JP2002087895A - Oxidation resistant carbonaceous material and manufacturing method thereof - Google Patents

Oxidation resistant carbonaceous material and manufacturing method thereof

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JP2002087895A
JP2002087895A JP2000277344A JP2000277344A JP2002087895A JP 2002087895 A JP2002087895 A JP 2002087895A JP 2000277344 A JP2000277344 A JP 2000277344A JP 2000277344 A JP2000277344 A JP 2000277344A JP 2002087895 A JP2002087895 A JP 2002087895A
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carbonaceous material
oxidation
resistant
boron
layer
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Yuichiro Tabuchi
雄一郎 田渕
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NGK Insulators Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an oxidation resistant carbonaceous material having excellent oxidation resistance even in a high temperature region in the atmosphere and excellent adhesive strength between the carbonaceous material and an oxidation resistant coating film, and a manufacturing method thereof. SOLUTION: The oxidation resistant carbonaceous material is formed by applying the oxidation resistant coating film (preferably, a laminated body containing a boron-containing layer 2 and an oxide ceramic layer 3) on the surface of a carbonaceous material 1 and the adhesive strength of the oxidation resistant coating film to the surface of the carbonaceous material is >=2 MPa.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】 本発明は、耐酸化性炭素質
材料及びその製造方法に関する。さらに詳しくは、大気
中高温度領域においても優れた耐酸化性を有するととも
に、炭素質材料と耐酸化性皮膜との間の接着強度に優れ
た耐酸化性炭素質材料及びその製造方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an oxidation-resistant carbonaceous material and a method for producing the same. More specifically, the present invention relates to an oxidation-resistant carbonaceous material having excellent oxidation resistance even in a high temperature range in the atmosphere and having excellent adhesion strength between a carbonaceous material and an oxidation-resistant film, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】 近年、技術革新が急速に進む中で、宇
宙往還機、スペースプレーン等の宇宙開発分野、酸素の
存在下で使用される窯道具の分野、セラミックコンデン
サー用のセッターの分野、壁掛け型の大型ディスプレ−
として知られているプラズマテレビ用の保護ガラスの分
野等では、軽量かつ熱衝撃に強く、割れ難い材料で、大
気中で600℃以上、好ましくは、1000℃以上の高
温下でも実質的に酸化されることがない材料の出現が熱
望されている。
2. Description of the Related Art In recent years, as technological innovation has progressed rapidly, the field of space development such as space planes and space planes, the field of kiln tools used in the presence of oxygen, the field of setters for ceramic capacitors, and wall mounting Large display
In the field of protective glass for plasma televisions and the like, which is known as a light-weight, heat-shock resistant, hard-to-break material, it is substantially oxidized in air at a high temperature of 600 ° C. or higher, preferably 1000 ° C. or higher. There is a keen need for the emergence of materials that do not.

【0003】 このような状況下、特開平6−9269
号公報には、炭素質材料の表面にホウ素含有層(耐酸化
性皮膜)を形成した、高温での耐酸化性に優れた炭素質
材料が提案されている。しかし、特開平6−9269号
公報に記載された炭素質材料においては、長時間の耐酸
化性が維持できないことに加えて、炭素質材料の表面状
態を制御しておらず、表面状態によって耐酸化性にばら
つきがあるという問題があった。
In such a situation, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-9269
Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H11-163873 proposes a carbonaceous material having a boron-containing layer (oxidation-resistant film) formed on the surface of the carbonaceous material and having excellent oxidation resistance at high temperatures. However, in the carbonaceous material described in JP-A-6-9269, in addition to being unable to maintain oxidation resistance for a long time, the surface state of the carbonaceous material is not controlled, and the acid resistance depends on the surface state. There is a problem that the chemical properties vary.

【0004】 一方、耐食性皮膜を形成した半導体処理
部材に関し、所定の表面粗さに設定された表面を有する
ガラス状のカーボン基材とSi34層との間にSiCを
含むSi34層を形成して、Si34層がガラス状のカ
ーボン基材から剥離しないように構成した部材が提案さ
れている(特開平4−345019号公報)。
On the other hand, Si 3 N 4 containing relates to semiconductor processing member formed with corrosion-resistant coating, the SiC between the glassy carbon substrate and Si 3 N 4 layer having a set surface to a predetermined surface roughness A member has been proposed in which a layer is formed so that the Si 3 N 4 layer does not peel off from the glassy carbon base material (Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-345019).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】 しかしながら、特開
平4−345019号公報における部材のカーボン基材
の表面粗さの設定(0.1μm〜150μm)は、耐食
性皮膜として気孔率が0.1%以下の緻密膜であるSi
C、Si34を用いた半導体処理部材には適当な範囲で
あるが、本発明におけるような耐酸化性皮膜として、例
えば、ホウ素含有層及び酸化物セラミックス層(気孔率
が0.5〜10%程度と緻密性が低い皮膜である)を用
いた炭素質材料の場合には必ずしも適当ではなく、平均
表面粗さが2μm未満であると、皮膜が剥離しやすく、
また、平均表面粗さが20μmを超えると、表面のうね
りが大きすぎて一定膜厚の成膜が困難になるとともに、
炭素質材料表面の山と谷部で膜厚を一定にコントロール
する必要があるため、工程の増加に伴いコスト高となる
という問題があった。
However, the setting of the surface roughness of the carbon base material (0.1 μm to 150 μm) of the member in JP-A-4-345019 discloses that the porosity is 0.1% or less as a corrosion-resistant film. Si is a dense film of
Although it is in an appropriate range for a semiconductor processing member using C and Si 3 N 4 , as an oxidation resistant film as in the present invention, for example, a boron-containing layer and an oxide ceramic layer (porosity of 0.5 to This is not necessarily appropriate in the case of a carbonaceous material using a film having a low density of about 10%). When the average surface roughness is less than 2 μm, the film is easily peeled,
Further, when the average surface roughness exceeds 20 μm, the undulation of the surface is too large, and it becomes difficult to form a film having a constant thickness.
Since it is necessary to control the film thickness at the peaks and valleys on the surface of the carbonaceous material at a constant level, there has been a problem that the cost increases as the number of steps increases.

