源と、前記ビーム整形素子
と、前記媒体とが一体化され、互いに固定されている事
を特徴とする。
The light source, the beam shaping element, and the medium are integrated and fixed to each other.

【0014】また、前記いずれかの光源ユニットと、そ
の光源ユニットからの光束を集光して光記録媒体上に集
光スポットを形成する対物レンズと、前記光記録媒体か
らの記録情報を含む前記光束の戻り光を、電気信号に変
換する検出光学系と、を備えた事を特徴とする光ピック
アップとする。
Further, any one of the light source units, an objective lens for condensing a light beam from the light source unit to form a converged spot on an optical recording medium, and the objective lens including information recorded from the optical recording medium. An optical pickup comprising: a detection optical system that converts return light of a light beam into an electric signal.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の光
源ユニットの基本構成を模式的に示す斜視図である。同
図において、1は円柱状に描かれたビーム整形素子であ
り、その中心軸に当たる光軸をZ軸とする。Pはビーム
整形素子1の手前でZ軸上に配置される図示しないレー
ザー光源の位置を示している。そして、一例として位置
P上で互いに直交する軸をX軸,Y軸とし、これらはそ
れぞれZ軸とも直交するようにする。また、ビーム整形
素子1とレーザー光源との間には、屈折率が1を超える
媒体2が充填されている。これにより、レーザー光源と
ビーム整形素子1との相対的な位置決め要求精度を緩和
する事が可能となる。詳しくは後述する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view schematically showing a basic configuration of a light source unit of the present invention. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a beam shaping element drawn in a cylindrical shape, and an optical axis corresponding to a central axis thereof is defined as a Z axis. P indicates the position of a laser light source (not shown) arranged on the Z axis in front of the beam shaping element 1. As an example, axes orthogonal to each other on the position P are defined as an X axis and a Y axis, and these axes are also orthogonal to the Z axis. A medium 2 having a refractive index exceeding 1 is filled between the beam shaping element 1 and the laser light source. This makes it possible to reduce the required accuracy of relative positioning between the laser light source and the beam shaping element 1. Details will be described later.

【0016】同図では、レーザー光源から射出されたビ
ームが位置Pより媒体2を経てビーム整形素子1に入射
し、最終的にビーム整形されて射出する様子を示してい
る。ここではレーザー光源からのビームのうち、X−Z
断面上のマージナル光線LxとY−Z断面上のマージナ
ル光線LyとがそれぞれZ軸との成す角度(拡がり角
度)が、レーザー光源から射出された当初はそれぞれ異
なっていたものが、最終的にほぼ同じ角度となってビー
ム整形素子1から射出される様子を表している。即ち、
ビーム整形素子1により、断面が楕円形の発散ビーム
が、断面が略円形の発散ビームに変換される事を示して
いる。
FIG. 1 shows a state in which a beam emitted from a laser light source enters a beam shaping element 1 from a position P via a medium 2 and is finally shaped and emitted. Here, of the beam from the laser light source, X-Z
The angles (spreading angles) formed by the marginal ray Lx on the cross section and the marginal ray Ly on the YZ cross section with the Z-axis differ from each other at the beginning when they are emitted from the laser light source. The light beams are emitted from the beam shaping element 1 at the same angle. That is,
This shows that the beam shaping element 1 converts a divergent beam having an elliptical cross section into a divergent beam having a substantially circular cross section.

【0017】図2は、本発明の光源ユニットの基本構成
を模式的に示す縦断面図である。同図に示すように、ビ
ーム整形素子1の左方には、Z軸上に光源であるレーザ
ーダイオードLDが配置されている。同図では、Z軸の
上側にX−Z断面を、Z軸の下側にY−Z断面を描いて
いる。なお、ビーム整形素子1の光源側の面をr1と
し、像側の面をr2とする。また、ビーム整形素子1の
光源側の面r1とレーザーダイオードLDとの間には、
屈折率が1を超える媒体2が充填されている。
FIG. 2 is a longitudinal sectional view schematically showing the basic structure of the light source unit of the present invention. As shown in the figure, a laser diode LD as a light source is disposed on the Z axis to the left of the beam shaping element 1. In the figure, an XZ section is drawn above the Z axis, and a YZ section is drawn below the Z axis. Note that the light source side surface of the beam shaping element 1 is denoted by r1, and the image side surface is denoted by r2. Further, between the light source side surface r1 of the beam shaping element 1 and the laser diode LD,
The medium 2 having a refractive index of more than 1 is filled.

【0018】同図では、レーザーダイオードLDから射
出されたビームが位置Pより媒体2を経てビーム整形素
子1に入射し、最終的にビーム整形されて射出する様子
を示している。ここではレーザーダイオードLDからの
ビームのうち、X−Z断面上のマージナル光線LxとY
−Z断面上のマージナル光線LyとがZ軸との成す角度
が、レーザー光源から射出された当初はそれぞれθx,
θyと異なっていたものが、最終的にほぼ同じ角度θ′
となってビーム整形素子1から射出される様子を表して
いる。即ち、ビーム整形素子1により、断面が楕円形の
発散ビームが、断面が略円形の発散ビームに変換される
事を示している。
FIG. 1 shows a state in which a beam emitted from a laser diode LD enters a beam shaping element 1 from a position P via a medium 2 and is finally shaped and emitted. Here, among the beams from the laser diode LD, the marginal rays Lx and Y on the XZ section
The angle formed by the marginal ray Ly on the -Z cross section and the Z axis is θx,
What was different from θy finally became almost the same angle θ '
And the state of being emitted from the beam shaping element 1. That is, the beam shaping element 1 converts a divergent beam having an elliptical cross section into a divergent beam having a substantially circular cross section.