【0006】 本発明は、上述の問題に鑑みなされたも
ので、高温度領域においても優れた耐酸化性を有すると
ともに、炭素質材料と耐酸化性皮膜との間の接着強度に
優れた耐酸化性炭素質材料及びその製造方法を提供する
ことを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-described problems, and has excellent oxidation resistance even in a high temperature region, and has excellent adhesion strength between a carbonaceous material and an oxidation resistant film. It is an object of the present invention to provide a carbonaceous material and a method for producing the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】 本発明者は、上述の課
題を解決すべく鋭意研究した結果、例えば、炭素質材料
の平均表面粗さを特定範囲に制御すること等により、耐
酸化性皮膜の炭素質材料の表面に対する接着強度を特定
の範囲に設定することによって上記目的を達成すること
ができることを知見し、本発明を完成させた。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, for example, by controlling the average surface roughness of a carbonaceous material to a specific range, etc. It has been found that the above object can be achieved by setting the adhesive strength of the carbonaceous material to the surface in a specific range, and completed the present invention.

【0008】 すなわち、本発明は、以下の耐酸化性炭
素質材料を提供するものである。
That is, the present invention provides the following oxidation-resistant carbonaceous material.

【0009】 [1]炭素質材料の表面に耐酸化性皮膜
を被覆してなる耐酸化性炭素質材料であって、前記耐酸
化性皮膜の、前記炭素質材料の表面に対する接着強度
が、2MPa以上であることを特徴とする耐酸化性炭素
質材料。
[1] An oxidation-resistant carbonaceous material in which an oxidation-resistant film is coated on the surface of a carbonaceous material, wherein the adhesion resistance of the oxidation-resistant film to the surface of the carbonaceous material is 2 MPa. An oxidation-resistant carbonaceous material characterized by the above.

【0010】 [2]前記炭素質材料の表面が、2μm
〜20μmの平均表面粗さに制御されたものである前記
[1]に記載の耐酸化性炭素質材料。
[2] The surface of the carbonaceous material is 2 μm
The oxidation-resistant carbonaceous material according to the above [1], which is controlled to have an average surface roughness of m20 μm.

【0011】 [3]前記耐酸化性皮膜が、ホウ素
(B)の炭化物、酸化物及び窒化物からなる群から選ば
れる少なくとも1種のホウ素化合物を含有するホウ素含
有層、並びに酸化物セラミックス層を含む積層体である
前記[1]又は[2]に記載の耐酸化性炭素質材料。
[3] The oxidation-resistant film comprises a boron-containing layer containing at least one boron compound selected from the group consisting of carbides, oxides and nitrides of boron (B), and an oxide ceramic layer. The oxidation-resistant carbonaceous material according to the above [1] or [2], which is a laminated body containing the same.

【0012】 [4]前記ホウ素含有層が、炭化ホウ素
を含有するものである前記[1]〜[3]のいずれかに
記載の耐酸化性炭素質材料。
[4] The oxidation-resistant carbonaceous material according to any one of [1] to [3], wherein the boron-containing layer contains boron carbide.

【0013】 [5]前記酸化物セラミックス層が、ア
ルミニウム、シリコン、ジルコニウム、マグネシウム、
イットリウム、チタン及びカルシウムからなる群から選
ばれる少なくとも1種の元素の酸化物を含む1層以上か
らなる前記[1]〜[4]のいずれかに記載の耐酸化性
炭素質材料。
[5] The oxide ceramic layer is made of aluminum, silicon, zirconium, magnesium,
The oxidation-resistant carbonaceous material according to any one of the above [1] to [4], comprising at least one layer containing an oxide of at least one element selected from the group consisting of yttrium, titanium, and calcium.

【0014】 [6]前記ホウ素含有層及び前記酸化物
セラミックス層が、プラズマ溶射によって前記炭素質材
料の表面に被覆されたものである前記[1]〜[5]の
いずれかに記載の耐酸化性炭素質材料。
[6] The oxidation resistance according to any one of [1] to [5], wherein the boron-containing layer and the oxide ceramic layer are formed by coating the surface of the carbonaceous material by plasma spraying. Carbonaceous material.

【0015】 [7]炭素質材料の表面に、耐酸化性皮
膜を被覆した耐酸化性炭素質材料の製造方法であって、
前記耐酸化性皮膜の、前記炭素質材料の表面に対する接
着強度が、2MPa以上となるように制御した後、前記
炭素質材料の表面に、前記耐酸化性皮膜を被覆すること
を特徴とする耐酸化性炭素質材料の製造方法。
[7] A method for producing an oxidation-resistant carbonaceous material in which an oxidation-resistant film is coated on the surface of a carbonaceous material,
After controlling the adhesive strength of the oxidation resistant film to the surface of the carbonaceous material to be 2 MPa or more, the surface of the carbonaceous material is coated with the oxidation resistant film. A method for producing a carbonizable material.

【0016】 [8]前記耐酸化性皮膜の、前記炭素質
材料の表面に対する接着強度が2MPa以上となるよう
に制御する方法が、炭素質材料の平均表面粗さを2μm
〜20μmに制御することによるものである前記[7]
に記載の耐酸化性炭素質材料の製造方法。
[8] The method of controlling the adhesion strength of the oxidation-resistant film to the surface of the carbonaceous material to be 2 MPa or more, has a method of controlling the average surface roughness of the carbonaceous material to 2 μm.
[7] which is obtained by controlling the thickness to [20 μm].
3. The method for producing an oxidation-resistant carbonaceous material according to item 1.

【0017】 [9]前記炭素質材料の平均表面粗さを
2μm〜20μmに制御する方法が、砥粒研磨加工法に
よるものである前記[7]又は[8]に記載の耐酸化性
炭素質材料の製造方法。
[9] The oxidation-resistant carbonaceous material according to [7] or [8], wherein the method of controlling the average surface roughness of the carbonaceous material to 2 μm to 20 μm is by an abrasive polishing method. Material manufacturing method.