【0019】図3は、本発明の第1の実施形態における
光源ユニットの光学構成図であり、Y−Z断面を示して
いる。また図4は、X−Z断面を示している。本実施形
態では、ビーム整形素子1は有限タイプであり、光源側
より第1,第2のアナモフィック回折面r1,r2を有
し、光源であるレーザーダイオードLDからの、断面が
楕円形の発散ビームを、断面が略円形の発散ビームに変
換する。ここでは上述したように、ビーム整形素子1の
光源側の面である第1のアナモフィック回折面r1とレ
ーザーダイオードLDとの間には、屈折率が1を超える
媒体2が充填されている。これにより、レーザーダイオ
ードLDとビーム整形素子1とのZ軸(光軸)方向の相
対的な位置決め要求精度を緩和する事が可能となる。
FIG. 3 is an optical configuration diagram of the light source unit according to the first embodiment of the present invention, and shows a YZ section. FIG. 4 shows an XZ cross section. In this embodiment, the beam shaping element 1 is of a finite type, has first and second anamorphic diffraction surfaces r1 and r2 from the light source side, and a divergent beam having an elliptical cross section from a laser diode LD as a light source. Into a divergent beam having a substantially circular cross section. Here, as described above, the medium 2 having a refractive index exceeding 1 is filled between the laser diode LD and the first anamorphic diffraction surface r1 which is the light source side surface of the beam shaping element 1. This makes it possible to relax the required accuracy of relative positioning between the laser diode LD and the beam shaping element 1 in the Z-axis (optical axis) direction.

【0020】このとき、以下の条件式(1)を満足する
事が望ましい。 nD−n≧0.2 (1) 但し、 nD :ビーム整形素子の屈折率 n :媒体の屈折率 である。
At this time, it is desirable to satisfy the following conditional expression (1). n D −n ≧ 0.2 (1) where n D is the refractive index of the beam shaping element and n is the refractive index of the medium.

【0021】条件式(1)の下限値を下回ると、ビーム
整形素子の第1のアナモフィック回折面の、回折効率を
最大とする格子高さhが高くなり、回折面の作成が困難
になるとともに、光軸に対して角度を持つレーザービー
ムに対する回折効率の低下が生じる。
If the lower limit of conditional expression (1) is not reached, the grating height h of the first anamorphic diffraction surface of the beam shaping element, which maximizes the diffraction efficiency, becomes high, making it difficult to form a diffraction surface. In addition, the diffraction efficiency for a laser beam having an angle with respect to the optical axis is reduced.

【0022】ここで、格子高さhは以下の式で決定され
る。 h=λ/(nD−n) 但し、 λ:レーザービームの波長(μm) である。
Here, the grid height h is determined by the following equation. h = λ / (n D −n) where λ is the wavelength (μm) of the laser beam.

【0023】図5は、本発明の第2の実施形態における
光源ユニットの光学構成図であり、Y−Z断面を示して
いる。また図6は、X−Z断面を示している。本実施形
態では、ビーム整形素子1は有限タイプであり、光源側
より第1,第2のアナモフィック屈折面r1,r2を有
し、光源であるレーザーダイオードLDからの、断面が
楕円形の発散ビームを、断面が略円形の発散ビームに変
換する。
FIG. 5 is an optical configuration diagram of a light source unit according to the second embodiment of the present invention, and shows a YZ section. FIG. 6 shows an XZ cross section. In the present embodiment, the beam shaping element 1 is of a finite type, has first and second anamorphic refraction surfaces r1 and r2 from the light source side, and a divergent beam having an elliptical cross section from a laser diode LD as a light source. Into a divergent beam having a substantially circular cross section.

【0024】ここでは上述したように、ビーム整形素子
1の光源側の面である第1のアナモフィック屈折面r1
とレーザーダイオードLDとの間には、屈折率が1を超
える媒体2が充填されている。これにより、レーザーダ
イオードLDとビーム整形素子1とのZ軸(光軸)方向
の相対的な位置決め要求精度を緩和する事が可能とな
る。このとき、上記条件式(1)を満足する事が望まし
い。条件式(1)の下限値を下回ると、ビーム整形素子
の第1のアナモフィック屈折面の曲率が小さくなり、作
成が困難となる。
Here, as described above, the first anamorphic refraction surface r1 which is the light source side surface of the beam shaping element 1
A medium 2 having a refractive index of more than 1 is filled between the laser diode LD and the laser diode LD. This makes it possible to relax the required accuracy of relative positioning between the laser diode LD and the beam shaping element 1 in the Z-axis (optical axis) direction. At this time, it is desirable that the conditional expression (1) is satisfied. If the lower limit of conditional expression (1) is not reached, the curvature of the first anamorphic refracting surface of the beam shaping element will be small, and it will be difficult to make it.

【0025】上記各実施形態に示すようなビーム整形素
子は、精密な金型により、ガラス,プラスチック等の材
料で成形し、大量生産する事が可能である。また、レー
ザーダイオードとビーム整形素子を一体として調整後、
固定する構成とする事で、レーザーダイオードを含めた
集積化タイプの光ピックアップ内でこの光源ユニットを
用いる事が可能となり、より小型化,薄型化を達成する
事ができる。特に、媒体として充填する材料は、接着剤
としての機能を持たせる事により、調整が容易になると
ともに、これによりレーザーダイオードとビーム整形素
子を固定する事ができる。
The beam shaping element as shown in each of the above embodiments can be mass-produced by molding with a precision mold using a material such as glass or plastic. Also, after adjusting the laser diode and beam shaping element integrally,
By adopting a fixed configuration, the light source unit can be used in an integrated type optical pickup including a laser diode, and a further reduction in size and thickness can be achieved. In particular, the material to be filled as a medium is provided with a function as an adhesive, thereby facilitating adjustment, and thereby, the laser diode and the beam shaping element can be fixed.

【0026】ところで、Z軸方向の位置決めは、断面が
楕円形の発散ビームを断面が略円形の発散ビームに変換
するビーム整形素子にとっては、極めて重要な性能要素
となっている。なぜならば、レーザーダイオードとビー
ム整形素子との間隔が微小に変化するときのレンズバッ
クの変動量が、X方向とY方向とにおいて異なるため、
このとき光軸上に非点隔差が発生するからである。
Incidentally, positioning in the Z-axis direction is a very important performance factor for a beam shaping element that converts a divergent beam having an elliptical cross section into a divergent beam having a substantially circular cross section. This is because the amount of fluctuation of the lens back when the distance between the laser diode and the beam shaping element slightly changes differs between the X direction and the Y direction.
At this time, an astigmatic difference occurs on the optical axis.