【0018】 [10]前記耐酸化性皮膜が、ホウ素
(B)の炭化物、酸化物及び窒化物からなる群から選ば
れる少なくとも1種のホウ素化合物を含有するホウ素含
有層、並びに酸化物セラミックス層を含む積層体である
前記[7]〜[9]のいずれかに記載の耐酸化性炭素質
材料の製造方法。
[10] The oxidation-resistant film comprises a boron-containing layer containing at least one boron compound selected from the group consisting of carbides, oxides and nitrides of boron (B), and an oxide ceramic layer. The method for producing an oxidation-resistant carbonaceous material according to any one of the above [7] to [9], wherein the laminate is a laminate including:

【0019】 [11]前記炭素質材料の表面に、前記
耐酸化性皮膜を被覆する方法が、プラズマ溶射によるも
のである前記[7]〜[10]のいずれかに記載の耐酸
化性炭素質材料の製造方法。
[11] The oxidation-resistant carbonaceous material according to any of [7] to [10], wherein the method of coating the surface of the carbonaceous material with the oxidation-resistant film is by plasma spraying. Material manufacturing method.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】 以下、本発明の実施の形態を図
面を参照しつつ具体的に説明する。
Embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings.

【0021】 本発明の耐酸化性炭素質材料は、炭素質
材料の表面に耐酸化性皮膜を被覆してなる耐酸化性炭素
質材料であって、耐酸化性皮膜の、炭素質材料の表面に
対する接着強度が、2MPa以上であることを特徴とす
る。
The oxidation-resistant carbonaceous material of the present invention is an oxidation-resistant carbonaceous material obtained by coating the surface of a carbonaceous material with an oxidation-resistant film, and the surface of the oxidation-resistant film, Is characterized by an adhesive strength of 2 MPa or more.

【0022】 本発明に用いられる炭素質材料として
は、例えば、炭素繊維を挙げることができる。このよう
な炭素繊維としては、その製法、使用原料を問わず使用
可能である。実際の使用に際しては、炭素繊維をバイン
ダー等を用い、所定形状に成形して使用する。耐久性の
点からはC/Cコンポジットが好ましい。さらに、この
C/CコンポジットにSiを含浸させた複合材料であっ
てもよい。このようなSiを含浸させた複合材料として
は、後述するSi−SiC系複合材料、SiC系複合材
料を好適に使用することができる。なお、本発明におい
て、炭素質材料とは、炭素繊維それ自体はいうまでもな
く、炭素繊維が含まれるC/Cコンポジットをも含む概
念を意味する。加えて、このC/Cコンポジットに所定
量の金属珪素を含浸して得られる、特定の加工をした炭
素質材料である、Si−SiC系複合材料及びSiC系
複合材料も本発明における炭素質材料に含まれる。
Examples of the carbonaceous material used in the present invention include carbon fibers. Such a carbon fiber can be used irrespective of its production method and raw materials. In actual use, carbon fibers are formed into a predetermined shape using a binder or the like. A C / C composite is preferred from the viewpoint of durability. Further, a composite material in which the C / C composite is impregnated with Si may be used. As such a composite material impregnated with Si, a Si—SiC-based composite material and a SiC-based composite material described later can be suitably used. In the present invention, the term “carbonaceous material” means a concept including not only carbon fibers themselves but also C / C composites containing carbon fibers. In addition, the C / C composite is impregnated with a predetermined amount of metallic silicon, and is a specially processed carbonaceous material, ie, a Si—SiC-based composite material and a SiC-based composite material according to the present invention. include.

【0023】 図1〜図3に示すように、本発明の耐酸
化性炭素質材料は、大気中、600℃〜1200℃の高
温下でも、実質的に酸化されることがない。ここで、図
1は、本発明の耐酸化性炭素質材料の、室温程度の温度
条件における状態を模式的に示す断面図、図2は、本発
明の耐酸化性炭素質材料の、600℃近傍までの温度条
件における場合の状態を模式的に示す断面図、図3は、
本発明の耐酸化性炭素質材料の、600℃を超える温度
条件における場合の状態を模式的に示す断面図である。
すなわち、図1に示すように、本発明の耐酸化性炭素質
材料は、炭素質材料1の表面上にホウ素含有層2及び酸
化物セラミックス層3を含む積層体が被覆されている。
図1に示す例では、酸化物セラミックス層3がマイクロ
クラック4aを有し、かつシリカを含有する場合を示し
ている。図1のように、常温程度の温度条件(酸化条
件)の場合は、耐酸化性に対して大きな問題は生じない
が、図2に示すように、600℃近傍の温度までの場合
は、ホウ素含有層2と酸化物セラミックス層3の界面に
酸化ホウ素の液相5が保持され、ホウ素含有層2に生じ
たクラック4bに染み込み、クラック4bをシールする
働きをする。また、図3に示すように、約600℃を超
える温度の場合は、酸化物セラミックス層3のシリカが
液相6となってホウ素含有層2側に拡散し、ホウ素含有
層2に生じたクラック4bに染み込み、クラック4bを
シールする働きをして酸化を防ぐ。なお、実質的に酸化
されないとは、大気中で、600〜1200℃の条件下
で、試料を少なくとも24時間保持したときに、重量の
増減が0.5%以下のことを意味する。
As shown in FIGS. 1 to 3, the oxidation-resistant carbonaceous material of the present invention is not substantially oxidized even in the atmosphere at a high temperature of 600 ° C. to 1200 ° C. Here, FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a state of the oxidation-resistant carbonaceous material of the present invention under a temperature condition of about room temperature, and FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a state in a temperature condition up to the vicinity, and FIG.
It is sectional drawing which shows typically the state at the time of more than 600 degreeC of the oxidation resistant carbonaceous material of this invention.
That is, as shown in FIG. 1, in the oxidation-resistant carbonaceous material of the present invention, a surface of a carbonaceous material 1 is covered with a laminate including a boron-containing layer 2 and an oxide ceramic layer 3.
The example shown in FIG. 1 shows a case where the oxide ceramics layer 3 has microcracks 4a and contains silica. As shown in FIG. 1, when the temperature condition is about room temperature (oxidation condition), there is no major problem with respect to the oxidation resistance. However, as shown in FIG. The liquid phase 5 of boron oxide is retained at the interface between the oxide-containing layer 2 and the oxide-containing layer 3, soaks into the cracks 4 b generated in the boron-containing layer 2, and functions to seal the cracks 4 b. Further, as shown in FIG. 3, when the temperature exceeds about 600 ° C., the silica of the oxide ceramics layer 3 becomes a liquid phase 6 and diffuses toward the boron-containing layer 2 side, and cracks generated in the boron-containing layer 2 4b to prevent oxidation by acting to seal the cracks 4b. Here, “not substantially oxidized” means that when the sample is held for at least 24 hours in the atmosphere at 600 to 1200 ° C., the increase or decrease in weight is 0.5% or less.

【0024】 本発明に用いられる耐酸化性皮膜として
は、例えば、ホウ素(B)の炭化物、酸化物及び窒化物
からなる群から選ばれる少なくとも1種のホウ素化合物
を含有するホウ素含有層、並びに酸化物セラミックス層
を含む積層体を挙げることができる。これらの層の積層
の順序は、所望される性能、使用状況等により適宜選択
することができる。上記以外の層、例えば、ガラス層を
上記の層間に設けてもよい。
The oxidation-resistant film used in the present invention includes, for example, a boron-containing layer containing at least one boron compound selected from the group consisting of carbides, oxides and nitrides of boron (B); And a laminate including a ceramic layer. The order of lamination of these layers can be appropriately selected depending on the desired performance, use conditions, and the like. A layer other than the above, for example, a glass layer may be provided between the above layers.

【0025】 ホウ素(B)の炭化物、酸化物及び窒化
物からなる群から選ばれる少なくとも1種のホウ素化合
物としては、例えば、ホウ酸ガラス、ホウケイ酸ガラ
ス、窒化ホウ素、炭化ホウ素等を挙げることができる。
中でも、ホウ素含有層から生成する液相を保持しやすい
という観点からは、炭化ホウ素が好ましい。
The at least one boron compound selected from the group consisting of carbides, oxides and nitrides of boron (B) includes, for example, borate glass, borosilicate glass, boron nitride, boron carbide and the like. it can.
Above all, boron carbide is preferable from the viewpoint that the liquid phase generated from the boron-containing layer is easily retained.

【0026】 ホウ素含有層は、通常、炭素質材料表面
に近い層、好ましくは、最内層、すなわち、所定の形状
をした炭素質材料の表面の上に直接形成されていること
が好ましい。このように構成することにより、最表面に
形成された耐酸化性皮膜に何かの原因で、クラック等が
生じても、前述のようにホウ素含有層の有する自己修復
機能によりクラックが封止されるため剥離が防止され、
炭素質材料が酸化から保護されることになる。所望によ
り、ホウ素含有層と基材である炭素質材料の表面との間
に、プライマー層やセラミックスからなる層等を設けて
もよい。
The boron-containing layer is usually preferably formed directly on the layer near the surface of the carbonaceous material, preferably on the innermost layer, that is, on the surface of the carbonaceous material having a predetermined shape. With this configuration, even if a crack or the like occurs for some reason in the oxidation-resistant film formed on the outermost surface, the crack is sealed by the self-healing function of the boron-containing layer as described above. Therefore, peeling is prevented,
The carbonaceous material will be protected from oxidation. If desired, a primer layer, a layer made of ceramics, or the like may be provided between the boron-containing layer and the surface of the carbonaceous material as the base material.

【0027】 ホウ素含有層を炭素質材料の使用態様に
応じて、最外層に設けてもよいが、長期間に亘り400
℃以上の酸化雰囲気中に曝されされるような用途では、
最表面には、酸化物セラミックス層やガラス層を形成す
ることが好ましい。
The boron-containing layer may be provided on the outermost layer depending on the use mode of the carbonaceous material.
For applications that are exposed to oxidizing atmospheres above
It is preferable to form an oxide ceramic layer or a glass layer on the outermost surface.

【0028】 ホウ素含有層の厚さは10μm〜500
μm、好ましくは50μm〜200μmである。10μ
m未満であると、均質な連続層としてホウ素含有層を形
成することが困難である。また、500μmを超えてホ
ウ素含有層を形成させても、耐酸化性の向上は期待でき
ず、ホウ素含有材料が高価であることから経済的でな
い。
The thickness of the boron-containing layer is from 10 μm to 500 μm.
μm, preferably 50 μm to 200 μm. 10μ
If it is less than m, it is difficult to form a boron-containing layer as a uniform continuous layer. Further, even if a boron-containing layer is formed with a thickness exceeding 500 μm, improvement in oxidation resistance cannot be expected, and it is not economical because the boron-containing material is expensive.

【0029】 ホウ素含有層は、直接材料表面に塗布し
て形成してもよく、溶射や、CVD法により形成しても
よい。ホウ素含有材料を炭素質材料の表面にプラズマ溶
射することにより形成してもよい。
The boron-containing layer may be formed by directly applying to the surface of the material, or may be formed by thermal spraying or a CVD method. It may be formed by plasma spraying a boron-containing material on the surface of the carbonaceous material.