【0027】このような軸上非点隔差は、光源ユニット
を特に光ピックアップ等に応用する際、いわゆる波面収
差の増加の原因となる。しかも非点隔差は、方向の違い
により発生する差であるために、ビーム整形素子の後方
においてそれを補正する事は、極めて困難となる。
Such an axial astigmatic difference causes a so-called increase in wavefront aberration when the light source unit is particularly applied to an optical pickup or the like. Moreover, since the astigmatic difference is a difference generated due to a difference in direction, it is extremely difficult to correct the astigmatic difference behind the beam shaping element.

【0028】また、従来より光ピックアップには波長8
00nm程度のレーザービームが用いられてきている
が、近年、光ピックアップに波長400nm程度の青色
のレーザービームを用いた、高密度な光記録再生装置が
実用化されつつある。この場合、光ピックアップにおけ
る許容波面収差量を同じとすると、単純に計算すれば、
ビーム整形素子のZ軸方向の位置決め必要精度が従来の
約2倍になってしまい、その調整が極めて困難になる。
Conventionally, an optical pickup has a wavelength of 8
Although a laser beam of about 00 nm has been used, a high-density optical recording / reproducing apparatus using a blue laser beam having a wavelength of about 400 nm for an optical pickup has recently been put into practical use. In this case, assuming that the allowable wavefront aberration amount in the optical pickup is the same, if simply calculated,
The required accuracy of positioning of the beam shaping element in the Z-axis direction is about twice that of the conventional art, and it is extremely difficult to adjust it.

【0029】このような問題点を解決する方法として、
ビーム整形素子の光源側の面である第1のアナモフィッ
ク面とレーザーダイオードとの間に、屈折率が1を超え
る媒体を充填する事が挙げられる。このような媒体の屈
折率をnとすると、同じレーザーダイオードとビーム整
形素子との間隔変化量に対して、媒体を充填した場合は
非点隔差量を1/nとする事が可能である。
As a method for solving such a problem,
Filling a medium having a refractive index of more than 1 between the first anamorphic surface, which is the light source side surface of the beam shaping element, and the laser diode. Assuming that the refractive index of such a medium is n, the amount of astigmatism can be reduced to 1 / n when the medium is filled, with respect to the same amount of change in the distance between the laser diode and the beam shaping element.

【0030】本発明の原理を以下に説明する。一般に、
結像の式として、以下のニュートンの公式が成り立つ。 zz′=−(n′/n)f2 但し、 z :物体から物体側焦点までの距離 z′:像から像側焦点までの距離 n :物体側屈折率 n′:像側屈折率 f :光学系の焦点距離 である。
The principle of the present invention will be described below. In general,
The following Newton's formula holds as the imaging equation. zz '=-(n' / n) fTwo  Here, z: distance from the object to the object-side focal point z ': distance from the image to the image-side focal point n: object-side refractive index n': image-side refractive index f: focal length of the optical system.

【0031】上式をzで微分すると、光源側と像側との
光路の幾何学的な相似関係より、 δz′=(n′/n)(f/z)2δz =(n′/n)(θ/θ′)2δz となる。但し、 θ :マージナル光線の物体側(光源側)における光軸
との成す角度(入射側角度) θ′:マージナル光線の像側における光軸との成す角度
(射出側角度) である。
When the above equation is differentiated by z, δz ′ = (n ′ / n) (f / z) 2 δz = (n ′ / n) from the geometric similarity of the optical path between the light source side and the image side. ) (Θ / θ ′) 2 δz. Where θ: the angle of the marginal ray with the optical axis on the object side (light source side) (incident side angle) θ ′: the angle of the marginal ray with the optical axis on the image side (exit side angle).

【0032】一般に、ビーム整形においては、射出側の
NA(射出角)の方向がほぼ等しくなるように、即ち断
面が略円形の発散ビームとなるように構成するため、上
記式より、レーザーダイオードとビーム整形素子との間
隔がδz変化した場合の、ビーム整形後の非点隔差量は
以下の式で表される。 ASz=(n′/n)(θx/θ′)2(1−M2)δz
In general, beam shaping is performed so that the directions of NA (emission angle) on the emission side are substantially equal, that is, a divergent beam having a substantially circular cross section. When the distance from the beam shaping element changes by δz, the astigmatic difference after beam shaping is represented by the following equation. AS z = (n ′ / n) (θ x / θ ′) 2 (1-M 2 ) δz

【0033】ここで、Mは整形倍率であり、以下の式で
与えられる。 M=θy/θx 但し、θy>θxとしており、θy,θxはそれぞれY方
向,X方向のθの値である。一般に、M=2〜3程度で
あり、レーザーダイオードとビーム整形素子の仕様から
決定される。
Here, M is a shaping magnification, and is represented by the following equation.
Given. M = θy/ Θx  Where θy> ΘxAnd θy, ΘxIs the Y direction
Direction, the value of θ in the X direction. Generally, M = about 2-3
Yes, from laser diode and beam shaping element specifications
It is determined.