【0030】 酸化物セラミックス層としては、第II
a族、第IIIa族,第IIIb族,第IVa族、第I
Vb族、第Va族、第VIa族元素の酸化物を挙げるこ
とができる。中でも、アルミニウム、シリコン、ジルコ
ニウム、マグネシウム、イットリウム、チタン及びカル
シウムからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素の
酸化物を主成分とするものが好ましい。特に、シリコン
を含む複合酸化物が好ましい。なお、セラミックス層
は、弾性率が高いために、熱膨張係数が近くても、高い
熱応力が発生しやすい。熱応力を緩和するために、マイ
クロクラックを内在させた酸化物セラミックス層を形成
することが好ましい。マイクロクラックは、それ自体
は、酸素を透過するが、ホウ素含有層を内層として、組
み合わせて使用することにより、酸化により生成した酸
化ホウ素がマイクロクラックの微細構造中に保持され、
結果として、酸素の進入を阻止するという耐酸化性皮膜
の自己修復機能をバックアップするという効果を発揮す
る。
As the oxide ceramic layer, the second layer
group a, group IIIa, group IIIb, group IVa, group I
Oxides of elements of Group Vb, Group Va, and Group VIa can be given. Above all, those containing as a main component an oxide of at least one element selected from the group consisting of aluminum, silicon, zirconium, magnesium, yttrium, titanium and calcium are preferred. In particular, a composite oxide containing silicon is preferable. Since the ceramic layer has a high elastic modulus, a high thermal stress is likely to be generated even if the coefficient of thermal expansion is close. In order to reduce thermal stress, it is preferable to form an oxide ceramic layer having microcracks therein. The microcracks themselves are permeable to oxygen, but by using the boron-containing layer as an inner layer in combination, boron oxide generated by oxidation is retained in the microstructure of the microcracks,
As a result, the effect of backing up the self-healing function of the oxidation-resistant film, which prevents oxygen from entering, is exhibited.

【0031】 ホウ素含有層、例えば、炭化ホウ素が酸
化条件下に曝されたとき、前述のように自己修復機能を
発現する酸化ホウ素が生成するが、生成した酸化ホウ素
は、炭素に吸着されないので系外に流出してしまい、耐
酸化性層としての用をなさなくなるおそれがある。マイ
クロクラックを内在させた酸化物セラミックス層は、こ
れを防止するという耐酸化性皮膜の自己修復機能をバッ
クアップする効果を発揮する。酸化物セラミックス層
は、通常、無数の微細な孔が形成されたスポンジ様構造
体を形成しており、この構造体に酸化により生成した酸
化ホウ素が吸着されて、いわゆる耐酸化性のガラス層が
形成されて、炭素繊維からなる基体の表面の酸化を防止
するという自己修復機能を示す。このようなスポンジ様
の酸化物層の上に、ガラス、又は他の酸化物セラミック
ス層をさらに形成してもよい。これにより、一層の耐酸
化性を発揮させることができる。なお、ホウ素含有層と
酸化物セラミックス層との間、及び/又はホウ素含有層
と必要に応じて形成されるガラスからなる層との間等、
各層間の熱膨張係数の比の値(ホウ素含有層/酸化物セ
ラミックス層(ガラスからなる層))は、熱応力の発生
を防止する観点から、1/2以下であることが好まし
い。
When a boron-containing layer, for example, boron carbide is exposed to oxidizing conditions, a boron oxide exhibiting a self-healing function is generated as described above, but the generated boron oxide is not adsorbed on carbon, so that the system It may flow out to the outside, and may not be used as an oxidation-resistant layer. The oxide ceramic layer in which microcracks are present exhibits the effect of preventing the occurrence of the crack and backing up the self-healing function of the oxidation-resistant film. The oxide ceramic layer usually forms a sponge-like structure in which innumerable fine holes are formed, and a boron oxide generated by oxidation is adsorbed to this structure, so-called an oxidation-resistant glass layer is formed. It is formed and exhibits a self-healing function of preventing oxidation of the surface of the substrate made of carbon fibers. A glass or other oxide ceramic layer may be further formed on such a sponge-like oxide layer. Thereby, further oxidation resistance can be exhibited. In addition, between the boron-containing layer and the oxide ceramic layer, and / or between the boron-containing layer and a layer made of glass formed as necessary,
The value of the ratio of the thermal expansion coefficients between the layers (the boron-containing layer / the oxide ceramic layer (layer made of glass)) is preferably 1/2 or less from the viewpoint of preventing the occurrence of thermal stress.

【0032】 酸化物セラミックス層として、釉薬から
なる層を形成してもよい。釉薬からなる層は、600℃
を超す高温での耐酸化性をより確実にすることができる
ので好ましい。釉薬としては、ガラス製の釉薬が好適に
使用される。
As the oxide ceramic layer, a layer made of glaze may be formed. 600 ° C for glaze layer
Is preferable because the oxidation resistance at a high temperature exceeding the above can be further ensured. As the glaze, a glass glaze is preferably used.

【0033】 本発明においては、耐酸化性皮膜の、炭
素質材料の表面に対する接着強度が、2MPa以上であ
る。接着強度が、2MPa未満であると、耐酸化性皮膜
が炭素質材料の表面から剥離するのを有効に防止するこ
とができない。本発明における接着強度の評価試験方法
については後述する。
In the present invention, the adhesive strength of the oxidation resistant film to the surface of the carbonaceous material is 2 MPa or more. If the adhesive strength is less than 2 MPa, it is not possible to effectively prevent the oxidation resistant film from peeling off from the surface of the carbonaceous material. The test method for evaluating the adhesive strength in the present invention will be described later.

【0034】 上述のように、耐酸化性皮膜の、炭素質
材料の表面に対する接着強度を、2MPa以上に制御す
る手段としては特に制限はないが、例えば、炭素質材料
の平均表面粗さを、2μm〜20μmの範囲に制御する
ことを好適例として挙げることができる。本発明におけ
る平均表面粗さの測定方法については後述する。前述の
ような炭素質材料の表面粗さを実現するためには、例え
ば、砥粒研磨加工法(具体的には、JIS R 611に
準拠して炭化ケイ素の砥粒を準備し、その砥粒を回転平
板上に水とともに塗布し、炭素質材料表面を研削加工し
て所定の平均表面粗さに仕上げる方法)を用いることを
好適例として挙げることができる。
As described above, there is no particular limitation on the means for controlling the adhesion strength of the oxidation-resistant film to the surface of the carbonaceous material to 2 MPa or more. For example, the average surface roughness of the carbonaceous material is controlled by: As a preferred example, control in the range of 2 μm to 20 μm can be mentioned. The method for measuring the average surface roughness in the present invention will be described later. In order to realize the surface roughness of the carbonaceous material as described above, for example, an abrasive grain polishing method (specifically, abrasive grains of silicon carbide are prepared in accordance with JIS R 611, and the abrasive grains are prepared. Is applied to a rotating flat plate together with water, and the surface of the carbonaceous material is ground to a predetermined average surface roughness.

【0035】 本発明の耐酸化性炭素質材料の製造方法
は、耐酸化性皮膜の、炭素質材料の表面に対する接着強
度が、2MPa以上となるように制御した後(例えば、
炭素質材料の平均表面粗さを2μm〜20μmに制御し
た後)、この炭素質材料の表面に、耐酸化性皮膜(例え
ば、ホウ素(B)の炭化物、酸化物及び窒化物からなる
群から選ばれる少なくとも1種のホウ素化合物を含有す
るホウ素含有層、並びに酸化物セラミックス層を含む積
層体が好ましい)を被覆することを特徴とする。
In the method for producing an oxidation-resistant carbonaceous material according to the present invention, after controlling the adhesive strength of the oxidation-resistant coating to the surface of the carbonaceous material to be 2 MPa or more (for example,
After controlling the average surface roughness of the carbonaceous material to 2 μm to 20 μm), the surface of the carbonaceous material is coated with an oxidation-resistant film (for example, selected from the group consisting of carbides, oxides and nitrides of boron (B)). (A boron-containing layer containing at least one type of boron compound, and a laminate including an oxide ceramic layer are preferable).

【0036】 具体的には、基体である炭素質材料を最
終用途に応じた所望の形状に加工した後、炭素質材料の
平均表面粗さを、例えば、前記砥粒研磨加工法によって
2μm〜20μmに制御し、この表面に所望の耐酸化皮
膜が形成されるように選択した材料を塗布、溶射(例え
ば、プラズマ溶射)、または、CVD法等を適宜選択し
て形成することができる。例えば、ホウ素含有層を溶射
により形成する場合には、ホウ素含有材料を不活性ガ
ス、例えば、アルゴンと共にプラズマ溶射する。溶射条
件については、特に制限はなく、通常のセラミックス溶
射条件に従えばよい。溶射は、所定形状保持材の各表面
ごとに行ってもよく、また、全表面を同時に行ってもよ
いが、均一性の確保や溶射用器具の制約上、各表面ごと
に行うか、又は所定形状保持材を一定の速度で回転させ
ながら行うことが好ましい。溶射炭化ホウ素の厚さは、
上述したように、通常は10μm〜500μm程度であ
る。
Specifically, after the carbonaceous material as the base is processed into a desired shape according to the final use, the average surface roughness of the carbonaceous material is adjusted to, for example, 2 μm to 20 μm by the abrasive polishing method. , And a material selected so as to form a desired oxidation-resistant film on the surface can be formed by applying, spraying (for example, plasma spraying), or a CVD method as appropriate. For example, when the boron-containing layer is formed by thermal spraying, the boron-containing material is plasma-sprayed together with an inert gas such as argon. The thermal spraying conditions are not particularly limited, and may be in accordance with ordinary ceramic thermal spraying conditions. The thermal spraying may be performed for each surface of the predetermined shape holding material, or may be performed for all surfaces at the same time. It is preferable to perform this while rotating the shape maintaining material at a constant speed. The thickness of sprayed boron carbide is
As described above, it is usually about 10 μm to 500 μm.

【0037】[0037]

【実施例】 以下、本発明を実施例によりさらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら制
限を受けるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited by these Examples.

【0038】実施例1〜3 炭素質材料として、日本碍子社製 商品名:MICMA
T(C/CコンポジットにSiを含浸した製品)を用
い、炭化ケイ素砥粒#10、炭化ケイ素砥粒#80、ダ
イヤモンド砥石#200、ダイヤモンド砥石#1000
又は炭化ケイ素砥粒#180の5種の砥粒又は砥石のい
ずれかを用いた仕上げ方法にて、表1に示すような平均
表面粗さの異なったサンプルを作製した。その表面に、
耐酸化性皮膜として、第1層にホウ素含有層として炭化
ホウ素、第2層に酸化物セラミックス層としてアルミナ
を放電プラズマ溶射にて成膜した。膜厚は、炭化ホウ素
を50μm、アルミナを150μmとした。気孔率は5
%前後とした。
Examples 1 to 3 As carbonaceous materials, manufactured by Nippon Insulators Co., Ltd.
Silicon carbide abrasive # 10, silicon carbide abrasive # 80, diamond whetstone # 200, diamond whetstone # 1000 using T (product in which C / C composite is impregnated with Si)
Alternatively, samples having different average surface roughness as shown in Table 1 were produced by a finishing method using any one of five types of silicon carbide abrasive grains # 180 or a grinding stone. On its surface,
As the oxidation-resistant film, a first layer was formed by boron plasma as a boron-containing layer, and a second layer was formed of alumina as an oxide ceramic layer by discharge plasma spraying. The thickness was 50 μm for boron carbide and 150 μm for alumina. Porosity is 5
%.

【0039】比較例1〜2 実施例1〜3において、炭素質材料の平均表面粗さを表
1に示すものに変えたこと以外は、実施例1〜3と同様
にした。
Comparative Examples 1 to 2 The same procedures as in Examples 1 to 3 were carried out except that the average surface roughness of the carbonaceous material was changed to that shown in Table 1.

【0040】評価方法 本発明の評価は、耐酸化性試験及び接着強度試験によっ
て行った。平均表面粗さの測定方法及び上記2つの試験
方法を以下に示す。
Evaluation Method The evaluation of the present invention was performed by an oxidation resistance test and an adhesive strength test. The method for measuring the average surface roughness and the above two test methods are shown below.