【0034】上述したように、非点隔差量ASzは射出
側角度θ′の自乗に反比例する。この非点隔差による光
路差OPDは、以下の式で与えられる。但し、n′=1
とする。 OPD=ASzNA2/2
As described above, the astigmatic difference AS z is inversely proportional to the square of the injection side angle θ ′. The optical path difference OPD due to the astigmatism is given by the following equation. Where n '= 1
And OPD = AS z NA 2/2

【0035】波面収差量W(waves)の実効値は、近似
的に、 Wrmsλ≒OPD/3.5 で与えられるため、λ=400nm=0.4μm,NA
=sinθ′≒θ′とすると、以下の式を得る。 Wrms=0.357(1/n)θx 2(1−M2)δz
Since the effective value of the wavefront aberration amount W (waves) is approximately given by W rms λ ≒ OPD / 3.5, λ = 400 nm = 0.4 μm, NA
= Sin θ ′ ≒ θ ′, the following equation is obtained. W rms = 0.357 (1 / n) θ x 2 (1-M 2 ) δz

【0036】ここで、θx,Mはそれぞれ、レーザーダ
イオード及びビーム整形素子の仕様から決定されるもの
である。従って、レーザーダイオードとビーム整形素子
との間隔の変化が波面収差に及ぼす影響を低減させるた
めには、同じ仕様であればnを1より大きくすれば良い
ことが分かる。即ち、屈折率を有する媒体でレーザーダ
イオードとビーム整形素子との間を充填すれば良い。
Here, θ x and M are determined from the specifications of the laser diode and the beam shaping element, respectively. Therefore, it can be seen that in order to reduce the influence of the change in the distance between the laser diode and the beam shaping element on the wavefront aberration, n should be larger than 1 for the same specification. That is, the space between the laser diode and the beam shaping element may be filled with a medium having a refractive index.

【0037】このような構成とする事により、レーザー
ダイオードとそのビーム整形素子との、光軸方向の相対
的な位置決め要求精度を低減する事が可能となる。従っ
て、上述した高密度光記録再生装置における、青色レー
ザービームを用いた短波長化、及び波面精度の必要レベ
ルが厳しくなった事による、光軸方向の位置決め誤差感
度の増加を、上記構成により抑制する事が可能となる。
そして、光源ユニット更には光ピックアップの、無理の
ない組立調整が可能となる。
With such a configuration, it is possible to reduce the required accuracy of the relative positioning of the laser diode and its beam shaping element in the optical axis direction. Accordingly, the above-described configuration suppresses an increase in the positioning error sensitivity in the optical axis direction due to a shorter wavelength using a blue laser beam and a stricter level of wavefront accuracy in the high-density optical recording / reproducing apparatus described above. It is possible to do.
Then, the light source unit and the optical pickup can be easily assembled and adjusted.

【0038】具体的な数値例としては、θx=0.1
5,M=2.3の場合、波面収差量0.02λを満足す
るためには、レーザーダイオードとビーム整形素子との
間が空気である場合、z軸方向の位置決め精度はサブミ
クロンオーダーとなってしまい、組立調整が困難とな
る。そこで、レーザーダイオードとビーム整形素子との
間を、例えば屈折率1.5以上の媒体で充填すれば、許
容誤差量を1.5倍以上に緩和する事ができる。
As a specific numerical example, θ x = 0.1
5, In the case of M = 2.3, in order to satisfy the wavefront aberration amount of 0.02λ, when the air is between the laser diode and the beam shaping element, the positioning accuracy in the z-axis direction is on the order of submicrons. This makes assembly adjustment difficult. Therefore, if the space between the laser diode and the beam shaping element is filled with, for example, a medium having a refractive index of 1.5 or more, the allowable error can be reduced to 1.5 times or more.

【0039】以下、本発明に係る光源ユニットの光学系
の構成を、コンストラクションデータ,収差図等を挙げ
て、更に具体的に示す。なお、以下に挙げる実施例1,
2は、前述した第1,第2の実施形態にそれぞれ対応し
ており、第1,第2の実施形態を表す光学構成図(図
3,図4,及び図5,図6)は、対応する実施例1,2
の光学系の構成をそれぞれ示している。なお、各実施例
ではθy>θxの構成としている。
Hereinafter, the configuration of the optical system of the light source unit according to the present invention will be described more specifically with reference to construction data, aberration diagrams, and the like. In addition, the following Example 1,
2 corresponds to the above-described first and second embodiments, respectively, and the optical configuration diagrams (FIGS. 3, 4, 4, 5, and 6) representing the first and second embodiments correspond to the corresponding embodiments. Examples 1 and 2
Are shown respectively. Note that each embodiment has a configuration of θ y > θ x .

【0040】各実施例において、ri(i=1,2)は、光源側
から数えてi番目の面及びその曲率半径(単位mm)を
示し、di(i=0,1)は、光源側から数えてi番目の軸上面
間隔(単位mm)を示す。また、Ni(i=0,1)は、光源側
から数えてi番目の光学部材(ここでは媒体及びビーム
整形素子)の屈折率を示しており、それぞれ左から波長
410.00nm,405.00nm,400.00n
mのレーザービームに対する値となっている。なお、OB
JはレーザーダイオードLDを示している。
In each embodiment, ri (i = 1,2) indicates the i-th surface counted from the light source side and its curvature radius (unit: mm), and di (i = 0,1) indicates the light source side. The i-th axis upper surface interval (unit: mm) counted from the above is shown. Ni (i = 0, 1) indicates the refractive index of the i-th optical member (here, the medium and the beam shaping element) counted from the light source side, and the wavelengths are 410.00 nm and 405.00 nm from the left, respectively. , 400.00n
m for a laser beam. OB
J indicates a laser diode LD.

【0041】〈実施例1〉本実施例において、アナモフ
ィック回折面はXYの多項式による位相差関数で定義さ
れ、以下の式で表される。 φ(X,Y)=(2π/HWL)(Σm,njmn) 但し、 j={(m+n)2+m+3n}/2,(m,n=1,
2,…) HWL:回折面の定義波長 である。本実施例では、レーザーダイオードの射出側N
A(空気内)はX方向0.35,Y方向0.15であ
り、射出側のNAは約0.23程度である。また、レー
ザーダイオードとビーム整形素子との間は、UV硬化樹
脂が充填されている。
<Embodiment 1> In this embodiment, the anamorphic diffraction surface is defined by a phase difference function based on an XY polynomial and is represented by the following equation. φ (X, Y) = (2π / HWL) (Σ m, n C j X m Y n ) where j = {(m + n) 2 + m + 3n} / 2, (m, n = 1,
2,...) HWL: Defined wavelength of the diffraction surface. In this embodiment, the emission side N of the laser diode
A (in the air) is 0.35 in the X direction and 0.15 in the Y direction, and the NA on the emission side is about 0.23. The space between the laser diode and the beam shaping element is filled with a UV curable resin.

【0042】 HWL=405.00nm [曲率半径] [軸上面間隔] [屈折率(N)] OBJ ∞ d0= 0.1535 N0=1.534053, 1.534659, 1.535160 r1= ∞ d1= 1.000000 N1=1.909821, 1.913418, 1.917218 r2= ∞HWL = 405.00nm [radius of curvature] [interval of axial top surface] [refractive index (N)] OBJ ∞ d0 = 0.1535 N0 = 1.534053, 1.534659, 1.535160 r1 = ∞ d1 = 1.000000 N1 = 1.909821, 1.913418, 1.917218 r2 = ∞

【0043】 [第1面(r1)の位相係数] (回折次数)=1 C3= 2.5000 C5=-2.0000 C10=-5.9033×102 C12= 3.4967×102 C14= 5.2217×10 C21=-2.5560×105 [第2面(r2)の位相係数] (回折次数)=1 C3=-2.5000×10-3 C5= 1.2060×10-1 C10=-3.5653×10-1 C12=-1.1856 C14=-5.3615×10-1 C21= 1.8995 C23= 2.0634 C25= 3.0842 C27= 9.3097×10-1 [Phase coefficient of the first surface (r1)] (diffraction order) = 1 C3 = 2.5000 C5 = -2.0000 C10 = -5.9033 × 10 2 C12 = 3.4967 × 10 2 C14 = 5.2217 × 10 C21 = -2.5560 × 10 5 [Phase coefficient of the second surface (r2)] (diffraction order) = 1 C3 = -2.5000 × 10 -3 C5 = 1.2060 × 10 -1 C10 = -3.5653 × 10 -1 C12 = -1.1856 C14 = -5.3615 × 10 -1 C21 = 1.8995 C23 = 2.0634 C25 = 3.0842 C27 = 9.3097 × 10 -1

【0044】〈実施例2〉本実施例において、アナモフ
ィック屈折面は、以下の式で表される。 z=(CUXx2+CUYy2)/〔1+√{1−(1+
KX)CUX22−(1+KY)CUY22}〕+AR
{(1−AP)x2+(1+AP)y22+BR{(1
−BP)x2+(1+BP)y23+CR{(1−C
P)x2+(1+CP)y24+DR{(1−DP)x2
+(1+DP)y25 但し、 z:Z軸方向の面のズレ量 CUX,CUY:それぞれX,Y方向の曲率 KX,KY:それぞれX,Y方向の円錐定数 AR,BR,CR,DR:それぞれ4次,6次,8次,
10次の円錐からの変形のうち、回転対称部分を表す非
球面係数 AP,BP,CP,DP:それぞれ4次,6次,8次,
10次の円錐からの変形のうち、回転非対称部分を表す
非球面係数 である。
<Embodiment 2> In this embodiment, anamorph
The refractive surface is represented by the following equation. z = (CUXxTwo+ CUYyTwo) / [1 + √ {1- (1+
KX) CUXTwoxTwo− (1 + KY) CUYTwoyTwo}] + AR
{(1-AP) xTwo+ (1 + AP) yTwoTwo+ BR {(1
-BP) xTwo+ (1 + BP) yTwoThree+ CR {(1-C
P) xTwo+ (1 + CP) yTwoFour+ DR {(1-DP) xTwo
+ (1 + DP) yTwoFive  Where z: displacement of the surface in the Z-axis direction CUX, CUY: curvature in the X and Y directions respectively KX, KY: conical constant in the X and Y directions AR, BR, CR, DR: fourth, sixth, respectively 8th,
Of the deformations from the 10th order cone, the non-rotationally symmetric
Spherical coefficients AP, BP, CP, DP: 4th, 6th, 8th,
Represents the rotationally asymmetric part of the deformation from the 10th order cone
The aspheric coefficient is

【0045】本実施例では、レーザーダイオードの射出
側NA(空気内)はX方向0.35,Y方向0.15で
あり、射出側のNAは約0.24程度である。また、レ
ーザーダイオードとビーム整形素子との間は、UV硬化
樹脂が充填されている。なお、データ中のRDX,RD
Yは、それぞれX,Y方向の曲率半径を示しており、そ
れぞれCUX,CUYの逆数である。
In this embodiment, the emission side NA (in the air) of the laser diode is 0.35 in the X direction and 0.15 in the Y direction, and the NA on the emission side is about 0.24. The space between the laser diode and the beam shaping element is filled with a UV curable resin. Note that RDX, RD in the data
Y indicates the radius of curvature in the X and Y directions, respectively, and is the reciprocal of CUX and CUY, respectively.

【0046】 [曲率半径] [軸上面間隔] [屈折率(N)] OBJ ∞ d0= 0.1000 N0=1.534053, 1.534659, 1.535160 r1 RDY=∞ RDX=-0.02000 d1= 1.000000 N1=1.909821, 1.913418, 1.917218 r2 RDY=-2.00000 RDX=-1.60900[Curvature radius] [Axis top surface interval] [Refractive index (N)] OBJ ∞ d0 = 0.1000 N0 = 1.534053, 1.534659, 1.535160 r1 RDY = ∞ RDX = -0.02000 d1 = 1.000000 N1 = 1.909821, 1.913418, 1.917218 r2 RDY = -2.00000 RDX = -1.60900