【0041】1.平均表面粗さ測定 JIS B 0601に準拠して測定した。1. Average surface roughness measurement It was measured in accordance with JIS B0601.

【0042】2.耐酸化性試験 大気中、600℃及び800℃曝露の条件下で100時
間実施した。すなわち、試験試料を大気雰囲気下、60
0℃又は800℃のチャンバー内に100時間保持した
後、重量を測定し、試験前の重量と比較して、その減少
率W2を下記式により求めた。 W2={(W1−W0)/W0}×100 但し、式中W0は、耐酸化性試験前の重量を、W1は耐酸
化性試験後の重量を、W2は重量の増減率を表す(減少
は、数字の前に−記号を付け区別した)。また、皮膜に
クラックが生じた場合を×、小さなクラックが生じた場
合(クラックは生じなかったが毛細血管状に溶射皮膜の
浮き上がりが確認できた場合を含む)を△、クラックが
生じなかった場合を〇で評価した。結果を表1に示す。
2. Oxidation resistance test The test was performed for 100 hours in the atmosphere under the conditions of exposure to 600 ° C. and 800 ° C. That is, the test sample was placed in an air atmosphere for 60 hours.
After being kept in a chamber at 0 ° C. or 800 ° C. for 100 hours, the weight was measured and compared with the weight before the test, and the reduction rate W 2 was determined by the following equation. W 2 = {(W 1 −W 0 ) / W 0 } × 100 where W 0 is the weight before the oxidation resistance test, W 1 is the weight after the oxidation resistance test, and W 2 is the weight (Decrease is distinguished by adding a minus sign in front of the number). In addition, x indicates that a crack was formed in the coating, and x indicates that a small crack was generated (including a case where no crack was generated but the sprayed coating was lifted up in a capillary shape), and a case where no crack was generated Was evaluated with 〇. Table 1 shows the results.

【0043】3.接着強度試験 JIS B 7721に準拠し、引張り試験によって測
定した。結果を表1に示す。
3. Adhesion strength test Measured by a tensile test according to JIS B7721. Table 1 shows the results.

【0044】[0044]

【表1】 [Table 1]

【0045】 表1から、炭素質材料の平均表面粗さ
(Ra)を2μm〜20μmに仕上げた状態で放電プラ
ズマ溶射によってホウ素含有相を成膜すると接着強度が
2MPa以上になることがわかる。この場合、高温に曝
されても熱応力による皮膜の剥離は観察されず、良好な
耐酸化性が得られることがわかる。また、比較例1で
は、平均表面粗さ21〜23μm、最大表面粗さが10
0μmを超えている。最大表面粗さが100μmを超え
ている場合、プラズマ溶射による成膜に時間がかかる
上、炭素質材料表面の山部と谷部の差が100μmあ
り、成膜した膜厚200μm(炭化ホウ素50μm、ア
ルミナ150μm)の50%に相当するため、均一な膜
厚を得ることができなかった。以上から、平均表面粗さ
20μm以下、最大表面粗さ(Rmax)100μm以下
の範囲に制御するのがよく、特に、平均表面粗さ2μm
〜20μm、最大表面粗さ80μm以下にするのがよい
ことがわかった。
From Table 1, it can be seen that when the boron-containing phase is formed by discharge plasma spraying in a state where the average surface roughness (R a ) of the carbonaceous material is finished to 2 μm to 20 μm, the adhesive strength becomes 2 MPa or more. In this case, no peeling of the film due to thermal stress was observed even when the film was exposed to a high temperature, indicating that good oxidation resistance was obtained. In Comparative Example 1, the average surface roughness was 21 to 23 μm and the maximum surface roughness was 10
It exceeds 0 μm. When the maximum surface roughness exceeds 100 μm, it takes time to form a film by plasma spraying, and there is a difference of 100 μm between peaks and valleys on the surface of the carbonaceous material, and the formed film thickness is 200 μm (boron carbide 50 μm, (Alumina 150 μm), so that a uniform film thickness could not be obtained. From the above, it is preferable to control the average surface roughness to 20 μm or less and the maximum surface roughness (R max ) to 100 μm or less.
It has been found that it is better to set the surface roughness to 20 μm or less and the maximum surface roughness to 80 μm or less.

【0046】[0046]

【発明の効果】 以上説明したように、本発明によっ
て、高温度領域においても優れた耐酸化性を有するとと
もに、炭素質材料と耐酸化性皮膜との間の接着強度に優
れた耐酸化性炭素質材料及びその製造方法が提供され
る。
As described above, according to the present invention, an oxidation-resistant carbon having excellent oxidation resistance even in a high temperature range and having excellent adhesion strength between a carbonaceous material and an oxidation-resistant film. A quality material and a method for manufacturing the same are provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の耐酸化性炭素質材料の、室温程度の
温度条件における状態を模式的に示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a state of an oxidation-resistant carbonaceous material of the present invention under a temperature condition of about room temperature.

【図2】 本発明の耐酸化性炭素質材料の、600℃近
傍までの温度条件における場合の状態を模式的に示す断
面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a state of the oxidation-resistant carbonaceous material of the present invention in a temperature condition up to around 600 ° C.

【図3】 本発明の耐酸化性炭素質材料の、600℃を
超える温度条件における場合の状態を模式的に示す断面
図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a state of the oxidation-resistant carbonaceous material of the present invention under a temperature condition exceeding 600 ° C.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…炭素質材料、2…ホウ素含有層、3…酸化物セラミ
ックス層、4a…マイクロクラック、4b…クラック、
5…ホウ素含有層に染み込んだ酸化ホウ素の液相、6…
ホウ素含有層に染み込んだ酸化ホウ素及び酸化ケイ素の
液相。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Carbonaceous material, 2 ... Boron containing layer, 3 ... Oxide ceramics layer, 4a ... Micro crack, 4b ... Crack,
5 ... Liquid phase of boron oxide permeated into boron-containing layer, 6 ...
Liquid phase of boron oxide and silicon oxide soaked into the boron-containing layer.