【0047】 [第1面(r1)の係数] KY=0.000000 KX=0.000000 AR=0.000000 BR=0.000000 CR=0.000000 DR=0.000000 AP=0.000000 BP=0.000000 CP=0.000000 DP=0.000000 [第2面(r2)の係数] KY=4.470844 KX=1.671833 AR=0.514456×10-2 BR=0.117540×10-1 CR=0.000000 DR=0.000000 AP=0.100000×10 BP=0.100000×10 CP=0.100000×10 DP=0.100000×10[Coefficient of first surface (r1)] KY = 0.000000 KX = 0.000000 AR = 0.000000 BR = 0.000000 CR = 0.000000 DR = 0.000000 AP = 0.000000 BP = 0.000000 CP = 0.000000 DP = 0.000000 [Second surface (r2) KY = 4.470844 KX = 1.671833 AR = 0.514456 × 10 -2 BR = 0.117540 × 10 -1 CR = 0.000000 DR = 0.000000 AP = 0.100000 × 10 BP = 0.100000 × 10 CP = 0.100000 × 10 DP = 0.100000 × 10

【0048】図7,図8は、それぞれ実施例1,2の光
学系の横収差図である。各図において、(a),(b)
はそれぞれY方向,X方向の収差を表しており、曲線
a,b,cは、それぞれレーザービームの波長が410
nm,405nm,400nmの場合を示している。目
盛の単位はmmである。各図に示すように、青色レーザ
ービームを用いた場合に考慮すべき波長変動範囲におい
て、良好な色収差補正が可能となっているとともに、波
面収差も小さく抑えられている。
FIGS. 7 and 8 are lateral aberration diagrams of the optical systems of Examples 1 and 2, respectively. In each figure, (a), (b)
Represents aberrations in the Y and X directions, respectively, and curves a, b, and c represent wavelengths of the laser beam of 410
nm, 405 nm, and 400 nm. The unit of the scale is mm. As shown in each figure, good chromatic aberration correction is possible and the wavefront aberration is suppressed to a small value in a wavelength variation range to be considered when a blue laser beam is used.

【0049】また、実施例1において、レーザーダイオ
ードとビーム整形素子(第1面)との距離が、設計値
0.1535mmより1.5μm増加した場合の非点収
差量は1.6μm程度であり、この場合の残存波面収差
は0.02程度と許容範囲内である。従来のように、レ
ーザーダイオードとビーム整形素子との間が空気である
場合、波面収差0.02程度を満足するためのz軸方向
の調整に対する必要精度は1μm以下となってしまう。
また、実施例2において、レーザーダイオードとビーム
整形素子(第1面)との距離が、設計値0.1mmより
1.5μm増加した場合の非点収差量は1.4μm程度
であり、この場合の残存波面収差は0.02程度と許容
範囲内である。
In the first embodiment, when the distance between the laser diode and the beam shaping element (first surface) is increased by 1.5 μm from the designed value of 0.1535 mm, the amount of astigmatism is about 1.6 μm. In this case, the residual wavefront aberration is about 0.02, which is within the allowable range. When air is present between the laser diode and the beam shaping element as in the related art, the accuracy required for adjustment in the z-axis direction to satisfy the wavefront aberration of about 0.02 is 1 μm or less.
In the second embodiment, when the distance between the laser diode and the beam shaping element (first surface) is increased by 1.5 μm from the designed value of 0.1 mm, the astigmatism amount is about 1.4 μm. Is within an allowable range of about 0.02.

【0050】図9は、本発明の光源ユニットを用いた光
ピックアップの構成例を、模式的に示す図である。同図
において、レーザーダイオードLDとビーム整形素子1
は一体となっている。ビーム整形素子1からは、断面が
略円形のビームLが発散して射出される。このビームL
は、偏光ビームスプリッタ3を通過した後、コリメート
レンズ4で平行光にされ、更に対物レンズ5を通過する
事により、光記録媒体6上に集光スポットを形成する。
FIG. 9 is a diagram schematically showing a configuration example of an optical pickup using the light source unit of the present invention. In the figure, a laser diode LD and a beam shaping element 1
Are united. From the beam shaping element 1, a beam L having a substantially circular cross section diverges and is emitted. This beam L
After passing through the polarizing beam splitter 3, the light is collimated by a collimating lens 4 and further passes through an objective lens 5 to form a condensed spot on an optical recording medium 6.

【0051】光記録媒体6上には、ビットによる情報が
記録されているので、この部分で反射されたビームL
は、戻り光として偏光ビームスプリッタ3で反射され、
別のビームスプリッタ7で分岐されて、それぞれフォト
ディテクタPDで検出される。同図に示すように、レー
ザーダイオードLDとビーム整形素子1とが一体となっ
ているために、ビーム整形用のプリズム等をコリメート
レンズ4の後段に配置したりする必要がなくなるので、
光ピックアップの薄型化,小型化を図る事ができる。
Since information by bits is recorded on the optical recording medium 6, the beam L reflected at this portion is
Is reflected by the polarizing beam splitter 3 as return light,
The light is split by another beam splitter 7 and detected by the photodetector PD. As shown in the figure, since the laser diode LD and the beam shaping element 1 are integrated, there is no need to arrange a beam shaping prism or the like after the collimating lens 4,
The optical pickup can be made thinner and smaller.

【0052】図10は、本発明の光源ユニットの作成手
順例を模式的に示す説明図である。まず、同図(a)に
示すように、ビーム整形素子1には、光源側及び像側
に、それぞれ回折面(或いは屈折面)r1,r2が形成
されている。特に回折面r1は、ビーム整形素子1の光
源側端部に設けられた凹部1aの底部に形成されてい
る。次に、同図(b)に示すように、例えば基板8の端
部に取り付けられたレーザーダイオードLDを、回折面
r1に近接させる。
FIG. 10 is an explanatory diagram schematically showing an example of a procedure for producing the light source unit of the present invention. First, as shown in FIG. 1A, in the beam shaping element 1, diffraction surfaces (or refraction surfaces) r1 and r2 are formed on the light source side and the image side, respectively. In particular, the diffraction surface r1 is formed at the bottom of the concave portion 1a provided at the light source side end of the beam shaping element 1. Next, as shown in FIG. 3B, for example, a laser diode LD attached to an end of the substrate 8 is brought close to the diffraction surface r1.

【0053】この状態で、同図(c)に示すように、凹
部1aにUV硬化樹脂9を満たし、レーザーダイオード
LDとビーム整形素子1との間に、これが充填された状
態にする。この状態で、レーザーダイオードLDよりビ
ームLを射出し、このビームLの断面形状をモニタリン
グしながら、これが略円形となるように、矢印Aで示す
如く、光軸方向或いはそれと垂直方向にレーザーダイオ
ードLDを位置決め調整する。位置決め後、同図(d)
に示すように、矢印UVで示す如くUV硬化樹脂9に紫
外線を照射し、これを固める事により、レーザーダイオ
ードLDをビーム整形素子1に固定する。なお、UV硬
化樹脂の代わりに、他の光硬化性樹脂や、熱硬化性樹脂
等を使用しても良い。
In this state, as shown in FIG. 3C, the concave portion 1a is filled with the UV curable resin 9, and the space between the laser diode LD and the beam shaping element 1 is filled. In this state, a beam L is emitted from the laser diode LD, and while monitoring the cross-sectional shape of the beam L, the laser diode LD is directed in the optical axis direction or in the direction perpendicular thereto as shown by an arrow A so that the beam L becomes substantially circular. Adjust the positioning. After positioning, (d)
As shown by the arrow, the UV curable resin 9 is irradiated with ultraviolet rays as shown by the arrow UV and solidified, thereby fixing the laser diode LD to the beam shaping element 1. Instead of the UV curable resin, another light curable resin, a thermosetting resin, or the like may be used.

【0054】[0054]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
レーザー光源とビーム整形素子との相対的な位置決め要
求精度を、従来よりも緩和した光源ユニット、及びそれ
を用いた光ピックアップを提供する事ができる。
As described above, according to the present invention,
It is possible to provide a light source unit in which the required relative positioning accuracy between the laser light source and the beam shaping element is relaxed as compared with the related art, and an optical pickup using the same.

【0055】また、光軸方向の位置決め精度が緩和され
た、有限タイプのビーム整形素子が得られる。
Further, it is possible to obtain a finite type beam shaping element in which the positioning accuracy in the optical axis direction is reduced.

【0056】また、レーザーダイオードとビーム整形素
子とが媒体により接着固定されるので、周囲の環境に対
する安定性が増す。
Further, since the laser diode and the beam shaping element are adhered and fixed by the medium, the stability to the surrounding environment is increased.

【0057】また、ビーム整形素子をレーザーダイオー
ドの近傍に配置する事ができるので、小型で高効率の光
ピックアップを得る事ができる。
Further, since the beam shaping element can be arranged near the laser diode, a small and highly efficient optical pickup can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の光源ユニットの基本構成を模式的に示
す斜視図。
FIG. 1 is a perspective view schematically showing a basic configuration of a light source unit of the present invention.

【図2】本発明の光源ユニットの基本構成を模式的に示
す縦断面図。
FIG. 2 is a longitudinal sectional view schematically showing a basic configuration of a light source unit of the present invention.

【図3】第1の実施形態における光源ユニットの光学構
成図(Y−Z断面)。
FIG. 3 is an optical configuration diagram (YZ section) of the light source unit according to the first embodiment.

【図4】第1の実施形態における光源ユニットの光学構
成図(X−Z断面)。
FIG. 4 is an optical configuration diagram (XZ cross section) of the light source unit according to the first embodiment.

【図5】第2の実施形態における光源ユニットの光学構
成図(Y−Z断面)。
FIG. 5 is an optical configuration diagram (YZ section) of a light source unit according to a second embodiment.

【図6】第2の実施形態における光源ユニットの光学構
成図(X−Z断面)。
FIG. 6 is an optical configuration diagram (XZ cross section) of a light source unit according to the second embodiment.

【図7】実施例1の光学系の横収差図。FIG. 7 is a lateral aberration diagram of the optical system according to the first embodiment.

【図8】実施例2の光学系の横収差図。FIG. 8 is a lateral aberration diagram of the optical system according to the second embodiment.

【図9】光ピックアップの構成例を模式的に示す図。FIG. 9 is a diagram schematically illustrating a configuration example of an optical pickup.

【図10】本発明の光源ユニットの作成手順例を模式的
に示す説明図。
FIG. 10 is an explanatory view schematically showing an example of a procedure for producing a light source unit of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ビーム整形素子 2 媒体 3 偏光ビームスプリッタ 4 コリメートレンズ 5 対物レンズ 6 光記録媒体 7 ビームスプリッタ 8 基板 9 UV硬化樹脂 Lx X−Z断面上のマージナル光線 Ly Y−Z断面上のマージナル光線 LD レーザーダイオード PD フォトディテクタ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Beam shaping element 2 Medium 3 Polarization beam splitter 4 Collimating lens 5 Objective lens 6 Optical recording medium 7 Beam splitter 8 Substrate 9 UV curing resin Lx PD Photo Detector

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H087 KA13 LA26 LA28 PA01 PA17 PB01 QA01 QA03 QA07 QA13 QA17 QA33 QA37 RA07 RA42 RA45 RA46 UA01 5D119 AA32 AA35 AA39 EC27 JA08 JB03  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H087 KA13 LA26 LA28 PA01 PA17 PB01 QA01 QA03 QA07 QA13 QA17 QA33 QA37 RA07 RA42 RA45 RA46 UA01 5D119 AA32 AA35 AA39 EC27 JA08 JB03