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 炭素質材料の表面に耐酸化性皮膜を被覆
してなる耐酸化性炭素質材料であって、 前記耐酸化性皮膜の、前記炭素質材料の表面に対する接
着強度が、2MPa以上であることを特徴とする耐酸化
性炭素質材料。
1. An oxidation-resistant carbonaceous material obtained by coating a surface of a carbonaceous material with an oxidation-resistant coating, wherein the adhesion strength of the oxidation-resistant coating to the surface of the carbonaceous material is 2 MPa or more. An oxidation-resistant carbonaceous material, characterized in that:
【請求項2】 前記炭素質材料の表面が、2μm〜20
μmの平均表面粗さに制御されたものである請求項1に
記載の耐酸化性炭素質材料。
2. The surface of the carbonaceous material has a thickness of 2 μm to 20 μm.
The oxidation-resistant carbonaceous material according to claim 1, wherein the average surface roughness is controlled to μm.
【請求項3】 前記耐酸化性皮膜が、ホウ素(B)の炭
化物、酸化物及び窒化物からなる群から選ばれる少なく
とも1種のホウ素化合物を含有するホウ素含有層、並び
に酸化物セラミックス層を含む積層体である請求項1又
は2に記載の耐酸化性炭素質材料。
3. The oxidation-resistant film includes a boron-containing layer containing at least one boron compound selected from the group consisting of carbides, oxides and nitrides of boron (B), and an oxide ceramic layer. 3. The oxidation-resistant carbonaceous material according to claim 1, which is a laminate.
【請求項4】 前記ホウ素含有層が、炭化ホウ素を含有
するものである請求項1〜3のいずれかに記載の耐酸化
性炭素質材料。
4. The oxidation-resistant carbonaceous material according to claim 1, wherein the boron-containing layer contains boron carbide.
【請求項5】 前記酸化物セラミックス層が、アルミニ
ウム、シリコン、ジルコニウム、マグネシウム、イット
リウム、チタン及びカルシウムからなる群から選ばれる
少なくとも1種の元素の酸化物を含む1層以上からなる
請求項1〜4のいずれかに記載の耐酸化性炭素質材料。
5. The oxide ceramic layer comprises at least one layer containing an oxide of at least one element selected from the group consisting of aluminum, silicon, zirconium, magnesium, yttrium, titanium and calcium. 4. The oxidation-resistant carbonaceous material according to any one of 4.
【請求項6】 前記ホウ素含有層及び前記酸化物セラミ
ックス層が、プラズマ溶射によって前記炭素質材料の表
面に被覆されたものである請求項1〜5のいずれかに記
載の耐酸化性炭素質材料。
6. The oxidation-resistant carbonaceous material according to claim 1, wherein the boron-containing layer and the oxide ceramic layer are formed by coating the surface of the carbonaceous material by plasma spraying. .
【請求項7】 炭素質材料の表面に、耐酸化性皮膜を被
覆した耐酸化性炭素質材料の製造方法であって、前記耐
酸化性皮膜の、前記炭素質材料の表面に対する接着強度
が、2MPa以上となるように制御した後、前記炭素質
材料の表面に、前記耐酸化性皮膜を被覆することを特徴
とする耐酸化性炭素質材料の製造方法。
7. A method for producing an oxidation-resistant carbonaceous material in which the surface of a carbonaceous material is coated with an oxidation-resistant film, wherein the adhesive strength of the oxidation-resistant film to the surface of the carbonaceous material is: A method for producing an oxidation-resistant carbonaceous material, comprising: coating the surface of the carbonaceous material with the oxidation-resistant film after controlling the pressure to 2 MPa or more.
【請求項8】 前記耐酸化性皮膜の、前記炭素質材料の
表面に対する接着強度が2MPa以上となるように制御
する方法が、炭素質材料の平均表面粗さを2μm〜20
μmに制御することによるものである請求項7に記載の
耐酸化性炭素質材料の製造方法。
8. A method for controlling the adhesion strength of the oxidation-resistant film to the surface of the carbonaceous material so as to be 2 MPa or more, wherein the average surface roughness of the carbonaceous material is 2 μm to 20 μm.
The method for producing an oxidation-resistant carbonaceous material according to claim 7, wherein the method is performed by controlling the thickness to μm.
【請求項9】 前記炭素質材料の平均表面粗さを2μm
〜20μmに制御する方法が、砥粒研磨加工法によるも
のである請求項7又は8に記載の耐酸化性炭素質材料の
製造方法。
9. The carbonaceous material having an average surface roughness of 2 μm
The method for producing an oxidation-resistant carbonaceous material according to claim 7 or 8, wherein the method of controlling the thickness to 20 µm is by an abrasive polishing method.
【請求項10】 前記耐酸化性皮膜が、ホウ素(B)の
炭化物、酸化物及び窒化物からなる群から選ばれる少な
くとも1種のホウ素化合物を含有するホウ素含有層、並
びに酸化物セラミックス層を含む積層体である請求項7
〜9のいずれかに記載の耐酸化性炭素質材料の製造方
法。
10. The oxidation-resistant film includes a boron-containing layer containing at least one boron compound selected from the group consisting of carbides, oxides and nitrides of boron (B), and an oxide ceramic layer. 8. A laminate according to claim 7.
10. The method for producing an oxidation-resistant carbonaceous material according to any one of claims 9 to 9.
【請求項11】 前記炭素質材料の表面に、前記耐酸化
性皮膜を被覆する方法が、プラズマ溶射によるものであ
る請求項7〜10のいずれかに記載の耐酸化性炭素質材
料の製造方法。
11. The method for producing an oxidation-resistant carbonaceous material according to claim 7, wherein the method of coating the surface of the carbonaceous material with the oxidation-resistant film is by plasma spraying. .
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