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光源と、 該光源から射出して光軸に垂直で互いに直交する軸に対
して異なる拡がり角度で発散する光束を、ほぼ同じ拡が
り角度の光束に変換するビーム整形素子と、 から成り、 前記光源と前記ビーム整形素子との間に、屈折率が1を
超える媒体を充填した事を特徴とする光源ユニット。
1. A light source, and a beam shaping element for converting light beams emitted from the light source and diverging at different divergence angles with respect to axes perpendicular to the optical axis and orthogonal to each other, into light beams having substantially the same divergence angle. A light source unit, wherein a medium having a refractive index of more than 1 is filled between the light source and the beam shaping element.
【請求項2】 前記ビーム整形素子は、少なくとも2つ
のアナモフィック回折面を有する事を特徴とする請求項
1に記載の光源ユニット。
2. The light source unit according to claim 1, wherein the beam shaping element has at least two anamorphic diffraction surfaces.
【請求項3】 前記ビーム整形素子は、少なくとも2つ
のアナモフィック屈折面を有する事を特徴とする請求項
1に記載の光源ユニット。
3. The light source unit according to claim 1, wherein the beam shaping element has at least two anamorphic refractive surfaces.
【請求項4】 以下の条件式を満足する事を特徴とする
請求項1〜請求項3のいずれかに記載の光源ユニット; nD−n≧0.2 但し、 nD :ビーム整形素子の屈折率 n :媒体の屈折率 である。
4. The light source unit according to claim 1, wherein the following conditional expression is satisfied: n D −n ≧ 0.2, where n D is a beam shaping element. Refractive index n: Refractive index of the medium.
【請求項5】 前記媒体は光硬化性樹脂或いは熱硬化性
樹脂である事を特徴とする請求項1〜請求項4のいずれ
かに記載の光源ユニット。
5. The light source unit according to claim 1, wherein the medium is a photocurable resin or a thermosetting resin.
【請求項6】 前記光源と、前記ビーム整形素子と、前
記媒体とが一体化され、互いに固定されている事を特徴
とする請求項1〜請求項5のいずれかに記載の光源ユニ
ット。
6. The light source unit according to claim 1, wherein the light source, the beam shaping element, and the medium are integrated and fixed to each other.
【請求項7】 請求項1〜請求項6のいずれかに記載の
光源ユニットと、 該光源ユニットからの光束を集光して光記録媒体上に集
光スポットを形成する対物レンズと、 前記光記録媒体からの記録情報を含む前記光束の戻り光
を、電気信号に変換する検出光学系と、 を備えた事を特徴とする光ピックアップ。
7. The light source unit according to claim 1, further comprising: an objective lens configured to collect a light beam from the light source unit to form a focused spot on an optical recording medium; An optical pickup comprising: a detection optical system that converts return light of the light flux including recording information from a recording medium into an electric signal.
JP2000285206A 2000-09-20 2000-09-20 Light source unit and optical pickup Pending JP2002092928A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000285206A JP2002092928A (en) 2000-09-20 2000-09-20 Light source unit and optical pickup

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000285206A JP2002092928A (en) 2000-09-20 2000-09-20 Light source unit and optical pickup

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002092928A true JP2002092928A (en) 2002-03-29

Family

ID=18769318

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000285206A Pending JP2002092928A (en) 2000-09-20 2000-09-20 Light source unit and optical pickup

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002092928A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019211710A (en) * 2018-06-07 2019-12-12 キヤノン株式会社 Optical system, image capturing device having the same, and image capturing system
JP2019211711A (en) * 2018-06-07 2019-12-12 キヤノン株式会社 Optical system, image capturing device having the same, and image capturing system
US11674908B2 (en) 2018-06-07 2023-06-13 Canon Kabushiki Kaisha Optical system, and imaging apparatus and imaging system including the same

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019211710A (en) * 2018-06-07 2019-12-12 キヤノン株式会社 Optical system, image capturing device having the same, and image capturing system
JP2019211711A (en) * 2018-06-07 2019-12-12 キヤノン株式会社 Optical system, image capturing device having the same, and image capturing system
JP7214375B2 (en) 2018-06-07 2023-01-30 キヤノン株式会社 OPTICAL SYSTEM, IMAGING DEVICE AND IMAGING SYSTEM INCLUDING THE SAME
JP7214376B2 (en) 2018-06-07 2023-01-30 キヤノン株式会社 OPTICAL SYSTEM, IMAGING DEVICE AND IMAGING SYSTEM INCLUDING THE SAME
US11674908B2 (en) 2018-06-07 2023-06-13 Canon Kabushiki Kaisha Optical system, and imaging apparatus and imaging system including the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7920456B2 (en) Objective lens for optical pickup device, optical pickup device and optical information recording/reproducing apparatus
US20060039266A1 (en) Objective lens, light converging optical system, optical pickup apparatus, and recording/reproducing apparatus
KR101000664B1 (en) Recording reproducing optical system, objective lens and optical pickup apparatus
JP2004185797A (en) Optical system for optical pickup device, optical pickup device, and objective lens
JP2009217929A (en) Objective lens for optical pickup unit
JPWO2005083694A1 (en) Objective optical system, optical pickup device, and optical information recording / reproducing device
US20030123372A1 (en) Objective lens, optical pickup apparatus, and recording and/or reproducing apparatus
US7164645B2 (en) Optical system for optical pickup apparatus
US20120112048A1 (en) Composite optical element and optical head device
US6859334B1 (en) Reflecting microoptical system
US8018816B2 (en) Objective lens and optical information recording/reproducing apparatus
JP2005158089A (en) Objective lens for optical disk, and optical head apparatus using it
JP2002092928A (en) Light source unit and optical pickup
JP4280896B2 (en) Optical system for optical pickup device, optical pickup device, optical information recording / reproducing device, and chromatic aberration correcting element
JP2001229566A (en) Optical pickup
JP4803410B2 (en) Objective lens for optical pickup device, optical pickup device and optical information recording / reproducing device
JP5013237B2 (en) Coupling lens, optical pickup device, recording device, and reproducing device
US7558180B2 (en) Light source apparatus provided with beam shaping element and optical pick-up apparatus having the same
US20060262707A1 (en) Objective lens and optical pickup apparatus using the same
US8611199B2 (en) Objective lens element and optical pickup device
JP2001013406A (en) Objective lens and optical pickup device using the same
JP2003015032A (en) Objective lens, condensing optical system, optical pickup device and recording and reproducing device
US20080019256A1 (en) Objective lens and optical pickup system
US8576685B2 (en) Objective lens element
US20080181090A1 (en) Objective lens optical system and light beam splitting element

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20050615

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050622

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050921

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20080214

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080407

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080415

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080805